JP6339719B1 - Aluminum alloy plate for magnetic disk, aluminum alloy blank for magnetic disk and aluminum alloy substrate for magnetic disk - Google Patents

Aluminum alloy plate for magnetic disk, aluminum alloy blank for magnetic disk and aluminum alloy substrate for magnetic disk Download PDF

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Abstract

【課題】剛性が高く、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能でありながら、高い耐力も兼備することができる磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供する。【解決手段】磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートは、Si:0.10質量%以下、Fe:0.50質量%以上1.50質量%以下、Mn:0.50質量%以上1.50質量%以下、Ni:1.00質量%以上2.00質量%未満、Cu:0.05質量%以上1.00質量%以下を含有し、残部がAlおよび不可避的不純物からなる。【選択図】なしAn aluminum alloy plate for a magnetic disk, an aluminum alloy blank for a magnetic disk, and a magnetic disk capable of forming a plated film having high rigidity and smoothness on the surface while having high proof stress. Provide aluminum alloy substrate. An aluminum alloy plate for a magnetic disk, an aluminum alloy blank for a magnetic disk, and an aluminum alloy substrate for a magnetic disk are composed of Si: 0.10% by mass or less, Fe: 0.50% by mass to 1.50% by mass. Mn: 0.50% by mass or more and 1.50% by mass or less, Ni: 1.00% by mass or more and less than 2.00% by mass, Cu: 0.05% by mass or more and 1.00% by mass or less, and the balance Consists of Al and inevitable impurities. [Selection figure] None

Description

本発明は、磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートに関する。   The present invention relates to an aluminum alloy plate for a magnetic disk, an aluminum alloy blank for a magnetic disk, and an aluminum alloy substrate for a magnetic disk.

コンピュータなどが備えるハードディスクドライブ(HDD)の記録媒体としては、アルミニウム合金製の磁気ディスクが多用されている。アルミニウム合金製の磁気ディスクの基板は、円環状に打ち抜いたアルミニウム合金板に矯正焼鈍を施してブランクを作製し、ブランクに切削加工や研削加工を施してサブストレートを作製し、サブストレートに表面処理を施すことによって製造されている。   As a recording medium for a hard disk drive (HDD) provided in a computer or the like, a magnetic disk made of aluminum alloy is frequently used. The aluminum alloy magnetic disk substrate is made by blanking an aluminum alloy plate punched into an annular shape to produce a blank, then cutting and grinding the blank to produce a substrate, and then subjecting the substrate to a surface treatment. It is manufactured by applying.

サブストレートは、多くの場合、脱脂処理、酸エッチング処理、デスマット処理、1stジンケート処理、硝酸剥離処理、2ndジンケート処理、無電解Ni−Pめっき処理を順に施される。そして、無電解Ni−Pめっき処理によって成膜されためっき膜の表面に、磁性層、保護膜などが形成されて、読み書き可能な状態の磁気ディスクが製造される。   In many cases, the substrate is sequentially subjected to a degreasing process, an acid etching process, a desmut process, a 1st zincate process, a nitric acid stripping process, a 2nd zincate process, and an electroless Ni-P plating process. And a magnetic layer, a protective film, etc. are formed in the surface of the plating film formed by the electroless Ni-P plating process, and the magnetic disk in a readable / writable state is manufactured.

近年、記録データの転送速度の高速化が進んでおり、これに伴って、磁気ディスクの回転数も高速になっている。磁気ディスクは、作動時の回転数が高速であるほど、また、薄肉で軽量であるほど、共振による振動によって正確な読み書きが困難になる。そのため、磁気ディスクの基板には、振動に耐える高い剛性が求められる。振動に耐え得る剛性は、基板を厚肉化することによって確保することが可能である。しかし、基板を厚肉化する手法では、磁気ディスクを軽量にすることができず、また、記録装置への搭載枚数も制約される。そのため、磁気ディスクの基板に関しては、材料自体に高い剛性が要求されるようになっている。   In recent years, the transfer speed of recorded data has been increased, and accordingly, the rotational speed of the magnetic disk has also been increased. The higher the rotational speed of the magnetic disk during operation, and the thinner and lighter the magnetic disk, the more difficult it is to read and write accurately due to vibration caused by resonance. Therefore, the substrate of the magnetic disk is required to have high rigidity that can withstand vibration. Rigidity that can withstand vibration can be secured by increasing the thickness of the substrate. However, with the technique of increasing the thickness of the substrate, the magnetic disk cannot be reduced in weight, and the number of sheets mounted on the recording device is limited. For this reason, regarding the substrate of the magnetic disk, high rigidity is required for the material itself.

例えば、特許文献1には、アルミニウム合金マトリックス中にセラミックス粒子またはセラミックス繊維のうち少なくとも一方を体積比で5〜50%分散させる磁気ディスク基板用軽量高剛性アルミニウム合金板が記載されている。特許文献1では、アトマイズ法によって得られた純Al粒子と、Al粒子とを混合し、その混合物を溶融温度付近でHIP処理した後、熱間圧延を行ってアルミニウム合金板を得ている。 For example, Patent Document 1 describes a lightweight high-rigidity aluminum alloy plate for a magnetic disk substrate in which at least one of ceramic particles or ceramic fibers is dispersed in an aluminum alloy matrix by 5 to 50% by volume. In Patent Document 1, pure Al particles obtained by an atomization method and Al 2 O 3 particles are mixed, and the mixture is subjected to HIP treatment near the melting temperature, and then hot-rolled to obtain an aluminum alloy sheet. Yes.

特開昭63−183146号公報JP 63-183146 A

特許文献1に記載された磁気ディスク基板用軽量高剛性アルミニウム合金板は、マトリックス粒子として用いる純Al粒子と、Al粒子のようなセラミックス粒子またはセラミックス繊維との混合物をHIP処理するものであるので、粒子や繊維の密着性を高くすることが難しい。そのため、表面に無電解Ni−Pめっき膜を形成したとき、粒子などが脱落して表面に凹凸が生じ、平滑性が高い無電解Ni−Pめっき膜が成膜されない可能性が高い。また、特許文献1に記載された磁気ディスク基板用軽量高剛性アルミニウム合金板は、板毎にHIP処理することを要するため、生産コストがかかるという問題があるし、高い密着性が得られず耐力が低くなる虞がある。 The lightweight high-rigidity aluminum alloy plate for a magnetic disk substrate described in Patent Document 1 is a HIP process for a mixture of pure Al particles used as matrix particles and ceramic particles or ceramic fibers such as Al 2 O 3 particles. Therefore, it is difficult to increase the adhesion between particles and fibers. Therefore, when an electroless Ni—P plating film is formed on the surface, particles and the like are dropped and irregularities are generated on the surface, and there is a high possibility that an electroless Ni—P plating film with high smoothness will not be formed. In addition, the lightweight high-rigidity aluminum alloy plate for a magnetic disk substrate described in Patent Document 1 requires a HIP process for each plate, and thus has a problem of high production cost, and high adhesion cannot be obtained. May decrease.

本発明は、前記問題に鑑みてなされたものであり、剛性が高く、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能でありながら、高い耐力も兼備することができる磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is capable of forming a plating film having high rigidity and high smoothness on the surface, and can also have high proof stress, and can also have high proof stress. It is an object to provide a plate, an aluminum alloy blank for a magnetic disk, and an aluminum alloy substrate for a magnetic disk.

本発明者は、鋭意研究した結果、高いヤング率を呈する金属間化合物の体積率を適度に高くすることにより磁気ディスクの基板自体の剛性を高くし、金属間化合物の増加に伴うめっき膜の平滑性の低下や耐力の低下も抑制して、高い剛性と共に、良好なめっき性や耐力を両立する手法を見出した。すなわち、Fe、Mn、Niなどを添加した化学組成を採用し、アルミニウム合金中に適度に金属間化合物を生成させることにより、磁気ディスクの基板自体の剛性を高くするものとした。また、Siの含有量を少なくし、無電解Ni−Pめっき膜が表面に成膜されない単体SiやMgSiなどを低減するものとした。また、Fe、MnおよびNiの比率を制限し、Al−Fe−Ni系金属間化合物などが粗大に粒成長したり、Al−Mn−Fe系金属間化合物が鋳造時に集中して晶出したりするのを抑制するものとした。なお、集中して晶出したAl−Mn−Fe系金属間化合物は、圧延で疎らな分布となることにより、圧延板に筋状欠陥を生じることが確認されている。つまり、粗大な金属間化合物や、筋状欠陥を生じる金属間化合物を低減し、金属間化合物の脱落による凹凸や、表面処理の反応の不均一を防止することにより、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性を向上せしめた。そして、このような化学組成のアルミニウム合金を鋳造するとき、状態図上の固液共存領域の狭さに起因して、湯漏れが発生し易くなることを新たに知見し、Cu、Mg、Znなどを添加して固相線温度を下げる対策を想到して本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research, the present inventor has increased the rigidity of the magnetic disk substrate itself by appropriately increasing the volume ratio of the intermetallic compound exhibiting a high Young's modulus, and smoothing the plating film as the intermetallic compound increases. The present inventors have found a method that achieves both good rigidity and high plating strength as well as high rigidity, while suppressing deterioration in durability and yield strength. That is, a chemical composition to which Fe, Mn, Ni, or the like is added is employed, and an intermetallic compound is appropriately generated in the aluminum alloy, thereby increasing the rigidity of the magnetic disk substrate itself. Further, the Si content was reduced to reduce simple Si, Mg 2 Si, etc., on which no electroless Ni—P plating film was formed. In addition, the ratio of Fe, Mn and Ni is limited, and Al—Fe—Ni intermetallic compounds grow coarsely, or Al—Mn—Fe intermetallic compounds concentrate and crystallize during casting. It was supposed to suppress this. In addition, it has been confirmed that the Al—Mn—Fe-based intermetallic compound crystallized in a concentrated manner causes streak defects in the rolled plate due to a sparse distribution during rolling. That is, by reducing coarse intermetallic compounds and intermetallic compounds that cause streak defects, and preventing unevenness due to the dropping of intermetallic compounds and non-uniform surface treatment reactions, an electroless Ni-P plating film Improved smoothness. Then, when casting an aluminum alloy having such a chemical composition, it has been newly discovered that hot water leakage is likely to occur due to the narrowness of the solid-liquid coexistence region on the phase diagram, and Cu, Mg, Zn The present invention has been completed by conceiving measures for lowering the solidus temperature by adding the above.

前記課題を解決するため、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板は、Si:0.10質量%以下、Fe:0.50質量%以上1.50質量%以下、Mn:0.50質量%以上1.50質量%以下、Ni:1.00質量%以上2.00質量%未満、Cu:0.05質量%以上1.00質量%以下を含有し、残部がAlおよび不可避的不純物からなることとした。   In order to solve the above problems, an aluminum alloy plate for a magnetic disk according to the present invention has Si: 0.10% by mass or less, Fe: 0.50% by mass to 1.50% by mass, Mn: 0.50% by mass. 1.50% by mass or less, Ni: 1.00% by mass or more and less than 2.00% by mass, Cu: 0.05% by mass or more and 1.00% by mass or less, with the balance being Al and inevitable impurities It was decided.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金板によると、Si、Fe、MnおよびNiが所定の含有量の範囲で含まれているため、磁気ディスクの基板自体に高い剛性が備わると共に、表面に平滑性が高いめっき膜を形成可能な程度の良好なめっき性と、高い耐力とが備わる。また、このような化学組成において、Cuが所定の含有量の範囲で添加されているため、鋳造時の湯漏れが低減される。一般に、アルミニウム合金を半連続鋳造法(DC(direct chill)鋳造法)等で鋳造するときには、冷却している鋳塊が熱収縮し、鋳塊の表面と鋳型との間に空隙が生じて熱伝達が低下する。単にFe、Mn、Ni等のみを含む通常のアルミニウム合金は、状態図上、液相線と固相線によって囲まれる固液共存領域が狭く、液相線温度と固相線温度との温度差が7℃程度しかないので、このように熱伝達が低下した場合、凝固殻が容易に再溶融し、湯漏れを生じる可能性が高い。これに対して、Cuが添加された化学組成であると、固相線温度が低下するので、湯漏れの発生頻度が低減される。そのため、これを素材として、剛性が高く、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能でありながら、高い耐力も兼備することができる磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供することができる。   According to such an aluminum alloy plate for a magnetic disk, since Si, Fe, Mn, and Ni are contained within a predetermined content range, the magnetic disk substrate itself has high rigidity and has a smooth surface. It has good plating properties that can form a high plating film and high proof stress. Moreover, in such a chemical composition, since Cu is added within a predetermined content range, leakage of molten metal during casting is reduced. In general, when an aluminum alloy is cast by a semi-continuous casting method (DC (direct chill) casting method) or the like, the cooling ingot is thermally contracted, and a gap is generated between the surface of the ingot and the mold, and heat is generated. Transmission is reduced. A normal aluminum alloy containing only Fe, Mn, Ni, etc. has a narrow solid-liquid coexistence region surrounded by the liquidus and solidus on the phase diagram, and the temperature difference between the liquidus and solidus temperatures. Therefore, when the heat transfer is reduced in this way, the solidified shell is easily remelted, and there is a high possibility of causing a hot water leak. On the other hand, since the solidus temperature is lowered when the chemical composition is added with Cu, the frequency of occurrence of hot water leakage is reduced. Therefore, using this as a raw material, it is possible to provide an aluminum alloy substrate for a magnetic disk that can form a plated film having high rigidity and high smoothness on the surface, but can also have high proof stress. .

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板は、Si:0.10質量%以下、Fe:0.50質量%以上1.50質量%以下、Mn:0.50質量%以上1.50質量%以下、Ni:1.00質量%以上2.00質量%未満、Cu:0.05質量%以上1.00質量%未満を含有し、Mg:0.05質量%以上1.00質量%未満およびZn:0.05質量%以上1.00質量%未満のうちの一方または両方を更に含有し、前記Cu、前記Mgおよび前記Znの合計量が1.00質量%以下であり、残部がAlおよび不可避的不純物からなることとしてもよい。   The aluminum alloy plate for a magnetic disk according to the present invention has Si: 0.10% by mass or less, Fe: 0.50% by mass to 1.50% by mass, Mn: 0.50% by mass to 1.50% by mass Ni: 1.00 mass% or more and less than 2.00 mass%, Cu: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%, Mg: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%, and Zn : 0.05% by mass or more and less than 1.00% by mass, further containing one or both, wherein the total amount of Cu, Mg and Zn is 1.00% by mass or less, the balance being Al and inevitable It may be made of a general impurity.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金板によると、Si、Fe、MnおよびNiが所定の含有量の範囲で含まれているため、高い剛性が備わると共に、良好なめっき性と、高い耐力とが備わる。また、このような化学組成において、Cuと共にMgやZnが所定の含有量の範囲で添加されているため、Cuの含有量に大きく依存することなく、鋳造時の湯漏れが低減される。そのため、これを素材として、剛性が高く、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能でありながら、高い耐力も兼備することができる磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供することができる。   According to such an aluminum alloy plate for a magnetic disk, Si, Fe, Mn, and Ni are contained within a predetermined content range, so that high rigidity is provided, and good plating properties and high yield strength are provided. . Moreover, in such a chemical composition, since Mg and Zn are added within a predetermined content range together with Cu, molten metal leakage during casting is reduced without greatly depending on the Cu content. Therefore, using this as a raw material, it is possible to provide an aluminum alloy substrate for a magnetic disk that can form a plated film having high rigidity and high smoothness on the surface, but can also have high proof stress. .

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板は、前記の磁気ディスク用アルミニウム合金板の化学組成において、Cr:0.05質量%以上0.23質量%以下を更に含有することとしてもよい。   The aluminum alloy plate for magnetic disks according to the present invention may further contain Cr: 0.05 mass% or more and 0.23 mass% or less in the chemical composition of the magnetic disk aluminum alloy sheet.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金板によると、Crが所定の含有量の範囲で更に含まれているため、晶出物がより微細化されて、析出強化により強度や耐力が向上する。   According to such an aluminum alloy plate for a magnetic disk, since Cr is further contained in a predetermined content range, the crystallized material is further refined, and the strength and proof stress are improved by precipitation strengthening.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板は、前記の磁気ディスク用アルミニウム合金板の化学組成において、前記Fe、前記Mnおよび前記Niの合計量が4.20質量%以下であり、前記Feの含有量と前記Niの含有量との比が0.40〜1.00であり、前記Mnの含有量と前記Niの含有量との比が0.30〜0.90であることとしてもよい。   In the aluminum alloy plate for magnetic disk according to the present invention, in the chemical composition of the aluminum alloy plate for magnetic disk, the total amount of Fe, Mn and Ni is 4.20% by mass or less, and the content of Fe The ratio between the amount and the Ni content may be 0.40 to 1.00, and the ratio between the Mn content and the Ni content may be 0.30 to 0.90.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金板によると、Fe、MnおよびNiの合計量が所定量の範囲に制限されているため、粗大な金属間化合物が少なくなる。特に、Feの含有量に対するNiの含有量が所定比の範囲に制限されているため、粗大化し易いAl−Fe−Ni系金属間化合物が少なくなる。また、Mnの含有量に対するNiの含有量が所定比の範囲に制限されているため、圧延板に筋状欠陥を生じるAl−Mn−Fe系金属間化合物が少なくなる。その結果、これらの金属間化合物が脱落するなどしてめっき膜の下地の平滑性を大きく損ねることがなくなり、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が高くなると共に、微細な組織により高い耐力が備わる。   According to such an aluminum alloy plate for a magnetic disk, the total amount of Fe, Mn, and Ni is limited to a predetermined range, so that coarse intermetallic compounds are reduced. In particular, since the Ni content relative to the Fe content is limited to a predetermined range, the number of Al—Fe—Ni intermetallic compounds that are likely to be coarsened is reduced. In addition, since the Ni content relative to the Mn content is limited to a predetermined ratio, the number of Al—Mn—Fe intermetallic compounds that cause streak defects in the rolled sheet is reduced. As a result, the intermetallic compounds do not fall off and the smoothness of the base of the plating film is not greatly impaired, the smoothness of the electroless Ni-P plating film is increased, and the fine structure has a high yield strength. Provided.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板は、表面における金属間化合物の絶対最大長が20μm以下であることが好ましい。   In the aluminum alloy plate for a magnetic disk according to the present invention, the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface is preferably 20 μm or less.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金板によると、粗大な金属間化合物が排除されており、表面に露出している金属間化合物が脱落するなどしてめっき膜の下地の平滑性を大きく損ねることがなくなる。そのため、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が高くなると共に、微細な組織により高い耐力が備わる。   According to such an aluminum alloy plate for a magnetic disk, coarse intermetallic compounds are excluded, and the intermetallic compounds exposed on the surface may fall off, and the smoothness of the base of the plating film may be greatly impaired. Disappear. Therefore, the smoothness of the electroless Ni—P plating film is increased, and a high strength is provided by a fine structure.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクは、前記の磁気ディスク用アルミニウム合金板からなることとした。   The aluminum alloy blank for magnetic disks according to the present invention is made of the above-described aluminum alloy plate for magnetic disks.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクによると、Si、Fe、MnおよびNiが所定の含有量の範囲で含まれているため、磁気ディスクの基板自体に高い剛性が備わると共に、表面に平滑性が高いめっき膜を形成可能な程度の良好なめっき性と、高い耐力とが備わる。また、このような化学組成において、Cuが所定の含有量の範囲で添加されているため、鋳造時の湯漏れが低減され、安定して製造できるようになる。そのため、これを素材として、剛性が高く、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能でありながら、高い耐力も兼備することができる磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供することができる。   According to such an aluminum alloy blank for magnetic disk, since Si, Fe, Mn and Ni are contained within a predetermined content range, the magnetic disk substrate itself has high rigidity and the surface is smooth. It has good plating properties that can form a high plating film and high proof stress. Moreover, in such a chemical composition, since Cu is added in the range of a predetermined content, molten metal leakage at the time of casting is reduced and stable production can be achieved. Therefore, using this as a raw material, it is possible to provide an aluminum alloy substrate for a magnetic disk that can form a plated film having high rigidity and high smoothness on the surface, but can also have high proof stress. .

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクは、ヤング率が75GPa以上、耐力が90MPa以上であることが好ましい。   The aluminum alloy blank for a magnetic disk according to the present invention preferably has a Young's modulus of 75 GPa or more and a proof stress of 90 MPa or more.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクによると、磁気ディスクの用途に望まれる剛性、耐衝撃性などを備えた磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供することができる。   According to such an aluminum alloy blank for a magnetic disk, it is possible to provide an aluminum alloy substrate for a magnetic disk having rigidity, impact resistance and the like desired for a magnetic disk application.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートは、前記の磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクからなることとした。   The aluminum alloy substrate for magnetic disks according to the present invention is made of the above-described aluminum alloy blank for magnetic disks.

このような磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートによると、Si、Fe、MnおよびNiが所定の含有量の範囲で含まれているため、磁気ディスクの基板自体に高い剛性が備わると共に、表面に平滑性が高いめっき膜を形成可能な程度の良好なめっき性と、高い耐力とが備わる。また、このような化学組成において、Cuが所定の含有量の範囲で添加されているため、鋳造時の湯漏れが低減され、安定して製造できるようになる。   According to such an aluminum alloy substrate for a magnetic disk, since Si, Fe, Mn and Ni are contained within a predetermined content range, the magnetic disk substrate itself has high rigidity and has a smooth surface. However, it has good plating properties that can form a high plating film and high proof stress. Moreover, in such a chemical composition, since Cu is added in the range of a predetermined content, molten metal leakage at the time of casting is reduced and stable production can be achieved.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板および磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクは、剛性が高く、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能でありながら、高い耐力も兼備することができる磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートを提供することができる。また、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートは、高い剛性と、表面に平滑性が高いめっき膜を形成することも可能な良好なめっき性と、高い耐力とを備える。   The aluminum alloy plate for a magnetic disk and the aluminum alloy blank for a magnetic disk according to the present invention can form a plating film having high rigidity and high smoothness on the surface, but can also have high proof stress. An aluminum alloy substrate for disks can be provided. Moreover, the aluminum alloy substrate for magnetic disks according to the present invention has high rigidity, good plating property capable of forming a plating film having high smoothness on the surface, and high proof stress.

以下、本発明の一実施形態に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートについて説明する。なお、以下の説明では、本実施形態に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランク、および、磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレートのそれぞれを、単に「アルミニウム合金板」、「ブランク」、「サブストレート」ということがある。   Hereinafter, an aluminum alloy plate for a magnetic disk, an aluminum alloy blank for a magnetic disk, and an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to an embodiment of the present invention will be described. In the following description, each of the aluminum alloy plate for magnetic disk, the aluminum alloy blank for magnetic disk, and the aluminum alloy substrate for magnetic disk according to the present embodiment is simply referred to as “aluminum alloy plate”, “blank”, Sometimes called “substrate”.

[アルミニウム合金板]
本実施形態に係るアルミニウム合金板は、所定の含有量の範囲でSi、Fe、Mn、NiおよびCuを含有するアルミニウム合金からなる。なお、アルミニウム合金板の化学組成は、所定の含有量の範囲でSi、Fe、Mn、NiおよびCuを含有し、MgおよびZnのうちの一方または両方を所定の含有量の範囲で更に含有し、Cu、MgおよびZnの含有量の合計が所定の範囲に限定されたものでもよい。また、アルミニウム合金板の化学組成は、Fe、MnおよびNiの含有量の合計も所定の範囲に制限されており、Feの含有量とNiの含有量との比の値、および、Mnの含有量とNiの含有量との比の値も、それぞれ、所定値の範囲に限定されたものでもよい。
[Aluminum alloy plate]
The aluminum alloy plate according to the present embodiment is made of an aluminum alloy containing Si, Fe, Mn, Ni, and Cu within a predetermined content range. The chemical composition of the aluminum alloy plate contains Si, Fe, Mn, Ni and Cu within a predetermined content range, and further contains one or both of Mg and Zn within a predetermined content range. The total content of Cu, Mg and Zn may be limited to a predetermined range. In addition, the chemical composition of the aluminum alloy plate is limited to a predetermined range for the total content of Fe, Mn, and Ni, the value of the ratio between the Fe content and the Ni content, and the Mn content The value of the ratio between the amount and the Ni content may also be limited to a predetermined value range.

但し、アルミニウム合金板は、Si、Fe、Mn、NiおよびCuを含有し、これらに加えて、Crを所定の含有量の範囲で更に含有し、その残部がAlおよび不可避的不純物からなる化学組成とされてもよい。以下、アルミニウム合金板に含まれる各成分の含有量と、含有量の限定の理由について説明する。   However, the aluminum alloy plate contains Si, Fe, Mn, Ni, and Cu, and in addition to these, further contains Cr in a predetermined content range, and the balance is Al and inevitable impurities. It may be said. Hereinafter, the content of each component contained in the aluminum alloy plate and the reason for limiting the content will be described.

(Si:0.10質量%以下)
Siは、通常、地金中の不可避的不純物としてアルミニウム合金中に混入し、単体Siや、Al−Fe−Si系金属間化合物などを形成する。Siの含有量が0.10質量%を超えると、単体Siが多くなり、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる。そのため、Siの含有量は、0.10質量%以下とする。なお、Siの含有量は、単体Siなどの生成を抑制する観点からは、0.05質量%以下とすることがより好ましい。Siの含有量は、低いほど望ましく、0質量%でも本発明の特性を損なわないが、高純度の原料(Al地金および中間合金地金など)が必要になるのでコストが高くなる。そのため、Siの含有量は、0.004質量%以上とすることが工業的に好ましい。
(Si: 0.10 mass% or less)
Si is usually mixed in the aluminum alloy as an inevitable impurity in the metal and forms simple Si, Al—Fe—Si intermetallic compounds, and the like. If the Si content exceeds 0.10 mass%, the amount of simple Si increases, and the smoothness of the electroless Ni—P plating film decreases. Therefore, the content of Si is set to 0.10% by mass or less. In addition, it is more preferable that the content of Si is 0.05% by mass or less from the viewpoint of suppressing the generation of simple Si and the like. The lower the Si content, the better. Even if it is 0% by mass, the characteristics of the present invention are not impaired. However, since high-purity raw materials (such as Al metal and intermediate alloy metal) are required, the cost increases. Therefore, it is industrially preferable that the Si content is 0.004% by mass or more.

(Fe:0.50質量%以上1.50質量%以下)
Feは、強度やヤング率の向上に寄与する。Feの含有量が0.50質量%未満であると、金属間化合物が減ってヤング率が低くなり、高い剛性が得られなくなる虞がある。一方、Feの含有量が1.50質量%を超えると、晶出物が粗大化し、高い耐力が得られなくなる虞がある。また、Al−Fe−Ni系金属間化合物が粗大化したり、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化或いは圧延板に筋状欠陥を生じたりするので、耐力や表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる虞がある。そのため、Feの含有量は、0.50質量%以上1.50質量%以下とする。なお、Feの含有量は、剛性を高くする観点からは、0.80質量%以上とすることがより好ましい。また、Feの含有量は、湯漏れを防止する観点や、金属間化合物の粗大化および筋状欠陥を抑制する観点からは、1.30質量%以下とすることがより好ましい。
(Fe: 0.50 mass% or more and 1.50 mass% or less)
Fe contributes to improvement of strength and Young's modulus. If the Fe content is less than 0.50% by mass, the intermetallic compounds are reduced, the Young's modulus is lowered, and high rigidity may not be obtained. On the other hand, if the Fe content exceeds 1.50% by mass, the crystallized product becomes coarse and high yield strength may not be obtained. In addition, the Al-Fe-Ni intermetallic compound is coarsened, or the Al-Mn-Fe intermetallic compound is coarsened or a streak defect is generated in the rolled plate. There is a possibility that the smoothness of the Ni-P plating film is lowered. Therefore, the content of Fe is set to 0.50 mass% or more and 1.50 mass% or less. The Fe content is more preferably 0.80% by mass or more from the viewpoint of increasing the rigidity. Further, the content of Fe is more preferably set to 1.30% by mass or less from the viewpoint of preventing hot water leakage and suppressing the coarsening of intermetallic compounds and streak defects.

(Mn:0.50質量%以上1.50質量%以下)
Mnは、強度やヤング率の向上に寄与する。Mnの含有量が0.50質量%未満であると、金属間化合物が減ってヤング率が低くなり、高い剛性が得られなくなる虞がある。また、晶出物が微細化されず、高い耐力が得られなくなる虞がある。一方、Mnの含有量が1.50質量%を超えると、晶出物が粗大化し、高い耐力が得られなくなる虞がある。また、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化したり、圧延板に筋状欠陥を生じたりするので、耐力や表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる虞がある。そのため、Mnの含有量は、0.50質量%以上1.50質量%以下とする。なお、Mnの含有量は、剛性を高くする観点からは、0.80質量%以上とすることがより好ましい。また、Mnの含有量は、湯漏れを防止する観点や、金属間化合物の粗大化や筋状欠陥の発生を抑制する観点からは、1.30質量%以下とすることがより好ましい。
(Mn: 0.50 mass% or more and 1.50 mass% or less)
Mn contributes to improvement of strength and Young's modulus. If the Mn content is less than 0.50% by mass, the intermetallic compound is decreased, the Young's modulus is lowered, and high rigidity may not be obtained. Further, the crystallized product is not refined, and there is a possibility that high yield strength cannot be obtained. On the other hand, if the content of Mn exceeds 1.50% by mass, the crystallized product becomes coarse and high yield strength may not be obtained. Moreover, since the Al—Mn—Fe intermetallic compound is coarsened or a streak defect is generated in the rolled plate, the proof stress and the smoothness of the electroless Ni—P plating film formed on the surface may be lowered. is there. Therefore, the content of Mn is set to 0.50 mass% or more and 1.50 mass% or less. The Mn content is more preferably 0.80% by mass or more from the viewpoint of increasing the rigidity. Further, the content of Mn is more preferably 1.30% by mass or less from the viewpoint of preventing the leakage of hot water and the suppression of coarsening of intermetallic compounds and generation of streak defects.

(Ni:1.00質量%以上2.00質量%未満)
Niは、強度やヤング率の向上に寄与する。Niの含有量が1.00質量%未満であると、金属間化合物が減ってヤング率が低くなり、高い剛性が得られなくなる虞がある。また、晶出物が微細化されず、高い耐力が得られなくなる虞がある。一方、Niの含有量が2.00質量%以上であると、晶出物が粗大化し、高い耐力が得られなくなる虞がある。また、Al−Fe−Ni系金属間化合物が粗大化し、耐力や表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる虞がある。そのため、Niの含有量は、1.00質量%以上2.00質量%未満とする。なお、Niの含有量は、剛性を高くする観点からは、1.50質量%以上とすることがより好ましい。また、Niの含有量は、湯漏れを防止する観点や、金属間化合物の粗大化を抑制する観点からは、1.95質量%以下とすることがより好ましい。
(Ni: 1.00% by mass or more and less than 2.00% by mass)
Ni contributes to the improvement of strength and Young's modulus. If the Ni content is less than 1.00% by mass, the intermetallic compound is reduced, the Young's modulus is lowered, and high rigidity may not be obtained. Further, the crystallized product is not refined, and there is a possibility that high yield strength cannot be obtained. On the other hand, if the Ni content is 2.00% by mass or more, the crystallized product is coarsened and high yield strength may not be obtained. Moreover, there is a possibility that the Al—Fe—Ni intermetallic compound becomes coarse and the proof stress and the smoothness of the electroless Ni—P plating film formed on the surface are lowered. Therefore, the Ni content is set to 1.00% by mass or more and less than 2.00% by mass. The Ni content is more preferably 1.50% by mass or more from the viewpoint of increasing the rigidity. Further, the Ni content is more preferably 1.95% by mass or less from the viewpoint of preventing hot water leakage and suppressing the coarsening of the intermetallic compound.

(Cu:0.05質量%以上1.00質量%未満)
Cuは、低い平衡分配係数を示し、アルミニウム合金の固相線温度を大きく低下させる。そのため、Cuには、状態図上の固液共存領域を広くし、鋳造時の湯漏れの発生頻度を低減させる効果がある。Cuの含有量が0.05質量%未満であると、固相線温度が十分に低下せず、状態図上の固液共存領域が狭いままであるため、湯漏れを防止するのが難しい。一方、Cuの含有量が1.00質量%以上であると、状態図上の固液共存領域が過度に広くなる。その結果、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化し易くなったり、圧延板に筋状欠陥を生じ易くなったりするので、必要な耐力が得られなくなる虞や、表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる虞がある。また、反対に、Al−Fe−Ni系金属間化合物は生成し難くなるので、ヤング率が低くなり、高い剛性が得られなくなる虞もある。そのため、Cuの含有量は、0.05質量%以上1.00質量%未満とする。なお、Cuの含有量は、湯漏れを防止する観点からは、0.20質量%以上とすることがより好ましい。また、Cuの含有量は、必要な耐力、ヤング率、めっき膜の平滑性などを確保する観点からは、0.60質量%以下とすることがより好ましい。
(Cu: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%)
Cu exhibits a low equilibrium partition coefficient and greatly reduces the solidus temperature of the aluminum alloy. Therefore, Cu has the effect of widening the solid-liquid coexistence region on the phase diagram and reducing the occurrence frequency of hot water leakage during casting. When the Cu content is less than 0.05% by mass, the solidus temperature is not sufficiently lowered, and the solid-liquid coexistence region on the phase diagram remains narrow, so that it is difficult to prevent leakage of hot water. On the other hand, when the Cu content is 1.00% by mass or more, the solid-liquid coexistence region on the phase diagram becomes excessively wide. As a result, the Al-Mn-Fe intermetallic compound is likely to be coarsened, or it is likely to cause streak defects in the rolled plate, so that the required proof stress may not be obtained, and the electroless formed on the surface There is a possibility that the smoothness of the Ni-P plating film is lowered. On the other hand, since it becomes difficult to produce an Al—Fe—Ni-based intermetallic compound, the Young's modulus is lowered and high rigidity may not be obtained. Therefore, the Cu content is set to 0.05% by mass or more and less than 1.00% by mass. The Cu content is more preferably 0.20% by mass or more from the viewpoint of preventing hot water leakage. Further, the Cu content is more preferably 0.60% by mass or less from the viewpoint of ensuring necessary proof stress, Young's modulus, smoothness of the plating film, and the like.

(Mg:0.05質量%以上1.00質量%未満)
Mgは、適切に固溶させると耐力の向上に寄与する。但し、Mgの含有量が高くなると、Mgのヤング率は低いため、ヤング率が低くなる虞がある。また、Mgには、状態図上の固液共存領域を広くし、鋳造時の湯漏れの発生頻度を低減させる効果がある。Mgの含有量が0.05質量%未満であると、Mgの添加による効果を十分に得ることができない。一方、Mgの含有量が1.00質量%以上であると、必要なヤング率が得られなくなったり、Mg−Si系金属間化合物などの生成によりめっき性や耐力が低下したりする虞がある。そのため、Mgを添加する場合、Mgの含有量は、0.05質量%以上1.00質量%未満とする。Mgの含有量は、必要な耐力、ヤング率などを確保する観点や、Cuの効果を発揮させる観点からは、0.30質量%以下とすることがより好ましい。
(Mg: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%)
Mg contributes to improvement in yield strength when properly dissolved. However, if the Mg content is high, the Young's modulus of Mg is low, so the Young's modulus may be low. Further, Mg has an effect of widening the solid-liquid coexistence region on the phase diagram and reducing the frequency of occurrence of hot water leakage during casting. If the Mg content is less than 0.05% by mass, the effect of adding Mg cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if the Mg content is 1.00% by mass or more, a necessary Young's modulus may not be obtained, or plating properties and proof stress may be reduced due to the formation of Mg-Si intermetallic compounds. . Therefore, when adding Mg, content of Mg shall be 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%. The Mg content is more preferably 0.30% by mass or less from the viewpoint of securing necessary proof stress, Young's modulus, and the like, and the viewpoint of exhibiting the effect of Cu.

(Zn:0.05質量%以上1.00質量%未満)
Znには、状態図上の固液共存領域を広くし、鋳造時の湯漏れの発生頻度を低減させる効果がある。Znの含有量が0.05質量%未満であると、Znの添加による効果を十分に得ることができない。一方、Znの含有量が1.00質量%以上であると、金属間化合物が減ってヤング率が低くなる虞がある。そのため、Znを添加する場合、Znの含有量は、0.05質量%以上1.00質量%未満とする。Znの含有量は、必要なヤング率などを確保する観点や、Cuの効果を発揮させる観点からは、0.30質量%以下とすることがより好ましい。
(Zn: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%)
Zn has the effect of widening the solid-liquid coexistence region on the phase diagram and reducing the frequency of hot water leakage during casting. If the Zn content is less than 0.05% by mass, the effect of adding Zn cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if the Zn content is 1.00% by mass or more, the intermetallic compound may be reduced and the Young's modulus may be lowered. Therefore, when adding Zn, content of Zn shall be 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%. The Zn content is more preferably 0.30% by mass or less from the viewpoint of securing necessary Young's modulus and the like and the viewpoint of exhibiting the effect of Cu.

(Cr:0.05質量%以上0.23質量%以下)
Crは、初晶を微細化して金属間化合物を均一に分布させる効果があり、強度や耐力の向上に寄与する。Crの含有量が0.05質量%未満であると、初晶が十分に微細化されず、Crの添加による強度や耐力を向上する効果が十分に得られない。一方、Crの含有量が0.23質量%を超えると、金属間化合物が粗大化し易くなり、耐力や表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる虞がある。そのため、Crを添加する場合、Crの含有量は、0.05質量%以上0.23質量%以下とする。なお、Crの含有量は、強度や耐力を向上する観点からは、0.10質量%以上とすることがより好ましい。
(Cr: 0.05 mass% or more and 0.23 mass% or less)
Cr has the effect of refining the primary crystal and distributing the intermetallic compound uniformly, and contributes to the improvement of strength and proof stress. When the content of Cr is less than 0.05% by mass, the primary crystals are not sufficiently refined, and the effect of improving the strength and proof stress due to the addition of Cr cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if the Cr content exceeds 0.23% by mass, the intermetallic compound tends to be coarsened, and the proof stress and the smoothness of the electroless Ni—P plating film formed on the surface may be lowered. Therefore, when adding Cr, content of Cr shall be 0.05 mass% or more and 0.23 mass% or less. The Cr content is more preferably 0.10% by mass or more from the viewpoint of improving strength and proof stress.

(Cu+Mg+Zn:1.00質量%以下)
Cu、MgおよびZnの合計量は、1.00質量%以下とすることが好ましい。Cu、MgおよびZnの合計量が1.00質量%を超えると、状態図上の固液共存領域が過度に広くなる。その結果、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化し易くなったり、圧延板に筋状欠陥を生じ易くなったりするので、必要な耐力が得られなくなる虞や、表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる虞がある。また、反対に、Al−Fe−Ni系金属間化合物は生成し難くなるので、ヤング率が低くなり、高い剛性が得られなくなる虞もある。また、アルミニウム合金の比重が過大になるため、磁気ディスクの耐振動性が低くなる虞がある。Cu、MgおよびZnの合計量が前記の範囲であれば、高いヤング率と共に、めっき膜の平滑性や必要な耐力などを両立させることができる。Cu、MgおよびZnの合計量は、ヤング率、めっき膜の平滑性、耐力をより高くしつつ比重を低減する観点からは、0.60質量%以下とすることがより好ましい。
(Cu + Mg + Zn: 1.00% by mass or less)
The total amount of Cu, Mg and Zn is preferably 1.00% by mass or less. When the total amount of Cu, Mg and Zn exceeds 1.00% by mass, the solid-liquid coexistence region on the phase diagram becomes excessively wide. As a result, the Al-Mn-Fe intermetallic compound is likely to be coarsened, or it is likely to cause streak defects in the rolled plate, so that the required proof stress may not be obtained, and the electroless formed on the surface There is a possibility that the smoothness of the Ni-P plating film is lowered. On the other hand, since it becomes difficult to produce an Al—Fe—Ni-based intermetallic compound, the Young's modulus is lowered and high rigidity may not be obtained. Further, since the specific gravity of the aluminum alloy becomes excessive, the vibration resistance of the magnetic disk may be lowered. If the total amount of Cu, Mg and Zn is in the above range, it is possible to achieve both high Young's modulus and smoothness of the plating film and necessary proof stress. The total amount of Cu, Mg and Zn is more preferably 0.60% by mass or less from the viewpoint of reducing the specific gravity while increasing the Young's modulus, the smoothness of the plating film, and the proof stress.

(Fe+Mn+Ni:5.00質量%以下)
Fe、MnおよびNiの合計量は、5.00質量%以下とする。Fe、MnおよびNiの合計量が5.00質量%を超えると、金属間化合物が粗大化し易くなったり、金属間化合物が圧延板に筋状欠陥を生じ易くなったりするので、必要な耐力が得られなくなる可能性や、表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなる可能性が高い。Fe、MnおよびNiの合計量は、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性を高くする観点などからは、4.20質量%以下とすることがより好ましく、筋状欠陥を防止する観点からは、4.00質量%以下とすることがさらに好ましい。また、Fe、MnおよびNiの合計量は、75GPa以上のヤング率を確保する観点などからは、2.50質量%以上とすることがより好ましい。
(Fe + Mn + Ni: 5.00% by mass or less)
The total amount of Fe, Mn and Ni is 5.00% by mass or less. If the total amount of Fe, Mn and Ni exceeds 5.00% by mass, the intermetallic compound is likely to be coarsened, or the intermetallic compound is liable to cause streak defects on the rolled sheet, so that the necessary proof stress is There is a high possibility that it will not be obtained, and the smoothness of the electroless Ni—P plating film formed on the surface will be low. The total amount of Fe, Mn and Ni is more preferably 4.20% by mass or less from the viewpoint of increasing the smoothness of the electroless Ni—P plating film, and from the viewpoint of preventing streak defects. More preferably, it is 4.00 mass% or less. The total amount of Fe, Mn and Ni is more preferably 2.50% by mass or more from the viewpoint of securing a Young's modulus of 75 GPa or more.

(Fe/Ni:0.40〜1.00)
Feの含有量とNiの含有量との比(Feの含有量/Niの含有量)、すなわち、Niの含有量に対するFeの含有量の割合は、0.40〜1.00とすることが好ましい。Feの含有量とNiの含有量との比が0.40以上であると、Feの割合が高く、Al−Mn−Fe系金属間化合物が晶出し易くなるため、ヤング率を高くするのが容易になる。また、Niが少なく、Al−Fe−Ni系金属間化合物が粗大化し難くなるため、耐力や無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低下する虞が低くなる。一方、Feの含有量とNiの含有量との比が1.00以下であると、Feの割合が低く、Al−Mn−Fe系金属間化合物による筋状欠陥が生じ難くなるため、表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低下する虞が低くなる。また、Niが多く、Al−Fe−Ni系金属間化合物が形成され易くなるため、ヤング率を高くするのが容易になる。Niの含有量に対するFeの含有量の割合が前記の範囲であれば、Al−Mn−Fe系金属間化合物が適度に晶出し、Al−Fe−Ni系金属間化合物も適度に成長するため、高い剛性とめっき性とを両立することができる。
(Fe / Ni: 0.40 to 1.00)
Ratio of Fe content to Ni content (Fe content / Ni content), that is, the ratio of Fe content to Ni content should be 0.40 to 1.00. preferable. If the ratio of Fe content to Ni content is 0.40 or more, the proportion of Fe is high, and Al-Mn-Fe intermetallic compounds are easily crystallized, so the Young's modulus is increased. It becomes easy. Moreover, since there is little Ni and it becomes difficult to coarsen an Al-Fe-Ni type intermetallic compound, a possibility that a yield strength and the smoothness of an electroless Ni-P plating film will fall becomes low. On the other hand, if the ratio of the Fe content to the Ni content is 1.00 or less, the Fe ratio is low, and streak defects due to the Al—Mn—Fe intermetallic compound are less likely to occur. The possibility that the smoothness of the formed electroless Ni-P plating film is lowered is reduced. Moreover, since there is much Ni and it becomes easy to form an Al-Fe-Ni type intermetallic compound, it becomes easy to make a Young's modulus high. If the ratio of the Fe content to the Ni content is in the above range, the Al—Mn—Fe intermetallic compound is appropriately crystallized, and the Al—Fe—Ni intermetallic compound also grows moderately. Both high rigidity and plating properties can be achieved.

(Mn/Ni:0.30〜0.90)
Mnの含有量とNiの含有量との比(Mnの含有量/Niの含有量)、すなわち、Niの含有量に対するMnの含有量の割合は、0.30〜0.90とすることが好ましい。Mnの含有量とNiの含有量との比が0.30以上であると、Mnの割合が高く、Al−Mn−Fe系金属間化合物が晶出し易くなるため、ヤング率を高くするのが容易になる。また、Niが少なく、耐力やAl−Fe−Ni系金属間化合物が粗大化し難くなるため、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低下する虞が低くなる。一方、Mnの含有量とNiの含有量との比が0.90以下であると、Mnの割合が低く、Al−Mn−Fe系金属間化合物による筋状欠陥が生じ難くなるため、表面に形成される無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低下する虞が低くなる。また、Niが多く、Al−Fe−Ni系金属間化合物が形成され易くなるため、ヤング率を高くするのが容易になる。Niの含有量に対するMnの含有量の割合が前記の範囲であれば、Al−Mn−Fe系金属間化合物が適度に晶出し、Al−Fe−Ni系金属間化合物も適度に成長するため、高い剛性とめっき性とを両立することができる。
(Mn / Ni: 0.30-0.90)
The ratio of the Mn content to the Ni content (Mn content / Ni content), that is, the ratio of the Mn content to the Ni content should be 0.30 to 0.90. preferable. If the ratio of the Mn content to the Ni content is 0.30 or more, the ratio of Mn is high and the Al—Mn—Fe intermetallic compound is easily crystallized, so the Young's modulus is increased. It becomes easy. Moreover, since there is little Ni and a yield strength and an Al-Fe-Ni type intermetallic compound become difficult to coarsen, the possibility that the smoothness of an electroless Ni-P plating film will fall becomes low. On the other hand, if the ratio of the Mn content to the Ni content is 0.90 or less, the Mn ratio is low, and streak defects due to Al-Mn-Fe intermetallic compounds are less likely to occur. The possibility that the smoothness of the formed electroless Ni-P plating film is lowered is reduced. Moreover, since there is much Ni and it becomes easy to form an Al-Fe-Ni type intermetallic compound, it becomes easy to make a Young's modulus high. If the ratio of the Mn content to the Ni content is in the above range, the Al—Mn—Fe intermetallic compound is appropriately crystallized, and the Al—Fe—Ni intermetallic compound also grows moderately. Both high rigidity and plating properties can be achieved.

(不可避的不純物)
不可避的不純物は、製造過程で不可避的に混入する不純物であり、諸特性を損なわない範囲で含有することが許容される。不可避的不純物としては、例えば、Ti、Zr、V、B、Na、K、Ca、Srなどが挙げられる。不可避的不純物は、元素毎の含有量が0.005質量%以下、且つ、合計が0.015質量%以下であれば、本発明の効果を大きく阻害しない。また、含有量が前記の範囲であれば、積極的に添加される前記元素も本発明の効果を大きく阻害しない。よって、本発明においては、本発明の効果を阻害しない含有量の範囲で、積極的に添加される前記元素および不可避的不純物の元素を除く他の元素を積極的に含有させてもよい。なお、Crを添加しない化学組成とする場合、Crの含有量は0.005質量%以下であれば含有することが許容される。不可避的不純物の含有量は、例えば、三層電解法により精錬した地金を使用したり、偏析法を利用して排除したりすることによって低減することが可能である。
(Inevitable impurities)
Inevitable impurities are impurities that are inevitably mixed in the manufacturing process, and are allowed to be contained within a range that does not impair various characteristics. Examples of inevitable impurities include Ti, Zr, V, B, Na, K, Ca, and Sr. Inevitable impurities do not significantly impair the effects of the present invention as long as the content of each element is 0.005 mass% or less and the total is 0.015 mass% or less. Moreover, if content is the said range, the said element added positively will not inhibit the effect of this invention largely. Therefore, in the present invention, other elements other than the element to be positively added and the element of unavoidable impurities may be positively contained within a content range that does not impair the effects of the present invention. In addition, when setting it as the chemical composition which does not add Cr, if the content of Cr is 0.005 mass% or less, it is permitted to contain. The content of inevitable impurities can be reduced, for example, by using a bullion refined by a three-layer electrolysis method or by removing it using a segregation method.

(表面における金属間化合物の絶対最大長)
アルミニウム合金の母相中には、絶対最大長が長い粗大な金属間化合物が生じる虞がある。粗大な金属間化合物を母相中から排除し、観察容易な表面における金属間化合物の絶対最大長を小さくすると、良好なめっき性や高い耐力が得られる。なお、「絶対最大長」は、粒子の輪郭線上に位置する任意の2点の間の距離の最大値を意味する。表面における金属間化合物の絶対最大長が20μmを超えていると、母相中の結晶粒が十分に微細化されていないため、高い耐力が得られない虞がある。また、表面に露出している金属間化合物が粗大であるため、粒子の脱落や酸エッチング処理やジンケート処理の均一性の低下により、平滑性が高い無電解Ni−Pめっき膜を形成することが困難になる虞がある。したがって、表面における金属間化合物の絶対最大長は、20μm以下であることが好ましい。表面における金属間化合物の絶対最大長は、耐力や無電解Ni−Pめっき膜の平滑性を高くする観点からは、15μm以下とすることがより好ましい。
(Absolute maximum length of intermetallic compound on the surface)
There is a possibility that a coarse intermetallic compound having a long absolute maximum length is generated in the parent phase of the aluminum alloy. When the coarse intermetallic compound is excluded from the matrix and the absolute maximum length of the intermetallic compound on the easily observable surface is reduced, good plating properties and high proof strength can be obtained. The “absolute maximum length” means the maximum value of the distance between any two points located on the particle outline. If the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface exceeds 20 μm, the crystal grains in the matrix phase are not sufficiently refined, so that high proof stress may not be obtained. In addition, since the intermetallic compound exposed on the surface is coarse, it is possible to form an electroless Ni-P plating film with high smoothness due to dropout of particles, reduction in uniformity of acid etching treatment and zincate treatment. It can be difficult. Therefore, the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface is preferably 20 μm or less. The absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface is more preferably 15 μm or less from the viewpoint of increasing the yield strength and the smoothness of the electroless Ni—P plating film.

表面における金属間化合物の絶対最大長は、化学組成を調節するなどして調整することが可能である。なお、前記の金属間化合物の種類としては、例えば、Al−Fe−Si系、Al−Fe−Ni系、Al−Mn−Fe系、その他、Al−Fe系、Al−Mn系、Al−Ni系、Al−Cr系、Al−Fe−Mn−Ni系などの金属間化合物が挙げられる。表面における金属間化合物の絶対最大長を求めるにあたっては、表面を200倍の倍率の顕微鏡で少なくとも20視野観察し、表面に占める単体Siについても金属間化合物と同様に扱って計算を行うものとする。   The absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface can be adjusted by adjusting the chemical composition. Examples of the intermetallic compound include Al-Fe-Si, Al-Fe-Ni, Al-Mn-Fe, other Al-Fe, Al-Mn, and Al-Ni. And intermetallic compounds such as Al—Cr—Al—Fe—Mn—Ni. In obtaining the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface, the surface is observed with at least 20 fields of view with a microscope with a magnification of 200 times, and the calculation is performed by treating the single Si occupying the surface in the same manner as the intermetallic compound. .

表面における金属間化合物の絶対最大長は、次のようにして求めることができる。例えば、日本電子株式会社製FE−SEM(Field Emission Scanning Electron Microscope、型式JSM−7001F)を用い、加速電圧を15kVとして組成像を得る。そして、付属の分析システム“Analysis Station 3, 8, 0, 31”と、粒子解析ソフト“EX−35110 粒子解析ソフトウェア Ver. 3.84”とを用い、FE−SEMで得られた組成像上で認識できる金属間化合物の絶対最大長を測定する。   The absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface can be determined as follows. For example, an FE-SEM (Field Emission Scanning Electron Microscope, model JSM-7001F) manufactured by JEOL Ltd. is used and an acceleration voltage is set to 15 kV to obtain a composition image. And, using the attached analysis system “Analysis Station 3, 8, 0, 31” and the particle analysis software “EX-35110 particle analysis software Ver. 3.84”, it can be recognized on the composition image obtained by FE-SEM. Measure the absolute maximum length of the intermetallic compound.

[アルミニウム合金板の製造方法]
本実施形態に係るアルミニウム合金板は、磁気ディスク用の基板を製造する一般的な条件の製造方法および設備によって製造することができる。例えば、原料を溶解して、所定の化学組成に調整された鋳塊を鋳造する鋳造工程と、鋳造された鋳塊に均質加熱処理を施す均質化熱処理工程と、均質化熱処理を施された鋳塊を熱間圧延して熱間圧延板を得る熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延して冷間圧延板を得る冷間圧延工程とを、この順に含む製造方法によって、アルミニウム合金板を製造することができる。なお、必要に応じて、冷間圧延工程の前または冷間圧延工程の途中に中間焼鈍を行ってもよい。
[Method for producing aluminum alloy sheet]
The aluminum alloy plate according to the present embodiment can be manufactured by a general manufacturing method and equipment for manufacturing a magnetic disk substrate. For example, a casting process in which a raw material is melted to cast an ingot adjusted to a predetermined chemical composition, a homogenization heat treatment process in which the cast ingot is subjected to a homogeneous heat treatment, and a casting in which the homogenization heat treatment has been performed. By a manufacturing method comprising in this order a hot rolling step for hot rolling the ingot to obtain a hot rolled plate and a cold rolling step for cold rolling the hot rolled plate to obtain a cold rolled plate, aluminum Alloy plates can be manufactured. If necessary, intermediate annealing may be performed before the cold rolling process or during the cold rolling process.

鋳造工程は、700〜800℃で原料を溶解し、700〜800℃で鋳造して行うことが好ましい。また、鋳造された鋳塊は、面削を施すことが好ましく、その面削量は、例えば、2〜40mm/片面で行うことができる。   The casting process is preferably performed by melting the raw material at 700 to 800 ° C and casting at 700 to 800 ° C. The cast ingot is preferably chamfered, and the chamfering amount can be 2 to 40 mm / single side, for example.

均質化熱処理工程は、例えば、400〜600℃、4〜48時間にて行うことができる。   The homogenization heat treatment step can be performed, for example, at 400 to 600 ° C. for 4 to 48 hours.

熱間圧延工程は、例えば、熱間圧延の開始温度を510℃以上とすることができる。また、熱間圧延の終了温度を300〜350℃とすることができる。520℃から400℃までの温度域については、3時間以内に熱間圧延を終えることが好ましい。また、熱間圧延して得る熱間圧延板の板厚を、例えば、3mmとすることができる。   In the hot rolling step, for example, the hot rolling start temperature can be set to 510 ° C. or higher. Moreover, the completion | finish temperature of hot rolling can be 300-350 degreeC. About the temperature range from 520 degreeC to 400 degreeC, it is preferable to finish hot rolling within 3 hours. Moreover, the plate | board thickness of the hot rolled sheet obtained by hot rolling can be 3 mm, for example.

冷間圧延工程は、冷間圧延して得る冷間圧延板の板厚を、例えば、0.5〜1.3mmとすることが好ましい。   In the cold rolling step, the thickness of the cold rolled sheet obtained by cold rolling is preferably set to 0.5 to 1.3 mm, for example.

[ブランク]
本実施形態に係るブランクは、前記のアルミニウム合金板からなり、穴開き円盤状の外形を有する。ブランクは、前記のアルミニウム合金板と同様に、所定の含有量の範囲でSi、Fe、Mn、NiおよびCuを含有するアルミニウム合金からなり、好ましくは、MgおよびZnのうちの一方または両方を所定の含有量の範囲で更に含有し、Cu、MgおよびZnの含有量の合計が所定の範囲に限定された化学組成を有する。また、より好ましくは、Fe、MnおよびNiの含有量の合計も所定の範囲に制限されており、Feの含有量とNiの含有量との比の値、および、Mnの含有量とNiの含有量との比の値も、それぞれ、所定値の範囲に限定された化学組成を有する。
[blank]
The blank according to this embodiment is made of the aluminum alloy plate and has a perforated disk shape. The blank is made of an aluminum alloy containing Si, Fe, Mn, Ni, and Cu in a predetermined content range, and preferably one or both of Mg and Zn are determined in the same manner as the aluminum alloy plate. In addition, it has a chemical composition in which the total content of Cu, Mg and Zn is limited to a predetermined range. More preferably, the total content of Fe, Mn and Ni is also limited to a predetermined range, the ratio value of the Fe content and the Ni content, and the Mn content and the Ni content. Each value of the ratio to the content also has a chemical composition limited to a predetermined value range.

ブランクについての、表面における金属間化合物の絶対最大長は、アルミニウム合金板についてと同等となる。一方、ブランクについての、ヤング率、耐力などの特性値は、後記する矯正焼鈍工程を経たブランク、または、後記する矯正焼鈍工程と同等の条件の熱処理を施されたアルミニウム合金板について測定される。   The absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface for the blank is equivalent to that for the aluminum alloy plate. On the other hand, the characteristic values such as Young's modulus and yield strength of the blank are measured for a blank that has undergone a straightening annealing process described later, or an aluminum alloy sheet that has been subjected to heat treatment under the same conditions as the straightening annealing process described later.

(ヤング率)
ブランクのヤング率は、75GPa以上であることが好ましい。ヤング率が75GPa以上であると、材料自体に高い剛性が備わっているため、ブランクを過度に厚くしなくとも、磁気ディスクの作動時の振動を十分に低減することができる。ブランクのヤング率は、磁気ディスクの作動時の振動を抑制する観点などからは、80GPa以上とすることがより好ましい。
(Young's modulus)
The Young's modulus of the blank is preferably 75 GPa or more. If the Young's modulus is 75 GPa or more, the material itself has high rigidity, so that vibration during operation of the magnetic disk can be sufficiently reduced without making the blank excessively thick. The Young's modulus of the blank is more preferably 80 GPa or more from the viewpoint of suppressing vibration during operation of the magnetic disk.

ヤング率は、例えば、JIS Z 2280:1993(金属材料の高温ヤング率試験方法)に準拠して、圧延方向を長手方向とする60mm×10mm×1mm厚の試験片を作製し、その試験片を用いて、大気雰囲気下、室温で自由共振法により測定することができる。試験装置としては、例えば、日本テクノプラス社製JE−RT型を用いることができる。   The Young's modulus is prepared, for example, according to JIS Z 2280: 1993 (high temperature Young's modulus test method for metal materials), and a test piece having a thickness of 60 mm × 10 mm × 1 mm with the rolling direction as the longitudinal direction is prepared. And can be measured by a free resonance method at room temperature in an air atmosphere. As the test apparatus, for example, JE-RT type manufactured by Nippon Techno-Plus can be used.

(耐力)
ブランクの耐力は、90MPa以上であることが好ましい。ブランクの耐力は、磁気ディスクの機械的特性をより向上する観点からは、100MPa以上とすることが好ましく、120MPa以上とすることがより好ましい。
(Strength)
The proof stress of the blank is preferably 90 MPa or more. From the viewpoint of further improving the mechanical properties of the magnetic disk, the proof stress of the blank is preferably 100 MPa or more, and more preferably 120 MPa or more.

耐力は、例えば、JIS Z 2241:2011(金属材料引張試験方法)に準拠して、圧延方向を長手方向とするJIS5号試験片を作製し、引張試験を行うことにより測定することができる。なお、JIS5号に相似し、寸法が縮尺された試験片で測定を行ってもよい。   The yield strength can be measured, for example, by preparing a JIS No. 5 test piece with the rolling direction as the longitudinal direction and conducting a tensile test in accordance with JIS Z 2241: 2011 (metal material tensile test method). In addition, you may measure with the test piece which resembled JIS5 and the dimension was reduced.

[ブランクの製造方法]
本実施形態に係るブランクは、磁気ディスク用の基板を製造する一般的な条件の製造方法および設備によって製造することができる。例えば、冷間圧延して得られたアルミニウム合金板を円環状に打ち抜く打ち抜き工程と、打ち抜かれた基板に矯正焼鈍を施す矯正焼鈍工程とを、この順に含む製造方法によって、ブランクを製造することができる。
[Blank manufacturing method]
The blank according to this embodiment can be manufactured by a manufacturing method and equipment under general conditions for manufacturing a substrate for a magnetic disk. For example, a blank can be manufactured by a manufacturing method including, in this order, a punching process of punching an aluminum alloy plate obtained by cold rolling in an annular shape and a straightening annealing process of performing straightening annealing on the punched substrate. it can.

打ち抜き工程は、打ち抜き加工により得る基板を、例えば、内径24mm、外径96mmの3.5インチHDD用の基板、または、内径19mm、外径66mmの2.5インチHDD用の基板に適用することができる。   In the punching process, a substrate obtained by punching is applied to, for example, a substrate for 3.5 inch HDD having an inner diameter of 24 mm and an outer diameter of 96 mm, or a substrate for 2.5 inch HDD having an inner diameter of 19 mm and an outer diameter of 66 mm. Can do.

矯正焼鈍工程は、基板を高い平坦度を有するスペーサで挟んで積み付け、基板に荷重をかけながら焼鈍することが好ましい。焼鈍温度は、300〜500℃とし、保持時間は、例えば、3時間とすることができる。焼鈍における昇温速度は、例えば、80℃/時間、降温速度は、例えば、80℃/時間とすることができる。   In the straightening annealing step, it is preferable that the substrate is sandwiched between spacers having high flatness and then annealed while applying a load to the substrate. The annealing temperature can be 300 to 500 ° C., and the holding time can be 3 hours, for example. The temperature increase rate in annealing can be set to 80 ° C./hour, for example, and the temperature decrease rate can be set to 80 ° C./hour, for example.

[サブストレート]
本実施形態に係るサブストレートは、前記のブランクからなり、ブランクの端面が切削加工され、主面が研削加工された外形を有する。サブストレートは、前記のアルミニウム合金板と同様に、所定の含有量の範囲でSi、Fe、Mn、NiおよびCuを含有するアルミニウム合金からなり、好ましくは、MgおよびZnのうちの一方または両方を所定の含有量の範囲で更に含有し、Cu、MgおよびZnの含有量の合計が所定の範囲に限定された化学組成を有する。また、より好ましくは、Fe、MnおよびNiの含有量の合計も所定の範囲に制限されており、Feの含有量とNiの含有量との比の値、および、Mnの含有量とNiの含有量との比の値も、それぞれ、所定値の範囲に限定された化学組成を有する。
[substrate]
The substrate which concerns on this embodiment consists of said blank, and has the external shape by which the end surface of the blank was cut and the main surface was ground. The substrate is made of an aluminum alloy containing Si, Fe, Mn, Ni, and Cu in a predetermined content range, preferably the one or both of Mg and Zn, like the aluminum alloy plate. It further contains in a predetermined content range, and has a chemical composition in which the total content of Cu, Mg and Zn is limited to the predetermined range. More preferably, the total content of Fe, Mn and Ni is also limited to a predetermined range, the ratio value of the Fe content and the Ni content, and the Mn content and the Ni content. Each value of the ratio to the content also has a chemical composition limited to a predetermined value range.

サブストレートについての、表面における金属間化合物の絶対最大長、ヤング率、耐力などの特性値は、ブランクについての特性値と同等となる。ブランクについて求めた特性値をサブストレートについての特性値と見做すことができるし、サブストレートについて求めた特性値をブランクについての特性値と見做すこともできる。   The characteristic values of the substrate, such as the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface, the Young's modulus, and the proof stress, are the same as those of the blank. The characteristic value obtained for the blank can be regarded as the characteristic value for the substrate, and the characteristic value obtained for the substrate can also be regarded as the characteristic value for the blank.

[サブストレートの製造方法]
本実施形態に係るサブストレートは、磁気ディスク用の基板を製造する一般的な条件の製造方法および設備によって製造することができる。例えば、ブランクの端面を切削加工する端面加工工程と、ブランクの主面を研削加工する研削加工工程と、をこの順に含む製造方法によって、サブストレートを製造することができる。
[Substrate manufacturing method]
The substrate according to the present embodiment can be manufactured by a manufacturing method and equipment under general conditions for manufacturing a substrate for a magnetic disk. For example, the substrate can be manufactured by a manufacturing method including an end surface processing step for cutting the end surface of the blank and a grinding step for grinding the main surface of the blank in this order.

[磁気ディスクの製造方法]
磁気ディスクは、磁気ディスクを製造する一般的な条件の製造方法および設備によって製造することができる。例えば、サブストレートの表面を酸エッチング処理し、無電解Ni−Pめっき膜を形成した後、無電解Ni−Pめっき膜の表面を研磨する。次いで、サブストレートの表面に、下地層、磁性層、保護膜などを形成することにより、磁気ディスクを製造することができる。
[Method of manufacturing magnetic disk]
The magnetic disk can be manufactured by a manufacturing method and equipment under general conditions for manufacturing a magnetic disk. For example, the surface of the substrate is acid-etched to form an electroless Ni—P plating film, and then the surface of the electroless Ni—P plating film is polished. Next, a magnetic disk can be manufactured by forming an underlayer, a magnetic layer, a protective film, and the like on the surface of the substrate.

なお、ブランク、サブストレートなどの製造条件の詳細については、例えば、特許第3471557号公報や、特許第5199714号公報に記載されている。ブランク、サブストレートなどの製造は、これらの文献を参照して行うことが可能である。   Details of manufacturing conditions such as blanks and substrates are described in, for example, Japanese Patent No. 3471557 and Japanese Patent No. 5199714. Manufacture of a blank, a substrate, etc. can be performed with reference to these documents.

以下、本発明の実施例を示して本発明について具体的に説明を行う。但し、本発明の技術的範囲は、これに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples of the present invention. However, the technical scope of the present invention is not limited to this.

表1に示す化学組成のアルミニウム合金を用いて、No.1〜38に係るサブストレートを以下のようにして製造した。表1の各成分に関する「−」は、該当する成分が添加されてなく、その成分の含有量が検出限界値未満であることを示している。また、表1の「Cu+Mg+Zn」は、Cu、MgおよびZnの含有量の合計、「Fe+Mn+Ni」は、Fe、MnおよびNiの含有量の合計、「Fe/Ni」は、Feの含有量とNiの含有量との比の値、「Mn/Ni」は、Mnの含有量とNiの含有量との比の値を示す。   Using an aluminum alloy having the chemical composition shown in Table 1, no. Substrates 1 to 38 were produced as follows. "-" Regarding each component in Table 1 indicates that the corresponding component is not added and the content of the component is less than the detection limit value. In Table 1, “Cu + Mg + Zn” is the total content of Cu, Mg and Zn, “Fe + Mn + Ni” is the total content of Fe, Mn and Ni, and “Fe / Ni” is the content of Fe and Ni The value of the ratio to the content of “Mn / Ni” indicates the value of the ratio of the content of Mn to the content of Ni.

サブストレートは、鋳造工程、均質化熱処理工程、熱間圧延工程、冷間圧延工程、打ち抜き工程、矯正焼鈍工程、端面加工工程、研削加工工程をこの順で行って製造した。各工程の具体的な条件は次のとおりである。   The substrate was manufactured by performing a casting process, a homogenizing heat treatment process, a hot rolling process, a cold rolling process, a punching process, a straightening annealing process, an end face processing process, and a grinding process process in this order. Specific conditions for each step are as follows.

鋳造工程は、750℃で原料を溶解して行った。得られた鋳塊は、2mm/片面の面削を施した。   The casting process was performed by melting the raw material at 750 ° C. The resulting ingot was chamfered at 2 mm / single side.

均質化熱処理工程は、540℃で8時間行った。なお、均質化熱処理した鋳塊を炉から取り出した後に5分以内に熱間圧延を開始した。   The homogenizing heat treatment step was performed at 540 ° C. for 8 hours. In addition, hot rolling was started within 5 minutes after taking out the ingot subjected to the homogenization heat treatment from the furnace.

熱間圧延工程は、開始温度を520〜540℃とし、終了温度を300〜330℃とし、熱間圧延後の板厚が3mmとなるように行った。   The hot rolling step was performed such that the starting temperature was 520 to 540 ° C., the ending temperature was 300 to 330 ° C., and the plate thickness after hot rolling was 3 mm.

冷間圧延工程は、冷間圧延後の板厚が1mmとなるように行った。   The cold rolling process was performed so that the plate thickness after cold rolling was 1 mm.

打ち抜き工程は、冷間圧延板を内径24mm、外径96mmの円環状に打ち抜いて行った。   The punching step was performed by punching a cold rolled plate into an annular shape having an inner diameter of 24 mm and an outer diameter of 96 mm.

矯正焼鈍工程は、焼鈍温度を400℃とし、焼鈍時間を3時間として行った。また、昇温速度は、80℃/時間、降温速度は、80℃/時間とした。   The straightening annealing step was performed with an annealing temperature of 400 ° C. and an annealing time of 3 hours. The rate of temperature increase was 80 ° C./hour, and the rate of temperature decrease was 80 ° C./hour.

端面加工工程は、ブランクの内径と外径を各1mmずつ切削加工して行った。   The end face processing step was performed by cutting the inner diameter and the outer diameter of the blank by 1 mm each.

研削加工工程は、両面研削機に予めセットされたキャリアのポケット内に端面加工を施したブランクをセットし、PVA砥石(日本特殊研砥株式会社製 4000番)によって目標の板厚になるまで研削加工を施して行った。   In the grinding process, a blank with end face processing is set in a carrier pocket set in advance on a double-side grinding machine, and grinding is performed with a PVA grinding wheel (Nippon Nenken Co., Ltd. No. 4000) until the target thickness is reached. Processing was performed.

製造した各サブストレートについて、ヤング率、耐力、表面に形成した無電解Ni−Pめっき膜の平滑性、鋳造時の湯漏れリスクを、以下のようにして評価した。また、参考値として、表面における金属間化合物の絶対最大長を、併せて評価した。   About each manufactured substrate, Young's modulus, yield strength, the smoothness of the electroless Ni-P plating film formed on the surface, and the risk of hot water leakage during casting were evaluated as follows. Moreover, the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface was also evaluated as a reference value.

(表面における金属間化合物の絶対最大長)
金属間化合物の絶対最大長は、次のようにして測定した。日本電子株式会社製FE−SEM(Field Emission Scanning Electron Microscope、型式JSM−7001F)を用い、加速電圧を15kVとし、200倍で20視野の組成像を撮像した。そして、付属の分析システム “Analysis Station 3, 8, 0, 31”と、粒子解析ソフト“EX−35110 粒子解析ソフトウェア Ver. 3.84”とを用い、FE−SEMで得られた組成像上で認識できる金属間化合物の絶対最大長を測定した。絶対最大長が15μm以下のものを「◎」、15μmを超え20μm以下のものを「○」、20μmを超えるものを「△」と評価した。そして、△をやや劣る、○を優れる、◎をより優れると判定した。
(Absolute maximum length of intermetallic compound on the surface)
The absolute maximum length of the intermetallic compound was measured as follows. Using an FE-SEM (Field Emission Scanning Electron Microscope, model JSM-7001F) manufactured by JEOL Ltd., an acceleration voltage was set to 15 kV, and composition images of 20 fields of view were taken at 200 times. Using the attached analysis system “Analysis Station 3, 8, 0, 31” and the particle analysis software “EX-35110 particle analysis software Ver. 3.84”, it can be recognized on the composition image obtained by FE-SEM. The absolute maximum length of the intermetallic compound was measured. Those having an absolute maximum length of 15 μm or less were evaluated as “◎”, those exceeding 15 μm and 20 μm or less were evaluated as “◯”, and those exceeding 20 μm were evaluated as “Δ”. It was determined that Δ was slightly inferior, ○ was excellent, and ◎ was more excellent.

(ヤング率)
ヤング率は、JIS Z 2280:1993(金属材料の高温ヤング率試験方法)に準拠して、圧延方向を長手方向とする60mm×10mm×1mm厚の試験片を作製し、その試験片を用いて、大気雰囲気下、室温で自由共振法により測定した。試験装置としては、日本テクノプラス社製JE−RT型を用いた。ヤング率が80GPa以上のものを「◎」、75GPa以上80GPa未満のものを「○」、75GPa未満のものを「×」と評価した。◎および○を合格、×を不合格と判定した。
(Young's modulus)
The Young's modulus was prepared in accordance with JIS Z 2280: 1993 (high temperature Young's modulus test method for metal materials), and a test piece having a thickness of 60 mm × 10 mm × 1 mm with the rolling direction as the longitudinal direction was prepared. The measurement was performed by the free resonance method at room temperature in an air atmosphere. As a test device, JE-RT type manufactured by Nippon Techno-Plus was used. Those having a Young's modulus of 80 GPa or higher were evaluated as “◎”, those having 75 GPa or more and less than 80 GPa were evaluated as “◯”, and those having a Young's modulus of less than 75 GPa were evaluated as “X”. ◎ and ○ were determined to be acceptable, and × was determined to be unacceptable.

(耐力)
耐力は、冷間圧延工程で得た冷間圧延板の一部を切り出し、矯正焼鈍に相当する400℃、3時間の焼鈍を行った後、JIS Z 2241:2011(金属材料引張試験方法)に準拠して、圧延方向を長手方向とするJIS5号試験片を作製し、引張試験を行うことにより測定した。耐力が120MPa以上のものを「◎」、90MPa以上120MPa未満のものを「○」、90MPa未満のものを「×」と評価した。◎および○を合格、×を不合格と判定した。
(Strength)
Yield strength is JIS Z 2241: 2011 (metal material tensile test method) after cutting out a part of the cold rolled sheet obtained in the cold rolling process and annealing at 400 ° C. for 3 hours corresponding to straightening annealing. Based on this, a JIS No. 5 test piece with the rolling direction as the longitudinal direction was prepared and measured by conducting a tensile test. Those with a yield strength of 120 MPa or more were evaluated as “◎”, those with 90 MPa or more and less than 120 MPa were evaluated as “◯”, and those with a yield strength of less than 90 MPa were evaluated as “x”. ◎ and ○ were determined to be acceptable, and × was determined to be unacceptable.

(表面に形成した無電解Ni−Pめっき膜の平滑性)
製造したサブストレートをアルカリ洗浄剤(上村工業株式会社製AD−68F)を用いて70℃、5分間の脱脂処理し、純水で洗浄した。次いで、ソフトエッチング剤(上村工業株式会社製AD−101F)を用いて68℃、2分間の酸エッチング処理を行い、純水で洗浄した。そして、30%硝酸でデスマット処理を行い、続けて、ジンケート処理液(上村工業株式会社製AD−301F−3X)を用いて20℃、30秒間のジンケート処理を行った。その後、一旦、30%硝酸で亜鉛を溶解させた後に、再度、ジンケート処理液(上村工業株式会社製AD−301F−3X)を用いて20℃、15秒間のジンケート処理を行った。そして、Ni−Pめっき液(上村工業株式会社製ニムデン(登録商標)HDX)を使用し、90℃、2時間の無電解Ni−Pめっき処理を行い、厚さが10μm程度の無電解Ni−Pめっき膜を形成した。無電解Ni−Pめっき膜を形成したサブストレートのめっき表面をブルカー社製ContourGT X3(非接触3次元光干渉型表面形状粗さ計)を用いて、対物レンズ×50、FOV×1、VSIモードで測定した。めっき膜表面において、幅3μm以上、深さ1μm以上のピットの密度が0〜4個/mmのものを「◎」、5〜20個/mmのものを「○」、21個/mm以上のものを「×」と評価した。◎および○を合格、×を不合格と判定した。なお、無電解Ni−Pめっき膜を形成したサブストレートのめっき表面を、コロイダルシリカ系のスラリー(株式会社フジミインコーポレーティッド製DISKLITE Z5601A)と、パッド(カネボウ株式会社(現アイオン株式会社)製のN0058 72D)とを使用して研磨し、その表面を測定しても、研磨していない場合と同等の評価が得られた。
(Smoothness of electroless Ni-P plating film formed on the surface)
The manufactured substrate was degreased at 70 ° C. for 5 minutes using an alkaline cleaner (AD-68F, manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) and washed with pure water. Next, an acid etching treatment at 68 ° C. for 2 minutes was performed using a soft etching agent (AD-101F, manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.), and washed with pure water. Then, desmut treatment was performed with 30% nitric acid, and subsequently, zincate treatment was performed at 20 ° C. for 30 seconds using a zincate treatment solution (AD-301F-3X manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.). Then, after dissolving zinc once with 30% nitric acid, it was again subjected to a zincate treatment at 20 ° C. for 15 seconds using a zincate treatment solution (AD-301F-3X manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.). Then, using an Ni-P plating solution (Nimden (registered trademark) HDX manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.), an electroless Ni-P plating treatment is performed at 90 ° C. for 2 hours, and an electroless Ni— having a thickness of about 10 μm. A P plating film was formed. The plating surface of the substrate on which the electroless Ni-P plating film is formed is made by using Bruker's ContourGT X3 (non-contact 3D optical interference type surface shape roughness meter), objective lens x 50, FOV x 1, VSI mode Measured with On the surface of the plated film, the density of pits having a width of 3 μm or more and a depth of 1 μm or more is “◎” when the density is 0 to 4 / mm 2 , “◯” is 5 to 20 / mm 2 , and 21 / mm Two or more were evaluated as “x”. ◎ and ○ were determined to be acceptable, and × was determined to be unacceptable. In addition, the plating surface of the substrate on which the electroless Ni—P plating film is formed is made of a colloidal silica-based slurry (DISKLITE Z5601A manufactured by Fujimi Incorporated Co., Ltd.) and a pad (manufactured by Kanebo Co., Ltd. (currently Aion Co., Ltd.)). N0058 72D), and the surface was measured, the same evaluation as in the case of not polishing was obtained.

(湯漏れリスク)
湯漏れリスクは、鋳造時に発生する虞がある湯漏れの潜在的なリスクを、アルミニウム合金の固液共存領域の広さを指標として評価した。固液共存領域の広さは、アルミニウム合金を溶融させた後、冷却により凝固する過程の温度変化を熱電対で測定することで求めた。また、Thermo-Calc Sotware AB社製熱力学的計算システム(サーモカルク:Thermo-calc ver. 3.0)を用い、Thermotech社製熱力学的データベース(Al-DATA ver.8)を使用して、表1に示す化学成分の状態図を導出し、その状態図上、固相点と液相点との温度差として求めた。固相点と液相点との温度差20℃以上のものを湯漏れのリスクが略無いとして「◎」、10℃以上20℃未満のものを湯漏れのリスクが少ないとして「○」、10℃未満のものを湯漏れのリスクが有るとして「×」と評価した。◎および○を合格、×を不合格と判定した。
(Risk of hot water leak)
The risk of hot water leakage was evaluated by using the size of the solid-liquid coexistence area of aluminum alloy as an index. The width of the solid-liquid coexistence region was determined by measuring the temperature change in the process of solidifying by cooling after melting the aluminum alloy with a thermocouple. In addition, using Thermo-Calc Sotware AB's thermodynamic calculation system (Thermocalc: Thermo-calc ver. 3.0) and Thermotech's thermodynamic database (Al-DATA ver.8), Table 1 A phase diagram of the chemical component shown was derived, and was determined as a temperature difference between the solid phase point and the liquid phase point on the phase diagram. “◎” indicates that the temperature difference between the solid phase point and the liquid phase point is 20 ° C. or higher, and there is almost no risk of hot water leakage, “○” indicates that the temperature difference is 10 ° C. or higher and lower than 20 ° C. Those having a temperature of less than ° C. were evaluated as “×” because there was a risk of leaking water. ◎ and ○ were determined to be acceptable, and × was determined to be unacceptable.

表1に、表面における金属間化合物の絶対最大長、ヤング率、耐力、表面に形成した無電解Ni−Pめっき膜の平滑性、鋳造時の湯漏れリスクの評価の結果を示す。   Table 1 shows the results of evaluation of the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface, Young's modulus, proof stress, smoothness of the electroless Ni-P plating film formed on the surface, and the risk of hot water leakage during casting.

Figure 0006339719
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表1に示すように、No.1〜20は、Si、Fe、MnおよびNiの含有量が所定の範囲に適正に制御されているため、高いヤング率と、高い耐力と、良好なめっき性とが備わっている。また、固液共存領域が広く、鋳造時の湯漏れのリスクが低くなっている。   As shown in Table 1, no. In Nos. 1 to 20, since the contents of Si, Fe, Mn, and Ni are appropriately controlled within a predetermined range, a high Young's modulus, a high yield strength, and a good plating property are provided. Moreover, the solid-liquid coexistence area is wide, and the risk of hot water leakage during casting is low.

特に、No.6〜8は、MgやZnが添加されているため、Cuの含有量のみに依らず、固液共存領域がより広くなり、鋳造時の湯漏れのリスクが更に低くなっている。また、No.9〜12は、Crも添加されているため、組織が微細化されており、ヤング率や耐力がより向上している。   In particular, no. In Nos. 6 to 8, since Mg and Zn are added, the solid-liquid coexistence region becomes wider regardless of the Cu content alone, and the risk of hot water leakage during casting is further reduced. No. In Nos. 9 to 12, since Cr is also added, the structure is refined, and the Young's modulus and proof stress are further improved.

更に、No.13〜16は、Fe、MnおよびNiの合計量や比率も制御されているため、粗大な金属間化合物が排除されており、めっき膜の平滑性や耐力がより高くなっている。また、No.17〜20は、Crも添加されているため、組織が微細化されており、めっき膜の平滑性や耐力がより向上している。   Furthermore, no. In Nos. 13 to 16, since the total amount and ratio of Fe, Mn and Ni are also controlled, coarse intermetallic compounds are excluded, and the smoothness and proof stress of the plating film are higher. No. In Nos. 17 to 20, since Cr is also added, the structure is refined, and the smoothness and proof stress of the plating film are further improved.

これに対して、No.21は、Feの含有量が0.50質量%未満であったため、高いヤング率が得られなかった。   In contrast, no. In No. 21, since the Fe content was less than 0.50% by mass, a high Young's modulus was not obtained.

また、No.22は、Feの含有量が1.50質量%を超えていたため、粗大なAl−Fe−Ni系金属間化合物が生じ、耐力が低くなった。   No. In No. 22, since the Fe content exceeded 1.50% by mass, a coarse Al—Fe—Ni intermetallic compound was produced, and the yield strength was low.

また、No.23は、Mnの含有量が0.50質量%未満であったため、高いヤング率や耐力が得られなかった。   No. In No. 23, since the Mn content was less than 0.50% by mass, high Young's modulus and yield strength were not obtained.

また、No.24は、Mnの含有量が1.50質量%を超えていたため、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化或るいは筋状欠陥を生じ、耐力や無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなった。   No. 24, since the Mn content exceeded 1.50% by mass, the Al—Mn—Fe intermetallic compound was coarsened or streak-like defects were generated, and the proof stress and the smoothness of the electroless Ni—P plating film were increased. The nature became low.

また、No.25は、Niの含有量が1.00質量%未満であったため、高いヤング率や耐力が得られなかった。   No. In No. 25, since the Ni content was less than 1.00% by mass, high Young's modulus and yield strength were not obtained.

また、No.26は、Niの含有量が2.00質量%を超えていたため、粗大なAl−Fe−Ni系金属間化合物が生じ、耐力が低くなった。   No. In No. 26, since the Ni content exceeded 2.00 mass%, a coarse Al—Fe—Ni intermetallic compound was produced, and the yield strength was low.

また、No.27は、Siの含有量が0.10質量%を超えていたため、単体Siなどが生じ、無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなった。   No. In No. 27, since the Si content exceeded 0.10% by mass, elemental Si and the like were generated, and the smoothness of the electroless Ni—P plating film was lowered.

また、No.28〜33は、Cuの含有量が0.50質量%未満であったため、固液共存領域が狭く、鋳造時の湯漏れのリスクが高いままであった。特に、No.31〜33は、Crも添加されているため、組織が微細化されており、ヤング率や耐力がより向上しているが、鋳造時の湯漏れのリスクは高いままであった。   No. In Nos. 28 to 33, since the Cu content was less than 0.50 mass%, the solid-liquid coexistence region was narrow, and the risk of hot water leakage during casting remained high. In particular, no. Since Cr is also added to 31-33, the structure is refined and Young's modulus and proof stress are further improved, but the risk of hot water leakage during casting remained high.

また、No.34は、Cuの含有量が1.00質量%以上であったため、固液共存領域が広く、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化或るいは筋状欠陥を生じ、高いヤング率や耐力が得られなかった。   No. 34, since the Cu content was 1.00% by mass or more, the solid-liquid coexistence region was wide, the Al—Mn—Fe intermetallic compound was coarsened or a streak defect was generated, and a high Young's modulus or Yield strength was not obtained.

また、No.35は、Crの含有量が0.23質量%を超えていたため、耐力や無電解Ni−Pめっき膜の平滑性が低くなった。   No. In No. 35, since the Cr content exceeded 0.23% by mass, the yield strength and the smoothness of the electroless Ni—P plating film were lowered.

また、No.36は、Mgの含有量が1.00質量%以上であったため、固液共存領域が広く、Al−Mn−Fe系金属間化合物が粗大化或るいは筋状欠陥を生じると共に、Al−Fe−Ni系金属間化合物が減り、高いヤング率や耐力が得られなかった。   No. In No. 36, the Mg content was 1.00% by mass or more, so the solid-liquid coexistence region was wide, the Al—Mn—Fe intermetallic compound was coarsened or streak-like defects occurred, and Al—Fe -The amount of Ni-based intermetallic compounds was reduced, and high Young's modulus and yield strength were not obtained.

また、No.37は、Znの含有量が1.00質量%以上であったため、固液共存領域が広く、Al−Fe−Ni系金属間化合物が減り、高いヤング率が得られなかった。   No. In No. 37, the Zn content was 1.00% by mass or more, so the solid-liquid coexistence region was wide, the Al—Fe—Ni intermetallic compound decreased, and a high Young's modulus was not obtained.

また、No.38は、Cu、MgおよびZnの合計量が1.00質量%を超えていたため、固液共存領域が広く、Al−Fe−Ni系金属間化合物が減り、高いヤング率が得られなかった。   No. In No. 38, since the total amount of Cu, Mg and Zn exceeded 1.00% by mass, the solid-liquid coexistence region was wide, the Al—Fe—Ni intermetallic compound decreased, and a high Young's modulus was not obtained.

Claims (8)

Si:0.10質量%以下、
Fe:0.50質量%以上1.50質量%以下、
Mn:0.50質量%以上1.50質量%以下、
Ni:1.00質量%以上2.00質量%未満、
Cu:0.05質量%以上1.00質量%以下を含有し、
残部がAlおよび不可避的不純物からなる磁気ディスク用アルミニウム合金板。
Si: 0.10% by mass or less,
Fe: 0.50% by mass or more and 1.50% by mass or less,
Mn: 0.50% by mass or more and 1.50% by mass or less,
Ni: 1.00% by mass or more and less than 2.00% by mass,
Cu: 0.05 mass% or more and 1.00 mass% or less are contained,
An aluminum alloy plate for a magnetic disk, the balance being Al and inevitable impurities.
Si:0.10質量%以下、
Fe:0.50質量%以上1.50質量%以下、
Mn:0.50質量%以上1.50質量%以下、
Ni:1.00質量%以上2.00質量%未満、
Cu:0.05質量%以上1.00質量%未満を含有し、
Mg:0.05質量%以上1.00質量%未満およびZn:0.05質量%以上1.00質量%未満のうちの一方または両方を更に含有し、
前記Cu、前記Mgおよび前記Znの合計量が1.00質量%以下であり、
残部がAlおよび不可避的不純物からなる磁気ディスク用アルミニウム合金板。
Si: 0.10% by mass or less,
Fe: 0.50% by mass or more and 1.50% by mass or less,
Mn: 0.50% by mass or more and 1.50% by mass or less,
Ni: 1.00% by mass or more and less than 2.00% by mass,
Cu: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass%,
One or both of Mg: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass% and Zn: 0.05 mass% or more and less than 1.00 mass% are further contained,
The total amount of Cu, Mg and Zn is 1.00% by mass or less,
An aluminum alloy plate for a magnetic disk, the balance being Al and inevitable impurities.
請求項1または請求項2に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板の化学組成において、
Cr:0.05質量%以上0.23質量%以下を更に含有する磁気ディスク用アルミニウム合金板。
In the chemical composition of the aluminum alloy plate for magnetic disks according to claim 1 or 2,
A magnetic alloy aluminum alloy plate further containing Cr: 0.05 mass% or more and 0.23 mass% or less.
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板の化学組成において、
前記Fe、前記Mnおよび前記Niの合計量が4.20質量%以下であり、
前記Feの含有量と前記Niの含有量との比が0.40〜1.00であり、
前記Mnの含有量と前記Niの含有量との比が0.30〜0.90である磁気ディスク用アルミニウム合金板。
In the chemical composition of the aluminum alloy plate for magnetic disks according to any one of claims 1 to 3,
The total amount of Fe, Mn and Ni is 4.20% by mass or less,
The ratio of the Fe content and the Ni content is 0.40 to 1.00,
An aluminum alloy plate for a magnetic disk, wherein a ratio of the Mn content to the Ni content is 0.30 to 0.90.
表面における金属間化合物の絶対最大長が20μm以下である請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板。   5. The aluminum alloy plate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the absolute maximum length of the intermetallic compound on the surface is 20 μm or less. 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板からなる磁気ディスク用アルミニウム合金ブランク。   The aluminum alloy blank for magnetic discs which consists of an aluminum alloy plate for magnetic discs as described in any one of Claims 1-5. ヤング率が75GPa以上、耐力が90MPa以上である請求項6に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金ブランク。   The aluminum alloy blank for magnetic disks according to claim 6, wherein the Young's modulus is 75 GPa or more and the proof stress is 90 MPa or more. 請求項6または請求項7に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクからなる磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレート。   An aluminum alloy substrate for a magnetic disk comprising the aluminum alloy blank for a magnetic disk according to claim 6 or 7.
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