JP2005222037A - Sealing agent composition for liquid crystal display element - Google Patents

Sealing agent composition for liquid crystal display element Download PDF

Info

Publication number
JP2005222037A
JP2005222037A JP2004371371A JP2004371371A JP2005222037A JP 2005222037 A JP2005222037 A JP 2005222037A JP 2004371371 A JP2004371371 A JP 2004371371A JP 2004371371 A JP2004371371 A JP 2004371371A JP 2005222037 A JP2005222037 A JP 2005222037A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
meth
liquid crystal
crystal display
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004371371A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Miyuki Wakao
幸 若尾
Tatsuya Kanamaru
達也 金丸
Shingo Ando
信吾 安藤
Toshio Shiobara
利夫 塩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2004371371A priority Critical patent/JP2005222037A/en
Publication of JP2005222037A publication Critical patent/JP2005222037A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Sealing Material Composition (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealing agent composition for a liquid crystal display element, the agent which can suppress production of voids caused by local hardening and heat generation during a thermosetting process after UV curing by using a finely granulated latent hardening agent, and which has excellent adhesion property and shape holding property. <P>SOLUTION: The sealing agent composition for a liquid crystal display element contains: (A) a mixture containing a partially (meth)acrylate-modified epoxy compound obtained by allowing (meth)acrylic acid to react with epoxy resin; (B) epoxy resin; (C) a latent hardening agent having 0.1 to 2 μm average particle diameter and ≤4 μm cumulative particle diameter at 90 mass%; (D) a photoinitiator; and (E) an inorganic filler. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、紫外線(UV)硬化と加熱硬化の二段階硬化を行う液晶表示素子用シール剤組成物に関するものであり、特にUV硬化後の加熱硬化時の揮発成分によるボイド発生を抑えた液晶表示素子用シール剤組成物に関するものである。   The present invention relates to a sealing agent composition for a liquid crystal display element that performs two-stage curing of ultraviolet (UV) curing and heat curing, and in particular, a liquid crystal display that suppresses generation of voids due to volatile components during heat curing after UV curing. The present invention relates to an element sealing agent composition.

従来より、液晶表示素子の製造方法は、TFT側基板にシール剤をスクリーン印刷又はディスペンサー装置による塗布を行った後、ビーズ状のスペーサー剤を散布したカラーフィルター側基板を重ね合わせた状態で、加圧下、シール剤を加熱硬化させ、空パネルを製造している。更に、この空パネルをスクライブ装置で切断してから、液晶を減圧下、注入口より注入して液晶表示素子を製造しているため、液晶の注入に時間がかかる。また、基板サイズの大型化及び液晶の応答速度を短縮するためにパネルギャップの薄型化を行うことにより、液晶注入時間の占める割合が増加するという技術的問題があり、生産性の低下及び液晶表示装置の低コスト化が困難であった。   Conventionally, a manufacturing method of a liquid crystal display element has been applied in a state in which a sealant is applied to a TFT side substrate by screen printing or a dispenser device, and then a color filter side substrate sprayed with a bead-like spacer agent is overlaid. Under pressure, the sealing agent is heated and cured to produce an empty panel. Further, since this liquid crystal display element is manufactured by cutting the empty panel with a scribe device and then injecting liquid crystal through the injection port under reduced pressure, it takes time to inject liquid crystal. In addition, there is a technical problem that the proportion of the liquid crystal injection time increases by increasing the substrate size and reducing the panel gap in order to reduce the response speed of the liquid crystal, resulting in a decrease in productivity and liquid crystal display. It was difficult to reduce the cost of the apparatus.

しかし、近年大型パネルの低コスト化が強く求められるようになり、ODF(One Drop Fill)方式による液晶表示装置の製造方法が検討されるようになった。従来方法では、接触することがなかった液晶と未硬化シール剤組成物とが接触するようになったため、液晶に対するシール剤組成物の汚染性が重要な問題として浮上してきた。なお、ODF方式とは、TFT側基板にシール剤をスクリーン印刷又はディスペンサー装置による塗布を行った後、液晶をディスペンサー装置にて塗布し、ビーズ状のスペーサー剤を散布したカラーフィルター側基板あるいはホトスペーサーを形成したカラーフィルター側基板を一括で貼り合わせる方式である。   However, in recent years, there has been a strong demand for cost reduction of large panels, and a method for manufacturing a liquid crystal display device using an ODF (One Drop Fill) method has been studied. In the conventional method, since the liquid crystal that has not been brought into contact with the uncured sealant composition has come into contact, the contamination of the sealant composition with respect to the liquid crystal has emerged as an important problem. The ODF method is a color filter side substrate or photospacer in which a sealing agent is applied to the TFT side substrate by screen printing or a dispenser device, then liquid crystal is applied by the dispenser device, and a beaded spacer agent is dispersed. This is a method in which the color filter side substrates on which are formed are bonded together.

従来のODF方式のシール剤では、紫外線硬化成分として(メタ)アクリレート変性エポキシ樹脂、熱硬化成分として液状エポキシ樹脂、及び潜在性硬化剤としてアミン系化合物を使用している。しかし、ガラス基板サイズの大型化と共に、紫外線硬化後の強度(接着力)の要求が高まってきており、紫外線硬化比率が高くなっている。このため、光開始剤成分の増加による光分解成分の増加が起きている。また、基材に対する接着力を上げる目的でカップリング剤等の添加が通常行われており、それらの加水分解によりアルコール成分の発生がある。更に、シール剤に対するポットライフの向上の要求も強く、熱硬化成分である潜在性硬化剤の硬化性もあまり向上させることができない。以上のような理由から、熱硬化時の揮発成分によるボイドの発生という問題が起きている。
なお、本発明に関連する先行技術としては、下記のものが挙げられる。
A conventional ODF type sealant uses a (meth) acrylate-modified epoxy resin as an ultraviolet curing component, a liquid epoxy resin as a thermosetting component, and an amine compound as a latent curing agent. However, with an increase in the size of the glass substrate, there is an increasing demand for strength (adhesive force) after ultraviolet curing, and the ultraviolet curing ratio is high. For this reason, an increase in the photodecomposition component has occurred due to an increase in the photoinitiator component. In addition, a coupling agent or the like is usually added for the purpose of increasing the adhesive strength to the base material, and alcohol components are generated by hydrolysis thereof. Furthermore, there is a strong demand for improvement in pot life for the sealing agent, and the curability of the latent curing agent which is a thermosetting component cannot be improved so much. For the above reasons, there is a problem of generation of voids due to volatile components during thermosetting.
In addition, the following is mentioned as a prior art relevant to this invention.

特開平10−273644号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-273644 特開2000−347203号公報JP 2000-347203 A 特開2001−133794号公報JP 2001-133794 A

本発明は、以上のような事情を考慮してなされたものであり、従来の液晶表示素子用シール剤組成物に要求されていた液晶に対する汚染性が少なく、加熱硬化時の揮発成分によるボイドの発生のない液晶表示素子用シール剤組成物を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and has little contamination with liquid crystal, which is required for conventional sealing agent compositions for liquid crystal display elements, and voids due to volatile components during heat-curing. It aims at providing the sealing compound composition for liquid crystal display elements which does not generate | occur | produce.

本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、UV硬化後の熱硬化時に発生するボイドの原因として、潜在性硬化剤中の粒径の大きい成分が強く関係していることを見出し、この場合、好ましくは湿式ビーズミルにより潜在性硬化剤を微粉砕化することで、熱硬化時にボイドを発生しない液晶表示素子用シール剤組成物を得ることができることを見出し、本発明をなすに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a component having a large particle size in the latent curing agent is strongly related as a cause of voids generated at the time of thermal curing after UV curing. In this case, preferably, the latent curing agent is finely pulverized by a wet bead mill, whereby it is found that a sealing agent composition for a liquid crystal display element that does not generate voids at the time of thermal curing can be obtained. It came.

従って、本発明は、
(A)エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させることによって得られる、部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物を含む混合物、
(B)エポキシ樹脂、
(C)平均粒径が0.1〜2μm、かつ90質量%累積時の粒径が4μm以下の潜在性硬化剤、
(D)光重合開始剤、
(E)無機充填剤
を含む液晶表示素子用シール剤組成物を提供する。
Therefore, the present invention
(A) a mixture containing a partially (meth) acrylate-modified epoxy compound obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid,
(B) epoxy resin,
(C) a latent curing agent having an average particle size of 0.1 to 2 μm and a particle size of 90 μ% when accumulated to 4 μm or less,
(D) a photopolymerization initiator,
(E) A sealant composition for a liquid crystal display device comprising an inorganic filler is provided.

更に好ましい態様として、潜在性硬化剤の一部又は全部を下記一般式(1)
136SiR2 n(OR33-n (1)
(式中、R1はグリシドキシ基、アクリロキシ基又はメタクリロキシ基である。R2、R3はアルキル基、nは0,1又は2である。)
で示されるシランカップリング剤と混合し、この混合物を湿式ビーズミルで処理したことを特徴とする上記液晶表示素子用シール剤組成物
を提供する。
As a more preferred embodiment, part or all of the latent curing agent is represented by the following general formula (1).
R 1 C 3 H 6 SiR 2 n (OR 3 ) 3-n (1)
(In the formula, R 1 is a glycidoxy group, an acryloxy group or a methacryloxy group. R 2 and R 3 are alkyl groups, and n is 0, 1 or 2.)
The above-mentioned sealant composition for liquid crystal display elements is provided, which is mixed with a silane coupling agent represented by the formula (1) and treated with a wet bead mill.

なお、本発明において、(メタ)アクリル酸はアクリル酸又はメタクリル酸を、(メタ)アクリレートはアクリレート又はメタクリレートを、(メタ)アクリロイル基はアクリロイル基又はメタクリロイル基を、(メタ)アクリロキシ基はアクリロキシ基又はメタクリロキシ基を示す。
また、「グリシドキシ基」は

Figure 2005222037
を示し、「アクリロキシ基」はCH2=CHCOO−(アクリロイロキシ基)を、「メタクリロキシ基」はCH2=C(CH3)COO−(メタクリロイロキシ基)を示す。 In the present invention, (meth) acrylic acid is acrylic acid or methacrylic acid, (meth) acrylate is acrylate or methacrylate, (meth) acryloyl group is acryloyl group or methacryloyl group, and (meth) acryloxy group is acryloxy group. Or a methacryloxy group is shown.
In addition, “glycidoxy group”
Figure 2005222037
“Acryloxy group” represents CH 2 ═CHCOO— (acryloyloxy group), and “methacryloxy group” represents CH 2 ═C (CH 3 ) COO— (methacryloyloxy group).

本発明によれば、微粉化した潜在性硬化剤を使用することにより、UV硬化後の熱硬化時に局部的な硬化発熱によるボイド発生を抑えることができ、接着性、形状保持性に優れた液晶表示素子用シール剤組成物を提供することができる。   According to the present invention, by using a pulverized latent curing agent, generation of voids due to local curing heat generation at the time of thermal curing after UV curing can be suppressed, and liquid crystal having excellent adhesion and shape retention. A sealant composition for display elements can be provided.

本発明の液晶表示素子用シール剤組成物は、
(A)エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させることによって得られる、部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物を含む混合物、
(B)エポキシ樹脂、
(C)平均粒径が0.1〜2μm、かつ90質量%累積時の粒径が4μm以下の潜在性硬化剤、
(D)光重合開始剤、
(E)無機充填剤
を必須成分とするものである。
The sealant composition for liquid crystal display elements of the present invention is
(A) a mixture containing a partially (meth) acrylate-modified epoxy compound obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid,
(B) epoxy resin,
(C) a latent curing agent having an average particle size of 0.1 to 2 μm and a particle size of 90 μ% when accumulated to 4 μm or less,
(D) a photopolymerization initiator,
(E) An inorganic filler is an essential component.

[(A)部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物含有反応混合物]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物で使用する(A)成分は、エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させることによって得られる反応混合物で、これは一分子当たり2個以上のエポキシ基を持ったエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを当量比でエポキシ基/(メタ)アクリロイル基=9/1〜1/9で反応させればよく、更に好ましくはエポキシ基/(メタ)アクリロイル基=6/4〜3/7で反応させたものが好ましい。
[(A) Partial (meth) acrylate-modified epoxy compound-containing reaction mixture]
The component (A) used in the sealant composition for a liquid crystal display device of the present invention is a reaction mixture obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, and this comprises two or more epoxy groups per molecule. And (meth) acrylic acid with an equivalent ratio of epoxy group / (meth) acryloyl group = 9/1 to 1/9, more preferably epoxy group / (meth) acryloyl group = 6/4 to 3/7 are preferred.

本発明は、エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させることによって得られる反応生成物を使用する。このエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物は、一分子中に2個以上のエポキシ基を有する、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸との反応によって得られるもので、従来から公知のものを全て使用することができる。これらの中でもビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを反応させたものが好ましい。   The present invention uses a reaction product obtained by reacting (meth) acrylic acid with an epoxy resin. The reaction product of this epoxy resin and (meth) acrylic acid is a bisphenol type epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, phenol novolac type It can be obtained by the reaction of epoxy resin such as epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin and (meth) acrylic acid. it can. Among these, those obtained by reacting a bisphenol type epoxy resin and (meth) acrylic acid are preferable.

このようなエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応割合としては、(メタ)アクリル酸の(メタ)アクリロイル基とエポキシ樹脂のエポキシ基とのモル比([(メタ)アクリロイル基/エポキシ基]×100)=10〜100%の割合で反応させたものであることが好ましく、更に好ましくは30〜70%の割合で反応させたものを使用することが望ましい。(メタ)アクリル酸の割合が多すぎると反応後に過剰の(メタ)アクリル酸を除去するための水洗処理工程に時間が掛かり、精製処理が困難となる場合があり、また、少なすぎると反応生成物中の(メタ)アクリロイル基の含有率が少なくなり、光硬化時の接着力が弱くなり、仮留め効果も悪くなるので、ガラス基板が剥がれる場合がある。   As a reaction ratio of such an epoxy resin and (meth) acrylic acid, the molar ratio of (meth) acryloyl group of (meth) acrylic acid and epoxy group of epoxy resin ([(meth) acryloyl group / epoxy group] × 100) = 10 to 100% of the reaction is preferable, and more preferably 30 to 70% of the reaction is used. If the proportion of (meth) acrylic acid is too large, it may take time for the water washing process to remove excess (meth) acrylic acid after the reaction, which may make purification difficult. Since the content of (meth) acryloyl groups in the product is reduced, the adhesive force during photocuring is weakened, and the temporary fixing effect is also deteriorated, the glass substrate may be peeled off.

上記反応は、通常トルエン等の有機溶媒中で行うことが好ましい。また、トリフェニルフォスフィン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の付加反応触媒を用いることが好ましい。なお、これらの配合量は特に制限されるものではない。また、上記反応は常法に準じて行うことができるが、反応条件としては、80〜110℃で3〜24時間とすることが好ましい。   The above reaction is usually preferably carried out in an organic solvent such as toluene. Further, it is preferable to use an addition reaction catalyst such as triphenylphosphine, triethylamine, triethanolamine or the like. These blending amounts are not particularly limited. Moreover, although the said reaction can be performed according to a conventional method, as reaction conditions, it is preferable to set it as 3 to 24 hours at 80-110 degreeC.

上記反応により、上記エポキシ樹脂のエポキシ基の一部が下記一般式(1)で示される基に変性された部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物と、上記エポキシ樹脂のエポキシ基の全てが下記一般式(1)で示される基に変性された(メタ)アクリレート変性化合物が生成し、通常、これらは上記未反応のエポキシ樹脂と、上記部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物と、上記(メタ)アクリレート変性化合物との混合物として存在する。

Figure 2005222037
By the above reaction, a part (meth) acrylate-modified epoxy compound in which a part of the epoxy group of the epoxy resin is modified to a group represented by the following general formula (1), and all the epoxy groups of the epoxy resin are represented by the following general formula The (meth) acrylate modified compound modified to the group represented by (1) is produced, and these are usually the unreacted epoxy resin, the partial (meth) acrylate modified epoxy compound, and the (meth) acrylate modified. Present as a mixture with the compound.
Figure 2005222037

即ち、例えばエポキシ樹脂を

Figure 2005222037
と表した場合、これを(メタ)アクリル酸
CH2=CR−COOH(RはH又はCH3
と反応させると、未反応のエポキシ樹脂(i)と、
Figure 2005222037
で示されるエポキシ樹脂の一部のエポキシ基が開環した部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物(ii)と、
Figure 2005222037
で示されるエポキシ樹脂の全部のエポキシ基が開環した(メタ)アクリレート変性化合物(iii)が得られる。
従って、上記式(1)の基は、
Figure 2005222037
として存在する。 That is, for example, epoxy resin
Figure 2005222037
And (meth) acrylic acid CH 2 = CR-COOH (R is H or CH 3 )
When reacted with unreacted epoxy resin (i),
Figure 2005222037
A partial (meth) acrylate-modified epoxy compound (ii) in which a part of the epoxy group of the epoxy resin represented by
Figure 2005222037
A (meth) acrylate-modified compound (iii) in which all the epoxy groups of the epoxy resin represented by the above formula are opened is obtained.
Therefore, the group of the above formula (1) is
Figure 2005222037
Exists as.

上記反応混合物中に存在する未反応のエポキシ樹脂と、エポキシ樹脂のエポキシ基の一部が変性された部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物と、エポキシ樹脂のエポキシ基の全てが変性された(メタ)アクリレート変性化合物の混合割合としては、未反応のエポキシ樹脂が0〜80質量%、特に5〜45質量%、部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物が5〜60質量%、特に35〜55質量%、(メタ)アクリレート変性化合物が0〜90質量%、特に10〜55質量%で混合されていることが好ましい。   Unreacted epoxy resin present in the above reaction mixture, partially (meth) acrylate-modified epoxy compound in which a part of the epoxy group of the epoxy resin is modified, and all of the epoxy groups of the epoxy resin are modified (meth) As a mixing ratio of the acrylate-modified compound, the unreacted epoxy resin is 0 to 80% by mass, particularly 5 to 45% by mass, the partial (meth) acrylate-modified epoxy compound is 5 to 60% by mass, particularly 35 to 55% by mass, It is preferable that the (meth) acrylate-modified compound is mixed in an amount of 0 to 90% by mass, particularly 10 to 55% by mass.

また、本発明の(A)成分の部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物は、後述する(B)成分のエポキシ樹脂に対する相溶性及び希釈効果が大きいので、本発明の液晶表示素子用シール剤組成物の調整上の作業性については何ら問題とはならない。   Moreover, since the partial (meth) acrylate-modified epoxy compound of the component (A) of the present invention has a large compatibility and dilution effect with the epoxy resin of the component (B) described later, the sealing agent composition for liquid crystal display elements of the present invention. There is no problem with the adjustment workability.

[(B)エポキシ樹脂]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物で使用するエポキシ樹脂としては、一分子当たり2個以上のエポキシ基を持ったもので、従来から公知のものを全て使用することができる。その具体例としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリフェノールエタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。
[(B) Epoxy resin]
As an epoxy resin used with the sealing compound composition for liquid crystal display elements of this invention, what has two or more epoxy groups per molecule and can use all conventionally well-known things. Specific examples thereof include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, glycidylamine. Type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, triphenolethane type epoxy resin and the like. These can be used singly or in combination of two or more.

これらの中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂といったものが比較的低粘度であり、耐熱性や耐湿性に優れていることから好ましい。   Among these, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin have relatively low viscosity and are heat resistant. It is preferable because of its excellent moisture resistance.

エポキシ樹脂には、その合成過程でエピクロルヒドリンを使用することから、このエピクロルヒドリン由来の塩素が少量含まれるが、この全塩素含有量は1,500ppm以下、望ましくは1,000ppm以下とすることが好ましい。また、エポキシ樹脂に10倍質量のイオン交換水を加えて、100℃×20時間の条件で抽出処理を行った後の水中塩素濃度が10ppm以下であることが好ましい。   The epoxy resin contains epichlorohydrin in the synthesis process, and therefore contains a small amount of chlorine derived from this epichlorohydrin. The total chlorine content is preferably 1,500 ppm or less, more preferably 1,000 ppm or less. Moreover, it is preferable that the chlorine concentration in water after adding 10 times mass ion-exchange water to an epoxy resin and performing an extraction process on the conditions of 100 degreeC x 20 hours is 10 ppm or less.

このエポキシ樹脂の配合量は、(A)成分中の未反応エポキシ樹脂と(B)成分のエポキシ樹脂を足したものになり、(メタ)アクリル当量に対して、合計エポキシ基が、通常、当量比(エポキシ基/(メタ)アクリロイル基,モル比)で0.7〜1.2、好ましくは0.8〜1.1の範囲とするのがよい。エポキシ樹脂の配合量が多すぎると紫外線照射による硬化を行っても、シール剤組成物中の硬化が不十分となり、ガラス基材に対する接着力が不十分になる場合があり、一方、逆に少なすぎると紫外線照射による硬化性は良好となるが、最終的な熱硬化を行った後での硬化物特性が低下してしまう場合がある。   The amount of this epoxy resin is the sum of the unreacted epoxy resin in component (A) and the epoxy resin in component (B), and the total epoxy groups are usually equivalent to (meth) acrylic equivalents. The ratio (epoxy group / (meth) acryloyl group, molar ratio) is 0.7 to 1.2, preferably 0.8 to 1.1. If the amount of the epoxy resin is too large, the curing in the sealant composition may be insufficient even when curing by ultraviolet irradiation, and the adhesive strength to the glass substrate may be insufficient. If it is too high, the curability by ultraviolet irradiation will be good, but the properties of the cured product after the final heat curing may be deteriorated.

この場合、通常は、(A)成分100質量部に対し、(B)成分5〜30質量部、特に10〜15質量部の割合で(B)成分を配合することが好ましい。   In this case, it is usually preferable to blend the component (B) at a ratio of 5 to 30 parts by weight, particularly 10 to 15 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the component (A).

[(C)潜在性硬化剤]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物で使用する潜在性硬化剤は、常温では固体であり、加熱硬化時に液化して上記エポキシ樹脂の硬化剤として作用するものである。
この成分としては、例えば、ジシアンジアミド、アミキュアPN−23、アミキュアPN−H、アミキュアPN−31、アミキュアPN−D、アミキュアMY−24、アミキュアMY−H、アミキュアMY−D(商品名:アミキュア、味の素(株)製)等のアミンアダクト系化合物;カルボヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スベリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカンジオヒドラジド、ヘキサデカンジヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド、フマル酸ジヒドラジド、ジグリコール酸ジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、2,6−ナフトエ酸ジヒドラジド、4,4’−ビスベンゼンジヒドラジド、1,4−ナフトエ酸ジヒドラジド、アミキュアVDH、アミキュアUDH(商品名:アミキュア、味の素(株)製)、クエン酸トリヒドラジド等の有機酸ヒドラジド等が挙げられる。これらは1種単独あるいは2種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でも、下記式で示されるアミキュアVDH、アミキュアUDHが比較的低融点であり、硬化性のバランスに優れているという点から好ましく用いることができる。
[(C) Latent curing agent]
The latent curing agent used in the sealant composition for liquid crystal display elements of the present invention is solid at room temperature, and liquefies during heat curing to act as a curing agent for the epoxy resin.
Examples of this component include dicyandiamide, Amicure PN-23, Amicure PN-H, Amicure PN-31, Amicure PN-D, Amicure MY-24, Amicure MY-H, Amicure MY-D (trade names: Amicure, Ajinomoto) Amine adduct compounds such as carbohydrazide, oxalic acid dihydrazide, malonic acid dihydrazide, succinic acid dihydrazide, iminodiacetic acid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, pimelic acid dihydrazide, suberic acid dihydrazide, azelaic acid dihydrazide , Dodecanediohydrazide, hexadecanedihydrazide, maleic acid dihydrazide, fumaric acid dihydrazide, diglycolic acid dihydrazide, tartaric acid dihydrazide, malic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrate Dorazide, terephthalic acid dihydrazide, 2,6-naphthoic acid dihydrazide, 4,4'-bisbenzenedihydrazide, 1,4-naphthoic acid dihydrazide, Amicure VDH, Amicure UDH (trade name: Amicure, Ajinomoto Co., Ltd.), Quen And organic acid hydrazides such as acid trihydrazide. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, Amicure VDH and Amicure UDH represented by the following formula can be preferably used because they have a relatively low melting point and an excellent balance of curability.

アミキュアVDH
(1,3−ビス(ヒドラジノカルボノエチル)−5−イソプロピルヒダントイン)

Figure 2005222037
Amicure VDH
(1,3-bis (hydrazinocarbonoethyl) -5-isopropylhydantoin)
Figure 2005222037

アミキュアUDH
(7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボヒドラジド)

Figure 2005222037
Amicure UDH
(7,11-octadecadien-1,18-dicarbohydrazide)
Figure 2005222037

上記潜在性硬化剤は、平均粒径が0.1〜2μm、好ましくは0.5〜1.5μmであり、かつ90質量%累積時の粒径が4μm以下、特に3.5μm以下であるものを使用する。なお、ここでの平均粒径とは、レーザー回折散乱法を原理とした粒度分布測定装置(マイクロトラックMT3000:日機装(株)製)により測定した累積重量平均値D50(又はメジアン径)である。また、90質量%累積時の粒径も、レーザー回折法による粒度分布測定装置による測定値である。 The latent curing agent has an average particle size of 0.1 to 2 [mu] m, preferably 0.5 to 1.5 [mu] m, and a particle size of 90 [mu]% accumulated is 4 [mu] m or less, particularly 3.5 [mu] m or less. Is used. Here, the average particle diameter is a cumulative weight average value D 50 (or median diameter) measured by a particle size distribution measuring device (Microtrac MT3000: manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) based on the laser diffraction scattering method. . Moreover, the particle size at the time of 90 mass% accumulation is also a measured value by the particle size distribution measuring apparatus by a laser diffraction method.

ここで、上記潜在性硬化剤は、室温で固形のものであるから、その使用に際しては、前処理としてビーズミル、アトライタ、ボールミル等の装置で湿式粉砕及び分級したものを使用し、更には三本ロール等で分散混練して、上記平均粒径90質量%累積時の粒径となるようにすること、更に好ましくは最大粒径が3μm以上のものがないようにするのがよい。   Here, since the latent curing agent is a solid at room temperature, in the use thereof, a wet pulverized and classified by a device such as a bead mill, an attritor or a ball mill is used as a pretreatment, and further three It is preferable to disperse and knead with a roll or the like so that the average particle size becomes 90% by mass when accumulated, and more preferably no maximum particle size is 3 μm or more.

この場合、上記潜在性硬化剤の一部又は全部を下記一般式(1)で示されるシランカップリング剤と混合し、この混合物を湿式ビーズミルで処理したものを使用することが好ましい。
136SiR2 n(OR33-n (1)
(式中、R1はグリシドキシ基、アクリロキシ基又はメタクリロキシ基である。R2、R3はアルキル基、nは0,1又は2である。)
In this case, it is preferable to use a product obtained by mixing a part or all of the latent curing agent with a silane coupling agent represented by the following general formula (1) and treating the mixture with a wet bead mill.
R 1 C 3 H 6 SiR 2 n (OR 3 ) 3-n (1)
(In the formula, R 1 is a glycidoxy group, an acryloxy group or a methacryloxy group. R 2 and R 3 are alkyl groups, and n is 0, 1 or 2.)

ここで、R2のアルキル基としては炭素数1又は2のものが好ましく、R3のアルキル基としては炭素数1又は2のものが好ましい。 Here, the alkyl group of R 2 preferably has 1 or 2 carbon atoms, and the alkyl group of R 3 preferably has 1 or 2 carbon atoms.

潜在性硬化剤を表面処理するために用いられるシランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でも、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が潜在性を更に向上させる点から好適に使用することができる。   Examples of the silane coupling agent used for surface treatment of the latent curing agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltriethoxy. Silane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- Examples include acryloxypropyltriethoxysilane. These can be used singly or in combination of two or more. Among these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and the like can be preferably used from the viewpoint of further improving the potential.

上記シランカップリング剤を用いる場合、その使用量は、潜在性硬化剤100質量部に対して、通常、0.1〜10質量部程度であり、特に1〜5質量部の範囲で添加することが好ましい。添加量が少なすぎると十分に表面処理されずポットライフが悪くなる場合があり、逆に多すぎると液晶を汚染する場合がある。   When using the said silane coupling agent, the usage-amount is about 0.1-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of latent hardening | curing agents, and should be added especially in the range of 1-5 mass parts. Is preferred. If the amount added is too small, the surface treatment may not be sufficiently performed and the pot life may be deteriorated. On the other hand, if the amount is too large, the liquid crystal may be contaminated.

なお、潜在性硬化剤をシランカップリング剤で表面処理する際に用いられる装置については特に限定されないが、ヘンシェルミキサー、ボールミル、ビーズミルなどが挙げられ、乾式又は湿式のいずれの方法で処理してもよい。   In addition, although it does not specifically limit about the apparatus used when surface-treating a latent hardening | curing agent with a silane coupling agent, A Henschel mixer, a ball mill, a bead mill etc. are mentioned, Even if it processes by any method of dry or wet Good.

また、上記湿式ビーズミルは、硬化剤を含有したスラリー溶液を処理する容器の中に剪断場を作り出す回転子、剪断場中で動くビーズを有していれば特に限定しないが、処理容器やそれに付属する配管部等に加熱又は冷却機構を備え、硬化剤を含有したスラリーを繰り返し処理することができるポンプ機構、及び樹脂を排出する際に一緒にビーズが流出することを防ぐセパレータ機構を具備した連続方式のものが好適である。このようなビーズミルとしては、三井鉱山(株)製のSC−MILL(SC100)等を用いることができる。使用するビーズも限定しないが、硬化剤の材質や分率に応じて、直径が0.25〜1.5mmであるジルコニア、アルミナ、ガラス、スチール製のものが使用可能であり、処理室の有効容積の60〜90体積%、更に好ましくは80〜85体積%充填させることが好ましい。また、セパレータ機構を具備した連続方式の湿式ビーズミルの場合、繰り返し処理を円滑に行うため、処理温度、硬化剤の配合量、処理流量を加減することによって、硬化剤を含有したスラリーの回転粘度計により測定した粘度(25℃)を50Pa・s以下にすることが必要である。
なお、これら潜在性硬化剤は保存安定性をよくするために、シランカップリング剤等で表面処理等を行うのがよい。
The wet bead mill is not particularly limited as long as it has a rotor for creating a shearing field in a container for treating a slurry solution containing a curing agent and beads moving in the shearing field. Continuously equipped with a pump mechanism capable of repeatedly processing a slurry containing a curing agent, and a separator mechanism that prevents beads from flowing out when the resin is discharged. A system type is preferable. As such a bead mill, SC-MILL (SC100) manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd. can be used. The beads to be used are not limited, but those made of zirconia, alumina, glass, steel with a diameter of 0.25 to 1.5 mm can be used according to the material and fraction of the curing agent, and the processing chamber is effective. It is preferable to fill 60 to 90% by volume of the volume, more preferably 80 to 85% by volume. In the case of a continuous wet bead mill equipped with a separator mechanism, a rotational viscometer of a slurry containing a curing agent is adjusted by adjusting the processing temperature, the blending amount of the curing agent, and the processing flow rate in order to perform repeated processing smoothly. It is necessary to make the viscosity (25 ° C.) measured by the method below 50 Pa · s or less.
These latent curing agents are preferably subjected to a surface treatment with a silane coupling agent or the like in order to improve storage stability.

この潜在性硬化剤の配合量は、(A),(B)成分の合計量100質量部に対して、通常、18〜26質量部、好ましくは20〜24質量部の範囲で配合するのが好ましい。前記配合量が多すぎると未反応の硬化剤が残り、耐湿性に影響を与える場合がある。また、逆に少なすぎると未反応・未硬化のエポキシ樹脂が残り、硬化物特性の低下を引き起こす場合がある。   The blending amount of the latent curing agent is usually 18 to 26 parts by mass, preferably 20 to 24 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B). preferable. If the amount is too large, unreacted curing agent remains, which may affect moisture resistance. On the other hand, if the amount is too small, unreacted / uncured epoxy resin remains, which may cause deterioration of cured product characteristics.

[(D)光重合開始剤]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物で使用する光重合開始剤としては、(メタ)アクリロイル基の光重合用に用いられている、従来から公知のものを全て用いることができる。
[(D) Photopolymerization initiator]
As the photopolymerization initiator used in the sealant composition for a liquid crystal display element of the present invention, all conventionally known photopolymerization initiators used for photopolymerization of (meth) acryloyl groups can be used.

該光重合開始剤成分の具体例としては、例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、1−{4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル}−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン(ESACURE KIP−150 LAMBERTI S.p.A社製)等のフェニルケトン類、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)(2,4,4−トリメチルペンチル)フォスフィンオキサイド、(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルフォスフィンオキサイド等のベンゾイルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。これらは1種単独でも2種類以上組み合わせても使用することができる。
上記例示の中でも、特に、液晶表示素子用としては、光硬化時にVOC(揮発性有機化合物)が少ない点から、ESACURE KIP−150(同上)等が好適である。
Specific examples of the photopolymerization initiator component include, for example, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, and 1-phenyl-2-hydroxy-2. -Methylpropan-1-one, benzophenone, 1- {4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl} -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- {4- (Methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1) Phenyl ketones such as-(4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone (manufactured by ESACURE KIP-150 LAMBERTI SpA), (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) (2,4,4-trimethylpentyl) phosphine oxide, (2,4,6-trimethylbenzoyl) diphenyl Examples thereof include benzoylphosphine oxides such as phosphine oxide, etc. These can be used alone or in combination of two or more.
Among the above examples, ESACURE KIP-150 (same as above) and the like are preferable particularly for liquid crystal display elements from the viewpoint of low VOC (volatile organic compound) during photocuring.

本光重合開始剤成分の配合量は、上記(A)成分100質量部当たり1〜6質量部、特に2〜4質量部の範囲で添加することが好ましい。添加量が少なすぎると光重合性・硬化性が低下する場合があり、逆に多すぎるとシール剤組成物の保存性が低下する傾向となる場合がある。更に、光開始剤の分解成分によるボイド等の問題が発生しやすくなる。   The photopolymerization initiator component is preferably added in an amount of 1 to 6 parts by mass, particularly 2 to 4 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (A). If the addition amount is too small, the photopolymerizability / curability may be lowered, and conversely if it is too much, the preservability of the sealing agent composition tends to be lowered. Furthermore, problems such as voids due to decomposition components of the photoinitiator are likely to occur.

[(E)無機充填剤]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物には、膨張係数を小さくするために、従来より公知の各種無機充填剤を添加することができる。
[(E) Inorganic filler]
In order to reduce the expansion coefficient, various conventionally known inorganic fillers can be added to the sealing agent composition for liquid crystal display elements of the present invention.

この無機充填剤としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、酸化チタン、シリカチタニア、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、マグネシア、マグネシウムシリケート、タルク、マイカ等が挙げられ、これらは1種単独でも2種類以上組み合わせても使用することができる。また、これらの中でもシリカ、アルミナ及びタルクを単独又は2種類以上併用して用いることが好ましい。   Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, titanium oxide, silica titania, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, magnesia, magnesium silicate, talc, mica, and the like. However, two or more types can be used in combination. Of these, silica, alumina and talc are preferably used alone or in combination of two or more.

用いられる無機充填剤は、粒径3μm以上の含有率が1質量%以下、かつ平均粒径が0.5〜2μmのものがよい。ここで、粒径が3μmを超えたものが1質量%を超えると、ガラス基板のギャップ出し精度が悪くなり、貼り合わせが困難になる場合がある。また、平均粒径が0.5μm未満であると、粘度が高くなり、ニードルからの塗布量が低下し、塗布スピードが遅くなり、生産性が悪くなる場合がある。なお、平均粒径は、レーザー回折散乱法を原理とした粒度分布測定装置による測定値である。   The inorganic filler used preferably has a particle size of 3 μm or more and a content of 1% by mass or less and an average particle size of 0.5 to 2 μm. Here, when the particle size exceeding 3 μm exceeds 1% by mass, the gap-out accuracy of the glass substrate is deteriorated, and the bonding may be difficult. On the other hand, when the average particle size is less than 0.5 μm, the viscosity increases, the coating amount from the needle decreases, the coating speed decreases, and the productivity may deteriorate. The average particle diameter is a value measured by a particle size distribution measuring apparatus based on the laser diffraction scattering method.

本発明の液晶表示素子用シール剤組成物中に占める無機充填剤の含有率は、10〜30質量%、好ましくは、15〜25質量%の範囲とするのがよい。前記含有率が10質量%未満では、膨張係数が大きいため、硬化後に歪みを生じさせる傾向がある。30質量%を超えると組成物の粘度が高くなるため、使用時に後添加するスペーサー剤の分散性及びガラス基板のギャップ出し精度が悪くなる場合がある。   The content of the inorganic filler in the sealant composition for a liquid crystal display element of the present invention is 10 to 30% by mass, preferably 15 to 25% by mass. When the content is less than 10% by mass, since the expansion coefficient is large, there is a tendency to cause distortion after curing. When it exceeds 30% by mass, the viscosity of the composition becomes high, so that the dispersibility of the spacer agent to be added after use and the gap-out accuracy of the glass substrate may be deteriorated.

上記無機充填剤は、予めシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤等のカップリング剤で表面処理したものを使用することが好ましい。より好ましくは、使用するエポキシ樹脂とカップリング剤で表面処理した充填剤とを予め減圧・混練処理を行うことである。これにより、充填剤表面とエポキシ樹脂の界面がよく濡れた状態とすることができ、耐湿信頼性が格段に向上する。   It is preferable to use the inorganic filler that has been surface-treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent in advance. More preferably, the epoxy resin to be used and the filler surface-treated with a coupling agent are preliminarily decompressed and kneaded. Thereby, the interface between the filler surface and the epoxy resin can be well wetted, and the moisture resistance reliability is remarkably improved.

上記シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシプロピル)テトラスルフィド、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でも、シラン系カップリング剤を使用することが好ましく、耐湿信頼性に優れ、吸湿劣化後の接着強度の低下が少ない液晶表示素子用シール剤組成物を得ることができる。
上記カップリング剤を用いる場合、その使用量は、上記無機充填剤100質量部に対して0.5〜2.0質量部程度である。
Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, γ- Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) ) Γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-amino Propyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis (triethoxypropyl) tetrasulfide, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, etc. Silane coupling agents, titanium coupling agents, aluminum coupling agents, and the like. These can be used singly or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use a silane coupling agent, and it is possible to obtain a sealant composition for a liquid crystal display element that is excellent in moisture resistance reliability and has a small decrease in adhesive strength after moisture absorption deterioration.
When using the said coupling agent, the usage-amount is about 0.5-2.0 mass parts with respect to 100 mass parts of said inorganic fillers.

[その他の成分]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物には、応力を低下させる目的でシリコーンパウダー、シリコーンゴム、シリコーンオイルや液状のポリブタジエンゴム、アクリルコアシェル樹脂などの熱可塑性樹脂を配合してもよい。
更に必要に応じ、シランカップリング剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、イオントラップ剤、その他の添加剤を配合することができる。
[Other ingredients]
The liquid crystal display element sealant composition of the present invention may be blended with a thermoplastic resin such as silicone powder, silicone rubber, silicone oil, liquid polybutadiene rubber, or acrylic core shell resin for the purpose of reducing stress.
Furthermore, a silane coupling agent, a polymerization inhibitor, an antifoaming agent, a leveling agent, an ion trap agent, and other additives can be blended as necessary.

〈シランカップリング剤〉
本発明のシール剤組成物には、組成物のなじみを良くするために、従来より公知の各種シランカップリング剤を添加することができる。
<Silane coupling agent>
Various known silane coupling agents can be added to the sealing agent composition of the present invention in order to improve the familiarity of the composition.

上記シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシプロピル)テトラスルフィド、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でもγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを使用することが好ましく、耐湿信頼性に優れ、吸湿劣化後の接着強度の低下が少ない液晶表示素子用シール剤組成物を得ることができる。   Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, γ- Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) ) Γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-amino Propyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis (triethoxypropyl) tetrasulfide, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, etc. Is mentioned. These can be used singly or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and it is possible to obtain a sealant composition for a liquid crystal display element which has excellent moisture resistance reliability and little decrease in adhesive strength after moisture absorption deterioration.

上記カップリング剤を用いる場合、その使用量は、上記(A)〜(E)成分100質量部に対して、通常0.1〜5.0質量部であり、好ましくは0.3〜3.0質量部である。   When using the said coupling agent, the usage-amount is 0.1-5.0 mass parts normally with respect to 100 mass parts of said (A)-(E) component, Preferably 0.3-3. 0 parts by mass.

[液晶表示素子用シール剤組成物の調製]
本発明の液晶表示素子用シール剤組成物は、上記各成分を同時に又は別々に必要により加熱処理を加えながら撹拌、混合及び分散させることにより得ることができる。これらの混合物の撹拌、混合及び分散等に用いられる装置については、特に限定されないが、撹拌及び加熱装置を備えたライカイ機、三本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。これら装置を適宜組み合わせてもよい。
[Preparation of sealant composition for liquid crystal display element]
The sealant composition for a liquid crystal display element of the present invention can be obtained by stirring, mixing and dispersing the above components simultaneously or separately while applying heat treatment as necessary. The apparatus used for stirring, mixing, and dispersing these mixtures is not particularly limited, and a raikai machine, a three roll, a ball mill, a planetary mixer, and the like equipped with a stirring and heating device can be used. You may combine these apparatuses suitably.

[液晶表示素子用シール剤組成物の適用]
本発明のシール剤組成物を液晶表示素子のシール剤として使用する場合、その適用方法は特に限定されないが、例えば、下記方法により液晶パネルの作製に適用することができる。本発明の液晶表示素子用シール剤組成物に、スペーサーとしてシリカファイバー(直径5μmの短繊維)が1質量%になるように配合し、真空撹拌脱泡装置で分散、脱泡を行い、シリンジに分取する。次に、ディスペンサー装置を使い、ガラス基板上に線幅が0.2mm、高さが0.05mmのパターンを描画した後、液晶(MLC−6628、メルク社製)をディスペンサー装置にて所定量、点塗布する。次に、このガラス基板を減圧下に置き(13.3Pa)、ガラス基板を重ね合わせる。その後、荷重が0.1kgf/cm2になるように設定し、UV照射して(照度100mW/cm2、光量2.5J/cm2)仮止め(仮硬化)を行った後、ガラス基板を大気圧に戻す。次いで、ホットプレスにて120℃×1時間の条件でシール剤の加熱硬化及び液晶の再配向を行うことで、液晶パネルが作製される。
得られた液晶パネルについて、偏光フィルム及びバックライトを取り付け、点燈表示し、シール剤周辺の配向ムラの有無の確認、信頼性評価を行って、問題がないか確認することができる。
[Application of sealant composition for liquid crystal display element]
When the sealing agent composition of the present invention is used as a sealing agent for a liquid crystal display element, its application method is not particularly limited. For example, it can be applied to the production of a liquid crystal panel by the following method. Into the liquid crystal display element sealant composition of the present invention, 1% by mass of silica fiber (short fiber having a diameter of 5 μm) is blended as a spacer, and dispersed and defoamed with a vacuum stirring defoaming device. Sort. Next, using a dispenser device, after drawing a pattern with a line width of 0.2 mm and a height of 0.05 mm on a glass substrate, a predetermined amount of liquid crystal (MLC-6628, manufactured by Merck) Apply spot. Next, this glass substrate is placed under reduced pressure (13.3 Pa), and the glass substrates are overlaid. Thereafter, the load is set to 0.1 kgf / cm 2 , UV irradiation is performed (illuminance 100 mW / cm 2 , light amount 2.5 J / cm 2 ) and temporary fixing (temporary curing) is performed, and then the glass substrate is mounted. Return to atmospheric pressure. Next, a liquid crystal panel is manufactured by performing heat curing of the sealant and reorientation of the liquid crystal under conditions of 120 ° C. × 1 hour in a hot press.
The obtained liquid crystal panel can be attached with a polarizing film and a backlight, displayed in a flashing manner, checked for the presence or absence of alignment unevenness around the sealant, and evaluated for reliability, thereby confirming that there is no problem.

以下、合成例、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、以下の例において部、%はそれぞれ質量部、質量%を意味する。また、表2及び表3中の数は質量部を意味する。実施例1〜6及び比較例1〜4に使用した硬化剤の処理は以下の方法で行った。   EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following Example. In the following examples, parts and% mean mass parts and mass%, respectively. Moreover, the number in Table 2 and Table 3 means a mass part. The treatment of the curing agent used in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was performed by the following method.

[調製例1]
潜在性硬化剤として、表1に硬化剤Dとして示すヒドラジド化合物:アミキュアVDH(商品名、味の素(株)製)を使用し、VDHが溶解し難いトルエンに分散させ、濃度10質量%のスラリー溶液を調製した。湿式ビーズミルで混練し、微粉砕化されたスラリー溶液を得た。湿式ビーズミルは、直径0.3mmのジルコニアビーズを処理室(容積600cm3)に80体積%充填した湿式ビーズミル(ロータ回転数3,200rpm、温度25℃、流量500cm3/分、セパレータ間隔0.1mm、三井鉱山(株)製、SC100)で10分間を1ステップとし、5回又は10回繰り返し処理して行った。処理したスラリー溶液の一部はサンプリングし、粒度分布(MT3000、日機装(株)製:マイクロトラック)を測定し、残りはスプレイドライあるいはエバポレーターによるストリップを行った後、60℃に設定した減圧乾燥機にて、2mmHgで24時間脱気、溶剤を除去し、表1に示す硬化剤A(5回処理品),B(10回処理品)を得た。
[Preparation Example 1]
As a latent curing agent, a hydrazide compound shown in Table 1 as a curing agent D: Amicure VDH (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) is used, dispersed in toluene in which VDH is difficult to dissolve, and a slurry solution having a concentration of 10% by mass. Was prepared. The mixture was kneaded with a wet bead mill to obtain a finely pulverized slurry solution. The wet bead mill is a wet bead mill (rotor rotation speed 3,200 rpm, temperature 25 ° C., flow rate 500 cm 3 / min, separator spacing 0.1 mm, filled with zirconia beads having a diameter of 0.3 mm in a processing chamber (volume 600 cm 3 ). , Mitsui Mining Co., Ltd., SC100), 10 minutes as one step, repeated 5 or 10 times. A portion of the treated slurry solution was sampled, the particle size distribution (MT3000, manufactured by Nikkiso Co., Ltd .: Microtrac) was measured, and the rest was stripped by spray drying or an evaporator, and then a vacuum dryer set at 60 ° C. Then, deaeration was performed at 2 mmHg for 24 hours, and the solvent was removed to obtain curing agents A (5 times treated product) and B (10 times treated product) shown in Table 1.

[調製例2]
潜在性硬化剤であるアミキュアVDH(商品名、味の素(株)製)100質量部に対し、シランカップリング剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを2質量部、トルエンに溶解、分散させ、濃度10質量%のスラリー溶液を調製した。それ以降は、調製例1のA条件と同様の処理を行い、シランカップリング剤で処理、微粉砕化したVDH(硬化剤C、D)を得た。
[Preparation Example 2]
For 100 parts by mass of Amicure VDH (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), which is a latent curing agent, 2 parts by mass of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent is dissolved and dispersed in toluene. A 10% by weight slurry solution was prepared. Thereafter, the same treatment as in Condition A of Preparation Example 1 was performed to obtain VDH (curing agents C and D) treated with a silane coupling agent and pulverized.

[調製例3]
潜在性硬化剤であるアミキュアVDH(商品名、味の素(株)製)を、未処理の状態で使用したものを硬化剤Eとした。
[Preparation Example 3]
Curing agent E was obtained by using Amicure VDH (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), which is a latent curing agent, in an untreated state.

[調製例4]
潜在性硬化剤であるアミキュアVDH(商品名、味の素(株)製)をジェットミル粉砕装置で微粉砕化したVDH−J(商品名、味の素(株)製)を硬化剤Fとした。
[Preparation Example 4]
Curing agent F was VDH-J (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) obtained by pulverizing Amicure VDH (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), which is a latent curing agent, with a jet mill pulverizer.

[調製例5]
潜在性硬化剤として、アミキュアVDH(商品名、味の素(株)製)を使用し、VDHが溶解し難いトルエンに分散させ、濃度30質量%のスラリー溶液を調製した。湿式バッチアトライタで混練し、微粉砕化されたスラリー溶液を得た。湿式バッチアトライタは、直径5mmのジルコニアビーズをタンク(容積5リットル)に50体積%充填した湿式アトライタ(ロータ回転数100rpm、温度25℃)で6時間処理してスラリー溶液を調製した。それ以降は、調製例1と同様の処理を行い、微粉砕化したVDH(硬化剤G)を得た。
以上の硬化剤A〜Gの粒度分布の結果を表1に示す。
[Preparation Example 5]
As a latent curing agent, Amicure VDH (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) was used and dispersed in toluene in which VDH is difficult to dissolve to prepare a slurry solution having a concentration of 30% by mass. A finely pulverized slurry solution was obtained by kneading with a wet batch attritor. The wet batch attritor was treated for 6 hours with a wet attritor (rotor rotation speed 100 rpm, temperature 25 ° C.) filled with 50% by volume of zirconia beads having a diameter of 5 mm in a tank (volume 5 liters) to prepare a slurry solution. Thereafter, the same treatment as in Preparation Example 1 was performed to obtain finely pulverized VDH (curing agent G).
The results of the particle size distribution of the above curing agents A to G are shown in Table 1.

Figure 2005222037
Figure 2005222037

[合成例1]
エポキシ樹脂とメタクリル酸の反応生成物(a)の合成
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた1L丸底フラスコに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:RE−310S、日本化薬(株)製)184g、メタクリル酸43.1g、トリフェニルフォスフィン1g、BHT(ジブチルヒドロキシトルエン)0.13g、トルエン100gを仕込み、撹拌しながら原料を溶解させた後、100℃の温度で6時間反応させた。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で未反応のメタクリル酸を中和、除去した後、イオン交換水で洗浄を行い、精製を行った。洗浄後の水溶液のイオン伝導度を電気伝導率計(CM−30V、東亜ディーケーケー(株)製)で測定し、0.25mS/mであることを確認した。精製後の反応溶液を空気バブリングしながら、共沸脱水、及び減圧下、70℃で濃縮して、トルエンを完全除去精製することでエポキシ樹脂とメタクリル酸の反応生成物(a)を得た。
[Synthesis Example 1]
Synthesis of reaction product (a) of epoxy resin and methacrylic acid (1) A 1 L round bottom flask equipped with a stirrer, a cooling tube and a thermometer was added to a bisphenol A type epoxy resin (trade name: RE-310S, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 184 g, 43.1 g of methacrylic acid, 1 g of triphenylphosphine, 0.13 g of BHT (dibutylhydroxytoluene), and 100 g of toluene were dissolved and the raw materials were dissolved while stirring, and then reacted at a temperature of 100 ° C. for 6 hours. It was. After completion of the reaction, the unreacted methacrylic acid was neutralized and removed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then washed with ion-exchanged water for purification. The ionic conductivity of the aqueous solution after washing was measured with an electric conductivity meter (CM-30V, manufactured by Toa DKK Corporation) and confirmed to be 0.25 mS / m. The reaction solution after purification was azeotropically dehydrated while bubbling air and concentrated at 70 ° C. under reduced pressure to completely remove and purify toluene to obtain a reaction product (a) of an epoxy resin and methacrylic acid.

ここで得られた反応生成物のGPC、IRを測定した。結果を図1,2に示す。GPC(図1)から、13質量%が未反応の下記式で示されるビスフェノールA型エポキシ樹脂、45質量%が下記式で示されるメタクリル化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(部分メタクリレート変性エポキシ化合物)、42質量%が下記式で示される完全にメタクリル化したビスフェノールA型樹脂(メタクリレート変性化合物)の混合物であった。IR(NEAT)(図2)は、α,β−不飽和エステル酸由来のピーク、1725cm-1(C=O),1195cm-1(C−O)及びエポキシ環の開環により生成した二級水酸基由来のピーク、3500cm-1(O−H)を示した。 GPC and IR of the reaction product obtained here were measured. The results are shown in FIGS. From GPC (FIG. 1), 13% by mass of unreacted bisphenol A type epoxy resin represented by the following formula, 45% by mass of methacrylated bisphenol A type epoxy resin (partial methacrylate modified epoxy compound) represented by the following formula, 42 It was a mixture of completely methacrylated bisphenol A resin (methacrylate-modified compound) whose mass% was represented by the following formula. IR (NEAT) (FIG. 2) is the secondary produced by the opening of the α, β-unsaturated ester acid-derived peak, 1725 cm −1 (C═O), 1195 cm −1 (C—O) and the epoxy ring. A peak derived from a hydroxyl group, 3500 cm −1 (OH) was shown.

Figure 2005222037
Figure 2005222037

[実施例1〜6]
(A)成分として、上記合成例1で得られた反応混合物を用い、(B)成分として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂:RE−310S(商品名、日本化薬(株)製)、(C)成分の潜在性硬化剤として、ヒドラジド化合物:アミキュアVDH(商品名、味の素(株)製)をビーズミル粉砕したものを用い(表1記載)、(D)成分の光重合開始剤としてESACURE KIP−150(商品名、LAMBERTI S.p.A社製)を用い、(E)成分の無機充填剤として溶融球状シリカ、シランカップリング剤:KBM−403(商品名、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製)を用いて、表2,3に示した組成及び量(質量部)で配合し、プラネタリーミキサーで均一に混練し、次に三本ロールで固形原料が3μm以下になるまで十分混合分散し、得られた混合物を真空脱泡処理することにより、実施例1〜6の本発明の液晶表示素子用シール剤組成物を得た。
[Examples 1 to 6]
As the component (A), the reaction mixture obtained in Synthesis Example 1 was used. As the component (B), bisphenol A type epoxy resin: RE-310S (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), (C) As the latent curing agent of the component, a hydrazide compound: Amicure VDH (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) was used for bead mill pulverization (described in Table 1), and ESACURE KIP-150 was used as the photopolymerization initiator of component (D). (Trade name, manufactured by LAMBERTI S.P.A.), fused spherical silica, silane coupling agent: KBM-403 (trade name, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane) as the inorganic filler of component (E) , Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), blended in the compositions and amounts (parts by mass) shown in Tables 2 and 3, uniformly kneaded with a planetary mixer, and then solidified with three rolls The mixture was sufficiently mixed and dispersed until the material became 3 μm or less, and the obtained mixture was subjected to vacuum defoaming treatment to obtain the sealing agent compositions for liquid crystal display elements of Examples 1 to 6 of the present invention.

[比較例1]
(C)成分の潜在性硬化剤を未粉砕品(硬化剤E)に変更した以外は、各成分を表2,3に示した組成及び量(質量部)で配合して実施例1〜6と同様にして組成物を得た。
[Comparative Example 1]
(C) Except having changed the latent hardener of the component into the unground product (hardener E), each component was blended in the composition and amount (parts by mass) shown in Tables 2 and 3, Examples 1 to 6 In the same manner, a composition was obtained.

[比較例2]
(C)成分の潜在性硬化剤をジェットミル粉砕品(硬化剤F)に変更した以外は、各成分を表2,3に示した組成及び量(質量部)で配合して実施例1〜6と同様にして組成物を得た。
[Comparative Example 2]
(C) Except having changed the latent curing agent of the component into a jet mill pulverized product (curing agent F), each component was blended in the compositions and amounts (parts by mass) shown in Tables 2 and 3, and Examples 1 to In the same manner as in 6, a composition was obtained.

[比較例3]
(C)成分の潜在性硬化剤をアトライタ粉砕品(硬化剤G)に変更した以外は、各成分を表2,3に示した組成及び量(質量部)で配合して実施例1〜6と同様にして組成物を得た。
[Comparative Example 3]
(C) Except having changed the latent hardener of the component into the attritor pulverized product (hardener G), each component was blended in the composition and amount (part by mass) shown in Tables 2 and 3, and Examples 1 to 6 In the same manner, a composition was obtained.

[評価手法]
上記で得られた各液晶表示素子用シール剤組成物について、下記の諸試験を行って、諸特性を評価し、その結果を表4,5に示した。なお、各組成物の硬化条件は、まず、紫外線照射による光重合硬化(UV照射光量:2.5J/cm2、UV照度:100mW/cm2)、次いで、加熱硬化(120℃×1時間)とした。
[Evaluation method]
About each sealing compound composition for liquid crystal display elements obtained above, the following various tests were done, various characteristics were evaluated, and the result was shown in Tables 4 and 5. The curing conditions for each composition were first photopolymerization curing by UV irradiation (UV irradiation light amount: 2.5 J / cm 2 , UV illuminance: 100 mW / cm 2 ), and then heat curing (120 ° C. × 1 hour). It was.

(a)粘度(組成物)
各組成物について、JIS Z−8803に準じ、測定温度:25℃,E型粘度計を用いて2分後の値を測定した。
(b)チキソ比(組成物)
上記(a)の粘度の測定においてローシェアとハイシェアの比が10倍になるようにして測定した両者の粘度比の値を示した。
(c)保存安定性(組成物)
各組成物100部を褐色ポリエチレン製容器に入れ、密封した後、初期の25℃,E型粘度値を100とし、−20℃×30日経過後の粘度値の変化率に基づいて、次の通りに評価した。
◎:初期粘度に対する変化率が5%未満であり、保存安定性は非常に良好
○:初期粘度に対する変化率が5%以上10%未満であり、保存安定性は良好
△:初期粘度に対する変化率が10〜40%であり、保存安定性にやや問題がある
×:初期粘度に対する変化率が40%を超えており、保存安定性が悪い
(d)ポットライフ(組成物)
褐色ポリエチレン製容器に密封保存された各剤組成物を、冷凍保管庫(−20℃)から取出し、3時間かけて解凍し、組成物温度を25℃とした。その時点の25℃,E型粘度値を100とし、これに対する48時間放置後の粘度変化率に基づいて、ポットライフ(可使時間)を次の通りに評価した。
○:初期粘度に対する変化率が20%未満であり、ポットライフは良好かつ十分である
△:初期粘度に対する変化率が20〜40%であり、ポットライフにやや問題がある
×:初期粘度に対する変化率が40%を超えており、ポットライフが短く不十分である
(A) Viscosity (composition)
About each composition, according to JISZ-8803, measurement temperature: 25 degreeC, the value after 2 minutes was measured using the E-type viscosity meter.
(B) Thixo ratio (composition)
In the measurement of the viscosity in the above (a), the value of the viscosity ratio of both was measured such that the ratio of low shear to high shear was 10 times.
(C) Storage stability (composition)
After 100 parts of each composition was placed in a brown polyethylene container and sealed, the initial 25 ° C., E-type viscosity value was taken as 100, based on the rate of change in viscosity value after −20 ° C. × 30 days, as follows: Evaluated.
A: Change rate with respect to initial viscosity is less than 5%, and storage stability is very good B: Change rate with respect to initial viscosity is 5% or more and less than 10%, and storage stability is good Δ: Change rate with respect to initial viscosity Is 10 to 40%, and there is a slight problem in storage stability. X: The rate of change with respect to the initial viscosity exceeds 40%, and the storage stability is poor. (D) Pot life (composition)
Each agent composition hermetically stored in a brown polyethylene container was taken out of the freezer (−20 ° C.) and thawed for 3 hours to adjust the composition temperature to 25 ° C. The pot life (pot life) was evaluated as follows based on the viscosity change rate after standing for 48 hours at 25 ° C. and the E-type viscosity value at that time.
○: Change rate with respect to initial viscosity is less than 20%, pot life is good and sufficient Δ: Change rate with respect to initial viscosity is 20 to 40%, and there is some problem in pot life ×: Change with respect to initial viscosity The rate is over 40% and the pot life is short and insufficient

(e)ボイド検査(硬化物)
上記各実施例・比較例で得られた液晶表示素子用シール剤組成物100部に、スペーサーとしてシリカファイバー(直径5μmの短繊維)が1質量%になるように配合し、真空撹拌脱泡装置で分散、脱泡を行いシリンジに分取した。
次に、清浄なガラス基板(コーニング社製:#1737、サイズ70mm角、厚さ0.7mm)に幅0.3mm、長さ5cmの線を引き、減圧下、同サイズのガラス基板を貼り合わせて、厚さが5μmになるように荷重をかけた。常圧に戻した後、UV照射し(照度100mW/cm2、光量2.5J/cm2)、次いで、120℃×1時間の条件で熱硬化させた。得られたガラス基板のシール剤面を実態顕微鏡にて20倍に拡大し、ボイドの有無を測定し、次の通り評価した。
○:シール剤中にボイドの発生は認められなかった
△:シール剤中にボイドが1〜5個の範囲で観察された
×:シール剤中にボイドが6個以上観察された
(f)接着試験(硬化物)
次に、清浄なガラス基板(コーニング社製:#1737、サイズ20mm角、厚さ0.7mm)の中心部に、前記スペーサー剤を分散させた液晶表示素子用シール剤組成物を塗布し、その基板に同サイズのガラス基板を重ね合わせて、厚み5μm、直径3mmになるように荷重を掛けた。その後、UV照射し(照度100mW/cm2、光量2.5J/cm2)、次いで、120℃×1時間の条件で熱硬化させた。得られたガラス面に支持基材を張り付け、接着用試験片を作製した。得られた試験片を島津製作所(株)製オートグラフ装置を用いて、引張りスピード5mm/分にて単位面積当たりの垂直剥離強度(MPa)を求めた。
(E) Void inspection (cured product)
Into 100 parts of the sealant composition for liquid crystal display elements obtained in each of the above-mentioned examples and comparative examples, a silica fiber (short fiber having a diameter of 5 μm) as a spacer is blended in an amount of 1% by mass, and a vacuum stirring deaerator Then, the mixture was dispersed and degassed and dispensed into a syringe.
Next, draw a wire with a width of 0.3 mm and a length of 5 cm on a clean glass substrate (Corning Corp. # 1737, size 70 mm square, thickness 0.7 mm), and bond the glass substrate of the same size under reduced pressure. Then, a load was applied so that the thickness was 5 μm. After returning to normal pressure, UV irradiation was performed (illuminance 100 mW / cm 2 , light amount 2.5 J / cm 2 ), and then thermosetting was performed at 120 ° C. for 1 hour. The sealing agent surface of the obtained glass substrate was magnified 20 times with an actual microscope, the presence or absence of voids was measured, and evaluated as follows.
○: No generation of voids was observed in the sealant. Δ: 1 to 5 voids were observed in the sealant. ×: 6 or more voids were observed in the sealant. (F) Adhesion Test (cured product)
Next, a sealing agent composition for a liquid crystal display element in which the spacer agent is dispersed is applied to the central part of a clean glass substrate (manufactured by Corning: # 1737, size 20 mm square, thickness 0.7 mm). A glass substrate of the same size was superimposed on the substrate, and a load was applied so that the thickness was 5 μm and the diameter was 3 mm. Thereafter, UV irradiation was performed (illuminance: 100 mW / cm 2 , light amount: 2.5 J / cm 2 ), and then thermosetting was performed at 120 ° C. for 1 hour. A support base material was pasted on the obtained glass surface to prepare a test piece for adhesion. The obtained specimen was measured for vertical peel strength (MPa) per unit area at a pulling speed of 5 mm / min using an autograph apparatus manufactured by Shimadzu Corporation.

Figure 2005222037
Figure 2005222037

Figure 2005222037
Figure 2005222037

合成例1の反応生成物のGPC分析結果である。3 is a GPC analysis result of the reaction product of Synthesis Example 1. 合成例1の反応生成物のIR分析結果である。It is IR analysis result of the reaction product of Synthesis Example 1.

Claims (5)

(A)エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させることによって得られる、部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物を含む混合物、
(B)エポキシ樹脂、
(C)平均粒径が0.1〜2μm、かつ90質量%累積時の粒径が4μm以下の潜在性硬化剤、
(D)光重合開始剤、
(E)無機充填剤
を含む液晶表示素子用シール剤組成物。
(A) a mixture containing a partially (meth) acrylate-modified epoxy compound obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid,
(B) epoxy resin,
(C) a latent curing agent having an average particle size of 0.1 to 2 μm and a particle size of 90 μ% when accumulated to 4 μm or less,
(D) a photopolymerization initiator,
(E) A sealant composition for a liquid crystal display device, which contains an inorganic filler.
(A)成分中のエポキシ樹脂のエポキシ基及び(B)成分のエポキシ樹脂のエポキシ基の合計エポキシ基量が、(A)成分中の(メタ)アクリロイル基量に対し、0.7〜1.2(モル比:合計エポキシ基量/合計(メタ)アクリロイル基量)であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子用シール剤組成物。   The total epoxy group amount of the epoxy group of the epoxy resin in the component (A) and the epoxy group of the epoxy resin of the component (B) is 0.7 to 1. with respect to the amount of the (meth) acryloyl group in the component (A). The sealing agent composition for a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the composition is 2 (molar ratio: total amount of epoxy groups / total amount of (meth) acryloyl groups). (A)成分が、未反応のエポキシ樹脂0〜80質量%、エポキシ樹脂のエポキシ基の一部が変性された部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物5〜60質量%、エポキシ樹脂のエポキシ基の全てが変性された(メタ)アクリレート変性化合物0〜90質量%からなる請求項1又は2に記載の液晶表示素子用シール剤組成物。   (A) Component is 0 to 80% by mass of unreacted epoxy resin, 5 to 60% by mass of (meth) acrylate-modified epoxy compound in which part of epoxy group of epoxy resin is modified, all of epoxy groups of epoxy resin The sealing agent composition for liquid crystal display elements of Claim 1 or 2 which consists of 0-90 mass% of the (meth) acrylate modified compound in which is modified. (A)成分が、未反応のエポキシ樹脂5〜45質量%、エポキシ樹脂のエポキシ基の一部が変性された部分(メタ)アクリレート変性エポキシ化合物35〜55質量%、エポキシ樹脂のエポキシ基の全てが変性された(メタ)アクリレート変性化合物10〜55質量%からなる請求項3記載の液晶表示素子用シール剤組成物。   The component (A) is an unreacted epoxy resin in an amount of 5 to 45% by mass, a portion in which a part of the epoxy group of the epoxy resin is modified (meth) acrylate-modified epoxy compound in an amount of 35 to 55% by mass, and all of the epoxy groups in the epoxy resin. The sealing agent composition for liquid crystal display elements of Claim 3 which consists of 10-55 mass% of (meth) acrylate modified compounds in which is modified. (C)成分の潜在性硬化剤の一部又は全部を下記一般式(1)
136SiR2 n(OR33-n (1)
(式中、R1はグリシドキシ基、アクリロキシ基又はメタクリロキシ基である。R2、R3はアルキル基、nは0,1又は2である。)
で示されるシランカップリング剤と混合し、この混合物を湿式ビーズミルで処理したことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示素子用シール剤組成物。

Part or all of the latent curing agent of component (C) is represented by the following general formula (1)
R 1 C 3 H 6 SiR 2 n (OR 3 ) 3-n (1)
(In the formula, R 1 is a glycidoxy group, an acryloxy group or a methacryloxy group. R 2 and R 3 are alkyl groups, and n is 0, 1 or 2.)
5. The sealant composition for a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the mixture is treated with a wet bead mill.

JP2004371371A 2004-01-07 2004-12-22 Sealing agent composition for liquid crystal display element Pending JP2005222037A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004371371A JP2005222037A (en) 2004-01-07 2004-12-22 Sealing agent composition for liquid crystal display element

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004002084 2004-01-07
JP2004371371A JP2005222037A (en) 2004-01-07 2004-12-22 Sealing agent composition for liquid crystal display element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005222037A true JP2005222037A (en) 2005-08-18

Family

ID=34997668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004371371A Pending JP2005222037A (en) 2004-01-07 2004-12-22 Sealing agent composition for liquid crystal display element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005222037A (en)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006009308A1 (en) * 2004-07-22 2006-01-26 Three Bond Co., Ltd. Curable composition
JP2006106385A (en) * 2004-10-06 2006-04-20 Three Bond Co Ltd Curable composition for liquid crystal display device
WO2007114184A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Sekisui Chemical Co., Ltd. Sealing material for liquid-crystal dropping process, vertical-conduction material, and liquid-crystal display element
JP2007314660A (en) * 2006-05-25 2007-12-06 Nippon Kayaku Co Ltd Periphery sealer for etching glass substrate and its cured product
JP2008111092A (en) * 2006-10-06 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-connecting material and connection structure using the same
JP2009162842A (en) * 2007-12-28 2009-07-23 Jsr Corp Sealant for liquid crystal display element, and liquid crystal display element
JP2011079904A (en) * 2009-10-05 2011-04-21 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition, resin composition for seal-filling semiconductor, and semiconductor device
KR101220047B1 (en) * 2009-10-12 2013-01-08 금호석유화학 주식회사 Sealant composition for liquid crystal display device
US20130082547A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Sealing resin composition for hdd motor and hdd motor fabricated by using the same
JP2013087103A (en) * 2011-10-20 2013-05-13 Sekisui Chem Co Ltd Hydrazide multimer, curable resin composition, sealing agent for one drop fill process, vertical conduction material, and liquid crystal display element
JP2013101411A (en) * 2011-04-08 2013-05-23 Sekisui Chem Co Ltd Sealant for liquid crystal one-drop fill process, vertical conduction material, and liquid crystal display element
US9184082B2 (en) * 2006-11-27 2015-11-10 Lintec Corporation Adhesive composition, adhesive sheet and production process for semiconductor device
JP2017019977A (en) * 2015-07-15 2017-01-26 味の素株式会社 Method for producing epoxy resin composition
DE102016121533A1 (en) 2015-11-13 2017-06-01 Ajinomoto Co., Inc. Coated particles
WO2018097663A1 (en) * 2016-11-25 2018-05-31 주식회사 엘지화학 Curable composition
CN112080239A (en) * 2020-09-10 2020-12-15 苏州润邦半导体材料科技有限公司 Sealant composition and preparation method and application thereof
CN114874396A (en) * 2022-05-06 2022-08-09 山东工业陶瓷研究设计院有限公司 Photosensitive resin for 3D printing and preparation method thereof
US11441015B2 (en) 2018-01-12 2022-09-13 Ajinomoto Co., Inc. Coated particle

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01129232A (en) * 1987-11-13 1989-05-22 Toshiba Corp Sealing film for liquid crystal cell
JPH03188186A (en) * 1989-12-19 1991-08-16 Toshiba Corp Sealing agent composition and liquid crystal display panel
JPH05295087A (en) * 1992-04-17 1993-11-09 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk Frame sealing agent composition for liquid crystal display
JPH09318953A (en) * 1996-05-24 1997-12-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Sealing material composition for liquid crystal display element and liquid crystal display element formed by using the same
JP2000347203A (en) * 1999-04-01 2000-12-15 Mitsui Chemicals Inc Liquid crystal sealing material composition
JP2001133794A (en) * 1999-11-01 2001-05-18 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk Sealing agent for dropping process of lcd panel

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01129232A (en) * 1987-11-13 1989-05-22 Toshiba Corp Sealing film for liquid crystal cell
JPH03188186A (en) * 1989-12-19 1991-08-16 Toshiba Corp Sealing agent composition and liquid crystal display panel
JPH05295087A (en) * 1992-04-17 1993-11-09 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk Frame sealing agent composition for liquid crystal display
JPH09318953A (en) * 1996-05-24 1997-12-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Sealing material composition for liquid crystal display element and liquid crystal display element formed by using the same
JP2000347203A (en) * 1999-04-01 2000-12-15 Mitsui Chemicals Inc Liquid crystal sealing material composition
JP2001133794A (en) * 1999-11-01 2001-05-18 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk Sealing agent for dropping process of lcd panel

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006009308A1 (en) * 2004-07-22 2006-01-26 Three Bond Co., Ltd. Curable composition
JP2006106385A (en) * 2004-10-06 2006-04-20 Three Bond Co Ltd Curable composition for liquid crystal display device
JP4645804B2 (en) * 2004-10-06 2011-03-09 株式会社スリーボンド Curable composition for liquid crystal display device
KR101369022B1 (en) 2006-03-29 2014-02-28 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Sealing material for liquid-crystal dropping process, vertical-conduction material, and liquid-crystal display element
WO2007114184A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Sekisui Chemical Co., Ltd. Sealing material for liquid-crystal dropping process, vertical-conduction material, and liquid-crystal display element
JP5180818B2 (en) * 2006-03-29 2013-04-10 積水化学工業株式会社 Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element
TWI467295B (en) * 2006-03-29 2015-01-01 Sekisui Chemical Co Ltd Liquid crystal drop method sealant, upper and lower conductive material and liquid crystal display element
JP2007314660A (en) * 2006-05-25 2007-12-06 Nippon Kayaku Co Ltd Periphery sealer for etching glass substrate and its cured product
JP2008111092A (en) * 2006-10-06 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-connecting material and connection structure using the same
US9562179B2 (en) 2006-11-27 2017-02-07 Lintec Corporation Adhesive composition, adhesive sheet and production process for semiconductor device
US9184082B2 (en) * 2006-11-27 2015-11-10 Lintec Corporation Adhesive composition, adhesive sheet and production process for semiconductor device
JP2009162842A (en) * 2007-12-28 2009-07-23 Jsr Corp Sealant for liquid crystal display element, and liquid crystal display element
JP2011079904A (en) * 2009-10-05 2011-04-21 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition, resin composition for seal-filling semiconductor, and semiconductor device
KR101220047B1 (en) * 2009-10-12 2013-01-08 금호석유화학 주식회사 Sealant composition for liquid crystal display device
JP2013101411A (en) * 2011-04-08 2013-05-23 Sekisui Chem Co Ltd Sealant for liquid crystal one-drop fill process, vertical conduction material, and liquid crystal display element
CN104932155A (en) * 2011-04-08 2015-09-23 积水化学工业株式会社 Sealant For One-Drop Fill Process, Vertical-Conduction Material, And Liquid Crystal Display Element
US20130082547A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Sealing resin composition for hdd motor and hdd motor fabricated by using the same
JP2013087103A (en) * 2011-10-20 2013-05-13 Sekisui Chem Co Ltd Hydrazide multimer, curable resin composition, sealing agent for one drop fill process, vertical conduction material, and liquid crystal display element
JP2017019977A (en) * 2015-07-15 2017-01-26 味の素株式会社 Method for producing epoxy resin composition
DE102016121533A1 (en) 2015-11-13 2017-06-01 Ajinomoto Co., Inc. Coated particles
US10450407B2 (en) 2015-11-13 2019-10-22 Ajinomoto Co., Inc. Coated particles
WO2018097663A1 (en) * 2016-11-25 2018-05-31 주식회사 엘지화학 Curable composition
TWI656190B (en) * 2016-11-25 2019-04-11 南韓商Lg化學股份有限公司 Curable composition
US11208526B2 (en) 2016-11-25 2021-12-28 Lg Chem, Ltd. Curable composition
US11441015B2 (en) 2018-01-12 2022-09-13 Ajinomoto Co., Inc. Coated particle
CN112080239A (en) * 2020-09-10 2020-12-15 苏州润邦半导体材料科技有限公司 Sealant composition and preparation method and application thereof
CN112080239B (en) * 2020-09-10 2023-02-17 苏州润邦半导体材料科技有限公司 Sealant composition and preparation method and application thereof
CN114874396A (en) * 2022-05-06 2022-08-09 山东工业陶瓷研究设计院有限公司 Photosensitive resin for 3D printing and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005222037A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display element
JP4531566B2 (en) Liquid crystal sealant composition and method for producing liquid crystal display panel using the same
JP2007171774A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display element
KR101150343B1 (en) Liquid Crystal Sealant and Liquid Crystal Display Cell Utilizing the Same
JP5091534B2 (en) Liquid crystal dropping method sealing agent, vertical conduction material, and liquid crystal display device
JP2008040015A (en) Sealing material composition for liquid crystal display element
JP2007262253A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display cell
JP2006330301A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display element
JP2006023419A (en) Sealant composition for liquid crystal display cells
JP2006323039A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display element
JP2007219039A (en) Sealant composition for liquid crystal display cell
JP2005194508A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display element
JP4022194B2 (en) Curable resin composition for liquid crystal display element, sealing agent for liquid crystal display element, sealing agent for liquid crystal display element, vertical conduction material for liquid crystal display element, and liquid crystal display device
JP5577403B2 (en) Liquid crystal sealant and liquid crystal display cell using the same
WO2013047579A1 (en) Liquid crystal sealing agent, and liquid crystal display cell using same
JP2005179657A (en) Sealing compound composition for liquid crystal displaying apparatus
JP5748273B2 (en) Liquid crystal sealant and liquid crystal display cell using the same
JP3856746B2 (en) Sealant composition for liquid crystal display device
KR101033827B1 (en) Curable resin composition, flat panel display having cured product from the same and method of manufacturing flat panel display
JP5320164B2 (en) Sealant for liquid crystal display element, vertical conduction material, and liquid crystal display element
JP4875440B2 (en) Sealant composition for liquid crystal dropping method and method for producing liquid crystal display panel using the same
JP2008129216A (en) Sealing agent for liquid crystal dropping method, method for manufacturing liquid crystal display panel using the same and liquid crystal display panel
JP2005054164A (en) Photo- and heat-curable resin composition, sealing agent for liquid crystal display element, opening-sealing agent for the liquid crystal display element, vertically-conducting material for the liquid crystal display element, and liquid crystal display device
JP4302381B2 (en) Liquid crystal sealant composition, method for producing liquid crystal display cell, and liquid crystal display element
JP2005181986A (en) Sealing agent composition for liquid crystal display element

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070122

A977 Report on retrieval

Effective date: 20100127

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100407

A02 Decision of refusal

Effective date: 20100804

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02