JP2005243809A - Aligner and drive means suitably used in the aligner - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体素子や液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィー工程で使用する露光装置、および該露光装置に好適に用いられる駆動手段に関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus used in a lithography process for manufacturing a semiconductor element, a liquid crystal display element, and the like, and a driving unit suitably used for the exposure apparatus.
図11は、半導体製造等に用いられる露光装置の構成を示す図である。ウエハWを位置決めするためのウエハステージ101と、その上方に配設された投影レンズ102、レチクルステージ103および光源光学系106を有し、i線、エキシマレーザー、電子線、X線、EUVなどの光源106から発生された露光光は、レチクルステージ103上のレチクルRを透過または反射し投影レンズ102によってウエハWに集光され、レチクルRのパターンをウエハWに転写する。
FIG. 11 is a view showing the arrangement of an exposure apparatus used for semiconductor manufacturing or the like. A wafer stage 101 for positioning the wafer W, and a
ウエハステージ101はベース101aの中央部分に支持され、ベース101aは防振装置10lbを介して床面に支持される。ベース101aの外周部分にはフレーム105が立設支持されており、フレーム105の頂部105aは中央に投影レンズ102を支持しその外側にはレチクルステージ103を支持するレチクルステージ支持体104、さらに光源光学系支持部材106aを立設支持する。
Wafer stage 101 is supported on the center portion of
ウエハステージ101の位置は、フレーム105に支持されたレーザー干渉計107によって光学的に非接触で計測され、また同様にレチクルステージ103の位置は、レーザー干渉計108によって計測される。
The position of the wafer stage 101 is measured optically in a non-contact manner by a
フレーム105およびレチクルステージ支持体104、ベース101aおよび光源光学系支持部材106aはいずれも構造支持部材であり、投影レンズ102とレチクルステージ103と光源光学系106および位置計測用のレーザ干渉計を支持するものである。
露光装置に用いられる部材の材質として、特許文献1では中空リブ構造を低熱膨張セラミックス材で構成する例が開示されている。また、特許文献2ではリニアモータのコイルを被う筐体をセラミックスで構成し、更に冷媒の内圧による破損および変形に対して、セラミックスの補強部材を設けた構成が開示されている。また、特許文献3では支持フレームを構成する材料として、セラミックスを使用する例が開示されている。また、特許文献4では鏡筒に過大な応力を与えることのない鏡筒を支持する鏡筒支持機構が開示されている。
特許文献1に記載のように、可動テーブルを低熱膨張セラミックス材で構成すると,剛性を確保するために可動テーブルが大型化してしまう。また、アルミナセラミックと比べて加工性の面で問題となる。 As described in Patent Document 1, when the movable table is made of a low thermal expansion ceramic material, the movable table becomes large in order to ensure rigidity. Moreover, it becomes a problem in terms of workability as compared with alumina ceramic.
また、特許文献2に記載のように、ステージの駆動手段であるコイルを被う筐体をセラミックス材で構成すると、駆動時に渦電流が発生することもない。しかしながら、ステンレスなどの材料で構成するものと比較して、加工コストが増大する問題がある。また、セラミックスは脆弱材料であるため、冷媒の圧力変動や製造時のクラック等により薄肉部が破損する恐れがあり、筐体部材として信頼性に欠ける。
Further, as described in
また、特許文献3に記載のようなセラミックスも、加工コストの面で問題となる。また、セラミックスは鋳鉄と比べて減衰特性が少なく、特許文献3に記載のように減衰材の高い樹脂系の発泡材をセラミックの表面や内部空間に充填する構成は、製造面での難易度と更なるコスト増大を引き起こす。 Moreover, ceramics as described in Patent Document 3 also have a problem in terms of processing cost. In addition, ceramics have less damping characteristics than cast iron, and the configuration in which a resin-based foam material having a high damping material is filled in the ceramic surface and internal space as described in Patent Document 3 is difficult in terms of manufacturing. Incurs further cost increase.
また、特許文献4に記載のように、鏡筒支持台と鏡筒の間で発生する応力を緩和させる機構を設ける方法だと、鏡筒と鏡筒内部のレンズとの間に発生する応力を緩和させることはできないといった問題がある。 In addition, as described in Patent Document 4, when a method of providing a mechanism for reducing the stress generated between the lens barrel support and the lens barrel is used, the stress generated between the lens barrel and the lens inside the lens barrel is reduced. There is a problem that it cannot be mitigated.
本発明は、上述の問題のうち少なくとも1つに鑑みなされたものであり、その目的は露光装置を構成する部材を改善することによって、高精度、高スループット、小型化、低コストを考慮した好適な露光装置を提供することである。 The present invention has been made in view of at least one of the above-described problems, and the object thereof is to improve the members constituting the exposure apparatus, and to improve the precision, high throughput, downsizing, and low cost. Is to provide a simple exposure apparatus.
上記の目的を達成するために本発明の第1の観点では、原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、少なくとも原版または基板を保持する保持部材および/または該保持部材を搭載した可動テーブルは、露光光の光軸に直交する面内に強度を向上させた繊維強化材を有することを特徴としている。 In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus that exposes a pattern of an original onto a substrate, and at least a holding member that holds the original or the substrate and / or a movable member mounted with the holding member. The table is characterized by having a fiber reinforcing material with improved strength in a plane perpendicular to the optical axis of the exposure light.
また、本発明の第2の観点では、原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
少なくとも原版または基板を搭載して移動するステージを案内するガイド部材が、
露光光の光軸に平行な面内の強度を向上させた繊維強化材を用いて構成され、
前記ガイド部材の少なくとも1つの側面に静圧軸受けのガイド面としての鏡面を備えることを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus that exposes a pattern of an original on a substrate,
At least a guide member that guides a stage that moves with the original plate or substrate mounted thereon,
Consists of a fiber reinforcement that improves the in-plane strength parallel to the optical axis of the exposure light,
A mirror surface as a guide surface of the hydrostatic bearing is provided on at least one side surface of the guide member.
また、本発明の第3の観点では、原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、少なくとも前記原版または基板を搭載したステージを駆動するための駆動手段は、コイルと、該コイルを内部に配置する筐体と、該筐体に対向して配置された永久磁石とを有し、前記筐体の側面のうち、前記永久磁石と対面する面に、前記永久磁石の駆動力に寄与する磁束と直交する面内の強度を向上させた繊維強化材を用いることを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for exposing an original pattern onto a substrate, wherein at least the driving means for driving the original or the stage on which the substrate is mounted includes a coil and the coil inside. And a permanent magnet disposed to face the casing, and contributes to the driving force of the permanent magnet on the side of the casing facing the permanent magnet. It is characterized by using a fiber reinforcement whose strength in a plane perpendicular to the magnetic flux is improved.
また、本発明の第4の観点では、照明光学系からの露光光を、原版および投影光学系としての鏡筒を介して、ウエハに照射することにより、原版のパターンをウエハに露光する露光装置であって、前記照明光学系、前記投影光学系、前記原版および/または基板を搭載して移動するステージを載せた定盤、前記ステージの位置を計測するための干渉計を固定支持する支柱、のうちいずれかを一体的に支持する本体構造体を有し、前記本体構造体は露光光の光軸と平行な面内の強度を向上させた繊維強化材で構成されていることを特徴としている。 According to a fourth aspect of the present invention, an exposure apparatus that exposes a wafer with a pattern of an original by irradiating the wafer with exposure light from an illumination optical system via a master and a lens barrel as a projection optical system. The illumination optical system, the projection optical system, the platen and / or the surface plate on which the stage and / or the substrate are moved are mounted, the support for fixing and supporting the interferometer for measuring the position of the stage, A main body structure that integrally supports any one of the main body structure, and the main body structure is made of a fiber reinforcing material that has improved strength in a plane parallel to the optical axis of exposure light. Yes.
また、本発明の第5の観点では、鏡筒内部で光学要素を支持する支持部材を有する露光装置であって、前記支持部材が露光光の光軸と直交する面内の強度を向上させた繊維強化材で構成され、および/または、鏡筒を構成する部材が露光光の光軸と平行となる面内の強度を向上させた繊維強化材で構成されていることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus having a support member for supporting an optical element inside a lens barrel, wherein the support member has improved in-plane strength perpendicular to the optical axis of exposure light. It is characterized in that it is made of a fiber reinforcing material and / or a member constituting the lens barrel is made of a fiber reinforcing material having improved in-plane strength parallel to the optical axis of the exposure light.
本発明によれば、露光装置を構成する部材を改善することによって、高精度、高スループット、小型化、低コストを考慮した好適な露光装置を提供することができる。 According to the present invention, by improving the members constituting the exposure apparatus, it is possible to provide a suitable exposure apparatus considering high accuracy, high throughput, downsizing, and low cost.
図12は、移動ステージ装置であるところの、ウエハステージを示す構成斜視図である。 FIG. 12 is a structural perspective view showing a wafer stage as a moving stage device.
図中において、201はステージ装置を支持する基準面を有する定盤、202は定盤に固定された固定Yガイドであり、側側面を基準面としている。203は移動体としてのYステージであり、その両側に固定子204と可動子205を有するYビーム206によって、固定Yガイドに案内されてY方向に移動する。
In the figure, 201 is a surface plate having a reference surface for supporting the stage device, 202 is a fixed Y guide fixed to the surface plate, and the side surface is the reference surface.
207は粗動ステージであり、不図示のXリニアモータ可動子を備え、Yビームに設けられた不図示のXガイドによってX方向に案内され、同じく粗動ステージ207に設けられたXリニアモータ固定子208によってX方向に推力が与えられる。
A
粗動ステージ207上には、粗動ステージ207の推力を非接触で可動テーブル209へと伝達するための電磁継手、可動テーブル209の自重を非接触で支持する、自重補償機構、可動テーブルの6軸方向の位置姿勢を微調整するためのX方向微動リニアモータ、Y方向微動リニアモータ、Z方向および各軸周りの回転方向微動リニアモータを備えており、可動テーブルを非接触で6軸方向に位置決め可能な構成となっている。
On the
また、可動テーブル上には、感光基板であるウエハWを保持するチャックと位置計測用のミラーが搭載されている。 On the movable table, a chuck for holding the wafer W, which is a photosensitive substrate, and a mirror for position measurement are mounted.
本発明の実施形態に係る露光装置について、実施例1および2ではウエハを保持、位置決めするための可動テーブルを、図面を参照しながら詳細に説明する。本発明は、レチクルを保持、位置決めするための可動テーブルの場合にも同様の適用が可能である。 With respect to the exposure apparatus according to the embodiment of the present invention, in Examples 1 and 2, a movable table for holding and positioning a wafer will be described in detail with reference to the drawings. The present invention can be similarly applied to a movable table for holding and positioning a reticle.
実施例2では、一枚の可動テーブルと磁石だけからなる可動ステージと、複数層のコイル列からなる固定子ユニットで構成される平面ステージの可動テーブルについて、図6および図7を参照しながら詳細の説明する。 In the second embodiment, a movable table of a planar stage composed of a movable stage composed of only one movable table and magnets and a stator unit composed of a plurality of layers of coil arrays will be described in detail with reference to FIGS. Explained.
実施例3では、リニアモータ等の駆動手段で発生する駆動力により、走査方向、および、非走査方向に駆動されるガイド部材について、図9および図10を参照しながら詳細に説明する。 In the third embodiment, a guide member that is driven in a scanning direction and a non-scanning direction by a driving force generated by a driving unit such as a linear motor will be described in detail with reference to FIGS. 9 and 10.
実施例4では、平面モータの固定子ユニットを構成するコイルを内部に配置する筐体に関し、図9および図10を参照しながら詳細の説明をする。 The fourth embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 9 and 10 regarding a housing in which a coil constituting a stator unit of a planar motor is disposed.
実施例5では、露光装置を構成する構造支持部材に関し、図11を参照しながら詳細の説明をする。 In Example 5, the structure support member constituting the exposure apparatus will be described in detail with reference to FIG.
実施例6では、露光装置を構成する鏡筒および光学支持部材に関し、図13および図14を参照しながら詳細の説明をする。 In Example 6, the lens barrel and the optical support member constituting the exposure apparatus will be described in detail with reference to FIGS. 13 and 14.
(実施例1)
図1は本発明の実施例1に係るウエハステージを構成する可動テーブルおよびその周辺を示す概略の斜視図であり、図2はその平面図である。
(Example 1)
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a movable table and its periphery constituting a wafer stage according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a plan view thereof.
可動テーブル11上には、感光基板であるウエハWとウエハWを保持するチャック12と位置計測用のミラー13が搭載されている。
On the movable table 11, a wafer W that is a photosensitive substrate, a
また、可動テーブル11の下面には、電磁継手21、自重補償機構22と可動テーブルの6軸方向の位置姿勢を微調整するためのX方向微動リニアモータ23a、Y方向微動リニアモータ23b、Z方向および各軸周りの回転方向微動リニアモータ23cを備え、これらを粗動ステージ天板207上に配置して構成されている。
Further, on the lower surface of the movable table 11, an X-direction fine movement linear motor 23a, a Y-direction fine movement linear motor 23b, and a Z-direction for finely adjusting the positions and orientations of the
図1において、可動テーブル11は軽量コア材11bの両面に、繊維の配向方向により材料強度に異方性を有する繊維強化プラスチック(FRP)のシート材を図3に示すように、31a,31b,31c,31d,・・・と複数層に亘って積層した積層板11aを接着して構成したサンドイッチ構造11としている。
In FIG. 1, the movable table 11 is a fiber reinforced plastic (FRP) sheet material having anisotropy in material strength depending on the fiber orientation direction on both surfaces of the
この積層板11aは例えば、図3に示すように、炭素繊維30を0°、90°に編みこんだ炭素繊維強化プラスチック(CFRP)のシート材と、炭素繊維を−45°、45°に編みこんだ炭素繊維強化プラスチック(CFRP)のシート材を交互に積層し構成することにより、炭素繊維が編みこまれた面内方向の強度を擬似等方的に強化されることが望ましい。
For example, as shown in FIG. 3, the
また、図4で示すように炭素繊維30を60°、0°、−60°に編みこんだ炭素繊維強化プラスチック(CFRP)のシート材を積層した構造でも同様の効果を得ることができる。 Also, as shown in FIG. 4, the same effect can be obtained even in a structure in which carbon fiber reinforced plastic (CFRP) sheet materials in which carbon fibers 30 are knitted at 60 °, 0 °, and −60 ° are laminated.
擬似等方的に強度が高くなる平面を図1に示すように、露光光の光軸と直交するよう可動テーブルを構成することで、光軸と直交する面内の曲げ、ねじり強度が向上する構成としている。 As shown in FIG. 1, a plane in which the strength is increased in a quasi-isotropic manner is configured so that the movable table is orthogonal to the optical axis of the exposure light, thereby improving the bending and torsional strength in the plane orthogonal to the optical axis. It is configured.
強化方向を、ウエハチャック12およびミラー13の保持を妨げる曲げ、ねじり方向とすることで、可動テーブルに搭載されるチャックおよびチャックに保持されるウエハWや位置計測用ミラーの変形量を軽減し、より高精度な位置決めが可能となる構成としている。
By making the strengthening direction a bending or twisting direction that prevents the
11bは、前述の炭素繊維強化プラスチック(CFRP)の積層板を図1のようにリブ構造に加工した軽量なコア材であり、中空リブ構造とすることで、可動テーブル11の曲げ・ねじりに対する剛性を保ちながらも軽量な構造としている。 11b is a lightweight core material obtained by processing the above-mentioned carbon fiber reinforced plastic (CFRP) laminated plate into a rib structure as shown in FIG. 1. By adopting a hollow rib structure, rigidity of the movable table 11 against bending and twisting is shown. It has a lightweight structure while maintaining
可動テーブル11の重量を軽量化することにより、テーブルを移動させる際の加速度を向上できると同時に、テーブルの固有振動数の向上が実現でき、より高い周波数領域まで位置決め制御が可能となるよう制御特性の改善が出来る。 By reducing the weight of the movable table 11, the acceleration when moving the table can be improved, and at the same time, the natural frequency of the table can be improved and the control characteristics can be controlled to a higher frequency range. Can be improved.
具体的なリブ形状の構成については、特開2003−163257号公報で示されている方法による。 About a concrete rib shape structure, it is based on the method shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-163257.
また、コア材11bにはサンドイッチ構造により構成された各中空内部に対して、外気と導通させるための連通孔11cが少なくとも1つ具備されていることが望ましい。外気とは、例えば大気だけではなく、N2雰囲気やHe雰囲気や真空雰囲気である。この連通孔は例えば、中空内部の圧力と外気との圧力差により可動テーブルを構成する上下の積層材の面変形を引き起こさないよう、あるいは、中空内部の残留ガスが前記雰囲気中に漏れ出すことによるステージ環境の汚染、真空度の劣化などが発生しないよう設けられるものである。
Further, it is desirable that the
また、前記積層により構成された炭素繊維強化プラスチック(CFRP)材は、炭素繊維が配向される面内方向へは、熱が炭素繊維を伝わって移動するため熱伝導率は高く、逆にシート材が積層される露光光の光軸と平行な方向へは、炭素繊維と炭素繊維との間がプラスチックで構成されるため熱伝導率が低くなる、熱伝導異方性特性を有する。 In addition, the carbon fiber reinforced plastic (CFRP) material constituted by the lamination has a high thermal conductivity because heat moves along the carbon fiber in the in-plane direction in which the carbon fiber is oriented. In the direction parallel to the optical axis of the exposure light to be laminated, the carbon fiber and the carbon fiber are made of plastic, so that the thermal conductivity is low and the thermal conductivity is anisotropic.
これにより、駆動時に可動テーブル下面に具備された、微動リニアモータ23、あるいは、電磁継手21のコイル発熱による、可動テーブル11、チャック12、ミラー13間の熱変形の影響を抑制することができる。
Thereby, the influence of the thermal deformation between the movable table 11, the
サンドイッチ構造の可動テーブル11上面積層板の上面には、可動テーブルを構成する材料、この場合、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)と線膨張係数が同程度である、−1×10−6以上で、かつ、3×10−6(1/℃)以下の線膨張係数をもった低熱膨張ガラス14、例えば、ゼロジュアなど、あるいは、低熱膨張セラミックスが接着され、その表面は、チャック12およびミラー13を可動テーブル11へとクランプする際、チャック12およびミラー13の平面度を崩さず保持するため、研削あるいはラップなどの仕上げ加工が施されていることが望ましい。
On the upper surface of the upper laminate of the movable table 11 having a sandwich structure, the material constituting the movable table, in this case, carbon fiber reinforced plastic (CFRP) and the linear expansion coefficient are about the same, −1 × 10 −6 or more, In addition, a low
この低熱膨張ガラス14は可動テーブル11と低熱膨張ガラス間での線膨張係数差による変形を引き起こさず、表面に高い平面度を得るために設けられたものであり、可動テーブル11を構成する材料と線膨張係数が近く、研削あるいはラップなどの仕上げ加工により必要平面度が得られる材料であれば同様な効果を得られるものである。
The low
また、可動テーブルの表面に、めっき、または、蒸着、または、スパッタ、または、CVD、または、PVDなどの方法により金属層を形成し、その表面を研削あるいはラップなどの仕上げ加工を施ス方法で、必要な平面度を得ても同様な効果を得られるものである。 In addition, a metal layer is formed on the surface of the movable table by a method such as plating, vapor deposition, sputtering, CVD, or PVD, and the surface is subjected to a finishing process such as grinding or lapping. Even if necessary flatness is obtained, the same effect can be obtained.
可動テーブル11の上面には、ウエハWを搭載するためのウエハチャック12があり、このチャック12は不図示のバキュームエアや機械的クランプによって可動テーブル11に固定されている。ウエハWも、不図示のバキュームエアや静電気力によってチャック12にクランプされている。
On the upper surface of the movable table 11, there is a
さらに、ウエハWの相対位置を計測するためのミラー13もあり、このミラー13は可動テーブル11が6自由度で計測できる構成で複数本搭載されている。このミラー13と可動テーブル11との固定方法は、例えば、特開平5−19157号公報で示されている方法による。
Furthermore, there is also a
前記チャック12および前記ミラー13は、可動テーブル11との線膨張係数差による変形を起こさぬよう、可動テーブル11を構成する材料、この場合、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)と同程度である、−1×10−6以上で、かつ、3×10−6(1/℃)以下の線膨張係数をもった低熱膨張材料で構成されることが望ましく、可動テーブルと等しい線膨張係数であり、かつ、露光光の光軸と直交する面内方向の曲げ、ねじり強度が等方的に向上するよう繊維を配向した炭素繊維強化プラスチック(CFRP)を積層した繊維強化材料で構成されていることが望ましい。
The
前記炭素繊維強化プラスチック(CFRP)で構成される、位置計測用ミラー13の干渉計による参照光を反射する側面14は、−1×10−6以上で、かつ、3×10−6(1/℃)以下の線膨張係数をもった低熱膨張ガラス、例えば、ゼロジュアなど、あるいは、低熱膨張セラミックスが接着され、その表面に蒸着された反射膜を平面度1μm以下となるようラップ加工が施されていることが望ましく、軽量化のための貫通丸穴13aと、ミラー固定時の応力逃がし用の溝13bが長手方向に対して同一断面形状となるよう形成されていることが望ましい。
The
前記長手方向に設けられた溝13bは、反射面の面精度を保つための応力逃がしの役目があり、貫通丸穴13aは軽量化によりミラー13の固有振動数を高めるために設けられているものである。
The
可動テーブル11に、留め具であるところのネジ穴の形成には、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)との線膨張係数差による局所的な変形を起こさないよう、低熱膨張の金属材料、例えば、インバーなどの埋め金を接着し、埋め金に雌ネジを設ける方法が望ましい。 In order to prevent the local deformation caused by the difference in linear expansion coefficient from that of carbon fiber reinforced plastic (CFRP), the movable table 11 is formed with a screw hole as a fastener, for example, an invar. For example, a method of bonding a buried metal such as a female screw to the buried metal is desirable.
実施例1では、繊維強化材を構成する繊維として炭素繊維の場合について説明したが、これに限られるものではなく、ガラス繊維やアラミド繊維やケブラー繊維等であってもよい。 In Example 1, although the case where carbon fiber is used as the fiber constituting the fiber reinforcing material has been described, the present invention is not limited thereto, and may be glass fiber, aramid fiber, Kevlar fiber, or the like.
また、繊維強化材のマトリックスとしては、形状安定性に優れたシアネート樹脂を用いることが望ましいが、これに限られるものではなく、エポキシ樹脂やセラミックス材料であってもよい。 In addition, it is desirable to use a cyanate resin excellent in shape stability as the matrix of the fiber reinforcement, but the matrix is not limited to this, and may be an epoxy resin or a ceramic material.
実施例1では、軽量のコア材として、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)の場合について説明したが、これに限られるものではなく、アルミや、−1×10−6以上で、かつ、3×10−6(1/℃)以下の線膨張係数をもった低熱膨張セラミックスなどの軽量コア材であっても良い。 In Example 1, although the case where carbon fiber reinforced plastic (CFRP) was used as a lightweight core material was demonstrated, it is not restricted to this, It is more than -1 * 10 < -6 > and 3 * 10 It may be a lightweight core material such as a low thermal expansion ceramic having a linear expansion coefficient of −6 (1 / ° C.) or less.
また、実施例1では、コア材の形状について、リブ構造について説明したが、形状はこれに限られるものではなく、図5示すようにハニカム構造50であってもよいし、コルゲート構造であっても良い。
Further, in the first embodiment, the rib structure is described with respect to the shape of the core material. However, the shape is not limited to this, and may be a
本実施例では、繊維材料により強度を向上させる方向に関し、光軸と直交する面内について説明したが、この構成に限られるものではなく、光軸に直交する方向および平行な方向、その両方の強度を向上させた構成としても良い。 In the present embodiment, the in-plane orthogonal to the optical axis has been described with respect to the direction in which the strength is improved by the fiber material, but the present invention is not limited to this configuration, and both the direction orthogonal to the optical axis and the parallel direction are both. It is good also as a structure which improved the intensity | strength.
また、実施例1ではウエハを保持、位置決めするための可動テーブルを、図面を参照しながら詳細に説明したが、レチクルを保持、位置決めするための可動テーブルの場合にも同様の適用が可能である。 In the first embodiment, the movable table for holding and positioning the wafer has been described in detail with reference to the drawings. However, the same application can be applied to the movable table for holding and positioning the reticle. .
本実施例を適用することにより、軽量、高剛性、高固有振動数の制御性能に優れた可動テーブルおよびチャックおよび位置計測用のミラーが構成できる。 By applying this embodiment, it is possible to configure a movable table, a chuck and a position measuring mirror that are excellent in light weight, high rigidity, and high natural frequency control performance.
(実施例2)
図6は本発明の実施例2に係るウエハステージを構成する可動テーブルおよびその周辺を示す概略の斜視図であり、図7はその平面図である。
(Example 2)
FIG. 6 is a schematic perspective view showing a movable table and its periphery constituting a wafer stage according to
本実施例は、一枚の可動テーブルと磁石だけからなる可動ステージ61と、複数層のコイル列63aからなる固定子ユニット63で構成される平面ステージの可動テーブル61であり、可動テーブル61下面の構成以外は実施例1と同じであるため、可動テーブル下面の構成についてのみ説明する。
This embodiment is a movable table 61 of a planar stage composed of a
平面ステージの構成は従来例と同一なので省略する。 Since the configuration of the planar stage is the same as that of the conventional example, the description thereof is omitted.
平面ステージにおける可動テーブル下面には、N極62a、S極62b少なくとも1組以上の分割された永久磁石片62が、独立して可動テーブル下面に接着されることが望ましい。
On the lower surface of the movable table in the planar stage, it is desirable that at least one set of divided permanent magnet pieces 62 of the
可動テーブルの構成、可動テーブル上面に搭載されるチャックおよび位置計測用ミラーの構成は実施例1と同じであり、それによる効果も実施例1と同じである。 The configuration of the movable table, the chuck mounted on the upper surface of the movable table, and the configuration of the position measuring mirror are the same as those in the first embodiment, and the effects obtained by the same are the same as those in the first embodiment.
実施例2の効果として、−1×10−6以上で、かつ、3×10−6(1/℃)以下の線膨張係数である可動テーブルと、下面に接着固定された永久磁石との線膨張係数差による可動テーブルの変形を軽減することで、ウエハ保持精度が向上する。 As an effect of Example 2, a line between a movable table having a linear expansion coefficient of −1 × 10 −6 or more and 3 × 10 −6 (1 / ° C.) or less and a permanent magnet bonded and fixed to the lower surface Wafer holding accuracy is improved by reducing the deformation of the movable table due to the difference in expansion coefficient.
(実施例3)
図8は実施例3に係る移動ステージを構成するガイド部材およびその周辺を示す概略の斜視図である。
(Example 3)
FIG. 8 is a schematic perspective view showing a guide member constituting the moving stage according to the third embodiment and its periphery.
図8において、ガイド部材であるところのビーム81は、実施例1の可動テーブル11と同様に、軽量コア材81bの両面に、繊維の配向方向により材料強度に異方性を有する繊維強化プラスチック(FRP)のシート材を図3に示すように、31a,31b,31c,31d,・・・と複数層に亘って積層した積層板81aを接着して構成したサンドイッチ構造としている。積層板の構成は実施例1で説明した構成と同一なので省略する。
In FIG. 8, the
擬似等方的に強度が高くなる平面を図8に示すように、露光光の光軸と平行となるようビームを構成することで、光軸と平行な面内の曲げ、ねじり強度が向上する構成としている。 As shown in FIG. 8, a plane in which the intensity is increased in a quasi-isotropic manner is configured so that the beam is parallel to the optical axis of the exposure light, thereby improving the bending and torsional strength in the plane parallel to the optical axis. It is configured.
強化方向を粗動ステージ駆動用リニアモータの推力方向と直交方向とすることで、加減速時にビーム81に作用する曲げ変形を軽減する効果がある。
By setting the reinforcing direction to a direction orthogonal to the thrust direction of the coarse motion stage driving linear motor, there is an effect of reducing bending deformation acting on the
軽量コア材81aは、実施例1と同様に、リブ構造であっても良いし、ハニカム構造であっても良いし、コルゲート構造であっても良い。また材質についても、実施例1と同様である。 The lightweight core material 81a may have a rib structure, a honeycomb structure, or a corrugated structure, as in the first embodiment. The material is the same as that in the first embodiment.
また、コア材にはサンドイッチ構造により構成された各中空内部に対して、外気と導通させるための連通孔81cが少なくとも1つ具備されていることが望ましい。効果は実施例1と同じである。
Further, it is desirable that the core material is provided with at least one
ビームの側面には、粗動ステージ207を静圧軸受けにより案内するためのガイド面82を具備し、前記ガイド面は、ビームを構成材料、この場合、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)と線膨張係数が同程度である、−1×10−6以上で、かつ、3×10−6(1/℃)以下の線膨張係数をもった低熱膨張ガラス、例えば、ゼロジュアあるいは低熱膨張セラミックスなどが接着され、その表面は、平面度1μm以下となるようラップ加工が施されていることが望ましい。
A side surface of the beam is provided with a guide surface 82 for guiding the
ビーム81に、留め具であるところのネジ穴の形成には、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)との線膨張係数差による局所的な変形を起こさないよう、低熱膨張の金属材料、例えば、インバーなどの埋め金を接着し、埋め金に雌ネジを設ける方法が望ましい。
In forming a screw hole as a fastener in the
実施例3では、実施例1と同様に炭素繊維強化プラスチック(CFRP)によるサンドイッチ構造体について説明したが、サンドイッチ構造体を構成する材料は、これに限られるものではなく、実施例1で説明した全ての構成が同様に適応可能である。また、その効果も基本的に同じである。 In Example 3, a sandwich structure made of carbon fiber reinforced plastic (CFRP) was described in the same manner as in Example 1. However, the material constituting the sandwich structure is not limited to this, and has been described in Example 1. All configurations are applicable as well. The effect is basically the same.
実施例3では、繊維材料により強度を向上させる方向に関し、光軸と平行な面内について説明したが、この構成に限られるものではなく、光軸に直交する方向および平行な方向、その両方の強度を向上させた構成としても良い。 In Example 3, the in-plane parallel to the optical axis has been described with respect to the direction in which the strength is improved by the fiber material. However, the configuration is not limited to this configuration, and both the direction orthogonal to the optical axis and the parallel direction are both included. It is good also as a structure which improved the intensity | strength.
本実施例を適用することにより、ガイド面が高剛性でありながら、軽量、高固有振動数のビームが構成できる。 By applying this embodiment, a light beam having a high natural frequency can be configured while the guide surface is highly rigid.
(実施例4)
図9は実施例4に係る平面ステージの概略構成を示す正面図であり、図10は上面図である。
Example 4
FIG. 9 is a front view illustrating a schematic configuration of the planar stage according to the fourth embodiment, and FIG. 10 is a top view.
図中において、91aおよび91bは実施例2で説明した平面ステージの可動テーブルである。固定子ユニット63は、スキャン方向および非スキャン方向に複数本のコイル列66が、複数層に亘って配置されたコイルユニット67と、コイルユニット67に冷媒媒体を流す為の流路69を、その内部に配置する筐体68からなるである。
In the figure,
前記可動テーブルA91aおよび可動テーブルB91bは、このコイルユニット67に対し、ローレンツ力により浮上力および並進力が与えられるものであり、ガイド部材なしで、6自由度の姿勢制御が行われるものである。
The movable table A91a and the movable table B91b are provided with a floating force and a translational force by a Lorentz force to the
固定子ユニット63を構成する筐体68において、可動テーブル61、特に可動磁石と対面する一側面のみ68aを、繊維の配向方向により材料強度に異方性を有する炭素繊維強化プラスチック(CFRP)のシート材を図3に示すように、31a,31b,31c,31d,・・・と複数層に亘って積層した積層板11aで構成している。積層板11aの構成は実施例1で説明した構成と同一なので省略する。
In the
擬似等方的に強度が高くなる平面を図9に示すように、可動テーブル61の下面に具備された永久磁石62の磁束と直交するよう、前記筐体の一側面を構成することで、磁束と直交する面内の曲げ、ねじり強度が向上する構成としている。 By constructing one side surface of the casing so as to be orthogonal to the magnetic flux of the permanent magnet 62 provided on the lower surface of the movable table 61, as shown in FIG. The bending and torsional strength in the plane perpendicular to the surface is improved.
前記強化方向をすることで、筐体内部を流れる冷却媒体の内圧により作用する曲げ変形に効果がある。また、内圧による曲げ変形の強度を向上したことにより、磁石と対面する側面68aのみを薄くすることが出来ることから、コイルと磁石との対面距離を短く取ることができる。それにより、より大きな駆動力を得る構成が可能となる。 By performing the strengthening direction, there is an effect on bending deformation that acts due to the internal pressure of the cooling medium flowing inside the housing. In addition, since the strength of the bending deformation due to the internal pressure is improved, only the side surface 68a facing the magnet can be thinned, so that the facing distance between the coil and the magnet can be shortened. Thereby, a configuration for obtaining a larger driving force is possible.
また、積層により構成された炭素繊維強化プラスチック(CFRP)は、炭素繊維が配向される面内方向へは、熱が炭素繊維を伝わって移動するため熱伝導率は高く、逆にシート材が積層される露光光の光軸と平行な方向へは、炭素繊維と炭素繊維との間がプラスチックで構成されるため熱伝導率が低くなる、熱伝導異方性特性を有する為、コイルでの発熱が、可動テーブル61へと伝わる影響を抑制する効果がある。 In addition, carbon fiber reinforced plastic (CFRP) constructed by laminating has high thermal conductivity because heat moves along the carbon fiber in the in-plane direction where the carbon fiber is oriented. In the direction parallel to the optical axis of the exposure light, since the carbon fiber and the carbon fiber are made of plastic, the thermal conductivity is lowered, and since it has thermal conductivity anisotropy characteristics, the coil generates heat. However, there is an effect of suppressing the influence transmitted to the movable table 61.
また、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)は、導電性を有する特徴があるが、これは炭素繊維が配向されている方向で、電気抵抗が低いためであり、炭素繊維と直交する方向においては電気抵抗が高く、その方向では電気的にほぼ絶縁材料と見なすことができる。 In addition, carbon fiber reinforced plastic (CFRP) has a characteristic of electrical conductivity. This is because the electric resistance is low in the direction in which the carbon fibers are oriented, and in the direction perpendicular to the carbon fibers. In that direction, it can be regarded as an electrically insulating material.
実施例4では、可動磁石の磁束と直交する面内に擬似等方的に炭素繊維が配向されているため、可動テーブルが固定子ユニットに対して、相対移動する際に発生する渦電流を小さくして、粘性抵抗を抑制することができる。 In Example 4, since the carbon fiber is oriented in a quasi-isotropic manner in a plane orthogonal to the magnetic flux of the movable magnet, the eddy current generated when the movable table moves relative to the stator unit is reduced. Thus, viscous resistance can be suppressed.
実施例4では、繊維材料により強度を向上させる方向に関し、磁束と直交する面内について説明したが、この構成に限られるものではなく、磁束に直交する方向および平行な方向、その両方の強度を向上させた構成としても良い。 In Example 4, the in-plane orthogonal to the magnetic flux has been described with respect to the direction in which the strength is improved by the fiber material. However, the present invention is not limited to this configuration, and the strength in both the direction orthogonal to the magnetic flux and the direction parallel to the magnetic flux. An improved configuration may be used.
実施例4では、平面ステージの固定子ユニットの例を説明したが、直線方向の駆動力を発生するリニアモータ、回転方向の駆動力を発生する回転モータなど、コイルおよびコイルを冷却する流路を内部に配置した筐体を具備する各種モータに対しても本発明を適用することができる。 In the fourth embodiment, the example of the stator unit of the planar stage has been described. However, the coil and the flow path for cooling the coil, such as a linear motor that generates a driving force in a linear direction and a rotary motor that generates a driving force in a rotating direction, are described. The present invention can also be applied to various motors including a housing disposed inside.
実施例4でも、実施例1と同様に炭素繊維強化プラスチック(CFRP)による例について説明したが、これに限られるものではなく、実施例1で説明した全ての構成が同様に適応可能である。 In the fourth embodiment, an example using carbon fiber reinforced plastic (CFRP) has been described as in the first embodiment. However, the present invention is not limited to this, and all the configurations described in the first embodiment can be similarly applied.
本実施例によれば、冷媒の内圧による曲げ変形に対し高剛性で、かつ、渦電流およびコイルからの発熱の影響を抑制するモータを構成できる。 According to the present embodiment, it is possible to configure a motor that is highly rigid against bending deformation due to the internal pressure of the refrigerant and that suppresses the influence of eddy currents and heat generation from the coils.
(実施例5)
図11は実施例5に係る露光装置の構造を示す正面図である。
(Example 5)
FIG. 11 is a front view showing the structure of an exposure apparatus according to the fifth embodiment.
図11の露光装置は、基板であるウエハWを位置決めするためのウエハステージ101と、その上方に配置された投影光学系である投影レンズ102と、原版であるレチクルRをウエハステージと同期し位置決めを行うためのレチクルステージ103、および、光源光学系106を有し、光源光学系から発生した露光光は、レチクルステージ103上のレチクルRを透過、あるいは、反射し投影レンズ102によって、ウエハステージ101上のウエハWに転写される。
The exposure apparatus of FIG. 11 positions a wafer stage 101 for positioning a wafer W as a substrate, a
ウエハステージ101はベース101aの中央部分に支持され、ベース101aは防振装置101bを介して不図示の床面に支持されている。ベース101aの外周部分には支持フレーム105が支持されており、前記フレーム105の上部中央部には投影レンズ102が支持されており、その外側には、レチクルステージを支持する支持部材109と光源光学系106を支持するL字型の支持部材106aが支持されている。
The wafer stage 101 is supported on the center portion of the
本発明は、図中のハッチングを施した、フレーム105およびレチクルステージ支持部材109、ベース101a、光源光学系支持部材106a、および位置計測用レーザー干渉計支持支柱107、108を、繊維の配向方向により、材料強度に異方性を有する繊維強化プラスチック(FRP)のシートを図3に示すよう31a,31b,31c,31d,・・・と複数層に亘って積層した積層板、あるいは、前記積層板を表面材として使用し、その内部に軽量のコア材を接着することにより構成するサンドイッチ構造体により構成している。積層板の構成は実施例1で説明した構成と同一なので省略する。
In the present invention, the hatched
擬似等方的に強度が高くなる平面を露光光の光軸と平行となるよう露光装置の構造支持部材を構成することで、光軸と平行な面内の曲げ、ねじり強度が向上する構成としている。 As a structure that improves the bending and torsional strength in the plane parallel to the optical axis by configuring the structure support member of the exposure apparatus so that the plane where the intensity becomes quasi-isotropic is parallel to the optical axis of the exposure light Yes.
ウエハW面およびレチクルR面と直交する方向の面内強度を強化することで、レチクルR、投影レンズ系102、ウエハW間の各相対位置関係を高精度に保つことを阻害する外力による変形を抑制することができる。
By strengthening the in-plane strength in the direction orthogonal to the wafer W surface and the reticle R surface, deformation due to external force that hinders maintaining the relative positional relationship between the reticle R, the
また、繊維材料により強度を向上させる方向は、この構成に限られるものではなく、光軸に直交する方向および平行な方向、その両方の強度を向上させた構成としても良い。 In addition, the direction in which the strength is improved by the fiber material is not limited to this configuration, and a configuration in which the strength in both the direction orthogonal to the optical axis and the parallel direction is improved may be employed.
構造支持部材に、留め具であるところのネジ穴の形成には、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)との線膨張係数差による局所的な変形を起こさないよう、低熱膨張の金属材料、例えば、インバーなどの埋め金を接着し、埋め金に雌ネジを設ける方法が望ましい。 In forming a screw hole as a fastener in the structural support member, a metal material having a low thermal expansion, for example, Invar, is used so as not to cause local deformation due to a difference in linear expansion coefficient from carbon fiber reinforced plastic (CFRP). For example, a method of bonding a buried metal such as a female screw to the buried metal is desirable.
実施例5では、実施例1と同様に炭素繊維強化プラスチック(CFRP)による構造体について説明したが、支持構造体を構成する材料は、これに限られるものではなく、実施例1で説明した全ての構成が同様に適応可能である。また、その効果も基本的に同じである。 In Example 5, the structure made of carbon fiber reinforced plastic (CFRP) was described in the same manner as in Example 1. However, the material constituting the support structure is not limited to this, and all the materials described in Example 1 are used. The configuration of can be similarly applied. The effect is basically the same.
本実施例に拠れば、従来の鋳物やセラミックスで構造支持部材を構成するものと比較して軽量で、レチクルR、投影レンズ系、ウエハW間の各相対位置関係を高精度に保持するために必要な剛性を高くすることができ、基板サイズの大径化への対応が容易となる。また、移動ステージの移動に伴う変動荷重による影響を抑制し、露光装置の更なる高速化、高精度化を実現できる。 According to the present embodiment, in order to maintain the relative positional relationship between the reticle R, the projection lens system, and the wafer W with high accuracy, which is lighter than that in which the structural support member is made of conventional castings or ceramics. The required rigidity can be increased, and it becomes easy to cope with an increase in the substrate size. Further, the influence of the fluctuating load accompanying the movement of the moving stage can be suppressed, and the exposure apparatus can be further increased in speed and accuracy.
(実施例6)
図13は実施例6に係る鏡筒102、およびその内部に保持される、光学素子保持部材の構造を示す部分断面図である。
(Example 6)
FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing the structure of the
図13の投影レンズ系の鏡筒は、光学素子であるレンズ部材152が、レンズ保持部材151に保持され、数十枚のレンズ保持部材151がスペーサ153を介し積み重ねあう形状で、鏡筒102に保持されている状態を示している。
The lens barrel of the projection lens system in FIG. 13 has a shape in which a
本発明は、前記レンズ保持部材151、および、鏡筒102を繊維の配向方向により、材料強度に異方性を有する炭素繊維強化プラスチック(CFRP)のシートを図3、あるいは、図14に示すよう31a,31b,31c,31d,・・・と複数層に亘って積層した積層板、あるいは、前記積層板を表面材として使用し、その内部に軽量のコア材を接着することにより構成するサンドイッチ構造体により構成している。積層板の構成は実施例1で説明した構成と同一なので省略する。
In the present invention, a sheet of carbon fiber reinforced plastic (CFRP) having anisotropy in material strength is shown in FIG. 3 or FIG. 14 for the
擬似等方的に強度が高くなる平面を露光光の光軸と直交となるよう繊維を配向した、前記積層板を用いてレンズ保持部材を構成することで、光軸と直交する面内方向、すなわちレンズ面内方向の伸び、曲げ、ねじり強度が向上する構成としている。こうような構成とすることで、レンズ保持部材151に働く、レンズに歪みを与える応力を最小限に抑制する構成としている。
By configuring the lens holding member using the laminated plate in which the fiber is oriented so that the plane in which the strength becomes quasi-isotropic is orthogonal to the optical axis of the exposure light, an in-plane direction orthogonal to the optical axis, That is, the structure is such that the elongation, bending, and torsional strength in the in-lens direction is improved. By adopting such a configuration, a stress that acts on the
また、鏡筒102を構成する部材に関して、擬似等方的に強度が高くなる平面を露光光の光軸と平行するよう繊維を配向した、前記積層板を用いることで、前記レンズ保持部材間151の位置および姿勢を高精度に保持できる構造としている。
Further, with respect to the members constituting the
また、レンズ保持部材151とレンズ保持部材151を保持する鏡筒102とを、同一の線膨張係数をもつ構造材で構成することで、線膨張係数差に起因する変形を抑制する構成としている。
Further, the
また、レンズ部材152とレンズ保持部材151とを接着固定する際は、実施例1および実勢例3で説明したものと同様に、前記積層材に金属膜を成形し、その表面を研磨した面とレンズを接着しても良いし、積層板表面に線膨張係数の低いガラスあるいはセラミックス材を貼り合わせ、表面を研磨した面とレンズ部材152を接着する構成としても良く、その方法は従来の方法と同じである。
In addition, when the
また、繊維材料により強度を向上させる方向は、この構成に限られるものではなく、光軸に直交する方向および平行な方向、その両方の強度を向上させた構成としても良い。 In addition, the direction in which the strength is improved by the fiber material is not limited to this configuration, and a configuration in which the strength in both the direction orthogonal to the optical axis and the parallel direction is improved may be employed.
構造支持部材に、留め具であるところのネジ穴の形成には、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)との線膨張係数差による局所的な変形を起こさないよう、低熱膨張の金属材料、例えば、インバーなどの埋め金を接着し、埋め金に雌ネジを設ける方法が望ましい。 In forming a screw hole as a fastener in the structural support member, a metal material having a low thermal expansion, for example, Invar, is used so as not to cause local deformation due to a difference in linear expansion coefficient from carbon fiber reinforced plastic (CFRP). For example, a method of bonding a buried metal such as a female screw to the buried metal is desirable.
実施例5では、実施例1と同様に炭素繊維強化プラスチック(CFRP)による構造体について説明したが、支持構造体を構成する材料は、これに限られるものではなく、実施例1で説明した全ての構成が同様に適応可能である。また、その効果も基本的に同じである。 In Example 5, the structure made of carbon fiber reinforced plastic (CFRP) was described in the same manner as in Example 1. However, the material constituting the support structure is not limited to this, and all the materials described in Example 1 are used. The configuration of can be similarly applied. The effect is basically the same.
本実施例に拠れば、従来の光学素子保持支持部材および鏡筒で構成するものと比較して軽量で、レンズの光学特性を保つための保持剛性および、鏡筒の各光学素子保持部材間の位置および姿勢を高精度に保つための保持剛性を高くすることができ、高精度の光学性能が長期間に亘って維持することのできる光学素子保持機構が組み込まれた鏡筒を有する露光装置を提供することができる。 According to the present embodiment, the weight is lighter than that of the conventional optical element holding support member and the lens barrel, the holding rigidity for maintaining the optical characteristics of the lens, and between the optical element holding members of the lens barrel. An exposure apparatus having a lens barrel incorporating an optical element holding mechanism capable of increasing the holding rigidity for maintaining the position and orientation with high accuracy and maintaining high-precision optical performance over a long period of time. Can be provided.
(実施例7)
実施例7において、上述のような露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図15は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
(Example 7)
In Example 7, a semiconductor device manufacturing process using the above-described exposure apparatus will be described. FIG. 15 is a diagram showing a flow of an entire manufacturing process of a semiconductor device. In step 1 (circuit design), a semiconductor device circuit is designed. In step 2 (mask fabrication), a mask is fabricated based on the designed circuit pattern.
一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ5によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ7でこれを出荷する。 On the other hand, in step 3 (wafer manufacture), a wafer is manufactured using a material such as silicon. Step 4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer by using the above-described exposure apparatus and lithography technology using the above-described mask and wafer. The next step 5 (assembly) is called a post-process, and is a process for forming a semiconductor chip using the wafer produced in step 5, and is an assembly process (dicing, bonding), packaging process (chip encapsulation), etc. Process. In step 6 (inspection), the semiconductor device manufactured in step 5 undergoes inspections such as an operation confirmation test and a durability test. A semiconductor device is completed through these processes, and is shipped in Step 7.
上記ステップ4のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するCVDステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。 The wafer process in step 4 includes the following steps. An oxidation step for oxidizing the surface of the wafer, a CVD step for forming an insulating film on the wafer surface, an electrode formation step for forming electrodes on the wafer by vapor deposition, an ion implantation step for implanting ions on the wafer, and applying a photosensitive agent to the wafer A resist processing step, an exposure step for transferring the circuit pattern to the wafer after the resist processing step by the above exposure apparatus, a development step for developing the wafer exposed in the exposure step, and an etching step for scraping off portions other than the resist image developed in the development step A resist stripping step that removes the resist that has become unnecessary after etching. By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer.
11 可動テーブル
11b リブ構造のコア材
12 チャック
13 位置計測用ミラー
21 電磁継手
22 自重補償機構
23 微動リニアモータ
30 繊維
50 ハニカム構造のコア材
62 永久磁石片
63 固定子ユニット
66 コイル列
67 コイルユニット
68 筐体
101 ウエハステージ
101a ベース
102 投影レンズ
103 レチクルステージ
104 ベース
105 フレーム
106 光源
107 レーザー干渉計
201 定盤
202 Yガイド
203 Yステージ
206 Yビーム
207 粗動ステージ
151 レンズ保持部材
152 レンズ部材
153 スペーサ
DESCRIPTION OF
Claims (17)
少なくとも原版または基板を保持する保持部材および/または該保持部材を搭載した可動テーブルは、露光光の光軸に直交する面内に強度を向上させた繊維強化材を有することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes an original pattern onto a substrate,
An exposure apparatus characterized in that at least a holding member for holding an original plate or a substrate and / or a movable table on which the holding member is mounted has a fiber reinforcing material having improved strength in a plane perpendicular to the optical axis of exposure light. .
該シート材は、面内方向に強度を向上させており、前記面内方向に対する熱伝導率が積層方向に対する熱伝導率よりも高くなるように積層されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の露光装置。 The fiber reinforcement has a plurality of laminated sheet materials,
The sheet material has improved strength in an in-plane direction, and is laminated such that the thermal conductivity in the in-plane direction is higher than the thermal conductivity in the lamination direction. The exposure apparatus according to any one of 8.
少なくとも原版または基板を搭載して移動するステージを案内するガイド部材が、
露光光の光軸に平行な面内の強度を向上させた繊維強化材を用いて構成され、
前記ガイド部材の少なくとも1つの側面に静圧軸受けのガイド面としての鏡面を備えることを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes an original pattern onto a substrate,
At least a guide member that guides a stage that moves with the original plate or substrate mounted thereon,
Consists of a fiber reinforcement that improves the in-plane strength parallel to the optical axis of the exposure light,
An exposure apparatus comprising a mirror surface as a guide surface of a hydrostatic bearing on at least one side surface of the guide member.
少なくとも前記原版または基板を搭載したステージを駆動するための駆動手段は、コイルと、該コイルを内部に配置する筐体と、該筐体に対向して配置された永久磁石とを有し、前記筐体の側面のうち、前記永久磁石と対面する面に、前記永久磁石の駆動力に寄与する磁束と直交する面内の強度を向上させた繊維強化材を用いることを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes an original pattern onto a substrate,
The driving means for driving at least the stage on which the original plate or the substrate is mounted includes a coil, a casing in which the coil is disposed, and a permanent magnet disposed to face the casing, An exposure apparatus, wherein a fiber reinforcing material having an improved strength in a plane orthogonal to a magnetic flux contributing to a driving force of the permanent magnet is used for a surface facing the permanent magnet among side surfaces of the housing.
前記照明光学系、前記投影光学系、前記原版および/または基板を搭載して移動するステージを載せた定盤、前記ステージの位置を計測するための干渉計を固定支持する支柱、のうちいずれかを一体的に支持する本体構造体を有し、前記本体構造体は露光光の光軸と平行な面内の強度を向上させた繊維強化材で構成されていることを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes a wafer with a pattern of an original by irradiating the wafer with exposure light from an illumination optical system via the original and a lens barrel as a projection optical system,
One of the illumination optical system, the projection optical system, the platen on which the original plate and / or the substrate is mounted, and a stage on which a stage is mounted, and a column that fixedly supports an interferometer for measuring the position of the stage An exposure apparatus comprising: a main body structure that integrally supports the main body structure, and the main body structure is made of a fiber reinforcing material having an improved strength in a plane parallel to the optical axis of the exposure light.
前記支持部材が露光光の光軸と直交する面内の強度を向上させた繊維強化材で構成されており、および/また、前記鏡筒部材は露光光の光軸と平行となる面内の強度を向上させた繊維強化材で構成されていることを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus having a support member that supports an optical element inside a lens barrel and a lens barrel that holds the support member,
The support member is made of a fiber reinforcing material whose strength in a plane orthogonal to the optical axis of exposure light is improved, and / or the lens barrel member is in a plane parallel to the optical axis of exposure light. An exposure apparatus comprising a fiber reinforcing material having improved strength.
基板に感光剤を塗布する工程と、
感光剤が塗布された基板の前記感光剤に請求項1〜15のいずれかに記載の露光装置によりパターンを転写する工程と、
パターンが転写された基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイスの製造方法。 A device manufacturing method comprising:
Applying a photosensitive agent to the substrate;
A step of transferring a pattern to the photosensitive agent on the substrate coated with the photosensitive agent by the exposure apparatus according to claim 1;
And a step of developing the substrate onto which the pattern has been transferred.
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