JP2005172438A - 単側波帯雑音指数測定方法 - Google Patents

単側波帯雑音指数測定方法 Download PDF

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達也 小山
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Abstract

【課題】被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求める際に、入力前段のイメージ周波数での雑音電力の影響を除去するために従来必要であったバンドパスフィルタを設けることなく、簡単な測定を行うだけで近似的な単側波帯雑音指数を容易に求めることができる単側波帯雑音指数測定方法を提供する。
【解決手段】被試験装置207に対する3条件による測定として、1つ目は、被試験装置207の両側波帯雑音指数を測定し、2つ目は、所望のRF周波数における被試験装置207のゲインを測定し、3つ目は、イメージ周波数における被試験装置207のゲインを測定し、それらの測定値を用いて、演算により被試験装置207における近似的な単側波帯雑音指数を求める。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体素子などの高周波デバイスを測定するための電子機器及び技法であり、特に、被試験装置の雑音指数に対し、両側波帯雑音指数から、被試験装置の単側波帯雑音指数を求めるための単側波帯雑音指数測定方法に関するものである。
通常、無線周波数における被試験装置(ミキサ)の雑音指数測定では、LO信号によってダウンコンバートされるIF出力信号は、RF入力信号成分、及びイメージ信号成分を含んだものとなる。従って、一般に中間周波数で得られる雑音電力は、2つの側波帯における雑音電力の平均であると考えられる。しかしながら、このイメージ信号成分は、被試験装置の周波数応答特性がフラットでなければ、単側波帯雑音指数測定結果に影響を及ぼすことになる。
図1には、ミキサによるダウンコンバートの結果が示されており、LO、RF、イメージ、及びIF信号の間の関係が示されている。図1において、縦軸は信号電力を表し、横軸は信号周波数を表している。IF信号101は、LO信号104とRF入力信号103との差に等しい周波数となり、RF入力信号は、fRF=fLO−fIFの、LO信号周波数未満の設定IF周波数をモニタすることによって測定される。しかし、一方でfRF’=fLO+fIFのLO信号周波数を超えるイメージ信号も、同様にモニタされるIF周波数の信号を発生する。このイメージ信号による測定の不確定さを解決するために、図1の破線105によって示されるfRFを含む周波数帯域に対して、被試験装置の入力段にバンドパスフィルタを設けることによって、fRF’のイメージ信号102を減衰させるのが通常である。
図3は、従来のバンドパスフィルタを用いた単側波帯雑音指数測定システムのブロック図の一例である。図3において、301は雑音源、302は単側波帯雑音指数に影響を与えるイメージ信号を除去するためのバンドパスフィルタ、303はLO信号源、304は中間周波数に同調可能な可変中間周波数(IF)受信機、305は被試験装置を表している。単側波帯雑音指数測定において、望ましくないイメージ周波数のミキシング結果が、所定のIF信号周波数で測定されないようにするためには、この帯域におけるバンドパスフィルタが不可欠である。
しかしながら、図3に示すような単側波帯雑音指数測定におけるイメージ周波数の雑音を除去するための従来の技法では、被試験装置305への雑音信号入力の前に、雑音信号に対しバンドパスフィルタ302によるフィルタリングを施さなければならない。イメージ信号にあたる望ましくない側波帯を除去するため、ある周波数範囲にわたってバンドパスフィルタ302の通過帯域が必要であり、バンドパスフィルタ302の通過帯域の中心周波数が、IF信号周波数だけLO周波数から離隔するようにして、LO信号及びRF入力信号の周波数変化に追随していなければならない。
しかし、これでは、被試験装置305それぞれに対して、適合するバンドパスフィルタ302が必要となり、また、通過帯域の異なる入力信号に対しては、バンドパスフィルタ302の通過帯域を切り替えなければならない。これは被試験装置305のコストの増加に結びつく可能性がある。
本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求める際に、簡単な測定を行うだけで近似的な単側波帯雑音指数を容易に求めることができ、試験コストおよび処理時間を大幅に削減することができる単側波帯雑音指数測定方法を提供する。
上記の課題を解決するために、本発明の単側波帯雑音指数測定方法は、被試験装置に対する3条件による測定として、1つ目は、被試験装置の両側波帯雑音指数を測定し、2つ目は、所望のRF周波数における被試験装置のゲインを測定し、3つ目は、イメージ周波数における被試験装置のゲインを測定し、それらの測定値を用いて、演算により被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求める方法としたことを特徴とする。
以上により、3つの簡単な測定により得られた概知の値を用いることにより、従来では被試験装置への入力周波数の変化に対応する周波数帯毎に必要であった異なる被試験装置、および周波数帯毎の高価なバンドパスフィルタを設けることなく、演算により被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求めることができる。
以上のように本発明によれば、被試験装置に対するRF信号源による測定として、1つ目は、被試験装置の両側波帯雑音指数を測定し、2つ目は、所望のRF周波数における被試験装置のゲインを測定し、3つ目は、イメージ周波数における被試験装置のゲインを測定し、それらの測定値を用いることにより、従来では被試験装置への入力周波数の変化に対応する周波数帯毎に必要であった異なる被試験装置、および周波数帯毎の高価なバンドパスフィルタを設けることなく、演算により被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求めることができる。
そのため、被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求める際に、簡単な測定を行うだけで近似的な単側波帯雑音指数を容易に求めることができ、試験コストおよび処理時間を大幅に削減することができる。
以下、本発明の実施の形態を示す単側波帯雑音指数測定方法について、図面を参照しながら具体的に説明する。
図2は本実施の形態による被試験装置の単側波帯雑音指数測定システムのブロック図を示したものである。図2において、雑音源201と信号源202は、スイッチ204を介して被試験装置207の第1の入力端子21に接続し、LO信号源203は被試験装置207の第2の入力端子22に接続し、可変IF受信機205は被試験装置207の出力端子23に接続し、それぞれ信号源202、スイッチ204、可変IF受信機205を制御するコントローラ206を有している。
この構成において、特定の周波数における被試験装置207の両側波帯雑音指数は、雑音源201をスイッチ204を介して被試験装置207の入力端子21へ接続し、YFACTOR法を用いて可変IF受信機205によって測定される。
ここで、YFACTOR法による雑音指数の定義によれば、雑音指数NFは、
Figure 2005172438
で規格付けされた過激雑音比であり、T及びTは、それぞれHOT状態、及びコールド状態における雑音源201の温度である。また、N及びNは、それぞれワットを単位とし、Nはコールド状態における出力雑音電力、Nはホット状態における出力雑音電力を示す。
これに従って、第1の測定では、被試験装置207の両側波帯雑音指数は、
Figure 2005172438
である。ここで、NはCOLD状態でのノイズパワー、NはHOT状態でのノイズパワーであり、また、Gは所望のRF入力周波数における被試験装置207の出力ゲイン、Gはイメージ入力周波数における被試験装置207の出力ゲイン、及び、Nは被試験装置207の内部付加雑音を表している。これらを用いれば、被試験装置207の両側波帯雑音指数NFDSBは、
Figure 2005172438
となることがわかる。
次に、第2の測定では、スイッチ204により、信号源202の出力が被試験装置207の入力端子21に接続され、出力周波数が所望のRF周波数に設定される。被試験装置207の出力端子23から出力される所定の中間周波数の出力を可変IF受信機205により測定することによって、被試験装置207の所望のRF周波数での出力ゲインGが測定される。
次に、第3の測定では、信号源202がイメージ周波数に設定され、被試験装置207の入力端子21に接続される。被試験装置207の出力端子23から出力される所定の中間周波数の出力を可変IF受信機205により測定することによって、同じく被試験装置207のイメージ周波数での出力ゲインGが測定される。
次に、これら3つの測定結果より、所望のRF周波数での単側波帯雑音指数が得られることを導く。まず(1)のYFACTOR法による雑音指数の定義によれば、被試験装置の単側波帯雑音指数NFSSBは、
Figure 2005172438
であり、ここで、NはCOLD状態でのノイズパワー、Gは所望のRF入力周波数における被試験装置207の出力ゲイン、及び、Nは被試験装置207の内部付加雑音を表している。これらを用いれば、被試験装置207の単側波帯雑音指数は、
Figure 2005172438
(3)及び(5)によれば、
Figure 2005172438
Figure 2005172438
と近似することができる。
この方法によって、被試験装置207の近似的な単側波帯雑音指数を、両側波帯雑音指数、及び、適切に選択される周波数における出力ゲインを測定することによって、演算により求めることができる。
本発明の単側波帯雑音指数測定方法は、被試験装置における近似的な単側波帯雑音指数を求める際に、簡単な測定を行うだけで近似的な単側波帯雑音指数を容易に求めることができ、試験コストおよび処理時間を大幅に削減することができるものであり、半導体素子などの高周波デバイスを測定するための電子機器及び技法に適用できる。
一般的なダウンコンバータにおけるRF、LO及びIF信号の関係説明図 本発明の実施の形態の単側波帯雑音指数測定方法を用いたシステム構成例を示すブロック図 従来の単側波帯雑音指数測定方法を用いたシステム構成例を示すブロック図
符号の説明
201 雑音源
202 RF信号源
203 局部発振器
204 スイッチ
205 同調可能中間周波数受信機
206 コントローラ
207 被試験装置
21、22、23 被試験装置の入力端子

Claims (1)

  1. 雑音信号を出力する雑音源と、コントローラにより制御され可変周波数のRF信号を発生する信号源と、前記コントローラにより制御され前記雑音源と前記信号源を被試験装置の入力へと切り替えるスイッチと、前記雑音源又は前記信号源の出力端に接続された第1の入力端子、および局部発振器の出力端に接続された第2の入力端子を備えた被試験装置と、前記コントローラにより制御され前記被試験装置の出力端子に接続された入力端を備えた中間周波数に同調可能な可変中間周波数受信機とからなる単側波帯雑音指数測定システムにより、前記被試験装置に対して、所望のRF周波数で近似的な単側波帯雑音指数を測定するための単側波帯雑音指数測定方法であって、前記雑音源を前記被試験装置へ入力する場合に、所定の中間周波数の両側波帯雑音指数を測定する第1の測定工程と、所望の周波数におけるRF信号を前記被試験装置へ入力する場合に、所定の中間周波数で所望のRF入力周波数における出力ゲインを測定する第2の測定工程と、イメージ周波数におけるRF信号を前記被試験装置へ入力する場合に、イメージ周波数における出力ゲインを測定する第3の測定工程とからなり、各測定工程により、それぞれ測定した前記両側波帯雑音指数測定値と前記所望の入力信号周波数と前記イメージ信号周波数の出力ゲインとを用い、それらの値による演算によって前記単側波帯雑音指数を求めることを特徴とする単側波帯雑音指数測定方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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