JP2005247646A - Method of manufacturing display element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、少なくとも片面に被膜がコーティングされた脆性基板、特にSTN液晶表示パネルに使用されるソーダガラス基板で、片側の厚さが0.4mm以下の薄い貼り合わせガラス基板に対して、被膜側から分断刃によって分断、分離する工程を有する表示素子の製造方法に関する。 The present invention relates to a brittle substrate coated with a coating on at least one side, particularly a soda glass substrate used in an STN liquid crystal display panel, with a coating side of a thin laminated glass substrate having a thickness of 0.4 mm or less on one side. It is related with the manufacturing method of the display element which has the process of parting and isolate | separating with a parting blade.
液晶表示パネル等の表示素子は、通常、2枚のガラス基板を貼り合わせ、そのギャップに液晶を注入した後、単位基板に分断される工程を経て製造される。 A display element such as a liquid crystal display panel is usually manufactured through a process in which two glass substrates are bonded together, liquid crystal is injected into the gap, and then divided into unit substrates.
特許文献1〜3には、カッターホイルを用いて貼り合わせマザー基板に対してスクライブラインを形成し、次いで、形成されたスクライブラインに沿って前記基板を所望の大きさを有する単位基板に分断する構成が開示されている。
貼り合わせガラス基板として、用途に応じて様々な厚さのガラス基板が使用されるが、携帯電話等の携帯端末機器では0.4mm以下の薄い貼り合わせガラス基板が用いられる。 As the bonded glass substrate, glass substrates having various thicknesses are used depending on applications, but a thin bonded glass substrate having a thickness of 0.4 mm or less is used in a portable terminal device such as a mobile phone.
このような薄い貼り合わせガラス基板をカッターホイールを用いてスクライブし分断する場合には、基板内部に歪みを発生させ、それによって好ましくないクラックや基板の欠けを発生させたりするおそれがある。そこで、分断後の基板の端面強度を確保するために、基板表面に被膜を形成し、形成された被膜の上からカッターホイールを用いてスクライブし所望の大きさを有する単位基板に分断する方法が用いられている。 When such a thin bonded glass substrate is scribed and cut using a cutter wheel, there is a risk of generating distortion inside the substrate, thereby causing undesirable cracks and chipping of the substrate. Therefore, in order to ensure the end face strength of the substrate after the division, there is a method in which a film is formed on the surface of the substrate, and the unit film having a desired size is divided by scribing from the formed film using a cutter wheel. It is used.
しかしながら、被膜の強度が低いと、基板表面に被膜を形成しても分断した後の基板の端面強度を確保することが困難になる。また、被膜の強度が高いと、通常の刃先を用いたのでは基板表面にスクライブラインを形成することが困難になる。 However, if the strength of the coating is low, it is difficult to ensure the strength of the end face of the substrate after the separation even if the coating is formed on the substrate surface. Moreover, when the strength of the coating is high, it becomes difficult to form a scribe line on the substrate surface using a normal cutting edge.
この発明はこのような従来の問題点に鑑みてなされたものであり、少なくとも片面に被膜がコーティングされた脆性基板を被膜側から分断刃によって分断するに際し、基板の損傷を抑えて安定した分断を可能にする方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such conventional problems, and at the time of cutting a brittle substrate coated with a coating on at least one side from the coating with a cutting blade, the substrate is prevented from being damaged and stably cut. It aims to provide a way to make it possible.
この発明によれば、少なくとも片面に被膜がコーティングされた脆性基板を被膜側から分断刃によって分断、分離する工程を有する表示素子の製造方法において、基板は厚さが0.4mm以下のソーダガラスであり、被膜の膜厚が100μm以下であることを特徴とする表示素子の製造方法が提供される。 According to the present invention, in a method for manufacturing a display element having a step of dividing and separating a brittle substrate coated with a coating on at least one side from the coating side by a cutting blade, the substrate is made of soda glass having a thickness of 0.4 mm or less. There is provided a method for producing a display element, wherein the film thickness is 100 μm or less.
すなわち、本願発明者らは、薄い貼り合わせガラス基板を高い精度で安定して分断するための分断条件を見い出し、この発明を完成するに到った。 That is, the inventors of the present application have found a cutting condition for stably cutting a thin bonded glass substrate with high accuracy, and have completed the present invention.
この発明の表示素子の製造方法では、片側の基板の厚さが0.4mm以下であり、被膜の膜厚が100μm以下であるという条件を適用することにより、基板の損傷を抑えて安定した分断が可能になった。 In the manufacturing method of the display element of the present invention, by applying the condition that the thickness of the substrate on one side is 0.4 mm or less and the film thickness of the film is 100 μm or less, the substrate is prevented from being damaged and is stably divided. Became possible.
被膜は、膜硬度が3H〜5Hの範囲にあることが好ましい。膜硬度が5Hを超えると、分断精度を確保できる分断マージンが低下し、膜硬度が3H以下であると、大きな分断圧力が必要になる。 The film preferably has a film hardness in the range of 3H to 5H. When the film hardness exceeds 5H, the cutting margin for ensuring the cutting accuracy is lowered, and when the film hardness is 3H or less, a large cutting pressure is required.
この発明の表示素子の製造方法では、ソーダガラスを材料とする基板が対象になる。 In the display element manufacturing method of the present invention, a substrate made of soda glass is an object.
基板は、2枚のガラス板を貼り合わせてなる貼り合わせガラス基板であれば、この発明の表示素子の製造方法が適用される。 If the substrate is a bonded glass substrate formed by bonding two glass plates, the method for manufacturing a display element of the present invention is applied.
この発明において、被膜は、樹脂を含む材料を塗布してなる厚さが15μm〜100μmの樹脂層が挙げられる。厚さが15μm未満であれば、分断精度を確保できる分断マージンが減少する。また、厚さが100μmを超えると、大きな分断圧力が必要になる。 In the present invention, examples of the coating include a resin layer having a thickness of 15 μm to 100 μm formed by applying a material containing a resin. If the thickness is less than 15 μm, the cutting margin that can ensure the cutting accuracy is reduced. Moreover, when thickness exceeds 100 micrometers, a big parting pressure will be needed.
基板を被膜側から分断刃によって分断するに際し、表面に多孔質体を含むテーブルに基板を載置し、この多孔質体を介して吸引を行うことにより基板をテーブル上に固定する工程を含むので、基板を撓ませることなくしっかりと固定することができる。 When cutting the substrate from the coating side with a cutting blade, it includes a step of placing the substrate on a table including a porous body on the surface and fixing the substrate on the table by performing suction through the porous body. The substrate can be firmly fixed without bending.
分断刃は、ホイールの円周部に沿ってV字形の刃を形成してなり、刃先が被膜上を転動するカッターホイールが好ましい。 The cutting blade is preferably a cutter wheel in which a V-shaped blade is formed along the circumferential portion of the wheel, and the blade edge rolls on the coating.
カッターホイールは、刃先に所定形状の突起を備えることにより、基板上を転動する際、基板を貫通するほどの長い垂直クラックが突起によって生成されるとともに、カッターホイールの基板への食い込みが突起による点接触であることに起因して、発生する応力が抑えられ、それによって不要な水平クラックを抑えることができる。 When the cutter wheel is provided with a projection having a predetermined shape on the blade edge, when rolling on the substrate, a vertical crack that is long enough to penetrate the substrate is generated by the projection, and the cutter wheel bites into the substrate due to the projection. Due to the point contact, the generated stress is suppressed, and thereby unnecessary horizontal cracks can be suppressed.
被膜は、熱硬化性樹脂またはUV硬化型樹脂、あるいはこれらの混合物を材料として含むものが挙げられる。 Examples of the coating include those containing as a material a thermosetting resin, a UV curable resin, or a mixture thereof.
被膜は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリウレタン系樹脂および酢酸ビニル系樹脂のうちから選択される少なくとも1つの樹脂を材料として含むものが挙げられる。 Examples of the coating include those containing as a material at least one resin selected from an acrylic resin, an epoxy resin, a polyether sulfone resin, a polyurethane resin, and a vinyl acetate resin.
被膜は、エポキシ系樹脂、シリカの無機コロイド粒子および有機バインダー樹脂からなる混合材料を含むものが挙げられる。 Examples of the coating include those containing a mixed material composed of an epoxy resin, inorganic colloidal particles of silica, and an organic binder resin.
この発明において、基板は、STN(Super Twisted Nematic)液晶パネルディスプレイ用のガラス基板が好ましい。 In the present invention, the substrate is preferably a glass substrate for an STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal panel display.
以下、この発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
なお、本発明は、ガラス基板のみならず、他の脆性基板であるセラミック基板および半導体基板の分断に適用できる。 The present invention can be applied not only to glass substrates but also to other ceramic substrates and semiconductor substrates that are brittle substrates.
以下の実施の形態では、STN液晶表示装置のパネル基板を製造するに際し、一対のガラス基板が貼り合わされたマザー基板を単位基板に分断する例を示すが、この発明の基板分断方法が適用される対象はこれらに限定されるものではない。 In the following embodiments, when manufacturing a panel substrate of an STN liquid crystal display device, an example is shown in which a mother substrate on which a pair of glass substrates is bonded is divided into unit substrates, but the substrate cutting method of the present invention is applied. The object is not limited to these.
図1は、この発明の基板分断方法が適用されるマザー基板の平面図であり、図2は、この発明の被膜形成が施される前の図1のA部拡大正面図であり、図3は、この発明の被膜形成が施された後の図1のA部拡大正面図である。 FIG. 1 is a plan view of a mother substrate to which the substrate cutting method of the present invention is applied, and FIG. 2 is an enlarged front view of part A of FIG. 1 before the film formation of the present invention is performed. These are the A section enlarged front views of FIG. 1 after the film formation of this invention was given.
図1において、マザー基板10は、一対の矩形ガラス基板が貼りあわされたマザー基板であり、実線で示すS1は縦のスクライブライン、破線で示すS2はS1と交差する横のスクライブラインである。マザー基板10は、後述する様に、それぞれのスクライブラインS1およびS2に沿って単位基板に分断される。
図2および図3によりマザー基板10の製造方法の一例を説明する。
In FIG. 1, a
An example of a method for manufacturing the
まず、図2に示すように、厚さ0.2〜0.4mmのソーダガラス1の表面にスクリーン印刷等によりパターニングされたシール材3を印刷する。シール材3は、液晶が注入されるスペースを確保するためのスペーサとなる。シール材3の形成方法はスクリーン印刷に限定されない。
First, as shown in FIG. 2, a sealing
次いで、ソーダガラス1の表面に、厚さ0.2mmのソーダガラス2を重ね合わせ、加熱加圧処理を施してシール材3を硬化させ、2枚のソーダガラス1および2を接合する。
Next, a
次に、被膜材料の調整を行う。ここでは、被膜材料として、エポキシ系樹脂、シリカの無機コロイド粒子および有機バインダー樹脂からなる混合材料を含むコーティング液を用いた。上記コーティング液の配合と硬度の調整(3H〜5H)について、2つの例を以下に説明する。
〔調整例1〕
メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂溶液[荒川化学工業(株)製、コンポセランE102A](エポキシ樹脂:ビスフェノール型エポキシ樹脂 エポキシ当量480g/当量、テトラメトキシシラン部分縮合物:Siの平均核体数4、溶剤:ジエチレングリコールジメチルエーテルで構成され、硬化残分50重量%、硬化残分中のシリカ分36重量%)100gに対し、ヘキサヒドロ無水フタル酸[新日本理化(株)製、リカジットHH]をジエチレングリコールジメチルエーテルで50重量%に希釈した硬化剤溶液21gを配合し、コーティング液(A)を調整した。
〔調整例2〕
メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂溶液[荒川化学工業(株)製、コンポセランE103A](エポキシ樹脂:ビスフェノール型エポキシ樹脂 エポキシ当量480g/当量、メチルトリメトキシシラン部分縮合物:Siの平均核体数4、溶剤;ジエチレングリコールジメチルエーテルで構成され、硬化残分50重量%、硬化残分中のシリカ分35重量%)100gに対し、ヘキサヒドロ無水フタル酸[新日本理化(株)製、リカジットHH]をジエチレングリコールジメチルエーテルで50重量%に希釈した硬化剤溶液21gを配合し、コーティング液(B)を調整した。
〔調整例3〕
メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂溶液[荒川化学工業(株)製、HBEP120](エポキシ樹脂:ビスフェノール型エポキシ樹脂 エポキシ当量480g/当量、メチルトリメトキシシラン部分縮合物:Siの平均核体数2.8、溶剤:ジエチレングリコールジメチルエーテルで構成され、硬化残分50重量%、硬化残分中のシリカ分30重量%)100gに対し、ヘキサヒドロ無水フタル酸[新日本理化(株)製、リカジットHH]をジエチレングリコールジメチルエーテルで50重量%に希釈した硬化剤溶液22gを配合し、コーティング液(C)を調整した。
Next, the coating material is adjusted. Here, as the coating material, a coating solution containing a mixed material composed of epoxy resin, silica inorganic colloidal particles and organic binder resin was used. Two examples of blending the coating liquid and adjusting the hardness (3H to 5H) will be described below.
[Adjustment Example 1]
Methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution [Arakawa Chemical Industries, Composeran E102A] (epoxy resin: bisphenol type epoxy resin epoxy equivalent 480 g / equivalent, tetramethoxysilane partial condensate: Si average number of nuclei 4, solvent : Consisting of 100 g of diethylene glycol dimethyl ether, 50% by weight of the cured residue and 36% by weight of the silica in the cured residue) 50% of hexahydrophthalic anhydride [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Rikajit HH] A coating solution (A) was prepared by blending 21 g of a curing agent solution diluted to% by weight.
[Adjustment Example 2]
Methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution [Arakawa Chemical Industries, Composeran E103A] (epoxy resin: bisphenol type epoxy resin, epoxy equivalent 480 g / equivalent, methyltrimethoxysilane partial condensate: Si average nucleus number 4, Solvent; composed of diethylene glycol dimethyl ether, 100g of cured residue 50% by weight, silica content 35% by weight of cured residue), hexahydrophthalic anhydride [manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., Rikajit HH] with diethylene glycol dimethyl ether A coating solution (B) was prepared by blending 21 g of a curing agent solution diluted to 50% by weight.
[Adjustment Example 3]
Methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution [Arakawa Chemical Industries, Ltd., HBEP120] (epoxy resin: bisphenol type epoxy resin epoxy equivalent 480 g / equivalent, methyltrimethoxysilane partial condensate: Si average number of nuclei 2.8 , Solvent: composed of diethylene glycol dimethyl ether, 100g of cured residue 50% by weight,
次いで、上記のコーティング液(A)(B)および(C)をソーダガラス1または2の片面に硬化膜厚が約20μmになる様に、スピンコーターを用いて塗布し、130℃で30分間、乾燥及び硬化を行い、エポキシ樹脂−シリカハイブリッド塗布基板(A)(B)および(C)をそれぞれ作製した。
Next, the above coating solutions (A), (B) and (C) are applied to one side of the
このように作製された、樹脂層5を有するエポキシ樹脂−シリカハイブリッド塗布基板(A)(B)および(C)を、図3に示す。なお、被膜材料となるコーティング液をガラス表面に塗布する際は、被膜の膜厚が100μm以下になるように塗布を行うことが好ましい。
The epoxy resin-silica hybrid coated substrates (A), (B), and (C) having the
作製されたエポキシ樹脂−シリカハイブリッド塗布基板(A)(B)および(C)に対して、それぞれの樹脂層5の硬度を測定した。硬度の測定は、JIS K−5400の塗料一般方法による鉛筆引っかき試験を行った。
The hardness of each
鉛筆引っかき試験の評価を表1に示す。 Table 1 shows the evaluation of the pencil scratch test.
なお、この実施の形態では、被膜材料として、ガラス基板に対する密着性が高いエポキシ樹脂、シリカの無機コロイド粒子および有機バインダー樹脂とからなるハイブリッド樹脂を用いたが、被膜材料はこれに限定されることはなく、一般的に使用される熱硬化性樹脂、UV硬化型樹脂が使用できる。具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルファン(PES)樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂が挙げられる。 In this embodiment, an epoxy resin having high adhesion to a glass substrate, a hybrid resin composed of silica colloidal particles and an organic binder resin is used as the coating material, but the coating material is limited to this. However, generally used thermosetting resins and UV curable resins can be used. Specific examples include acrylic resins, epoxy resins, polyethersulfane (PES) resins, polyurethane resins, and vinyl acetate resins.
図4〜図7を用いて、被膜となる樹脂層5(図3)が表面に形成されたマザー基板10(図1)の分断方法の一例を説明する。 An example of a method for dividing the mother substrate 10 (FIG. 1) on which the resin layer 5 (FIG. 3) serving as a coating is formed will be described with reference to FIGS. 4 to 7.
図4は、この発明の基板分断方法に用いられるスクライブ装置の斜視図である。 FIG. 4 is a perspective view of a scribing apparatus used in the substrate cutting method according to the present invention.
図4を用いてスクライブ装置40を説明する。
The
図4に示すように、スクライブ装置40は、マザー基板10(図示せず)を載置するテーブル41を有する。テーブル41には、回転テーブル42が配設されている。
As shown in FIG. 4, the
回転テーブル42は、マザー基板10を水平方向に支持するとともに、テーブル41上をY1方向に移動可能である。回転テーブル42の表面には、多孔質板70が取り付けられている。多孔質板70の下面は、図示しない真空吸着源に接続されている。多孔質板70は、セラミックス、プラスチックス、焼結金属などを用いることができ、表面に分散された細孔により載置された基板を部分的に撓ましたりすることなくしっかりと固定させることができる。
The rotary table 42 supports the
さらに、後述するカッターホイール20を転動可能に装着したカッターヘッド44がレール45に沿って、X1方向に移動可能に支持されている。
Further, a cutter head 44 on which a
カッターヘッド44は、内蔵されたサーボモータの回転トルクを設定してカッターホイール20の刃先に伝達するためのスクライブ圧(分断圧力)設定手段を有する。
The cutter head 44 has a scribe pressure (cutting pressure) setting means for setting the rotational torque of a built-in servo motor and transmitting the torque to the cutting edge of the
このスクライブ装置40を用いてスクライブを行う際には、まず、スクライブ圧設定手段によりスクライブ圧力を設定する。次いで、回転テーブル42を所定ピッチでY1方向に移動させる毎に、カッターヘッド44をX1方向に移動させることにより、回転テーブル42に載置されたガラス板は、X1方向にスクライブされる。
When scribing using the
この後、回転テーブル42を90°回転させて、同じようにスクライブを行えば、ガラス板は、先に形成されたスクライブラインに直交するスクライブラインを形成することができる。 Thereafter, when the rotary table 42 is rotated 90 ° and scribed in the same manner, the glass plate can form a scribe line orthogonal to the previously formed scribe line.
なお、上記のスクライブ装置において、46は、回転可能に支持された後記するカッターホイール20を転動可能に装着したカッターヘッド44をレールに沿って移動させるためのモータ、47は、回転テーブル42上でスクライブされる基板をモニターするためのCCDカメラ、48は、それらのCCDカメラ47によって認識されたアライメントマークを表示するモニタである。
In the scribing device described above, 46 is a motor for moving a cutter head 44, which is rotatably supported by a
図5から図7を用いて、上記のスクライブ装置のカッターヘッド44に装着されるカッターホイール20の一つの実施形態を説明する。
One embodiment of the
図5は、カッターホイール20の回転軸に直交する方向から見た正面図であり、図6は、図5の側面図である。
FIG. 5 is a front view seen from a direction orthogonal to the rotation axis of the
図5に示すように、カッターホイール20は、ホイール径φ、ホイール厚さWのディスク状を呈し、ホイールの外周部に鈍角の刃先角度αを有する刃先が形成されている。
As shown in FIG. 5, the
さらに、図5および図6に示すように、カッターホイール20は、刃先が形成された稜線部20aに凹凸が形成されている。すなわち、この例では、図6に示すように、U字状またはV字状の溝20bが形成されている。溝20bは、平坦な稜線部20aから深さhに、ピッチP毎に切り欠くことにより形成されている。このような溝20bの形成により、高さhの突起jがピッチP毎に形成される。なお、溝20bは、肉眼では見ることができないμmオーダーのサイズである。
Furthermore, as shown in FIGS. 5 and 6, the
次に、カッターホイール20を用いたマザー基板10の分断方法の一つの実施の形態を説明する。
Next, an embodiment of a method for dividing the
図7(a)および(b)は、カッターホイール20を備えたスクライブ装置を用いてマザー基板10を分断する方法を、工程ごとに説明する断面図である。なお、この例では、マザー基板10を形成する2枚のソーダガラス1、2を以下、A面基板、B面基板とし、それぞれの基板表面には被膜となる樹脂層5が形成されているものとする。
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views illustrating a method for dividing the
(1)スクライブ装置を用いてスクライブを行うに際し、まず、スクライブ圧設定手段
によりスクライブ圧力を設定する。
(1) When scribing using a scribing device, first, a scribing pressure is set by a scribing pressure setting means.
次いで、図7(a)に示すように、A面基板を上側にしてマザー基板10をスクライブ装置40の回転テーブル42上に載置する。
Next, as shown in FIG. 7A, the
多孔質板70に接続された真空吸着源が駆動されると、マザー基板10はしっかりと回転テーブル42の表面に固定される。多孔質板70を用いない比較的大きな細孔を規則的にあるいはランダムに穿設した従来の吸着板では吸着時に細孔の部分で基板の撓みが生じたが、比較的小さな細孔がランダムに形成された多孔質板70を用いた場合は、このような基板の撓みが生じることがないので、平坦に保持された基板上に精密なスクライブラインを形成することができる。
When the vacuum suction source connected to the
次いで、A面基板に対してカッターホイール20を用いて樹脂層5の上からスクライブラインSaを形成する。形成されたスクライブラインSaは、A面基板の下面付近まで到達するような深い垂直クラックとなる。
Next, the scribe line Sa is formed on the A-side substrate from above the
(2)次に、図7(b)に示すように、真空吸着源の駆動を停止して多孔質板70上における基板の固定を解除した後、マザー基板10を上下反転させ、B面基板を上側にしてスクライブ装置上に載置する。次いで、多孔質板70の真空吸着源を駆動させて基板を固定した後、B面基板に対してカッターホイール20を用いて樹脂層5の上からスクライブラインSbを形成する。形成されたスクライブラインSbは、B面基板の下面付近まで到達するような深い垂直クラックとなる。
(2) Next, as shown in FIG. 7B, after driving the vacuum suction source is stopped and the substrate is fixed on the
このとき、マザー基板10のスクライブは樹脂層5の上で行われるので、カレットが生じても樹脂層5の上に散乱するだけで、A面基板には付着しないので、A面基板にキズが付くことを回避できる。
At this time, since the scribing of the
上記の(1)および(2)の工程を順次行うことにより、マザー基板10は単位基板に分断される。
By sequentially performing the steps (1) and (2), the
前記の実施の形態に示したように、カッターホイール20を用いることにより、スクライブラインの形成を行うだけで基板を分断することができる。
As shown in the above-described embodiment, by using the
上記のように、マザー基板10から上記の工程を経て分断された単位基板には、好ましくないクラックや基板の欠けは見られなかった。これにより、この発明の基板分断方法を用いれば、薄い貼り合わせガラス基板をカッターホイールを用いてスクライブし分断を行っても、ガラス基板の内部に歪みを発生させないような分断が可能なことがあきらかになった。
〔実験1〕
実験1では、ホイールカッターを用いて基板を分断するに際し、ガラス基板に施された被膜の厚さと分断圧力を変化させて基板の分断性を測定した。
As described above, undesirable cracks and chipping of the substrate were not observed in the unit substrate that was separated from the
[Experiment 1]
In
図8は、実験1における分断性を評価したものである。
FIG. 8 is an evaluation of the severability in
分断条件を以下に示す。
対象基板 被膜を施した貼り合わせガラス:(厚さ0.4mm〔0.2mm×2枚〕)
被膜厚さ:15〜40μm
分断刃 三星ダイヤモンド工業株式会社製 ペネット(登録商標)
外径:2mm
刃先突起間隔:230分割
刃先突起高さ:3μm
刃先角度:100°
スクライブ装置 三星ダイヤモンド工業株式会社製 MSタイプ
設定条件 基板切り込み深さ:0.1mm
スクライブ速度:100mm/sec
スクライブ圧力〔分断圧力〕:0.05〜0.2Mpa
スクライブ圧力と被膜厚さの関係を図9に示す。
The cutting conditions are shown below.
Target substrate Laminated glass with coating: (Thickness 0.4mm [0.2mm x 2])
Film thickness: 15-40μm
Cutting blade Pennet (registered trademark) made by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd.
Outer diameter: 2mm
Cutting edge spacing: 230 divisions
Cutting edge height: 3 μm
Blade angle: 100 °
Scribe device MS type setting condition made by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd. Substrate cutting depth: 0.1mm
Scribe speed: 100mm / sec
Scribe pressure [parting pressure]: 0.05 to 0.2 MPa
FIG. 9 shows the relationship between the scribe pressure and the film thickness.
図9から、被膜の膜厚の増加に伴ってスクライブに要する圧力が増加することがわかる。 From FIG. 9, it can be seen that the pressure required for scribing increases as the film thickness of the coating increases.
図8から、あきらかなように、被膜厚さ15〜40μmの範囲で被膜の膜厚に応じたスクライブ圧力を基板に付加することにより、スクライブにおける分断精度および安定性が得られる。 As apparent from FIG. 8, by applying a scribe pressure corresponding to the film thickness of the film in a film thickness range of 15 to 40 μm to the substrate, the cutting accuracy and stability in the scribe can be obtained.
図10は、前記ホイールカッター20を用い、表面に被膜が施されていないガラス基板に対して分断圧力を変化させて分断を行い、実験1と同様の基準でその分断性を評価したものである。
FIG. 10 is a diagram in which the
図10から、表面に被膜が施されていないガラス基板に対して分断を行った場合には、表面に被膜が施されたガラス基板に対して分断を行う場合に比べて分断マージン、すなわち適正な分断条件の範囲が狭いことがわかる。
〔実験2〕
実験2では、ホイールカッターを用いて基板を分断するに際し、基板の厚さと分断圧力を変化させて測定した。
From FIG. 10, when dividing is performed on a glass substrate that is not coated on the surface, the dividing margin, that is, an appropriate margin, compared to when dividing is performed on a glass substrate that is coated on the surface. It can be seen that the range of cutting conditions is narrow.
[Experiment 2]
In
図11は、実験2において得られた適正な基板の分断条件を分断マージンとして分断性を評価したものである。ここでは、分断マージンは厚さの異なる基板における適正分断圧力として示される。
FIG. 11 shows the evaluation of severability using the appropriate substrate severing conditions obtained in
分断条件を以下に示す。
対象基板 被膜を施した貼り合わせガラス:(厚さ0.8mm〔0.4mm×2枚〕、
厚さ0.6mm〔0.3mm×2枚〕、厚さ0.4mm〔0.2mm×2
枚〕)
被膜厚さ:20μm
膜硬度:5H
分断刃 三星ダイヤモンド工業株式会社製 ペネット(登録商標)
外径:2mm
刃先突起間隔:230分割
刃先突起高さ:3μm
刃先角度:100°
スクライブ装置 三星ダイヤモンド工業株式会社製 MSタイプ
設定条件 基板切り込み深さ:0.1mm
スクライブ速度:100mm/sec
スクライブ圧力〔分断圧力〕:図11に示す
図11から、基板の厚さの増加に伴って分断圧力が上昇するとともに、分断マージン、すなわち適正分断圧力は大きく増加することがわかる。
〔実験3〕
実験3では、ホイールカッターを用いて基板を分断するに際し、被膜の硬度と分断圧力を変化させて測定した。
The cutting conditions are shown below.
Target substrate Laminated glass with coating: (thickness 0.8 mm [0.4 mm × 2 sheets],
Thickness 0.6mm [0.3mm x 2], thickness 0.4mm [0.2
Sheet〕)
Film thickness: 20μm
Film hardness: 5H
Cutting blade Pennet (registered trademark) made by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd.
Outer diameter: 2mm
Cutting edge spacing: 230 divisions
Cutting edge height: 3 μm
Blade angle: 100 °
Scribe device MS type setting condition made by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd. Substrate cutting depth: 0.1mm
Scribe speed: 100mm / sec
Scribe pressure [breaking pressure]: as shown in FIG.
From FIG. 11, it can be seen that the cutting pressure increases as the thickness of the substrate increases, and that the cutting margin, that is, the appropriate cutting pressure, greatly increases.
[Experiment 3]
In
図12は、実験3において得られた適正な基板の分断条件を分断マージンとして分断性を評価したものである。ここでは、分断マージンは被膜硬度の異なる基板における適正分断圧力として示される。
FIG. 12 shows the evaluation of severability using the appropriate substrate slicing conditions obtained in
分断条件を以下に示す。
対象基板 被膜を施した貼り合わせガラス:(厚さ0.4mm〔0.2mm×2枚〕)
被膜厚さ:20μm
膜硬度:3H、4H、5H
分断刃 三星ダイヤモンド工業株式会社製 ペネット(登録商標)
外径:2mm
刃先突起間隔:230分割
刃先突起高さ:3μm
刃先角度:100°
スクライブ装置 三星ダイヤモンド株式会社製 MSタイプ
設定条件 基板切り込み深さ:0.1mm
スクライブ速度:100mm/sec
スクライブ圧力〔分断圧力〕:図12に示す
図12から、被膜硬度の低下に伴って分断圧力が上昇するとともに、分断マージン、すなわち適正分断圧力は大きく増加することがわかる。
The cutting conditions are shown below.
Target substrate Laminated glass with coating: (Thickness 0.4mm [0.2mm x 2])
Film thickness: 20μm
Film hardness: 3H, 4H, 5H
Cutting blade Pennet (registered trademark) made by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd.
Outer diameter: 2mm
Cutting edge spacing: 230 divisions
Cutting edge height: 3 μm
Blade angle: 100 °
Scribe device MS type setting condition made by Samsung Diamond Co., Ltd. Substrate cutting depth: 0.1mm
Scribe speed: 100mm / sec
Scribe pressure [breaking pressure]: as shown in FIG.
From FIG. 12, it can be seen that the cutting pressure increases as the coating film hardness decreases, and that the cutting margin, that is, the appropriate cutting pressure, greatly increases.
この発明の表示素子の製造方法では、基板の厚みが0.4mm以下であり、被膜の膜厚が100μm以下であるという条件を用いることにより、基板の損傷を抑えて安定した分断が可能になる。 In the method for manufacturing a display element of the present invention, by using the conditions that the thickness of the substrate is 0.4 mm or less and the film thickness is 100 μm or less, the substrate can be prevented from being damaged and can be stably divided. .
1 ソーダガラス板
2 ソーダガラス板
3 シール材
5 樹脂層(被膜)
10 マザー基板
20 カッターホイール
20a 稜線部
20b 溝
S1 縦のスクライブライン
S2 横のスクライブライン
1
10
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- 2004-03-04 JP JP2004061457A patent/JP2005247646A/en not_active Withdrawn
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