JP2005149545A - Optical information recording method and optical information recording device - Google Patents

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Eiko Suzuki
栄子 鈴木
Yuji Miura
裕司 三浦
Kazunori Ito
和典 伊藤
Masato Harigai
眞人 針谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate an unerased mark left when overwriting is performed even when high speed recording corresponding to 6 times to 8 times of a DVD or more is performed, to reduce thermal damage due to repetitive recording and to enable satisfactory repetitive recording. <P>SOLUTION: When shift from mark formation to space formation is performed, light of peak power Pp is modulated into light of erasure power Pe under the condition of high speed specification such as a recording strategy of a 2T period and a strategy is used, wherein at least one pulse of irradiation with light of high erasure power Pe(h) higher than the erasure power Pe and lower than the peak power Pp and having a level at which a mark can be erased is performed within a basic clock period T after modulation into light of the erasure power Pe is started. Thereby, it is not needed that such a high power value that can erase all the marks is incorporated into the erasure power Pe itself, deterioration of jitter characteristics can be prevented, influence on repetitive recording durability can be reduced and the unerased mark left when overwriting is performed can be prevented by using the erasable high erasure power Pe(h). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、記録可能な光情報記録媒体、特にCD−RW,DVD−RAM,DVD−RW,DVD+RW等の相変化型の光情報記録媒体であって高速記録に適した光情報記録方法及び光情報記録装置に関する。   The present invention relates to a recordable optical information recording medium, particularly a phase change type optical information recording medium such as CD-RW, DVD-RAM, DVD-RW, DVD + RW, etc., and an optical information recording method and optical suitable for high-speed recording. The present invention relates to an information recording apparatus.

近年、光情報記録媒体の高速記録の需要が高まっている。特に、ディスク状の光情報記録媒体の場合、回転速度を高くすることで記録・再生速度を上げることが可能なため、高速化が進んでいる。光ディスクの中でも記録時に照射する光の強度変調のみで記録が可能である光情報記録媒体は、その記録機構の単純さから、媒体と記録装置の低価格化が可能であると同時に、再生も強度変調された光を用いているため、再生専用装置との高い互換性が確保できることから普及が進み、近年の電子情報の大容量化により、さらに高密度化・高速記録化の需要が高くなっている。   In recent years, the demand for high-speed recording of optical information recording media has increased. In particular, in the case of a disk-shaped optical information recording medium, since the recording / reproducing speed can be increased by increasing the rotational speed, the speed has been increased. Among optical discs, optical information recording media that can be recorded by only modulating the intensity of the light irradiated during recording can reduce the cost of the medium and the recording device, and at the same time reproduce the recording medium due to the simplicity of the recording mechanism. Since modulated light is used, high compatibility with playback-only devices can be ensured, and the spread of electronic information has increased the demand for higher density and higher speed recording due to the recent increase in capacity of electronic information. Yes.

このような光ディスクのうち、多数回の書換えが可能であることから、相変化材料を用いたものが主流となってきている。相変化材料を用いた光ディスクの場合、照射する光ビームの強度変調により、記録層材料を急冷状態と徐冷状態を作ることによって記録を行う。急冷状態になると、記録層材料は非晶質(アモルファス)となり、徐冷状態になると結晶となる。非晶質と結晶では光学的な物性が異なるため、光情報を記録することができる。   Among such optical discs, those using a phase change material have become mainstream because they can be rewritten many times. In the case of an optical disk using a phase change material, recording is performed by creating a rapid cooling state and a slow cooling state of the recording layer material by intensity modulation of the irradiated light beam. The recording layer material becomes amorphous when it is rapidly cooled, and becomes crystalline when it is slowly cooled. Since optical properties are different between amorphous and crystalline, optical information can be recorded.

即ち、相変化型の光情報記録媒体は基板上の記録層薄膜にレーザ光を照射して記録層を加熱し、記録層構造を結晶と非晶質間で相変化させることによりディスク反射率を変えて情報を記録・消去するものである。通常は未記録状態を高反射率の結晶相とし、これに低反射率の非晶質相からなるマークと高反射率の結晶相からなるスペースを形成することにより情報を記録する。   That is, the phase change optical information recording medium irradiates the recording layer thin film on the substrate with laser light to heat the recording layer, and changes the recording layer structure between a crystal and an amorphous layer to change the disk reflectivity. It changes and records and erases information. Normally, information is recorded by forming a non-recorded state as a high-reflectance crystal phase, and forming a mark composed of a low-reflectance amorphous phase and a space composed of a high-reflectance crystal phase.

記録原理が、このような記録層材料の「急冷」と「徐冷」という複雑な機構を用いているため、高速での記録には周知のようにパルス分割され、3値に強度変調された記録光を媒体に照射することで行う。   Since the recording principle uses such a complicated mechanism of “rapid cooling” and “slow cooling” of the recording layer material, pulse recording is performed as is well known for high-speed recording, and the intensity is modulated into three values. This is done by irradiating the medium with recording light.

マークとスペースとからなるデータを繰返し記録するための波形発光パターン(記録ストラテジ)としては、図12に示すような、DVD+RW等で使用されているものがある。非晶質からなるマークはピークパワー(Pw=Pp)光とバイアスパワー(Pb)光との交互繰返しによるパルス照射によって形成され、結晶からなるスペースはこれらの中間レベルのイレースパワー(Pe)光を連続的に照射することにより形成される。   As a waveform light emission pattern (recording strategy) for repeatedly recording data consisting of marks and spaces, there is one used in DVD + RW as shown in FIG. The amorphous mark is formed by pulse irradiation by alternately repeating the peak power (Pw = Pp) light and the bias power (Pb) light, and the crystal space is a medium level erase power (Pe) light. It is formed by continuous irradiation.

ピークパワー光とバイアスパワー光とからなるパルス列が照射されると、記録層は溶融と急冷を繰返し非晶質マークが形成される。消去パワー光が照射されると記録層は溶融後徐冷、或いは、固相状態のままアニールされて結晶化し、スペースが形成される。ピークパワー光とバイアスパワー光とからなるパルス列は通常、先頭パルス、中間パルス、最終パルスとに分けられ、最短の3Tマークは先頭パルスと最終パルスのみで記録され、4T以上のマークを形成するときは中間パルスも使用される。中間パルスはマルチパルスとも呼ばれ、1T周期で設けられ、マーク長が1T長くなる毎にパルスの数を1つずつ増やす。即ち、パルス列の数は長さnTに対して(n−1)個となる。また、3Tマークを先頭パルスの1パルスのみで記録し、4Tを先頭パルスと最終パルスの2パルスで形成し、5T以上のマークを形成する時に1T周期で設けられた中間パルスを使用する、パルス列の数は長さnTに対して(n−2)個とする場合もある。   When a pulse train composed of peak power light and bias power light is irradiated, the recording layer repeats melting and quenching to form amorphous marks. When the erasing power light is irradiated, the recording layer is gradually cooled after being melted, or annealed in a solid state and crystallized to form a space. A pulse train composed of peak power light and bias power light is usually divided into a first pulse, an intermediate pulse, and a last pulse, and the shortest 3T mark is recorded only by the first pulse and the last pulse, and a mark of 4T or more is formed. An intermediate pulse is also used. The intermediate pulse is also called a multi-pulse, and is provided in a 1T cycle, and the number of pulses is increased by one every time the mark length becomes 1T longer. That is, the number of pulse trains is (n-1) with respect to the length nT. Also, a pulse train that records a 3T mark with only one pulse of the first pulse, forms 4T with two pulses of the first pulse and the last pulse, and uses an intermediate pulse provided with a 1T cycle when forming a mark of 5T or more. May be (n−2) for the length nT.

ところで、DVDの4倍速を超えるような高速記録時は、基本クロック周期Tの時間が短くなるために、光源駆動部への負荷が大きくなる。また、図12に示すような1T周期のパルス列を照射すると、加熱時間、冷却時間ともに短くなってしまい、充分な大きさの非晶質マークが形成できないという問題を生じる。これを回避するために、パルスの周期を1Tより長くして非晶質マークを形成するパルスの数を減らし、加熱、冷却ともに充分な時間を確保して、充分な大きさの非晶質マークを形成できるようにした提案が各種なされている(例えば、特許文献1〜4参照、他多数)。   By the way, at the time of high-speed recording exceeding the quadruple speed of DVD, since the time of the basic clock period T is shortened, the load on the light source driving unit is increased. Further, when a pulse train having a 1T period as shown in FIG. 12 is irradiated, both the heating time and the cooling time are shortened, resulting in a problem that an amorphous mark having a sufficiently large size cannot be formed. In order to avoid this, the period of the pulses is longer than 1T to reduce the number of pulses for forming the amorphous mark, and sufficient time for both heating and cooling is ensured. Various proposals have been made that can be formed (for example, see Patent Documents 1 to 4 and many others).

このうち、特許文献4では、マーク長が2T増加する毎に加熱パルスと冷却パルスを1個増加させ、最終尾の冷却パルスの後の消去領域先頭部分にスペースデータ用の消去パワーのレベルの増減変更により記録マーク長を規定する記録マーク用消去パルスを付加する記録方法を提案している。図13に、4Tマークと5Tマークを形成する場合のパルス列の例を示した。4Tマークの場合は、消去領域先頭部分の消去パワーレベルを増大することにより、非晶質の後端部分を再結晶化させてマーク長を短くし、5Tマークの場合には、消去パワーレベルを低減させることにより非晶質の後端部分をあまり再結晶化させないようにしてマーク長を長く調整している。   Among them, in Patent Document 4, every time the mark length increases by 2T, one heating pulse and one cooling pulse are increased, and the level of erasing power for space data is increased or decreased at the beginning of the erasing area after the last cooling pulse. A recording method has been proposed in which an erase pulse for recording marks that defines the recording mark length is added by changing. FIG. 13 shows an example of a pulse train when 4T marks and 5T marks are formed. In the case of a 4T mark, the erase power level at the beginning of the erase region is increased to recrystallize the rear end portion of the amorphous material to shorten the mark length. In the case of the 5T mark, the erase power level is increased. By reducing the length, the mark length is adjusted to be long so that the rear end portion of the amorphous is not recrystallized so much.

これにより、マルチパルス列での加熱パルスと冷却パルスの実質的な周期を記録チャンネルクロック周期より長くして充分な加熱時間と冷却時間を確保することを基本として高速記録対応とし、かつ、マルチパルス列の各々の加熱パルスを変化させることなく最後尾の冷却パルスとその直後の消去パルスとで高精度に記録マークの後エッジ位置を制御できるとしている。   This makes it possible to support high-speed recording on the basis of ensuring a sufficient heating time and cooling time by making the substantial period of the heating pulse and cooling pulse in the multi-pulse train longer than the recording channel clock period, and the multi-pulse train. The trailing edge position of the recording mark can be controlled with high accuracy by the last cooling pulse and the erasing pulse immediately after it without changing each heating pulse.

さらに特許文献5によれば、高速記録時の特にマーク後端のジッターを良くする記録方法として、図14に示すように、非晶質マークを形成するための最終ピークパワーの後に、消去パワーレベルより高いトレーリングパワーレベルを持つ記録方法が提案されている。   Further, according to Patent Document 5, as a recording method for improving the jitter at the trailing edge of the mark particularly during high-speed recording, as shown in FIG. 14, after the final peak power for forming the amorphous mark, the erasing power level Recording methods with higher trailing power levels have been proposed.

特開2002−237051公報JP 2002-237051 A 特開2002−288837公報JP 2002-288837 A 特開2001−331936公報JP 2001-331936 A 特開2002−334433公報JP 2002-334433 A 特表2003−504783公報Special table 2003-504783 gazette

特許文献4によれば、比較的簡便な制御によりマーク後エッジ位置を制御可能であり、初回記録時には良好な記録ができるものの、繰返し記録のことは考慮されておらず、特に、消去パワーレベルを減じてマーク長を調整する場合には、上書きする場合に、前のマークの消し残りが生じる恐れがある。   According to Patent Document 4, the position of the trailing edge of the mark can be controlled by relatively simple control, and good recording can be performed at the time of initial recording. However, repetitive recording is not taken into consideration. In the case of adjusting the mark length by subtracting, there is a risk that the previous mark will remain unerased when overwriting.

また、特許文献5の場合、消去パワーレベルとしては、消去パワーレベルの照射によりマークが消去可能であると規定している。また、マルチパルスの周期に関しては特に明言されていないが、図の説明等からは1T周期の場合であることがわかる。1T周期のマルチパルスではDVD4倍速を超えるような高速記録の場合には、前述したように、加熱、冷却時間ともに短いため、充分な大きさの非晶質マークが形成できないのは言うまでもないが、これを1Tより長い周期にして充分な大きさの非晶質マークを形成したとしても、消去パワーレベルで全てのマークが消去され、さらにそれより高いパワーのトレーリングパワーを導入すると、熱的な負荷が大きくなってしまうため、記録層材料の種類によっては、繰返し記録耐久性が劣化してしまう場合がある。   In Patent Document 5, the erasing power level stipulates that the mark can be erased by irradiation of the erasing power level. Further, although there is no specific statement regarding the cycle of the multi-pulse, it can be seen from the description of the figure that the cycle is 1T. Needless to say, in the case of high-speed recording that exceeds DVD 4 × speed with a multi-pulse of 1T period, as described above, since the heating and cooling times are short, a sufficiently large amorphous mark cannot be formed. Even if an amorphous mark having a sufficiently large size is formed with a period longer than 1T, all marks are erased at the erasing power level, and if higher trailing power is introduced, Since the load increases, depending on the type of the recording layer material, the repeated recording durability may deteriorate.

本発明の目的は、DVDの4倍速を超え、6〜8倍速相当以上のような高速記録時にも、上書き時に前の非晶質マークの消し残りを生ずることがなく、かつ、繰返し記録による熱的なダメージも少なくすることができ、良好な繰返し記録が行えるようにすることである。   It is an object of the present invention to prevent the previous amorphous mark from being erased at the time of overwriting even at high-speed recording exceeding 4 × speed of DVD and equivalent to 6-8 × speed, and heat generated by repeated recording. It is also possible to reduce the general damage and to perform good repeated recording.

請求項1記載の発明は、記録マークの時間的長さが基本クロック周期Tのn倍(nは自然数)なるnTで表されるマーク長記録方式により情報を光情報記録媒体に対して記録する光情報記録方法において、相対的に高いパワー値のピークパワー光と相対的に低いパワー値のバイアスパワー光との繰返しによるn/2以下なる整数個のパルス照射により長さnTの非晶質マークを形成し、前記ピークパワー光と前記バイアスパワー光との中間レベルのパワー値の消去パワー光の照射により非晶質マーク間の長さnTの結晶スペースを形成する際、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から消去パワー光へ変調し、当該消去パワー光への変調開始後基本クロック周期T以内に、前記消去パワー光より高く、前記ピークパワー光より低くて前記非晶質マークの消去可能なレベルのパワー値の高消去パワー光を、少なくとも1パルス照射する記録ストラテジを用いるようにした。   According to the first aspect of the present invention, information is recorded on the optical information recording medium by a mark length recording method represented by nT in which the time length of the recording mark is n times the basic clock period T (n is a natural number). In the optical information recording method, an amorphous mark having a length of nT by irradiation with an integer number of pulses equal to or less than n / 2 by repeating a peak power light having a relatively high power value and a bias power light having a relatively low power value. And forming a crystal space having a length nT between the amorphous marks by irradiation with an erasing power light having an intermediate power value between the peak power light and the bias power light. Is shifted from the peak power light to the erasing power light, and within the basic clock period T after the start of the modulation to the erasing power light, is shifted from the erasing power light to the formation of the crystal space. The high erasing power light power values erasable levels of the peak power the amorphous mark lower than light, and to use a recording strategy for at least one pulse.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の光情報記録方法において、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光への変調過程を経て消去パワー光へ変調する。   According to a second aspect of the present invention, in the optical information recording method according to the first aspect, at the time of transition from the formation of the amorphous mark to the formation of the crystal space, a modulation process from the peak power light to the bottom power light is performed once. Modulate to erase power light.

請求項3記載の発明は、請求項1又は2記載の光情報記録方法において、前記高消去パワー光の照射時間は、0.2T以上、2T以下である。   According to a third aspect of the present invention, in the optical information recording method according to the first or second aspect, the irradiation time of the high erasing power light is 0.2T or more and 2T or less.

請求項4記載の発明は、請求項1ないし3の何れか一記載の光情報記録方法において、前記高消去パワー光のパルスの数を、結晶スペース長が3T以上増加する度に1つ増やす。   According to a fourth aspect of the present invention, in the optical information recording method according to any one of the first to third aspects, the number of pulses of the high erasing power light is increased by one every time the crystal space length increases by 3T or more.

請求項5記載の発明は、請求項1ないし4の何れか一記載の光情報記録方法において、前記高消去パワー光のパワー値のレベルは、前記消去パワー光の1.1倍以上、2倍以下である。   A fifth aspect of the present invention is the optical information recording method according to any one of the first to fourth aspects, wherein the level of the power value of the high erasing power light is 1.1 times or more and 2 times that of the erasing power light. It is as follows.

請求項6記載の発明は、請求項1ないし5の何れか一記載の光情報記録方法において、前記光情報記録媒体として相変化型光情報記録媒体を対象とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the optical information recording method according to any one of the first to fifth aspects, a phase-change optical information recording medium is used as the optical information recording medium.

請求項7記載の発明は、請求項6記載の光情報記録方法において、前記相変化型光記録媒体は、基板上に少なくとも、第1保護層、記録層、第2保護層及び反射層が積層形成され、前記記録層は、少なくともSbとGe,Ga,In,Zn,Mn,Sn,Ag,Mg,Ca,Ag,Bi,Se,Teの中から選ばれる一種以上の元素を含む。   According to a seventh aspect of the present invention, in the optical information recording method according to the sixth aspect, the phase change optical recording medium includes at least a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflective layer on a substrate. The formed recording layer contains at least one element selected from Sb and Ge, Ga, In, Zn, Mn, Sn, Ag, Mg, Ca, Ag, Bi, Se, and Te.

請求項8記載の発明は、請求項7記載の光情報記録方法において、前記記録層のSbの含有量が50〜90原子%である。   The invention according to claim 8 is the optical information recording method according to claim 7, wherein the Sb content of the recording layer is 50 to 90 atomic%.

請求項9記載の発明は、請求項7又は8記載の光情報記録方法において、前記反射層は、Ag又はAg合金である。   The invention according to claim 9 is the optical information recording method according to claim 7 or 8, wherein the reflective layer is made of Ag or an Ag alloy.

請求項10記載の発明は、請求項7ないし9の何れか一記載の光情報記録方法において、前記第1保護層及び第2保護層はZnSとSiOの混合物である。 A tenth aspect of the present invention is the optical information recording method according to any one of the seventh to ninth aspects, wherein the first protective layer and the second protective layer are a mixture of ZnS and SiO 2 .

請求項11記載の発明は、請求項9又は10記載の光情報記録方法において、前記第2保護層と前記反射層との間に硫化防止層を有する相変化型光情報記録媒体である。   An eleventh aspect of the present invention is the optical information recording method according to the ninth or tenth aspect, wherein the phase change optical information recording medium includes an antisulfurization layer between the second protective layer and the reflective layer.

請求項12記載の発明は、請求項11記載の光情報記録方法において、前記硫化防止層は、Si又はSiCを主成分とする。   According to a twelfth aspect of the present invention, in the optical information recording method according to the eleventh aspect, the sulfidation prevention layer contains Si or SiC as a main component.

請求項13記載の発明は、記録マークの時間的長さが基本クロック周期Tのn倍(nは自然数)なるnTで表されるマーク長記録方式により情報を光情報記録媒体に対して記録する情報記録装置において、前記光情報記録媒体に対して照射するレーザ光を発するレーザ光源と、このレーザ光源を発光させる光源駆動手段と、前記レーザ光源が発する光ビームの発光波形に関する記録ストラテジが設定されて前記光源駆動手段を制御する発光波形制御手段と、を備え、前記発光波形制御手段は、相対的に高いパワー値のピークパワー光と相対的に低いパワー値のバイアスパワー光との繰返しによるn/2以下なる整数個のパルス照射により長さnTの非晶質マークを形成し、前記ピークパワー光と前記バイアスパワー光との中間レベルのパワー値の消去パワー光の照射により非晶質マーク間の長さnTの結晶スペースを形成する際、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から消去パワー光へ変調し、当該消去パワー光への変調開始後基本クロック周期T以内に、前記消去パワー光より高く、前記ピークパワー光より低くて前記非晶質マークの消去可能なレベルのパワー値の高消去パワー光を、少なくとも1パルス照射する記録ストラテジを用いるようにした。   According to a thirteenth aspect of the present invention, information is recorded on the optical information recording medium by a mark length recording method represented by nT in which the time length of the recording mark is n times the basic clock period T (n is a natural number). In the information recording apparatus, a laser light source that emits a laser beam to irradiate the optical information recording medium, a light source driving unit that emits light from the laser light source, and a recording strategy relating to an emission waveform of a light beam emitted from the laser light source are set. And a light emission waveform control means for controlling the light source driving means, wherein the light emission waveform control means n is obtained by repeating a peak power light having a relatively high power value and a bias power light having a relatively low power value. An amorphous mark having a length of nT is formed by irradiation with an integer number of pulses equal to or less than / 2, and the power at an intermediate level between the peak power light and the bias power light When forming a crystal space with a length nT between amorphous marks by irradiation of erasing power light, modulation from peak power light to erasing power light is performed at the time of transition from the formation of the amorphous mark to the formation of the crystal space. Then, within the basic clock period T after the start of modulation to the erasing power light, the high erasing power light having a power value higher than the erasing power light and lower than the peak power light and capable of erasing the amorphous mark. A recording strategy for irradiating at least one pulse was used.

請求項14記載の発明は、請求項13記載の光情報記録装置において、前記発光波形制御手段は、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光への変調過程を経て消去パワー光へ変調する。   According to a fourteenth aspect of the present invention, in the optical information recording apparatus according to the thirteenth aspect, the light emission waveform control means temporarily changes the peak power light to the bottom power during the transition from the formation of the amorphous mark to the formation of the crystal space. The light is modulated into an erasing power light through a light modulation process.

請求項15記載の発明は、請求項13又は14記載の光情報記録装置において、前記発光波形制御手段は、前記高消去パワー光の照射時間を、0.2T以上、2T以下とする。   According to a fifteenth aspect of the present invention, in the optical information recording apparatus according to the thirteenth or fourteenth aspect, the emission waveform control means sets the irradiation time of the high erasing power light to 0.2 T or more and 2 T or less.

請求項16記載の発明は、請求項13ないし15の何れか一記載の光情報記録装置において、前記発光波形制御手段は、前記高消去パワー光のパルスの数を、結晶スペース長が3T以上増加する度に1つ増やす。   According to a sixteenth aspect of the present invention, in the optical information recording apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, the light emission waveform control means increases the number of pulses of the high erasing power light by increasing the crystal space length by 3T or more. Increase by one each time.

請求項17記載の発明は、請求項13ないし16の何れか一記載の光情報記録装置において、前記発光波形制御手段は、前記高消去パワー光のパワー値のレベルを、前記消去パワー光の1.1倍以上、2倍以下とする。   According to a seventeenth aspect of the present invention, in the optical information recording apparatus according to any one of the thirteenth to sixteenth aspects, the emission waveform control means sets the power value level of the high erasing power light to 1 of the erasing power light. .1 to 2 times

請求項18記載の発明は、請求項13ないし17の何れか一記載の光情報記録装置において、前記光情報記録媒体として相変化型光情報記録媒体を対象とする。   According to an eighteenth aspect of the present invention, in the optical information recording apparatus according to any one of the thirteenth to seventeenth aspects, a phase change optical information recording medium is targeted as the optical information recording medium.

請求項1,13記載の発明によれば、例えば2T周期の記録ストラテジのように、nTマークの形成にn/2以下なる整数個のパルス照射を利用する高速仕様の条件下に、非晶質マークの形成から結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から消去パワー光へ変調し、当該消去パワー光への変調開始後基本クロック周期T以内に、消去パワー光より高く、ピークパワー光より低くて前記非晶質マークの消去可能なレベルのパワー値の高消去パワー光を、少なくとも1パルス照射する記録ストラテジを用いることにより、消去パワー光自体は記録線速で照射したときに必ずしも以前に記録されている非晶質マーク全てを消去できるほど高いパワー値にする必要がなく、これにより、ジッタ特性の劣化を生ずることもなく、かつ、繰返し記録耐久性へ及ぼす影響を少なくすることができるとともに確実に消去可能なパルス的な高消去パワーにより上書き時のマークの消し残りを防止でき、良好なる繰返し記録を実現することができる。また、高消去パワー光を、消去パワーPe光の照射が開始されてから1T以内に開始させることにより、上書き時に前のマークの消去が良好に行えるばかりでなく、初回記録の場合でもマーク後端のジッタを低減させることができる。   According to the first and third aspects of the invention, for example, in the case of a high-speed specification condition using an integer number of pulse irradiations of n / 2 or less for forming an nT mark, such as a 2T period recording strategy, At the time of transition from the formation of the mark to the formation of the crystal space, the peak power light is modulated from the erasing power light, and within the basic clock period T after the modulation to the erasing power light is started, the erasing power light is higher than the erasing power light. By using a recording strategy that irradiates at least one pulse of a high erasing power light having a power value that is low and can be erased from the amorphous mark, the erasing power light itself is not necessarily previously emitted at the recording linear velocity. It is not necessary to have a power value that is high enough to erase all the recorded amorphous marks, so that jitter characteristics are not deteriorated and repeated. It is possible to reduce the influence of the recording durability can be prevented unerased mark overwritten during the securely erasable pulsed high erasing power, it is possible to achieve good Naru repetitive recording. In addition, by starting the high erasing power light within 1T from the start of the irradiation of the erasing power Pe light, not only can the previous mark be erased at the time of overwriting but also the trailing edge of the mark even in the first recording. Jitter can be reduced.

請求項2,14記載の発明によれば、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光への変調過程を経て消去パワー光へ変調することにより、消去パワー光照射への移行時の温度条件が均一化され、マーク先端の位置のばらつきが生じにくくなり、より一層の低ジッタ化を図ることができる。   According to the inventions of claims 2 and 14, when shifting from the formation of the amorphous mark to the formation of the crystal space, the modulation is performed from the peak power light to the bottom power light once to the erasing power light. As a result, the temperature condition at the time of shifting to the erasing power light irradiation is made uniform, the variation of the mark tip position is less likely to occur, and the jitter can be further reduced.

請求項3,15記載の発明によれば、高消去パワー光の1パルス当りの照射時間を0.2T以上、2T以下とすることにより、部分的に太くなっているようなマークを確実に消去できるとともに、マーク先頭のジッタが高くなってしまうような不具合を回避して繰返し記録耐久性の劣化を防止することができる。   According to the third and fifteenth aspects of the present invention, by setting the irradiation time per pulse of the high erasing power light to 0.2 T or more and 2 T or less, the mark which is partially thick is surely erased. In addition, it is possible to avoid the problem that the jitter at the beginning of the mark becomes high and prevent the repeated recording durability from being deteriorated.

請求項4,16記載の発明によれば、スペース長が3T以上増加する度に高消去パワー光のパルスの数を1つ増やすようにしているので、高消去パワー光のパルスがスペース形成の最初に照射されるだけでは、長いスペースを形成する途中に部分的に太くなっている部分がある場合などは、消去しきれない場合があるが、このような不具合を回避して確実に消去することができる。   According to the fourth and sixteenth aspects of the present invention, the number of pulses of the high erasing power light is increased by one every time the space length increases by 3T or more. When there is a part that is partially thick in the middle of forming a long space, it may not be able to be erased. Can do.

請求項5,17記載の発明によれば、高消去パワー光のレベルを消去パワーPeの1.1倍以上、2倍以下とすることにより、高消去パワー光によるマーク消去機能を確実に発揮させることができるとともに、パワー値が高すぎないので、温度が上がりすぎて、マーク長の制御が難しくなりジッタが悪くなってしまうような不具合や、必要以上に温度が上がりすぎることによる繰返し記録耐久性の劣化を回避することができる。   According to the fifth and 17th aspects of the present invention, the mark erasing function by the high erasing power light is surely exhibited by setting the level of the high erasing power light to 1.1 to 2 times the erasing power Pe. In addition, because the power value is not too high, the temperature rises too much, making it difficult to control the mark length and worsening jitter, and repeated recording durability due to excessive temperature rise Can be avoided.

請求項6ないし12,18記載の発明によれば、高速仕様の相変化型光情報記録媒体について好適に適用することができる。   According to the invention described in claims 6 to 12 and 18, it can be suitably applied to a phase change type optical information recording medium of high speed specification.

本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して以下に説明する。本実施の形態は、照射光の強度変調によって記録、消去或いは書換えが可能な光情報記録媒体、特に相変化型光情報記録媒体に対して、例えばDVDの6〜8倍速相当以上の高速にて記録を行う光情報記録方法及び光情報記録装置(光情報再生装置を含む)に適用される。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment is an optical information recording medium that can be recorded, erased, or rewritten by intensity modulation of irradiation light, particularly a phase change optical information recording medium, for example, at a high speed equivalent to 6 to 8 times the speed of DVD. The present invention is applied to an optical information recording method and an optical information recording apparatus (including an optical information reproducing apparatus) for performing recording.

[光情報記録媒体]
まず、本実施の形態の光情報記録方法に適したDVD仕様かつ高速仕様の相変化型の光情報記録媒体の一例について図1を参照して説明する。
[Optical information recording medium]
First, an example of a DVD specification and high-speed phase change optical information recording medium suitable for the optical information recording method of the present embodiment will be described with reference to FIG.

本実施の形態では、案内溝を有する透明基板1上に、少なくとも第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5が積層形成された相変化型の光情報記録媒体6を対象とする。   In the present embodiment, a phase change optical information recording medium 6 in which at least a first protective layer 2, a recording layer 3, a second protective layer 4, and a reflective layer 5 are laminated on a transparent substrate 1 having guide grooves. Is targeted.

透明基板1は、耐熱性、耐衝撃性、低吸水性などの点から、ポリカーボネートが良い。屈折率は1.5〜1.65が良く、これより高い場合はディスク全体の反射率低下が起こり、低い場合には反射率の増加により変調度が不足してしまう。厚さに関しては、0.59〜0.62mmが良く、この範囲を超えるとピックアップのフォーカス性能に問題を生じる。また、薄すぎると記録再生装置のクランプの甘さから回転数が不安定になる問題も生じる。さらには、円周方向の厚さムラがこの範囲を超える場合には、信号強度が周内で変動してしまう問題も生じる。   The transparent substrate 1 is preferably polycarbonate from the viewpoints of heat resistance, impact resistance, low water absorption, and the like. The refractive index is preferably 1.5 to 1.65. When the refractive index is higher than this, the reflectivity of the entire disk is lowered, and when it is lower, the modulation factor is insufficient due to the increase in reflectivity. The thickness is preferably 0.59 to 0.62 mm, and if it exceeds this range, a problem occurs in the focus performance of the pickup. Further, if the thickness is too thin, there is a problem that the rotational speed becomes unstable due to the weakness of the clamp of the recording / reproducing apparatus. Furthermore, when the thickness unevenness in the circumferential direction exceeds this range, there arises a problem that the signal intensity varies within the circumference.

記録層3は、少なくともSbとGe,Ga,In,Zn,Mn,Sn,Ag,Mg,Ca,Ag,Bi,Se,Teの中から選ばれる一種以上の元素を含む材料を用いる。Sbをベースとし、Sbとの2元系で融点が約600℃以下の共晶点、或いは、固溶体を有するような元素と組合せると、アモルファスと結晶の繰返し記録を行うのに適した記録層3を形成することができる。組合せる元素の種類や量によって、結晶化速度、記録特性、保存安定性、初期化の容易性等の特性を調整する。Sbと組合せる元素は1種類以上で、必要に応じて何種類でもよい。また、上述した元素とSbとの2元以上の合金にさらに別な元素を添加してもよい。   The recording layer 3 is made of a material containing at least one element selected from Sb and Ge, Ga, In, Zn, Mn, Sn, Ag, Mg, Ca, Ag, Bi, Se, and Te. A recording layer based on Sb and suitable for repeated recording of amorphous and crystals when combined with an element having a binary system with Sb and a melting point of about 600 ° C. or a eutectic point or a solid solution. 3 can be formed. Properties such as crystallization speed, recording characteristics, storage stability, and ease of initialization are adjusted according to the type and amount of elements to be combined. There are one or more elements to be combined with Sb, and any number may be used as necessary. Further, another element may be added to the binary alloy of the element and Sb described above.

高速で繰返し記録を行う場合、非晶質マークを高速結晶化する必要があるため、特に、本実施の形態のようにDVDの6〜8倍速相当以上の記録を行う場合には、Sbは50〜90原子%、より好ましくは60〜80原子%とする。これより少ないと、結晶化速度が遅すぎて繰返し記録の際にアモルファスマークの消し残りを生じ、ジッタやエラーの上昇を招く。これより多いと、アモルファスの形成が困難となる。   When repetitive recording is performed at high speed, it is necessary to crystallize the amorphous mark at high speed. Therefore, when recording at a speed equivalent to 6 to 8 times the speed of DVD as in this embodiment, Sb is 50. ˜90 atomic%, more preferably 60-80 atomic%. If it is less than this, the crystallization speed is too slow, and amorphous marks remain unerased during repeated recording, leading to an increase in jitter and errors. If it is more than this, it will be difficult to form amorphous.

記録層3の膜厚は、8nmより薄いと変調度が小さく、また、再生光安定性も低下してしまうため8nm以上とし、22nmより厚いと繰返し記録によるジッタの上昇が大きいため、22nm以下とする。より、好ましくは11〜16nmとすると、特に繰返し記録耐久性が向上する。   If the thickness of the recording layer 3 is less than 8 nm, the degree of modulation is small, and the stability of the reproduction light is also reduced. Therefore, the recording layer 3 is 8 nm or more, and if it is thicker than 22 nm, the increase in jitter due to repeated recording is large. To do. More preferably, when the thickness is 11 to 16 nm, the repeated recording durability is particularly improved.

反射層5としては従来Alを主成分とした合金が使用されている。Alは反射率が高く、熱伝導率も高いことに加え、ディスク化した場合の経時安定性にも優れている。しかし、記録層3材料の結晶化速度が速い場合には、反射層5として従来よく使用されているAl合金を用いたディスクでは、記録マークが細くなりやすく、十分な変調度を有する記録を行うことは困難な場合がある。この理由としては、結晶化速度が速いと記録時に溶融領域の再結晶化領域が大きくなってしまい、形成される非晶質領域が小さくなってしまうことが挙げられる。再結晶化領域を小さくするためには、第2保護層4を薄くして急冷構造とすればよいが、単純に第2保護層4を薄くしただけでは、記録層3が十分に昇温されず、溶融領域が小さくなってしまうため、再結晶化領域を小さくできたとしても、結局、形成される非晶質領域は小さくなってしまう。しかし、波長650〜670nmにおける屈折率(n+ik)のn,k共にAlより小さい金属を反射層5に用いると、記録層3の吸収率は向上し、変調度も大きくすることができる。n,k共にAlより小さい金属としてはAu,Ag,Cu、及びそれらを主成分とした合金が挙げられる。ここで、主成分とするとは、90原子%以上含有することを意味し、好ましくは95原子%以上である。   Conventionally, an alloy mainly composed of Al is used as the reflective layer 5. In addition to high reflectivity and high thermal conductivity, Al is also excellent in stability over time when made into a disk. However, when the crystallization speed of the recording layer 3 material is high, the recording mark is likely to be thin on a disk using an Al alloy that is often used conventionally as the reflective layer 5, and recording with a sufficient degree of modulation is performed. It can be difficult. The reason for this is that if the crystallization speed is high, the recrystallized area of the melted area becomes large during recording, and the formed amorphous area becomes small. In order to reduce the recrystallized region, the second protective layer 4 may be thinned to have a rapid cooling structure, but simply by making the second protective layer 4 thin, the recording layer 3 is sufficiently heated. However, since the melted region becomes small, even if the recrystallized region can be made small, the formed amorphous region eventually becomes small. However, when a metal having a refractive index (n + ik) of n and k smaller than Al is used for the reflective layer 5 at a wavelength of 650 to 670 nm, the absorptance of the recording layer 3 is improved and the degree of modulation can be increased. Examples of metals smaller than Al for both n and k include Au, Ag, Cu, and alloys based on them. Here, the main component means containing 90 atomic% or more, and preferably 95 atomic% or more.

Au,Ag,Cuは同時に何れもAlより熱伝導率が高く、これらを反射層5として用いると、記録層3の光吸収率を向上させて、記録層3の温度を上昇させて溶融領域を大きくする効果があるのと同時に、冷却速度も向上させるため冷却時の再結晶化領域が小さくなり、Al合金を用いた場合よりも大きな非晶質領域を形成することが可能になる。記録マークの変調度は光学的な変調度とマークの大きさによって決まり、光学的な変調度が大きく、マークが大きい程大きくなる。従って、記録層3として、結晶化速度が速い材料を用いて、高線速記録を行う場合でもこのような反射層5を用いれば、吸収率が大きく冷却速度が速いことから大きな記録マークが形成でき、また、結晶と非晶質の反射率差も大きいことから変調度の大きい記録が可能になる。   Au, Ag, and Cu all have a higher thermal conductivity than Al at the same time. When these are used as the reflective layer 5, the light absorption rate of the recording layer 3 is improved, the temperature of the recording layer 3 is increased, and the melting region is increased. At the same time as increasing the cooling rate, the cooling rate is also improved, so that the recrystallization region at the time of cooling becomes small, and it becomes possible to form a larger amorphous region than when an Al alloy is used. The modulation degree of the recording mark is determined by the optical modulation degree and the size of the mark. The optical modulation degree is large, and the larger the mark, the larger the recording mark. Therefore, even when high linear velocity recording is performed using a material having a high crystallization speed as the recording layer 3, if such a reflective layer 5 is used, a large recording mark is formed due to a high absorption rate and a high cooling rate. In addition, since the difference in reflectance between crystal and amorphous is large, recording with a high degree of modulation becomes possible.

Au,Ag,Cu、及びそれらを主成分とする合金の中でも、特に、Ag、及び、Ag合金は比較的安価であり、また、同様に安価なCu、及び、Cu合金に比べて酸化しにくいため、経時安定性に優れた媒体を形成することができ、反射層として好ましい。   Among Au, Ag, Cu, and alloys based on them, in particular, Ag and Ag alloy are relatively inexpensive, and are less susceptible to oxidation than similarly inexpensive Cu and Cu alloys. Therefore, a medium having excellent stability over time can be formed, which is preferable as the reflective layer.

反射層5の膜厚は90nm以上であれば透過光がほとんどなくなり、光を効率的に利用できるので、90nm以上とする。膜厚は厚い程冷却速度が速くなり、結晶化速度の速い記録層3を使用する場合には有利であるが、200nm以下で冷却速度は飽和し、200nmより厚くしても記録特性に変化がなく、成膜に時間がかかるだけなので、200nm以下とすることが好ましい。   If the thickness of the reflective layer 5 is 90 nm or more, the transmitted light is almost eliminated and the light can be used efficiently. The thicker the film, the faster the cooling rate, which is advantageous when using the recording layer 3 having a high crystallization rate. However, the cooling rate is saturated at 200 nm or less, and the recording characteristics change even when the thickness is greater than 200 nm. In addition, since it takes only a long time to form a film, it is preferable to set the thickness to 200 nm or less.

反射層5としてAg又はAg合金を用いた場合には、第2保護層4にSを含むような材料を用いる場合には、硫化防止層7が必要となる。硫化防止層7に要求される性質としては、Sを含まないこと、Sを透過しないこと等が挙げられる。本発明者らは、種々の酸化膜や窒化膜等を硫化防止層7として形成し、記録特性や保存信頼性の評価を行ったところ、SiC,Si、又はそれらの何れかを主成分とする材料が優れた機能を持つことが判った。ここで、主成分とするとは、材料中にSiC又はSiを90mol%以上含有することを意味し、好ましくは95mol%以上である。   When Ag or an Ag alloy is used as the reflective layer 5, the sulfuration preventing layer 7 is necessary when a material containing S is used for the second protective layer 4. Properties required for the sulfidation preventing layer 7 include not containing S, not transmitting S, and the like. The inventors of the present invention formed various oxide films, nitride films, and the like as the antisulfurization layer 7 and evaluated recording characteristics and storage reliability. As a result, SiC, Si, or one of them was the main component. It was found that the material has an excellent function. Here, the main component means that 90 mol% or more of SiC or Si is contained in the material, and preferably 95 mol% or more.

硫化防止層7の膜厚は3〜22nmとすることが好ましい。3nm以上あれば、スパッタにより形成された膜がほぼ均一になるので硫化防止機能を発揮するが、これよりも薄いと、部分的に欠陥を生じる確率が急に高くなってしまう。また、22nmを超えると膜厚の増加と共に反射率が低下してしまうし、成膜速度は大きく見積もっても記録層3と同程度であるため、記録層3よりも膜厚が厚いと生産効率が落ちてしまうことから、最大でも記録層3の膜厚を超えないようにすることが望ましく、結局好ましい上限は22nmとなる。   The film thickness of the sulfidation preventing layer 7 is preferably 3 to 22 nm. If the thickness is 3 nm or more, the film formed by sputtering becomes almost uniform and exhibits a function of preventing sulfidation. However, if the thickness is smaller than this, the probability that a defect is partially generated increases rapidly. Further, if the thickness exceeds 22 nm, the reflectivity decreases as the film thickness increases, and the film formation speed is almost the same as that of the recording layer 3 even if estimated to be large. Therefore, it is desirable not to exceed the film thickness of the recording layer 3 at the maximum, and the preferable upper limit is 22 nm after all.

第1保護層2及び第2保護層4としては耐熱性等の保護膜としての機能の他、屈折率が高いこと、断熱性が高いことから、膜厚の調整により入射光を効率的に利用できるモル比が8:2近傍のZnSとSiO2の混合物を用いる。   As the first protective layer 2 and the second protective layer 4, in addition to the function as a protective film such as heat resistance, since the refractive index is high and the heat insulation is high, incident light is efficiently used by adjusting the film thickness. A mixture of ZnS and SiO 2 having a molar ratio of about 8: 2 is used.

第1保護層2の膜厚は40〜220nm、より好ましくは40〜80nmとする。これは、主として反射率から決められる値である。この範囲内で、十分な反射率と記録感度を両立できる膜厚を選ぶ。これより薄い場合には耐熱性が悪く、基板1へ与えるダメージが大きくなってしまい、繰返し記録によるジッタ上昇が大きくなってしまう。厚いと反射率が高くなり過ぎて記録感度が低下してしまう。   The film thickness of the first protective layer 2 is 40 to 220 nm, more preferably 40 to 80 nm. This is a value mainly determined from the reflectance. Within this range, a film thickness that can achieve both sufficient reflectance and recording sensitivity is selected. If it is thinner than this, the heat resistance is poor, the damage given to the substrate 1 is increased, and the increase in jitter due to repeated recording is increased. If it is thick, the reflectance becomes too high and the recording sensitivity is lowered.

第2保護層4の膜厚は2〜20nm、より好ましくは6〜14nmとする。これは主として熱伝導から決められる値である。第2保護層4の上にさらに反射層5が設けられているため、記録層3で吸収された熱は第2保護層4を通じて反射層5へ拡散して冷却される。従って、薄すぎると熱拡散が速過ぎて記録層3は充分昇温されず、記録感度が低下してしまう。厚すぎると冷却速度が不足するため非晶質マークが形成されにくくなる。   The thickness of the second protective layer 4 is 2 to 20 nm, more preferably 6 to 14 nm. This is a value mainly determined from heat conduction. Since the reflective layer 5 is further provided on the second protective layer 4, the heat absorbed by the recording layer 3 diffuses to the reflective layer 5 through the second protective layer 4 and is cooled. Therefore, if it is too thin, the thermal diffusion is too fast and the recording layer 3 is not sufficiently heated, and the recording sensitivity is lowered. If it is too thick, the cooling rate will be insufficient and it will be difficult to form amorphous marks.

上述のような膜を基板1上に第1保護層2、記録層3、第2保護層4、硫化防止層7、反射層5の順にスパッタにより形成した後、反射層5上に有機保護膜8をスピンコートにより形成する。この状態で、或いはさらに貼合せ工程を経た後、初期化工程を経て光情報記録媒体6として使用される。貼合せは、有機保護膜8を介して基板と同じ大きさで通常は材質も同じである板を接着する工程である。   A film as described above is formed on the substrate 1 by sputtering in the order of the first protective layer 2, the recording layer 3, the second protective layer 4, the antisulfuration layer 7, and the reflective layer 5, and then an organic protective film on the reflective layer 5. 8 is formed by spin coating. In this state, or after passing through a bonding process, the optical information recording medium 6 is used through an initialization process. Bonding is a process of bonding a plate having the same size and usually the same material as the substrate through the organic protective film 8.

初期化は1×(数10〜数100)μm程度に成形された1〜2W程度のレーザ光を照射して、成膜直後は非晶質状態である記録層3を結晶化する工程である。   Initialization is a process of crystallizing the recording layer 3 in an amorphous state immediately after film formation by irradiating laser light of about 1 to 2 W formed to about 1 × (several 10 to several 100) μm. .

[光情報記録方法]
次に、上述したような高速仕様の光情報記録媒体6に対する本実施の形態による光情報記録方法、特にその記録ストラテジについて図2を参照して説明する。
[Optical information recording method]
Next, an optical information recording method according to this embodiment for the high-speed optical information recording medium 6 as described above, in particular, its recording strategy will be described with reference to FIG.

ここでは、PWM(Pulse Width Modulation)を光情報記録媒体6に応用した記録マーク長、マーク間長変調方式で情報を記録するものとする。この記録方式では記録マークの長さとマーク間の長さとを基本クロック周期Tを単位として制御することにより情報を記録することができる。光情報記録媒体の記録方法の一つであるマーク位置変調方式よりも記録密度を高くすることが可能なため、高密度化できることが特徴であり、CD,DD(Double Density)CDで採用されるEFM,DVDで採用されるEFM+などの光ディスクに採用されている変調方式である。記録マーク長、マーク間長変調方式は記録マーク長とマーク間長(以下、スペース長)とを正確に制御することが重要である。これらの変調方式では記録マーク長、スペース長ともに基本クロック周期Tに対してnT(nは3以上の自然数)の時間的長さとする。   Here, it is assumed that information is recorded by a recording mark length and mark length modulation method in which PWM (Pulse Width Modulation) is applied to the optical information recording medium 6. In this recording method, information can be recorded by controlling the length of the recording mark and the length between the marks in units of the basic clock period T. Since the recording density can be made higher than that of the mark position modulation method which is one of the recording methods of the optical information recording medium, it is characterized in that the recording density can be increased and is adopted in CD and DD (Double Density) CD. This is a modulation method employed in an optical disk such as EFM + employed in EFM and DVD. In the recording mark length and inter-mark length modulation system, it is important to accurately control the recording mark length and the inter-mark length (hereinafter, space length). In these modulation methods, the recording mark length and space length are both nT (n is a natural number of 3 or more) with respect to the basic clock period T.

ここに、本実施の形態では、ピークパワーPp(=Pw)、消去パワーPe、バイアスパワーPbの3値を用いる記録ストラテジに関しても、高速仕様として、充分な加熱と冷却を行えるようにパルス数を減らす方式、即ち、ピークパワーPp光とバイアスパワーPb光との繰返しによるn/2以下なる整数個のパルス照射により長さnTの非晶質マークを形成し、消去パワーPe光の照射により非晶質マーク間の長さnTの結晶スペースを形成する方式を前提とする。従って、EFM+変調方式に従って形成される最小マークである3Tは1パルスで形成する。最短の3Tマークを2パルス以上で形成すると、パルス間に充分な冷却時間をとれないため、後続のパルスによってマーク先端部が再結晶化し、所定の大きさのマークを形成できなくなってしまう。4T以上のマークは3Tと同様に1パルスで形成しても、2つ以上のパルスで形成しても良い。パルスの数は主に記録線速によって決まり、記録線速が速い程パルスの数を減らしたほうがよい。   Here, in the present embodiment, the number of pulses is set so that sufficient heating and cooling can be performed as a high-speed specification also for a recording strategy using three values of peak power Pp (= Pw), erasing power Pe, and bias power Pb. An amorphous mark having a length of nT is formed by irradiating an integer number of pulses equal to or less than n / 2 by repeating the peak power Pp light and the bias power Pb light, and amorphous by irradiating the erasing power Pe light. It is assumed that a crystal space having a length nT between quality marks is formed. Therefore, 3T, which is the minimum mark formed according to the EFM + modulation method, is formed with one pulse. When the shortest 3T mark is formed with two or more pulses, a sufficient cooling time cannot be taken between the pulses, and the leading edge of the mark is recrystallized by a subsequent pulse, and a mark having a predetermined size cannot be formed. A mark of 4T or more may be formed by one pulse as in 3T, or may be formed by two or more pulses. The number of pulses is mainly determined by the recording linear velocity, and it is better to reduce the number of pulses as the recording linear velocity is faster.

このような高速仕様条件下に、本実施の形態の光情報記録方法としては、非晶質マークの形成から結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワーPp光からボトムパワーPb光を経て消去パワーPe光へ変調し、或いは、ピークパワーPp光から直接消去パワーPe光へ変調し、ピークパワーPp光から消去パワー光Peへの変調開始後基本クロック周期T以内に、消去パワーPeより高く、ピークパワーPpより低くて非晶質マークの消去可能なレベルの高消去パワーPe(h)光を少なくとも1パルス照射する記録ストラテジを用いるようにしたものである。図2にはピークパワーPp光から一旦ボトムパワーPb光への変調を経て消去パワーPeへ変調する場合の例を示した。   Under such a high-speed specification condition, the optical information recording method of the present embodiment is such that, at the time of transition from the formation of the amorphous mark to the formation of the crystal space, the erasing power passes from the peak power Pp light to the bottom power Pb light. Modulated to Pe light, or directly modulated from peak power Pp light to erasing power Pe light, and higher than erasing power Pe within the basic clock period T after the start of modulation from peak power Pp light to erasing power light Pe. A recording strategy in which at least one pulse of high erasing power Pe (h) light that is lower than the power Pp and at which the amorphous mark can be erased is used. FIG. 2 shows an example in the case of modulating from the peak power Pp light to the bottom power Pb light and then modulating to the erasing power Pe.

このときの消去パワーPe光は、記録線速で照射したときに必ずしも前に記録したマークが全て消去されないパワー値でよい。図3に示すように、記録マーク(非晶質マーク)は、全て均一な太さではなく、部分的に太くなってしまうことが多い。特に、図3のようにマークの後端部が太くなっている場合がしばしば見られる。Sbを主成分とした記録層のように、結晶相との界面からの結晶成長によって結晶化が進行する場合には、結晶相との界面の温度が重要である。図4には、結晶成長速度と温度との関係を示した。結晶成長速度は一般的に融点直下の温度で最大となり、温度が低い場合には結晶成長はほとんど起こらない。結晶相との界面が結晶成長が速く進行できる温度、即ち、融点近傍まで上がっていないと、非晶質マークが全て結晶化できずに残ってしまう。   The erasing power Pe light at this time may be a power value that does not necessarily erase all previously recorded marks when irradiated at the recording linear velocity. As shown in FIG. 3, the recording marks (amorphous marks) are not always uniform in thickness, but are often partially thick. In particular, as shown in FIG. 3, a case where the rear end of the mark is thick is often seen. When crystallization proceeds by crystal growth from the interface with the crystal phase as in the recording layer containing Sb as a main component, the temperature at the interface with the crystal phase is important. FIG. 4 shows the relationship between the crystal growth rate and temperature. The crystal growth rate generally becomes maximum at a temperature just below the melting point, and crystal growth hardly occurs when the temperature is low. If the interface with the crystal phase does not rise to a temperature at which crystal growth can proceed rapidly, that is, close to the melting point, all amorphous marks cannot be crystallized and remain.

この様子を図5に示した。図5(a)は、非晶質マークにある消去パワーを一定線速で照射した時に結晶化する様子を模式的に示したものである。高速で結晶成長速度が進行する温度以上になっている領域を薄いグレーで示した。非晶質と結晶との界面がこの領域に入っていれば、高速で結晶化するため中心部まで結晶化できるが、非晶質マークが部分的に太くなって部分がこの領域からはみ出してしまった場合には、結晶成長速度が遅く、図5(b)のような形に非晶質マークが残ってしまう。   This is shown in FIG. FIG. 5A schematically shows the crystallization when the erasing power on the amorphous mark is irradiated at a constant linear velocity. The region where the temperature is higher than the temperature at which the crystal growth rate proceeds is shown in light gray. If the interface between the amorphous and the crystal enters this region, it can be crystallized at high speed because it crystallizes at high speed, but the amorphous mark partially thickens and the portion protrudes from this region. In this case, the crystal growth rate is slow, and amorphous marks remain in the shape as shown in FIG.

このような消し残りを防ぐためには、消去パワーのレベルを高くして、高速で結晶成長速度が進行する温度領域を広くする必要がある。即ち、部分的に太くなってしまった非晶質マークを全て消去するためには、消去パワーも高めに設定せざるをえない。しかし、記録速度が高速になってくると、消去パワーを高めに設定すると特にマーク先頭のジッタが高くなってしまうという問題を生じる。これは、高速であるため、スペース形成のための消去パワーの照射により温度が定常状態になる前に非晶質マーク形成のためのピークパワーが照射されることになってしまい、最初のピークパワーが照射されるときの温度にばらつきが生じるため、マーク先頭部の位置もばらついてしまうためであると考えられる。最初のピークパワーが照射されるときの温度のばらつきは消去パワーが高い程大きくなってしまうため、マーク先頭のジッタが大きくなってしまう。また、消去パワーが高い場合には、媒体にかかる熱による負荷も大きくなってしまうので、繰返し記録による膜質の劣化も進行しやすくなり、繰り返し記録耐久性が劣化してしまう。   In order to prevent such unerasing, it is necessary to increase the level of the erasing power and widen the temperature region where the crystal growth rate proceeds at high speed. That is, in order to erase all the amorphous marks that are partially thick, the erasing power must be set higher. However, when the recording speed is increased, there is a problem that the jitter at the head of the mark is increased particularly when the erasing power is set higher. Since this is a high speed, the peak power for forming the amorphous mark is irradiated before the temperature reaches a steady state due to the irradiation of the erasing power for forming the space. This is considered to be because the temperature at the time of irradiation is varied, and the position of the mark head portion also varies. Since the variation in temperature when the first peak power is irradiated becomes larger as the erasing power is higher, the jitter at the head of the mark becomes larger. In addition, when the erasing power is high, the load due to the heat applied to the medium is increased, so that the deterioration of the film quality due to the repeated recording is likely to proceed, and the repeated recording durability is deteriorated.

しかし、本実施の形態の場合、消去パワーPe光のパワー値は必ずしもマーク全てが消去される程高く設定する必要はない。確実に消去可能な高消去パワーPe(h)光をパルス照射することにより、部分的に太くなっているマークも消去し、かつ、熱による負荷も小さいため繰返し記録耐久性へ及ぼす影響も少なく、良好な繰返し記録を達成できる。高消去パワーPe(h)光のパルス照射のタイミングは、消去パワーPe光の照射が開始されてから1T以内に開始する。これにより、上書き時に前のマークの消去が良好に行えるばかりでなく、初回記録の場合でもマーク後端のジッタが低減できる効果がある。   However, in the case of the present embodiment, the power value of the erasing power Pe light does not necessarily have to be set so high that all the marks are erased. By irradiating with a pulse of high erasing power Pe (h) light that can be surely erased, marks that are partially thick are also erased, and since the load by heat is small, there is little influence on repeated recording durability, Good repeated recording can be achieved. The pulse irradiation timing of the high erasing power Pe (h) light starts within 1T after the irradiation of the erasing power Pe light is started. As a result, not only can the previous mark be erased satisfactorily during overwriting, but also the effect of reducing the jitter at the trailing edge of the mark even in the case of initial recording.

高消去パワーPe(h)光の1パルス当りの照射時間は0.2T以上、2T以下とする。これより短いと充分昇温されないため、部分的に太くなっているようなマークを消去する効果は期待できない。また、これより長いと、消去パワーPeの値を全て高消去パワーにするのと等価的となってしまい、マーク先頭のジッタが高くなってしまったり、繰返し記録耐久性が劣化してしまったりする。   The irradiation time per pulse of the high erasing power Pe (h) light is 0.2T or more and 2T or less. If it is shorter than this, the temperature is not sufficiently raised, so that the effect of erasing marks that are partially thick cannot be expected. On the other hand, if the length is longer than this, the value of the erasing power Pe becomes all equivalent to a high erasing power, and the jitter at the head of the mark becomes high or the repeated recording durability deteriorates. .

また、高消去パワーPe(h)光のパルスがスペース形成の最初に照射されるだけでは、長いスペースを形成する途中に部分的に太くなっている部分がある場合などは、消去しきれない場合があるので、スペース長が3T以上増加する度に高消去パワーPe(h)光のパルスの数を一つ増やすようにする。スペース長が3T増加する毎に1つ増やすようにしてもよいし、4T或いは5T増加する毎に一つ増やしても良い。それらを組合せても良い。高消去パワーPe(h)のパルスの増やし方は、記録線速と前に記録されてたマークの形状がどういう特徴を持っているかによって変わってくる。ただし、3T〜5Tスペースの形成には、1パルスで充分であるし、パルスの数が必要以上に多いと繰返し記録耐久性の劣化を招くので、注意が必要である。   In addition, if the pulse of the high erasing power Pe (h) light is irradiated only at the beginning of the space formation, there is a case where there is a part that is partially thick in the middle of forming the long space, and the erasing cannot be completed. Therefore, every time the space length increases by 3T or more, the number of pulses of the high erasing power Pe (h) light is increased by one. Each time the space length increases by 3T, it may be increased by one, or may be increased by one every time 4T or 5T increases. You may combine them. The method of increasing the pulse of the high erasing power Pe (h) varies depending on the characteristics of the recording linear velocity and the shape of the previously recorded mark. However, one pulse is sufficient for forming the 3T to 5T space, and if the number of pulses is more than necessary, repeated recording durability is deteriorated, so care must be taken.

高消去パワーPe(h)光のレベルは消去パワーPeの1.1倍以上、2倍以下とする。これより低いと充分昇温されないため、部分的に太くなっているようなマークを消去する効果は期待できない。これより高いと、温度が上がりすぎて、マーク長の制御が難しくなりジッタが悪くなってしまったり、必要以上に温度が上がりすぎることにより繰返し記録耐久性の劣化を招いてしまう。また、このとき、消去パワーPeの2倍以下であっても、ピークパワーPp光のパワー値を超えてはならない。   The level of the high erasing power Pe (h) light is 1.1 to 2 times the erasing power Pe. If the temperature is lower than this, the temperature is not sufficiently raised, and an effect of erasing a mark that is partially thick cannot be expected. If the temperature is higher than this, the temperature will rise too much, and it will be difficult to control the mark length and the jitter will worsen, or if the temperature rises more than necessary, the repeated recording durability will deteriorate. At this time, even if it is less than twice the erasing power Pe, the power value of the peak power Pp light must not be exceeded.

[光情報記録装置]
次に、前述した記録ストラテジによる光情報記録方法を実現するための光情報記録装置の構成例ついて、図6を参照して説明する。
[Optical information recording device]
Next, a configuration example of an optical information recording apparatus for realizing the optical information recording method based on the above-described recording strategy will be described with reference to FIG.

まず、DVD+RWなる光情報記録媒体6に対して、この光情報記録媒体6を回転駆動させるスピンドルモータ21を含む回転制御機構22が設けられているとともに、光情報記録媒体6に対してレーザ光を集光照射させる対物レンズや半導体レーザLD23等のレーザ光源を備えた光ヘッド24がディスク半径方向にシーク移動自在に設けられている。光ヘッド24の対物レンズ駆動装置や出力系に対してはアクチュエータ制御機構25が接続されている。このアクチュエータ制御機構25にはプログラマブルBPF26を含むウォブル検出部27が接続されている。ウォブル検出部27には検出されたウォブル信号からアドレスを復調するアドレス復調回路28が接続されている。このアドレス復調回路28にはPLLシンセサイザ回路29を含む記録クロック生成部30が接続されている。PLLシンセサイザ回路29にはドライブコントローラ31が接続されている。   First, a rotation control mechanism 22 including a spindle motor 21 that rotates the optical information recording medium 6 is provided for the optical information recording medium 6 of DVD + RW, and laser light is applied to the optical information recording medium 6. An optical head 24 provided with an objective lens for condensing irradiation and a laser light source such as a semiconductor laser LD23 is provided so as to be seekable in the disk radial direction. An actuator control mechanism 25 is connected to the objective lens driving device and output system of the optical head 24. A wobble detection unit 27 including a programmable BPF 26 is connected to the actuator control mechanism 25. The wobble detection unit 27 is connected to an address demodulation circuit 28 that demodulates an address from the detected wobble signal. A recording clock generator 30 including a PLL synthesizer circuit 29 is connected to the address demodulating circuit 28. A drive controller 31 is connected to the PLL synthesizer circuit 29.

システムコントローラ32に接続されたこのドライブコントローラ31には、回転制御機構22、アクチュエータ制御機構25、ウォブル検出部27及びアドレス復調回路28も接続されている。   The rotation controller 22, the actuator controller 25, the wobble detector 27, and the address demodulator 28 are also connected to the drive controller 31 connected to the system controller 32.

また、システムコントローラ32はCPU等を備えた、いわゆるマイコン構成のものである。また、このシステムコントローラ32には、EFMエンコーダ34、マーク長カウンタ35、パルス数制御部36が接続されている。これらのEFMエンコーダ34、マーク長カウンタ35、パルス数制御部36及びシステムコントローラ32には、発光波形制御手段となる記録パルス列制御部37が接続されている。この記録パルス列制御部37は、予め設定された記録ストラテジにより規定されるマルチパルス(ピークパワーPp用のオンパルス、バイアスパワーPb用のオフパルス)及び消去パワーPe又はPe(h)の消去パルスを生成するマルチパルス生成部38と、エッジセレクタ39と、パルスエッジ生成部40とが含まれている。   The system controller 32 has a so-called microcomputer configuration including a CPU and the like. Further, an EFM encoder 34, a mark length counter 35, and a pulse number control unit 36 are connected to the system controller 32. The EFM encoder 34, the mark length counter 35, the pulse number control unit 36, and the system controller 32 are connected to a recording pulse train control unit 37 serving as a light emission waveform control unit. The recording pulse train controller 37 generates a multi-pulse (on pulse for peak power Pp, off pulse for bias power Pb) and an erasing pulse of erasing power Pe or Pe (h) defined by a preset recording strategy. A multi-pulse generation unit 38, an edge selector 39, and a pulse edge generation unit 40 are included.

この記録パルス列制御部37の出力側には、記録パワーPw(ピークパワーPp),消去パワーPe(Pe(h)を含む)、バイアスパワーPbの各々の駆動電流源41をスイッチングすることで光ヘッド24中の半導体レーザLD23を駆動させる光源駆動手段としてのLDドライバ部42が接続されている。   On the output side of the recording pulse train controller 37, the optical head is switched by switching the respective drive current sources 41 of the recording power Pw (peak power Pp), the erasing power Pe (including Pe (h)), and the bias power Pb. An LD driver section 42 is connected as a light source driving means for driving the semiconductor laser LD 23 in 24.

このような構成において、光情報記録媒体6に記録するためには、目的の記録速度に対応する記録線速度となるようにスピンドルモータ21の回転数をドライブコントローラ31による制御の下、回転制御機構22により制御した後に、光ヘッド24から得られるプッシュプル信号からプログラマブルBPF26によって分離検出されたウォブル信号からアドレス復調するとともに、PLLシンセサイザ回路29によって記録チャネルクロックを生成する。次に、半導体レーザLD23による記録パルス列を発生させるため、記録パルス列制御部37には記録チャネルクロックと記録情報であるEFM+データが入力され、記録パルス列制御部37中のマルチパルス生成部38により図5に示したような記録ストラテジに従うマルチパルスを生成し、LDドライバ部42で前述のPw,Pe(Pe(h)を含む),Pbなる各々の照射パワーとなるように設定された駆動電流源41をスイッチングすることで、記録パルス列に従うLD発光波形を得ることができる。   In such a configuration, in order to record on the optical information recording medium 6, the rotation control mechanism controls the rotational speed of the spindle motor 21 under the control of the drive controller 31 so that the recording linear velocity corresponds to the target recording velocity. 22, the address demodulation is performed from the wobble signal separated and detected by the programmable BPF 26 from the push-pull signal obtained from the optical head 24, and the recording channel clock is generated by the PLL synthesizer circuit 29. Next, in order to generate a recording pulse train by the semiconductor laser LD 23, a recording channel clock and EFM + data as recording information are input to the recording pulse train control unit 37, and the multi-pulse generation unit 38 in the recording pulse train control unit 37 performs FIG. A multi-pulse according to the recording strategy as shown in FIG. 6 is generated, and the drive current source 41 set so as to have the irradiation powers of Pw, Pe (including Pe (h)), and Pb described above by the LD driver unit 42. By switching the, the LD emission waveform according to the recording pulse train can be obtained.

また、本実施の形態のような構成の記録パルス列制御部37では、EFMエンコーダ34から得られるEFM+信号のマーク長を計数するためのマーク長カウンタ35が配置されており、そのマークカウント値が2T増加する毎に1組のパルス(記録パワーPw(ピークパワーPp)によるオンパルスとバイアスパワーPbによるオフパルス)とが生成されるようにパルス数制御部36を介してマルチパルスを生成するようにしている。   Further, in the recording pulse train control unit 37 configured as in the present embodiment, a mark length counter 35 for counting the mark length of the EFM + signal obtained from the EFM encoder 34 is arranged, and the mark count value is 2T. A multi-pulse is generated via the pulse number control unit 36 so that a set of pulses (an ON pulse based on the recording power Pw (peak power Pp) and an OFF pulse based on the bias power Pb) is generated each time it increases. .

別のマルチパルス生成部の構成としては、記録チャネルクロックを2分周した記録分周クロックを生成し、これを多段遅延回路を用いてエッジパルスを生成し、エッジセレクタで前後のエッジを選択することで記録チャネルクロックが2T増加する毎に1組のパルス(記録パワーPw(ピークパワーPp)によるオンパルスとバイアスパワーPbによるオフパルス)を生成することもできる。この構成の場合、マルチパルス生成部の実質的な動作周波数は1/2となり、さらに高速記録動作が可能となる。   As another configuration of the multi-pulse generation unit, a recording frequency-divided clock obtained by dividing the recording channel clock by two is generated, an edge pulse is generated using a multi-stage delay circuit, and the front and rear edges are selected by the edge selector. Thus, every time the recording channel clock increases by 2T, one set of pulses (an on-pulse by the recording power Pw (peak power Pp) and an off-pulse by the bias power Pb) can be generated. In the case of this configuration, the substantial operating frequency of the multi-pulse generator is halved, and further high-speed recording operation is possible.

以下、上述の実施の形態に準ずる実施例を説明する。   Examples according to the above-described embodiment will be described below.

[実施例1]
図7に本実施例の記録ストラテジの例を示す。マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワーPp光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワーPp光から一旦ボトムパワーPb光へ変調した後に、消去パワーPe光へと変調し、消去パワーPe光へ変調を開始すると同時に高消去パワーPe(h)光のパルスを照射している。高消去パワーPe(h)光のパルスはスペース長に依らず、1パルスのみとした。
[Example 1]
FIG. 7 shows an example of the recording strategy of this embodiment. In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the pulse of the peak power Pp light is increased by one. When moving from the mark formation to the space formation, the peak power Pp light is once modulated to the bottom power Pb light and then the erasing power Pe light. And irradiating a pulse of high erasing power Pe (h) light at the same time as the modulation to erasing power Pe light is started. The pulse of the high erasing power Pe (h) light is only one pulse regardless of the space length.

このとき用いた光情報記録媒体6は、直径12cm、厚さ0.6mm、トラックピッチ0.74μmの案内溝付きポリカーボネートディスク基板1上に下部保護層2としてZnS-SiOを厚さ60nm、記録層3としてIn-Sb-Geを厚さ15nm、上部保護層4としてZnS-SiOを厚さ12nm、硫化防止層7としてSiCを厚さ4nm、反射層5としてAgを厚さ140nmに順次スパッタにより形成し、有機保護膜8でオーバーコートし、厚さ0.6mmのポリカーボネートディスクを貼り合わせ、大口径LDにより初期結晶化したものである。 The optical information recording medium 6 used at this time had a recording layer of ZnS—SiO 2 with a thickness of 60 nm as a lower protective layer 2 on a polycarbonate disk substrate 1 with a guide groove having a diameter of 12 cm, a thickness of 0.6 mm, and a track pitch of 0.74 μm. Sputtering of In—Sb—Ge 15 nm thick as layer 3, ZnS—SiO 2 thick 12 nm as upper protective layer 4, SiC 4 nm thick as anti-sulfurization layer 7, Ag 140 nm thick as reflective layer 5 , Overcoated with an organic protective film 8, a polycarbonate disk having a thickness of 0.6 mm is bonded, and is initially crystallized by a large-diameter LD.

これに、波長660nm、NA0.65の光ヘッド24を用いてEFM+変調方式で記録ビット長0.267μm/bitのランダムパターンをDVD8倍速に相当する28m/sで繰返し記録した。このときの各パワーの設定値は、Pw(=Pp)=26mW、Pb=0.1mW、Pe=6mW、Pe(h)=7.5mWである。高消去パワーPe(h)光のパルス照射時間は1Tとした。このときの繰返し記録回数とジッタの関係を図11に示す。   A random pattern having a recording bit length of 0.267 μm / bit was repeatedly recorded at 28 m / s corresponding to DVD 8 × speed using the optical head 24 having a wavelength of 660 nm and NA of 0.65 by the EFM + modulation method. The set values of each power at this time are Pw (= Pp) = 26 mW, Pb = 0.1 mW, Pe = 6 mW, and Pe (h) = 7.5 mW. The pulse irradiation time of the high erasing power Pe (h) light was 1T. FIG. 11 shows the relationship between the number of repeated recordings and jitter at this time.

[実施例2]
図8に本実施例の記録ストラテジの例を示す。マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワーPp光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワーPp光から一旦ボトムパワーPb光へ変調した後に、消去パワーPe光へと変調し、消去パワーPeへ変調を開始してから0.8T後に高消去パワーPe(h)光のパルスを照射している。高消去パワーPe(h)光のパルスはスペース長に依らず、1パルスのみとした。
[Example 2]
FIG. 8 shows an example of the recording strategy of this embodiment. In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the pulse of the peak power Pp light is increased by one. When moving from the mark formation to the space formation, the peak power Pp light is once modulated to the bottom power Pb light and then the erasing power Pe light. The pulse of the high erasing power Pe (h) light is irradiated after 0.8 T from the start of the modulation to the erasing power Pe. The pulse of the high erasing power Pe (h) light is only one pulse regardless of the space length.

このとき用いた光情報記録媒体6、記録条件は全て実施例1と同じで、高消去パワーPe(h)の照射開始時間のみを変えた。このときの繰返し記録回数とジッタの関係を図11に示す。   The optical information recording medium 6 and the recording conditions used at this time were all the same as in Example 1, and only the irradiation start time of the high erasing power Pe (h) was changed. FIG. 11 shows the relationship between the number of repeated recordings and jitter at this time.

[実施例3]
図9に本実施例の記録ストラテジの例を示す。マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワーPp光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワーPp光から一旦ボトムパワーPb光へ変調した後に、消去パワーPe光へと変調し、消去パワーPeへ変調を開始すると同時に高消去パワーPe(h)光のパルスを照射している。高消去パワーPe(h)のパルスはスペース長が3T増えるごとに1つ増やした。
[Example 3]
FIG. 9 shows an example of the recording strategy of this embodiment. In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the pulse of the peak power Pp light is increased by one. When moving from the mark formation to the space formation, the peak power Pp light is once modulated to the bottom power Pb light and then the erasing power Pe light. And at the same time the pulse of high erasing power Pe (h) light is irradiated. The number of pulses with high erasing power Pe (h) was increased by 1 every time the space length increased by 3T.

このとき用いた光情報記録媒体6、記録条件は全て実施例1と同じで、スペース長が長い場合の高消去パワーPe(h)光のパルスの数のみを変えた。高消去パワーPe(h)光のパルスの数は具体的には、3T〜5Tスペースは1個、6T〜8Tスペースは2個、9T〜11Tスペースは3個、14Tスペースは4個とした。結果を図11に示す。   The optical information recording medium 6 and the recording conditions used at this time were all the same as in Example 1, and only the number of pulses of the high erasing power Pe (h) light when the space length was long was changed. Specifically, the number of pulses of the high erasing power Pe (h) light is 1 for 3T-5T space, 2 for 6T-8T space, 3 for 9T-11T space, and 4 for 14T space. The results are shown in FIG.

[比較例1]
マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワー光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光へ変調した後に、消去パワー光へと変調し、高消去パワーパルス光は照射しなかった。
[Comparative Example 1]
In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the peak power light pulse is increased by one. When moving from the mark formation to the space formation, the peak power light is once modulated to the bottom power light and then modulated to the erasing power light. The high erasing power pulse light was not irradiated.

このとき用いた相変化記録媒体、記録条件、高消去パワーのパルスを用いなかった以外は全て実施例1と同じである。結果を図11に示す。   Except for not using the phase change recording medium, the recording conditions, and the high erasing power pulse used at this time, all are the same as in the first embodiment. The results are shown in FIG.

[比較例2]
マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワー光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光へ変調した後に、消去パワー光へと変調し、高消去パワーパルス光は照射しなかった。
[Comparative Example 2]
In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the peak power light pulse is increased by one. When moving from the mark formation to the space formation, the peak power light is once modulated to the bottom power light and then modulated to the erasing power light. The high erasing power pulse light was not irradiated.

このとき用いた相変化記録媒体、記録条件は、Pe=7mWとし、高消去パワー光のパルスを用いなかった以外は全て実施例1と同じである。結果を図11に示す。   The phase change recording medium and recording conditions used at this time were the same as those in Example 1 except that Pe = 7 mW and no pulse of high erasing power light was used. The results are shown in FIG.

[比較例3]
マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワー光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光へ変調した後に、消去パワー光へと変調し、消去パワー光への変調を開始してから1.2T後に高消去パワー光のパルスを照射するようにした。高消去パワー光のパルスはスペース長に依らず、1パルスのみとした。
[Comparative Example 3]
In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the peak power light pulse is increased by one. When moving from the mark formation to the space formation, the peak power light is once modulated to the bottom power light and then modulated to the erasing power light. The pulse of the high erasing power light was irradiated 1.2T after the modulation to the erasing power light was started. Only one pulse of the high erasing power light is used regardless of the space length.

このとき用いた相変化記録媒体、記録条件は全て実施例1と同じで、高消去パワーの開始時間のみを変えた。結果を図11に示す。   The phase change recording medium and recording conditions used at this time were all the same as in Example 1, and only the start time of the high erasing power was changed. The results are shown in FIG.

[実施例4]
図10に本実施の形態の記録ストラテジの例を示す。マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワーPp光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワーPp光から直接消去パワーPe光へと変調し、消去パワーPe光へ変調を開始すると同時に高消去パワーPe(h)光のパルスを照射するようにした。高消去パワーPe(h)光のパルスはスペース長に依らず、1パルスのみとした。
[Example 4]
FIG. 10 shows an example of the recording strategy of the present embodiment. In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the pulse of the peak power Pp light is increased by one, and when moving from the mark formation to the space formation, the peak power Pp light is directly modulated to the erase power Pe light, and the erase power Pe light is modulated. At the same time as modulation was started, a pulse of high erasing power Pe (h) light was irradiated. The pulse of the high erasing power Pe (h) light is only one pulse regardless of the space length.

このとき用いた光情報記録媒体6、記録条件は、Pe=5.5mWとし、マーク形成時のピークパワーPp光のパルス幅を最適化した以外は全て実施例1と同じである。結果を図11に示す。   The optical information recording medium 6 and the recording conditions used at this time are the same as those in Example 1 except that Pe = 5.5 mW and the pulse width of the peak power Pp light at the time of mark formation is optimized. The results are shown in FIG.

[実施例5]
マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワーPp光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワーPp光から直接消去パワーPe光へと変調し、消去パワーPe光へ変調を開始してから0.8T後に高消去パワーPe(h)光のパルスを照射している。高消去パワーPe(h)光のパルスはスペース長に依らず、1パルスのみとした。
[Example 5]
In the mark formation, every time the mark length increases by 2T, the pulse of the peak power Pp light is increased by one, and when moving from the mark formation to the space formation, the peak power Pp light is directly modulated to the erase power Pe light, and the erase power Pe light is modulated. A pulse of high erasing power Pe (h) light is irradiated after 0.8 T from the start of modulation. The pulse of the high erasing power Pe (h) light is only one pulse regardless of the space length.

このとき用いた光情報記録媒体6、記録条件は全て実施例4と同じで、高消去パワーPe(h)光の照射開始時間のみを変えた。結果を図11に示す。   The optical information recording medium 6 and the recording conditions used at this time were all the same as in Example 4, and only the irradiation start time of the high erasing power Pe (h) light was changed. The results are shown in FIG.

[比較例4]
マーク形成は、マーク長が2T増える毎にピークパワー光のパルスを1つ増やし、マーク形成からスペース形成へ移る時には、ピークパワー光から直接消去パワー光へと変調し、消去パワー光への変調を開始してから1.2T後に高消去パワー光のパルスを照射している。高消去パワー光のパルスはスペース長に依らず、1パルスのみとした。
[Comparative Example 4]
For mark formation, every time the mark length increases by 2T, the peak power light pulse is increased by one. When moving from mark formation to space formation, the peak power light is directly modulated to the erasing power light, and the modulation to the erasing power light is performed. A pulse of high erasing power light is irradiated 1.2T after the start. Only one pulse of the high erasing power light is used regardless of the space length.

このとき用いた相変化記録媒体、記録条件は全て実施例4と同じで、高消去パワーの開始時間のみを変えた。結果を図11に示す。   The phase change recording medium and the recording conditions used at this time were all the same as in Example 4, and only the start time of the high erasing power was changed. The results are shown in FIG.

このような結果によれば、実施例1〜5の場合が比較例1〜4の場合に比べて、何れも繰返し記録回数とジッタの関係が良好であることがわかる。また、実施例中でも、一旦ボトムパワーPbに変調する過程を経て消去パワーPeに変調する方式(実施例4,5)の方が、トップパワーPpから直接消去パワーPeに変調する方式(実施例1,2,3)よりも、より低ジッタ化を図れることが判る。   From these results, it can be seen that the cases of Examples 1 to 5 have a better relationship between the number of repeated recordings and the jitter than the cases of Comparative Examples 1 to 4. Also, among the embodiments, the method of modulating to the erasing power Pe through the process of once modulating to the bottom power Pb (Examples 4 and 5) is the method of directly modulating from the top power Pp to the erasing power Pe (Example 1). , 2, 3), it can be seen that lower jitter can be achieved.

本発明の一実施の形態の光情報記録媒体の層構成例を示す原理的断面図である。1 is a principle sectional view showing a layer configuration example of an optical information recording medium according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態の記録ストラテジを示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the recording strategy of one embodiment of this invention. 形成されるマーク形状の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the mark shape formed. 結晶成長速度と温度との関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the relationship between a crystal growth rate and temperature. 消し残りの生ずる様子を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a mode that unerasing remains arise. 光情報記録装置の制御系構成例を示す概略ブロック図である。It is a schematic block diagram which shows the example of a control system structure of an optical information recording device. 実施例1の記録ストラテジを示す波形図である。FIG. 3 is a waveform diagram showing a recording strategy of Example 1. 実施例2の記録ストラテジを示す波形図である。6 is a waveform diagram showing a recording strategy of Example 2. FIG. 実施例3の記録ストラテジを示す波形図である。FIG. 6 is a waveform diagram showing a recording strategy of Example 3. 実施例4の記録ストラテジを示す波形図である。FIG. 6 is a waveform diagram showing a recording strategy of Example 4. 記録回数とジッタとの関係を示す測定結果の特性図である。It is a characteristic view of the measurement result which shows the relationship between the frequency | count of recording, and a jitter. 従来一般の記録ストラテジを示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the conventional general recording strategy. 特許文献4方式の記録ストラテジを示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the recording strategy of a patent document 4 system. 特許文献5方式の記録ストラテジを示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the recording strategy of a patent document 5 system.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明基板
2 第1保護層
3 記録層
4 第2保護層
5 反射層
6 光情報記録媒体
23 レーザ光源
37 発光波形制御手段
42 光源駆動手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 1st protective layer 3 Recording layer 4 2nd protective layer 5 Reflective layer 6 Optical information recording medium 23 Laser light source 37 Light emission waveform control means 42 Light source drive means

Claims (18)

記録マークの時間的長さが基本クロック周期Tのn倍(nは自然数)なるnTで表されるマーク長記録方式により情報を光情報記録媒体に対して記録する光情報記録方法において、
相対的に高いパワー値のピークパワー光と相対的に低いパワー値のバイアスパワー光との繰返しによるn/2以下なる整数個のパルス照射により長さnTの非晶質マークを形成し、前記ピークパワー光と前記バイアスパワー光との中間レベルのパワー値の消去パワー光の照射により非晶質マーク間の長さnTの結晶スペースを形成する際、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から消去パワー光へ変調し、当該消去パワー光への変調開始後基本クロック周期T以内に、前記消去パワー光より高く、前記ピークパワー光より低くて前記非晶質マークの消去可能なレベルのパワー値の高消去パワー光を、少なくとも1パルス照射する記録ストラテジを用いるようにしたことを特徴とする光情報記録方法。
In an optical information recording method for recording information on an optical information recording medium by a mark length recording method represented by nT in which a time length of a recording mark is n times (n is a natural number) a basic clock period T,
An amorphous mark having a length nT is formed by irradiating an integer number of pulses equal to or less than n / 2 by repeating a peak power light having a relatively high power value and a bias power light having a relatively low power value. When a crystal space having a length nT between amorphous marks is formed by irradiating an erasing power light having an intermediate power value between the power light and the bias power light, the formation of the crystal space from the formation of the amorphous marks is performed. Is shifted from the peak power light to the erasing power light, and within the basic clock period T after the start of the modulation to the erasing power light, the amorphous power is higher than the erasing power light and lower than the peak power light. An optical information recording method characterized by using a recording strategy for irradiating at least one pulse of high erasing power light having a power value of a mark erasable level
非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光への変調過程を経て消去パワー光へ変調することを特徴とする請求項1記載の光情報記録方法。   2. The optical information recording according to claim 1, wherein at the time of transition from the formation of the amorphous mark to the formation of the crystal space, the modulation is performed from the peak power light to the bottom power light and then to the erasing power light. Method. 前記高消去パワー光の照射時間は、0.2T以上、2T以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の光情報記録方法。   3. The optical information recording method according to claim 1, wherein the irradiation time of the high erasing power light is 0.2T or more and 2T or less. 前記高消去パワー光のパルスの数を、結晶スペース長が3T以上増加する度に1つ増やすことを特徴とする請求項1ないし3の何れか一記載の光情報記録方法。   4. The optical information recording method according to claim 1, wherein the number of pulses of the high erasing power light is increased by one every time the crystal space length increases by 3T or more. 前記高消去パワー光のパワー値のレベルは、前記消去パワー光の1.1倍以上、2倍以下であることを特徴とする請求項1ないし4の何れか一記載の光情報記録方法。   5. The optical information recording method according to claim 1, wherein the level of the power value of the high erasing power light is 1.1 to 2 times that of the erasing power light. 6. 前記光情報記録媒体として相変化型光情報記録媒体を対象とすることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一記載の光情報記録方法。   6. The optical information recording method according to claim 1, wherein the optical information recording medium is a phase change optical information recording medium. 前記相変化型光記録媒体は、基板上に少なくとも、第1保護層、記録層、第2保護層及び反射層が積層形成され、前記記録層は、少なくともSbとGe,Ga,In,Zn,Mn,Sn,Ag,Mg,Ca,Ag,Bi,Se,Teの中から選ばれる一種以上の元素を含むことを特徴とする請求項6記載の光情報記録方法。   In the phase change optical recording medium, at least a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflective layer are laminated on a substrate, and the recording layer includes at least Sb, Ge, Ga, In, Zn, 7. The optical information recording method according to claim 6, comprising at least one element selected from Mn, Sn, Ag, Mg, Ca, Ag, Bi, Se, and Te. 前記記録層のSbの含有量が50〜90原子%であることを特徴とする請求項7記載の光情報記録方法。   8. The optical information recording method according to claim 7, wherein the content of Sb in the recording layer is 50 to 90 atomic%. 前記反射層は、Ag又はAg合金であることを特徴とする請求項7又は8記載の光情報記録方法。   9. The optical information recording method according to claim 7, wherein the reflective layer is made of Ag or an Ag alloy. 前記第1保護層及び第2保護層はZnSとSiOの混合物であることを特徴とする請求項7ないし9の何れか一記載の光情報記録方法。 The optical information recording method according to claim 7, wherein the first protective layer and the second protective layer are a mixture of ZnS and SiO 2 . 前記第2保護層と前記反射層との間に硫化防止層を有する相変化型光情報記録媒体であることを特徴とする請求項9又は10記載の光情報記録方法。   11. The optical information recording method according to claim 9, wherein the optical information recording medium is a phase change optical information recording medium having a sulfidation prevention layer between the second protective layer and the reflective layer. 前記硫化防止層は、Si又はSiCを主成分とすることを特徴とする請求項11記載の光情報記録方法。   The optical information recording method according to claim 11, wherein the anti-sulfurization layer contains Si or SiC as a main component. 記録マークの時間的長さが基本クロック周期Tのn倍(nは自然数)なるnTで表されるマーク長記録方式により情報を光情報記録媒体に対して記録する情報記録装置において、
前記光情報記録媒体に対して照射するレーザ光を発するレーザ光源と、
このレーザ光源を発光させる光源駆動手段と、
前記レーザ光源が発する光ビームの発光波形に関する記録ストラテジが設定されて前記光源駆動手段を制御する発光波形制御手段と、
を備え、
前記発光波形制御手段は、相対的に高いパワー値のピークパワー光と相対的に低いパワー値のバイアスパワー光との繰返しによるn/2以下なる整数個のパルス照射により長さnTの非晶質マークを形成し、前記ピークパワー光と前記バイアスパワー光との中間レベルのパワー値の消去パワー光の照射により非晶質マーク間の長さnTの結晶スペースを形成する際、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から消去パワー光へ変調し、当該消去パワー光への変調開始後基本クロック周期T以内に、前記消去パワー光より高く、前記ピークパワー光より低くて前記非晶質マークの消去可能なレベルのパワー値の高消去パワー光を、少なくとも1パルス照射する記録ストラテジを用いるようにしたことを特徴とする光情報記録装置。
In an information recording apparatus for recording information on an optical information recording medium by a mark length recording method represented by nT in which the time length of a recording mark is n times (n is a natural number) the basic clock period T.
A laser light source that emits a laser beam for irradiating the optical information recording medium;
Light source driving means for emitting the laser light source;
A light emission waveform control means for controlling the light source driving means by setting a recording strategy related to the light emission waveform of the light beam emitted from the laser light source;
With
The emission waveform control means is an amorphous material having a length of nT by irradiating an integer number of pulses equal to or less than n / 2 by repeating a peak power light having a relatively high power value and a bias power light having a relatively low power value. When forming a mark and forming a crystal space having a length nT between the amorphous marks by irradiating the erasing power light having an intermediate power level between the peak power light and the bias power light, At the time of transition from the formation to the formation of the crystal space, the peak power light is modulated from the peak power light to the erasing power light, and is higher than the erasing power light within the basic clock period T after the start of the modulation to the erasing power light. The use of a recording strategy that irradiates at least one pulse of a high erasing power light having a power value lower than the amorphous mark and erasable. The optical information recording apparatus according to symptoms.
前記発光波形制御手段は、非晶質マークの形成から当該結晶スペースの形成への移行時には、ピークパワー光から一旦ボトムパワー光への変調過程を経て消去パワー光へ変調することを特徴とする請求項13記載の光情報記録装置。   The light emission waveform control means modulates the peak power light to the erasing power light once through the modulation process from the peak power light to the formation of the crystal space from the formation of the amorphous mark. Item 14. An optical information recording apparatus according to Item 13. 前記発光波形制御手段は、前記高消去パワー光の照射時間を、0.2T以上、2T以下とすることを特徴とする請求項13又は14記載の光情報記録装置。   15. The optical information recording apparatus according to claim 13, wherein the light emission waveform control means sets the irradiation time of the high erasing power light to 0.2T or more and 2T or less. 前記発光波形制御手段は、前記高消去パワー光のパルスの数を、結晶スペース長が3T以上増加する度に1つ増やすことを特徴とする請求項13ないし15の何れか一記載の光情報記録装置。   16. The optical information recording according to claim 13, wherein the light emission waveform control means increases the number of pulses of the high erasing power light by one every time the crystal space length increases by 3T or more. apparatus. 前記発光波形制御手段は、前記高消去パワー光のパワー値のレベルを、前記消去パワー光の1.1倍以上、2倍以下とすることを特徴とする請求項13ないし16の何れか一記載の光情報記録装置。   The light emission waveform control means sets the level of the power value of the high erasing power light to 1.1 times or more and 2 times or less of the erasing power light. Optical information recording device. 前記光情報記録媒体として相変化型光情報記録媒体を対象とすることを特徴とする請求項13ないし17の何れか一記載の光情報記録装置。
18. The optical information recording apparatus according to claim 13, wherein the optical information recording medium is a phase change optical information recording medium.
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