JP2005123129A - Charged particle beam device - Google Patents
Charged particle beam device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005123129A JP2005123129A JP2003359386A JP2003359386A JP2005123129A JP 2005123129 A JP2005123129 A JP 2005123129A JP 2003359386 A JP2003359386 A JP 2003359386A JP 2003359386 A JP2003359386 A JP 2003359386A JP 2005123129 A JP2005123129 A JP 2005123129A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tilt
- tilt table
- sample
- charged particle
- particle beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は荷電粒子線装置に関し、特に試料移動ステージにチルトテーブルを備えた荷電粒子線装置に関する。 The present invention relates to a charged particle beam apparatus, and more particularly to a charged particle beam apparatus having a tilt table on a sample moving stage.
図1に、従来の荷電粒子線装置の一例として、走査型電子顕微鏡(SEM)の概略を示し、図2に走査型電子顕微鏡の試料移動ステージの詳細を示し、図3に、図2のAーA線に沿った断面構成を示し、図4に、図2のB−B線に沿った断面構成を示す。 FIG. 1 shows an outline of a scanning electron microscope (SEM) as an example of a conventional charged particle beam apparatus, FIG. 2 shows details of a sample moving stage of the scanning electron microscope, and FIG. A cross-sectional configuration along the line A is shown, and FIG. 4 shows a cross-sectional configuration along the line BB in FIG.
図1に示すように走査型電子顕微鏡は、電子銃室8、試料室4及びステージケース14を有する。電子銃室8及び試料室4には、電子銃1、電子銃1によって発生した電子ビームを集束するコンデンサレンズ2、コンデンサレンズ2を通った電子ビームを走査しながら試料6上に照射する対物レンズ3、試料6から発生する2次電子を検出する2次電子検出器7が設けられている。
As shown in FIG. 1, the scanning electron microscope includes an
試料室4及びステージケース14には、試料6を保持し移動させる試料移動ステージ5が設けられている。電子銃室8には真空ポンプ9、10、11が設けられ、試料室4には真空ポンプ12、13が設けられている。
The sample chamber 4 and the
図2及び図3を参照して、試料移動ステージ5の構成を説明する。試料移動ステージ5は、チルトテーブル20を有する。チルトテーブル20は、垂直部20aと水平部20bとを有し、垂直部20aには、チルト軸21が取り付けられている。チルト軸21は玉軸受22、23を介してzテーブル15に回転自在に連結されている。
The configuration of the
チルトテーブル20の水平部20bにはxテーブル33、yテーブル43、ローテーションテーブル56が載置されている。ローテーションテーブル56にはホルダ台66が取り付けられ、ホルダ台66には試料6を支持する試料ホルダ65が装着されている。
An x table 33, a y table 43, and a rotation table 56 are placed on the
図3に示すように、チルト軸21の先端にはウォームホィール26aが取り付けられ、ウォームホィール26aは、ウォームギヤ26bに噛み合わされている。図2に示すように、ウォームギヤ26bは両端を玉軸受27、28によって支持され、玉軸受27、28はzテーブル15に取り付けられた軸受ハウジング29、30に支持されている。ウォームギヤ26bは、スプライン軸32a、32bを介してつまみ31に連結されている。つまみ31を回すことによってウォームギヤ26bが回転し、ウォームギヤ26bが回転することによってウォームホィール26aが回転し、チルト軸21が回転し、試料6はチルト軸回りに回転傾斜する。
As shown in FIG. 3, a
図2に示すように、zテーブル15には、z移動軸19が取り付けられており、z移動軸19の上端にはつまみ18が接続されている。zテーブル15には、ばね17の一端が接続され、ばね17の他端はステージケース14に装着されている。zテーブル15は、ばね17によって上方に引っ張られている。zテーブル15は、図3に示すように、クロスローラ軸受16a、16bを介してステージケース14の側面に可動に保持されている。つまみ18を回すと、ネジの作用によって、z移動軸19が上下に移動する。zテーブル15はバネ17による引張り力によってクロスローラ軸受16a、16bに案内されてz方向に移動し、試料6をz方向に移動させる。
As shown in FIG. 2, a z
再び図2を参照する。xテーブル33はクロスローラ軸受34を介してチルトテーブル20の水平部20bに可動に保持されている。図4に示すように、xテーブル33にはxボールネジナット36が装着され、xボールネジナット36はxボールネジ35に噛みあわされている。xボールネジ35は、両端を玉軸受37、38によって支持され、玉軸受37、38はチルトテーブル20の水平部20bに取り付けられた軸受ハウジング39、40に支持されている。
Refer to FIG. 2 again. The x table 33 is movably held on the
図2に示すように、xボールネジ35は、xステージジョイント42を介してDCモータ41に連結されている。xステージジョイント42は角度追随用の一対のジョイント部42a、42bおよび角パイプに角棒を挿入した長さ調整用の伸縮部42cからなる。
As shown in FIG. 2, the
DCモータ41を回転させると、xボールネジ35が回転し、xボールネジナット36はxボールネジ35に対して相対的に移動する。xボールネジナット36の移動によってxテーブル33は、クロスローラ軸受34に案内されてx方向に移動し、試料6をx方向に移動させる。
When the
yテーブル43はクロスローラ軸受44a、44bを介してxテーブル33に可動に保持されている。yテーブル43にはyボールネジナット45が装着され、yボールネジナット46はyボールネジ45に噛みあわされている。図4に示すように、yボールネジ45は両端を玉軸受47、48で支持され、玉軸受47、48は、xテーブル33に取り付けられた軸受ハウジング49、50によって支持されている。yボールネジ45の一端には傘歯車51aが取り付けられ、この傘歯車51aは他の傘歯車51bに噛み合わされている。傘歯車51bは玉軸受52によって支持され、玉軸受52は、xテーブルに取り付けられた軸受ハウジング53によって支持されている。
The y table 43 is movably held on the x table 33 via
傘歯車51bは、yステージジョイント55を介してDCモータ54に連結されている。yステージジョイント55は角度追随用の一対のジョイント部55a、55bおよび角パイプに角棒を挿入した長さ調整用の伸縮部55cからなる。
The
DCモータ54を回転させることによって、傘歯車51a、51bが回転し、yボールネジ45が回転する。yボールネジナット46はyボールネジ45に対して相対的に移動する。yボールネジナット46の移動によってyテーブル43は、クロスローラ軸受44a、44bに案内されてy方向に移動し、試料6をy方向に移動させる。
By rotating the
図2に示すように、ローテーションテーブル56は、玉軸受58によってyテーブル43に回転自在に装着されている。図4に示すように、ローテーションテーブル56にはウォームホィール57aが取り付けられ、ウォームホィール57aはウォームギヤ57bに噛み合わされている。ウォームギヤ57bは両端を玉軸受59、60によって支持され、玉軸受59、60は、yテーブル43に取り付けられた軸受ハウジング61、62によって支持されている。
As shown in FIG. 2, the rotation table 56 is rotatably mounted on the y table 43 by
ウォームギヤ57bは、Rステージジョイント64を介してつまみ63に連結されている。Rステージジョイント64は角度追随用の一対のジョイント部64a、64bおよび角パイプに角棒を挿入した長さ調整用の伸縮部64cからなる。
The worm gear 57 b is connected to the
つまみ63を回転させることによりウォームギヤ57bが回転し、ウォームホィール57aが回転し、ローテーションテーブル56が回転する。
By rotating the
特公平6−19965号公報には、走査型電子顕微鏡用の試料交換装置が記載されており、特開平11−84038号公報には、精密機器を支持する支持用具が記載されている。 Japanese Patent Publication No. 6-19965 discloses a sample exchange device for a scanning electron microscope, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-84038 describes a support tool for supporting a precision instrument.
従来の荷電粒子線装置では、床や音の振動は試料室4、ステージケース14、zテーブル15、チルトテーブル20、xテーブル33、yテーブル43、ローテーションテーブル56、及び試料台65を介して試料6に伝達される。従って、試料6と荷電粒子ビームとの間の相対位置が振動的に変位し、荷電粒子線による像に障害が発生する。
In the conventional charged particle beam apparatus, vibrations of the floor and sound are generated through the sample chamber 4, the
図5及び図6を参照してチルトテーブルの振動について説明する。チルトテーブル70は、垂直部70aと水平部70bとを有し、垂直部70aには、チルト軸71が取り付けられている。チルト軸71は玉軸受72、73を介してzテーブル74に回転自在に連結されている。チルトテーブル70の水平部70bにはxテーブル75、yテーブル76、ローテーションテーブル77が載置され、ローテーションテーブル77には試料ホルダ78が取り付けられ、試料ホルダ78には試料79が接着されている。
The vibration of the tilt table will be described with reference to FIGS. The tilt table 70 has a
図5及び図6に示した破線は、チルトテーブルの振動変位の例を示したものである。試料79の振動はチルトテーブル70の垂直部70aの振動と水平部70bの振動が合成されたものとなる。
The broken lines shown in FIGS. 5 and 6 show examples of vibration displacement of the tilt table. The vibration of the
チルトテーブル70に載置されたxテーブル75、yテーブル76、ローテーションテーブル77が作動すると、テーブルの摺動部及びガイド部にて熱が発生する。この熱はチルトテーブル70に伝達され、チルトテーブル70は熱変形する。テーブルの駆動用にDCモータが使用される場合には、動作頻度が増加し、発熱量が高くなる。そのため、チルトテーブル70の熱変形量は大きくなる。 When the x table 75, the y table 76, and the rotation table 77 placed on the tilt table 70 are operated, heat is generated at the sliding portion and the guide portion of the table. This heat is transmitted to the tilt table 70, and the tilt table 70 is thermally deformed. When a DC motor is used for driving the table, the operation frequency increases and the heat generation amount increases. For this reason, the amount of thermal deformation of the tilt table 70 increases.
チルトテーブル70が熱変形すると、試料79と荷電粒子ビームとの間の相対位置の変動量、即ち、ドリフト量が大きくなる。従って、チルトテーブル70の振動に起因した像の障害は大きくなる。
When the tilt table 70 is thermally deformed, the amount of change in the relative position between the
チルトテーブル70の垂直部70aと水平部70bは通常一体的に製造され、材質は鋼、鋳鉄、鋳鋼、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、アルミ鋳物等より選択される。例えば、特許文献3の特開昭58−18850号公報に記載された例では、チルトテーブル70全体がステンレス鋼によって形成されている。鋼とアルミニウムを比較すると、鋼は比重が大きく重いが、縦弾性係数が大きく変形しにくい。アルミニウムは比重が小さく軽いが、縦弾性係数が小さく変形し易い。
The
材質がアルミニウムの場合、水平部70bの重量は小さいから、垂直部70aが担う負荷及び曲げモーメントは小さい。しかしながら、縦弾性係数が小さいため垂直部70aの変位が大きくなり、チルトテーブル70の変位が大きくなる。
When the material is aluminum, since the weight of the
材質が鋼の場合、水平部70bの重量が大きくなり、垂直部70aが担う負荷及び曲げモーメントは大きくなる。従って、チルトテーブル70の変位は、縦弾性係数が大きいにも拘わらず、かえって大きくなる。図示のように、水平部70bは先端に行くに従って断面積が小さくなるように形成される。それによって、剛性を維持しつつ軽量化が達成される。
When the material is steel, the weight of the
鋼、アルミニウムどちらの場合でも、チルトテーブル70の垂直部70aの振動変位を小さくするためには垂直部70aを厚くして剛性を上げなければならない。垂直部70aを厚くすると、チルト軸71、チルト軸受72、73からチルトテーブル70の重心までの距離が長くなり、チルト軸71及びチルト軸受72、73に加わる曲げモーメントが大きくなる。特に材質が鋼、鋳鉄、鋳鋼、ステンレス鋼の場合には、重量が大きいため、曲げモーメントが大きくなる。
In either case of steel or aluminum, in order to reduce the vibration displacement of the
チルト軸71、チルト軸受72、73をバネとし、チルトテーブル70を質量とした振動系を考える。垂直部70aを厚くすると、重心の位置がバネより遠くなり、しかも、質量が大きいので、図5及び図6の一点鎖線にて示すように、チルトテーブル70の振動は、大きくなる。従って、試料79の振動変位が増大し、試料と荷電粒子ビームの間の相対的な変位が大きくなって像障害が大きくなる。
Consider a vibration system in which the
チルトテーブル70がアルミニウム、アルミニウム合金、アルミ鋳物等で製造されている場合を考える。アルミニウム等は線膨張係数が大きいために熱変形が大きくなる。更に、チルトテーブル70の垂直部70aを厚くすると、チルト軸71から試料79までの距離が長くなるため、熱変形量、即ち、ドリフト量が大きくなり、像の歪みが大きくなる。
Consider a case where the tilt table 70 is made of aluminum, an aluminum alloy, an aluminum casting, or the like. Aluminum or the like has a large coefficient of linear expansion, so that thermal deformation is increased. Further, when the
以上のように、従来の荷電粒子線装置では、床の振動や音によって引き起こされる試料移動ステージに取り付けられた試料の振動を確実に小さくする配慮がなされていなかった。 As described above, in the conventional charged particle beam apparatus, no consideration has been given to reliably reducing the vibration of the sample attached to the sample moving stage caused by floor vibration or sound.
本発明の目的は、床の振動や音によって引き起こされる試料の振動を最小にすることができる荷電粒子線装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a charged particle beam apparatus capable of minimizing sample vibration caused by floor vibration or sound.
本発明によると、チルトテーブルの垂直部は、チルトテーブルの水平部より、縦弾性係数が大きい材料によって形成されている。更に、チルトテーブルの垂直部は、チルトテーブルの水平部より、比重が大きい材料によって形成されている。 According to the present invention, the vertical portion of the tilt table is formed of a material having a larger longitudinal elastic modulus than the horizontal portion of the tilt table. Further, the vertical portion of the tilt table is formed of a material having a specific gravity greater than that of the horizontal portion of the tilt table.
本発明によると、チルトテーブルの耐振性が向上し、試料観察時に振動による像障害を効果的に防止できる。また、チルトテーブルの熱変形を小さく押えることができ、試料観察時にドリフトによる像の歪みを効果的に低減できる。 According to the present invention, the vibration resistance of the tilt table is improved, and image disturbance due to vibration can be effectively prevented during sample observation. Further, the thermal deformation of the tilt table can be suppressed to a small extent, and image distortion due to drift can be effectively reduced during sample observation.
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明する。図7に本発明の第1の実施例を示す。本例の荷電粒子線装置のチルトテーブル80は、垂直部80aと水平部80bとを有し、垂直部80aには、チルト軸81が取り付けられている。チルト軸81は玉軸受82、83を介してzテーブル84に回転自在に連結されている。チルトテーブル80の水平部80bにはxテーブル85、yテーブル86、ローテーションテーブル87が載置され、ローテーションテーブル87には試料ホルダ88が取り付けられ、試料ホルダ88には試料89が接着されている。
Hereinafter, the present invention will be described based on the illustrated embodiments. FIG. 7 shows a first embodiment of the present invention. The tilt table 80 of the charged particle beam apparatus of this example has a
本例によると、チルトテーブル80の垂直部80aは水平部80bと比較して縦弾性係数が大きい材料によって形成され、水平部80bは垂直部80aと比較して縦弾性係数が小さい材料によって形成されている。本例によると、チルトテーブル80の垂直部80aは水平部80bと比較して比重が大きい材料によって形成され、水平部80bは垂直部80aと比較して比重が小さい材料によって形成されている。本例によると、チルトテーブル80の垂直部80aは水平部80bと比較して熱膨張係数が小さい材料によって形成され、水平部80bは垂直部80aと比較して熱膨張係数が小さい材料によって形成されている。
According to this example, the
チルトテーブル80の垂直部80aは鋳鉄、鋳鋼、鋼、ステンレス鋼等によって形成されてよく、好ましくはステンレス鋼によって形成される。水平部80bはアルミニウム、アルミニウム鋳物、アルニウム合金、チタン合金等によって形成されてよく、好ましくはアルミニウムによって形成される。
The
水平部80bの縁は垂直部80aの下端にボルト801、802によって取り付けられている。
The edge of the
xテーブル85、yテーブル86、及びローテーションテーブル87はアルミニウム、アルミニウム鋳物、アルニウム合金、チタン合金等によって形成されてよく、好ましくはアルミニウムによって形成される。xテーブル85、yテーブル86、ローテーションテーブル87、チルトテーブル80およびzテーブル84のガイド、駆動系等は図示していないが従来と同一構成であってよい。 The x table 85, the y table 86, and the rotation table 87 may be formed of aluminum, an aluminum casting, an aluminum alloy, a titanium alloy, or the like, and is preferably formed of aluminum. Guides, drive systems, and the like for the x table 85, the y table 86, the rotation table 87, the tilt table 80, and the z table 84 are not shown, but may have the same configuration as the conventional one.
本例によると、チルトテーブル80の水平部80bは、比重の小さな材料により製造されているため、重量が小さい。従って、チルトテーブル80の垂直部80aへ加わるの負荷が小さい。チルトテーブル80の垂直部80aは縦弾性係数が大きく変形の小さな材料で作られている。従って、チルトテーブル80の垂直部80aの厚さを薄くすることができる。また、チルトテーブル80の振動変位を小さく押えることができる。
According to this example, the
チルトテーブル80の垂直部80aへ加わる曲げモーメントについて考察する。上述のように、チルトテーブル80の水平部80bの重量は比較的小さいから、モーメントの腕の長さが従来の例と同一であっても、曲げモーメントは小さくなる。チルト軸81へ加わる曲げモーメントについて考察する。比較的重量が小さい水平部80bはチルト軸81、チルト軸受82、83より遠くに配置され、比較的重量が大きい垂直部80aはチルト軸81、チルト軸受82、83の近くに配置されている。従って、チルトテーブル80全体のx方向及びz方向の重心位置は、従来の例と比較して、チルト軸81、チルト軸受82、83に近くなる。従って、チルト軸81へ加わる曲げモーメントは小さくなる。
The bending moment applied to the
チルト軸81、チルト軸受82、83をバネとし、チルトテーブル80、xテーブル85、yテーブル86、ローテーションテーブル87を質量とした振動系を考える。チルトテーブル全体の重心がチルト軸81、チルト軸受82、83の近くにあるのでチルトテーブル80の振動変位を小さくすることができ、振動による像障害を防止できる。
Consider a vibration system in which the
上述のように、本発明ではチルトテーブル80の垂直部80aを薄くすることができるので、チルト軸81から試料89までの距離が短くなる。またチルトテーブル80の垂直部80aの熱膨張係数は水平部80bの熱膨張係数より小さい。したがって、xテーブル85、yテーブル86、ローテーションテーブル87の動作に起因して熱が発生しても、チルトテーブル80の垂直部80aの熱変形は小さい。そのため、ドリフトを低減することができ、走査型電子顕微鏡像の歪みが低減する。
As described above, in the present invention, since the
図8に本発明の第2の実施例を示す。本例の荷電粒子線装置のチルトテーブル90は垂直部90aと水平部90bを有し、両者は図7に示した第1の実施例と同様な材料によって形成されている。本例では、水平部90bの一端に近くの上面に突起部904が設けられている。一方、垂直部90aの下端部には、切り欠き部903が設けられている。この切り欠き部903に水平部90bの突起部904が係合している。図示のように、切り欠き部903と突起部904はボルト902によって結合され、垂直部90aの下端面と水平部90bの一端に近くの上面はボルト901によって結合されている。
FIG. 8 shows a second embodiment of the present invention. The tilt table 90 of the charged particle beam apparatus of this example has a
本例のチルトテーブル90を図7のチルトテーブル80と比較する。本例では、垂直部90aに切り欠き部903を設け、そこに突起部904を配置するため、その部分の重量が小さくなる。従って、チルト軸91及びチルトテーブル90の垂直部90aへ加わる負荷及び曲げモーメントは減少する。更に、本例のボルト902は、図7の例のボルト802と比較して、チルト軸91、チルト軸受92、93に対してより近い位置に配置されている。ボルトは通常、鋼又はステンレス鋼よりなるため重量が大きい。ボルトをチルト軸91、チルト軸受92、93の近くに配置することによって、チルトテーブル90全体の重心位置が、チルト軸91、チルト軸受92、93に近くなる。従って、チルトテーブル90の振動変位を効果的に小さくすることができる。
The tilt table 90 of this example is compared with the tilt table 80 of FIG. In this example, the
本例のチルトテーブル90の構造によると、垂直部90aと水平部90bはボルト901、902によって強固に結合されている。したがって、本例のチルトテーブル90は、特にx方向のストロークが大きく水平部90bが長い試料移動ステージに使用して好適である。尚、垂直部90aに切り欠き部903を設けることなく、垂直部90aに突起部904をボルトによって直接結合してもよい。
According to the structure of the tilt table 90 of this example, the
本発明ではzテーブル、チルトテーブル、xテーブル、yテーブル、ローテーションテーブルを有する試料移動ステージについて記述したが、zテーブル、ローテーションテーブルあるいはそのどちらかのない試料移動ステージに対しても同様の効果が得られる。また、本発明の構成はフォーカストイオンビーム装置(FIB)等の他の荷電粒子線装置にも適用できる。 In the present invention, the sample moving stage having the z table, the tilt table, the x table, the y table, and the rotation table has been described. However, the same effect can be obtained for the sample moving stage without the z table, the rotation table, or either of them. It is done. The configuration of the present invention can also be applied to other charged particle beam apparatuses such as a focused ion beam apparatus (FIB).
4…試料室、5…試料移動ステージ、6…試料、14…ステージケース、15…zテーブル、20…チルトテーブル、21…チルト軸、33…xテーブル、43…yテーブル、56…ローテーションテーブル、70…チルトテーブル、70a…垂直部、70b…水平部、71…チルト軸、72、73…チルト軸受、74…zテーブル、75…xテーブル、76…yテーブル、77…ローテーションテーブル、79…試料、80…チルトテーブル、80a…垂直部、80b…水平部、84…zテーブル、85…xテーブル、86…yテーブル、87…ローテーションテーブル、89…試料
4 ... sample chamber, 5 ... sample moving stage, 6 ... sample, 14 ... stage case, 15 ... z table, 20 ... tilt table, 21 ... tilt axis, 33 ... x table, 43 ... y table, 56 ... rotation table, 70 ... Tilt table, 70a ... Vertical portion, 70b ... Horizontal portion, 71 ... Tilt shaft, 72, 73 ... Tilt bearing, 74 ... z table, 75 ... x table, 76 ... y table, 77 ... Rotation table, 79 ...
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003359386A JP4262047B2 (en) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Charged particle beam equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003359386A JP4262047B2 (en) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Charged particle beam equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005123129A true JP2005123129A (en) | 2005-05-12 |
JP4262047B2 JP4262047B2 (en) | 2009-05-13 |
Family
ID=34615631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003359386A Expired - Fee Related JP4262047B2 (en) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Charged particle beam equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4262047B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012003892A (en) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Hitachi High-Technologies Corp | Charged particle device |
EP2573794A1 (en) * | 2010-05-20 | 2013-03-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582065A (en) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | Specimen moving device of electron microscope |
JPH0619965B2 (en) * | 1987-02-13 | 1994-03-16 | 日本電子株式会社 | Sample exchange device for scanning electron microscope |
JPH09223477A (en) * | 1996-02-14 | 1997-08-26 | Hitachi Ltd | Scanning electron microscope |
JPH1184038A (en) * | 1997-09-02 | 1999-03-26 | Sony Corp | Supporting tool for supporting precision equipment |
JP2000021345A (en) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Hitachi Ltd | Scanning type electron microscope |
JP2003075730A (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-12 | Olympus Optical Co Ltd | Microscope |
-
2003
- 2003-10-20 JP JP2003359386A patent/JP4262047B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0619965B2 (en) * | 1987-02-13 | 1994-03-16 | 日本電子株式会社 | Sample exchange device for scanning electron microscope |
JPH0582065A (en) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | Specimen moving device of electron microscope |
JPH09223477A (en) * | 1996-02-14 | 1997-08-26 | Hitachi Ltd | Scanning electron microscope |
JPH1184038A (en) * | 1997-09-02 | 1999-03-26 | Sony Corp | Supporting tool for supporting precision equipment |
JP2000021345A (en) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Hitachi Ltd | Scanning type electron microscope |
JP2003075730A (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-12 | Olympus Optical Co Ltd | Microscope |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2573794A1 (en) * | 2010-05-20 | 2013-03-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope |
EP2573794A4 (en) * | 2010-05-20 | 2014-10-08 | Hitachi High Tech Corp | Scanning electron microscope |
JP2012003892A (en) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Hitachi High-Technologies Corp | Charged particle device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4262047B2 (en) | 2009-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1306552C (en) | X-ray generator | |
US7884326B2 (en) | Manipulator for rotating and translating a sample holder | |
JP2000021345A (en) | Scanning type electron microscope | |
JP6054728B2 (en) | Sample positioning device and charged particle beam device | |
JPH10172484A (en) | Charged particle device having tilt column | |
JP2013158165A (en) | Oscillatory wave driver, two-dimensional driver and image blur correction device | |
JP5638070B2 (en) | Scanning electron microscope | |
JP4262047B2 (en) | Charged particle beam equipment | |
EP1947675B1 (en) | Manipulator for rotating and translating a sample holder | |
JPH09223477A (en) | Scanning electron microscope | |
US10879033B2 (en) | Stage apparatus, and charged particle beam apparatus | |
JP6362941B2 (en) | Charged particle beam equipment | |
JP2010113810A (en) | Transmission electron microscope | |
JP3721850B2 (en) | Electron microscope and sample stage | |
JP5220469B2 (en) | Sample equipment for charged particle beam equipment | |
WO2011158739A1 (en) | Charged particle device | |
CN111755304B (en) | Actuator assisted positioning system and method | |
JP4835902B2 (en) | Drive device | |
EP3825578A1 (en) | Actuator, sample positioning device, and charged particle beam system | |
JP3865752B2 (en) | Local analyzer | |
JP4521247B2 (en) | Sample table for charged particle beam equipment | |
JP2016192273A (en) | Charged particle beam device and control method for sample stage | |
JP2009180828A (en) | Microscope, image blurring correction imaging lens for microscope, and image blurring correction method for microscope | |
JP2006186161A (en) | Driving device | |
TW202127495A (en) | Electron microscope stage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060320 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090127 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |