JP2005267988A - Panel for cathode ray tube, and manufacturing method of the same - Google Patents

Panel for cathode ray tube, and manufacturing method of the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a panel for cathode ray tube and manufacturing method of the same capable of recycling waste glass generated when manufacturing glass substrates for plasma display. <P>SOLUTION: The panel for cathode ray tube is manufactured by using the wasted glass generated when manufacturing the glass substrates for plasma display as a part of glass raw material, and it contains SO<SB>3</SB>by 0.06 to 0.3 wt.%. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、陰極線管用パネル及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a cathode ray tube panel and a method for manufacturing the same.

陰極線管の外囲器は、映像が映し出されるパネル部と、電子銃が装着される管状のネック部と、パネル部とネック部を接続する漏斗状のファンネル部から構成される。電子銃から出た電子線は、パネル部の内面に設けられた蛍光体を発光させてパネル部に映像を映し出す。この時に制動X線が管内に発生し、これが外囲器を通して管外に漏れると人体に悪影響を及ぼすため、この種の外囲器には高いX線吸収能を有することが要求されている。例えば、パネルの場合、0.6ÅにおけるX線吸収係数を28cm-1以上にするために、SrO及びBaOを多量に含有させたガラスが使用されている。(特許文献1参照)
特開2001−328835号公報
The envelope of the cathode ray tube includes a panel portion on which an image is projected, a tubular neck portion on which an electron gun is mounted, and a funnel-shaped funnel portion connecting the panel portion and the neck portion. The electron beam emitted from the electron gun causes the phosphor provided on the inner surface of the panel unit to emit light and display an image on the panel unit. At this time, braking X-rays are generated in the tube, and if this leaks outside the tube through the envelope, the human body is adversely affected. Therefore, this type of envelope is required to have a high X-ray absorption capability. For example, in the case of the panel, an X-ray absorption coefficient in order to 28cm -1 or more at 0.6 Å, glass large amount is contained SrO and BaO are used. (See Patent Document 1)
JP 2001-328835 A

ところで、最近では、陰極線管よりも薄型化で大型化が容易であることからプラズマディスプレイの生産量が増えてきており、今後、益々、生産量が増加する傾向にある。   By the way, recently, the production volume of plasma displays has increased because it is thinner and easier to enlarge than the cathode ray tube, and the production volume tends to increase more and more in the future.

通常、プラズマディスプレイに用いられるガラス基板は、成形体に供給された溶融ガラスをローラー等で引っ張ることで板状体に成形され、ローラーと接触した板状体の両端部を切り落とした後、外観品位等の検査を行い、泡やブツ等の欠陥がないものが用いられる。そのため、ガラス基板を製造する際には、板状体の両端部や欠陥を有するガラス基板等の廃ガラスが発生する。   Usually, glass substrates used in plasma displays are molded into a plate-like body by pulling the molten glass supplied to the molded body with a roller, etc., and after cutting off both ends of the plate-like body in contact with the roller, the appearance quality Etc., and those having no defects such as bubbles and blisters are used. Therefore, when manufacturing a glass substrate, waste glass, such as a glass substrate which has the both ends of a plate-shaped body, and a defect generate | occur | produces.

ガラス基板の生産量が少ない場合は、廃ガラスの発生量も少なくてすむため、これらのガラスを粉砕して、プラズマディスプレイ用ガラス基板のガラス原料として、リサイクルすることが可能であった。   When the production amount of the glass substrate is small, the generation amount of waste glass can be reduced. Therefore, these glasses can be pulverized and recycled as a glass raw material for the glass substrate for plasma display.

しかし、ガラス基板の生産量が多くなると、生産量の拡大以上に廃ガラスの発生量が増加するため、プラズマディスプレイ用ガラス基板のガラス原料として使用するだけでは、完全に消化することができなくなるという問題が生じる。   However, if the production volume of the glass substrate increases, the amount of waste glass generated increases more than the expansion of the production volume, so that it cannot be completely digested only by using it as a glass raw material for the glass substrate for plasma display. Problems arise.

環境汚染防止の観点から、廃棄物の減量化、資源の再利用化が強く求められている中で、ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを産業廃棄物として埋め立て処理ことは好ましくなく、ガラス基板を製造する際に発生する不要なガラスを如何にリサイクルするかが重要な課題となってきている。   From the viewpoint of preventing environmental pollution, waste reduction and resource reuse are strongly demanded, and it is not desirable to dispose of waste glass generated when manufacturing glass substrates as industrial waste. How to recycle unnecessary glass generated when manufacturing a glass substrate has become an important issue.

本発明の目的は、プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスをリサイクルすることが可能な陰極線管用パネルとその製造方法を提供することである。   The objective of this invention is providing the panel for cathode ray tubes which can recycle the waste glass generate | occur | produced when manufacturing the glass substrate for plasma displays, and its manufacturing method.

本発明者等は、種々の実験を繰り返した結果、陰極線管に使用するパネルにおいて、ガラス中のSO3含有量や溶融窯内の温度分布を調整することにより、プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを陰極線管用パネルのガラス原料としてリサイクルできることを見いだし提案するものである。 As a result of repeating various experiments, the present inventors produce a glass substrate for plasma display by adjusting the SO 3 content in the glass and the temperature distribution in the melting furnace in the panel used for the cathode ray tube. The present invention finds and proposes that waste glass generated at the time can be recycled as a glass raw material for a cathode ray tube panel.

即ち、本発明の陰極線管用パネルは、プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを、ガラス原料の一部に用いて製造されてなり、且つ、SO3を0.06〜0.3質量%含有するガラスからなることを特徴とする。 That is, the cathode ray tube panel of the present invention is manufactured using waste glass generated when manufacturing a glass substrate for plasma display as a part of glass raw material, and SO 3 is 0.06-0. It consists of glass containing 3 mass%.

また、本発明の陰極線管用パネルの製造方法は、プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを用い、SO3を0.06〜0.3質量%含有するガラスとなるようにガラス原料を調合し、ガラス原料投入口側の温度が最も低く、且つ、溶融窯の中央付近の温度が最も高くなるように温度分布を調整したガラス溶融窯に該ガラス原料を投入して溶融した後、得られた溶融ガラスの塊を成形型により成型することを特徴とする。 Further, the method of manufacturing a cathode ray tube panel of the present invention, the glass used waste glass generated when producing a glass substrate for a plasmapheresis display, the SO 3 so that the glass containing 0.06 to 0.3 wt% After the raw materials are mixed, the glass raw material is introduced into a glass melting furnace having the lowest temperature on the glass raw material inlet side and the temperature distribution adjusted so that the temperature near the center of the melting furnace is the highest. The obtained molten glass lump is molded by a molding die.

本発明の陰極線管用パネルは、SO3含有量と溶融窯の温度分布を調整しているため、プラズマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを、ガラス原料の一部として使用することが可能となり、このような構成を有するガラスは泡やブツが少なく、リボイルも生じ難い。それ故、陰極線管用パネルとして好適である。 Since the cathode ray tube panel of the present invention adjusts the SO 3 content and the temperature distribution of the melting furnace, waste glass generated when manufacturing a glass substrate for plasma display should be used as part of the glass raw material. The glass having such a configuration has few bubbles and no spots, and reboil hardly occurs. Therefore, it is suitable as a cathode ray tube panel.

上記の廃ガラスをリサイクルする方法として、廃ガラスを粉砕して、陰極線管用パネルの他のガラス原料と混合して溶融する方法が考えられる。これは、プラズマディスプレイ用ガラス基板のガラス組成には、ブラウニングの原因となるPbOを含まず、SrO、BaO、ZrO2等のX線吸収係数を高める成分を多く含有するためである。 As a method for recycling the above waste glass, a method in which the waste glass is pulverized and mixed with other glass raw materials for the cathode ray tube panel and melted can be considered. This is because the glass composition of the glass substrate for plasma display does not contain PbO that causes browning but contains many components that increase the X-ray absorption coefficient such as SrO, BaO, and ZrO 2 .

しかし、プラズマディスプレイ用ガラス基板は、フロート法によって製造されるため、ガラス中に清澄成分としてSO3を0.05〜0.8質量%含有しており、SO3を含むものを不用意にガラス原料と混合して溶融すると、ガラス原料の急激なガラス化反応が起こり、激しく発泡しながらガラス融液となる。そして、ガラス原料が溶ける際に発生した泡は、溶融窯の長さ方向に広がってガラス融液の表面で泡層を形成する。この泡層が断熱層となるため、溶融窯底面まで熱が届かず、溶融窯底面の温度が低下する。その結果、泡やブツが製品中に残存し、陰極線管を作製する際に真空強度や気密性の低下が予想される。また、溶融ガラスに十分に熱が伝わっていないため、成型後のガラスは、溶存ガスを多く含んでおり、成形後のパネルガラスにスタッドピンを溶着する際の加熱やファンネルガラスとのシール時における加熱で、ガスの溶解度が低下し、加熱部に発泡(リボイル)が生じるという問題も起こる。 However, a glass substrate for plasma display, because it is produced by a float process, a SO 3 as a fining component in the glass is contained 0.05 to 0.8 wt%, inadvertently those containing SO 3 glass When mixed with the raw material and melted, a rapid vitrification reaction of the glass raw material occurs and becomes a glass melt while vigorously foaming. And the foam generated when the glass raw material melts spreads in the length direction of the melting furnace and forms a foam layer on the surface of the glass melt. Since this foam layer becomes a heat insulating layer, heat does not reach the bottom of the melting furnace, and the temperature of the bottom of the melting furnace decreases. As a result, bubbles and blisters remain in the product, and a decrease in vacuum strength and airtightness is expected when a cathode ray tube is produced. In addition, since the heat is not sufficiently transferred to the molten glass, the glass after molding contains a large amount of dissolved gas, and when the stud pins are welded to the panel glass after molding, the glass is heated or sealed with funnel glass. When heated, the gas solubility is lowered, and there is a problem that foaming (reboil) occurs in the heated portion.

本発明者の知見によると、上記の廃ガラスから混入するSO3が多くなると、ガラス原料のガラス化反応が急激に起こり、ガラス融液表面に泡層を形成するが、本発明の陰極線管用パネルは、ガラス中のSO3を0.3%以下に厳密に制限しているため、ガラス原料の急激なガラス化反応を抑えて、ガラス融液表面での泡層の形成を防止することができる。但し、SO3の含有量を0.06%より少なくすると、廃ガラスの使用量が少量となり、リサイクルが進まなくなるため、好ましくない。 According to the knowledge of the present inventor, when SO 3 mixed from the waste glass increases, the vitrification reaction of the glass raw material occurs abruptly to form a bubble layer on the surface of the glass melt. Strictly limits the SO 3 in the glass to 0.3% or less, thereby suppressing the rapid vitrification reaction of the glass raw material and preventing the formation of a bubble layer on the surface of the glass melt. . However, if the content of SO 3 is less than 0.06%, the amount of waste glass used is small, and recycling is not promoted.

尚、上記の廃ガラスの使用量としては、1〜50質量%(好ましくは1〜40質量%)の範囲でガラス原料と混合して使用することが好ましい。廃ガラスの使用量が50%より多くなると、陰極線管用パネルに要求される特性の補正が難しく、熱膨張係数が小さくなってファンネルと整合性が取り難くなるなど、陰極線管用パネルに要求される特性を満たすことが出来なくなる。一方、廃ガラスの使用量が少なくなると、リサイクルが進まなくなる。   In addition, as usage-amount of said waste glass, it is preferable to mix and use with a glass raw material in the range of 1-50 mass% (preferably 1-40 mass%). When the amount of waste glass used is more than 50%, it is difficult to correct the characteristics required for the cathode ray tube panel, and the characteristics required for the cathode ray tube panel, such as a low thermal expansion coefficient and difficulty in matching with the funnel. It becomes impossible to satisfy. On the other hand, if the amount of waste glass used decreases, recycling will not proceed.

また、SO3を含むガラス原料は、溶融温度が高くなる程、ガラス化反応が急激に起こる。そのため、より効果的にガラス融液表面での泡層の形成を抑制するには、ガラス溶融窯において、ガラス原料投入口付近の温度を低くして、ゆっくりガラス原料を溶融し、窯の長さ方向に対して徐々に温度を上昇させて溶融することが望ましい。 Further, in the glass raw material containing SO 3 , the vitrification reaction rapidly occurs as the melting temperature increases. Therefore, in order to more effectively suppress the formation of a foam layer on the surface of the glass melt, in the glass melting furnace, the temperature near the glass raw material inlet is lowered, the glass raw material is slowly melted, and the length of the kiln is It is desirable to melt by gradually raising the temperature relative to the direction.

本発明の陰極線管用パネルは、ファンネルの熱膨張係数と整合させるために、95〜105×10-7/℃(好ましくは98〜103×10-7/℃)の熱膨張係数を有するガラスからなることが好ましい。 The cathode ray tube panel of the present invention is made of glass having a thermal expansion coefficient of 95 to 105 × 10 −7 / ° C. (preferably 98 to 103 × 10 −7 / ° C.) in order to match the thermal expansion coefficient of the funnel. It is preferable.

また、0.6Åの波長におけるX線吸収係数が28cm-1以上のガラスからなることが好ましい。X線吸収係数が28cm-1より小さいと、人体に悪影響を及ぼすX線が管外に漏れる虞があるためである。尚、ガラスのX線吸収係数を28cm-1以上にするには、SrO、BaO、ZrO2等を含有させればよい。 Further, it is preferably made of glass having an X-ray absorption coefficient of 28 cm −1 or more at a wavelength of 0.6 mm. This is because if the X-ray absorption coefficient is smaller than 28 cm −1 , X-rays that adversely affect the human body may leak out of the tube. Note that the X-ray absorption coefficient of the glass to 28cm -1 or more, SrO, BaO, may be contained a ZrO 2 or the like.

更に、本発明の陰極線管用パネルの好適なガラス組成範囲は、実質的にPbOを含有せず、質量百分率で、SiO2 50〜70%、Al23 1〜3%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、SrO 7〜10%、BaO 7〜10%、ZnO 0〜2%、Na2O 5〜10%、K2O 5〜10%、ZrO2 0〜3%、TiO2 0〜3%、CeO2 0〜3%、Sb23 0〜2%、SO3 0.06〜0.3%である。 Further, the preferred glass composition range of the cathode ray tube panel of the present invention is substantially free of PbO, and is expressed by mass percentage, SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 1 to 3%, MgO 0 to 3%. , CaO 0 to 3%, SrO 7 to 10%, BaO 7 to 10%, ZnO 0 to 2%, Na 2 O 5 to 10%, K 2 O 5 to 10%, ZrO 2 0 to 3%, TiO 2 0~3%, CeO 2 0~3%, Sb 2 O 3 0~2%, a SO 3 0.06 to 0.3%.

本発明においてガラスの組成を上記のように限定した理由は、次のとおりである。   The reason for limiting the glass composition as described above in the present invention is as follows.

PbOは、ガラスのX線吸収能力を高める成分であるが、PbOを含有すると電子線およびX線照射によってブラウニングと呼ばれる着色を起こすため、実質的なガラスへの導入は避けるべきである。尚、実質的なガラスへの導入とは、PbOが0.1%以下であることを意味する。   PbO is a component that enhances the X-ray absorption ability of glass. However, when PbO is contained, coloring called browning is caused by electron beam and X-ray irradiation, so that introduction into a substantial glass should be avoided. In addition, substantial introduction into glass means that PbO is 0.1% or less.

SiO2は、ガラスのネットワークフォーマーである。含有量が多くなると、ガラスの粘度が高くなり、溶融が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなりすぎてファンネルガラスとの整合性が取り難くなる傾向にある。一方、含有量が少なくなると、ガラスの粘度が低くなり、成形が難しくなったり、熱膨張係数が大きくなりすぎて、ファンネルガラスとの整合性が取り難くなる傾向にある。SiO2の含有量が50〜70%であれば、ガラスの溶融性や成形性を悪化させることなく、ファンネルガラスと整合する熱膨張係数を有するガラスが得やすくなる。好ましい範囲は53〜67%である。 SiO 2 is a glass network former. When the content increases, the viscosity of the glass becomes high and melting becomes difficult, or the coefficient of thermal expansion becomes too small, and the consistency with the funnel glass tends to be difficult. On the other hand, when the content is reduced, the viscosity of the glass becomes low and molding becomes difficult, or the coefficient of thermal expansion becomes too large, and the consistency with the funnel glass tends to be difficult. If the content of SiO 2 is 50 to 70%, it becomes easy to obtain a glass having a coefficient of thermal expansion that matches the funnel glass without deteriorating the meltability and formability of the glass. A preferred range is 53-67%.

Al23もガラスのネットワークフォーマーとなる成分である。含有量が多くなると、ガラスの粘度が高くなり、溶融が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなりすぎてファンネルガラスとの整合性が取り難くなる傾向にある。一方、含有量が少なくなると、ガラスの粘度が低くなり、成形が難しくなったり、熱膨張係数が大きくなりすぎて、ファンネルガラスとの整合性が取り難くなる傾向にある。Al23の含有量が1〜3%であれば、ガラスの溶融性や成形性を悪化させることなく、ファンネルガラスと整合する熱膨張係数を有するガラスが得やすくなる。好ましい範囲は1.2〜2.8%である。 Al 2 O 3 is also a component that becomes a glass network former. When the content increases, the viscosity of the glass becomes high and melting becomes difficult, or the coefficient of thermal expansion becomes too small, and the consistency with the funnel glass tends to be difficult. On the other hand, when the content is reduced, the viscosity of the glass becomes low and molding becomes difficult, or the coefficient of thermal expansion becomes too large, and the consistency with the funnel glass tends to be difficult. If the content of Al 2 O 3 is 1 to 3%, it becomes easy to obtain a glass having a thermal expansion coefficient that matches the funnel glass without deteriorating the meltability and formability of the glass. A preferable range is 1.2 to 2.8%.

MgO、CaOは、ガラスを溶融しやすくすると共に、熱膨張係数と粘度を調整する成分である。それぞれの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなり成形し難くなる傾向にある。MgO、CaOの含有量がそれぞれ0〜3%であれば、失透し難いガラスが得やすくなる。好ましい範囲はそれぞれ0〜2.5%以下である。   MgO and CaO are components that facilitate melting of the glass and adjust the thermal expansion coefficient and viscosity. When each content increases, the glass tends to be devitrified and difficult to be molded. If the content of MgO and CaO is 0 to 3%, respectively, it is easy to obtain a glass that is not easily devitrified. A preferable range is 0 to 2.5% or less, respectively.

SrO、BaOは、ガラスを溶融しやすくすると共に、熱膨張係数と粘度を調整し、X線吸収能を高める成分である。それぞれの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなり成形し難くなる傾向にある。一方、含有量が少なくなると、充分なX線吸収能が得難くなる傾向にある。SrO、BaOの含有量が、それぞれ7〜10%であれば、ガラスが失透することなく、充分なX線吸収係数を有するガラスが得やすくなる。好ましい範囲は、それぞれ7.2〜9.8%である。   SrO and BaO are components that facilitate melting of the glass, adjust the thermal expansion coefficient and viscosity, and increase the X-ray absorption ability. When each content increases, the glass tends to be devitrified and difficult to be molded. On the other hand, when the content decreases, sufficient X-ray absorption ability tends to be difficult to obtain. If the content of SrO and BaO is 7 to 10%, respectively, it becomes easy to obtain a glass having a sufficient X-ray absorption coefficient without devitrification. Preferable ranges are 7.2 to 9.8%, respectively.

ZnOは、ガラスを溶融しやすくすると共に、熱膨張係数と粘度を調整し、さらにX線吸収能を高める成分である。含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなり成形し難くなる。ZnOの含有量が0〜2%であれば、ガラスが失透することなく、充分なX線吸収係数を有するガラスが得やすくなる。好ましい範囲はそれぞれ0〜1.8%である。   ZnO is a component that facilitates melting of the glass, adjusts the thermal expansion coefficient and viscosity, and further increases the X-ray absorption ability. When the content increases, the glass tends to be devitrified and difficult to mold. If the content of ZnO is 0 to 2%, it becomes easy to obtain a glass having a sufficient X-ray absorption coefficient without devitrifying the glass. The preferred ranges are each 0-1.8%.

Na2O、K2Oは、熱膨張係数と粘度を調整する成分である。それぞれの含有量が多くなると、熱膨張係数が大きくなりすぎて、ファンネルガラスとの整合性が取り難くなったり、粘度が低くなりすぎて成形し難くなる。また、電気絶縁性も低下する傾向にある。一方、含有量が少なくなると、熱膨張係数が低くなり、ファンネルガラスの熱膨張係数と整合し難くなる傾向にある。Na2O、K2Oの含有量が、それぞれ5〜10%であれば、成形性、電気絶縁性を低下させることなく、ファンネルガラスと整合する熱膨張係数を有するガラスが得やすくなる。好ましい範囲は、それぞれ6〜9%である。 Na 2 O and K 2 O are components that adjust the thermal expansion coefficient and viscosity. If each content increases, the thermal expansion coefficient becomes too large, making it difficult to achieve consistency with the funnel glass, and the viscosity becomes too low to make molding difficult. In addition, the electrical insulation tends to decrease. On the other hand, when the content is reduced, the thermal expansion coefficient is lowered, and it tends to be difficult to match the thermal expansion coefficient of the funnel glass. If the content of Na 2 O and K 2 O is 5 to 10%, respectively, it becomes easy to obtain a glass having a thermal expansion coefficient that matches the funnel glass without degrading the formability and the electrical insulation. Preferable ranges are 6 to 9%, respectively.

ZrO2は、熱膨張係数と粘度を調整し、さらにX線吸収能を高める成分である。含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなり成形し難くなる傾向にある。ZrO2の含有量が0〜3%であれば、ガラスが失透することなく、充分なX線吸収係数を有するガラスが得やすくなる。好ましい範囲は、0〜2.5%である。 ZrO 2 is a component that adjusts the thermal expansion coefficient and viscosity, and further increases the X-ray absorption ability. When the content increases, the glass tends to be devitrified and difficult to mold. If the content of ZrO 2 is 0 to 3%, the glass having a sufficient X-ray absorption coefficient is easily obtained without devitrification. A preferable range is 0 to 2.5%.

TiO2は、ガラスの紫外線着色を抑制する成分である。TiO2を3%より多く含有させてもその効果が顕著に得られず、原料コストが高くなる。好ましい範囲は0〜2%である。 TiO 2 is a component that suppresses ultraviolet coloring of glass. Even if TiO 2 is contained in an amount of more than 3%, the effect cannot be remarkably obtained, and the raw material cost increases. A preferable range is 0 to 2%.

CeO2は、ガラスのX線着色を抑制する成分である。CeO2を3%より多く含有させてもその効果が顕著に得られず、原料コストが高くなる。好ましい範囲は0〜2%である。 CeO 2 is a component that suppresses X-ray coloring of glass. Even if CeO 2 is contained in an amount of more than 3%, the effect cannot be obtained remarkably, and the raw material cost increases. A preferable range is 0 to 2%.

Sb23は、清澄剤として働く成分である。Sb23を2%より多く含有させてもその効果が顕著に得られず、原料コストが高くなる。好ましい範囲は0〜1%である。 Sb 2 O 3 is a component that acts as a fining agent. Even if Sb 2 O 3 is contained in an amount of more than 2%, the effect cannot be obtained remarkably, and the raw material cost increases. A preferable range is 0 to 1%.

SO3は、プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラス、ガラス原料の不純物及びガラスを溶融する際に用いる重油等の燃料から混入する成分であり、廃ガラスを原料に用いなくても、0.05%以下の範囲で混入する。SO3の含有量が0.3%より多くなると、ガラス原料のガラス化反応が急激に起こり、ガラス融液表面に泡層を形成したり、成形後のパネルガラスにスタッドピンを溶着する際やファンネルガラスとのシール時における再加熱で、加熱部にリボイルが生じるため好ましくない。一方、SO3の含有量が0.06%より少なくなると、上記廃ガラスのリサイクルできる量が少量となるため好ましくない。好ましい範囲は0.06〜0.28%であり、より好ましい範囲は0.07〜0.27%である。 SO 3 is a component mixed from waste glass generated when manufacturing a glass substrate for plasma display, impurities of glass raw material, and fuel such as heavy oil used when melting glass, and waste glass is not used as a raw material. Is mixed in a range of 0.05% or less. When the content of SO 3 is more than 0.3%, the vitrification reaction of the glass raw material occurs abruptly, forming a foam layer on the surface of the glass melt, or welding a stud pin to the molded panel glass Reheating at the time of sealing with the funnel glass is not preferable because reboiling occurs in the heating part. On the other hand, if the SO 3 content is less than 0.06%, the amount of waste glass that can be recycled is small, which is not preferable. A preferable range is 0.06 to 0.28%, and a more preferable range is 0.07 to 0.27%.

尚、上記の成分以外にも、ガラスの特性を損なわない範囲で他の成分を添加させることも可能であり、例えば、失透を抑える成分としてP25を0.5%まで添加しても良い。また、着色剤として、CoO、NiO及びFe23を合量で1%まで添加しても良い。 In addition to the above components, it is possible to add other components as long as the properties of the glass are not impaired. For example, P 2 O 5 is added up to 0.5% as a component for suppressing devitrification. Also good. Further, CoO, NiO, and Fe 2 O 3 may be added up to 1% in total as colorants.

次に、陰極線管用パネルの製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing a cathode ray tube panel will be described.

まず、プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを粉砕し、得られた廃ガラス片とガラス原料を上記のガラス組成範囲となるように調合し混合する。続いて、調合したガラス原料を連続溶融窯に投入し、重油等の燃料を燃焼させたバーナー炎によりガラス原料を加熱溶融し、脱泡を行い、溶融ガラスを成型装置に供給し、プレス成型し徐冷する。   First, waste glass generated when producing a glass substrate for plasma display is pulverized, and the obtained waste glass pieces and glass raw materials are prepared and mixed so as to be in the above glass composition range. Subsequently, the prepared glass raw material is put into a continuous melting furnace, the glass raw material is heated and melted by a burner flame in which fuel such as heavy oil is burned, defoamed, and the molten glass is supplied to a molding apparatus and press-molded. Slowly cool.

尚、溶融窯内の温度分布は、次の様に調整することが好ましい。まず、ガラス原料の急激なガラス化反応を抑え、泡層の形成を防止するために、ガラス原料投入口側の温度を溶融窯内で最も低くなるようにする。続いて、溶融窯の長さ方向における中央付近で脱泡を起こさせるために、溶融窯の中央付近の温度が最も高くなるように、ガラス原料投入口から溶融窯の中央付近にかけて徐々に温度を上昇させ、溶融窯の中央付近から溶融ガラス導出端付近にかけて徐々に温度を下げていく。   The temperature distribution in the melting furnace is preferably adjusted as follows. First, in order to suppress the rapid vitrification reaction of the glass raw material and prevent the formation of a foam layer, the temperature on the glass raw material inlet side is made the lowest in the melting furnace. Subsequently, in order to cause defoaming near the center in the length direction of the melting furnace, the temperature is gradually increased from the glass raw material inlet to near the center of the melting furnace so that the temperature near the center of the melting furnace becomes the highest. The temperature is gradually lowered from the vicinity of the center of the melting furnace to the vicinity of the molten glass lead-out end.

このようにすることで、上記廃ガラスをガラス原料として用いても、ガラス原料の急激なガラス化反応を抑えて、ガラス融液表面での泡層の形成を防止することができ、その結果、溶融窯底面まで十分に熱が伝わり、泡やブツが少なく、リボイルも生じることのない陰極線管用パネルを得ることができる。   By doing in this way, even if the waste glass is used as a glass raw material, it is possible to suppress the rapid vitrification reaction of the glass raw material and prevent the formation of a foam layer on the surface of the glass melt. A panel for a cathode ray tube can be obtained in which heat is sufficiently transmitted to the bottom of the melting kiln, there are few bubbles and blisters, and no reboiling occurs.

以下、本発明の陰極線管用パネルを実施例に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the cathode ray tube panel of the present invention will be described in detail based on examples.

表1、2は、本発明の実施例(試料No.1〜8)及び比較例(試料No.9)を示すものである。   Tables 1 and 2 show examples (sample Nos. 1 to 8) and comparative examples (sample No. 9) of the present invention.

表中の各試料は、次のようにして作製した。   Each sample in the table was prepared as follows.

まず、質量百分率で、SiO2 54.3%、Al23 7%、MgO 2%、CaO 2%、SrO 9%、BaO 9%、Na2O 5%、K2O 7%、ZrO2 4.5%、SO3 0.2%の組成を有するプラスマディスプレイ用ガラス基板を粉砕して廃ガラスを用意し、表中のガラス組成となるように廃ガラス及びガラス原料を用いて原料バッチを調合する。次に、底部に熱電対を取り付けた耐火物製坩堝に調合した原料バッチを入れる。続いて、坩堝上部からのみ加熱される溶融炉で原料バッチを溶融し、坩堝底部の温度を測定した。尚、試料No.1、No.2及びNo.5〜9については、1500℃、4時間の条件で溶融し、試料No.3及びNo.4については1200℃、2時間で溶融した後、1500℃、2時間の条件で溶融した。また、試料No.2及びNo.4のSO3については、廃ガラス以外に芒硝(Na2SO4)を加えて調整した。 First, by mass percentage, SiO 2 54.3%, Al 2 O 3 7%, MgO 2%, CaO 2%, SrO 9%, BaO 9%, Na 2 O 5%, K 2 O 7%, ZrO 2 Prepare a waste glass by pulverizing a glass substrate for plasma display having a composition of 4.5% and SO 3 0.2%, and use the waste glass and the glass raw material so that the glass composition shown in the table is obtained. Mix. Next, the prepared raw material batch is put into a refractory crucible having a thermocouple attached to the bottom. Subsequently, the raw material batch was melted in a melting furnace heated only from the top of the crucible, and the temperature at the bottom of the crucible was measured. Sample No. 1, no. 2 and no. About No. 5-9, it fuse | melted on 1500 degreeC and the conditions for 4 hours, and sample No.5. 3 and no. No. 4 was melted at 1200 ° C. for 2 hours and then melted at 1500 ° C. for 2 hours. Sample No. 2 and no. The SO 3 of 4 was adjusted by adding mirabilite (Na 2 SO 4 ) in addition to waste glass.

こうして得られた各試料の泡層の厚み、坩堝底部の温度、残存する泡数、リボイル性の評価、熱膨張係数及びX線吸収係数を測定し表に示した。   The thickness of the foam layer, the temperature at the bottom of the crucible, the number of remaining bubbles, the evaluation of the reboilability, the thermal expansion coefficient, and the X-ray absorption coefficient of each sample thus obtained were measured and shown in the table.

表から明らかなように実施例である試料No.1〜8は、泡層の厚みが3.6mm以下と薄く、坩堝底部の温度は1255℃以上であり、残存する泡数は40個/100g以下と少なかった。また、リボイル性の評価でも発泡は認められなかった。更に、熱膨張係数は、100〜100.5×10-7/℃でファンネルと整合する熱膨張係数であり、X線吸収係数は29cm-1と高かった。 As is apparent from the table, the sample No. In Nos. 1 to 8, the thickness of the foam layer was as thin as 3.6 mm or less, the temperature at the bottom of the crucible was 1255 ° C. or more, and the remaining number of foams was 40/100 g or less. Also, no foaming was observed in the evaluation of reboilability. Furthermore, the thermal expansion coefficient was a thermal expansion coefficient that matched with the funnel at 100 to 100.5 × 10 −7 / ° C., and the X-ray absorption coefficient was as high as 29 cm −1 .

これに対し、比較例である試料No.9は、泡層の厚みが5.2mmと厚く、坩堝底部の温度は1225℃と低く、残存する泡数は100個/100gと多かった。また、リボイル性の評価で発泡が生じた。更に、熱膨張係数が93.0×10-7/℃と小さく、ファンネルの熱膨張係数と整合し難いものであった。 On the other hand, sample No. which is a comparative example. In No. 9, the thickness of the foam layer was as thick as 5.2 mm, the temperature at the bottom of the crucible was as low as 1225 ° C., and the remaining number of foams was as large as 100/100 g. Further, foaming occurred in the evaluation of the reboilability. Furthermore, the thermal expansion coefficient was as small as 93.0 × 10 −7 / ° C., and it was difficult to match the thermal expansion coefficient of the funnel.

尚、泡層の厚みについては、徐冷して、坩堝の中央部を縦方向に切断し、ガラス表面にある泡層の厚みを測定したものである。   In addition, about the thickness of a foam layer, it annealed and cut | disconnected the center part of the crucible longitudinally, and measured the thickness of the foam layer in the glass surface.

残存する泡数については、泡層から3cm下のガラスをダイヤモンドカッターで切り出し、泡数を測定した後、ガラス100gに換算して求めたものである。   The remaining number of bubbles is obtained by converting glass below 3 cm from the foam layer with a diamond cutter and measuring the number of bubbles, and then converting to 100 g of glass.

リボイル性の評価については、泡層から3cm下のガラスをダイヤモンドカッターで切り出し、採取したガラス片を鏡面研磨し、アルコール洗浄をした後、木下式ブルーバーナーで10秒間加熱し、発泡の有無を確認した。尚、発泡が生じなかったものを○とし、発泡が生じたものを×とした。   For the evaluation of reboilability, glass 3 cm below the foam layer was cut out with a diamond cutter, the collected glass piece was mirror-polished, washed with alcohol, then heated with a Kinoshita blue burner for 10 seconds to check for foaming did. In addition, the thing in which foaming did not arise was set as (circle), and the thing in which foaming produced was set as x.

熱膨張係数については、直径5.0mm、長さ20mmの円柱状の試料を作製し、ディラトメーターで30〜300℃における平均熱膨張係数を測定した。   Regarding the thermal expansion coefficient, a cylindrical sample having a diameter of 5.0 mm and a length of 20 mm was prepared, and the average thermal expansion coefficient at 30 to 300 ° C. was measured with a dilatometer.

また、X線吸収係数については、ガラス組成と密度に基づいて、0.6オングストロームの波長に対する吸収係数を計算して求めたものである。   The X-ray absorption coefficient is obtained by calculating the absorption coefficient for a wavelength of 0.6 angstroms based on the glass composition and density.

次に、上記の結果をもとに、試料No.1の原料バッチを、ガラス原料投入口付近の溶融温度が約1300℃、窯の長さ方向に対して溶融窯の中央付近の溶融温度が約1550℃、溶融ガラス導出端付近の溶融温度が約1400℃になるように温度分布を調整した連続式溶融窯で溶融し、プレス成型して陰極線管用パネルを製造した。ガラス溶融窯内はガラス融液表面の泡層が薄く、また、泡やブツの少ないパネルが得られた。さらに、スタッドピンを溶着したり、ファンネルとシールしても、シール部にリボイルは生じなかった。   Next, based on the above results, sample No. The melting temperature in the vicinity of the glass raw material inlet is about 1300 ° C., the melting temperature in the vicinity of the center of the melting furnace is about 1550 ° C., and the melting temperature in the vicinity of the molten glass outlet end is about 1300 ° C. A panel for a cathode ray tube was manufactured by melting in a continuous melting furnace having a temperature distribution adjusted to 1400 ° C. and press molding. In the glass melting furnace, a foam layer on the surface of the glass melt was thin, and a panel with few bubbles and blisters was obtained. Furthermore, even when the stud pin was welded or sealed with the funnel, no reboiling occurred in the seal portion.

尚、実施例では、廃ガラスに、上記ガラス組成からなるプラズマディスプレイ用ガラス基板を粉砕して用いたが、本発明に用いる廃ガラスは、上記ガラス組成からなるガラス基板に限定されるものではなく、他のガラス組成からなるガラス基板を粉砕して用いてもよいことは言うまでもない。   In addition, in the Example, the glass substrate for plasma displays which consists of the said glass composition was used for the waste glass, but the waste glass used for this invention is not limited to the glass substrate which consists of the said glass composition. Needless to say, a glass substrate made of another glass composition may be crushed and used.

Claims (6)

プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを、ガラス原料の一部に用いて製造されてなり、且つ、SO3を0.06〜0.3質量%含有するガラスからなることを特徴とする陰極線管用パネル。 Waste glass generated when manufacturing a glass substrate for plasma display is manufactured using a part of glass raw material, and made of glass containing 0.03 to 0.3% by mass of SO 3. Characteristic cathode ray tube panel. ガラス原料が、廃ガラスを1〜50質量%含有することを特徴とする請求項1記載の陰極線管用パネル。   2. The cathode ray tube panel according to claim 1, wherein the glass raw material contains 1 to 50 mass% of waste glass. 熱膨張係数が95〜105×10-7/℃であるガラスからなることを特徴とする請求項1または2記載の陰極線管用パネル。 3. The cathode ray tube panel according to claim 1, wherein the panel is made of glass having a thermal expansion coefficient of 95 to 105 × 10 −7 / ° C. 0.6Åの波長におけるX線に対する吸収係数が28cm-1以上であるガラスからなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の陰極線管用パネル。 The cathode ray tube panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the cathode ray tube panel is made of glass having an absorption coefficient for X-rays of 0.6 cm or more at 28 cm -1 or more. 実質的にPbOを含有せず、質量百分率で、SiO2 50〜70%、Al23 1〜3%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、SrO 7〜10%、BaO 7〜10%、ZnO 0〜2%、Na2O 5〜10%、K2O 5〜10%、ZrO2 0〜3%、TiO2 0〜3%、CeO2 0〜3%、Sb23 0〜2%、SO3 0.06〜0.3%を含有するガラスからなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の陰極線管用パネル。 Substantially free of PbO and in mass percentage, SiO 2 50-70%, Al 2 O 3 1-3%, MgO 0-3%, CaO 0-3%, SrO 7-10%, BaO 7- 10%, ZnO 0 to 2%, Na 2 O 5 to 10%, K 2 O 5 to 10%, ZrO 2 0 to 3%, TiO 2 0 to 3%, CeO 2 0 to 3%, Sb 2 O 3 a cathode ray tube panel as claimed in any one of claims 1 to 4, characterized in that it consists of 0-2%, glass containing SO 3 0.06 to 0.3%. プラスマディスプレイ用ガラス基板を製造する際に発生する廃ガラスを用い、SO3を0.06〜0.3質量%含有するガラスとなるようにガラス原料を調合し、ガラス原料投入口側の温度が最も低く、且つ、溶融窯の中央付近の温度が最も高くなるように温度分布を調整したガラス溶融窯に該ガラス原料を投入して溶融した後、得られた溶融ガラスの塊を成形型により成型することを特徴とする陰極線管用パネルの製造方法。 Using the waste glass generated when manufacturing the glass substrate for plasma display, the glass raw material is prepared so as to be a glass containing 0.06 to 0.3% by mass of SO 3 , and the temperature on the glass raw material inlet side is The glass raw material is charged into a glass melting furnace whose temperature distribution is adjusted to be the lowest and the temperature in the vicinity of the center of the melting furnace is the highest, and after melting, the resulting molten glass lump is molded with a mold. A method for producing a cathode ray tube panel, comprising:
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