JP2005158809A - Prober device, wafer-detecting method, wafer position measuring method and cassette position correcting method - Google Patents

Prober device, wafer-detecting method, wafer position measuring method and cassette position correcting method Download PDF

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JP2005158809A JP2003391080A JP2003391080A JP2005158809A JP 2005158809 A JP2005158809 A JP 2005158809A JP 2003391080 A JP2003391080 A JP 2003391080A JP 2003391080 A JP2003391080 A JP 2003391080A JP 2005158809 A JP2005158809 A JP 2005158809A
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Kazunori Kimura
和則 木村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for surer detection of a wafer in a cassette at high speed, and to provide a prober device. <P>SOLUTION: The provider device 10 is provided with sensors 61 and 62 for detecting the existence of the wafer in the cassette, a driving means 54 which relatively moves the cassette 22 and the sensors in one direction, a pulse signal output part 55 for outputting a pulse signal synchronized with a moving distance by the driving means 54, a read timing generator 72 for outputting a reading timing signal when the pulse signal from the pulse signal output 55 is inputted for the prescribed number of times, a read part 71 for reading the output of the sensor, when the reading timing signal from the read timing generator 72 is inputted, and a wafer existence deciding part 83 for deciding the presence or the absence of the wafer in the cassette, based on the detection result of the sensor. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プローバ装置に関し、半導体ウエハに形成されたチップの特性を測定するプローバ装置とウエハを多数格納可能なカセット内のウエハ検出方法に関する。   The present invention relates to a prober apparatus, and more particularly to a prober apparatus for measuring characteristics of chips formed on a semiconductor wafer and a wafer detection method in a cassette capable of storing a large number of wafers.

半導体ウエハの表面には同一の電気素子回路が多数形成されるが、各電気素子回路の形成品質の検査は、各電気素子回路を各チップに切断する前に行われている。このような半導体ウエハ表面上に形成された電気素子回路の検査は、例えば、下記特許文献1に開示されるウエハプローバと呼ばれる装置によって行われる。   Many identical electric element circuits are formed on the surface of the semiconductor wafer, but the inspection of the formation quality of each electric element circuit is performed before the electric element circuits are cut into chips. The inspection of the electric element circuit formed on the surface of the semiconductor wafer is performed by, for example, an apparatus called a wafer prober disclosed in Patent Document 1 below.

図1に、特許文献1に開示される従来のプローバ装置の外観斜視図である。プローバ装置10は、主に、カセットストック12、ウエハ搬送ベルト14、検査用テーブル16、及び検査部18等から構成されている。   FIG. 1 is an external perspective view of a conventional prober device disclosed in Patent Document 1. In FIG. The prober apparatus 10 mainly includes a cassette stock 12, a wafer transport belt 14, an inspection table 16, an inspection unit 18, and the like.

カセットストック12は、図示しないエレベータ機構を有し、このエレベータ機構の動作により昇降移動するプレート20上にカセット22が載置されており、該カセット22にはウエハ24が複数枚格納されている。
前記カセット22に格納されたウエハ24は、ロードプッシャー26によって搬送ベルト14に向けて押し出され、搬送ベルト14で前方へ運ばれる。そして、該ウエハ24は、搬送アーム28の先端部に設けられた吸着コレット29で吸着保持され、搬送アーム28によって検査用テーブル16上に移動される。
The cassette stock 12 has an elevator mechanism (not shown), and a cassette 22 is placed on a plate 20 that moves up and down by the operation of the elevator mechanism. A plurality of wafers 24 are stored in the cassette 22.
The wafer 24 stored in the cassette 22 is pushed toward the transport belt 14 by the load pusher 26 and is carried forward by the transport belt 14. The wafer 24 is sucked and held by a suction collet 29 provided at the tip of the transfer arm 28 and moved onto the inspection table 16 by the transfer arm 28.

検査用テーブル16は、XYZ移動機構上に設けられており、このXYZ移動機構によってXY方向に平行移動されると共に、Z方向に上下移動される。
前記ウエハ検査部18は、顕微鏡30を有し、この顕微鏡30の下方にはプローブステージ32が形成されている。該プローブステージ32には、検査対象となるウエハ24に対応したプローブカード(図示せず)を選択して取り付けることができる。
The inspection table 16 is provided on an XYZ moving mechanism. The inspection table 16 is moved in parallel in the XY direction by this XYZ moving mechanism and is moved up and down in the Z direction.
The wafer inspection unit 18 has a microscope 30, and a probe stage 32 is formed below the microscope 30. A probe card (not shown) corresponding to the wafer 24 to be inspected can be selected and attached to the probe stage 32.

検査を終了したウエハ24は、アンロードアーム36によって、検査用テーブル16上から搬送ベルト1上に移動され、アンロードプッシャー38によって、前記カセット22の元の棚に格納される。   The wafer 24 that has been inspected is moved from the inspection table 16 onto the conveyor belt 1 by the unload arm 36, and stored in the original shelf of the cassette 22 by the unload pusher 38.

前記の如く構成されたウエハプローバ装置10の作用について説明する。先ず、カセット22からウエハ24を取り出し、搬送ベルト14及び、搬送アーム28によってウエハ24を検査用テーブル16上に搬送し、該ウエハを吸着チャックにより吸着する。その後、図示しないCCDカメラによって撮像した画像データに基づいて前記検査用テーブル16をプローブカードの方向に移動させ、ファインアライメント調整を行う。そしてウエハ24の電極パッドにプローブカードのプローブニードルを当接させ各素子回路の検査を順次行うことができる。なお、上述のウエハ24の搬送ベルト14への出し入れは、ロードプッシャー26及びアンロードプッシャー38による他、アーム機構などによっても行われている。   The operation of the wafer prober apparatus 10 configured as described above will be described. First, the wafer 24 is taken out from the cassette 22, and the wafer 24 is transferred onto the inspection table 16 by the transfer belt 14 and the transfer arm 28, and the wafer is sucked by the suction chuck. Thereafter, the inspection table 16 is moved in the direction of the probe card based on image data captured by a CCD camera (not shown), and fine alignment adjustment is performed. Then, the probe needles of the probe card can be brought into contact with the electrode pads of the wafer 24 to sequentially inspect each element circuit. The above-described loading / unloading of the wafer 24 into / from the conveyor belt 14 is performed by an arm mechanism or the like in addition to the load pusher 26 and the unload pusher 38.

図2に、プローバ装置10のカセットストック12の構成図を示す。カセットストック12は、ウエハ24を複数収納可能なカセット22が入る筐体50と、カセット22及びこれ載置するプレート20を昇降移動する昇降手段53と、昇降手段53を駆動するモータ54を備える。   In FIG. 2, the block diagram of the cassette stock 12 of the prober apparatus 10 is shown. The cassette stock 12 includes a housing 50 in which a cassette 22 that can store a plurality of wafers 24 is placed, a lifting / lowering means 53 that moves the cassette 22 and the plate 20 on which the cassette 22 is placed, and a motor 54 that drives the lifting / lowering means 53.

モータ54には、通常はステッピングモータ(パルスモータ)が使用される。モータ制御部55は、モータ54を制御するための駆動用パルス信号を発生させ、この駆動用パルス信号に基づいて、モータ駆動回路56がステッピングモータの各コイルを励磁する励磁電流を出力する。   As the motor 54, a stepping motor (pulse motor) is usually used. The motor control unit 55 generates a driving pulse signal for controlling the motor 54, and the motor driving circuit 56 outputs an excitation current for exciting each coil of the stepping motor based on the driving pulse signal.

モータ制御部55は、プローバ装置10を司る制御部であるコンピュータ等で構成される計算器80のデータバスに接続され計算器80とデータをやりとり可能であり、計算器80によるカセット高さ制御データに基づき、前記駆動用パルス信号を発生させる。   The motor control unit 55 is connected to a data bus of a calculator 80 constituted by a computer or the like which is a control unit that controls the prober device 10 and can exchange data with the calculator 80. Cassette height control data by the calculator 80 Based on the above, the driving pulse signal is generated.

図3は、図2のカセットストック12のAーA’断面図である。カセット22は、その前面及び背面が開口しており、ロードプッシャー26、アンロードプッシャー38によってウエハ24を出し入れできるようにしてある。また、その側面壁の内側にはウエハ24を載架して収納するための複数のスロット(棚)52が設けられている。   FIG. 3 is a cross-sectional view of the cassette stock 12 of FIG. The cassette 22 is open at the front and back, and the wafer 24 can be taken in and out by a load pusher 26 and an unload pusher 38. A plurality of slots (shelves) 52 for mounting and storing the wafers 24 are provided inside the side walls.

また、図1に示すとおり、カセットストック12は、各スロット52にウエハ24が収納されているか否かを検出するための光センサ61(送信側)、62(受信側)が設けられる。
光センサ61、62は、ウエハ24が光軸と同じ高さにあるときには、送信側センサ61と受信側62との間にウエハ24が介在し、送信側センサ61から送信された光が、受信側センサ62に届かないことを検出して、ウエハ24の有無を検出する。
光センサ61、62の光軸は、図2に示すとおりスロット52が設けられるカセット22の側面に沿って、略水平に設けられている。
As shown in FIG. 1, the cassette stock 12 is provided with optical sensors 61 (transmission side) and 62 (reception side) for detecting whether or not the wafer 24 is stored in each slot 52.
In the optical sensors 61 and 62, when the wafer 24 is at the same height as the optical axis, the wafer 24 is interposed between the transmission side sensor 61 and the reception side 62, and the light transmitted from the transmission side sensor 61 is received. The presence of the wafer 24 is detected by detecting that it has not reached the side sensor 62.
The optical axes of the optical sensors 61 and 62 are provided substantially horizontally along the side surface of the cassette 22 in which the slot 52 is provided as shown in FIG.

また、光センサ61、62の光軸は、ロードプッシャー26やアンロードプッシャー38の、ウエハ24との接触部分と同じ高さに設けられている。これは、光センサ61、62は、ロード位置に位置付けられるよう制御されたウエハ24が、確かにロード位置にあり、ロードプッシャー26やアンロードプッシャー38によりロード、アンロード可能であるかどうかを検出するためである。   Further, the optical axes of the optical sensors 61 and 62 are provided at the same height as the contact portion of the load pusher 26 and the unload pusher 38 with the wafer 24. This is because the optical sensors 61 and 62 detect whether or not the wafer 24 controlled to be positioned at the load position is surely at the load position and can be loaded and unloaded by the load pusher 26 and the unload pusher 38. It is to do.

受信側光センサ62の出力である検出信号は、アナログデジタル変換器(ADC)64によりディジタル信号に変換され、入出力手段(I/O)82を介して、計算器80のデータバスに接続され、計算器80により利用可能となる。   The detection signal that is the output of the receiving side optical sensor 62 is converted into a digital signal by an analog-to-digital converter (ADC) 64 and connected to the data bus of the calculator 80 via an input / output means (I / O) 82. Available to the calculator 80.

上述のようなカセットストック12にカセット22を入れ、カセット22に収納されたウエハ24を検査する際には、ウエハ24が収納される予定のスロット52内に実際に収納されていることを、予め確認しておくことが好ましい。   When the cassette 22 is put in the cassette stock 12 as described above and the wafer 24 stored in the cassette 22 is inspected, it is preliminarily confirmed that the wafer 24 is actually stored in the slot 52 to be stored. It is preferable to confirm.

従来行われているカセット22内のウエハ24検出は、以下の通り行われる。
1.計算器80は、カセット22が等速で移動するようモータ制御部55を制御する。
2.カセット22が、移動開始点から、各スロット52が光センサ61と62の光軸高さを通過するときのカセット22位置に至るまでの各時刻は、予め計算されており、計算器80は、この時刻で測定タイミングを発生させる。
3.計算器80は、ソフトウエア処理によって、前記発生させたタイミングで光センサ62の出力信号を読み取る。
Conventional detection of the wafer 24 in the cassette 22 is performed as follows.
1. The calculator 80 controls the motor control unit 55 so that the cassette 22 moves at a constant speed.
2. Each time from when the cassette 22 starts moving to the cassette 22 position when each slot 52 passes the optical axis height of the optical sensors 61 and 62 is calculated in advance. Measurement timing is generated at this time.
3. The calculator 80 reads the output signal of the optical sensor 62 at the generated timing by software processing.

この様子を図4(A)、(B)を参照して説明する。
図4(A)は、カセット22の時間変化に対する変位を示す図である。いま、カセット22内に収納される複数のウエハ24のうち1枚は、カセット22の位置がx1〜x2の間にあるとき光センサ61、62の光軸を遮る位置にあり、他の1枚は、カセット22の位置がx3〜x4の間にあるとき光センサ61、62の光軸を遮る位置にある。
This will be described with reference to FIGS. 4 (A) and 4 (B).
FIG. 4A shows the displacement of the cassette 22 with respect to time. Now, one of the plurality of wafers 24 housed in the cassette 22 is in a position where the optical axis of the optical sensors 61 and 62 is blocked when the position of the cassette 22 is between x1 and x2, and the other one. Is in a position to block the optical axes of the optical sensors 61 and 62 when the position of the cassette 22 is between x3 and x4.

図4(B)は、センサ61の検出信号R1のタイムチャートである。図示するとおりカセット22の位置がx1〜x2の間にある時刻t1〜t2のとき、及びx3〜x4の間にある時刻t3〜t4のとき、信号R2は出力されなくなる。   FIG. 4B is a time chart of the detection signal R <b> 1 of the sensor 61. As shown in the drawing, the signal R2 is not output at the time t1 to t2 when the position of the cassette 22 is between x1 and x2, and at the time t3 to t4 between x3 and x4.

したがって、この時刻t1及びt2の中間の一点の時刻であるt5と、t3及びt4の中間の一点の時刻であるt6に、測定タイミングを発生させて光センサの出力信号を検出すれば、各スロット52に収納されるウエハ24の有無を検出できる。   Therefore, if the measurement timing is generated and the output signal of the optical sensor is detected at t5 which is a time at one point between times t1 and t2 and t6 which is a time at one point between t3 and t4, each slot is detected. The presence or absence of the wafer 24 accommodated in 52 can be detected.

ここで、各スロット52は等間隔で配置されており、またカセット22は等速で移動しているため、各スロット52は、一定時隔で光センサ61、62の光軸高さを通過する。したがって、計算器80は、前記測定タイミングをタイマ81により一定時隔を計時することによって発生させることが可能である。   Here, since each slot 52 is arrange | positioned at equal intervals and the cassette 22 is moving at equal speed, each slot 52 passes the optical-axis height of the optical sensors 61 and 62 by a fixed time interval. . Therefore, the calculator 80 can generate the measurement timing by measuring a certain time interval by the timer 81.

このように従来のウエハ検出方法は、カセット22を定速制御しつつ、各スロット52ごとに1回づつの測定タイミングをタイマで発生させて、この測定タイミングで、各スロット52内のウエハ24の有無を検出する光センサの出力を読み取ることによって行われていた。   As described above, in the conventional wafer detection method, while the cassette 22 is controlled at a constant speed, a measurement timing is generated once for each slot 52 by the timer, and the wafer 24 in each slot 52 is detected at this measurement timing. This is done by reading the output of an optical sensor that detects the presence or absence.

特開平8−250558号公報JP-A-8-250558

従来のカセット内ウエハ検出方法は、カセットが等速で移動すること、かつ光センサが等時隔で測定すること、を前提として、タイマを利用したソフトウエア処理によりカセット位置と光センサ光軸との位置合わせを間接的に行うものであり、カセット位置の現実の位置と直接同期させたものではなかった。   The conventional wafer detection method in the cassette is based on the assumption that the cassette moves at a constant speed and that the optical sensor measures at equal time intervals. The positioning of the cassette is performed indirectly, and is not directly synchronized with the actual position of the cassette.

したがって、このソフトウエア処理を行う計算器80に、優先度の高い他の処理が発生すると読み取り遅れが生じることがある。このため、図4(A)(B)に示すように実際の測定タイミングがt5’、t6’となると、ウエハを検出しそこなうことがあるという問題があった。   Therefore, if other processing with high priority occurs in the calculator 80 that performs this software processing, a reading delay may occur. For this reason, as shown in FIGS. 4A and 4B, when the actual measurement timing is t5 'and t6', there is a problem that the wafer may be missed.

また、図4(C)(D)に示すように、カセット22の定速制御に変動が生じた場合には、本来の測定タイミングであるt5、t6のときに、ウエハが光センサ光軸上になく(すなわち、カセット位置が前記のx1〜x2間、x3〜x4間になく)、ウエハを検出しそこなうことがあるという問題があった。   Also, as shown in FIGS. 4C and 4D, when fluctuations occur in the constant speed control of the cassette 22, the wafer is positioned on the optical sensor optical axis at the original measurement timings t5 and t6. (I.e., the cassette position is not between x1 and x2 and between x3 and x4), and there is a problem that the wafer may be missed.

また、このような誤差を防止するために、カセットの移動速度を低くしてマージンを持たせざるを得ず、検出時間が必要以上にかかるという問題があった。
さらに、タイマを用いた測定処理を行うソフトウエアは、プローバ装置の制御部と同じ処理装置を使用するのが通常であるが、測定処理の優先度を高めるために、この処理装置の処理能力を多く占有するという問題があった。
Further, in order to prevent such an error, there has been a problem that the moving speed of the cassette has to be lowered to have a margin, and the detection time is longer than necessary.
Furthermore, software that performs measurement processing using a timer usually uses the same processing device as the control unit of the prober device, but in order to increase the priority of measurement processing, the processing capability of this processing device is increased. There was a problem of occupying many.

さらに、ウエハは半導体製造プロセスで変形することがあり、このような場合、上述の光センサでスロット内に収納されていることが検出されても、ロードプッシャー26により押し出すことができないことがある。この様子を図5に示す。   Furthermore, the wafer may be deformed in the semiconductor manufacturing process. In such a case, even if it is detected by the above-described optical sensor that the wafer is housed in the slot, it may not be pushed out by the load pusher 26. This is shown in FIG.

カセット22内のスロット52に収納されるウエハ24は、前工程の半導体製造プロセスで変形して図示するとおり周辺が反り返っている。このため、ロードプッシャー26が接触する予定の側面部分が、スロット52に載架されたときに大きく下方に下がり、ロードプッシャー26が押し出すために必要な接触面積が得られず、ロードプッシャー26により押し出すことができない。
しかし、光センサは一定の上下幅のあるスロット52のどこか一つの高さでだけウエハ24側面の検出を行うため、上述のようなウエハ24の変形を検出することができない。
The wafer 24 accommodated in the slot 52 in the cassette 22 is deformed by the semiconductor manufacturing process of the previous process and the periphery is warped as shown in the figure. For this reason, when the load pusher 26 is to be brought into contact with the slot 52, the side surface portion of the side pusher 26 is greatly lowered, and the load pusher 26 does not have a contact area required for pushing out. I can't.
However, since the optical sensor detects the side surface of the wafer 24 only at one height of the slot 52 having a certain vertical width, the deformation of the wafer 24 as described above cannot be detected.

上記問題点を鑑みて、本発明は、カセット内ウエハの検出をより確実かつ高速に実行しうる方法及びプローバ装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method and a prober apparatus that can more reliably and rapidly detect a wafer in a cassette.

上記目的を達成するために、本発明のプローバ装置は、カセット位置とウエハを検出するセンサとを相対移動させつつ、カセット内のウエハを検出する位置を一定間隔に保つこととする。   In order to achieve the above object, the prober apparatus of the present invention keeps the position for detecting the wafer in the cassette at a constant interval while relatively moving the cassette position and the sensor for detecting the wafer.

すなわち、本発明の第1形態に係る、ウエハを格納するカセットを収容するプローバ装置は、カセット内のウエハの存否を検出するセンサと、カセットとセンサとを1つの方向に相対移動させる駆動手段と、駆動手段による移動距離に同期するパルス信号を出力するパルス信号出力部と、パルス信号出力部からのパルス信号を所定回数入力したとき、読み取りタイミング信号を出力する読取タイミング発生部と、読取タイミング発生部からの読み取りタイミング信号を入力したとき、センサの出力を読み取る読取部と、センサの検出結果に基づいてカセット内のウエハの有無を判断するウエハ有無判断部と、を備える。   That is, according to the first embodiment of the present invention, a prober device for accommodating a cassette for storing wafers includes a sensor for detecting presence / absence of a wafer in the cassette, and a driving means for relatively moving the cassette and the sensor in one direction. A pulse signal output unit that outputs a pulse signal synchronized with a moving distance by the driving means, a read timing generation unit that outputs a read timing signal when the pulse signal from the pulse signal output unit is input a predetermined number of times, and a read timing generation A reading unit that reads the output of the sensor when a reading timing signal is input from the unit, and a wafer presence / absence determination unit that determines the presence / absence of a wafer in the cassette based on the detection result of the sensor.

ウエハ有無判断部は、センサがウエハを検出した回数に基づき、カセット内のウエハの有無を判断してもよい。また駆動手段は、センサまたはカセットのいずれかを移動させて、センサとカセットとを相対移動させてよい。
またプローバ装置は、センサの検出結果に基づいて、ウエハの位置を測定するウエハ位置測定部を備えることとしてもよく。このウエハ位置測定部の測定結果を用いて、カセット位置を補正するカセット位置補正部を備えることとしてもよい。
The wafer presence / absence determining unit may determine the presence / absence of a wafer in the cassette based on the number of times the sensor detects the wafer. The driving means may move either the sensor or the cassette to move the sensor and the cassette relative to each other.
Further, the prober device may include a wafer position measuring unit that measures the position of the wafer based on the detection result of the sensor. A cassette position correcting unit that corrects the cassette position using the measurement result of the wafer position measuring unit may be provided.

また、本発明の第2形態に係る、ウエハを格納するカセットを収納するプローバ装置におけるカセット内のウエハ検出方法は、カセット内におけるウエハの検出位置を1つの方向に移動させ、検出位置の移動距離に同期するパルス信号を発生させ、パルス信号が所定回数発生したときに、検出位置におけるウエハの存否を検出して、カセット内のウエハの有無を判断することとする。   According to the second embodiment of the present invention, the wafer detection method in the cassette in the prober apparatus for storing the cassette for storing the wafer moves the detection position of the wafer in the cassette in one direction, and the movement distance of the detection position When the pulse signal is generated a predetermined number of times, the presence / absence of the wafer at the detection position is detected and the presence / absence of the wafer in the cassette is determined.

このとき、ウエハの検出回数に基づき、カセット内のウエハの有無を判断してもよい。
また、物体の検出結果に基づいて、ウエハの位置を測定することとしてよく、このウエハ位置の測定結果を用いて、カセット位置を補正することとしてもよい。
At this time, the presence / absence of a wafer in the cassette may be determined based on the number of wafer detections.
Further, the position of the wafer may be measured based on the detection result of the object, and the cassette position may be corrected using the measurement result of the wafer position.

本発明に係るプローバ装置及びウエハ検出方法によれば、読み取り時刻の遅延や、カセットとセンサとの相対移動速度の変動にかかわらず、実際にカセットとセンサが一定間隔で相対移動したときにウエハ検出が行われるので、ウエハの読み取りミスを生じるおそれがなくなる。   According to the prober apparatus and the wafer detection method of the present invention, the wafer is detected when the cassette and the sensor are actually relatively moved at regular intervals regardless of the delay of the reading time and the fluctuation of the relative movement speed between the cassette and the sensor. Therefore, there is no possibility of causing a wafer reading error.

特に、1スロットについて複数の検出点で検出を行い、その検出回数に基づいてウエハ存否を判断することにより、ウエハ検出精度を高めることが可能となる。このとき複数の検出点が、読み取り遅延や相対移動の速度の変動にかかわらず、一定間隔となっていることにより、ウエハの読み取りミスを生じるおそれがさらに少なくなる。   In particular, it is possible to improve the wafer detection accuracy by performing detection at a plurality of detection points for one slot and determining whether the wafer exists based on the number of detections. At this time, the plurality of detection points are at regular intervals regardless of the reading delay and the relative movement speed fluctuation, thereby further reducing the possibility of a wafer reading error.

また、制御部の有するタイマを使用するソフトウエア処理では、上述の読み取り遅れのために必要であった読み取り速度のマージンを設ける必要がなくなり、読み取り速度を高速化することが可能となる。   Further, in the software processing using the timer included in the control unit, it is not necessary to provide a margin for the reading speed necessary for the above-described reading delay, and the reading speed can be increased.

さらに、プローバ装置の制御部のタイマを使用しないために、前述される光センサ出力の読み取り機能を、プローバ装置の制御部と別個に設けたハードウエアにより行うことが可能となり、この制御部のコンピュータの処理時間の占有を削減する。   Furthermore, since the timer of the control unit of the prober device is not used, the above-described optical sensor output reading function can be performed by hardware provided separately from the control unit of the prober device. Reduce the processing time occupation.

また、本発明に係るウエハ位置測定方法によれば、読み取り遅延や相対移動速度の変動にかかわらず、実際にセンサとカセットとが一定間隔で相対移動したときにウエハ検出を行ってウエハ位置の測定を行うので、カセット内のウエハ位置を正確に読み取ることが可能となる。これにより、収納されているウエハが、前述のような半導体製造工程で生じる変形を有しているかどうかを判断することが可能となる。   In addition, according to the wafer position measuring method of the present invention, the wafer position is measured by detecting the wafer when the sensor and the cassette are actually relatively moved at regular intervals regardless of the reading delay and the relative movement speed fluctuation. Thus, the wafer position in the cassette can be accurately read. As a result, it is possible to determine whether or not the stored wafer has a deformation that occurs in the semiconductor manufacturing process as described above.

またさらに、本発明に係るカセット位置補正方法によれば、カセット内の実際のウエハ位置測定結果に基づいてカセット位置の補正を行うので、前述のように半導体製造工程で変形したウエハが入っているとき、ウエハ位置に合わせてカセット位置を補正して、ロードプッシャーによる押し出しや、アーム機構による取出しを確実に行うことが可能となる。   Furthermore, according to the cassette position correcting method according to the present invention, since the cassette position is corrected based on the actual wafer position measurement result in the cassette, the wafer deformed in the semiconductor manufacturing process as described above is contained. At this time, it is possible to correct the cassette position in accordance with the wafer position and reliably perform the extrusion by the load pusher and the removal by the arm mechanism.

以下、添付する図面を参照して、本発明に係るプローバ装置及び高さ測定方法の好適実施例を説明する。図6は本発明に係るカセットストックの基本構成図である。
図6に示す本発明に係るカセットストック12は、図1に示したプローバ装置と同様のプローバ装置に搭載され、本発明のプローバ装置を構成する構成要素のうち、図6のカセットストック12以外の構成要素は、図1に示したプローバ装置の構成要素と同様である。したがって、これらの要素について説明を省略する。
Hereinafter, preferred embodiments of a prober apparatus and a height measuring method according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 6 is a basic configuration diagram of a cassette stock according to the present invention.
The cassette stock 12 according to the present invention shown in FIG. 6 is mounted on a prober device similar to the prober device shown in FIG. 1, and among the components constituting the prober device of the present invention, the cassette stock 12 other than the cassette stock 12 of FIG. The constituent elements are the same as those of the prober apparatus shown in FIG. Therefore, description of these elements is omitted.

また、図6に示す本発明に係るカセットストック12は、図2に示したカセットストックと類似する構成を有しており、同一の構成要素は同じ参照番号で示し説明を省略する。   Further, the cassette stock 12 according to the present invention shown in FIG. 6 has a configuration similar to that of the cassette stock shown in FIG. 2, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

カセットストック12は、ウエハ24を複数収納可能なカセット22を入れる筐体50と、カセット22及びこれ載置するプレート20を昇降移動する昇降手段53と、昇降手段53を駆動するモータ54を備える。   The cassette stock 12 includes a housing 50 in which a cassette 22 that can store a plurality of wafers 24 is placed, an elevating means 53 that elevates and moves the cassette 22 and the plate 20 on which the cassette 22 is placed, and a motor 54 that drives the elevating means 53.

モータ54には、通常はステッピングモータ(パルスモータ)が使用され、モータ制御部55により制御される。モータ制御部55は、モータ54を制御するための駆動用パルス信号を発生させ、この駆動用パルス信号に基づいて、モータ駆動回路56がステッピングモータの各コイルを励磁する励磁電流を出力する。   As the motor 54, a stepping motor (pulse motor) is normally used and controlled by the motor control unit 55. The motor control unit 55 generates a driving pulse signal for controlling the motor 54, and the motor driving circuit 56 outputs an excitation current for exciting each coil of the stepping motor based on the driving pulse signal.

プローバ装置10を司る制御部である計算器80はコンピュータ等で構成され、モータ制御部55は、計算器80のデータバスに接続され計算器80とデータのやりとりが可能である。そして、モータ制御部55は、計算器80によるカセット高さ制御データに基づいて前記駆動用パルス信号を発生させる。   The computer 80, which is a control unit that manages the prober device 10, is configured by a computer or the like, and the motor control unit 55 is connected to the data bus of the computer 80 and can exchange data with the computer 80. The motor controller 55 generates the driving pulse signal based on the cassette height control data from the calculator 80.

カセット22は、図2に示したカセットストックと同様に、その前面及び背面が開口しており、ロードプッシャー26、アンロードプッシャー38や、又は他のアーム機構(図示せず)によってウエハ24を出し入れできるようにしてある。また、その側面壁の内側にはウエハ24を載架して収納するための複数のスロット(棚)52が設けられている。   As with the cassette stock shown in FIG. 2, the front and back surfaces of the cassette 22 are open, and the wafer 24 is taken in and out by a load pusher 26, an unload pusher 38, or other arm mechanism (not shown). I can do it. A plurality of slots (shelves) 52 for mounting and storing the wafers 24 are provided inside the side walls.

また、カセットストック12は、各スロット52にウエハ24が収納されているか否かを検出するための光センサ61(送信側)、62(受信側)が設けられる。ここで光センサ61、62はカセットストック12に固定されているので、モータ54によってカセット22が昇降することにより、光センサ61、62とカセット22は相対移動する。   Further, the cassette stock 12 is provided with optical sensors 61 (transmission side) and 62 (reception side) for detecting whether or not the wafer 24 is stored in each slot 52. Here, since the optical sensors 61 and 62 are fixed to the cassette stock 12, the optical sensors 61 and 62 and the cassette 22 move relative to each other when the cassette 22 is moved up and down by the motor 54.

光センサ61、62は、ウエハ24が光軸と同じ高さにあるときには、送信側センサ61と受信側62との間にウエハ24が介在し、送信側センサ61から送信された光が、受信側センサ62に届かないことを検出して、ウエハ24の有無を検出する。   In the optical sensors 61 and 62, when the wafer 24 is at the same height as the optical axis, the wafer 24 is interposed between the transmission side sensor 61 and the reception side 62, and the light transmitted from the transmission side sensor 61 is received. The presence of the wafer 24 is detected by detecting that it has not reached the side sensor 62.

光センサ61、62は、その光軸がカセット22の側面に沿って略水平となるように設けられている。また上述した図2のカセットストックと同様に、光センサ61、62の光軸は、ロードプッシャー26やアンロードプッシャー38の、ウエハ24との接触部分と同じ高さに設けられている。   The optical sensors 61 and 62 are provided so that the optical axis thereof is substantially horizontal along the side surface of the cassette 22. Similarly to the cassette stock of FIG. 2 described above, the optical axes of the optical sensors 61 and 62 are provided at the same height as the contact portions of the load pusher 26 and the unload pusher 38 with the wafer 24.

受信側光センサ62の出力である検出信号は、アナログディジタル変換器(ADC)64によりディジタル信号に変換され、読取部71に入力される。この読取部71は、計算器80のデータバスに接続されており、計算器80とデータのやりとりを行うことができる。   A detection signal that is an output of the reception side optical sensor 62 is converted into a digital signal by an analog-digital converter (ADC) 64 and input to the reading unit 71. The reading unit 71 is connected to the data bus of the calculator 80 and can exchange data with the calculator 80.

上述のようにモータ54は、モータ制御部55の出力する駆動用パルス信号により駆動される。この駆動用パルス信号のパルスはモータ54を駆動しようとする回転角度又は回転数に応じて出力される。したがって、モータ制御部55は、本発明に係るプローバ装置における、モータの回転角度又は回転数に応じてパルス信号を出力するパルス信号出力部をなす。   As described above, the motor 54 is driven by the driving pulse signal output from the motor control unit 55. The pulse of the driving pulse signal is output according to the rotation angle or the rotation speed for driving the motor 54. Therefore, the motor control unit 55 forms a pulse signal output unit that outputs a pulse signal in accordance with the rotation angle or the number of rotations of the motor in the prober apparatus according to the present invention.

また、モータ54としてDCモータを使用する場合には、このパルス信号出力部として、モータ回転軸に設けられるエンコーダ57や速度発電機を設け、その出力信号をアナログディジタル変換器58でディジタル信号に変換して使用することとしてもよい。当然ステッピングモータを使用する場合にも、これらエンコーダ57、速度発電機を設けることとしてもよい。   When a DC motor is used as the motor 54, an encoder 57 and a speed generator provided on the motor rotation shaft are provided as the pulse signal output unit, and the output signal is converted into a digital signal by the analog-digital converter 58. It is good also as using it. Of course, even when a stepping motor is used, the encoder 57 and the speed generator may be provided.

または、パルス信号出力部32は超音波センサその他の手段により、実際にカセット22の位置を測定して、その移動量に応じてパルス信号を出力することとしてもよい。   Alternatively, the pulse signal output unit 32 may actually measure the position of the cassette 22 by an ultrasonic sensor or other means and output a pulse signal according to the amount of movement.

モータ制御部55の出力パルス信号S1、またはエンコーダの出力パルス信号S1’(以下単に「出力信号S1等」と記す)は、モータ54の所定の回転角度ごと又は回転数ごとに1個のパルスが出力される。
また、モータ54の回転角度又は回転数とカセット22の移動距離とは比例関係にあるので、出力信号S1等のパルス個数とカセット22の移動距離とは比例関係にある。
The output pulse signal S1 of the motor control unit 55 or the output pulse signal S1 ′ of the encoder (hereinafter simply referred to as “output signal S1 etc.”) has one pulse for each predetermined rotation angle or number of rotations of the motor 54. Is output.
Further, since the rotation angle or number of rotations of the motor 54 and the moving distance of the cassette 22 are in a proportional relationship, the number of pulses of the output signal S1 and the like and the moving distance of the cassette 22 are in a proportional relationship.

出力信号S1等は読取タイミング発生部72に送られる。読取タイミング発生部72は、出力信号S1等のパルス個数をカウントする。そして、所望のウエハ24検出間隔と、出力信号S1等のパルス1回に対するカセット22の移動量と、により定まる所定のカウント回数分のパルスを入力すると、読取タイミング信号S2を発生させ、前記読取部71に送信する。   The output signal S1 and the like are sent to the reading timing generator 72. The read timing generator 72 counts the number of pulses such as the output signal S1. When a pulse corresponding to a predetermined number of counts determined by a desired wafer 24 detection interval and the amount of movement of the cassette 22 with respect to one pulse of the output signal S1 or the like is input, a reading timing signal S2 is generated, and the reading unit To 71.

読取部36は、読取タイミング信号S2を受信すると、アナログディジタル変換器64を介して、受信側光センサ62の出力信号を読み取る。
上述の一連の動作における、カセット22の変位、速度の時間変化と、それに対応する出力信号S1等と読取タイミング発生部71による読取タイミング信号S2のタイムチャートを、それぞれ図7(A)〜(D)に示す。
When the reading unit 36 receives the reading timing signal S <b> 2, the reading unit 36 reads the output signal of the receiving side optical sensor 62 via the analog-digital converter 64.
7A to 7D are time charts of the displacement and speed of the cassette 22 in the above-described series of operations, the corresponding output signal S1 and the like, and the read timing signal S2 by the read timing generator 71, respectively. ).

図示するとおり、カセット22は時間t1〜t4の間に、カセット移動方向(図の例では上下方向)に等間隔に並ぶx1〜x4まで移動する。そのときカセット22の速度は、x1〜x2間では比較的速いv1であり、x2〜x3間で比較的遅いv2となり、x3〜x4間で再びv1となる。   As shown in the figure, the cassette 22 moves from time x1 to time t4 to x1 to x4 arranged at equal intervals in the cassette movement direction (vertical direction in the example in the figure). At this time, the speed of the cassette 22 is relatively fast v1 between x1 and x2, becomes relatively slow v2 between x2 and x3, and becomes v1 again between x3 and x4.

図7(A)〜(C)に示すとおり、出力信号S1等は移動速度の変化にかかわらず、x1〜x2、x2〜x3及びx3〜x4の各区間で、同じ個数のパルス信号が発生する。したがって、図7(A)及び(D)に示すとおり、1番目の読取タイミング信号が発生したものとし、読取タイミング発生部72の前記所定のカウント回数が、x1〜x2等の各区間の距離に対応して定められているとすれば、読取タイミング信号S1は、等間隔で並ぶx1、x2、x3及びx4の各点で発生する。このように、光センサ62の出力の検出箇所は、カセット22の移動速度の変動によらず等間隔に保たれることとなる。   As shown in FIGS. 7A to 7C, the output signal S1 and the like generate the same number of pulse signals in each of the sections x1 to x2, x2 to x3, and x3 to x4 regardless of changes in the moving speed. . Therefore, as shown in FIGS. 7A and 7D, it is assumed that the first reading timing signal has been generated, and the predetermined number of counts of the reading timing generating unit 72 is the distance of each section such as x1 to x2. If it is determined correspondingly, the read timing signal S1 is generated at each of the points x1, x2, x3, and x4 arranged at equal intervals. As described above, the detection points of the output of the optical sensor 62 are kept at regular intervals regardless of fluctuations in the moving speed of the cassette 22.

読取部71は、このように等間隔のカセット22位置で読み取った光センサ62の出力信号(ウエハ24の有無データ)を、内蔵するバッファ(図示せず)に順次記憶する。そしてデータが所定個数だけ蓄積されるか、又は計算器80からの読み出し要求信号が入力されたとき、それまでにバッファに蓄積されている複数の測定値を計算器80に送信する。   The reading unit 71 sequentially stores the output signal (the presence / absence data of the wafer 24) of the optical sensor 62 read at the equally-spaced cassette 22 positions in this manner in a built-in buffer (not shown). When a predetermined number of data is accumulated or when a read request signal from the calculator 80 is input, a plurality of measured values accumulated in the buffer so far are transmitted to the calculator 80.

その後、計算器80が受信したウエハ24の有無データは、ウエハ有無判断部83により処理される。
ウエハ有無判断部83は、オペレータにより指示される等により予め設定される、カセット22の初期位置及び各スロット52の位置に基づいて、各スロット52内に存在するウエハが、光センサ61、62の光軸を遮るときのカセット22の位置の範囲を求める。
Thereafter, the presence / absence data of the wafer 24 received by the calculator 80 is processed by the wafer presence / absence determination unit 83.
The wafer presence / absence determination unit 83 determines whether a wafer existing in each slot 52 is detected by the optical sensors 61 and 62 based on the initial position of the cassette 22 and the position of each slot 52 set in advance by an instruction from the operator. The range of the position of the cassette 22 when the optical axis is blocked is obtained.

その後ウエハ有無判断部83は、前記求められたカセット22の位置範囲に対応するウエハ24の有無データを抽出する。このデータ個数は、読取タイミング信号の発生頻度によるが、例えば1つのウエハ24あたり10個程度の複数個のデータが抽出される。   Thereafter, the wafer presence / absence determination unit 83 extracts the presence / absence data of the wafer 24 corresponding to the obtained position range of the cassette 22. The number of data depends on the frequency of occurrence of the read timing signal, but for example, about 10 pieces of data are extracted per wafer 24.

そしてウエハ有無判断部83は、抽出したデータ列のうち所定の閾値の個数よりも多いデータが、「ウエハ有り」を示すときにはそのスロット52にウエハが存在すると判断し、そうでないときはウエハが存在しないと判断する。   The wafer presence / absence determination unit 83 determines that a wafer is present in the slot 52 when data larger than the predetermined threshold number in the extracted data string indicates “wafer exists”, and if not, a wafer exists. Judge not to.

この、ウエハ有無判断部83は計算器80によるソフトウエア処理によって実現するのが好適であるが、別個のハードウエアにより処理してもよい。   The wafer presence / absence determining unit 83 is preferably realized by software processing by the calculator 80, but may be processed by separate hardware.

このように、本発明に係るプローバ装置及びウエハ検出方法によれば、読み取り時刻の遅延や、カセットの移動速度の変動にかかわらず、実際にカセットが一定間隔で移動したときにウエハ検出が行われるので、ウエハの読み取りミスを生じるおそれがなくなる。   As described above, according to the prober apparatus and the wafer detection method according to the present invention, wafer detection is performed when the cassette is actually moved at a constant interval regardless of the delay of the reading time and the fluctuation of the moving speed of the cassette. Therefore, there is no possibility of causing a wafer reading error.

また、ウエハ24一枚あたり、カセット22移動方向の所定の一定間隔を有する複数の点において、ウエハ側断面を検出する。したがって、同じ厚さのウエハであれば、上述のように変形していても、常に一定数以上、ウエハ側断面が検出されるために、ウエハ検出精度を高めることが可能となる。   Further, the wafer side cross section is detected at a plurality of points having a predetermined constant interval in the moving direction of the cassette 22 per one wafer 24. Therefore, if the wafers have the same thickness, even if they are deformed as described above, the wafer side cross section is always detected more than a certain number, so that the wafer detection accuracy can be improved.

また、本発明に係るプローバ装置においては、計算器16で実行されるソフトウエアは、従来のタイマを用いるソフト処理や光センサ61、62の出力読み取りを行わないため、占有時間が開放される。   Further, in the prober apparatus according to the present invention, the software executed by the calculator 16 does not perform software processing using a conventional timer and the output reading of the optical sensors 61 and 62, so that the occupied time is released.

また、上述の通り、計算器80が受信したウエハ24の有無データの各データ列は、一定間隔のカセット位置で検出されているため、検出開始点の位置が分かっていれば、検出開始点のカセット位置、対象とするウエハを検出したデータまでのデータ個数(すなわち読み取りタイミングのパルス数)、読み取りタイミング1個あたりのカセット移動量に基づき、各スロット52に収納されたウエハ24の上面及び下面の位置を測定することが可能となる。   Further, as described above, each data string of the presence / absence data of the wafer 24 received by the calculator 80 is detected at a cassette position at a fixed interval. Therefore, if the position of the detection start point is known, the detection start point Based on the cassette position, the number of data up to the detected data of the target wafer (that is, the number of pulses at the reading timing), and the amount of movement of the cassette per reading timing, the upper and lower surfaces of the wafer 24 accommodated in each slot 52 The position can be measured.

これにより、各スロット52に収納されているウエハ24が、前述のような半導体製造工程で生じる変形を有しており、ロードプッシャー26により押し出し不能であるかどうかを判断することが可能となる。   Thereby, it is possible to determine whether or not the wafer 24 accommodated in each slot 52 has the deformation generated in the semiconductor manufacturing process as described above and cannot be pushed out by the load pusher 26.

この処理は、ウエハ位置測定部84により処理される。ウエハ位置測定部84は計算器80によるソフトウエア処理によって実現するのが好適であるが、別個のハードウエアにより処理してもよい。   This process is performed by the wafer position measurement unit 84. The wafer position measurement unit 84 is preferably realized by software processing by the calculator 80, but may be processed by separate hardware.

また、ウエハ位置測定部84により測定された各スロット52内の各ウエハ24の位置測定値に基づいて、カセット22の位置補正を行うこととが可能である。このカセット22の位置補正は、以下の2つの種類の位置補正が可能である。   Further, the position correction of the cassette 22 can be performed based on the position measurement value of each wafer 24 in each slot 52 measured by the wafer position measurement unit 84. The cassette 22 can be corrected in the following two types.

第1の位置補正は、あるスロット52に、半導体製造工程で変形したウエハ24が入っているとき、ウエハ位置測定部84により測定されたウエハ24位置に合わせて、ロードプッシャー26のウエハとの接触部材が、ウエハ24の上面及び下面の間(好適にはその中間)に接触して、ウエハ24を押し出すことができるようにカセット位置を補正する位置補正である。これにより、半導体製造工程で変形したウエハ24が入っていても、ロードプッシャー26による押し出しや他のアーム機構による取出しを確実に行うことが可能となる。   In the first position correction, when the wafer 24 deformed in the semiconductor manufacturing process is placed in a certain slot 52, the load pusher 26 is brought into contact with the wafer in accordance with the position of the wafer 24 measured by the wafer position measuring unit 84. Position correction is performed to correct the cassette position so that the member can push the wafer 24 while being in contact with the upper surface and the lower surface of the wafer 24 (preferably in the middle). As a result, even when the wafer 24 deformed in the semiconductor manufacturing process is contained, the extrusion by the load pusher 26 and the removal by another arm mechanism can be surely performed.

第2の位置補正は、カセット22の基準位置の補正である。上述の通り、検出データ列の検出点とカセット22の実際の位置との位置合わせは、カセット22の初期位置と、検出点までのデータ個数(すなわち読み取りタイミングのパルス数)と、読み取りタイミング1個あたりのカセット移動量に基づいて行っている。
このため、位置合わせの基準となるカセット22の初期位置において、予定されるカセットの位置と、実際の位置との間に誤差があれば、上述したウエハ有無判定部83において下記の不都合が生じる。
The second position correction is correction of the reference position of the cassette 22. As described above, the alignment of the detection point of the detection data string and the actual position of the cassette 22 includes the initial position of the cassette 22, the number of data up to the detection point (that is, the number of pulses at the reading timing), and one reading timing. This is based on the amount of cassette movement per unit.
For this reason, if there is an error between the expected position of the cassette 22 and the actual position at the initial position of the cassette 22 serving as the alignment reference, the following inconvenience occurs in the wafer presence / absence determination unit 83 described above.

上述の通り、ウエハ有無判断部83は、各スロット52内に存在するウエハが光センサ61、62の光軸を遮るときのカセット22の位置範囲に対応するウエハ24の有無データを抽出するが、位置合わせの基準となるカセット22の初期位置に誤差があれば、予定される範囲において検出されたデータを抽出できなくなり、判断結果に誤りが生じる。   As described above, the wafer presence / absence determination unit 83 extracts the presence / absence data of the wafer 24 corresponding to the position range of the cassette 22 when the wafer existing in each slot 52 blocks the optical axis of the optical sensors 61 and 62. If there is an error in the initial position of the cassette 22 serving as a reference for alignment, data detected in a predetermined range cannot be extracted, and an error occurs in the determination result.

第2の位置補正は、カセット22の所定のスロット52に、基準用ウエハ(例えば、半導体製造工程を経ていない、変形の少ないウエハ)を収納し、ウエハ位置測定部84でこの位置を測定する。
スロット位置は既知であるから、基準用ウエハの測定位置と、予定される測定位置との差を求めて、カセット22の基準位置(初期位置)に加えることにより、カセット22の基準位置の補正を行うことができる。
In the second position correction, a reference wafer (for example, a wafer that has not undergone a semiconductor manufacturing process and has little deformation) is accommodated in a predetermined slot 52 of the cassette 22, and this position is measured by the wafer position measurement unit 84.
Since the slot position is known, the difference between the measurement position of the reference wafer and the planned measurement position is obtained and added to the reference position (initial position) of the cassette 22, thereby correcting the reference position of the cassette 22. It can be carried out.

また、モータ54の部材や、モータ54の動力を伝達する部材の摩耗により、モータ54の駆動用パルス信号1個あたりに対するスロット22の移動量が変動することもありうる。するとスロット22の移動量に対する読取タイミング信号の発生頻度が変動するため、計算器80が受信するウエハ24の有無データの各データ間の検出間隔が変動してしまう。   Further, the amount of movement of the slot 22 with respect to one pulse signal for driving the motor 54 may fluctuate due to wear of a member of the motor 54 or a member transmitting power of the motor 54. Then, since the generation frequency of the read timing signal with respect to the movement amount of the slot 22 varies, the detection interval between each data of the presence / absence data of the wafer 24 received by the calculator 80 varies.

この各データ間の検出間隔の変動を補正するためには、カセット22の所定の複数個(例えば2個)のスロット52に、基準用ウエハを収納しウエハ位置測定部84で位置を測定する。
一方の基準用ウエハの測定位置から他方の基準用ウエハの測定位置までのカセット22の実際の移動量と、その間の駆動用パルス信号のパルス個数、読み取りタイミングの個数又は前記ウエハ24の有無データの個数との比を求める。そしてウエハ24の連続する2つの有無データ間に対応する検出位置の間隔を計算して記憶し、以降の測定にこれを利用する。
In order to correct the variation in the detection interval between the data, a reference wafer is accommodated in a predetermined plurality of (for example, two) slots 52 of the cassette 22, and the position is measured by the wafer position measuring unit 84.
The actual movement amount of the cassette 22 from the measurement position of one reference wafer to the measurement position of the other reference wafer, the number of pulses of the driving pulse signal between them, the number of read timings, or the presence / absence data of the wafer 24 Find the ratio to the number. Then, the interval between detection positions corresponding to two consecutive presence / absence data of the wafer 24 is calculated and stored, and this is used for subsequent measurements.

なお、このカセット位置補正部85は計算器80によるソフトウエア処理によって実現するのが好適であるが、別個のハードウエアにより処理してもよい。   The cassette position correcting unit 85 is preferably realized by software processing by the calculator 80, but may be processed by separate hardware.

なお、図1及び図6に示される、本発明に係るプローバ装置の構成は、あくまで例示の意図で示したものであり、本発明の範囲を限定するものではない。
したがって、本発明に係るプローバ、特にこれに使用されるパルス信号の出力方法、読取タイミング発生部、読取部の構成は、様々な構成を利用することが可能であり、これらも本発明の範囲に含まれる。
Note that the configuration of the prober apparatus according to the present invention shown in FIGS. 1 and 6 is shown only for the purpose of illustration, and does not limit the scope of the present invention.
Therefore, various configurations can be used for the prober according to the present invention, in particular, the pulse signal output method, the read timing generation unit, and the read unit used in the prober, and these are also within the scope of the present invention. included.

従来のプローバ装置の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the conventional prober apparatus. 従来のカセットストックの構成図である。It is a block diagram of the conventional cassette stock. 図2のカセットストックのA−A’断面図である。It is A-A 'sectional drawing of the cassette stock of FIG. 従来のウエハ検出方法の説明図である。It is explanatory drawing of the conventional wafer detection method. 変形したウエハを収納したカセットを説明する図である。It is a figure explaining the cassette which accommodated the deformed wafer. 本発明に係るプローバ装置に使用されるカセットストックの構成図である。It is a block diagram of the cassette stock used for the prober apparatus which concerns on this invention. カセットの移動に対する各信号のタイムチャートである。It is a time chart of each signal with respect to movement of a cassette.

符号の説明Explanation of symbols

10…プローバ
12…カセットストック
22…カセット
24…ウエハ
26…ロードプッシャー
52…スロット
54…モータ
55…モータ制御部
61、62…光センサ
71…読取部
72…読取タイミング発生部
80…計算器
83…ウエハ有無判断部
84…ウエハ位置測定部
85…カセット位置補正部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Prober 12 ... Cassette stock 22 ... Cassette 24 ... Wafer 26 ... Load pusher 52 ... Slot 54 ... Motor 55 ... Motor control part 61, 62 ... Optical sensor 71 ... Reading part 72 ... Reading timing generation part 80 ... Calculator 83 ... Wafer presence / absence determining unit 84 ... wafer position measuring unit 85 ... cassette position correcting unit

Claims (12)

ウエハを格納するカセットを収容するプローバ装置において、
前記カセット内の前記ウエハの存否を検出するセンサと、
前記カセットと前記センサとを1つの方向に相対移動させる駆動手段と、
前記駆動手段による移動距離に同期するパルス信号を出力するパルス信号出力部と、
前記パルス信号出力部からのパルス信号を所定回数入力したとき、読み取りタイミング信号を出力する読取タイミング発生部と、
前記読取タイミング発生部からの読み取りタイミング信号を入力したとき、前記センサの出力を読み取る読取部と、
前記センサの検出結果に基づいて、前記カセット内の前記ウエハの有無を判断するウエハ有無判断部と、を備えることを特徴とするプローバ装置。
In a prober device that accommodates a cassette for storing wafers,
A sensor for detecting the presence or absence of the wafer in the cassette;
Drive means for relatively moving the cassette and the sensor in one direction;
A pulse signal output unit for outputting a pulse signal synchronized with a moving distance by the driving means;
A read timing generator that outputs a read timing signal when the pulse signal from the pulse signal output unit is input a predetermined number of times;
A reading unit that reads an output of the sensor when a reading timing signal is input from the reading timing generation unit;
A prober apparatus comprising: a wafer presence / absence determination unit that determines presence / absence of the wafer in the cassette based on a detection result of the sensor.
前記ウエハ有無判断部は、前記センサが前記ウエハを検出した回数に基づき、前記カセット内の前記ウエハの有無を判断することを特徴とする請求項1に記載のプローバ装置。   The prober apparatus according to claim 1, wherein the wafer presence / absence determination unit determines the presence / absence of the wafer in the cassette based on the number of times the sensor detects the wafer. 前記センサは、前記相対移動に伴い、前記カセット内の前記相対移動方向の各位置における前記ウエハの存否を検出することを特徴とする請求項1又は2に記載のプローバ装置。   The prober apparatus according to claim 1, wherein the sensor detects presence or absence of the wafer at each position in the relative movement direction in the cassette along with the relative movement. 前記駆動手段は、前記カセットを移動させることを特徴とする請求項1〜3に記載のプローバ装置。   The prober apparatus according to claim 1, wherein the driving unit moves the cassette. ウエハを格納するカセットを収容するプローバ装置において、
前記カセット内の前記ウエハの存否を検出するセンサと、
前記カセットと前記センサとを1つの方向に相対移動させる駆動手段と、
前記駆動手段による移動距離に同期するパルス信号を出力するパルス信号出力部と、
前記パルス信号出力部からのパルス信号を所定回数入力したとき、読み取りタイミング信号を出力する読取タイミング発生部と、
前記読取タイミング発生部からの読み取りタイミング信号を入力したとき、前記センサの出力を読み取る読取部と、
前記センサの検出結果に基づいて、前記ウエハの位置を測定するウエハ位置測定部と、を備えることを特徴とするプローバ装置。
In a prober device that accommodates a cassette for storing wafers,
A sensor for detecting the presence or absence of the wafer in the cassette;
Drive means for relatively moving the cassette and the sensor in one direction;
A pulse signal output unit for outputting a pulse signal synchronized with a moving distance by the driving means;
A read timing generator that outputs a read timing signal when the pulse signal from the pulse signal output unit is input a predetermined number of times;
A reading unit that reads an output of the sensor when a reading timing signal is input from the reading timing generation unit;
A prober apparatus comprising: a wafer position measuring unit that measures the position of the wafer based on a detection result of the sensor.
前記センサは、前記相対移動に伴い、前記カセット内の前記相対移動方向の各位置における前記ウエハの存否を検出することを特徴とする請求項5に記載のプローバ装置。   6. The prober apparatus according to claim 5, wherein the sensor detects presence / absence of the wafer at each position in the relative movement direction in the cassette along with the relative movement. 前記駆動手段は、前記カセットを移動させることを特徴とする請求項5又は6に記載のプローバ装置。   The prober apparatus according to claim 5 or 6, wherein the driving means moves the cassette. 前記ウエハ位置測定部による測定結果に基づいて、前記カセットの位置を補正するカセット位置補正部を備えることを特徴とする請求項5〜7に記載のプローバ装置。   8. The prober apparatus according to claim 5, further comprising a cassette position correcting unit that corrects the position of the cassette based on a measurement result obtained by the wafer position measuring unit. ウエハを格納するカセットを収容するプローバ装置における、前記カセット内のウエハ検出方法において、
前記カセット内における前記ウエハの検出位置を1つの方向に移動させ、
前記検出位置の移動距離に同期するパルス信号を発生させ、
前記パルス信号が所定回数発生したときに、前記検出位置における前記ウエハの存否を検出して、
前記カセット内の前記ウエハの有無を判断することを特徴とするウエハ検出方法。
In a prober apparatus for accommodating a cassette for storing wafers, in the wafer detection method in the cassette,
Moving the detection position of the wafer in the cassette in one direction;
Generating a pulse signal synchronized with the moving distance of the detection position;
When the pulse signal is generated a predetermined number of times, the presence or absence of the wafer at the detection position is detected,
A wafer detection method comprising determining whether or not the wafer is in the cassette.
前記ウエハの存在の検出回数に基づき、前記カセット内の前記ウエハの有無を判断することを特徴とする請求項9に記載のウエハ検出方法。   The wafer detection method according to claim 9, wherein the presence / absence of the wafer in the cassette is determined based on the number of detections of the presence of the wafer. ウエハを格納するカセットを収容するプローバ装置における、前記ウエハの位置を測定するウエハ位置測定方法であって、
前記カセット内における前記ウエハの検出位置を1つの方向に移動させ、
前記検出位置の移動距離に同期するパルス信号を発生させ、
前記パルス信号が所定回数発生したときに、前記検出位置における前記ウエハの存否を検出して、
前記ウエハの位置を測定することを特徴とするウエハ位置測定方法。
A wafer position measuring method for measuring a position of the wafer in a prober apparatus that accommodates a cassette for storing a wafer,
Moving the detection position of the wafer in the cassette in one direction;
Generating a pulse signal synchronized with the moving distance of the detection position;
When the pulse signal is generated a predetermined number of times, the presence or absence of the wafer at the detection position is detected,
A wafer position measuring method, comprising measuring the position of the wafer.
請求項11に記載のウエハ位置測定方法による前記ウエハの測定位置に基づいて、前記カセットの位置を補正することを特徴とするカセット位置補正方法。   12. The cassette position correcting method according to claim 11, wherein the position of the cassette is corrected based on the measurement position of the wafer by the wafer position measuring method according to claim 11.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104716070A (en) * 2015-04-03 2015-06-17 合肥京东方光电科技有限公司 Dimension detection device and substrate loading device

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