JP2005157246A - Lithographic printing original plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing original plate which enables direct plate-making by a scanning exposure based on digital signals, is superior in printing durability and free from stain of non-image areas. <P>SOLUTION: The lithographic printing plate precursor has an intermediate layer containing a polymer having a structure represented by the formula (I) at its side chain and an infrared laser photosensitive positive recording layer, disposed on a support in this order. In the formula (I), Y represents a linking group linked with a main chain of the polymer, R<SP>1</SP>represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group and R<SP>2</SP>represents a divalent hydrocarbon group. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、赤外線レーザの露光により画像記録可能であり、露光部分の記録層の可溶性が変化するポジ型平版印刷版原版に関する。より詳細には、赤外線レーザー等の近赤外領域の露光により書き込み可能であり、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版可能であり、耐刷性に優れ、かつ非画像部における汚れの発生のないポジ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a positive lithographic printing plate precursor capable of recording an image by exposure with an infrared laser and changing the solubility of a recording layer in an exposed portion. More specifically, writing is possible by exposure in the near-infrared region such as an infrared laser, and in particular, plate-making is possible directly from a digital signal from a computer, etc., excellent printing durability, and no occurrence of stains in non-image areas. The present invention relates to a positive planographic printing plate precursor.

近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータのディジタルデータから直接製版するシステムとして、これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されている。
例えば、ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材料が、下記特許文献1に開示されている。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収し熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等のようなポジ型感光性化合物とを添加した画像記録材料であり、画像部ではポジ型感光性化合物がアルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を発現しなくなり、現像により除去され得るようになって画像を形成する。
In recent years, with the development of solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared, systems using these infrared lasers are attracting attention as a system for making a plate directly from digital data of a computer.
For example, a positive lithographic printing plate material for an infrared laser for direct plate making is disclosed in Patent Document 1 below. The present invention is an image recording material in which a substance that absorbs light and generates heat and a positive photosensitive compound such as a quinonediazide compound are added to an aqueous alkali-soluble resin, and the positive photosensitive resin is used in the image area. The compound acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the aqueous alkali-soluble resin. In the non-image area, it decomposes due to heat and does not exhibit the ability to inhibit dissolution, and can be removed by development to form an image. To do.

一方、オニウム塩やアルカリ溶解性の低い水素結合網を形成可能な化合物は、アルカリ可溶性高分子のアルカリ溶解抑制作用を有することが知られている。赤外線レーザー対応画像記録材料としては、カチオン性赤外線吸収色素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤として用いた組成物がポジ作用を示すことが開示されている(例えば、特許文献2参照。)。この画像記録材料におけるポジ作用は、赤外線吸収色素がレーザー光を吸収し、発生する熱で照射部分の高分子膜の溶解抑制効果を消失させて画像形成を行う作用である。   On the other hand, it is known that onium salts and compounds capable of forming a hydrogen-bonding network with low alkali solubility have an alkali dissolution inhibiting action of alkali-soluble polymers. As an image recording material for infrared lasers, it is disclosed that a composition using a cationic infrared absorbing dye as a dissolution inhibitor of an alkaline water-soluble polymer exhibits a positive action (for example, see Patent Document 2). . The positive action in this image recording material is an action in which the infrared absorbing dye absorbs the laser light, and the effect of dissolving the polymer film in the irradiated portion is lost by the generated heat to form an image.

このような平版印刷版原版に用いる支持体に関しては、従来、非画像部の汚れ防止のため、支持体表面を親水化する研究が盛んに行われている。例えば、アルミ板のような金属支持体を支持体として用いる場合には、陽極酸化されたアルミニウム基板(支持体)や、さらに親水性を上げるためにこの陽極酸化されたアルミニウム基板をシリケート処理する等の、種々の技術が提案されている。しかしながら、親水性を向上させるための種々の処理は、必ずしも記録層との親和性に優れているとはいえず、場合によっては支持体とその上に形成される記録層との密着性が低下してしまい、厳しい印刷条件においては記録層が剥離してしまい、充分な耐刷性が得られないという問題もあった。   With respect to the support used for such a lithographic printing plate precursor, there has been extensive research on hydrophilicizing the surface of the support in order to prevent contamination of non-image areas. For example, when a metal support such as an aluminum plate is used as a support, an anodized aluminum substrate (support), or the anodized aluminum substrate is subjected to a silicate treatment in order to further increase the hydrophilicity. Various techniques have been proposed. However, various treatments for improving hydrophilicity are not necessarily excellent in affinity with the recording layer, and in some cases, the adhesion between the support and the recording layer formed thereon is lowered. Therefore, the recording layer peels off under severe printing conditions, and there is a problem that sufficient printing durability cannot be obtained.

そこで、親水化された支持体表面と記録層との密着性を高めるために、支持体と記録層との間に種々の中間層を設ける方法が提案されている。かかる方法においては、記録層を構成する樹脂材料や、支持体表面との親和性に優れた官能基を有する材料を、中間層として用いることで、画像部においては密着性が向上し充分な耐刷性が得られる。しかし、非画像部においては、現像時に記録層が速やかに除去されず、支持体表面に残膜となって残り、そこにインクが付着することで非画像部の汚れの原因となるなどの問題があった。このため、表面親水性に優れ、且つ、画像部における記録層との密着性と、非画像部における記録層除去性とを共に満たすような支持体が望まれていた。   Thus, in order to improve the adhesion between the hydrophilic support surface and the recording layer, a method of providing various intermediate layers between the support and the recording layer has been proposed. In such a method, a resin material constituting the recording layer or a material having a functional group excellent in affinity with the support surface is used as an intermediate layer, whereby adhesion in the image area is improved and sufficient resistance is obtained. Printability is obtained. However, in the non-image area, the recording layer is not quickly removed at the time of development, and remains as a remaining film on the surface of the support, causing ink to adhere to the non-image area and causing stains. was there. For this reason, a support having excellent surface hydrophilicity and satisfying both the adhesion to the recording layer in the image area and the recording layer removability in the non-image area has been desired.

上記の諸問題を解決するため、本発明者らは、p−ビニル安息香酸などの特定の構造単位を含有する高分子化合物を含む中間層を設けた平版印刷版を提案している(特許文献3参照)。また、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーとを有する重合体(ランダムポリマー)含有する中間層を設けた平版印刷版原版を提案している(特許文献4参照)。これらは一定の改良効果を奏するものではあるが、なお支持体及び記録層の双方の密着性の向上を図り、耐刷性を一層向上させるとともに、非画像部においても汚れの発生を効果的に抑制させる更なる改良が望まれているのが現状である。
特開平7−285275号公報 国際公開第97/39894号パンフレット 特開平10−69092号公報 特開2000−108538号公報
In order to solve the above problems, the present inventors have proposed a lithographic printing plate provided with an intermediate layer containing a polymer compound containing a specific structural unit such as p-vinylbenzoic acid (Patent Literature). 3). Further, a lithographic printing plate precursor provided with an intermediate layer containing a polymer (random polymer) containing a monomer having an acid group and a monomer having an onium group has been proposed (see Patent Document 4). Although these have a certain improvement effect, the adhesion of both the support and the recording layer is improved, the printing durability is further improved, and the occurrence of stains in the non-image area is effectively improved. The current situation is that further improvements to be suppressed are desired.
JP-A-7-285275 International Publication No. 97/39894 Pamphlet JP-A-10-69092 JP 2000-108538 A

上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、デジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、耐刷性に優れ、かつ非画像部における汚れの発生のない平版印刷版原版を提供することにある。   An object of the present invention, which has been made in consideration of the drawbacks of the above-described conventional techniques, is a lithographic plate that can be directly made by scanning exposure based on a digital signal, has excellent printing durability, and does not cause stains in a non-image area. The purpose is to provide a printing plate precursor.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、支持体と記録層との間に、特定の構造を側鎖に有するポリマーを含有する中間層を設けることにより、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、下記一般式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマー(以下、適宜「特定ポリマー」と称する。)を含有する中間層と、赤外線レーザー感光性ポジ型記録層と、を順次設けたことを特徴とする。
As a result of intensive studies, the inventors have found that the above problem can be solved by providing an intermediate layer containing a polymer having a specific structure in the side chain between the support and the recording layer. The headline and the present invention have been completed.
That is, the lithographic printing plate precursor according to the invention contains an intermediate layer containing a polymer having a structure represented by the following general formula (I) in the side chain (hereinafter, referred to as “specific polymer” as appropriate) on a support. And an infrared laser-sensitive positive recording layer are sequentially provided.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(I)中、Yはポリマー主鎖骨格との連結基を表す。R1は水素原子又は炭化水素基を表す。R2は二価の炭化水素基を表す。 In general formula (I), Y represents a linking group to the polymer main chain skeleton. R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 2 represents a divalent hydrocarbon group.

ここで、「順次設ける」とは、支持体上に、中間層、及び記録層がこの順に設けられることを指し、目的に応じて設けられる他の層(例えば、保護層、バックコート層、等)の存在を否定するものではない。   Here, “sequentially provided” means that an intermediate layer and a recording layer are provided in this order on a support, and other layers (for example, a protective layer, a backcoat layer, etc.) provided according to the purpose. ) Is not denied.

本発明の作用は明確ではないが、以下のように考えられる。
即ち、本発明に係る中間層に含有される特定ポリマーは、前記一般式(I)で表される構造を有することで支持体表面と強固に相互作用できるため、支持体と記録層との密着性が向上し、延いては耐刷性を向上できるものと考えられる。
さらに、赤外線レーザー感光性ポジ型記録層は、露光時における支持体への熱拡散に起因して支持体表面近傍まで反応が進行せず、非画像部における記録層除去性が懸念される場合があるが、本発明に係る特定ポリマーは現像液脱離性が良好であるため、非画像部の汚れの発生が効果的に抑制されるものと考えられる。
Although the operation of the present invention is not clear, it is considered as follows.
That is, the specific polymer contained in the intermediate layer according to the present invention has a structure represented by the general formula (I) and can interact strongly with the support surface, so that the support and the recording layer are in close contact with each other. It is considered that the printing property can be improved and the printing durability can be improved.
In addition, the infrared laser-sensitive positive recording layer does not proceed to the vicinity of the support surface due to thermal diffusion to the support during exposure, and there is a possibility that the recording layer removability in the non-image area may be a concern. However, since the specific polymer according to the present invention has good developer detachability, it is considered that the occurrence of contamination on the non-image area is effectively suppressed.

本発明によれば、デジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、耐刷性に優れ、かつ非画像部における汚れの発生のない平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor which is capable of direct plate making by scanning exposure based on a digital signal, has excellent printing durability, and does not cause stains in non-image areas.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、支持体上に、下記一般式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマーを含有する中間層と、赤外線レーザー感光性ポジ型記録層と、を順次設けたことを特徴とする平版印刷版原版である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention is characterized in that an intermediate layer containing a polymer having a structure represented by the following general formula (I) in the side chain and an infrared laser-sensitive positive recording layer are sequentially provided on a support. Is a lithographic printing plate precursor.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(I)中、Yはポリマー主鎖骨格との連結基を表す。R1は水素原子又は炭化水素基を表す。R2は二価の炭化水素基を表す。 In general formula (I), Y represents a linking group to the polymer main chain skeleton. R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 2 represents a divalent hydrocarbon group.

[中間層]
本発明の特徴である前記一般式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマー(特定ポリマー)を含有する中間層について説明する。
[Middle layer]
The intermediate layer containing a polymer (specific polymer) having a structure represented by the general formula (I), which is a feature of the present invention, in the side chain will be described.

(一般式(I)で表される構造)
一般式(I)中、Yはポリマー主鎖骨格との連結基を表す。Yで表される連結基としては、置換又は無置換の二価の炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個以上含む部分構造を1個以上有していてもよい。
(Structure represented by formula (I))
In general formula (I), Y represents a linking group to the polymer main chain skeleton. Examples of the linking group represented by Y include a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group. The hydrocarbon group may have one or more partial structures containing one or more heteroatoms selected from the group consisting of an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom.

一般式(I)中、R1は、水素原子又は炭化水素基を表す。
1で表される炭化水素基としては、炭素原子数が1から30までの炭化水素基が好ましい。これらの炭化水素基の中でも、アルキル基又はアリール基であることがより好ましい。
1で表される炭化水素基は、後述する置換基をさらに有していてもよく、該置換基としては、カルボキシル基及びその塩からなる基であることが特に好ましい。
1で表される炭化水素基として、最も好ましい態様は、カルボキシル基又はその塩からなる基を有する、アルキル基及びアリール基である。
In general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
The hydrocarbon group represented by R 1 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. Among these hydrocarbon groups, an alkyl group or an aryl group is more preferable.
The hydrocarbon group represented by R 1 may further have a substituent described later, and the substituent is particularly preferably a group composed of a carboxyl group and a salt thereof.
As the hydrocarbon group represented by R 1 , the most preferred embodiment is an alkyl group and an aryl group having a carboxyl group or a group consisting of a salt thereof.

1における炭化水素基、及び該炭化水素基に導入可能な置換基について詳細に説明する。
1で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基、等の炭素原子数が1から30であり、直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基が挙げられる。
The hydrocarbon group in R 1 and the substituent that can be introduced into the hydrocarbon group will be described in detail.
Specific examples of the alkyl group represented by R 1 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, Tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, 2-methyl A hexyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 1-adamantyl group, a 2-norbornyl group and the like have 1 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a linear, branched, or cyclic alkyl group.

1で表されるアリール基には、2個から4個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、及びベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものが包含される。
1で表されるアリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等の、炭素原子数が6から30までのアリール基が挙げられる。
The aryl group represented by R 1 includes those in which 2 to 4 benzene rings form a condensed ring and those in which a benzene ring and an unsaturated 5-membered ring form a condensed ring.
Specific examples of the aryl group represented by R 1 include aryl groups having 6 to 30 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, indenyl group, acebutenyl group, fluorenyl group, and pyrenyl group. Groups.

1で表される炭化水素基は、任意の置換基によって、1箇所以上が置換されていてもよい。R1に導入可能な置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができる。具体例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、 The hydrocarbon group represented by R 1 may be substituted at one or more locations with any substituent. Examples of the substituent that can be introduced into R 1 include a monovalent nonmetallic atomic group excluding a hydrogen atom. Specific examples include halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, alkyldithio groups, aryldithio groups, amino groups, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy Group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group , Acylamino group, N-alkylacylamino N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl- N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N -Alkylureido group, N ', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N', N'-diaryl-N An alkylureido group, an N ′, N′-diaryl-N-arylureido group,

N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその塩からなる基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその塩からなる基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその塩からなる基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその塩からなる基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(aryl))及びその塩からなる基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alkyl))及びその塩からなる基、 N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxy Carbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group and salts thereof A group consisting of: alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N- Arylcarbamoyl group, alkyl A sulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its a salt group, alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, sulfinamoyl group, N- alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and the like Group consisting of salt, N-alkylsulfonylsulfamoyl group -SO 2 NHSO 2 (alkyl)) and its a salt group, N- aryl sulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 (aryl) ) and its a salt group, N- alkylsulfonylcarbamoyl group (-CONHSO 2 (alkyl)) and a salt thereof,

N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(aryl))及びその塩からなる基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその塩からなる基、ホスホノ基(−PO32)及びその塩からなる基、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその塩からなる基、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその塩からなる基、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその塩からなる基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO2H(alkyl))及びその塩からなる基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその塩からなる基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (aryl)) and a salt thereof, alkoxysilyl group (—Si (Oalkyl) 3 ), aryloxysilyl group (—Si (Oaryl) 3 ), hydroxysilyl group ( -Si (OH) 3 ) and groups thereof, phosphono groups (-PO 3 H 2 ) and groups thereof, dialkylphosphono groups (-PO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphono groups (- PO 3 (aryl) 2 ), an alkylarylphosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), a monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and a salt thereof, a monoarylphosphono group (-PO 3 H (aryl)) and its a salt group, phosphonooxy group (-OPO 3 H 2) and its a salt group, a dialkyl Suhonookishi group (-OPO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkylaryl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphonooxymethyl Group (—OPO 2 H (alkyl)) and a salt thereof, monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and a group thereof, cyano group, nitro group, aryl group, alkyl group Alkenyl group and alkynyl group.

上記の中でも、R1に導入可能な置換基としては、カルボキシル基及びその塩からなる基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基がより好ましく、カルボキシル基及びその塩からなる基が特に好ましい。 Among these, as the substituent that can be introduced into R 1 , a group composed of a carboxyl group and a salt thereof, an alkoxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group are more preferable, and a group composed of a carboxyl group and a salt thereof is particularly preferable.

一般式(I)中、R2は二価の炭化水素基を表し、置換基をさらに有していてもよい。また、当該炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個以上含んでいてもよい。 In general formula (I), R 2 represents a divalent hydrocarbon group and may further have a substituent. The hydrocarbon group may contain one or more heteroatoms selected from the group consisting of an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom.

2に導入可能な置換基としては、前記R1に導入可能な置換基として示したものと同様の置換基が挙げられ、好ましい置換基も同様である。 Examples of the substituent that can be introduced into R 2 include the same substituents as those described as the substituent that can be introduced into R 1 , and the preferred substituents are also the same.

2で表される二価の炭化水素基として、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキレン基、フェニレン基である。具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基、及びイソブチレン基、等の直鎖状又は分枝状のアルキレン基、フェニレン基が挙げられる。また、より好ましい形態としては、上記アルキレン基にカルボン酸基が置換したものが挙げられる。 The divalent hydrocarbon group represented by R 2 is more preferably an alkylene group which may have a substituent or a phenylene group. Specific examples include a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, an isopropylene group, and an isobutylene group, and a phenylene group. Moreover, as a more preferable form, what substituted the carboxylic acid group to the said alkylene group is mentioned.

一般式(I)中が有するカルボン酸基は、アルカリ金属塩又はアンモニウム塩を形成していてもよい。   The carboxylic acid group contained in the general formula (I) may form an alkali metal salt or an ammonium salt.

一般式(I)のより好ましい構造は、R1がカルボン酸基で置換された炭化水素基であり、かつ、R2が直鎖状の炭化水素基又はカルボン酸基で置換された炭化水素基の場合である。さらに、一般式(I)の最も好ましい構造としては、R1がカルボン酸基で置換されたアルキル基であり、かつ、R2が直鎖状のアルキレン基の場合である。 A more preferred structure of the general formula (I) is a hydrocarbon group in which R 1 is substituted with a carboxylic acid group, and R 2 is a hydrocarbon group substituted with a linear hydrocarbon group or a carboxylic acid group This is the case. Furthermore, the most preferable structure of the general formula (I) is a case where R 1 is an alkyl group substituted with a carboxylic acid group, and R 2 is a linear alkylene group.

一般式(I)で表される構造をポリマー中に側鎖として導入する方法としては、例えば、一般式(I)で表される構造を有するモノマーを、公知の方法で重合又は共重合すればよい。その他の方法としては、ポリ−p−アミノスチレンとクロル酢酸を反応させる方法、ポリクロロメチルスチレンとイミノジアセトニトリルを反応後、加水分解するなどの方法がある。一般式(I)で表される構造の導入率をより容易に制御する観点からは、一般式(I)で表される構造を有するモノマーを、公知の方法で重合又は共重合する方法が好ましい。   As a method for introducing the structure represented by the general formula (I) as a side chain into the polymer, for example, a monomer having a structure represented by the general formula (I) is polymerized or copolymerized by a known method. Good. Other methods include a method of reacting poly-p-aminostyrene and chloroacetic acid, and a method of hydrolyzing after reacting polychloromethylstyrene and iminodiacetonitrile. From the viewpoint of more easily controlling the introduction rate of the structure represented by the general formula (I), a method of polymerizing or copolymerizing the monomer having the structure represented by the general formula (I) by a known method is preferable. .

特定ポリマーが共重合体である場合、ランダム共重合体、ブロック共重合体、又は、グラフト共重合体の何れであってもよい。
特定ポリマーの合成は、例えば、ジ−t−ブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのパーオキシド類、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩類、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物などの重合開始剤を用いたラジカル重合により行うことができる。重合開始剤は、適用される重合方式によって適宜選択される。重合方式としては、溶液重合、乳化重合、又は、懸濁重合などが適用される。
When the specific polymer is a copolymer, it may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.
For the synthesis of the specific polymer, for example, a polymerization initiator such as peroxides such as di-t-butyl peroxide and benzoyl peroxide, persulfates such as ammonium persulfate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile was used. It can be performed by radical polymerization. The polymerization initiator is appropriately selected depending on the polymerization method to be applied. As the polymerization method, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization or the like is applied.

合成に際して用いられる重合溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されない。   As polymerization solvents used in the synthesis, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy -2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, ethyl acetate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, toluene, water and the like can be mentioned, but are not limited thereto. Not.

一般式(I)で表される構造を有するモノマーの具体例としては、下記化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the monomer having the structure represented by the general formula (I) include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

Figure 2005157246
Figure 2005157246

Figure 2005157246
Figure 2005157246

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(I)で表される構造を有するモノマーとしては、以下の構造を含むものがより好ましい。   As a monomer which has a structure represented by general formula (I), what contains the following structures is more preferable.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

また、Yで表されるポリマー主鎖骨格との連結基の好ましい構造としては、以下構造が挙げられる。   Moreover, the following structure is mentioned as a preferable structure of a coupling group with the polymer principal chain skeleton represented by Y.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

特定ポリマー中、一般式(1)で表される構造の含有量としては、アルミニウム支持体との相互作用による耐刷性の向上効果を充分に発揮させる観点からは、5モル%以上が好ましく、20モル%以上がさらに好ましい。   In the specific polymer, the content of the structure represented by the general formula (1) is preferably 5 mol% or more from the viewpoint of sufficiently exerting the effect of improving the printing durability due to the interaction with the aluminum support. 20 mol% or more is more preferable.

本発明に係る特定ポリマーの重量平均分子量としては、500〜1000000が好ましく、1000〜500000がより好ましい。   As a weight average molecular weight of the specific polymer which concerns on this invention, 500-1 million are preferable and 1000-500000 are more preferable.

(その他のモノマー成分)
本発明に係る特定ポリマーは、支持体との更なる相互作用の強化、又は記録層との相互作用を強化する目的で、その他のモノマー成分を共重合したものであってもよい。上記その他のモノマー成分としては、例えば、親水化処理基板との密着性向上の観点からは「オニウム基を有するモノマー」、親水化処理基板との密着性向上と現像液溶解性向上の観点からは「酸基を有するモノマー」、記録層との密着性向上の観点からは「記録層と相互作用可能な官能基を有するモノマー」、等が挙げられる。
(Other monomer components)
The specific polymer according to the present invention may be a copolymer obtained by copolymerizing other monomer components for the purpose of further enhancing the interaction with the support or the interaction with the recording layer. As the other monomer component, for example, from the viewpoint of improving the adhesion to the hydrophilic treatment substrate, "monomer having an onium group", from the viewpoint of improving the adhesion to the hydrophilic treatment substrate and improving the developer solubility. From the viewpoint of improving the adhesion to the recording layer, “monomer having an acid group”, “monomer having a functional group capable of interacting with the recording layer” and the like can be mentioned.

<オニウム基を有するモノマー>
オニウム基を有するモノマーとしては、下記一般式(A)〜一般式(C)で表されるモノマーを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
<Monomer having an onium group>
Examples of the monomer having an onium group include, but are not limited to, monomers represented by the following general formula (A) to general formula (C).

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(A)〜(C)中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香族基又は置換芳香族基を表す。Mは2価の連結基を表す。Y1は周期率表第V族の原子を表す。Y2は周期率表第VI族の原子を表す。Z-は対アニオンを表す。R2は水素原子、アルキル基、又はハロゲン原子を表す。R3、R4、R5、及びR7は、それぞれ独立して、水素原子、或いは、アルキル基、芳香族基、又はアラルキル基を表し、これらは更に置換基を有していてもよい。R6はアルキリジン基又は置換アルキリジン基を表す。R3とR4、R6とR7は、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。j、k、及びmは、それぞれ独立して、0又は1を表す。uは1〜3の整数を表す。 In general formulas (A) to (C), J represents a divalent linking group. K represents an aromatic group or a substituted aromatic group. M represents a divalent linking group. Y 1 represents a group V atom in the periodic table. Y 2 represents an atom belonging to Group VI of the periodic table. Z represents a counter anion. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. R 3 , R 4 , R 5 , and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aromatic group, or an aralkyl group, and these may further have a substituent. R 6 represents an alkylidine group or a substituted alkylidine group. R 3 and R 4 , R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring. j, k, and m each independently represent 0 or 1. u represents an integer of 1 to 3.

一般式(A)〜(C)で表されるオニウム基を有するモノマーの中でも、より好ましいものは、以下の場合である。
Jが−COO−又は−CONH−を表し、Kがフェニレン基又は置換フェニレン基を表す。Kが置換フェニレン基である場合に導入される置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、又はアルキル基が好ましい。
Mは、アルキレン基、分子式がCn2nO、Cn2nS、又はCn2n+1Nで表される2価の連結基である。但し、ここで、nは1〜12の整数を表す。
1は、窒素原子又はリン原子を表し、Y2は、イオウ原子を表す。
-は、ハロゲンイオン、PF6 -、BF4 -、又はR8SO3 -を表す。
2は、水素原子又はアルキル基を表す。
3、R4、R5、及びR7は、それぞれ独立して、水素原子、或いは、置換基が結合してもよい、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10の芳香族基、又は炭素数7〜10アラルキル基を表す。
6は、炭素数1〜10のアルキリジン基又は置換アルキリジンであることが好ましい。R3とR4、R6とR7は、それぞれ結合して環を形成してもよい。
j、k、及びmは、それぞれ独立して、0又は1を表すが、jとkは同時に0ではないことが好ましい。
8は、置換基が結合してもよい、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10の芳香族基、炭素数7〜10のアラルキル基を表す。
Among the monomers having an onium group represented by the general formulas (A) to (C), more preferable are the following cases.
J represents -COO- or -CONH-, and K represents a phenylene group or a substituted phenylene group. The substituent introduced when K is a substituted phenylene group is preferably a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkyl group.
M is an alkylene group and a divalent linking group having a molecular formula of C n H 2n O, C n H 2n S, or C n H 2n + 1 N. However, n represents the integer of 1-12 here.
Y 1 represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, and Y 2 represents a sulfur atom.
Z represents a halogen ion, PF 6 , BF 4 , or R 8 SO 3 .
R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
R 3 , R 4 , R 5 , and R 7 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 10 carbon atoms to which a substituent may be bonded. Represents a group or a C7-10 aralkyl group.
R 6 is preferably an alkylidine group having 1 to 10 carbon atoms or a substituted alkylidine. R 3 and R 4 , R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring.
j, k, and m each independently represent 0 or 1, but j and k are preferably not 0 at the same time.
R 8 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms to which a substituent may be bonded.

一般式(A)〜(C)で表されるオニウム基を有するモノマーの中で、特に好ましいものは、以下の場合である。
Kは、フェニレン基又は置換フェニレン基を表し、置換フェニレン基である場合その置換基は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
Mは、炭素数1〜2のアルキレン基、又は酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。
-は、塩素イオン又はR8SO3 -を表す。R2は、水素原子又はメチル基を表す。jは0であり、kは1である。R8は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
Among the monomers having an onium group represented by the general formulas (A) to (C), particularly preferred are the following cases.
K represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and when it is a substituted phenylene group, the substituent represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
M represents an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom.
Z represents a chlorine ion or R 8 SO 3 . R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group. j is 0 and k is 1. R 8 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

以下に、特定ポリマーに好適に用いられるオニウム基を有するモノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of the monomer which has an onium group used suitably for a specific polymer below is given, this invention is not limited to these.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

Figure 2005157246
Figure 2005157246

<酸基を有するモノマー>
特定ポリマーに好適に用いられる酸基を有するモノマーについて説明する。
酸基を有するモノマーに含まれる酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、又はホスホン酸基が特に好ましいが、これらに限定されるものではない。
<Monomer having an acid group>
The monomer having an acid group that is suitably used for the specific polymer will be described.
The acid group contained in the monomer having an acid group is particularly preferably a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, or a phosphonic acid group, but is not limited thereto.

−カルボン酸基を有するモノマー−
カルボン酸基を有するモノマーとしては、カルボン酸基及び重合性二重結合をその構造中に有する重合性化合物であれば特に限定されるものではない。
上記カルボン酸基を有するモノマーの好ましい例としては、下記一般式(1)で表される化合物を挙げることができる。
-Monomer having a carboxylic acid group-
The monomer having a carboxylic acid group is not particularly limited as long as it is a polymerizable compound having a carboxylic acid group and a polymerizable double bond in its structure.
Preferable examples of the monomer having a carboxylic acid group include compounds represented by the following general formula (1).

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(1)中、R1〜R4は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又は下記一般式(2)で示される有機基を表し、R1〜R4の少なくとも1つは下記一般式(2)で表される有機基である。
ここで、特定ポリマーを製造する際の共重合性や原料入手性の観点からは、R1〜R4中に、下記一般式(2)で表される有機基を1〜2個有することが好ましく、1個有することが特に好ましい。重合の結果として得られる特定ポリマーの柔軟性の観点からは、R1〜R4のうち、下記一般式(2)で表される有機基の他は、アルキル基又は水素原子であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
また、同様の理由から、R1〜R4がアルキル基である場合は、炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
In General Formula (1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an organic group represented by the following General Formula (2), and at least one of R 1 to R 4 is: It is an organic group represented by the general formula (2).
Here, from the viewpoint of copolymerizability and raw material availability when producing the specific polymer, R 1 to R 4 may have 1 to 2 organic groups represented by the following general formula (2). It is particularly preferable to have one. From the viewpoint of the flexibility of the specific polymer obtained as a result of the polymerization, among R 1 to R 4 , in addition to the organic group represented by the following general formula (2), an alkyl group or a hydrogen atom is preferable. Particularly preferred is a hydrogen atom.
For the same reason, when R 1 to R 4 are alkyl groups, they are preferably alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably methyl groups.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(2)中、Xは、単結合、アルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は下記構造式(i)〜(iii)で表されるうちのいずれかを表す。重合性、入手性、等の観点からは、単結合、フェニレン基に代表されるアリーレン基、又は下記構造式(i)で表されるもの好ましく、アリーレン基又は下記構造式(i)で表されるものがより好ましく、下記構造式(i)で表されるものが特に好ましい。   In the general formula (2), X represents a single bond, an alkylene group, an arylene group which may have a substituent, or any one of the following structural formulas (i) to (iii). From the viewpoints of polymerizability, availability, etc., a single bond, an arylene group represented by a phenylene group, or one represented by the following structural formula (i) is preferred, and an arylene group or the following structural formula (i) is preferred. Those represented by the following structural formula (i) are particularly preferred.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

構造式(i)〜(iii)中、Yは2価の連結基、Arは置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Yとしては、炭素原子数1〜16のアルキレン基又は単結合が好ましい。アルキレン基内のメチレン(−CH2−)は、エーテル結合(−O−)、チオエーテル結合(−S−)、エステル結合(−COO−)、アミド結合(−CONR−;Rは水素原子又はアルキル基を表す。)で置換されていてもよく、メチレン基を置換する結合としては、エーテル結合又はエステル結合が特に好ましい。
このような2価の連結基のうち、特に好ましい具体例を以下に挙げる。
In structural formulas (i) to (iii), Y represents a divalent linking group, and Ar represents an arylene group which may have a substituent. Y is preferably an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms or a single bond. Methylene (—CH 2 —) in an alkylene group is an ether bond (—O—), a thioether bond (—S—), an ester bond (—COO—), an amide bond (—CONR—; R is a hydrogen atom or an alkyl A bond which may be substituted with a methylene group, an ether bond or an ester bond is particularly preferable.
Among such divalent linking groups, particularly preferred specific examples are listed below.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(1)で表されるカルボン酸基を有するモノマーとして、特に好ましい例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Particularly preferable examples of the monomer having a carboxylic acid group represented by the general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

−スルホン酸基を有するモノマー−
スルホン酸基を有するモノマーとしては、スルホン酸基及び重合性二重結合をその構造中に有する重合性化合物であれば特に限定されるものではない。
上記スルホン酸基を有するモノマーの好ましい具体例としては、3−スルホプロピルアクリレート、3−スルホプロピルメタクリレート、及び4−スチレンスルホン酸、等が挙げられる。
-Monomers having sulfonic acid groups-
The monomer having a sulfonic acid group is not particularly limited as long as it is a polymerizable compound having a sulfonic acid group and a polymerizable double bond in its structure.
Preferable specific examples of the monomer having a sulfonic acid group include 3-sulfopropyl acrylate, 3-sulfopropyl methacrylate, and 4-styrene sulfonic acid.

−ホスホン酸基を有するモノマー−
ホスホン酸基を有するモノマーとしては、ホスホン酸基及び重合性二重結合をその構造中に有する重合性化合物であれば特に限定されるものではない。
ホスホン酸基を有するモノマーの好ましい具体例としては、アシッドホスホキシエチルメタクリレート、3−クロロ−2−アシッドホスホキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート、等が挙げられる。
-Monomer having a phosphonic acid group-
The monomer having a phosphonic acid group is not particularly limited as long as it is a polymerizable compound having a phosphonic acid group and a polymerizable double bond in its structure.
Preferable specific examples of the monomer having a phosphonic acid group include acid phosphooxyethyl methacrylate, 3-chloro-2-acid phosphooxypropyl methacrylate, and acid phosphoxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate.

<その他のモノマー>
以下に、その他のモノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<Other monomers>
Specific examples of other monomers are given below, but the present invention is not limited thereto.

(1) N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−又はp−ヒドロキシスチレン、o−又はm−ブロモーp−ヒドロキシステレン、o−又はm−クロル−p−ヒドロキンスチレン、o−、m−又はp−ヒドロキシフェニルアクリレート又はメタクリレート等の芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン類;   (1) N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m- or p-hydroxystyrene, o- or m-bromo-p-hydroxysterene, o- or Acrylamides having an aromatic hydroxyl group such as m-chloro-p-hydroxyquinstyrene, o-, m- or p-hydroxyphenyl acrylate or methacrylate, methacrylamides, acrylic esters, methacrylic esters and hydroxystyrenes ;

(2) N−(o−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなどのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタタリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド;   (2) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide Acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacryl Amides, methacrylamides such as N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, o-aminosulfonylphenyl acrylate, m-aminosulfonylphenyl Nyl acrylate, p-aminosulfonylphenyl acrylate, unsaturated sulfonamides such as acrylic esters such as 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p- Unsaturated sulphonamides such as methacrylic acid esters such as aminosulfonylphenyl metatalylate and 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate;

(3) トシルアクリルアミドのように置換基があってもよいフェニルスルホニルアクリルアミド、及びトシルメタクリルアミドのような置換基があってもよいフェニルスルホニルメタクリルアミド;
(4) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート;
(3) phenylsulfonylacrylamide, which may have a substituent such as tosylacrylamide, and phenylsulfonylmethacrylamide, which may have a substituent such as tosylmethacrylamide;
(4) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate;

(5) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸へキシル、アクリル酸シクロへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸エステル;   (5) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, acrylic acid-2 -(Substituted) acrylic esters such as chloroethyl, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate;

(6)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸へキシル、メタクリル酸シクロへキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレートなどの(置換)メタクリル酸エステル;   (6) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2 -(Substituted) methacrylate esters such as chloroethyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate;

(7) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロへキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド及びN−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミド若しくはメタクリルアミド;   (7) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N-ethyl acrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-hexyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N- Cyclohexylmethacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide Acrylamide or methacrylate such as N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide De;

(8) エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類;   (8) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether;

(9) ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル類;
(10) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類;
(11) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン類;
(12) エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレフィン類;
(9) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate;
(10) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene;
(11) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone;
(12) Olefin such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene;

(13) N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど;
(14) パントイルラクトン(メタ)アクリレート、α−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラトン、β−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラクトンなどのラクトン基含有モノマー;
(15) ポリエチレングリコールモノ(メタ)アタリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートなどのエチレンオキシド基含有モノマーなど。
(13) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc .;
(14) Lactone group-containing monomers such as pantoyl lactone (meth) acrylate, α- (meth) acryloyl-γ-butyrolactone, β- (meth) acryloyl-γ-butyrolactone;
(15) Ethylene oxide group-containing monomers such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and methoxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate.

特定ポリマー中、上記したその他のモノマーの含有率としては、95モル%以下が好ましく、より好ましくは80モル%以下である。
上記その他のモノマーの中でも、(4)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類、(5) アクリル酸エステル類、(6)メタクリル酸エステル類、を共重合させることがより好ましい。
In the specific polymer, the content of other monomers described above is preferably 95 mol% or less, and more preferably 80 mol% or less.
Among the other monomers, it is more preferable to copolymerize (4) acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group, (5) acrylic acid esters, and (6) methacrylic acid esters.

以下、本発明に係る特定ポリマーの具体例(P−1〜P−21)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the specific example (P-1 to P-21) of the specific polymer which concerns on this invention is given, this invention is not limited to these.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

Figure 2005157246
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Figure 2005157246
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中間層中における特定ポリマーの含有量は、中間層を構成する全固形分に対して、50〜100質量%が好ましく、80〜100質量%がより好ましい。   As for content of the specific polymer in an intermediate | middle layer, 50-100 mass% is preferable with respect to the total solid which comprises an intermediate | middle layer, and 80-100 mass% is more preferable.

(中間層の形成)
本発明に係る中間層は、上述した中間層の各成分を溶解した塗布液(中間層形成用塗布液)を、後述する支持体上に種々の方法により塗布することにより設けることができる。中間層を塗布する方法には、特に制限はないが、代表的なものとしては次の方法が挙げられる。
即ち、(1)メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはこれらの混合溶剤、又は、これらの有機溶剤と水との混合溶剤に、本発明における特定ポリマーを溶解させた溶液を、支持体上に塗布、乾燥して設ける塗布方法。或いは、(2)メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤、又はこれらの有機溶剤と水との混合溶剤に、本発明における特定重合体を溶解させた溶液に、支持体を浸漬し、しかる後、水洗又は空気などによって洗浄、乾燥して中間層を設ける塗布方法を挙げることができる。
(Formation of intermediate layer)
The intermediate layer according to the present invention can be provided by applying a coating solution (intermediate layer forming coating solution) in which each component of the above-described intermediate layer is dissolved onto the support described later by various methods. Although there is no restriction | limiting in particular in the method of apply | coating an intermediate | middle layer, The following method is mentioned as a typical thing.
That is, (1) a solution in which the specific polymer in the present invention is dissolved in an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, or a mixed solvent of these organic solvent and water is placed on a support. Application method that is applied and dried. Alternatively, (2) the support is immersed in a solution in which the specific polymer in the present invention is dissolved in an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, or a mixed solvent of these organic solvent and water. However, after that, there may be mentioned a coating method in which an intermediate layer is provided by washing and drying with water or air.

前記(1)の塗布方法では、上記化合物合計で0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布すればよい。塗布手段としては、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの手段を用いてもよい。また、前記(2)の塗布方法では、溶液の濃度は0.005〜20質量%、好ましくは0.01〜10質量%であり、浸漬温度0〜70℃、好ましくは5〜60℃であり、浸渡時間は0.1〜5分、好ましくは0.5〜120秒である。   In the application method (1), a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass in total may be applied by various methods. As the coating means, any means such as bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, etc. may be used. In the coating method (2), the concentration of the solution is 0.005 to 20% by mass, preferably 0.01 to 10% by mass, and the immersion temperature is 0 to 70 ° C., preferably 5 to 60 ° C. The soaking time is 0.1 to 5 minutes, preferably 0.5 to 120 seconds.

上記した中間層形成用塗布液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェニルホスホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、クマル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など種々有機酸性物質、ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライドなどの有機クロライド等によりpHを調整し、pH=0〜12、より好ましくはpH=0〜6の範囲で使用することもできる。
また、中間層形成用塗布液には、平版印刷版の調子再現性改良のために、紫外光や可視光、赤外光などを吸収する物質を添加することもできる。
The above intermediate layer forming coating solution includes basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, inorganic acids such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and nitric acid, organic sulfonic acids such as nitrobenzene sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid, Adjust pH with various organic acidic substances such as organic phosphonic acid such as phenylphosphonic acid, organic carboxylic acid such as benzoic acid, coumaric acid and malic acid, organic chloride such as naphthalenesulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, etc., pH = 0 12, More preferably, it can also be used in the range of pH = 0-6.
In addition, a substance that absorbs ultraviolet light, visible light, infrared light, or the like may be added to the coating solution for forming an intermediate layer in order to improve the tone reproducibility of the lithographic printing plate.

本発明における中間層の乾燥後の被覆量は、合計で1〜100mg/m2が適当であり、好ましくは2〜70mg/m2である。 The total coating amount of the intermediate layer in the present invention after drying is appropriately 1 to 100 mg / m 2 , and preferably 2 to 70 mg / m 2 .

[記録層]
本発明に係る赤外線レーザー感光性ポジ型記録層(以下、適宜「記録層」と称する。)について説明する。上記記録層は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)赤外線吸収剤、及び、必要に応じて(C)その他の成分を含有して構成されることが好ましい。以下、記録層に含有される各成分について、順次説明する。
[Recording layer]
The infrared laser photosensitive positive recording layer (hereinafter referred to as “recording layer” as appropriate) according to the present invention will be described. The recording layer preferably comprises (A) an alkali-soluble resin, (B) an infrared absorber, and (C) other components as necessary. Hereinafter, each component contained in the recording layer will be sequentially described.

〔(A)アルカリ可溶性樹脂〕
本発明に係る記録層は、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。該アルカリ可溶性樹脂は、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。
中でも、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
[(A) Alkali-soluble resin]
The recording layer according to the present invention preferably contains an alkali-soluble resin. The alkali-soluble resin includes a homopolymer containing an acidic group in the main chain and / or side chain in the polymer, a copolymer thereof, or a mixture thereof.
Among these, those having an acidic group listed in the following (1) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable from the viewpoint of solubility in an alkaline developer and expression of dissolution inhibiting ability.

(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO32
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )

上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。   In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. .

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を充分に確保する点から最も好ましい。   Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from the above (1) to (6), (1) an alkali-soluble resin having a phenol group, (2) a sulfonamide group, and (3) an active imide group is preferable. An alkali-soluble resin having (1) a phenol group or (2) a sulfonamide group is most preferable from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば以下のものを挙げることができる。
(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、又はm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、及びピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
Examples of the alkali-soluble resin having an acidic group selected from the above (1) to (6) include the following.
(1) Examples of the alkali-soluble resin having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, m− / p. A novolac resin such as a condensation polymer of mixed cresol and formaldehyde, a condensation polymer of phenol and cresol (m-, p- or m- / p-mixed) and formaldehyde, and pyrogallol and acetone. Can be mentioned. Furthermore, the copolymer which copolymerized the compound which has a phenol group in a side chain can also be mentioned. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be used.

フェノール基を有する化合物としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。   Examples of the compound having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenol group.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜(v)で表される化合物が挙げられる。   (2) As an alkali-soluble resin having a sulfonamide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among these, low molecular weight compounds having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule are preferable. For example, the following general formulas (i) to (v) The compound represented by these is mentioned.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

一般式(i)〜(v)中、X1及びX2は、それぞれ独立に−O−又は−NR7を表す。R1及びR4は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12及びR16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7及びR13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6及びR17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10及びR14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11及びR15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1及びY2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。 In general formulas (i) to (v), X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7 . R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently represent a C 1-12 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, or aralkyl group that may have a substituent. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

一般式(i)〜(v)で表される化合物のうち、本発明の平版印刷版原版では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the general formulas (i) to (v), in the lithographic printing plate precursor according to the invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- ( p-Aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As an alkali-soluble resin having an active imide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having an active imide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(4) As an alkali-soluble resin having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.
(5) As an alkali-soluble resin having a sulfonic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having one or more sulfonic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned.
(6) As an alkali-soluble resin having a phosphate group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphate group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

記録層に用いるアルカリ可溶性樹脂を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、又は異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。   The minimum structural unit having an acidic group selected from the above (1) to (6) that constitutes the alkali-soluble resin used in the recording layer is not necessarily limited to one kind, and is the minimum structural unit having the same acidic group. Two or more of these may be used, or two or more of the minimum structural units having different acidic groups may be copolymerized.

前記共重合体は、共重合させる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させることができない傾向がある。   The copolymer preferably contains 10 mol% or more of a compound having an acidic group selected from (1) to (6) to be copolymerized, and is contained in an amount of 20 mol% or more. Those are more preferred. If it is less than 10 mol%, the development latitude tends to be insufficiently improved.

本発明では、化合物を共重合してアルカリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる化合物として、前記(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物を用いることもできる。(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物の例としては、下記(m1)〜(m12)に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。   In this invention, when copolymerizing a compound and using an alkali-soluble resin as a copolymer, the other compound which does not contain the acidic group of said (1)-(6) can also be used as a compound to copolymerize. Examples of other compounds not containing an acidic group of (1) to (6) include the compounds listed in the following (m1) to (m12), but are not limited thereto.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.

(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。   The alkali-soluble resin preferably has a phenolic hydroxyl group from the viewpoint of excellent image-forming properties when exposed to infrared laser or the like. For example, a phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- Preferred are novolak resins such as / p-mixed cresol formaldehyde resin and phenol / cresol (m-, p-, or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resin and pyrogallol acetone resin.

また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。   Further, as an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, as described in US Pat. No. 4,123,279, a carbon number of 3 such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin is used. And a condensation polymer of phenol and formaldehyde having an alkyl group of ˜8 as a substituent.

アルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子量が500以上であることが画像形成性の点で好ましく、1,000〜700,000であることがより好ましい。また、その数平均分子量が500以上であることが好ましく、750〜650,000であることがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1.1〜10であることが好ましい。   The alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight of 500 or more from the viewpoint of image forming properties, and more preferably 1,000 to 700,000. The number average molecular weight is preferably 500 or more, and more preferably 750 to 650,000. The dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

また、これらのアルカリ可溶性樹脂は単独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
組み合わせる場合には、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているような、t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先に提出した特開2000−241972号公報に記載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂などを併用してもよい。
Moreover, these alkali-soluble resins may be used alone or in combination of two or more.
In the case of combination, the number of carbon atoms such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde as described in US Pat. No. 4,123,279 is described. A polycondensation product of phenol and formaldehyde having 3 to 8 alkyl groups as substituents, a phenol having an electron-withdrawing group on the aromatic ring described in JP-A-2000-241972 previously filed by the present inventors You may use together alkali-soluble resin etc. which have a structure.

アルカリ可溶性樹脂としては、未露光部では強い水素結合性を生起し、露光部においては、一部の水素結合が容易に解除される点、及び、非シリケート現像液に対して、未露光部、露光部の現像性の差が大きい点から、画像形成性が向上するため、フェノール性水酸基を有する高分子化合物が望ましい。更に好ましくはノボラック樹脂である。   As the alkali-soluble resin, strong hydrogen bonding occurs in the unexposed area, and in the exposed area, some hydrogen bonds are easily released, and the unexposed area with respect to the non-silicate developer, A polymer compound having a phenolic hydroxyl group is desirable because the image forming property is improved because the difference in developability between exposed portions is large. More preferred is a novolac resin.

記録層に含有されるアルカリ可溶性樹脂は、耐久性、感度及び画像形成性の観点から、その合計の含有量が、記録層全固形分中、30〜98質量%が好ましく、40〜95質量%がより好ましい。   The total content of the alkali-soluble resin contained in the recording layer is preferably from 30 to 98% by mass, and preferably from 40 to 95% by mass, based on the total solid content of the recording layer, from the viewpoints of durability, sensitivity, and image formability. Is more preferable.

〔(C)赤外線吸収剤〕
本発明に係る記録層は、赤外線吸収剤を含有することが好ましい。該赤外線吸収剤としては、光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザーへの適合性の観点からは、波長760nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
[(C) Infrared absorber]
The recording layer according to the present invention preferably contains an infrared absorber. As the infrared absorber, any substance that absorbs light energy radiation and generates heat can be used without any limitation in the absorption wavelength range, but from the viewpoint of compatibility with an easily available high-power laser. Is preferably an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

赤外線吸収性染料としては、市販の染料、及び、例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the infrared absorbing dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭59−202829号公報、特開昭60−78787号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、特開昭58−194595号公報等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63744号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58- Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples include squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used, and substituted aryl benzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferably used. (Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, JP-A-58-220143 No. 59-41363, No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, JP-A 59-216146 No. 5,13514, a cyanine dye described in US Pat. No. 4,283,475, a pentamethine thiopyrylium salt described in US Pat. No. 4,283,475, and the like. Pyrylium compounds Nos disclosed in Japanese 5-19702 are also preferably used.

また、赤外線吸収染料として好ましい別の例としては、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Moreover, as another example preferable as an infrared absorption dye, the near-infrared absorption dye described as Formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明に係る記録層中に使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because they are excellent in photothermal conversion efficiency. Particularly, the cyanine dyes represented by the following general formula (a) are used in the recording layer according to the present invention. In this case, it is most preferable because it gives a high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.

Figure 2005157246
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一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2005157246
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1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。本発明の感光性組成物を、平版印刷版原版の記録層塗布液に用いた場合の保存安定性からは、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability when the photosensitive composition of the present invention is used as a recording layer coating solution for a lithographic printing plate precursor, R 1 and R 2 may be a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms. Further, R 1 and R 2 are preferably bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性からは、好ましくは水素原子である。
また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボン酸イオン、及びスルホン酸イオンであり、アルカリ可溶性樹脂との相溶性や塗布液への溶解性の観点からは、ハロゲンイオン、及び、カルボン酸イオンやスルホン酸イオンの有機酸イオンが好ましく、より好ましくはスルホン酸イオンであり、中でもアリールスルホン酸イオンが特に好ましい。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred.
Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a carboxylate ion, and a sulfonate ion because of the storage stability of the recording layer coating solution. From the viewpoint of solubility and solubility in a coating solution, halogen ions and organic acid ions such as carboxylate ions and sulfonate ions are preferable, sulfonate ions are more preferable, and aryl sulfonate ions are particularly preferable.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, Examples thereof include those described in paragraph numbers [0012] to [0038] of JP-A No. 2002-40638 and paragraph numbers [0012] to [0023] of JP-A No. 2002-23360.

Figure 2005157246
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一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Na+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R14及びR15〜R20は、互いに独立に、水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。 In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring structure. Good. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Na + , K + , Li + ) and the like. R 9 to R 14 and R 15 to R 20 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, This represents a substituent selected from an oxy group or an amino group, or a combination of two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in general formula (b), those in which L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms and those in which R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms are easily available. It is preferable from the viewpoint of effect.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.

Figure 2005157246
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Figure 2005157246
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一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Za-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different, and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thiol group, Represents a group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Further, wherein Za - include a counter anion, Za in the general formula (a) - it is synonymous.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2005157246
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一般式(d)中、R29ないしR31は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0ないし4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよい。また、R29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよく、さらに、R33或いはR34が複数存在する場合には、R33同士或いはR34同士は、互いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In general formula (d), R 29 to R 31 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 33 and R 34 each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. R 29 and R 30 , or R 31 and R 32 may be bonded to form a ring. R 29 and / or R 30 may be combined with R 33 and R 31 and / or R 32 may be combined with R 34 to form a ring, and when there are a plurality of R 33 or R 34 it is R 33 or between R 34 together may be bonded to each other to form a ring. X 2 and X 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and at least one of X 2 and X 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group. Zc represents a counter anion and has the same meaning as Za in the general formula (a).

本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2005157246
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Figure 2005157246
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一般式(e)中、R35〜R50は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示し、置換基を導入可能な場合は、置換基を有してもよい。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。 In the general formula (e), R 35 to R 50 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, When a sulfinyl group, an oxy group, an amino group, or an onium salt structure is shown and a substituent can be introduced, it may have a substituent. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein are IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, second Three-period transition metals and lanthanoid elements can be mentioned, among which copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2005157246
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本発明において赤外線吸収剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。   Examples of pigments used as infrared absorbers in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology”. (CMC Publishing, published in 1986) and “Printing Ink Technology”, published by CMC Publishing, published in 1984).

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、顔料分散物を平版印刷版原版の記録層塗布液に用いた場合の安定性及び記録層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満であると、顔料分散物を平版印刷版原版の記録層塗布液に用いた場合に、安定性の点で好ましくなく、また、10μmを越えると記録層の均一性の点で好ましくない。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm from the viewpoints of stability and uniformity of the recording layer when the pigment dispersion is used as a recording layer coating liquid for a lithographic printing plate precursor. More preferably, it is in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable in terms of stability when the pigment dispersion is used as a recording layer coating liquid for a lithographic printing plate precursor, and when it exceeds 10 μm, the recording layer is uniform. It is not preferable in terms of sex.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの顔料又は染料は、感度、記録層の均一性オ及び耐刷性の観点から、記録層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%である。染料の場合は、特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   These pigments or dyes are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the recording layer, from the viewpoints of sensitivity, recording layer uniformity, and printing durability. It is. In the case of a dye, it is particularly preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, it is particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

〔(C)その他の成分〕
本発明に係る記録層には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。特にオニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質(分解性溶剤抑止剤)を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。分解性溶解抑止剤としては、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩等のオニウム塩及び、o−キノンジアジド化合物が好ましく、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のオニウム塩がより好ましく、ジアゾニウム塩を熱分解性の溶解抑止剤として添加することが特に好ましい。
[(C) Other ingredients]
Various additives can be further added to the recording layer according to the present invention as necessary. In particular, a substance (decomposable solvent inhibitor) that is thermally decomposable, such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, and a sulfonic acid alkyl ester, and substantially reduces the solubility of the alkali-soluble resin when not decomposed may be used in combination. It is preferable from the viewpoint of improving dissolution inhibition of the image area in the developer. As the decomposable dissolution inhibitor, onium salts such as diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, ammonium salts, and o-quinonediazide compounds are preferred, diazonium salts, iodonium salts, onium salts of sulfonium salts are more preferred, and diazonium salts are preferred. It is particularly preferable to add it as a thermally decomposable dissolution inhibitor.

本発明において用いられるオニウム塩として好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号明細書、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号明細書、米国特許第5,041,358号明細書、同第4,491,628号明細書、特開平2−150848号公報、特開平2−296514号公報に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号明細書、同233,567号明細書、同297,443号明細書、同297,442号明細書、米国特許第4,933,377号明細書、同3,902,114号明細書、同5,041,358号明細書、同4,491,628号明細書、同4,760,013号明細書、同4,734,444号明細書、同2,833,827号明細書、独国特許第2,904,626号明細書、同3,604,580号明細書、同3,604,581号明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。
これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩が特に好ましい。特に、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。
Suitable examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. No. 5,041,358, US Pat. No. 4,491,628, Japanese Patent Laid-Open No. 2-150848, Japanese Patent Laid-Open No. Iodonium salts described in JP-A-2-296514, J. Org. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. No. 4,933,377. No. 3,902,114, No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444 No. 2,833,827, German Patent 2,904,626, 3,604,580, 3,604,581 Salt, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
Among these onium salts, diazonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibiting ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A No. 5-158230 and the diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A No. 11-143064 are preferable. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength is most preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としては、o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号明細書及び同第3,188,210号明細書に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210. An ester of) -diazide-5-sulfonic acid chloride with a phenol-formaldehyde resin is also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号などの各公報、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17478, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, and 3,544 No. 323, No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,825, British Patent No. 1,227,602, No. 1,251,345, No. No. 1,267,005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890 and the like. .

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/又は、o−キノンジアジド化合物の添加量は、本発明の感光性組成物を平版印刷版の記録層に用いる場合、好ましくは記録層の全固形分に対し、好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.2〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   When the photosensitive composition of the present invention is used for the recording layer of a lithographic printing plate, the amount of onium salt and / or o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably added to the total solid content of the recording layer. On the other hand, it is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and particularly preferably 0.2 to 2% by mass. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0〜5質量%、更に好ましくは0〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に用いられる添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder used in the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

さらに、画像のディスクリミネーション(疎水性/親水性の識別性)の強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−187318公報に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することができる。このような化合物の添加量としては、本発明の平版印刷版の記録層に用いる場合には、記録層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。
本発明には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許6,117,913号明細書に用いられているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステル等を挙げることができる。このような化合物の添加量としては、本発明の平版印刷版原版の記録層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。
また、本発明には、必要に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含んでいてもよい。酸性基としては、スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基を挙げることができる。中でもスルホン酸基を有する化合物が好ましい。具体的には、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類や脂肪族スルホン酸類を挙げることができる。
Further, in order to enhance image discrimination (hydrophobic / hydrophilic discrimination) and to enhance resistance to scratches on the surface, carbon described in JP-A-2000-187318 is used. A polymer containing a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 perfluoroalkyl groups of 3 to 20 as a polymerization component can be used in combination. As the addition amount of such a compound, when used for the recording layer of the lithographic printing plate of the invention, it is preferably from 0.1 to 10% by mass, more preferably from 0.5 to 10%, based on the total solid content of the recording layer. 5% by mass.
In the present invention, for the purpose of imparting resistance to scratches, a compound that lowers the static friction coefficient of the surface can also be added. Specific examples include esters of long-chain alkyl carboxylic acids as used in US Pat. No. 6,117,913. The amount of such a compound added is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content of the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention.
Further, the present invention may contain a compound having a low molecular weight acidic group as required. Examples of acidic groups include sulfonic acid groups, carboxylic acid groups, and phosphoric acid groups. Of these, compounds having a sulfonic acid group are preferred. Specific examples include aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid, and aliphatic sulfonic acids.

その他、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の平版印刷版原版の記録層に添加する場合、記録層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   In addition, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 ″ -Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids, and the like, which are described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 60-88942 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-96755. , P-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate Phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1, 2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid, etc. When added to the recording layer of the lithographic printing plate precursor of the above cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids, the recording layer The proportion of the content is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

また、本発明に係る記録層には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。   Further, the recording layer according to the present invention has a nonionic surfactant as described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 in order to broaden the processing stability against development conditions. , Amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149, siloxane-based compounds as described in EP950517, JP-A-11-288093 Fluorine-containing monomer copolymers as described can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,DBE−621,DBE−712,DBP−732,DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録層中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).
The siloxane compound is preferably a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the recording layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

本発明に係る記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
To the recording layer according to the present invention, a print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644, and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、記録層の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。更に、本発明には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the recording layer. Furthermore, a plasticizer is added to the present invention as needed to impart flexibility and the like of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、さらには、特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物、及び、本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group, and the present inventors described in JP-A-8-276558, A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 proposed in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

〔記録層の形成〕
本発明に係る記録層は、上記した記録層を構成する各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
[Formation of recording layer]
The recording layer according to the present invention can be formed by dissolving each component constituting the above-described recording layer in a solvent and coating the solution on a suitable support.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene. It is not limited. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜(記録層)の皮膜特性は低下する。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
本発明の感光性組成物からなる記録層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、記録層全固形分中0.01〜1質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。
The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 . As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film (recording layer) decrease.
Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
In the recording layer comprising the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant as described in JP-A-62-170950 is added. can do. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass in the total solid content of the recording layer.

〔記録層の構成〕
本発明に係る記録層は重層構造をとってもよく、例えば、下層(支持体側)として、アルカリ可溶性高分子からなる樹脂層を、上層として、先に述べた記録層を、設け2層構造とすることができる。
これにより、露光によりアルカリ現像液への溶解性が低下する記録層(上層)が、露光面又はその近傍に設けられることで赤外線レーザーに対する感度が良好となると共に、支持体と該記録層との間にこの樹脂層(下層)が存在し、断熱層として機能することで、赤外線レーザーの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることからの高感度化が図れる。
また、露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性となった記録層(上層)がこの樹脂層(下層)の保護層として機能するために、現像安定性が良好になると共にディスクリミネーションに優れた画像が形成され、かつ、経時的な安定性も確保されるものと考えられる。更に、未露光部においては、未硬化のバインダー成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂層(下層)がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解するため、現像性に優れるものと考えられる。
[Configuration of recording layer]
The recording layer according to the present invention may have a multilayer structure. For example, a resin layer made of an alkali-soluble polymer is used as the lower layer (support side), the recording layer described above is provided as the upper layer, and a two-layer structure is provided. Can do.
As a result, the recording layer (upper layer) whose solubility in an alkaline developer is lowered by exposure is provided on the exposed surface or in the vicinity thereof, whereby the sensitivity to the infrared laser is improved, and the support and the recording layer Since this resin layer (lower layer) exists between them and functions as a heat insulating layer, the heat generated by the infrared laser exposure is not diffused to the support, and the sensitivity can be increased because it is used efficiently.
In the exposed area, the recording layer (upper layer) that has become impermeable to the alkaline developer functions as a protective layer for the resin layer (lower layer). It is considered that an image excellent in nation is formed and stability over time is secured. Further, in the unexposed area, the uncured binder component is quickly dissolved and dispersed in the developer, and the resin layer (lower layer) existing adjacent to the support is made of an alkali-soluble polymer. Therefore, the solubility in the developer is good. For example, even when a developer with reduced activity is used, it dissolves quickly without the formation of a residual film, so that it is considered that the developability is excellent.

[支持体]
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
[Support]
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a dimensionally stable plate-like material is used. For example, paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), Metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate , Polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with a metal as described above, or vapor-deposited paper, or plastic film.

本発明に係る支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。   As the support according to the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不充分となったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる場合がある。
The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used and cannot be specified. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm. 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable.
When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged portion during printing. In some cases, so-called “scratch dirt” is likely to occur.

陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号の各明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
特に好ましい支持体処理としては、アルミニウム板に、機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理、硝酸を含有する電解液を用いた電気化学的粗面化処理および塩酸を含有する水溶液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施すことが好ましい。このような処理を行った支持体は非常に高い表面積を有している。
After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. As the hydrophilization treatment used in the present invention, each specification of US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734 is disclosed. There is an alkali metal silicate (for example, aqueous sodium silicate) method as disclosed in US Pat. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272 For example, a method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in the literature is used.
Particularly preferable support treatments include mechanical roughening treatment, alkali etching treatment, desmutting treatment with an acid, electrochemical roughening treatment using an electrolytic solution containing nitric acid, and an aqueous solution containing hydrochloric acid. It is preferable to sequentially perform an electrochemical surface roughening treatment using. A support subjected to such treatment has a very high surface area.

本発明に係る中間層が、上記処理を行った支持体でより好ましい効果を発現する理由はよく分かっていないが、本発明に係る中間層は、非常に表面積が高い支持体に対しても基板と相互作用する効果により、基板表面を充分に被覆できるため、記録層(感光層)と支持体との密着性をさらに向上させ、かつ良好な非画像部汚れ性を両立できると考えられる。   The reason why the intermediate layer according to the present invention exhibits a more preferable effect on the support subjected to the above treatment is not well understood, but the intermediate layer according to the present invention is a substrate even for a support having a very high surface area. It is considered that the surface of the substrate can be sufficiently covered by the effect of interacting with the substrate, so that the adhesion between the recording layer (photosensitive layer) and the support can be further improved and good non-image area smearing can be achieved.

本発明の平版印刷版原版は、記録層に応じた種々の処理方法により、平版印刷版とされるが、以下のようにして、実質的にアルカリ金属ケイ酸塩を含有しない現像液を用いて現像する方法により、平版印刷版とするのが好ましい。即ち、本発明の平版印刷版原版は、実質的にアルカリ金属ケイ酸塩を含有しない現像液により処理されるための平版印刷版原版であるのが好ましい。なお、本方法については、特開平11−109637号公報に詳細に記載されており、本発明においては、該公報に記載されている内容を用いることができる。   The lithographic printing plate precursor of the present invention is converted into a lithographic printing plate by various processing methods corresponding to the recording layer. The developer is substantially free of alkali metal silicate as follows. A lithographic printing plate is preferred depending on the developing method. That is, the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably a lithographic printing plate precursor to be treated with a developer containing substantially no alkali metal silicate. This method is described in detail in JP-A No. 11-109637, and in the present invention, the contents described in the publication can be used.

上記のようにして作製されたポジ型平版印刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。
像露光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
The positive lithographic printing plate precursor produced as described above is usually subjected to image exposure and development processing.
As the light source of the light beam used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.

本発明の感光性組成物を記録層として用いた平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
As a developer and a replenisher for a lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention as a recording layer, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used.
For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.
Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O, which are silicate components. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-62004, Alkali metal silicates as described in JP-B-57-7427 are effectively used.

更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
Furthermore, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer so that the developer in the developer tank is not changed for a long time. It is known that the PS version can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.
Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. If necessary, the developer and replenisher may contain reducing agents such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, and other inorganic acids such as sodium salts and potassium salts, organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water softeners. It can also be added.

上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明に適用される後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。   The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with water-washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. As the post-process applied to the present invention, these processes can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. The processing liquid is sprayed from the spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明の平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, image portions unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, film edge marks of the original film, etc.) ), Unnecessary image portions are erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to obtain a lithographic printing plate with a higher printing durability, it is desired. The burning process is performed.
In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

整面液の塗布量は、一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting liquid is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

〔モノマー(M−1)の合成〕
モノマー(M−1)は以下のように合成した。
1L三口フラスコに、イミノジ酢酸46.55g(0.35mol)、MeOH350ml、H2O350mlを60℃で攪拌しながら、NaOH23.1g(0.58mol)を少しずつ添加した。その後クロロメチルスチレン53.5g(0.35mol)を30分かけて半分滴下し、NaOHをさらに23.1g(0.58mol)を添加し、クロロメチルスチレンのもう半分を滴下した。60℃でさらに3時間反応したのち、反応溶液を1/3量まで除媒し、その後メチルエチルケトンで抽出した。水相を濃塩酸を加えてpH2〜3までにした。析出した白色固体をろ過、水洗し、乾燥してモノマー(M−1)を29.3g(収率33.6%)で得た。モノマー(M−1)の構造を以下に示す。
[Synthesis of Monomer (M-1)]
Monomer (M-1) was synthesized as follows.
To a 1 L three-neck flask, 46.55 g (0.35 mol) of iminodiacetic acid, 350 ml of MeOH, and 350 ml of H 2 O were stirred at 60 ° C., and 23.1 g (0.58 mol) of NaOH was added little by little. Thereafter, 53.5 g (0.35 mol) of chloromethylstyrene was dropped in half over 30 minutes, 23.1 g (0.58 mol) of NaOH was further added, and the other half of chloromethylstyrene was dropped. After further reaction at 60 ° C. for 3 hours, the reaction solution was removed to 1/3 volume, and then extracted with methyl ethyl ketone. The aqueous phase was adjusted to pH 2-3 with concentrated hydrochloric acid. The precipitated white solid was filtered, washed with water, and dried to obtain 29.3 g of monomer (M-1) (yield 33.6%). The structure of the monomer (M-1) is shown below.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

〔モノマー(M−2)の合成〕
モノマー(M−2)は以下のように合成した。
上記により合成したモノマー(M−1)10g(40.1mmol)のMeOH100ml溶液中に、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド20%溶液29.5g(40.1mmol)を滴下し、室温で1時間攪拌した。MeOHを除媒し、真空乾燥して、下記モノマー(M−2)を12.0gを得た。モノマー(M−2)の構造を以下に示す
[Synthesis of Monomer (M-2)]
The monomer (M-2) was synthesized as follows.
29.5 g (40.1 mmol) of tetraethylammonium hydroxide 20% solution was added dropwise to a solution of 10 g (40.1 mmol) of the monomer (M-1) synthesized above in 100 ml of MeOH, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. MeOH was removed, and vacuum drying was performed to obtain 12.0 g of the following monomer (M-2). The structure of the monomer (M-2) is shown below

Figure 2005157246
Figure 2005157246

〔特定ポリマー(P−3)の合成〕
特定ポリマー(P−3)は以下のように合成した。
MeOH23.3g、上記合成モノマー(M−2)10g(26.4mmol)を加えた100ml3つ口フラスコに、70℃、窒素雰囲気下で2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル(商品名:V601、和光純薬工業(株)製)0.304g(1.32mmol)を加え,7時間反応させた。ヘキサン/酢酸エチル(3/1)混合溶液で再沈し、ろ過,乾燥して特定ポリマー(P−3)を8.9g得た。
[Synthesis of Specific Polymer (P-3)]
The specific polymer (P-3) was synthesized as follows.
To a 100 ml three-necked flask to which 23.3 g of MeOH and 10 g (26.4 mmol) of the above synthetic monomer (M-2) were added, dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate (trade name: V601, Wako Jun) under a nitrogen atmosphere at 70 ° C. 0.304 g (1.32 mmol) manufactured by Yakuhin Kogyo Co., Ltd. was added and reacted for 7 hours. It was reprecipitated with a hexane / ethyl acetate (3/1) mixed solution, filtered and dried to obtain 8.9 g of the specific polymer (P-3).

〔特定ポリマー(P−5)の合成〕
特定ポリマー(P−5)は以下のように合成した。
DMAc9.3gを加えた200ml三口フラスコに、75℃、窒素雰囲気下で、上記合成モノマー(M−1)12.5g(50.0mmol)、パラビニル安息香酸7.41g(50.0mmol)、V601 1.152g(5.0mmol)、DMAc37.1gの溶液を2時間かけて滴下し、さらに5時間反応させた。反応液を酢酸エチルで再沈し、ろ過乾燥して特定ポリマー(P−5)を17.9gを得た。
[Synthesis of Specific Polymer (P-5)]
The specific polymer (P-5) was synthesized as follows.
In a 200 ml three-necked flask to which 9.3 g of DMAc was added, 12.5 g (50.0 mmol) of the synthetic monomer (M-1), 7.41 g (50.0 mmol) of paravinylbenzoic acid, V601 under a nitrogen atmosphere at 75 ° C. A solution of .152 g (5.0 mmol) and DMAc 37.1 g was added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 5 hours. The reaction solution was reprecipitated with ethyl acetate, filtered and dried to obtain 17.9 g of the specific polymer (P-5).

〔特定ポリマー(P−6)の合成〕
特定ポリマー(P−6)は以下のように合成した。
DMAc11.7gを加えた200ml三口フラスコに、75℃、窒素雰囲気下で、上記合成モノマー(M−1)12.5g(50.0mmol)、ビニルベンジルトリエチルアンモニウムクロリド12.69g(50.0mmol)、V601 1.152g(5.0mmol)、DMAc47.0gの溶液を2時間かけて滴下し、さらに5時間反応させた。反応液をアセトンで再沈し、ろ過乾燥して特定ポリマー(P−6)を20.5gを得た。
[Synthesis of Specific Polymer (P-6)]
The specific polymer (P-6) was synthesized as follows.
In a 200 ml three-necked flask to which 11.7 g of DMAc was added, under a nitrogen atmosphere at 75 ° C., 12.5 g (50.0 mmol) of the synthetic monomer (M-1), 12.69 g (50.0 mmol) of vinylbenzyltriethylammonium chloride, A solution of 1.601 g (5.0 mmol) of V601 and 47.0 g of DMAc was added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 5 hours. The reaction solution was reprecipitated with acetone, filtered and dried to obtain 20.5 g of the specific polymer (P-6).

〔特定ポリマー(P−11)の合成〕
特定ポリマー(P−11)は以下のように合成した。
DMAc 5gを加えた三口フラスコに、75℃、窒素雰囲気下で、上記モノマー(M−1)4.99g(20mmol)、ビニルベンジルトリエチルアンモニウクロリド3.81g(15mmol)、ヒドロキシエチルメタクリレート1.95g(15mmol)、V601 0.576g(2.5mmol)、DMAc 40.7gの溶液を2時間かけて滴下し、さらに5時間反応させた。アセトンで再沈し、濾過、乾燥して特定ポリマー(P−11)を9.8g得た。
[Synthesis of Specific Polymer (P-11)]
The specific polymer (P-11) was synthesized as follows.
In a three-necked flask to which 5 g of DMAc was added, in a nitrogen atmosphere at 75 ° C., 4.99 g (20 mmol) of the monomer (M-1), 3.81 g (15 mmol) of vinylbenzyltriethylammonium chloride, 1.95 g of hydroxyethyl methacrylate ( 15 mmol), V601 0.576 g (2.5 mmol), and DMAc 40.7 g were added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 5 hours. 9.8 g of the specific polymer (P-11) was obtained by reprecipitation with acetone, filtration and drying.

〔特定ポリマー(P−12)の合成〕
特定ポリマー(P−12)は以下のように合成した。
DMAc 7.5gを加えた三口フラスコに、75℃、窒素雰囲気下で、上記モノマー(M−1)4.99g(20mmol)、ビニルベンジルトリエチルアンモニウムクロリド3.81g(15mmol)、ライトエステルHOMS(共栄社化学工業社製)3.68g(15mmol)、V601 0.576g(2.5mmol)、DMAc 30.0gの溶液を2時間かけて滴下し、さらに5時間反応させた。アセトンで再沈し、濾過、乾燥して特定ポリマー(P−12)を9.8g得た。
[Synthesis of Specific Polymer (P-12)]
The specific polymer (P-12) was synthesized as follows.
In a three-necked flask to which 7.5 g of DMAc was added, in a nitrogen atmosphere at 75 ° C., 4.99 g (20 mmol) of the monomer (M-1), 3.81 g (15 mmol) of vinylbenzyltriethylammonium chloride, light ester HOMS (Kyoeisha) (Chemical Industry Co., Ltd.) A solution of 3.68 g (15 mmol), V601 0.576 g (2.5 mmol), and DMAc 30.0 g was added dropwise over 2 hours, followed by further reaction for 5 hours. It reprecipitated with acetone, filtered and dried to obtain 9.8 g of the specific polymer (P-12).

〔特定ポリマー(P−21)の合成〕
特定ポリマー(P−21)は以下のように合成した。
DMAc 8.2gを加えた三口フラスコに、75℃窒素雰囲気下で、上記モノマー(M−1)4.99g(20mmol)、ビニルベンジルトリエチルアンモニウムクロリド3.81g(15mmol)、メタクリル酸メチル1.5g(15mmol)、V601 0.576g(2.5mmol)、DMAc 33.0gの溶液を2時間かけて滴下し、さらに5時間反応させた。アセトンで再沈し、濾過、乾燥して特定ポリマー(P−21)を9.6g得た。
[Synthesis of Specific Polymer (P-21)]
The specific polymer (P-21) was synthesized as follows.
In a three-necked flask to which 8.2 g of DMAc was added, in a nitrogen atmosphere at 75 ° C., 4.9 g (20 mmol) of the monomer (M-1), 3.81 g (15 mmol) of vinylbenzyltriethylammonium chloride, 1.5 g of methyl methacrylate. (15 mmol), a solution of V601 0.576 g (2.5 mmol) and DMAc 33.0 g was added dropwise over 2 hours and allowed to react for another 5 hours. 9.6 g of the specific polymer (P-21) was obtained by reprecipitation with acetone, filtration and drying.

[実施例1〜5]
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて、下記に示す処理することで支持体1及び支持体2を作製した。
[Examples 1 to 5]
(Production of support)
The support body 1 and the support body 2 were produced by the process shown below using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.3 mm.

(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to a surface of an aluminum plate, it is mechanically rotated by a roller-like nylon brush. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was sprayed with an aqueous NaOH solution at a temperature of 70 ° C. (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) to carry out an etching treatment, and the aluminum plate was 6 g / m. 2 dissolved. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is electrochemically roughened using a carbon electrode as the counter electrode, using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a DUTY ratio of 1: 1. went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment The aluminum plate was sprayed at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.20 g / m 2 , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was used was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water using well water. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate is etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, and the aluminum plate is dissolved at 0.10 g / m 2 , so The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the electrochemical surface roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(I) Desmut treatment A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by mass aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then water washing by spraying was performed using well water.

(j)陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(J) Anodizing treatment As the electrolytic solution, sulfuric acid was used. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), and the temperature was 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water.
Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は3.5mg/dm2であった。
(K) Alkali metal silicate treatment An aluminum support obtained by anodizing treatment was immersed in a treatment layer of a 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds to immerse the alkali metal silica. Acid salt treatment (silicate treatment) was performed. Then, the water washing by the spray using well water was performed. The amount of silicate adhering at that time was 3.5 mg / dm 2 .

<支持体1>
上記(a)〜(k)の各工程を順に行い、(e)工程におけるエッチング量は3.5g/m2となるようにして支持体1を作製した。
<Support 1>
The above steps (a) to (k) were sequentially performed, and the support 1 was produced such that the etching amount in the step (e) was 3.5 g / m 2 .

<支持体2>
上記工程のうち(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体2を作製した。
<Support 2>
Except for omitting the steps (g), (h), and (i) among the above steps, each step was performed in order to prepare the support 2.

〔中間層の形成〕
上述の様に作製された支持体1上に、下記の中間層形成用塗布液を塗布した後、80℃で15秒間乾燥し、中間層を設けた。乾燥後の被覆量は、15mg/m2であった。
(Formation of intermediate layer)
The following coating solution for forming an intermediate layer was applied onto the support 1 produced as described above, and then dried at 80 ° C. for 15 seconds to provide an intermediate layer. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .

<中間層形成用塗布液>
・表1に記載の特定ポリマー 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
<Intermediate layer forming coating solution>
・ The specific polymers listed in Table 1 0.3 g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

〔記録層の形成〕
−共重合体1の合成−
攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ口フラスコに、メタクリル酸31.0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で30分間混合物を攪拌した。
[Formation of recording layer]
-Synthesis of Copolymer 1-
A 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube and a dropping funnel is charged with 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile and cooled in an ice water bath. The mixture was stirred while. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped with a dropping funnel over about 1 hour. After completion of the dropwise addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

この反応混合物に、p−アミノベンゼンスルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しながら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られた固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた(収量46.9g)。   To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water with stirring, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to take out a precipitate, which was slurried with 500 ml of water, then the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to dry a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide. Was obtained (yield 46.9 g).

次に、攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた200ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.0192モル)、メタクリル酸エチル2.58g(0.0258モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合物に、重合開始剤として2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(商品名:「V−65」、和光純薬(株)製)0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸メチル2.58g、アクリロニトリル0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び上記「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによりこの特定の共重合体1の重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ54,000であった。   Next, 4.61 g (0.0192 mol) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide and 2.58 g of ethyl methacrylate (0.0258 mol) were added to a 200 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel. ), 0.80 g (0.015 mol) of acrylonitrile and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. with a hot water bath. To this mixture, 0.15 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (trade name: “V-65”, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added as a polymerization initiator and maintained at 65 ° C. The mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream. To this reaction mixture, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.58 g of methyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of the above “V-65” were added. The mixture was added dropwise via a dropping funnel over 2 hours. After completion of dropping, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, cooled, and the resulting mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. After stirring the mixture for 30 minutes, the precipitate was removed by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained. It was 54,000 when the weight average molecular weight (polystyrene standard) of this specific copolymer 1 was measured by the gel permeation chromatography.

(実施例1、4〜8の記録層の形成)
上記により得られた支持体上(種類については表1に記載)に、以下の記録層形成用塗布液1を塗布量が0.85g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OVENPH200にてWind Controlを7に設定して110℃で50秒間乾燥した。その後、記録層形成用塗布液2を塗布量が0.30g/m2になるよう塗布したのち、120度で1分間乾燥し、実施例1、及び実施例4〜8の平版印刷版原版を得た。
(Formation of recording layers of Examples 1, 4 to 8)
The following recording layer forming coating solution 1 was coated on the support obtained as described above (described in Table 1) so that the coating amount was 0.85 g / m 2 , and then manufactured by TABI Corporation, PERFECT The wind control was set to 7 in OVENPH200 and dried at 110 ° C. for 50 seconds. Thereafter, the recording layer forming coating solution 2 was applied so that the coating amount was 0.30 g / m 2, and then dried at 120 ° C. for 1 minute, and the planographic printing plate precursors of Example 1 and Examples 4 to 8 were prepared. Obtained.

<記録層形成用塗布液1>
・前記共重合体1 2.133g
・シアニン染料A(下記構造) 0.109g
・4,4'−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.030g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシ−2−ナフタレンスルホン酸のアニオンに変えたもの
0.100g
・メガファックF780、大日本インキ工業(株)社製
(塗布面状改良フッ素系界面活性剤) 0.035g
・メチルエチルケトン 25.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g
・γ−ブチロラクトン 13.2g
<Recording layer forming coating solution 1>
-Copolymer 1 2.133 g
・ Cyanine dye A (the following structure) 0.109 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate 0.030 g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to the anion of 6-hydroxy-2-naphthalenesulfonic acid
0.100g
・ Megafac F780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. (Coated surface-modified fluorine-based surfactant) 0.035 g
・ Methyl ethyl ketone 25.38g
・ 13.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Γ-butyrolactone 13.2 g

Figure 2005157246
Figure 2005157246

<記録層形成用塗布液2>
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量
4500、未反応クレゾール0.8質量%含有) 0.3478g
・前記シアニン染料A 0.0192g
・下記のオニウム塩B 0.0115g
・メガファックF780(20%)、大日本インキ化学工業(株)製
(面状改良界面活性剤) 0.022g
・メチルエチルケトン 13.07g
・1−メトキシ−2−プロパノール 6.79g
<Recording layer forming coating solution 2>
・ M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol) 0.3478 g
・ The cyanine dye A 0.0192g
・ The following onium salt B 0.0115g
・ Megafac F780 (20%), manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. (Surface improving surfactant) 0.022 g
・ Methyl ethyl ketone 13.07g
1-methoxy-2-propanol 6.79g

Figure 2005157246
Figure 2005157246

(実施例2、3、9、10の記録層の形成)
上記により得られた支持体1上に、以下の画像形成層塗布液3を乾燥後の塗布量が1.2g/m2となるように塗布し、実施例2、3、9、10の平版印刷版原版を得た。
(Formation of recording layers of Examples 2, 3, 9, and 10)
On the support 1 obtained as described above, the following image forming layer coating solution 3 was coated so that the coating amount after drying was 1.2 g / m 2, and the planographic plates of Examples 2, 3, 9, and 10 were used. A printing plate master was obtained.

<記録層形成用塗布液3>
・m,p−クレゾールノボラック 0.93g
(m/p比=6/4、重量平均分子量7,300、
未反応クレゾール0.4質量%含有)
・下記ビニルポリマー(1) 0.07g
・下記赤外線吸収剤(シアニン染料A) 0.017g
・下記赤外線吸収剤(シアニン染料B) 0.023g
・2,4,6−トリス(ヘキシルオキシ)
ベンゼンジアゾニウム−2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホネート 0.01g
・p−トルエンスルホン酸 0.003g
・シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物 0.06g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを
1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 0.015g
・フッ素系界面活性剤 0.02g
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 15g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7g
<Recording layer forming coating solution 3>
・ M, p-cresol novolak 0.93g
(M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 7,300,
Unreacted cresol containing 0.4% by mass)
・ The following vinyl polymer (1) 0.07g
・ The following infrared absorber (cyanine dye A) 0.017 g
・ The following infrared absorber (cyanine dye B) 0.023 g
・ 2,4,6-Tris (hexyloxy)
Benzenediazonium-2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate 0.01 g
・ 0.003 g of p-toluenesulfonic acid
・ Cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride 0.06g
・ Counter anion of Victoria Pure Blue BOH
0.015 g of dye converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion
・ Fluorine surfactant 0.02g
(Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 15g
・ 7g of 1-methoxy-2-propanol

Figure 2005157246
Figure 2005157246

[比較例1]
実施例1の中間層形成用塗布液における特定ポリマー(P−1)に代えて、下記比較用ポリマー(PA−1)を用いた他は、実施例1と同様にして、比較例1の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 1]
The lithographic plate of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the specific polymer (P-1) in the intermediate layer forming coating solution of Example 1 was used instead of the following comparative polymer (PA-1). A printing plate master was obtained.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

[比較例2]
実施例1において、中間層を設けなかった他は、実施例1と同様にして、比較例2の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 2]
In Example 1, a lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that no intermediate layer was provided.

[評価]
得られた実施例1〜10、比較例1、2の各平版印刷版原版に対し、画像形成性、耐刷性、非画像部の汚れの有無、保存安定性(経時後の耐刷性及び非画像部の汚れの有無)について、以下の如く評価を行った。
[Evaluation]
For each of the lithographic printing plate precursors obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2, image formability, printing durability, presence / absence of non-image area stains, storage stability (printing resistance after aging and The presence / absence of non-image area contamination was evaluated as follows.

1.画像形成性
得られた実施例及び比較例の各平版印刷版原版を、CREO社製TrenndSetter3244を用いて版面エネルギー量140mJ/cm2で像様露光した。次いで、実施例1〜7、及び比較例1、2の平版印刷版原版については、実質的にアルカリ金属ケイ酸塩を含有しない現像液である富士写真フイルム(株)製のPS版用現像液「DT−1」を標準使用条件で用いて、自動現像機900NPにより現像した後、画像を忠実に再現しているかを評価した。
実施例8の平版印刷版原版については、アルカリ金属ケイ酸塩を含有する現像液(富士写真フイルム製PS版用現像液「DP−4」)を用いて、上記同様に現像し、評価した。
実施例9、10の平版印刷版原版については、富士写真フイルム(株)製のPS版用現像液「LH−DS」を標準使用条件で現像し、評価した。
評価基準は、デジタル情報に基づいた非常に鮮鋭度の高い画像が形成されている場合を◎、実用上問題のない場合を○、画像が忠実に再現できていない場合を△、画像ができない場合を×とした。結果を表1に示す。
1. Image Formability Each of the lithographic printing plate precursors obtained in Examples and Comparative Examples was subjected to imagewise exposure with a plate surface energy amount of 140 mJ / cm 2 using a TrendSetter 3244 manufactured by CREO. Next, for the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2, the developer for PS plate manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., which is a developer substantially free of alkali metal silicate. Using “DT-1” under standard operating conditions, it was evaluated whether the image was faithfully reproduced after development by an automatic processor 900NP.
The planographic printing plate precursor of Example 8 was developed and evaluated in the same manner as described above using a developer containing alkali metal silicate (PS plate developer “DP-4” manufactured by Fuji Photo Film).
For the lithographic printing plate precursors of Examples 9 and 10, a PS plate developer “LH-DS” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was developed and evaluated under standard use conditions.
The evaluation criteria are ◎ when an image with very high sharpness based on digital information is formed, ◯ when there is no problem in practical use, △ when the image cannot be reproduced faithfully, and when the image is not possible Was marked with x. The results are shown in Table 1.

2.非画像部汚れ性の評価
上記1と同様の露光・現像処理を行って得られた各平版印刷版を用い、三菱ダイヤ型F2印刷機(三菱重工業社製)で、DIC−GEOS(s)紅のインキを用いて印刷し、1万枚印刷した後におけるブランケットの汚れを目視で評価した。
評価基準は、全く汚れていなかったものを◎、殆ど汚れていないものを○、若干汚れていたものを△、顕著に汚れていたものを×とした。結果を第1表に示す。
2. Evaluation of stain resistance of non-image area Using each planographic printing plate obtained by performing the same exposure / development processing as described in 1 above, a DIC-GEOS (s) red using a Mitsubishi diamond type F2 printing machine (manufactured by Mitsubishi Heavy Industries). After printing 10,000 sheets of ink, the blanket was stained and visually evaluated.
The evaluation criteria were ◎ for those that were not soiled at all, ◯ for those that were hardly soiled, △ for those that were slightly soiled, and × for those that were significantly soiled. The results are shown in Table 1.

3.耐刷性の評価
上記1と同様の露光・現像処理を行って得られた各平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。結果を表1に示す。
3. Evaluation of printing durability Each lithographic printing plate obtained by performing the same exposure / development treatment as in 1 above was subjected to a DIC-GEOS (N) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. using a Lislon printing machine manufactured by Komori Corporation. Printing with black ink was used, and the printing durability was evaluated based on the number of printed sheets when it was visually recognized that the density of the solid image started to decrease. The results are shown in Table 1.

4.保存安定性
得られた平版印刷版原版を、温度35℃、相対湿度75%の条件下、21日間保存した後に、上記2、3と同様の方法により、耐刷性及び非画像部汚れ性を評価した。保存の前後で変化のないものほど経時安定性が良好であると判断する。結果を表1に示す。
4). Storage stability After the obtained lithographic printing plate precursor was stored for 21 days under the conditions of a temperature of 35 ° C. and a relative humidity of 75%, the printing durability and stain resistance of the non-image area were improved by the same methods as described in 2 and 3 above. evaluated. It is judged that the one with no change before and after storage has better stability over time. The results are shown in Table 1.

Figure 2005157246
Figure 2005157246

表1に示すように、特定ポリマーを中間層に含有する実施例の平版印刷版原版は、画像形成性に優れ、且つ、耐刷性及び非画像部汚れ性にも優れるたものであることが判る。なお、比較例1に用いたポリマー(PA−1)は、従前の平版印刷版原版の中間層において汎用されるポリマーである。中間層ポリマー以外は同様の条件により作製された実施例1と比較例1との比較からは、特定ポリマーを中間層に含有させることにより、画像形成性及び非画像部汚れ性を良好に保ちながらも、耐刷性をより一層向上したことが判る。また、中間層を設けない比較例2では、耐刷性や非画像部汚れ性が実施例よりも劣っていることが判る。
また、本発明の平版印刷版原版は、経時後に耐刷性及び非画像部汚れ性の何れもが殆ど変化しておらず、保存安定性に優れていることが判る。一方、比較例1の平版印刷版原版は、経時後に耐刷性及び非画像部汚れ性が共に劣化していることが判る。
さらに、本発明の平版印刷版原版の現像処理においては、いずれの現像液を用いた場合であっても、良好に現像できることが判る。
As shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of the examples containing the specific polymer in the intermediate layer are excellent in image forming properties and excellent in printing durability and non-image area stain resistance. I understand. The polymer (PA-1) used in Comparative Example 1 is a polymer that is widely used in the intermediate layer of a conventional lithographic printing plate precursor. From the comparison between Example 1 and Comparative Example 1 prepared under the same conditions except for the intermediate layer polymer, the image forming property and the non-image area stainability were kept good by including the specific polymer in the intermediate layer. It can also be seen that the printing durability was further improved. In Comparative Example 2 in which no intermediate layer is provided, it can be seen that the printing durability and the non-image area contamination are inferior to those of the Examples.
In addition, it can be seen that the lithographic printing plate precursor of the present invention is excellent in storage stability because neither the printing durability nor the non-image area soiling property is changed after lapse of time. On the other hand, it can be seen that the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 1 is deteriorated in both the printing durability and the non-image area stain after a lapse of time.
Furthermore, it can be seen that in the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, it is possible to develop satisfactorily regardless of which developer is used.

Claims (1)

支持体上に、下記一般式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマーを含有する中間層と、赤外線レーザー感光性ポジ型記録層と、を順次設けたことを特徴とする平版印刷版原版。
Figure 2005157246
(一般式(I)中、Yはポリマー主鎖骨格との連結基を表す。R1は水素原子又は炭化水素基を表す。R2は二価の炭化水素基を表す。)
Lithographic printing characterized in that an intermediate layer containing a polymer having a structure represented by the following general formula (I) in the side chain and an infrared laser-sensitive positive recording layer are sequentially provided on a support. Version original edition.
Figure 2005157246
(In general formula (I), Y represents a linking group to the polymer main chain skeleton. R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 2 represents a divalent hydrocarbon group.)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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