JP2005126267A - Method for stably controlling generated ozone - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、原料ガスである酸素ガスを放電式のオゾン発生システムにより処理して得られた処理ガス中における発生オゾンの安定制御方法に関する。 The present invention relates to a method for stably controlling generated ozone in a processing gas obtained by processing oxygen gas, which is a raw material gas, using a discharge ozone generation system.
オゾンはその強力な酸化力、清浄性等が評価されて半導体の製造に多く利用されており、例えば、半導体ウエハや液晶用ガラス基板といった各種基板上への酸化膜の形成、基板上のレジストのアッシング、基板洗浄等に用いられている。 Ozone is widely used in the manufacture of semiconductors because of its strong oxidizing power and cleanliness. For example, the formation of oxide films on various substrates such as semiconductor wafers and glass substrates for liquid crystals, Used for ashing, substrate cleaning, etc.
オゾンを発生させるオゾン発生装置としては、放電を利用したタイプのものが挙げられる。放電式のオゾン発生装置は、要求されるオゾン量に見合う複数の放電板または放電管を収容した所要容器からなるオゾン発生部を主体とした構成を成している。このオゾン発生部に原料ガス供給装置からオゾンの原料となる酸素ガスが供給されるとともに、放電板または放電管に電源供給装置から高周波、高電圧の電源が供給され、放電に伴ってオゾンガスが生成し、所要の需要装置へと送られる仕組みである。 As an ozone generator for generating ozone, a type utilizing an electric discharge can be mentioned. The discharge-type ozone generator has a configuration mainly composed of an ozone generator composed of a required container containing a plurality of discharge plates or discharge tubes corresponding to the required amount of ozone. Oxygen gas, which is the raw material of ozone, is supplied to the ozone generator from the raw material gas supply device, and high-frequency and high-voltage power is supplied from the power supply device to the discharge plate or discharge tube, and ozone gas is generated along with the discharge. However, it is a mechanism to be sent to the required demand device.
需要装置としては、ＣＶＤ（chemical vapor deposition）装置、アッシャー装置、またはアニール装置等が挙げられる。ここで、ＣＶＤ装置とは、薄膜材料を構成する元素から成るガスを半導体ウエハ上に供給し、気相または半導体ウエハ表面での化学反応により、所望の薄膜を形成させる装置である。また、アッシャー装置とは、半導体ウエハ上のレジストを気相中で除去する装置であり、アニール装置とは、ガラス基板の融解や変形が生じない低温プロセスでアモルファス（非結晶）シリコン膜のみを瞬時に溶解、結晶化してポリ（多結晶）シリコンＴＦＴを形成させる装置である。 Examples of the demand apparatus include a CVD (chemical vapor deposition) apparatus, an asher apparatus, an annealing apparatus, and the like. Here, the CVD apparatus is an apparatus that supplies a gas composed of an element constituting a thin film material onto a semiconductor wafer and forms a desired thin film by a chemical reaction on the vapor phase or the surface of the semiconductor wafer. An asher device is a device that removes resist on a semiconductor wafer in the gas phase. An annealing device is an annealing device that instantaneously removes only amorphous (non-crystalline) silicon film in a low-temperature process that does not cause melting or deformation of the glass substrate. This is an apparatus for forming a poly (polycrystalline) silicon TFT by dissolving and crystallizing in the above.
従来、これらの需要装置は図３に示すように、一括して処理できるバッチ式が多かったが、近年、プロセスの多様化が進み、それに対応するために枚葉式の装置が増加している。しかしながら、枚葉式の装置の場合、処理できるウエハは１枚に限られることから、スループットが悪くなるという欠点があるため、その欠点を補うべく処理を行うチャンバー数を複数にして対応しているのが現状である。 Conventionally, as shown in FIG. 3, many of these demand apparatuses are batch type capable of batch processing. However, in recent years, the diversification of processes has progressed, and the number of single-wafer type apparatuses has increased. . However, in the case of a single wafer type apparatus, since the number of wafers that can be processed is limited to one, there is a disadvantage that the throughput is deteriorated. is the current situation.
このことから、各チャンバーはそれぞれ独立したラインとなるため、チャンバー毎にオゾン発生装置は１台あるいは１ユニット必要となる。さらに、それに加えて、ガスの制御系もそれぞれ単独で必要となるため、コストが非常に高くなるという問題が生ずる。また、これらの枚葉式の装置の他、多槽洗浄装置等についても同様の問題が生ずる。 From this, each chamber becomes an independent line, so one ozone generator or one unit is required for each chamber. In addition to this, since a gas control system is also required independently, there is a problem that the cost becomes very high. In addition to these single-wafer devices, the same problem arises with multi-tank cleaning devices and the like.
コストを下げる手段としては、同一のオゾン発生機を使用して、供給するチャンバーまたは処理槽の数に応じてガス流量を変更し、必要なラインに分流するという手段が挙げられる。しかし、この場合にはガス流量の変更に伴って発生オゾン濃度が変動するという大きな問題が生ずる。これは、図１に示すように、オゾン発生システムの特徴であるガス流量依存性によるものであり、原料ガス流量が増加すると発生オゾン濃度は減少する。発生オゾン濃度はプロセスに大きな影響を与えるため、特に、オゾン濃度が設定値よりも低い状態は避けなければならない。 As a means for reducing the cost, there is a means for using the same ozone generator, changing the gas flow rate according to the number of chambers or treatment tanks to be supplied, and diverting the gas to a necessary line. However, in this case, there arises a big problem that the generated ozone concentration fluctuates as the gas flow rate is changed. As shown in FIG. 1, this is due to the gas flow rate dependency that is characteristic of the ozone generation system, and the generated ozone concentration decreases as the raw material gas flow rate increases. Since the generated ozone concentration has a great influence on the process, a state where the ozone concentration is lower than the set value must be avoided.
ここで、発生オゾン濃度の安定制御に取り組んだものとしては、特許文献１に開示されている発明が挙げられる。特許文献１では、原料の酸素ガスに空気、若しくは窒素ガスを間欠的ないしは継続的に混合することにより、酸素分子の解離効率を高めて発生オゾン濃度を増加させ、発生オゾン濃度の安定化が図られるというものである。
しかしながら、特許文献１に開示されている発明は、ガス流量が一定である場合における発生オゾン濃度の安定制御を目的としたものであるため、ガス流量に変動が生じた場合には安定した発生オゾン濃度を得ることはできない。 However, since the invention disclosed in Patent Document 1 is intended for stable control of the generated ozone concentration when the gas flow rate is constant, the stable generated ozone when the gas flow rate fluctuates. The concentration cannot be obtained.
また、オゾン発生装置における発生オゾンの安定制御方法として、フィードバック制御を利用した制御方法が見られる。これによれば、オゾン発生装置に対してフィードバック制御を行えば、数十秒後には設定した発生オゾン濃度を得ることができる。しかしながら、フィードバック制御は変化した値に対して制御を行うものであるため、発生オゾン濃度の変動は避けられない。特に、枚葉式の装置の場合には、半導体ウエハを処理する時間が数分程度であるためチャンバー数の切り替えが数十秒毎に発生する。その度にガス流量が変動するため、フィードバック制御だけでは追従できず、安定した発生オゾン濃度を供給することは実質不可能である。 In addition, as a method for stably controlling generated ozone in an ozone generator, a control method using feedback control is seen. According to this, if feedback control is performed on the ozone generator, the set generated ozone concentration can be obtained after several tens of seconds. However, since the feedback control is performed for the changed value, the fluctuation of the generated ozone concentration is inevitable. In particular, in the case of a single wafer type apparatus, since the time for processing a semiconductor wafer is about several minutes, the number of chambers is switched every several tens of seconds. Since the gas flow rate changes each time, it cannot be followed only by feedback control, and it is virtually impossible to supply a stable generated ozone concentration.
従って、近年のプロセスの多様化に伴い、供給するチャンバーまたは処理槽の数に応じてラインを分岐させたオゾン発生システムにおいて、ガス流量に変動が生じた場合であっても安定した発生オゾン濃度が得られるような制御方法の開発が当業者に課せられた火急の課題となっている。 Therefore, with the diversification of processes in recent years, in the ozone generation system in which the line is branched according to the number of chambers or treatment tanks to be supplied, even if the gas flow rate fluctuates, the generated ozone concentration is stable. The development of control methods that can be obtained is an urgent issue imposed on those skilled in the art.
本発明者らは、以上のような課題を解決するために、特定のガス流量下におけるオゾン発生装置の放電出力と発生オゾン濃度との関係に着目して鋭意研究を重ねた。その結果、特定のガス流量下におけるオゾン発生装置の放電出力と発生オゾン濃度との間には密接な関係があることを見出し、この発見を利用した発生オゾン濃度の制御方法を開発して本発明を完成するに至った。 In order to solve the above-described problems, the present inventors have conducted intensive research focusing on the relationship between the discharge output of the ozone generator and the generated ozone concentration under a specific gas flow rate. As a result, it has been found that there is a close relationship between the discharge output of the ozone generator and the generated ozone concentration under a specific gas flow rate, and a method for controlling the generated ozone concentration using this discovery has been developed. It came to complete.
本発明は、より具体的には以下のようなものを提供する。 More specifically, the present invention provides the following.
（１） 酸素ガスを含む原料ガスを放電処理してオゾンを発生させるにあたり、原料ガスの流量が変動したときには、前記原料ガスの各流量毎のオゾン発生装置における放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報に基づいて、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応した放電出力若しくは当該放電出力よりも高い放電出力で前記放電処理を行うものであることを特徴とする発生オゾンの安定制御方法。 (1) In generating ozone by performing discharge treatment on a source gas containing oxygen gas, when the flow rate of the source gas fluctuates, the correlation between the discharge output in the ozone generator for each flow rate of the source gas and the generated ozone concentration The generated ozone is characterized in that the discharge treatment is performed at a discharge output corresponding to the generated ozone concentration or a discharge output higher than the discharge output, which is required in the raw material gas flow rate after the fluctuation based on the information on Stable control method.
（２） 前記情報は、原料ガスの流量が定常状態にあるときに定期的又は常時更新するものであることを特徴とする（１）記載の発生オゾンの安定制御方法。 (2) The method for stably controlling generated ozone according to (1), wherein the information is updated regularly or constantly when the flow rate of the source gas is in a steady state.
（３） 酸素ガスを含む原料ガスを放電処理し、当該放電処理によって得られた処理ガスを吐出するオゾン発生装置と、前記原料ガスを前記オゾン発生装置へ供給する原料ガス供給装置と、を備えた放電式のオゾン発生システムであって、前記原料ガスの各流量毎に、前記オゾン発生装置における放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報が予め記憶されている記憶手段と、前記原料ガス供給装置から前記オゾン発生装置へ供給される原料ガスの流量を検出する原料ガス流量検出手段と、前記オゾン発生装置の放電出力の制御を行う制御手段と、を備え、前記制御手段は、通常は前記オゾン発生装置の前記放電出力のフィードバック制御を行うものであるとともに、前記原料ガス流量検出手段によって検出される原料ガス流量が変動したときには、前記フィードバック制御を一時的に停止させ、前記記憶手段に記憶されている情報に基づいて、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応した放電出力を算出し、当該算出された放電出力若しくは当該放電出力よりも高い放電出力に前記オゾン発生装置の放電出力を設定するものであることを特徴とするオゾン発生システム。 (3) An ozone generator that discharges a source gas containing oxygen gas and discharges a processing gas obtained by the discharge process, and a source gas supply device that supplies the source gas to the ozone generator. A discharge-type ozone generation system that stores in advance information relating to the correlation between the discharge output in the ozone generator and the generated ozone concentration for each flow rate of the source gas, and the source gas supply A raw material gas flow rate detecting means for detecting the flow rate of the raw material gas supplied from the apparatus to the ozone generator, and a control means for controlling the discharge output of the ozone generator, the control means is usually the above-mentioned While performing feedback control of the discharge output of the ozone generator, the source gas flow rate detected by the source gas flow rate detecting means varies. Sometimes, the feedback control is temporarily stopped, and based on the information stored in the storage means, a discharge output corresponding to the generated ozone concentration required in the changed raw material gas flow rate is calculated, and the calculation is performed. An ozone generation system characterized in that the discharge output of the ozone generator is set to a discharge output that has been made or higher than the discharge output.
（４） 前記記憶手段は、前記フィードバック制御によって原料ガス流量が定常状態にあるときに、当該原料ガスの流量下における前記オゾン発生装置の放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報が定期的又は常時、記憶され、更新されるものであることを特徴とする（３）記載のオゾン発生システム。 (4) When the raw material gas flow rate is in a steady state by the feedback control, the storage unit periodically receives information on the correlation between the discharge output of the ozone generator and the generated ozone concentration under the raw material gas flow rate. The ozone generation system according to (3), which is constantly stored and updated.
（５） 酸素ガスを含む原料ガスを放電処理し、当該放電処理によって得られた処理ガスを吐出するオゾン発生装置と、前記原料ガスを前記オゾン発生装置へ供給する原料ガス供給装置と、前記原料ガスの各流量毎に、前記オゾン発生装置における放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報が予め記憶されている記憶手段と、前記原料ガス供給装置から前記オゾン発生装置へ供給される原料ガスの流量を検出する原料ガス流量検出手段と、前記オゾン発生装置の放電出力の制御を行う制御手段と、を備えた放電式のオゾン発生システムを制御するプログラムであって、前記原料ガス流量検出手段からの検出に応じて、原料ガス流量が定常状態にあると検出されているときには、前記放電出力のフィードバック制御を行うように前記オゾン発生装置に対して指令するとともに、原料ガス流量の変動が検出されたときには、前記フィードバック制御を一時的に停止させ、前記記憶手段に記憶されている情報に基づいて、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応した放電出力を算出し、当該算出された放電出力若しくは当該放電出力よりも高い放電出力を放電出力とするように前記制御手段に指令するものであることを特徴とする発生オゾンの安定制御方法をコンピュータ又は演算回路に実行させるためのプログラム。 (5) An ozone generator that discharges a source gas containing oxygen gas and discharges a processing gas obtained by the discharge process, a source gas supply device that supplies the source gas to the ozone generator, and the source For each flow rate of gas, storage means in which information relating to the correlation between the discharge output in the ozone generator and the generated ozone concentration is stored in advance, and the source gas supplied from the source gas supply device to the ozone generator A program for controlling a discharge-type ozone generation system comprising a raw material gas flow rate detecting means for detecting a flow rate and a control means for controlling a discharge output of the ozone generator, comprising: When the source gas flow rate is detected to be in a steady state in response to detection of the discharge output, the discharge output feedback control is performed. When a change in the raw material gas flow rate is detected, the feedback control is temporarily stopped and the changed raw material gas flow rate is determined based on the information stored in the storage means. A required discharge output corresponding to the generated ozone concentration is calculated, and the control means is instructed to use the calculated discharge output or a discharge output higher than the discharge output as the discharge output. A program for causing a computer or a calculation circuit to execute the method for stably controlling generated ozone.
（６） 前記プログラムであって、前記フィードバック制御によって原料ガス流量が定常状態にあるときに、当該原料ガスの流量下における前記オゾン発生装置の放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報を定期的又は常時、記憶し、更新するように前記記憶手段に指令するものであることを特徴とする（５）記載のプログラム。 (6) In the program, when the feed gas flow rate is in a steady state by the feedback control, information on the correlation between the discharge output of the ozone generator and the generated ozone concentration under the feed gas flow rate is periodically Alternatively, the program according to (5), wherein the storage unit is instructed to always store and update.
（７） （５）又は（６）記載のプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体。 (7) A computer-readable recording medium on which the program according to (5) or (6) is recorded.
本発明では、フィードバック制御がなされた放電式のオゾン発生システムにおいて、特定のガス流量下における放電出力と発生オゾン濃度との関係を利用して、放電出力の制御が行われる。即ち、図２に示したような、原料ガスの各流量毎に、オゾン発生装置における放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報が、予め記憶手段に記憶されている。また、原料ガス供給装置からオゾン発生装置へ供給される原料ガスの流量は、原料ガス流量検出手段によって検出される。そして、通常はフィードバック制御が行われているが、前記原料ガス流量検出手段によって検出される原料ガス流量に変動が生じた場合には、前記フィードバック制御を一時的に停止させ、前記記憶手段に記憶されている情報に基づいて、放電出力が設定される。設定される放電出力は、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応したものであるため、原料ガスの流量が変動した場合であっても、発生オゾン濃度の変動を制御することができ、安定した発生オゾン濃度を得ることが可能となる。 In the present invention, in a discharge-type ozone generation system subjected to feedback control, the discharge output is controlled using the relationship between the discharge output and the generated ozone concentration under a specific gas flow rate. That is, information relating to the correlation between the discharge output in the ozone generator and the generated ozone concentration is stored in advance in the storage means for each flow rate of the source gas as shown in FIG. The flow rate of the raw material gas supplied from the raw material gas supply device to the ozone generator is detected by the raw material gas flow rate detecting means. Normally, feedback control is performed. However, when the raw material gas flow rate detected by the raw material gas flow rate detection means varies, the feedback control is temporarily stopped and stored in the storage means. The discharge output is set based on the information that has been set. Since the discharge output to be set corresponds to the generated ozone concentration required in the changed raw material gas flow rate, even if the flow rate of the raw material gas fluctuates, the fluctuation of the generated ozone concentration is controlled. It is possible to obtain a stable generated ozone concentration.
設定される放電出力は、記憶手段に記憶されている情報に基づいて設定される放電出力よりも高い放電出力であってよい。このように、オゾン発生装置の放電出力を、記憶手段に記憶されている情報に基づいて設定される放電出力よりも高く設定することにより、原料ガス流量に変動が生じた場合に発生オゾン濃度が設定値を下回らないように制御することが可能となる。上述したように、オゾン濃度はプロセスに大きな影響を与えるため、特に、オゾン濃度が設定値よりも低い状態は避けなければならないからである。 The set discharge output may be a higher discharge output than the discharge output set based on the information stored in the storage means. In this way, by setting the discharge output of the ozone generator higher than the discharge output set based on the information stored in the storage means, the generated ozone concentration is changed when the raw material gas flow rate fluctuates. It is possible to control so as not to fall below the set value. This is because, as described above, the ozone concentration has a great influence on the process, and in particular, a state where the ozone concentration is lower than the set value must be avoided.
また、本発明のプログラムは上述した発生オゾンの安定制御方法を、コンピュータ又は演算回路に実行させるためのプログラムであり、本発明の記録媒体は、上述した発生オゾンの安定制御方法をコンピュータ又は演算回路に実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体である。演算回路としては、シーケンサ等が挙げられる。このプログラム及び記録媒体によれば、コンピュータ又は演算回路に本発明のプログラムをインストールすることにより、上述した発生オゾンの安定制御方法をコンピュータで実行させることができ、安定した発生オゾン濃度が得られるオゾン発生システムを構築できる。 Further, the program of the present invention is a program for causing a computer or an arithmetic circuit to execute the above-described generated ozone stability control method, and the recording medium of the present invention includes the above-described generated ozone stability control method of a computer or an arithmetic circuit. It is a computer-readable recording medium which recorded the program for making it run. An example of the arithmetic circuit is a sequencer. According to this program and recording medium, by installing the program of the present invention in a computer or arithmetic circuit, the above-mentioned stable control method of generated ozone can be executed by the computer, and ozone that can stably generate generated ozone concentration can be obtained. A generation system can be constructed.
なお、オゾン発生装置で発生されるオゾン濃度は、例えガス流量及び放電出力が同じであってもガス圧力あるいは放電部を冷却する冷却水等の冷媒の温度が変化すると変動する特徴を持つ。従って、本発明では、これらの影響による変動に対応して安定したオゾン濃度に制御するために、前記記憶手段に記憶させている情報を、フィードバック制御によってガス流量、放電出力及びオゾン濃度が安定していることが確認されているときに、定期的あるいは常時更新することで、フィードバック制御を一時的に停止させて設定する放電出力値を最適化することが可能となっている。 Note that the ozone concentration generated by the ozone generator has a characteristic that it fluctuates when the gas pressure or the temperature of a coolant such as cooling water for cooling the discharge section changes even if the gas flow rate and the discharge output are the same. Therefore, in the present invention, in order to control the ozone concentration to be stable in response to fluctuations caused by these influences, the gas flow rate, discharge output and ozone concentration are stabilized by feedback control of the information stored in the storage means. When it is confirmed that the discharge output value is periodically or constantly updated, it is possible to optimize the discharge output value set by temporarily stopping the feedback control.
本発明によれば、近年のプロセスの多様化に伴い、供給するチャンバーまたは処理槽の数に応じてラインを分岐させたオゾン発生システムにおいて、ガス流量に変動が生じた場合であっても安定した発生オゾン濃度を得ることができる。 According to the present invention, with the diversification of processes in recent years, in an ozone generation system in which a line is branched according to the number of chambers or processing tanks to be supplied, even when the gas flow rate fluctuates, the system is stable. The generated ozone concentration can be obtained.
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
［システム構成］
図４は、本実施形態のオゾン発生システムの概略構成を示す図である。このオゾン発生システムは、ガス流量に変動が生じた場合であっても安定した発生オゾン濃度を確保することができるオゾン発生システムであって、原料ガス供給装置４１、原料ガス流量検出手段４２、制御手段４３、記憶手段４４、オゾン発生装置４５、開閉装置４６、及び、チャンバーまたは処理槽４７、を備えるオゾン発生システムである。
[System configuration]
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of the ozone generation system of the present embodiment. This ozone generation system is an ozone generation system that can ensure a stable generated ozone concentration even when the gas flow rate fluctuates, and includes a raw material
［システム作用］
先ず、このオゾン発生システムの記憶手段４４には、予め原料ガスの各流量毎に、このオゾン発生システムにおける放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報が記憶される。この情報は、図２に示したように、特定の原料ガス流量下において発生オゾン濃度と放電出力との関係を調査して得られたものである。
[System action]
First, the storage means 44 of this ozone generation system stores in advance information relating to the correlation between the discharge output and the generated ozone concentration in this ozone generation system for each flow rate of the raw material gas. As shown in FIG. 2, this information is obtained by investigating the relationship between the generated ozone concentration and the discharge output under a specific raw material gas flow rate.
次に、酸素ガスを含む原料ガスは、原料ガス供給装置４１によりオゾン発生装置４５に供給される。供給される原料ガスには酸素ガスの他に、窒素ガスが含有されている。窒素ガスを含有させることにより、酸素分子の解離効率を高めて発生オゾン濃度を増加させ、発生オゾン濃度の安定化を図ることが目的である。
Next, the source gas containing oxygen gas is supplied to the
なお、オゾン発生装置４５は放電式のオゾン発生装置であり、放電部を主体とする他にオゾンモニタ等から構成される。この放電部において、原料ガスは放電処理されてオゾンガスを発生する。発生したオゾンガスは、オゾンモニタでその濃度がモニタされ、ラインへ吐出される。
The
また、原料ガス供給装置４１からオゾン発生装置４５へ供給される原料ガスの流量は、原料ガス流量検出手段４２によって検出される。チャンバーまたは処理槽４７の使用状況に応じて、分岐された各ライン上に設けられている開閉装置４６の開閉が行われるが、その際に生ずる原料ガス流量の変動は、この原料ガス流量検出手段４２によって検出される。なお、原料ガス供給装置４１にマスフローコントローラなどの原料ガスの流量検出が可能な機能を付加させることにより、原料ガス供給装置４１が原料ガス流量検出手段４２を兼ねてもよい。
The flow rate of the raw material gas supplied from the raw material
そして、制御手段４３は、通常はオゾン発生装置に対してフィードバック制御を行うが、原料ガス流量検出手段４２によって検出される原料ガス流量に変動が生じた場合には、フィードバック制御を一時的に停止させ、記憶手段に記憶されている情報に基づいて算出される放電出力よりも若干高い放電出力が設定される。この際に設定される放電出力は、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応したものであるため、原料ガスの流量が変動した場合であっても要求する発生オゾン濃度を下回ることがなく、安定した発生オゾン濃度を得ることができる。 The control means 43 normally performs feedback control on the ozone generator, but when the raw material gas flow rate detected by the raw material gas flow rate detection means 42 fluctuates, the feedback control is temporarily stopped. Thus, a discharge output slightly higher than the discharge output calculated based on the information stored in the storage means is set. The discharge output set at this time corresponds to the generated ozone concentration required at the changed raw material gas flow rate. Therefore, even if the flow rate of the raw material gas fluctuates, the required generated ozone concentration is set. A stable generated ozone concentration can be obtained without lowering.
［システム変形］
このオゾン発生システムは、原料ガス流量の設定値を固定した状態で開閉装置４６を利用することによって、複数のチャンバーまたは処理槽４７へ発生したオゾンを供給するものであるが、開閉装置を利用したシステムでなくてもよい。即ち、使用するチャンバーまたは処理槽の数に応じて、言い換えれば、プロセスの状態によって、原料ガス流量をステップ的に変化させるシステムであってもよい。原料ガス流量をステップ的に変化させる場合には、このステップ的に変化する原料ガス流量に対してフィードバック制御を利用することにより、設定値通りの安定した原料ガス流量を得ることができる。
[System deformation]
This ozone generation system supplies the generated ozone to a plurality of chambers or
また、このオゾン発生システムにおいては、チャンバーまたは処理槽４７の数は任意に設定することができる。ただし、一定のオゾン濃度下では、チャンバーまたは処理槽の数に応じて必要となるオゾン量も増減するため、オゾン発生装置５５内にある放電部の数を増減させる必要がある。
In this ozone generation system, the number of chambers or
なお、コスト削減の観点から、オゾン発生装置からのラインは１ラインとし、枚葉式装置あるいは多槽洗浄装置の中で分岐させてあるが、これに限られず、オゾン発生装置の中でラインを分岐させることも可能である。 In addition, from the viewpoint of cost reduction, the line from the ozone generator is one line, and it is branched in the single wafer type apparatus or the multi-tank washing apparatus, but is not limited to this, the line in the ozone generator is Branching is also possible.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.
［実施例］
実施例として、配管で接続された２台の放電部（商品名：ＧＲ−ＲＦ２２、住友精密工業株式会社製）を内蔵したオゾン発生装置（商品名：ＳＧＲ−０２ＦＡ−１２０、住友精密工業株式会社製）を使用して、図５に示したようにチャンバーまたは処理槽を５つ有するオゾン発生システムとした。各チャンバーに供給するガス流量を４Ｌ／ｍｉｎとし、発生オゾン濃度を２００ｇ／ｍ３（Ｎ）に設定した。放電出力は、チャンバー１〜５つ分の流量のときの放電出力を記憶させ、原料ガス流量変更時の放電出力とした。
[Example]
As an example, an ozone generator (trade name: SGR-02FA-120, Sumitomo Precision Industries, Ltd.) incorporating two discharge parts (trade name: GR-RF22, manufactured by Sumitomo Precision Industry Co., Ltd.) connected by piping. The ozone generation system having five chambers or treatment tanks as shown in FIG. 5 was used. The gas flow rate supplied to each chamber was 4 L / min, and the generated ozone concentration was set to 200 g / m 3 (N). As the discharge output, the discharge output at the flow rate corresponding to one to five chambers was stored, and the discharge output at the time of changing the raw material gas flow rate was used.
各チャンバーの上流に設けられた開閉装置を順次、開閉した場合における、原料ガス流量及び発生オゾン濃度を図６に示した。図６に示したように、原料ガス流量に変動が生じた瞬間においても発生オゾン濃度の変動は、多いときでも１０ｇ／ｍ３（Ｎ）以下に抑えることができており、発生オゾン濃度設定値に到達する時間も１０秒以内であった。制御手段が設定する放電出力は、記憶手段に記憶された情報に基づいて設定される放電出力よりも若干高いものであるため、原料ガス流量に変動が生じた場合であっても、発生オゾン濃度が設定値を下回らないように制御することができた。 FIG. 6 shows the raw material gas flow rate and the generated ozone concentration when the switchgear provided upstream of each chamber is sequentially opened and closed. As shown in FIG. 6, even at the moment when the raw material gas flow rate fluctuates, the fluctuation of the generated ozone concentration can be suppressed to 10 g / m 3 (N) or less even when it is large, and the generated ozone concentration set value The time to reach was also within 10 seconds. Since the discharge output set by the control means is slightly higher than the discharge output set based on the information stored in the storage means, even if the raw material gas flow rate fluctuates, the generated ozone concentration Could be controlled so as not to fall below the set value.
［比較例］
比較例として、放電出力の制御を行わない従来のフィードバック制御オゾン発生システムにおける原料ガス流量及び発生オゾン濃度を図７に示した。従来のオゾン発生システムでは、原料ガス流量が増加する際には、発生オゾン濃度が２５〜７５ｇ／ｍ３（Ｎ）低下し、設定値に到達する時間も６０秒以上要した。逆に、原料ガス流量が増加する際には、発生オゾン濃度が２５〜７５ｇ／ｍ３（Ｎ）増加し、設定値に到達する時間も３０秒以上要した。このように、図６と図７とを比較すれば明らかであるように、本実施例は比較例よりも原料ガス流量に変動が生じた場合の発生オゾン濃度の安定性が格段に優れていることが確認された。
[Comparative example]
As a comparative example, FIG. 7 shows the raw material gas flow rate and the generated ozone concentration in a conventional feedback control ozone generation system that does not control the discharge output. In the conventional ozone generation system, when the raw material gas flow rate is increased, the generated ozone concentration is reduced by 25 to 75 g / m 3 (N), and it takes 60 seconds or more to reach the set value. Conversely, when the raw material gas flow rate increased, the generated ozone concentration increased by 25 to 75 g / m 3 (N), and it took 30 seconds or more to reach the set value. Thus, as apparent from a comparison between FIG. 6 and FIG. 7, the present example is much more excellent in the stability of the generated ozone concentration when the raw material gas flow rate fluctuates than the comparative example. It was confirmed.
３１、４１、５１ 原料ガス供給装置
４２、５２ 原料ガス流量検出手段
４３、５３ 制御手段
４４、５４ 記憶手段
３５、４５、５５ オゾン発生装置
３６、４６、５６ 開閉装置
３７、４７、５７ チャンバーまたは処理槽
31, 41, 51 Source
Claims (7)
前記原料ガスの各流量毎に、前記オゾン発生装置における放電出力と発生オゾン濃度との相関に関する情報が予め記憶されている記憶手段と、
前記原料ガス供給装置から前記オゾン発生装置へ供給される原料ガスの流量を検出する原料ガス流量検出手段と、
前記オゾン発生装置の放電出力の制御を行う制御手段と、を備え、
前記制御手段は、通常は前記オゾン発生装置の前記放電出力のフィードバック制御を行うものであるとともに、前記原料ガス流量検出手段によって検出される原料ガス流量が変動したときには、前記フィードバック制御を一時的に停止させ、前記記憶手段に記憶されている情報に基づいて、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応した放電出力を算出し、当該算出された放電出力若しくは当該放電出力よりも高い放電出力に前記オゾン発生装置の放電出力を設定するものであることを特徴とするオゾン発生システム。 A discharge type comprising: an ozone generator that discharges a raw material gas containing oxygen gas, and discharges a processing gas obtained by the discharge treatment; and a raw material gas supply device that supplies the raw material gas to the ozone generator. Ozone generation system,
Storage means for storing in advance information on the correlation between the discharge output and the generated ozone concentration in the ozone generator for each flow rate of the source gas,
A raw material gas flow rate detecting means for detecting a flow rate of the raw material gas supplied from the raw material gas supply device to the ozone generator;
Control means for controlling the discharge output of the ozone generator,
The control means normally performs feedback control of the discharge output of the ozone generator, and temporarily performs the feedback control when the raw material gas flow rate detected by the raw material gas flow rate detection means fluctuates. Based on the information stored in the storage means, the discharge output corresponding to the generated ozone concentration required at the changed raw material gas flow rate is calculated, and the calculated discharge output or the discharge output is calculated. An ozone generation system characterized in that the discharge output of the ozone generator is set to a high discharge output.
前記原料ガス流量検出手段からの検出に応じて、原料ガス流量が定常状態にあると検出されているときには、前記放電出力のフィードバック制御を行うように前記オゾン発生装置に対して指令するとともに、原料ガス流量の変動が検出されたときには、前記フィードバック制御を一時的に停止させ、前記記憶手段に記憶されている情報に基づいて、変動後の原料ガス流量において要求される、発生オゾン濃度に対応した放電出力を算出し、当該算出された放電出力若しくは当該放電出力よりも高い放電出力を放電出力とするように前記制御手段に指令するものであることを特徴とする発生オゾンの安定制御方法をコンピュータ又は演算回路に実行させるためのプログラム。 Each of each of the raw material gas which discharge-processes the raw material gas containing oxygen gas, discharges the processing gas obtained by the said discharge treatment, the raw material gas supply device which supplies the raw material gas to the ozone generator, and the raw material gas For each flow rate, storage means for storing information relating to the correlation between the discharge output in the ozone generator and the generated ozone concentration in advance, and the flow rate of the source gas supplied from the source gas supply unit to the ozone generator are detected. A source gas flow rate detecting means, and a control means for controlling discharge output of the ozone generator, a program for controlling a discharge type ozone generation system comprising:
In response to detection from the raw material gas flow rate detection means, when it is detected that the raw material gas flow rate is in a steady state, the ozone generator is instructed to perform feedback control of the discharge output, and the raw material When a change in the gas flow rate is detected, the feedback control is temporarily stopped, and based on the information stored in the storage means, it corresponds to the generated ozone concentration required in the changed raw material gas flow rate. A computer for a stable control method of generated ozone, characterized by calculating a discharge output and instructing the control means to use the calculated discharge output or a discharge output higher than the discharge output as a discharge output. Or a program for causing an arithmetic circuit to execute.
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