JP2005230681A - Gas piping equipment and detoxification system provided with the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は,CVD装置やドライエッチング装置の排ガスから粉体の除去された後の残留粉体含有ガスなどの異物含有ガスを排出するためのガス配管を備えたガス配管装置に関し、特にメンテナンスに伴うガスの排出停止を回避する対策に関する。 The present invention relates to a gas piping device having a gas piping for discharging a foreign substance-containing gas such as a residual powder-containing gas after the powder is removed from the exhaust gas of a CVD apparatus or a dry etching apparatus, and particularly accompanying maintenance. The present invention relates to measures for avoiding gas emission stoppage.
一般に、液晶表示装置の製造時に使用されるCVD装置やドライエッチング装置などの処理装置から排気されるガスには、例えば、特許文献1に記載されているように、粉体が含まれており、このことから、図3のブロック図に模式的に示すように、処理装置100のガス排気側に、除去処理装置250とガス配管装置300とを備えた粉体除去装置200を真空ポンプ110を介して接続し、除去処理装置250によりガスから粉体を除去した後、そのガスを、ガス配管装置300のガス配管310により排出するようになされている。
In general, a gas exhausted from a processing apparatus such as a CVD apparatus or a dry etching apparatus used in manufacturing a liquid crystal display device includes, for example, powder as described in Patent Document 1, For this reason, as schematically shown in the block diagram of FIG. 3, a
その際に、ガス配管310には、ガスの逆流を防止することを主な目的として、逆止弁320が設置されている。
At that time, a
そして、ガス中の異物としての残留粉体により前記逆止弁320が閉塞したときには、その閉塞した逆止弁320を清掃ないし交換するようになされている。尚、ガス中の粉体を除去するようにした除去処理装置250の一例としては、特許文献2や特許文献3に記載のものが挙げられる。
しかしながら、上記従来のガス配管装置300では、逆止弁320の清掃ないし交換毎に、除去処理装置250や真空ポンプ110のみならず、処理装置100についても、その作動も停止させる必要があり、このために、それら処理装置100の稼働率が低下するという問題がある。
However, in the conventional
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、液晶表示装置の製造時に使用されるCVD装置およびドライエッチング装置などの処理装置から排出される粉体含有ガスや、その排ガス中の粉体を取り除く粉体除去装置などの除害装置から排出される残留粉体含有ガスなど、異物を含有するガスを排出するためのガス配管を備えたガス配管装置において、ガスの排出方向を規制する逆止弁の清掃ないし交換時にガスの排出を停止させなくても済むようにし、もって、前記処理装置の稼働率の低下を回避できるようにすることにある。 The present invention has been made in view of such a point, and its main object is to provide a powder-containing gas discharged from a processing apparatus such as a CVD apparatus and a dry etching apparatus used in manufacturing a liquid crystal display device. In a gas piping device equipped with a gas pipe for discharging a gas containing foreign matter such as a residual powder-containing gas discharged from a detoxifying device such as a powder removing device that removes powder in the exhaust gas, Therefore, it is not necessary to stop the gas discharge during the cleaning or replacement of the check valve that regulates the discharge direction of the gas, so that a reduction in the operating rate of the processing apparatus can be avoided.
上記の目的を達成すべく、本発明では、ガスの排出経路を複数系統とし、それら複数系統の排出経路のなかから、1系統以上の任意の排出経路を選択使用できるようにした。 In order to achieve the above object, in the present invention, a plurality of gas discharge paths are provided, and one or more arbitrary discharge paths can be selected and used from the plurality of discharge paths.
具体的には、本発明では、ガスを排出するためのガス配管を備えていて、所定の処理を行いつつガスを排気する処理装置のガス排気側に接続されて前記ガス配管により前記ガスを排出するようにしたガス配管装置を前提としている。そして、前記ガス配管は、複数とされていて互いに並列に配置されており、前記各ガス配管には、該ガス配管における前記ガスの所定の排出方向とは逆の方向への通過を規制する逆止弁が設けられているものとする。その上で、前記各逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側において開閉する上流側開閉手段と、前記各逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側において開閉する下流側開閉手段とが前記各逆止弁毎に設けられているものとする。 Specifically, in the present invention, a gas pipe for discharging gas is provided, and the gas is discharged through the gas pipe connected to the gas exhaust side of a processing apparatus that exhausts the gas while performing a predetermined treatment. This is based on the assumption that the gas piping device is made. A plurality of the gas pipes are arranged in parallel with each other, and each gas pipe has a reverse that regulates passage of the gas in the direction opposite to the predetermined discharge direction of the gas. It is assumed that a stop valve is provided. In addition, upstream opening / closing means for opening and closing the gas pipe corresponding to each check valve on the upstream side in the discharge direction of the check valve, and the gas pipe corresponding to each check valve to the check valve A downstream opening / closing means that opens and closes downstream in the discharge direction is provided for each check valve.
尚、上記の構成において、前記複数の逆止弁,前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を、収容体に収容するようにすることができる。さらに、前記各逆止弁が前記ガス中の異物により閉塞されているか否かを検出する検出手段と、この検出手段の検出結果に基づいて、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由しないで前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を制御する制御手段とを備えるようにすることもできる。 In the above configuration, the plurality of check valves, the plurality of upstream side opening / closing means, and the plurality of downstream side opening / closing means can be accommodated in a container. And detecting means for detecting whether or not each of the check valves is blocked by a foreign substance in the gas, and the check valves detected to be closed based on a detection result of the detecting means. The plurality of upstream side opening / closing means and the control means for controlling the plurality of downstream side opening / closing means may be provided so that the gas passes without passing through.
また、上記の構成では、前記ガス配管が複数とされているが、前記ガス配管が1つである場合には、そのガス配管に対し、前記複数の逆止弁を排出方向に並ぶように配置することができる。そして、それら各逆止弁毎に、両端がそれぞれ前記ガス配管における該逆止弁の上流側部分および下流側部分に接続されたバイパス配管を設けるとともに、それら各バイパス配管に、該バイパス配管を開閉するバイパス開閉手段を設ける。さらに、前記各逆止弁毎に、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側直近における前記バイパス配管との接続部と該逆止弁との間において開閉する上流側開閉手段を設けるとともに、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側直近における前記バイパス配管との接続部と該逆止弁との間において開閉する下流側開閉手段を設けるようにする。尚、この場合にも、前記複数の逆止弁,前記複数の上流側開閉手段,前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を収容体に収容するようにしたり、前記検出手段の検出結果に基づいて、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由しないで前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段,前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を制御手段により制御する構成とすることができる。 In the above configuration, the gas pipes are plural, but when the gas pipe is one, the plurality of check valves are arranged in the discharge direction with respect to the gas pipe. can do. For each check valve, a bypass pipe having both ends connected to the upstream and downstream portions of the check valve in the gas pipe is provided, and the bypass pipe is opened and closed for each bypass pipe. Bypass opening / closing means is provided. Furthermore, for each of the check valves, an upstream side opening / closing means for opening and closing the gas pipe between the check valve and a connection portion with the bypass pipe immediately upstream of the check valve in the discharge direction is provided. Further, a downstream opening / closing means is provided for opening and closing the gas pipe between the check valve and a connection portion with the bypass pipe immediately downstream of the check valve in the discharge direction. In this case as well, the plurality of check valves, the plurality of upstream side opening / closing means, the plurality of downstream side opening / closing means and the plurality of bypass opening / closing means may be accommodated in a container, or the detection means The plurality of upstream opening / closing means, the plurality of downstream opening / closing means, and the plurality of bypasses so that the gas passes without passing through the check valve that is detected to be blocked based on a detection result The opening / closing means can be controlled by the control means.
さらには、上記構成のガス配管装置を、異物を含有するガスから前記異物を取り除いて前記ガスを排気する除去処理手段に該除去処理手段から排気された前記ガスを排出するように接続して除害装置を構成することもできる。 Further, the gas piping apparatus having the above-described configuration is connected to a removal processing unit that removes the foreign matter from the gas containing foreign matter and exhausts the gas so as to discharge the gas exhausted from the removal processing unit. Harmful devices can also be constructed.
本発明によれば、処理装置から排気されたガスをガス配管の逆止弁により排出方向のみに通過させるようにしたガス配管装置において、各々、少なくとも1つの逆止弁を有する複数系統の排出経路を選択使用できるようにしたことで、何れかの逆止弁がガス中の異物により閉塞気味になったときに、その逆止弁を経由する排出経路以外の排出経路によりガスを排出することができるので、ガスの通過を中断することなく逆止弁のメンテナンスを行うことができ、よって、本ガス配管装置に接続される処理装置の稼働率が上記のようなメンテナンスにより低下するのを回避することができる。 According to the present invention, in the gas piping apparatus in which the gas exhausted from the processing apparatus is allowed to pass only in the discharging direction by the check valve of the gas pipe, the plurality of discharge paths each having at least one check valve When one of the check valves becomes obstructed by a foreign substance in the gas, the gas can be discharged through a discharge route other than the discharge route via the check valve. As a result, the check valve can be maintained without interrupting the passage of gas, and therefore the operating rate of the processing apparatus connected to the gas piping apparatus is prevented from being lowered by the above-described maintenance. be able to.
以下、本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るガス配管装置を備えた除害装置としての粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示すブロック図である。この粉体除去装置10は、液晶表示装置の製造工程において、CVD装置やドライエッチング装置など、異物としての粉体の発生を伴って所定の処理を行いつつ、その粉体を含有するガスを排気する前記処理装置40のガス排気側に接続されて用いられる。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram schematically showing an overall configuration of a powder removing apparatus as a detoxifying apparatus including a gas piping apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, including a connection state with a processing apparatus. The
この粉体除去装置10は、処理装置40から真空ポンプ50の作動により導入されたガスから粉体を除去して排気する除害処理手段としての除去処理装置11と、この除去処理装置11のガス排気側に接続されていて、該除去処理装置11から排気されたガスを排出するガス配管装置20とを備えている。
The
ガス配管装置20は、各々、ガスを排出するための第1および第2の2つのガス配管22a,22bを備えており、これらガス配管22a,22bは互いに並列に配置されている。各ガス配管22a,22bの途中には、それぞれ、ガスが所定の排出方向(図1の右方向)とは逆の方向に移動するのを規制する一方、前記排出方向への移動を許容する第1および第2の2つの逆止弁23a,23bが設けられている。
The
各ガス配管22a,22bにおける逆止弁23a,23bの排出方向上流側(図1の左側。以下、単に「上流側」という)には、それぞれ、対応するガス配管22a,22bを開閉する上流側開閉バルブ24a,24bが設けられている。また、各ガス配管22a,22bにおける逆止弁23a,23bの排出方向下流側(同図の左側。以下、単に「下流側」という)には、それぞれ、対応するガス配管22a,22bを開閉する下流側開閉バルブ25a,25bが設けられている。これら開閉バルブ24a,24b,25a,25bには、対応するガス配管22a,22bを開閉するためのアクチュエータ(図示せず)が内蔵されており、そのアクチュエータは、後述の制御信号に応じて開閉作動するようになっている。
On the upstream side in the discharge direction of the
さらに、各逆止弁23a,23bと上流側開閉バルブ24a,24bとの間には、それぞれ、該逆止弁23a,23bの上流側におけるガス圧を検出してその検出値を出力する上流側圧力計26a,26bが設けられており、一方、各逆止弁23a,23bと下流側開閉バルブ25a,25bとの間には、それぞれ、該逆止弁23a,23bの下流側におけるガス圧を検出してその検出値を出力する下流側圧力計27a,27bが設けられている。これら上流側および下流側圧力計26a,26b,27a,27bは、本発明における検出手段を構成している。
Furthermore, between each
上記の除去処理装置11と、第1および第2ガス配管22a,22bと、第1および第2逆止弁23a,23bと、上流側開閉バルブ24a,24bと、下流側開閉バルブ25a,25bと、上流側圧力計26a,26bと、下流側圧力計27a,27bとは、共通の収容体60内に収容されている。
The
上記収容体60の外部には、上流側および下流側圧力計26a,26b,27a,27bの各出力信号が入力される一方、それら出力信号に基づいて、上流側および下流側開閉バルブ24a,24b,25a,25bに対し、上述の制御信号を出力する制御手段としての制御部30が設けられている。この制御部30では、各逆止弁23a,23bの上流側ガス圧と下流側ガス圧との間の差圧を演算するとともに、その差圧が所定値に達している(差圧≧所定値)か否かを判定し、判定結果がYESであるときには、上流側および下流側開閉バルブ24a,24b,25a,25bが共に閉じる制御信号を出力するようになされる。尚、ここで、「閉塞」とは、完全に閉塞している状態のみならず、該当する逆止弁23a,23bの清掃ないし交換が必要とされる程度に閉塞している状態をも含む。
The output signals of the upstream and
そして、本実施形態では、図1に太い実線の矢印で示すように、第1逆止弁23aの上流側および下流側開閉バルブ24a,25aが共に開いたときの第1ガス配管22aによる排出経路としての第1の排出経路と、同図に太い破線の矢印で示すように、第2逆止弁23bの上流側および下流側開閉バルブ24b,25bが共に開いたときの第2ガス配管22bによる排出経路としての第2の排出経路との2系統の排出経路が形成されるようになされており、その2系統の排出経路を択一的に切り替えて使用するようになっている。
In this embodiment, as shown by a thick solid arrow in FIG. 1, the discharge path by the
次に、上記のように構成された粉体除去装置10の作動について説明する。尚、初期状態では、第1逆止弁23aの上流側および下流側開閉バルブ24a,25aは共に開いている一方、第2逆止弁23bの上流側および下流側開閉バルブ24b,25bは共に閉じていて、第1の排出経路を使用しているものとする。
Next, the operation of the
処理装置40の作動に伴って発生した粉体含有ガスは、真空ポンプ50の作動により、粉体除去装置10に導入される。導入されたガスは、除去処理装置11により粉体が除去された後、それぞれ、ガス配管装置20の第1および第2ガス配管22a,22bに向かって排気される。その際に、第1ガス配管22aの上流側開閉バルブ24aは開いている一方、第2ガス配管22bの上流側開閉バルブ24bは閉じているので、除去処理装置11から排気されたガスは、第1ガス配管22aを通過して排出される。
The powder-containing gas generated with the operation of the
その際に、除去処理装置11から排気されたガスには、僅かではあるが、異物としての残留粉体が含有されており、その残留粉体は、第1逆止弁23aに徐々に堆積し、やがては、第1逆止弁23aを閉塞することになる。このような残留粉体の堆積に伴い、第1逆止弁23aの上流側ガス圧が徐々に上昇する一方、下流側ガス圧が徐々に低下する。これに対し、制御部30では、第1逆止弁23aの上流側圧力計26aにより検出された上流側ガス圧と、下流側圧力計27aにより検出された下流側ガス圧との間の差圧の演算を逐次行うとともに、その差圧が所定値に達しているか否かの判定を逐次行う。そして、差圧が所定値に達したときには、第1逆止弁23aが閉塞したと見做し、第2逆止弁23bの上流側および下流側開閉バルブ24b,25bに対して、開く制御信号を出力する一方、第1逆止弁23aの上流側および下流側開閉バルブ24a,25aに対しては、閉じる制御信号を出力する。これにより、除去処理装置11から排気されたガスは、第1ガス配管22aに代わり、第2ガス配管22bを通過して排出されるようになる。これにより、除去処理装置11の除去処理に伴うガスの排出を中断することなく、第1逆止弁23aの清掃ないし交換が行われることとなる。
At that time, the gas exhausted from the
したがって、本実施形態によれば、液晶表示装置製造時に使用されるCVD装置やドライエッチング装置などのように、粉体を含有するガスを発生しつつ所定の処理を行う処理装置40に対し、そのガス排気側に接続して使用される粉体除去装置10において、除去処理装置11により粉体が除去されて排気されたガスを排出するようにしたガス配管装置20として、第1逆止弁23aを有する第1ガス配管22aと、第2逆止弁23bを有する第2ガス配管22bとにより2系統の排出経路を形成し、その2系統の排出経路を択一的に切り替えて使用するようにしたので、使用中の逆止弁23a(又は23b)がガス中の残留粉体により閉塞したときに、除去処理装置11の処理を停止させることなく、その逆止弁23a(又は23b)の清掃ないし交換などのメンテナンスを行うことができ、よって、前記メンテナンスに伴う処理装置40および除去処理装置11の各稼働率の低下を回避することができ、その分、液晶表示装置の生産性向上に寄与することができる。
Therefore, according to the present embodiment, the
また、排出経路の切替えを、逆止弁23a,23bの上流側ガス圧と下流側ガス圧との間の差圧に基づいて自動的に行うことができるので、そのような切替作業を行うことに起因する手間の増大を回避することができる。
Further, since the switching of the discharge path can be automatically performed based on the differential pressure between the upstream side gas pressure and the downstream side gas pressure of the
尚、上記の実施形態では、ガス配管装置20の上流側圧力計26a,26bをそれぞれ上流側開閉バルブ24a,24bの下流側に配置するようにしているが、上流側に配置するようにしてもよく、同様に、下流側圧力計27a,27bについては、それぞれ、下流側開閉バルブ25a,25bの下流側に配置するようにしてもよい。
In the above embodiment, the upstream
また、上記の実施形態では、各逆止弁23a,23bの上流側および下流側にそれぞれ圧力計26a,26b,27a,27bを配置しているが、各逆止弁23a,23bの上流側のみにそれぞれ圧力計を配置し、その上流側圧力計により検出された圧力が所定値に達したとき(圧力≧所定値)に、上記の制御信号を出力するようにしてもよい。つまり、本発明における検出手段は、上流側圧力計26a,26bのみにより構成することもできる。
In the above embodiment, the
また、上記の実施形態では、第1逆止弁23aを経由する第1排出経路,および第2逆止弁23bを経由する第2排出経路からなる2系統の排出経路を択一的に切り替えるようにしているが、それら2系統の排出経路を組み合わせて同時に使用するようにしておいて、例えば第1逆止弁23aが閉塞したときに、第2排出経路のみの使用に切り替えるようにしてもよい。
Further, in the above embodiment, the two discharge paths including the first discharge path passing through the
また、上記の実施形態では、第1および第2の2つのガス配管22a,22bにより2系統の排出経路を形成するようにしているが、3つ以上のガス配管により3系統以上の排出経路を形成するようにしてもよい。
In the above embodiment, the first and
さらに、上記の実施形態では、ガス配管装置20の2つのガス配管22a,22bの各上流端をそれぞれ除去処理装置11に接続することで、2系統の排出経路を、下流端側の部分を除き、互いに独立させて形成しているが、除去処理装置11には1つのガス配管の上流端のみを接続し、その上流端の下流側部分に2つ目のガス配管の上流端を接続させたり、又は上記1つのガス配管の途中から2つ目のガス配管を分岐させたりすることで、2系統の排出経路を上流側部分において互いに共通化させるようしてもよい。
Furthermore, in the above-described embodiment, the upstream ends of the two
(実施形態2)
図2のブロック図は、本発明の実施形態2に係るガス配管装置を備えた除害装置としての粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示しており、実施形態1の場合と同じ部分は、同じ符号を付して示している。
(Embodiment 2)
The block diagram of FIG. 2 schematically shows the entire configuration of the powder removing apparatus as a detoxifying apparatus including the gas piping apparatus according to Embodiment 2 of the present invention, including the connection state with the processing apparatus, The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
本実施形態では、ガス配管装置20は、1つのガス配管22を備えており、このガス配管22には、第1および第2の2つの逆止弁23a,23bが排出方向に直列に並ぶように配置されている。
In the present embodiment, the
各逆止弁23a,23bの上流側および下流側には、実施形態1の場合と同じく、それぞれ、上流側および下流側開閉バルブ24a,24b,25a,25bが設けられている。また、各逆止弁23a,23bと上流側開閉バルブ24a,24bとの間,および各逆止弁23a,23bと下流側開閉バルブ25a,25bとの間には、これも実施形態1の場合と同様に、それぞれ、上流側および下流側圧力計26a,26b,27a,27bが設けられている。
As in the case of the first embodiment, upstream and downstream opening /
そして、本実施形態では、両端がそれぞれガス配管22における各逆止弁23a,23bの上流側開閉バルブ24a,24bよりも上流側の部分と下流側開閉バルブ25a,25bよりも下流側の部分とに接続された2つのバイパス配管28a,28bと、それら各バイパス配管28a,28bに設けられていて、該バイパス配管28a,28bを開閉するバイパス開閉バルブ29a,29bとを備えている。
In this embodiment, both ends of the
一方、制御部30は、実施形態1の場合と同様に、第1逆止弁23aの上流側および下流側圧力計26a,27aからの各出力信号と、第2逆止弁23bの上流側および下流側圧力計26b,27bからの各出力信号とに基づいて、各逆止弁23a,23bの上流側ガス圧と下流側ガス圧との間の差圧を演算するとともに、それら各差圧が所定値に達したか否かを判定する。そして、一方の逆止弁23a(又は23b)の差圧が所定値に達したときには、その逆止弁23a(又は23b)の上流側および下流側開閉バルブ24a,25a(又は24b,25b)が共に閉じかつその逆止弁23a(又は23b)のバイパス開閉バルブ29a(又は29b)が開くとともに、他方の逆止弁23b(又は23a)の上流側および下流側開閉バルブ24b,25b(又は24a,25a)が共に開きかつその逆止弁23b(又は23a)のバイパス開閉バルブ29b(又は29a)が閉じるように開閉バルブ24a,24b,25a,25b,29a,29bに対する制御信号を出力するようになっている。
On the other hand, as in the case of the first embodiment, the
つまり、本実施形態では、図2に太い実線の矢印で示すように、第1逆止弁23aおよび第2バイパス配管28bを経由する第1の排出経路と、同図に太い破線の矢印で示すように、第1バイパス配管28aおよび第2逆止弁23bを経由する第2の排出経路との2系統の排出経路が択一的に切り替わるようになっている。
That is, in the present embodiment, as indicated by a thick solid line arrow in FIG. 2, the first discharge path passing through the
次に、上記のように構成された粉体除去装置10の作動について説明する。尚、初期状態では、第1逆止弁23aの上流側および下流側開閉バルブ24a,25aが共に開きかつ第1バイパス配管28aのバイパス開閉バルブ29aが閉じている一方、第2逆止弁23bの上流側および下流側開閉バルブ24b,25bが共に閉じかつ第2バイパス配管28bのバイパス開閉バルブ29bが開いていて、第1の排出経路を使用しているものとする。
Next, the operation of the
処理装置40の作動に伴って発生した粉体含有ガスは、真空ポンプ50の作動により、粉体除去装置10に導入される。導入されたガスは、除去処理装置11により粉体が除去された後、ガス配管装置20のガス配管22に向かって排気される。その際に、第1逆止弁23aの上流側および下流側開閉バルブ24a,25aは開いている一方、第1バイパス配管28aのバイパス開閉バルブ29aは閉じているので、ガスは、先ず、第1逆止弁23aを経由して第2逆止弁23bに向かう。次に、第2逆止弁23b側では、上流側および下流側開閉バルブ24b,25bが共に閉じている一方、第2バイパス配管28bのバイパス開閉バルブ29bは開いているので、ガスは、第2逆止弁23bを経由するのではなく、その第2逆止弁23bを迂回する第2バイパス配管28bを経由して排出される。
The powder-containing gas generated with the operation of the
一方、制御部30では、第1逆止弁23aの上流側および下流側圧力計26a,27aの出力信号に基づいて差圧を逐次演算するとともに、その差圧が所定値に達しているか否かを判定する。そして、判定がYESであるときには、第2逆止弁23bの上流側および下流側開閉バルブ24b,25bが共に開きかつ第2バイパス配管28bのバイパス開閉バルブ29bが閉じる一方、第1バイパス配管28aのバイパス開閉バルブ29aが開きかつ第1逆止弁23aの上流側および下流側開閉バルブ24a,25aが共に閉じるように制御信号を出力する。これにより、排出経路は、第1逆止弁23aおよび第2バイパス配管28bを経由する第1の排出経路から、第1バイパス配管28aおよび第2逆止弁23bを経由する第2の排出経路に切り替わる。これにより、除去処理装置11により粉体の除去されたガスの排出を継続しつつ、第1逆止弁23aの清掃ないし交換が行えるようになる。
On the other hand, the
したがって、本実施形態によっても、実施形態1の場合と同様の効果を奏することができる。 Therefore, the present embodiment can achieve the same effects as those of the first embodiment.
尚、上記の実施形態では、2系統の排出経路を切り替えるようにしているが、その2系統の排出経路に、第1および第2逆止弁23a,23bを共に経由する第3の排出経路を加えて3系統とし、それら3系統の排出経路を切り替えるようにしてもよい。
In the above embodiment, the two discharge paths are switched. However, the third discharge path that passes through the first and
また、上記の実施形態では、第1および第2の2つの逆止弁23a,23bを設けるようにしているが、3つ以上の逆止弁を設けるとともに、それに応じて、3系統,4系統など、3系統以上の排出経路を形成するようにしてもよい。
In the above embodiment, the first and
また、上記の実施形態1および実施形態2では、ガス配管装置20の一部の構成要素を除去処理装置11と共に収容体60に収容するようにしているが、除去処理装置11とは別に専用の収容体に収容するようにしてもよい。
In the first embodiment and the second embodiment, some components of the
さらに、上記の実施形態1および実施形態2では、液晶表示装置の製造過程において使用されるCVD装置やドライエッチング装置などの処理装置40の排気ガスから粉体を除去する粉体除去装置10の除去処理装置11に接続される場合について説明しているが、本発明は、ガスの排気を伴って所定の処理を行う種々の処理装置のガス排気側に接続して用いられるガス配管装置に適用することができる。
Furthermore, in Embodiment 1 and Embodiment 2 above, the removal of the
10 粉体除去装置(除害装置)
11 除去処理装置(除害処理手段)
20 ガス配管装置
22 ガス配管
22a 第1ガス配管(ガス配管)
22b 第2ガス配管(ガス配管)
23a 第1逆止弁(逆止弁)
23b 第2逆止弁(逆止弁)
24a,24b 上流側開閉バルブ(上流側開閉手段)
25a,25b 下流側開閉バルブ(下流側開閉手段)
26a,26b 上流側圧力計(検出手段)
27a,27b 下流側圧力計(検出手段)
28a,28b バイパス配管
29a,29b バイパス開閉バルブ(バイパス開閉手段)
30 制御部(制御手段)
60 収容体
10 Powder removal device (harm removal device)
11 Removal processing device (abatement processing means)
20
22b Second gas pipe (gas pipe)
23a First check valve (check valve)
23b Second check valve (check valve)
24a, 24b Upstream opening / closing valve (upstream opening / closing means)
25a, 25b Downstream opening / closing valve (downstream opening / closing means)
26a, 26b Upstream pressure gauge (detection means)
27a, 27b Downstream pressure gauge (detection means)
28a, 28b Bypass piping 29a, 29b Bypass opening / closing valve (bypass opening / closing means)
30 Control unit (control means)
60 container
Claims (7)
前記ガス配管は、複数とされていて互いに並列に配置され、
前記各ガス配管に設けられ、該ガス配管における前記ガスの排出方向とは逆の方向への通過を規制する逆止弁と、
前記各逆止弁毎に設けられ、該逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側において開閉する上流側開閉手段と、
前記各逆止弁毎に設けられ、該逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側において開閉する下流側開閉手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。 A gas piping device comprising a gas piping for discharging gas, connected to a gas exhaust side of a processing device for exhausting gas while performing a predetermined treatment, and discharging the gas through the gas piping,
The gas pipes are arranged in parallel with each other,
A check valve that is provided in each gas pipe and restricts passage of the gas pipe in a direction opposite to the gas discharge direction;
An upstream side opening / closing means provided for each check valve and opening and closing the gas pipe corresponding to the check valve on the upstream side in the discharge direction of the check valve;
A gas piping device comprising a downstream side opening / closing means provided for each check valve and opening / closing the gas piping corresponding to the check valve on the downstream side in the discharge direction of the check valve. .
前記複数の逆止弁,前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を収容する収容体を備えていることを特徴とするガス配管装置。 In the gas piping device according to claim 1,
A gas piping device comprising: a housing for housing the plurality of check valves, the plurality of upstream opening / closing means, and the plurality of downstream opening / closing means.
前記各逆止弁が前記ガス中の異物により閉塞されているか否かを検出する検出手段と、 前記検出手段の検出結果に基づき、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由せずに前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を制御する制御手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。 In the gas piping device according to claim 1,
Detecting means for detecting whether or not each check valve is blocked by a foreign substance in the gas; and passing through the check valve detected to be blocked based on the detection result of the detecting means. And a control means for controlling the plurality of upstream side opening / closing means and the plurality of downstream side opening / closing means so that the gas passes therethrough.
前記ガス配管に前記ガスの排出方向に並ぶように設けられ、各々、該ガス配管における前記排出方向とは逆の方向への通過を規制する複数の逆止弁と、
前記各逆止弁毎に設けられ、両端がそれぞれ前記ガス配管における該逆止弁の上流側部分および下流側部分に接続されたバイパス配管と、
前記各バイパス配管に設けられ、該バイパス配管を開閉するバイパス開閉手段と、
前記各逆止弁毎に設けられ、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側直近における前記バイパス配管との接続部と、該逆止弁との間において開閉する上流側開閉手段と、
前記各逆止弁毎に設けられ、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側直近における前記バイパス配管との接続部と、該逆止弁との間において開閉する下流側開閉手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。 A gas piping device comprising a gas piping for discharging gas, connected to a gas exhaust side of a processing device for exhausting gas while performing a predetermined treatment, and discharging the gas through the gas piping,
A plurality of check valves provided in the gas pipe so as to be aligned in the gas discharge direction, each regulating passage in a direction opposite to the discharge direction in the gas pipe;
A bypass pipe provided for each check valve, both ends of which are respectively connected to an upstream portion and a downstream portion of the check valve in the gas pipe;
A bypass opening / closing means provided on each bypass pipe for opening and closing the bypass pipe;
An upstream opening / closing means that is provided for each check valve, and that opens and closes the gas pipe between the check pipe and a connecting portion with the bypass pipe immediately upstream in the discharge direction of the check valve;
Provided for each of the check valves, and a connection part between the gas pipe and the bypass pipe immediately downstream in the discharge direction of the check valve, and a downstream opening / closing means that opens and closes between the check valve. A gas piping device characterized by comprising.
前記複数の逆止弁,前記複数の上流側開閉手段,前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を収容する収容体を備えていることを特徴とするガス配管装置。 In the gas piping device according to claim 4,
A gas piping device comprising: a housing for housing the plurality of check valves, the plurality of upstream opening / closing means, the plurality of downstream opening / closing means, and the plurality of bypass opening / closing means.
前記各逆止弁が前記ガス中の異物により閉塞されているか否かを検出する検出手段と、 前記検出手段の検出結果に基づき、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由せずに前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段,前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を制御する制御手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。 In the gas piping device according to claim 4,
Detecting means for detecting whether or not each check valve is blocked by a foreign substance in the gas; and passing through the check valve detected to be blocked based on the detection result of the detecting means. And a control means for controlling the plurality of upstream opening / closing means, the plurality of downstream opening / closing means and the plurality of bypass opening / closing means so that the gas passes therethrough.
異物を含有するガスから前記異物を取り除いて前記ガスを排気する除去処理手段を備え、
前記ガス配管装置は、前記除去処理手段に該除去処理手段から排気された前記ガスを排出するように接続されていることを特徴とする除害装置。
A detoxifying device comprising the gas piping device according to any one of claims 1, 2, 3, 4, 5, and 6.
A removal processing means for removing the foreign matter from the gas containing the foreign matter and exhausting the gas,
The abatement apparatus, wherein the gas piping device is connected to the removal processing means so as to discharge the gas exhausted from the removal processing means.
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JP2004042624A JP2005230681A (en) | 2004-02-19 | 2004-02-19 | Gas piping equipment and detoxification system provided with the same |
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