JP5901168B2 - Aluminum alloy substrate for magnetic disk and method for manufacturing the same, and aluminum alloy substrate for base treatment magnetic disk and method for manufacturing the same - Google Patents

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Description

本発明は、メッキ後にピットの発生が少ない、メッキ表面平滑性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an aluminum alloy substrate for a magnetic disk that has few pits after plating and is excellent in plating surface smoothness, and a method for manufacturing the same.

コンピュータの記憶装置に用いられる磁気ディスクは、アルミニウム合金基板あるいはガラス基板の表面に磁性体を被覆したものが用いられている。一般に磁気ディスク用アルミニウム合金には、良好なメッキ性を有することとともに機械的特性や加工性が優れたJIS5086(Mg:3.5〜4.5mass%(以下、単に%と記す。)、Fe≦0.50%、Si≦0.40%、Mn:0.20〜0.70%、Cr:0.05〜0.25%、Cu≦0.10%、Ti≦0.15%、Zn≦0.25%、残部Al及び不可避的不純物)やJIS5086中の不純物であるFe、Si等を制限しマトリックス中の金属間化合物を小さくしたもの、CuやZnを意識的に添加してメッキ性を改善した合金などが用いられている。   2. Description of the Related Art Magnetic disks used in computer storage devices are those in which a magnetic material is coated on an aluminum alloy substrate or glass substrate. In general, aluminum alloys for magnetic disks have good plating properties and excellent mechanical properties and workability. JIS 5086 (Mg: 3.5 to 4.5 mass% (hereinafter simply referred to as%)), Fe ≦ 0.50%, Si ≦ 0.40%, Mn: 0.20 to 0.70%, Cr: 0.05 to 0.25%, Cu ≦ 0.10%, Ti ≦ 0.15%, Zn ≦ 0.25%, balance Al and unavoidable impurities), impurities in Fe and Si in JIS5086 are limited to reduce intermetallic compounds in the matrix, and Cu and Zn are added consciously to increase plating properties Improved alloys are used.

一般的なアルミニウム磁気ディスクは円環状アルミニウム合金基板を製造し、次いで該合金基板に磁性体を付着させている。円環状アルミニウム合金基板は、例えば前記JIS5086合金からなる鋳塊を熱間圧延し、次いで焼鈍を施しながら冷間圧延し、圧延材を円環状に打抜き、次に、円環状にしたアルミニウム合金板を積層し、両面から加圧して平坦化する焼鈍(加圧焼鈍)を行う工程で製造される。
このようにして製造された円環状アルミニウム合金基板に、前処理として切削、研削、研磨、脱脂、エッチング、ジンケート処理(Zn置換処理)を施し、次いで下地処理として硬質非磁性金属であるNi−Pを無電解メッキし、該メッキ表面にポリッシングを施した後、磁性体をスパッタリングして磁気ディスクに仕上げている。
A general aluminum magnetic disk is manufactured by manufacturing an annular aluminum alloy substrate, and then attaching a magnetic material to the alloy substrate. An annular aluminum alloy substrate is obtained by, for example, hot rolling an ingot made of the JIS5086 alloy, then cold rolling it while annealing, punching the rolled material into an annular shape, and then forming an annular aluminum alloy plate. It is manufactured in a process of stacking and performing annealing (pressure annealing) by pressing from both sides and flattening.
The annular aluminum alloy substrate thus manufactured is subjected to cutting, grinding, polishing, degreasing, etching, zincate treatment (Zn substitution treatment) as a pretreatment, and then Ni—P which is a hard nonmagnetic metal as a ground treatment. Is electrolessly plated, and the plated surface is polished, and then a magnetic material is sputtered to finish the magnetic disk.

ところで、近年、磁気ディスクには、マルチメディア等のニーズから大容量化および高密度化が求められており、近い将来には、面記録密度2Tb/inが達成されようとしている。そして、更なる磁気ディスクの記録密度の向上には、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの浮上量をより少なく、かつより安定させる必要がある。そのためには、磁気ディスク用アルミニウム合金基板のNi−Pメッキ表面に高い平滑性が要求される。 Incidentally, in recent years, a magnetic disk is required to have a large capacity and a high density because of the need for multimedia and the like, and a surface recording density of 2 Tb / in 2 is about to be achieved in the near future. In order to further improve the recording density of the magnetic disk, it is necessary to make the flying height of the magnetic head with respect to the magnetic disk smaller and more stable. For that purpose, high smoothness is required for the Ni-P plating surface of the aluminum alloy substrate for magnetic disks.

また、高密度化により、1ビットあたりの磁気領域が益々微小化されるため、メッキ表面に極微細なピットがあっても、データ読み取り時にエラーを起こす原因となる。このような実情から、近年ではメッキ表面のピットの発生を抑え、Ni−Pメッキ表面を高平滑性にすることが強く望まれ、様々な検討がなされている。   In addition, since the magnetic area per bit is further miniaturized due to the higher density, even if there are extremely fine pits on the plating surface, it causes an error when reading data. Under such circumstances, in recent years, it has been strongly desired to suppress the generation of pits on the plating surface and make the Ni-P plating surface highly smooth, and various studies have been made.

特許文献1では合金組成の範囲を限定し、平滑性を損なう原因となるAl−Fe系、Mg−Si系金属間化合物のサイズを最適に制御した磁気ディスク用アルミニウム合金基板が提案されている。また、特許文献2では焼鈍条件を規定してAl−Mg−Zn系金属間化合物の個数を制御することによりNi−Pメッキ表面の平滑性を向上させる方法が提案されている。   Patent Document 1 proposes an aluminum alloy substrate for a magnetic disk in which the range of the alloy composition is limited and the size of Al—Fe-based and Mg—Si-based intermetallic compounds that cause the loss of smoothness is optimally controlled. Patent Document 2 proposes a method for improving the smoothness of the Ni—P plating surface by defining the annealing conditions and controlling the number of Al—Mg—Zn intermetallic compounds.

特開2002−275568号公報JP 2002-275568 A 特開2004−143559号公報JP 2004-143559 A

しかしながら、特許文献1及び2に示す金属間化合物(Al−Fe系、Mg−Si系、Al−Mg−Zn系)のサイズや個数を限定するだけでは、Ni−Pメッキ表面でのピットの発生を防ぐことはできず、目標とするNi−Pメッキ表面の高平滑性は得られていないのが現状であった。
本発明者らはピットの発生した位置の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面を鋭意調査検討した結果、Al−Cu−Mg−Zn系金属間化合物がピットの発生に関与していることを見いだした。該金属間化合物はジンケート処理後でも磁気ディスク用アルミニウム合金基板表面に残存し、この金属間化合物上ではZnの溶解反応が他の部分よりも長く続くためNi−Pメッキの生成が遅れ、ピットとなるものと考えられる。
However, generation of pits on the Ni-P plating surface is limited only by limiting the size and number of intermetallic compounds (Al-Fe, Mg-Si, Al-Mg-Zn) shown in Patent Documents 1 and 2. The present situation is that high smoothness of the target Ni—P plating surface has not been obtained.
As a result of intensive investigations and investigations on the surface of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk at the position where the pit is generated, the present inventors have found that the Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound is involved in the generation of the pit. . The intermetallic compound remains on the surface of the aluminum alloy substrate for the magnetic disk even after the zincate treatment. Since the dissolution reaction of Zn continues on this intermetallic compound for a longer time than other parts, the generation of Ni-P plating is delayed, It is considered to be.

本発明は以上の調査検討を背景としてなされたもので、Ni−Pメッキ後にピットの発生が少ない、Ni−Pメッキ表面平滑性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法を提供することを課題としている。   The present invention has been made against the background of the above investigation and examination, and provides an aluminum alloy substrate for a magnetic disk that has few Ni-P plating and has excellent Ni-P plating surface smoothness and a method for producing the same. Is an issue.

すなわち本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、Mg:2.0〜6.0mass%(以下、単に%と記す。)、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金からなり、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm 当たり1個以下である磁気ディスク用アルミニウム合金基板であることを特徴とする。また、本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法は、Mg:2.0〜6.0%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金鋳塊に、熱間圧延終了温度が280〜360℃、かつ熱間圧延終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差が30℃以内となるように熱間圧延を行うことを特徴とするThat magnetic aluminum alloy disk substrate of the present invention, Mg: 2.0~6.0mass%, Cu (hereinafter, simply referred to as%.): 0.005~0.15%, Zn : 0.05~ Aluminum containing 0.6%, Cr: 0.01-0.3%, Si: 0.001-0.03%, Fe: 0.001-0.03%, the balance being Al and inevitable impurities It is an aluminum alloy substrate for a magnetic disk which is made of an alloy and has no more than one Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound having a longest diameter exceeding 1 μm per 0.2 mm 2 . The method for producing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to the present invention includes Mg: 2.0 to 6.0%, Cu: 0.005 to 0.15%, Zn: 0.05 to 0.6%, Cr : 0.01-0.3%, Si: 0.001-0.03%, Fe: 0.001-0.03%, aluminum alloy ingot composed of the balance Al and inevitable impurities, heat The hot rolling is performed so that the end temperature of the hot rolling is 280 to 360 ° C., and the difference in the surface temperature between the center portion of the sheet width and the end portion at the end of the hot rolling is within 30 ° C.

更に、本発明の下地処理磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、Mg:2.0〜6.0%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金基板と、基板表面のジンケート処理部と、ジンケート処理部表面の無電解Ni−Pメッキ部を備え、前記アルミニウム合金基板において、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm 当たり1個以下であり、無電解Ni−Pメッキを施したアルミニウム合金基板表面において、発生ピット数が0.2mm 当たり1個以下であることを特徴とする。また、本発明の下地処理磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法は、Mg:2.0〜6.0mass%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金基板表面にジンケート処理を施し、ジンケート処理表面に無電解Ni−Pメッキを施すことを特徴とする
Further, the aluminum alloy substrate for the ground-treated magnetic disk of the present invention has Mg: 2.0 to 6.0%, Cu: 0.005 to 0.15%, Zn: 0.05 to 0.6%, Cr: An aluminum alloy substrate containing 0.01 to 0.3%, Si: 0.001 to 0.03%, Fe: 0.001 to 0.03%, the balance Al and inevitable impurities, and the substrate surface A zincate treatment part and an electroless Ni—P plating part on the surface of the zincate treatment part are provided. In the aluminum alloy substrate, an Al—Cu—Mg—Zn-based intermetallic compound having a longest diameter exceeding 1 μm is 1 per 0.2 mm 2. The number of generated pits is 1 or less per 0.2 mm 2 on the surface of the aluminum alloy substrate subjected to electroless Ni—P plating . Moreover, the manufacturing method of the aluminum alloy board | substrate for base-treatment magnetic discs of this invention is Mg: 2.0-6.0mass%, Cu: 0.005-0.15%, Zn: 0.05-0.6% , Cr: 0.01-0.3%, Si: 0.001-0.03%, Fe: 0.001-0.03% on the aluminum alloy substrate surface comprising the balance Al and inevitable impurities A zincate treatment is performed, and electroless Ni-P plating is performed on the surface of the zincate treatment .

本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法によれば、メッキ後にピットの発生が少なく、メッキ表面の平滑性に優れ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供することができる。   According to the aluminum alloy substrate for magnetic disk and the method of manufacturing the same of the present invention, aluminum for magnetic disk that generates few pits after plating, has excellent smoothness of the plating surface, and can increase the capacity and density of the magnetic disk. An alloy substrate can be provided.

磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法のフローを示す図である。It is a figure which shows the flow of the manufacturing method of the aluminum alloy board | substrate for magnetic discs. 図2は磁気ディスク用アルミニウム合金基板に存在するAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を特定したCOMP像を示す図である。FIG. 2 is a view showing a COMP image in which an Al—Cu—Mg—Zn-based intermetallic compound existing on an aluminum alloy substrate for a magnetic disk is specified. 図3はAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を組織するアルミニウム(Al)の存在を撮影した図である。FIG. 3 is a photograph of the presence of aluminum (Al) that forms an Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound. 図4はAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を組織する銅(Cu)の存在を撮影した図である。FIG. 4 is a photograph of the presence of copper (Cu) that forms an Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound. 図5はAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を組織するマグネシウム(Mg)の存在を撮影した図である。FIG. 5 is a photograph of the presence of magnesium (Mg) that organizes an Al—Cu—Mg—Zn-based intermetallic compound. 図6はAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を組織する亜鉛(Zn)の存在を撮影した図である。FIG. 6 is a photograph of the presence of zinc (Zn) that forms an Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

先ず、磁気ディスクの製造工程を図1に示すフローで説明する。
ステップ1:アルミニウム合金を調整する。例えば後述する表1に示す成分組成のアルミニウム合金を調整する。
ステップ2:調整したアルミニウム合金を鋳造する。
ステップ3:鋳造した地金を均質化処理する(必須ではない)。
ステップ4:地金を熱間圧延する。
First, the manufacturing process of the magnetic disk will be described with reference to the flow shown in FIG.
Step 1: Adjust the aluminum alloy. For example, an aluminum alloy having a composition shown in Table 1 described later is adjusted.
Step 2: Cast the adjusted aluminum alloy.
Step 3: Homogenize the cast metal (not essential).
Step 4: The metal is hot rolled.

ステップ5:熱間圧延した板を冷間圧延してアルミニウム合金圧延板とする
ステップ6:アルミニウム合金圧延板を円環状に打ち抜き、ディスクブランクを作成する。
ステップ7:ディスクブランクを加圧平坦化する。
ステップ8:平坦化したディスクブランクを切削、研削、研磨、脱脂、エッチングして磁気ディスク用基板とする。
Step 5: Cold-roll the hot-rolled plate to obtain an aluminum alloy rolled plate Step 6: The aluminum alloy rolled plate is punched into an annular shape to create a disc blank.
Step 7: Pressurize and flatten the disc blank.
Step 8: The flattened disk blank is cut, ground, polished, degreased and etched to form a magnetic disk substrate.

ステップ9:磁気ディスク用基板表面にジンケート処理(Zn置換処理)を施す。
ステップ10:ジンケート処理した表面を下地処理(Ni−Pメッキ)する。
ステップ11:下地処理した表面にスパッタリングで磁性体を付着し、磁気ディスクとする。
Step 9: A zincate process (Zn substitution process) is performed on the surface of the magnetic disk substrate.
Step 10: The surface of the zincate-treated surface is treated (Ni-P plating).
Step 11: A magnetic material is deposited on the surface of the ground surface by sputtering to obtain a magnetic disk.

ステップ1のアルミニウム合金の調整につき詳細に説明する。アルミニウム合金の成分組成限定理由は次の通りである。   The adjustment of the aluminum alloy in step 1 will be described in detail. The reasons for limiting the component composition of the aluminum alloy are as follows.

Mg:2.0〜6.0%
Alに添加するMgは、主として磁気ディスク用アルミニウム合金基板の強度を向上させる効果がある。
その含有量を2.0〜6.0%に規定した理由は、2.0%未満ではその効果が十分に得られず、6.0%を超えると粗大なAl−Mg系金属間化合物が生成し、エッチング時、ジンケート処理時、切削や研削加工時に金属間化合物が脱落してピットの原因となる大きな窪みが発生するためである。Mgの含有量は強度および製造の容易さの兼合いから2.0〜5.0%が特に望ましい。
Mg: 2.0-6.0%
Mg added to Al is mainly effective in improving the strength of the aluminum alloy substrate for magnetic disks.
The reason why the content is specified to be 2.0 to 6.0% is that the effect is not sufficiently obtained if it is less than 2.0%, and if it exceeds 6.0%, a coarse Al—Mg intermetallic compound is formed. This is because, during the etching, the zincate treatment, the cutting and the grinding, the intermetallic compound is dropped and a large dent that causes pits is generated. The content of Mg is particularly preferably 2.0 to 5.0% in view of strength and ease of manufacture.

Cu:0.005〜0.15%
Alに添加するCuはステップ9におけるジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させる効果がある。その結果、次工程(ステップ10)のNi−Pからなる下地メッキ層の密着性を向上させる。
Cuの含有量を0.005〜0.15%に規定した理由は、0.005%未満ではその効果が十分に得られず、0.15%を超えると粗大な(最長径が1μm以上)Al−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が生成して、下地メッキ(Ni−P)処理後ピットが発生し平滑性が低下する。さらに、材料自体の耐食性を低下させるため、ジンケート処理により生成するジンケート皮膜が不均一となり、下地メッキの密着性や平滑性が低下する。好ましいCu含有量は、0.005〜0.1%の範囲内である。
Cu: 0.005-0.15%
Cu added to Al has an effect of reducing the amount of dissolved Al during the zincate treatment in Step 9 and also making the zincate film uniformly, thin and densely adhered. As a result, the adhesion of the underlying plating layer made of Ni-P in the next process (step 10) is improved.
The reason why the content of Cu is specified to be 0.005 to 0.15% is that the effect cannot be sufficiently obtained if the content is less than 0.005%, and is coarse if the content exceeds 0.15% (the longest diameter is 1 μm or more). Al—Cu—Mg—Zn-based intermetallic compounds are generated, and pits are generated after the base plating (Ni—P) treatment, resulting in a decrease in smoothness. Furthermore, since the corrosion resistance of the material itself is lowered, the zincate film generated by the zincate treatment becomes non-uniform, and the adhesion and smoothness of the base plating are lowered. A preferable Cu content is in the range of 0.005 to 0.1%.

Zn:0.05〜0.6%
Alに添加するZnはCuと同様にステップ9におけるジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程の下地メッキ層の密着性を向上させる効果がある。
Znの含有量を0.05〜0.6%に規定した理由は、0.05%未満ではその効果が十分に得られず、0.6%を超えると、粗大なAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が生成して、下地メッキ処理後ピットが発生し平滑性が低下する。さらに、材料自体の加工性や耐食性を低下させる。好ましいZn含有量は、0.05〜0.5%の範囲内である。
Zn: 0.05-0.6%
Zn added to Al reduces the amount of dissolved Al during the zincate treatment in Step 9 as well as Cu, and also adheres the zincate film uniformly, thinly and densely to improve the adhesion of the underlying plating layer in the next step. effective.
The reason why the Zn content is specified to be 0.05 to 0.6% is that if the content is less than 0.05%, the effect cannot be sufficiently obtained. If the content exceeds 0.6%, coarse Al—Cu—Mg— A Zn-based intermetallic compound is generated, pits are generated after the base plating process, and the smoothness is lowered. Furthermore, the workability and corrosion resistance of the material itself are reduced. A preferable Zn content is in the range of 0.05 to 0.5%.

Cr:0.01〜0.3%
Alに添加するCrは鋳造時に微細な金属間化合物を生成するが、一部はマトリックスに固溶して強度向上に寄与する。また切削性と研削性を高め、さらに再結晶組織を微細にして、下地メッキ層の密着性を向上させる効果がある。
Crの含有量を0.01〜0.3%に規定した理由は、0.01%未満ではその効果が十分に得られず、0.3%を超えると鋳造時に過剰分が晶出すると同時に粗大なAl−Cr系金属間化合物が生成し、エッチング時、ジンケート処理時、切削や研削加工時に金属間化合物が脱落してピットの原因となる大きな窪みが発生するためである。好ましいCr含有量は、0.01〜0.2%の範囲内である。
Cr: 0.01 to 0.3%
Cr added to Al produces a fine intermetallic compound during casting, but a part of it is dissolved in the matrix and contributes to strength improvement. In addition, there is an effect that the machinability and grindability are improved, the recrystallized structure is made finer, and the adhesion of the underlying plating layer is improved.
The reason why the content of Cr is specified to be 0.01 to 0.3% is that the effect is not sufficiently obtained when the content is less than 0.01%, and when the content exceeds 0.3%, an excess amount is crystallized at the time of casting. This is because a coarse Al—Cr-based intermetallic compound is generated, and the intermetallic compound is dropped during etching, zincate treatment, cutting or grinding, and a large dent that causes pits is generated. A preferable Cr content is in the range of 0.01 to 0.2%.

Si:0.001〜0.03%
Siは本発明の必須元素であるMgと結合し、下地メッキ層において欠陥となる金属間化合物を生成するため、アルミニウム合金中にSiが含まれることは好ましくない。しかし、Siはアルミニウム地金に不可避的不純物として存在する。ステップ1におけるアルミニウム合金の調整には純度の高い、例えば純度99.9%以上のアルミニウム地金を採用するが、このような地金にもSiが含まれる。アルミニウム地金からSiを0.001%未満まで取り除くことはアルミニウム地金を高純度に精錬することとなり、コスト高を招き好ましくない。一方、Siの含有量が0.03%を超えると粗大なMg−Si系金属間化合物が生成して、ピットなどの発生原因になるため好ましくない。従ってSiの含有量が0.03%以下となるよう調整する。Si含有量は、0.025%未満に抑えることが好ましい。
Si: 0.001 to 0.03%
Since Si combines with Mg, which is an essential element of the present invention, to generate an intermetallic compound that becomes a defect in the underlying plating layer, it is not preferable that Si be contained in the aluminum alloy. However, Si exists as an inevitable impurity in the aluminum ingot. For the adjustment of the aluminum alloy in Step 1, an aluminum ingot having a high purity, for example, a purity of 99.9% or more is adopted, but such a ingot also contains Si. It is not preferable to remove Si from the aluminum ingot to less than 0.001% because the aluminum ingot is refined with high purity, resulting in high cost. On the other hand, if the Si content exceeds 0.03%, a coarse Mg-Si intermetallic compound is generated, which causes generation of pits and the like. Therefore, the Si content is adjusted to 0.03% or less. The Si content is preferably suppressed to less than 0.025%.

Fe:0.001〜0.03%
Feはアルミニウム中には殆ど固溶せず、Al−Fe系金属間化合物としてアルミニウム地金中に存在する。このアルミニウム中に存在するFeは本発明の必須元素であるAlと結合し、下地メッキ層において欠陥となる金属間化合物を生成するため、アルミニウム合金中にFeが含まれることは好ましくない。しかし、Feを0.001%未満まで取り除くのはアルミニウム地金を高純度に精錬することになりコスト高を招き好ましくない。一方、含有量が0.03%を超えると粗大なAl−Fe系金属間化合物が生成して、ピットなどの発生原因になるため好ましくない。Fe含有量は、0.025%未満に抑えることが好ましい。
Fe: 0.001 to 0.03%
Fe hardly dissolves in aluminum and exists in an aluminum metal as an Al—Fe intermetallic compound. Since Fe present in the aluminum is bonded to Al, which is an essential element of the present invention, and forms an intermetallic compound that becomes a defect in the underlying plating layer, it is not preferable that Fe be contained in the aluminum alloy. However, removing Fe to less than 0.001% is not preferable because it refining aluminum ingots with high purity, resulting in high costs. On the other hand, if the content exceeds 0.03%, a coarse Al—Fe-based intermetallic compound is generated, which causes generation of pits and the like, which is not preferable. The Fe content is preferably suppressed to less than 0.025%.

一般にMgを含有するアルミニウム合金は、鋳造時、Mgの溶湯酸化を抑制するため、微量のBeを添加することがある。従って、本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金においても、微量のBeが含有することは許容される。但し、Be量が0.0001%未満では、上記の効果が得られず、一方、Be量が0.005%を越えて添加してもその添加効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。従って、Beを添加する場合のBe添加量は、0.0001〜0.0025%の範囲内とすることが好ましい。   In general, an aluminum alloy containing Mg may add a small amount of Be during casting in order to suppress molten metal oxidation of Mg. Therefore, the aluminum alloy for magnetic disks of the present invention is allowed to contain a trace amount of Be. However, if the amount of Be is less than 0.0001%, the above effect cannot be obtained. On the other hand, even if the amount of Be exceeds 0.005%, the addition effect is saturated, and a significant improvement effect beyond that. Cannot be obtained. Accordingly, the amount of Be added when Be is added is preferably within the range of 0.0001 to 0.0025%.

以上の各元素の他は、Alおよび不可避的不純物である。ここで、不可避的不純物(上記Si、Feを除く、例えばTi、V、Ga、B等)は、各々が0.05%以下で、かつ合計で0.15%以下程度であれば、本発明で得られる磁気ディスク用アルミニウム合金としてその特性を損なうことはない。   In addition to the above elements, Al and inevitable impurities are included. Here, inevitable impurities (excluding Si and Fe, for example, Ti, V, Ga, B, etc.) are each 0.05% or less and a total of about 0.15% or less, the present invention. The properties of the aluminum alloy for magnetic disks obtained in the above are not impaired.

最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm 当たり1個以下
アルミニウム合金基板表面に存在する最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を0.2mm当たり1個以下とすることにより、下地メッキ処理後、ピットの発生が少ない、平滑なメッキ表面を得ることができる。
アルミニウム合金基板表面に生成するAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の最長径が1μmを超えると、この化合物により下地メッキ表面に発生するピットの大きさが磁気ディスクに多少の影響を及ぼす。しかし、この化合物が0.2mm当たり1個以下であれば、その影響は無視することができる。
アルミニウム合金基板表面に生成するAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物はその最も長い径でも数μm程度である。アルミニウム合金基板表面に存在するAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の長さが1μm以下であればこの化合物により発生するピットの大きさは問題視されない。しかし、10μmを超える化合物の存在も散見される。10μmを超えると、このAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物によるピットの大きさが大きくなり好ましくない。このため、アルミニウム合金基板表面に存在するAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の最長径は1μm以上で10μm以下のものが0.2mm当たり1個以下であることが好ましい。
なお、本発明ではAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の測定視野に基づき最長径1μm以上で10μm以下のものが0.2mm当たり1個以下であることが好ましい、と規定した。この規定は1mm当たり5個以下に相当するが、金属間化合物が狭い範囲にまとまって存在することもあるので、本発明では0.2mm当たり1個以下であることが好ましい、と規定する。
Al-Cu-Mg-Zn-based intermetallic compound is Al-Cu-Mg-Zn-based intermetallic compound longest diameter exceeds 1μm present in one or less aluminum alloy substrate surface per 0.2 mm 2 of the longest diameter is more than 1μm By setting the number to 1 or less per 0.2 mm 2, it is possible to obtain a smooth plating surface with few pits after the base plating process.
When the longest diameter of the Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound generated on the surface of the aluminum alloy substrate exceeds 1 μm, the size of the pits generated on the surface of the underlying plating by this compound has some influence on the magnetic disk. However, if the number of this compound is 1 or less per 0.2 mm 2 , the influence can be ignored.
The Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound formed on the surface of the aluminum alloy substrate is about several μm even at its longest diameter. If the length of the Al—Cu—Mg—Zn based intermetallic compound existing on the surface of the aluminum alloy substrate is 1 μm or less, the size of pits generated by this compound is not regarded as a problem. However, the presence of compounds exceeding 10 μm is also observed. If it exceeds 10 μm, the size of pits due to the Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound becomes large, which is not preferable. For this reason, the longest diameter of the Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound existing on the aluminum alloy substrate surface is preferably 1 μm or more and 10 μm or less per 0.2 mm 2 .
In the present invention, based on the measurement field of view of the Al—Cu—Mg—Zn-based intermetallic compound, it is defined that the number of the longest diameter is 1 μm or more and 10 μm or less is preferably 1 or less per 0.2 mm 2 . This regulation corresponds to 5 or less per 1 mm 2, but since intermetallic compounds may exist in a narrow range, it is defined that 1 or less per 0.2 mm 2 is preferable in the present invention. .

次に磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法について、詳細に説明する。   Next, the manufacturing method of the aluminum alloy substrate for magnetic disks will be described in detail.

前記ステップ1で本発明の合金組成範囲に調整されたアルミニウム合金地金を、半連続鋳造(DC鋳造)法などの常法に従って鋳造(ステップ2)し、得られた鋳塊に均質化処理(ステップ3)、熱間圧延(ステップ4)、冷間圧延(ステップ5)を施しアルミニウム合金圧延板を製造する。ステップ3の均質化処理は行わなくても良いが、実施する場合には、例えば500〜570℃で4時間以上等の条件で行うことが好ましい。いずれの工程も金属間化合物に関係するが、本発明者らは特にステップ4の熱間圧延時における圧延終了温度と温度分布に注目した。   The aluminum alloy ingot adjusted to the alloy composition range of the present invention in Step 1 is cast according to a conventional method such as a semi-continuous casting (DC casting) method (Step 2), and the resulting ingot is homogenized ( Step 3), hot rolling (step 4), and cold rolling (step 5) are performed to produce a rolled aluminum alloy sheet. The homogenization process in step 3 may not be performed, but when it is performed, it is preferably performed at 500 to 570 ° C. for 4 hours or more. Although any process is related to the intermetallic compound, the present inventors particularly paid attention to the rolling end temperature and the temperature distribution during the hot rolling in Step 4.

熱間圧延(ステップ4)終了温度:280〜360℃
熱間圧延終了温度が280℃未満では、熱間圧延中にAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の析出が起こり、ステップ10における下地メッキ処理後の表面にピットが発生し下地メッキ表面の平滑性が低下する。
一方、熱間圧延終了温度が360℃を越えると、熱間圧延終了時に結晶粒が粗大化し易く、冷間圧延後の加圧焼鈍(ステップ7)を施した際に微細な再結晶粒が得にくくなる。再結晶粒が粗大であると次工程(ステップ9)におけるジンケート皮膜が不均一となり、下地メッキ層の密着性やメッキ表面の平滑性が低下する。
従って、熱間圧延終了温度を280〜360℃の範囲におさめることで、熱間圧延中にAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の析出が起こらず、ステップ10における下地メッキ処理後の表面にピットが発生せず、下地メッキ表面の平滑性が高い磁気ディスク用基板を製造することができる。
Hot rolling (step 4) finish temperature: 280-360 ° C
When the hot rolling end temperature is less than 280 ° C., precipitation of Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound occurs during hot rolling, and pits are generated on the surface after the base plating process in step 10, and the surface of the base plating surface Smoothness decreases.
On the other hand, when the hot rolling finish temperature exceeds 360 ° C., the crystal grains are likely to be coarsened at the end of hot rolling, and fine recrystallized grains are obtained when pressure annealing (step 7) after cold rolling is performed. It becomes difficult. If the recrystallized grains are coarse, the zincate film in the next step (step 9) becomes non-uniform, and the adhesion of the underlying plating layer and the smoothness of the plating surface decrease.
Therefore, by keeping the hot rolling end temperature in the range of 280 to 360 ° C., precipitation of the Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound does not occur during hot rolling, and the surface after the base plating treatment in step 10 Thus, a magnetic disk substrate with no pits and high smoothness of the underlying plating surface can be produced.

熱間圧延(ステップ4)終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差:30℃以内
ステップ4における熱間圧延終了時点での板幅中央部と端部の表面温度の差を30℃以下とする。温度差が30℃を越えると、表面温度が高い領域から低い領域への熱の移動が大きくなり、表面温度が低い領域の冷却速度が遅くなるため、冷却中にAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の析出が起こり、次工程以降の下地メッキ処理等でピットが発生し下地メッキ層表面の平滑性が低下する。このため、熱間圧延(ステップ4)終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差を30℃以内とする。
Difference in surface temperature between center and end of sheet width at end of hot rolling (step 4): within 30 ° C. Difference in surface temperature between center of sheet width and end at end of hot rolling in step 4 is 30 It shall be below ℃. When the temperature difference exceeds 30 ° C., the heat transfer from the region having a high surface temperature to the region having a low surface temperature becomes large, and the cooling rate in the region having a low surface temperature becomes slow. Therefore, the Al—Cu—Mg—Zn system is used during cooling. Precipitation of intermetallic compounds occurs, and pits are generated in the subsequent plating process or the like in the subsequent process, resulting in a decrease in the smoothness of the surface of the underlying plating layer. For this reason, the difference in the surface temperature between the center portion and the end portion of the plate width at the end of hot rolling (step 4) is set to be within 30 ° C.

熱間圧延終了後は、冷間圧延(ステップ5)によって所要の製品板厚に仕上げる。冷間圧延の条件は特に限定されるものではなく、必要な製品板強度や板厚に応じて定めれば良く、通常は圧延率を20〜80%とする。
冷間圧延の前あるいは冷間圧延の途中で、冷間圧延加工性を確保するために焼鈍処理を施してもよい。焼鈍処理を実施する場合には、例えばバッチ式の加熱ならば、200〜550℃で0〜10時間の条件で行うことが好ましい。
After the hot rolling is finished, the product is finished to the required product thickness by cold rolling (step 5). The conditions for cold rolling are not particularly limited, and may be determined according to the required product plate strength and plate thickness. Usually, the rolling rate is 20 to 80%.
An annealing treatment may be performed before cold rolling or during cold rolling to ensure cold rolling processability. In the case of carrying out the annealing treatment, for example, batch heating is preferably performed at 200 to 550 ° C. for 0 to 10 hours.

その後、このようにして製造したアルミニウム合金圧延板を円環状に打ち抜き(ステップ6)、大気中にて200〜450℃で30分以上の加圧焼鈍(ステップ7)を行い、磁気ディスク用アルミニウム合金基板とする。   Thereafter, the aluminum alloy rolled sheet thus produced is punched into an annular shape (step 6), and is subjected to pressure annealing at 200 to 450 ° C. for 30 minutes or more in the atmosphere (step 7) to obtain an aluminum alloy for a magnetic disk. A substrate is used.

以下に本発明を実施例により詳細に説明する。
ステップ1:表1に示す成分組成のアルミニウム合金溶湯を溶製した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.
Step 1: A molten aluminum alloy having the composition shown in Table 1 was melted.

Figure 0005901168
Figure 0005901168

ステップ2:アルミニウム合金溶湯をDC鋳造法により厚さ500mmの鋳塊とした。
ステップ3:合金No.6以外は560℃で6時間の均質化処理を施した。
ステップ4:表2に示す条件で熱間圧延を行ない、板厚4.0mmの熱延板とした。
Step 2: The aluminum alloy melt was made into an ingot having a thickness of 500 mm by a DC casting method.
Step 3: Alloy No. Except 6 was homogenized at 560 ° C. for 6 hours.
Step 4: Hot rolling was performed under the conditions shown in Table 2 to obtain a hot rolled sheet having a sheet thickness of 4.0 mm.

Figure 0005901168
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ステップ5:合金No.7以外の熱延板は中間焼鈍を行なわずに冷間圧延(圧延率57.5%)により最終板厚の1.7mmまで圧延し、圧延板とした。
合金No.7は、まず第1の冷間圧延(圧延率25%)を施した後、バッチ式焼鈍炉を用いて、300℃で2時間の条件で中間焼鈍を行なった。次いで、第2の冷間圧延(圧延率43.3%)により最終板厚の1.7mmまで圧延し圧延板とした。
Step 5: Alloy No. Hot rolled sheets other than 7 were rolled to a final sheet thickness of 1.7 mm by cold rolling (rolling rate: 57.5%) without performing intermediate annealing to obtain rolled sheets.
Alloy No. In No. 7, first cold rolling (rolling rate 25%) was performed, and then intermediate annealing was performed at 300 ° C. for 2 hours using a batch annealing furnace. Subsequently, it rolled to the final board thickness of 1.7 mm by the 2nd cold rolling (rolling rate 43.3%), and was set as the rolled board.

ステップ6:前記圧延板から外径96mm、内径24mmの円環状板を打抜き、ディスクブランクを作成した。
ステップ7、8:ディスクブランクを340℃で4時間焼鈍した後、端面加工、グラインディング加工(表面研削)を行った。その後、AD−68F(上村工業製)により60℃で5分の脱脂を行った後、AD−107F(上村工業製)により65℃で1分のエッチングを行い、さらに30%HNO水溶液(室温)で20秒間デスマットした。
ステップ9:表面を整えたディスクブランク表面に、AD−301F−3X(上村工業製)を用いてダブルジンケート処理を施した。
ステップ10:ジンケート処理した表面に無電解Ni−Pメッキ処理液(ニムデンHDX(上村工業製))を用いてNi−Pを17μm厚さに無電解メッキした後羽布により仕上げ研磨(研磨量4μm))を行った。
Step 6: An annular plate having an outer diameter of 96 mm and an inner diameter of 24 mm was punched out from the rolled plate to prepare a disc blank.
Steps 7 and 8: After the disk blank was annealed at 340 ° C. for 4 hours, end face processing and grinding processing (surface grinding) were performed. Then, after degreasing for 5 minutes at 60 ° C. with AD-68F (manufactured by Uemura Kogyo), etching is performed for 1 minute at 65 ° C. with AD-107F (manufactured by Uemura Kogyo), and a 30% HNO 3 aqueous solution (room temperature ) For 20 seconds.
Step 9: The surface of the disk blank whose surface was prepared was subjected to double zincate treatment using AD-301F-3X (manufactured by Uemura Kogyo).
Step 10: Electroless Ni-P plating solution (Nimden HDX (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.)) is electrolessly plated on the surface treated with zincate to a thickness of 17 μm, and then finish polishing with a blanket (polishing amount: 4 μm) )).

前記表面研削(ステップ8)後及び下地メッキ処理(ステップ10)後の磁気ディスク用アルミニウム合金基板について以下の評価を行った。   The following evaluation was performed on the aluminum alloy substrate for magnetic disk after the surface grinding (step 8) and after the base plating process (step 10).

〔Al−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の個数〕
電子線マイクロアナライザ(EPMA)により、表面研削後の磁気ディスク用アルミニウム合金基板表面の組成(COMP)像を倍率1000倍にて撮影(視野:0.2mm)し、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の個数を数え、0.2mm当たりの個数(個数密度:個/0.2mm)を求めた。
Al−Cu−Mg−Zn系金属間化合物の特定は、Al、Cu、Mg、Znの濃度マッピングの結果を元に行った。
図3〜6では、明度が高いほど対象元素の濃度が高いことを示しており、図3のAl濃度マッピングの黒い部分(写真の丸で囲った部分)と、図4〜6のCu、Mg、Zn濃度マッピングの白い部分(写真の丸で囲った部分)が重なる箇所がAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物(図2の写真の丸で囲った部分)に該当する。
[Number of Al-Cu-Mg-Zn-based intermetallic compounds]
A composition (COMP) image of the surface of an aluminum alloy substrate for a magnetic disk after surface grinding was taken at a magnification of 1000 times (field of view: 0.2 mm 2 ) with an electron beam microanalyzer (EPMA), and the longest diameter was Al exceeding 1 μm. The number of —Cu—Mg—Zn-based intermetallic compounds was counted to determine the number per 0.2 mm 2 (number density: pieces / 0.2 mm 2 ).
The Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compound was specified based on the results of concentration mapping of Al, Cu, Mg, and Zn.
3 to 6 indicate that the higher the lightness, the higher the concentration of the target element. The black portion of the Al concentration mapping in FIG. 3 (the circled portion in the photograph) and the Cu and Mg in FIGS. The portion where the white part of Zn concentration mapping (the part circled in the photograph) overlaps corresponds to the Al—Cu—Mg—Zn-based intermetallic compound (the part circled in the photograph in FIG. 2).

〔Ni−Pメッキ表面平滑性〕
Ni−Pメッキ処理後のアルミニウム合金基板の表面を光学顕微鏡にて観察(視野:0.2mm)し、ピットの個数を数え、単位面積当たりの個数(個数密度:個/0.2mm)を求めた。ピットが0個/0.2mmの場合を優良(◎印)とし、1個/0.2mmの場合を良好(○印)、2個/0.2mm以上の場合を不良(×印)とした。以上の評価結果を表3に示す。
[Ni-P plating surface smoothness]
The surface of the aluminum alloy substrate after the Ni-P plating treatment was observed with an optical microscope (field of view: 0.2 mm 2 ), the number of pits was counted, and the number per unit area (number density: pieces / 0.2 mm 2 ) Asked. The case where the number of pits is 0 / 0.2 mm 2 is excellent (◎ mark), the case where 1 pit / 0.2 mm 2 is good (○ mark), and the case where 2 pits / 0.2 mm 2 or more is bad (× mark) ). The above evaluation results are shown in Table 3.

Figure 0005901168
Figure 0005901168

表3に示すように、実施例のNo.1〜No.7では、下地メッキ後にピットの発生が少ない、メッキ表面平滑性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板が得られた。   As shown in Table 3, the example No. 1-No. In No. 7, an aluminum alloy substrate for a magnetic disk with few pits after the base plating and excellent plating surface smoothness was obtained.

比較例のNo.8では、Mg量が多過ぎたため、下地メッキ表面にピットが6個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。その原因はMg量が多かったために粗大なAl−Mg系金属間化合物が生成し、この金属間化合物の脱落により下地メッキ表面の平滑性が損なわれたものと推察される。   Comparative Example No. In No. 8, since the amount of Mg was too large, six pits were generated on the surface of the base plating, and the smoothness of the plating surface was inferior. This is presumably because a large amount of Mg produced a coarse Al—Mg-based intermetallic compound, and the smoothness of the surface of the base plating was impaired by the removal of the intermetallic compound.

比較例のNo.9では、Cu量が多過ぎたため、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が6個存在した。その結果、下地メッキ表面にピットが5個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 9, since the amount of Cu was too much, there were six Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compounds having a longest diameter exceeding 1 μm. As a result, five pits were generated on the base plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

比較例のNo.10では、Zn量が多過ぎたため、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が38個存在した。その結果、下地メッキ表面にピットが30個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 10, since the amount of Zn was too large, there were 38 Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compounds having a longest diameter exceeding 1 μm. As a result, 30 pits were generated on the base plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

比較例のNo.11では、Cr量が多過ぎたため、下地メッキ表面にピットが21個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。その原因はCr量が多かったために粗大なAl−Cr系金属間化合物が生成し、この金属間化合物の脱落により下地メッキ表面の平滑性が損なわれたものと推察される。   Comparative Example No. In No. 11, since the amount of Cr was too much, 21 pits were generated on the surface of the base plating, and the smoothness of the plating surface was inferior. The cause is presumed that since the amount of Cr was large, a coarse Al—Cr-based intermetallic compound was generated, and the smoothness of the surface of the base plating was impaired by the removal of this intermetallic compound.

比較例のNo.12では、Si量が多過ぎたため、下地メッキ表面にピットが15個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。その原因はSi量が多かったために粗大なMg−Si系金属間化合物が生成し、この金属間化合物の脱落により下地メッキ表面の平滑性が損なわれたものと推察される。   Comparative Example No. In No. 12, since the amount of Si was too large, 15 pits were generated on the surface of the base plating, and the smoothness of the plating surface was inferior. The cause is presumed that since the amount of Si was large, a coarse Mg-Si intermetallic compound was generated, and the smoothness of the surface of the base plating was impaired by the removal of the intermetallic compound.

比較例のNo.13では、Fe量が多過ぎたため、下地メッキ表面にピットが33個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。その原因はFe量が多かったために粗大なAl−Fe系金属間化合物が生成し、この金属間化合物の脱落により下地メッキ表面の平滑性が損なわれたものと推察される。   Comparative Example No. In No. 13, since the amount of Fe was too large, 33 pits were generated on the surface of the base plating, and the smoothness of the plating surface was poor. This is presumably because a large amount of Fe produced a coarse Al—Fe-based intermetallic compound, and the smoothness of the underlying plating surface was impaired due to the removal of the intermetallic compound.

比較例のNo.14では、Cu量が少な過ぎたため、ジンケート皮膜が不均一となった。その結果、メッキ表面にピットが11個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 14, since the amount of Cu was too small, the zincate film was not uniform. As a result, 11 pits were generated on the plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

比較例のNo.15では、Zn量が少な過ぎたため、ジンケート皮膜が不均一となった。その結果、メッキ表面にピットが8個発生し、下地メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 15, since the amount of Zn was too small, the zincate film became non-uniform. As a result, eight pits were generated on the plating surface, and the smoothness of the underlying plating surface was inferior.

比較例のNo.16では、Cr量が少な過ぎたため、冷間圧延後加圧焼鈍した際に微細な再結晶粒が得られず、ジンケート皮膜が不均一となった。その結果、下地メッキ表面にピットが16個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 16, since the amount of Cr was too small, fine recrystallized grains were not obtained when pressure annealing was performed after cold rolling, and the zincate film became non-uniform. As a result, 16 pits were generated on the base plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

比較例のNo.17では、熱間圧延終了温度が低過ぎたため、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が2個存在した。その結果、下地メッキ表面にピットが2個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 17, since the hot rolling end temperature was too low, there were two Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compounds having a longest diameter exceeding 1 μm. As a result, two pits were generated on the base plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

比較例のNo.18では、熱間圧延終了温度が高過ぎたため、熱間圧延終了時に結晶粒が粗大化し、冷間圧延後加圧焼鈍した際に微細な再結晶粒が得られなかった。その結果、ジンケート皮膜が不均一となり、下地メッキ表面にピットが15個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 18, since the hot rolling end temperature was too high, the crystal grains became coarse at the end of hot rolling, and fine recrystallized grains were not obtained when pressure annealing was performed after cold rolling. As a result, the zincate film became non-uniform, 15 pits were generated on the base plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

比較例のNo.19では、熱間圧延終了温度における板幅方向の中央部と端部の温度差が開き過ぎていたため、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が3個存在した。その結果、メッキ表面にピットが3個発生し、メッキ表面の平滑性が劣ってしまった。   Comparative Example No. In No. 19, since the temperature difference between the center portion and the end portion in the sheet width direction at the hot rolling end temperature was too wide, three Al—Cu—Mg—Zn intermetallic compounds having a longest diameter exceeding 1 μm were present. As a result, three pits were generated on the plating surface, and the smoothness of the plating surface was inferior.

上記実施例から、本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法によれば、下地メッキ後にピットの発生が少なく、メッキ表面の平滑性に優れ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供することができる。
一方比較例では何れも本発明の限定条件を外れる要素を含んでいたため、下地メッキ後にピットの発生が見られ、メッキ表面の平滑性が損なわれ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板を得ることができなかった。
特に、添加Cu量、Zn量が多いとAl−Mg−Zn金属間化合物が原因となり、添加Mg量、Cr量、Si量、Fe量によっては好ましくない金属間化合物(と推測される)の生成が見られ、これらがピットの生成原因となり、好ましくない結果をもたらしたものと思われる。
また、熱間圧延工程、特に終了時点での温度コントロールによっては好ましくないAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物を生成することになる。
From the above examples, according to the aluminum alloy substrate for magnetic disk of the present invention and the manufacturing method thereof, the generation of pits is less after the base plating, the plated surface is excellent in smoothness, and the capacity and density of the magnetic disk are increased. A possible aluminum alloy substrate for a magnetic disk can be provided.
On the other hand, since all the comparative examples included elements that deviated from the limiting conditions of the present invention, pits were observed after the base plating, the smoothness of the plated surface was impaired, and the capacity and density of the magnetic disk were increased. A possible aluminum alloy substrate for a magnetic disk could not be obtained.
In particular, when the amount of added Cu or Zn is large, the Al-Mg-Zn intermetallic compound is the cause, and depending on the amount of added Mg, Cr, Si, or Fe, the formation of an unfavorable intermetallic compound (presumed to be) It seems that these caused the generation of pits and produced undesirable results.
Moreover, an unfavorable Al-Cu-Mg-Zn type intermetallic compound will be produced | generated by a hot rolling process, especially the temperature control at the time of completion | finish.

上記の結果から、本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法により、メッキ表面の平滑性に優れ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供することができる。   From the above results, the aluminum alloy substrate for magnetic disk of the present invention and the method for producing the same provide an aluminum alloy substrate for magnetic disk that has excellent smoothness of the plating surface and can increase the capacity and density of the magnetic disk. be able to.

Claims (4)

Mg:2.0〜6.0mass%(以下、単に%と記す。)、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金からなり、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm 当たり1個以下である磁気ディスク用アルミニウム合金基板Mg: 2.0-6.0 mass% (hereinafter simply referred to as%), Cu: 0.005-0.15%, Zn: 0.05-0.6%, Cr: 0.01-0. Al—Cu containing 3%, Si: 0.001 to 0.03%, Fe: 0.001 to 0.03%, the balance being Al and inevitable impurities , and the longest diameter exceeding 1 μm An aluminum alloy substrate for a magnetic disk, wherein the number of Mg—Zn intermetallic compounds is 1 or less per 0.2 mm 2 . 請求項1に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、Mg:2.0〜6.0%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金鋳塊に、熱間圧延終了温度が280〜360℃、かつ熱間圧延終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差が30℃以内となるように熱間圧延を行うことを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法 It is a manufacturing method of the aluminum alloy substrate for magnetic discs of Claim 1, Comprising: Mg: 2.0-6.0%, Cu: 0.005-0.15%, Zn: 0.05-0.6 %, Cr: 0.01 to 0.3%, Si: 0.001 to 0.03%, Fe: 0.001 to 0.03%, and an aluminum alloy ingot consisting of the balance Al and inevitable impurities to a feature line Ukoto the hot rolled to hot-rolling end temperature of 280-360 ° C., and the difference between the surface temperature of the plate width central portion and the end portion during hot rolling termination is within 30 ° C. A method of manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk . Mg:2.0〜6.0%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金基板と、基板表面のジンケート処理部と、ジンケート処理部表面の無電解Ni−Pメッキ部を備え、前記アルミニウム合金基板において、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm 当たり1個以下であり、無電解Ni−Pメッキを施したアルミニウム合金基板表面において、発生ピット数が0.2mm 当たり1個以下であることを特徴とする下地処理磁気ディスク用アルミニウム合金基板Mg: 2.0-6.0%, Cu: 0.005-0.15%, Zn: 0.05-0.6%, Cr: 0.01-0.3%, Si: 0.001- An aluminum alloy substrate containing 0.03%, Fe: 0.001 to 0.03%, the balance being Al and inevitable impurities , a zincate treatment part on the substrate surface, and an electroless Ni-P on the surface of the zincate treatment part Aluminum having a plated portion, wherein the aluminum alloy substrate has no more than one Al-Cu-Mg-Zn-based intermetallic compound with a longest diameter exceeding 1 μm per 0.2 mm 2 and electroless Ni-P plated An aluminum alloy substrate for a ground-treated magnetic disk, wherein the number of generated pits is 1 or less per 0.2 mm 2 on the surface of the alloy substrate . 請求項3に記載の下地処理磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、Mg:2.0〜6.0mass%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなるアルミニウム合金基板表面にジンケート処理を施し、ジンケート処理表面に無電解Ni−Pメッキを施すことを特徴とする下地処理磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。It is a manufacturing method of the aluminum alloy board | substrate for base-treatment magnetic discs of Claim 3, Comprising: Mg: 2.0-6.0mass%, Cu: 0.005-0.15%, Zn: 0.05-0 .6%, Cr: 0.01 to 0.3%, Si: 0.001 to 0.03%, Fe: 0.001 to 0.03%, an aluminum alloy comprising the balance Al and inevitable impurities A method for producing an aluminum alloy substrate for a ground-treated magnetic disk, characterized in that a zincate treatment is applied to a substrate surface, and electroless Ni-P plating is applied to the zincate treatment surface.
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