JP2005175388A - Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method - Google Patents
Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005175388A JP2005175388A JP2003416841A JP2003416841A JP2005175388A JP 2005175388 A JP2005175388 A JP 2005175388A JP 2003416841 A JP2003416841 A JP 2003416841A JP 2003416841 A JP2003416841 A JP 2003416841A JP 2005175388 A JP2005175388 A JP 2005175388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- multilayer
- base material
- substrate
- wiring pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
この発明は、多層基板用基材、多層配線板(多層プリント配線基板)およびその製造方法に関し、特に、電子部品を実装する配線板、パッケージ基板等として用いられる2層以上の複数層の配線パターンを接続する多層配線板およびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a substrate for a multilayer board, a multilayer wiring board (multilayer printed wiring board), and a method for manufacturing the same, and more particularly, a wiring pattern of two or more layers used as a wiring board for mounting electronic components, a package board, or the like. The present invention relates to a multilayer wiring board that connects the two and a manufacturing method thereof.
電子機器の軽薄短小化、半導体チップや部品の小型化、端子の狭ピッチ化に伴い、電子部品を実装する配線基板やパッケージ基板にも実装面積の縮小や配線の精細化が進んでいる。同時に、情報関連機器では、信号周波数の広帯域化に対応して部品間を連結する配線の短距離化が求められており、高密度、高性能を達成するためのプリント基板の多層化は必要不可欠の技術となっている。 As electronic devices become lighter, thinner and smaller, semiconductor chips and components are downsized, and terminals have a narrow pitch, wiring boards and package substrates on which electronic components are mounted are also being reduced in mounting area and wiring. At the same time, information-related equipment is required to shorten the wiring distance between components in response to the wider bandwidth of signal frequencies, and multilayered printed circuit boards are essential to achieve high density and high performance. Technology.
多層配線板には、絶縁性基材に形成されたバイアホールに充填された導電性ペーストによって層間導通を得るもの(例えば、特許文献1、2)、絶縁性基材をポリイミド等の可撓性樹脂フィルムで構成したもの(例えば、特許文献2)がある。
Multi-layer wiring boards can obtain interlayer conduction with conductive paste filled in via holes formed in an insulating substrate (for example,
多層配線板の高密度化に伴い配線基板に形成される配線パターン部の微細化が進み、積層数が多くなる傾向がある。多層配線板では配線基板の積層精度が、多層配線板の性能を左右するから、積層数の増加に伴い、積層精度が高い積層方法の開発が望まれている。 With the increase in the density of multilayer wiring boards, miniaturization of wiring pattern portions formed on a wiring board has progressed, and the number of stacked layers tends to increase. In the multilayer wiring board, the lamination accuracy of the wiring board affects the performance of the multilayer wiring board. Therefore, as the number of lamination increases, development of a lamination method with high lamination accuracy is desired.
配線基板の多層積層の位置合わせの技術としては、積層対象の全ての配線基板に位置合わせ用の穴をあけ、この穴に積層型のピンを通して位置合わせを行うピンラミネーション法(例えば、非特許文献1)や、画像処理を用いたアライメント法や、これらを組み合わせて行う方法等が知られている。配線基板の多層積層には、加熱可能な真空プレス装置等を用いて一括積層する技術がある。 As a technique for alignment of multilayer laminations of wiring boards, a pin lamination method (for example, non-patent literature) in which alignment holes are formed in all the wiring boards to be laminated and the holes are laminated through the laminated pins. 1), an alignment method using image processing, a method of combining these, and the like are known. Multi-layer lamination of wiring boards includes a technique of batch lamination using a heatable vacuum press apparatus or the like.
従来の多層配線板では、多層積層に先立って各種アライメント法によって各層の位置合わせを行っているが、図9(a)〜(c)に示されているように、加熱可能な真空プレス装置等を用いた多層積層(加熱接着)時に、各層間を接着する接着層102、特に、熱可塑性の接着層が軟化流動し、各層同士で横ずれを生じ、位置合わせの効果がなく、積層精度の低下が生じる。
In the conventional multilayer wiring board, each layer is aligned by various alignment methods prior to multilayer lamination. As shown in FIGS. 9A to 9C, a heatable vacuum press device or the like is used.
なお、図9(a)は加熱接着前の状態を、図9(b)は加熱接着にる貼り合わせ状態を、図9(c)は横ずれ発生の状態を各々示している。図9(a)〜(c)において、101、111は絶縁性基材を、103、113は銅箔等による配線パターンを、104は導電ペースト等による層間導通部を各々示している。
FIG. 9A shows a state before heat bonding, FIG. 9B shows a bonding state in which heat bonding is performed, and FIG. 9C shows a state in which a lateral shift occurs. 9A to 9C,
ピンラミネーション法については、横ずれ防止効果をある程度得られるが、ピンラミネーション用治具と多層基板用基材のガイド孔との間のクリアランスの存在により、クリアランス分以上の高い位置合わせ精度を行うことができず、積層精度の向上に限界がある。 The pin lamination method provides some degree of lateral slip prevention effect, but the presence of clearance between the pin lamination jig and the guide hole of the base material for the multilayer substrate enables high alignment accuracy that is greater than the clearance. This is not possible and there is a limit to improving the stacking accuracy.
従来の多層配線板として、図10(a)、(b)に示されているように、隣接層の層間導通部124の位置に対応する配線パターン133の部位(ランド部)に接続突起133Aを設け、積層加圧によって、接続突起133Aが層間導通部124内、すなわち、バイアホール124Aの導電性ペースト124B内に入り込むようにしたものがある(例えば、特許文献3)。
As a conventional multilayer wiring board, as shown in FIGS. 10A and 10B, a
なお、図10(a)、(b)において、121、131は絶縁性基材を、122は接着層を、123、133は銅箔等による配線パターンを各々示している。 In FIGS. 10A and 10B, 121 and 131 denote insulating substrates, 122 denotes an adhesive layer, and 123 and 133 denote wiring patterns made of copper foil or the like.
この多層配線板では、接続突起133Aがバイアホール124Aの導電性ペースト124B内に入り込むことにより、層間導通の信頼性が向上し、層間の位置ずれ(横ずれ)を抑制する効果も期待できる。
しかし、図10(b)に示されているように、接続突起133Aがバイアホール124Aの導電性ペースト124B内に入り込んだ体積分だけバイアホール124A外へのペーストの流出がある。ペースト流出部124Cは、電気的接続の信頼性を低下し、マイグレーションによる回路間の電気絶縁性の低下を招く原因になる。また、接続突起133Aの形成のために、めっきやハーフエッチング等の工程が必要になり、製造コストが高い。
However, as shown in FIG. 10B, the paste flows out of the
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的としては、多層積層時の接着層の流動を抑え、層間ずれを防止し、高い積層精度を得ることができ、安定した層間導通の電気的特性を得ることができる多層基板用基材、多層配線板およびその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above. The purpose of the present invention is to suppress the flow of the adhesive layer during multilayer lamination, to prevent interlayer displacement, to obtain high lamination accuracy, and to achieve stable interlayer conduction electricity. It is providing the base material for multilayer substrates which can obtain a characteristic, a multilayer wiring board, and its manufacturing method.
この発明による多層配線板は、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに充填された導電性樹脂組成物により前記配線パターンと導通関係にあって層間導通を得る少なくも一枚の多層基板用基材と、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられた多層基板用基材とを積層された多層配線板において、一方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有し、他方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部が形成されている。 In the multilayer wiring board according to the present invention, a conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of an insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern. A wiring pattern is formed on one surface of the insulating base material and at least one base material for the multilayer substrate, which is in a conductive relationship with the wiring pattern by the conductive resin composition filled in the via hole and obtains interlayer conduction. In a multilayer wiring board in which a multilayer substrate substrate provided with a conductive layer is laminated, one insulating substrate penetrates through the insulating substrate at a position electrically separated from the wiring pattern. A hole is formed, the hole is filled with a resin composition, and the resin composition has an alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base, and the other multilayer substrate base For the material, from the wiring pattern Recesses care-apart position for receiving said alignment protrusions are formed.
この発明による多層配線板では、前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、前記バイアホールに充填された前記導電性樹脂組成物と同一の樹脂組成物、あるいは、前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、無機質材によるフィラーを混入されているもの、あるいは、前記バイアホールに充填された前記導電性樹脂組成物よりガラス転移温度が低い樹脂組成物で構成することができる。 In the multilayer wiring board according to this invention, the resin composition filled in the hole and including the alignment protrusion is the same resin composition as the conductive resin composition filled in the via hole, or the hole The resin composition containing the alignment protrusions filled in is a resin composition mixed with a filler made of an inorganic material, or a resin composition having a glass transition temperature lower than that of the conductive resin composition filled in the via holes It can consist of things.
また、この発明による多層配線板の前記絶縁性基材は、接着性を有し絶縁層が層間接着を行う接着層を兼ねた1層構造のもの、あるいは、絶縁層と層間接着を行う接着層との2層構造のもので構成することができる。 In addition, the insulating substrate of the multilayer wiring board according to the present invention has a single-layer structure in which the insulating layer also serves as an adhesive layer that performs adhesion between the insulating layers, or an adhesive layer that performs interlayer adhesion with the insulating layers. And a two-layer structure.
この発明による多層基板用基材は、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに層間導通のための導電性樹脂組成物を充填された多層基板用基材において、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有する。 In the multilayer substrate substrate according to the present invention, a conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern. In the multilayer substrate base material filled with the conductive resin composition for interlayer conduction in the via hole, a hole penetrating the insulating base material is formed at a position electrically separated from the wiring pattern, The hole is filled with a resin composition, and the resin composition has an alignment protrusion that protrudes outward from the other surface of the insulating substrate.
この発明による多層基板用基材の製造方法は、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに充填された導電性樹脂組成物により前記配線パターンと導通関係にあって層間導通を得る少なくも一枚の多層基板用基材と、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられた多層基板用基材とを積層された多層配線板の製造方法において、一方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔を形成する工程と、前記孔に樹脂組成物を充填し、当該樹脂組成物によって前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を形成する工程と、他方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部を形成する工程と、複数枚の多層基板用基材を積層し、前記位置合わせ用突起部と前記凹部とを嵌め合わせる工程と、積層した複数枚の多層基板用基材を接着接合する工程とを有する。 In the method for manufacturing a base material for a multilayer substrate according to the present invention, a conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating base material, and a via hole penetrating the insulating base material at a position continuous with the wiring pattern. And at least one multi-layer substrate base material that is electrically connected to the wiring pattern and obtains interlayer conduction by the conductive resin composition filled in the via hole, and one surface of the insulating base material In the manufacturing method of a multilayer wiring board laminated with a substrate for a multilayer substrate provided with a conductive layer forming a wiring pattern on the substrate, the insulation is located at a position electrically separated from the wiring pattern of the substrate for one multilayer substrate. Forming a hole penetrating the insulating substrate, filling the hole with a resin composition, and forming an alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating substrate by the resin composition And the other process Forming a recess for receiving the alignment protrusion at a position electrically separated from the wiring pattern of the substrate for the layer substrate, and laminating a plurality of multilayer substrate substrates, and the alignment protrusion And a step of fitting the concave portions together, and a step of adhesively bonding a plurality of laminated base materials for a multilayer substrate.
この発明による多層配線板の製造方法は、好ましくは、複数枚の多層基板用基材を積層する工程以前に、前記位置合わせ用突起部を仮硬化〜硬化させる工程を有する。 The method for producing a multilayer wiring board according to the present invention preferably includes a step of temporarily curing to curing the alignment protrusion before the step of laminating a plurality of multilayer substrate base materials.
この発明による多層配線板は、絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部が、接合相手(隣接層)の多層基板用基材の凹部に嵌り込むことにより、横ずれ防止効果が得れる。位置合わせ用突起部ならびに凹部は、配線パターンより電気的に離れた位置に、配線パターンとは電気的に隔離されて設けられているから、位置合わせ用突起部、凹部の配置、サイズが制約を受けることがなく、効果的に横ずれ防止を行える設置部位やサイズを自由に設定できる。 In the multilayer wiring board according to the present invention, the alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base material is fitted into the concave portion of the multilayer substrate base material of the bonding partner (adjacent layer). Preventive effect can be obtained. Since the alignment protrusions and recesses are electrically separated from the wiring pattern at positions that are electrically separated from the wiring pattern, the positioning and size of the alignment protrusions and recesses are limited. It is possible to freely set an installation site and a size that can effectively prevent the lateral deviation without receiving.
図1、図2(a)、(b)、図3はこの発明による多層配線板の一つの実施形態を示している。 FIG. 1, FIG. 2 (a), (b), FIG. 3 has shown one Embodiment of the multilayer wiring board by this invention.
多層配線板は、この実施形態では、上層の多層基板用基材10と、下層の多層基板用基材20とによる2層配線板になっている。
In this embodiment, the multilayer wiring board is a two-layer wiring board composed of an
多層基板用基材10は、絶縁性基材をなす絶縁樹脂層11と、絶縁樹脂層11の一方の面に銅箔等による配線パターン部(導電層)12とを有し、絶縁樹脂層11の他方の面に層間接着のための接着層13を形成されている。
The
FPC(フレキシブルプリント基板)では、絶縁樹脂層11は、全芳香族ポリイミド(API)等によるポリイミドフィルムやポリエステルフィルム等の可撓性を有する樹脂フィルムで構成されている。
In the FPC (flexible printed circuit board), the
絶縁樹脂層11と配線パターン部12と接着層13との3層構造は、汎用の片面銅箔付きポリイミド基材(片面銅張積層板)を出発材とし、それの銅箔とは反対側の面に、接着層13としてポリイミド系接着材を貼付したもので構成することができる。ポリイミド系接着材による接着層13は、熱可塑性ポリイミド(TPI)あるいは熱可塑性ポリイミドに熱硬化機能を付与したフィルムの貼り付けにより形成することができる。
The three-layer structure of the
絶縁樹脂層11と接着層13には、これらを貫通するバイアホール14が形成されている。バイアホール14には層間導通を得るための導電性ペースト15が充填されている。
The
導電性ペースト15は、銀、銅等の導電機能を有する金属粉末(導電性フィラーー)をエポキシ樹脂等の熱硬化性の樹脂バインダに混入したものを、溶剤を含む粘性媒体に混ぜてペースト状にした導電性樹脂組成物である。導電性ペースト15は接着層13の側よりスクリーン印刷法で用いられるスクイジング等によってバイアホール14に穴埋め充填される。
The
多層基板用基材20は、絶縁性基材をなす絶縁樹脂層21と、絶縁樹脂層21の一方の面に銅箔等による配線パターン部(導電層)22とを有する。
The multilayer
絶縁樹脂層21は、多層基板用基材10の絶縁樹脂層11と同様に、全芳香族ポリイミド(API)等によるポリイミドフィルムやポリエステルフィルム等の可撓性を有する樹脂フィルムで構成されている。
The insulating
多層基板用基材10には、配線パターン部12より電気的に離れた独立した位置に、絶縁樹脂層11と接着層13とを貫通する貫通孔16が形成されている。貫通孔16には樹脂組成物17が充填され、樹脂組成物17は接着層13より外方に突出した円柱状の位置合わせ用突起部18(図2(a)参照)を有する。
A through-
樹脂組成物17は、バイアホール14に充填された導電性樹脂組成物(導電性ペースト15)と同一の樹脂組成物、あるいは、シリカ等の無機質材によるフィラーを混入されているもの、あるいはバイアホール14に充填された導電性ペースト15よりガラス転移温度が低いエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成することができる。貫通孔16に充填する樹脂組成物17は、層間導通を目的としていないから、導電性を有する必要はない。
The
樹脂組成物17が、バイアホール14に充填された導電性ペースト15と同一の樹脂組成物である場合には、バイアホール14に対する導電性ペースト15の充填と、貫通孔16に対する樹脂組成物17の充填とを同一工程で、例えば、1回のスクリーン印刷により、工程数を増やすことなく、位置合わせ用突起部18を形成することができる。
When the
樹脂組成物17がバイアホール14に充填された導電性ペースト15よりガラス転移温度が低いエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成されている場合には、導電性ペースト15の仮硬化工程で、位置合わせ用突起部18を含む樹脂組成物17を完全硬化させることができ、高い硬度、機械的強度を得ることができる。樹脂組成物17がバイアホール14に充填された導電性ペースト15よりガラス転移温度が低いエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成する場合には、導電性ペースト15の充填と、樹脂組成物17の充填を各々個別の工程、例えば、2度のスクリーン印刷等により行う。
When the
また、樹脂組成物17がバイアホール14に充填された導電性ペースト15と同じエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成されている場合には、貫通孔16の樹脂組成物17のみを加熱することにより、位置合わせ用突起部18を含む樹脂組成物17を完全硬化させることができ、高い硬度、機械的強度を得ることができる。なお、樹脂組成物17は、加熱によらず、冷凍による硬化でもよい。
Further, when the
また、樹脂組成物17がシリカ等の無機質材によるフィラーを混入されているものである場合には、位置合わせ用突起部18の耐圧縮性を含む機械的強度が向上する。
Further, when the
多層基板用基材20の絶縁樹脂層21には、配線パターン22より離れた位置に、位置合わせ用突起部18を受け入れる有底の(非貫通孔)凹部23が形成されている(図2(b)参照)。凹部23は、ドリル等による切削加工、レーザ加工、エッチング(ハーフエッチング)等によって形成することができる。
A bottomed (non-through hole)
凹部23の深さdは位置合わせ用突起部18の突出量eとほぼ同じでよい。凹部23の内径bは、凹部23に位置合わせ用突起部18が嵌合するよう、必要な位置合わせ精度を考慮して、位置合わせ用突起部18の外径aに等しいか、それより少し大きい寸法に設定されている。なお、絶縁樹脂層21の厚さは30〜50μm程度、凹部23の深さdおよび位置合わせ用突起部18の突出量eは20μm程度で、位置合わせ用突起部18の外径aは100〜200μm程度である。
The depth d of the
位置合わせ用突起部18を含む樹脂組成物17は、多層基板用基材10と20とを積層する工程以前に、前述したように、加熱によって仮硬化〜硬化され、積層工程時に、仮硬化〜硬化した位置合わせ用突起部18を凹部23に嵌め合わせることが行われる。
As described above, the
この嵌め合わせにより、層間ずれが防止され、高い積層精度を得ることができ、安定した層間導通の電気的特性を得ることができる。また、凹部23が非貫通孔であることにより、凹部23に嵌合した位置合わせ用突起部18が絶縁樹脂層21の裏面側に露呈することがない。
By this fitting, interlayer displacement can be prevented, high lamination accuracy can be obtained, and stable electrical characteristics of interlayer conduction can be obtained. Further, since the
また、位置合わせ用突起部18と凹部23は、各々配線パターン部12、22より離れた位置に、これらの配線パターンとは電気的に隔離されて設けられているから、位置合わせ用突起部18、凹部23の配置、サイズが制約を受けることがなく、効果的に横ずれ防止を行える設置部位やサイズを自由に設定できる。
Further, the
この位置合わせ用突起部18と凹部23の位置合わせ嵌合部30は、図4に示されているように、製造過程では配線板製品部Aの周りにあり、最終的には切り落とされる製造代部(マージン部)Bに設けられるか、図5に示されているように、配線板製品部A内で、配線パターン部12、22とは離れて適当位置に設けられる。
As shown in FIG. 4, the
つぎに、この発明による多層配線板の製造工程を、図6(a)〜(j)を参照して説明する。 Next, the manufacturing process of the multilayer wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS.
図6(a)に示されているように、出発材として、汎用の片面銅張ポリイミド基材(片面導電体張積層板)40を用意する。片面銅張ポリイミド基材40、ポリイミドフィルムによる絶縁樹脂層11の一方の面にのみ導電層としての銅箔41を有する片面銅張積層板(CCL)である。
As shown in FIG. 6A, a general-purpose single-sided copper-clad polyimide substrate (single-sided conductor-clad laminate) 40 is prepared as a starting material. A single-sided copper-clad laminate (CCL) having a
まず、図6(b)に示されているように、片面銅張ポリイミド基材40の銅箔41を、エッチングし、配線パターン部(銅回路)12を形成する。
First, as shown in FIG. 6B, the
ついで、図6(c)に示されているように、絶縁樹脂層11の配線パターン部12とは反対側の面に熱可塑性ポリイミドを熱プレス機によって貼り合わせ、接着層13を形成し、その上に、PENフィルム、PETフィルム、PIフィルム等による剥離可能なカバー層43を貼り合わせる。
Next, as shown in FIG. 6 (c), thermoplastic polyimide is bonded to the surface of the insulating
つぎに、図6(d)に示されているように、層間接続したい任意の位置に、カバー層43側からレーザを照射し、絶縁樹脂層11と接着層13とカバー層43を貫通するバイアホール14を形成すると共に、配線パターン部12とは電気的に離れ、配線パターン部12とは独立した位置に、絶縁樹脂層11と接着層13とカバー層43を貫通する貫通孔16をあける。
Next, as shown in FIG. 6D, a laser beam is irradiated from the
なお、この実施形態では、配線パターン部12に空気抜き用の小穴14Aがあけられている。貫通孔16の部分に銅箔41Aが残されているのは、後述の導電性ペースト充填時の導電性ペースト脱落防止のためであり、必須ではない。また、銅箔41Aにも空気抜き用の小穴16Aがあけられる。
In this embodiment, a
つぎに、図6(e)、(f)に示されているように、カバー層43の側からスキージ板50を用いて導電性ペースト15をバイアホール14と貫通孔16に穴埋め充填する。なお、貫通孔16に充填した導電性ペースト15は、図示の都合上、樹脂組成物17として符号を付けている。
Next, as shown in FIGS. 6 (e) and 6 (f), the
つぎに、図6(g)に示されているように、導電性ペースト15、樹脂組成物17を仮硬化させ、あるいは、導電性ペースト15と樹脂組成物17のガラス転移温度の相違(樹脂組成物17のガラス転移温度が、導電性ペースト15のガラス転移温度より低い)を利用して樹脂組成物17だけを完全硬化させ、その後に、カバー層43を剥離、除去する。これにより、接着層13の側に、バイアホール14の部位では、接着層13より外方に突出した層間導通用突起部15Aが形成され、貫通孔16の部位では、同様に、接着層13より外方に突出した位置合わせ用突起部18が形成される。層間導通用突起部15A、位置合わせ用突起部18の突起長は、カバー層43の厚さと同等になる。これにより、上層の多層基板用基材10が完成する。
Next, as shown in FIG. 6G, the
一方、下層の多層基板用基材20においては、図6(h)に示されているように、片面銅張ポリイミド基材40と同様の片面銅張ポリイミド基材を出発材として、絶縁樹脂層21の一方の面に、銅箔のエッチングによって、配線パターン部22を形成する。
On the other hand, in the
そして、図6(i)に示されているように、配線パターン部22とは電気的に離れ、配線パターン部22とは独立した位置に、ハーフエッチングによって深さが位置合わせ用突起部18の突起長と同等の有底の凹部23を形成する。これにより、下層の多層基板用基材20が完成する。
Then, as shown in FIG. 6 (i), the depth of the
つぎに、図6(j)に示されているように、上層の多層基板用基材10と下層の多層基板用基材20とを積層し、画像認識等によって多層基板用基材10と20との位置合わせを行い、ついで、図6(k)に示されているように、上層の多層基板用基材10の位置合わせ用突起部18を下層の多層基板用基材20の凹部23に嵌め合わせる。なお、層間導通用突起部15Aは、配線パターン部22に突き当たり、層間導通の接触電気抵抗が小さくなる。
Next, as shown in FIG. 6 (j), the upper multilayer
この嵌め合わせ状態で、真空プレス機により加熱加圧し、接着層13によって層間接着された多層配線板を完成させる。
In this fitted state, heating and pressurization are performed by a vacuum press machine, and a multilayer wiring board bonded by the
このキュア時には、上層の多層基板用基材10の位置合わせ用突起部18と下層の多層基板用基材20の凹部23とが嵌め合わさっているから、接着層13が軟化しても、横ずれが生じることがない。
During this curing, the
これにより、位置ずれ防止用の特別な器具、装置を用いることなく、層間ずれが防止され、高い積層精度を得ることができ、安定した層間導通の電気的特性を得ることができる。 Thereby, without using a special instrument or device for preventing displacement, interlayer displacement can be prevented, high lamination accuracy can be obtained, and stable electrical characteristics of interlayer conduction can be obtained.
また、位置合わせ用突起部18と凹部23は、ともに、従来のものと同じ工程で形成されるから、工程の追加がなく、位置ずれ防止のためだけに、製造に要する時間が長くなることがない。
In addition, since both the
この発明による多層配線板は、絶縁性基材が、上述したような絶縁樹脂層11と層間接着を行う接着層13との2層構造のものに限られることはなく、図7に示されているように、絶縁性基材を、熱可塑性ポリイミドや液晶ポリマ等、接着性を有する絶縁層51によって構成し、絶縁層51が層間接着を行う接着層を兼ねた1層構造のものにも、同様に適用できる。なお、図7において、図1に対応する部分は、図1に付した符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
In the multilayer wiring board according to the present invention, the insulating substrate is not limited to the one having the two-layer structure of the insulating
接着性を有する絶縁層51としては、熱可塑性ポリイミド(TPI)あるいは熱可塑性ポリイミドに熱硬化機能を付与したもの、その他、液晶ポリマ等がある。
Examples of the insulating
また、凹部23は、有底の非貫通孔に限られることはなく、図8に示されているように、絶縁樹脂層21を貫通する貫通孔によって与えられてもよい。
Further, the
10 多層基板用基材
11 絶縁樹脂層
12 配線パターン部
13 接着層
14 バイアホール
15 導電性ペースト
16 貫通孔
17 樹脂組成物
18 位置合わせ用突起部
20 多層基板用基材
21 絶縁樹脂層
22 配線パターン部
23 凹部
30 位置合わせ嵌合部
40 片面銅張ポリイミド基材
51 絶縁層
DESCRIPTION OF
Claims (8)
一方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有し、
他方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部が形成されている多層配線板。 A conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern, and the via hole is filled with the conductive material. A multilayer substrate provided with at least one base material for a multilayer substrate in a conductive relationship with the wiring pattern by the resin composition and obtaining interlayer conduction, and a conductive layer forming the wiring pattern on one surface of the insulating base material In a multilayer wiring board laminated with a base material for use,
One multilayer substrate is formed with a hole penetrating the insulating substrate at a position electrically separated from the wiring pattern, the hole is filled with a resin composition, and the resin composition is Having an alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base;
A multilayer wiring board in which a recess for receiving the positioning projection is formed at a position electrically separated from the wiring pattern on the other multilayer substrate base material.
前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有する多層基板用基材。 A conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating base material, and a via hole penetrating the insulating base material is formed at a position continuous with the wiring pattern. In the base material for a multilayer substrate filled with the conductive resin composition,
A hole penetrating the insulating base material is formed at a position electrically separated from the wiring pattern, the hole is filled with a resin composition, and the resin composition is outside the other surface of the insulating base material. A base material for a multilayer substrate having an alignment projection protruding in the direction.
一方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔を形成する工程と、
前記孔に樹脂組成物を充填し、当該樹脂組成物によって前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を形成する工程と、
他方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部を形成する工程と、
複数枚の多層基板用基材を積層し、前記位置合わせ用突起部と前記凹部とを嵌め合わせる工程と、
積層した複数枚の多層基板用基材を接着接合する工程と、
を有する多層配線板の製造方法。 A conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern, and the via hole is filled with the conductive material. A multilayer substrate provided with at least one base material for a multilayer substrate in a conductive relationship with the wiring pattern by the resin composition and obtaining interlayer conduction, and a conductive layer forming the wiring pattern on one surface of the insulating base material In the manufacturing method of the multilayer wiring board laminated with the base material for use,
Forming a hole penetrating the insulating base material at a position electrically separated from the wiring pattern of the base material for one multilayer substrate; and
Filling the hole with a resin composition, and forming the alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base by the resin composition;
Forming a recess for receiving the alignment protrusion at a position electrically separated from the wiring pattern of the other multilayer substrate base material;
A step of laminating a plurality of base materials for a multi-layer substrate, and fitting the positioning projections and the recesses;
Adhering and bonding a plurality of laminated base materials for a multilayer substrate;
The manufacturing method of the multilayer wiring board which has this.
The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 7, further comprising a step of temporarily curing to curing the alignment protrusion before the step of laminating a plurality of multilayer substrate base materials.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003416841A JP2005175388A (en) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003416841A JP2005175388A (en) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005175388A true JP2005175388A (en) | 2005-06-30 |
Family
ID=34735933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003416841A Pending JP2005175388A (en) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005175388A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730183B1 (en) * | 2005-12-12 | 2007-06-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | Organic thin film transistor and method of manufacturing the same, flat display apparatus comprising the same |
JP2015002227A (en) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | 日本特殊陶業株式会社 | Multilayer wiring board and method for manufacturing the same |
-
2003
- 2003-12-15 JP JP2003416841A patent/JP2005175388A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730183B1 (en) * | 2005-12-12 | 2007-06-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | Organic thin film transistor and method of manufacturing the same, flat display apparatus comprising the same |
JP2015002227A (en) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | 日本特殊陶業株式会社 | Multilayer wiring board and method for manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20060191715A1 (en) | Multilayer circuit board and manufacturing method thereof | |
US20090151990A1 (en) | Multilayer wiring board and method of making the same | |
KR100747022B1 (en) | Imbedded circuit board and fabricating method therefore | |
JP2008288298A (en) | Method for manufacturing printed-wiring board with built-in electronic part | |
WO2006118141A1 (en) | Multilayer wiring board and method for producing same | |
JP5007164B2 (en) | Multilayer wiring board and multilayer wiring board manufacturing method | |
JPH10284841A (en) | Manufacture of multilayer printed wiring board | |
KR100716809B1 (en) | A PCB using the ACF and manufacturing method thereof | |
JPH06350250A (en) | Production of printed wiring board | |
JP4728054B2 (en) | Multilayer wiring substrate, multilayer wiring substrate manufacturing method, and multilayer wiring board | |
JP2004288989A (en) | Multilayer printed circuit board and method for producing the same | |
JP3850846B2 (en) | Manufacturing method of multilayer wiring board | |
JP4012022B2 (en) | Multilayer wiring substrate, base material for multilayer wiring substrate, and manufacturing method thereof | |
JP2005175388A (en) | Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method | |
JP2005109299A (en) | Multilayer wiring board and its manufacturing method | |
JP2005093904A (en) | Multilayer wiring board and method for manufacturing the same | |
JP2004134467A (en) | Multilayered wiring board, material for it, and method of manufacturing it | |
JP7128857B2 (en) | CIRCUIT BOARD, CIRCUIT BOARD MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE | |
KR100658437B1 (en) | Pcb and it's manufacturing method used bump board | |
JP2004221192A (en) | Multilayer substrate, base material therefor and its manufacturing method | |
JP2006186098A (en) | Multilayered wiring board, board material therefor and its manufacturing method | |
JP2007134509A (en) | Multilayer printed wiring board and method of manufacturing same | |
KR20100053761A (en) | Embedded pcb using unclad and embedded pcb manufactured thereby | |
JP2001358465A (en) | Multilayer printed-wiring board and its manufacturing method | |
JP2004363325A (en) | Multilayer wiring board and its manufacturing method |