JP2005202392A - Image forming method - Google Patents

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Hiroyuki Nagase
博幸 長瀬
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a developing solution and image forming method capable of forming images having excellent developability and printing resistance and performing stable processing for a long period of time. <P>SOLUTION: In the method for forming the images, a negative-working image-forming material formed with an image-recording layer comprising a photopolymerization initiator system sensitive to light rays whose wavelength falls within the visible to ultraviolet ranges, a polymerizable compound carrying at least one ethylenically unsaturated group and a binder polymer is image-exposed, and then the image-exposed image-forming material is developed with a developing solution which contains at least one carbonate, at least one hydrogen carbonate and at least one alkali silicate and which has a pH value ranging from 9 to 13.0, wherein the ratio of the total molar number a of the carbonate and the hydrogen carbonate to the molar number b of the SiO<SB>2</SB>component present in the alkali silicate: a:b ranges from 1:0.3 to 1:2 and the total molar number of these components: a + b ranges from 0.1 to 2 mole/L. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて可視光レーザーを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型画像形成材料に有用な画像形成方法に関する。   The present invention relates to an image forming method useful for a negative image forming material capable of direct plate making by scanning with a visible light laser based on a digital signal from a computer or the like, and so-called direct plate making.

従来、平版印刷版としては親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するPS版が広く用いられ、その製版方法として、通常はリスフィルムを介してマスク露光後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報をコンピューターにより、電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が種々実用化されるようになってきた。その結果レーザー光のような指向性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査し、リスフィルムを介す事無く、直接印刷版を製造するCTP技術が望まれ、これに適応した印刷版用原版を得ることが重要な技術課題となっている。
この光源としてArレーザー(488nm)やFD−YAGレーザー(532nm)、InGaN系半導体レーザー(バイオレットレーザー、350nm〜450nm)が採用され、この光源に感光性を有し、かなりの生産性が確保できる高感度な光重合性感光層を有する平版印刷版が開発され、実用に供されている。
Conventionally, as a lithographic printing plate, a PS plate having a configuration in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support is widely used. The desired printing plate was obtained by dissolving and removing the image area.
In recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to it have come into practical use. As a result, CTP technology that scans highly directional light such as laser light in accordance with digitized image information and directly produces a printing plate without using a lith film is desired. Obtaining the original edition is an important technical issue.
As this light source, an Ar laser (488 nm), an FD-YAG laser (532 nm), or an InGaN-based semiconductor laser (violet laser, 350 nm to 450 nm) is employed, and this light source has photosensitivity and can ensure considerable productivity. A lithographic printing plate having a sensitive photopolymerizable photosensitive layer has been developed and put into practical use.

高感度技術としては殆んどが光開始系に関するものであり、例えばArレーザー、FD−YAGレーザーに対して高感度な光開始系としては、チタノセンとクマリン色素との組み合わせ(例えば、特許文献1〜3参照。)、スチリル系色素とチタノセンとの組み合わせ(例えば、特許文献4参照。)、五員ヘテロ環酸性核を有する色素とチタノセンの組み合わせ(例えば、特許文献5参照。)がそれぞれ開示されている。
またバイオレットレーザーに対して高感度な光開始系としては、ナフトフラノン系色素とチタノセンとの組み合わせ(例えば、特許文献6参照。)、カルバゾリルスチリル系色素とチタノセンとの組み合わせ(例えば、特許文献7参照。)等が知られている。
Most of the high-sensitivity technologies are related to photoinitiation systems. For example, photoinitiation systems with high sensitivity to Ar lasers and FD-YAG lasers are combinations of titanocene and coumarin dyes (for example, Patent Document 1). 3), a combination of a styryl dye and titanocene (for example, see Patent Document 4), and a combination of a dye having a five-membered heterocyclic acidic nucleus and titanocene (for example, see Patent Document 5). ing.
Further, as a photoinitiating system highly sensitive to a violet laser, a combination of a naphthofuranone dye and titanocene (for example, see Patent Document 6), a combination of a carbazolyl styryl dye and titanocene (for example, Patent Document 7). Etc.) are known.

一方、平版印刷版としての機能を安定して発現するためには、現像処理性として、露光部と未露光部と溶解度差(ディスクリミネーション)が大きいことが求められ、これらに関しては現像液に特定の界面活性剤を加えることである程度改良されることが開示されているが(例えば、特許文献8参照。)、さらに性能を付与する上で、重要になるのが、画像部ダメージの低減、及び現像液が常に安定な活性を保持することにある。
しかし、例えば、光重合性組成物を用いたネガ型の画像形成材料の現像にケイ酸カリウムなどを含む、pHが12.5を超える強アルカリ性水溶液が用いられることが報告されており(特許文献9参照)、このような高いpHの現像液は、画像部へのダメージが大きく耐刷性が不十分になる問題点があった。また、長期間の現像処理を続けると、環境例えば炭酸ガス濃度の変化によって、現像液の炭酸ガス吸収量が変化し現像液活性が変動するため、版材性能もその影響を受けて変動しやすいこと、また版材成分が現像層内に蓄積し、配管等の詰まりを生じる等の問題があった。
On the other hand, in order to stably develop the function as a lithographic printing plate, the development processability is required to have a large solubility difference (discrimination) between the exposed and unexposed areas. Although it is disclosed that it is improved to some extent by adding a specific surfactant (see, for example, Patent Document 8), it is important to further reduce the damage to the image area in order to impart performance. And the developer always maintains stable activity.
However, for example, it has been reported that a strongly alkaline aqueous solution containing potassium silicate or the like and having a pH exceeding 12.5 is used for developing a negative type image forming material using a photopolymerizable composition (Patent Document). 9), such a high pH developer has a problem in that the image portion is greatly damaged and the printing durability is insufficient. In addition, if the development process is continued for a long period of time, the carbon dioxide gas absorption amount of the developer changes due to changes in the environment, for example, the concentration of carbon dioxide, and the developer activity fluctuates. In addition, the plate material component accumulates in the development layer, causing problems such as clogging of piping.

これに対して、この経時および繰り返しの使用による現像性能の低下を抑えるべく、ガラス基板表面に形成した感光性樹脂組成物層を、例えば、pH10前後の炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶液で現像することが提案されている(例えば特許文献10、特許文献11参照)。しかしながら、本発明者は、これらの現像液を、アルミニウム支持体表面に光重合型感光性樹脂組成物の感光層を有する平版印刷版原版に適用したところ、非画像部での現像性が十分とは言えなかった。
また、顔料を分散させたフォトレジストの現像性の問題を解決するために、アルキルフェノール系界面活性剤を添加したアルカリ現像液が報告されているが(特許文献12参照)、依然として十分な現像性及び耐刷性が得られなかった。
On the other hand, the photosensitive resin composition layer formed on the surface of the glass substrate is developed with, for example, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium bicarbonate having a pH of about 10 in order to suppress the deterioration of the development performance due to the repeated use over time. (For example, refer to Patent Document 10 and Patent Document 11). However, when the present inventors applied these developers to a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer of a photopolymerizable photosensitive resin composition on the surface of an aluminum support, the developability in non-image areas was sufficient. I could not say.
Moreover, in order to solve the problem of developability of a photoresist in which a pigment is dispersed, an alkali developer added with an alkylphenol surfactant has been reported (see Patent Document 12), but still sufficient developability and Printing durability was not obtained.

特開平9−268185号公報JP-A-9-268185 特開平6−192309号公報JP-A-6-192309 特開平10−204085号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-204085 特開平9−80750号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-80750 特開平10−101719号公報JP-A-10-101719 特開2000−206690号公報JP 2000-206690 A 特開2001−42524号公報JP 2001-42524 A 特開2003−43703号公報JP 2003-43703 A 特開平8−108621号公報JP-A-8-108621 特開平5−88377号公報JP-A-5-88377 特開平11−65126号公報JP-A-11-65126 特開平10−239858号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-239858

本発明の目的は、耐刷性に優れた画像を形成し、汚れ性にも優れ、現像液の特性に起因する経時的な現像性の低下を生じにくく、長期間安定に処理をすることができる、画像形成方法を提供することにある。   An object of the present invention is to form an image having excellent printing durability, excellent stain resistance, hardly cause deterioration in developability over time due to the characteristics of the developer, and can stably process for a long period of time. An object of the present invention is to provide an image forming method.

本発明者は、鋭意研究の結果、支持体上に可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系、少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物、およびバインダーポリマーを含む画像記録層が形成されたネガ型画像形成材料を画像露光した後、炭酸塩、炭酸水素塩からなる現像液に特定の比率でアルカリ珪酸塩を混合した現像液を用いて現像することで、pH変動が起こっても広いラチチュードで画像形成材料の性能が安定であり、かつ十分な現像性、汚れ性を確保でき、また珪酸塩を含有させることで、現像時アルミニウム基板等の支持体からの溶出を抑えることができることを見出し、上記課題を達成し、本発明を完成させるに至った。従って本発明は、支持体上に可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系、少なくとも一個のエチレン性不飽和結合基を有する重合可能な化合物、およびバインダーポリマーを含む画像形成層が形成されたネガ型画像形成材料を画像露光したあと、少なくとも一種の炭酸塩および少なくとも一種の炭酸水素塩と、少なくとも一種のアルカリ珪酸塩を含み、炭酸塩と炭酸水素塩合計モル数aとアルカリ珪酸塩中のSiO2成分のモル数bの比a:b=1:0.3〜1:2であり、かつaとbの合計モル濃度a+b=0.1〜2mol/Lであり、pH9〜13.0であること特徴とする現像液で現像することを特徴とする画像形成方法、に関する。 As a result of diligent research, the present inventor has developed a photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible to ultraviolet wavelength range, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group, and a binder polymer on a support. After image exposure of the negative type image forming material on which the image recording layer is formed is developed using a developer in which alkali silicate is mixed at a specific ratio with a developer composed of carbonate and bicarbonate, Even if the pH fluctuates, the performance of the image forming material is stable in a wide latitude, and sufficient developability and stain resistance can be secured, and by containing silicate, it can be removed from a support such as an aluminum substrate during development. It has been found that elution can be suppressed, and the above-described problems have been achieved and the present invention has been completed. Accordingly, the present invention provides an image forming layer comprising a photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible to ultraviolet wavelength range, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond group, and a binder polymer on a support. After image exposure of the formed negative type image forming material, at least one kind of carbonate and at least one kind of bicarbonate, and at least one kind of alkali silicate are included, and the total number of moles of carbonate and bicarbonate a and alkali silicate The ratio of mole number b of SiO 2 component in the salt is a: b = 1: 0.3 to 1: 2, and the total molar concentration of a and b is a + b = 0.1 to 2 mol / L, and the pH is 9 to 13.0. The present invention relates to an image forming method characterized by developing with a developing solution.

上記現像液を、露光した光重合型画像形成材料の現像に用いると、炭酸ガスの影響を受けにくい比較的に低いpH状態においても現像性に優れ、画像部へのダメージ低減による耐刷性向上、またpHが変動した際の版材性能の変動が低減できることがわかった。従って、現像時の性能ラチチュードが狭い画像形成材料(ディスクリミネーションが小さい)においても安定した処理性を確保することができる。   When the above developer is used to develop exposed photopolymerization-type image forming materials, it has excellent developability even at relatively low pH conditions that are not easily affected by carbon dioxide, and improved printing durability by reducing damage to the image area. In addition, it was found that fluctuations in plate performance when the pH fluctuates can be reduced. Therefore, stable processability can be ensured even in an image forming material having a narrow performance latitude during development (small discrimination).

本発明の画像形成方法によれば、画像形成材料へのダメージが少ない低いpHで十分な現像性を確保できることより、耐刷性と現像性の両立が可能であり、耐刷性に優れた画像を形成し、汚れ性にも優れ、現像液の特性に起因する経時的な現像性の低下を生じにくく、長期間安定に処理をすることができる画像形成方法が提供される。   According to the image forming method of the present invention, since sufficient developability can be secured at a low pH with little damage to the image forming material, it is possible to achieve both printing durability and developability, and an image having excellent printing durability. Thus, there is provided an image forming method which is excellent in stain resistance, hardly deteriorates in developability with time due to the characteristics of the developer, and can be stably processed for a long period of time.

以下に本発明の画像形成方法を詳細に説明する。先ず、現像液について説明する。
〔現像液〕
(炭酸塩及び炭酸水素塩)
本発明において使用される現像液は、少なくとも一種の炭酸塩および少なくとも一種の炭酸水素塩と、少なくとも一種のアルカリ珪酸塩を下記に示す割合で含む、pH9〜13.0のアルカリ水溶液である。pHは更に9.0〜12.5の範囲であることが好ましい。
少なくとも一種の炭酸塩及び少なくとも一種の炭酸水素塩は現像液中におけるアルカリ剤として作用する。炭酸塩としては、無機アルカリの炭酸塩から選択される少なくとも一種の化合物が挙げられる。炭酸塩の具体例としては、炭酸ナトリウム、同カリウム、及び同アンモニウム、が挙げられる。炭酸水素塩としては、無機アルカリの炭酸水素塩から選択される少なくとも一種の化合物が挙げられる。また、炭酸水素塩の具体例としては、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、及び同アンモニウム、があげられる。炭酸塩の現像液中の濃度は0.005〜1mol/L、炭酸水素塩の現像液中の濃度は0.001〜1mol/Lにすることにより、pH8.5〜11.0の領域でpH緩衝性が得られ、また炭酸ガス吸収量も低減ができ好ましい。
The image forming method of the present invention will be described in detail below. First, the developer will be described.
[Developer]
(Carbonates and bicarbonates)
The developer used in the present invention is an alkaline aqueous solution having a pH of 9 to 13.0 containing at least one carbonate, at least one bicarbonate, and at least one alkali silicate in the proportions shown below. The pH is preferably in the range of 9.0 to 12.5.
At least one carbonate and at least one bicarbonate act as an alkaline agent in the developer. Examples of the carbonate include at least one compound selected from inorganic alkali carbonates. Specific examples of the carbonate include sodium carbonate, potassium and ammonium. Examples of the bicarbonate include at least one compound selected from inorganic alkali bicarbonates. Specific examples of the bicarbonate include sodium bicarbonate, potassium, and ammonium. By adjusting the concentration of carbonate in the developer to 0.005 to 1 mol / L and the concentration of bicarbonate in the developer to 0.001 to 1 mol / L, pH buffering properties can be obtained in the region of pH 8.5 to 11.0. Moreover, the amount of carbon dioxide absorption can be reduced, which is preferable.

(アルカリケイ酸塩)
本発明において使用される現像液には上記炭酸塩、炭酸水素塩に加えてさらに少なくとも一種のアルカリ金属珪酸塩を含む。
使用するアルカリ珪酸塩としては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであって、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウムなどがある。これらのアルカリ珪酸塩は1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明において使用される現像液は、基板の親水化成分としての珪酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2と、アルカリ成分としてのアルカリ酸化物M2O(Mはアルカリ金属又はアンモニウム基を表す)との混合比率、及び濃度の調整により、最適な範囲に容易に調節することができる。酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(SiO2/M2Oのモル比)は0.75〜4.0であり、好ましくは0.75〜3.5の範囲で使用される。
(Alkali silicate)
The developer used in the present invention further contains at least one alkali metal silicate in addition to the carbonate and bicarbonate.
The alkali silicate to be used exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, and ammonium silicate. These alkali silicates may be used alone or in combination of two or more.
The developer used in the present invention is composed of silicon oxide SiO 2 which is a silicate component as a hydrophilic component of a substrate and alkali oxide M 2 O as an alkali component (M represents an alkali metal or an ammonium group). By adjusting the mixing ratio and concentration, it can be easily adjusted to the optimum range. The mixing ratio (SiO 2 / M 2 O molar ratio) of silicon oxide SiO 2 and alkali oxide M 2 O is 0.75 to 4.0, preferably 0.75 to 3.5.

前記SiO2/M2Oが0.75未満であると、アルカリ性が強くなり、平版印刷版原版の支持体としてのアルミ基板の陽極酸化皮膜が過度に溶解(エッチング)され、前記放置汚れが発生したり、溶解アルミと珪酸との錯体形成による不溶性のカスが生じるという弊害が起こり、4.0、更には3.0を超えると、現像性が低下したり珪酸塩の縮合した不溶性のカスが発生するという問題が生じることがある。 When the SiO 2 / M 2 O is less than 0.75, the alkalinity becomes strong, the anodized film of the aluminum substrate as a support of the lithographic printing plate precursor is excessively dissolved (etched), and the unclean stain occurs. , There is an adverse effect that insoluble residue is formed due to the complex formation of dissolved aluminum and silicic acid, and if it exceeds 4.0 or even 3.0, there is a problem that developability deteriorates or insoluble residue condensed with silicate is generated. Sometimes.

また現像液中のアルカリ珪酸塩の濃度としては、アルカリ水溶液の質量に対して、SiO2量として0.01〜1mol/Lが好ましく、より好ましくは0.05〜0.8mol/Lの範囲で使用される。この濃度が0.01mol/L未満であると、アルミ基板の陽極酸化皮膜の溶解(エッチング)抑制効果が得られず、現像性、現像処理能力が低下することがあり、1mol/Lを超えると沈殿や結晶を生成し易くなり、また廃液時の中和の際にゲル化し易くなる結果、廃液処理に支障を来たすことがある。 The concentration of the alkali silicate in the developer is preferably 0.01 to 1 mol / L, more preferably 0.05 to 0.8 mol / L as the amount of SiO 2 with respect to the mass of the aqueous alkali solution. If this concentration is less than 0.01 mol / L, the effect of inhibiting dissolution (etching) of the anodic oxide film on the aluminum substrate may not be obtained, and developability and development processing ability may deteriorate. If it exceeds 1 mol / L, precipitation occurs. And crystals are easily generated, and gelation is likely to occur during neutralization at the time of waste liquid, which may impede waste liquid treatment.

ここで炭酸塩と炭酸水素塩合計モル数a、アルカリ金属珪酸塩中のSiO2成分のモル数bの比a:b=1:0.3〜1:2でかつaとbの合計モル濃度a+b=0.1〜2mol/Lで添加することによって、pHが変動した際の版材性能の変動が低減できることがわかった。従って、現像時の性能ラチチュードが狭い感材(ディスクリミネーションが小さい)においても安定した処理性を確保することができる。好ましくはa:b=1:0.5〜1:1.5であり、またa+b=0.2〜1.5mol/Lである。 Here, the total number of moles a of carbonate and bicarbonate a, the ratio of the number of moles b of the SiO 2 component in the alkali metal silicate is a: b = 1: 0.3 to 1: 2, and the total mole concentration of a and b is a + b = It was found that the addition of 0.1 to 2 mol / L can reduce the fluctuation in plate performance when the pH fluctuates. Accordingly, it is possible to ensure stable processability even in a light-sensitive material having a narrow performance latitude during development (small discrimination). Preferably, a: b = 1: 0.5 to 1: 1.5, and a + b = 0.2 to 1.5 mol / L.

前記現像液は、各成分を同一水中に添加、溶解して作製したものであっても、各成分、例えば炭酸塩、炭酸水素塩、珪酸塩のそれぞれの水溶液を混合して作製したものであってもよい。   Even if the developer is prepared by adding and dissolving each component in the same water, the developer is prepared by mixing each component, for example, an aqueous solution of carbonate, bicarbonate, or silicate. May be.

また、前記現像液にはアルカリ剤として、更に、たとえば第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、および同リチウムなどの無機アルカリ剤および、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤を単独もしくは2種以上を組み合わせて混合して用いても良い。   Further, the developer includes an alkali agent, such as tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, lithium, and the like. Inorganic alkaline agent and monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, di Single or two or more organic alkali agents such as isopanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide It may be mixed and used in combination.

(界面活性剤)
本発明における現像液には、アニオン界面活性剤及びノニオン界面活性剤から選択される少なくとも一種の界面活性剤を添加することが好ましい。このような界面活性剤を添加することにより、現像性が促進され、また現像液中に溶け込んだ画像記録層組成物の分散性が向上することにより沈殿等が現像液中に生じにくいとう効果を奏する。これらの界面活性剤は、現像液に対し1〜10質量%の範囲で添加することが好ましい。
(Surfactant)
It is preferable to add at least one surfactant selected from an anionic surfactant and a nonionic surfactant to the developer in the present invention. By adding such a surfactant, developability is promoted, and the dispersibility of the image recording layer composition dissolved in the developer is improved, so that precipitation or the like hardly occurs in the developer. Play. These surfactants are preferably added in the range of 1 to 10% by mass with respect to the developer.

(アニオン界面活性剤成分)
アニオン界面活性剤は、分子中にアニオン基を少なくとも1個有する化合物である。アニオン基としては、例えばカルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、スルフィン酸アニオン、硫酸アニオン、亜硫酸アニオン、リン酸アニオン、亜リン酸アニオン、ホスホン酸アニオン、ホスフィン酸アニオン等が挙げられるが、好ましくはスルホン酸アニオン、又は硫酸アニオンである。具体的にはスルホン酸アニオン、又は硫酸アニオンを少なくとも1個有する化合物である。好ましくはスルホン酸のアニオン基、または硫酸モノエステルのアニオン基を少なくとも一つ有する化合物である。より好ましくは、スルホン酸のアニオン基、または硫酸モノエステルのアニオン基を少なくとも一つ有し、さらに置換基を有していてもよい少なくとも一つの芳香族基を有する化合物である。
スルホン酸のアニオン基、または硫酸モノエステルのアニオン基を少なくとも一つ有する化合物として、好ましくは一般式(I)又は(II)で表される化合物が挙げられる。
(Anionic surfactant component)
An anionic surfactant is a compound having at least one anionic group in the molecule. Examples of the anion group include a carboxylic acid anion, a sulfonate anion, a sulfinate anion, a sulfate anion, a sulfite anion, a phosphate anion, a phosphite anion, a phosphonate anion, and a phosphinate anion. An anion or a sulfate anion. Specifically, it is a compound having at least one sulfonate anion or sulfate anion. A compound having at least one anionic group of sulfonic acid or anionic group of sulfuric monoester is preferable. More preferred are compounds having at least one anionic group of sulfonic acid or anionic group of sulfuric monoester, and further having at least one aromatic group which may have a substituent.
Preferred examples of the compound having at least one anionic group of sulfonic acid or anionic group of sulfuric monoester include compounds represented by general formula (I) or (II).

Figure 2005202392
Figure 2005202392

式中、R1、R2は置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。Mは一価のアルカリ金属を表す。
アルキル基としては、例えば炭素数1〜20個のアルキル基であって、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、ステアリル基等を好ましく挙げることができる。
シクロアルキル基としては単環型でも良く、多環型でも良い。単環型としては炭素数3〜8個のものであって、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基を好ましく挙げることができる。多環型としては例えば、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボロニル基、カンファニル基、ジシクロペンチル基、a−ピネル基、トリシクロデカニル基等を好ましく挙げることができる。
アルケニル基としては、例えば炭素数2〜20個のアルケニル基であって、具体的には、ビニル基、アリル基、ブテニル基、シクロヘキセニル基を好ましく挙げることができる。
アラルキル基としては、例えば炭素数7〜12個のアラルキル基であって、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等を好ましく挙げることができる。
アリール基としては、例えば炭素数6〜15個のアリール基であって、具体的には、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基、9,10−ジメトキシアントリル基等を好ましく挙げることができる。
In formula, R < 1 >, R < 2 > represents the alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, aralkyl group, or aryl group which may have a substituent. M represents a monovalent alkali metal.
Examples of the alkyl group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and specifically include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a hexyl group, and a 2-ethylhexyl group. Preferred examples include octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, stearyl group and the like.
The cycloalkyl group may be monocyclic or polycyclic. The monocyclic type has 3 to 8 carbon atoms, and preferred examples include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Preferred examples of the polycyclic type include an adamantyl group, norbornyl group, isobornyl group, camphanyl group, dicyclopentyl group, a-pinel group, tricyclodecanyl group and the like.
As an alkenyl group, it is a C2-C20 alkenyl group, for example, Specifically, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, and a cyclohexenyl group can be mentioned preferably.
As the aralkyl group, for example, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, specifically, a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, and the like can be preferably exemplified.
As the aryl group, for example, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, specifically, phenyl group, tolyl group, dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, naphthyl group, anthryl group, Preferable examples include 9,10-dimethoxyanthryl group.

また置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(F、Br、Cl、I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アミド基、エステル基、アシロキシ基、カルボキシ基、カルボン酸アニオン基、又はスルホン酸アニオン基等が挙げられる。   As the substituent, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferable examples include a halogen atom (F, Br, Cl, I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, Examples include an amide group, an ester group, an acyloxy group, a carboxy group, a carboxylic acid anion group, and a sulfonic acid anion group.

これらの置換基におけるアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ステアリルオキシ基、メトキシエトキシ基、ポリ(エチレンオキシ)、ポリ(プロピレンオキシ)等の炭素数1〜40個、好ましくは炭素数1〜20個のものが挙げられる。アリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜18個のものが挙げられる。アシル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等の炭素数2〜24個のものが挙げられる。アミド基としては、アセトアミド基、プロピオン酸アミド基、ドデカン酸アミド基、パルチミン酸アミド基、ステアリン酸アミド基、安息香酸アミド基、ナフトイック酸アミド基等の炭素数2〜24個のものが挙げられる。アシロキシ基としては、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフトイルオキシ基等の炭素数2〜20個のものが挙げられる。エステル基としては、メチルエステル基、エチルエステル基、プロピルエステル基、ヘキシルエステル基、オクチルエステル基、ドデシルエステル基、ステアリルエステル基等の炭素数1〜24個のものが挙げられる。置換基は、上記置換基の2以上の組み合わせからなるものであってもよい。
Mで表されるアルカリ金属としては、いずれでもよいが、中でもナトリウム、カリウム、リチウムが好ましい。
Specific examples of the alkoxy group in these substituents include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, dodecyloxy group, stearyloxy group, methoxyethoxy group, Examples include poly (ethyleneoxy) and poly (propyleneoxy) having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms. The aryloxy group has 6 to 18 carbon atoms such as phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, cumenyloxy group, methoxyphenyloxy group, ethoxyphenyloxy group, chlorophenyloxy group, bromophenyloxy group and naphthyloxy group. Individuals are listed. Examples of the acyl group include those having 2 to 24 carbon atoms such as an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, a benzoyl group, and a naphthoyl group. Examples of the amide group include those having 2 to 24 carbon atoms such as an acetamide group, a propionic acid amide group, a dodecanoic acid amide group, a palmitic acid amide group, a stearic acid amide group, a benzoic acid amide group, and a naphthoic acid amide group. . Examples of the acyloxy group include those having 2 to 20 carbon atoms such as an acetoxy group, a propanoyloxy group, a benzoyloxy group, and a naphthoyloxy group. Examples of the ester group include those having 1 to 24 carbon atoms such as methyl ester group, ethyl ester group, propyl ester group, hexyl ester group, octyl ester group, dodecyl ester group, stearyl ester group. The substituent may be a combination of two or more of the above substituents.
Any may be sufficient as the alkali metal represented by M, However, Sodium, potassium, and lithium are especially preferable.

また、式(I)または式(II)で表される化合物の中で、下記式(I−A)と式(I−B)で表される化合物が本発明の効果の点において好ましい。   Of the compounds represented by the formula (I) or the formula (II), the compounds represented by the following formulas (IA) and (IB) are preferable from the viewpoint of the effect of the present invention.

Figure 2005202392
(上記式中、R3、R5はそれぞれ、直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し;R4、R6は直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基を表し;p、qはそれぞれ0、1又は2を表し;X1、X2はそれぞれ単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し;Mは一価のアルカリ金属を表し;r、sはそれぞれ1〜100の整数を表し、但しr及びsが2以上の場合には、R3またはR5は2種類以上の基から選択されてもよい)。
Figure 2005202392
(In the above formula, R 3 and R 5 each represent a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms; R 4 and R 6 are linear or branched alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms; P and q each represent 0, 1 or 2; X 1 and X 2 each represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; M represents a monovalent alkali metal; , S each represents an integer of 1 to 100, provided that when r and s are 2 or more, R 3 or R 5 may be selected from two or more groups.

以下に一般式(I)、(II)で表される化合物を例示するが、本発明がこれにより限定されるものではない。   Examples of the compounds represented by the general formulas (I) and (II) are shown below, but the present invention is not limited thereby.

Figure 2005202392
Figure 2005202392




Figure 2005202392
Figure 2005202392












Figure 2005202392
Figure 2005202392















Figure 2005202392
Figure 2005202392





















Figure 2005202392
Figure 2005202392

















Figure 2005202392
Figure 2005202392

なお、上記具体例中のx、yは各々エチレンオキシ鎖、及びプロピレンオキシ鎖の繰り返し数を表し、1〜20の整数(それぞれ平均値)を表す。
一般式(I)、(II)で表される化合物の添加量は、現像液中に1〜10質量%が適当であり、好ましくは2〜10質量%を添加することが効果的である。
ここで添加量が少なすぎると、現像性低下および画像記録層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版の耐刷性を低下させる。
一般式(I)、(II)で表される化合物は市場において、一般に入手することができる。市販品の例として、旭電化製、花王石鹸製、三洋化成製、新日本理化製、第一工業製薬製、竹本油脂製、東邦化学製、日本油脂製などのものが挙げられる。
In addition, x and y in the said specific example respectively represent the repeating number of an ethyleneoxy chain and a propyleneoxy chain, and represent the integer of 1-20 (each average value).
The addition amount of the compounds represented by the general formulas (I) and (II) is appropriately 1 to 10% by mass, preferably 2 to 10% by mass in the developer.
Here, if the addition amount is too small, the developability and the solubility of the image recording layer components are lowered. On the other hand, if the addition amount is too large, the printing durability of the printing plate is lowered.
The compounds represented by the general formulas (I) and (II) are generally available on the market. Examples of commercially available products include those manufactured by Asahi Denka, Kao Soap, Sanyo Chemical, Shin Nippon Chemical, Daiichi Kogyo Seiyaku, Takemoto Yushi, Toho Chemical, Nippon Yushi.

(ノニオン芳香族エーテル系活性剤)
本発明の現像液に添加できるノニオン界面活性剤としては、下記式(1)で示されるノニオン芳香族エーテル系界面活性剤が挙げられる。
X−Y−O−(A)n−(B)m−H (1)
(式中、Xは置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Yは単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、A及びBは互いに異なる基であって、−CH2CH2O−又は−CH2CH(CH3)O−のいずれかを表し、n、mはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しnとmは同時に0ではなく、またn若しくはmのいずれかが0である場合にはn及びmは1ではない。)。
式中、Xの芳香族基としてフェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素原子数1〜100の有機基が挙げられる。有機基の例として下記一般式(1−A)(1−B)について記載する有機基が全て挙げられる。式中、A及びBがともに存在するとき、ランダムでもブロックの共重合体でもよい。
(Nonionic aromatic ether activator)
Examples of the nonionic surfactant that can be added to the developer of the present invention include nonionic aromatic ether surfactants represented by the following formula (1).
X-Y-O- (A) n- (B) m-H (1)
(In the formula, X represents an aromatic group which may have a substituent, Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A and B are groups different from each other, and- Represents either CH 2 CH 2 O— or —CH 2 CH (CH 3 ) O—, n and m each represents 0 or an integer of 1 to 100, provided that n and m are not 0 at the same time, and n Or, if either m is 0, n and m are not 1.)
In the formula, examples of the aromatic group of X include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. These aromatic groups may have a substituent. Examples of the substituent include an organic group having 1 to 100 carbon atoms. Examples of the organic group include all organic groups described for the following general formulas (1-A) (1-B). In the formula, when both A and B are present, they may be random or block copolymers.

これらの化合物には具体的に、下記一般式(1−A)および(1−B)で示されるものがある。

Figure 2005202392
Specific examples of these compounds include those represented by the following general formulas (1-A) and (1-B).
Figure 2005202392

(上記式中、R10、R20はそれぞれ水素原子又は炭素原子数1〜100の有機基を表し;t、uはそれぞれ1又は2を表し;Y1、Y2はそれぞれ単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し;v、wはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しvとwは同時に0ではなく、またv若しくはwのいずれかが0である場合にはv及びwは1ではなく、v'、w'はそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しv'とw'は同時に0ではなく、またv'若しくはw'のいずれかが0である場合にはv'及びw'は1ではない。)
tが2を表しR10が炭素原子数1〜100の有機基であるとき、R1は同一でも異なっていてもよくR10が一緒になって環を構成していてもよく、また、uが2を表しR20が炭素原子数1〜100の有機基であるとき、R20は同一でも異なっていてもよくR20が一緒になって環を構成していてもよい。
(In the above formula, R 10 and R 20 each represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 100 carbon atoms; t and u each represent 1 or 2; Y 1 and Y 2 each represent a single bond or a carbon atom. Represents an alkylene group of 1 to 10; v and w each represent 0 or an integer of 1 to 100, provided that v and w are not 0 at the same time, and v is 0 when either v or w is 0. And w is not 1, and v ′ and w ′ each represent 0 or an integer of 1 to 100, provided that v ′ and w ′ are not 0 at the same time and either v ′ or w ′ is 0. V ′ and w ′ are not 1.
When t is 2 and R 10 is an organic group having 1 to 100 carbon atoms, R 1 may be the same or different and R 10 may be combined to form a ring, and u And R 20 is an organic group having 1 to 100 carbon atoms, R 20 may be the same or different, and R 20 may be combined to form a ring.

上記炭素原子数1〜100の有機基の具体例には、飽和でも不飽和でよく直鎖でも分岐鎖でもよい脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基など、その他に、アルコキシ基、アリーロキシ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ポリオキシアルキレン鎖、ポリオキシアルキレン鎖が結合している上記の有機基などがある。上記アルキル基は直鎖でも分岐鎖でもよい。   Specific examples of the organic group having 1 to 100 carbon atoms include aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups, and alkynyl groups, which may be saturated or unsaturated, and may be linear or branched. , Aryl group, aralkyl group, etc., alkoxy group, aryloxy group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N -Arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N- Arylcarbamoyloxy group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-aryl Silamino group, acyl group, alkoxycarbonylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group , N-alkyl-N-arylcarbamoyl groups, polyoxyalkylene chains, and the above organic groups to which polyoxyalkylene chains are bonded. The alkyl group may be linear or branched.

好ましいR10、R20としては、水素原子又は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アルキルカルバモイル基、アシルオキシ基又はアシルアミノ基、繰り返し単位数5〜20程度のポリオキシアルキレン鎖、炭素原子数6〜20のアリール基、繰り返し単位数5〜20程度のポリオキシアルキレン鎖が結合しているアリール基などがある。 Preferred examples of R 10 and R 20 include a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group, an N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-alkylcarbamoyl group, acyloxy group or acylamino group, polyoxyalkylene chain having about 5 to 20 repeating units, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, poly having about 5 to 20 repeating units There are aryl groups to which an oxyalkylene chain is bonded.

一般式(1−A)及び(1−B)の化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数は好ましくは3〜50、より好ましくは5〜30である。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は好ましくは0〜10、より好ましくは0〜5である。ポリオキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダムでもブロックの共重合体でもよい。   In the compounds of the general formulas (1-A) and (1-B), the number of repeating units of the polyoxyethylene chain is preferably 3 to 50, more preferably 5 to 30. The number of repeating units of the polyoxypropylene chain is preferably 0 to 10, more preferably 0 to 5. The polyoxyethylene part and the polyoxypropylene part may be random or block copolymers.

一般式(1−A)で表される化合物としては、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
一般式(1−B)で表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホリオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられる。
ノニオン芳香族エーテル系活性剤は現像液中に、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
現像液におけるノニオン芳香族エーテル系活性剤の含有量は、現像液中1〜20質量%が適当であり、より好ましくは2〜10質量%である。ここで添加量が少なすぎると、現像性低下および画像記録層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版の耐刷性を低下させる。
以下に一般式(1−A)又は(1−B)で示されるノニオン芳香族エーテル系活性剤の例を示す。
























Examples of the compound represented by the general formula (1-A) include polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene methyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like.
Examples of the compound represented by the general formula (1-B) include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene methyl naphthyl ether, polyoxyethylene octyl naphthyl ether, and polyoxyethylene nonyl naphthyl ether.
A nonionic aromatic ether type activator may be used individually by 1 type in a developing solution, and may be used in combination of 2 or more type.
The content of the nonionic aromatic ether activator in the developer is suitably 1 to 20% by mass, more preferably 2 to 10% by mass in the developer. Here, if the addition amount is too small, the developability and the solubility of the image recording layer components are lowered. On the other hand, if the addition amount is too large, the printing durability of the printing plate is lowered.
Examples of the nonionic aromatic ether activator represented by the general formula (1-A) or (1-B) are shown below.
























Figure 2005202392
Figure 2005202392















Figure 2005202392
Figure 2005202392










Figure 2005202392
Figure 2005202392

また、本発明の画像形成方法に使用される現像液は、さらに以下に記すその他の界面活性剤を加えてもよい。
その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤である。
The developer used in the image forming method of the present invention may further contain other surfactants described below.
Other surfactants include, for example, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene stearate, Sorbitan alkyl esters such as sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate, monoglyceride alkyl esters such as glycerol monostearate, glycerol monooleate, etc. Nonionic surfactant.

これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で、0.1から20質量%が好ましい。   These surfactants can be used alone or in combination. Further, the content of these surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass in terms of active ingredients.

(消泡剤)
現像液にはアセチレンアルコール及び/またはアセチレングリコールを含有することを特徴とする消泡剤を含有させてもよい。消泡剤を現像液に添加する場合には、添加量は現像液の重量に対して、0.01〜1質量%の範囲であることが好ましい。
アセチレンアルコールとは、分子内にアセチレン結合(三重結合)をもつ不飽和アルコールである。また、アセチレングリコールとは、アルキンジオールとも呼ばれ、分子内にアセチレン結合(三重結合)をもつ不飽和グリコールである。
より具体的には、以下の一般式(A)、(B)で示されるものがある。
(Defoamer)
The developer may contain an antifoaming agent characterized by containing acetylene alcohol and / or acetylene glycol. When adding an antifoamer to a developing solution, it is preferable that the addition amount is in the range of 0.01 to 1% by mass with respect to the weight of the developing solution.
Acetylene alcohol is an unsaturated alcohol having an acetylene bond (triple bond) in the molecule. Acetylene glycol is also called alkynediol, and is an unsaturated glycol having an acetylene bond (triple bond) in the molecule.
More specifically, there are those represented by the following general formulas (A) and (B).

Figure 2005202392

(式中、R100は炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す。)
Figure 2005202392

(In the formula, R 100 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

Figure 2005202392

(式中、R200及びR300はそれぞれ独立して炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表し、a+bは0〜30の数である。)
Figure 2005202392

(In the formula, R 200 and R 300 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a + b is a number of 0 to 30.)

上記式中の炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基などが挙げられる。   Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms in the above formula include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, and an isopentyl group.

アセチレンアルコール及びアセチレングリコールの更なる具体例として以下のものが挙げられる。
(1) プロパルギルアルコール
CH≡C−CH2OH
(2) プロパルギルカルビノール
CH≡C−CH2−CH2OH
The following are mentioned as a further specific example of acetylene alcohol and acetylene glycol.
(1) Propargyl alcohol CH≡C-CH 2 OH
(2) Propargyl carbinol CH≡C—CH 2 —CH 2 OH

(3) 3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール

Figure 2005202392






(3) 3,5-Dimethyl-1-hexyn-3-ol
Figure 2005202392






(4) 3−メチル−1−ブチン−3−オール

Figure 2005202392
(4) 3-Methyl-1-butyn-3-ol
Figure 2005202392

(5) 3−メチル−1−ペンチン−3−オール

Figure 2005202392
(5) 3-Methyl-1-pentyn-3-ol
Figure 2005202392

(6) 1,4−ブチンジオール
HO−CH2−C≡C−CH2−OH
(6) 1,4-butynediol HO—CH 2 —C≡C—CH 2 —OH

(7) 2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール

Figure 2005202392
(7) 2,5-Dimethyl-3-hexyne-2,5-diol
Figure 2005202392

(8) 3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール

Figure 2005202392
(8) 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol
Figure 2005202392

(9) 2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール

Figure 2005202392
(9) 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol
Figure 2005202392

(10) 2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオールの酸化エチレン付加物

Figure 2005202392

(m+n=1〜30) (10) Ethylene oxide adduct of 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol
Figure 2005202392

(M + n = 1-30)

(11) 2,5,8,11−テトラメチル−6−ドデシン−5,8−ジオール

Figure 2005202392
(11) 2,5,8,11-tetramethyl-6-dodecin-5,8-diol
Figure 2005202392

これらのアセチレンアルコール、アセチレングリコールは市場で入手することができ、市販品として例えば Air Products and Chemicals Inc.の商品名サフィノールが知られている。市販品の具体例には、上記(3)としてサフィノール61、上記(4)としてオルフィンB、上記(5)としてオルフィンP、上記(7)としてオルフィンY、上記(8)としてサフィノール82、上記(9)としてサフィノール104、オルフィンAK−02、上記(10)としてサフィノール400シリーズ、上記(11)としてサフィノールDF−110などがある。   These acetylene alcohols and acetylene glycols can be obtained on the market, and for example, the product name Safinol of Air Products and Chemicals Inc. is known as a commercial product. Specific examples of commercially available products include: Safinol 61 as (3) above, Olfin B as (4) above, Olphine P as (5) above, Olphine Y as (7) above, Safinol 82 as above (8), ( 9) Safinol 104, Orphine AK-02, (10) Safinol 400 series, (11) Safinol DF-110, etc.

(キレート剤)
現像液には更にキレート剤を含有させてもよい。キレート剤としては、例えば、Na227、Na533、Na339、Na24P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることができる。このようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度およびその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させる。
(Chelating agent)
The developer may further contain a chelating agent. Examples of the chelating agent include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , calgon (sodium polymetaphosphate), etc. Polyethylene salt of, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its Potassium salt, sodium salt thereof; nitrilotriacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, potassium salt thereof Aminopolycarbonate, such as its sodium salt 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, potassium salt, sodium salt thereof; Phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt thereof, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt thereof And organic phosphonic acids such as sodium salts thereof. The optimum amount of such a chelating agent varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by mass, more preferably 0% in the developing solution at the time of use. It is made to contain in the range of 0.01-0.5 mass%.

(その他の添加剤)
本発明の画像形成方法に使用される現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤;この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。
(Other additives)
In addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer used in the image forming method of the present invention, if necessary. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid Organic carboxylic acids such as p-2-hydroxyethylbenzoic acid, decanoic acid, salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid; isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol, etc. In addition, chelating agents, reducing agents, dyes, pigments, water softeners, preservatives and the like can be mentioned.

上記の現像液は、露光されたネガ型画像形成材料の現像液および現像補充液として用いることができ、自動現像機に適用することが好ましい。自動現像機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の画像形成方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。
本発明の画像形成方法において使用される画像形成材料は、支持体上に、画像記録層と、任意に保護層と、を順次積層してなる画像形成材料であって、画像記録層が以下に述べる成分を含む組成物を含むことを特徴とする。
The developer described above can be used as a developer and a developer replenisher for the exposed negative type image forming material, and is preferably applied to an automatic developing machine. When developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing. Therefore, the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. This replenishment method is also preferably applied to the image forming method of the present invention.
The image forming material used in the image forming method of the present invention is an image forming material obtained by sequentially laminating an image recording layer and optionally a protective layer on a support, and the image recording layer is described below. Characterized in that it comprises a composition comprising the stated ingredients.

〔可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系〕
可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系とは、可視光線〜紫外線波長域の光を吸収して、光重合を開始し得る化合物を含む系を意味する。より具体的には、可視光線〜紫外線波長域、好ましくは330〜700nmに極大吸収波長を有する増感色素と、光重合開始剤との組み合わせが挙げられる。光重合開始剤は2種以上の光重合開始剤を用いてもよい(併用系)。このような光重合開始系として、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の、増感色素(染料)と、光開始剤あるいは2種以上の光開始剤の併用系を適宜選択して用いることができる。以下に具体例を列挙するがこれらに制限されるものではない。
[Photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible to ultraviolet wavelength range]
The photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible light to ultraviolet wavelength range means a system containing a compound that can absorb light in the visible light to ultraviolet wavelength range and initiate photopolymerization. More specifically, a combination of a sensitizing dye having a maximum absorption wavelength in the visible light to ultraviolet wavelength region, preferably 330 to 700 nm, and a photopolymerization initiator may be mentioned. Two or more photopolymerization initiators may be used as the photopolymerization initiator (combination system). As such a photopolymerization initiation system, various sensitizing dyes (dyes) known in patents, literatures, and the like depending on the wavelength of the light source used, and a combination system of a photoinitiator or two or more photoinitiators are used. It can be appropriately selected and used. Specific examples are listed below, but are not limited thereto.

400nm以上の可視光線、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第2,850,445号に記載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号、特開昭59−140203号、特開昭59−189340号、特開昭62−174203号、特公昭62−1641号、米国特許第4766055号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−258903号、特開平2−63054号など)染料とボレート化合物の系(特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開昭64−13140号、特開昭64−13141号、特開昭64−13142号、特開昭64−13143号、特開昭64−13144号、特開昭64−17048号、特開平1−229003号、特開平1−298348号、特開平1−138204号など)ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、特開平2−244050号)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−334897号)等を挙げることができる。   Various photoinitiating systems have been proposed in the case of using visible light of 400 nm or more, Ar laser, second harmonic of a semiconductor laser, or SHG-YAG laser as a light source, for example, US Pat. No. 2,850,445. Certain photoreducible dyes described in No. 1, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, etc., or a combination of a dye and an initiator, for example, a combined initiator system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189) , Hexaarylbiimidazole, radical generator and dye combination system (Japanese Examined Patent Publication No. 45-37377), hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Examined Patent Publication No. 47-2528, Japanese Unexamined Patent Publication No. 54- 155292), a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (Japanese Patent Laid-Open No. 48-84183), Azine and merocyanine dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 54-151024), 3-ketocoumarin and activator systems (Japanese Patent Laid-Open Nos. 52-111261, 58-15503), biimidazole, styrene derivatives, thiols System (JP 59-140203 A), organic peroxide and dye system (JP 59-1504, JP 59-140203, JP 59-189340, JP 62-174203). No. 6, JP-B 62-1641, US Pat. No. 4,766,055), dyes and active halogen compounds (JP-A 63-258903, JP-A 2-63054, etc.), dyes and borate compounds (JP A) JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141, JP-A-64-13142, JP-A-64- 13143, JP-A 64-13144, JP-A 64-17048, JP-A 1-222903, JP-A-1-298348, JP-A 1-138204, etc.) A dye having a rhodanine ring and a radical generator Systems (JP-A-2-17943, JP-A-2-244050), titanocene and 3-ketocoumarin dyes (JP-A 63-221110), titanocene and xanthene dyes, addition polymerization containing amino groups or urethane groups A combination of possible ethylenically unsaturated compounds (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), titanocene and a specific merocyanine dye system (JP-A-6-295061), having a titanocene and a benzopyran ring And dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 8-3344897).

また、最近400〜410nmの波長のレーザー(バイオレットレーザー)が開発され、それに感応する450nm以下の波長に高感度を示す光開始系が開発されており、これらの光開始系も使用される。例えば、カチオン色素/ボレート系(特開平11−84647)、メロシアニン色素/チタノセン系(特開2000−147763)、カルバゾール型色素/チタノセン系(特開2001−42524号公報)等を挙げることができる。本発明においては特にチタノセン化合物を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。   Recently, a laser (violet laser) having a wavelength of 400 to 410 nm has been developed, and a photoinitiating system exhibiting high sensitivity at a wavelength of 450 nm or less that responds to the laser has been developed, and these photoinitiating systems are also used. For example, a cationic dye / borate system (Japanese Patent Laid-Open No. 11-84647), a merocyanine dye / titanocene system (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-147663), a carbazole type dye / titanocene system (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-42524), and the like can be mentioned. In the present invention, a system using a titanocene compound is particularly preferable in terms of sensitivity.

チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を挙げることができる。   Various titanocene compounds can be used. For example, various titanocene compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197 can be appropriately selected and used. . More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4-di-fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2, - difluoro-1-yl, di - cyclopentadienyl -Ti- bis-2,6-difluoro-3- (pyrr-1-yl) - can be exemplified 1-yl and the like.

また、光重合開始系が、上述したチタノセン化合物と更にトリアジン化合物を含むことが好ましい。チタノセン化合物と併用するトリアジン化合物の例としては、下記一般式(I)で表されるハロメチルトリアジン化合物が挙げられる。   The photopolymerization initiation system preferably contains the above-mentioned titanocene compound and further a triazine compound. Examples of the triazine compound used in combination with the titanocene compound include halomethyltriazine compounds represented by the following general formula (I).

Figure 2005202392
Figure 2005202392

式中Q1及びQ2は、それぞれ独立にハロメチル基を表し、XはCOOH基を除く、ハメット(Hammett)のσ値が0〜+0.8までの範囲にある電子吸引性置換基を表し、nは0〜5の整数を表す。
なお、本発明においては、ハメットのσ値の定義はレフラー(J. E. Leffler)著、都野雄南訳「有機反応速度論」(東京、廣川書店、1968年発行)に従うものである。
本発明に用いられる一般式(I)で表されるトリアジン化合物において、ハメットのσ値が0〜+0.8までの範囲にある置換基Xの具体例としては、フェニル基、電子吸引基で置換されたフェニル基、ナフチル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、エトキシカルボニル基、−PO3H基、アルキル置換ホスホニル基、チオシアノ基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ジメチルスルホニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ヨージル基等を挙げることができる。
この中で好ましいものは、水素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、アセチル基、フェニル基、電子吸引基で置換されたフェニル基である。
一般式(I)で表される具体的な化合物の例としては以下のものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
In the formula, Q 1 and Q 2 each independently represent a halomethyl group, X represents an electron-withdrawing substituent having a Hammett's σ value ranging from 0 to +0.8, excluding the COOH group, n represents an integer of 0 to 5.
In the present invention, Hammett's σ value is defined by JE Leffler, translated by Yunan Tono, “Organic Reaction Kinetics” (Tokyo, Yodogawa Shoten, 1968).
In the triazine compound represented by the general formula (I) used in the present invention, specific examples of the substituent X having a Hammett's σ value ranging from 0 to +0.8 are substituted with a phenyl group or an electron withdrawing group. phenyl group, a naphthyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, an acetyl group, an ethoxycarbonyl group, -PO 3 H group, an alkyl-substituted phosphonyl group, thiocyano group, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, dimethyl sulfonyl group, fluorine An atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an iodoyl group, etc. can be mentioned.
Among these, preferred are a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, an acetyl group, a phenyl group, and a phenyl group substituted with an electron withdrawing group.
Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include the following compounds, but are not limited thereto.

Figure 2005202392
Figure 2005202392


















Figure 2005202392
Figure 2005202392

更に上記光開始系に必要に応じ、2−メルカプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール等のチオール化合物、N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキルアミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高められることが知られている。これらの光重合開始系の使用量は後述の少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物100重量部に対し、0.05〜100重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好ましくは0.2〜50重量部の範囲で用いられる。   Further, if necessary for the photoinitiating system, thiol compounds such as 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, and amines such as N-phenylglycine and N, N-dialkylamino aromatic alkyl esters It is known that the photoinitiating ability can be further enhanced by adding a hydrogen-donating compound such as a compound. The amount of these photopolymerization initiation systems used is 0.05 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group described later. More preferably, it is used in the range of 0.2 to 50 parts by weight.

〔少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物〕
少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物(以下エチレン性不飽和結合含有化合物とも呼ぶ)とは、画像記録層形成組成物が活性光線の照射を受けた時、光重合開始剤の作用により付加重合し、架橋、硬化するようなエチレン性不飽和基を少なくとも一つ有する化合物である。このような付加重合可能なエチレン性不飽和基を少なくとも一つ含む化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものである。
[Polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group]
A polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group (hereinafter also referred to as an ethylenically unsaturated bond-containing compound) is a photopolymerization initiator when the image recording layer forming composition is irradiated with actinic rays. It is a compound having at least one ethylenically unsaturated group that undergoes addition polymerization, crosslinking, and curing by the action of. The compound containing at least one ethylenically unsaturated group capable of addition polymerization can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.

モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エ−テル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated Examples include amides of carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds. Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol Diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrelane , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester Examples include acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス[p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]ジメチルメタン、ビス−[p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル]ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [ - (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p-(methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,5−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,5-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレシビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate. Furthermore, the mixture of the above-mentioned ester monomer can also be mentioned. Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.

その他の例としては、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   As another example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708 contains a hydroxyl group represented by the following general formula (A). Examples thereof include a vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer is added.

CH2=C(R)COOCH2CH(R')OH (A)
(ただし、RおよびR'はHあるいはCH3を示す。)
CH 2 = C (R) COOCH 2 CH (R ') OH (A)
(However, R and R represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接着協会誌Vo1.20, No.7, 300〜308ぺ−ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。なお、これら少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の使用量は、画像記録層全成分の5〜80質量%、好ましくは30〜70質量%の範囲で使用される。   Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193 and JP-B-2-32293, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, as described in each publication. Furthermore, those introduced as photo-curable monomers and oligomers in the Japan Adhesion Association magazine Vo 1.20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be used. The amount of the polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond is 5 to 80% by mass, preferably 30 to 70% by mass, based on the total components of the image recording layer.

〔バインダーポリマー〕
本発明の画像形成材料の画像記録層に用いられるバインダーポリマー(高分子結合剤)としては、該画像記録層の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が使用される。
この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
[Binder polymer]
The binder polymer (polymer binder) used in the image recording layer of the image forming material of the present invention is not only used as a film forming agent for the image recording layer but also needs to be dissolved in an alkaline developer. Organic polymer that is soluble or swellable is used.
Examples of such an organic polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP 59-44615, JP-B 54-34327, JP-B 58-12577, JP-B 54-. No. 25957, JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer Examples include polymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, and partially esterified maleic acid copolymers.

また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平7−120040号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途には有用である。
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, a product obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group is useful. Among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition-polymerizable vinyl monomers as required] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / as required Other addition polymerizable vinyl monomers] copolymers are preferred. In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamide, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.
JP-B-7-120040, JP-B-7-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271741 And JP-A-11-352691 are also useful for the use of the present invention.

これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照射によりラジカルになり得る官能基としてはメルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も有用である。   These polymer polymers can improve the strength of the cured film by introducing a radical reactive group into the side chain. Functional groups that can undergo an addition polymerization reaction include ethylenically unsaturated bond groups, amino groups, and epoxy groups, and functional groups that can become radicals upon light irradiation include mercapto groups, thiol groups, halogen atoms, triazine structures, and onium salt structures. In addition, examples of the polar group include a carboxyl group and an imide group. The functional group capable of undergoing addition polymerization reaction is particularly preferably an ethylenically unsaturated bond group such as an acryl group, a methacryl group, an allyl group, or a styryl group, but also an amino group, a hydroxy group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, or a carbamoyl group. A functional group selected from an isocyanate group, a ureido group, a ureylene group, a sulfonic acid group, and an ammonio group is also useful.

画像記録層の現像性を維持するためには、バインダーポリマーは適当な分子量、酸価を有することが好ましく、重量平均分子量で5000〜30万、酸価20〜200のバインダーポリマーが有効に使用される。
これらのバインダーポリマーは画像記録層全組成中に任意な量を混和させることができる。好ましくは10〜90%、より好ましくは30〜80%である。90重量%以下の場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えるため好ましい。またエチレン性不飽和結合含有化合物とバインダーポリマーは、重量比で1/9〜9/1の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/2てあり、更に好ましくは3/7〜7/3である。
In order to maintain the developability of the image recording layer, the binder polymer preferably has an appropriate molecular weight and acid value, and a binder polymer having a weight average molecular weight of 5000 to 300,000 and an acid value of 20 to 200 is effectively used. The
These binder polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition of the image recording layer. Preferably it is 10 to 90%, More preferably, it is 30 to 80%. In the case of 90% by weight or less, it is preferable because a preferable result is given in terms of the strength of the formed image. The ethylenically unsaturated bond-containing compound and the binder polymer are preferably in the range of 1/9 to 9/1 by weight. A more preferable range is 2/8 to 8/2, still more preferably 3/7 to 7/3.

〔その他の成分〕
また、上記画像形成材料の画像記録層においては、以上の基本成分の他に画像記録層用組成物(以下、感光性組成物ともいう)の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、画像記録層の固形分に対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の固形分に対して約0.5%〜約10%が好ましい。
[Other ingredients]
Further, in the image recording layer of the image forming material, in addition to the above basic components, ethylenic unsaturation that can be polymerized during the production or storage of the composition for image recording layer (hereinafter also referred to as photosensitive composition). It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to prevent unwanted thermal polymerization of the compound. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% with respect to the solid content of the image recording layer. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and unevenly distributed on the surface of the image recording layer in the drying process after coating. Good. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% to about 10% with respect to the solid content of the image recording layer.

更に画像記録層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料(C.I.Pigment Blue 15:3、15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添加量は画像記録層用全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は画像記録層用全組成物の10%以下が好ましい。   Furthermore, a colorant may be added for the purpose of coloring the image recording layer. Examples of the colorant include phthalocyanine pigments (CI Pigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, There are azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition for the image recording layer. In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, an additive such as an inorganic filler or a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, or tricresyl phosphate may be added. These addition amounts are preferably 10% or less of the total composition for the image recording layer.

〔画像形成材料の形成方法〕
本発明の画像形成材料の画像記録層組成物を後述のアルミニウム支持体上に塗布する際には、種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート−3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は1〜50重量%が適当である。
[Method of forming image forming material]
When the image recording layer composition of the image forming material of the present invention is applied on an aluminum support described later, it is used after being dissolved in various organic solvents. Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate-3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 1 to 50% by weight.

本発明の画像形成材料の画像記録層には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。画像記録層の被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜3g/m2である。 A surfactant can be added to the image recording layer of the image forming material of the present invention in order to improve the coating surface quality. The coverage of the image recording layer is suitably ranges from about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 in weight after drying. More preferably from 0.3 to 5 g / m 2. More preferably, it is 0.5-3 g / m < 2 >.

〔保護層〕
本発明の画像形成材料においては、通常、露光を大気中で行うため、画像記録層の上に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、画像記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3,458,311号、特開昭55−49729号に詳しく記載されている。
[Protective layer]
In the image forming material of the present invention, since the exposure is usually performed in the air, it is preferable to further provide a protective layer on the image recording layer. The protective layer prevents exposure of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that hinder the image formation reaction caused by exposure in the image recording layer to the image recording layer. Make it possible. Therefore, the properties desired for such a protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and furthermore, transmission of light used for exposure is not substantially inhibited, and adhesion to the image recording layer is improved. It is desirable that it is excellent and can be easily removed in the development process after exposure. Such a device for the protective layer has been conventionally devised, which is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100%加水分解され、分子量が300から2400の範囲のものを挙げる事ができる。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound that is relatively excellent in crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, Water-soluble polymers such as polyacrylic acid are known, but among these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100% and a molecular weight in the range of 300 to 2400.

具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。   Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。   Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure. In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic polymer layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization.

これに対し、これら2層間の接着性を改善すべく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第292,501号、米国特許第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを5〜80重量%混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する事ができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−49729号に詳しく記載されている。   On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in US Pat. No. 292,501 and US Pat. No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is added to a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol in an amount of 5 to 80. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing by weight% and laminating on the polymerized layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

さらに、保護層に他の機能を付与する事もできる。例えば、露光に使う、350nmから450nmの光の透過性に優れ、かつ500nm以上の光を効率良く吸収しうる、着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさらに高める事ができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (such as a water-soluble dye) that is excellent in the transmission of light from 350 nm to 450 nm and that can absorb light of 500 nm or more, which is used for exposure, it is safe light without causing a decrease in sensitivity. The aptitude can be further enhanced.

(支持体)
次に、画像形成材料の支持体について説明する。支持体は、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好ましい。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムまたはその合金(例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルとの合金)、またはアルミニウム、アルミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を意味し、通常その厚さは0.05mm〜1mm程度である。また特開昭48−18327号に記載の複合シートも使用することができる。
(Support)
Next, the support for the image forming material will be described. The support is not particularly limited, but an aluminum support is preferable. Aluminum supports are dimensionally stable aluminum or alloys thereof (eg, alloys with silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel), or aluminum or aluminum alloys laminated or deposited. It means a plastic film or paper, and its thickness is usually about 0.05 mm to 1 mm. A composite sheet described in JP-A-48-18327 can also be used.

アルミニウム支持体は適宜、後述の基板表面処理が施されることが好ましい。
(砂目立て処理)
砂目立て処理方法は、特開昭56−28893号に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。その中でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする方法であり、適する電流密度は100C/dm2〜400C/dm2の範囲である。さらに具体的には、0.1〜50%の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度20〜100℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で電解を行うことが好ましい。
The aluminum support is preferably subjected to substrate surface treatment described later as appropriate.
(Graining treatment)
Examples of the graining method include mechanical graining, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, electrochemical graining method that electrochemically grains in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and wire brush grain method that scratches aluminum surface with metal wire, and ball grain method that graines aluminum surface with abrasive balls and abrasives Further, a mechanical graining method such as a brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive can be used, and the above graining methods can be used alone or in combination. The method is a method of chemically graining in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution, suitable current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 ranges to make the surface roughness usefully employed in the present invention among them It is. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 100 ° C., for 1 second to 30 minutes, electrolysis at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to carry out.

このように砂目立て処理したアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃であり、Alの溶解量が5〜20g/m3となるような条件が好ましい。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65重量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発明で有効に用いられるAl支持体の表面粗さ(Ra)は0.3〜0.7μmである。 The grained aluminum support is chemically etched with acid or alkali. When an acid is used as an etching agent, it takes time to destroy the fine structure, which is disadvantageous when the present invention is applied industrially, but it can be improved by using an alkali as the etching agent. As the alkali agent suitably used in the present invention, caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like are used, and preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50 respectively. %, 20 to 100 ° C., and conditions such that the dissolution amount of Al is 5 to 20 g / m 3 are preferable. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65% by weight sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. In addition, the surface roughness (Ra) of the Al support effectively used in the present invention is 0.3 to 0.7 μm.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施されることが好ましい。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が1〜80%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜100秒の範囲が適当である。
(Anodizing treatment)
The aluminum support treated as described above is preferably further subjected to an anodizing treatment. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution by combining sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc. An anodized film can be formed. The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and therefore cannot be determined in general. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80%, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. A range of ˜60 amperes / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 to 100 seconds is appropriate.

これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第3,511,661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明においては、陽極酸化皮膜は1〜10g/m2であることが好ましく、1g/m2以上であると版に傷が入り難く、10g/m2以下であると製造に多大な電力が不要となり、経済的に有利である。好ましくは、1.5〜7g/m2である。更に好ましくは、2〜5g/m2である。 Among these anodizing treatments, a method for anodizing at a high current density in sulfuric acid and U.S. Pat. No. 3,511,661, particularly described in British Patent 1,412,768. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred. In the present invention, the anodized film is preferably from 1~10g / m 2, 1g / m 2 or more plate on difficult to enter scratches If it is, a great deal power production and is 10 g / m 2 or less This is unnecessary and is economically advantageous. Preferably, a 1.5~7g / m 2. More preferably 2-5 g / m 2.

更に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。かかる封孔処理は、熱水又は無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。また本発明のアルミニウム支持体にはアルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理又はシリケート処理以外の処理、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。   Furthermore, in the present invention, the aluminum support may be subjected to sealing treatment after graining treatment and anodizing. Such sealing treatment is performed by immersing the substrate in hot water or a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like. The aluminum support of the present invention may be subjected to a surface treatment such as a silicate treatment with an alkali metal silicate or a treatment other than the silicate treatment, for example, an immersion treatment in an aqueous solution of potassium fluorinated zirconate or phosphate.

上記の如く表面処理を施されたアルミニウム支持体上に、前記の光重合性組成物からなる画像記録層を形成することで、本発明の画像形成材料を作製するが、画像記録層を塗設する前に必要に応じて有機または無機の中間層が設けられてもかまわない。   An image recording material of the present invention is produced by forming an image recording layer comprising the photopolymerizable composition on the aluminum support that has been surface-treated as described above. An organic or inorganic intermediate layer may be provided as necessary before the treatment.

〔中間層〕
本発明における画像形成材料には、画像記録層と基板との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−84674号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352824号、特願平11−284091号明細書、特開2001−209170号等に記載のものを挙げることができる。
[Middle layer]
In the image forming material of the present invention, an intermediate layer may be provided for the purpose of improving the adhesion and dirtiness between the image recording layer and the substrate. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, JP-A-10-69092, JP-A-10-115931, Kaihei 11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-10-301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-10-319600 No. 11-84684, No. 11-327152, No. 2000-10292, No. 2000-235254, No. 2000-352824, Japanese Patent Application No. 11-284091, No. 2001-209170, etc. Can be mentioned.

〔露光及び現像処理〕
本発明における画像形成材料を、例えば、カーボンアーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリウムカドミニウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、FD・YAGレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー(350nm〜600nm)等の従来公知の活性光線で画像露光した後、現像処理することにより、アルミニウム板支持体表面に画像を形成することができる。画像露光後、現像までの間に、重合性画像記録層の硬化率を高める目的で50℃〜150℃の温度で1秒〜5分の時間の加熱プロセスを設けることを行っても良い。
[Exposure and development processing]
The image forming material in the present invention is, for example, a carbon arc lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a helium cadmium laser, an argon ion laser, an FD / YAG laser, a helium neon laser, a semiconductor. An image can be formed on the surface of the aluminum plate support by exposing the image with a conventionally known actinic ray such as a laser (350 nm to 600 nm) and then developing it. In order to increase the curing rate of the polymerizable image recording layer after image exposure and before development, a heating process may be performed at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C. for a period of 1 second to 5 minutes.

また、本発明において画像記録層の上には、前述したように、通常、酸素遮断性を有するオーバーコート層が設けてあり、本発明における現像液を用いて、オーバーコート層の除去と画像記録層未露光部の除去を同時に行う方法、または、水、温水でオーバーコート層を先に除外し、その後未露光部の画像記録層を現像で除去する方法が知られている。これらの水または温水には特開平10−10754号公報に記載の防腐剤等、特開平8−278636号公報に記載の有機溶剤等を含有させることができる。   In the present invention, as described above, an overcoat layer having oxygen barrier properties is usually provided on the image recording layer, and the developer in the present invention is used to remove the overcoat layer and perform image recording. A method of simultaneously removing the unexposed layer or a method of removing the overcoat layer first with water and warm water and then removing the image recording layer of the unexposed portion by development is known. These water or warm water can contain a preservative described in JP-A-10-10754, an organic solvent described in JP-A-8-278636, and the like.

本発明において画像形成材料の現像は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した画像形成材料を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。   In the present invention, the image forming material is developed according to a conventional method at a temperature of about 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., for example, by immersing the exposed image forming material in a developer and rubbing with a brush. Do.

さらに自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。このようにして現像処理された画像形成材料は特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号などの各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムやデンプン誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明において画像形成材料の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。また画像形成材料が平版印刷版原版である場合には、上記のような処理により得られた印刷版は特開2000−89478号公報に記載の方法による後露光処理やバーニングなどの加熱処理により、耐刷性を向上させることができる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。   Further, when developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. The image forming material thus developed is washed with water, a surfactant and the like as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045, 59-58431, and the like. And a desensitizing solution containing gum arabic, starch derivatives and the like. In the present invention, these treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the image forming material. When the image forming material is a lithographic printing plate precursor, the printing plate obtained by the above treatment is subjected to a heat treatment such as post-exposure treatment or burning by the method described in JP-A-2000-89478. Printing durability can be improved. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

本発明の画像形成材料が平版印刷版原版である場合には、以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。印刷時、版上の汚れ除去のためプレートクリーナーを使用してもよい。プレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが用いることができ、例えば、CL−1,CL−2,CP,CN−4,CN,CG−1,PC−1,SR,IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。   In the case where the image forming material of the present invention is a lithographic printing plate precursor, the lithographic printing plate obtained by the above processing is applied to an offset printing machine and used for printing a large number of sheets. During printing, a plate cleaner may be used to remove stains on the plate. As the plate cleaner, a conventionally known plate cleaner for PS plate can be used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the like.

以下に本発明を実施例によって具体的に説明するが、勿論、本発明の範囲はこれらにより制限されるものではない。初めに以下のようにして、画像形成材料として平版印刷版原版(1)〜(4)を作成した。
〔平版印刷原版(1)〕
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板を水でよく洗浄し、10%水酸化ナトリウムに70℃60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗、その後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、1.5%硝酸水溶液中で270クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.30μm(Ra表示)であった。引き続いて、30%の硫酸水溶液中に浸漬し、40℃で2分間デスマットした後、33℃、20%硫酸水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において、50秒陽極酸化したところ厚さが2.7g/m2であった。
このように処理されたアルミニウム版上に、下記組成の中間層用塗布液を塗布し、乾燥塗布重量が2mg/m2に塗布し、100℃で3分乾燥した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but of course, the scope of the present invention is not limited by these examples. First, lithographic printing plate precursors (1) to (4) were prepared as image forming materials as follows.
[Lithographic printing plate (1)]
A 0.3 mm thick material 1S aluminum plate was thoroughly washed with water, etched by dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washed with running water, then neutralized and washed with 20% nitric acid, and washed with water. . This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1.5% nitric acid aqueous solution with an electric quantity at the anode of 270 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating current under the condition of V A = 12.7V. When the surface roughness was measured, it was 0.30 μm (Ra indication). Subsequently, after dipping in a 30% aqueous sulfuric acid solution and desmutting at 40 ° C. for 2 minutes, a cathode was placed on the grained surface in a 33 ° C., 20% aqueous sulfuric acid solution at a current density of 5 A / dm 2 . When anodized for 50 seconds, the thickness was 2.7 g / m 2 .
On the aluminum plate thus treated, an intermediate layer coating solution having the following composition was applied, applied to a dry coating weight of 2 mg / m 2, and dried at 100 ° C. for 3 minutes.

<中間層用塗布液>
下記組成を混合攪拌すると、約5分後に発熱が見られるが、これを60分間反応させた後、メタノール20,000gを加えた。
<Coating liquid for intermediate layer>
When the following composition was mixed and stirred, an exotherm was observed after about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, 20,000 g of methanol was added.

メタノール 100g
DDP−8(燐酸化合物:日光ケミカル製) 15g
水 10g
燐酸 5g
テトラエトキシシラン 50g
3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 50g
Methanol 100g
DDP-8 (phosphate compound: manufactured by Nikko Chemical) 15g
10g of water
Phosphoric acid 5g
Tetraethoxysilane 50g
3-Methacryloxypropyltriethoxysilane 50g

この下塗り層上に、下記組成の高感度光重合性組成物1を乾燥塗布重量が1.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ画像記録層を形成した。 On this undercoat layer, a high-sensitivity photopolymerizable composition 1 having the following composition was applied such that the dry coating weight was 1.5 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 90 seconds to form an image recording layer.

<光重合性組成物1>
エチレン性不飽和結合含有化合物(A1) 1.8g
バインダーポリマー(B1) 1.5g
増感剤(C1) 0.15g
光開始剤(D1) 0.2g
β−フタロシアニン(F1)分散物 0.2g
フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177(DIC製) 0.03g
メチルエチルケトン 10g
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 10g



































<Photopolymerizable composition 1>
1.8g of ethylenically unsaturated bond-containing compound (A1)
Binder polymer (B1) 1.5g
Sensitizer (C1) 0.15 g
Photoinitiator (D1) 0.2g
β-phthalocyanine (F1) dispersion 0.2 g
Fluorine nonionic surfactant Megafac F177 (manufactured by DIC) 0.03g
Methyl ethyl ketone 10g
10g of propylene glycol monomethyl ether acetate



































Figure 2005202392
Figure 2005202392

このように形成された光重合性画像記録層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ、平版印刷版原版(1)を得た。 A 3 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) was applied on the photopolymerizable image recording layer thus formed so that the dry application weight was 2.5 g / m 2. And dried at 100 ° C. for 90 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor (1).

〔平版印刷版原版(2)〕
上記平版印刷版原版(1)において、光重合性組成物1におけるC−1をC−2(後述)に変更した光重合性組成物2を使用した以外は同様の方法で、平版印刷版原版(2)を作成した。
[Lithographic printing plate precursor (2)]
The lithographic printing plate precursor (1) is the same as the lithographic printing plate precursor (1) except that the photopolymerizable composition 2 in which C-1 in the photopolymerizable composition 1 is changed to C-2 (described later) is used. (2) was created.

〔平版印刷版原版(3)〕
平版印刷版原版(2)において、光重合性組成物2に更にトリアジン化合物(I)−1を0.1g添加した光重合性組成物3を用いた以外は同様の方法で、平版印刷版原版(3)を作成した。
[Lithographic printing plate precursor (3)]
The planographic printing plate precursor (2) is the same as the planographic printing plate precursor (2) except that the photopolymerizable composition 3 obtained by adding 0.1 g of the triazine compound (I) -1 to the photopolymerizable composition 2 is used. (3) was created.

〔平版印刷版原版(4)〕
厚さ0.30mmの材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロンブラシと800メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、1%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.45μm(Ra表示)であった。引き続いて、30%のH2SO4水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、20%H2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において50秒間陽極酸化したところ、厚さが2.7g/m2の陽極酸化被膜が形成された。
[Lithographic printing plate precursor (4)]
An aluminum plate made of material 1S having a thickness of 0.30 mm was used with a No. 8 nylon brush and an aqueous suspension of 800 mesh Pamiston, and its surface was grained and washed thoroughly with water. After etching by immersing in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washed with running water, neutralized and washed with 20% HNO 3 and washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution with a quantity of electricity at the anode of 300 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of V A = 12.7V. When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra indication). Subsequently, after dipping in a 30% H 2 SO 4 aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, a cathode was placed on the grained surface in a 33 ° C., 20% H 2 SO 4 aqueous solution. When anodization was performed for 50 seconds at a density of 5 A / dm 2 , an anodized film having a thickness of 2.7 g / m 2 was formed.

上記の陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム板に、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム共重合体(60/25/15モル比、分子量Mn=3万)を、水/メタノール=5g/95gに溶解した液を塗布量が3mg/m2となるように塗布し、80℃、30秒間乾燥させたものを支持体とした。 On the aluminum plate on which the anodized film is formed, methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium copolymer (60/25/15 molar ratio, molecular weight Mn = 30,000) A support obtained by applying a solution dissolved in water / methanol = 5 g / 95 g so that the coating amount was 3 mg / m 2 and drying at 80 ° C. for 30 seconds was used.

この中間層上に、下記組成の光重合性組成物4を乾燥塗布重量が1.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ画像記録層を形成した。 On this intermediate layer, a photopolymerizable composition 4 having the following composition was applied such that the dry coating weight was 1.5 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 90 seconds to form an image recording layer.

<光重合性組成物4>
エチレン性不飽和結合含有化合物(A2) 1.5g
バインダーポリマー(B2) 1.8g
増感剤(C2) 0.1g
上記光開始剤(D1) 0.2g
β−フタロシアニン(F1)分散物 0.2g
フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177(DIC製) 0.03g
メチルエチルケトン 10g
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 10g

















<Photopolymerizable composition 4>
Ethylenically unsaturated bond-containing compound (A2) 1.5 g
Binder polymer (B2) 1.8g
Sensitizer (C2) 0.1g
0.2 g of the above photoinitiator (D1)
β-phthalocyanine (F1) dispersion 0.2 g
Fluorine nonionic surfactant Megafac F177 (manufactured by DIC) 0.03g
Methyl ethyl ketone 10g
10g of propylene glycol monomethyl ether acetate

















Figure 2005202392
Figure 2005202392

このように形成された光重合性画像記録層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ、平版印刷版原版(4)を得た。 A 3 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) was applied on the photopolymerizable image recording layer thus formed so that the dry application weight was 2.5 g / m 2. And dried at 100 ° C. for 90 seconds to obtain a planographic printing plate precursor (4).

これらの平版印刷版原版の内、平版印刷版原版(1)(光重合性組成物1)はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で、平版印刷版原版(2)〜(4)(光重合性組成物2〜4)はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、露光量を変え、2400dpiで175線の条件で画像露光した。
現像は下記組成の現像液およびフィニッシングガム液FP−2W(富士写真フイルム社製)を仕込んだ自動現像機(富士写真フイルム社製LP−850P2)で標準処理を行った。
Among these lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursor (1) (photopolymerizable composition 1) is an FD • YAG laser (plate jet 4 manufactured by CSI), and the lithographic printing plate precursors (2) to (4) (Photopolymerizable compositions 2 to 4) were subjected to image exposure under conditions of 175 lines at 2400 dpi with a Violet laser (Luxel Vx9600CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with different exposure amounts.
Development was carried out by standard processing using an automatic processor (LP-850P2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) charged with a developer having the following composition and finishing gum solution FP-2W (Fuji Photo Film Co., Ltd.).

<現像液>
下記成分を水に溶解し、現像液を調製した。
炭酸塩 A mol/L
炭酸水素塩 B mol/L (A+B=a mol/L)
界面活性剤 C g/L
珪酸塩 D g/L (SiO2成分 b mol/L)
2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール 1g/L
エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩(キレート剤) 2g/L



<Developer>
The following components were dissolved in water to prepare a developer.
Carbonate A mol / L
Bicarbonate B mol / L (A + B = a mol / L)
Surfactant C g / L
Silicate D g / L (SiO 2 component b mol / L)
2,4,7,9-Tetramethyl-5-decyne-4,7-diol 1g / L
Ethylenediaminetetraacetic acid, 4Na salt (chelating agent) 2g / L



Figure 2005202392
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[評価]
現像性評価の指標として、アルカリ現像液による非画像部の現像速度を測定し、また、耐刷性評価の指標として、アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度を測定した。
以下に、本発明における「アルカリ現像液による非画像部の現像速度」及び「アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度」の測定方法について詳細に説明する。
[Evaluation]
The development speed of the non-image area with an alkaline developer was measured as an index for evaluation of developability, and the penetration speed of the alkaline developer into the image recording layer was measured as an index for evaluation of printing durability.
Hereinafter, a method for measuring the “development speed of the non-image area with the alkali developer” and the “penetration speed of the alkali developer into the image recording layer” in the present invention will be described in detail.

<アルカリ現像液による非画像部の現像速度の測定>
ここで、アルカリ現像液による非画像部の現像速度とは、画像記録層(非画像部)の膜厚(μm)を現像に要する時間(sec)で除した値である。
本発明における現像速度の測定方法としては、図1に示すように、アルミニウム支持体上に未露光の画像記録層を備えたものを範囲の一定のアルカリ現像液(30℃)中に浸漬し、画像記録層の溶解挙動をDRM干渉波測定装置で調査した。図1に、画像記録層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の概略図を示す。本発明においては、640nmの光を用い干渉により膜厚の変化を検出した。現像挙動が画像記録層表面からの非膨潤的現像の場合、膜厚は現像時間に対して徐々に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。また、膨潤的溶解(脱膜的溶解)の場合には、膜厚は現像液の浸透により変化するため、きれいな干渉波が得られない。
<Measurement of development speed of non-image area with alkali developer>
Here, the developing speed of the non-image area with the alkali developer is a value obtained by dividing the film thickness (μm) of the image recording layer (non-image area) by the time (sec) required for development.
As a measuring method of the developing speed in the present invention, as shown in FIG. 1, the one provided with an unexposed image recording layer on an aluminum support is immersed in a certain alkaline developer (30 ° C.) in a range, The dissolution behavior of the image recording layer was investigated with a DRM interference wave measuring device. FIG. 1 shows a schematic diagram of a DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of an image recording layer. In the present invention, a change in film thickness was detected by interference using light of 640 nm. When the development behavior is non-swelling development from the surface of the image recording layer, the film thickness gradually decreases with respect to the development time, and an interference wave corresponding to the thickness can be obtained. Further, in the case of swelling dissolution (film removal dissolution), the film thickness changes due to the penetration of the developer, so that a clean interference wave cannot be obtained.

この条件において測定を続け、画像記録層が完全に除去され、膜厚が0となるまでの時間(現像完了時間)(s)と、画像記録層の膜厚(μm)より、現像速度を以下の式により求めることができる。この現像速度が大きいものほど、現像液により容易に膜が除去され、現像性が良好であると判定する。
(未露光部の)現像速度=〔画像記録層厚(μm)/記録完了時間(sec)〕
実技性能との対応を得るため、版材の現像性試験をった(現像性評価参照)。
The measurement is continued under these conditions, and the development speed is determined from the time until the image recording layer is completely removed and the film thickness becomes zero (development completion time) (s) and the film thickness (μm) of the image recording layer. It can obtain | require by the type | formula. It is determined that the higher the development speed, the easier the film is removed by the developer and the better the developability.
Development speed (of unexposed area) = [Image recording layer thickness (μm) / Recording completion time (sec)]
In order to obtain correspondence with practical performance, the developability test of the plate material was performed (see developability evaluation).

<アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度の測定>
また、アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度とは、導電性支持体上に前記画像記録層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
本発明における浸透性の目安となる静電容量の測定方法としては、図2に示すように、アルカリ現像液(28℃)中に、露光して(光重合性組成物1はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で、露光量を0.25mJ/cm2、光重合性組成物2〜4はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、露光量を0.05mJ/cm2露光)、硬化した画像記録層を備えたアルミニウム支持体を一方の電極として浸漬し、アルミニウム支持体に導線をつなぎ、他方に通常の電極を用いて電圧を印加する方法が挙げられる。電圧を印加後、浸漬時間の経過に従って現像液が支持体と画像記録層との界面に浸透し、静電容量が変化する。
<Measurement of penetration rate of alkali developer into image recording layer>
Further, the permeation speed of the alkali developer into the image recording layer is a value indicating the change speed of the capacitance (F) when the image recording layer is formed on a conductive support and immersed in the developer. It is.
As shown in FIG. 2, the method of measuring the electrostatic capacity, which is a measure of permeability in the present invention, is exposed to an alkali developer (28 ° C.) (the photopolymerizable composition 1 is an FD / YAG laser). (Plate jet 4 manufactured by CSI), the exposure amount is 0.25 mJ / cm 2 , and the photopolymerizable compositions 2 to 4 are Violet laser (Fuji Photo Film's Raxel Vx9600CTP), and the exposure amount is 0.05 mJ / cm 2 exposure), an aluminum support provided with a cured image recording layer is immersed as one electrode, a lead wire is connected to the aluminum support, and a voltage is applied to the other using a normal electrode. After the voltage is applied, the developer permeates the interface between the support and the image recording layer as the immersion time elapses, and the capacitance changes.

この静電容量が変化するまでにかかる時間(s)と、画像記録層の膜厚(μm)より以下の式により求めることができる。この浸透速度が小さいものほど、現像液の浸透性が低いと判定する。
(露光部の)現像液浸透速度=
〔画像記録層厚(μm)/静電容量変化が一定になるまでに要する時間(s)〕
実技性能との対応を得るため、得られた版材を印刷機にかけ耐刷性試験を行った(耐刷性評価参照)。
From the time (s) required until the capacitance changes and the film thickness (μm) of the image recording layer, it can be obtained by the following equation. It is determined that the smaller the permeation rate, the lower the permeability of the developer.
Developer penetration rate (of exposed area) =
[Image recording layer thickness (μm) / Time required for capacitance change to be constant (s)]
In order to obtain correspondence with practical performance, the obtained plate material was subjected to a printing durability test on a printing press (see printing durability evaluation).

本発明の平版印刷版原版における画像記録層の物性としては、アルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上が好ましく、より好ましくは80〜400nm/secであり、更に好ましくは90〜200nm/secである。また、アルカリ現像液の露光部における浸透速度は100nF/sec以下であることが好ましく、より好ましくはは90nF/sec以下、更に好ましくは80nF/sec以下である。   As the physical properties of the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention, the development rate of the unexposed portion with respect to the alkaline developer is preferably 80 nm / sec or more, more preferably 80 to 400 nm / sec, and still more preferably 90 to 200 nm / sec. The penetration rate of the alkali developer in the exposed area is preferably 100 nF / sec or less, more preferably 90 nF / sec or less, and still more preferably 80 nF / sec or less.

(現像性評価)
富士写真フイルム社製LP-850PIIを用い、28℃18秒で現像し、実際の非画像部の現像性を観察した。
(耐刷性評価)
得られた平版印刷版原版を、光重合性組成物1はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で2400dpiで175線、0.25mJ/cm2で画像露光、光重合性組成物2、3はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、2400dpiで175線、0.05mJ/cm2で画像露光した。露光後、水道水による水洗により保護層を除去した後、富士写真フイルム社製LP-850PIIを用い、28℃18秒で現像した。フィニッシャーは、富士フイルム(株)社製FP−2Wの1:1水希釈液を用いた。
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷し、刷了枚数を耐刷性の指標とした。
(Developability evaluation)
Development was performed at 28 ° C. for 18 seconds using LP-850PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and the developability of the actual non-image area was observed.
(Evaluation of printing durability)
The resulting lithographic printing plate precursor was subjected to photopolymerization composition 1 using an FD • YAG laser (CSI Co., Ltd., plate jet 4) at 2400 dpi, 175 lines, image exposure at 0.25 mJ / cm 2 , and photopolymerizable composition 2 No. 3 was a Violet laser (Laxel Vx9600CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and image exposure was performed at 2400 dpi at 175 lines and 0.05 mJ / cm 2 . After the exposure, the protective layer was removed by rinsing with tap water, and then developed at 28 ° C. for 18 seconds using LP-850PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FP-2W manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used.
The obtained lithographic printing plate was printed using a printing press Lithron manufactured by Komori Corporation, and the number of finished sheets was used as an index of printing durability.

(空気中炭酸ガスによるpH低下)
各現像液を富士写真フイルム社製LP-850PIIに仕込み、1日版材を処理せず、放置した後のpH変動を求めた。
(PH drop due to carbon dioxide in the air)
Each developer was charged into LP-850PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and the plate material was not processed for 1 day, and the pH fluctuation after standing was determined.

(感度が±10%変動した際の、現像液pHラチチュード評価)
得られた平版印刷版原版を、光重合性組成物1はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で2400dpiで175線、0.25mJ/cm2で画像露光、光重合性組成物2、3はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、2400dpiで175線、0.05mJ/cm2で画像露光した。露光後、水道水による水洗により保護層を除去した後、富士写真フイルム社製LP−1310HIIを用い、30℃12秒で実施例、比較例の各現像液で現像した。フィニッシャーは、富士フイルム(株)社製FP−2Wの1:1水希釈液を用いた。
現像して得られた平版印刷版の画像部濃度を、マクベス反射濃度計RD−918を使用し、該濃度計に装備されている赤フィルターを用いてシアン濃度を測定した。測定した濃度が0.8を得るのに必要な露光量の逆数を感度の指標とした。


























(Evaluation of developer pH latitude when sensitivity varies ± 10%)
The resulting lithographic printing plate precursor was subjected to photopolymerization composition 1 using an FD • YAG laser (CSI Co., Ltd., plate jet 4) at 2400 dpi, 175 lines, image exposure at 0.25 mJ / cm 2 , and photopolymerizable composition 2 No. 3 was a Violet laser (Laxel Vx9600CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and image exposure was performed at 2400 dpi at 175 lines and 0.05 mJ / cm 2 . After the exposure, the protective layer was removed by washing with tap water, and then developed with each developer of Examples and Comparative Examples at 30 ° C. for 12 seconds using LP-1310HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FP-2W manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used.
The density of the image portion of the lithographic printing plate obtained by development was measured using a Macbeth reflection densitometer RD-918, and the cyan density using a red filter equipped in the densitometer. The reciprocal of the exposure necessary to obtain a measured density of 0.8 was used as an index of sensitivity.


























Figure 2005202392
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Figure 2005202392
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Figure 2005202392
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上記表中、現像性評価において○は残膜なしを表す。
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In the above table, ◯ in the evaluation of developability indicates no remaining film.

表2〜5の結果から明らかなように、本発明の画像形成方法により、画像形成材料へのダメージが少ない比較的低いpH(8.5〜11.5)でも十分な現像性が得られ、良好な耐刷性が得られた。また、現像液のpH変動が小さいことから、炭酸ガスによる現像活性の低下が小さいと考えられる(表2〜5、現像液1〜13)。一方、本発明の画像形成方法によらず、画像形成を行った場合には、残膜が生じて十分な現像性が確保できなかったり、耐刷性が低下するという現象が見られた(表2〜5、比較現像液14〜20)。   As is apparent from the results in Tables 2 to 5, the image forming method of the present invention provides sufficient developability even at a relatively low pH (8.5 to 11.5) with little damage to the image forming material, and good printing durability. Sex was obtained. Further, since the pH fluctuation of the developer is small, it is considered that the decrease in the development activity due to carbon dioxide gas is small (Tables 2 to 5, Developers 1 to 13). On the other hand, regardless of the image forming method of the present invention, when image formation was performed, a phenomenon was observed in which a residual film was formed and sufficient developability could not be ensured, or printing durability was reduced (Table 1). 2-5, comparative developers 14-20).

画像記録層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the DRM interference wave measuring apparatus for measuring the melt | dissolution behavior of an image recording layer. 現像液の画像記録層への浸透性を評価するのに用いられる静電容量の測定方法の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the measuring method of the electrostatic capacitance used in evaluating the permeability to the image recording layer of a developing solution.

Claims (11)

支持体上に可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系、少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物、およびバインダーポリマーを含む画像記録層が形成されたネガ型画像形成材料を画像露光した後、少なくとも一種の炭酸塩および少なくとも一種の炭酸水素塩と、少なくとも一種のアルカリ珪酸塩を含み、炭酸塩と炭酸水素塩合計モル数aとアルカリ珪酸塩中のSiO2成分のモル数bの比a:b=1:0.3〜1:2であり、かつaとbの合計モル濃度a+b=0.1〜2mol/Lであり、pH9〜13.0であること特徴とする現像液の現像液を用いて現像することを特徴とする画像形成方法。 Negative type in which an image recording layer comprising a photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible to ultraviolet wavelength range, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group, and a binder polymer is formed on a support. After image exposure of the image-forming material, it contains at least one carbonate and at least one bicarbonate and at least one alkali silicate, the total number of moles of carbonate and bicarbonate a, and SiO 2 in the alkali silicate. The ratio of the number of moles b of the components a: b = 1: 0.3 to 1: 2, the total molar concentration of a and b a + b = 0.1 to 2 mol / L, and a pH of 9 to 13.0 An image forming method, wherein the development is carried out using the developer. 該現像液が、アニオン界面活性剤及びノニオン界面活性剤からなる群より選択される少なくとも一つの界面活性剤を1〜10質量%含む請求項1記載の画像形成方法。 2. The image forming method according to claim 1, wherein the developer contains 1 to 10% by mass of at least one surfactant selected from the group consisting of an anionic surfactant and a nonionic surfactant. アニオン界面活性剤が、スルホン酸のアニオン基または硫酸モノエステルのアニオン基を有し、かつ置換基を有していてもよい少なくとも一つの芳香族基を有するアニオン界面活性剤である、請求項2記載の画像形成方法。 The anionic surfactant is an anionic surfactant having an anionic group of sulfonic acid or an anionic group of sulfuric monoester and having at least one aromatic group which may have a substituent. The image forming method described. ノニオン界面活性剤が、下記式(1)のノニオン芳香族エーテル系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤である、請求項2記載の画像形成方法:
X−Y−O−(A)n−(B)m−H (1)
(式中、Xは置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Yは単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、A及びBは互いに異なる基であって、−CH2CH2O−又は−CH2CH(CH3)O−のいずれかを表し、n、mはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しnとmは同時に0ではなく、またn若しくはmのいずれかが0である場合にはn及びmは1ではない。)。
The image forming method according to claim 2, wherein the nonionic surfactant is at least one surfactant selected from the group consisting of nonionic aromatic ether surfactants of the following formula (1):
X-Y-O- (A) n- (B) m-H (1)
(In the formula, X represents an aromatic group which may have a substituent, Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A and B are groups different from each other, and- Represents either CH 2 CH 2 O— or —CH 2 CH (CH 3 ) O—, n and m each represents 0 or an integer of 1 to 100, provided that n and m are not 0 at the same time, and n Or, if either m is 0, n and m are not 1.)
該炭酸塩が無機アルカリの炭酸塩からなる群より選択される少なくとも一種であり、該炭酸水素塩が無機アルカリの炭酸水素塩からなる群より選択される少なくとも一種である請求項1〜4のいずれか一項に記載の画像形成方法。 5. The method according to claim 1, wherein the carbonate is at least one selected from the group consisting of inorganic alkali carbonates, and the hydrogen carbonate is at least one selected from the group consisting of inorganic alkali hydrogen carbonates. The image forming method according to claim 1. 該炭酸塩が炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、及び炭酸アンモニウムからなる群より選択される少なくとも一種であり、該炭酸水素塩が炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、及び炭酸水素アンモニウムからなる群より選択される少なくとも一種である請求項1〜4のいずれか一項に記載の画像形成方法。 The carbonate is at least one selected from the group consisting of potassium carbonate, sodium carbonate, and ammonium carbonate, and the hydrogen carbonate is at least selected from the group consisting of potassium bicarbonate, sodium bicarbonate, and ammonium bicarbonate. The image forming method according to claim 1, wherein the image forming method is one type. 該現像液が、消泡剤を更に含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の画像形成方法。 The image forming method according to claim 1, wherein the developer further contains an antifoaming agent. 該消泡剤がアセチレンアルコール及びアセチレングリコールからなる群より選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項7に記載の画像形成方法。 The image forming method according to claim 7, wherein the antifoaming agent is at least one selected from the group consisting of acetylene alcohol and acetylene glycol. 可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系が、330〜700nmに極大吸収波長を有する増感色素と光重合開始剤を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の画像形成方法。 The photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible light to ultraviolet wavelength region contains a sensitizing dye having a maximum absorption wavelength at 330 to 700 nm and a photopolymerization initiator. Image forming method. 光重合開始系がチタノセン化合物を含む、請求項9に記載の画像形成方法。 The image forming method according to claim 9, wherein the photopolymerization initiation system contains a titanocene compound. 光重合開始系がチタノセン化合物及びトリアジン化合物を含む、請求項9に記載の画像形成方法。 The image forming method according to claim 9, wherein the photopolymerization initiation system includes a titanocene compound and a triazine compound.
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