JP2005120350A - Azo metal chelate dyestuff and optical recording medium - Google Patents

Azo metal chelate dyestuff and optical recording medium Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an azo metal chelate dyestuff capable of high-speed recording on an optical recording medium. <P>SOLUTION: The azo metal chelate dyestuff is a compound formed by forming a chelate bond between an azo dyestuff compound having a 1,3,4-thiadiazole ring as a diazo component to which a coupler component having a fluorine-substituted alkylsulfonylamino group and an amino group condensed to form a condensed ring is bonded and at least one metal selected from the group consisting of Co, Ni, Cu and Pd wherein an absorbance ratio (OD2/OD1) of absorption peaks in two absorption bands found in absorption spectrum measured at a wavelength ranging from 400 nm to 800 nm is larger than 1.25. An optical recording medium capable of high-speed recording is provided by using the azo metal chelate dyestuff. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、高速記録に好適なアゾ金属キレート色素等に関し、より詳しくは、特定の膜吸収スペクトルを示すアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた光学記録媒体(本発明においては、光学記録媒体を、”ディスク”又は”光ディスク”という場合がある。)に関する。   The present invention relates to an azo metal chelate dye suitable for high-speed recording, and more specifically, an azo metal chelate dye exhibiting a specific film absorption spectrum and an optical recording medium using the azo metal chelate dye (in the present invention, optical The recording medium may be referred to as “disk” or “optical disk”).

近年コンピューターの高速化、ハードディスク容量の増大に伴ない、取扱えるデータの大きさが増加してきた。それに対応するため記録メディアの大容量化が求められており、大容量レコーダブルCDとしてDVD−Rが開発されている。DVD−Rの記録層に用いる色素としてはシアニン系、金属キレート系色素等種々のものが提案されている。これらの色素のうち、耐光性、耐候性に優れる金属キレート色素を用いた光学記録媒体が多数提案されている(特許文献1参照)。   In recent years, the size of data that can be handled has increased with the increase in the speed of computers and the increase in hard disk capacity. In order to cope with this, the recording medium has been required to have a large capacity, and a DVD-R has been developed as a large capacity recordable CD. Various dyes such as cyanine and metal chelate dyes have been proposed for use in the recording layer of DVD-R. Among these dyes, many optical recording media using metal chelate dyes excellent in light resistance and weather resistance have been proposed (see Patent Document 1).

また、窒素原子を有するジアゾ成分とフッ素で置換されたアルキルスルホニルアミノ基を有するカップラー成分とから得られるアゾ系色素化合物が金属と形成するアゾ金属キレート色素について報告がある(特許文献2参照)。さらに、ベンゼン環上のアミノ基がベンゼン環に縮合する形で環を形成しているカップラー成分を用いたアゾ系色素化合物と金属とのアゾ金属キレート色素を光学記録媒体の記録層として用いることで、光学記録媒体の耐光性、耐久性等の記録特性の向上が可能である旨の報告がある(特許文献3参照)。   There is also a report on an azo metal chelate dye formed by an azo dye compound obtained from a diazo component having a nitrogen atom and a coupler component having an alkylsulfonylamino group substituted with fluorine (see Patent Document 2). Furthermore, by using an azo metal chelate dye of an azo dye compound and a metal using a coupler component in which an amino group on the benzene ring is condensed to the benzene ring as a recording layer of an optical recording medium, There is a report that it is possible to improve recording characteristics such as light resistance and durability of an optical recording medium (see Patent Document 3).

特開平3−268994号公報JP-A-3-268994 特開平11−166125号公報JP 11-166125 A 特開2000−309722号公報JP 2000-309722 A

ところで、最近は、データ量のさらなる増大に伴ない、光学記録媒体に情報を記録するための記録速度の高速化が重視されている。例えば、DVD−Rでは通常の記録速度が約3.5m/s(以下、1Xと称す場合がある)であるが、この1Xの8倍にあたる約28m/s(以下、8Xと称す場合がある)以上の高速の記録線速度において情報の記録が可能な光学記録媒体が市場において求められている。   Recently, as the amount of data further increases, increasing the recording speed for recording information on an optical recording medium is emphasized. For example, in DVD-R, the normal recording speed is about 3.5 m / s (hereinafter sometimes referred to as 1X), but about 28 m / s (hereinafter referred to as 8X), which is eight times the 1X. There is a need in the market for an optical recording medium capable of recording information at the above high recording linear velocity.

上記市場の要求に対応すべく、高速記録に特に好適な色素の開発が課題となっている。   In order to meet the demands of the market, development of a dye particularly suitable for high-speed recording has been an issue.

上記課題に鑑み、本発明の目的は、高速記録が可能なアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた光学記録媒体を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an azo metal chelate dye capable of high-speed recording and an optical recording medium using the azo metal chelate dye.

本発明者等は、高速記録においては光学記録媒体の反射率を高くすることが困難なこと、一方記録層の屈折率を高くすれば光学記録媒体の反射率を高くできること、に鑑み、より高い屈折率を有するアゾ金属キレート色素を得ることを目標とした。具体的には、本発明者等は、色素を含有する塗膜の吸収スペクトルを測定して得られる、500nm〜700nmに存在する吸収帯の長波長側の吸収ピークあるいは吸収肩の吸光度:OD2と、短波長側の吸収ピークあるいは吸収肩の吸光度:OD1と、に着目した。そして、本発明者等は、OD2/OD1の値を所定の値よりも大きくすれば色素の屈折率を高くできることを見出し、本発明を完成させた。   In view of the fact that it is difficult to increase the reflectance of the optical recording medium in high-speed recording, and that the reflectance of the optical recording medium can be increased by increasing the refractive index of the recording layer. The aim was to obtain an azo metal chelate dye having a refractive index. Specifically, the present inventors have measured the absorption spectrum of a coating film containing a dye, the absorption peak on the long wavelength side of the absorption band existing at 500 nm to 700 nm or the absorbance at the absorption shoulder: OD2. Attention was focused on the absorption peak on the short wavelength side or the absorbance at the absorption shoulder: OD1. The inventors have found that the refractive index of the dye can be increased by increasing the value of OD2 / OD1 above a predetermined value, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、アゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素であって、下記測定法で測定されるOD2/OD1が1.25より大きいことを特徴とするアゾ金属キレート色素に存する。
(OD2/OD1の測定方法)
(1)アゾ金属キレート色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行ない溶液Aを得る。溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却して溶液Bを得る。
(2)溶液Bを回転数800rpmでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Bが塗布された基板を80℃で5分間保持する。このようにして得た、溶液Bが塗布された基板を塗布基板Aという。
(3)塗布基板Aの400nm〜800nmでの吸収スペクトルを測定する。
(4)得られた吸収スペクトルにおける500nm〜700nmに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をOD2、短波長側の吸収ピークの吸光度をOD1とし、OD2/OD1を算出する。
That is, the gist of the present invention is an azo metal chelate dye comprising an azo dye compound and a metal, wherein OD2 / OD1 measured by the following measurement method is greater than 1.25. Exist.
(Measurement method of OD2 / OD1)
(1) After 20 mg of an azo metal chelate dye is contained in 2 g of an octafluoropentanol (OFP) solvent, ultrasonic dispersion is performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain a solution A. Solution A is cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) to obtain solution B.
(2) The solution B is spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 800 rpm. Then, the substrate coated with the solution B is held at 80 ° C. for 5 minutes. The substrate thus coated with the solution B is referred to as a coated substrate A.
(3) The absorption spectrum at 400 nm to 800 nm of the coated substrate A is measured.
(4) Among the absorption peaks observed at 500 nm to 700 nm in the obtained absorption spectrum, the absorbance of the absorption peak on the long wavelength side of the absorption peak having the largest absorbance and the absorbance peak next to that is OD2, OD2 / OD1 is calculated with the absorbance at the absorption peak on the short wavelength side as OD1.

そして、本発明の別の要旨は、基板上に、照射された光により情報の記録及び/又は再生が行なわれる記録層を有する光学記録媒体であって、記録層がアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含有し、下記測定法で測定されるアゾ金属キレート色素のOD2/OD1が1.25より大きいことを特徴とする光学記録媒体に存する。
(OD2/OD1の測定方法)
(1)アゾ金属キレート色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行ない溶液Aを得る。溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却して溶液Bを得る。
(2)溶液Bを回転数800rpmでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Bが塗布された基板を80℃で5分間保持する。このようにして得た、溶液Bが塗布された基板を塗布基板Aという。
(3)塗布基板Aの400nm〜800nmでの吸収スペクトルを測定する。
(4)得られた吸収スペクトルにおける500nm〜700nmに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をOD2、短波長側の吸収ピークの吸光度をOD1とし、OD2/OD1を算出する。
Another gist of the present invention is an optical recording medium having a recording layer on which information is recorded and / or reproduced by irradiated light on a substrate, the recording layer comprising an azo dye compound and a metal. An azo metal chelate dye comprising: an azo metal chelate dye measured by the following measurement method, wherein OD2 / OD1 is greater than 1.25.
(Measurement method of OD2 / OD1)
(1) After 20 mg of an azo metal chelate dye is contained in 2 g of an octafluoropentanol (OFP) solvent, ultrasonic dispersion is performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain a solution A. Solution A is cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) to obtain solution B.
(2) The solution B is spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 800 rpm. Then, the substrate coated with the solution B is held at 80 ° C. for 5 minutes. The substrate thus coated with the solution B is referred to as a coated substrate A.
(3) The absorption spectrum at 400 nm to 800 nm of the coated substrate A is measured.
(4) Among the absorption peaks observed at 500 nm to 700 nm in the obtained absorption spectrum, the absorbance of the absorption peak on the long wavelength side of the absorption peak having the largest absorbance and the absorbance peak next to that is OD2, OD2 / OD1 is calculated with the absorbance at the absorption peak on the short wavelength side as OD1.

本発明によれば、高速記録が可能なアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた高速記録が可能な光学記録媒体が提供される。   According to the present invention, an azo metal chelate dye capable of high-speed recording and an optical recording medium capable of high-speed recording using the azo metal chelate dye are provided.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、発明の実施の形態という。)について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本実施の形態においては、アゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素であって、所定の測定方法で測定されるOD2/OD1が1.25よりも大きいアゾ金属キレート色素を用いる。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as an embodiment of the present invention) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary.
In the present embodiment, an azo metal chelate dye composed of an azo dye compound and a metal, and an azo metal chelate dye having an OD2 / OD1 greater than 1.25 measured by a predetermined measurement method is used.

本実施の形態においてOD2/OD1を所定の値とする点について説明する。
高速記録を行うための方法として、効率よく記録用のレーザー光を吸収するように、記録波長でより大きい吸光度(吸収)を有する色素を用いる方法が考えられる。これは、色素の吸収極大の波長を従来低速記録で使用してきた色素のそれよりも長波長化する方法である。しかしながら、そのような吸収の長い色素を使用した場合、ディスクの反射率が従来よりも低くなりやすい。このため、上記方法では、光ディスクで定められている反射率の規定、例えばDVDにおいては、「ディスクの反射率45%以上」という記録部再生についての規格を満たすことが困難となることが多い。そのために、上記方法を用いる場合、記録感度をある程度犠牲にして、反射率を確保しなければならないケースが多い。
The point which makes OD2 / OD1 into a predetermined value in this Embodiment is demonstrated.
As a method for performing high-speed recording, a method using a dye having a higher absorbance (absorption) at a recording wavelength is conceivable so as to efficiently absorb a recording laser beam. This is a method of making the wavelength of the maximum absorption of the dye longer than that of the dye conventionally used in low-speed recording. However, when such a long-absorbing dye is used, the reflectance of the disk tends to be lower than before. For this reason, in the above method, it is often difficult to satisfy the specification of the reflectance defined by the optical disc, for example, the standard for the recording portion reproduction of “disc reflectance of 45% or more” in DVD. Therefore, when the above method is used, there are many cases where the reflectance must be ensured at the expense of recording sensitivity to some extent.

本実施の形態においては、上記方法とは着眼点を変えることにより、高速記録においても十分な反射率を得ることが可能で、かつ記録感度に優れた、高速記録用の色素を見出した。以下さらに説明する。
本発明者らは、まず、特定の膜厚範囲(90nm以下)においては、色素膜(記録層)の屈折率が大きいほど大きいディスクの反射率を得ることができる(例えば、特開平10−208303号公報図1〜図5参照)という知見を元に、より屈折率の大きいアゾ金属キレート色素を得ることを目標とした。
In the present embodiment, the present inventors have found a dye for high-speed recording that can obtain a sufficient reflectivity even in high-speed recording and has excellent recording sensitivity by changing the point of focus. This will be further described below.
First, in the specific film thickness range (90 nm or less), the inventors can obtain a higher disk reflectivity as the refractive index of the dye film (recording layer) increases (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 10-208303). The aim was to obtain an azo metal chelate dye having a higher refractive index, based on the knowledge of the publication No. 1 to FIG.

一方、アゾ金属キレート色素の膜の吸収スペクトルにおいては、配位子に局在化した電子状態によると考えられる吸収帯と、金属と配位子との相互作用により生じると考えられる吸収帯と、の2つの吸収帯が、500nm〜700nmに見られる(図1参照。尚、図1については後述する。)。
本実施の形態においては、上記500nm〜700nmに見られる2つの吸収帯のうち、短波長側の吸収ピークの吸光度をOD1とし、長波長側の吸収ピークをOD2とする。そして、OD2/OD1を、1.25よりも大きくすることにおいて、屈折率が特に高いアゾ金属キレート色素が得られることを見出した。この結果、高速記録においても十分な反射率を有する光学記録媒体が得られるのである。このOD2/OD1の測定は下記方法により行う。
On the other hand, in the absorption spectrum of the azo metal chelate dye film, an absorption band considered to be due to an electronic state localized in the ligand, an absorption band considered to be caused by the interaction between the metal and the ligand, These two absorption bands are observed at 500 nm to 700 nm (see FIG. 1; FIG. 1 will be described later).
In the present embodiment, of the two absorption bands seen from 500 nm to 700 nm, the absorbance of the absorption peak on the short wavelength side is OD1, and the absorption peak on the long wavelength side is OD2. The inventors have found that an azo metal chelate dye having a particularly high refractive index can be obtained by making OD2 / OD1 larger than 1.25. As a result, an optical recording medium having sufficient reflectivity even in high-speed recording can be obtained. This OD2 / OD1 is measured by the following method.

(OD2/OD1の測定方法)
(1)アゾ金属キレート色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行ない溶液Aを得る。溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却して溶液Bを得る。
(2)溶液Bを回転数800rpmでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Bが塗布された基板を80℃で5分間保持する。このようにして得た、溶液Bが塗布された基板を塗布基板Aという。
(3)塗布基板Aの400nm〜800nmでの吸収スペクトルを測定する。
(4)得られた吸収スペクトルにおける500nm〜700nmに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をOD2、短波長側の吸収ピークの吸光度をOD1とし、OD2/OD1を算出する。
(Measurement method of OD2 / OD1)
(1) After 20 mg of an azo metal chelate dye is contained in 2 g of an octafluoropentanol (OFP) solvent, ultrasonic dispersion is performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain a solution A. Solution A is cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) to obtain solution B.
(2) The solution B is spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 800 rpm. Then, the substrate coated with the solution B is held at 80 ° C. for 5 minutes. The substrate thus coated with the solution B is referred to as a coated substrate A.
(3) The absorption spectrum at 400 nm to 800 nm of the coated substrate A is measured.
(4) Among the absorption peaks observed at 500 nm to 700 nm in the obtained absorption spectrum, the absorbance of the absorption peak on the long wavelength side of the absorption peak having the largest absorbance and the absorbance peak next to that is OD2, OD2 / OD1 is calculated with the absorbance at the absorption peak on the short wavelength side as OD1.

以下、上記(1)〜(4)の各工程について説明する。
まず、測定対象であるアゾ金属キレート色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行なって溶液Aを得る。超音波分散は、溶媒中にアゾ金属キレート色素を溶解又は分散させるために行なわれる。超音波分散は従来公知の方法を用いればよい。
Hereinafter, each process of said (1)-(4) is demonstrated.
First, 20 mg of an azo metal chelate dye to be measured is contained in 2 g of an octafluoropentanol (OFP) solvent, and then ultrasonic dispersion is performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain a solution A. Ultrasonic dispersion is performed in order to dissolve or disperse the azo metal chelate dye in the solvent. For ultrasonic dispersion, a conventionally known method may be used.

次に、溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却して溶液Bを得る。溶液Aの冷却方法としては、溶液Aを室温中に放置し冷却する。溶液Aを氷水などで急冷することは、過度の結晶化を促進させる恐れがあるため好ましくない。ここで、溶液Aを室温まで冷却した後、溶液Aをフィルター(例えば0.2μm)で濾過することが好ましい。フィルターとしては、例えば、ミリポア社製のテフロン(登録商標)フィルターなどが挙げられる。フィルターでろ過することにより、溶液A中の未溶解成分や分散が不十分な成分を取り除くことができる。このようにして得た溶液を溶液Bと呼ぶ。しかしながら、もし溶液Aに色素の溶け残りが観察される場合には、上澄み液を採取し、それを溶液Bとしてもよい。   Next, the solution A is cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) to obtain a solution B. As a method for cooling the solution A, the solution A is allowed to cool at room temperature. It is not preferable to quench the solution A with ice water or the like because excessive crystallization may be promoted. Here, after cooling the solution A to room temperature, it is preferable to filter the solution A with a filter (for example, 0.2 μm). Examples of the filter include a Teflon (registered trademark) filter manufactured by Millipore Corporation. By filtering with a filter, undissolved components and insufficiently dispersed components in the solution A can be removed. The solution thus obtained is referred to as Solution B. However, if undissolved pigment is observed in solution A, the supernatant may be collected and used as solution B.

なお、上記記載から明らかなように、「溶液A」においては、アゾ金属キレート色素の全部又は一部が溶液中に溶解した状態で存在してもよい。又は、「溶液A」においては、アゾ金属キレート色素の全部又は一部が溶液中に分散した状態で存在してもよい。
さらに、溶液Bを回転数800rpmでポリカーボネート基板上にスピンコートする。スピンコートを行なう装置としては、CD−RやDVD−Rの記録層を成膜するために用いられている従来公知の装置を用いることができる。具体的には、回転数800rpmで回転させたポリカーボネート基板上に溶液Bを滴下することにより、ポリカーボネート基板上に溶液Bからなる塗膜を形成すればよい。
As is clear from the above description, in the “solution A”, all or a part of the azo metal chelate dye may be present in a state dissolved in the solution. Alternatively, in the “solution A”, all or a part of the azo metal chelate dye may be present in a dispersed state in the solution.
Further, the solution B is spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 800 rpm. As an apparatus for performing spin coating, a conventionally known apparatus used for forming a recording layer of CD-R or DVD-R can be used. Specifically, the coating film made of the solution B may be formed on the polycarbonate substrate by dropping the solution B onto the polycarbonate substrate rotated at a rotation speed of 800 rpm.

その後、上記溶液Bが塗布された基板を80℃で5分間保持する。これは溶液B中の溶媒を除去するためである。80℃/5分間の保持により溶液Bより溶媒が完全に除去されることが好ましい。但し、後述の吸収スペクトルの測定が良好に行なえる限り、溶媒が完全に除去されていなくてもよい。   Thereafter, the substrate coated with the solution B is held at 80 ° C. for 5 minutes. This is to remove the solvent in the solution B. It is preferable that the solvent is completely removed from the solution B by maintaining at 80 ° C. for 5 minutes. However, the solvent may not be completely removed as long as the absorption spectrum described below can be measured satisfactorily.

このようにして得た、溶媒Bが塗布された基板を塗布基板Aという。この塗布基板Aの400nm〜800nmでの吸収スペクトルを測定する。吸収スペクトルの測定は従来公知の方法を用いればよい。具体的には、吸収スペクトル測定用の試料光(400nm〜800nm)を塗布基板Aの基板側から照射する。そして、参照サンプルとして空気を用い、参照サンプルにおける光の強度と塗布基板Aを通過した光の強度とを測定し、塗布基板Aにおける吸収スペクトルを測定すればよい。   The substrate thus coated with the solvent B is referred to as a coated substrate A. The absorption spectrum of this coated substrate A at 400 nm to 800 nm is measured. A conventionally well-known method should just be used for the measurement of an absorption spectrum. Specifically, sample light (400 nm to 800 nm) for absorption spectrum measurement is irradiated from the substrate side of the coated substrate A. Then, air may be used as a reference sample, the intensity of light in the reference sample and the intensity of light that has passed through the coated substrate A may be measured, and the absorption spectrum in the coated substrate A may be measured.

吸収スペクトルのより具体的な方法として以下の方法を挙げることができる。
アゾ金属キレート色素膜を塗布したディスクを扇型に切り出し、紫外・可視分光光度計で、色素膜とは反対側の面(基板側の面)から光を照射して測定する。測定に使用する分光器や測定条件については、市販の装置の通常の条件を用いればよい。例えば、本実施の形態の実施例においては、株式会社日立製作所社製U−3300を用いた。そして、測定条件は、波長スキャンスピード300nm/min.、サンプリング周期0.5nmの吸光度測定(Absorbance)モードで行った。
The following method can be mentioned as a more specific method of an absorption spectrum.
A disk coated with an azo metal chelate dye film is cut out in a fan shape and measured by irradiating light from the surface opposite to the dye film (surface on the substrate side) with an ultraviolet / visible spectrophotometer. The spectroscope used for measurement and the measurement conditions may be normal conditions of a commercially available apparatus. For example, in an example of the present embodiment, U-3300 manufactured by Hitachi, Ltd. was used. The measurement conditions were as follows: wavelength scan speed 300 nm / min. In the absorbance measurement (Absorbance) mode with a sampling period of 0.5 nm.

かかる方法により得られたOD2/OD1の値が高いものほど、屈折率が高くなる。図2は、本実施の形態が適用される様々なアゾ金属キレート色素の色素膜における、OD2/OD1と屈折率との関係を示すグラフである。図2の測定結果からも、OD2/OD1の値が高いほど屈折率が高いことが明確である。この図2の測定結果により、本実施の形態の1.25以上の膜の屈折率の最大値は、およそ3.3に相当する。   The higher the OD2 / OD1 value obtained by such a method, the higher the refractive index. FIG. 2 is a graph showing the relationship between OD2 / OD1 and the refractive index in the dye films of various azo metal chelate dyes to which the present embodiment is applied. From the measurement result of FIG. 2, it is clear that the higher the value of OD2 / OD1, the higher the refractive index. According to the measurement result of FIG. 2, the maximum value of the refractive index of the film of 1.25 or more of the present embodiment corresponds to about 3.3.

OD2/OD1の値は、高速記録用途で十分な反射率が得られるので、1.25より大きく、好ましくは1.26以上、より好ましくは1.27以上、さらに好ましくは1.28以上、特に好ましくは1.29以上である。また、OD2/OD1の値は、本発明の目的上、大きいほど好ましいが、好ましくは5以下、より好ましくは3以下である。5よりも大きい場合は、吸収帯の幅が狭いために、吸収の波長依存性が大きくなる恐れがある。   The value of OD2 / OD1 is greater than 1.25, preferably 1.26 or more, more preferably 1.27 or more, and even more preferably 1.28 or more, since sufficient reflectance can be obtained for high-speed recording applications. Preferably it is 1.29 or more. Further, the value of OD2 / OD1 is preferably as large as possible for the purpose of the present invention, but is preferably 5 or less, more preferably 3 or less. If it is larger than 5, the absorption wavelength dependence may be increased because the width of the absorption band is narrow.

なお、上記測定方法により、アゾ金属キレート色素の色素膜の吸収スペクトルを測定した結果、500nm〜700nmに2つ以上の吸収ピークが明確に確認されない場合がある。このような例としては、例えば、500〜700nmの吸収スペクトルが、複数の吸収肩を有する吸収スペクトルとして観察される場合が挙げられる。この場合、得られたピークのうち最大の吸光度を有する吸収ピーク又は吸収肩と、それに次ぐ大きさの吸光度を有する吸収ピーク又は吸収肩と、を用いて、OD2/OD1を算出すればよい。   In addition, as a result of measuring the absorption spectrum of the azo metal chelate pigment | dye film | membrane by the said measuring method, two or more absorption peaks may not be confirmed clearly in 500 nm-700 nm. As such an example, for example, a case where an absorption spectrum of 500 to 700 nm is observed as an absorption spectrum having a plurality of absorption shoulders. In this case, OD2 / OD1 may be calculated using the absorption peak or absorption shoulder having the maximum absorbance among the obtained peaks and the absorption peak or absorption shoulder having the next largest absorbance.

図5は、アゾ金属キレート色素の色素膜の吸収スペクトルに吸収肩のある例を示す図である。一例として、図5に示すような吸収スペクトルについて、OD2/OD1の求め方を説明する。図5のような吸収スペクトルが得られた場合は、400〜700nmの吸収スペクトルのうち、短波長側に観察される吸収肩をOD1とすればよい。   FIG. 5 is a diagram showing an example in which the absorption spectrum of the dye film of the azo metal chelate dye has an absorption shoulder. As an example, how to obtain OD2 / OD1 will be described for an absorption spectrum as shown in FIG. When an absorption spectrum as shown in FIG. 5 is obtained, the absorption shoulder observed on the short wavelength side of the absorption spectrum of 400 to 700 nm may be OD1.

かかるOD2/OD1の値が高い色素の好ましい例として、特定の構造を有するアゾ金属キレート色素が挙げられる。それら色素を記録層に用いたディスクは、従来用いられてきた色素を記録層に用いたディスクと比べると、記録層の吸収極大波長が長くても高い反射率を安定に示すことがわかった。   A preferred example of the dye having a high OD2 / OD1 value is an azo metal chelate dye having a specific structure. It has been found that a disk using these dyes in the recording layer stably exhibits high reflectivity even when the absorption maximum wavelength of the recording layer is long, as compared with a disk using a dye conventionally used in the recording layer.

以下、上記特定の構造のアゾ金属キレート色素の一例について説明する。
まず、窒素原子を有するヘテロ環の中でも1,3,4−チアジアゾール環をジアゾ成分とする。そして、このジアゾ成分とフッ素置換アルキルスルホニルアミノ基と縮環したアミノ基を有するカップラー成分とを組み合わせたアゾ系色素化合物を合成する。このアゾ系色素化合物と金属とから形成されるアゾ金属キレート色素を含有する記録層は、耐光性、耐候性に優れる可能性があるので好ましい。さらに、上記ジアゾ成分の1,3,4−チアジアゾール環を水素原子、もしくはエステル基に置換したアゾ金属キレート色素は、本実施の形態の要件を満たすOD2/OD1値を有する傾向があるため、好ましい。これは、ジアゾ成分の置換基を、立体構造的に最も小さい水素原子にすること、あるいは、それ自体極性が大きいエステル基にすること、により、アゾ系配位子と金属イオンとの配位が立体障害の少ない状態でおこりうることに起因しているからではないかと考えられる。かかる構造の具体例としては、
Hereinafter, an example of the azo metal chelate dye having the specific structure will be described.
First, a 1,3,4-thiadiazole ring among the hetero rings having a nitrogen atom is used as a diazo component. Then, an azo dye compound is synthesized by combining this diazo component, a fluorine-substituted alkylsulfonylamino group, and a coupler component having a condensed amino group. A recording layer containing an azo metal chelate dye formed from this azo dye compound and a metal is preferable because it may be excellent in light resistance and weather resistance. Furthermore, an azo metal chelate dye in which the 1,3,4-thiadiazole ring of the diazo component is substituted with a hydrogen atom or an ester group tends to have an OD2 / OD1 value that satisfies the requirements of the present embodiment, which is preferable. . This is because the coordination of the azo-based ligand and the metal ion can be achieved by making the substituent of the diazo component the smallest sterically structural hydrogen atom, or by making the substituent itself a highly polar ester group. This may be due to the fact that it can occur in a state with little steric hindrance. As a specific example of such a structure,

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(式中、Rは水素原子又はCOで示されるエステル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基又は、置換されていてもよいシクロアルキル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、X又はXの少なくともいずれか一方はNHSOY基であり、Yは少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基であり、R4、は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、R6、7、及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基である。) (In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 , and R 3 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, or a cycloalkyl group which may be substituted. R 2 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, at least one of X 1 or X 2 is an NHSO 2 Y group, and Y is substituted with at least two fluorine atoms. R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group, and R 6, R 7, R 8 and R 9 is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.)

本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素は、前述した式(1)で示されるアゾ系色素化合物と金属とがキレート結合することにより形成される。さらに、式(1)で示されるアゾ系色素化合物は、1,3,4−チアジアゾール環をジアゾ成分とし、フッ素置換アルキルスルホニルアミノ基と縮環したアミノ基を有するカップラー成分が結合することにより形成される。   The azo metal chelate dye to which this embodiment is applied is formed by chelate bonding between the azo dye compound represented by the above formula (1) and a metal. Further, the azo dye compound represented by the formula (1) is formed by combining a coupler component having a 1,3,4-thiadiazole ring as a diazo component and a fluorine-substituted alkylsulfonylamino group and a condensed amino group. Is done.

ジアゾ成分における置換基Rは、水素原子又はCOで示されるエステル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、置換されていてもよいシクロアルキル基である。Rの置換基は、ハロゲン原子の他、酸素や窒素、イオウ等典型元素であれば特に制限はない。Rとしては、例えば、置換されていない直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、置換されていないシクロアルキル基、フッ素で置換された直鎖もしくは分岐のアルキル基、アルコキシ基で置換された直鎖もしくは分岐のアルキル基が好ましい。Rとしては、特に好ましくは、水素原子;エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、sec−ブチル基等炭素数が1以上4以下の直鎖もしくは分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数3〜8のシクロアルキル基;である。特に好ましくは、立体障害が小さいという理由から、メチル基、エチル基の炭素数1〜2の直鎖アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3〜6のシクロアルキル基;である。 The substituent R 1 in the diazo component is a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 , and R 3 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, or a cyclo which may be substituted. It is an alkyl group. The substituent of R 3 is not particularly limited as long as it is a typical element such as oxygen, nitrogen, sulfur other than a halogen atom. As R 3 , for example, an unsubstituted linear or branched alkyl group, or an unsubstituted cycloalkyl group, a linear or branched alkyl group substituted with fluorine, or a linear chain substituted with an alkoxy group Or a branched alkyl group is preferable. R 3 is particularly preferably a hydrogen atom; a linear or branched group having 1 to 4 carbon atoms, such as an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, or a sec-butyl group. An alkyl group; a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group; Particularly preferred are a straight-chain alkyl group having 1 to 2 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group; and a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as a cyclopentyl group or a cyclohexyl group because of its small steric hindrance.

ジアゾ成分における置換基Rは、本実施の形態における所定のOD2/OD1を満たすという観点から、立体障害が最も小さい水素原子が最も好ましい。このようなジアゾ成分の具体的な化合物としては、下記(化2)の構造のものが好ましい事例として挙げられる。 The substituent R 1 in the diazo component is most preferably a hydrogen atom having the smallest steric hindrance from the viewpoint of satisfying the predetermined OD2 / OD1 in the present embodiment. As a specific compound of such a diazo component, a compound having a structure of the following (Chemical Formula 2) is preferable.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

カップラー成分におけるX、Xの少なくともいずれか1つはNHSOYを表す。この場合、好ましくはX、XのいずれかがNHSOYであり、より好ましくは、XをNHSOYとすることである。XがNHSOYとなるときのX又は、XをNHSOYとするときのXは、特に制限されないが、合成上の容易さから水素原子とすればよい。 At least one of X 1 and X 2 in the coupler component represents NHSO 2 Y. In this case, either X 1 or X 2 is preferably NHSO 2 Y, and more preferably, X 1 is NHSO 2 Y. X 1 is or X 2 when the NHSO 2 Y, X 1 at the time of the X 2 and NHSO 2 Y is not particularly limited, may be a hydrogen atom from the ease of synthesis.

Yは、少なくとも2個のフッ素原子で置換されている直鎖または分岐のアルキル基である。アルキル基としては、炭素数が1から6の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましい。Yは、より好ましくは炭素数が1から3の直鎖アルキル基である。そして、置換されるフッ素原子の数は、通常2以上であり、一方、通常、7以下、好ましくは5以下、より好ましくは3以下である。Yとしては、具体的にはジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等が挙げられる。Yとしては、特に好ましくは、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基が挙げられる。   Y is a linear or branched alkyl group substituted with at least two fluorine atoms. As the alkyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable. Y is more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. The number of fluorine atoms to be substituted is usually 2 or more, and is usually 7 or less, preferably 5 or less, more preferably 3 or less. Specific examples of Y include difluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and the like. Can be mentioned. Y is particularly preferably a trifluoromethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group.

4、は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基である。R4、としては、例えば、
水素原子;
メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1から6の直鎖アルキル基;
イソプロピル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシルメチル基等の炭素数3から8の分岐アルキル基;
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロヘキシルメチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数1から8のアルコキシ基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロヘキシルメトキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から9のアルコキシカルボニル基;
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルメチルカルボニルオキシ基、2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等の炭素数2から9のアルキルカルボニルオキシ基;
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、2−メチルブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロヘキシルメチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基等の炭素数2から9のアルキルカルボニル基;
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−t−ブチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ブチルペンチルアミノ基等の炭素数2から16のジアルキルアミノ基;
等が挙げられる。
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group. Examples of R 4 and R 5 include:
Hydrogen atom;
A linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group;
A branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as isopropyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclohexylmethyl group;
Halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine;
Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclohexylmethyloxy group, 2 An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms such as an ethylhexyloxy group;
Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, isobutoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, cyclo An alkoxycarbonyl group having 2 to 9 carbon atoms such as a propyloxycarbonyl group, a cyclohexylmethoxycarbonyl group, and a 2-ethylhexyloxycarbonyl group;
Methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group, n- An alkylcarbonyloxy group having 2 to 9 carbon atoms such as a pentylcarbonyloxy group, a cyclopropylcarbonyloxy group, a cyclohexylmethylcarbonyloxy group, and a 2-ethylhexylcarbonyloxy group;
From 2 carbon atoms such as acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, 2-methylbutyryl group, pivaloyl group, hexanoyl group, cyclopropylcarbonyl group, cyclohexylmethylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, etc. 9 alkylcarbonyl groups;
Carbon number 2 such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, diisopropylamino group, dibutylamino group, diisobutylamino group, di-t-butylamino group, dihexylamino group, ethylmethylamino group, butylpentylamino group To 16 dialkylamino groups;
Etc.

直鎖及び分岐アルキル基、アルコキシ基については、それ以外にR4、として挙げた置換基がさらに置換していてもよい。R4、のうち、好ましくは、水素原子、炭素数1から6の直鎖アルキル基、炭素数1から8のアルコシキ基である。R4、としてより好ましくは水素原子、炭素数1から2のアルキル基、炭素数1から2のアルコキシ基である。上記アルキル基、アルコキシ基は無置換であることが好ましい。R4、として特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基である。 In addition to the linear and branched alkyl groups and alkoxy groups, the substituents mentioned as R 4 and R 5 may be further substituted. Of R 4 and R 5 , a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms are preferable. R 4 and R 5 are more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms. The alkyl group and alkoxy group are preferably unsubstituted. R 4 and R 5 are particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a methoxy group.

は、置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基である。Rとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1から6の直鎖アルキル基;イソプロピル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシルメチル基等の炭素数3から8の分岐アルキル基等が挙げられる。 R 2 is a linear or branched alkyl group which may be substituted. As R 2 , for example, a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group; isopropyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t- Examples thereof include branched alkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as a butyl group, a 2-ethylhexyl group, a cyclopropyl group, and a cyclohexylmethyl group.

これらのアルキル基は置換されていてもよい。置換基としては、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロヘキシルメチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数1から8のアルコキシ基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロヘキシルメトキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から9のアルコキシカルボニル基;
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルメチルカルボニルオキシ基、2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等の炭素数2から9のアルキルカルボニルオキシ基;
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、2−メチルブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロヘキシルメチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基等の炭素数2から9のアルキルカルボニル基;
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−t−ブチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ブチルペンチルアミノ基等の炭素数2から16のジアルキルアミノ基;
等が挙げられる。
These alkyl groups may be substituted. As a substituent,
Halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, such as cyclopropyloxy group, cyclohexylmethyloxy group, 2-ethylhexyloxy group;
Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, isobutoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, cyclo An alkoxycarbonyl group having 2 to 9 carbon atoms such as a propyloxycarbonyl group, a cyclohexylmethoxycarbonyl group, and a 2-ethylhexyloxycarbonyl group;
Methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group, n- An alkylcarbonyloxy group having 2 to 9 carbon atoms such as a pentylcarbonyloxy group, a cyclopropylcarbonyloxy group, a cyclohexylmethylcarbonyloxy group, and a 2-ethylhexylcarbonyloxy group;
From 2 carbon atoms such as acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, 2-methylbutyryl group, pivaloyl group, hexanoyl group, cyclopropylcarbonyl group, cyclohexylmethylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, etc. 9 alkylcarbonyl groups;
Carbon number 2 such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, diisopropylamino group, dibutylamino group, diisobutylamino group, di-t-butylamino group, dihexylamino group, ethylmethylamino group, butylpentylamino group To 16 dialkylamino groups;
Etc.

これらの中でも、Rとしては、炭素数1から6の無置換の直鎖アルキル基、または炭素数3から8の無置換の分岐のアルキル基が好ましい。無置換の直鎖アルキル基を用いる場合、炭素数は、通常1以上、6以下とする。炭素数は、好ましくは5以下、より好ましくは4以下とする。一方、無置換の分岐アルキル基を用いる場合、炭素数は通常3以上、8以下とする。炭素数は、好ましくは7以下、より好ましくは6以下、さらに好ましくは5以下、特に好ましくは4以下とする。Rとして、特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基である。 Among these, R 2 is preferably an unsubstituted linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an unsubstituted branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. When an unsubstituted linear alkyl group is used, the carbon number is usually 1 or more and 6 or less. The carbon number is preferably 5 or less, more preferably 4 or less. On the other hand, when an unsubstituted branched alkyl group is used, the carbon number is usually 3 or more and 8 or less. The carbon number is preferably 7 or less, more preferably 6 or less, still more preferably 5 or less, and particularly preferably 4 or less. R 2 is particularly preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or an isobutyl group.

、R、R、及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を表す。水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を用いることにより、OD2/OD1を所定の値としやすくなるため好ましい。炭素数1〜2のアルキル基は、炭素原子に結合している水素原子が他の置換基(例えばハロゲン原子)で置換されていてもよいが、無置換のアルキル基であることが好ましい。炭素数1〜2のアルキル基としては、メチル基、エチル基が挙げられる。合成の容易性や立体構造の点から、R、R、R、及びRとして最も好ましいのは、水素原子である。 R 6 , R 7 , R 8 , and R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. It is preferable to use a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms because OD2 / OD1 can be easily set to a predetermined value. In the alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, the hydrogen atom bonded to the carbon atom may be substituted with another substituent (for example, a halogen atom), but is preferably an unsubstituted alkyl group. Examples of the alkyl group having 1 to 2 carbon atoms include a methyl group and an ethyl group. From the viewpoint of ease of synthesis and steric structure, hydrogen atoms are most preferable as R 6 , R 7 , R 8 and R 9 .

一般式(1)で表されるアゾ系色素化合物の分子量としては、通常、2,000以下である。なかでも、分子量が1,000以下のアゾ系色素化合物は、溶媒に対する溶解度が増大し、さらに、耐光性、耐候性、高反射率性に優れた色素が得られるので好ましい。一般式(1)で表されるアゾ系色素化合物のうち、化合物の具体例としては、下記(化3〜化30)のものが挙げられる。   The molecular weight of the azo dye compound represented by the general formula (1) is usually 2,000 or less. Of these, an azo dye compound having a molecular weight of 1,000 or less is preferable because solubility in a solvent is increased and a dye excellent in light resistance, weather resistance, and high reflectance can be obtained. Among the azo dye compounds represented by the general formula (1), specific examples of the compounds include the following (Chemical Formula 3 to Chemical Formula 30).

Figure 2005120350
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アゾ金属キレート色素に対しては、構造以外の制限は特にない。但し今後ますます必要とされる、短波長のレーザー光による記録再生可能な光学記録媒体への利用の点からは、色素単層膜について測定したときに波長700nm以下に吸収極大を有する色素がより好ましく、波長650〜500nmに吸収極大をもつ色素であれば更に好ましい。   There are no particular restrictions on the azo metal chelate dye other than the structure. However, from the viewpoint of use in an optical recording medium that can be recorded and reproduced with a short-wavelength laser beam that will be increasingly required in the future, a dye having an absorption maximum at a wavelength of 700 nm or less when measured for a dye monolayer film is more. A dye having an absorption maximum at a wavelength of 650 to 500 nm is more preferable.

本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素において、式(1)で示されるアゾ系色素化合物とキレートを形成する金属としては、錯体形成可能な各種の金属を用いることができる。このような金属としては9族、10族、11族の元素が好ましい。このような金属として特に好ましくは、Co、Ni、Cu及びPdからなる群から選ばれる少なくとも1つとすることである。上記金属を用いることにより、吸収スペクトルの形状が良好となり、各種溶媒への溶解度や耐光性、耐久性が向上するからである。   In the azo metal chelate dye to which the present embodiment is applied, various metals capable of forming a complex can be used as the metal that forms a chelate with the azo dye compound represented by the formula (1). As such a metal, an element of Group 9, Group 10, or Group 11 is preferable. Particularly preferred as such a metal is at least one selected from the group consisting of Co, Ni, Cu and Pd. This is because the use of the metal improves the shape of the absorption spectrum, and improves the solubility in various solvents, light resistance, and durability.

以下、本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素を記録層に有する光学記録媒体について述べる。
本実施の形態が適用される光学記録媒体は、基板と、OD2/OD1が1.25よりも大きいアゾ金属キレート色素を含む記録層とを有する。好ましくは、本実施の光学記録媒体は、基板と、式(1)で示されるアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含む記録層とを有する。そして、上記光学記録媒体は、必要に応じて基板上に、下引き層、金属反射層、保護層等を設けた層構成でも良い。好ましい層構成の一例としては、例えば、基板上に記録層、金属反射層および保護層を設けた高反射率の光学記録媒体が挙げられる。
Hereinafter, an optical recording medium having an azo metal chelate dye to which the present embodiment is applied in a recording layer will be described.
The optical recording medium to which this embodiment is applied has a substrate and a recording layer containing an azo metal chelate dye having an OD2 / OD1 larger than 1.25. Preferably, the optical recording medium of the present embodiment has a substrate and a recording layer containing an azo metal chelate dye composed of an azo dye compound represented by formula (1) and a metal. The optical recording medium may have a layer structure in which an undercoat layer, a metal reflective layer, a protective layer, and the like are provided on a substrate as necessary. As an example of a preferable layer configuration, for example, a high reflectance optical recording medium in which a recording layer, a metal reflection layer and a protective layer are provided on a substrate can be mentioned.

以下、このような層構成を有する構造の光学記録媒体を例に、本実施の形態が適用される光学記録媒体について説明する。
本実施の形態が適用される光学記録媒体における基板の材料としては、基本的には、記録光及び再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、非晶質ポリオレフィン等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。高生産性、コスト、耐吸湿性、等の点からポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。
Hereinafter, the optical recording medium to which the present embodiment is applied will be described by taking the optical recording medium having such a layer structure as an example.
The substrate material in the optical recording medium to which the present embodiment is applied basically has only to be transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light. For example, polycarbonate resins, vinyl chloride resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polystyrene resins, epoxy resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polyimide resins, amorphous Polymer materials such as polyolefin and inorganic materials such as glass are used. It is preferable to use a polycarbonate resin from the viewpoints of high productivity, cost, moisture absorption resistance, and the like.

これらの基板の材料は、射出成形法等により円盤状に基板として成形される。尚、必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを形成することもある。このような案内溝やピットは、基板を成形するときに付与することが好ましいが、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。案内溝がスパイラル状の場合、この溝ピッチが0.4μm以上1.2μm以下程度であることが好ましく、特に好ましくは、0.6μm以上0.9μm以下程度である。   These substrates are formed into a disk shape by injection molding or the like. If necessary, guide grooves and pits may be formed on the surface of the substrate. Such guide grooves and pits are preferably provided when the substrate is molded, but can also be provided on the substrate using an ultraviolet curable resin layer. When the guide groove is spiral, the groove pitch is preferably about 0.4 μm or more and 1.2 μm or less, particularly preferably about 0.6 μm or more and 0.9 μm or less.

溝深さは、AFM(原子間力顕微鏡)測定値で、通常100nm以上、200nm以下であり、特に、低速の1Xから高速の8Xの範囲で記録可能であるためには、溝深さは150nm以上、180nm以下程度とすることが好ましい。溝深さが上記の下限値より大きい場合は、低速で変調度が出やすく、溝深さが上記の上限値より小さい場合は、充分な反射率を確保しやすい。溝幅は、AFM(原子間力顕微鏡)測定値で、通常0.20μm以上0.40μm以下である。高速記録用途には、溝幅は、0.28μm以上0.33μm以下とすることがさらに好ましい。溝幅が上記の下限値より大きい場合には、プッシュプル信号振幅が充分に得られやすい。また、基板の変形は記録信号振幅に大きく影響する。このため、溝幅を上記の下限値より大きくすれば、8X以上の高速で記録する場合において、熱干渉の影響を抑え、良好なジッターを得ることが容易となる。さらに、記録パワーマージンが広くなり、レーザーパワーの変動に対する許容値が大きくなる等、記録特性や記録条件が良好となる。溝幅が前記の上限値より小さい場合には、1X等の低速記録において、記録マーク内の熱干渉を抑えることができ、良好なジッター値が得られやすい。   The groove depth is an AFM (Atomic Force Microscope) measured value, and is usually 100 nm or more and 200 nm or less. In particular, in order to be able to record in the range of 1X from low speed to 8X at high speed, the groove depth is 150 nm. As mentioned above, it is preferable to set it as about 180 nm or less. When the groove depth is larger than the above lower limit value, the degree of modulation tends to be obtained at a low speed, and when the groove depth is smaller than the above upper limit value, it is easy to ensure a sufficient reflectance. The groove width is a value measured by AFM (atomic force microscope) and is usually 0.20 μm or more and 0.40 μm or less. For high-speed recording applications, the groove width is more preferably 0.28 μm or more and 0.33 μm or less. When the groove width is larger than the above lower limit value, the push-pull signal amplitude is easily obtained. Further, the deformation of the substrate greatly affects the recording signal amplitude. For this reason, if the groove width is made larger than the lower limit, it becomes easy to suppress the influence of thermal interference and obtain good jitter when recording at a high speed of 8 × or more. Furthermore, the recording power margin is widened and the tolerance for fluctuations in the laser power is increased, so that the recording characteristics and recording conditions are improved. When the groove width is smaller than the above upper limit value, thermal interference in the recording mark can be suppressed in low-speed recording such as 1 ×, and a good jitter value can be easily obtained.

本実施の形態が適用される光学記録媒体には、アドレス情報、媒体の種類の情報、記録パルス条件、及び最適記録パワー等の情報を記録することができる。これらの情報を記録する形態としては、例えば、DVD−R、DVD+Rの規格書に記載されているLPPやADIPのフォーマット等を用いれば良い。   Information such as address information, medium type information, recording pulse conditions, and optimum recording power can be recorded on the optical recording medium to which the present embodiment is applied. As a form for recording such information, for example, the LPP or ADIP format described in the DVD-R and DVD + R standards may be used.

本実施の形態が適用される光学記録媒体では、基板上、または、必要に応じ下引き層等を設けた上に、上述した特定の特性や構造を有するアゾ金属キレート色素を含有する記録層を形成する。このようなアゾ金属キレート色素を含有する記録層は、好感度かつ高反射率、比較的高い分解温度(又は、TG−DTA測定における減量開始温度)を有するものである。そして、上記アゾ金属キレート色素を含有する記録層は、単独組成での高速記録を実現するものである。   In the optical recording medium to which the present embodiment is applied, a recording layer containing an azo metal chelate dye having the above-mentioned specific characteristics and structure on a substrate or an undercoat layer as necessary is provided. Form. Such a recording layer containing an azo metal chelate dye has good sensitivity, high reflectance, and a relatively high decomposition temperature (or a weight loss starting temperature in TG-DTA measurement). The recording layer containing the azo metal chelate dye realizes high-speed recording with a single composition.

従来の高感度と言われる記録層は、記録光波長での吸収係数の大きい、又は、分解温度が240℃未満という低分解温度色素を用いたものが知られている。しかし、前者の場合にはその色素単独組成では、40%以上の反射率が得られにくい。また、後者の場合には、再生光パワーによる劣化や記録マークが広がりやすいことによるクロストークや熱干渉起因のジッターの悪化がおこりやすいという問題があった。   Conventional recording layers called high sensitivity are known which use a low decomposition temperature dye having a large absorption coefficient at the recording light wavelength or a decomposition temperature of less than 240 ° C. However, in the former case, it is difficult to obtain a reflectance of 40% or more with the dye alone composition. In the latter case, there is a problem in that deterioration due to reproduction light power and a deterioration in jitter due to crosstalk and thermal interference due to easy spread of recording marks are likely to occur.

これに対し、上述した特定の特性や構造を有するアゾ金属キレート色素を含有する記録層によれば、これらの問題を解決し、高速記録を可能とすることができる。かかる記録層に用いる色素の吸収波長が深い、即ち、記録再生波長での吸収係数が高いわりには高い反射率が得られている。この理由としては、記録層の屈折率が高いためと考えられる。   On the other hand, according to the recording layer containing the azo metal chelate dye having the specific characteristics and structure described above, these problems can be solved and high speed recording can be realized. Although the absorption wavelength of the dye used in the recording layer is deep, that is, the absorption coefficient at the recording / reproducing wavelength is high, a high reflectance is obtained. This is probably because the refractive index of the recording layer is high.

一般に、光学記録媒体の記録層としては、記録再生光波長±3nmでの屈折率は2〜3、消衰係数は0.03〜0.1が好ましいとされている。高速記録を行うためには、この範囲内での屈折率はできるだけ高い方(例えば、2.5以上)が好ましい。これは、屈折率が大きい方が、同じ膜厚での光路差が大きくとれるために記録変調度を大きくすることが可能となり、好ましいからである。ディスクにおける反射率は、屈折率が高いほど、より薄い膜厚で高い記録変調度が得られる。この屈折率の高い記録層を用いることにより、8X以上の高速記録用途に要求される低膜厚化が可能となり、熱干渉やクロストークが抑制できるために良好な高速記録が実現できる。   In general, the recording layer of an optical recording medium preferably has a refractive index of 2 to 3 and an extinction coefficient of 0.03 to 0.1 at a recording / reproducing light wavelength of ± 3 nm. In order to perform high-speed recording, the refractive index within this range is preferably as high as possible (for example, 2.5 or more). This is because it is preferable that the refractive index is large, since the optical path difference at the same film thickness can be increased, so that the recording modulation degree can be increased. As for the reflectivity of the disc, the higher the refractive index, the higher the degree of recording modulation with a thinner film thickness. By using this recording layer having a high refractive index, it is possible to reduce the film thickness required for high-speed recording applications of 8X or more, and thermal interference and crosstalk can be suppressed, so that favorable high-speed recording can be realized.

本実施の形態が適用される光学記録媒体における記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。量産性、コスト面からスピンコート法が特に好ましい。   As a method for forming a recording layer in an optical recording medium to which the present embodiment is applied, a thin film forming method generally performed such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or an immersion method is used. Is mentioned. The spin coating method is particularly preferable from the viewpoint of mass productivity and cost.

スピンコート法による成膜の場合、回転数は500〜10000rpmが好ましい。スピンコートの後、場合によっては、加熱又は溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。塗布溶媒としては、例えば、ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、t−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。   In the case of film formation by the spin coating method, the rotation speed is preferably 500 to 10,000 rpm. After spin coating, in some cases, treatment such as heating or solvent vapor may be performed. The coating solvent for forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or a dipping method may be any solvent that does not attack the substrate and is not particularly limited. Examples of the coating solvent include ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chains such as n-hexane and n-octane. Cyclic hydrocarbon solvents: Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, t-butylcyclohexane, cyclooctane; tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, hexafluorobutanol, etc. Perfluoroalkyl alcohol solvents; hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate and methyl isobutyrate;

記録層を成膜する際に、必要に応じて、上記の色素に、クエンチャー、紫外線吸収剤、接着剤等の添加剤を混合してもよい。又は、クエンチャー効果、紫外線吸収効果等各種の効果を有する置換基を上記色素に導入することも可能である。記録層の耐光性や耐久性向上のために加える一重項酸素クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系等のビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。またアミン系化合物も好適である。   When forming the recording layer, an additive such as a quencher, an ultraviolet absorber, or an adhesive may be mixed with the above dye as necessary. Alternatively, substituents having various effects such as quencher effect and ultraviolet absorption effect can be introduced into the dye. Singlet oxygen quenchers added to improve the light resistance and durability of the recording layer include bisdithiols such as acetylacetonate, bisdithio-α-diketone and bisphenyldithiol, thiocatechol, and salicylaldehyde oxime. And metal complexes such as thiobisphenolate are preferred. Amine compounds are also suitable.

また、記録特性等の改善のために、他の色素を併用してもよい。さらに、高速記録と低速記録を両立できるように、本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素と低速記録
用の色素を併用しても良い。但し、その配合比率は、アゾ金属キレート色素の重量に対して60%未満、好ましくは50%以下、さらに好ましくは40%以下である。一方、上記低速記録用の色素を併用する場合には、配合比率は通常0.01%以上とする。低速記録用の色素の配合比率が過度に大きい場合には、8X以上高速記録に必要な記録感度が十分得られない可能性がある。
Further, other dyes may be used in combination for improving the recording characteristics. Furthermore, the azo metal chelate dye to which the present embodiment is applied may be used in combination with a dye for low-speed recording so that both high-speed recording and low-speed recording can be achieved. However, the blending ratio is less than 60%, preferably 50% or less, more preferably 40% or less, based on the weight of the azo metal chelate dye. On the other hand, when the low-speed recording dye is used in combination, the blending ratio is usually 0.01% or more. When the blending ratio of the dye for low-speed recording is excessively large, the recording sensitivity necessary for high-speed recording of 8 × or more may not be sufficiently obtained.

併用可能な色素としては、例えば、式(1)で示されるアゾ系色素化合物と同系統のアゾ系色素化合物が挙げられる。また、併用可能な色素としては、上記特定の特性又は構造を有するアゾ金属キレート色素と同系統の、アゾ系色素またはアゾ系金属キレート色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、ビスピロメテン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素、インドアニリン系色素等が挙げられ、他系統の色素でもよい。また、色素の熱分解促進剤としては、例えば、金属系アンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセトナト系金属錯体等の金属化合物が挙げられる。   Examples of the dye that can be used in combination include an azo dye compound of the same type as the azo dye compound represented by the formula (1). The dyes that can be used in combination are azo dyes or azo metal chelate dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes of the same type as the azo metal chelate dyes having the specific characteristics or structures described above. Dye, porphyrin dye, tetrapyraporphyrazine dye, indophenol dye, pyrylium dye, thiopyrylium dye, azurenium dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, indanthrene dye, indigo dye, Examples include thioindigo dyes, merocyanine dyes, bispyromethene dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, indoaniline dyes, and other dyes. Examples of the dye thermal decomposition accelerator include metal compounds such as metal anti-knock agents, metallocene compounds, and acetylacetonato metal complexes.

さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。   Furthermore, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. can also be used together as needed. Preferable binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

記録層(色素層)の膜厚は、特に限定するものではないが、好ましくは50nm以上300nm以下である。色素層の膜厚が前記の下限値より大きい場合は、熱拡散の影響を抑えることができ、良好な記録がしやすい。また、記録信号に歪みが発生しにくいため、信号振幅を大きくしやすい。色素層の膜厚が前記の上限値より小さい場合は、反射率を高くしやすく、再生信号特性を良好としやすい。   The film thickness of the recording layer (dye layer) is not particularly limited, but is preferably 50 nm to 300 nm. When the film thickness of the dye layer is larger than the lower limit, the influence of thermal diffusion can be suppressed, and good recording is easy. In addition, since the recording signal is hardly distorted, the signal amplitude can be easily increased. When the film thickness of the dye layer is smaller than the above upper limit value, it is easy to increase the reflectance and to improve the reproduction signal characteristics.

また、記録層の溝部膜厚は、通常、90nm以上180nm以下、好ましくは、50nm以上90nm以下であり、溝間部膜厚は、通常、50nm以上100nm以下、好ましくは、30nm以上70nm以下である。溝部膜厚又は溝間部膜厚が上記の下限値より大きい場合には、アドレス情報(LPPやADIP)の振幅を大きくでき、エラーの発生を抑えやすい。溝部膜厚又は溝間部膜厚が上記の上限値より小さい場合には、記録マーク内の蓄熱の影響及びクロストークが大きくなるのを抑えることができ、ジッターが良好となりやすい。   The groove thickness of the recording layer is usually 90 nm or more and 180 nm or less, preferably 50 nm or more and 90 nm or less, and the film thickness between the grooves is usually 50 nm or more and 100 nm or less, preferably 30 nm or more and 70 nm or less. . When the groove film thickness or the groove film thickness is larger than the above lower limit value, the amplitude of the address information (LPP or ADIP) can be increased, and the occurrence of errors can be easily suppressed. When the groove film thickness or the groove film thickness is smaller than the above upper limit value, it is possible to suppress the influence of heat storage in the recording mark and the increase in crosstalk, and the jitter tends to be good.

本実施の形態が適用される光学記録媒体は、上述の特定の特性又は構造を有するアゾ金属キレート色素を含有する記録層と、上記基板に設けた溝形状と、を組み合わせることにより、反射率を40%以上とすることができる。このため、例えばDVD−ROMと再生互換のあるDVD−R(規格上、DVD−R、DVD+Rの2つがあるが、以下、総称してDVD−Rと記載する。)を実現することができる。尚、反射率は、光ディスクの溝上にトラッキングをかけた場合の、650nm+10nm−5nmの波長範囲のレーザーをピックアップに搭載したディスク再生機(例えば、DVDプレーヤー、DVD−ROM検査機、DVDドライブ)で測定した反射率のことを言う。   The optical recording medium to which the present embodiment is applied has a reflectivity obtained by combining a recording layer containing an azo metal chelate dye having the specific characteristics or structure described above and a groove shape provided in the substrate. It can be 40% or more. For this reason, for example, a DVD-R that is reproduction-compatible with a DVD-ROM (there are two DVD-Rs and DVD + Rs in the standard, but these are collectively referred to as DVD-R hereinafter) can be realized. The reflectance is measured with a disk player (for example, DVD player, DVD-ROM inspection machine, DVD drive) in which a laser having a wavelength range of 650 nm + 10 nm-5 nm is mounted on the pickup when tracking is performed on the groove of the optical disk. Say the reflectance.

次に、記録層の上に、好ましくは、厚さ50nm〜300nmの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta及びPdの金属を単独又は合金にして用いることが可能である。この中でも、Au、Al、Agは反射率が高く反射層の材料として適している。特に、Ag及びAg合金が、高反射率、高熱伝導度に優れ好ましい。また、これら
の金属以外でも下記のものを含んでいてもよい。例えば、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属及び半金属を挙げることができる。これらの中でも、Agを主成分としているものは、コストが安い点、アゾ金属キレート色素と組み合わせたときに反射率が向上する傾向がある点、更に、後に述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点、等から、特に好ましい。ここで主成分とは含有率が50%以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
Next, a reflective layer having a thickness of 50 nm to 300 nm is preferably formed on the recording layer. As a material of the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal of Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta and Pd is used alone or as an alloy. Is possible. Among these, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as a material for the reflective layer. In particular, Ag and an Ag alloy are preferable because of their high reflectivity and high thermal conductivity. In addition to these metals, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Mention may be made of metals such as Bi and metalloids. Among these, those containing Ag as a main component are low in cost, tend to improve reflectance when combined with an azo metal chelate dye, and have a ground when a print receiving layer described later is provided. This is particularly preferable from the viewpoint of obtaining a white and beautiful color. Here, the main component means one having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and use it as a reflective layer.

反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。   Examples of the method for forming the reflective layer include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer in order to improve reflectivity, improve recording characteristics, and improve adhesion.

反射層の上に形成する保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。例えば、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、SiO、SiN、MgF、SnO等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。UV硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによって形成することができる。UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独で又は混合して用いてもよいし、1層だけでなく多層膜にして用いてもよい。 The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. For example, examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and a UV curable resin. Examples of the inorganic substance include SiO 2 , SiN 4 , MgF 2 , SnO 2 and the like. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in an appropriate solvent, applying a coating solution, and drying. The UV curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with UV light. Examples of the UV curable resin include acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate. These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.

保護層の形成の方法としては、記録層と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、通常、0.1μm以上、100μm以下の範囲である。本実施の形態においては、保護層の膜厚は、好ましくは3μm以上、より好ましくは5μm以上であり、一方、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下とする。   As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and the like are used as in the recording layer. Among these, a spin coating method is preferable. The thickness of the protective layer is usually in the range of 0.1 μm or more and 100 μm or less. In the present embodiment, the thickness of the protective layer is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, and preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less.

尚、本実施の形態は、上記の態様に限定されるものではなく、種々変形することができる。例えば、光学記録媒体が2以上の複数の記録層を有していてもよい。また、反射層面に溝を持たないいわゆるダミー基板と呼ばれる基板を貼り合わせる、又は、反射層面相互を内側とし、対向させた2枚の光学記録媒体を貼り合わせる等の手段を用いてもよい。基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止のために紫外線硬化樹脂、無機系薄膜等を成膜してもよい。さらに、反射層上に設けた保護層の上に、又は、反射層面に貼りあわせた基板の上等に、更に、印刷受容層を形成することもできる。   In addition, this Embodiment is not limited to said aspect, A various deformation | transformation can be carried out. For example, the optical recording medium may have two or more recording layers. Alternatively, a so-called dummy substrate having no groove on the reflective layer surface may be bonded, or two optical recording media facing each other with the reflective layer surfaces facing each other may be used. An ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface side of the substrate in order to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like. Furthermore, a print receiving layer can be further formed on a protective layer provided on the reflective layer or on a substrate bonded to the reflective layer surface.

上記のようにして得られた光学記録媒体への記録は、通常、基板の両面または片面に設けた記録層にレーザー光を当てることにより行う。レーザー光の照射された部分には、一般に、レーザー光エネルギーの吸収による分解、発熱、溶融等の記録層の熱的変形が起こる。記録された情報の再生は、通常、レーザー光により熱的変形が起きている部分と起きてない部分の反射率の差を読みとることにより行う。   Recording on the optical recording medium obtained as described above is usually performed by irradiating a recording layer provided on both sides or one side of the substrate with laser light. In general, thermal deformation of the recording layer such as decomposition, heat generation, and melting due to absorption of laser light energy occurs in the portion irradiated with the laser light. The recorded information is normally reproduced by reading the difference in reflectance between a portion where thermal deformation has occurred and a portion where it has not occurred due to laser light.

記録・再生に使用するレーザーに特に限定はないが、例えば、可視領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザー、波長633nmのヘリウムネオンレーザー、最近開発されている波長680、660、635nm付近の高出力半導体レーザー、400nm近傍のブルーレーザー、波長532nmの高調波変換YAGレーザー等が挙げられる。中でも、軽量性、取り扱いの容易さ、コンパクト性、コスト等の点で、半導体レーザーが好適である。本実施の形態が適用される光学記
録媒体は、これらから選択される一波長または複数波長において高密度記録及び再生が可能となる。
There is no particular limitation on the laser used for recording / reproduction, but for example, a dye laser capable of selecting a wavelength in a wide range in the visible region, a helium neon laser having a wavelength of 633 nm, and a recently developed high output around 680, 660, and 635 nm. A semiconductor laser, a blue laser near 400 nm, a harmonic conversion YAG laser having a wavelength of 532 nm, and the like can be mentioned. Among these, a semiconductor laser is preferable in terms of lightness, ease of handling, compactness, cost, and the like. The optical recording medium to which the present embodiment is applied can perform high-density recording and reproduction at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.

以下、実施例により本実施の形態を具体的に説明する。但し、本実施例はその要旨を超えない限り本実施の形態を限定するものではない。
(実施例1)
(a)化合物製造例
(ジアゾカップリング)
2−アミノ−1,3,4−チアジアゾール(構造式1a)1.15gを酢酸13.7g、リン酸11.8g、硫酸4.7gに溶解し、5℃以下に冷却して43%ニトロシル硫酸3.4gを滴下して、2−アミノ−1,3,4−チアジアゾールのジアゾ液を調製した。次に、下記構造式1bで示される化合物2.2gとメタノール44mlとの溶液に、5℃以下の条件で、先に得られたジアゾ液を滴下し2時間攪拌した。続いて、28%アンモニア水で中和した後、析出した結晶を濾過、精製して下記構造式1cで示されるアゾ化合物1.3gを得た。
Hereinafter, the present embodiment will be specifically described by way of examples. However, this embodiment does not limit the present embodiment unless it exceeds the gist.
(Example 1)
(A) Compound production example (diazo coupling)
1.15 g of 2-amino-1,3,4-thiadiazole (Structural Formula 1a) is dissolved in 13.7 g of acetic acid, 11.8 g of phosphoric acid and 4.7 g of sulfuric acid, cooled to 5 ° C. or lower and 43% nitrosylsulfuric acid. 3.4 g was added dropwise to prepare a diazo solution of 2-amino-1,3,4-thiadiazole. Next, the diazo liquid obtained previously was added dropwise to a solution of 2.2 g of the compound represented by the following structural formula 1b and 44 ml of methanol under the condition of 5 ° C. or lower and stirred for 2 hours. Subsequently, after neutralizing with 28% aqueous ammonia, the precipitated crystals were filtered and purified to obtain 1.3 g of an azo compound represented by the following structural formula 1c.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(含金化)
構造式1cで示されるアゾ化合物1.3gをテトラヒドロフラン52mlに溶解し、不溶物を濾別した。次に、酢酸ニッケル4水和物0.47gをメタノール7mlに溶解し、これを構造式1cで示されるアゾ化合物のTHF溶液に室温で滴下した。さらに水72mlを加え、析出した結晶を濾過、精製、乾燥してアゾニッケルキレート色素0.8gを得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は588nm、グラム吸光係数は141L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は607nmであった。
(Mounting)
1.3 g of the azo compound represented by the structural formula 1c was dissolved in 52 ml of tetrahydrofuran, and insoluble matters were separated by filtration. Next, 0.47 g of nickel acetate tetrahydrate was dissolved in 7 ml of methanol, and this was added dropwise to a THF solution of the azo compound represented by the structural formula 1c at room temperature. Further, 72 ml of water was added, and the precipitated crystals were filtered, purified and dried to obtain 0.8 g of an azo nickel chelate dye. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 588 nm, the Gram extinction coefficient was 141 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 607 nm.

(b)記録例
このように調製したアゾニッケルキレート色素1.7重量%のオクタフルオロペンタノール(以下、OFP)溶液を、トラックピッチ0.74μm、溝深さ160nm、溝幅0.31μmの案内溝が形成された透明ポリカーボネート基板上にスピンコートし、100℃20分乾燥させた。この記録層の溝間部膜厚は55nm、溝部膜厚は85nmであった。この記録層の上に銀を120nmスパッタし、紫外線硬化樹脂を3μmスピンコートし、さらに、溝を持たないダミー基板(同じ透明基板)を、接着剤をスピンコートした後に貼り合わせた。このディスクについて、660nmの半導体レーザー評価機(NA=0.65)を用いてDVD−R規格書ver2.01に準拠した記録パルス条件で8X(28m/s線速度)記録を行った。その後1X(3.5m/s線速度)で再生したところ、8X記録感度は26.8mW、ジッター(以下、クロック1T=38.2nsに対するジッターを意味する。)が8.2%と良好であった。このディスクに1Xで記録したところ、記録感度は6.2mW、記録変調度55%、ジッター7.8%と良好であった。DVD−ROM検査機(シバソク製lLMA220 波長647nm)で測定した上記ディスクの反射率は47%と良好であった。
(B) Recording example A 1.7 wt% octafluoropentanol (hereinafter referred to as OFP) solution of the azonickel chelate dye thus prepared was guided with a track pitch of 0.74 μm, a groove depth of 160 nm, and a groove width of 0.31 μm. It spin-coated on the transparent polycarbonate substrate in which the groove | channel was formed, and was dried at 100 degreeC for 20 minutes. This recording layer had a groove thickness of 55 nm and a groove thickness of 85 nm. On this recording layer, silver was sputtered with 120 nm, UV-cured resin was spin-coated with 3 μm, and a dummy substrate (same transparent substrate) having no groove was bonded after spin-coating the adhesive. This disk was subjected to 8X (28 m / s linear velocity) recording under a recording pulse condition conforming to the DVD-R standard version 2.01 using a 660 nm semiconductor laser evaluator (NA = 0.65). Thereafter, reproduction was performed at 1X (3.5 m / s linear velocity). As a result, the 8X recording sensitivity was 26.8 mW, and the jitter (hereinafter referred to as jitter with respect to the clock 1T = 38.2 ns) was good at 8.2%. It was. When recorded on this disk at 1 ×, the recording sensitivity was 6.2 mW, the recording modulation degree was 55%, and the jitter was 7.8%. The reflectivity of the above-mentioned disk measured with a DVD-ROM inspection machine (ILMA220, wavelength: 647 nm, manufactured by Shibasoku) was as good as 47%.

尚、660nm近傍の記録用レーザーの上限パワーは日進月歩で引き上げられていると
はいえ、量産性、ビームの整形性(ビームをより良好に整形すると、パワーが目減りする。)、価格の面から、8Xでの記録感度は28mW近傍が好ましいとされている。また、ジッターは9%未満、好ましくは8%未満である。
Although the upper limit power of the recording laser near 660 nm has been increased gradually, from the viewpoint of mass production, beam shaping (power is reduced when the beam is shaped better), and price. The recording sensitivity at 8X is preferably around 28 mW. Also, the jitter is less than 9%, preferably less than 8%.

(実施例2)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式2aと下記構造式2bとで示される化合物を用いて下記構造式2cで示されるアゾ化合物2cと、ニッケルとのアゾニッケルキレート色素を調製した。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は589nm、グラム吸光係数は139L/gcm、塗布膜の吸収極大は609nmであった。
(Example 2)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, using the compounds represented by the following structural formula 2a and the following structural formula 2b as starting materials, the azo compound 2c represented by the following structural formula 2c and nickel An azonickel chelate dye was prepared. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 589 nm, the Gram extinction coefficient was 139 L / gcm, and the absorption maximum of the coating film was 609 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変え、膜厚を実施例1の75%(溝間部膜厚は約41nm、溝部膜厚は約64nm)に減らした以外は実施例1と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例1と同様にして行った。8X記録感度は22mWで、ジッター7.7%と良好であった。反射率は46%であった。
(B) Recording example The same as in Example 1 except that the dye was changed to the dye having the above structure and the film thickness was reduced to 75% of Example 1 (inter-groove film thickness was about 41 nm, groove film thickness was about 64 nm). Thus, a disk was manufactured. Recording and reproduction of this disk were performed in the same manner as in Example 1. The 8X recording sensitivity was 22 mW, and the jitter was as good as 7.7%. The reflectivity was 46%.

(実施例3)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式3aと下記構造式3bとを用いて下記構造式3cに示したアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物3cとのニッケルとのアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は588nm、グラム吸光係数は143L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は607nmであった。
(Example 3)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, an azo compound represented by the following structural formula 3c was prepared using the following structural formula 3a and the following structural formula 3b as starting materials. An azonickel chelate dye with nickel was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 588 nm, the Gram extinction coefficient was 143 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 607 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、8X記録感度は24.8mW、ジッター7.3%、反射率47%と良好であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to a dye having the above structure. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, the 8X recording sensitivity was 24.8 mW, the jitter was 7.3%, and the reflectance was 47%.

(実施例4)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式4aと下記構造式4bとを用いて下記構造式4cで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物4cとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は587nm、グラム吸光係数は139L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は610nmであった。
Example 4
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, an azo compound represented by the following structural formula 4c was prepared using the following structural formula 4a and the following structural formula 4b as starting materials, and the azo compound 4c An azo nickel chelate dye composed of nickel was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 587 nm, the Gram extinction coefficient was 139 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 610 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、8X記録感度は23.6mW、ジッター7.2%、反射率46%と良好であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to a dye having the above structure. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, the 8X recording sensitivity was 23.6 mW, the jitter was 7.2%, and the reflectance was 46%.

(実施例5)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式5aと下記構造式5bとを用いて下記構造式5cで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物5cとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は587nm、グラム吸光係数は139L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は608nmであった。
(Example 5)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, an azo compound represented by the following structural formula 5c was prepared using the following structural formula 5a and the following structural formula 5b as starting materials, and the azo compound 5c An azo nickel chelate dye composed of nickel was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 587 nm, the Gram extinction coefficient was 139 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 608 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、8X記録感度は23.6mW,ジッター7.4%、反射率48%と良好であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to a dye having the above structure. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, the 8X recording sensitivity was 23.6 mW, the jitter was 7.4%, and the reflectance was 48%.

(実施例6)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式6aと下記構造式6bとを用いて下記構造式6cで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物6cとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は590nm、グラム吸光係数は140L/gcm、塗布膜の吸収波長は608nmであった。
(Example 6)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, an azo compound represented by the following structural formula 6c was prepared using the following structural formula 6a and the following structural formula 6b as starting materials, and the azo compound 6c An azo nickel chelate dye composed of nickel was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 590 nm, the Gram extinction coefficient was 140 L / gcm, and the absorption wavelength of the coating film was 608 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様に行った。その結果、8Xの記録感度は25mW、ジッター7.4%、反射率47%と良好であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to a dye having the above structure. Recording and reproduction of this disk were performed in the same manner as in Example 2. As a result, the recording sensitivity of 8X was 25 mW, the jitter was 7.4%, and the reflectance was 47%.

(実施例7)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式7aと下記構造式7bとを用いて下記構造式7cで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物7cとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は590nm、グラム吸光係数は137L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は609nmであった。
(Example 7)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, an azo compound represented by the following structural formula 7c was prepared using the following structural formula 7a and the following structural formula 7b as starting materials, and the azo compound 7c and An azo nickel chelate dye composed of nickel was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 590 nm, the Gram extinction coefficient was 137 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 609 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、8Xの記録感度は25.8mW、ジッター7.6%、反射率47%と良好であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to a dye having the above structure. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, the 8X recording sensitivity was 25.8 mW, the jitter was 7.6%, and the reflectance was 47%.

(実施例8)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式8aと下記構造式8bとを用いて下記構造式8cで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物8cとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は595nm、グラム吸光係数は137L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は613nmであった。
(Example 8)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, an azo compound represented by the following structural formula 8c was prepared using the following structural formula 8a and the following structural formula 8b as starting materials, and the azo compound 8c An azo nickel chelate dye composed of nickel was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 595 nm, the Gram extinction coefficient was 137 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 613 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、8X記録感度は22.8mW、ジッター7.8%、反射率48%と良好であった。尚、実施例2〜実施例8のディスクの1X記録での記録変調度はいずれも40−50%であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to a dye having the above structure. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, the 8X recording sensitivity was 22.8 mW, the jitter was 7.8%, and the reflectance was 48%. Incidentally, the recording modulation degree in 1X recording of the disks of Examples 2 to 8 was 40-50%.

(比較例1)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、アゾ化合物101cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は580nm、グラム吸光係数は142L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は598nmであった。
(Comparative Example 1)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, a nickel chelate dye with azo compound 101c was obtained.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 580 nm, the Gram extinction coefficient was 142 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 598 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、28mWまでレーザー光強度を上げたにもかかわらず、4X記録さえも記録感度が悪すぎてできなかった(ジッター>14%)。尚、DVD−ROM検査機で測定しこのディスクの反射率は58%であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to the above dye. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, even though the laser light intensity was increased to 28 mW, even 4X recording was not possible because the recording sensitivity was too bad (jitter> 14%). The reflectivity of this disk was 58% as measured with a DVD-ROM inspection machine.

(比較例2)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、アゾ化合物102cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は585nm、グラム吸光係数は125L/gcm、塗布膜吸収極大波長は604nmであった。
(Comparative Example 2)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, a nickel chelate dye with the azo compound 102c was obtained.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 585 nm, the Gram extinction coefficient was 125 L / gcm, and the coating film absorption maximum wavelength was 604 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は比較例1と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例2と同様にして行った。その結果、4X記録さえも十分な記録感度がなく、48mWでまだ記録感度が足りず、ジッターが13%と良くなかった。尚、DVD−ROM検査機で測定したこのディスクの反射率は48%であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the dye was changed to the dye having the above structural formula. Recording and reproduction of this disc was performed in the same manner as in Example 2. As a result, even 4X recording did not have sufficient recording sensitivity, the recording sensitivity was still insufficient at 48 mW, and the jitter was not as good as 13%. The reflectivity of this disk measured with a DVD-ROM inspection machine was 48%.

(実施例9)
実施例4において調製したアゾニッケルキレート色素と、比較例2において調製したニッケルキレート色素とを、重量比60:40で混合し、この混合色素の対溶媒1.9重量%のOFP溶液を調製した。次に、この溶液を、トラックピッチ0.74μm、溝深さ163nm、溝幅0.32μmの案内溝を有するポリカーボネート基板上にスピンコートし、溝間部膜厚60nm、溝部膜厚90nmの記録層を形成した。その他は実施例2と同様にしてディスクを作製し、8Xで記録し1Xで再生した。その結果、8X記録の記録感度は25.4mW、ジッターは7.3%、反射率は49%と良好であった。また、1X記録は、記録感度6.0mW、ジッター7.1%、記録変調度は61%と、1X記録でも良好な記録特性が得られた。つまり、DVD−Rの規格書を1Xでも8Xでも満たすディスク特性を示した。
Example 9
The azo nickel chelate dye prepared in Example 4 and the nickel chelate dye prepared in Comparative Example 2 were mixed at a weight ratio of 60:40 to prepare an OFP solution of 1.9% by weight of the mixed dye with respect to the solvent. . Next, this solution is spin-coated on a polycarbonate substrate having a guide groove having a track pitch of 0.74 μm, a groove depth of 163 nm, and a groove width of 0.32 μm, and a recording layer having a groove thickness of 60 nm and a groove thickness of 90 nm is recorded. Formed. Others were made in the same manner as in Example 2, recorded at 8X, and played back at 1X. As a result, the recording sensitivity of 8X recording was 25.4 mW, the jitter was 7.3%, and the reflectance was 49%. In addition, 1X recording has a recording sensitivity of 6.0 mW, a jitter of 7.1%, and a recording modulation degree of 61%. Even in 1X recording, good recording characteristics were obtained. That is, the disk characteristics satisfying the DVD-R standard document at 1X or 8X were shown.

(実施例10)
色素を、実施例2において調製した色素と比較例1において調製した色素とに変えた以外は、実施例9と同様の条件と方法によりディスクを作製した。そして実施例9と同様に記録再生した。その結果、8X記録感度は26mW、ジッター7.2%、反射率49%、であり、1X記録感度は6.2mW、ジッター7.1%、記録変調度60%と、良好な記録再生特性が得られた。
(Example 10)
A disk was produced under the same conditions and method as in Example 9, except that the dye was changed to the dye prepared in Example 2 and the dye prepared in Comparative Example 1. Recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 9. As a result, the 8X recording sensitivity is 26 mW, the jitter is 7.2%, and the reflectance is 49%. The 1X recording sensitivity is 6.2 mW, the jitter is 7.1%, and the recording modulation degree is 60%. Obtained.

(実施例11)
色素を、実施例5において調製した色素と比較例1において調製した色素(重量比60:40)とに変えた以外は、実施例9と同様の条件と方法によりディスクを作製した。実施例9と同様に記録再生した。その結果、8X記録感度は26.2mW、ジッター7.3%、反射率50%であり、1X記録感度は6.2mW、ジッター7.1%、記録変調度は61%と良好な記録再生特性が得られた。
(Example 11)
A disk was produced under the same conditions and method as in Example 9, except that the dye was changed to the dye prepared in Example 5 and the dye prepared in Comparative Example 1 (weight ratio 60:40). Recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 9. As a result, the 8X recording sensitivity is 26.2 mW, the jitter is 7.3%, the reflectance is 50%, the 1X recording sensitivity is 6.2 mW, the jitter is 7.1%, and the recording modulation degree is 61%. was gotten.

(実施例12)
色素を、実施例1において調製した色素と比較例1において調製した色素との、重量比50:50の混合色素に変えた以外は、実施例9と同様の条件と方法によりディスクを作製した。そして、実施例9と同様に記録再生した。その結果、8X記録感度は28mWでは若干足りなかったものの、ジッター7.5%、反射率52%であり、1X記録感度6.4mW、ジッター7.1%、記録変調度61%と良好であった。
(Example 12)
A disk was produced under the same conditions and method as in Example 9, except that the dye was changed to a mixed dye having a weight ratio of 50:50 of the dye prepared in Example 1 and the dye prepared in Comparative Example 1. Recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 9. As a result, although 8X recording sensitivity was slightly insufficient at 28 mW, jitter was 7.5% and reflectance was 52%, 1X recording sensitivity was 6.4 mW, jitter was 7.1%, and recording modulation was 61%. It was.

(比較例3)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、アゾ化合物105cとのニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は589nm、グラム吸光係数は109L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は607nmであった。
(Comparative Example 3)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, a nickel chelate dye with the azo compound 105c was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 589 nm, the Gram extinction coefficient was 109 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 607 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。実施例2と同様にして記録再生した。その結果、28mWでは若干記録感度が足らず、ジッタは9.3%と良くなかった。記録感度を高めることができる実施例9と同様な記録条件で記録したところ、8X記録感度は25mWであったが、熱干渉が大きすぎて、ジッター11%と、良好な記録特性が得られなかった。尚、DVD−ROM検査機で測定したこのディスクの反射率は46%であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to the dye having the above structural formula. Recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 2. As a result, the recording sensitivity was slightly insufficient at 28 mW, and the jitter was not as good as 9.3%. When recording was performed under the same recording conditions as in Example 9 capable of increasing the recording sensitivity, the 8X recording sensitivity was 25 mW, but the thermal interference was too great, and a good recording characteristic of 11% jitter could not be obtained. It was. The reflectivity of this disk measured with a DVD-ROM inspection machine was 46%.

(比較例4)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、アゾ化合物106cとのニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は585nm、グラム吸光係数は132L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は609nmであった。
(Comparative Example 4)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, a nickel chelate dye with the azo compound 106c was obtained. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 585 nm, the gram extinction coefficient was 132 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 609 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そして実施例2と同様にして記録再生を行った。8Xの記録感度は22mWと良好であったが、熱干渉が大きいため記録感度よりも1mW低いパワーでしか良好な記録特性が得られなかった。反射率は39%と、DVD−Rの再生動作上好ましくない反射率になっていた。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to the dye having the above structural formula. Recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 2. The recording sensitivity of 8X was as good as 22 mW, but because of the large thermal interference, good recording characteristics could be obtained only with a power 1 mW lower than the recording sensitivity. The reflectivity was 39%, which was not preferable for DVD-R playback operation.

(比較例5)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、アゾ化合物107cとのニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は589nm、グラム
吸光係数は91L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は601nmであった。
(Comparative Example 5)
(A) Compound Production Example A nickel chelate dye with the azo compound 107c was obtained under the same conditions as in Example 1. The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 589 nm, the Gram extinction coefficient was 91 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 601 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(b)記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は実施例2と同様にして、ディスクを作製した。そして、比較例1と同様な記録条件で記録再生した。その結果、28mWでも4X記録すらその記録感度が十分ではなく、良好な記録ができなかった。尚、DVD−ROM検査機で測定したこのディスクの反射率は46%であった。
(B) Recording Example A disk was produced in the same manner as in Example 2 except that the dye was changed to the dye having the above structural formula. Recording and reproduction were performed under the same recording conditions as in Comparative Example 1. As a result, even with 28 mW, even 4 × recording had insufficient recording sensitivity, and good recording could not be performed. The reflectivity of this disk measured with a DVD-ROM inspection machine was 46%.

(比較例6)
(a)化合物製造例
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン13.99g、炭酸カリウム14.52gをメタノール350mlに溶解させ、攪拌しながら45〜50℃に保ち、そこに硫酸ジメチル25.54gを滴下した。引き続き45〜50℃で3時間攪拌した後、一晩放置した。この反応液にトルエン350ml、水350mlを加えてトルエン抽出した。抽出したトルエン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを留去して褐色液体を得た。これをカラム精製することにより下記構造式(e)で示される淡黄色溶液12.9gを得た。
(Comparative Example 6)
(A) Compound Production Example 13.99 g of 1,2,3,4-tetrahydroquinoline and 14.52 g of potassium carbonate were dissolved in 350 ml of methanol and kept at 45 to 50 ° C. with stirring, and 25.54 g of dimethyl sulfate was added thereto. It was dripped. Subsequently, the mixture was stirred at 45 to 50 ° C. for 3 hours and then left overnight. To the reaction solution, 350 ml of toluene and 350 ml of water were added to perform toluene extraction. The extracted toluene solution was dried over anhydrous sodium sulfate, and then toluene was distilled off to obtain a brown liquid. This was subjected to column purification to obtain 12.9 g of a pale yellow solution represented by the following structural formula (e).

Figure 2005120350
Figure 2005120350

上記構造式(e)で示される化合物12.9gを、0〜5℃に冷却した濃硫酸230g中に、0〜5℃に保ちながら滴下した。続いて濃硫酸36g、濃硝酸9.0gの混合液を0〜5℃に保ちながら滴下した。滴下終了後、室温に戻して2時間攪拌した。その反応液を氷水300mlに注入し、冷却しながら50%水酸化ナトリウム水溶液を添加してpH9にした。1時間攪拌後、析出した結晶をろ別し、乾燥して下記構造式(f)で示される赤色結晶12.4gを得た。   12.9 g of the compound represented by the structural formula (e) was dropped into 230 g of concentrated sulfuric acid cooled to 0 to 5 ° C. while maintaining the temperature at 0 to 5 ° C. Subsequently, a mixed solution of 36 g of concentrated sulfuric acid and 9.0 g of concentrated nitric acid was added dropwise while maintaining the temperature at 0 to 5 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture was returned to room temperature and stirred for 2 hours. The reaction solution was poured into 300 ml of ice water, and a 50% aqueous sodium hydroxide solution was added to pH 9 while cooling. After stirring for 1 hour, the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 12.4 g of red crystals represented by the following structural formula (f).

Figure 2005120350
Figure 2005120350

鉄粉31.4gをDMF−水(2:1)183mlに懸濁させ、攪拌しながら85〜90℃に加熱し、そこに塩酸6.7ml、DMF−水(2:1)91.5mlを混合させた溶液を滴下した。続いて上記構造式(f)で示される化合物12.0gのDMF溶液183mlを85〜95℃に保ちながら15分間で滴下した。80〜90℃で20分間攪拌し、その後放冷しながら炭酸水素ナトリウム6.39gを添加して10分間攪拌した。そしてその溶液をろ過して鉄粉を除去し、そのろ液を氷水500mlに注入しトルエン抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを留去し下記構造式(g)で示される褐色液体5.47gを得た。   31.4 g of iron powder is suspended in 183 ml of DMF-water (2: 1) and heated to 85-90 ° C. with stirring, and 6.7 ml of hydrochloric acid and 91.5 ml of DMF-water (2: 1) are added thereto. The mixed solution was added dropwise. Subsequently, 183 ml of a DMF solution of 12.0 g of the compound represented by the structural formula (f) was added dropwise over 15 minutes while maintaining the temperature at 85 to 95 ° C. The mixture was stirred at 80 to 90 ° C. for 20 minutes, and then allowed to cool, 6.39 g of sodium hydrogen carbonate was added and stirred for 10 minutes. The solution was filtered to remove iron powder, and the filtrate was poured into 500 ml of ice water and extracted with toluene. After drying over anhydrous sodium sulfate, toluene was distilled off to obtain 5.47 g of a brown liquid represented by the following structural formula (g).

Figure 2005120350
Figure 2005120350

窒素気流下でトリフルオロメタンスルホン酸無水物9.31gを攪拌しながら20℃以下に保ち、上記構造式(g)で示される化合物5.47gのトルエン40ml溶液を滴下した。引き続き10〜15℃で4時間攪拌した後、一晩放置した。10〜25℃で反応溶液に水2mlを添加し1時間攪拌後、析出した固体をろ別した。採取した個体を酢酸エチルで溶解させ、水150mlを加え酢酸エチルで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチルを留去して下記構造式(h)で示される濃褐色液体6.87gを得た。   Under a nitrogen stream, 9.31 g of trifluoromethanesulfonic anhydride was kept at 20 ° C. or lower while stirring, and a solution of 5.47 g of the compound represented by the structural formula (g) in 40 ml of toluene was added dropwise. Subsequently, the mixture was stirred at 10 to 15 ° C. for 4 hours and then left overnight. After adding 2 ml of water to the reaction solution at 10 to 25 ° C. and stirring for 1 hour, the precipitated solid was filtered off. The collected solid was dissolved in ethyl acetate, 150 ml of water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After drying over anhydrous sodium sulfate, ethyl acetate was distilled off to obtain 6.87 g of a dark brown liquid represented by the following structural formula (h).

Figure 2005120350
Figure 2005120350

上記構造式(i)で示される2−アミノ−5−メチル−1,3,4−チアジアゾール0.58gを酢酸5ml、プロピオン酸3mlに溶解し、0〜5℃で硫酸1mlを滴下し、0〜5℃で43%ニトロシル硫酸1.78gを加えジアゾ化した。構造式(h)で示される化合物1.77g、尿素0.2g、酢酸ナトリウム2.0gをメタノール20mlに溶解させた溶液に、得られたジアゾ液を0〜5℃で滴下し、3時間攪拌後、一晩放置した。析出した結晶をろ別し、乾燥して下記構造式(j)で示される赤色結晶1.44gを得た。   0.58 g of 2-amino-5-methyl-1,3,4-thiadiazole represented by the above structural formula (i) is dissolved in 5 ml of acetic acid and 3 ml of propionic acid, and 1 ml of sulfuric acid is added dropwise at 0 to 5 ° C. Diazotization was performed by adding 1.78 g of 43% nitrosylsulfuric acid at -5 ° C. The obtained diazo solution was added dropwise at 0 to 5 ° C. to a solution prepared by dissolving 1.77 g of the compound represented by the structural formula (h), 0.2 g of urea and 2.0 g of sodium acetate in 20 ml of methanol, and the mixture was stirred for 3 hours. Then left overnight. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 1.44 g of red crystals represented by the following structural formula (j).

Figure 2005120350
Figure 2005120350

前記のようにして得られた構造式(j)で示されるアゾ化合物1.30gをTHF50mlに溶解し、室温で酢酸ニッケル四水和物0.46gのメタノール6ml溶液を加えた後、室温で3時間攪拌し、水50mlを加えた。析出した結晶をろ別し、これを水で洗浄し、乾燥してニッケルキレート化合物0.59gを得た。この化合物のλmax (クロロホルム中)は591nm(ε=9.9×10 )、グラム吸光係数は113L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は613nmであった。 1.30 g of the azo compound represented by the structural formula (j) obtained as described above was dissolved in 50 ml of THF, and a solution of 0.46 g of nickel acetate tetrahydrate in 6 ml of methanol was added at room temperature. Stir for hours and add 50 ml of water. The precipitated crystals were separated by filtration, washed with water and dried to obtain 0.59 g of nickel chelate compound. Λmax (in chloroform) of this compound was 591 nm (ε = 9.9 × 10 4 ), the gram extinction coefficient was 113 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 613 nm.

(OD2/OD1の測定)
実施例1〜実施例8、比較例1〜比較例6の色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行ない溶液Aを得た。その溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却した後、0.2μmのミリポア社製フィルターで濾過して溶液Bを得た。その溶液Bを、溝深さ170nm、溝幅500nm、トラックピッチ1600nmの厚さ1.2mmのポリカーボネート基板上に、回転数800pmでスピンコートした。このようにして得た色素単独組成の膜を、80℃の送風乾燥機に5分間保持した後、室内に放置して室温まで冷却した(塗布基板Aの作製)。
この塗布基板Aの吸収スペクトルを測定した。吸収スペクトル測定の際には、塗布基板Aを扇型に切り出して測定サンプルとした。参照サンプルは空気であった。そして、株式会社日立製作所社製 U−3300を用いて測定を行った。測定条件は、波長スキャンスピード300nm/min.、サンプリング周期0.5nmの吸光度測定(Absorbance)モードで行った。
図1に、実施例1の色素を用いた塗布基板Aの吸収スペクトルを示す。また、表1に、各塗布基板AのOD1,OD2の波長と吸光度、OD2/OD1の値を示す。
(Measurement of OD2 / OD1)
After 20 mg of the dyes of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were contained in 2 g of octafluoropentanol (OFP), ultrasonic dispersion was performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain Solution A. Obtained. The solution A was cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) and then filtered through a 0.2 μm filter manufactured by Millipore to obtain a solution B. The solution B was spin-coated at a rotation speed of 800 pm on a polycarbonate substrate having a groove depth of 170 nm, a groove width of 500 nm, and a track pitch of 1600 nm and a thickness of 1.2 mm. The film of the dye-single composition thus obtained was held in an air blow dryer at 80 ° C. for 5 minutes, and then left in the room to cool to room temperature (production of coated substrate A).
The absorption spectrum of the coated substrate A was measured. In measuring the absorption spectrum, the coated substrate A was cut into a fan shape to obtain a measurement sample. The reference sample was air. And it measured using Hitachi, Ltd. U-3300. The measurement conditions were a wavelength scan speed of 300 nm / min. In the absorbance measurement (Absorbance) mode with a sampling period of 0.5 nm.
In FIG. 1, the absorption spectrum of the coating substrate A using the pigment | dye of Example 1 is shown. Table 1 shows the wavelength and absorbance of OD1 and OD2 of each coated substrate A, and the value of OD2 / OD1.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

また、図3に、実施例1〜実施例8及び比較例1〜比較例6のOD2/OD1の値を示す。図3に示す結果から、実施例1〜実施例8と比較例1〜比較例6との間に、1.25の境界が見られる。
さらに、図4には、実施例1〜実施例8及び比較例1〜比較例5で作製した塗布基板Aの吸収極大波長(OD2を示す波長)と、DVD−ROM検査機(647nm)で測定した、各ディスクの半径40mmの反射率の測定結果と、を示す。図4に示す結果から、比較例1〜比較例5のディスクでは、図4中の回帰直線が示すように、膜の吸収極大の波長が長くなるにつれて反射率が低下する傾向が見られる。比較例1〜比較例5の色素においては、605nmよりも長い波長に吸収極大を有する色素でDVDの再生の規格である45%以上の反射率を得ることが難しい傾向にある。それに対し、実施例1〜実施例8の色素を用いたディスクは、610nm近傍に吸収極大を有する色素でも、高い反射率を確保することが可能であることが分かる。
Moreover, in FIG. 3, the value of OD2 / OD1 of Example 1- Example 8 and Comparative Example 1- Comparative Example 6 is shown. From the results shown in FIG. 3, a boundary of 1.25 is seen between Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6.
Furthermore, in FIG. 4, the absorption maximum wavelength (wavelength indicating OD2) of the coated substrate A produced in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5 is measured with a DVD-ROM inspection machine (647 nm). The measurement results of the reflectance of each disk with a radius of 40 mm are shown. From the results shown in FIG. 4, in the disks of Comparative Examples 1 to 5, the reflectance tends to decrease as the wavelength of the absorption maximum of the film becomes longer, as shown by the regression line in FIG. In the dyes of Comparative Examples 1 to 5, it tends to be difficult to obtain a reflectance of 45% or more, which is the standard for DVD reproduction, with a dye having an absorption maximum at a wavelength longer than 605 nm. On the other hand, it can be seen that the disks using the dyes of Examples 1 to 8 can ensure a high reflectance even with a dye having an absorption maximum in the vicinity of 610 nm.

(参考データの測定)
下記構造式((S−1)〜(S−6))を有するアゾ金属キレート色素0.06gを、それぞれ5gのOFP溶媒に添加し、50℃で60分超音波分散した。その後、この溶液を、室内に放置して室温まで冷却した。その溶液を0.2μmのミリポア社製フィルターで濾過し、得られた溶液を、鏡面レプリカ(案内溝のないポリカーボネート基板)に盤面のおよそ半分の領域をカバーするように置き、スピンコートした。乾燥後、このスピンコートされた記録層の一部に反射層をスパッタした。反射層で覆われた未塗布部分と反射層で覆われた記録層との段差を3次元表面荒さ計(キャノン株式会社製ZYGO:Maxim5800)で測定して膜厚を求めた。さらに、反射層の付いていない記録層において、日本分光株式会社製の自動波長スキャンエリプソメータ(MEL−30S型)で580nm〜650nmまでの光を照射し、多入射角測定モードで反射率と位相差を測定した。そして、前述の膜厚を参考に集束状況のよい屈折率n、消衰係数kの組み合わせを各波長において求めた。このようにして得られた各波長の屈折率のうち、最大値を求める屈折率nとした。
(Measurement of reference data)
0.06 g of an azo metal chelate dye having the following structural formulas ((S-1) to (S-6)) was added to 5 g of OFP solvent, respectively, and ultrasonically dispersed at 50 ° C. for 60 minutes. Then, this solution was left to cool to room temperature. The solution was filtered through a 0.2 μm Millipore filter, and the resulting solution was placed on a mirror surface replica (polycarbonate substrate without guide grooves) so as to cover approximately half of the surface of the board and spin coated. After drying, a reflective layer was sputtered onto a part of the spin-coated recording layer. The level difference between the uncoated portion covered with the reflective layer and the recording layer covered with the reflective layer was measured with a three-dimensional surface roughness meter (ZYGO: Maxim5800 manufactured by Canon Inc.) to determine the film thickness. Furthermore, in a recording layer without a reflective layer, light from 580 nm to 650 nm is irradiated with an automatic wavelength scanning ellipsometer (MEL-30S type) manufactured by JASCO Corporation, and the reflectance and phase difference are measured in a multiple incident angle measurement mode. Was measured. Then, a combination of the refractive index n and the extinction coefficient k having a good focusing condition was obtained at each wavelength with reference to the above-mentioned film thickness. Of the refractive indexes of the respective wavelengths obtained in this manner, the refractive index n for obtaining the maximum value was used.

一方、各(S−1)〜(S−6)の色素について、上記「OD2/OD1の測定」と同様にして、それぞれの色素で形成した塗布基板Aを作製し、吸収スペクトルを測定した。そして、OD2/OD1を算出した。
以上のようにして求めたOD2/OD1とn(屈折率の最大値)を表2と図2とに示した。データポイントは、左側から(OD2/OD1が小さい方から大きい方に向かって)色素(S−1)〜(S−6)の値である。
On the other hand, for each of the dyes (S-1) to (S-6), a coated substrate A formed with each dye was prepared in the same manner as in the above “Measurement of OD2 / OD1,” and the absorption spectrum was measured. Then, OD2 / OD1 was calculated.
Table 2 and FIG. 2 show OD2 / OD1 and n (the maximum value of the refractive index) obtained as described above. The data points are values of the dyes (S-1) to (S-6) from the left side (from the smaller OD2 / OD1 toward the larger one).

Figure 2005120350
Figure 2005120350

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(実施例13)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式13aと下記構造式13bを用いて製造し、アゾ化合物13cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は588nm、グラム吸光係数は130L/gcm、塗布膜の吸収極大は604nmであった。
(Example 13)
(A) Compound Production Example The compound was produced using the following structural formula 13a and the following structural formula 13b as starting materials under the same conditions as in Example 1 to obtain a nickel chelate dye with the azo compound 13c.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 588 nm, the gram extinction coefficient was 130 L / gcm, and the absorption maximum of the coating film was 604 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(実施例14)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式14aと下記構造式14bを用いて製造し、アゾ化合物14cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は591nm、グラム吸光係数は133L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は607nmであった。
(Example 14)
(A) Compound Production Example The compound was produced using the following structural formula 14a and the following structural formula 14b as starting materials under the same conditions as in Example 1 to obtain a nickel chelate dye with the azo compound 14c.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 591 nm, the Gram extinction coefficient was 133 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 607 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(実施例15)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式15aと下記構造式15bを用いて製造し、アゾ化合物15cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は588nm、グラム吸光係数は138L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は608nmであった。
(Example 15)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, the starting material was produced using the following structural formula 15a and the following structural formula 15b to obtain a nickel chelate dye with the azo compound 15c.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 588 nm, the Gram extinction coefficient was 138 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 608 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(実施例16)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式16aと下記構造式16bを用いて製造し、アゾ化合物16cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は587nm、グラム吸光係数は140L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は607nmであった。
(Example 16)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, the starting material was produced using the following structural formula 16a and the following structural formula 16b to obtain a nickel chelate dye with the azo compound 16c.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 587 nm, the Gram extinction coefficient was 140 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 607 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(実施例17)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式17aと下記構造式17bを用いて製造し、アゾ化合物17cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は596nm、グラム吸光係数は150L/gcm、塗布膜の吸収極大波長は613nmであった。
(Example 17)
(A) Compound Production Example Under the same conditions as in Example 1, the starting material was produced using the following structural formula 17a and the following structural formula 17b to obtain a nickel chelate dye with the azo compound 17c.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 596 nm, the Gram extinction coefficient was 150 L / gcm, and the absorption maximum wavelength of the coating film was 613 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

(実施例18)
(a)化合物製造例
実施例1と同様な条件で、出発原料に下記構造式18aと下記構造式18bを用いて製造し、アゾ化合物18cとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は598nm、グラム吸光係数は139L/gcm、塗布膜の吸収波長は613nmであった。
(Example 18)
(A) Compound Production Example The compound was produced using the following structural formula 18a and the following structural formula 18b as starting materials under the same conditions as in Example 1 to obtain a nickel chelate dye with the azo compound 18c.
The maximum absorption wavelength of this azonickel chelate dye in chloroform was 598 nm, the Gram extinction coefficient was 139 L / gcm, and the absorption wavelength of the coating film was 613 nm.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

上記実施例13から実施例18の色素において、上記「OD2/OD1の測定」と同様にしてそれぞれの色素で形成した塗布基板Aを作製し、吸収スペクトルを測定した。そして算出したOD2/OD1を、表3に示す。
表3に記載したように、実施例13〜実施例18ののいずれにおいても、OD2/OD1が1.25より大きく、良好な結果であった。
In the dyes of Examples 13 to 18, the coated substrate A formed with each dye was prepared in the same manner as in the above “Measurement of OD2 / OD1,” and the absorption spectrum was measured. Table 3 shows the calculated OD2 / OD1.
As described in Table 3, in any of Examples 13 to 18, OD2 / OD1 was larger than 1.25, which was a favorable result.

Figure 2005120350
Figure 2005120350

本発明によれば、高速記録が可能なアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた高速記録が可能な光学記録媒体が提供される。
尚、本出願は、2003年9月11日付けで出願された日本出願(特願2003−319766)に基づいており、その全体が引用により援用される。
According to the present invention, an azo metal chelate dye capable of high-speed recording and an optical recording medium capable of high-speed recording using the azo metal chelate dye are provided.
In addition, this application is based on the Japanese application (Japanese Patent Application No. 2003-319766) for which it applied on September 11, 2003, The whole is used by reference.

実施例1の色素を用いた塗布基板Aの吸収スペクトルである。2 is an absorption spectrum of a coated substrate A using the dye of Example 1. 色素(S−1)〜(S−6)の色素膜におけるOD2/OD1と屈折率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between OD2 / OD1 and the refractive index in the pigment | dye film | membrane of pigment | dye (S-1)-(S-6). 実施例1〜実施例8及び比較例1〜比較例6のOD2/OD1の値である。It is the value of OD2 / OD1 of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6. 実施例1〜実施例8及び比較例1〜比較例5で作製した塗布基板Aの吸収極大波長(OD2を示す波長)と、DVD−ROM検査機(647nm)で測定した、各ディスクの半径40mmの反射率の測定結果である。The absorption maximum wavelength (wavelength indicating OD2) of the coated substrate A produced in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5, and a radius of 40 mm of each disk measured with a DVD-ROM inspection machine (647 nm). It is a measurement result of reflectance. アゾ金属キレート色素の色素膜の吸収スペクトルに吸収肩のある例を示す図である。It is a figure which shows the example which has an absorption shoulder in the absorption spectrum of the pigment | dye film | membrane of an azo metal chelate pigment | dye.

Claims (7)

アゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素であって、下記測定法で測定されるOD2/OD1が1.25より大きいことを特徴とするアゾ金属キレート色素。
(OD2/OD1の測定方法)
(1)アゾ金属キレート色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行ない溶液Aを得る。溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却して溶液Bを得る。
(2)溶液Bを回転数800rpmでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Bが塗布された基板を80℃で5分間保持する。このようにして得た、溶液Bが塗布された基板を塗布基板Aという。
(3)塗布基板Aの400nm〜800nmでの吸収スペクトルを測定する。
(4)得られた吸収スペクトルにおける500nm〜700nmに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をOD2、短波長側の吸収ピークの吸光度をOD1とし、OD2/OD1を算出する。
An azo metal chelate dye comprising an azo dye compound and a metal, wherein OD2 / OD1 measured by the following measurement method is greater than 1.25.
(Measurement method of OD2 / OD1)
(1) After 20 mg of an azo metal chelate dye is contained in 2 g of an octafluoropentanol (OFP) solvent, ultrasonic dispersion is performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain a solution A. Solution A is cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) to obtain solution B.
(2) The solution B is spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 800 rpm. Then, the substrate coated with the solution B is held at 80 ° C. for 5 minutes. The substrate thus coated with the solution B is referred to as a coated substrate A.
(3) The absorption spectrum of the coated substrate A at 400 nm to 800 nm is measured.
(4) Among the absorption peaks observed at 500 nm to 700 nm in the obtained absorption spectrum, the absorbance of the absorption peak on the long wavelength side of the absorption peak having the largest absorbance and the absorbance peak next to that is OD2, OD2 / OD1 is calculated with the absorbance at the absorption peak on the short wavelength side as OD1.
下記一般式(1)で示されるアゾ系色素化合物と金属とからなることを特徴とする請求項1記載のアゾ金属キレート色素。
Figure 2005120350
(式中、Rは水素原子又はCOで示されるエステル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基又は、置換されていてもよいシクロアルキル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、X又はXの少なくともいずれか一方はNHSOY基であり、Yは少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基であり、R4、は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、R6、7、及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基である。)
The azo metal chelate dye according to claim 1, comprising an azo dye compound represented by the following general formula (1) and a metal.
Figure 2005120350
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 , and R 3 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, or a cycloalkyl group which may be substituted. R 2 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, at least one of X 1 or X 2 is an NHSO 2 Y group, and Y is substituted with at least two fluorine atoms. R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group, and R 6, R 7, R 8 and R 9 is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.)
前記金属が、Ni、Co、Cu及びPdからなる群から選択される少なくとも1つであることを特徴とする請求項1又は2に記載のアゾ金属キレート色素。   The azo metal chelate dye according to claim 1 or 2, wherein the metal is at least one selected from the group consisting of Ni, Co, Cu, and Pd. 基板上に、照射された光により情報の記録及び/又は再生が行なわれる記録層を有する光学記録媒体であって、
前記記録層がアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含有し、下記測定法で測定される前記アゾ金属キレート色素のOD2/OD1が1.25より大きいことを特徴とする光学記録媒体。
(OD2/OD1の測定方法)
(1)アゾ金属キレート色素20mgをオクタフルオロペンタノール(OFP)溶媒2gに含有させた後、50℃〜55℃で60分間超音波分散を行ない溶液Aを得る。溶液Aを室温(25±5℃)まで冷却して溶液Bを得る。
(2)溶液Bを回転数800rpmでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Bが塗布された基板を80℃で5分間保持する。このようにして得た、溶液Bが塗布された基板を塗布基板Aという。
(3)塗布基板Aの400nm〜800nmでの吸収スペクトルを測定する。
(4)得られた吸収スペクトルにおける500nm〜700nmに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をOD2、短波長側の吸収ピークの吸光度をOD1とし、OD2/OD1を算出する。
An optical recording medium having a recording layer on which information is recorded and / or reproduced by irradiated light on a substrate,
An optical recording characterized in that the recording layer contains an azo metal chelate dye comprising an azo dye compound and a metal, and OD2 / OD1 of the azo metal chelate dye measured by the following measurement method is larger than 1.25. Medium.
(Measurement method of OD2 / OD1)
(1) After 20 mg of an azo metal chelate dye is contained in 2 g of an octafluoropentanol (OFP) solvent, ultrasonic dispersion is performed at 50 ° C. to 55 ° C. for 60 minutes to obtain a solution A. Solution A is cooled to room temperature (25 ± 5 ° C.) to obtain solution B.
(2) The solution B is spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 800 rpm. Then, the substrate coated with the solution B is held at 80 ° C. for 5 minutes. The substrate thus coated with the solution B is referred to as a coated substrate A.
(3) The absorption spectrum of the coated substrate A at 400 nm to 800 nm is measured.
(4) Among the absorption peaks observed at 500 nm to 700 nm in the obtained absorption spectrum, the absorbance of the absorption peak on the long wavelength side of the absorption peak having the largest absorbance and the absorbance peak next to that is OD2, OD2 / OD1 is calculated with the absorbance at the absorption peak on the short wavelength side as OD1.
前記アゾ金属キレート色素が、下記一般式(1)で示されるアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含有することを特徴とする請求項4に記載の光学記録媒体。
Figure 2005120350
(式中、Rは水素原子又はCOで示されるエステル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基又は、置換されていてもよいシクロアルキル基であり、Rは置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、X又はXの少なくともいずれか一方はNHSOY基であり、Yは少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基であり、R4、は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、R6、7、及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基である。)
The optical recording medium according to claim 4, wherein the azo metal chelate dye contains an azo metal chelate dye composed of an azo dye compound represented by the following general formula (1) and a metal.
Figure 2005120350
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 , and R 3 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, or a cycloalkyl group which may be substituted. R 2 is a linear or branched alkyl group which may be substituted, at least one of X 1 or X 2 is an NHSO 2 Y group, and Y is substituted with at least two fluorine atoms. R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group, and R 6, R 7, R 8 and R 9 is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.)
前記金属が、Ni、Co、Cu及びPdからなる群から選択される少なくとも1つであることを特徴とする請求項4又は5に記載の光学記録媒体。   6. The optical recording medium according to claim 4, wherein the metal is at least one selected from the group consisting of Ni, Co, Cu, and Pd. 前記アゾ金属キレート色素が、照射された前記光に対して波長650nm以下において吸収極大を有することを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載の光学記録媒体。   The optical recording medium according to claim 4, wherein the azo metal chelate dye has an absorption maximum at a wavelength of 650 nm or less with respect to the irradiated light.
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