JP2005175388A - Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method - Google Patents

Substrate for multilayer substrate, multilevel metallization board, and its manufacturing method Download PDF

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孝治 本戸
Satoru Nakao
知 中尾
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the electrical characteristics of stable interlayer conductivity, in such a way that high lamination accuracy can be acquired by suppressing flow of adhesive layer, when laminating multilayer, and by preventing interlayer deviation. <P>SOLUTION: In one substrate 10 for multilayer substrates, a pierced hole 16 which penetrates insulating substrate (insulated resin layer and adhesive layer 13), is formed at a location located separately from a circuit pattern portion 12, and the hole is filled with a resin composition 17. Further, a projection part 18 for alignment is formed which projects outward from the adhesive layer 13 of the insulating substrate. In the other substrate 20 for multilayer substrates, a concave portion 23, which receives a projecting part 18 for alignment, is formed at a location separately located from a circuit pattern 22. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、多層基板用基材、多層配線板(多層プリント配線基板)およびその製造方法に関し、特に、電子部品を実装する配線板、パッケージ基板等として用いられる2層以上の複数層の配線パターンを接続する多層配線板およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a substrate for a multilayer board, a multilayer wiring board (multilayer printed wiring board), and a method for manufacturing the same, and more particularly, a wiring pattern of two or more layers used as a wiring board for mounting electronic components, a package board, or the like. The present invention relates to a multilayer wiring board that connects the two and a manufacturing method thereof.

電子機器の軽薄短小化、半導体チップや部品の小型化、端子の狭ピッチ化に伴い、電子部品を実装する配線基板やパッケージ基板にも実装面積の縮小や配線の精細化が進んでいる。同時に、情報関連機器では、信号周波数の広帯域化に対応して部品間を連結する配線の短距離化が求められており、高密度、高性能を達成するためのプリント基板の多層化は必要不可欠の技術となっている。   As electronic devices become lighter, thinner and smaller, semiconductor chips and components are downsized, and terminals have a narrow pitch, wiring boards and package substrates on which electronic components are mounted are also being reduced in mounting area and wiring. At the same time, information-related equipment is required to shorten the wiring distance between components in response to the wider bandwidth of signal frequencies, and multilayered printed circuit boards are essential to achieve high density and high performance. Technology.

多層配線板には、絶縁性基材に形成されたバイアホールに充填された導電性ペーストによって層間導通を得るもの(例えば、特許文献1、2)、絶縁性基材をポリイミド等の可撓性樹脂フィルムで構成したもの(例えば、特許文献2)がある。   Multi-layer wiring boards can obtain interlayer conduction with conductive paste filled in via holes formed in an insulating substrate (for example, Patent Documents 1 and 2), and the insulating substrate can be made of a flexible material such as polyimide. There exists what was comprised with the resin film (for example, patent document 2).

多層配線板の高密度化に伴い配線基板に形成される配線パターン部の微細化が進み、積層数が多くなる傾向がある。多層配線板では配線基板の積層精度が、多層配線板の性能を左右するから、積層数の増加に伴い、積層精度が高い積層方法の開発が望まれている。   With the increase in the density of multilayer wiring boards, miniaturization of wiring pattern portions formed on a wiring board has progressed, and the number of stacked layers tends to increase. In the multilayer wiring board, the lamination accuracy of the wiring board affects the performance of the multilayer wiring board. Therefore, as the number of lamination increases, development of a lamination method with high lamination accuracy is desired.

配線基板の多層積層の位置合わせの技術としては、積層対象の全ての配線基板に位置合わせ用の穴をあけ、この穴に積層型のピンを通して位置合わせを行うピンラミネーション法(例えば、非特許文献1)や、画像処理を用いたアライメント法や、これらを組み合わせて行う方法等が知られている。配線基板の多層積層には、加熱可能な真空プレス装置等を用いて一括積層する技術がある。   As a technique for alignment of multilayer laminations of wiring boards, a pin lamination method (for example, non-patent literature) in which alignment holes are formed in all the wiring boards to be laminated and the holes are laminated through the laminated pins. 1), an alignment method using image processing, a method of combining these, and the like are known. Multi-layer lamination of wiring boards includes a technique of batch lamination using a heatable vacuum press apparatus or the like.

従来の多層配線板では、多層積層に先立って各種アライメント法によって各層の位置合わせを行っているが、図9(a)〜(c)に示されているように、加熱可能な真空プレス装置等を用いた多層積層(加熱接着)時に、各層間を接着する接着層102、特に、熱可塑性の接着層が軟化流動し、各層同士で横ずれを生じ、位置合わせの効果がなく、積層精度の低下が生じる。   In the conventional multilayer wiring board, each layer is aligned by various alignment methods prior to multilayer lamination. As shown in FIGS. 9A to 9C, a heatable vacuum press device or the like is used. Adhesive layer 102 that adheres each layer, especially thermoplastic adhesive layer, softens and flows between the layers during multi-layer lamination (heat bonding) using, causing lateral displacement between the layers, resulting in no alignment effect and reduced lamination accuracy Occurs.

なお、図9(a)は加熱接着前の状態を、図9(b)は加熱接着にる貼り合わせ状態を、図9(c)は横ずれ発生の状態を各々示している。図9(a)〜(c)において、101、111は絶縁性基材を、103、113は銅箔等による配線パターンを、104は導電ペースト等による層間導通部を各々示している。   FIG. 9A shows a state before heat bonding, FIG. 9B shows a bonding state in which heat bonding is performed, and FIG. 9C shows a state in which a lateral shift occurs. 9A to 9C, reference numerals 101 and 111 denote insulating base materials, reference numerals 103 and 113 denote wiring patterns made of copper foil or the like, and reference numeral 104 denotes an interlayer conductive portion made of a conductive paste or the like.

ピンラミネーション法については、横ずれ防止効果をある程度得られるが、ピンラミネーション用治具と多層基板用基材のガイド孔との間のクリアランスの存在により、クリアランス分以上の高い位置合わせ精度を行うことができず、積層精度の向上に限界がある。   The pin lamination method provides some degree of lateral slip prevention effect, but the presence of clearance between the pin lamination jig and the guide hole of the base material for the multilayer substrate enables high alignment accuracy that is greater than the clearance. This is not possible and there is a limit to improving the stacking accuracy.

従来の多層配線板として、図10(a)、(b)に示されているように、隣接層の層間導通部124の位置に対応する配線パターン133の部位(ランド部)に接続突起133Aを設け、積層加圧によって、接続突起133Aが層間導通部124内、すなわち、バイアホール124Aの導電性ペースト124B内に入り込むようにしたものがある(例えば、特許文献3)。   As a conventional multilayer wiring board, as shown in FIGS. 10A and 10B, a connection protrusion 133A is formed on a portion (land portion) of the wiring pattern 133 corresponding to the position of the interlayer conductive portion 124 of the adjacent layer. There is one in which the connection protrusion 133A enters the interlayer conductive portion 124, that is, the conductive paste 124B of the via hole 124A by providing and laminating pressure (for example, Patent Document 3).

なお、図10(a)、(b)において、121、131は絶縁性基材を、122は接着層を、123、133は銅箔等による配線パターンを各々示している。   In FIGS. 10A and 10B, 121 and 131 denote insulating substrates, 122 denotes an adhesive layer, and 123 and 133 denote wiring patterns made of copper foil or the like.

この多層配線板では、接続突起133Aがバイアホール124Aの導電性ペースト124B内に入り込むことにより、層間導通の信頼性が向上し、層間の位置ずれ(横ずれ)を抑制する効果も期待できる。
特開平6−302957号公報 特開平9−82835号公報 特開2000−294931号公報 高木 清著 「ビルドアップ多層プリント基板配線板技術」日刊工業新聞社出版、2001年6月15日、初版多層配線板、多層基板用基材及び多層配線板の製造方法
In this multilayer wiring board, since the connection protrusion 133A enters the conductive paste 124B of the via hole 124A, the reliability of interlayer conduction is improved, and the effect of suppressing the positional displacement (lateral deviation) between the layers can be expected.
JP-A-6-302957 Japanese Patent Laid-Open No. 9-82835 JP 2000-294931 A Kiyoshi Takagi “Build-up multilayer printed circuit board technology”, published by Nikkan Kogyo Shimbun, June 15, 2001, First edition multilayer circuit board, substrate for multilayer substrate, and method for producing multilayer circuit board

しかし、図10(b)に示されているように、接続突起133Aがバイアホール124Aの導電性ペースト124B内に入り込んだ体積分だけバイアホール124A外へのペーストの流出がある。ペースト流出部124Cは、電気的接続の信頼性を低下し、マイグレーションによる回路間の電気絶縁性の低下を招く原因になる。また、接続突起133Aの形成のために、めっきやハーフエッチング等の工程が必要になり、製造コストが高い。   However, as shown in FIG. 10B, the paste flows out of the via hole 124A by the volume of the connection protrusion 133A entering the conductive paste 124B of the via hole 124A. The paste outflow portion 124C decreases the reliability of electrical connection and causes a decrease in electrical insulation between circuits due to migration. In addition, a process such as plating or half-etching is required to form the connection protrusion 133A, and the manufacturing cost is high.

本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的としては、多層積層時の接着層の流動を抑え、層間ずれを防止し、高い積層精度を得ることができ、安定した層間導通の電気的特性を得ることができる多層基板用基材、多層配線板およびその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above. The purpose of the present invention is to suppress the flow of the adhesive layer during multilayer lamination, to prevent interlayer displacement, to obtain high lamination accuracy, and to achieve stable interlayer conduction electricity. It is providing the base material for multilayer substrates which can obtain a characteristic, a multilayer wiring board, and its manufacturing method.

この発明による多層配線板は、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに充填された導電性樹脂組成物により前記配線パターンと導通関係にあって層間導通を得る少なくも一枚の多層基板用基材と、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられた多層基板用基材とを積層された多層配線板において、一方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有し、他方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部が形成されている。   In the multilayer wiring board according to the present invention, a conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of an insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern. A wiring pattern is formed on one surface of the insulating base material and at least one base material for the multilayer substrate, which is in a conductive relationship with the wiring pattern by the conductive resin composition filled in the via hole and obtains interlayer conduction. In a multilayer wiring board in which a multilayer substrate substrate provided with a conductive layer is laminated, one insulating substrate penetrates through the insulating substrate at a position electrically separated from the wiring pattern. A hole is formed, the hole is filled with a resin composition, and the resin composition has an alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base, and the other multilayer substrate base For the material, from the wiring pattern Recesses care-apart position for receiving said alignment protrusions are formed.

この発明による多層配線板では、前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、前記バイアホールに充填された前記導電性樹脂組成物と同一の樹脂組成物、あるいは、前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、無機質材によるフィラーを混入されているもの、あるいは、前記バイアホールに充填された前記導電性樹脂組成物よりガラス転移温度が低い樹脂組成物で構成することができる。   In the multilayer wiring board according to this invention, the resin composition filled in the hole and including the alignment protrusion is the same resin composition as the conductive resin composition filled in the via hole, or the hole The resin composition containing the alignment protrusions filled in is a resin composition mixed with a filler made of an inorganic material, or a resin composition having a glass transition temperature lower than that of the conductive resin composition filled in the via holes It can consist of things.

また、この発明による多層配線板の前記絶縁性基材は、接着性を有し絶縁層が層間接着を行う接着層を兼ねた1層構造のもの、あるいは、絶縁層と層間接着を行う接着層との2層構造のもので構成することができる。   In addition, the insulating substrate of the multilayer wiring board according to the present invention has a single-layer structure in which the insulating layer also serves as an adhesive layer that performs adhesion between the insulating layers, or an adhesive layer that performs interlayer adhesion with the insulating layers. And a two-layer structure.

この発明による多層基板用基材は、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに層間導通のための導電性樹脂組成物を充填された多層基板用基材において、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有する。   In the multilayer substrate substrate according to the present invention, a conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern. In the multilayer substrate base material filled with the conductive resin composition for interlayer conduction in the via hole, a hole penetrating the insulating base material is formed at a position electrically separated from the wiring pattern, The hole is filled with a resin composition, and the resin composition has an alignment protrusion that protrudes outward from the other surface of the insulating substrate.

この発明による多層基板用基材の製造方法は、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに充填された導電性樹脂組成物により前記配線パターンと導通関係にあって層間導通を得る少なくも一枚の多層基板用基材と、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられた多層基板用基材とを積層された多層配線板の製造方法において、一方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔を形成する工程と、前記孔に樹脂組成物を充填し、当該樹脂組成物によって前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を形成する工程と、他方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部を形成する工程と、複数枚の多層基板用基材を積層し、前記位置合わせ用突起部と前記凹部とを嵌め合わせる工程と、積層した複数枚の多層基板用基材を接着接合する工程とを有する。   In the method for manufacturing a base material for a multilayer substrate according to the present invention, a conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating base material, and a via hole penetrating the insulating base material at a position continuous with the wiring pattern. And at least one multi-layer substrate base material that is electrically connected to the wiring pattern and obtains interlayer conduction by the conductive resin composition filled in the via hole, and one surface of the insulating base material In the manufacturing method of a multilayer wiring board laminated with a substrate for a multilayer substrate provided with a conductive layer forming a wiring pattern on the substrate, the insulation is located at a position electrically separated from the wiring pattern of the substrate for one multilayer substrate. Forming a hole penetrating the insulating substrate, filling the hole with a resin composition, and forming an alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating substrate by the resin composition And the other process Forming a recess for receiving the alignment protrusion at a position electrically separated from the wiring pattern of the substrate for the layer substrate, and laminating a plurality of multilayer substrate substrates, and the alignment protrusion And a step of fitting the concave portions together, and a step of adhesively bonding a plurality of laminated base materials for a multilayer substrate.

この発明による多層配線板の製造方法は、好ましくは、複数枚の多層基板用基材を積層する工程以前に、前記位置合わせ用突起部を仮硬化〜硬化させる工程を有する。   The method for producing a multilayer wiring board according to the present invention preferably includes a step of temporarily curing to curing the alignment protrusion before the step of laminating a plurality of multilayer substrate base materials.

この発明による多層配線板は、絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部が、接合相手(隣接層)の多層基板用基材の凹部に嵌り込むことにより、横ずれ防止効果が得れる。位置合わせ用突起部ならびに凹部は、配線パターンより電気的に離れた位置に、配線パターンとは電気的に隔離されて設けられているから、位置合わせ用突起部、凹部の配置、サイズが制約を受けることがなく、効果的に横ずれ防止を行える設置部位やサイズを自由に設定できる。   In the multilayer wiring board according to the present invention, the alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base material is fitted into the concave portion of the multilayer substrate base material of the bonding partner (adjacent layer). Preventive effect can be obtained. Since the alignment protrusions and recesses are electrically separated from the wiring pattern at positions that are electrically separated from the wiring pattern, the positioning and size of the alignment protrusions and recesses are limited. It is possible to freely set an installation site and a size that can effectively prevent the lateral deviation without receiving.

図1、図2(a)、(b)、図3はこの発明による多層配線板の一つの実施形態を示している。   FIG. 1, FIG. 2 (a), (b), FIG. 3 has shown one Embodiment of the multilayer wiring board by this invention.

多層配線板は、この実施形態では、上層の多層基板用基材10と、下層の多層基板用基材20とによる2層配線板になっている。   In this embodiment, the multilayer wiring board is a two-layer wiring board composed of an upper multilayer substrate 10 and a lower multilayer substrate 20.

多層基板用基材10は、絶縁性基材をなす絶縁樹脂層11と、絶縁樹脂層11の一方の面に銅箔等による配線パターン部(導電層)12とを有し、絶縁樹脂層11の他方の面に層間接着のための接着層13を形成されている。   The multilayer substrate 10 includes an insulating resin layer 11 that forms an insulating substrate, and a wiring pattern portion (conductive layer) 12 made of copper foil or the like on one surface of the insulating resin layer 11. An adhesive layer 13 for interlayer adhesion is formed on the other surface.

FPC(フレキシブルプリント基板)では、絶縁樹脂層11は、全芳香族ポリイミド(API)等によるポリイミドフィルムやポリエステルフィルム等の可撓性を有する樹脂フィルムで構成されている。   In the FPC (flexible printed circuit board), the insulating resin layer 11 is made of a flexible resin film such as a polyimide film made of wholly aromatic polyimide (API) or a polyester film.

絶縁樹脂層11と配線パターン部12と接着層13との3層構造は、汎用の片面銅箔付きポリイミド基材(片面銅張積層板)を出発材とし、それの銅箔とは反対側の面に、接着層13としてポリイミド系接着材を貼付したもので構成することができる。ポリイミド系接着材による接着層13は、熱可塑性ポリイミド(TPI)あるいは熱可塑性ポリイミドに熱硬化機能を付与したフィルムの貼り付けにより形成することができる。   The three-layer structure of the insulating resin layer 11, the wiring pattern portion 12, and the adhesive layer 13 starts with a general-purpose polyimide substrate with a single-sided copper foil (single-sided copper-clad laminate) on the opposite side of the copper foil. It can be configured by attaching a polyimide adhesive as the adhesive layer 13 to the surface. The adhesive layer 13 made of a polyimide-based adhesive can be formed by attaching a thermoplastic polyimide (TPI) or a film obtained by imparting a thermosetting function to a thermoplastic polyimide.

絶縁樹脂層11と接着層13には、これらを貫通するバイアホール14が形成されている。バイアホール14には層間導通を得るための導電性ペースト15が充填されている。   The insulating resin layer 11 and the adhesive layer 13 are formed with via holes 14 penetrating them. The via hole 14 is filled with a conductive paste 15 for obtaining interlayer conduction.

導電性ペースト15は、銀、銅等の導電機能を有する金属粉末(導電性フィラーー)をエポキシ樹脂等の熱硬化性の樹脂バインダに混入したものを、溶剤を含む粘性媒体に混ぜてペースト状にした導電性樹脂組成物である。導電性ペースト15は接着層13の側よりスクリーン印刷法で用いられるスクイジング等によってバイアホール14に穴埋め充填される。   The conductive paste 15 is a paste obtained by mixing a metal powder (conductive filler) having a conductive function such as silver or copper in a thermosetting resin binder such as an epoxy resin with a viscous medium containing a solvent. The conductive resin composition. The conductive paste 15 is filled in the via hole 14 from the side of the adhesive layer 13 by squeezing or the like used in the screen printing method.

多層基板用基材20は、絶縁性基材をなす絶縁樹脂層21と、絶縁樹脂層21の一方の面に銅箔等による配線パターン部(導電層)22とを有する。   The multilayer substrate base material 20 has an insulating resin layer 21 that forms an insulating base material, and a wiring pattern portion (conductive layer) 22 made of copper foil or the like on one surface of the insulating resin layer 21.

絶縁樹脂層21は、多層基板用基材10の絶縁樹脂層11と同様に、全芳香族ポリイミド(API)等によるポリイミドフィルムやポリエステルフィルム等の可撓性を有する樹脂フィルムで構成されている。   The insulating resin layer 21 is composed of a flexible resin film such as a polyimide film made of wholly aromatic polyimide (API) or a polyester film, like the insulating resin layer 11 of the multilayer substrate 10.

多層基板用基材10には、配線パターン部12より電気的に離れた独立した位置に、絶縁樹脂層11と接着層13とを貫通する貫通孔16が形成されている。貫通孔16には樹脂組成物17が充填され、樹脂組成物17は接着層13より外方に突出した円柱状の位置合わせ用突起部18(図2(a)参照)を有する。   A through-hole 16 that penetrates the insulating resin layer 11 and the adhesive layer 13 is formed in the multilayer substrate base material 10 at an independent position electrically separated from the wiring pattern portion 12. The through hole 16 is filled with a resin composition 17, and the resin composition 17 has a columnar alignment protrusion 18 (see FIG. 2A) protruding outward from the adhesive layer 13.

樹脂組成物17は、バイアホール14に充填された導電性樹脂組成物(導電性ペースト15)と同一の樹脂組成物、あるいは、シリカ等の無機質材によるフィラーを混入されているもの、あるいはバイアホール14に充填された導電性ペースト15よりガラス転移温度が低いエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成することができる。貫通孔16に充填する樹脂組成物17は、層間導通を目的としていないから、導電性を有する必要はない。   The resin composition 17 is the same resin composition as that of the conductive resin composition (conductive paste 15) filled in the via hole 14, or a filler mixed with an inorganic material such as silica, or a via hole. 14 can be comprised with thermosetting resin compositions, such as an epoxy resin, whose glass transition temperature is lower than the conductive paste 15 with which 14 was filled. The resin composition 17 that fills the through-hole 16 does not need to have conductivity because it does not aim at interlayer conduction.

樹脂組成物17が、バイアホール14に充填された導電性ペースト15と同一の樹脂組成物である場合には、バイアホール14に対する導電性ペースト15の充填と、貫通孔16に対する樹脂組成物17の充填とを同一工程で、例えば、1回のスクリーン印刷により、工程数を増やすことなく、位置合わせ用突起部18を形成することができる。   When the resin composition 17 is the same resin composition as the conductive paste 15 filled in the via hole 14, the filling of the conductive paste 15 in the via hole 14 and the resin composition 17 in the through hole 16 are performed. The alignment protrusions 18 can be formed without increasing the number of steps by, for example, one screen printing in the same process as filling.

樹脂組成物17がバイアホール14に充填された導電性ペースト15よりガラス転移温度が低いエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成されている場合には、導電性ペースト15の仮硬化工程で、位置合わせ用突起部18を含む樹脂組成物17を完全硬化させることができ、高い硬度、機械的強度を得ることができる。樹脂組成物17がバイアホール14に充填された導電性ペースト15よりガラス転移温度が低いエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成する場合には、導電性ペースト15の充填と、樹脂組成物17の充填を各々個別の工程、例えば、2度のスクリーン印刷等により行う。   When the resin composition 17 is composed of a thermosetting resin composition such as an epoxy resin having a glass transition temperature lower than that of the conductive paste 15 filled in the via hole 14, a temporary curing step of the conductive paste 15 is performed. Thus, the resin composition 17 including the alignment protrusions 18 can be completely cured, and high hardness and mechanical strength can be obtained. When the resin composition 17 is composed of a thermosetting resin composition such as an epoxy resin having a glass transition temperature lower than that of the conductive paste 15 filled in the via hole 14, the filling of the conductive paste 15 and the resin composition The filling of the objects 17 is performed by individual processes, for example, two screen printings.

また、樹脂組成物17がバイアホール14に充填された導電性ペースト15と同じエポキシ樹脂等の熱硬化型の樹脂組成物で構成されている場合には、貫通孔16の樹脂組成物17のみを加熱することにより、位置合わせ用突起部18を含む樹脂組成物17を完全硬化させることができ、高い硬度、機械的強度を得ることができる。なお、樹脂組成物17は、加熱によらず、冷凍による硬化でもよい。   Further, when the resin composition 17 is composed of the same thermosetting resin composition as the conductive paste 15 filled in the via hole 14 such as an epoxy resin, only the resin composition 17 in the through hole 16 is used. By heating, the resin composition 17 including the alignment protrusions 18 can be completely cured, and high hardness and mechanical strength can be obtained. The resin composition 17 may be cured by freezing, not by heating.

また、樹脂組成物17がシリカ等の無機質材によるフィラーを混入されているものである場合には、位置合わせ用突起部18の耐圧縮性を含む機械的強度が向上する。   Further, when the resin composition 17 is mixed with a filler made of an inorganic material such as silica, the mechanical strength including the compression resistance of the alignment protrusion 18 is improved.

多層基板用基材20の絶縁樹脂層21には、配線パターン22より離れた位置に、位置合わせ用突起部18を受け入れる有底の(非貫通孔)凹部23が形成されている(図2(b)参照)。凹部23は、ドリル等による切削加工、レーザ加工、エッチング(ハーフエッチング)等によって形成することができる。   A bottomed (non-through hole) recess 23 for receiving the alignment projection 18 is formed in the insulating resin layer 21 of the base material 20 for the multilayer substrate at a position away from the wiring pattern 22 (FIG. 2 ( b)). The concave portion 23 can be formed by cutting using a drill or the like, laser processing, etching (half etching), or the like.

凹部23の深さdは位置合わせ用突起部18の突出量eとほぼ同じでよい。凹部23の内径bは、凹部23に位置合わせ用突起部18が嵌合するよう、必要な位置合わせ精度を考慮して、位置合わせ用突起部18の外径aに等しいか、それより少し大きい寸法に設定されている。なお、絶縁樹脂層21の厚さは30〜50μm程度、凹部23の深さdおよび位置合わせ用突起部18の突出量eは20μm程度で、位置合わせ用突起部18の外径aは100〜200μm程度である。   The depth d of the recess 23 may be substantially the same as the protrusion amount e of the alignment projection 18. The inner diameter b of the recess 23 is equal to or slightly larger than the outer diameter a of the alignment projection 18 in consideration of necessary alignment accuracy so that the alignment projection 18 fits into the recess 23. Set to dimensions. The thickness of the insulating resin layer 21 is about 30 to 50 μm, the depth d of the recess 23 and the protrusion amount e of the alignment projection 18 are about 20 μm, and the outer diameter a of the alignment projection 18 is 100 to 100 μm. It is about 200 μm.

位置合わせ用突起部18を含む樹脂組成物17は、多層基板用基材10と20とを積層する工程以前に、前述したように、加熱によって仮硬化〜硬化され、積層工程時に、仮硬化〜硬化した位置合わせ用突起部18を凹部23に嵌め合わせることが行われる。   As described above, the resin composition 17 including the alignment protrusion 18 is temporarily cured and cured by heating before the step of laminating the multilayer substrate base materials 10 and 20, and is temporarily cured during the lamination step. The cured alignment projection 18 is fitted into the recess 23.

この嵌め合わせにより、層間ずれが防止され、高い積層精度を得ることができ、安定した層間導通の電気的特性を得ることができる。また、凹部23が非貫通孔であることにより、凹部23に嵌合した位置合わせ用突起部18が絶縁樹脂層21の裏面側に露呈することがない。   By this fitting, interlayer displacement can be prevented, high lamination accuracy can be obtained, and stable electrical characteristics of interlayer conduction can be obtained. Further, since the recess 23 is a non-through hole, the alignment protrusion 18 fitted in the recess 23 is not exposed to the back surface side of the insulating resin layer 21.

また、位置合わせ用突起部18と凹部23は、各々配線パターン部12、22より離れた位置に、これらの配線パターンとは電気的に隔離されて設けられているから、位置合わせ用突起部18、凹部23の配置、サイズが制約を受けることがなく、効果的に横ずれ防止を行える設置部位やサイズを自由に設定できる。   Further, the alignment protrusion 18 and the recess 23 are provided at positions separated from the wiring pattern portions 12 and 22, respectively, so as to be electrically isolated from these wiring patterns. In addition, the arrangement and size of the recess 23 are not restricted, and the installation site and size that can effectively prevent the lateral displacement can be set freely.

この位置合わせ用突起部18と凹部23の位置合わせ嵌合部30は、図4に示されているように、製造過程では配線板製品部Aの周りにあり、最終的には切り落とされる製造代部(マージン部)Bに設けられるか、図5に示されているように、配線板製品部A内で、配線パターン部12、22とは離れて適当位置に設けられる。   As shown in FIG. 4, the alignment fitting portion 30 of the alignment projection 18 and the recess 23 is around the wiring board product portion A in the manufacturing process and is finally cut off. It is provided in the portion (margin portion) B or, as shown in FIG. 5, in the wiring board product portion A, it is provided at an appropriate position apart from the wiring pattern portions 12 and 22.

つぎに、この発明による多層配線板の製造工程を、図6(a)〜(j)を参照して説明する。   Next, the manufacturing process of the multilayer wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS.

図6(a)に示されているように、出発材として、汎用の片面銅張ポリイミド基材(片面導電体張積層板)40を用意する。片面銅張ポリイミド基材40、ポリイミドフィルムによる絶縁樹脂層11の一方の面にのみ導電層としての銅箔41を有する片面銅張積層板(CCL)である。   As shown in FIG. 6A, a general-purpose single-sided copper-clad polyimide substrate (single-sided conductor-clad laminate) 40 is prepared as a starting material. A single-sided copper-clad laminate (CCL) having a copper foil 41 as a conductive layer only on one side of a single-sided copper-clad polyimide substrate 40 and an insulating resin layer 11 made of a polyimide film.

まず、図6(b)に示されているように、片面銅張ポリイミド基材40の銅箔41を、エッチングし、配線パターン部(銅回路)12を形成する。   First, as shown in FIG. 6B, the copper foil 41 of the single-sided copper-clad polyimide substrate 40 is etched to form a wiring pattern portion (copper circuit) 12.

ついで、図6(c)に示されているように、絶縁樹脂層11の配線パターン部12とは反対側の面に熱可塑性ポリイミドを熱プレス機によって貼り合わせ、接着層13を形成し、その上に、PENフィルム、PETフィルム、PIフィルム等による剥離可能なカバー層43を貼り合わせる。   Next, as shown in FIG. 6 (c), thermoplastic polyimide is bonded to the surface of the insulating resin layer 11 opposite to the wiring pattern portion 12 by a hot press to form an adhesive layer 13. A peelable cover layer 43 made of PEN film, PET film, PI film or the like is bonded to the top.

つぎに、図6(d)に示されているように、層間接続したい任意の位置に、カバー層43側からレーザを照射し、絶縁樹脂層11と接着層13とカバー層43を貫通するバイアホール14を形成すると共に、配線パターン部12とは電気的に離れ、配線パターン部12とは独立した位置に、絶縁樹脂層11と接着層13とカバー層43を貫通する貫通孔16をあける。   Next, as shown in FIG. 6D, a laser beam is irradiated from the cover layer 43 side to an arbitrary position where the interlayer connection is desired, and the vias penetrating the insulating resin layer 11, the adhesive layer 13, and the cover layer 43 are irradiated. While forming the hole 14, the through-hole 16 which penetrates the insulating resin layer 11, the adhesive layer 13, and the cover layer 43 in the position electrically separated from the wiring pattern part 12 and independent of the wiring pattern part 12 is opened.

なお、この実施形態では、配線パターン部12に空気抜き用の小穴14Aがあけられている。貫通孔16の部分に銅箔41Aが残されているのは、後述の導電性ペースト充填時の導電性ペースト脱落防止のためであり、必須ではない。また、銅箔41Aにも空気抜き用の小穴16Aがあけられる。   In this embodiment, a small hole 14 </ b> A for venting air is formed in the wiring pattern portion 12. The reason why the copper foil 41A is left in the portion of the through-hole 16 is to prevent the conductive paste from dropping off when the conductive paste described later is filled, and is not essential. A small hole 16A for venting air is also formed in the copper foil 41A.

つぎに、図6(e)、(f)に示されているように、カバー層43の側からスキージ板50を用いて導電性ペースト15をバイアホール14と貫通孔16に穴埋め充填する。なお、貫通孔16に充填した導電性ペースト15は、図示の都合上、樹脂組成物17として符号を付けている。   Next, as shown in FIGS. 6 (e) and 6 (f), the conductive paste 15 is filled in the via holes 14 and the through holes 16 from the cover layer 43 side using the squeegee plate 50. Note that the conductive paste 15 filled in the through holes 16 is labeled as a resin composition 17 for convenience of illustration.

つぎに、図6(g)に示されているように、導電性ペースト15、樹脂組成物17を仮硬化させ、あるいは、導電性ペースト15と樹脂組成物17のガラス転移温度の相違(樹脂組成物17のガラス転移温度が、導電性ペースト15のガラス転移温度より低い)を利用して樹脂組成物17だけを完全硬化させ、その後に、カバー層43を剥離、除去する。これにより、接着層13の側に、バイアホール14の部位では、接着層13より外方に突出した層間導通用突起部15Aが形成され、貫通孔16の部位では、同様に、接着層13より外方に突出した位置合わせ用突起部18が形成される。層間導通用突起部15A、位置合わせ用突起部18の突起長は、カバー層43の厚さと同等になる。これにより、上層の多層基板用基材10が完成する。   Next, as shown in FIG. 6G, the conductive paste 15 and the resin composition 17 are temporarily cured, or the difference in glass transition temperature between the conductive paste 15 and the resin composition 17 (resin composition). Only the resin composition 17 is completely cured using the glass transition temperature of the material 17 is lower than the glass transition temperature of the conductive paste 15, and then the cover layer 43 is peeled off and removed. As a result, an interlayer conduction protrusion 15A protruding outward from the adhesive layer 13 is formed at the via hole 14 side on the adhesive layer 13 side, and similarly, from the adhesive layer 13 at the through hole 16 site. An alignment projection 18 projecting outward is formed. The protrusion lengths of the interlayer conductive protrusion 15A and the alignment protrusion 18 are equal to the thickness of the cover layer 43. Thereby, the upper layer base material 10 for multilayer substrates is completed.

一方、下層の多層基板用基材20においては、図6(h)に示されているように、片面銅張ポリイミド基材40と同様の片面銅張ポリイミド基材を出発材として、絶縁樹脂層21の一方の面に、銅箔のエッチングによって、配線パターン部22を形成する。   On the other hand, in the base material 20 for the lower multilayer substrate, as shown in FIG. 6 (h), the insulating resin layer is started using a single-sided copper-clad polyimide base material similar to the single-sided copper-clad polyimide base material 40 as a starting material. A wiring pattern portion 22 is formed on one surface of 21 by etching a copper foil.

そして、図6(i)に示されているように、配線パターン部22とは電気的に離れ、配線パターン部22とは独立した位置に、ハーフエッチングによって深さが位置合わせ用突起部18の突起長と同等の有底の凹部23を形成する。これにより、下層の多層基板用基材20が完成する。   Then, as shown in FIG. 6 (i), the depth of the alignment projection 18 is half-etched at a position electrically separated from the wiring pattern portion 22 and independent of the wiring pattern portion 22. A bottomed recess 23 equivalent to the projection length is formed. Thereby, the base material 20 for the lower multilayer board is completed.

つぎに、図6(j)に示されているように、上層の多層基板用基材10と下層の多層基板用基材20とを積層し、画像認識等によって多層基板用基材10と20との位置合わせを行い、ついで、図6(k)に示されているように、上層の多層基板用基材10の位置合わせ用突起部18を下層の多層基板用基材20の凹部23に嵌め合わせる。なお、層間導通用突起部15Aは、配線パターン部22に突き当たり、層間導通の接触電気抵抗が小さくなる。   Next, as shown in FIG. 6 (j), the upper multilayer substrate base material 10 and the lower multilayer substrate base material 20 are laminated, and the multilayer substrate base materials 10 and 20 are obtained by image recognition or the like. Next, as shown in FIG. 6 (k), the alignment projection 18 of the upper multilayer substrate base material 10 is formed in the recess 23 of the lower multilayer substrate base material 20. Fit together. The interlayer conduction protrusion 15A hits the wiring pattern portion 22, and the contact electrical resistance for interlayer conduction is reduced.

この嵌め合わせ状態で、真空プレス機により加熱加圧し、接着層13によって層間接着された多層配線板を完成させる。   In this fitted state, heating and pressurization are performed by a vacuum press machine, and a multilayer wiring board bonded by the adhesive layer 13 is completed.

このキュア時には、上層の多層基板用基材10の位置合わせ用突起部18と下層の多層基板用基材20の凹部23とが嵌め合わさっているから、接着層13が軟化しても、横ずれが生じることがない。   During this curing, the alignment protrusion 18 of the upper multilayer substrate base material 10 and the recess 23 of the lower multilayer substrate base material 20 are fitted together. It does not occur.

これにより、位置ずれ防止用の特別な器具、装置を用いることなく、層間ずれが防止され、高い積層精度を得ることができ、安定した層間導通の電気的特性を得ることができる。   Thereby, without using a special instrument or device for preventing displacement, interlayer displacement can be prevented, high lamination accuracy can be obtained, and stable electrical characteristics of interlayer conduction can be obtained.

また、位置合わせ用突起部18と凹部23は、ともに、従来のものと同じ工程で形成されるから、工程の追加がなく、位置ずれ防止のためだけに、製造に要する時間が長くなることがない。   In addition, since both the alignment protrusion 18 and the recess 23 are formed in the same process as the conventional one, there is no additional process, and the time required for manufacturing is increased only to prevent misalignment. Absent.

この発明による多層配線板は、絶縁性基材が、上述したような絶縁樹脂層11と層間接着を行う接着層13との2層構造のものに限られることはなく、図7に示されているように、絶縁性基材を、熱可塑性ポリイミドや液晶ポリマ等、接着性を有する絶縁層51によって構成し、絶縁層51が層間接着を行う接着層を兼ねた1層構造のものにも、同様に適用できる。なお、図7において、図1に対応する部分は、図1に付した符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。   In the multilayer wiring board according to the present invention, the insulating substrate is not limited to the one having the two-layer structure of the insulating resin layer 11 and the adhesive layer 13 that performs interlayer adhesion as described above. As shown, the insulating base material is composed of an insulating layer 51 having adhesive properties such as thermoplastic polyimide and liquid crystal polymer, and the insulating layer 51 also has a one-layer structure that also serves as an adhesive layer that performs interlayer adhesion. The same applies. 7, parts corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1, and description thereof is omitted.

接着性を有する絶縁層51としては、熱可塑性ポリイミド(TPI)あるいは熱可塑性ポリイミドに熱硬化機能を付与したもの、その他、液晶ポリマ等がある。   Examples of the insulating layer 51 having adhesiveness include thermoplastic polyimide (TPI), a thermoplastic polyimide provided with a thermosetting function, and a liquid crystal polymer.

また、凹部23は、有底の非貫通孔に限られることはなく、図8に示されているように、絶縁樹脂層21を貫通する貫通孔によって与えられてもよい。   Further, the recess 23 is not limited to the bottomed non-through hole, and may be provided by a through hole penetrating the insulating resin layer 21 as shown in FIG.

この発明による多層配線板の一つの実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the multilayer wiring board by this invention. (a)、(b)は、一つの実施形態による多層配線板の要部の拡大断面図である。(A), (b) is an expanded sectional view of the principal part of the multilayer wiring board by one Embodiment. 一つの実施形態による多層配線板の要部の拡大斜視図である。It is an expansion perspective view of the principal part of the multilayer wiring board by one embodiment. この発明による多層配線板の一つの実施形態を示す全体平面図である。1 is an overall plan view showing one embodiment of a multilayer wiring board according to the present invention. この発明による多層配線板の他の実施形態を示す全体平面図である。It is a whole top view which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention. (a)〜(k)はこの発明による多層配線板の一つの実施形態の製造工程を示す工程図である。(A)-(k) is process drawing which shows the manufacturing process of one Embodiment of the multilayer wiring board by this invention. この発明による多層配線板の他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention. この発明による多層配線板の他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention. (a)〜(c)は多層配線板の従来例を示す断面図である。(A)-(c) is sectional drawing which shows the prior art example of a multilayer wiring board. (a)、(b)は多層配線板の従来例を示す断面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows the prior art example of a multilayer wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

10 多層基板用基材
11 絶縁樹脂層
12 配線パターン部
13 接着層
14 バイアホール
15 導電性ペースト
16 貫通孔
17 樹脂組成物
18 位置合わせ用突起部
20 多層基板用基材
21 絶縁樹脂層
22 配線パターン部
23 凹部
30 位置合わせ嵌合部
40 片面銅張ポリイミド基材
51 絶縁層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base material 11 for multilayer substrates Insulating resin layer 12 Wiring pattern part 13 Adhesive layer 14 Via hole 15 Conductive paste 16 Through-hole 17 Resin composition 18 Positioning protrusion 20 Multilayer substrate base material 21 Insulating resin layer 22 Wiring pattern Part 23 concave part 30 alignment fitting part 40 single-sided copper-clad polyimide base material 51 insulating layer

Claims (8)

絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに充填された導電性樹脂組成物により前記配線パターンと導通関係にあって層間導通を得る少なくも一枚の多層基板用基材と、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられた多層基板用基材とを積層された多層配線板において、
一方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有し、
他方の多層基板用基材には、前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部が形成されている多層配線板。
A conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern, and the via hole is filled with the conductive material. A multilayer substrate provided with at least one base material for a multilayer substrate in a conductive relationship with the wiring pattern by the resin composition and obtaining interlayer conduction, and a conductive layer forming the wiring pattern on one surface of the insulating base material In a multilayer wiring board laminated with a base material for use,
One multilayer substrate is formed with a hole penetrating the insulating substrate at a position electrically separated from the wiring pattern, the hole is filled with a resin composition, and the resin composition is Having an alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base;
A multilayer wiring board in which a recess for receiving the positioning projection is formed at a position electrically separated from the wiring pattern on the other multilayer substrate base material.
前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、前記バイアホールに充填された前記導電性樹脂組成物と同一の樹脂組成物である請求項1記載の多層配線板。   The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the resin composition filled in the hole and including the alignment protrusion is the same resin composition as the conductive resin composition filled in the via hole. 前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、無機質材によるフィラーを混入されている請求項1記載の多層配線板。   The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the resin composition including the alignment protrusions filled in the holes is mixed with a filler made of an inorganic material. 前記孔に充填され前記位置合わせ用突起部を含む樹脂組成物は、前記バイアホールに充填された前記導電性樹脂組成物よりガラス転移温度が低い樹脂組成物である請求項1または3記載の多層配線板。   4. The multilayer according to claim 1, wherein the resin composition filled in the hole and including the alignment protrusion is a resin composition having a glass transition temperature lower than that of the conductive resin composition filled in the via hole. Wiring board. 前記絶縁性基材は、接着性を有し絶縁層が層間接着を行う接着層を兼ねた1層構造のもの、あるいは絶縁層と層間接着を行う接着層との2層構造のものである請求項1〜4の何れか1項記載の多層配線板。   The insulating base material has a single-layer structure that also serves as an adhesive layer that has adhesiveness and an insulating layer performs interlayer adhesion, or has a two-layer structure that includes an insulating layer and an adhesive layer that performs interlayer adhesion. Item 5. The multilayer wiring board according to any one of Items 1 to 4. 絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに層間導通のための導電性樹脂組成物を充填された多層基板用基材において、
前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔が形成され、前記孔に樹脂組成物が充填され、前記樹脂組成物は前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を有する多層基板用基材。
A conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating base material, and a via hole penetrating the insulating base material is formed at a position continuous with the wiring pattern. In the base material for a multilayer substrate filled with the conductive resin composition,
A hole penetrating the insulating base material is formed at a position electrically separated from the wiring pattern, the hole is filled with a resin composition, and the resin composition is outside the other surface of the insulating base material. A base material for a multilayer substrate having an alignment projection protruding in the direction.
絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられ、前記配線パターンと連続する位置に前記絶縁性基材を貫通するバイアホールが形成され、前記バイアホールに充填された導電性樹脂組成物により前記配線パターンと導通関係にあって層間導通を得る少なくも一枚の多層基板用基材と、絶縁性基材の一方の面に配線パターンをなす導電層が設けられた多層基板用基材とを積層された多層配線板の製造方法において、
一方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記絶縁性基材を貫通する孔を形成する工程と、
前記孔に樹脂組成物を充填し、当該樹脂組成物によって前記絶縁性基材の他方の面より外方に突出した位置合わせ用突起部を形成する工程と、
他方の多層基板用基材の前記配線パターンより電気的に離れた位置に前記位置合わせ用突起部を受け入れる凹部を形成する工程と、
複数枚の多層基板用基材を積層し、前記位置合わせ用突起部と前記凹部とを嵌め合わせる工程と、
積層した複数枚の多層基板用基材を接着接合する工程と、
を有する多層配線板の製造方法。
A conductive layer forming a wiring pattern is provided on one surface of the insulating substrate, and a via hole penetrating the insulating substrate is formed at a position continuous with the wiring pattern, and the via hole is filled with the conductive material. A multilayer substrate provided with at least one base material for a multilayer substrate in a conductive relationship with the wiring pattern by the resin composition and obtaining interlayer conduction, and a conductive layer forming the wiring pattern on one surface of the insulating base material In the manufacturing method of the multilayer wiring board laminated with the base material for use,
Forming a hole penetrating the insulating base material at a position electrically separated from the wiring pattern of the base material for one multilayer substrate; and
Filling the hole with a resin composition, and forming the alignment protrusion protruding outward from the other surface of the insulating base by the resin composition;
Forming a recess for receiving the alignment protrusion at a position electrically separated from the wiring pattern of the other multilayer substrate base material;
A step of laminating a plurality of base materials for a multi-layer substrate, and fitting the positioning projections and the recesses;
Adhering and bonding a plurality of laminated base materials for a multilayer substrate;
The manufacturing method of the multilayer wiring board which has this.
複数枚の多層基板用基材を積層する工程以前に、前記位置合わせ用突起部を仮硬化〜硬化させる工程を有する請求項7記載の多層配線板の製造方法。
The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 7, further comprising a step of temporarily curing to curing the alignment protrusion before the step of laminating a plurality of multilayer substrate base materials.
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