JP2005246369A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005246369A5 JP2005246369A5 JP2004228084A JP2004228084A JP2005246369A5 JP 2005246369 A5 JP2005246369 A5 JP 2005246369A5 JP 2004228084 A JP2004228084 A JP 2004228084A JP 2004228084 A JP2004228084 A JP 2004228084A JP 2005246369 A5 JP2005246369 A5 JP 2005246369A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film
- assembly
- mesostructured
- anisotropy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
続いて面内Ｘ線回折分析において、検出器の位置を２θχ＝１．３１°の位置に固定して、試料の面内回転を行い、この面の配向を調べた。その結果、実施例１で観測されたのと同様に、６０°毎の均等な間隔で鋭い回折ピークが観測された。この回折ピークの位置は、ラビング方向に対して、＋１５０°、＋９０°、＋３０°、−３０°、−９０°、−１５０°の方向であった。
続いて面内Ｘ線回折分析において、検出器の位置を２θχ＝１．１９°の位置に固定して、試料の面内回転を行い、この面の配向を調べた。その結果、実施例３で観測されたのと同様に、６０°毎の均等な間隔で鋭い回折ピークが観測された。この回折ピークの位置は、ラビング方向に対して、＋１５０°、＋９０°、＋３０°、−３０°、−９０°、−１５０°の方向であった。
続いて面内Ｘ線回折分析において、検出器の位置を２θχ＝１．１８°の位置に固定して、試料の面内回転を行い、この面の配向を調べた。その結果、実施例３で観測されたのと同様に、６０°毎の均等な間隔で鋭い回折ピークが観測された。この回折ピークの位置は、ラビング方向に対して、＋１５０°、＋９０°、＋３０°、−３０°、−９０°、−１５０°の方向であった。
続いて面内Ｘ線回折分析において、検出器の位置を２θχ＝１．１８°の位置に固定して、試料の面内回転を行い、この面の配向を調べた。その結果、実施例３で観測されたのと同様に、６０°毎の均等な間隔で鋭い回折ピークが観測された。この回折ピークの位置は、ラビング方向に対して、＋１５０°、＋９０°、＋３０°、−３０°、−９０°、−１５０°の方向であった。
Claims (15)
- 基板上に形成された、両親媒性分子の集合体と該分子集合体の周囲に形成された無機物を主成分とする化合物が三次元的に規則配列して成るメソ構造体膜において、
該膜の基板に平行な任意の断面内における局所的周期構造が膜面に垂直な６回対称軸を有し、かつ、該対称軸を含む構造の対称反射面が膜全体にわたって同一の方向にあることを特徴とするメソ構造体膜。 - 前記両親媒性分子の集合体が界面活性剤ミセルであって、前記界面活性剤ミセルが、構造の異なる複数の界面活性剤を含むことを特徴とする請求項１に記載のメソ構造体膜。
- 前記構造の異なる複数の界面活性剤が、共にポリエチレンオキシドを親水基として含む非イオン性界面活性剤であることを特徴とする請求項２に記載のメソ構造体膜。
- 前記構造の異なる複数の界面活性剤が、互いに共通の疎水性部構造を有し、親水性部のポリエチレンオキシドの分子鎖長が互いに異なるものである、請求項３に記載のメソ構造体膜。
- 基板上に形成され、三次元的に規則配列した空孔を有し、無機物を主成分とするメソポーラス物質膜において、
該膜の基板に平行な任意の断面内における局所的周期構造が該膜面に垂直な６回対称軸を有しており、
かつ、該対称軸を含む構造の対称反射面が該膜全体にわたって同一の方向にあることを特徴とするメソポーラス物質膜。 - 表面に異方性を有する基板を準備する工程と、
複数の界面活性剤と無機物の前駆体とを含む反応溶液を準備する工程と、
前記表面に異方性を有する基板を該反応溶液中に保持する工程とを含むことを特徴とするメソ構造体膜の製造方法。 - 表面に異方性を有する基板を準備する工程と、
複数の界面活性剤と無機物の前駆体とを含む反応溶液を準備する工程と、
前記表面に異方性を有する基板に該反応溶液を付与する工程とを含むことを特徴とするメソ構造体膜の製造方法。 - 前記異方性が、ラビング処理によって施されたものであることを特徴とする請求項７に記載のメソ構造体膜の製造方法。
- 前記異方性を有する基板表面が、高分子化合物のラングミュア−ブロジェット膜で形成されているものであることを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記載のメソ構造体膜の製造方法。
- 請求項６から９のいずれか１項に記載のメソ構造体膜から、さらに界面活性剤を除去し孔を形成する工程とを備えることを特徴とするメソポーラス物質膜の製造方法。
- 請求項１から４のいずれか１項に記載のメソ構造体膜を用いたＸ線光学素子。
- 請求項５に記載のメソポーラス物質膜を用いたＸ線光学素子。
- 両親媒性分子の球状の集合体と前記集合体の周囲に形成された無機物を含む化合物とを備える構造体であって、
前記両親媒性分子の集合体が前記構造体全域に規則的に配置され、
前記両親媒性分子の集合体の配置が、６回対称軸を有することを特徴とする構造体。 - 両親媒性分子の球状の集合体と前記分子の集合体の周囲に形成された無機物を含む化合物とを備える構造体の製造方法であって、
表面に分子配向による異方性を有する基板と、無機化合物と両親媒性分子とを含む溶液を用意する工程と、
前記基板を前記溶液中に保持することにより、前記基板上に前記構造体を形成する工程とを備えることを特徴とする構造体の製造方法。 - 両親媒性分子の球状の集合体と前記分子の集合体の周囲に形成された無機物を含む化合物とを備える構造体の製造方法であって、
表面に分子配向による異方性を有する基板と、無機化合物と両親媒性分子とを含む溶液を用意する工程と、
前記基板に前記溶液を付与することにより、前記基板上に前記構造体を形成する工程とを備えることを特徴とする構造体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004228084A JP4298605B2 (ja) | 2003-08-08 | 2004-08-04 | メソ構造体膜、メソポーラス物質膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003290535 | 2003-08-08 | ||
| JP2004029350 | 2004-02-05 | ||
| JP2004228084A JP4298605B2 (ja) | 2003-08-08 | 2004-08-04 | メソ構造体膜、メソポーラス物質膜及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009060688A Division JP5253248B2 (ja) | 2003-08-08 | 2009-03-13 | 構造体及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005246369A JP2005246369A (ja) | 2005-09-15 |
| JP2005246369A5 true JP2005246369A5 (ja) | 2007-02-08 |
| JP4298605B2 JP4298605B2 (ja) | 2009-07-22 |
Family
ID=35027359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004228084A Expired - Fee Related JP4298605B2 (ja) | 2003-08-08 | 2004-08-04 | メソ構造体膜、メソポーラス物質膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4298605B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7589041B2 (en) * | 2004-04-23 | 2009-09-15 | Massachusetts Institute Of Technology | Mesostructured zeolitic materials, and methods of making and using the same |
| JP4958439B2 (ja) * | 2006-01-05 | 2012-06-20 | ニチアス株式会社 | メソポーラスシリカ前駆体溶液、その製造方法及びメソポーラスシリカ |
| WO2010064715A1 (en) * | 2008-12-04 | 2010-06-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesoporous silica film and process for production thereof |
| JP5606226B2 (ja) * | 2009-11-30 | 2014-10-15 | キヤノン株式会社 | Ｘ線モノクロメータ及びｘ線分光装置 |
| US20120328082A1 (en) * | 2010-06-01 | 2012-12-27 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray mirror, method of producing the mirror, and x-ray apparatus |
| JP2012013679A (ja) | 2010-06-02 | 2012-01-19 | Canon Inc | Ｘ線導波路 |
-
2004
- 2004-08-04 JP JP2004228084A patent/JP4298605B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Miyata et al. | Preferred alignment of mesochannels in a mesoporous silica film grown on a silicon (110) surface | |
| Schütz et al. | From equilibrium liquid crystal formation and kinetic arrest to photonic bandgap films using suspensions of cellulose nanocrystals | |
| Melosh et al. | Monolithic mesophase silica with large ordering domains | |
| Miyata et al. | Formation of a continuous mesoporous silica film with fully aligned mesochannels on a glass substrate | |
| Klotz et al. | The true structure of hexagonal mesophase-templated silica films as revealed by X-ray scattering: Effects of thermal treatments and of nanoparticle seeding | |
| Molenkamp et al. | Highly polarized luminescence from optical quality films of a semiconducting polymer aligned within oriented mesoporous silica | |
| Miyata et al. | Alignment of mesoporous silica on a glass substrate by a rubbing method | |
| Gibaud et al. | Evaporation-controlled self-assembly of silica surfactant mesophases | |
| Wei et al. | Artificial nacre by alternating preparation of layer-by-layer polymer films and CaCO3 strata | |
| Schultz et al. | Structure, wrinkling, and reversibility of Langmuir monolayers of gold nanoparticles | |
| Koganti et al. | Synthesis of surfactant-templated silica films with orthogonally aligned hexagonal mesophase | |
| Wang et al. | Effect of surface morphology on the ordered water layer at room temperature | |
| Miyata et al. | Preparation of a Mesoporous Silica Film with a Strictly Aligned Porous Structure through a Sol− Gel Process | |
| JP5253248B2 (ja) | 構造体及びその製造方法 | |
| Goksu et al. | Silica xerogel/aerogel-supported lipid bilayers: Consequences of surface corrugation | |
| Okeyoshi et al. | Milliscale self-integration of megamolecule biopolymers on a drying gas–aqueous liquid crystalline interface | |
| Yao et al. | Disorder− order transition in mesoscopic silica thin films | |
| Ji et al. | Regulation of silica nanotube diameters: sol− gel transcription using solvent-sensitive morphological change of peptidic lipid nanotubes as templates | |
| Liu et al. | DNA programmable self-assembly of planar, thin-layered chiral nanoparticle superstructures with complex two-dimensional patterns | |
| JP2005246369A5 (ja) | ||
| Gong et al. | Tailoring the separation behavior of polymer-supported organosilica layered-hybrid membranes via facile post-treatment using HCl and HN3 vapors | |
| Urade et al. | Controlling interfacial curvature in nanoporous silica films formed by evaporation-induced self-assembly from nonionic surfactants. II. Effect of processing parameters on film structure | |
| Weissman et al. | Fabrication of dipole-aligned thin films of Porphyrin J-aggregates over large surfaces | |
| Cho et al. | Chiral plasmonic nanowaves by tilted assembly of unidirectionally aligned block copolymers with buckling-induced microwrinkles | |
| Wang et al. | Ice II-like monolayer ice grown on graphite surface |