JP2005149600A - Manufacturing method of optical recording medium sample, analyzing method of optical recording medium sample, and manufacturing apparatus of optical recording medium sample - Google Patents

Manufacturing method of optical recording medium sample, analyzing method of optical recording medium sample, and manufacturing apparatus of optical recording medium sample Download PDF

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秀樹 春原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an optical recording medium sample by which a surface state of a substrate of the optical recording medium can be analyzed sufficiently, exactly, and accurately. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the optical recording medium sample comprises a substrate dissolving process in which a contact plane for the substrate of a dielectric layer is exposed by dissolving the substrate using liquid which can dissolve selectively the substrate without dissolving the dielectric layer of the optical recording medium having the substrate and the dielectric layer formed at one side of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法及び光記録媒体試料の作製装置に関するものである。   The present invention relates to an optical recording medium sample preparation method, an optical recording medium sample analysis method, and an optical recording medium sample preparation apparatus.

近年、CD、CD−R、CD−RW及びDVDなどの光ディスクを初めとする光記録媒体は、より大容量化されたもしくは書き換え可能な光記録媒体を実現するために、より複雑でより微細な構造を有するものが開発されてきている。具体的には、大容量化された光記録媒体として、いわゆるBlu−rayディスクなどが検討されている(非特許文献1〜3参照)。このような光記録媒体は、その構造の複雑さ及び微細さ故に、その製造技術もより高度なものが要求されているので、製品の歩留まりを従来の光記録媒体と同等以上に維持するためには、その品質管理が従来よりも重要な要素となる。   In recent years, optical recording media such as optical discs such as CD, CD-R, CD-RW, and DVD have become more complicated and finer in order to realize larger capacity or rewritable optical recording media. Those having a structure have been developed. Specifically, a so-called Blu-ray disc or the like has been studied as a large-capacity optical recording medium (see Non-Patent Documents 1 to 3). Since such an optical recording medium is required to have a higher level of manufacturing technology because of the complexity and fineness of its structure, in order to maintain the product yield equal to or higher than that of conventional optical recording media. The quality control is an important factor than ever.

この光記録媒体は、通常基板上に記録層および反射層等を積層した構造を有するが、その基板の積層側の表面形状は光ディスクの特性に影響を与えるため、品質管理において、その表面を十分に正確で且つ優れた精度をもって分析する方法が要求されている。   This optical recording medium usually has a structure in which a recording layer, a reflective layer, etc. are laminated on a substrate, but the surface shape on the laminated side of the substrate affects the characteristics of the optical disc. Therefore, there is a demand for a method of analyzing with high accuracy and excellent accuracy.

このような基板の積層側表面の分析方法として知られている方法においては、通常、まず基板上に積層された各層を、最上層から順に粘着テープでの剥離、酸を用いた溶解もしくは減圧下におけるスパッタ粒子等の高速化荷電粒子によるエッチングなどの手段を用いて除去することにより、最終的に基板の積層側表面を露出させる。そして、露出した基板の表面形状を観察したり、層構造を分析したり、もしくは記録マークを測定する。
日経エレクトロニクス、日経BP社、2003年3月31日号、第135〜150頁 日経エレクトロニクス、日経BP社、2003年5月12日号、第119〜133頁 日経エレクトロニクス、日経BP社、2003年6月9日号、第57〜64頁
In a method known as a method for analyzing the surface of the laminated side of such a substrate, usually, each layer laminated on the substrate is first peeled off in order from the top layer with an adhesive tape, dissolved with an acid or under reduced pressure. The surface of the substrate is finally exposed by removing it using means such as etching with high-speed charged particles such as sputtered particles. Then, the surface shape of the exposed substrate is observed, the layer structure is analyzed, or the recording mark is measured.
Nikkei Electronics, Nikkei BP, March 31, 2003, pages 135-150 Nikkei Electronics, Nikkei BP, May 12, 2003, pp. 119-133 Nikkei Electronics, Nikkei BP, June 9, 2003, pp. 57-64

しかしながら、本発明者らは、上記従来の分析方法について詳細に検討したところ、その分析方法を用いると、各層の除去工程を経た後であっても、基板の積層側表面上に誘電体層もしくは記録層などが残存していることが明らかになった。このように基板表面上に各層が残存している状態で基板表面の観察等の分析を行うと、例えば基板に形成されたグルーブもしくはランドの状態又は基板の表面粗さを正確に把握することが困難になり、分析精度が低下してしまう。   However, the present inventors have examined the above-described conventional analysis method in detail. When the analysis method is used, the dielectric layer or the surface of the substrate on the laminated side is obtained even after the removal process of each layer. It became clear that the recording layer remained. In this way, when analysis such as observation of the substrate surface is performed with each layer remaining on the substrate surface, for example, the state of the groove or land formed on the substrate or the surface roughness of the substrate can be accurately grasped. It becomes difficult and the analysis accuracy decreases.

そこで、本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、光記録媒体の基板の表面状態を十分に正確に且つ精度よく分析できる光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法及び光記録媒体試料の作製装置を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an optical recording medium sample preparation method, an optical recording medium sample analysis method, and an optical recording medium sample analysis method capable of sufficiently accurately and accurately analyzing the surface state of the substrate of the optical recording medium, and An object of the present invention is to provide an optical recording medium sample manufacturing apparatus.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、光記録媒体の基板の積層側表面を直接分析しなくても、その表面状態を把握できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the surface state can be grasped without directly analyzing the laminated side surface of the substrate of the optical recording medium, and the present invention is completed. It came to.

すなわち、本発明の光記録媒体試料の作製方法は、基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを有する光記録媒体の誘電体層を溶解せずに基板を選択的に溶解可能な液体を用いて、その基板を溶解することにより、誘電体層の基板との接触面を露出させる基板溶解工程を含むことを特徴とする。このような光記録媒体試料の作製方法が上記課題を達成できる要因は現在のところ明らかにされていないが、本発明者らはその要因の1つとして以下のように考えている。ただし要因はこれに限定されない。   That is, the optical recording medium sample manufacturing method of the present invention can selectively dissolve the substrate without dissolving the dielectric layer of the optical recording medium having the substrate and the dielectric layer formed on one side of the substrate. And a substrate dissolving step of exposing the contact surface of the dielectric layer with the substrate by dissolving the substrate using a liquid. Although the reason why such a method for producing an optical recording medium sample can achieve the above-mentioned problem has not been clarified at present, the present inventors consider the following as one of the factors. However, the factor is not limited to this.

近年開発されている例えば相変化光ディスクもしくは光磁気ディスクのような光記録媒体は、特に基板と接する層に、フッ酸等の非常に強い酸によっても完全に溶解することが困難な誘電体層等の機能層を設けている。このような誘電体層を設けた光記録媒体の基板の積層側表面を直接分析するには、基板の上記表面の分析すべき部分を完全に露出させる必要がある。   Optical recording media such as phase change optical disks or magneto-optical disks that have been developed in recent years, especially dielectric layers that are difficult to completely dissolve even with very strong acids such as hydrofluoric acid, etc. The functional layer is provided. In order to directly analyze the laminated surface of the substrate of the optical recording medium provided with such a dielectric layer, it is necessary to completely expose the portion to be analyzed of the surface of the substrate.

しかしながら、従来の方法によって基板の表面上に設けられた誘電体層を除去しようとすると、その誘電体層は強酸を用いても完全に溶解除去することが困難であり、粘着テープを用いた剥離除去もしくはエッチングによっても除去することが困難であるため、その一部が基板表面の分析すべき部分に残存してしまう。基板表面のグルーブもしくは粗さは数nmから数μmオーダーの凹凸を形成しており、僅かでも誘電体層が基板表面上に残存していると、その表面の状態を十分正確に且つ精度よく分析することができないと考えられる。   However, if the dielectric layer provided on the surface of the substrate is removed by a conventional method, it is difficult to completely dissolve and remove the dielectric layer even if a strong acid is used. Since it is difficult to remove even by removal or etching, a part thereof remains on the portion of the substrate surface to be analyzed. The groove or roughness of the substrate surface has irregularities on the order of several nm to several μm, and even if a slight dielectric layer remains on the substrate surface, the surface condition is analyzed sufficiently accurately and accurately. It is thought that it cannot be done.

一方、本発明の光記録媒体試料の作製方法を用いると、得られる光記録媒体試料は、誘電体層の基板との接触面を露出させた状態にある。光記録媒体の基板は再生用の光もしくは記録用の光を透過させる必要があり、そのような基板の構成材料は誘電体層に用いられる材料と比較して容易に溶解除去できる材料であるので、誘電体層の基板との接触面の分析すべき部分に基板の構成材料が残存することはない。   On the other hand, when the method for producing an optical recording medium sample of the present invention is used, the obtained optical recording medium sample is in a state where the contact surface of the dielectric layer with the substrate is exposed. The substrate of the optical recording medium needs to transmit light for reproduction or light for recording, and the constituent material of such a substrate is a material that can be easily dissolved and removed as compared with the material used for the dielectric layer. The constituent material of the substrate does not remain in the portion to be analyzed of the contact surface of the dielectric layer with the substrate.

しかも、本発明者らは、誘電体層の基板との接触面が、その基板の誘電体層側表面のグルーブ、ランドもしくは表面粗さなどのプロファイルを十分に正確に且つ精度よく転写していることを見出した。これにより、基板表面の形状を直接分析しなくても、誘電体層の表面を分析することにより、基板表面の状態を有効に把握することができる。   In addition, the present inventors have transferred the profile of the surface of the dielectric layer on the dielectric layer side of the substrate, such as grooves, lands, or surface roughness, with sufficient accuracy and accuracy. I found out. Thus, the state of the substrate surface can be effectively grasped by analyzing the surface of the dielectric layer without directly analyzing the shape of the substrate surface.

また、従来の光記録媒体試料の作製方法においては、基板上に形成された複数の層を除去する必要があった。さらに、それらの各層は、層を構成する材料によって適した除去手段を採用する必要があり、さらには同じ除去手段であっても、その手段に用いる装置の条件もしくはその方法に用いる液体の種類などを適宜変更する必要があった。   Further, in the conventional method for producing an optical recording medium sample, it is necessary to remove a plurality of layers formed on a substrate. Furthermore, it is necessary for each of these layers to adopt a removal means suitable for the material constituting the layer, and even if the same removal means is used, the conditions of the apparatus used for the means or the type of liquid used for the method, etc. It was necessary to change appropriately.

一方、本発明の光記録媒体試料の作製方法においては、基板のみを除去すればよいため、従来の方法と比較して、時間、労力およびコストを低減させることができる傾向にある。   On the other hand, in the method for producing an optical recording medium sample of the present invention, since only the substrate has to be removed, time, labor and cost tend to be reduced as compared with the conventional method.

本発明の光記録媒体試料の作製方法は、その基板溶解工程が、液体を用いて基板の一部を溶解することにより誘電体層の基板との接触面を露出させる工程であると好ましい。このように基板の一部のみを溶解することにより、得られる光記録媒体試料が湾曲し難くなり、或いは柔軟になり難い傾向にあるので、得られた光記録媒体試料に備えられる誘電体層のその接触面の形状をより正確且つ精度よく分析できる傾向にある。   In the method for producing an optical recording medium sample of the present invention, the substrate dissolving step is preferably a step of exposing a contact surface of the dielectric layer with the substrate by dissolving a part of the substrate using a liquid. By dissolving only a part of the substrate in this way, the obtained optical recording medium sample tends to be difficult to bend or become flexible. Therefore, the dielectric layer provided in the obtained optical recording medium sample There is a tendency that the shape of the contact surface can be analyzed more accurately and accurately.

また、本発明の光記録媒体試料の作製方法が、液体を基板の上記一側と反対側から滴下して基板を溶解することにより誘電体層の基板との接触面を露出させる工程であると好ましい。このような滴下方法は、装置構成及び作製操作を簡便にすることができると共に、光記録媒体を損傷させる可能性が低いので、光記録媒体試料を効率よく得ることができる傾向にある。   Also, the method for producing an optical recording medium sample of the present invention is a step of exposing the contact surface of the dielectric layer with the substrate by dripping a liquid from the opposite side of the substrate to dissolve the substrate. preferable. Such a dropping method can simplify the apparatus configuration and the manufacturing operation, and has a low possibility of damaging the optical recording medium, and thus tends to obtain an optical recording medium sample efficiently.

さらに、この光記録媒体試料の作製方法は、基板溶解工程の前に、上記一側と反対側にある基板の面を水平方向に対して所定角度傾けた状態で光記録媒体を配置する光記録媒体配置工程を含むとより好ましい。このような方法を用いることにより、滴下した液体とその液体により溶解された基板材料は共に光記録媒体試料から流れ落ちるため、改めてそれらを該試料から除去する工程を設ける必要がなくなり、速やかに光記録媒体試料を分析することができる傾向にある。   Furthermore, this optical recording medium sample preparation method is an optical recording method in which an optical recording medium is disposed in a state where the surface of the substrate opposite to the one side is inclined at a predetermined angle with respect to the horizontal direction before the substrate melting step. More preferably, it includes a medium placement step. By using such a method, both the dropped liquid and the substrate material dissolved by the liquid flow down from the optical recording medium sample, so there is no need to provide a process for removing them again from the sample, and optical recording can be performed quickly. There is a tendency to be able to analyze media samples.

また、上記光記録媒体試料の作製方法において、基板がポリカーボネート樹脂を構成材料とし、誘電体層が誘電体酸化物若しくは誘電体窒化物を構成材料とし、液体が主成分として極性溶媒を含有する液体であるとさらに好ましい。液体と基板の構成材料と誘電体層の構成材料との組み合わせを上記のものにすることにより、一層容易に光記録媒体試料を得ることができるので、時間、労力およびコストの更なる低減が可能となる傾向にある。このような観点から、誘電体層がZnS−SiO、SiCO、CeO、SiN若しくはAlNからなる群より選ばれる材料を構成材料とし、液体がクロロホルム、ジクロロメタン、THF、アセトン若しくはメチルエチルケトンからなる群より選ばれる有機溶媒を主成分として含有する液体であると、より好ましい。また、上記液体として、クロロホルム若しくはジクロロメタン等のいわゆる塩素系溶剤を用いても好ましい。 Further, in the above method for preparing an optical recording medium sample, a liquid in which the substrate is made of polycarbonate resin, the dielectric layer is made of dielectric oxide or dielectric nitride, and the liquid is mainly composed of a polar solvent. Is more preferable. By making the combination of the liquid, substrate constituent material and dielectric layer constituent material as described above, an optical recording medium sample can be obtained more easily, which can further reduce time, labor and cost. It tends to be. From such a viewpoint, the dielectric layer is made of a material selected from the group consisting of ZnS—SiO 2 , SiCO, CeO 2 , SiN or AlN, and the liquid is selected from the group consisting of chloroform, dichloromethane, THF, acetone or methyl ethyl ketone. It is more preferable that the liquid contains the selected organic solvent as a main component. It is also preferable to use a so-called chlorinated solvent such as chloroform or dichloromethane as the liquid.

本発明の光記録媒体試料の分析方法は、基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを備える光記録媒体の上記誘電体層を溶解せずに基板を選択的に溶解可能な液体を用いて基板を溶解することにより、誘電体層の基板との接触面を露出させ、上記接触面を分析することを特徴とする。これにより、特に基板表面のグルーブ、ランドもしくは表面粗さなどの形状を、十分に正確かつ精度よく把握することができる。したがって、この分析方法により得られた結果を利用することにより、一層歩留まりの高い光記録媒体の製造が可能となる。   The method for analyzing an optical recording medium sample of the present invention can selectively dissolve a substrate without dissolving the dielectric layer of the optical recording medium comprising a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate. By dissolving the substrate using a liquid, the contact surface of the dielectric layer with the substrate is exposed, and the contact surface is analyzed. As a result, it is possible to grasp the shape such as the groove, land, or surface roughness on the substrate surface sufficiently accurately and accurately. Therefore, by using the result obtained by this analysis method, it is possible to manufacture an optical recording medium with a higher yield.

また、本発明の光記録媒体の製造方法は、上述した分析方法を品質管理工程に用いる方法である。これにより、従来の製造方法に比べて、製造条件と基板表面の状態との相関性をより詳細に比較検討できるので、光記録媒体製品の歩留を向上させることができる。本発明の光記録媒体の製造方法においては、この品質管理工程の分析結果に基づき光記録媒体の製造条件を調整することもできる。   The method for producing an optical recording medium of the present invention is a method using the above-described analysis method in a quality control process. Accordingly, since the correlation between the manufacturing conditions and the state of the substrate surface can be compared and examined in more detail as compared with the conventional manufacturing method, the yield of the optical recording medium product can be improved. In the optical recording medium manufacturing method of the present invention, the manufacturing conditions of the optical recording medium can be adjusted based on the analysis result of the quality control process.

また、本発明の光記録媒体試料の作製装置は、基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを備える光記録媒体の上記誘電体層を溶解せずに基板を選択的に溶解可能な液体を滴下する滴下部材と、滴下部材から滴下された液体が基板の上記一側と反対側の表面に接触するように光記録媒体を保持する媒体保持部材とを設けてなることを特徴とする。このような光記録媒体試料の作製装置は、上述した光記録媒体試料の作製方法及び該試料の分析方法を有効に実現することができる。さらにこの作製装置の上記媒体保持部材が、基板の表面を水平方向に対して傾けた状態で光記録媒体を保持すると、光記録媒体試料の作製時間をより短縮できる傾向にあるので好ましい。   Also, the optical recording medium sample preparation apparatus of the present invention selectively dissolves a substrate without dissolving the dielectric layer of the optical recording medium comprising a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate. A drip member for dripping possible liquid, and a medium holding member for holding an optical recording medium so that the liquid dripped from the drip member is in contact with the surface opposite to the one side of the substrate. And Such an optical recording medium sample preparation apparatus can effectively realize the optical recording medium sample preparation method and the sample analysis method described above. Further, it is preferable that the medium holding member of the manufacturing apparatus holds the optical recording medium in a state where the surface of the substrate is inclined with respect to the horizontal direction because the manufacturing time of the optical recording medium sample tends to be further shortened.

本発明によれば、光記録媒体の基板の表面状態を十分に正確に且つ精度よく分析できる光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法及び光記録媒体試料の作製装置を提供することができる。また、本発明の光記録媒体の製造方法は、従来に比べて光記録媒体製品の歩留を十分に改善することができる。   According to the present invention, there are provided an optical recording medium sample preparation method, an optical recording medium sample analysis method, and an optical recording medium sample preparation apparatus capable of sufficiently accurately and accurately analyzing the surface state of the substrate of the optical recording medium. be able to. Also, the method for producing an optical recording medium of the present invention can sufficiently improve the yield of the optical recording medium product as compared with the conventional method.

以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものではない。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary, but the present invention is not limited to the following embodiments. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

まず本実施形態の光記録媒体試料の作製方法にかかる光記録媒体について説明する。本実施形態の光記録媒体試料の作製方法に用いられる光記録媒体は、特に限定されることはない。図1は、その光記録媒体としての光ディスク(DVD−RW)の一例を示す一部切欠斜視図である。また、図2は、図1に示したDVD−RWである光ディスク1の断面のRで表される部分領域の拡大斜視図である。   First, an optical recording medium according to the method for producing an optical recording medium sample of this embodiment will be described. The optical recording medium used in the method for producing the optical recording medium sample of the present embodiment is not particularly limited. FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an example of an optical disc (DVD-RW) as the optical recording medium. FIG. 2 is an enlarged perspective view of a partial region represented by R in the cross section of the optical disc 1 that is the DVD-RW shown in FIG.

図1に示す光ディスク1は、図2に示すように、記録に使用されるディスク20とダミー基板30とを接着剤からなる接着剤層40を介して貼り合わせることによって構成されている。そして、ディスク20は、基板22と、保護層28と、基板22と保護層28の間に配置される記録層24と、保護層28及び記録層24の間に配置される反射層26と基板22と記録層24との間に配置される誘電体層23から構成されている。言い換えると、基板22上に、誘電体層23と記録層24と反射層26と保護層28とをこの順番に基板22側から積層して構成されている。   As shown in FIG. 2, the optical disc 1 shown in FIG. 1 is configured by laminating a disc 20 used for recording and a dummy substrate 30 via an adhesive layer 40 made of an adhesive. The disk 20 includes a substrate 22, a protective layer 28, a recording layer 24 disposed between the substrate 22 and the protective layer 28, a reflective layer 26 disposed between the protective layer 28 and the recording layer 24, and the substrate. 22 and a dielectric layer 23 disposed between the recording layer 24 and the recording layer 24. In other words, the dielectric layer 23, the recording layer 24, the reflective layer 26, and the protective layer 28 are laminated on the substrate 22 in this order from the substrate 22 side.

基板22の構成材料は、上記各層を支持し、記録用の光及び再生用の光を透過し得る材料であれば特に限定されない。そのような構成材料としては、例えば、ガラス、或いは樹脂を用いることができる。これらのうち、成形の容易性の観点から樹脂が好ましく用いられる。   The constituent material of the substrate 22 is not particularly limited as long as it is a material that supports each of the above layers and can transmit recording light and reproducing light. As such a constituent material, for example, glass or resin can be used. Of these, a resin is preferably used from the viewpoint of ease of molding.

このような樹脂としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらのなかでも、加工性、光学特性などの点からポリカーボネート樹脂が好ましく用いられる。   Examples of such a resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, and urethane resin. Among these, polycarbonate resins are preferably used from the viewpoints of processability and optical characteristics.

この基板22の記録層24の形成される側の面には、情報を記録するために必要なトラッキングサーボ用のグルーブ(凹部)11及びランド(凸部)12が形成されており、この案内溝構造の形状、溝の深さ及びトラックピッチは、記録再生特性やサーボ信号特性などを含めた総合的な信号品質を考慮して最適化されている。   Grooves (concave portions) 11 and lands (convex portions) 12 for tracking information necessary for recording information are formed on the surface of the substrate 22 on which the recording layer 24 is formed. The shape of the structure, the depth of the groove, and the track pitch are optimized in consideration of the overall signal quality including recording / reproducing characteristics and servo signal characteristics.

誘電体層23は、記録層24を腐食等の劣化の原因から保護するための層である。この誘電体層23の構成材料としては、ZnS−SiO、SiCO若しくはCeO等の誘電体酸化物又は酸素を含む誘電体材料、あるいはSiN若しくはAlN等の誘電体窒化物などが用いられるが、良好な防水性若しくは適切な屈折率を得る観点より、ZnS−SiOが好ましく用いられる。なお誘電体層23はそれぞれ異なる構成材料からなる複数の層であってもよく、もしくは同じ構成材料であってその組成比が異なる複数の層であってもよい。 The dielectric layer 23 is a layer for protecting the recording layer 24 from causes of deterioration such as corrosion. As a constituent material of the dielectric layer 23, a dielectric oxide such as ZnS—SiO 2 , SiCO or CeO 2 or a dielectric material containing oxygen, or a dielectric nitride such as SiN or AlN is used. From the viewpoint of obtaining good waterproof properties or an appropriate refractive index, ZnS—SiO 2 is preferably used. The dielectric layer 23 may be a plurality of layers made of different constituent materials, or may be a plurality of layers having the same constituent material and different composition ratios.

次に、本実施形態の光記録媒体試料の作製方法に用いる光記録媒体試料の作製装置(以下、場合によって「作製装置」という。)について説明する。図3はその作製装置の概略斜視図である。この作製装置50は、滴下部材60と媒体保持部材70とを主要な構成とするものである。   Next, an optical recording medium sample manufacturing apparatus (hereinafter, referred to as “manufacturing apparatus” in some cases) used in the optical recording medium sample manufacturing method of the present embodiment will be described. FIG. 3 is a schematic perspective view of the manufacturing apparatus. The manufacturing apparatus 50 includes a dropping member 60 and a medium holding member 70 as main components.

滴下部材60は、容器部62とノズル部64とバルブ部66とを備える。容器部62は、その中に、光ディスク1の誘電体層23を溶解せずに基板22を選択的に溶解可能な液体を貯蔵するためのものである。また、ノズル部64は開口部を形成するものであるが、容器部62と通じており、容器部62から送出される上記液体を、その開口部から滴下する役割を果たすために設けられている。さらに、バルブ部66は、容器部62とノズル部64との間に設けられており、このバルブ部66を開閉することにより、液体の滴下を開始したり停止したりすることができ、また液体の滴下速度を調整する役割をも果たすものである。   The dropping member 60 includes a container part 62, a nozzle part 64, and a valve part 66. The container part 62 is for storing therein a liquid that can selectively dissolve the substrate 22 without dissolving the dielectric layer 23 of the optical disk 1. The nozzle portion 64 forms an opening, but communicates with the container portion 62 and is provided to play the role of dripping the liquid delivered from the container portion 62 from the opening. . Further, the valve portion 66 is provided between the container portion 62 and the nozzle portion 64. By opening and closing the valve portion 66, the dropping of the liquid can be started and stopped. It also plays a role of adjusting the dropping speed.

滴下部材60は、後述する媒体保持部材70に保持された光ディスク1上に液体を滴下するため、その光ディスク1より上側にノズル部64を位置させる必要がある。したがって、通常はスタンド80などにより、ノズル部64を光ディスク1より上側に配置できるよう保持されている。   The dropping member 60 drops the liquid onto the optical disk 1 held by the medium holding member 70 described later, and therefore it is necessary to position the nozzle portion 64 above the optical disk 1. Accordingly, the nozzle portion 64 is usually held by the stand 80 or the like so that it can be arranged above the optical disc 1.

媒体保持部材70は、支持台72と軸74と液回収部76とを備える。支持台72は、光ディスク1の露出面3を水平方向に対して所定角度傾けた状態(以下、「傾斜状態」という。)で支持するために設けられている。また、軸74は支持台72の上面から上方に延びるように設けられている。この軸74は、光ディスク1の中央開口部に通すことにより、傾斜状態で支持台72上に載せられた光ディスク1が、支持台72の上面で滑り落ちないようにするためのものである。さらに液回収部76は、滴下部材60から滴下された液体とその液体による溶解物を回収するために設けられている。そのため、支持台72の外周面と液回収部76の内周面との間には上記液体等を回収できるように隙間が設けられている。   The medium holding member 70 includes a support base 72, a shaft 74, and a liquid recovery unit 76. The support base 72 is provided to support the exposed surface 3 of the optical disc 1 in a state where it is inclined at a predetermined angle with respect to the horizontal direction (hereinafter referred to as “inclined state”). The shaft 74 is provided so as to extend upward from the upper surface of the support base 72. The shaft 74 is passed through the central opening of the optical disk 1 so that the optical disk 1 placed on the support base 72 in an inclined state does not slide down on the upper surface of the support base 72. Further, the liquid recovery unit 76 is provided for recovering the liquid dropped from the dropping member 60 and the lysate of the liquid. Therefore, a gap is provided between the outer peripheral surface of the support base 72 and the inner peripheral surface of the liquid recovery unit 76 so that the liquid or the like can be recovered.

滴下部材60と媒体保持部材70とは、滴下部材60から滴下された液体が光ディスク1の中央開口部周辺から半径方向外側に向かって流れ落ちるように配置されている。このように配置されることで、光ディスク1の基板22に形成された、リードイン領域(トラッキング領域)から記録領域(データ領域)を経てリードアウト領域に至るまでの各領域のグルーブ11、ランド12もしくは表面粗さなどの表面状態についての情報を一度に得ることができる傾向にある。このような観点から、滴下部材60からの液体が、傾斜状態にある光ディスク1の最も高い位置にある外周端部に滴下されるように滴下部材60と媒体保持部材70とが配置されてもよい。この場合、光ディスク1の基板22に形成された、リードアウト領域から記録領域を経てリードイン領域に至るまでの各領域の状態についての情報を得ることができる傾向にある。なお、図3は、光ディスク1を媒体保持部材70に配置し、且つ液体を滴下部材60に注入した状態を示している。   The dropping member 60 and the medium holding member 70 are arranged so that the liquid dropped from the dropping member 60 flows down from the periphery of the central opening of the optical disc 1 toward the outside in the radial direction. By being arranged in this way, grooves 11 and lands 12 in each area from the lead-in area (tracking area) through the recording area (data area) to the lead-out area formed on the substrate 22 of the optical disc 1. Alternatively, information on the surface condition such as surface roughness tends to be obtained at a time. From such a viewpoint, the drip member 60 and the medium holding member 70 may be arranged so that the liquid from the drip member 60 is dropped onto the outer peripheral end portion at the highest position of the inclined optical disc 1. . In this case, information on the state of each area from the lead-out area to the lead-in area formed on the substrate 22 of the optical disc 1 tends to be obtained. FIG. 3 shows a state in which the optical disc 1 is disposed on the medium holding member 70 and a liquid is injected into the dropping member 60.

次に本実施形態の光記録媒体試料の作製方法について説明する。本実施形態の光記録媒体試料の作製方法は、上述した作製装置50を用いて、例えば以下のようにして行われる。   Next, a method for producing the optical recording medium sample of this embodiment will be described. The optical recording medium sample manufacturing method of the present embodiment is performed as follows using the manufacturing apparatus 50 described above, for example.

まず、光ディスク1を準備する。この光ディスク1は本実施形態においてはDVD−RWであるが、CDもしくはDVDなどの再生専用光ディスク、CD−RもしくはDVD−Rなどの追記型光ディスク、CD−RWなどのその他の書換型光ディスク、又はBlu−rayなどの高密度記録用光ディスク、或いは光磁気ディスクであってもよい。   First, the optical disc 1 is prepared. The optical disk 1 is a DVD-RW in this embodiment, but is a read-only optical disk such as a CD or DVD, a write-once optical disk such as a CD-R or DVD-R, another rewritable optical disk such as a CD-RW, or It may be a high-density recording optical disk such as Blu-ray, or a magneto-optical disk.

続いて、準備した光ディスク1を、基板22を上側(滴下部材60のノズル部64側)に向けて、その中央開口部に軸74を通し支持台72上に設置することにより媒体保持部材70にセットする(光ディスク設置工程)。この際、支持台72の上面は水平方向に対し所定角度傾斜しているので、セットされた光ディスク1も傾斜した状態にある。   Subsequently, the prepared optical disk 1 is placed on the support 72 by passing the shaft 74 through the central opening thereof on the support base 72 with the substrate 22 facing upward (on the nozzle part 64 side of the dropping member 60). Set (optical disc installation process). At this time, since the upper surface of the support base 72 is inclined at a predetermined angle with respect to the horizontal direction, the set optical disc 1 is also inclined.

所定の傾斜角度は、後述する液体が光ディスク1上に滴下された後のその液体及びその液体により溶解された基板22の材料(以下、「基板材料」という。)の流れ落ち具合により決定されるが、その流れ落ち具合を調節するために適宜変更されてもよい。すなわち、その流れ落ち具合が過剰に速いと、滴下した液体の量に対する溶解した基板材料の量が少なくなる、すなわち基板材料の溶解効率が低下する傾向にある。また、流れ落ち具合が過剰に遅いと、時間がかかり過ぎる傾向にあると共に、基板22の溶解を所望していない部分まで溶解する傾向にある。この傾斜角度の調整は、後述する基板溶解工程の前に行ってもよいし、基板溶解工程中に行ってもよい。また、傾斜角度の調整は、上面の傾斜角度の異なる複数の媒体保持部材70を適宜選択・交換することにより行ってよく、媒体保持部材70が上面の傾斜角度を調節する機構を予め有していてその機構を利用して行ってもよい。   The predetermined inclination angle is determined by the flow-down condition of the liquid after the liquid described later is dropped onto the optical disc 1 and the material of the substrate 22 dissolved by the liquid (hereinafter referred to as “substrate material”). In order to adjust the flow drop state, it may be changed as appropriate. That is, when the flow-down condition is excessively fast, the amount of the dissolved substrate material with respect to the amount of the dropped liquid tends to decrease, that is, the dissolution efficiency of the substrate material tends to decrease. Further, if the flow-down state is excessively slow, it tends to take too much time and tends to dissolve up to a portion where the dissolution of the substrate 22 is not desired. The adjustment of the tilt angle may be performed before the substrate melting step described later, or may be performed during the substrate melting step. The inclination angle may be adjusted by appropriately selecting and exchanging a plurality of medium holding members 70 having different upper surface inclination angles. The medium holding member 70 has a mechanism for adjusting the upper surface inclination angle in advance. This mechanism may be used.

次に、滴下部材60の容器部62内に液体を適当量注入して準備する(液体準備工程)。この液体としては、光ディスク1の基板22を溶解できる一方で、光ディスク1の誘電体層23を溶解しないようなものが選択される。例えば、基板22の構成材料がポリカーボネート樹脂であり、誘電体層23の構成材料がZnS−SiOなどのSiOに酸素の遊離を防止する酸素ゲッターを添加したものである場合、ポリカーボネート樹脂を溶かさないアルコール、フッ素アルコール、石油系溶媒もしくはセロソルブ以外の有機溶媒であると好ましく、例えば、クロロホルム、THF、アセトン若しくはMEKなどが挙げられる。 Next, an appropriate amount of liquid is injected into the container portion 62 of the dropping member 60 to prepare (liquid preparation step). As this liquid, a liquid that can dissolve the substrate 22 of the optical disc 1 but does not dissolve the dielectric layer 23 of the optical disc 1 is selected. For example, the material of the substrate 22 is polycarbonate resin, when those components of the dielectric layer 23 is added oxygen getter for preventing the free oxygen in the SiO 2, such as ZnS-SiO 2, dissolve the polycarbonate resin Preferred alcohols, fluorine alcohols, petroleum solvents or organic solvents other than cellosolve, such as chloroform, THF, acetone or MEK.

これらのなかで、四塩化炭素を除く塩素系溶剤(クロロホルム、ジクロロメタンなど)を用いるとより好ましい。このような塩素系溶剤は、ポリカーボネート樹脂を比較的速やかに溶解し、しかも誘電体層23の表面形状の破壊を一層抑制することができる傾向にある。   Among these, it is more preferable to use a chlorinated solvent (chloroform, dichloromethane, etc.) excluding carbon tetrachloride. Such a chlorinated solvent tends to dissolve the polycarbonate resin relatively quickly and further suppress the destruction of the surface shape of the dielectric layer 23.

このような液体を用いると誘電体層23の表面形状の破壊を一層抑制することができる傾向にある要因は、現在のところ詳細には明らかにされていないが、本発明者らはその要因の一つを以下のように考えている。基板22の材料にポリカーボネート樹脂等の樹脂材料を用いた場合、その樹脂を比較的緩やかに溶解するような液体を選択すると、該液体はその基板22の樹脂を溶解すると共に膨潤させると考えられる。場合によっては、この樹脂の膨潤に起因して、誘電体層23が破壊されると考えられる。一方、基板22の樹脂材料を比較的速やかに溶解する液体を用いると、その樹脂の膨潤は発生し難くなるため、誘電体層の表面形状の破壊を一層抑制できる傾向にあると考えられる。但し、要因はこれに限定されない。   The factor that tends to further suppress the destruction of the surface shape of the dielectric layer 23 using such a liquid has not been clarified in detail at present, but the present inventors One is considered as follows. When a resin material such as polycarbonate resin is used as the material of the substrate 22, if a liquid that dissolves the resin relatively slowly is selected, the liquid is considered to dissolve and swell the resin of the substrate 22. In some cases, it is considered that the dielectric layer 23 is destroyed due to the swelling of the resin. On the other hand, when a liquid that dissolves the resin material of the substrate 22 relatively quickly is used, it is difficult for the resin to swell, and it is considered that the surface shape of the dielectric layer tends to be further prevented from being destroyed. However, the factor is not limited to this.

次いで、上述した液体を滴下部材60のノズル部64から光ディスク1の基板22に向けて滴下し、基板22を溶解することにより、誘電体層23の基板22との接触面を露出させる(基板溶解工程)。この際の液体の滴下速度は、バルブ部66を用いて、基板の溶解効率、時間及び溶解を所望する部分によって適宜調整することが可能であり、上述した媒体保持部材70の上面の傾斜角度の調整と共に行ってもよい。なお、滴下速度が大きくなると、液体は流下するようになるが、本明細書においては、その場合でも「滴下する」ということとする。   Next, the liquid described above is dropped from the nozzle portion 64 of the dropping member 60 toward the substrate 22 of the optical disc 1, and the substrate 22 is dissolved to expose the contact surface of the dielectric layer 23 with the substrate 22 (substrate dissolution). Process). The dropping speed of the liquid at this time can be appropriately adjusted by using the valve portion 66 according to the substrate melting efficiency, time, and the portion desired to be dissolved, and the inclination angle of the upper surface of the medium holding member 70 described above can be adjusted. You may carry out with adjustment. Note that when the dropping speed increases, the liquid flows down, but in this specification, it is assumed that the liquid is “dropped” even in that case.

また、液体を滴下する光ディスク1上の位置(以下、「滴下位置」という。)は、光ディスク1の基板22を溶解できる位置であれば特に限定されることはないが、滴下部材60から滴下された液体が光ディスク1の中央開口部周辺に滴下されると好ましい。その中央開口部周辺に滴下された液体は、そこから半径方向外側に向かって流れ落ちていくので、基板22のリードイン領域から記録領域を経てリードアウト領域に至るまでの各領域に相当する部分を一度に溶解することができる傾向にある。これにより、それらの領域の基板の表面状態の情報を一度に得ることができる傾向にある。   Further, the position on the optical disc 1 where the liquid is dropped (hereinafter referred to as “dropping position”) is not particularly limited as long as it can dissolve the substrate 22 of the optical disc 1, but is dropped from the dropping member 60. The liquid is preferably dropped around the central opening of the optical disc 1. Since the liquid dropped around the central opening flows down radially outward from the central opening, portions corresponding to the respective areas from the lead-in area of the substrate 22 through the recording area to the lead-out area are formed. There is a tendency to dissolve at once. Thereby, it exists in the tendency which can obtain the information of the surface state of the board | substrate of those area | regions at once.

同様の観点から、滴下部材60からの液体が、傾斜状態にある光ディスク1の最も高い位置にある外周端部に滴下されると好ましい。この部分に滴下された液体は、その外周端部周辺のリードアウト領域から記録領域を経てリードイン領域に至るまでの各領域に相当する基板22の部分を一度に溶解することができる傾向にある。   From the same point of view, it is preferable that the liquid from the dropping member 60 is dropped on the outer peripheral end portion at the highest position of the optical disc 1 in the inclined state. The liquid dropped on this portion tends to dissolve the portion of the substrate 22 corresponding to each region from the lead-out region around the outer peripheral end portion to the lead-in region through the recording region at a time. .

さらに、この基板溶解工程においては、基板22の一部分のみを溶解するように液体を滴下すると好ましい。基板22を全て溶解すると基板溶解工程に要する時間が長くなる傾向にある。また、基板を完全に溶解除去することにより得られる光記録媒体試料は柔軟性を有し形状が変化しやすいため、取り扱いが困難になる傾向にあり、しかも誘電体層23の表面形状等を分析するには適さない傾向にある。このような観点及び必要な情報を得る観点から、基板面積の1/3を超えない部分を溶解するように液体を滴下するとより好ましい。ただし、試料の保持方法などの条件によってはこの面積を超えて基板を溶解してもよい。   Further, in this substrate dissolving step, it is preferable to drop the liquid so that only a part of the substrate 22 is dissolved. When all the substrates 22 are melted, the time required for the substrate melting process tends to be longer. In addition, since the optical recording medium sample obtained by completely dissolving and removing the substrate is flexible and easily changes in shape, it tends to be difficult to handle, and the surface shape of the dielectric layer 23 is analyzed. It tends not to be suitable. From such a viewpoint and the viewpoint of obtaining necessary information, it is more preferable to drop the liquid so as to dissolve a portion not exceeding 1/3 of the substrate area. However, depending on conditions such as a sample holding method, the substrate may be dissolved beyond this area.

また、液体を滴下する際には、滴下位置を略同じ位置にしたまま基板溶解工程を行うと好ましい。これにより、基板溶解工程の手間をより省略できる傾向にある。しかも、光ディスク1を傾けた状態で、滴下位置を光ディスクの中央開口部周辺もしくは上述した最も高い位置にある外周端部の略同じ位置に滴下すると、手間を省略しつつ、特に必要な情報を得ることができる傾向にあるのでより好ましい。   In addition, when the liquid is dropped, it is preferable to perform the substrate melting step while keeping the dropping position at substantially the same position. Thereby, it exists in the tendency which can omit the effort of a board | substrate melt | dissolution process more. Moreover, when the optical disc 1 is tilted, if the dropping position is dropped around the central opening of the optical disc or substantially the same position at the outer peripheral end portion at the highest position described above, particularly necessary information can be obtained while omitting trouble. This is more preferable.

さらには、上述したように光ディスク1を傾斜させ、液体の滴下位置を光ディスク1の中央開口部周辺もしくは最も高い位置にある外周端部の略同じ位置とすると、基板22のごく一部の半径方向の領域のみを選択的に溶解することができる傾向にある。したがって、手間を省略しつつ、特に必要な情報を得ることができ、しかも、誘電体層23の表面形状を維持することができる傾向にあるので、特に好ましい。   Further, as described above, when the optical disk 1 is tilted and the liquid dropping position is set to substantially the same position in the periphery of the central opening of the optical disk 1 or the outermost end at the highest position, only a small part of the substrate 22 in the radial direction It tends to be able to selectively dissolve only this region. Accordingly, particularly necessary information can be obtained while saving time and the surface shape of the dielectric layer 23 tends to be maintained, which is particularly preferable.

そして、必要に応じて、基板22を溶解除去された光ディスク1をエタノールなどを用いて洗浄することにより、光記録媒体試料としての光ディスク試料が得られる。   If necessary, the optical disk 1 from which the substrate 22 has been dissolved and removed is washed with ethanol or the like to obtain an optical disk sample as an optical recording medium sample.

以上説明した本実施形態の光記録媒体試料の作製方法によると、基板22が八日以上挙されたにもかかわらず、後に行われる各種の分析により、光ディスク1の基板22の表面状態を十分に正確に且つ精度よく分析できる。その要因は現在のところ明らかにされていないが、本発明者らはその要因の1つとして以下のように考えている。ただし要因はこれに限定されない。   According to the method for producing an optical recording medium sample of the present embodiment described above, the surface state of the substrate 22 of the optical disk 1 is sufficiently determined by various analyzes performed later, even though the substrate 22 is raised for eight days or more. Analyzes accurately and accurately. Although the factor is not clarified at present, the present inventors consider the following as one of the factors. However, the factor is not limited to this.

すなわち、上述したような光ディスク1において、基板22の誘電体層23側の表面を直接分析するには、基板22の上記表面の分析すべき部分を完全に露出させる必要がある。しかしながら、従来の方法によって基板22の表面上に設けられた誘電体層23を除去しようとすると、その誘電体層23は強酸を用いても完全に溶解除去することが困難であり、粘着テープを用いた剥離除去もしくはエッチングによっても除去することが困難であるため、結果として、その一部が基板22の表面の分析すべき部分に残存してしまう。基板22表面のグルーブ、ランドもしくは粗さは数nmから数μmオーダーの凹凸を形成しており、僅かでも誘電体層23が基板22の表面上に残存していると、その表面の状態を十分正確に且つ精度よく分析することができないと考えられる。   That is, in the optical disc 1 as described above, in order to directly analyze the surface of the substrate 22 on the dielectric layer 23 side, it is necessary to completely expose the portion of the substrate 22 to be analyzed. However, if the dielectric layer 23 provided on the surface of the substrate 22 is to be removed by a conventional method, it is difficult to completely dissolve and remove the dielectric layer 23 using a strong acid. Since it is difficult to remove even by peeling or etching used, a part thereof remains on the surface of the substrate 22 to be analyzed. Grooves, lands, or roughness on the surface of the substrate 22 form irregularities on the order of several nanometers to several micrometers, and if the dielectric layer 23 remains on the surface of the substrate 22, the surface state is sufficient. It is considered that the analysis cannot be performed accurately and accurately.

一方、本実施形態の光記録媒体試料の作製方法を用いると、得られる光ディスク試料は、誘電体層23の基板22との接触面を露出させた状態にある。光ディスク1の基板22は再生用の光もしくは記録用の光を透過させる必要があり、そのような基板22の構成材料は誘電体層23に用いられる材料と比較して容易に溶解除去できる材料であるので、誘電体層23の基板22との接触面の分析すべき部分に基板材料が残存することはない。   On the other hand, when the method for producing an optical recording medium sample of this embodiment is used, the obtained optical disk sample is in a state where the contact surface of the dielectric layer 23 with the substrate 22 is exposed. The substrate 22 of the optical disc 1 needs to transmit light for reproduction or light for recording, and the constituent material of such a substrate 22 is a material that can be easily dissolved and removed as compared with the material used for the dielectric layer 23. Therefore, the substrate material does not remain in the portion to be analyzed of the contact surface of the dielectric layer 23 with the substrate 22.

しかも、誘電体層23の基板22との接触面が、その基板22の誘電体層側表面のグルーブ、ランドもしくは表面粗さなどのプロファイルを十分に正確に且つ精度よく転写していることが判明した。これにより、基板22の表面の形状を直接分析しなくても、誘電体層23の表面を分析することにより、基板22の表面の状態を有効に把握することができる。   In addition, it has been found that the contact surface of the dielectric layer 23 with the substrate 22 transfers a profile such as a groove, land or surface roughness on the dielectric layer side surface of the substrate 22 with sufficient accuracy and accuracy. did. As a result, the state of the surface of the substrate 22 can be effectively grasped by analyzing the surface of the dielectric layer 23 without directly analyzing the shape of the surface of the substrate 22.

また、従来の光記録媒体試料の作製方法においては、基板22上に形成された誘電体層23初めとする複数の層を除去する必要があった。さらに、それらの各層は、層を構成する材料によって適した除去手段を採用する必要があり、さらには同じ除去手段であっても、その手段に用いる装置の条件もしくはその方法に用いる液体の種類などを適宜変更する必要があった。さらには、誘電体層23のように比較的溶解することが困難な材料を用いた層は、フッ酸などの強酸を用いなければ溶解できないため、その取り扱いに注意する必要があった。   Further, in the conventional method for producing an optical recording medium sample, it is necessary to remove a plurality of layers including the dielectric layer 23 formed on the substrate 22. Furthermore, it is necessary for each of these layers to adopt a removal means suitable for the material constituting the layer, and even if the same removal means is used, the conditions of the apparatus used for the means or the type of liquid used for the method, etc. It was necessary to change appropriately. Furthermore, a layer using a material that is relatively difficult to dissolve, such as the dielectric layer 23, cannot be dissolved unless a strong acid such as hydrofluoric acid is used.

一方、本発明の光記録媒体試料の作製方法においては、基板22のみを除去すればよいため、従来の方法と比較して、時間、労力およびコストを低減させることができる傾向にある。さらには、基板22の構成材料は、誘電体層23等と比較して溶解除去しやすいため、液体の取り扱いに際しては、従来の方法ほど注意を要しない。   On the other hand, in the method for producing an optical recording medium sample of the present invention, since only the substrate 22 has to be removed, there is a tendency that time, labor and cost can be reduced as compared with the conventional method. Furthermore, since the constituent material of the substrate 22 is easier to dissolve and remove than the dielectric layer 23 and the like, the handling of the liquid does not require as much care as the conventional method.

本実施形態においては、光ディスク1の基板22の構成材料が、ポリカーボネート樹脂であり、しかも、光ディスク1が誘電体層23を備えているが、本発明の光記録媒体試料の作製方法は、この組み合わせに限定されるものではない。例えば、光ディスク1が、基板22の構成材料をポリカーボネート樹脂以外の材料とし、誘電体層23の代わりに誘電体以外の材料からなる機能層を備えている場合であっても、そのような機能層を溶解せずに、基板22を選択的に溶解できる溶媒(液体)を選択することによって、本発明の光記録媒体試料の作製方法を行うことができる。   In the present embodiment, the constituent material of the substrate 22 of the optical disk 1 is polycarbonate resin, and the optical disk 1 includes the dielectric layer 23. The method for producing the optical recording medium sample of the present invention is based on this combination. It is not limited to. For example, even if the optical disk 1 is a material other than polycarbonate resin as a constituent material of the substrate 22 and includes a functional layer made of a material other than a dielectric instead of the dielectric layer 23, such a functional layer is used. By selecting a solvent (liquid) that can selectively dissolve the substrate 22 without dissolving the substrate 22, the method for producing an optical recording medium sample of the present invention can be performed.

そのような光ディスク1としては、例えば高密度記録用の光記録媒体として検討されているBlu−rayディスクなどが挙げられる。このBlu−rayディスクのうち、追記型Blu−rayディスク媒体は、基板22の構成材料として、ポリカーボネート樹脂の他、例えばアモルファスポリオレフィン、ポリ乳酸アクリルなどが用いられる。また機能層としては、例えば、Ag−In−Sb−Te−Ge系膜、Tb−Sb−Te−Ge系膜若しくはTe−O−Pb系膜などの記録層、又はAg合金などの反射層が設けられている。基板22の構成材料にポリ乳酸アクリルを用い、機能層としてAg−In−Sb−Te−Be系膜である記録層を備えた追記型Blu−rayディスク媒体試料の上記記録層表面を観察するための試料を作製する場合、例えば、水酸化ナトリウム水溶液のようなアルカリ性溶液を用いて基板を溶解し、記録層表面を露出させることにより、光記録媒体試料を得ることができる。   Examples of such an optical disk 1 include a Blu-ray disk that is being studied as an optical recording medium for high-density recording. Among the Blu-ray discs, the write-once Blu-ray disc medium uses, for example, amorphous polyolefin, polylactic acid acrylic, etc. as a constituent material of the substrate 22 in addition to the polycarbonate resin. As the functional layer, for example, a recording layer such as an Ag—In—Sb—Te—Ge film, a Tb—Sb—Te—Ge film, or a Te—O—Pb film, or a reflective layer such as an Ag alloy is used. Is provided. In order to observe the recording layer surface of a write-once Blu-ray disc medium sample using polylactic acid acrylic as a constituent material of the substrate 22 and having a recording layer which is an Ag-In-Sb-Te-Be-based film as a functional layer For example, an optical recording medium sample can be obtained by dissolving the substrate using an alkaline solution such as an aqueous sodium hydroxide solution to expose the surface of the recording layer.

次に本実施形態の光記録媒体の分析方法について説明する。この分析方法は、上述した光ディスク試料を作製した後に、得られた光ディスク試料を原子間力顕微鏡観察法(Atomic-Force Microscopy;AFM法)及び/又は走査型電子顕微鏡観察法(Scanning Electron Microscopy;SEM法)を用いて分析する工程(分析工程)を行うものである。   Next, a method for analyzing the optical recording medium of this embodiment will be described. In this analysis method, after the above-described optical disc sample is prepared, the obtained optical disc sample is subjected to atomic force microscopy (AFM) and / or scanning electron microscopy (SEM). (Analysis process) is performed using the method.

AFM法では、上記作製方法により得られた光ディスク試料の誘電体層23の露出した基板22との接触面(露出面)を、直接、従来の原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察する。このAFM法は、観察対象である誘電体層23表面の垂直方向と面内方向の3次元の原子的分解能を有し、絶縁体、特に表面が酸化された状態の絶縁体表面を比較的高い分解能により観察することができるので、誘電体層23の表面形状に関する情報をnmオーダーで精度よく得ることが可能となる。   In the AFM method, the contact surface (exposed surface) of the optical disk sample obtained by the above production method with the exposed substrate 22 of the dielectric layer 23 is directly observed using a conventional atomic force microscope (AFM). This AFM method has a three-dimensional atomic resolution in the vertical direction and in-plane direction of the surface of the dielectric layer 23 to be observed, and a relatively high surface of an insulator, particularly an oxidized surface of the surface. Since it can be observed with resolution, it is possible to obtain information on the surface shape of the dielectric layer 23 with accuracy in the order of nm.

SEM法では、上記作製方法により得られた光ディスク試料の誘電体層23の露出面上に、必要に応じて金属等の導電体を蒸着などの方法により付与した後、従来の走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察する。このSEM法を用いると、比較的容易に誘電体層23の表面形状を3次元的に観察することができ、上述したAFM法よりも高いオーダー(μm〜mmオーダー)の表面形状をも観察することができる。なお、場合によっては、誘電体層23の上記露出面上に導電体を付与しなくとも、比較的低い加速電圧で電子線を照射したり、若しくは可能な限り微小な電流を用いることにより、その露出面を観察することができる。   In the SEM method, a conductive material such as a metal is provided on the exposed surface of the dielectric layer 23 of the optical disk sample obtained by the above-described production method by a method such as vapor deposition as necessary, and then a conventional scanning electron microscope ( Observation using SEM. When this SEM method is used, the surface shape of the dielectric layer 23 can be observed three-dimensionally relatively easily, and the surface shape of higher order (μm to mm order) than the above-described AFM method is also observed. be able to. In some cases, even if a conductor is not provided on the exposed surface of the dielectric layer 23, the electron beam is irradiated with a relatively low acceleration voltage or a current as small as possible is used. The exposed surface can be observed.

これらのAFM法及びSEM法を組み合わせて用いることにより、特に、より広範な範囲の誘電体層23の表面形状に関する情報を得ることができる。AFM法及びSEM法を組み合わせて表面形状を評価する場合は、例えば、寸法及び寸法公差が明らかな微細形状を有する標準試料をAFM法及びSEM法によってそれぞれ観察し、微細形状の寸法を測定し、その結果を比較することによって測定方法の相違から生ずる測定誤差を相殺することが可能となる。上記標準試料としては、例えば、Si基板にフォトリソグラフィ技術によって矩形のパターンを形成したAFM装置用の標準試料等を用いることができる。   By using these AFM method and SEM method in combination, information on the surface shape of the dielectric layer 23 in a wider range can be obtained. When the surface shape is evaluated by combining the AFM method and the SEM method, for example, a standard sample having a fine shape with clear dimensions and dimensional tolerances is observed by the AFM method and the SEM method, respectively, and the size of the fine shape is measured. By comparing the results, it is possible to cancel measurement errors resulting from differences in measurement methods. As the standard sample, for example, a standard sample for an AFM apparatus in which a rectangular pattern is formed on a Si substrate by a photolithography technique can be used.

以上、本実施形態の光記録媒体試料の作製装置、光記録媒体試料の作製方法及び光記録媒体試料の分析方法について説明したが、本発明の光記録媒体試料の作製装置、光記録媒体試料の作製方法及び光記録媒体試料の分析方法はこれらに限定されるものではない。   The optical recording medium sample manufacturing apparatus, the optical recording medium sample manufacturing method, and the optical recording medium sample analysis method of the present embodiment have been described above. The optical recording medium sample manufacturing apparatus of the present invention, the optical recording medium sample The production method and the analysis method of the optical recording medium sample are not limited to these.

例えば、別の実施形態の光記録媒体試料の作製方法において、光記録媒体の誘電体を溶解せずに基板を選択的に溶解可能な液体を噴射して、光記録媒体に吹き付けることにより基板を溶解してもよい。この作製方法では、光記録媒体試料の作製装置として、またはその作製装置が備える部材として、ディスペンサー等の従来の液体噴射装置を用いることができる。この場合、光記録媒体の液体を吹き付けられる面が垂直方向に平行になるように配置されても、或いは、その面が重力方向に向いた状態で配置されても、基板を溶解することができる。   For example, in another method of manufacturing an optical recording medium sample according to another embodiment, a liquid that can selectively dissolve the substrate without dissolving the dielectric of the optical recording medium is sprayed and sprayed onto the optical recording medium to It may be dissolved. In this manufacturing method, a conventional liquid ejecting apparatus such as a dispenser can be used as an optical recording medium sample manufacturing apparatus or as a member included in the manufacturing apparatus. In this case, the substrate can be dissolved even if the surface of the optical recording medium on which the liquid is sprayed is arranged so as to be parallel to the vertical direction, or even if the surface is arranged in the direction of gravity. .

さらに別の実施形態の光記録媒体試料の作製方法において、基板の誘電体層側と反対側の面上にハードコートが施されている場合、そのハードコート部分を紙ヤスリによる研磨除去等により取り除いた後に、基板に液体を接触させることも可能である。   In a method for preparing an optical recording medium sample according to another embodiment, when a hard coat is applied on the surface opposite to the dielectric layer side of the substrate, the hard coat portion is removed by polishing with a paper file. After that, it is also possible to bring the liquid into contact with the substrate.

また、別の実施形態の光記録媒体試料の分析方法において、上述したAFM法及びSEM法以外の固体表面形状の観察方法、例えば通常の光学顕微鏡観察法、レーザー顕微鏡観察法、透過型電子顕微鏡(TEM)観察法もしくはエネルギー分散分光法(EDS)などを用いることもできる。   Further, in the method for analyzing an optical recording medium sample according to another embodiment, a solid surface shape observation method other than the AFM method and SEM method described above, for example, a normal optical microscope observation method, a laser microscope observation method, a transmission electron microscope ( (TEM) observation method or energy dispersive spectroscopy (EDS) can also be used.

さらに、別の実施形態の光記録媒体試料の分析方法において、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR)、ラマン分光法等の通常大気圧条件下で行われる分析手段を用いてもよく、オージェ電子分光法(AES)、二次イオン質量分析法(SIMS)等の通常減圧条件下で行われる分析手段を用いてもよい。これらの分析手段を用いることにより、誘電体層の露出面付近の化学組成に関する情報を得ることが可能となる。   Furthermore, in the method for analyzing an optical recording medium sample according to another embodiment, an analysis means that is normally performed under atmospheric pressure conditions such as Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) or Raman spectroscopy may be used. Analytical means usually performed under reduced pressure conditions such as electron spectroscopy (AES) and secondary ion mass spectrometry (SIMS) may be used. By using these analysis means, it is possible to obtain information on the chemical composition near the exposed surface of the dielectric layer.

また、X線回折法(XRD)により誘電体層の固体構造に関する情報を得ることができ、蛍光X線分析法(XRF)により誘電体層の組成に関する情報を得ることができる。さらに、X線光電子分光法(XPS)もしくは紫外光電子分光法(UPS)により、誘電体層の露出面の原子の結合状態に関する情報を得ることができる。   Information on the solid structure of the dielectric layer can be obtained by X-ray diffraction (XRD), and information on the composition of the dielectric layer can be obtained by fluorescent X-ray analysis (XRF). Furthermore, information on the bonding state of atoms on the exposed surface of the dielectric layer can be obtained by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) or ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS).

さらに、上記作製方法により露出した誘電体層の表面から試料を採取し、その試料を酸、アルカリもしくは有機溶媒により抽出し、或いは、その表面から誘電体材料を直接抽出し、得られた抽出物を誘導結合プラズマ(ICP)を用いた分析手段、イオンクロマトグラフィー(IC)、液体クロマトグラフィー(LC)もしくはガスクロマトグラフィー(GC)等を用いて分析することもできる。   Further, a sample is taken from the surface of the dielectric layer exposed by the above production method, and the sample is extracted with an acid, alkali or organic solvent, or the dielectric material is directly extracted from the surface, and the resulting extract is obtained. Can also be analyzed using analysis means using inductively coupled plasma (ICP), ion chromatography (IC), liquid chromatography (LC), gas chromatography (GC), or the like.

上述した各分析手段は、1種を単独で用いてもよく、或いは2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、スパッタ法等との組み合わせにより、光記録媒体の厚さ方向における化学組成もしくは原子の結合状態等に関する情報を得ることも可能である。この場合、本発明の作製方法により得られる光記録媒体試料は、絶縁体である基板を分析当初から除去しているため、AESなどを用いても、絶縁体の帯電に伴うスペクトルピークのシフト、強度の減少もしくはブロードニング又はゴーストピークの発生を抑制することができる傾向にある。   Each analysis means mentioned above may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type. In addition, it is possible to obtain information on the chemical composition or the atomic bonding state in the thickness direction of the optical recording medium by combining with a sputtering method or the like. In this case, since the optical recording medium sample obtained by the manufacturing method of the present invention has removed the substrate that is an insulator from the beginning of analysis, even if AES or the like is used, the shift of the spectrum peak accompanying charging of the insulator, There is a tendency that the decrease in intensity or the occurrence of broadening or ghost peaks can be suppressed.

また、上述した各種分析方法及び作製装置は、光ディスクの製造方法において用いられ得る。例えば、一群(1ロット)の光ディスクを製造した後、その一部の光ディスクを任意に抽出し、抽出した光ディスクから上記作製装置を用いて光ディスク試料を作製する。そして、その光ディスク試料を分析することにより、その一群の光ディスクが不良品でないか否かを判断することが可能となる。また、一群の光ディスクを上述した分析方法により検査し、不良品と判断された光ディスクを取り除き、良品の光ディスクのみを次工程に送ることができる。さらに、不良品と判断された光ディスクの製造条件の問題点を特定し、この問題点に基づいて光ディスクの製造工程を改善することもできる。このような光ディスクの製造方法は、不良品を製造した場合の原因調査等に有効な手段となり、光ディスク製品の歩留を高く維持することに寄与できるものである。したがって、上述した光ディスクの製造方法において、上述した作製装置を用いることは、不良品を製造した場合の原因調査等に有効な手段となり、光ディスク製品の歩留を高く維持することに寄与できるものである。   Moreover, the various analysis methods and production apparatuses described above can be used in a method of manufacturing an optical disc. For example, after manufacturing a group (one lot) of optical disks, a part of the optical disks is arbitrarily extracted, and an optical disk sample is manufactured from the extracted optical disks using the above-described manufacturing apparatus. Then, by analyzing the optical disk sample, it is possible to determine whether the group of optical disks is not defective. In addition, a group of optical disks can be inspected by the above-described analysis method, optical disks determined to be defective can be removed, and only good optical disks can be sent to the next process. Further, it is possible to identify a problem in the manufacturing conditions of the optical disk determined to be a defective product, and to improve the manufacturing process of the optical disk based on this problem. Such an optical disk manufacturing method is an effective means for investigating the cause when a defective product is manufactured, and can contribute to maintaining a high yield of the optical disk product. Therefore, in the above-described optical disc manufacturing method, using the above-described manufacturing apparatus is an effective means for investigating the cause when a defective product is manufactured, and can contribute to maintaining a high yield of optical disc products. is there.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

(DVD−RW用基板の分析)
まず、通常のDVD−RW用のポリカーボネート樹脂製基板(以下、「PC基板」という。)の表面形状をAFM法により観察した。その観察結果の画像を図4に示す。グルーブ(黒色もしくはそれに近い部分)及びランド(白色もしくはそれに近い部分)が溝状を形成していることが確認された。
(Analysis of DVD-RW substrate)
First, the surface shape of an ordinary polycarbonate resin substrate for DVD-RW (hereinafter referred to as “PC substrate”) was observed by the AFM method. An image of the observation result is shown in FIG. It was confirmed that the groove (black or a portion close thereto) and the land (white or a portion close thereto) formed a groove shape.

併せて、AFM法を用いて、そのPC基板表面のグルーブの深さ(グルーブ深さ)を測定した。AFMのプローブの走査方向を図4のX方向にして得られた基板表面の起伏状態を示すプロファイルを図8に示す。その結果、グルーブ深さは36nmであった。また、そのグルーブの深さ方向の中間地点におけるグルーブの幅(以下、「グルーブ半値幅」という。)を測定したところ、225nmであった。   In addition, the groove depth (groove depth) on the surface of the PC substrate was measured using the AFM method. FIG. 8 shows a profile showing the undulation state of the substrate surface obtained by setting the scanning direction of the AFM probe to the X direction in FIG. As a result, the groove depth was 36 nm. Further, the groove width (hereinafter referred to as “groove half-value width”) at an intermediate point in the depth direction of the groove was measured and found to be 225 nm.

(DVD−RWの作製)
次に、上記PC基板と同様の基板を用いて、通常の光ディスクの製造方法により、DVD−RWのディスク媒体(以下、「光ディスク」という。)を得た。すなわち、該基板上に、ZnS−SiO(ZnS/SiO=80/20、質量比)を構成材料とする誘電体層1(厚さ72nm)、ZnS−SiO(ZnS/SiO=50/50、質量比)を構成材料とする誘電体層2(厚さ5nm)、AGIST(Ag−Ge−In−Sb−Te)を構成材料とする記録層(厚さ19nm)、ZnS−SiO(ZnS/SiO=50/50、質量比)を構成材料とする誘電体層3(厚さ21nm)、Al−Crを構成材料とする反射層(厚さ140nm)を順に積層し、更にその上に接着剤層を介して、ダミー基板(厚さ0.6mm)を形成し、その上にDPHAなどの多官能アクリレート等を配合した紫外線硬化樹脂を用いて、スピンコート法によりトップコート層(TC)を形成することにより光ディスクを得た。
(Production of DVD-RW)
Next, a DVD-RW disk medium (hereinafter referred to as “optical disk”) was obtained by a normal optical disk manufacturing method using a substrate similar to the PC substrate. That is, on the substrate, a dielectric layer 1 (thickness 72 nm) having ZnS—SiO 2 (ZnS / SiO 2 = 80/20, mass ratio) as a constituent material, ZnS—SiO 2 (ZnS / SiO 2 = 50). / 50, mass ratio) as a constituent material, dielectric layer 2 (thickness 5 nm), AGIST (Ag—Ge—In—Sb—Te) as a constituent material, recording layer (thickness 19 nm), ZnS—SiO 2 A dielectric layer 3 (thickness: 21 nm) comprising (ZnS / SiO 2 = 50/50, mass ratio) as a constituent material and a reflective layer (thickness: 140 nm) comprising Al—Cr as a constituent material are sequentially laminated, and further A dummy substrate (thickness: 0.6 mm) is formed on the adhesive layer on the top layer, and a top coat layer (spin coat method) is formed by using a UV curable resin blended with a polyfunctional acrylate such as DPHA. TC) To obtain an optical disk by Rukoto.

(実施例1)
まず、上記光ディスクを、図3に示す光記録媒体試料の作製装置における媒体保持部材70の支持台72上に、基板が滴下部材60側に対向するように配置した。なお、滴下部材として分液ロートを用いた。
(Example 1)
First, the optical disk was placed on the support 72 of the medium holding member 70 in the optical recording medium sample manufacturing apparatus shown in FIG. 3 so that the substrate faces the dropping member 60 side. A separatory funnel was used as the dropping member.

次いで、液体としてクロロホルムを、バルブ部66が閉止状態にある滴下部材60の容器部62内に適当量注入した。   Next, an appropriate amount of chloroform was injected as a liquid into the container portion 62 of the dropping member 60 with the valve portion 66 closed.

続いて、滴下速度が1〜4滴/秒となるようにバルブ部66を開放し、光ディスクの中央開口部周辺に向けたクロロホルムの滴下を開始した。なおクロロホルムの滴下中は滴下する位置を変化させなかった。滴下中は、光ディスクの滴下位置から半径方向外側に向かって、徐々に基板が溶解されていくことを確認した。   Subsequently, the valve portion 66 was opened so that the dropping speed was 1 to 4 drops / second, and dropping of chloroform toward the periphery of the central opening of the optical disk was started. During dropping of chloroform, the dropping position was not changed. During dropping, it was confirmed that the substrate was gradually dissolved from the dropping position of the optical disk toward the outside in the radial direction.

そして、基板が光ディスクの外周端部まで溶解し、誘電体層の基板との接触面が露出したところで、クロロホルムの滴下を終了して実施例1の光ディスク試料を得た。   And when the board | substrate melt | dissolved to the outer peripheral edge part of the optical disk, and the contact surface with the board | substrate of a dielectric material layer was exposed, dropping of chloroform was complete | finished and the optical disk sample of Example 1 was obtained.

この実施例1の光ディスク試料の誘電体層の露出した基板との接触面(露出面)を、AFMを用いて観察した。その観察結果の画像を図5に示す。凸領域(白色もしくはそれに近い部分)、すなわち基板のグルーブと接触していた部分、及び、凹領域(黒色もしくはそれに近い部分)、すなわち基板のランドと接触していた部分が確認された。   The contact surface (exposed surface) of the optical disk sample of Example 1 with the exposed substrate of the dielectric layer was observed using an AFM. An image of the observation result is shown in FIG. A convex region (white or a portion close to it), that is, a portion in contact with the groove of the substrate, and a concave region (black or a portion close to it), that is, a portion in contact with the land of the substrate were confirmed.

併せて、AFM法を用いて、その誘電体層の露出面の凸領域の高さ(以下、「凸領域高さ」という。)を測定したところ(プロファイルを図9に示す。)、その値が39nmであった。また、そのランドの高さ方向の中間地点における凸領域の幅(以下、「凸領域半値幅」という。)を測定したところ、228nmであった。この誘電体層における凸領域高さは基板における凹領域深さに相当し、誘電体層における凸領域半値幅は基板における凹領域半値幅に相当する。   In addition, when the height of the convex region of the exposed surface of the dielectric layer (hereinafter referred to as “convex region height”) was measured using the AFM method (profile is shown in FIG. 9), the value was measured. Was 39 nm. Further, the width of the convex region at the intermediate point in the height direction of the land (hereinafter referred to as “convex region half-value width”) was measured to be 228 nm. The height of the convex area in the dielectric layer corresponds to the depth of the concave area in the substrate, and the half width of the convex area in the dielectric layer corresponds to the half width of the concave area in the substrate.

(比較例1)
まず、上記光ディスクの接着剤層にカッターナイフを用いて切れ目を入れ、その部分から剥離することにより、ダミー基板を分離した。続いて、PC基板側の剥離により露出した面に粘着テープを貼付した後、その粘着テープを引っ張り上げることにより、さらに積層の一部を剥離して比較例1の光ディスク試料を得た。この剥離により露出した面には、誘電体層3及び記録層が残存していることが目視により確認された。
(Comparative Example 1)
First, a cut was made in the adhesive layer of the optical disk using a cutter knife, and the dummy substrate was separated by peeling from the portion. Subsequently, an adhesive tape was applied to the surface exposed by peeling on the PC substrate side, and then the adhesive tape was pulled up to further peel off a part of the laminate to obtain an optical disk sample of Comparative Example 1. It was visually confirmed that the dielectric layer 3 and the recording layer remained on the surface exposed by the peeling.

この比較例1の光ディスク試料の剥離により露出した面を、SEMを用いて観察した。その観察結果の画像を図6に示す。   The surface exposed by peeling off the optical disk sample of Comparative Example 1 was observed using an SEM. An image of the observation result is shown in FIG.

併せて、SEM法を用いて、その光ディスク試料の露出面の凸領域高さを測定したところ、その値が22nmであった。また、その凸領域半値幅を測定したところ、240nmであった。   In addition, when the height of the convex region of the exposed surface of the optical disk sample was measured using the SEM method, the value was 22 nm. Moreover, it was 240 nm when the half value width of the convex area | region was measured.

(比較例2)
まず、上記光ディスクの接着剤層にカッターナイフを用いて切れ目を入れ、その部分から剥離することにより、ダミー基板を分離した。続いて、PC基板側の剥離により露出した面に粘着テープを貼付した後、その粘着テープを引っ張り上げることにより、さらに積層の一部を剥離した。この剥離により露出した面には、誘電体層3及び記録層が残存していることが目視により確認された。
(Comparative Example 2)
First, a cut was made in the adhesive layer of the optical disk using a cutter knife, and the dummy substrate was separated by peeling from the portion. Then, after sticking an adhesive tape on the surface exposed by peeling on the PC substrate side, a part of the laminate was further peeled by pulling up the adhesive tape. It was visually confirmed that the dielectric layer 3 and the recording layer remained on the surface exposed by the peeling.

次に、粘着テープによる剥離後の露出面に、フッ酸(含有量22%)を滴下して誘電体層3を溶解し、更に硝酸(6規定)を滴下して記録層を溶解した。そして、再び濃フッ酸を滴下して誘導体層2,1を溶解することにより比較例2の光ディスク試料を得た。   Next, hydrofluoric acid (content 22%) was dropped on the exposed surface after peeling with the adhesive tape to dissolve the dielectric layer 3, and nitric acid (6 N) was further dropped to dissolve the recording layer. Then, concentrated hydrofluoric acid was dropped again to dissolve the derivative layers 2 and 1 to obtain an optical disk sample of Comparative Example 2.

この比較例2の光ディスク試料の上記一連の処理により露出した面を、AFMを用いて観察した。その観察結果の画像を図7に示す。特に白色に近い部分が認められるが、これは基板上に残存した誘電体層によるものと推測される。   The surface exposed by the above series of treatments of the optical disc sample of Comparative Example 2 was observed using AFM. An image of the observation result is shown in FIG. Although a portion close to white is observed in particular, it is assumed that this is due to the dielectric layer remaining on the substrate.

併せて、AFM法を用いて、その光ディスク試料の露出面の凸領域高さを測定したところ(プロファイルを図10に示す。)、その値が39nmであった。また、その凸領域半値幅を測定したところ、228nmであった。   In addition, when the height of the convex region of the exposed surface of the optical disk sample was measured using the AFM method (profile is shown in FIG. 10), the value was 39 nm. Moreover, it was 228 nm when the half value width of the convex area | region was measured.

(実施例2)
実施例1に記載した方法を用いてDVD−RW基板の製造工程における品質管理を行った。DVD−RW(光ディスク)は、上記通常のDVD−RWの製造方法を用いて200枚作製し、これを一群(1ロット)とした。光ディスクの凸領域高さの目標値(仕様)は40nm、凸領域半値幅の目標値は230nmとした。
(Example 2)
Using the method described in Example 1, quality control was performed in the manufacturing process of the DVD-RW substrate. 200 DVD-RWs (optical discs) were produced using the above-described normal DVD-RW manufacturing method, and these were made into a group (one lot). The target value (specification) of the convex region height of the optical disc was 40 nm, and the target value of the convex region half width was 230 nm.

得られた1ロット分の光ディスク試料を実施例1に記載の方法により評価したところ、165枚の光ディスクについては、凸領域高さ39nm、凸領域半値幅229nmであり許容範囲の数値であったが、35枚の光ディスクについては観察面の一部分が凸領域高さ45nm、凸領域半値幅250nmとなった。   When the obtained optical disk sample for one lot was evaluated by the method described in Example 1, the 165 optical disks had a convex region height of 39 nm and a convex region half-value width of 229 nm, which were acceptable values. For the 35 optical disks, a part of the observation surface had a convex region height of 45 nm and a convex region half width of 250 nm.

これら35枚の光ディスクの製造条件を確認したところ、誘電体薄膜の成膜を行うスパッタリング装置において、それらの光ディスクを配置した位置の周辺に放電異常があることが明らかになった。この放電異常を改修した後、再び1ロット分の光ディスクを製造し、実施例1に記載の方法により評価したところ、200枚全ての凸領域高さが39nm、凸領域半値幅が229nmとなり、歩留の向上が認められた。   As a result of confirming the manufacturing conditions of these 35 optical disks, it became clear that there was a discharge abnormality around the position where these optical disks were placed in a sputtering apparatus for forming a dielectric thin film. After repairing this discharge abnormality, an optical disk for one lot was manufactured again and evaluated by the method described in Example 1. As a result, the height of the convex region of all 200 sheets was 39 nm and the half width of the convex region was 229 nm. An improvement in the retention was observed.

本発明の光記録媒体試料の作製方法に用いる光ディスクの一例を示す一部切欠斜視図である。It is a partially cutaway perspective view showing an example of an optical disk used in the method for producing an optical recording medium sample of the present invention. 図1に示した光ディスクの断面のRで表される部分領域の拡大斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of a partial region represented by R in the cross section of the optical disc shown in FIG. 1. 本発明の光記録媒体試料の作製装置の好適な一実施形態を示す概略斜視図である。1 is a schematic perspective view showing a preferred embodiment of an apparatus for producing an optical recording medium sample of the present invention. DVD−RW用基板のAFM像である。It is an AFM image of the substrate for DVD-RW. 実施例に係る光ディスク試料のAFM画像である。It is an AFM image of the optical disk sample which concerns on an Example. 比較例に係る光ディスク試料のSEM画像である。It is a SEM image of the optical disk sample concerning a comparative example. 比較例に係る光ディスク試料のAFM画像である。It is an AFM image of the optical disk sample which concerns on a comparative example. DVD−RW用基板のAFMプロファイルである。It is an AFM profile of a substrate for DVD-RW. 実施例に係る光ディスク試料のAFMプロファイルである。It is an AFM profile of the optical disk sample which concerns on an Example. 比較例に係る光ディスク試料のAFMプロファイルである。It is an AFM profile of the optical disk sample which concerns on a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

50…作製装置、60…滴下部材、62…容器部、64…ノズル部、66…バルブ部、70…媒体保持部材、72…支持台、74…軸、76…液回収部、80…スタンド。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 ... Production apparatus, 60 ... Dropping member, 62 ... Container part, 64 ... Nozzle part, 66 ... Valve part, 70 ... Medium holding member, 72 ... Support stand, 74 ... Shaft, 76 ... Liquid recovery part, 80 ... Stand.

Claims (11)

基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを有する光記録媒体の前記誘電体層を溶解せずに前記基板を選択的に溶解可能な液体を用いて前記基板を溶解することにより、前記誘電体層の前記基板との接触面を露出させる基板溶解工程を含むことを特徴とする光記録媒体試料の作製方法。   By dissolving the substrate using a liquid capable of selectively dissolving the substrate without dissolving the dielectric layer of an optical recording medium having a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate. A method for producing an optical recording medium sample, comprising: a substrate melting step of exposing a contact surface of the dielectric layer with the substrate. 前記基板溶解工程が、前記液体を用いて前記基板の一部分を溶解することにより前記誘電体層の前記基板との接触面を露出させる工程であることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体試料の作製方法。   2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the substrate dissolving step is a step of exposing a contact surface of the dielectric layer with the substrate by dissolving a part of the substrate using the liquid. Sample preparation method. 前記基板溶解工程が、前記液体を前記基板の前記一側と反対側から滴下して前記基板を溶解することにより前記誘電体層の前記基板との接触面を露出させる工程であることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体試料の作製方法。   The substrate dissolving step is a step of exposing the contact surface of the dielectric layer with the substrate by dripping the liquid from the opposite side of the substrate to dissolve the substrate. The method for producing an optical recording medium sample according to claim 1. 前記基板溶解工程の前に、前記一側と反対側にある前記基板の面を水平方向に対して所定角度傾けた状態で前記光記録媒体を配置する光記録媒体配置工程を含むことを特徴とする請求項3記載の光記録媒体試料の作製方法。   An optical recording medium disposing step of disposing the optical recording medium with the surface of the substrate opposite to the one side inclined at a predetermined angle with respect to a horizontal direction before the substrate melting step; A method for producing an optical recording medium sample according to claim 3. 前記基板がポリカーボネート樹脂を構成材料とし、
前記誘電体層が誘電体酸化物若しくは誘電体窒化物を構成材料とし、
前記液体が主成分として極性溶媒を含有する液体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
The substrate is composed of polycarbonate resin,
The dielectric layer comprises a dielectric oxide or a dielectric nitride as a constituent material,
The method for producing an optical recording medium sample according to any one of claims 1 to 4, wherein the liquid is a liquid containing a polar solvent as a main component.
前記基板がポリカーボネート樹脂を構成材料とし、
前記誘電体層がZnS−SiO、SiCO、CeO、SiN若しくはAlNからなる群より選ばれる材料を構成材料とし、
前記液体がクロロホルム、ジクロロメタン、THF、アセトン若しくはメチルエチルケトンからなる群より選ばれる有機溶媒を主成分として含有する液体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
The substrate is composed of polycarbonate resin,
Said dielectric layer is a ZnS-SiO 2, SiCO, constitute a material selected from the group consisting of CeO 2, SiN or AlN material,
The optical recording medium according to claim 1, wherein the liquid is a liquid containing an organic solvent selected from the group consisting of chloroform, dichloromethane, THF, acetone, or methyl ethyl ketone as a main component. Sample preparation method.
基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを備える光記録媒体の前記誘電体層を溶解せずに前記基板を選択的に溶解可能な液体を用いて前記基板を溶解することにより、前記誘電体層の前記基板との接触面を露出させ、その接触面を分析することを特徴とする光記録媒体試料の分析方法。 By dissolving the substrate using a liquid capable of selectively dissolving the substrate without dissolving the dielectric layer of an optical recording medium comprising a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate. An analysis method for an optical recording medium sample, wherein the contact surface of the dielectric layer with the substrate is exposed and the contact surface is analyzed. 基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを備える光記録媒体の前記誘電体層を溶解せずに前記基板を選択的に溶解可能な液体を滴下する滴下部材と、
前記滴下部材から滴下された前記液体が前記基板の前記一側と反対側の表面に接触するように前記光記録媒体を保持する媒体保持部材と、を設けてなることを特徴とする光記録媒体試料の作製装置。
A dropping member for dropping a liquid capable of selectively dissolving the substrate without dissolving the dielectric layer of an optical recording medium comprising a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate;
An optical recording medium comprising: a medium holding member that holds the optical recording medium so that the liquid dropped from the dropping member contacts a surface of the substrate opposite to the one side. Sample preparation device.
前記媒体保持部材が、前記基板の前記表面を水平方向に対して傾けた状態で前記光記録媒体を保持することを特徴とする請求項7記載の光記録媒体試料の作製装置。 8. The optical recording medium sample manufacturing apparatus according to claim 7, wherein the medium holding member holds the optical recording medium in a state where the surface of the substrate is inclined with respect to a horizontal direction. 基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを備える光記録媒体の前記誘電体層を溶解せずに前記基板を選択的に溶解可能な液体を用いて前記基板を溶解することにより、前記誘電体層の前記基板との接触面を露出させ、その接触面を分析する品質管理工程を備えることを特徴とする光記録媒体の製造方法。 By dissolving the substrate using a liquid capable of selectively dissolving the substrate without dissolving the dielectric layer of an optical recording medium comprising a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate. A method for producing an optical recording medium, comprising: a quality control step of exposing a contact surface of the dielectric layer with the substrate and analyzing the contact surface. 基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを備える光記録媒体の前記誘電体層を溶解せずに前記基板を選択的に溶解可能な液体を用いて前記基板を溶解することにより、前記誘電体層の前記基板との接触面を露出させ、その接触面を分析する品質管理工程を備え、前記品質管理工程の分析結果に基づき光記録媒体の製造条件を調整することを特徴とする光記録媒体の製造方法。 By dissolving the substrate using a liquid capable of selectively dissolving the substrate without dissolving the dielectric layer of an optical recording medium comprising a substrate and a dielectric layer formed on one side of the substrate. A quality control step of exposing a contact surface of the dielectric layer with the substrate and analyzing the contact surface, and adjusting manufacturing conditions of the optical recording medium based on an analysis result of the quality control step, A method for manufacturing an optical recording medium.
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