JP2005139461A - Photocurable sealant composition and member with sealing layer - Google Patents

Photocurable sealant composition and member with sealing layer Download PDF

Info

Publication number
JP2005139461A
JP2005139461A JP2004357350A JP2004357350A JP2005139461A JP 2005139461 A JP2005139461 A JP 2005139461A JP 2004357350 A JP2004357350 A JP 2004357350A JP 2004357350 A JP2004357350 A JP 2004357350A JP 2005139461 A JP2005139461 A JP 2005139461A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
weight
acrylate
photocurable
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004357350A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005139461A5 (en
JP4604695B2 (en
Inventor
Yoshihide Arai
佳英 荒井
Takashi Nemoto
崇 根本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ThreeBond Co Ltd
Original Assignee
ThreeBond Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ThreeBond Co Ltd filed Critical ThreeBond Co Ltd
Priority to JP2004357350A priority Critical patent/JP4604695B2/en
Publication of JP2005139461A publication Critical patent/JP2005139461A/en
Publication of JP2005139461A5 publication Critical patent/JP2005139461A5/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4604695B2 publication Critical patent/JP4604695B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Sealing Material Composition (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable sealant which suppresses generation of volatile gas from the material cured by UV irradiation; gives low water absorptivity and low hygroscopicity; has high shape retaining properties when applied to an adherend; has an appropriate coating speed so as to maintain mass productivity; realizes cost reduction and high degree of freedom in designing; and ensures stability (shape retaining properties, surface smoothness, etc.) of a cured sealing layer regardless of how the photocurable sealant applied on an adherend is photo-irradiated. <P>SOLUTION: Each component comprises (A) 10-80 wt.% of a urethane (meth)acrylate, (B) 20-90 wt.% of a (meth)acrylate monomer, (C) 0.3-10 wt.% of a photopolymerization initiator, and (D) 1-30 wt.% of a filler. The photocurable sealant composition contains (A)-(D) as the main components and has a yield value in a range of 5-100 Pa (Pascall) of shear stress. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は光硬化性のシール剤組成物、あるいはこの組成物を使用したシール層の形成方法に関し、特に電子回路素子や電子部品を内在した電子部品ケースの封止用のシール剤あるいはそのためのシール層の形成方法に関する。   The present invention relates to a photocurable sealant composition or a method for forming a seal layer using the composition, and more particularly to a sealant for sealing an electronic component case containing an electronic circuit element or electronic component, or a seal therefor The present invention relates to a method for forming a layer.

従来より知られている光硬化性樹脂組成物としては、不飽和ポリエステル樹脂やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸エステルモノマーなどに代表されるアクリレート系樹脂などに光重合開始剤を添加したものや、エポキシ樹脂に光重合開始剤を添加したものが用いられている。特にウレタン(メタ)アクリレートを使用したものは硬化物に柔軟性を付与しやすいため、様々な用途に使用できることが知られている(特許第2600563号等)。   Conventionally known photocurable resin compositions include photopolymers such as unsaturated polyester resins, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, acrylate resins represented by (meth) acrylate monomers, and the like. What added the polymerization initiator and what added the photoinitiator to the epoxy resin are used. In particular, those using urethane (meth) acrylate are known to be able to be used in various applications because they tend to impart flexibility to the cured product (Japanese Patent No. 2600563).

これらの光硬化性樹脂組成物は、紫外線などの光を照射することにより速やかに硬化するが、これらの硬化物は例えば光照射が完全なものであっても硬化物中に低分子量の化合物が残存し、この低分子量化合物が硬化物から揮発するという問題点があった。この原因としては、低分子量の未反応物質や非反応物質、未反応の光重合開始剤、光により分解したり異性化した光重合開始剤からの生成物によるもの等が考えられる。   These photocurable resin compositions cure rapidly by irradiating with light such as ultraviolet rays, but these cured products have low molecular weight compounds in the cured product even when the light irradiation is complete, for example. There remains a problem that the low molecular weight compound remains and volatilizes from the cured product. This may be due to a low molecular weight unreacted substance or non-reacted substance, an unreacted photopolymerization initiator, a product derived from a photopolymerization initiator decomposed or isomerized by light, or the like.

一方、電気、電子分野における光硬化性樹脂への要求、要望は大きいが、高精密部品や記録媒体などの先端技術の分野においては、前記のような硬化物からの低分子量化合物の発生が腐食や誤動作の原因になっている。また、光硬化性樹脂を磁気ハードディスクドライブのシール材や接着剤として使用する場合には、シール材の不良によるダストや汚染物質が侵入によって、あるいは硬化物から発生した腐食性物質や汚染物質によって、信号の記録や読み取りの際に誤動作が発生する(特開平6−105502、特開平8−72189、特開平8−74863等)。また、この他にも光硬化性樹脂の合成時に使用される触媒が不純物(例えば有機錫化合物など)がブリードアウトして磁気ハードディスクドライブへの悪影響を与えることが懸念されている。さらに、このような光硬化性樹脂をシール材として使用するには、硬化物の吸水性や吸湿性が低く耐水性に優れることも要求される。   On the other hand, there is a great demand and demand for photo-curing resins in the electrical and electronic fields, but in the fields of advanced technology such as high-precision parts and recording media, the generation of low molecular weight compounds from the cured products is corrosive. Cause malfunction. In addition, when using a photo-curing resin as a sealing material or adhesive for magnetic hard disk drives, dust or contaminants due to defective sealing materials may intrude or corrosive substances or contaminants generated from the cured product. A malfunction occurs when recording or reading a signal (Japanese Patent Laid-Open No. 6-105502, Japanese Patent Laid-Open No. 8-72189, Japanese Patent Laid-Open No. 8-74863, etc.). In addition to this, there is a concern that impurities used in the synthesis of the photo-curing resin bleed out impurities (for example, an organic tin compound) to adversely affect the magnetic hard disk drive. Furthermore, in order to use such a photocurable resin as a sealing material, it is also required that the cured product has low water absorption and hygroscopicity and excellent water resistance.

そこで、このような問題点を解決するため、本願出願人は先に特開平6−16749、特開平7−33837、特願平10−91080により、揮発性ガスの発生や不純物のブリードアウトを抑制した光硬化性樹脂組成物を提案している。これらの発明は硬化物からの揮発性ガスの抑制や不純物のブリードアウトという点では優れているが、硬化物の吸水性や吸湿性が高く耐水性に劣る点や、被着体へ光硬化性組成物を塗布した際の形状保持性、すなわち、塗布後の経時的な流動によりシール材としての厚みを確保できないという課題があった。   Therefore, in order to solve such problems, the applicant of the present application previously suppressed generation of volatile gas and bleed out of impurities by Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-16749, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-33837, and Japanese Patent Application No. 10-91080. A photocurable resin composition is proposed. Although these inventions are excellent in terms of suppressing volatile gases from cured products and bleeding out impurities, the cured products have high water absorption and hygroscopicity, and are inferior in water resistance. There existed a subject that the thickness as a sealing material was not securable by the shape retention property at the time of apply | coating a composition, ie, the flow with time after application | coating.

上記の形状保持性は、光硬化性樹脂組成物を塗布後速やかに光硬化すればある程度解決できるが、シール剤の塗布距離が長かったり、塗布に時間がかかる場合には塗布開始位置と塗布終了位置とではシール層の高さが異なって不均一なシール層となってしまう。また、被塗布面が水平でない場合にはさらにその傾向が顕著である。そこで、塗布した光硬化性樹脂の軌跡に追従するように紫外線ランプを動作させて紫外線を照射し硬化させることも考えられるが、このようにすると塗布照射装置が大がかりになりコストアップに繋がるとともに、光硬化性樹脂の硬化物表面に皺が発生して平滑なシール層を得られ難くなる。   The above shape retention can be solved to some extent by photocuring quickly after applying the photocurable resin composition, but if the coating distance of the sealant is long or the application takes time, the application start position and the application end The height of the seal layer differs depending on the position, resulting in a non-uniform seal layer. Further, when the surface to be coated is not horizontal, the tendency is more remarkable. Therefore, it is conceivable to operate the ultraviolet lamp so as to follow the trajectory of the applied photocurable resin, and to cure by irradiating with ultraviolet rays, but this will increase the cost of the coating irradiation device and increase the cost, Wrinkles are generated on the surface of the cured product of the photocurable resin, and it becomes difficult to obtain a smooth seal layer.

そこで、本発明の目的は前述の課題を解決し、すなわち、紫外線照射によって硬化した硬化物からの揮発性ガスの発生を抑制するとともに吸水性や吸湿性が少なく、かつ、被着体に塗布した際の形状保持性が高く、適切な塗布速度を有することで量産性を維持し、コスト低減と設計の自由度を与えることができ、かつ被着体へ塗布された光硬化性シール剤にどのような方法で光照射しても硬化したシール層の安定性(形状保持性や表面平滑性など)が確保できる光硬化性シール剤及びシール層が付着された部材を提供することを目的とする。   Therefore, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, that is, to suppress the generation of volatile gas from a cured product cured by ultraviolet irradiation, and has low water absorption and moisture absorption, and is applied to an adherend. It has high shape-retaining ability, maintains mass productivity by having an appropriate application speed, can reduce cost and give design freedom, and can be used for the photo-curable sealant applied to the adherend. It is an object of the present invention to provide a photocurable sealing agent that can ensure the stability (shape retention property, surface smoothness, etc.) of a cured seal layer even when light is irradiated by such a method, and a member to which the seal layer is attached. .

前述の課題を解決するため、(A)ウレタン(メタ)アクリレート 10〜80重量%
(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマー 20〜90重量%
(C)光重合開始剤 0.3〜10重量%
(D)充填剤 1〜30重量%
上記(A)〜(D)を主成分とする組成物であって、かつこの組成物がせん断応力(Shear stress)5〜100 Pa(Pascal)の範囲に降伏値を有する光硬化性シール剤組成物とした。また、この組成物によって形成されるシール層の断面形状が、幅1対して高さ0.5〜0.9になるように光照射により硬化させてシール層付き部材とした。
In order to solve the above-mentioned problems, (A) urethane (meth) acrylate 10 to 80% by weight
(B) (meth) acrylic acid ester monomer 20 to 90% by weight
(C) Photopolymerization initiator 0.3 to 10% by weight
(D) Filler 1-30% by weight
A composition comprising the above (A) to (D) as a main component, and the composition having a yield value in the range of shear stress 5 to 100 Pa (Pascal). It was a thing. Further, the sealing layer formed with this composition was cured by light irradiation so that the cross-sectional shape of the sealing layer was 0.5 to 0.9 with respect to the width 1, thereby obtaining a member with a sealing layer.

本発明の光硬化性シール剤組成物は、硬化物からのアウトガスや不純物の発生が少なく周りに与える影響が少ない。特にポリエーテルウレタン(メタ)アクリレートを使用した系や、高分子量の光重合開始剤を使用した系ではその効果が顕著である。
また、疎水処理を施したシリカ粉を用いるとより形状保持性の高い組成物が得られ、かつシール層の高さ/幅比が高く保てるためシール剤としての効果がより大きい。特にポリジメチルシリコーンオイル処理したシリカ粉はその効果が顕著である。さらに、自動塗布機を用いた塗布に適した性状(粘弾性)を有しているため、被着体の形状や大きさに左右されることなく塗布可能であるため被着体の設計の自由度が大きくなる。
The photocurable sealant composition of the present invention generates little outgas and impurities from the cured product and has little influence on the surroundings. The effect is particularly remarkable in a system using polyether urethane (meth) acrylate and a system using a high molecular weight photopolymerization initiator.
In addition, when silica powder that has been subjected to hydrophobic treatment is used, a composition having higher shape retention can be obtained, and the height / width ratio of the sealing layer can be kept high, so that the effect as a sealing agent is greater. In particular, the effect of the silica powder treated with polydimethyl silicone oil is remarkable. Furthermore, because it has properties (viscoelasticity) suitable for application using an automatic application machine, it can be applied without being affected by the shape or size of the adherend, so the design of the adherend is free. The degree is increased.

本発明の光硬化性シール剤組成物は被着体に塗布された後、光照射による硬化を行わなくても容易にずれたり、流動したりしないので移動が容易行え、そのため光照射行程をまとめて処理できるので生産性に優れる。
本発明を実施例を用いて詳細に説明する。なお、以下の実施例は本発明の1つの形態を示すのみでこれに限定されるものではない。
Since the photocurable sealant composition of the present invention is applied to an adherend and does not easily shift or flow without being cured by light irradiation, it can be easily moved, and therefore the light irradiation process is summarized. It is excellent in productivity.
The present invention will be described in detail with reference to examples. The following examples show only one form of the present invention, and the present invention is not limited to them.

本発明に使用できる(A)ウレタン(メタ)アクリレートとしては、特開平5−70535に開示されるようなポリカーボネート系ウレタン(メタ)アクリレートや、特開平6−301206に開示されるようなビスフェノールAをポリエチレングリコールなどで鎖伸長したアルコールにイソシアン酸エチル(メタ)アクリレート等を付加させたウレタン(メタ)アクリレートや、特開平10−237392に開示されるような(メタ)アクリレート変性パーフルオロポリエーテルウレタンプレポリマーや、ポリエーテルポリオールやポリエーテルジオールと有機ジイソシアネート化合物との反応生成物に、さらに活性水素基を有する(メタ)アクリレートを付加させたウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの中でもポリエーテルポリオールやポリエーテルジオールと有機ジイソシアネート化合物とをモル比で1:1〜1:2の割合で希釈剤中にて混合し反応させて得られるウレタンプレポリマーに、さらにこのウレタンプレポリマーの残りのイソシアネート基に、これと反応するに十分な量の活性水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーを反応させ得られる化合物が好ましい。
なお、前記ポリエーテルポリオールやポリエーテルジオールの具体例としては、特許第2568421号に記載されるような分子中にビスフェノールA骨格を有し、かつ末端又は側鎖に水酸基を有するポリオール化合物もしくはジオール化合物や、分子内にエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド構造を有するポリオール化合物もしくはジオール化合物が挙げられる。これらポリエーテルポリオールやポリエーテルジオールは、1種もしくは複数種を混合して使用される。また、これら化合物の中でも光硬化性、吸水性、アウトガスの観点から分子中にビスフェノールA骨格およびエチレンオキサイド構造を有するポリエーテルポリオール化合物もしくはポリエーテルジオール化合物が特に好ましい。
Examples of (A) urethane (meth) acrylate that can be used in the present invention include polycarbonate urethane (meth) acrylate as disclosed in JP-A-5-70535 and bisphenol A as disclosed in JP-A-6-301206. Urethane (meth) acrylate obtained by adding ethyl isocyanate (meth) acrylate or the like to alcohol chain-extended with polyethylene glycol or the like, or (meth) acrylate-modified perfluoropolyether urethane prepolymer as disclosed in JP-A-10-237392. Examples thereof include urethane (meth) acrylate obtained by adding a (meth) acrylate having an active hydrogen group to a polymer, a reaction product of a polyether polyol or polyether diol and an organic diisocyanate compound. Among these, a urethane prepolymer obtained by mixing and reacting a polyether polyol or polyether diol and an organic diisocyanate compound in a molar ratio of 1: 1 to 1: 2 in a diluent is further added to the urethane prepolymer. A compound obtained by reacting the remaining isocyanate group of the polymer with a (meth) acrylic acid ester monomer having a sufficient amount of active hydrogen groups to react with the isocyanate group is preferred.
Specific examples of the polyether polyol and polyether diol include a polyol compound or diol compound having a bisphenol A skeleton in the molecule as described in Japanese Patent No. 2568421 and having a hydroxyl group at the terminal or side chain. And a polyol compound or a diol compound having an ethylene oxide or propylene oxide structure in the molecule. These polyether polyols and polyether diols are used alone or in combination. Among these compounds, a polyether polyol compound or a polyether diol compound having a bisphenol A skeleton and an ethylene oxide structure in the molecule is particularly preferable from the viewpoint of photocurability, water absorption, and outgas.

また、有機ジイソシアネート化合物としては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレンジイソシネート(TDI)、キシレンジイソシアネート(XDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ナフチレンジイソシアネート(NDI)、トリジンジイソシアネート(TPDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(HMDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMHDI)等が挙げられ、これらの単独または複数種を混合して使用される。これらの中でも光硬化性、吸水性、アウトガスの観点からヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(HMDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMHDI)が好ましい。   Examples of the organic diisocyanate compound include diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), xylene diisocyanate (XDI), isophorone diisocyanate (IPDI), naphthylene diisocyanate (NDI), tolidine diisocyanate (TPDI), Hexamethylene diisocyanate (HDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (HMDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI) and the like can be mentioned, and these are used alone or in combination. Among these, hexamethylene diisocyanate (HDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (HMDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI) are preferable from the viewpoints of photocurability, water absorption, and outgas.

また、活性水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレートまたはジ(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらの単独または複数種を混合して使用することができる。   Examples of the (meth) acrylate monomer having an active hydrogen group include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and polyethylene glycol. Mono (meth) acrylates of divalent alcohols, mono (meth) acrylates or di (meth) acrylates of trivalent alcohols such as trimethylol ethane, trimethylol propane, glycerin, etc. Can be used.

上述のようにして得られた(A)ウレタン(メタ)アクリレートは、平均分子量がMWで1,000〜100,000であることが好ましく、さらに5,000〜50,000の範囲であることが特に好ましい。平均分子量がMWで100,000を越えると粘度が高すぎるため、塗布機による塗布が困難になったりして作業性が悪化する。また、1,000未満であると硬化物が硬くなり柔軟性に欠ける。   The average molecular weight of the (A) urethane (meth) acrylate obtained as described above is preferably 1,000 to 100,000, and more preferably 5,000 to 50,000. If the average molecular weight exceeds 100,000 in terms of MW, the viscosity is too high, so that application by a coating machine becomes difficult and workability deteriorates. If it is less than 1,000, the cured product becomes hard and lacks flexibility.

また、(A)ウレタン(メタ)アクリレートの合成時に使用される重合触媒は、従来から公知のものであれば特に問題はないが、光硬化性シール剤組成物の硬化物からのアウトガスの発生や不純物のブリードアウトを考慮すると、有機亜鉛もしくはアミン系化合物であることが好ましい。有機亜鉛の具体例としては、オクテン酸亜鉛、2-エチルカプロン酸亜鉛などのカルボン酸の亜鉛塩化合物やトリエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ペンタメチルジプロピレンジアミン、テトラメチルグアニジン、トリエチレンジアミン、N-メチルモルホリン、1,2-ジメチルイミダゾール、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエトキシエタノール、トリメチルアミノエチルエタノールアミン、(2-ヒドロキシエチル)モルホリンエーテルアミン、N-メチルピペラジン、N,N'-ジメチルピペラジン、N-エンドエチレンピペラジンなどのアミン化合物が挙げられる。   In addition, the polymerization catalyst used in the synthesis of (A) urethane (meth) acrylate is not particularly limited as long as it is a conventionally known catalyst, but the generation of outgas from the cured product of the photocurable sealing agent composition In view of impurity bleed-out, organic zinc or an amine compound is preferable. Specific examples of organic zinc include zinc salt compounds of carboxylic acids such as zinc octenoate and zinc 2-ethylcaproate, triethylamine, dimethylcyclohexylamine, tetramethylethylenediamine, pentamethyldiethylenetriamine, pentamethyldipropylenediamine, and tetramethylguanidine. , Triethylenediamine, N-methylmorpholine, 1,2-dimethylimidazole, dimethylaminoethanol, dimethylaminoethoxyethanol, trimethylaminoethylethanolamine, (2-hydroxyethyl) morpholine etheramine, N-methylpiperazine, N, N ' -Amine compounds such as dimethylpiperazine and N-endoethylenepiperazine.

本発明に使用できる(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、分子中に少なくとも一つ以上の環状構造をもつ(メタ)アクリル酸エステルモノマーで、具体的には例えばイソボロニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエンジ(メタ)アクリレート等が挙げられるが、好ましくはフェノキシ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートであり、吸水性の低さ、反応性の高さ、あるいは環状構造を持ちながらガラス転移点(TG)が低い点などからフェノキシ(メタ)アクリレートが特に好ましい。また、これらの(メタ)アクリル酸エステルモノマーの分子量は1,000以下であることが望ましい。   The (B) (meth) acrylic acid ester monomer that can be used in the present invention is a (meth) acrylic acid ester monomer having at least one cyclic structure in the molecule, specifically, for example, isobornyl (meth) acrylate, Cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dicyclopentadiene Di (meth) acrylates and the like can be mentioned, but phenoxy (meth) acrylate and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate are preferable, and the glass transition point has low water absorption, high reactivity, or a cyclic structure. (T ) From phenoxy (meth) acrylate such as a low point are particularly preferred. The molecular weight of these (meth) acrylic acid ester monomers is preferably 1,000 or less.

本発明に使用できる(C)光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノプロパン-1、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンジル、メチルベンゾイルフォルメート、チオキサントン、ジエチルチオキサントン等を挙げられるがこれらに限定されず、従来から公知の光重合開始剤が使用可能である。特に、特開平7−33837で例示されるような2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン(商品名 DAROCURE 1173 Ciba Geigy社製)、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル-(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン(商品名 IRGACURE 2959 Ciba Geigy社製)、4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル-(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン(商品名 IRGACURE 184 Ciba Geigy社製)、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-メチル-2-モルホリノ(4-チオメチルフェニル)プロパン-1-オン(商品名 IRGACURE 907 Ciba Geigy社製)、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン(商品名 IRGACURE 369 Ciba Geigy社製)、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(1-メチルビニル)フェニル〕プロパンのオリゴマー(商品名 ESACURE KIP 150 Lamberti社製)などを光重合開始剤として用いることにより、揮発性ガスの発生を抑制することができ、特に2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(1-メチルビニル)フェニル〕プロパンのオリゴマーは、その効果が大きく特に好ましい。   Examples of the (C) photopolymerization initiator that can be used in the present invention include acetophenone, diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1, benzoin, benzoin ethyl ether, Examples include, but are not limited to, benzyl dimethyl ketal, benzophenone, benzyl, methyl benzoyl formate, thioxanthone, diethyl thioxanthone, and conventionally known photopolymerization initiators can be used. In particular, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (trade name DAROCURE 1173 manufactured by Ciba Geigy) as exemplified in JP-A-7-33837, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone (trade name IRGACURE 2959 Ciba Geigy), 4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone (Product name: IRGACURE 184, manufactured by Ciba Geigy), 1- (4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one (trade name, IRGACURE 907 manufactured by Ciba Geigy), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino) Phenyl) -butanone (trade name IRGACURE 369 Ciba Geigy ), 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane oligomer (trade name, manufactured by ESACURE KIP 150 Lamberti), etc. Generation of gas can be suppressed, and an oligomer of 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane is particularly preferable because of its large effect.

本発明に使用できる(D)充填剤としては、シリカ粉等の無機充填剤が好ましく使用できる。この微粉末シリカとしては、平均一次粒子径が1〜100 nm、好ましくは5〜50 nmの微粉末シリカで、具体的には四塩化硅素を酸水素焔中で加水分解させる際に、塩化チタニウム、塩化アルミニウム、塩化鉄等の塩化物を併存させアルミナ含有シリカ、酸化チタン含有シリカ、酸化鉄含有シリカ等の微粉末シリカを挙げることができ、特に親水性微粉末シリカの表面を疎水処理したものが好適に用いられる。   As the filler (D) that can be used in the present invention, an inorganic filler such as silica powder can be preferably used. The fine powder silica is fine powder silica having an average primary particle diameter of 1 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm. Specifically, when hydrolyzing silicon tetrachloride in an acid hydrogen bath, titanium chloride is used. In addition, fine powdered silica such as alumina-containing silica, titanium oxide-containing silica, iron oxide-containing silica can be mentioned by coexisting chlorides such as aluminum chloride and iron chloride. Particularly, the surface of hydrophilic fine powder silica is treated with hydrophobic treatment. Are preferably used.

疎水性微粉末シリカは、通常の親水性微粉末シリカの表面をn-オクチルトリアルコキシシラン等疎水基を有するアルキル、アリール、アラルキル系シランカップリング剤、ジメチルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン等のシリル化剤、末端に水酸基を有するポリジメチルシロキサン等、或いはステアリルアルコールのような高級アルコール、ステアリン酸のような高級脂肪酸で処理して得られるものであって、具体的には下記のような市販商品が使用できる。
1) ジメチルジクロロシラン処理されたものとしてAEROSIL-R972、R974、R976(以上日本アエロジル社製)
2) ヘキサメチルジシラザン処理されたものとしてAEROSIL-RX50、NAX50、NX90、RX200、RX300(以上日本アエロジル社製)
3) オクチルシラン処理されたものとしてAEROSIL-R805(以上日本アエロジル社製)
4) ジメチルシリコーンオイル処理されたものとしてAEROSIL-RY50、NY50、RY200S、R202、RY200、RY300(以上日本アエロジル社製)、CAB ASIL TS-720(CABOT社製)
この他にも数社からも同様の処理を行った疎水性微粉末シリカが市販されている。この微粉末シリカは1種単独で或いは2種以上を混合して用いても構わない。これらの中でもポリジメチルシロキサンで表面処理されたシリカ粉を用いると、本発明の光硬化性シール剤組成物に適度な揺変性や粘度、すなわち塗布の容易さや形状保持性を付与できるため特に好ましい。
Hydrophobic fine-powdered silica is a surface of normal hydrophilic fine-powdered silica such as n-octyltrialkoxysilane and other alkyl, aryl, aralkyl silane coupling agents, dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane and other silyls. It can be obtained by treating with a hydrating agent, polydimethylsiloxane having a hydroxyl group at the end, higher alcohol such as stearyl alcohol, higher fatty acid such as stearic acid. Can be used.
1) AEROSIL-R972, R974, R976 (made by Nippon Aerosil Co., Ltd.) as treated with dimethyldichlorosilane
2) AEROSIL-RX50, NAX50, NX90, RX200, RX300 (made by Nippon Aerosil Co., Ltd.) as treated with hexamethyldisilazane
3) AEROSIL-R805 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) as treated with octylsilane
4) AEROSIL-RY50, NY50, RY200S, R202, RY200, RY300 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.), CAB ASIL TS-720 (CABOT Co., Ltd.) treated with dimethyl silicone oil
In addition to this, hydrophobic fine powder silica subjected to the same treatment is commercially available from several companies. The fine powder silica may be used alone or in combination of two or more. Among these, silica powder surface-treated with polydimethylsiloxane is particularly preferable because it can impart moderate thixotropy and viscosity, that is, ease of application and shape retention, to the photocurable sealant composition of the present invention.

上述した(A)〜(D)各成分の配合比は、(A)ウレタン(メタ)アクリレート10〜80重量%、好ましくは20〜60重量%、(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマー20〜90重量%、好ましくは40〜80重量%、(C)光重合開始剤0.3〜10重量%、(D)充填剤1〜30重量%、好ましくは3〜20重量%であることが望ましい。   The blending ratio of each component (A) to (D) described above is (A) urethane (meth) acrylate 10 to 80% by weight, preferably 20 to 60% by weight, (B) (meth) acrylic acid ester monomer 20 to 20%. 90% by weight, preferably 40 to 80% by weight, (C) a photopolymerization initiator 0.3 to 10% by weight, and (D) a filler 1 to 30% by weight, preferably 3 to 20% by weight.

(A)ウレタン(メタ)アクリレートの添加量が80重量%より多いと、組成物が高粘度になり過ぎて塗布機による塗布が困難になり作業性が低下し、10重量%未満であると硬化物が硬くなり柔軟性に欠ける。(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマーの添加量が90重量%より多いと硬化物が硬くなり柔軟性に欠け、20重量%より少ないと組成物が高粘度になり過ぎて塗布機による塗布が困難になり作業性が悪くなる。(C)光重合開始剤の量が10重量%より多いと組成物の保存安定性が低下したり、硬化物の物性が低下したり、あるいはアウトガスの発生が多くなる。また、0.3重量%未満であると光硬化性が低下する。(D)充填剤の添加量が30重量部を越えると組成物が高粘度になり過ぎて塗布機による塗布が困難になったり、塗布したシール剤の表面平滑性が失われる場合がある。1重量部未満であると塗布した際のシール剤の形状保持性が低下して流動し易くなる。したがって、厚みを持ったシール層が形成し難くなる。   (A) If the added amount of urethane (meth) acrylate is more than 80% by weight, the composition becomes too viscous and application by a coating machine becomes difficult and workability is reduced, and if it is less than 10% by weight, the composition is cured. Things become hard and lack flexibility. (B) If the added amount of (meth) acrylic acid ester monomer is more than 90% by weight, the cured product becomes hard and lacks flexibility, and if it is less than 20% by weight, the composition becomes too viscous to be applied by a coating machine. It becomes difficult and workability deteriorates. (C) When the amount of the photopolymerization initiator is more than 10% by weight, the storage stability of the composition is lowered, the physical properties of the cured product are lowered, or the generation of outgas is increased. On the other hand, if it is less than 0.3% by weight, the photocurability is lowered. (D) When the added amount of the filler exceeds 30 parts by weight, the composition may become too viscous to be applied by an applicator or the surface smoothness of the applied sealant may be lost. When the amount is less than 1 part by weight, the shape retention of the sealing agent when applied is lowered and the fluid tends to flow. Therefore, it becomes difficult to form a thick seal layer.

本発明の光硬化性シール剤組成物は、前述した(A)〜(D)成分を通常の方法により混合することで製造可能であるが、この際組成物を遮光した状態で混合撹拌することが好ましく、また撹拌時は気泡を抱き込まないように真空中で行うことが望ましい。
本発明の光硬化性シール剤組成物は、電子部品などの被着体のフランジ部に塗布された後、光の照射により硬化されて硬化物がゴム弾性を有するシール層を形成することでシール材として機能する。この際には被着体のフランジ部と強固に接着するため、シール材として使用される他、接着剤や表面コーティング剤としても使用可能である。特に金属、プラスチック、ガラス、またはこれらに塗装を施された被着体など多くの材料に接着可能であるが、その中でも金属や金属メッキされた材料への接着性が良好である。
The photocurable sealing agent composition of the present invention can be produced by mixing the above-described components (A) to (D) by an ordinary method, but at this time, the composition is mixed and stirred in a state where it is shielded from light. In addition, it is desirable that the stirring be performed in a vacuum so as not to entrap bubbles.
The photocurable sealing agent composition of the present invention is applied to a flange portion of an adherend such as an electronic component, and then cured by irradiation with light, whereby the cured product forms a seal layer having rubber elasticity. Functions as a material. In this case, since it adheres firmly to the flange portion of the adherend, it can be used as an adhesive or a surface coating agent in addition to being used as a sealing material. In particular, it can be bonded to many materials such as metal, plastic, glass, or an adherend on which these are coated, and among them, adhesion to a metal or a metal-plated material is good.

また、本発明の光硬化性シール剤組成物は、シール密封を必要とする部材のフランジ面に塗布され光硬化させることによって、ゴム弾性を有するシール層を持った部材として使用されることに特に適しているが、これは、本発明の光硬化性シール剤組成物が持つ適度な粘度及び揺変性、即ちフランジ部へ塗布される際のシール剤の塗布安定性(量的、形状的)や、光硬化までの間、塗布されたままの形状を維持する形状維持性に優れることによる。なお、光硬化性シール剤組成物を被着体に塗布した後、少量の光を照射して半ゲル化状態に硬化させて形状保持性を向上させることもできる。さらに、本発明の光硬化性シール剤組成物は従来から公知の光源、例えば水銀ランプ、キセノンランプ等から発せられる紫外線域を含む光が最も効果的であるが、例えば可視光に吸収波長を持つ光重合開始剤を使用すれば可視光線による硬化も可能である。   In addition, the photocurable sealant composition of the present invention is particularly used for a member having a sealing layer having rubber elasticity by being applied to a flange surface of a member requiring sealing and being photocured. Although suitable, this is because of the moderate viscosity and thixotropy of the photocurable sealant composition of the present invention, that is, the application stability (quantitative and shape) of the sealant when applied to the flange portion, It is because it is excellent in the shape maintenance property which maintains the shape as apply | coated until photocuring. In addition, after apply | coating a photocurable sealing agent composition to a to-be-adhered body, a small amount of light can be irradiated and it can be made to harden | cure to a semi-gelled state, and shape retention property can also be improved. Furthermore, the photocurable sealant composition of the present invention is most effective for light including an ultraviolet range emitted from a conventionally known light source such as a mercury lamp or a xenon lamp, but has an absorption wavelength for visible light, for example. If a photopolymerization initiator is used, curing with visible light is also possible.

本発明に使用できる塗布装置としては従来から公知の自動塗布装置が挙げられる。これらの自動塗布装置は、3次元的に移動可能なアーム部を持つロボット部と、このアーム部に固定された材料を吐出するノズル部と、ノズル部に材料を供給する材料供給部と、これらを制御する制御部から一般に構成されている。このような自動塗布装置を用いて本発明の光硬化性シール剤組成物を塗布するには、材料を吐出するノズル部分の内径を0.1〜2.0 mm(好ましくは0.5〜1.2 mm)に設定すること、吐出圧力は0.001〜0.05 MPaの範囲であること(好ましくは0.005〜0.02 MPa)、また塗布速度は1〜100 mm/sec(好ましくは10〜30 mm/sec)であることが望ましい。このとき被着体に塗布形成されたシール層の高さ/幅比は幅1に対して高さ0.5以上であることが望ましい。このような塗布装置を用いることにより、例えば、磁気記録装置(ハードディスク)の密封シールに適した塗布幅約2.0 mm以下のシール層を容易に形成することができる。   Examples of the coating apparatus that can be used in the present invention include conventionally known automatic coating apparatuses. These automatic coating apparatuses include a robot unit having an arm unit that can move three-dimensionally, a nozzle unit that discharges material fixed to the arm unit, a material supply unit that supplies material to the nozzle unit, and these Generally, it is comprised from the control part which controls. In order to apply the photocurable sealant composition of the present invention using such an automatic application device, the inner diameter of the nozzle portion for discharging the material should be set to 0.1 to 2.0 mm (preferably 0.5 to 1.2 mm). The discharge pressure is preferably in the range of 0.001 to 0.05 MPa (preferably 0.005 to 0.02 MPa), and the coating speed is preferably 1 to 100 mm / sec (preferably 10 to 30 mm / sec). At this time, the height / width ratio of the seal layer applied and formed on the adherend is preferably 0.5 or more with respect to the width 1. By using such a coating device, for example, a sealing layer having a coating width of about 2.0 mm or less suitable for hermetic sealing of a magnetic recording device (hard disk) can be easily formed.

さらに、本発明の光硬化性シール剤組成物はせん断応力(Shear stress)1〜100 Pa(Pascal)の範囲に降伏値(降伏応力)を有することが望ましい。このような限定を行うことで本発明の光硬化性シール剤組成物は、比較的低い吐出圧力(せん断応力)で流動(塗布)を開始し、吐出圧力を取り去った後は速やかに元の状態(特定の粘度やチクソ性)に回復し流動性を失うことを意味する。この特性(粘弾性)を別の表現で表すと表4〜8に示すことができる。   Furthermore, the photocurable sealant composition of the present invention desirably has a yield value (yield stress) in the range of shear stress (Shear stress) of 1 to 100 Pa (Pascal). By performing such a limitation, the photocurable sealing agent composition of the present invention starts to flow (apply) at a relatively low discharge pressure (shear stress), and immediately after the discharge pressure is removed, the original state It means to recover to (specific viscosity and thixotropy) and lose fluidity. If this characteristic (viscoelasticity) is expressed by another expression, it can be shown in Tables 4-8.

このせん断応力(Shear stress)と応力の降伏値等の測定については、ストレス制御型レオメーターDAR−100型(レオロジカ(REOLOGICA)社製)を用いて測定する。この測定装置は、図1に示すような測定治具を用いて二枚のプレート(A、B)間に試料(光硬化性シール剤組成物)を挟み込んで、一方の可動プレート(A)に外力を与えることによって試料の粘弾特性(レオロジー)を測定するもので、この時の測定条件は、図1に示す可動プレートA(直径25 mm)と固定プレートBとのギャップ1.0 mmとし、ここに試料を充填した後可動プレートAの軸に対して回転方向の外力を可変(角速度を可変、温度25℃、周波数0.0016 Hz〜16.0 Hz)させることによって測定した。   The shear stress and the yield value of the stress are measured using a stress control type rheometer DAR-100 (manufactured by REOLOGICA). This measuring apparatus sandwiches a sample (photocurable sealing agent composition) between two plates (A, B) using a measuring jig as shown in FIG. The viscoelastic properties (rheology) of the sample are measured by applying an external force. The measurement condition at this time is a gap of 1.0 mm between the movable plate A (diameter 25 mm) and the fixed plate B shown in FIG. After the sample was filled, the external force in the rotational direction was varied with respect to the axis of the movable plate A (variable angular velocity, temperature 25 ° C., frequency 0.0016 Hz to 16.0 Hz).

(合成例1) ウレタン(メタ)アクリレートの合成:
構造式(1)に示されるポリエーテルジオール 1.9モルにヘキサメチレンジイソシアネート(HDI) 2.0モルを、重合禁止剤としてブチルヒドロキシトルエン(BHT ポリエーテルジオールとHDIの混合物の合計重量に対して0.4重量%)及び希釈剤としてのテトラヒドロフルフリルアクレート(ポリエーテルジオールとHDIの混合物の合計重量比で20重量%添加)の存在下で混合し、この混合液に対して0.01重量%のオクチル亜鉛を触媒として添加し、80℃で2時間反応させて末端にイソシアネート基を有するプレポリマーを得た。
ついで、2-ヒドロキシアクリレート(2-HEA)を4.0モル添加し、80℃で2時間撹拌して末端にアクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレートを合成した。このウレタンプレポリマーの平均分子量はGPCによる測定の結果およそMW 50,000で、分散度は3.0であった。
(Synthesis Example 1) Synthesis of urethane (meth) acrylate:
Polyethylene diol represented by the structural formula (1) 1.9 mol, hexamethylene diisocyanate (HDI) 2.0 mol, and butylhydroxytoluene as a polymerization inhibitor (0.4 wt% based on the total weight of the mixture of BHT polyether diol and HDI) And tetrahydrofurfuryl acrylate as a diluent (added by 20% by weight in the total weight ratio of the mixture of polyether diol and HDI), and 0.01% by weight of octyl zinc is used as a catalyst for this mixture. The resulting mixture was reacted at 80 ° C. for 2 hours to obtain a prepolymer having an isocyanate group at the terminal.
Next, 4.0 mol of 2-hydroxyacrylate (2-HEA) was added and stirred at 80 ° C. for 2 hours to synthesize a urethane (meth) acrylate having an acryloyl group at the terminal. As a result of measurement by GPC, the average molecular weight of this urethane prepolymer was about MW 50,000 and the degree of dispersion was 3.0.

Figure 2005139461
nは1〜5の整数を、Phはベンゼン環をそれぞれ表す。
Figure 2005139461
n represents an integer of 1 to 5, and Ph represents a benzene ring.

(合成例2)
合成例1で用いたポリエーテルジオール 3.0モルにヘキサメチレンジイソシアネート(HDI) 4.0モルを、重合禁止剤としてブチルヒドロキシトルエン(BHT ポリエーテルジオールとHDIの混合物の合計重量に対して0.4重量%)及び希釈剤としてのテトラヒドロフルフリルアクレート(ポリエーテルジオールとHDIの混合物の合計重量比で20重量%)の存在下で混合し、この混合液に対して0.01重量%のオクチル亜鉛を触媒として添加し、80℃で2時間反応させて末端にイソシアネート基を有するプレポリマーを得た。ついで、2-ヒドロキシアクリレート(2-HEA)を4.0モル添加し、80℃で2時間撹拌して末端にアクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレートを合成した。このウレタンプレポリマーの平均分子量はGPCによる測定の結果およそMW 8,000で、分散度は1.7であった。
(Synthesis Example 2)
4.0 mol of hexamethylene diisocyanate (HDI) is added to 3.0 mol of the polyether diol used in Synthesis Example 1, butylhydroxytoluene (0.4 wt% based on the total weight of the mixture of BHT polyether diol and HDI) as a polymerization inhibitor, and dilution In the presence of tetrahydrofurfuryl acrylate as an agent (20% by weight in the total weight ratio of the mixture of polyether diol and HDI), 0.01% by weight of octyl zinc is added to the mixture as a catalyst, The mixture was reacted at 80 ° C. for 2 hours to obtain a prepolymer having an isocyanate group at the terminal. Next, 4.0 mol of 2-hydroxyacrylate (2-HEA) was added and stirred at 80 ° C. for 2 hours to synthesize a urethane (meth) acrylate having an acryloyl group at the terminal. As a result of measurement by GPC, the average molecular weight of this urethane prepolymer was about MW 8,000, and the degree of dispersion was 1.7.

(実施例1〜8)
表1に示される配合割合にて光硬化性シール剤組成物を製造し、製造した各組成物を以下の各評価試験方法に基づいて評価した。その結果を表1に示す。
なお、各評価試験は以下の方法で実施した。
1. アウトガス試験:硬化物1gを80℃×24 h高温槽に保存し、重量変化を測定した。
2. 吸水率試験:硬化物1gを100℃×2h沸騰水中に浸漬し、吸水率を測定した。
3. 塗布性試験:TSR-50型自動塗布機(スリーボンド社製)を使用してノズル内径1.0 mm、圧力0.01〜0.015 MPa、ノズル移動速度20 mm/secの条件で塗布したときの塗布性を目視にて確認した。
4. 形状保持性:上記3の塗布機により被着体に塗布された光硬化性シール剤組成物を25℃×2h放置した後、光硬化させて硬化物(シール層)の高さ/幅を測定した。
5. 硬化後の表面平滑性:上記4で被着体に塗布された光硬化性シール剤組成物(25℃×1h放置)を光硬化させた後の表面平滑性を目視により確認した。
6. 硬化物のゴム物性:上記5の硬化物のゴム弾性を指触にて確認した。
7. 保存性試験:配合した光硬化性シール剤組成物を常温にて1週間保存した後の状態を観察した。
(Examples 1-8)
A photocurable sealing agent composition was produced at the blending ratio shown in Table 1, and each produced composition was evaluated based on the following evaluation test methods. The results are shown in Table 1.
In addition, each evaluation test was implemented with the following method.
1. Outgas test: 1 g of the cured product was stored in a high-temperature bath at 80 ° C. for 24 hours, and the change in weight was measured.
2. Water absorption test: 1 g of the cured product was immersed in boiling water at 100 ° C. for 2 hours, and the water absorption was measured.
3. Applicability test: Using TSR-50 type automatic applicator (manufactured by ThreeBond Co., Ltd.), the applicability when the nozzle inner diameter is 1.0 mm, the pressure is 0.01 to 0.015 MPa, and the nozzle moving speed is 20 mm / sec. Confirmed.
4). Shape retention: The photocurable sealant composition applied to the adherend by the applicator described in 3 above is allowed to stand at 25 ° C. for 2 hours and then photocured to measure the height / width of the cured product (seal layer). did.
5). Surface smoothness after curing: The surface smoothness after photocuring the photocurable sealing agent composition (25 ° C. × 1 h standing) applied to the adherend in the above 4 was visually confirmed.
6). Rubber properties of cured product: The rubber elasticity of the cured product of 5 above was confirmed by finger touch.
7). Preservability test: The state after storing the compounded photocurable sealing agent composition at room temperature for 1 week was observed.

Figure 2005139461
*1 合成例1及び2のウレタンアクリレートはテトラヒドロフルフリルアクリレートを20重量%含有する。
*2 ポリエステルウレタンアクリレート 根上工業社製
*3 Lamberti社製光重合開始剤
*4 Ciba Geigy社製光重合開始剤
Figure 2005139461
* 1 The urethane acrylates of Synthesis Examples 1 and 2 contain 20% by weight of tetrahydrofurfuryl acrylate.
* 2 Polyester urethane acrylate manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. * 3 Photopolymerization initiator manufactured by Lamberti * 4 Photopolymerization initiator manufactured by Ciba Geigy

表1の結果によれば、ポリエーテルウレタンアクリレートはポリエステルウレタンアクリレートよりアウトガスの発生を抑制できる。また、高分子量の光重合開始剤を使用するとさらにアウトガスを少なくすることができる。平均分子量50,000ポリエーテルウレタンアクリレートは、平均分子量8,000のものより高粘度化するため同じ塗布条件では塗布量の減少が見られる。言い換えれば塗布速度が遅くなり、同じ塗布量を確保するためには吐出圧力を上げる必要がある。   According to the results in Table 1, polyether urethane acrylate can suppress outgassing more than polyester urethane acrylate. Further, when a high molecular weight photopolymerization initiator is used, outgas can be further reduced. Since the average molecular weight 50,000 polyether urethane acrylate has a higher viscosity than that of an average molecular weight of 8,000, a decrease in the coating amount is observed under the same coating conditions. In other words, the coating speed becomes slow, and it is necessary to increase the discharge pressure in order to ensure the same coating amount.

(実施例9〜14、比較例1、2)
表2に示される配合割合にて光硬化性シール剤組成物を製造し、製造した各組成物を以下の各評価試験方法に基づいて評価した。その結果を表2に示す。
(Examples 9 to 14, Comparative Examples 1 and 2)
A photocurable sealing agent composition was produced at the blending ratio shown in Table 2, and each produced composition was evaluated based on the following evaluation test methods. The results are shown in Table 2.

Figure 2005139461
−は未測定を表す。
Figure 2005139461
-Represents unmeasured.

表2の結果によれば、分子中に少なくとも一つ以上の環状構造をもつ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを使用すると、アウトガス性及び吸水性において好ましい結果を示すことが分かる。
(実施例15〜19、比較例3、4)
表3に示される配合割合にて光硬化性シール剤組成物を製造し、製造した各組成物を以下の各評価試験方法に基づいて評価した。その結果を表3に示す。
According to the results in Table 2, it can be seen that when a (meth) acrylic acid ester monomer having at least one cyclic structure in the molecule is used, favorable results are exhibited in outgassing properties and water absorption.
(Examples 15 to 19, Comparative Examples 3 and 4)
Photocurable sealant compositions were produced at the blending ratios shown in Table 3, and the produced compositions were evaluated based on the following evaluation test methods. The results are shown in Table 3.

Figure 2005139461
*1 ノズル先端より液ダレ発生。
*2 粘度が高すぎて塗布不能。
*3 初期の3倍以上に増粘した。
−は、未測定を表す。
Figure 2005139461
* 1 Liquid dripping occurs from the nozzle tip.
* 2 The viscosity is too high to be applied.
* 3 Thickened more than three times the initial.
-Represents unmeasured.

表3の結果によれば、疎水処理したシリカ粉は形状保持性及び保存性がともに良好で、中でもポリジメチルシロキサン処理したものは特に形状保持性に優れる。
また、実施例15及び16の組成物の粘弾性を測定した結果を図2〜6に示した。なお、測定時は実施例15及び16の組成物を前述したストレス制御型レオメーター DAR-100型(レオロジカ(REOLOGICA)社製)にセットし、60秒間、10(1/s)で撹拌した後100秒間静置したのち直ちに測定した。詳細条件は、以下のとおりである。
Stree:0.0016〜16 Hzで13ポイントを測定した。
Continuous on Strain 1.00E-3 Time1179.3s
According to the results in Table 3, the silica powder subjected to hydrophobic treatment has both good shape retention and storage stability, and among them, those treated with polydimethylsiloxane are particularly excellent in shape retention.
Moreover, the result of having measured the viscoelasticity of the composition of Example 15 and 16 was shown to FIGS. At the time of measurement, the compositions of Examples 15 and 16 were set in the stress-controlled rheometer DAR-100 (manufactured by REOLOGICA) and stirred for 10 seconds at 10 (1 / s). Measurements were taken immediately after standing for 100 seconds. Detailed conditions are as follows.
Stree: 13 points were measured at 0.0016-16 Hz.
Continuous on Strain 1.00E-3 Time1179.3s

図2はせん断応力(Shear stress Pa)と貯蔵弾性率(G'k Pa)の関係を示したグラフである。図2のグラフから実施例16の組成物の方がより広い範囲のせん断応力に対して安定した貯蔵弾性率を有していることが判る。
図3はせん断応力(Shear stress Pa)と粘度の関係を示したグラフで、図3のグラフからは実施例15の組成物が12 Pa付近に、また実施例16の組成物が50 Pa付近に降伏値(降伏応力)を有することが判る。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the shear stress (Shear stress Pa) and the storage elastic modulus (G′k Pa). It can be seen from the graph of FIG. 2 that the composition of Example 16 has a stable storage modulus over a wider range of shear stress.
FIG. 3 is a graph showing the relationship between shear stress (Shear stress Pa) and viscosity. From the graph of FIG. 3, the composition of Example 15 is around 12 Pa, and the composition of Example 16 is around 50 Pa. It can be seen that it has a yield value (yield stress).

図4は角速度(Omega rad/s)と貯蔵弾性率(G'k Pa)の関係を示したグラフで、特に実施例16の組成物は、貯蔵弾性率の値が1付近で安定していることから塗布時の安定性に優れることが分かる。
図5は角速度(Omega rad/s)と損失正接(Tan phase)の関係を示したグラフで、実施例16の組成物が角速度0.01〜10(rad/s)の範囲で損失正接が実施例15の組成物よりも低いことからより非流体に近いことが分かり、したがって形状保持性が高いことが分かる。
図6は角速度(Omega rad/s)と粘度の関係を示したグラフで、角速度が大きくなるほど粘度が低下することが分かる。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the angular velocity (Omega rad / s) and the storage elastic modulus (G′k Pa). In particular, the composition of Example 16 is stable when the value of the storage elastic modulus is around 1. From this, it can be seen that the stability during application is excellent.
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the angular velocity (Omega rad / s) and the loss tangent (Tan phase). In the composition of Example 16, the loss tangent is in the range of 0.01 to 10 (rad / s). It can be seen that it is closer to a non-fluid because it is lower than that of the composition of FIG.
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the angular velocity (Omega rad / s) and the viscosity. It can be seen that the viscosity decreases as the angular velocity increases.

せん断応力の測定に使用した装置の一部拡大図である。It is a partial enlarged view of the apparatus used for the measurement of the shear stress. 図2は、実施例15及び16の組成物の粘弾性を測定した結果から、せん断応力(Shear stress Pa)と貯蔵弾性率(G'k Pa)の関係を示したグラフである。図中の●点は実施例15の組成物を、○点は実施例16の組成物をそれぞれ表す。FIG. 2 is a graph showing the relationship between shear stress (Shear stress Pa) and storage elastic modulus (G′k Pa) from the results of measuring the viscoelasticity of the compositions of Examples 15 and 16. In the figure, the point ● represents the composition of Example 15, and the point ◯ represents the composition of Example 16. 図3は、実施例15及び16の組成物の粘弾性を測定した結果から、せん断応力(Shear stress Pa)と粘度の関係を示したグラフである。図中の■点は実施例15の組成物を、□点は実施例16の組成物をそれぞれ表す。FIG. 3 is a graph showing the relationship between shear stress (Shear stress Pa) and viscosity from the results of measuring the viscoelasticity of the compositions of Examples 15 and 16. In the figure, a ■ point represents the composition of Example 15, and a □ point represents the composition of Example 16.

図4は、実施例15及び16の組成物の粘弾性を測定した結果から、角速度(Omega rad/s)と貯蔵弾性率(G'k Pa)の関係を示したグラフである。●点は実施例15の組成物を、○点は実施例16の組成物をそれぞれ表す。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the angular velocity (Omega rad / s) and the storage elastic modulus (G′k Pa) from the results of measuring the viscoelasticity of the compositions of Examples 15 and 16. The dot represents the composition of Example 15, and the dot represents the composition of Example 16. 図5は、実施例15及び16の組成物の粘弾性を測定した結果から、角速度(Omega rad/s)と損失正接(Tan phase)の関係を示したグラフである。●点は実施例15の組成物を、○点は実施例16の組成物をそれぞれ表す。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the angular velocity (Omega rad / s) and the loss tangent (Tan phase) from the results of measuring the viscoelasticity of the compositions of Examples 15 and 16. The dot represents the composition of Example 15, and the dot represents the composition of Example 16. 図6は、実施例15及び16の組成物の粘弾性を測定した結果から、角速度(Omega rad/s)と粘度の関係を示したグラフである。●点は実施例15の組成物を、○点は実施例16の組成物をそれぞれ表す。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the angular velocity (Omega rad / s) and the viscosity based on the results of measuring the viscoelasticity of the compositions of Examples 15 and 16. The dot represents the composition of Example 15, and the dot represents the composition of Example 16.

符号の説明Explanation of symbols

1 光硬化性シール剤組成物(未硬化)
A 可動プレート
B 固定プレート
1 Photo-curable sealant composition (uncured)
A Movable plate B Fixed plate

Claims (9)

(A)ウレタン(メタ)アクリレート 10〜80重量%
(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマー 20〜90重量%
(C)光重合開始剤 0.3〜10重量%
(D)充填剤 1〜30重量%
上記(A)〜(D)を主成分とする組成物であって、かつこの組成物がせん断応力(Shear stress)5〜100 Pa(Pascal)の範囲に降伏値(降伏応力)を有することを特徴とする光硬化性シール剤組成物。
(A) Urethane (meth) acrylate 10-80% by weight
(B) (meth) acrylic acid ester monomer 20 to 90% by weight
(C) Photopolymerization initiator 0.3 to 10% by weight
(D) Filler 1-30% by weight
It is a composition having the above (A) to (D) as main components, and the composition has a yield value (yield stress) in the range of shear stress (Shear stress) 5 to 100 Pa (Pascal). A photocurable sealant composition characterized by the above.
前記(A)ウレタン(メタ)アクリレートが、ポリエーテルジオールもしくはポリエーテルポリオール又はこれらの混合物と、有機ジイソシアネート化合物との反応生成物に、さらに分子内にヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーを重合させて得られるポリエーテルウレタン(メタ)アクリレート化合物である請求項1に記載の光硬化性シール剤組成物。   The (A) urethane (meth) acrylate is a reaction product of a polyether diol, a polyether polyol or a mixture thereof and an organic diisocyanate compound, and a (meth) acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group in the molecule. The photocurable sealing agent composition according to claim 1, which is a polyether urethane (meth) acrylate compound obtained by polymerization. 前記ポリエーテルジオールもしくはポリエーテルポリオール又はこれらの混合物が、分子内にビスフェノール骨格を有する請求項2に記載の光硬化性シール剤組成物。   The photocurable sealing agent composition according to claim 2, wherein the polyether diol or polyether polyol or a mixture thereof has a bisphenol skeleton in the molecule. 前記(A)ウレタン(メタ)アクリレートが、平均分子量1,000〜100,000である請求項1に記載の光硬化性シール剤組成物。   The photocurable sealing agent composition according to claim 1, wherein the (A) urethane (meth) acrylate has an average molecular weight of 1,000 to 100,000. 前記(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、その分子構造中に少なくとも1つの環状構造を有する請求項1に記載の光硬化性シール剤組成物。   The photocurable sealant composition according to claim 1, wherein the (B) (meth) acrylic acid ester monomer has at least one cyclic structure in its molecular structure. 前記(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、分子量1,000未満である請求項1に記載の光硬化性シール剤。   The photocurable sealing agent according to claim 1, wherein the (B) (meth) acrylic acid ester monomer has a molecular weight of less than 1,000. 前記(C)光重合開始剤が2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(1-メチルビニル)フェニル〕プロパンのオリゴマーである請求項1に記載の光硬化性シール剤。   The photocurable sealing agent according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator (C) is an oligomer of 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane. 前記(D)充填剤が、シリカ粉の表面を疎水処理したものである請求項1に記載の光硬化性シール剤。   The photocurable sealing agent according to claim 1, wherein the filler (D) is obtained by subjecting the surface of silica powder to a hydrophobic treatment. (A)ウレタン(メタ)アクリレート 10〜80重量%
(B)(メタ)アクリル酸エステルモノマー 20〜90重量%
(C)光重合開始剤 0.3〜10重量%
(D)充填剤 1〜30重量%
上記(A)〜(D)を主成分とする組成物であって、かつこの組成物がせん断応力(Shear stress)5〜100 Pa(Pascal)の範囲に降伏値を有する光硬化性シール剤を被着体に塗布し、その塗布された光硬化性シール剤硬化物(シール層)の断面形状が幅1対して高さ0.5〜0.9になるように光照射により硬化させたことを特徴とするシール層付き部材。
(A) Urethane (meth) acrylate 10-80% by weight
(B) (meth) acrylic acid ester monomer 20 to 90% by weight
(C) Photopolymerization initiator 0.3 to 10% by weight
(D) Filler 1-30% by weight
A photocurable sealant comprising the above (A) to (D) as a main component, wherein the composition has a yield value in the range of shear stress 5 to 100 Pa (Pascal). It is applied to an adherend, and cured by light irradiation so that the cross-sectional shape of the applied photocurable sealing agent cured product (seal layer) is 0.5 to 0.9 with respect to a width of 1. A member with a sealing layer.
JP2004357350A 2004-12-09 2004-12-09 Photocurable sealing agent composition and method for forming sealing layer Expired - Fee Related JP4604695B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004357350A JP4604695B2 (en) 2004-12-09 2004-12-09 Photocurable sealing agent composition and method for forming sealing layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004357350A JP4604695B2 (en) 2004-12-09 2004-12-09 Photocurable sealing agent composition and method for forming sealing layer

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35273999A Division JP2001163931A (en) 1999-12-13 1999-12-13 Photocurable sealant composition and member with sealing layer

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005139461A true JP2005139461A (en) 2005-06-02
JP2005139461A5 JP2005139461A5 (en) 2006-10-05
JP4604695B2 JP4604695B2 (en) 2011-01-05

Family

ID=34698101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004357350A Expired - Fee Related JP4604695B2 (en) 2004-12-09 2004-12-09 Photocurable sealing agent composition and method for forming sealing layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4604695B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1814179A2 (en) * 2006-01-25 2007-08-01 Samsung SDI Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabrication the same
JP2008024765A (en) * 2006-07-19 2008-02-07 Bridgestone Corp Manufacturing method of gasket for hard disk apparatus
WO2010131471A1 (en) * 2009-05-13 2010-11-18 Jsr株式会社 Kit for electrical wire water-sealing material, electrical wire water-sealing material, water-sealing member, water-sealed electrical wire, and water-sealing method
JP2013049805A (en) * 2011-08-31 2013-03-14 Bridgestone Corp Material for gasket, gasket and hard disk device, and method for producing gasket
JP2017043642A (en) * 2015-08-24 2017-03-02 アイカ工業株式会社 Photocurable resin composition for gasket
CN114391026A (en) * 2019-09-19 2022-04-22 汉高股份有限及两合公司 Photocurable (meth) acrylate composition

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60163911A (en) * 1984-02-02 1985-08-26 Suriibondo:Kk Photocurable rubbery elastic composition
JPS62143908A (en) * 1985-12-19 1987-06-27 Toagosei Chem Ind Co Ltd Photocurable composition
JPH0733837A (en) * 1993-07-20 1995-02-03 Three Bond Co Ltd Photosetting rrsin composition
JP2600563B2 (en) * 1992-11-09 1997-04-16 東亞合成株式会社 Photocurable resin composition
JPH09197691A (en) * 1996-01-12 1997-07-31 Mitsubishi Paper Mills Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH10152672A (en) * 1996-11-21 1998-06-09 Three Bond Co Ltd Method for forming gasket
JPH11315265A (en) * 1997-12-24 1999-11-16 Takeda Chem Ind Ltd Photocurable pseudoadhesive and information laminate prepared by using the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60163911A (en) * 1984-02-02 1985-08-26 Suriibondo:Kk Photocurable rubbery elastic composition
JPS62143908A (en) * 1985-12-19 1987-06-27 Toagosei Chem Ind Co Ltd Photocurable composition
JP2600563B2 (en) * 1992-11-09 1997-04-16 東亞合成株式会社 Photocurable resin composition
JPH0733837A (en) * 1993-07-20 1995-02-03 Three Bond Co Ltd Photosetting rrsin composition
JPH09197691A (en) * 1996-01-12 1997-07-31 Mitsubishi Paper Mills Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH10152672A (en) * 1996-11-21 1998-06-09 Three Bond Co Ltd Method for forming gasket
JPH11315265A (en) * 1997-12-24 1999-11-16 Takeda Chem Ind Ltd Photocurable pseudoadhesive and information laminate prepared by using the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1814179A2 (en) * 2006-01-25 2007-08-01 Samsung SDI Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabrication the same
EP1814179A3 (en) * 2006-01-25 2011-03-30 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabrication the same
US7999372B2 (en) 2006-01-25 2011-08-16 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabricating the same
JP2008024765A (en) * 2006-07-19 2008-02-07 Bridgestone Corp Manufacturing method of gasket for hard disk apparatus
WO2010131471A1 (en) * 2009-05-13 2010-11-18 Jsr株式会社 Kit for electrical wire water-sealing material, electrical wire water-sealing material, water-sealing member, water-sealed electrical wire, and water-sealing method
EP2432092A1 (en) * 2009-05-13 2012-03-21 JSR Corporation Kit for electrical wire water-sealing material, electrical wire water-sealing material, water-sealing member, water-sealed electrical wire, and water-sealing method
CN102414947A (en) * 2009-05-13 2012-04-11 Jsr株式会社 Kit for electrical wire water-sealing material, electrical wire water-sealing material, water-sealing member, water-sealed electrical wire, and water-sealing method
EP2432092A4 (en) * 2009-05-13 2014-10-15 Jsr Corp Kit for electrical wire water-sealing material, electrical wire water-sealing material, water-sealing member, water-sealed electrical wire, and water-sealing method
JP2013049805A (en) * 2011-08-31 2013-03-14 Bridgestone Corp Material for gasket, gasket and hard disk device, and method for producing gasket
JP2017043642A (en) * 2015-08-24 2017-03-02 アイカ工業株式会社 Photocurable resin composition for gasket
CN114391026A (en) * 2019-09-19 2022-04-22 汉高股份有限及两合公司 Photocurable (meth) acrylate composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP4604695B2 (en) 2011-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6003906B2 (en) Photocurable sheet-type adhesive composition for optics
JP7013074B2 (en) Photo-curing resin composition and its uses
TWI627061B (en) Active energy ray-curable resin composition, method for producing active energy ray-curable resin composition, coating material, coating film, and film
JP2010144000A (en) Photocurable resin composition, photocurable moistureproof sealing material for use in electronic paper, electronic paper, and method for manufacturing the same
JP2001163931A (en) Photocurable sealant composition and member with sealing layer
JP2019167542A (en) Photocurable resin composition, photocurable shading coating, light leakage preventive material, liquid crystal display panel and liquid crystal display device using the same, and photocuring method
JP2008291114A (en) Photosetting resin composition, photosetting and moistureproof insulating paint for mounted circuit board, electronic component and method for manufacturing the component
WO2009154224A1 (en) Active-energy-ray-curable sealing agent composition, and member having sealing layer attached thereto
JPWO2015198787A1 (en) Active energy ray-curable resin composition, paint, coating film, and laminated film
JP2013095794A (en) Method for producing optical display, and resin composition for laminating the same
JP4604695B2 (en) Photocurable sealing agent composition and method for forming sealing layer
JP5534125B2 (en) Curable sheet composition
JP5022586B2 (en) Amorphous polyolefin substrate coating composition and amorphous polyolefin film or sheet having cured film thereof
JPH06145276A (en) Photo-setting resin composition
JP5625623B2 (en) Active energy ray-curable composition and gasket
JP2009249613A (en) Curable resin composition
KR101033827B1 (en) Curable resin composition, flat panel display having cured product from the same and method of manufacturing flat panel display
JP2009197165A (en) Photocurable adhesive, optical part and liquid crystal display device
JP2010265402A (en) Light and heat curing combined use-type resin composition, light and heat curing combined use-type moisture-proof sealing material for electronic paper, electronic paper, and method for producing the electronic paper
JP2015048372A (en) Pressure sensitive adhesive, laminate and production method of laminate
KR102535559B1 (en) Pressure-sensitive adhesive composition for surface protection sheet and surface protection sheet
JP4699037B2 (en) Energy ray curable composition
WO2016043256A1 (en) Ultraviolet-curable resin composition and layered product obtained using same
JPS62143908A (en) Photocurable composition
JP6188562B2 (en) Cured resin and display device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060823

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060823

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060926

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100907

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100920

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4604695

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees