JP2005266549A - Optical fiber array - Google Patents

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Hironori Tanaka
宏徳 田中
Motoo Asai
元雄 浅井
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Ibiden Co Ltd
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Ibiden Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical fiber array which is free of the generating of position shift and deformation or the like of an optical fiber and has superior reliability. <P>SOLUTION: In the optical fiber array, a resin layer having a plurality of grooves is formed in a portion of the surface of a substrate and optical fibers are stored in the grooves. A lid part is formed on the resin layer to store a portion of the optical fibers. A recessed section is formed on the surface which is opposed to the resin layer of the lid part to store the optical fibers in block. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光ファイバアレイに関する。 The present invention relates to an optical fiber array.

近年、通信分野を中心として光ファイバに注目が集まっている。特にIT(情報技術)分野においては、高速インターネット網の整備に、光ファイバを用いた通信技術が必要となる。
光ファイバは、(1)低損失、(2)高帯域、(9)細径・軽量、(4)無誘導、(5)省資源等の特徴を有しており、この特徴を有する光ファイバを用いた通信システムでは、従来のメタリックケーブルを用いた通信システムに比べ、中継器数を大幅に削減することができ、建設、保守が容易になり、通信システムの経済化、高信頼性化を図ることができる。
In recent years, attention has been focused on optical fibers mainly in the communication field. In particular, in the IT (information technology) field, communication technology using optical fibers is required to develop a high-speed Internet network.
The optical fiber has features such as (1) low loss, (2) high bandwidth, (9) small diameter and light weight, (4) non-induction, and (5) resource saving. Compared with communication systems using conventional metallic cables, the number of repeaters can be greatly reduced, making construction and maintenance easier, and making communication systems more economical and more reliable. Can be planned.

また、光ファイバでは、一つの波長の光だけでなく、多くの異なる波長の光を1本の光ファイバで同時に多重伝送することができるため、多様な用途に対応可能な大容量の伝送路を実現することができ、映像サービス等にも対応することができるという大きな利点を有する。 In addition, with optical fiber, not only one wavelength of light but also many different wavelengths of light can be simultaneously multiplexed using a single optical fiber, so a large-capacity transmission line that can be used for a variety of applications. It has a great advantage that it can be realized and can be used for video services and the like.

また、光ファイバ通信において、光ファイバから光導波路を介して、受光素子、端末機器(パソコン、モバイル、ゲーム等)に接続するためには、複数の光ファイバを所定の間隔で離間して配列させる必要があり、これを達成するために、光ファイバアレイが用いられている。 Further, in optical fiber communication, in order to connect a light receiving element and a terminal device (personal computer, mobile, game, etc.) from an optical fiber through an optical waveguide, a plurality of optical fibers are arranged at predetermined intervals. There is a need and an optical fiber array is used to achieve this.

従来、光ファイバアレイとしては、例えば、セラミックや石英、シリコン等の硬質材料からなる基板に、光ファイバを収納するための溝が複数形成され、この溝のそれぞれに光ファイバの一部又は全部が整列して収容された光ファイバアレイや、このような光ファイバを収納した基板上に、さらに接着剤等を介して押さえ部材が取り付けられた光ファイバアレイが開示されている(例えば、特許文献1、2参照)。 Conventionally, as an optical fiber array, for example, a plurality of grooves for storing optical fibers are formed in a substrate made of a hard material such as ceramic, quartz, or silicon, and a part or all of the optical fiber is formed in each of the grooves. An optical fiber array in which the optical fiber array is accommodated and an optical fiber array in which a pressing member is further attached via an adhesive or the like on a substrate in which such an optical fiber is accommodated are disclosed (for example, Patent Document 1). , reference 2).

また、セラミック、石英、シリコン等の硬質材料を用いて製造された従来の光ファイバアレイと光学的に接続される光部品(例えば、スプリッター、光導波路のスリット部にフィルタが挿入された光合分波器等)は、その材料が、同様の硬質材料やこれらと熱膨張係数の近い材料であった。 Also, optical components that are optically connected to conventional optical fiber arrays manufactured using hard materials such as ceramic, quartz, and silicon (for example, optical multiplexing / demultiplexing with a filter inserted in a slit portion of a splitter or optical waveguide) The material of the container and the like was a similar hard material or a material having a thermal expansion coefficient close to those of the same hard material.

さらに、各種光部品に形成された光導波路について、セラミック基板上にはセラミックヒータからなる光導波路が、石英基板上には石英からなる光導波路が、シリコン基板上には石英からなる光導波路が形成されていた。
そして、光ファイバアレイと光部品とは、通常、透明な光学接着剤を用いて接続されている。
Furthermore, for optical waveguides formed on various optical components, an optical waveguide made of a ceramic heater is formed on a ceramic substrate, an optical waveguide made of quartz is formed on a quartz substrate, and an optical waveguide made of quartz is formed on a silicon substrate. It had been.
The optical fiber array and the optical component are usually connected using a transparent optical adhesive.

このように接続される光ファイバアレイおよび光部品(光導波路を含む)は、使用環境や信頼性試験において、光ファイバアレイの光ファイバと光部品の光導波路との間で位置ズレが発生しないようにすべく、熱膨張係数の近似したものを接続することが望ましいとされている。 The optical fiber array and the optical component (including the optical waveguide) connected in this manner do not cause positional misalignment between the optical fiber of the optical fiber array and the optical waveguide of the optical component in the usage environment and reliability test. Therefore, it is desirable to connect an approximation of the thermal expansion coefficient.

また、近年、ポリマー光導波路が開発され、このポリマー光導波路が用いられた低価格な光部品が開発されている。このようなポリマー光導波路が用いられた光部品について、フッ素化ポリイミドからなるポリマー光導波路を形成する場合には、光導波路形成時の硬化温度が200℃以上必要となるため、樹脂基板上に光導波路を形成することができなかった。
しかしながら、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等の硬化温度が100〜180℃と低い樹脂材料を用いる場合には、樹脂基板上にポリマー光導波路を形成することができる。
In recent years, polymer optical waveguides have been developed, and inexpensive optical parts using the polymer optical waveguides have been developed. When forming a polymer optical waveguide made of fluorinated polyimide for an optical component using such a polymer optical waveguide, the curing temperature at the time of forming the optical waveguide requires 200 ° C. or higher. A waveguide could not be formed.
However, when a resin material having a low curing temperature of 100 to 180 ° C., such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a silicone resin, is used, a polymer optical waveguide can be formed on the resin substrate.

特開平6−331851号公報JP-6-331851 discloses 特開平8−190033号公報JP-8-190033 discloses

従来の光ファイバアレイにおいて、硬質材料からなる基板に、機械加工を用いて溝の形成する場合、溝を一括形成することができず、溝を1つずつ個別に形成しなければならないため、溝ごとにバラツキが発生することがあり、これが、光ファイバ同士の相対的な位置ズレの原因となったり、場合によっては、光ファイバに変形、断線、亀裂等を引き起こす原因となってしまうことがあった。
このような位置ズレや変形等が発生した場合には、光ファイバを介して、情報を正確に伝達することができなくなってしまう。
In a conventional optical fiber array, when grooves are formed on a substrate made of a hard material by machining, the grooves cannot be formed at one time, and the grooves must be formed individually one by one. May cause a relative positional shift between optical fibers, and in some cases may cause deformation, disconnection, cracking, etc. in the optical fiber. It was.
When such positional deviation or deformation occurs, information cannot be accurately transmitted through the optical fiber.

また、従来の光ファイバアレイにおいて、光ファイバを収納した基板の上面に、押さえ部材を取り付ける場合、この押さえ部材としては、硬質材料からなる板状の押さえ部材や、
光ファイバの基板に形成された溝に収納されなかった部分を収納するための溝が個別に形成された押さえ部材等が用いられている。
Further, in the conventional optical fiber array, the upper surface of the substrate housing the optical fibers, when mounting the holding member, as the pressing member, a plate-like or pressing member made of a hard material,
A pressing member or the like is used in which grooves for accommodating portions not accommodated in the grooves formed on the optical fiber substrate are individually formed.

しかしながら、このような押さえ部材について、単なる板状体である場合には、光ファイバアレイが上方から衝撃を受けた場合、その衝撃は、押さえ部材を介して光ファイバのみが受けることとなり、その結果、光ファイバに変形、断線、亀裂等が引き起こされることがあった。 However, when such a pressing member is a simple plate-like body, when the optical fiber array receives an impact from above, the impact is received only by the optical fiber through the pressing member. In some cases, the optical fiber may be deformed, disconnected or cracked.

また、光部品(光導波路を含む)の材料として、セラミック、石英、シリコン等の硬質材料以外に、上述したような樹脂材料が用いられるようになるに伴い、光ファイバアレイとして、樹脂材料を用いた光部品と熱膨張係数が近いものも要望されている。 In addition to the hard materials such as ceramic, quartz, silicon, etc., as the materials for optical components (including optical waveguides), resin materials are used as optical fiber arrays as the above-mentioned resin materials are used. There is also a demand for an optical component having a thermal expansion coefficient close to that of the optical component.

そこで、本発明者らは、上述した課題を解決するために鋭意検討した結果、押さえ部材(蓋部)に、光ファイバの一部(光ファイバの溝内に収納されなかった部分)を一括して収納することができる凹部を形成すればよいことを見出し本発明を完成した。
さらに、樹脂基板上にポリマー光導波路が形成された光部品と接続する光ファイバアレイとしては、上述した形状の蓋部が樹脂製であるものが望ましいことも見出した。
Accordingly, as a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors collectively put a part of the optical fiber (the part that was not accommodated in the groove of the optical fiber) into the pressing member (lid part). As a result, the present invention has been completed.
Furthermore, it has also been found that an optical fiber array connected to an optical component having a polymer optical waveguide formed on a resin substrate preferably has a lid having the above-described shape made of resin.

即ち、本発明の光ファイバアレイは、基板上の一部に、複数の溝を有する樹脂層が形成され、上記溝には光ファイバが収納されており、
上記樹脂層上に前記光ファイバの一部を収納する蓋部が形成された光ファイバアレイであって、
上記蓋部の上記樹脂層と対向する面に上記光ファイバを一括して収納する凹部が形成されていることを特徴とする。
That is, in the optical fiber array of the present invention, a resin layer having a plurality of grooves is formed on a part of the substrate, and optical fibers are accommodated in the grooves.
An optical fiber array in which a lid for storing a part of the optical fiber is formed on the resin layer,
A concave portion for collectively storing the optical fibers is formed on a surface of the lid portion facing the resin layer.

本発明の光ファイバアレイでは、光ファイバを収納するための溝が、樹脂層に形成されており、樹脂はセラミックやガラス等の硬質基材に比べて柔らかいため、溝に、凹凸や膨れ等の変形が発生しても、光ファイバに損傷や変形が発生するおそれが少なく、この変形に起因する接続損失の増加を防止することができる。また、溝に収納された光ファイバの周囲に接着剤が充填されている場合には、光ファイバの表面にゴミや異物等も付着しにくい。
また、樹脂層に溝を形成する場合には、容易に溝を一括して形成することができるため、溝同士で形状のバラツキが無くなる。
また、上記光ファイバアレイは、従来のセラミック等からなる光ファイバアレイに比べて、樹脂を材料とする部分が多いため、安価に製造することができる。
In the optical fiber array of the present invention, a groove for housing the optical fiber is formed in the resin layer, and the resin is softer than a hard base material such as ceramic or glass, so that the groove has unevenness, swelling, etc. Even if the deformation occurs, the optical fiber is less likely to be damaged or deformed, and an increase in connection loss due to the deformation can be prevented. In addition, when an adhesive is filled around the optical fiber housed in the groove, dust, foreign matter, and the like hardly adhere to the surface of the optical fiber.
Further, when the grooves are formed in the resin layer, the grooves can be easily formed in a lump, so that there is no variation in shape between the grooves.
In addition, the optical fiber array can be manufactured at a low cost because there are more parts made of resin compared to a conventional optical fiber array made of ceramic or the like.

また、本発明の光ファイバアレイは、光ファイバが収納された樹脂層上に、光ファイバの一部を一括して収納する凹部が形成された蓋部が設けられており、蓋部下面(凹部を形成する側の面)の外縁部分は樹脂層に取り付けられていることとなるため、光ファイバアレイが外部から衝撃、特に、その上方から衝撃を受けた場合、その衝撃を蓋部を介して樹脂層でも受けることになるため、光ファイバ自身に作用する力は小さくなる。従って、外部から衝撃を受けた場合でも、光ファイバの位置ズレが発生せず、光ファイバアレイとして信頼性に優れることとなる。 Further, the optical fiber array of the present invention is provided with a lid portion formed with a recess for collectively storing a part of the optical fibers on the resin layer in which the optical fiber is accommodated. The outer edge part of the surface on which the optical fiber is formed is attached to the resin layer. Therefore, when the optical fiber array receives an impact from the outside, in particular, an impact from above, the impact is passed through the lid. Since it is received even by the resin layer, the force acting on the optical fiber itself is reduced. Therefore, even when an impact is applied from the outside, the optical fiber is not displaced and the optical fiber array is excellent in reliability.

また、上記蓋部に形成された凹部は、その形状が光ファイバを一括して収納することができる形状であるため、個々の光ファイバをそれぞれ別々に収納することができる溝等を有する蓋部と比べてその形成が容易であり、加えて、上記凹部に収納された光ファイバ同士の間には空隙が存在するため、光ファイバの相対的な位置ズレがより発生しにくく、さらに、該空隙内には、接着剤等を充填しやすい。
また、本発明の光ファイバアレイでは、個々の光ファイバをそれぞれ別々に収納することができる凹部(溝)を有する蓋部が形成された光ファイバアレイと異なり、凹部の形状のバラツキに起因した位置ズレや光ファイバの変形等の問題は当然発生せず、信頼性に優れることとなる。
In addition, since the concave portion formed in the lid portion has a shape that can accommodate optical fibers in a lump, the lid portion has grooves or the like that can individually accommodate individual optical fibers. In addition, since there is a gap between the optical fibers housed in the recesses, relative displacement of the optical fiber is less likely to occur. It is easy to fill the inside with an adhesive or the like.
In addition, in the optical fiber array of the present invention, unlike the optical fiber array in which a lid having a recess (groove) that can accommodate each optical fiber separately is formed, the position caused by the variation in the shape of the recess. Problems such as misalignment and deformation of the optical fiber do not naturally occur, and the reliability is excellent.

本発明の光ファイバアレイは、基板上の一部に、複数の溝を有する樹脂層が形成され、上記溝には光ファイバが収納されており、
上記樹脂層上に上記光ファイバの一部を収納する蓋部が形成された光ファイバアレイであって、
上記蓋部の上記樹脂層と対向する面に上記光ファイバを一括して収納する凹部が形成されていることを特徴とする。
In the optical fiber array of the present invention, a resin layer having a plurality of grooves is formed on a part of the substrate, and optical fibers are accommodated in the grooves.
An optical fiber array in which a lid for storing a part of the optical fiber is formed on the resin layer,
A concave portion for collectively storing the optical fibers is formed on a surface of the lid portion facing the resin layer.

以下、本発明の光ファイバアレイについて図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の光ファイバアレイの一実施形態を模式的に示す斜視図である。また、図2は、図1に示す光ファイバアレイの分解斜視図であり、図3は、図1に示す光ファイバアレイのA−A線断面図である。 The optical fiber array of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing an embodiment of the optical fiber array of the present invention. 2 is an exploded perspective view of the optical fiber array shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of the optical fiber array shown in FIG.

図1〜3に示すように、光ファイバアレイ100は、板状の基板111上に樹脂層112を備え、この樹脂層112には、光ファイバ115を収納するための溝113が形成されており、周囲の被覆樹脂116を剥離した光ファイバ115が溝113に並列に収納されている。
また、樹脂層112上には、蓋部101が形成されており、この蓋部101には、光ファイバ115の一部(光ファイバのうち溝113に収納されなかった部分)を一括して収納する凹部101aが形成されている。
また、蓋部101の下面(凹部101aを形成する側の面)の外縁部分101cは樹脂層112に取り付けられている。そのため、光ファイバアレイが外部から衝撃、特に、その上方から衝撃を受けた場合、その衝撃を蓋部101の外縁部分101cを介して樹脂層112でも受けることになるため、光ファイバ115に作用する衝撃は小さくなる。
As shown in FIGS. 1 to 3, the optical fiber array 100 includes a resin layer 112 on a plate-like substrate 111, and a groove 113 for housing the optical fiber 115 is formed in the resin layer 112. The optical fiber 115 from which the surrounding coating resin 116 is peeled is accommodated in the groove 113 in parallel.
Further, a lid portion 101 is formed on the resin layer 112, and a part of the optical fiber 115 (a portion of the optical fiber that was not accommodated in the groove 113) is collectively accommodated in the lid portion 101. A concave portion 101a is formed.
In addition, an outer edge portion 101 c on the lower surface (the surface on the side where the recess 101 a is formed) of the lid 101 is attached to the resin layer 112. Therefore, when the optical fiber array receives an impact from the outside, in particular, an impact from above, the impact is also received by the resin layer 112 via the outer edge portion 101 c of the lid 101, and thus acts on the optical fiber 115. Impact is reduced.

また、光ファイバアレイ100の樹脂層112には、溝113とは別に、光ファイバ115をその周囲に形成された被覆樹脂116とともに収納するための凹部117が形成されている。さらに、蓋部101の凹部117に対向する面には、光ファイバ115の一部をその周囲に形成された被覆樹脂116とともに一括して収納するための凹部101bが形成されている。 In addition to the groove 113, the resin layer 112 of the optical fiber array 100 is formed with a recess 117 for housing the optical fiber 115 together with the coating resin 116 formed in the periphery thereof. Furthermore, a concave portion 101b for accommodating a part of the optical fiber 115 together with the coating resin 116 formed around it is formed on the surface of the lid portion 101 that faces the concave portion 117.

図3に示すように、蓋部101に形成された凹部101aは、その壁面が樹脂層112の上面と略直角をなすように形成されている。
凹部101aの大きさは、光ファイバ115の一部を一括して収納することができる大きさである。
また、その形状は、図3に示したような略直角に交わる平面のみを組み合わせた形状に限定されず、壁面が傾斜を有する形状や、曲面により形成された形状、平面と曲面とを組み合わせた形状等であってもよい。
As shown in FIG. 3, the concave portion 101 a formed in the lid portion 101 is formed such that its wall surface is substantially perpendicular to the upper surface of the resin layer 112.
The size of the recess 101a is such a size that a part of the optical fiber 115 can be accommodated together.
Further, the shape is not limited to a shape combining only planes intersecting at substantially right angles as shown in FIG. 3, and a shape in which a wall surface is inclined, a shape formed by a curved surface, a combination of a plane and a curved surface are combined. It may be a shape or the like.

また、上記凹部の深さは、光ファイバの直径の1/2以下であることが望ましい。凹部の深さが、光ファイバの直径の1/2を超えると、樹脂層に形成した溝の深さによっては、凹部中の光ファイバの占める部分が少なく、光ファイバが上下方向に位置ズレを起こすことがある。
なお、上記凹部の深さは、光ファイバの該凹部に収納される部分の高さと同一であることが望ましい。
Moreover, it is desirable that the depth of the concave portion is ½ or less of the diameter of the optical fiber. The depth of the recess exceeds half the diameter of the optical fiber, depending on the depth of the groove formed in the resin layer, less the portion occupied by the optical fiber in the recess, an optical fiber is a misalignment in the vertical direction It may happen.
Note that the depth of the recess is preferably the same as the height of the portion of the optical fiber housed in the recess.

また、光ファイバアレイ100において、蓋部に形成した凹部の光ファイバ非収納部には接着剤層119が形成されている。このように、接着剤層119を形成することにより光ファイバをより確実に所定の位置に収納することができる。なお、接着剤層119は、必要に応じて形成すればよく、接着剤層を形成しなくても光ファイバを所定の位置に収納することができる場合には形成しなくてよい。また、上記接着剤層は、光ファイバ非収納部の一部にのみ形成されていてもよい。 In the optical fiber array 100, an adhesive layer 119 is formed on the optical fiber non-accommodating portion of the concave portion formed in the lid portion. In this way, by forming the adhesive layer 119, the optical fiber can be more reliably accommodated in a predetermined position. Note that the adhesive layer 119 may be formed as necessary, and may not be formed when the optical fiber can be stored in a predetermined position without forming the adhesive layer. Moreover, the said adhesive bond layer may be formed only in a part of optical fiber non-accommodating part.

また、本発明の光ファイバアレイにおいて、上記蓋部は、通常、接着剤層を介して上記樹脂層に取り付けられている。なお、上記接着剤層は、必要に応じて形成すればよく、上記蓋部と上記樹脂層との間に充分な密着性がある場合には、形成しなくてもよい。 In the optical fiber array of the present invention, the lid is usually attached to the resin layer via an adhesive layer. In addition, what is necessary is just to form the said adhesive bond layer as needed, and when there is sufficient adhesiveness between the said cover part and the said resin layer, it is not necessary to form.

また、樹脂層112に形成された溝113は、その壁面が基板111の上面と略直角をなすように形成されており、溝113の断面の大きさは、光ファイバ115が両壁面と底面とに内接する大きさである。
なお、上記溝は、その底面の幅が狭くなるように、壁面が傾斜して形成されていてもよく、曲面により形成されていてもよい。具体的には、溝の断面の形状は、略円弧状であったり、U字状であってもよい。
特に、略円弧状や、U字状の溝を形成した場合には、光ファイバを面接触で収納することができるため、光ファイバをより確実に所定の位置に固定することができる。
なお、本明細書において、U字状とは、平行線と半円とを組み合わせた形状のみならず、下に向かって幅が狭くなる2本の線と円弧とを組み合わせた形状も含むものとする。
Further, the groove 113 formed in the resin layer 112 is formed so that the wall surface thereof is substantially perpendicular to the upper surface of the substrate 111, and the size of the cross section of the groove 113 is such that the optical fiber 115 includes both the wall surface and the bottom surface. Is inscribed in the size.
The groove may be formed with an inclined wall surface or a curved surface so that the width of the bottom surface is narrowed. Specifically, the cross-sectional shape of the groove may be a substantially arc shape or a U shape.
In particular, when a substantially arc-shaped or U-shaped groove is formed, the optical fiber can be accommodated by surface contact, so that the optical fiber can be more securely fixed at a predetermined position.
In this specification, the U-shape includes not only a shape combining parallel lines and semicircles but also a shape combining two arcs whose widths are narrowed downward and an arc.

また、上記溝の深さは、光ファイバ15の直径の1/2以上で1/1未満であることが望ましい。
この範囲であれば、光ファイバを所定の位置に確実に収納することができるとともに、露光現像処理等により、精度よく、低コストで一括形成することができるからである。
Further, the depth of the groove is desirably 1/2 or more and less than 1/1 of the diameter of the optical fiber 15.
This is because within this range, the optical fibers can be securely stored in a predetermined position, and can be accurately and collectively formed by exposure and development processing or the like at a low cost.

なお、通常、光通信に使用される光ファイバの直径を考慮すると、溝の深さは、50μm以上で400μm未満であることが望ましい。
具体的には、径が125μmの光ファイバを用いる場合には、溝の深さは、62.5〜100μmであることが望ましい。
In general, considering the diameter of an optical fiber used for optical communication, the depth of the groove is preferably 50 μm or more and less than 400 μm.
Specifically, when an optical fiber having a diameter of 125 μm is used, the depth of the groove is preferably 62.5 to 100 μm.

また、上記溝の幅は特に限定されないが、100〜400μmが望ましく、150〜250μmがより望ましい。100μm未満では、光ファイバ15を収納することができないことがあり、一方、400μmを超える溝は、径が400μmを超える光ファイバを用いることがほとんどないため、余り形成する必要がない。ただし、径が400μmを超える光ファイバを用いる場合には、幅が400μmを超える溝を形成してもよい。 The width of the groove is not particularly limited, but is preferably 100 to 400 μm, and more preferably 150 to 250 μm. If the thickness is less than 100 μm, the optical fiber 15 may not be accommodated. On the other hand, a groove having a diameter exceeding 400 μm rarely uses an optical fiber having a diameter exceeding 400 μm. However, when using an optical fiber having a diameter exceeding 400 μm, a groove having a width exceeding 400 μm may be formed.

また、光ファイバアレイ100において、溝の光ファイバ非収納部には接着剤層118が形成されている。このように、接着剤層118を形成することにより光ファイバをより確実に所定の位置に収納することができる。なお、接着剤層は、必要に応じて形成すればよいが、溝の幅が光ファイバの直径より大きい場合には、接着剤層が形成されていることが望ましい。また、上記接着剤層は、光ファイバ非収納部の一部にのみ形成されていてもよい。 In the optical fiber array 100, an adhesive layer 118 is formed in the optical fiber non-accommodating portion of the groove. Thus, by forming the adhesive layer 118, the optical fiber can be more reliably accommodated in a predetermined position. The adhesive layer may be formed as necessary, but it is desirable that the adhesive layer is formed when the width of the groove is larger than the diameter of the optical fiber. Moreover, the said adhesive bond layer may be formed only in a part of optical fiber non-accommodating part.

また、上記樹脂層は、2層以上で構成されていてもよい。上記樹脂層を2層以上で構成することが、所望の形状の溝を形成するのに適していることがあるからである。これについては、本発明の光ファイバアレイの製造方法を説明する際に詳述する。
なお、上記樹脂層の構成を2層とし、下層に基板との密着性により優れる樹脂層を形成し、上層に形状保持性により優れる樹脂層を形成することにより、より高品質な光ファイバアレイとなる。
The resin layer may be composed of two or more layers. It is because it may be suitable for forming the groove | channel of a desired shape to comprise the said resin layer by two or more layers. This will be described in detail when the method for manufacturing the optical fiber array of the present invention is described.
It is to be noted that the structure of the resin layer is two layers, a resin layer that is superior in adhesion to the substrate is formed in the lower layer, and a resin layer that is excellent in shape retention is formed in the upper layer, thereby providing a higher quality optical fiber array Become.

また、光ファイバアレイ100においては、樹脂層112に、光ファイバ115をその周囲に形成された被覆樹脂116とともに収納するための凹部117が形成され、凹部117には、被覆樹脂116で周囲が被覆されたままの光ファイバが収納されている。このような構成にすることにより、光ファイバ15の保持、安定性が向上し、光ファイバの位置ズレ等がより発生しにくくなる。 In the optical fiber array 100, the resin layer 112 is formed with a recess 117 for housing the optical fiber 115 together with the coating resin 116 formed around the resin layer 112. The recess 117 is covered with the coating resin 116. has been left of the optical fiber is housed. With such a configuration, the holding and stability of the optical fiber 15 are improved, and the positional deviation of the optical fiber is less likely to occur.

次に、本発明の光ファイバアレイを構成するそれぞれの部材について、順次、詳細に説明する。
上記光ファイバアレイを構成する基板の材質としては、例えば、セラミック、窒化アルミニウム、ムライト、ジルコニア、炭化ケイ素、アルミナ、シリコン、石英、ガラス等の無機材料;銅、鉄、ニッケル等の金属材料;熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、これらの複合体等の有機材料やこれらの有機材料にガラス繊維等の補強材を含浸させたもの等が挙げられる。
なお、上記熱硬化性樹脂等の有機材料の具体例としては、例えば、後述する樹脂層において説明するものと同様のものを挙げることができる。
Next, each member constituting the optical fiber array of the present invention will be described in detail sequentially.
Examples of the material of the substrate constituting the optical fiber array include inorganic materials such as ceramic, aluminum nitride, mullite, zirconia, silicon carbide, alumina, silicon, quartz, and glass; metal materials such as copper, iron, and nickel; Examples thereof include organic materials such as curable resins, thermoplastic resins, photosensitive resins, and composites thereof, and those obtained by impregnating reinforcing materials such as glass fibers in these organic materials.
In addition, as a specific example of organic materials, such as the said thermosetting resin, the thing similar to what is demonstrated in the resin layer mentioned later can be mentioned, for example.

上記基板の形状は特に限定されないが、通常、板状であり、その大きさは、光ファイバアレイの大きさに合わせて適宜選択すればよい。
また、上記基板の上面(樹脂層に形成した溝の底面に露出する部分)には、溝状のガイドが形成されていてもよい。ガイドを形成しておくことにより光ファイバに左右方向の位置ズレが発生するおそれがより少なくなるからである。
The shape of the substrate is not particularly limited, but is usually a plate shape, and the size may be appropriately selected according to the size of the optical fiber array.
Further, a groove-shaped guide may be formed on the upper surface of the substrate (the portion exposed at the bottom surface of the groove formed in the resin layer). This is because by forming the guide, there is less possibility that the optical fiber is displaced in the left-right direction.

また、上記ガイドの断面の形状は特に限定されるものではなく、例えば、矩形状、逆三角形状、倒立台形状等が挙げられる。
また、このようなガイドは、基板上に溝を有する樹脂層が形成された際、上記溝の底面の中央部分に露出するように形成されていることが望ましい。
Moreover, the shape of the cross section of the guide is not particularly limited, and examples thereof include a rectangular shape, an inverted triangular shape, and an inverted trapezoidal shape.
Further, it is desirable that such a guide is formed so as to be exposed at the central portion of the bottom surface of the groove when the resin layer having the groove is formed on the substrate.

また、上記基板の樹脂層と当接する部分には、粗化処理やスマット処理が施されていたり、コーティング材層が形成されていたりしてもよい。樹脂層との密着性の向上を図ることができるからである。 Further, a roughening process or a smut process may be performed on the portion of the substrate that contacts the resin layer, or a coating material layer may be formed. This is because the adhesion to the resin layer can be improved.

また、上記基板の樹脂層と当接する面は、その平面度が10μm以下であることが望ましい。10μmを超えると、光ファイバの位置ズレが発生したり、光ファイバに変形、断線、亀裂等が発生したりすることがあるからである。 Further, it is desirable that the surface of the substrate that contacts the resin layer has a flatness of 10 μm or less. If the thickness exceeds 10 μm, the optical fiber may be misaligned, or the optical fiber may be deformed, disconnected, cracked, or the like.

また、上記基板は、厚さの異なる2枚の基板を接着したものであってよい。
これは、例えば、相対的に厚い基板と相対的に薄い基板とをその底面を揃えて接着し、1枚の基板とした場合には、それぞれの上面の高さが異なるため、特に加工を施すことなく、上記厚い基板上に周囲の被覆樹脂を剥離した光ファイバを載置し、上記薄い基板上に被覆樹脂が形成されたままの光ファイバを載置することができるからである。
Moreover, the said board | substrate may adhere | attach two board | substrates from which thickness differs.
This is because, for example, when a relatively thick substrate and a relatively thin substrate are bonded with their bottom surfaces aligned to form a single substrate, the height of each top surface is different, and therefore processing is performed. This is because the optical fiber from which the surrounding coating resin has been peeled can be placed on the thick substrate, and the optical fiber with the coating resin still formed can be placed on the thin substrate.

上記樹脂層の材質としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂の一部が感光化された樹脂、および、感光性樹脂のうちの少なくとも一種を含む樹脂組成物等が挙げられる。
上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。
上記エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型等のノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変成した脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
Examples of the material of the resin layer include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a resin in which a part of the thermosetting resin is sensitized, and a resin composition including at least one of the photosensitive resins. Can be mentioned.
Examples of the thermosetting resin include epoxy resins, phenol resins, polyimide resins, bismaleimide resins, polyphenylene resins, polyolefin resins, and fluororesins.
Specific examples of the epoxy resin include novolak type epoxy resins such as phenol novolac type and cresol novolak type, and dicyclopentadiene-modified alicyclic epoxy resins.

また、ポリイミド樹脂の具体例としては、例えば、下記化学式(1)〜(4)に示すポリイミド等が挙げられる。 Moreover, as a specific example of a polyimide resin, the polyimide etc. which are shown to following Chemical formula (1)-(4) are mentioned, for example.

Figure 2005266549
Figure 2005266549

(式中、nは、1〜5の整数を表す。) (In the formula, n represents an integer of 1 to 5.)

Figure 2005266549
Figure 2005266549

(式中、mは、1〜5の整数を表す。) (Wherein, m represents an integer of 1 to 5.)

Figure 2005266549
Figure 2005266549

(式中、lは、1〜5の整数を表す。) (Wherein, l represents an integer of 1 to 5.)

Figure 2005266549
Figure 2005266549

(式中、pは、1〜5の整数を表す。) (Wherein, p is integer of 1 to 5..)

上記ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、シクロオレフィン系樹脂、これらの樹脂の共重合体等が挙げられる。
また、上記シクロオレフィン系樹脂としては、例えば、2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネンまたはこれらの誘導体からなる単量体の単独重合体または共重合体等が挙げられる。
Examples of the polyolefin resin include polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, polybutadiene, polyisoprene, cycloolefin resins, and copolymers of these resins.
Examples of the cycloolefin-based resin include homopolymers or copolymers of monomers composed of 2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, or derivatives thereof.

また、上記感光化された熱硬化性樹脂としては、例えば、上記した熱硬化性樹脂に感光性を付与したもの等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂に感光性を付与する方法としては、例えば、熱硬化性樹脂の熱硬化基(例えば、エポキシ樹脂におけるエポキシ基)にメタクリル酸やアクリル酸等を反応させ、アクリル基を付与する方法等を用いることができる。
また、上記感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂等が挙げられる。
Examples of the sensitized thermosetting resin include those obtained by imparting photosensitivity to the above-described thermosetting resin. As a method for imparting photosensitivity to the thermosetting resin, for example, methacrylic acid or acrylic acid is reacted with a thermosetting group (for example, an epoxy group in an epoxy resin) of the thermosetting resin to give an acrylic group. A method or the like can be used.
Moreover, as said photosensitive resin, an acrylic resin etc. are mentioned, for example.

また、上記熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリスルフォン(PSF)、ポリフェニレンスルホン(PPS)ポリフェニレンサルファイド(PPES)、ポリフェニルエーテル(PPE)、ポリエーテルイミド(PI)等が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin include phenoxy resin, polyether sulfone (PES), polysulfone (PSF), polyphenylene sulfone (PPS) polyphenylene sulfide (PPES), polyphenyl ether (PPE), and polyetherimide (PI). ), and the like.

また、樹脂層を形成するための樹脂組成物は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂および感光性樹脂のうちの2種以上を含んでいてもよく、その組み合わせとしては、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との組み合わせや、感光性樹脂(以下、感光化された熱硬化性樹脂も含む)と熱可塑性樹脂との組み合わせが望ましい。 Moreover, the resin composition for forming the resin layer may contain two or more of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photosensitive resin, and the combination thereof includes a thermosetting resin and a thermosetting resin. A combination with a plastic resin or a combination of a photosensitive resin (hereinafter also including a sensitized thermosetting resin) and a thermoplastic resin is desirable.

上記熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との組み合わせとしては、例えば、フェノール樹脂とポリエーテルスルフォン、ポリイミド樹脂とポリスルフォン、エポキシ樹脂とポリエーテルスルフォン、エポキシ樹脂とフェノキシ樹脂等の組み合わせが挙げられる。
また、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂とを組み合わせる場合の混合割合は、熱硬化性樹脂/熱可塑性樹脂=95/5〜50/50(重量比)が望ましい。
この範囲であれば、靱性値が高く、外部から衝撃を受けた場合に変形しにくいからである。
Examples of the combination of the thermosetting resin and the thermoplastic resin include a combination of phenol resin and polyether sulfone, polyimide resin and polysulfone, epoxy resin and polyether sulfone, epoxy resin and phenoxy resin, and the like.
The mixing ratio in the case of combining the thermosetting resin and the thermoplastic resin is preferably thermosetting resin / thermoplastic resin = 95/5 to 50/50 (weight ratio).
This is because, within this range, the toughness value is high, and it is difficult to deform when subjected to an impact from the outside.

感光性樹脂と熱可塑性樹脂との組み合わせとしては、例えば、エポキシ基の少なくとも一部をアクリル化したエポキシ樹脂とポリエーテルスルフォン、アクリル樹脂とフェノキシ樹脂等の組み合わせが挙げられる。
また、感光性樹脂と熱可塑性樹脂とを組み合わせる場合の混合割合は、感光性樹脂/熱可塑性樹脂=95/5〜50/50(重量比)が望ましい。
この範囲であれば、靱性値が高く、外部から衝撃を受けた場合に変形しにくいからである。
Examples of the combination of the photosensitive resin and the thermoplastic resin include a combination of an epoxy resin and polyether sulfone in which at least a part of the epoxy group is acrylated, an acrylic resin and a phenoxy resin, and the like.
Further, the mixing ratio when combining the photosensitive resin and the thermoplastic resin is desirably photosensitive resin / thermoplastic resin = 95/5 to 50/50 (weight ratio).
This is because, within this range, the toughness value is high, and it is difficult to deform when subjected to an impact from the outside.

また、樹脂層が2層以上からなる場合に用いる樹脂組成物の組み合わせとしては特に限定されないが、例えば、下層の樹脂層に感光性樹脂/熱可塑性樹脂=50/50の樹脂組成物を用い、上層の樹脂層に感光性樹脂/熱可塑性樹脂=90/10の樹脂組成物を用いる組み合わせ等が挙げられる。
このような組み合わせにした場合、下層の樹脂層は、感光性樹脂の配合量を少なくしているため、基板と樹脂層とを確実に密着させることができるとともに、露光、現像処理によりその壁面が曲面である溝を形成するのに適しており、一方、上層の樹脂層は、感光性樹脂の配合量を多くしているため、露光、現像処理により確実に溝を形成することができる。
なお、溝を形成する具体的な方法については、後に詳述する。
Further, the combination of the resin compositions used when the resin layer is composed of two or more layers is not particularly limited. For example, a resin composition of photosensitive resin / thermoplastic resin = 50/50 is used for the lower resin layer, The combination etc. which use the resin composition of photosensitive resin / thermoplastic resin = 90/10 for the upper resin layer are mentioned.
When such a combination is used, the lower resin layer reduces the blending amount of the photosensitive resin, so that the substrate and the resin layer can be securely adhered to each other, and the wall surface thereof is exposed and developed. It is suitable for forming a groove having a curved surface. On the other hand, since the upper resin layer increases the amount of the photosensitive resin, the groove can be surely formed by exposure and development processing.
A specific method for forming the groove will be described in detail later.

このような樹脂組成物は、上記した樹脂成分以外に、必要に応じて、例えば、硬化剤、溶剤等を含んでいてもよい。
また、上記樹脂組成物には粒子が配合されていてもよい。粒子の配合量を調整することにより、上記樹脂組成物の粘度を調整したり、樹脂組成物を塗布して形成した膜の形状保持性を向上させたりすることができる。
また、上記粒子の配合量を調整することで、形成する樹脂層の熱膨張係数を基板等の熱膨張係数と整合させることができ、これらの間の熱膨張係数の差に起因するクラックの発生等を抑制することができる。さらに、上記粒子が外部からの衝撃に対する緩衝剤の役割を果たすため、樹脂層にクラック等が発生しにくくなり、その結果、光ファイバに損傷や変形等が発生しにくくなる。
また、含有させる粒子の種類によっては、製造する光ファイバアレイを任意の色に着色することができるとともに、光ファイバアレイの難燃性の向上を図ることもできる。
Such a resin composition may contain a hardening | curing agent, a solvent, etc. as needed other than the above-mentioned resin component as needed.
The resin composition may contain particles. By adjusting the compounding quantity of particle | grains, the viscosity of the said resin composition can be adjusted, or the shape retainability of the film | membrane formed by apply | coating a resin composition can be improved.
In addition, by adjusting the blending amount of the particles, the thermal expansion coefficient of the resin layer to be formed can be matched with the thermal expansion coefficient of the substrate, etc., and cracks are generated due to the difference in thermal expansion coefficient between them. Etc. can be suppressed. Furthermore, since the particles serve as a buffer against external impacts, cracks and the like are less likely to occur in the resin layer, and as a result, damage and deformation are less likely to occur in the optical fiber.
Further, depending on the type of particles to be contained, the optical fiber array to be produced can be colored in an arbitrary color, and the flame retardancy of the optical fiber array can be improved.

上記粒子は、樹脂粒子、無機粒子、および、金属粒子のうちの少なくとも一種であることが望ましい。
上記樹脂粒子は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、熱硬化性樹脂の一部が感光化された樹脂、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との樹脂複合体、および、感光性樹脂と熱可塑性樹脂との樹脂複合体のうちの少なくとも一種からなるものが望ましい。
The particles are desirably at least one of resin particles, inorganic particles, and metal particles.
The resin particles, thermosetting resin, thermoplastic resin, photosensitive resin, a part of the thermosetting resin is photosensitized resinous, resin composite of a thermosetting resin and a thermoplastic resin, and a photosensitive What consists of at least 1 type of the resin composite_body | complex of resin and a thermoplastic resin is desirable.

上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。 Examples of the thermosetting resin include epoxy resins, phenol resins, polyimide resins, bismaleimide resins, polyphenylene resins, polyolefin resins, and fluororesins.

また、上記熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリスルフォン(PSF)、ポリフェニレンスルホン(PPS)、ポリフェニレンサルファイド(PPES)、ポリフェニルエーテル(PPE)、ポリエーテルイミド(PI)等が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin include phenoxy resin, polyether sulfone (PES), polysulfone (PSF), polyphenylene sulfone (PPS), polyphenylene sulfide (PPES), polyphenyl ether (PPE), polyetherimide ( PI), and the like.

上記感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂等が挙げられる。
また、上記熱硬化性樹脂の一部が感光化された樹脂としては、例えば、上記した熱硬化性樹脂に感光性を付与したもの等が挙げられる。
As said photosensitive resin, an acrylic resin etc. are mentioned, for example.
Examples of the resin in which a part of the thermosetting resin is sensitized include those obtained by imparting photosensitivity to the above-described thermosetting resin.

上記熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との樹脂複合体としては、例えば、上記熱硬化性樹脂と上記熱可塑性樹脂とをそれぞれ少なくとも一種ずつ含む樹脂等が挙げられる。
また、上記感光性樹脂と熱可塑性樹脂との樹脂複合体としては、例えば、上記感光性樹脂や上記熱硬化性樹脂の一部が感光化された樹脂と、上記熱可塑性樹脂とをそれぞれ少なくとも一種ずつ含む樹脂等が挙げられる。
また、上記樹脂粒子としては、ゴムからなる樹脂粒子を用いることもできる。
Examples of the resin composite of the thermosetting resin and the thermoplastic resin include a resin containing at least one of the thermosetting resin and the thermoplastic resin.
In addition, as the resin composite of the photosensitive resin and the thermoplastic resin, for example, at least one of the photosensitive resin and a resin in which a part of the thermosetting resin is sensitized and the thermoplastic resin are used. Resin etc. which contain each are mentioned.
Moreover, as the resin particles, resin particles made of rubber can be used.

上記無機粒子としては、アルミナ、水酸化アルミニウム等のアルミニウム化合物、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム等のカルシウム化合物、炭酸カリウム等のカリウム化合物、マグネシア、ドロマイト、塩基性炭酸マグネシウム等のマグネシウム化合物、および、シリカ、ゼオライト等のケイ素化合物のうちの少なくとも一種からなるものが挙げられる。 Examples of the inorganic particles include aluminum compounds such as alumina and aluminum hydroxide, calcium compounds such as calcium carbonate and calcium hydroxide, potassium compounds such as potassium carbonate, magnesium compounds such as magnesia, dolomite and basic magnesium carbonate, and silica. And those composed of at least one of silicon compounds such as zeolite.

また、上記無機粒子としては、リンおよび/またはリン化合物からなるものを用いてもよい。これらを用いた場合には、樹脂層の難燃性をより向上させることができる。また、これらのリンやリン化合物からなる粒子は、安定性を高めるためにフェノール樹脂等の樹脂や水酸化アルミニウム等の無機化合物等により被覆されていてもよい。 Moreover, as said inorganic particle, you may use what consists of phosphorus and / or a phosphorus compound. When these are used, the flame retardance of the resin layer can be further improved. Moreover, in order to improve stability, the particle | grains which consist of these phosphorus and phosphorus compounds may be coat | covered with resin, such as a phenol resin, inorganic compounds, such as aluminum hydroxide.

上記金属粒子としては、例えば、Au、Ag、Cu、Pd、Ni、Pt、Fe、Zn、Pb、Al、Mg、および、Ca等からなるものが挙げられ、これらのなかでは、Au、Ag、Cu、Pd、Ni、および、Ptからなるものが望ましい。また、これらの金属粒子は、樹脂層の絶縁性を確保するために、表層が樹脂等により被覆されていてもよい。 Examples of the metal particles include Au, Ag, Cu, Pd, Ni, Pt, Fe, Zn, Pb, Al, Mg, and Ca. Among these, Au, Ag, What consists of Cu, Pd, Ni, and Pt is desirable. In addition, these metal particles may have a surface layer coated with a resin or the like in order to ensure insulation of the resin layer.

また、上記粒子の形状は、球状、楕円球状、破砕状、および、多面体状のうちの少なくとも一の形状であることが望ましい。これらのなかでは、クラックが発生しにくく、熱や熱衝撃によって樹脂層に応力が発生しても、その応力が緩和されやすい点から、球状がより望ましい。 The shape of the particles is preferably at least one of a spherical shape, an elliptical spherical shape, a crushed shape, and a polyhedral shape. Among these, a spherical shape is more preferable because cracks are unlikely to occur, and even if stress is generated in the resin layer by heat or thermal shock, the stress is easily relaxed.

上記粒子の配合量は、10〜80重量%が望ましく、20〜70重量%がより望ましい。粒子の配合量が10重量%未満であると、光ファイバアレイを過酷な環境下(高温環境下等)で使用した場合に、樹脂層にクラックが発生したり、樹脂層の硬度が充分でなく、光ファイバアレイの耐久性に劣ることがある。一方、粒子の配合量が80重量%を超えると、樹脂層の硬度は充分に高いものの、脆く、光ファイバアレイの品質として劣るものとなることがあり、加えて、露光・現像処理により樹脂層に溝を形成する場合に、樹脂層(樹脂組成物)が充分に露光されず、設計通りの溝を形成することができないことがある。 The blending amount of the particles is desirably 10 to 80% by weight, and more desirably 20 to 70% by weight. When the amount of the particles is less than 10% by weight, when the optical fiber array is used in a harsh environment (such as in a high temperature environment), the resin layer is cracked or the resin layer has insufficient hardness. sometimes poor durability of the optical fiber array. On the other hand, if the blending amount of the particles exceeds 80% by weight, the resin layer has a sufficiently high hardness, but is brittle and may deteriorate the quality of the optical fiber array. When the grooves are formed in the resin layer, the resin layer (resin composition) may not be sufficiently exposed, and the designed grooves may not be formed.

また、上記蓋部の材質としては、例えば、窒化アルミニウム、ムライト、ジルコニア、炭化ケイ素、アルミナ、シリコン、石英、ガラス等の無機材料;銅、鉄、ニッケル等の金属材料;熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、これらの複合体等の有機材料やこれらの有機材料にガラス繊維等の補強材を含浸させたもの等が挙げられる。 Examples of the material of the lid include inorganic materials such as aluminum nitride, mullite, zirconia, silicon carbide, alumina, silicon, quartz, and glass; metal materials such as copper, iron, and nickel; thermosetting resins and heat Examples thereof include organic materials such as plastic resins, photosensitive resins, and composites thereof, and those obtained by impregnating these organic materials with a reinforcing material such as glass fiber.

上記蓋部の材質は、上記樹脂層の材質と同一であることが望ましい。
この場合、樹脂層と蓋部との密着性がより優れたものとなるとともに、両者の熱膨張係数の差等に起因した不都合が発生しなくなるからである。
また、上記蓋部の材料が無機材料(硬質材料)である場合には、外部からの衝撃に対してより変形等が発生しにくい。
上記蓋部の材質は、光ファイバアレイの設計や、使用環境等を考慮して適宜選択すればよい。なお、上記蓋部が有する凹部の形成方法は、後に詳述する。
The material of the lid is preferably the same as the material of the resin layer.
In this case, the adhesiveness between the resin layer and the lid is improved, and inconvenience due to the difference in thermal expansion coefficient between the two does not occur.
Moreover, when the material of the said cover part is an inorganic material (hard material), a deformation | transformation etc. do not generate | occur | produce more with respect to the impact from the outside.
The material of the lid may be appropriately selected in consideration of the design of the optical fiber array, the usage environment, and the like. In addition, the formation method of the recessed part which the said cover part has is explained in full detail behind.

また、上記蓋部は、2層以上から構成されていてもよい。具体的な態様としては、例えば、有機材料からなる層と硬質材料からなる層との2層から構成され、樹脂からなる層に光ファイバを収納する凹部が一括して形成されている態様等が挙げられる。
このような蓋部では、機械的強度に優れる硬質材料により、耐衝撃性に優れるとともに、凹部を有機材料をからなる層に形成するため、その形成が容易で、寸法精度にも優れることとなる。
Moreover, the said cover part may be comprised from 2 or more layers. As a specific aspect, for example, an aspect in which a layer made of an organic material and a layer made of a hard material are composed of two layers, and a concave portion for accommodating an optical fiber is formed in a layer made of a resin, etc. Can be mentioned.
In such a lid portion, a hard material having excellent mechanical strength provides excellent impact resistance, and the concave portion is formed in a layer made of an organic material, so that the formation is easy and the dimensional accuracy is also excellent. .

なお、本発明の光ファイバアレイについて、蓋部の材料として樹脂層の材料と同一の樹脂を用いた光ファイバアレイ(樹脂製蓋部付き光ファイバアレイ)と、蓋部の材料として石英を用いた光ファイバアレイ(石英製蓋部付き光ファイバアレイ)とを製造し、これらを、樹脂基板上にポリマー光導波路が形成された光導波路部品(ポリマー導波路部品)または石英基板上に石英光導波路が形成された光導波路部品(石英導波路部品)に光学接着剤を介して接続し、その後、信頼性試験(気槽温度サイクル 0℃(30分)/100℃(30分)で、1000サイクル)を行い、信頼性試験後の光ファイバのコアと光導波路のコア部との位置ズレ(対光ファイバのコア径)を測定した。 In addition, about the optical fiber array of this invention, the optical fiber array (optical fiber array with a resin-made lid part) using the same resin as the material of a resin layer was used as a material of a cover part, and quartz was used as a material of a cover part. An optical fiber array (an optical fiber array with a quartz lid) is manufactured, and these are made into an optical waveguide component (polymer waveguide component) in which a polymer optical waveguide is formed on a resin substrate or a quartz optical waveguide on a quartz substrate. Connected to the formed optical waveguide component (quartz waveguide component) via an optical adhesive, and then a reliability test (1000 cycles at an air bath temperature cycle of 0 ° C. (30 minutes) / 100 ° C. (30 minutes)) And the positional deviation (core diameter of the optical fiber) between the core of the optical fiber and the core portion of the optical waveguide after the reliability test was measured.

その結果、樹脂製蓋部付き光ファイバアレイとポリマー導波路部品との接続では、信頼性試験後の位置ズレが10%以下であったのに対し、樹脂製蓋部付き光ファイバアレイと石英導波路部品との接続、および、石英製蓋部付き光ファイバアレイとポリマー導波路部品との接続では、信頼性試験後の位置ズレが15%を超えていた。
このことからも、本発明の光ファイバアレイを樹脂材料からなる光部品との接続に用いる場合、蓋部の材質は、樹脂層の材質と同一のものであることが望ましいことが明らかである。
As a result, in the connection between the optical fiber array with the resin lid and the polymer waveguide component, the positional deviation after the reliability test was 10% or less, whereas the optical fiber array with the resin lid and the quartz waveguide were In the connection with the waveguide component, and the connection between the optical fiber array with the quartz lid and the polymer waveguide component, the positional deviation after the reliability test exceeded 15%.
From this, it is clear that when the optical fiber array of the present invention is used for connection with an optical component made of a resin material, it is desirable that the material of the lid is the same as the material of the resin layer.

また、上記蓋部に形成した凹部の光ファイバ非収納部や、上記樹脂層に形成した光ファイバ非収納部に接着剤層を形成する場合、接着剤としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂の一部が感光化された樹脂、感光性樹脂等からなるものが挙げられる。
具体的には、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂等を用いることができる。
In the case where an adhesive layer is formed on the optical fiber non-contained part of the recess formed in the lid part or the optical fiber non-contained part formed on the resin layer, examples of the adhesive include thermoplastic resin and thermosetting Examples thereof include a photosensitive resin, a resin in which a part of a thermosetting resin is sensitized, and a photosensitive resin.
Specifically, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, or a silicone resin, an ultraviolet curable resin, or the like can be used.

また、上記接着剤層を形成する際に用いる接着剤は、上記した樹脂成分に加えて、上述したような無機粒子、樹脂粒子、および、金属粒子等を含んでいてもよい。熱膨張係数の整合や難燃性の向上を図ることができるからである。
また、上記接着剤は、硬化剤、反応安定剤、光重合剤、溶剤等を含んでいてもよい。接着剤の流動性の向上等を図ることができるからである。
Further, the adhesive used when forming the adhesive layer may contain inorganic particles, resin particles, metal particles, and the like as described above in addition to the resin component described above. This is because the thermal expansion coefficient can be matched and the flame retardancy can be improved.
Moreover, the said adhesive agent may contain the hardening | curing agent, the reaction stabilizer, the photopolymerization agent, the solvent, etc. This is because the fluidity of the adhesive can be improved.

次に、本発明の光ファイバアレイを製造する方法について工程順に説明する。
(1)まず、上記したセラミックや金属、樹脂等からなる基板を出発材料とし、
必要に応じて、その表面にスマット処理を施したり、コーティング層を形成したりする。
また、基板の上面にガイドを形成する場合には、この工程でダイヤモンドカッター等の切削部材を用いて形成しておけばよい。
また、光ファイバの一部を被覆樹脂が形成されたまま収納する場合には、該被覆樹脂が形成されたままの光ファイバを収納するための凹部をこの工程で形成しておくか、または、厚さの異なる2枚の基板を接着したものを出発材料とする。
Next, a method for manufacturing the optical fiber array of the present invention will be described in the order of steps.
(1) First, a substrate made of the above ceramic, metal, resin or the like is used as a starting material,
If necessary, the surface is subjected to a smut treatment or a coating layer is formed.
In addition, when the guide is formed on the upper surface of the substrate, it may be formed using a cutting member such as a diamond cutter in this step.
Further, in the case of receiving a part of the optical fiber remains coated resin is formed, a recess for accommodating the optical fiber remains the coating resin is formed or preliminarily formed in this step, or, A material obtained by bonding two substrates having different thicknesses is used as a starting material.

(2)次に、上記基板上に樹脂層を形成する。
この工程では、上述した樹脂組成物を基板上に塗布したり、上述した樹脂組成物からなる樹脂フィルムを基板上に圧着したりすることにより、樹脂層を形成する。
(2) Next, a resin layer is formed on the substrate.
In this step, the resin layer is formed by applying the above-described resin composition on the substrate or pressing the resin film made of the above-described resin composition on the substrate.

樹脂組成物を塗布する場合には、予め粘度を調整した樹脂組成物の溶液をカーテンコーター、ロールコーター、印刷等の方法を用いて塗布し、その後、乾燥処理を施すことにより樹脂層を形成すればよく、樹脂フィルムを圧着する場合には、予め半硬化させてBステージ状態にしておいた熱硬化性樹脂(熱硬化性を有する感光性樹脂を含む)を含む樹脂組成物を圧着したり、予め板状に成形しておいた熱可塑性樹脂(熱可塑性を有する感光性樹脂を含む)を含む樹脂組成物を圧着したりすればよい。なお、圧着時には、必要に応じて、加熱処理を併用してもよい。 When applying a resin composition, apply a solution of a resin composition whose viscosity has been adjusted in advance using a method such as curtain coater, roll coater, or printing, and then perform a drying treatment to form a resin layer. What is necessary is just to crimp a resin composition including a thermosetting resin (including a photosensitive resin having thermosetting property) that has been semi-cured in advance to be in a B-stage state, A resin composition containing a thermoplastic resin (including a thermoplastic resin having thermoplasticity) previously formed into a plate shape may be pressure-bonded. In addition, you may use heat processing together as needed at the time of pressure bonding.

なお、この工程で形成する樹脂層は、完全に硬化していてもよいし、半硬化状態であってもよい。
具体的には、後工程で溝を形成する際に、露光・現像処理を用いる場合には、半硬化状態であることが望ましく、レーザ処理を用いる場合には、完全に硬化した状態であってもよいし、半硬化状態であってもよい。
また、露光・現像処理を用いて溝を形成するために、樹脂層を半硬化状態にする場合には、表層部にスキン層が形成される程度に硬化(半硬化)させることが望ましい。
なお、スキン層とは、露光時に表層部が最初に急激に硬化するため表層部に形成される硬い層のことである。
Note that the resin layer formed in this step may be completely cured or in a semi-cured state.
Specifically, in forming a groove in a subsequent step, in the case of using the exposure and development treatment is preferably a semi-cured state, in the case of using the laser process is a fully cured state Alternatively, it may be in a semi-cured state.
Further, in order to form a groove by using the exposure and development process, when the resin layer in a semi-cured state is cured to the extent that the skin layer is formed in a surface portion (semi-cured) is to be desirable.
The skin layer is a hard layer formed on the surface layer portion because the surface layer portion is first hardened at the time of exposure.

(3)次に、上記(2)の工程で形成した樹脂層に、光ファイバを収納するための溝を形成する。
この工程は、上記(2)の工程で感光性樹脂を含む樹脂組成物を用いて樹脂層を形成した場合には、露光・現像処理を施すことにより行うことが望ましい。従って、この場合、上記(2)の工程では、半硬化状態の樹脂層を形成しておく。
具体的には、まず、樹脂層上に、形成する溝に対応したパターンが描画されたマスクを載置した後、露光処理を施す。
また、マスクにパターンを描画する方法としては、例えば、ネガ型の感光性樹脂を対象にしたマスクでは、リフトオフ法等を用いることができ、ポジ型の感光性樹脂を対象にしたマスクでは、エッチング処理等を用いることができる。
(3) Next, a groove for accommodating the optical fiber is formed in the resin layer formed in the step (2).
This step is desirably performed by performing exposure and development treatment when the resin layer is formed using the resin composition containing the photosensitive resin in the step (2). Therefore, in this case, in the step (2), a semi-cured resin layer is formed.
Specifically, first, a mask on which a pattern corresponding to a groove to be formed is placed is placed on the resin layer, and then an exposure process is performed.
As a method of drawing a pattern on the mask, for example, a lift-off method can be used for a mask intended for a negative photosensitive resin, and an etching is performed for a mask intended for a positive photosensitive resin. Processing or the like can be used.

さらに、現像液を用いて、現像処理を施すことにより、樹脂層に溝を一括形成する。
また、露光処理後には、必要に応じて、加熱処理等を用い、樹脂層を完全に硬化させる。樹脂層が完全に硬化していないと、光ファイバを収納した際に、光ファイバの位置ズレが発生することがあるからである。
Furthermore, a groove is formed in the resin layer by performing development using a developer.
Further, after the exposure treatment, the resin layer is completely cured using heat treatment or the like as necessary. This is because if the resin layer is not completely cured, the optical fiber may be misaligned when the optical fiber is stored.

上記現像液としては特に限定されず、酸溶液、アルカリ溶液、有機溶剤等の通常用いられる現像液を、樹脂層の種類に応じて使い分ければよい。
また、上記現像処理は、例えば、樹脂層が形成された基板を現像液中に浸漬したり、樹脂層に現像液をスプレーしたりすることにより行うことができる。
The developer is not particularly limited, and a commonly used developer such as an acid solution, an alkali solution, or an organic solvent may be used depending on the type of the resin layer.
Moreover, the said development process can be performed by immersing the board | substrate with which the resin layer was formed in a developing solution, or spraying a developing solution on a resin layer, for example.

なお、露光・現像処理を行う際の詳細な条件、即ち、露光量や現像液の種類等については特に限定されず、樹脂組成物の組成や、形成する樹脂層の厚さ、溝の形状等を考慮して適宜選択すればよい。 The detailed conditions for performing exposure / development processing, that is, the amount of exposure and the type of developer are not particularly limited, and the composition of the resin composition, the thickness of the resin layer to be formed, the shape of the groove, etc. the may be appropriately selected in consideration.

また、上記樹脂層を2層以上からなる構成にする場合には、上記(2)の工程と、この(3)の工程とを繰り返し行えばよい。
このような、樹脂層形成工程と溝形成工程とを繰り返し行う方法は、その底面の幅が狭くなるように、壁面が傾斜して形成されている溝や、曲面により形成されている溝を形成する方法として適している。
When the resin layer is composed of two or more layers, the step (2) and the step (3) may be repeated.
Such a method of repeatedly performing the resin layer forming step and the groove forming step is to form a groove formed with an inclined wall surface or a groove formed with a curved surface so that the width of the bottom surface is narrowed. Suitable as a method to do.

この場合、下層の樹脂層を形成する際に用いる樹脂組成物の組成と、上層の樹脂層を形成する際に用いる樹脂組成物の組成とを代えることにより、その底面の幅が狭くなるように壁面が傾斜して形成されている溝や、曲面により形成されている溝を好適に形成することができる。
具体的には、例えば、下層の樹脂層を感光性樹脂の含有量が少ない樹脂組成物(例えば、感光性樹脂/熱可塑性樹脂=50/50)を用いて形成し、上層の樹脂層を感光性樹脂の含有量が多い樹脂組成物(例えば、感光性樹脂/熱可塑性樹脂=90/10)を用いて形成することにより、曲面により形成されている溝を形成することができる。
In this case, by changing the composition of the resin composition used when forming the lower resin layer and the composition of the resin composition used when forming the upper resin layer, the width of the bottom surface is reduced. It is possible to suitably form a groove formed with an inclined wall surface or a groove formed with a curved surface.
Specifically, for example, the lower resin layer is formed using a resin composition having a low photosensitive resin content (for example, photosensitive resin / thermoplastic resin = 50/50), and the upper resin layer is exposed to light. By using a resin composition (for example, photosensitive resin / thermoplastic resin = 90/10) having a high content of the photosensitive resin, a groove formed by a curved surface can be formed.

また、上記露光・現像処理に代えて、レーザ処理を施すことによっても樹脂層に溝を形成することができる。レーザ処理を施す場合には、樹脂層を形成するために用いる樹脂組成物の種類を問わず溝を形成することができる。
上記レーザ処理に用いるレーザとしては、例えば、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、UVレーザ、YAGレーザ等が挙げられる。
Further, the groove can be formed in the resin layer by performing laser treatment instead of the exposure / development treatment. When laser treatment is performed, grooves can be formed regardless of the type of resin composition used to form the resin layer.
Examples of the laser used for the laser treatment include a carbon dioxide laser, an excimer laser, a UV laser, and a YAG laser.

これらのレーザは、形成する溝の形状や樹脂組成物の組成等を考慮して使い分ければよい。
即ち、マスクを介してホログラム方式のエキシマレーザによるレーザ光を照射した場合には、溝を一括形成することができる。
また、短パルスの炭酸ガスレーザを用いた場合には、上記樹脂層に、よりダメージを与えることなく溝を形成することができる。
These lasers may be used properly in consideration of the shape of the groove to be formed, the composition of the resin composition, and the like.
That is, when laser light from a hologram type excimer laser is irradiated through a mask, grooves can be formed in a lump.
Further, when a short pulse carbon dioxide laser is used, a groove can be formed in the resin layer without further damage.

また、光学系レンズとマスクとを介してレーザ光を照射した場合にも、溝を一括形成することができる。
光学系レンズとマスクとを介することにより、同一強度で、かつ、照射角度が同一のレーザ光を上記樹脂層全体に照射することができるからである。
なお、このようなレーザ処理は、半硬化状態の樹脂層に対して行っても良いし、樹脂層を完全に硬化させた後、行ってもよい。
Also, grooves can be formed in a lump when laser light is irradiated through an optical system lens and a mask.
This is because the entire resin layer can be irradiated with laser light having the same intensity and the same irradiation angle through the optical system lens and the mask.
Such laser treatment may be performed on a semi-cured resin layer or may be performed after the resin layer is completely cured.

また、レーザ処理により溝を形成した場合、特に、炭酸ガスレーザを用いて溝を形成した場合には、レーザ処理終了後、デスミア処理を施すことが望ましい。
上記デスミア処理は、例えば、クロム酸や過マンガン酸塩等の水溶液からなる酸化剤を用いて行うことができる。また、酸素プラズマ、CFと酸素との混合プラズマやコロナ放電等で処理してもよい。
In addition, when the groove is formed by laser processing, particularly when the groove is formed using a carbon dioxide laser, it is desirable to perform desmear processing after the laser processing is completed.
The desmear treatment can be performed using, for example, an oxidizing agent made of an aqueous solution such as chromic acid or permanganate. Alternatively, the treatment may be performed by oxygen plasma, mixed plasma of CF 4 and oxygen, corona discharge, or the like.

また、この工程では、溝を形成するとともに、光ファイバを被覆樹脂ごと収納するための凹部を形成してもよい。
上記凹部もまた、露光・現像処理やレーザ処理により形成することができる。
また、上記(2)の工程で樹脂層を形成する際に、光ファイバを被覆樹脂ごと収納する部位には、樹脂層を形成しないことによって凹部としてもよい。
In this step, a groove may be formed, and a recess for accommodating the optical fiber together with the coating resin may be formed.
The concave portion can also be formed by exposure / development processing or laser processing.
Further, when the resin layer is formed in the step (2), a recess may be formed by not forming the resin layer in a portion where the optical fiber and the coating resin are accommodated.

また、この工程では、樹脂層に溝を形成した後、後述する(4)の工程で光ファイバを収納する前に、溝に未硬化の接着剤を充填しておいてもよい。
予め、溝に未硬化の接着剤を充填しておくことにより、後工程で光ファイバを収納した後、未硬化の接着剤を硬化した際に光ファイバを確実に固定することができる。
In this step, after the groove is formed in the resin layer, the groove may be filled with an uncured adhesive before the optical fiber is accommodated in the step (4) described later.
By filling the groove with an uncured adhesive in advance, the optical fiber can be securely fixed when the uncured adhesive is cured after the optical fiber is accommodated in a subsequent process.

(4)次に、上記樹脂層に形成した溝に、光ファイバを収納する。
この工程では、整列器を用い、樹脂層に形成した溝に対応する位置に光ファイバを整列させた後、光ファイバを溝に収納する。
このとき、光ファイバは、端部の被覆樹脂を除去した後、溝に収納することが望ましい。被覆樹脂は柔らかいため変形しやすく、収納時や収納後に被覆樹脂が変形した場合、これが、光ファイバの位置ズレに繋がるからである。
また、光ファイバは、その端面と上記樹脂層の側面とが同一平面を形成するように整列させて収納してもよいし、光ファイバの端面が、上記樹脂層の側面から一定長さだけ突出するように整列させて収納してもよい。
(4) Next, the optical fiber is housed in the groove formed in the resin layer.
In this step, the optical fiber is aligned at a position corresponding to the groove formed in the resin layer using an aligner, and then the optical fiber is accommodated in the groove.
At this time, it is desirable that the optical fiber be accommodated in the groove after removing the coating resin at the end. This is because the coating resin is soft and easily deformed, and when the coating resin is deformed at the time of storage or after storage, this leads to positional deviation of the optical fiber.
Further, the optical fiber may be accommodated so that the end surface thereof and the side surface of the resin layer form the same plane, or the end surface of the optical fiber protrudes from the side surface of the resin layer by a certain length. It may be stored in an aligned manner.

また、上記(3)の工程で、溝を形成した後、光ファイバを収納する前に溝に接着剤を充填した場合には、この工程で光ファイバを収納した後、該接着剤を硬化させることとなるが、この場合、接着剤が完全に硬化するまでは、光ファイバを整列器で保持していることが望ましい。接着剤が未硬化の状態では、光ファイバに位置ズレが発生するおそれがあるからである。 In addition, after forming the groove in the step (3) and filling the groove with an adhesive before housing the optical fiber, the adhesive is cured after housing the optical fiber in this step. In this case, however, it is desirable to hold the optical fiber with an aligner until the adhesive is completely cured. This is because when the adhesive is uncured, the optical fiber may be misaligned.

また、この工程において、光ファイバを収納した後、溝の光ファイバ非収納部の一部、例えば、基板と樹脂層と光ファイバとに囲まれた空隙に未硬化の接着剤を充填し、その後、硬化させることにより接着剤層を形成してもよい。
この場合、接着剤の充填は、例えば、光ファイバを収納した溝の側面から未硬化の接着剤を流し込むことにより行う。これにより、未硬化の接着剤は、表面張力により溝内に充填されることとなる。
Also, in this step, after storing the optical fiber, an uncured adhesive is filled in a part of the optical fiber non-storage part of the groove, for example, a space surrounded by the substrate, the resin layer, and the optical fiber, and then The adhesive layer may be formed by curing.
In this case, filling of the adhesive is performed, for example, by pouring uncured adhesive from the side surface of the groove in which the optical fiber is accommodated. As a result, the uncured adhesive is filled in the groove by surface tension.

なお、このような方法、即ち、溝を形成した樹脂層の側面から接着剤を流し込む方法を用いて接着剤の充填を行う場合には、後工程を経て、蓋部の形成までを行った後、接着剤の充填を行うことが望ましい。
蓋部に形成された凹部の光ファイバ非収納部、および、溝内の光ファイバ非収納部に同時に接着剤を充填することができるため、工程数が少なくてすむからである。
In addition, in the case of filling the adhesive using such a method, that is, a method of pouring the adhesive from the side surface of the resin layer in which the groove is formed, after performing the subsequent steps until the formation of the lid portion. It is desirable to fill the adhesive.
This is because the adhesive can be simultaneously filled into the optical fiber non-contained portion of the recess formed in the lid and the optical fiber non-contained portion in the groove, so that the number of steps can be reduced.

(5)次に、光ファイバを収納した樹脂層上に、該光ファイバを覆う蓋部を形成する。
蓋部の形成は、蓋部の材料を、予め、上述した形状に加工しておき、これを圧着したり、樹脂層の上面に接着剤を塗布した後、この接着剤を介して取り付けたりすることにより行うことができる。
(5) Next, a lid for covering the optical fiber is formed on the resin layer containing the optical fiber.
The lid is formed by processing the material of the lid in advance into the shape described above and then crimping it, or applying an adhesive on the top surface of the resin layer, and then attaching via the adhesive Can be done.

具体的には、蓋部の材料がガラス等の硬質材料である場合には、予め、この硬質材料を所望の大きさの板状体に切り出しておき、これに、ダイヤモンドカッター等を用いた切削加工を施すことにより凹部を形成し、これを、樹脂層上の所定の位置に圧着したり、接着剤を介して取り付ける。 Specifically, when the material of the lid is a hard material such as glass, the hard material is cut into a plate-like body of a desired size in advance and then cut using a diamond cutter or the like. A recess is formed by processing, and this is crimped to a predetermined position on the resin layer or attached via an adhesive.

また、蓋部の材料が樹脂組成物である場合には、予め、所望の大きさの板状体に樹脂組成物を成形しておき、これに、露光現像処理やレーザ処理等を施すことにより光ファイバを一括して収納するための凹部を形成し、これを、樹脂層上の所定の位置に圧着したり、接着剤を介して取り付ける。
なお、完全に硬化させた樹脂組成物の板状体に、ダイヤモンドカッター等を用いた切削加工を施すことにより凹部を形成してもよい。
また、上記蓋部が、板状の硬質材料からなる層と、凹部の形成された有機材料からなる層の2層から構成されている場合には、硬質材料からなる板状体に、樹脂組成物を塗布し、必要に応じて、硬化させた後、上記(3)の工程に記載したような露光・現像処理やレーザ加工、切削加工等により凹部を形成すればよい。
In addition, when the material of the lid is a resin composition, the resin composition is molded into a plate-like body having a desired size in advance, and then subjected to exposure development processing, laser processing, or the like. A recess for storing optical fibers in a lump is formed, and this is pressed onto a predetermined position on the resin layer or attached via an adhesive.
In addition, you may form a recessed part by giving the cutting process using a diamond cutter etc. to the plate-shaped body of the resin composition hardened | cured completely.
In addition, when the lid portion is composed of two layers of a layer made of a plate-like hard material and a layer made of an organic material having a recess, the resin composition is added to the plate-like body made of the hard material. After the material is applied and cured as necessary, the recess may be formed by exposure / development processing, laser processing, cutting processing, or the like as described in the step (3).

(6)次に、必要に応じて、上記蓋部に形成された凹部の光ファイバ非収納部や、上記樹脂層に形成した溝の光ファイバ非収納部に接着剤層を形成する。
上記接着剤層の形成は、これらの光ファイバ非収納部に蓋部や樹脂層の側面から未硬化の接着剤を流し込み、その後、熱処理や光(紫外線)処理等の硬化処理を施すことにより行う。
(6) Next, if necessary, an adhesive layer is formed on the optical fiber non-contained portion of the recess formed in the lid portion or the optical fiber non-contained portion of the groove formed in the resin layer.
The adhesive layer is formed by pouring an uncured adhesive into the optical fiber non-accommodating portion from the side of the lid or the resin layer, and then performing a curing treatment such as heat treatment or light (ultraviolet) treatment. .

また、このようにして光ファイバアレイを形成した後、該光ファイバアレイと導波路、受光素子、発光素子、デバイス等との接続の目安になる凹凸や識別マーク、識別番号、製造番号、製造認識マーク、製品名、会社名、バーコード等の製品認識マークを基板や蓋部等に形成してもよい。 In addition, after forming an optical fiber array in this way, irregularities, identification marks, identification numbers, serial numbers, and manufacturing recognitions that serve as a guide for connection between the optical fiber array and waveguides, light receiving elements, light emitting elements, devices, etc. A product recognition mark such as a mark, a product name, a company name, or a barcode may be formed on the substrate or the lid.

このような溝を有する樹脂層が形成された光ファイバアレイでは、該光ファイバアレイに収納した光ファイバを導波路、受光素子、発光素子等の光デバイスに接続することにより、光通信を行うことができ、それにより、インターネット、TV、ゲーム、モバイル等の各種モジュールを作動させることができる。 In an optical fiber array in which a resin layer having such a groove is formed, optical communication is performed by connecting the optical fiber housed in the optical fiber array to an optical device such as a waveguide, a light receiving element, or a light emitting element. As a result, various modules such as the Internet, TV, game, and mobile can be operated.

以下、本発明をさらに詳細に説明する。
(実施例1)
(1)焼成後、その表面に研磨処理を施した厚さ10mmのシリコンからなる基板311を出発材料とした。
(2)次に、下記の方法で調製した樹脂組成物溶液を、カーテンコーターにて基板311上に硬化後の厚さが100μm(塗布時の厚さ115μm)になるように塗布し、その後、80℃で10分および100℃で30分の条件で乾燥処理を行い、半硬化状態の樹脂層を形成した。なお、この半硬化状態の樹脂層では、その表面にスキン層が形成されていた。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
(Example 1)
(1) A substrate 311 made of silicon having a thickness of 10 mm whose surface was polished after firing was used as a starting material.
(2) Next, the resin composition solution prepared by the following method was applied on the substrate 311 with a curtain coater so that the thickness after curing was 100 μm (thickness at the time of application 115 μm), A drying treatment was performed at 80 ° C. for 10 minutes and at 100 ° C. for 30 minutes to form a semi-cured resin layer. In this semi-cured resin layer, a skin layer was formed on the surface.

樹脂組成物溶液の調製
樹脂成分としてノボラック型エポキシ樹脂アクリレート化物40重量部、および、ビスフェノールA型エポキシ樹脂35重量部、硬化剤としてイミダゾール硬化剤4重量部、無機粒子として平均粒子径10μmのシリカ粒子10重量部、光重合開始剤3.0重量部、反応安定剤としてアミン化合物1.0重量部、ならびに、溶剤としてトルエン15重量部を混合した後、その粘度が回転数6min−1で25℃において10±1Pa・sになるまで攪拌し、樹脂組成物溶液を得た。
Preparation of resin composition solution 40 parts by weight of novolak type epoxy resin acrylate as resin component, 35 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin, 4 parts by weight of imidazole curing agent, average particle diameter as inorganic particles silica particles 10 parts by weight of 10 [mu] m, the photopolymerization initiator 3.0 parts by weight, the amine compound 1.0 part by weight as a reaction stabilizer, and, after mixing toluene 15 parts by weight as a solvent, its viscosity rpm 6min - The mixture was stirred at 25 ° C. until it became 10 ± 1 Pa · s to obtain a resin composition solution.

(3)次に、溝形成部分に対向する部分が黒く描画されたマスク、即ち、幅150μmの黒線が、200μm間隔で7本描画されたマスクを、半硬化状態の樹脂層に密着するように載置し、超高圧水銀灯を用いて、1200mj/cmで15分間の条件で露光した。さらに、露光終了後、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を用いて現像処理を行った。 (3) Next, a mask in which a portion facing the groove forming portion is drawn in black, that is, a mask in which seven black lines having a width of 150 μm are drawn at intervals of 200 μm is adhered to the semi-cured resin layer. And exposed to light at 1200 mj / cm 2 for 15 minutes using an ultra high pressure mercury lamp. Further, after the exposure, development processing was performed using diethylene glycol dimethyl ether (DMDG).

(4)次に、現像処理を終えた樹脂層を、100℃で30分および150℃で3時間の条件で本硬化し、幅150μm、深さ100μm、溝同士の間隔200μmでその壁面が基板311の上面と直角をなす溝313が7本形成された樹脂層312を形成した(図5(a)参照)。
なお、図5(a)においては、溝は4本しか形成されていないが、この図は模式図であり、本実施例では、上述したように、7本の溝を形成した。
(4) Next, the resin layer that has undergone the development treatment is fully cured under conditions of 30 minutes at 100 ° C. and 3 hours at 150 ° C., and the wall surface is a substrate with a width of 150 μm, a depth of 100 μm, and a groove interval of 200 μm. A resin layer 312 having seven grooves 313 perpendicular to the upper surface of 311 was formed (see FIG. 5A).
In FIG. 5A, only four grooves are formed, but this figure is a schematic view, and in this example, seven grooves were formed as described above.

(5)次に、被覆樹脂の一部を剥離した、コア径50μm、クラッド径125μmの光ファイバ(日立電線社製)を7本用意し、これを、整列器(図示せず)を用いて、端面を揃えるとともに、200μm間隔で整列させた。
その後、整列器(図示せず)で保持したまま、樹脂層312の溝313に光ファイバ315を収納した(図5(b)参照)。
(5) Next, seven optical fibers (manufactured by Hitachi Cable Co., Ltd.) having a core diameter of 50 μm and a clad diameter of 125 μm are prepared by using a sorter (not shown). The end faces were aligned and aligned at 200 μm intervals.
Thereafter, the optical fiber 315 was stored in the groove 313 of the resin layer 312 while being held by an aligner (not shown) (see FIG. 5B).

(6)次に、樹脂層312の上面に、エポキシ樹脂を含む未硬化の接着剤組成物を塗布し、その後、予め光ファイバを一括して収納するための凹部を形成しておいた、厚さ10μmのシリコン基板301を蓋部として載置し、加熱処理を施して上記接着剤組成物を硬化させることにより樹脂層312と蓋部301とを一体化した(図5(c)参照)。
なお、蓋部301に設けた凹部301aは、シリコン基板にダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すことにより形成した。また、凹部301aは、その断面の形状が矩形状である。
(6) Next, the upper surface of the resin layer 312, the adhesive composition of the uncured containing epoxy resin is applied and then allowed to form a recess for collectively accommodating advance optical fiber, thickness The silicon substrate 301 having a thickness of 10 μm was placed as a lid portion, and the resin layer 312 and the lid portion 301 were integrated by curing the adhesive composition by heat treatment (see FIG. 5C).
In addition, the recessed part 301a provided in the cover part 301 was formed by performing the cutting process which used the diamond cutter for the silicon substrate. The recess 301a has a rectangular cross section.

(7)次に、蓋部301に形成した凹部301aの光ファイバ非収納部と樹脂層に形成した溝313の光ファイバ非収納部とに、凹部および溝の側面からエポキシ樹脂を含む未硬化の接着剤組成物を流しこんだ。その後、加熱処理を施して上記接着剤組成物を硬化させることにより凹部の光ファイバ非収納部と溝の光ファイバ非収納部とに接着剤層318、319を形成した。さらに、光ファイバを保持していた整列器を取り外すことにより光ファイバアレイとした(図5(d)参照)。 (7) Next, the optical fiber non-accommodating portion of the recess 301a formed in the lid 301 and the optical fiber non-accommodating portion of the groove 313 formed in the resin layer are uncured containing epoxy resin from the side surfaces of the recess and the groove. yelling flowing adhesive composition. Thereafter, heat treatment was performed to cure the adhesive composition, thereby forming adhesive layers 318 and 319 on the optical fiber non-contained portion of the recess and the optical fiber non-contained portion of the groove. Furthermore, an optical fiber array was obtained by removing the aligner that held the optical fibers (see FIG. 5D).

(実施例2)
実施例1の(6)の工程において、下記の方法により作製した凹部を有する樹脂基板を蓋部として用いた以外は実施例1と同様にして光ファイバアレイを製造した。
(Example 2)
In the step (6) of Example 1, an optical fiber array was manufactured in the same manner as Example 1 except that a resin substrate having a recess produced by the following method was used as the lid.

樹脂基板からなる蓋部の作製
実施例1の(2)の工程で用いた樹脂組成物溶液と同様の樹脂組成物溶液をPETフィルム上にカーテンコーターで塗布した後、乾燥処理(80℃で10分および100℃で30分)、および、硬化処理(100℃で30分および150℃で3時間)を施し、完全に硬化した樹脂基板を作製した。
その後、この樹脂基板にダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すことにより光ファイバを一括して収納するための凹部を形成した。なお、ここで形成した凹部の形状は、実施例1の蓋部に形成した凹部の形状と同一である。
After the lid portion made of resin substrate prepared <br/> Example 1 The same resin composition solution and the resin composition solution used in step (2) was applied with a curtain coater onto a PET film, dried ( A resin substrate that was completely cured was prepared by applying a curing treatment (100 ° C. for 30 minutes and 150 ° C. for 3 hours) at 80 ° C. for 10 minutes and 100 ° C. for 30 minutes.
Thereafter, the resin substrate was cut using a diamond cutter to form recesses for collectively storing optical fibers. In addition, the shape of the recessed part formed here is the same as the shape of the recessed part formed in the cover part of Example 1. FIG.

(実施例3)
実施例1の(1)の工程において、シリコンからなる基板に代えて、焼成後、その表面に研磨処理を施した厚さ10mmの石英からなる基板を用い、(6)の工程おいて、蓋部としてシリコン基板に代えて、ダイヤモンドカッターを用いた切削加工により光ファイバを一括して収納するための凹部を形成した石英基板を用いた以外は実施例1と同様にして光ファイバアレイを製造した。
(Example 3)
In the step (1) of the first embodiment, instead of the substrate made of silicon, a substrate made of quartz having a thickness of 10 mm whose surface was subjected to polishing treatment after firing was used. An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a quartz substrate having a recess for collectively storing optical fibers by cutting using a diamond cutter was used instead of a silicon substrate. .

(実施例4)
(1)焼成後、その表面に研磨処理を施した厚さ10mmのガラス基板411を出発材料とした。
(2)次に、下記の方法で調製した樹脂フィルムを、基板411上に、真空度67Pa、圧力0.4MPa、温度80℃、圧着時間60秒の条件で圧着することにより、半硬化状態の樹脂層を形成した。
Example 4
(1) A glass substrate 411 having a thickness of 10 mm whose surface was polished after firing was used as a starting material.
(2) Next, the resin film prepared by the following method is pressure-bonded onto the substrate 411 under conditions of a degree of vacuum of 67 Pa, a pressure of 0.4 MPa, a temperature of 80 ° C., and a pressure bonding time of 60 seconds. A resin layer was formed.

樹脂フィルムの作製
樹脂成分としてノボラック型エポキシ樹脂アクリレート化物40重量部、および、フェノール樹脂35重量部、硬化剤としてイミダゾール硬化剤4重量部、無機粒子として平均粒子径10μmのシリカ粒子10重量部、光重合開始剤としてベンゾフェノン2.0重量部、反応安定剤としてアミン化合物1.0重量部、ならびに、溶剤としてトルエン10重量部を混合して樹脂組成物溶液を調製し、得られた樹脂組成物溶液をPETフィルム上にロールコータを用いて塗布した後、80℃で10分、100℃で30分乾燥させることにより樹脂フィルムを作製した。
Production of resin film 40 parts by weight of a novolak-type epoxy resin acrylate as a resin component, 35 parts by weight of a phenol resin, 4 parts by weight of an imidazole curing agent as a curing agent, and silica particles 10 having an average particle diameter of 10 μm as inorganic particles A resin composition solution was prepared by mixing 2.0 parts by weight of benzophenone as a photopolymerization initiator, 1.0 part by weight of an amine compound as a reaction stabilizer, and 10 parts by weight of toluene as a solvent. The resin composition solution was applied on a PET film using a roll coater, and then dried at 80 ° C. for 10 minutes and at 100 ° C. for 30 minutes to prepare a resin film.

(3)次に、溝形成部分に対向する部分が黒く描画されたマスク、即ち、幅150μmの黒線が、200μm間隔で7本描画されたマスクを、半硬化状態の樹脂層に密着するように載置し、超高圧水銀灯を用いて、1200mj/cmで15分間の条件で露光した。さらに、露光終了後、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を用いて現像処理を行った。 (3) Next, a mask in which a portion facing the groove forming portion is drawn in black, that is, a mask in which seven black lines having a width of 150 μm are drawn at intervals of 200 μm is adhered to the semi-cured resin layer. And exposed to light at 1200 mj / cm 2 for 15 minutes using an ultra high pressure mercury lamp. Further, after the exposure, development processing was performed using diethylene glycol dimethyl ether (DMDG).

(4)次に、現像処理を終えた樹脂層を、100℃で30分および150℃で3時間の条件で本硬化し、その壁面が底面に向かって狭くなるように傾斜した溝413が7本形成された樹脂層412を形成した(図6(a)参照)。なお、溝413は、その底面の幅が120μm、上面の幅が150μm、深さが100μmである。
なお、図6(a)においては、溝は4本しか形成されていないが、この図は模式図であり、本実施例では、上述したように、7本の溝を形成した。
(4) Next, the resin layer that has undergone development processing is fully cured under the conditions of 100 ° C. for 30 minutes and 150 ° C. for 3 hours, and the groove 413 inclined so that its wall surface becomes narrower toward the bottom surface is 7 The resin layer 412 thus formed was formed (see FIG. 6A). The groove 413 has a bottom surface width of 120 μm, a top surface width of 150 μm, and a depth of 100 μm.
In FIG. 6A, only four grooves are formed, but this figure is a schematic view, and in this example, seven grooves were formed as described above.

(5)次に、上記(4)の工程で形成した溝412内に、エポキシ樹脂を含む未硬化の接着剤組成物418′を充填した(図6(b)参照)。 (5) Next, an uncured adhesive composition 418 ′ containing an epoxy resin was filled into the groove 412 formed in the step (4) (see FIG. 6B).

(6)次に、被覆樹脂の一部を剥離したクラッド径125μmの光ファイバ(日立電線社製)を7本用意し、これを、整列器(図示せず)を用いて、端面を揃えるとともに、200μm間隔で整列させた。
その後、整列器(図示せず)で保持したまま、接着剤組成物418′が充填された溝413に光ファイバ415を収納した。さらに、加熱処理を施して接着剤組成物418′を硬化させることにより接着剤層418とし、その後、光ファイバを保持していた整列器を取り外した(図6(c)参照)。
(6) Next, prepare seven optical fibers (manufactured by Hitachi Cable Co., Ltd.) with a clad diameter of 125 μm from which a part of the coating resin has been peeled off, and align the end faces thereof using an aligner (not shown). And aligned at intervals of 200 μm.
Thereafter, the optical fiber 415 was accommodated in the groove 413 filled with the adhesive composition 418 ′ while being held by an aligner (not shown). Further, the adhesive composition 418 ′ was cured by heat treatment to form an adhesive layer 418, and then the aligner holding the optical fiber was removed (see FIG. 6C).

(7)次に、樹脂層412の上面に、エポキシ樹脂を含む未硬化の接着剤組成物を塗布し、その後、予め光ファイバを一括して収納するための凹部を形成しておいた、厚さ10μmのガラス基板401を蓋部として載置し、加熱処理を施して上記接着剤組成物を硬化させることにより樹脂層412と蓋部401とを一体化した。
なお、蓋部401に設けた凹部401aは、ガラス基板にダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すことにより形成した。なお、401aは、その断面の形状が矩形状である。
(7) Next, the upper surface of the resin layer 412, the adhesive composition of the uncured containing epoxy resin is applied and then allowed to form a recess for collectively accommodating advance optical fiber, thickness is placed a glass substrate 401 of 10μm as a lid portion, it is subjected to heat treatment to integrate the resin layer 412 and the lid 401 by curing the adhesive composition.
In addition, the recessed part 401a provided in the cover part 401 was formed by performing the cutting process which used the diamond cutter for the glass substrate. 401a has a rectangular cross-sectional shape.

(8)次に、蓋部401に形成した凹部401aの光ファイバ非収納部と樹脂層に形成した溝413の光ファイバ非収納部の一部とに、凹部および溝の側面からエポキシ樹脂を含む未硬化の接着剤組成物を流しこんだ。その後、加熱処理を施して上記接着剤組成物を硬化させることにより凹部の光ファイバ非収納部と溝の光ファイバ非収納部とに接着剤層419を形成し、光ファイバアレイとした(図6(d)参照)。 (8) Next, an epoxy resin is included from the side of the recess and the groove into the optical fiber non-storage portion of the recess 401a formed in the lid portion 401 and a part of the optical fiber non-storage portion of the groove 413 formed in the resin layer. yelling flowing adhesive composition uncured. Thereafter, a heat treatment is performed to cure the adhesive composition, thereby forming an adhesive layer 419 in the optical fiber non-contained portion of the recess and the optical fiber non-contained portion of the groove, thereby forming an optical fiber array (FIG. 6). see (d)).

(実施例5)
実施例4の(7)の工程において、下記の方法により作製した凹部を有する樹脂基板を蓋部として用いた以外は実施例4と同様にして光ファイバアレイを製造した。
(Example 5)
In the step (7) of Example 4, an optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 4 except that a resin substrate having a recess produced by the following method was used as the lid.

樹脂基板からなる蓋部の作製
樹脂成分としてノボラック型エポキシ樹脂アクリレート化物40重量部、および、フェノール樹脂35重量部、硬化剤としてイミダゾール硬化剤4重量部、無機粒子として平均粒子径10μmのシリカ粒子10重量部、光重合開始剤としてベンゾフェノン2.0重量部、反応安定剤としてアミン化合物1.0重量部、ならびに、溶剤としてトルエン10重量部を混合して調製した樹脂組成物溶液をPETフィルム上にカーテンコーターで塗布した後、乾燥処理(80℃で10分および100℃で30分)、および、硬化処理(100℃で30分および150℃で3時間)を施し、完全に硬化した樹脂基板を作製した。
その後、この樹脂基板にダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すことにより光ファイバを一括して収納するための凹部を形成した。なお、ここで形成した凹部の形状は、実施例4の蓋部に形成した凹部の形状と同一である。
Production of lid made of resin substrate 40 parts by weight of novolac epoxy resin acrylate as resin component, 35 parts by weight of phenol resin, 4 parts by weight of imidazole curing agent as curing agent, and average particle diameter of 10 μm as inorganic particles silica particles, 10 parts by weight of benzophenone 2.0 part by weight of a photopolymerization initiator, an amine compound 1.0 part by weight as a reaction stabilizer, as well, a resin composition solution prepared by mixing toluene 10 parts by weight as a solvent After coating on a PET film with a curtain coater, drying treatment (10 minutes at 80 ° C. and 30 minutes at 100 ° C.) and curing treatment (30 minutes at 100 ° C. and 3 hours at 150 ° C.) are carried out to complete curing. A resin substrate was prepared.
Thereafter, the resin substrate was cut using a diamond cutter to form recesses for collectively storing optical fibers. In addition, the shape of the recessed part formed here is the same as the shape of the recessed part formed in the cover part of Example 4.

(実施例6)
実施例4の(1)の工程において、ガラス基板に代えて、焼成後、その表面に研磨処理を施した厚さ10mmのシリコンからなる基板を用い、(6)の工程おいて、蓋部としてガラス基板に代えて、ダイヤモンドカッターを用いた切削加工により光ファイバを一括して収納するための凹部を形成したシリコン基板を用いた以外は実施例4と同様にして光ファイバアレイを製造した。
(Example 6)
In the step (1) of Example 4, instead of the glass substrate, a substrate made of silicon having a thickness of 10 mm whose surface was subjected to polishing treatment after firing was used. An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 4 except that a silicon substrate having a recess for collectively storing optical fibers by cutting using a diamond cutter was used instead of the glass substrate.

(比較例1)
蓋部として、凹部の形成されていない板状の厚さ10μmのシリコン基板を接着剤を介して取り付けた以外は、実施例1と同様にして、光ファイバアレイを製造した。
(Comparative Example 1)
An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a plate-like silicon substrate having a thickness of 10 μm with no concave portion was attached as an lid with an adhesive.

(比較例2)
蓋部として、厚さ10μmの板状のシリコン基板に、7本の光ファイバのそれぞれを個別に収納するための凹部を切削加工により形成したものを接着剤を介して取り付けた以外は、実施例1と同様にして、光ファイバアレイを製造した。
(Comparative Example 2)
Example except that a lid formed by forming a recess for individually storing each of the seven optical fibers on a plate-like silicon substrate having a thickness of 10 μm was attached through an adhesive as a lid. In the same manner as in No. 1, an optical fiber array was manufactured.

実施例1〜6、及び、比較例1、2で得た光ファイバアレイについて、光ファイバアレイ側の光ファイバの端面に検出器を載置し、光ファイバの他の端面から発光素子を用いて光を導入した際の光の検出位置から、光ファイバの収納位置の設計からのズレを算出することにより光ファイバの収納精度を評価した。結果を表1に示した。
また、光ファイバアレイを上方から20Paの押圧力で20分間押圧した後、上記と同様にして光ファイバの収納精度を測定した。結果を表1に示した。
For the optical fiber arrays obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, a detector was placed on the end face of the optical fiber on the optical fiber array side, and a light emitting element was used from the other end face of the optical fiber. The storage accuracy of the optical fiber was evaluated by calculating a deviation from the design of the storage position of the optical fiber from the light detection position when the light was introduced. The results are shown in Table 1.
Further, after the optical fiber array was pressed from above with a pressing force of 20 Pa for 20 minutes, the optical fiber accommodation accuracy was measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 1.

Figure 2005266549
Figure 2005266549

なお、表1に示したように、実施例1〜6に係る光ファイバアレイでは、光ファイバの収納位置の設計からのズレは、押圧後であっても対コア径で10%以下であり、光ファイバは高精度で所定の位置に収納されていた。
これに対し、比較例1に係る光ファイバアレイでは、押圧後の光ファイバの収納位置の設計からのズレは、対コア径で12%を超える大きな値となっており、比較例2に係る光ファイバアレイでは、押圧前において既に、対コア径で12%を超える大きな値となっており、収納位置が設計からズレていることが明らかとなった。
Incidentally, as shown in Table 1, the optical fiber array according to Examples 1 to 6, the deviation from the design of the storage position of the optical fiber is 10% or less by also to core diameter even after pressing, The optical fiber was stored at a predetermined position with high accuracy.
In contrast, in the optical fiber array according to the comparative example 1, deviation from the design of the storage position of the optical fiber after pressing has a large value exceeding 12% vs. core diameter, the light according to Comparative Example 2 In the fiber array, before pressing, the core diameter was already a large value exceeding 12%, and it was revealed that the storage position was deviated from the design.

また、収納精度を評価した後、光ファイバアレイを分解し、光ファイバの表面を顕微鏡で観察したところ、実施例1〜6に係る光ファイバの表面に傷は発生しておらず、また、光ファイバの変形も観察されなかった。一方、比較例1、2に係る光ファイバでは、その一部が変形していた。
さらに、実施例1〜6の光ファイバアレイを7個の受光素子を配設した受光装置に接続し、結合損失を測定したところ、その結合損失は低く、製品として要求される品質を充分に満足していた。
Further, after evaluating the storage accuracy, the optical fiber array was disassembled, and the surface of the optical fiber was observed with a microscope. As a result, the surface of the optical fiber according to Examples 1 to 6 was not damaged, No fiber deformation was observed. On the other hand, some of the optical fibers according to Comparative Examples 1 and 2 were deformed.
Furthermore, connected to the light-receiving device and the optical fiber array is disposed seven light receiving elements of Examples 1 to 6 was measured coupling loss, the coupling loss is low, sufficiently satisfy the required quality of a product Was.

本発明の光ファイバアレイの一実施形態を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view showing typically one embodiment of the optical fiber array of the present invention. 図1に示す光ファイバアレイの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the optical fiber array shown in FIG. 図1に示す光ファイバアレイのA−A線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the optical fiber array shown in FIG. 1 taken along line AA. 本発明の光ファイバアレイの別の一実施形態を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically another one Embodiment of the optical fiber array of this invention. 本発明の光ファイバアレイの製造工程の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the manufacturing process of the optical fiber array of this invention. 本発明の光ファイバアレイの製造工程の別の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the manufacturing process of the optical fiber array of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100,200 光ファイバアレイ
101、201、301,401 蓋部
111、211、311、411 基板
112、212、312、412 樹脂層
113、213、313、413 溝
115、215、315、415 光ファイバ
100, 200 Optical fiber array 101, 201, 301, 401 Cover part 111, 211, 311, 411 Substrate 112, 212, 312, 412 Resin layer 113, 213, 313, 413 Groove 115, 215, 315, 415 Optical fiber

Claims (1)

基板上の一部に、複数の溝を有する樹脂層が形成され、前記溝には光ファイバが収納されており、
前記樹脂層上に前記光ファイバの一部を収納する蓋部が形成された光ファイバアレイであって、
前記蓋部の前記樹脂層と対向する面に前記光ファイバを一括して収納する凹部が形成されていることを特徴とする光ファイバアレイ。
A resin layer having a plurality of grooves is formed on a part of the substrate, and optical fibers are accommodated in the grooves,
An optical fiber array in which a lid for housing a part of the optical fiber is formed on the resin layer,
An optical fiber array, wherein a recess for collectively storing the optical fibers is formed on a surface of the lid portion facing the resin layer.
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