JP2005133134A - Aluminum alloy sheet for magnetic disk, and its production method - Google Patents

Aluminum alloy sheet for magnetic disk, and its production method Download PDF

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Yoshinori Kato
良則 加藤
Hidetoshi Umeda
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aluminum alloy sheet for a magnetic disk in which the production cost is reduced and the occurrence of the defect in the surface of an Ni-P plating film can be suppressed while maintaining its grindability at the time of producing a substrate for a magnetic disk, and to provide its production method. <P>SOLUTION: The aluminum alloy sheet is composed of an aluminum alloy containing, by mass, 0.005 to 0.05% Si, 0.005 to 0.05% Fe, 0.05 to 0.3% Cr, and 3.0 to 5.0% Mg, further comprising at least one or more kinds of metals selected from ≤0.1% Cu and ≤0.5% Zn, and also satisfying ≥0.1% (Zn+3×Cu), and the balance Al with inevitable impurities. The relation between the maximum size (μm) of an Mg-Si based intermetallic compound in the aluminum alloy sheet and the Si content (mass%) satisfies [the maximum size of the Mg-Si based intermetallic compound ≤the Si content×100]. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、磁気ディスク用アルミニウム合金板に関し、特に、不純物を多く含む地金(純度の低い地金)を原料として使用した磁気ディスク用アルミニウム合金板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an aluminum alloy plate for a magnetic disk, and more particularly, to an aluminum alloy plate for a magnetic disk using a metal containing a large amount of impurities (a low purity metal) as a raw material, and a method for manufacturing the same.

一般的に、外部記録装置の一つである磁気ディスク装置(Hard Disk Drive)は、情報を記録(保存)するための磁気ディスクと、磁気ディスクに情報を書き込みまたは再生するための磁気ヘッドとを備えている。   Generally, a magnetic disk device (Hard Disk Drive) which is one of external recording devices includes a magnetic disk for recording (storing) information and a magnetic head for writing or reproducing information on the magnetic disk. I have.

近時、このような磁気ディスクおよび磁気ヘッドの性能は大幅に向上し、近い将来には、面記録密度200Gb/in2が達成されようとしている。 Recently, the performance of such magnetic disks and magnetic heads has been greatly improved, and in the near future, a surface recording density of 200 Gb / in 2 is about to be achieved.

そして、磁気ディスクの記録密度を高めるためには、磁気ヘッドを低浮上量で安定浮上させる必要があるが、そのためには、磁気ディスク用基板の高平滑性が求められる。従来、磁気ディスク用基板としては、軽量及び非磁性であると共に、加工性が優れたアルミニウム合金板が使用されているが、アルミニウム合金板単独では磁気ディスク用基板の高平滑性が得難いといった問題点がある。   In order to increase the recording density of the magnetic disk, it is necessary to stably float the magnetic head with a low flying height. For this purpose, high smoothness of the magnetic disk substrate is required. Conventionally, as a magnetic disk substrate, an aluminum alloy plate that is lightweight and non-magnetic and excellent in workability has been used, but it is difficult to obtain high smoothness of a magnetic disk substrate by itself. There is.

このため一般的には、アルミニウム合金板の表面にNiPメッキ膜を約10μmの厚さに形成したものが、磁気ディスク用基板として使用されている。このような磁気ディスク用基板は、次のようにして作製されている。   Therefore, generally, a NiP plating film formed on the surface of an aluminum alloy plate with a thickness of about 10 μm is used as a magnetic disk substrate. Such a magnetic disk substrate is manufactured as follows.

先ず、溶解、鋳造および圧延により所望の合金種、調質および板厚に調整されたアルミニウム合金板を打抜きプレスにより所定の円輪状基板に打抜く。次に、円輪状基板内の加工残留応力除去および平坦度の向上のために、打抜かれた複数枚の円輪状基板を高平坦度のスペーサ間に積み付けし、全体を加圧しながら焼鈍する(加圧焼鈍)。一般に、この焼鈍後のものをブランクという。その後、ブランクの内周縁および外周縁の端面に対し、所定の端面加工を施す。   First, an aluminum alloy plate adjusted to a desired alloy type, tempering and plate thickness by melting, casting and rolling is punched into a predetermined annular substrate by a punching press. Next, in order to remove the processing residual stress in the annular substrate and improve the flatness, a plurality of punched annular substrates are stacked between spacers having high flatness, and the whole is annealed while being pressed ( Pressure annealing). Generally, this annealed product is called a blank. Thereafter, predetermined end face processing is performed on the inner peripheral edge and the outer peripheral edge of the blank.

その後、端面加工が施されたブランクを、両面研削機に予めセットされたキャリアのポケット内にセットし、砥石により目標の板厚になるまで研削加工する。しかし、この状態でも磁気ディスク用基板としての要求仕様(高平滑性)を満足することはできず、その後、さらに、研削加工されたブランクの表面にNiPメッキ膜を形成し、表面を研磨することにより、磁気ディスク用基板となる。   Thereafter, the blank subjected to the end face processing is set in a pocket of a carrier set in advance in a double-side grinding machine, and is ground by a grindstone until a target plate thickness is reached. However, even in this state, the required specification (high smoothness) as a magnetic disk substrate cannot be satisfied. After that, a NiP plating film is further formed on the ground surface of the blank and the surface is polished. Thus, a magnetic disk substrate is obtained.

一般的な磁気ディスクでは、前記磁気ディスク用基板の無電解メッキ処理により形成されたNiPメッキ膜上に、磁気特性を高めるための下地膜、Co基合金からなる磁性膜、および磁性膜を保護するためのCからなる保護膜をスパッタリングにより形成する。   In a general magnetic disk, a base film for enhancing magnetic properties, a magnetic film made of a Co-based alloy, and a magnetic film are protected on a NiP plating film formed by electroless plating of the magnetic disk substrate. A protective film made of C is formed by sputtering.

このように、磁気ディスク用のアルミニウム合金板には、その研削性と共に、そのアルミニウム合金板表面に形成されるNiPメッキ膜表面の平滑性の維持が要求されている。   Thus, the aluminum alloy plate for magnetic disks is required to maintain the smoothness of the NiP plating film surface formed on the surface of the aluminum alloy plate as well as the grindability.

そして、アルミニウム合金板の研削工程においては、不可避的不純物であるSi含有量が低く、Fe含有量が高いアルミニウム合金ほど研削加工し易いことが知られている。そのため、従来、アルミニウム合金板の研削性を向上させるために、Si含有量を低く抑えた、高価な高純度アルミニウム地金がアルミニウム合金板の原料として使用されている。   In the grinding process of an aluminum alloy plate, it is known that an aluminum alloy having a lower Si content, which is an inevitable impurity, and a higher Fe content, is easier to grind. Therefore, conventionally, in order to improve the grindability of the aluminum alloy plate, an expensive high-purity aluminum ingot with a low Si content has been used as a raw material for the aluminum alloy plate.

また、NiPメッキ膜表面の平滑性を阻害するピットやフクレの発生原因の1つとして、アルミニウム合金中に形成されるMg−Si系金属間化合物(Mg2Si)が関連していることが知られている。そのため、NiPメッキ膜表面の平滑性を維持するために、このようなMg2Siを少なくする必要があり、このためにも高純度アルミニウム地金が使用されている(例えば、特許文献1参照)。 In addition, it is known that Mg-Si intermetallic compound (Mg 2 Si) formed in an aluminum alloy is related as one of the causes of pits and blisters that hinder the smoothness of the NiP plating film surface. It has been. Therefore, in order to maintain the smoothness of the NiP plating film surface, it is necessary to reduce such Mg 2 Si, and for this purpose, high-purity aluminum bullion is used (see, for example, Patent Document 1). .

特開平11−140577号公報(請求項3、請求項4および段落番号〔0014〕)Japanese Patent Laid-Open No. 11-140577 (Claims 3, 4 and paragraph number [0014])

しかしながら、高純度アルミニウム地金の使用は、磁気ディスク用基板の作製時、研削性の向上やNiPメッキ膜表面のピットやフクレ等の欠陥を抑制するメリットがあるものの、一方で製造コスト高になるといった問題がある。このため、低コストな低純度アルミニウム地金を使用した場合であっても研削性を向上させる技術や、NiPメッキ膜表面の欠陥を抑制できる技術が望まれている。   However, the use of high-purity aluminum bullion has the advantage of improving grindability and suppressing defects such as pits and blisters on the surface of the NiP plating film when manufacturing a magnetic disk substrate, but at the same time increases the manufacturing cost. There is a problem. For this reason, even if it is a case where a low-cost low purity aluminum ingot is used, the technique which improves grindability and the technique which can suppress the defect of the NiP plating film surface are desired.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、製造コストが低く、磁気ディスク用基板の作製時、研削性を維持しつつ、NiPメッキ膜表面の欠陥の発生を抑えることができる磁気ディスク用アルミニウム合金板およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and the manufacturing cost is low, and it is possible to suppress the occurrence of defects on the surface of the NiP plating film while maintaining grindability during the production of a magnetic disk substrate. An object of the present invention is to provide an aluminum alloy plate for a magnetic disk and a method for producing the same.

前記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、Si:0.005〜0.05質量%、Fe:0.005〜0.05質量%、Cr:0.05〜0.3質量%、Mg:3.0〜5.0質量%を含有すると共に、Cu:0.1質量%以下、Zn:0.5質量%以下のうち少なくとも1種以上を含有し、かつ(Zn含有量+3×Cu含有量)が0.1質量%以上であり、残部をAlおよび不可避的不純物とするアルミニウム合金からなるアルミニウム合金板であって、前記アルミニウム合金板のMg−Si系金属間化合物の最大サイズ(μm)が前記Si含有量(質量%)に対して、〔Mg−Si系金属間化合物の最大サイズ≦Si含有量×100〕の関係を有する磁気ディスク用アルミニウム合金板として構成したものである。   In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 includes Si: 0.005 to 0.05 mass%, Fe: 0.005 to 0.05 mass%, and Cr: 0.05 to 0.3. And containing at least one of Cu: 0.1% by mass or less, Zn: 0.5% by mass or less, and (Zn-containing) (Amount + 3 × Cu content) is 0.1 mass% or more, and an aluminum alloy plate made of an aluminum alloy with the balance being Al and inevitable impurities, the Mg-Si intermetallic compound of the aluminum alloy plate The maximum size (μm) is configured as an aluminum alloy plate for a magnetic disk having a relationship of [maximum size of Mg-Si intermetallic compound ≦ Si content × 100] with respect to the Si content (mass%). It is.

前記構成によれば、Si、Fe、Cr、Mg、Cu、Znの組成を所定範囲に限定すると共に、Mg−Si系金属間化合物の最大サイズをSi含有量に対応した範囲に限定することにより、使用するアルミニウム地金が低純度となる。また、アルミニウム合金中に析出する金属間化合物のサイズ、個数が適正なものとなり、特に、アルミニウム合金板の研削性を向上させるAl−Fe系金属間化合物と、研削性を低下させるMg−Si系金属間化合物のサイズ、個数が適正なものとなる。また、無電解NiPメッキ処理の前処理工程において、析出した金属間化合物(Al−Fe系、Mg−Si系、Al−Cr系等)の脱落または溶解が少なくなり、また、脱落または溶解してもその痕のサイズが極めて小さく、個数も少ないものとなる。さらに、NiPメッキ膜に存在するMg−Si系金属間化合物のサイズが小さく、個数も少なくなる。   According to the above configuration, the composition of Si, Fe, Cr, Mg, Cu, and Zn is limited to a predetermined range, and the maximum size of the Mg-Si intermetallic compound is limited to a range corresponding to the Si content. The aluminum ingot used has low purity. In addition, the size and number of intermetallic compounds precipitated in the aluminum alloy become appropriate, and in particular, an Al—Fe intermetallic compound that improves the grindability of an aluminum alloy plate, and an Mg—Si system that reduces grindability. The size and number of intermetallic compounds are appropriate. In addition, in the pretreatment process of the electroless NiP plating process, the deposited intermetallic compounds (Al—Fe, Mg—Si, Al—Cr, etc.) are less dropped or dissolved, and are also dropped or dissolved. However, the size of the trace is extremely small and the number is small. Further, the size of the Mg—Si intermetallic compound existing in the NiP plating film is small and the number thereof is also reduced.

また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のアルミニウム合金を溶解、鋳造し、鋳塊を作製する第1工程と、前記鋳塊を均質化熱処理する第2工程と、前記均質化熱処理された鋳塊を熱間圧延し、圧延板を作製する第3工程と、前記圧延板を少なくとも1回以上冷間圧延し、アルミニウム合金板を作製する第4工程とを含むアルミニウム合金板の製造方法であって、前記第4工程が、前記熱間圧延から前記冷間圧延の最終冷間圧延までの間に、到達温度500℃以上で加熱し、到達温度が500℃以上に達した後に冷却速度10℃/min以上で400℃以下に冷却する熱処理工程を含む磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法として構成したものである。   The invention according to claim 2 is a first step of melting and casting the aluminum alloy according to claim 1 to produce an ingot, a second step of homogenizing heat treatment of the ingot, and the homogeneous An aluminum alloy plate comprising: a third step of hot rolling the heat-treated ingot to produce a rolled plate; and a fourth step of cold rolling the rolled plate at least once to produce an aluminum alloy plate In the manufacturing method, the fourth step was heated at an ultimate temperature of 500 ° C. or higher between the hot rolling and the final cold rolling of the cold rolling, and the ultimate temperature reached 500 ° C. or higher. This is a method for manufacturing an aluminum alloy plate for a magnetic disk, which includes a heat treatment step that is later cooled to 400 ° C. or less at a cooling rate of 10 ° C./min or more.

前記構成によれば、500℃以上の温度で熱処理することにより、熱間圧延によって析出、成長したMg−Si系金属間化合物がアルミニウム合金中に固溶する。また、10℃/min以上の冷却速度で冷却することにより、Mg−Si系金属間化合物が析出する温度域(400℃を超え500℃未満)を圧延板が通過する時間が短縮され、Mg−Si系金属間化合物の析出が抑制され、サイズが小さくなり、個数も少なくなる。   According to the said structure, by heat-processing at the temperature of 500 degreeC or more, the Mg-Si type | system | group intermetallic compound which precipitated and grew by hot rolling is dissolved in an aluminum alloy. Moreover, by cooling at a cooling rate of 10 ° C./min or more, the time for the rolled plate to pass through the temperature range (over 400 ° C. and below 500 ° C.) at which the Mg—Si-based intermetallic compound is precipitated is shortened. Precipitation of Si-based intermetallic compounds is suppressed, the size is reduced, and the number is also reduced.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金板およびその製造方法によれば、低純度アルミニウム地金の使用により製造コストを低下させることが可能となる。また、金属間化合物のサイズ、個数が適正化されることにより、低純度アルミニウム地金を使用しても、磁気ディスク用基板の作製の際、アルミニウム合金板の研削性を維持しつつ、アルミニウム合金板の表面に形成されるNiPメッキ膜表面のピットやフクレ等の欠陥の発生を抑えることが可能となる。   According to such an aluminum alloy plate for a magnetic disk and a method for producing the same, the production cost can be reduced by using a low-purity aluminum ingot. In addition, by optimizing the size and number of intermetallic compounds, the aluminum alloy is maintained while maintaining the grindability of the aluminum alloy plate even when using a low-purity aluminum ingot. It is possible to suppress the occurrence of defects such as pits and blisters on the surface of the NiP plating film formed on the surface of the plate.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明者らは、アルミニウム合金組成およびその金属間化合物と、アルミニウム合金板の研削性、アルミニウム合金板の表面に形成されるNiPメッキ膜表面に発生する欠陥との関係について鋭意研究を進めた。その結果、析出したMg−Si系金属間化合物のサイズ、個数が影響し、含有されるSi量が多くなってもMg−Si系金属間化合物がアルミニウム合金中に固溶していれば研削性を阻害せず、NiPメッキ膜表面に発生するピットおよびフクレ等の欠陥を抑制することを見出した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The inventors of the present invention have made extensive studies on the relationship between the aluminum alloy composition and its intermetallic compound, the grindability of the aluminum alloy plate, and the defects generated on the surface of the NiP plating film formed on the surface of the aluminum alloy plate. As a result, the size and number of precipitated Mg-Si intermetallic compounds are affected, and if the Mg-Si intermetallic compound is dissolved in the aluminum alloy even if the amount of Si contained is increased, the grindability is improved. It has been found that defects such as pits and blisters generated on the surface of the NiP plating film are suppressed without inhibiting the above.

また、Mg−Si系金属間化合物は、主に鋳造時に析出し、その後、500℃以上で均質化熱処理を施すことでアルミニウム合金中に固溶する。しかし、熱間圧延工程において400℃を超え500℃未満の温度域を通過することにより再度析出、成長する。
本発明者らは、この点に注目し、熱間圧延工程から最終冷間圧延工程までの間において行う熱処理がMg−Si系金属間化合物に及ぼす影響について検討した。その結果、熱処理の到達温度、冷却速度を所定範囲にすることにより、Mg−Si系金属間化合物が再度固溶し、Mg−Si系金属間化合物のサイズ、個数が減少することを見出した。
Further, the Mg—Si intermetallic compound is precipitated mainly at the time of casting, and then is solid-dissolved in the aluminum alloy by performing a homogenization heat treatment at 500 ° C. or higher. However, it precipitates and grows again by passing through a temperature range exceeding 400 ° C. and less than 500 ° C. in the hot rolling process.
The present inventors paid attention to this point, and examined the influence of heat treatment performed between the hot rolling process and the final cold rolling process on the Mg—Si intermetallic compound. As a result, it was found that the Mg—Si-based intermetallic compound was dissolved again and the size and number of the Mg—Si-based intermetallic compound were reduced by setting the temperature and the cooling rate of the heat treatment within a predetermined range.

本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金板は、Si、Fe、Cr、Mg、Cu、Znの組成、およびMg−Si系金属間化合物の最大サイズを所定範囲に限定したものである。以下に限定理由を述べる。
(1)Si:0.005〜0.05質量%
Siは、アルミニウム地金中に含まれる不純物であり、鋳造工程等において後記するMg−Si系金属間化合物を生じさせる。Siを0.005質量%未満にするには、高純度アルミニウム地金が必要であり製造コスト高になる。一方、Siが0.05質量%を超えると、後記するMg−Si系金属間化合物のサイズを小さく、また、個数も減少させることができず、アルミニウム合金板の研削性が低下する。また、アルミニウム合金板の表面に形成されるNiPメッキ膜表面のピットやフクレ等の発生にもつながる。
The aluminum alloy plate for a magnetic disk of the present invention is obtained by limiting the composition of Si, Fe, Cr, Mg, Cu, Zn and the maximum size of the Mg—Si intermetallic compound to a predetermined range. The reason for limitation will be described below.
(1) Si: 0.005 to 0.05 mass%
Si is an impurity contained in the aluminum ingot and generates an Mg—Si intermetallic compound described later in a casting process or the like. In order to make Si less than 0.005% by mass, a high-purity aluminum ingot is required, which increases the manufacturing cost. On the other hand, when Si exceeds 0.05 mass%, the size of the Mg—Si intermetallic compound described later cannot be reduced and the number cannot be reduced, and the grindability of the aluminum alloy plate is lowered. It also leads to the generation of pits and blisters on the surface of the NiP plating film formed on the surface of the aluminum alloy plate.

(2)Fe:0.005〜0.05質量%
Feもアルミニウム地金中に含まれる不純物であり、鋳造工程等においてAl−Fe系金属間化合物を生じさせる。このAl−Fe系金属間化合物はアルミニウム合金板の研削性を向上させる作用がある。Feを0.005質量%未満にするためには、高純度アルミニウム地金が必要であり製造コスト高になる。また、研削性の低下にもつながる。一方、Feが0.05質量%を超えるとAl−Fe系金属間化合物のサイズが大きくなると共に、個数も増加し、アルミニウム合金板の研削工程、無電解NiPメッキ処理の前処理工程において、Al−Fe系金属間化合物が脱落または溶解して、NiPメッキ膜表面にピットのような欠陥が生じ易くなる。
(2) Fe: 0.005 to 0.05 mass%
Fe is also an impurity contained in the aluminum ingot, and produces an Al—Fe intermetallic compound in a casting process or the like. This Al—Fe-based intermetallic compound has the effect of improving the grindability of the aluminum alloy plate. In order to make Fe less than 0.005% by mass, a high-purity aluminum ingot is required, resulting in high manufacturing costs. It also leads to a decrease in grindability. On the other hand, when Fe exceeds 0.05% by mass, the size of the Al—Fe-based intermetallic compound increases and the number also increases. In the pretreatment step of the aluminum alloy plate grinding step and the electroless NiP plating treatment, Al The Fe-based intermetallic compound falls off or dissolves, and defects such as pits are easily generated on the NiP plating film surface.

(3)Cr:0.05〜0.3質量%
Crは結晶粒の微細化に寄与する元素で、Crが0.05質量%未満であると、最大長が100μmを超えるような粗大な結晶粒が生成し易くなる。このような不均一な結晶粒組織は、NiPメッキ膜を形成する際に一般的に行なわれるジンケート処理(亜鉛置換処理。例えば、特開平6−131659号参照)において、Znの析出が不均一となり易い。その結果、NiPメッキ膜表面に欠陥(メッキ膜表面の粗さやうねりを悪化させる)が発生し易い。
(3) Cr: 0.05 to 0.3% by mass
Cr is an element that contributes to the refinement of crystal grains. When Cr is less than 0.05% by mass, coarse crystal grains having a maximum length exceeding 100 μm are easily generated. Such a non-uniform crystal grain structure results in non-uniform precipitation of Zn in a zincate process (zinc replacement process; for example, see Japanese Patent Laid-Open No. 6-131659) generally performed when forming a NiP plating film. easy. As a result, defects (deteriorating the roughness and waviness of the plating film surface) are likely to occur on the NiP plating film surface.

また、Crが0.3質量%を超えると、粗大なAl−Cr系金属間化合物、例えば、CrAl7が生成し易く、アルミニウム合金板の研削工程、無電解NiPメッキ処理の前処理工程において、Al−Cr系金属間化合物が脱落または溶解して、NiPメッキ膜表面にピットのような欠陥が生じ易くなる。 Further, when Cr exceeds 0.3% by mass, a coarse Al—Cr intermetallic compound, for example, CrAl 7 is easily generated, and in the pretreatment step of the grinding process of the aluminum alloy plate and the electroless NiP plating treatment, Al—Cr-based intermetallic compounds fall off or dissolve, and defects such as pits are easily generated on the surface of the NiP plating film.

(4)Mg:3.0〜5.0質量%
Mgは強度向上に有効な元素で、Mgが3.0質量%未満であるとアルミニウム合金板の強度が磁気ディスク用として不十分であり、また、Mgが5.0質量%を超えると熱間圧延性が悪く生産性の低下を招く。
(4) Mg: 3.0 to 5.0 mass%
Mg is an element effective in improving the strength. If Mg is less than 3.0% by mass, the strength of the aluminum alloy plate is insufficient for a magnetic disk, and if Mg exceeds 5.0% by mass, it is hot. Rollability is poor and productivity is reduced.

(5)Cu:0.1質量%以下、Zn:0.5質量%以下のうち少なくとも1種以上を含有し、かつ(Zn含有量+3×Cu含有量)が0.1質量%以上
CuおよびZnは、無電解NiPメッキ処理の前処理工程(ジンケート処理)において、ジンケート皮膜を均一に析出させる効果がある。この際、CuおよびZnは単独でも、組み合わせても効果がある。
(5) Cu: 0.1 mass% or less, Zn: containing at least one of 0.5 mass% or less, and (Zn content + 3 × Cu content) is 0.1 mass% or more Cu and Zn has the effect of depositing a zincate film uniformly in the pretreatment step (zincate treatment) of the electroless NiP plating treatment. At this time, Cu and Zn can be effective singly or in combination.

0.1質量%を超えるCu、および0.5質量%を超えるZnのうち少なくとも1種以上を含有する場合には、夫々により形成されるAl−Cu系、Al−Zn系金属間化合物のサイズが大きくなり、アルミニウム合金板の研削工程、無電解NiPメッキ処理の前処理工程において、金属間化合物が脱落また溶解して、NiPメッキ膜表面にピットのような欠陥が生じ易くなる。また、(Zn含有量+3×Cu含有量)が0.1質量%未満である場合には、ジンケート皮膜を均一に析出させる効果が小さい。その結果、NiPメッキ膜表面に欠陥(メッキ膜表面の粗さやうねりを悪化させる)が発生し易い。   When containing at least one of Cu exceeding 0.1% by mass and Zn exceeding 0.5% by mass, the size of the Al—Cu-based and Al—Zn-based intermetallic compounds formed by each of them In the grinding process of the aluminum alloy plate and the pretreatment process of the electroless NiP plating process, the intermetallic compound is dropped and dissolved, and defects such as pits are easily generated on the NiP plating film surface. Moreover, when (Zn content + 3 × Cu content) is less than 0.1 mass%, the effect of depositing the zincate film uniformly is small. As a result, defects (deteriorating the roughness and waviness of the plating film surface) are likely to occur on the NiP plating film surface.

(5)Mg−Si系金属間化合物の最大サイズ:
Mg−Si系金属間化合物のサイズ、個数は、Si含有量に比例して増加するが、均質化熱処理条件や熱間圧延によっても変化する。通常、均質化熱処理によってMg−Si系金属間化合物はアルミニウム合金中に固溶する。そして、均質化熱処理後に熱間圧延を行うと、Mg−Si系金属間化合物がアルミニウム合金板中に再度析出し成長する。
(5) Maximum size of Mg-Si intermetallic compound:
The size and number of Mg—Si intermetallic compounds increase in proportion to the Si content, but also change depending on the homogenization heat treatment conditions and hot rolling. Usually, the Mg—Si intermetallic compound is dissolved in the aluminum alloy by the homogenization heat treatment. When hot rolling is performed after the homogenization heat treatment, the Mg—Si intermetallic compound is precipitated again in the aluminum alloy plate and grows.

このMg−Si系金属間化合物のサイズ、個数が増加すると、アルミニウム合金板の研削工程において研削性が疎外される。また、アルミニウム合金板の研削工程、無電解NiPメッキ処理の前処理工程において、金属間化合物が脱落または溶解して、NiPメッキ膜表面にピットのような欠陥が生じ易くなる。さらに、NiPメッキ膜内にサイズの大きいMg−Si系金属間化合物が存在すると、Mg−Si系金属間化合物表面からはNiPメッキ膜が成長せず、その周囲から成長したNiPメッキ膜でMg−Si系金属間化合物が覆われる。このため,NiPメッキ膜とアルミニウム合金板との界面にメッキ液などが残存した空孔が形成され、無電解NiPメッキ処理後に行われる磁性膜のスパッタリング時の加熱などにより、NiPメッキ膜表面にフクレのような欠陥が生じ易くなる。   When the size and number of the Mg—Si based intermetallic compounds are increased, the grindability is excluded in the grinding process of the aluminum alloy sheet. Further, in the grinding process of the aluminum alloy plate and the pretreatment process of the electroless NiP plating process, the intermetallic compound is dropped or dissolved, and defects such as pits are easily generated on the NiP plating film surface. Further, when a large Mg—Si intermetallic compound exists in the NiP plating film, the NiP plating film does not grow from the surface of the Mg—Si intermetallic compound, and Mg— The Si-based intermetallic compound is covered. For this reason, voids in which the plating solution remains at the interface between the NiP plating film and the aluminum alloy plate are formed, and the surface of the NiP plating film is inflated by heating during sputtering of the magnetic film performed after the electroless NiP plating process. Such defects are likely to occur.

そのため、Mg−Si系金属間化合物の最大サイズを、Si含有量に対応した範囲に限定する必要がある。すなわち、〔Mg−Si系金属間化合物の最大サイズ(μm)≦Si含有量(%)×100〕を満足する必要がある。これにより、Siが所定範囲内(0.005〜0.05質量%)のいずれの含有量であっても、Mg−Si系金属間化合物の最大サイズが小さいものとなり、結果的に、アルミニウム合金板中に形成されるMg−Si系金属間化合物の分布が、サイズの小さい、および個数の少ない方向に移行する。図1はアルミニウム合金板中のMg−Si系金属間化合物の分布を示すグラフ図であり、Si含有量が同一の本発明のアルミニウム合金板と従来のアルミニウム合金板を示した。図1より、Mg−Si系金属間化合物の最大サイズを[Si含有量(%)×100]μm以下にすることにより、本発明のアルミニウム合金板が、従来に比べて、Mg−Si系金属間化合物のサイズが小さく、個数も少なくなることがわかる。   Therefore, it is necessary to limit the maximum size of the Mg—Si based intermetallic compound to a range corresponding to the Si content. That is, it is necessary to satisfy [maximum size of Mg—Si intermetallic compound (μm) ≦ Si content (%) × 100]. As a result, the maximum size of the Mg—Si intermetallic compound is small regardless of the content of Si within the predetermined range (0.005 to 0.05 mass%). As a result, the aluminum alloy The distribution of the Mg—Si intermetallic compound formed in the plate shifts in the direction of decreasing size and decreasing number. FIG. 1 is a graph showing the distribution of Mg—Si based intermetallic compounds in an aluminum alloy plate, showing the aluminum alloy plate of the present invention and the conventional aluminum alloy plate having the same Si content. As shown in FIG. 1, when the maximum size of the Mg—Si-based intermetallic compound is set to [Si content (%) × 100] μm or less, the aluminum alloy plate of the present invention has an Mg—Si-based metal compared to the conventional one. It can be seen that the size of the intermetallic compound is small and the number is also small.

(6)不可避的不純物
不可避的不純物としては、例えばZr、Ti、Mn等が挙げられるが、これらは、NiPメッキ膜の形成時にピット又はノジュールの発生原因となるため、夫々0.05質量%以下にすることが好ましく、更には、夫々0.02質量%以下にすることがより好ましい。
(6) Inevitable impurities Inevitable impurities include, for example, Zr, Ti, Mn, etc., and these cause generation of pits or nodules during the formation of the NiP plating film. It is preferable that the content is 0.02% by mass or less.

次に、本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法は、アルミニウム合金を溶解、鋳造し、鋳塊を作製する第1工程と、前記鋳塊を均質化熱処理する第2工程と、前記均質化熱処理された鋳塊を熱間圧延し、圧延板を作製する第3工程と、前記圧延板を少なくとも1回以上冷間圧延すると共に、熱間圧延から最終冷間圧延までの間に熱処理を行ってアルミニウム合金板を作製する第4工程とを含むものである。以下、各工程について述べる。   Next, the method for producing an aluminum alloy plate for a magnetic disk according to the present invention includes a first step of melting and casting an aluminum alloy to produce an ingot, a second step of homogenizing heat treatment of the ingot, and the homogeneous A third step of hot-rolling the ingot that has been heat-treated to produce a rolled plate, and cold-rolling the rolled plate at least once or more, and performing a heat treatment from hot rolling to final cold rolling. And a fourth step of producing an aluminum alloy plate. Hereinafter, each step will be described.

(A)第1工程
溶解、鋳造は常法にしたがって行う。また、溶解時に、アルミニウム地金に各種元素を添加することにより、磁気ディスク用として所望の組成のアルミニウム合金とする。
(A) 1st process Melting | dissolving and casting are performed in accordance with a conventional method. In addition, various elements are added to the aluminum metal at the time of melting to obtain an aluminum alloy having a desired composition for a magnetic disk.

(B)第2工程
均質化熱処理は常法にしたがって行い、500℃以上で行うことが好ましい。鋳塊を500℃以上で加熱することで、鋳造時に析出したMg−Si系金属間化合物がアルミニウム合金中に固溶する。その結果、鋳塊中に析出したMg−Si系金属間化合物のサイズ、個数が減少する。
(B) 2nd process Homogenization heat processing is performed according to a conventional method, and it is preferable to carry out at 500 degreeC or more. By heating the ingot at 500 ° C. or higher, the Mg—Si intermetallic compound precipitated during casting is dissolved in the aluminum alloy. As a result, the size and number of Mg—Si intermetallic compounds precipitated in the ingot are reduced.

(C)第3工程
熱間圧延は常法にしたがって行う。熱間圧延によりMg−Si系金属間化合物が再度析出、成長する。
(C) 3rd process Hot rolling is performed in accordance with a conventional method. The Mg—Si intermetallic compound is precipitated and grows again by hot rolling.

(D)第4工程
冷間圧延は常法にしたがって少なくとも1回以上行う。熱処理は、到達温度500℃以上で加熱、冷却速度10℃/min以上で400℃以下に冷却する。そして、熱処理は、熱間圧延から最終冷間圧延までの間に行う、すなわち、熱間圧延直後、または複数回の冷間圧延の途中で行う。また、熱処理前後の冷間圧延率は、アルミニウム合金板の結晶粒の粗大化を防止する上で、25%以上とすることが好ましい。さらに、複数回の冷間圧延の途中で、Mg−Si系金属間化合物が析出しない350℃程度の焼鈍を行ってもよい。この焼鈍により、アルミニウム合金板の組織の均一性などの特性が向上する。
以下に熱処理条件の限定理由について述べる。
(D) 4th process Cold rolling is performed at least once according to a conventional method. The heat treatment is performed by heating at an ultimate temperature of 500 ° C. or more and cooling to 400 ° C. or less at a cooling rate of 10 ° C./min or more. The heat treatment is performed from hot rolling to final cold rolling, that is, immediately after hot rolling or in the middle of a plurality of cold rollings. The cold rolling rate before and after the heat treatment is preferably 25% or more in order to prevent the crystal grains of the aluminum alloy plate from becoming coarse. Furthermore, you may anneal about 350 degreeC in which the Mg-Si type | system | group intermetallic compound does not precipitate in the middle of multiple times of cold rolling. By this annealing, characteristics such as the uniformity of the structure of the aluminum alloy plate are improved.
The reason for limiting the heat treatment conditions will be described below.

(到達温度:500℃以上)
前記(C)第3工程で熱間圧延された圧延板、またはその圧延板を冷間圧延した圧延板を500℃未満で加熱すると、熱間圧延において再度析出、成長したMg−Si系金属間化合物がアルミニウム合金中に固溶せず、アルミニウム合金板表面にサイズの大きいMg−Si系金属間化合物が析出する。その結果、磁気ディスク用基板の作製の際、アルミニウム合金板の研削性が低下すると共に、アルミニウム合金板の表面に形成されるNiPメッキ膜表面にピットやフクレが発生し易くなる。
(Achieved temperature: 500 ° C or higher)
(C) When the rolled sheet hot-rolled in the third step or the rolled sheet obtained by cold-rolling the rolled sheet is heated at less than 500 ° C., the Mg—Si-based metal that is precipitated and grown again in the hot rolling The compound does not dissolve in the aluminum alloy, and a large Mg—Si-based intermetallic compound is deposited on the surface of the aluminum alloy plate. As a result, when the magnetic disk substrate is manufactured, the grindability of the aluminum alloy plate is lowered, and pits and blisters are easily generated on the surface of the NiP plating film formed on the surface of the aluminum alloy plate.

(冷却速度:10℃/min以上)
圧延板を10℃/min未満の冷却速度で冷却すると、Mg−Si系金属間化合物の析出が起こる温度域(400℃を超え500℃未満)を圧延板が通過する時間が長くなり、アルミニウム合金板表面にMg−Si系金属間化合物が再度析出、成長する。
(Cooling rate: 10 ° C / min or more)
When the rolled sheet is cooled at a cooling rate of less than 10 ° C./min, the time for the rolled sheet to pass through the temperature range (exceeding 400 ° C. and less than 500 ° C.) where precipitation of the Mg—Si intermetallic compound occurs becomes long, and the aluminum alloy The Mg—Si intermetallic compound is precipitated and grows again on the plate surface.

以下、本発明の特許請求の範囲を満たす実施例の効果について、特許請求の範囲から外れる比較例と比較して説明する。
表1に示す組成を有するアルミニウム合金を溶解し、鋳造により板厚50mmの鋳塊を作製し、その鋳塊を面削した後、540℃で8時間加熱して均質化熱処理した。その後、表2に示す製造工程により、熱間圧延および冷間圧延し、板厚1.27mmのアルミニウム合金板を作製した。
さらに、そのアルミニウム合金板を、外径95mm、内径25mmの円輪状に打抜き、所定枚数を積み付け、340℃で加圧焼鈍した後に端面加工を行ない、3.5インチサイズのブランクを作製した。
Hereinafter, the effect of the Example which satisfy | fills the claim of this invention is demonstrated compared with the comparative example which remove | deviates from a claim.
An aluminum alloy having the composition shown in Table 1 was melted, an ingot having a thickness of 50 mm was produced by casting, the ingot was chamfered, and then heated at 540 ° C. for 8 hours for homogenization heat treatment. Thereafter, hot rolling and cold rolling were performed by the manufacturing process shown in Table 2 to produce an aluminum alloy plate having a thickness of 1.27 mm.
Further, the aluminum alloy plate was punched into an annular shape having an outer diameter of 95 mm and an inner diameter of 25 mm, a predetermined number of sheets were stacked, and after pressure annealing at 340 ° C., end face processing was performed to produce a 3.5-inch blank.

Figure 2005133134
Figure 2005133134

Figure 2005133134
Figure 2005133134

得られたアルミニウム合金板およびブランクについて、以下の評価を行い、結果を表3および表4に示した。   The obtained aluminum alloy plate and blank were evaluated as follows, and the results are shown in Tables 3 and 4.

(1)引張強さ
冷間圧延後のアルミニウム合金板を340℃にてO材化処理した後、引張方向が圧延方向と平行になるようにJIS5号による引張試験片を作製した。
その後、JIS Z2241にて引張試験を実施し、引張強さを求めた。
なお、引張強さは、高いほど好ましいが200N/mm2以上あれば磁気ディスク用基板として問題なく使用することができる。
(1) Tensile strength After the cold-rolled aluminum alloy sheet was O-treated at 340 ° C, tensile test pieces according to JIS No. 5 were prepared so that the tensile direction was parallel to the rolling direction.
Then, the tensile test was implemented by JISZ2241 and the tensile strength was calculated | required.
The higher the tensile strength, the better. However, if it is 200 N / mm 2 or more, it can be used as a magnetic disk substrate without any problem.

(2)研削速度
3.5インチサイズに打抜かれた各ブランクについて、両面研削機(スピードファム社製−18B)を使用し、ドレッシングを行った後に研削を行った。なお、研削速度は、2次圧での研削時間を測定し、1分間当りの研削量として求めた。
(2) Grinding speed About each blank punched to 3.5 inch size, it was ground after dressing using a double-sided grinding machine (-18B made by Speed Fam Co., Ltd.). The grinding speed was determined as the grinding amount per minute by measuring the grinding time at the secondary pressure.

(3)Mg−Si系金属間化合物の最大サイズ
SEM(Scanning Electron Microscope:走査型電子顕微鏡)にて、前記(2)の研削後のブランク表面を観察し、Mg−Si系金属間化合物の最大サイズを求めた。観察は、倍率1000倍で組成像を20視野観察し、黒く写った粒子(アルミより軽元素、大半がMg−Si系金属間化合物)の最大サイズを測定した。なお、測定精度は1μmであった。
(3) Maximum size of Mg-Si intermetallic compound The surface of the blank after grinding in (2) above was observed with a scanning electron microscope (SEM), and the maximum size of the Mg-Si intermetallic compound. The size was determined. The observation was performed by observing 20 field images of the composition image at a magnification of 1000 times, and measuring the maximum size of black particles (lighter elements than aluminum, most of which were Mg-Si intermetallic compounds). The measurement accuracy was 1 μm.

(4)ジンケート表面の状態
研削後のブランクについて、以下の(a)〜(k)に示す処理工程を行った後、処理後のブランク表面におけるZnの析出状態およびピットの発生状況をSEMにより観察した。その際、Znの析出状態が、結晶粒毎のZnの析出状態が同じで,均一なものを○、粒状に析出し不均一なものを×とした。また、ピットの発生状況については、数が少なく小さかったものを○、数が多く大きかったものを×とした。
(4) State of zincate surface After the blanks after grinding were subjected to the treatment steps shown in the following (a) to (k), the Zn precipitation state and the pit generation state on the blank surface after treatment were observed by SEM. did. At that time, the Zn precipitation state was the same as the Zn precipitation state for each crystal grain. As for the occurrence of pits, ◯ indicates that the number is small and small, and x indicates that the number is large and large.

(処理工程)
(a)アルカリ脱脂工程:60℃×2分間
(b)水洗工程
(c)酸エッチング:65℃×2分間
(d)水洗工程
(e)硝酸デスマット工程:室温×1分間
(f)水洗工程
(g)1次ジンケート工程
(h)水洗工程
(i)2次ジンケート工程
(j)水洗工程
(k)乾燥工程
(Processing process)
(A) Alkali degreasing step: 60 ° C. × 2 minutes (b) Water washing step (c) Acid etching: 65 ° C. × 2 minutes (d) Water washing step (e) Nitric acid desmutting step: Room temperature × 1 minute (f) Water washing step ( g) Primary zincate process (h) Water washing process (i) Secondary zincate process (j) Water washing process (k) Drying process

Figure 2005133134
Figure 2005133134

Figure 2005133134
Figure 2005133134

表3、表4の結果から、実施例1〜実施例5はいずれも、引張強さ、研削速度、ジンケート表面の状態のいずれにおいても良好であった。   From the results in Tables 3 and 4, all of Examples 1 to 5 were good in any of tensile strength, grinding speed, and state of the zincate surface.

比較例1は、組成においてSiが上限値を超え、金属間化合物Mg2Siの最大サイズが上限値を超えるため、研削速度が実施例1〜実施例5に比べて遅く、研削性が劣っていた。また、ジンケート表面にピットが発生し、NiPメッキ膜表面のピットにつながるものであった。 In Comparative Example 1, since Si exceeds the upper limit in the composition and the maximum size of the intermetallic compound Mg 2 Si exceeds the upper limit, the grinding speed is slower than those in Examples 1 to 5, and the grindability is inferior. It was. Also, pits were generated on the zincate surface, leading to pits on the NiP plating film surface.

比較例2は、引張強さ、研削速度、ジンケート表面の状態のいずれにおいても良好であったが、組成においてSiが下限値未満で高純度アルミニウム地金が必要であるため製造コストが高いものであった。   Comparative Example 2 was good in all of the tensile strength, grinding speed, and zincate surface state, but the production cost is high because Si is less than the lower limit in the composition and a high-purity aluminum ingot is required. there were.

比較例3は、組成においてFeが上限値を超えるため、ジンケート表面にピットが発生し、NiPメッキ膜表面のピットにつながるものであった。比較例4は、組成においてFeが下限値未満であるため、研削速度が実施例1〜実施例5に比べて遅く、研削性が劣り、また、高純度アルミニウム地金が必要であるため製造コストが高いものであった。   In Comparative Example 3, since Fe exceeded the upper limit in the composition, pits were generated on the surface of the zincate, leading to pits on the surface of the NiP plating film. In Comparative Example 4, since Fe is less than the lower limit in the composition, the grinding speed is slower than those in Examples 1 to 5, the grindability is inferior, and a high-purity aluminum ingot is necessary, so that the manufacturing cost is low. Was expensive.

比較例5は、組成においてMgが下限値未満であるため、引張強さが低く、磁気ディスク基板として強度不足であり使用できないものであった。比較例6は引張強さ、研削速度、ジンケート表面の状態のいずれにおいても良好であったが、組成においてMgが上限値を超えるため、熱間圧延性が悪く生産性が劣るものであった。   In Comparative Example 5, since Mg was less than the lower limit in the composition, the tensile strength was low and the magnetic disk substrate was insufficient in strength and could not be used. Comparative Example 6 was good in all of the tensile strength, grinding speed, and zincate surface state, but because Mg exceeded the upper limit in the composition, the hot rolling property was poor and the productivity was inferior.

比較例7は、組成においてCrが下限値未満であるため、結晶粒が粗大となり、ジンケート表面のZnの析出状態が不均一であった。その結果、NiPメッキ膜表面の欠陥につながるものであった。   In Comparative Example 7, since Cr was less than the lower limit in the composition, the crystal grains became coarse, and the Zn precipitation state on the surface of the zincate was not uniform. As a result, it resulted in defects on the NiP plating film surface.

比較例8は組成においてCrが上限値を超え、比較例9は組成においてCuが上限値を超え、比較例10は組成においてZnが上限値を超えるため、いずれもジンケート表面にピットが発生し、NiPメッキ膜表面のピットにつながるものであった。   In Comparative Example 8, Cr exceeds the upper limit value in the composition, in Comparative Example 9, Cu exceeds the upper limit value in the composition, and in Comparative Example 10, since Zn exceeds the upper limit value in the composition, both generate pits on the surface of the zincate. This led to pits on the surface of the NiP plating film.

比較例11は組成においてCuおよびZnを含有し、比較例12は組成においてCuのみ含有し、比較例13は組成においてZnのみを含有し、いずれも(Zn+3×Cu)が下限値未満であるため、ジンケート表面のZnの析出状態が不均一であり、NiPメッキ膜表面の欠陥につながるものであった。   Comparative Example 11 contains Cu and Zn in the composition, Comparative Example 12 contains only Cu in the composition, and Comparative Example 13 contains only Zn in the composition, both of which (Zn + 3 × Cu) are less than the lower limit value. The Zn deposition state on the zincate surface was uneven, leading to defects on the NiP plating film surface.

比較例14、比較例15は、夫々、冷却速度、熱処理到達温度が下限値未満であるため、また、比較例16は熱間圧延から最終冷間圧延までの間に熱処理が行われないため、いずれもMg2Siの最大サイズが大きく、研削速度が実施例1〜実施例5に比べて遅く、ジンケート表面にピットが発生した。その結果、研削性に劣り、NiPメッキ膜表面のピットにつながるものであった。 In Comparative Example 14 and Comparative Example 15, the cooling rate and the heat treatment attainment temperature are less than the lower limit values, respectively, and since Comparative Example 16 is not subjected to heat treatment from hot rolling to final cold rolling, In any case, the maximum size of Mg 2 Si was large, the grinding speed was slower than in Examples 1 to 5, and pits were generated on the surface of the zincate. As a result, the grindability was inferior, leading to pits on the NiP plating film surface.

アルミニウム合金板中のMg−Si系金属間化合物の分布を示すグラフ図である。It is a graph which shows distribution of the Mg-Si type | system | group intermetallic compound in an aluminum alloy plate.

Claims (2)

Si:0.005〜0.05質量%、Fe:0.005〜0.05質量%、Cr:0.05〜0.3質量%、Mg:3.0〜5.0質量%を含有すると共に、
Cu:0.1質量%以下、Zn:0.5質量%以下のうち少なくとも1種以上を含有し、かつ(Zn含有量+3×Cu含有量)が0.1質量%以上であり、残部をAlおよび不可避的不純物とするアルミニウム合金からなるアルミニウム合金板であって、
前記アルミニウム合金板のMg−Si系金属間化合物の最大サイズ(μm)が前記Si含有量(質量%)に対して、
〔Mg−Si系金属間化合物の最大サイズ≦Si含有量×100〕
の関係を有することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金板。
Si: 0.005 to 0.05 mass%, Fe: 0.005 to 0.05 mass%, Cr: 0.05 to 0.3 mass%, Mg: 3.0 to 5.0 mass% With
Cu: 0.1 mass% or less, Zn: containing at least one of 0.5 mass% or less, and (Zn content + 3 × Cu content) is 0.1 mass% or more, and the balance An aluminum alloy plate made of aluminum and an aluminum alloy as an inevitable impurity,
The maximum size (μm) of the Mg—Si intermetallic compound of the aluminum alloy plate is relative to the Si content (% by mass).
[Maximum size of Mg—Si intermetallic compound ≦ Si content × 100]
An aluminum alloy plate for a magnetic disk, characterized in that:
Si:0.005〜0.05質量%、Fe:0.005〜0.05質量%、Cr:0.05〜0.3質量%、Mg:3.0〜5.0質量%を含有すると共に、
Cu:0.1質量%以下、Zn:0.5質量%以下のうち少なくとも1種以上を含有し、かつ(Zn含有量+3×Cu含有量)が0.1質量%以上であり、残部をAlおよび不可避的不純物とするアルミニウム合金を溶解、鋳造し、鋳塊を作製する第1工程と、
前記鋳塊を均質化熱処理する第2工程と、
前記均質化熱処理された鋳塊を熱間圧延し、圧延板を作製する第3工程と、
前記圧延板を少なくとも1回以上冷間圧延し、アルミニウム合金板を作製する第4工程とを含むアルミニウム合金板の製造方法であって、
前記第4工程が、前記熱間圧延から前記冷間圧延の最終冷間圧延までの間に、到達温度500℃以上で加熱し、到達温度500℃以上に達した後に冷却速度10℃/min以上で400℃以下に冷却する熱処理工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法。
Si: 0.005 to 0.05 mass%, Fe: 0.005 to 0.05 mass%, Cr: 0.05 to 0.3 mass%, Mg: 3.0 to 5.0 mass% With
Cu: 0.1 mass% or less, Zn: containing at least one of 0.5 mass% or less, and (Zn content + 3 × Cu content) is 0.1 mass% or more, and the balance A first step of melting and casting Al and an inevitable impurity aluminum alloy to produce an ingot;
A second step of homogenizing heat treatment of the ingot;
A third step of hot rolling the homogenized heat-treated ingot to produce a rolled plate;
A method for producing an aluminum alloy plate, comprising: a fourth step of cold rolling the rolled plate at least once and producing an aluminum alloy plate,
The fourth step is heated at an ultimate temperature of 500 ° C. or higher between the hot rolling and the final cold rolling of the cold rolling, and after reaching the ultimate temperature of 500 ° C. or higher, the cooling rate is 10 ° C./min or higher. The manufacturing method of the aluminum alloy plate for magnetic discs characterized by including the heat processing process cooled to 400 degrees C or less by this.
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JP2012123884A (en) * 2010-12-10 2012-06-28 Furukawa Electric Co Ltd:The Method of manufacturing blank material for magnetic disk, and blank material for magnetic disk
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009242843A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Kobe Steel Ltd Aluminum alloy substrate for magnetic disk and method for producing the same
JP2012123884A (en) * 2010-12-10 2012-06-28 Furukawa Electric Co Ltd:The Method of manufacturing blank material for magnetic disk, and blank material for magnetic disk
CN105568114A (en) * 2015-12-24 2016-05-11 芜湖恒耀汽车零部件有限公司 Copper-aluminum alloy material used for automobile exhaust pipe and preparation method of copper-aluminum alloy material

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