JP2005188717A - Method of recovering gas and gas recovery device and gas recovery system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、パーフルオロ化合物ガス等のガス供給設備またはガス使用設備から排気（流出）されるガスを回収するガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムに関するものである。 The present invention relates to a gas recovery method, a gas recovery apparatus, and a gas recovery system for recovering a gas exhausted (outflowed) from a gas supply facility such as a perfluoro compound gas or a gas use facility.
従来から、半導体製造でのドライエッチングやＣＶＤでのドライクリーニング等に、ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，Ｃ4 Ｆ6 ，Ｃ4 Ｆ8 ，Ｃ5 Ｆ8 ，ＣＨＦ3 ，ＣＨ2 Ｆ2 等のパーフルオロ化合物（以下、単に「ＰＦＣ」という）ガス，ＳＦ6 ガス，ＮＦ3 ガス等が使用されている。これらＰＦＣガス等は、そのガスを供給するガス供給設備から、配管を通って、ドライエッチング設備やＣＶＤ設備等の、ＰＦＣガス等を使用するガス使用設備に供給される。 Conventionally, CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 6 , C 4 F 8 , C 5 F 8 , CHF 3 , CH are used for dry etching in semiconductor manufacturing, dry cleaning by CVD, and the like. A perfluoro compound (hereinafter simply referred to as “PFC”) gas such as 2 F 2 , SF 6 gas, NF 3 gas or the like is used. These PFC gases and the like are supplied from a gas supply facility that supplies the gas to a gas using facility that uses PFC gas or the like, such as a dry etching facility or a CVD facility, through a pipe.
ＰＦＣガスを例にとって説明すると、従来のＰＦＣガス供給設備は、例えば、図６に示すものと図７に示すものとがあり、これらは、その排気用配管（排気方法）が異なっている。すなわち、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 は、各ＰＦＣガスが充填された開閉弁ＶT0付き供給容器Ｔ0 と、この供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0に接続され上記ドライエッチング設備等にＰＦＣガスを供給する開閉弁Ｖ1 付き供給配管Ｌ1 とを備えている。そして、パージ用窒素ガスを供給する開閉弁Ｖ2 付きパージ用配管Ｌ2 と、配管内のガスを排気する開閉弁Ｖ3 付き排気用配管Ｌ3 と、配管内の圧力を表示する圧力計（圧力センサ）Ｐ0 とが、それぞれ、上記供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0と上記供給配管Ｌ1 の開閉弁Ｖ1 との間の配管に接続されており、上記排気用配管Ｌ3 により、直接排気するようになっている。また、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 では、開閉弁Ｖ4 付き排気用配管Ｌ4 が上記開閉弁Ｖ3 付き排気用配管Ｌ3 （図６参照）と同様に接続されており、排気が、真空発生用窒素ガス（流れる窒素ガス）によるベンチュリー効果を利用して、配管内のガスを吸い出すことにより行われるようになっている。それ以外の部分は、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 と同様となっている。 Taking PFC gas as an example, conventional PFC gas supply facilities include, for example, those shown in FIG. 6 and those shown in FIG. 7, and these have different exhaust pipes (exhaust methods). That is, the PFC gas supply facility S 1 shown in FIG. 6 includes a supply container T 0 with an on-off valve V T0 filled with each PFC gas, and the above-described dry etching equipment connected to the on-off valve V T0 of the supply container T 0. And a supply pipe L 1 with an on-off valve V 1 for supplying PFC gas. Then, the on-off valve V 2 with the purge pipe L 2 for supplying purge nitrogen gas, and the on-off valve V 3 with the exhaust pipe L 3 for exhausting the gas in the pipe, a pressure gauge for displaying the pressure in the pipe ( and a pressure sensor) P 0, respectively, are connected to the pipe between the opening and closing valve V 1 of the on-off valve V T0 and the supply pipe L 1 of the supply container T 0, by the exhaust pipe L 3, It is designed to exhaust directly. Also, the PFC gas supply installation S 2 shown in FIG. 7, the opening and closing valve V 4 with the exhaust pipe L 4 is connected in the same manner as the on-off valve V 3 with the exhaust pipe L 3 (see FIG. 6), the exhaust However, this is performed by sucking out the gas in the pipe using the venturi effect of the nitrogen gas for generating vacuum (flowing nitrogen gas). The other parts are the same as those of the PFC gas supply facility S 1 shown in FIG.
上記両ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 ，Ｓ2 において、供給容器Ｔ0 内のＰＦＣガスがなくなると、供給容器Ｔ0 を新しいものに交換する必要があるが（供給容器Ｔ0 の交換は、その開閉弁ＶT0とともに行う。以下も同様。）、その際、上記ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 ，Ｓ2 では、上記供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0と各開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 ，Ｖ4 との間の中間配管内のガスが排気される。このため、ＰＦＣガスが大気放出される。 In the both PFC gas supply installation S 1, S 2, when the PFC gas in the supply vessel T 0 is eliminated, the exchange it is necessary to replace with a new supply container T 0 (feed vessel T 0, the opening and closing performed together with the valve V T0. same hereinafter.), in which the PFC in the gas supply facility S 1, S 2, the valves V 1 and the on-off valve V T0 of the supply container T 0, V 2, V 3 , gas in the intermediate pipe is exhausted between V 4. For this reason, the PFC gas is released into the atmosphere.
すなわち、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 では、まず、（１）供給容器Ｔ0 を取り外すまでは、中間配管内にＰＦＣガスが充満しているため、そのＰＦＣガスを窒素ガスで置換する。そのために、まず、供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を閉じるとともに、各配管Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 の開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 を閉じた状態にする。この状態では、中間配管内の圧力は、供給容器Ｔ0 内の圧力と略等しくなっている〔通常、０．５〜１．０ＭＰａ（ゲージ圧）程度〕。ついで、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内のＰＦＣガスを大気放出する。この開閉弁Ｖ3 は、上記圧力計（圧力センサ）Ｐ0 が大気圧を示すまで開けておく。これにより、中間配管内は、大気圧のＰＦＣガス雰囲気となっている。つぎに、その排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を閉じた後、パージ用配管Ｌ2 の開閉弁Ｖ2 を開け、パージ用窒素ガスを中間配管内に供給する〔このパージ用窒素ガスは、通常、０．３〜０．７ＭＰａ（ゲージ圧）程度に設定されている〕。その後、パージ用配管Ｌ2 の開閉弁Ｖ2 を閉じ、中間配管内でＰＦＣガスとパージ用窒素ガスとが拡散するまで時間をおく（通常３０秒間程度）。そして、再度、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内のＰＦＣガスとパージ用窒素ガスとの混合ガスを大気放出する。これを、中間配管内のガスが殆ど窒素ガスで置換されるまで繰り返す（通常４０回程度）。その後、供給容器Ｔ0 を中間配管から取り外し、新しい供給容器Ｔ0 と交換する。 That is, in the PFC gas supply facility S 1 shown in FIG. 6, first, (1) until the supply container T 0 is removed, the PFC gas is filled in the intermediate pipe, so the PFC gas is replaced with nitrogen gas. . Therefore, first, it closes the on-off valve V T0 of the supply container T 0, is the closed-off valve V 1, V 2, V 3 of the pipes L 1, L 2, L 3 . In this state, the pressure in the intermediate pipe is substantially equal to the pressure in the supply container T 0 [usually about 0.5 to 1.0 MPa (gauge pressure)]. Next, the on-off valve V 3 of the exhaust pipe L 3 is opened, and the PFC gas in the intermediate pipe is released into the atmosphere. The on-off valve V 3 is kept open until the pressure gauge (pressure sensor) P 0 indicates atmospheric pressure. Thereby, the inside of the intermediate pipe is an atmospheric PFC gas atmosphere. Next, after closing the on-off valve V 3 of the exhaust pipe L 3 , the on-off valve V 2 of the purge pipe L 2 is opened, and purge nitrogen gas is supplied into the intermediate pipe [this purge nitrogen gas is Usually, it is set to about 0.3 to 0.7 MPa (gauge pressure). Thereafter, the on-off valve V 2 of the purge pipe L 2 is closed, and a time is allowed until the PFC gas and the purge nitrogen gas diffuse in the intermediate pipe (usually about 30 seconds). Then, the opening / closing valve V 3 of the exhaust pipe L 3 is opened again, and the mixed gas of the PFC gas and the purge nitrogen gas in the intermediate pipe is released into the atmosphere. This is repeated until the gas in the intermediate pipe is almost replaced with nitrogen gas (usually about 40 times). Thereafter, the supply container T 0 is removed from the intermediate pipe and replaced with a new supply container T 0 .
このようにして供給容器Ｔ0 を交換すると、使い終えた供給容器Ｔ0 を中間配管から取り外した際に、中間配管内に周辺の空気が侵入するため、つぎに、（２）中間配管内を再度、窒素ガスで置換する。そのために、まず、各配管Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 の開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 を閉じた状態にする。このとき、新しい供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0は閉じたままにしておく。この状態では、中間配管内の圧力は、大気圧となっている。ついで、上記と同様にして、パージ用配管Ｌ2 の開閉弁Ｖ2 を開け、パージ用窒素ガスを供給した後、その開閉弁Ｖ2 を閉じ、少し時間をおく。そして、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内の空気とパージ用窒素ガスとの混合ガスを大気放出する。これを、中間配管内のガスが殆ど窒素ガスで置換されるまで繰り返す（通常４０回程度）。 When the supply container T 0 is replaced in this way, when the used supply container T 0 is removed from the intermediate pipe, ambient air enters the intermediate pipe. Next, (2) Replace with nitrogen gas again. Therefore, first, the closed-off valve V 1, V 2, V 3 of the pipes L 1, L 2, L 3 . At this time, the on-off valve V T0 of the new supply container T 0 is kept closed. In this state, the pressure in the intermediate pipe is atmospheric pressure. Then, in the same manner as described above, after opening the on-off valve V 2 of the purge pipe L 2 and supplying the purge nitrogen gas, the on-off valve V 2 is closed, and a little time passes. Then, the on-off valve V 3 of the exhaust pipe L 3 is opened, and the mixed gas of the air in the intermediate pipe and the purge nitrogen gas is released to the atmosphere. This is repeated until the gas in the intermediate pipe is almost replaced with nitrogen gas (usually about 40 times).
この状態では、中間配管内が大気圧の略窒素ガス雰囲気となっているため、つぎに、（３）中間配管内の窒素ガスをＰＦＣガスで置換する。そのために、まず、各配管Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 の開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 を閉じた状態にした後、新しい供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を開け、中間配管内にＰＦＣガスを供給する。その後、供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を閉じ、中間配管内でＰＦＣガスとパージ用窒素ガスとが拡散するまで時間をおく（通常５〜３０秒間程度）。このＰＦＣガスの供給では、新しい供給容器Ｔ0 からのＰＦＣガスは、通常、１．０〜１０ＭＰａ（ゲージ圧）程度（ＰＦＣガスの種類による）であるため、中間配管内ではＰＦＣガスが短時間で拡散する。そして、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内の窒素ガスとＰＦＣガスとの混合ガスを大気放出する。これを、中間配管内のガスが殆どＰＦＣガスで置換されるまで繰り返す（通常５回程度）。この繰り返す回数は、供給容器Ｔ0 のからのＰＦＣガスの圧力が１．０〜１０ＭＰａ（ゲージ圧）程度と非常に高いため、少なくて済む。 In this state, since the inside of the intermediate pipe is in a substantially nitrogen gas atmosphere at atmospheric pressure, next, (3) the nitrogen gas in the intermediate pipe is replaced with PFC gas. Therefore, first, after the closed-off valve V 1, V 2, V 3 of the pipes L 1, L 2, L 3 , opening the on-off valve V T0 new supply container T 0, the intermediate pipe To supply PFC gas. Thereafter, the on-off valve V T0 of the supply container T 0 is closed, and a time is allowed until the PFC gas and the purge nitrogen gas diffuse in the intermediate pipe (usually about 5 to 30 seconds). In this PFC gas supply, since the PFC gas from the new supply container T 0 is usually about 1.0 to 10 MPa (gauge pressure) (depending on the type of PFC gas), the PFC gas is short in the intermediate pipe. Spread with. Then, the on-off valve V 3 of the exhaust pipe L 3 is opened to release the mixed gas of nitrogen gas and PFC gas in the intermediate pipe to the atmosphere. This is repeated until the gas in the intermediate pipe is almost replaced with PFC gas (usually about 5 times). The number of repetitions is small because the pressure of the PFC gas from the supply container T 0 is as high as about 1.0 to 10 MPa (gauge pressure).
このように、上記（１）〜（３）の工程を経ることにより、供給容器Ｔ0 を交換する際には、その交換作業者は、ＰＦＣガスを吸わなくて済み、また、上記ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備にＰＦＣガスを供給する際には、中間配管内をＰＦＣガスで充満させることができる。なお、ＰＦＣガスを供給する際には、供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を開けるとともに、供給配管Ｌ1 の開閉弁Ｖ1 を開け、それ以外の開閉弁Ｖ2 ，Ｖ3 は閉じた状態にする。 As described above, when the supply container T 0 is exchanged through the steps (1) to (3), the exchange operator does not have to suck the PFC gas. When the PFC gas is supplied to the PFC gas use equipment such as the intermediate pipe, the intermediate pipe can be filled with the PFC gas. State should be noted that when supplying the PFC gas, as well as opening the on-off valve V T0 of the supply container T 0, opening the on-off valve V 1 of the feed pipe L 1, closing valve V 2 else, V 3 is a closed To.
一方、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 での排気方法も、同様に、上記（１）〜（３）の工程を経て行われる。この場合、排気用配管Ｌ4 の開閉弁Ｖ4 は、上記開閉弁Ｖ3 （図６参照）と同様に使用される。そして、排気用配管Ｌ4 からの排気に、真空発生用窒素ガス（流れる窒素ガス）を利用するため、排気用配管Ｌ4 から大気放出されるＰＦＣガスには、窒素ガスが多く含まれている。 On the other hand, the exhaust method in the PFC gas supply facility S 2 shown in FIG. 7 is similarly performed through the steps (1) to (3). In this case, the on-off valve V 4 of the exhaust pipe L 4 is used in the same manner as the on-off valve V 3 (see FIG. 6). Then, the exhaust from the exhaust pipe L 4, to a vacuum generating nitrogen gas (nitrogen gas flowing), the PFC gas released into the atmosphere from the exhaust pipe L 4, it contains many nitrogen gas .
しかしながら、上記大気放出されるガスに含まれているＰＦＣガスは、大気寿命が長くかつ温暖化係数が大きいことから、今後地球温暖化への影響が出るとの懸念が強まっている。 However, since the PFC gas contained in the gas released into the atmosphere has a long atmospheric lifetime and a large global warming potential, there is a growing concern that it will affect global warming in the future.
そこで、ＰＦＣガスを使用する工場等では、場合により、ＰＦＣガスを処理するための処理設備を設け、ＰＦＣガス供給設備の排気用配管Ｌ3 ，Ｌ4 からその処理設備まで配管し、その処理設備でＰＦＣガスの処理を行っている。 Therefore, in a factory that uses PFC gas, a processing facility for processing the PFC gas is provided in some cases, and piping from the exhaust pipes L 3 and L 4 of the PFC gas supply facility to the processing facility is provided. In PFC gas processing.
上記処理設備でのＰＦＣガスの処理は、例えば、つぎのようにして行われる。すなわち、まず、ＰＦＣガスを高熱により分解した後、水で処理する。このとき、フッ酸が生成される。ついで、そのフッ酸にカルシウム等を加えてフッ化カルシウム等を生成させることにより、フッ酸からフッ素を除去する。そして、生成した上記フッ化カルシウム等は、埋め立て等に使用され、それ以外のものは、必要に応じて適宜に処理した後、河川等に排水される。 The processing of PFC gas in the processing facility is performed as follows, for example. That is, first, PFC gas is decomposed by high heat and then treated with water. At this time, hydrofluoric acid is generated. Next, fluorine is removed from the hydrofluoric acid by adding calcium or the like to the hydrofluoric acid to produce calcium fluoride or the like. And the produced | generated said calcium fluoride etc. are used for a landfill etc., and the thing other than that is drained by the river etc., after processing suitably as needed.
また、上記ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備から排気されるＰＦＣガスも、場合により、上記処理設備で同様にして処理されるが、回収されることもある。上記ＰＦＣガス使用設備で使用されるＰＦＣガスは、通常、大量の窒素ガス等の希釈ガスにより希釈されて使用されるため、濃度が低く（通常１体積％未満で、高くて３体積％程度）、それを回収する場合は、希釈ガスに富む透過ガスとＰＦＣガスに富む非透過ガスとに分離するガス分離膜を用いて、上記ＰＦＣガスに富む非透過ガスを回収している。このガス分離膜による分離は、通常、複数回行われ、非透過ガスにおけるＰＦＣガスの濃度を高めている。 Also, the PFC gas exhausted from the PFC gas use facility such as the dry etching facility may be processed in the same manner in the processing facility, but may be recovered. Since the PFC gas used in the above PFC gas use equipment is usually diluted with a large amount of diluent gas such as nitrogen gas, the concentration is low (usually less than 1% by volume, high and about 3% by volume). When recovering it, the non-permeate gas rich in PFC gas is recovered using a gas separation membrane that separates the permeate gas rich in dilution gas and the non-permeate gas rich in PFC gas. This separation by the gas separation membrane is usually performed a plurality of times, and the concentration of the PFC gas in the non-permeating gas is increased.
しかしながら、上記処理設備でのＰＦＣガスの処理には、大量の水を要し、大量のフッ酸処理が必要となる。このため、生成される上記フッ化カルシウム等も大量となり、その処理にコストがかかる。また、上記のように、ＰＦＣガス使用設備からＰＦＣガスを回収するとてしも、回収するガスのＰＦＣガス濃度を高めるためには、上記ガス分離膜が必要となる。 However, the treatment of PFC gas in the above-described treatment facility requires a large amount of water and a large amount of hydrofluoric acid treatment. For this reason, the said calcium fluoride etc. which are produced | generated become large quantities, and the process requires a cost. Further, as described above, even if the PFC gas is recovered from the PFC gas use facility, the gas separation membrane is required in order to increase the PFC gas concentration of the recovered gas.
ところで、最近では環境問題に対する問題意識や法律の関係で、上記のように、ＰＦＣガスを処理する場合、環境問題となるものは自分の工場等内で分解や除害等の処理を行う傾向になりつつある。しかしながら、本発明者の研究では、そのような処理が必ずしも効率のよい処理ではないという知見を得ている。すなわち、ＰＦＣガスを回収し、それを、処理設備を有する施設（除害が専門の工場，ガスの製造から廃棄までが専門のガスメーカー等）で処理する方が処理効率がよい。 By the way, recently, due to concerns about environmental issues and laws, when processing PFC gas as described above, environmental issues tend to be decomposed and removed in their own factories. It is becoming. However, the inventor's research has found that such a process is not necessarily an efficient process. That is, it is more efficient to collect PFC gas and process it at a facility having processing equipment (a factory specialized in detoxification, a gas manufacturer specialized in gas production to disposal, etc.).
また、ＰＦＣガス供給設備から排気されるガスは、ＰＦＣガス濃度が高い状態（５体積％以上）のときが多い。また、上記ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備から排気されるガスは、通常、希釈されているため、ＰＦＣガス濃度は低いが、場合によっては（ドライエッチング等に要求される濃度に希釈調節するまでの段階等）、ＰＦＣガス濃度が高い状態（５体積％以上）で排気されるときがある。これらのように、排気されるガスのＰＦＣガス濃度が高い（５体積％以上）場合には、上記処理設備で処理せずに、そのまま回収して再利用することがコストの点から好ましい。ＰＦＣガスは高価だからである。しかしながら、ＰＦＣガス供給設備またはＰＦＣガス使用設備から大気放出されるＰＦＣガスをそのまま回収することは、今まで行われていず、これが技術常識となっていた。 Moreover, the gas exhausted from the PFC gas supply facility is often in a state where the PFC gas concentration is high (5% by volume or more). Further, since the gas exhausted from the PFC gas use facility such as the dry etching facility is usually diluted, the PFC gas concentration is low, but in some cases (dilution adjustment to the concentration required for dry etching or the like is performed. Or the like), and the PFC gas concentration is sometimes exhausted in a high state (5% by volume or more). As described above, when the PFC gas concentration of the exhausted gas is high (5% by volume or more), it is preferable from the viewpoint of cost that it is recovered and reused without being processed in the above processing facility. This is because PFC gas is expensive. However, the PFC gas released into the atmosphere from the PFC gas supply facility or the PFC gas use facility has not been collected as it has been, and this has become common technical knowledge.
このようなことは、他のガス〔ＳＦ6 ガス，ＮＦ3 ガス，塩素，塩素化合物ガス，フッ素，フッ素化合物ガス（ＨＦ，ＣＯＦ2 等），臭素等の、環境を悪化させるガスや人体に害を及ぼすガス等〕についても言えることである。 This is because other gases such as SF 6 gas, NF 3 gas, chlorine, chlorine compound gas, fluorine, fluorine compound gas (HF, COF 2 etc.), bromine, etc. The same can be said about the gas etc.
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、ガス供給設備またはガス使用設備から排気されるガスを効率よく処理または再利用することができるようにするためのガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの提供をその目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and a gas recovery method and a gas recovery apparatus for efficiently processing or reusing gas exhausted from a gas supply facility or a gas use facility The purpose is to provide a gas recovery system.
上記の目的を達成するため、本発明は、ガス供給手段またはガス使用手段と、その手段から流出する、回収目的となる主なガスの濃度が５体積％以上のガスを回収する回収手段とを備え、その回収手段に回収容器を設け、上記流出するガスを上記回収容器に回収するガス回収方法第１の要旨とし、上記回収手段に圧縮機を設け、上記ガスを圧縮して回収容器に回収する際、上記回収手段の圧縮作動時の吸引力を利用して上記手段内のガスを吸い出し、上記回収容器に回収するガス回収方法第２の要旨とする。 In order to achieve the above object, the present invention comprises a gas supply means or a gas use means, and a recovery means for recovering a gas having a concentration of 5% by volume or more of a main gas flowing out from the means and serving as a recovery purpose. The recovery means is provided with a recovery container, and the first aspect of the gas recovery method for recovering the outflowing gas in the recovery container is provided. A compressor is provided in the recovery means, and the gas is compressed and recovered in the recovery container. In this case, the second aspect of the gas recovery method is to suck out the gas in the means by using the suction force at the time of the compression operation of the recovery means and recover the gas in the recovery container.
また、本発明は、回収容器を備え、その回収容器が、ガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管に接続されているガス回収装置を第３の要旨とし、圧縮機と、この圧縮機の排気側に接続される回収容器とを備え、上記圧縮機の排気側と回収容器とが接続されており、上記圧縮機の吸気側が、ガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管に接続されているガス回収装置を第４の要旨とする。 Further, the present invention has a third aspect of a gas recovery apparatus including a recovery container, and the recovery container is connected to an exhaust pipe provided in a gas supply facility or a gas use facility, and a compressor, A recovery container connected to the exhaust side of the compressor, the exhaust side of the compressor and the recovery container are connected, and the intake side of the compressor is provided in a gas supply facility or a gas use facility A fourth aspect is a gas recovery device connected to the exhaust pipe.
そして、本発明は、ガス供給設備またはガス使用設備と、上記ガス回収装置とからなるガス回収システム第５の要旨とする。 And this invention sets it as the 5th summary of the gas recovery system which consists of gas supply equipment or gas use equipment, and the said gas recovery apparatus.
本発明者は、先の知見に基づき、ガス供給設備またはガス使用設備から排気されるガスを効率よく処理または再利用することができるようにすべく、そのガスをそのまま回収することを想起し、その回収方法について、鋭意研究を重ねた。その結果、上記ガス供給設備等に設けられている排気用配管に、回収容器を接続すれば、または、圧縮機の吸気側を接続し、その圧縮機の排気側を回収容器に接続するようにすれば、目的とするガスを濃度が比較的高い状態で上記回収容器に回収することができることを見出し、本発明に到達した。 Based on the above knowledge, the inventor recalls that the gas exhausted from the gas supply facility or the gas using facility can be recovered or recovered as it is so that the gas exhausted from the gas supply facility or the gas using facility can be efficiently processed or reused. We have earnestly studied how to recover it. As a result, if the recovery container is connected to the exhaust pipe provided in the gas supply facility or the like, or the intake side of the compressor is connected and the exhaust side of the compressor is connected to the recovery container As a result, the inventors have found that the target gas can be recovered in the recovery container in a relatively high concentration state, and reached the present invention.
なお、本発明において、回収する「ガス」とは、回収目的となる主なガス（ＰＦＣガス等）だけでなく、そのガスを含有する混合ガスも含む意味である。 In the present invention, the “gas” to be recovered means not only the main gas (PFC gas or the like) that is to be recovered, but also a mixed gas containing the gas.
本発明のガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムによれば、ガス供給設備またはガス使用設備から従来、排気（流出）されていたＰＦＣガス等のガス（回収目的となるＰＦＣガス等の主なガスのガス濃度が５体積％以上のガス）をそのまま回収することができるようになる。このため、従来ガスを大気放出させていた工場等では、大気放出されるＰＦＣガス等を減少させることができ、ＰＦＣガス等による環境悪化等を抑制することができる。さらに、回収したガスを、処理設備を有する施設で処理するようにすれば、効率よく処理することができるようになるとともに、自分の工場等内にその処理設備を設ける必要がなくなり、処理コストを低減させることができる。また、ガスを種類毎に回収するようにすれば、その回収したガスを再利用することができる。 According to the gas recovery method, the gas recovery apparatus, and the gas recovery system of the present invention, a gas such as PFC gas that has been exhausted (outflowed) from a gas supply facility or a gas use facility (mainly PFC gas or the like for recovery purposes). Gas having a gas concentration of 5% by volume or more) can be recovered as it is. For this reason, in a factory or the like that has conventionally released gas to the atmosphere, PFC gas and the like released to the atmosphere can be reduced, and environmental deterioration due to PFC gas and the like can be suppressed. Furthermore, if the collected gas is processed in a facility having processing facilities, it can be processed efficiently, and it is not necessary to install the processing facilities in one's own factory. Can be reduced. Further, if the gas is recovered for each type, the recovered gas can be reused.
特に、上記回収容器よりも上流側に、ガス濃度に対応して流路を切り換える切り換え弁が接続され、この切り換え弁を介して、上記回収容器とガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管とが接続されるようになっており、上記切り換え弁により、ガス濃度が所定値以上の場合には上記回収容器に流し、上記所定値未満の場合には他の流路に流すよう切り換え可能になっている場合には、ＰＦＣガス等のガス濃度がより高い状態で回収できるようになる。このため、そのＰＦＣガス等のガスを再利用する際に、そのガス濃度を高める作業を削除または軽減することができるようになる。 In particular, a switching valve for switching the flow path corresponding to the gas concentration is connected upstream of the recovery container, and is provided in the recovery container and the gas supply facility or the gas use facility via the switching valve. An exhaust pipe is connected, and the switching valve allows the gas to flow to the recovery container when the gas concentration is a predetermined value or higher, and to flow to another flow path when the gas concentration is lower than the predetermined value. When switching is possible, it is possible to recover the gas with a higher concentration of gas such as PFC gas. For this reason, when the gas such as the PFC gas is reused, the work of increasing the gas concentration can be eliminated or reduced.
また、上記圧縮機が、空気圧作動の往復圧縮機である場合には、着火源がなく安全であり、また、圧縮ガス（ＰＦＣガス等）と同等の圧力の駆動用ガス（窒素ガス等）が封入されるため、昇圧段階でＰＦＣガス等の漏洩を殆どなくすことができる。 When the compressor is a pneumatically operated reciprocating compressor, there is no ignition source and it is safe, and a driving gas (nitrogen gas, etc.) having a pressure equivalent to that of the compressed gas (PFC gas, etc.). Is sealed in, so that almost no leakage of PFC gas or the like can be eliminated in the step-up stage.
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図１は、本発明の第１の実施の形態を示している。この実施の形態では、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 に、ＰＦＣガス回収装置Ｒ1 を取り付けている。このＰＦＣガス回収装置Ｒ1 は、回収するＰＦＣガスが通過する順番に（上流側から順番に）、第１の流路切り換え弁（２つの弁ＶA ，ＶB からなる），圧力計（圧力センサ）Ｐ3 付きタンク１，圧縮機２および回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 が直列に接続されたものとなっている。そして、上記第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）が、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 における排気用配管Ｌ3 の排気口に配管で接続されている。この実施の形態では、上記回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 が２個（第１回収容器Ｔ1 および第２回収容器Ｔ2 ）並列に接続されており、これら並列配管にそれぞれ、上流側から、第２の流路切り換え弁（２つの弁ＶC ，ＶD からなる）および圧力計（圧力センサ）Ｐ1 ，Ｐ2 が設けられている。なお、図１において、ＶS は、安全弁である。 FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In this embodiment, a PFC gas recovery apparatus R 1 is attached to the PFC gas supply facility S 1 shown in FIG. The PFC gas recovery device R 1 includes a first flow path switching valve (consisting of two valves V A and V B ), a pressure gauge (pressure) in the order in which the recovered PFC gas passes (in order from the upstream side). Sensor) A tank with P 3 , a compressor 2 and recovery containers T 1 and T 2 are connected in series. The first flow path switching valves (valves V A and V B ) are connected by piping to the exhaust port of the exhaust pipe L 3 in the PFC gas supply facility S 1 . In this embodiment, two of the recovery containers T 1 and T 2 (first recovery container T 1 and second recovery container T 2 ) are connected in parallel, and each of these parallel pipes is connected to the first from the upstream side. Two flow path switching valves (consisting of two valves V C and V D ) and pressure gauges (pressure sensors) P 1 and P 2 are provided. In FIG. 1, V S is a safety valve.
上記ＰＦＣガス回収装置Ｒ1 は、上記ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 において供給容器Ｔ0 を交換する際に、作動させて、つぎのようにして、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するＰＦＣガスを回収する。すなわち、供給容器Ｔ0 を交換する際には、前記背景技術で説明したように、交換作業者がＰＦＣガスを吸わないよう、前記（１）〜（３）の工程を順に行うが、これら各工程において、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するＰＦＣガス（ＰＦＣガス濃度が５体積％以上）を回収する。 The PFC gas recovery device R 1 is operated when the supply container T 0 is replaced in the PFC gas supply facility S 1 , and passes through the exhaust port of the exhaust pipe L 3 as follows. Collect gas. That is, when replacing the supply container T 0 , as described in the background art, the steps (1) to (3) are sequentially performed so that the replacement operator does not suck the PFC gas. In the process, PFC gas (PFC gas concentration of 5% by volume or more) passing through the exhaust port of the exhaust pipe L 3 is recovered.
まず、上記（１）の工程は、供給容器Ｔ0 を取り外すまでに行う工程であり、中間配管内に充満しているＰＦＣガスを窒素ガスで置換する工程である。このため、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するガスは、始めのうちは、ＰＦＣガス濃度が高いが、徐々に低くなる（窒素ガスが多くなる）。このガスを回収する場合には、まず、上記第１の流路切り換え弁を切り換える（弁ＶA ：開，弁ＶB ：閉）とともに、上記第２の流路切り換え弁を第１回収容器Ｔ1 で回収できるように切り換える（弁ＶC ：開，弁ＶD ：閉）。そして、上記圧縮機２を作動させる。このとき、タンク１に付いている圧力計（圧力センサ）Ｐ3 が、上記ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 の中間配管に付いている圧力計（圧力センサ）Ｐ0 よりも低い値を示すように作動させる。これにより、圧縮機２の作動時の吸引力を利用して上記排気用配管Ｌ3 内のＰＦＣガスを吸い出し、そのＰＦＣガスを第１回収容器Ｔ1 に回収することができるようになる。この回収は、この（１）の工程の全工程で、回収してもよいが、上述したように、この（１）の工程では、ＰＦＣガス濃度が徐々に低くなる（窒素ガスが多くなる）ため、途中で、上記第１の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶA ：閉，弁ＶB ：開）大気放出する等、他の流路に流してもよい。この第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）の切り換えのタイミングは、ＰＦＣガス濃度が５体積％未満になった時（繰り返し回数３〜５回程度以降）が好ましい。ＰＦＣガス濃度が低いガスを回収すると、第１回収容器Ｔ1 がすぐに充填され、回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 の取り換え（後に説明する）サイクルが短くなるとともに、回収したガスのＰＦＣガス濃度も低くなり、リサイクルの際に再度高濃度にする必要があるからである。なお、上記第１の流路切り換え弁を切り換えて他の流路に流すときは、圧縮機２の作動を停めるとともに、第２の流路切り換え弁の第１回収容器Ｔ1 側を閉じる（弁ＶC ：閉，弁ＶD ：閉）ようにする。 First, the step (1) is a step performed until the supply container T 0 is removed, and is a step of replacing the PFC gas filled in the intermediate pipe with nitrogen gas. For this reason, the gas passing through the exhaust port of the exhaust pipe L 3 initially has a high PFC gas concentration but gradually decreases (nitrogen gas increases). In the case of collecting this gas, first, the first flow path switching valve is switched (valve V A : open, valve V B : closed), and the second flow path switching valve is switched to the first recovery container T. Switch to 1 so that it can be recovered (valve V C : open, valve V D : closed). Then, the compressor 2 is operated. At this time, the pressure gauge (pressure sensor) P 3 attached to the tank 1 operates so as to show a lower value than the pressure gauge (pressure sensor) P 0 attached to the intermediate pipe of the PFC gas supply facility S 1. Let Thus, the PFC gas in the exhaust pipe L 3 can be sucked out by using the suction force when the compressor 2 is operated, and the PFC gas can be recovered in the first recovery container T 1 . This recovery may be performed in all steps (1). However, as described above, in this step (1), the PFC gas concentration gradually decreases (nitrogen gas increases). Therefore, the first flow path switching valve may be switched on the way (valve V A : closed, valve V B : open), and released to the atmosphere, or may flow to another flow path. The timing for switching the first flow path switching valves (valves V A , V B ) is preferably when the PFC gas concentration is less than 5% by volume (from 3 to 5 repetitions). When a gas having a low PFC gas concentration is recovered, the first recovery container T 1 is immediately filled, and the replacement cycle of the recovery containers T 1 and T 2 (to be described later) is shortened, and the PFC gas concentration of the recovered gas is also reduced. This is because it becomes lower and it is necessary to increase the concentration again during recycling. When the first flow path switching valve is switched to flow to another flow path, the operation of the compressor 2 is stopped and the first recovery container T 1 side of the second flow path switching valve is closed (valve V C : closed, valve V D : closed).
つぎの上記（２）の工程は、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 の中間配管内を空気から窒素ガスに置換する工程であるため、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するガスには、ＰＦＣガスが殆ど含有されていない。このため、上記（１）の工程の後半と同様にして、大気放出する等、他の流路に流すことが好ましい。 The next step (2) is a step of replacing the inside pipe of the PFC gas supply equipment S 1 with air from nitrogen gas. Therefore, the gas passing through the exhaust port of the exhaust pipe L 3 includes PFC. Little gas is contained. For this reason, it is preferable to flow in another flow path, such as releasing into the atmosphere, in the same manner as the latter half of the step (1).
最後の上記（３）の工程は、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 の中間配管内を窒素ガスからＰＦＣガスに置換する工程であり、そのＰＦＣガスは、新しい供給容器Ｔ0 のからのＰＦＣガスであるため、圧力が非常に高い。このため、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するガスは、始めから、ＰＦＣガス濃度が高く、徐々に高くなる。このため、この（３）の工程では、全工程で、回収することが好ましい。回収する場合は、上記（１）の工程と同様にして回収する。 The last step (3) is a step of replacing the inside piping of the PFC gas supply facility S 1 with nitrogen gas to PFC gas, and the PFC gas is PFC gas from the new supply container T 0. Therefore, the pressure is very high. For this reason, the gas passing through the exhaust port of the exhaust pipe L 3 has a high PFC gas concentration from the beginning and gradually increases. For this reason, it is preferable to collect | recover in all the processes in this process (3). When collecting, it collects similarly to the process of said (1).
このようなＰＦＣガス回収方法により、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 において供給容器Ｔ0 を交換する毎に、ＰＦＣガスを回収することができる。 By such a PFC gas recovery method, the PFC gas can be recovered every time the supply container T 0 is replaced in the PFC gas supply facility S 1 .
そして、第１回収容器Ｔ1 が充填されると〔圧力計（圧力センサ）Ｐ1 の値で判断する〕、その第１回収容器Ｔ1 の開閉弁ＶT1を閉じるとともに、第２の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶC ：閉，弁ＶD ：開）、第２回収容器Ｔ2 で回収されるようにする。そして、その第２回収容器Ｔ2 で回収されている間に、第１回収容器Ｔ1 を取り換えるようにする。そして、第２回収容器Ｔ2 が充填されると〔圧力計（圧力センサ）Ｐ2 の値で判断する〕、その第２回収容器Ｔ2 の開閉弁ＶT２を閉じるとともに、第２の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶC ：開，弁ＶD ：閉）、第１回収容器Ｔ1 で回収されるようにする。これを繰り返して、回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 を取り換える。 When the first recovery container T 1 is filled (determined by the value of the pressure gauge (pressure sensor) P 1 ), the on-off valve V T1 of the first recovery container T 1 is closed and the second flow path is closed. The switching valve is switched (valve V C : closed, valve V D : open) so that the second recovery container T 2 can recover the valve. Then, the first recovery container T 1 is replaced while being recovered in the second recovery container T 2 . When the second recovery container T 2 is filled (determined by the value of the pressure gauge (pressure sensor) P 2 ), the on-off valve VT2 of the second recovery container T 2 is closed and the second flow path is closed. The switching valve is switched (valve V C : open, valve V D : closed) so that the first recovery container T 1 can recover the valve. By repeating this, the collection containers T 1 and T 2 are replaced.
なお、上記圧縮機２としては、特に限定されるものではないが、空気圧作動の往復圧縮機２であることが好ましい。この圧縮機２を用いると、可燃性ガスや支燃性ガス等に対して、電気を用いず圧縮を行えるため、着火源がなく安全であるからである。また、電動式の往復圧縮機では、ピストンリングから圧縮ガス（ＰＦＣガス）が少し外部に漏洩するが、上記空気圧作動の往復圧縮機２では、圧縮ガス（ＰＦＣガス）と同等の圧力の駆動用ガス（窒素ガス等）が封入されているため、昇圧段階でＰＦＣガスの漏洩が殆どなくすことができるからでもある。 The compressor 2 is not particularly limited, but is preferably a pneumatically operated reciprocating compressor 2. This is because when the compressor 2 is used, the combustible gas, the flammable gas, and the like can be compressed without using electricity, so that there is no ignition source and it is safe. In the electric reciprocating compressor, compressed gas (PFC gas) slightly leaks from the piston ring to the outside. However, the pneumatic reciprocating compressor 2 is for driving at the same pressure as the compressed gas (PFC gas). This is also because gas (nitrogen gas or the like) is enclosed, so that almost no leakage of PFC gas can be eliminated at the step of increasing pressure.
また、上記実施の形態では、第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）をタンク１の上流側に接続したが、他でもよく、例えば、タンク１と圧縮機２との間、または圧縮機２と第２の流路切り換え弁（弁ＶC ，ＶD ）との間等でもよい。また、上記実施の形態では、前記分離膜（希釈ガスに富む透過ガスとＰＦＣガスに富む非透過ガスとに分離するガス分離膜）を用いてもよく、その場合の接続は、例えば、第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）の上流側、第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）とタンク１との間、タンク１と圧縮機２との間、および圧縮機２と第２の流路切り換え弁（弁ＶC ，ＶD ）との間等の少なくとも１か所に接続される。 Further, in the above embodiment, the first channel switching valve (valve V A, V B) was connected to the upstream side of the tank 1, the other in may, for example, between the tank 1 and the compressor 2, Alternatively, it may be between the compressor 2 and the second flow path switching valve (valves V C , V D ). In the above embodiment, the separation membrane (a gas separation membrane that separates into a permeation gas rich in dilution gas and a non-permeation gas rich in PFC gas) may be used. Upstream of the flow path switching valves (valves V A , V B ), between the first flow path switching valves (valves V A , V B ) and the tank 1, between the tank 1 and the compressor 2, and It is connected to at least one location such as between the compressor 2 and the second flow path switching valve (valves V C , V D ).
また、上記実施の形態において、上記（１）〜（３）の全工程で、ＰＦＣガス濃度に係わらず回収する場合には、図２に示すように、ＰＦＣガス回収装置Ｒ2 には、図１に示す第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）を設けなくてもよい。さらに、上記タンク１は、圧縮機２の安定した作動のために設けた方が好ましいが、設けなくても圧縮機２が安定して作動する場合には、図３に示すように、ＰＦＣガス回収装置Ｒ3 には、図２に示すタンク１を設けなくてもよい。この場合、上記タンク１に付いていた圧力計（圧力センサ）Ｐ3 は、圧縮機２の上流側の配管に設ける方が好ましい。さらに、圧縮機２を設けなくても回収容器に回収できる場合には、図３において、圧縮機２をも設けないようにしてもよい（図示せず）。また、図１において、上記第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）を残し、上記タンク１を設けないようにしてもよい（図示せず）。 Further, in the above embodiment, the entire process of the above (1) to (3), when recovering regardless PFC gas concentration, as shown in FIG. 2, the PFC gas recovery apparatus R 2, FIG. The first flow path switching valves (valves V A and V B ) shown in FIG. Further, the tank 1 is preferably provided for the stable operation of the compressor 2, but when the compressor 2 operates stably without being provided, as shown in FIG. The recovery device R 3 does not have to be provided with the tank 1 shown in FIG. In this case, it is preferable that the pressure gauge (pressure sensor) P 3 attached to the tank 1 is provided in the piping on the upstream side of the compressor 2. Furthermore, in the case where it can be collected in the collection container without providing the compressor 2, the compressor 2 may not be provided in FIG. 3 (not shown). In FIG. 1, the first flow path switching valves (valves V A and V B ) may be left and the tank 1 may not be provided (not shown).
図４は、本発明の第２の実施の形態を示している。この実施の形態では、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 に、上記第１の実施の形態と同様にしてＰＦＣガス回収装置Ｒ1 を取り付けている。すなわち、上記第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）が、ＰＦＣガス供給設備Ｓ2 における排気用配管Ｌ4 の排気口に配管で接続されている。それ以外の部分は、上記第１の実施の形態と同様である。この実施の形態でも、上記第１の実施の形態と同様にして、ＰＦＣガスを回収することができる。ただし、上記第１の実施の形態と比較すると、回収するＰＦＣガスには、真空発生用窒素ガス（流れる窒素ガス）が多く含まれている（ＰＦＣガス濃度が低い）。 FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, a PFC gas recovery apparatus R 1 is attached to the PFC gas supply facility S 2 shown in FIG. 7 in the same manner as in the first embodiment. That is, the first flow path switching valves (valves V A , V B ) are connected by piping to the exhaust port of the exhaust pipe L 4 in the PFC gas supply facility S 2 . Other parts are the same as those in the first embodiment. Also in this embodiment, the PFC gas can be recovered in the same manner as in the first embodiment. However, compared with the first embodiment, the recovered PFC gas contains a lot of vacuum generating nitrogen gas (flowing nitrogen gas) (the PFC gas concentration is low).
図５は、本発明の第３の実施の形態を示している。この実施の形態では、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 において、排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 の開閉弁Ｖ4 と供給配管Ｌ1 の開閉弁Ｖ1 との間の配管に、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 における開閉弁Ｖ3 付き排気用配管Ｌ3 と同様の開閉弁Ｖ5 付き排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 を新たに接続させ、その新たな排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 に、上記第１の実施の形態と同様のＰＦＣガス回収装置を取り付けている。 FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the PFC gas supply installation S 2 shown in FIG. 7, between the opening and closing valve V 4 of the exhaust pipe (first exhaust pipe) L 4 and the on-off valve V 1 of the feed pipe L 1 An exhaust pipe (second exhaust pipe) L 5 with an on-off valve V 5 similar to the exhaust pipe L 3 with an on-off valve V 3 in the PFC gas supply facility S 1 shown in FIG. 6 is newly connected to the pipe. The new exhaust pipe (second exhaust pipe) L 5 is attached with the same PFC gas recovery device as that in the first embodiment.
そして、この実施の形態でのＰＦＣガス回収方法は、始めから設けられていた排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 からではなく（開閉弁Ｖ4 は閉じたまま）、新たな排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 から行うようにすれば、上記第１の実施の形態と同様にして、ＰＦＣガスを回収することができ、上記第２の実施の形態よりも、ＰＦＣガス濃度を高くして回収することができる。なお、上記第１の実施の形態では、上記（１）の工程において、ＰＦＣガス濃度が低くなる（窒素ガスが多くなる）と、上記第１の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶA ：閉，弁ＶB ：開）大気放出する等したが、この第３の実施の形態では、他の方法として、上記第１の流路切り換え弁を設けずに、その替わりに、ＰＦＣガス濃度が低くなる（窒素ガスが多くなる）と、新たな排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 の開閉弁Ｖ5 を閉じ、始めから設けられていた排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 の開閉弁Ｖ4 を開き、その排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 から大気放出してもよい。 Then, the PFC gas recovery method in this embodiment is not performed from the exhaust pipe (first exhaust pipe) L 4 provided from the beginning (the on-off valve V 4 remains closed). PFC gas can be recovered in the same manner as in the first embodiment, if it is carried out from the service pipe (second exhaust pipe) L 5 , than in the second embodiment, The PFC gas concentration can be increased and recovered. In the first embodiment, when the PFC gas concentration is low (nitrogen gas increases) in the step (1), the first flow path switching valve is switched (valve V A : Closed, valve V B : open) Released into the atmosphere, but in this third embodiment, as another method, the first flow path switching valve is not provided, but instead, the PFC gas concentration is When it becomes low (nitrogen gas increases), the new exhaust pipe (second exhaust pipe) L 5 closes the on-off valve V 5, and the exhaust pipe (first exhaust pipe) provided from the beginning ) The on-off valve V 4 of L 4 may be opened to release air from the exhaust pipe (first exhaust pipe) L 4 .
なお、上記各実施の形態では、ＰＦＣガス回収装置Ｒ1 〜Ｒ3 を、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 ，Ｓ2 に取り付けたが、ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備に、同様にして取り付けてもよい（図示せず）。そして、ＰＦＣガス使用設備の排気用配管からＰＦＣガス濃度が高い状態（ＰＦＣガス濃度が５体積％以上）で排気されるときに、上記各実施の形態と同様にして、ＰＦＣガスを回収するようにする。 In each of the above embodiments, the PFC gas recovery devices R 1 to R 3 are attached to the PFC gas supply facilities S 1 and S 2. It is good (not shown). Then, when the PFC gas concentration is exhausted from the exhaust pipe of the PFC gas use facility in a high state (PFC gas concentration is 5% by volume or more), the PFC gas is recovered in the same manner as in the above embodiments. To.
また、上記では、回収目的となる主なガスがＰＦＣガスである場合について説明したが、そのようなガスは、他でもよく、例えば、ＳＦ6 ガス，ＮＦ3 ガス，塩素，塩素化合物ガス，フッ素，フッ素化合物ガス（ＨＦ，ＣＯＦ2 等），臭素等の、環境を悪化させるガスや人体に害を及ぼすガス等があげられ、上記と同様にして回収することができる。 In the above description, the case where the main gas to be recovered is PFC gas has been described, but such gas may be other, for example, SF 6 gas, NF 3 gas, chlorine, chlorine compound gas, fluorine , Fluorine compound gases (HF, COF 2 etc.), bromine and other gases that worsen the environment and gases that are harmful to the human body, etc., can be recovered in the same manner as described above.
つぎに、実施例について説明する。 Next, examples will be described.
図１に示すＰＦＣガス回収装置を用いて、つぎのようにして、ＣＦ4 ガスを回収した。すなわち、まず、そのＰＦＣガス回収装置内の第１の流路切り換え弁以降のタンク（ステンレス製、低圧仕様、容量２０リットル），圧縮機（フジキン製、ＭＧＳ−Ａ−２０ＳＥＰ：高圧仕様、空気圧作動の往復圧縮機），配管の各内部に、予め、大気圧のＣＦ4 ガスを封入しておいた。そして、第１の流路切り換え弁から、大気圧の下で１リットル／分のＣＦ4 ガスを４４３分間連続して供給するとともに、圧縮機を作動させ、第１回収容器（マンガン鋼製、容量４７．１リットル）にＣＦ4 ガスを回収した。この回収において、第１回収容器の内部圧力は、回収開始時は０．０５ＭＰａ（ゲージ圧）であり、回収終了時は０．９０ＭＰａ（ゲージ圧）であった。なお、各圧力計（圧力センサ）は、歪みゲージ式圧力スイッチを用い、第２の流路切り換え弁は、高圧仕様の空気作動方式弁を用いた。また、安全弁は、ステンレス製のばね式安全弁とし、噴出圧力を１ＭＰａ（ゲージ圧）に設定した。 Using the PFC gas recovery apparatus shown in FIG. 1, CF 4 gas was recovered as follows. That is, first, a tank (stainless steel, low pressure specification, capacity 20 liters) and a compressor (made by Fujikin, MGS-A-20SEP: high pressure specification, pneumatic operation) after the first flow path switching valve in the PFC gas recovery device The CF 4 gas at atmospheric pressure was sealed in advance in each of the pipes. Then, the CF 4 gas at 1 liter / min is continuously supplied from the first flow path switching valve under atmospheric pressure for 443 minutes, the compressor is operated, and the first recovery container (manufactured by manganese steel, capacity 47.1 liters) of CF 4 gas was recovered. In this recovery, the internal pressure of the first recovery container was 0.05 MPa (gauge pressure) at the start of recovery and 0.90 MPa (gauge pressure) at the end of recovery. Each pressure gauge (pressure sensor) used a strain gauge type pressure switch, and the second flow path switching valve used a high-pressure specification pneumatically operated valve. The safety valve was a stainless steel spring safety valve, and the ejection pressure was set to 1 MPa (gauge pressure).
すなわち、供給したＣＦ4 ガスの全量は、下記の式（１）から、４４３．０リットルであり、回収したＣＦ4 ガスの全量は、大気圧換算で、下記の式（２）から、４４２．２リットルである。したがって、回収率は、下記の式（３）から、９９．８％となり、実際に回収できていることがわかる。 That is, the total amount of supplied CF 4 gas is 443.0 liters from the following equation (1), and the total amount of recovered CF 4 gas is from the following equation (2) to 442. 2 liters. Therefore, the recovery rate is 99.8% from the following formula (3), which indicates that the recovery is actually possible.
２ 圧縮機
Ｌ3 排気用配管
Ｓ1 ＰＦＣガス供給設備
Ｔ1 ，Ｔ2 回収容器
2 Compressor L 3 Exhaust piping S 1 PFC gas supply equipment T 1 and T 2 recovery container
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