JP2005112887A - Detergent composition for flux and method for washing using the same - Google Patents

Detergent composition for flux and method for washing using the same Download PDF

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Fumitoshi Tawara
文利 俵
Shigeo Hori
薫夫 堀
Toshimi Owatari
利已 大渡
Hirohiko Furui
裕彦 古井
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Kaken Tech Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a detergent composition for flux having excellent detergency of the flux while consisting essentially of limonene and water which are natural components with a low content of VOC (volatile organic compounds) and having excellent handleability and treating properties by taking environmental problems into consideration and to provide a method for washing using the same. <P>SOLUTION: The detergent composition for the flux comprises the limonene, a surfactant and water and further contains an amine compound. The content of the limonene is regulated within the range of 1 to <40 wt.% based on the total amount. The content of the amine compound is a value within the range of 1-400 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the limonene. The method for washing using the composition is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フラックス用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法に関し、特に、環境問題に配慮しつつ、洗浄性に優れたフラックス用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法に関する。   The present invention relates to a flux cleaning composition and a cleaning method using the same, and more particularly, to a flux cleaning composition excellent in cleaning properties and a cleaning method using the same while considering environmental issues.

従来、天然成分を主体とし、環境問題の発生が少ないことから、所定量のリモネンと、水と、界面活性剤と、を含み、エマルジョン化した水溶性樹脂処理剤が知られている(例えば、特許文献1)。
また、テルペン化合物として、d型リモネン(d−リモネン)や、l型リモネン(l−リモネン)等を用い、それに所定量の界面活性剤を添加してエマルジョン化させたプリント配線板用洗浄剤組成物も知られている(例えば、特許文献2)。
また、所定量のテルペン化合物と、特定の界面活性剤と、フッ素系界面活性剤と、水と、を含む洗浄剤組成物や、所定量のテルペン化合物と、界面活性剤とを含む電子部品用洗浄剤組成物が知られている(例えば、特許文献3および4)。
さらに、完全水素化テルペン類を30重量%以上、界面活性剤を10〜70重量%の範囲でそれぞれ含有したフラックス用洗浄剤も知られている(例えば、特許文献5)。
特開平10−219291号公報 特表昭63−501908号公報 特開平3 −212497号公報 特開平3 −212498号公報 特開平6 −228595号公報
Conventionally, a water-soluble resin treatment agent that contains a predetermined amount of limonene, water, and a surfactant and is emulsified is known because it is mainly composed of natural ingredients and has less environmental problems (for example, Patent Document 1).
In addition, as a terpene compound, a d-type limonene (d-limonene) or l-type limonene (l-limonene) is used, and a detergent composition for a printed wiring board is emulsified by adding a predetermined amount of a surfactant thereto. A thing is also known (for example, patent document 2).
Also, a cleaning composition containing a predetermined amount of a terpene compound, a specific surfactant, a fluorosurfactant, and water, or an electronic component including a predetermined amount of a terpene compound and a surfactant. A cleaning composition is known (for example, Patent Documents 3 and 4).
Furthermore, a flux cleaning agent containing 30% by weight or more of fully hydrogenated terpenes and 10 to 70% by weight of a surfactant is also known (for example, Patent Document 5).
Japanese Patent Laid-Open No. 10-219291 JP-T 63-501908 Japanese Patent Laid-Open No. 3-212497 JP-A-3-212498 JP-A-6-228595

しかしながら、特許文献1〜5に開示されたいずれのフラックス用洗浄剤組成物等においても、リモネンの使用量が多すぎたり、電子部品等やハンダ処理装置等に付着したフラックスに対する洗浄性が不十分であるため、精度良くハンダ処理ができない一方、揮発性有機化合物が多かったり、消防法上の危険物として慎重に取り扱わなければならなかったりするという問題が見られた。
また、特許文献1〜5に開示されたいずれのフラックス用洗浄剤組成物等においても、界面活性剤を比較的多量に添加しなければならないために、当該界面活性剤が、被洗浄物である電子部品や基板等に残留しやすく、被洗浄物における誘電特性が劣化するという問題も見られた。
However, in any of the cleaning compositions for fluxes disclosed in Patent Documents 1 to 5, the amount of limonene used is too large, or the cleaning performance for flux adhering to electronic parts, solder processing devices, etc. is insufficient. Therefore, while the soldering process cannot be performed with high accuracy, there are problems that there are many volatile organic compounds and that they must be handled carefully as dangerous materials under the Fire Service Law.
Further, in any of the cleaning compositions for fluxes disclosed in Patent Documents 1 to 5, since a surfactant must be added in a relatively large amount, the surfactant is an object to be cleaned. There was also a problem that the dielectric properties of the object to be cleaned deteriorated easily remaining on electronic parts and substrates.

そこで、本発明の発明者らは鋭意検討した結果、所定量のリモネンとともに、所定量のアミン化合物と、を組み合わせて使用することにより、天然成分であるリモネンおよび水を主成分としたままであっても、フラックスに対して十分な洗浄性を示すばかりか、揮発性有機化合物の含有量を減少できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、フラックスが付着した電子部品やハンダ処理装置等の洗浄に最適であって、環境問題に配慮して、天然成分であるリモネンおよび水を主成分としつつも、フラックスの洗浄性に優れ、かつ、揮発性有機化合物の含有量が少なくて、取り扱い性や処理性に優れたフラックス用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供することを目的としている。
Thus, as a result of intensive studies, the inventors of the present invention have used a predetermined amount of limonene and a predetermined amount of an amine compound in combination, so that the main components are limonene and water, which are natural components. However, the present invention has been completed by finding out that it exhibits not only sufficient cleaning properties with respect to the flux but also that the content of volatile organic compounds can be reduced.
That is, the present invention is most suitable for cleaning electronic parts and solder processing devices to which flux is adhered, and considering the environmental problems, the cleaning properties of the flux are also made with limonene and water as the main components. It is an object of the present invention to provide a flux cleaning composition that is excellent in handling and processing properties and has a low content of volatile organic compounds, and a cleaning method using the same.

本発明によれば、リモネンと、界面活性剤と、水と、を含むフラックス用洗浄剤組成物であって、アミン化合物をさらに含むとともに、リモネンの含有量を、全体量に対して、1〜40重量%未満の範囲内の値とするとともに、当該リモネン100重量部に対して、アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値としたフラックス用洗浄剤組成物が提供され、上述した問題点を解決することができる。   According to the present invention, a flux cleaning composition comprising limonene, a surfactant and water, further comprising an amine compound, and the content of limonene is 1 to Provided is a flux cleaning composition having a value in the range of less than 40% by weight and a content of the amine compound in the range of 1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the limonene. The problems described above can be solved.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を構成するにあたり、フラックス用洗浄剤組成物の引火点を40℃以上し、かつ、燃焼点を60℃以上とすることが好ましい。   Further, in constituting the flux cleaning composition of the present invention, it is preferable that the flash cleaning composition has a flash point of 40 ° C. or higher and a combustion point of 60 ° C. or higher.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を構成するにあたり、フラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物(VOC:Volatile Organic Compound)の含有量を20重量%以下とすることが好ましい。
なお、かかる揮発性有機化合物は、沸点が400℃以下の有機化合物であると定義して、概略的に算出することができる。
In constituting the flux cleaning composition of the present invention, the content of volatile organic compounds (VOC) in the flux cleaning composition is preferably 20% by weight or less.
Such a volatile organic compound can be calculated roughly by defining it as an organic compound having a boiling point of 400 ° C. or lower.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を構成するにあたり、水の含有量を、全体量に対して、60〜98重量%の範囲内の値とすることが好ましい。   Moreover, when comprising the cleaning composition for fluxes of this invention, it is preferable to make content of water into the value within the range of 60 to 98 weight% with respect to the whole quantity.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を構成するにあたり、アミン化合物のアミン価を100mgKOH/g以上とすることが好ましい。
なお、かかるアミン化合物のアミン価は、アミン化合物1gに対して、塩酸を用いて中和滴定した際に要した当該塩酸に当量の水酸化カリウム量(mg)として測定することができる。
In constituting the flux cleaning composition of the present invention, the amine value of the amine compound is preferably 100 mgKOH / g or more.
The amine value of the amine compound can be measured as an amount of potassium hydroxide (mg) equivalent to the hydrochloric acid required for neutralization titration with hydrochloric acid with respect to 1 g of the amine compound.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を構成するにあたり、界面活性剤の含有量を、全体量に対して、0.1〜10重量%の範囲内の値とすることが好ましい。   Moreover, when comprising the cleaning composition for fluxes of this invention, it is preferable to make content of surfactant into the value within the range of 0.1 to 10 weight% with respect to the whole quantity.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を構成するにあたり、界面活性剤のHLB値を8〜15の範囲内の値とすることが好ましい。
なお、かかる界面活性剤のHLB値は、グリフィンのHLB計算法により算出することができる。
Moreover, when comprising the flux cleaning composition of this invention, it is preferable to make the HLB value of surfactant into the value within the range of 8-15.
In addition, the HLB value of this surfactant can be calculated by the HLB calculation method of Griffin.

また、本発明の別の態様は、リモネンと、界面活性剤と、水と、を含むフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法であって、さらにアミン化合物を含むとともに、リモネン100重量部に対して、当該アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値としたフラックス用洗浄剤組成物を用いて、ハンダフラックスを除去することを特徴とした所定のフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法である。   Another embodiment of the present invention is a cleaning method using a flux cleaning composition containing limonene, a surfactant, and water, further containing an amine compound, and 100 parts by weight of limonene. On the other hand, a predetermined flux cleaning composition, wherein solder flux is removed using a flux cleaning composition in which the amine compound content is in the range of 1 to 400 parts by weight. Is a cleaning method using

本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、リモネン系洗浄剤組成物において、所定量のリモネンおよびアミン化合物を、所定割合で併用することにより、環境汚染が少なく、天然成分であるリモネンや水を主成分としたままであっても、フラックスに対して十分な洗浄性を示すばかりか、揮発性有機化合物の含有量が減少し、さらには、容易に取り扱かったり、処理したりすることができる。   According to the cleaning composition for flux of the present invention, in a limonene-based cleaning composition, a predetermined amount of limonene and an amine compound are used together in a predetermined ratio, so that environmental pollution is small and natural ingredients such as limonene and water are used. Even if the main component remains as a main component, it not only exhibits sufficient cleaning properties against the flux, but the content of volatile organic compounds is reduced, and furthermore, it can be easily handled and processed. Can do.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、フラックス用洗浄剤組成物の引火点および燃焼点を所定温度以上の値とすることにより、消防法上の非危険物として取り扱うことができる。また、このような引火点や燃焼点のフラックス用洗浄剤組成物であれば、洗浄工程において適当に加熱したり、保管工程において、保管条件を緩和することもできる。   Further, according to the flux cleaning composition of the present invention, by setting the flash point and the combustion point of the flux cleaning composition to a value equal to or higher than a predetermined temperature, it can be handled as a non-hazardous material in the Fire Service Act. . Moreover, if it is a cleaning composition for flux of such a flash point or a combustion point, it can be heated appropriately in a washing | cleaning process, or storage conditions can also be eased in a storage process.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、フラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物の含有量を所定値以下とすることにより、環境問題の発生を有効に防止したり、水系洗浄剤組成物として、リンス工程を省略したりすることができる。   Moreover, according to the cleaning composition for flux of the present invention, by making the content of the volatile organic compound in the cleaning composition for flux below a predetermined value, it is possible to effectively prevent the occurrence of environmental problems, As the aqueous detergent composition, the rinsing step can be omitted.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、水の含有量を所定範囲に制限することにより、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性や乳化程度、あるいは引火点、燃焼点、粘度、pH値等の物性の調整が容易になるばかりか、所定量の界面活性剤を含む水性洗浄剤組成物として、リンス工程を省略したり、消防法上の非危険物として取り扱ったりすることができる。   Further, according to the flux cleaning composition of the present invention, by limiting the content of water to a predetermined range, the cleaning properties and emulsification degree of the flux cleaning composition, or flash point, combustion point, viscosity, Not only is it easy to adjust the physical properties such as pH value, but it can be used as an aqueous detergent composition containing a predetermined amount of surfactant, omitting the rinsing step, and handling it as a non-hazardous material under the Fire Service Act. .

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、使用するアミン化合物のアミン価を所定値とすることにより、得られるフラックス用洗浄剤組成物の洗浄性等や、引火点等の物性の調整が容易になるばかりか、アミン化合物自体の取り扱い性も良好となる。   Further, according to the flux cleaning composition of the present invention, by setting the amine value of the amine compound to be used to a predetermined value, the cleaning properties of the flux cleaning composition to be obtained, physical properties such as flash point, etc. Not only is the adjustment easy, but the handling property of the amine compound itself is also good.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、界面活性剤の含有量を所定範囲に制限することにより、界面活性剤の残留問題を効果的に解消できるとともに、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性等や、引火点等の物性の調整がさらに容易になる。   In addition, according to the flux cleaning composition of the present invention, the surfactant residual problem can be effectively solved by limiting the surfactant content to a predetermined range, and the flux cleaning composition It becomes easier to adjust the physical properties such as the detergency and flash point.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物によれば、界面活性剤のHLB値を所定範囲に制限することにより、非イオン性界面活性剤として取り扱うことができるばかりか、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性等や、引火点等の物性の調整がさらに容易になる。   In addition, according to the flux cleaning composition of the present invention, by limiting the HLB value of the surfactant to a predetermined range, the flux cleaning composition can be handled as a nonionic surfactant. It becomes easier to adjust the physical properties such as the detergency and flash point.

また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法によれば、所定量のリモネンおよびアミン化合物を、所定割合で併用したフラックス用洗浄剤組成物を使用することにより、環境汚染が少なく、天然成分であるリモネンや水を主成分としたままであっても、フラックスに対して十分な洗浄性を示すことができる。
また、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法によれば、使用するフラックス用洗浄剤組成物の引火点や燃焼点等の物性の調整が容易であるため、所定のフラックス用洗浄剤組成物を消防法上の非危険物として取り扱ったり、処理したりすることもできる。
Further, according to the cleaning method using the flux cleaning composition of the present invention, environmental pollution is reduced by using the flux cleaning composition in which a predetermined amount of limonene and an amine compound are used in a predetermined ratio. Even if the main component is limonene or water, which is a natural component, sufficient detergency for the flux can be exhibited.
Further, according to the cleaning method using the flux cleaning composition of the present invention, it is easy to adjust physical properties such as a flash point and a combustion point of the flux cleaning composition to be used. The agent composition can be handled or treated as a non-dangerous material under the Fire Service Law.

[第1の実施の形態]
第1の実施の形態は、リモネンと、界面活性剤と、水と、を含むフラックス用洗浄剤組成物であって、アミン化合物をさらに含むとともに、リモネンの含有量を、全体量に対して、1〜40重量%未満の範囲内の値とするとともに、当該リモネン100重量部に対して、アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値としたフラックス用洗浄剤組成物である。
なお、第1の実施の形態の説明においては、フラックス用洗浄剤組成物自体について具体的に説明するものとし、当該フラックス用洗浄剤組成物を適用する被洗浄物については、第2の実施の形態である洗浄方法において説明する。
[First embodiment]
1st Embodiment is a cleaning composition for flux containing limonene, a surfactant, and water, and further contains an amine compound, and the content of limonene is based on the total amount, A cleaning composition for fluxes having a value within a range of less than 1 to 40% by weight and a content of an amine compound within a range of 1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of limonene. .
In the description of the first embodiment, the flux cleaning composition itself is specifically described, and the object to be cleaned to which the flux cleaning composition is applied is described in the second embodiment. The cleaning method which is a form will be described.

1.リモネン
(1)種類
第1の実施の形態のフラックス用洗浄剤組成物に使用されるリモネンは、柑橘類の果皮等に多く含まれる油状物質であって、広義にはテルペン化合物の一種である。
かかるリモネンが天然物の場合には、光学活性としてはd体であることから、天然物としての抽出物であることを強調するために、d−リモネンと表記する場合がある。
また、d−リモネンに関して、発がん性や変異原性は認められず、FDA(米国食品薬品局)では、食品添加物としてGRAS15(generally recognized as safe、一般的安全成分)に認定している。よって、かかるリモネンは、人体に対して無害であると共に、環境汚染やオゾン層の破壊などの環境破壊問題もなく、さらには、微生物分解性が良好であり、処理性にも優れていると言える。
なお、リモネンの種類に関して、長期使用性を確保するために、リモネンの構成分子中に含まれる不飽和結合に対して水素添加して得られた完全水添化物や、部分水添化物を一部使用することも好ましい。
1. Limonene (1) Type Limonene used in the flux cleaning composition of the first embodiment is an oily substance contained in a large amount in citrus peels and is a kind of terpene compound in a broad sense.
In the case where such limonene is a natural product, it is d-form as optical activity, so that it may be expressed as d-limonene in order to emphasize that it is an extract as a natural product.
Moreover, carcinogenicity and mutagenicity are not recognized regarding d-limonene, and FDA (US Food and Drug Administration) has certified GRAS15 (generally recognized as safe) as a food additive. Therefore, such limonene is harmless to the human body, has no environmental damage problems such as environmental pollution and ozone layer destruction, and has good microbial degradability and excellent processability. .
Regarding the type of limonene, in order to ensure long-term usability, some of the fully hydrogenated products and partially hydrogenated products obtained by hydrogenating unsaturated bonds contained in the constituent molecules of limonene are partially used. It is also preferable to use it.

(2)含有量
また、リモネンの含有量を、全体量に対して、1〜40重量%未満の範囲内の値にすることを特徴とする。
この理由は、かかるリモネンの含有量が、1重量%未満の値になると、フラックスに対する洗浄効果が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるリモネンの含有量が、40重量%を超えると、可燃性液体量が所定量を超えるために、消防法上の危険物として取り扱わなければならない場合があるためである。
したがって、その洗浄性と、取り扱い性とのバランスを考慮して、リモネンの含有量を、全体量に対して、3〜20重量%の範囲内の値にすることがより好ましく、5〜15重量%の範囲内の値にすることがさらに好ましい。
(2) Content Further, the content of limonene is set to a value within the range of 1 to less than 40% by weight with respect to the total amount.
The reason for this is that when the content of limonene is less than 1% by weight, the cleaning effect on the flux may be significantly reduced. On the other hand, if the content of limonene exceeds 40% by weight, the amount of flammable liquid exceeds a predetermined amount, and therefore, it may be necessary to handle it as a dangerous material under the Fire Service Law.
Therefore, in consideration of the balance between the cleanability and the handleability, the limonene content is more preferably 3 to 20% by weight with respect to the total amount, preferably 5 to 15% by weight. More preferably, the value is within the range of%.

2.界面活性剤
(1)種類
第1の実施の形態のフラックス用洗浄剤組成物に使用される界面活性剤は、上述したリモネンを、水に対して乳化あるいは可溶化させるために添加するが、さらには、被洗浄物に対する親和性を向上させ、結果として、洗浄性を高めるために添加している。
ここで、界面活性剤の好適例としては、非イオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンベンジルアルコール、ポリグリセリン脂肪酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、乳化あるいは可溶化性をさらに高めるために、これら非イオン界面活性剤100重量部に対して、0.1〜10重量部の範囲の陰イオン界面活性剤、例えば、セッケン、高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、硫酸化油、硫酸化脂肪酸エステル、硫酸化オレフィン、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル、イゲポン型、リン酸エステル塩等を添加することも好ましい。
2. Surfactant (1) Type The surfactant used in the flux cleaning composition of the first embodiment is added to emulsify or solubilize the above-described limonene in water. Is added to improve the affinity for the object to be cleaned and, as a result, improve the cleaning property.
Here, as preferable examples of the surfactant, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene polypropylene alkyl ether, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene which are nonionic surfactants are used. A single type of glycol fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene benzyl alcohol, polyglycerin fatty acid ester, or a combination of two or more types may be mentioned.
In order to further improve emulsification or solubilization, anionic surfactants in the range of 0.1 to 10 parts by weight, for example soap, higher alcohol sulfate, with respect to 100 parts by weight of these nonionic surfactants. Salts, higher alkyl ether sulfates, sulfated oils, sulfated fatty acid esters, sulfated olefins, alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, paraffin sulfonates, sulfosuccinic acid diesters, Igepon type, phosphate ester salts, etc. It is also preferable to add.

(2)HLB
また、界面活性剤のHLBは特に制限されるものではないが、非イオン系界面活性剤として使用できることから、8〜15の範囲内の値とすることが好ましい。
すなわち、界面活性剤として、このような非イオン系界面活性剤を添加することにより、リモネンを、水に対して乳化あるいは可溶化させることができるためである。
(2) HLB
The HLB of the surfactant is not particularly limited, but is preferably a value within the range of 8 to 15 because it can be used as a nonionic surfactant.
That is, limonene can be emulsified or solubilized in water by adding such a nonionic surfactant as a surfactant.

(3)含有量
また、界面活性剤の含有量は、リモネンの乳化程度等を考慮して定めることが好ましいが、例えば、全体量に対して、0.1〜10重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる界面活性剤の含有量が、0.1重量%未満の値になると、リモネンの乳化程度が不十分となって、水と分離しやすくなる場合があるためである。一方、かかる界面活性剤の含有量が、10重量%を超えると、被洗浄物への残留量が多くなって、リンス工程が必須になったり、被洗浄物の電気特性を劣化させたりする場合があるためである。
したがって、その乳化性と、残留性等とのバランスを考慮して、界面活性剤の含有量を、全体量に対して、0.5〜8重量%の範囲内の値にすることがより好ましく、1〜5重量%の範囲内の値にすることがさらに好ましい。
(3) Content Further, the content of the surfactant is preferably determined in consideration of the degree of emulsification of limonene, etc., for example, a value within the range of 0.1 to 10% by weight with respect to the total amount. It is preferable that
This is because when the content of the surfactant is less than 0.1% by weight, the degree of emulsification of limonene becomes insufficient and it may be easily separated from water. On the other hand, when the content of such a surfactant exceeds 10% by weight, the residual amount in the object to be cleaned increases, and a rinsing step becomes essential, or the electrical characteristics of the object to be cleaned are deteriorated. Because there is.
Accordingly, in consideration of the balance between the emulsifiability and the persistence, the content of the surfactant is more preferably set to a value within the range of 0.5 to 8% by weight with respect to the total amount. More preferably, the value is in the range of 1 to 5% by weight.

3.水
第1の実施の形態のフラックス用洗浄剤組成物に使用される水は、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性や乳化程度、あるいは、引火点、燃焼点、粘度、pH値等の物性の調整のためや、リンス工程の省略化や簡略化のため、さらには、消防法上の非危険物としての取り扱い性等を確保するために添加している。
ここで、水の含有量は、リモネンの乳化程度や取り扱い性等を考慮して定めることが好ましいが、例えば、全体量に対して、60〜98重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる水の含有量が、60重量%未満の値になると、消防法上の危険物に該当したり、洗浄剤組成物の粘度が上昇し、取り扱いが困難になったりする場合があるためである。一方、かかる水の含有量が、98重量%を超えると、被洗浄物としてのフラックスの洗浄性が著しく低下する場合があるためである。
したがって、その取り扱い性と、洗浄性等とのバランスを考慮して、水の含有量を、全体量に対して、70〜95重量%の範囲内の値にすることがより好ましく、80〜90重量%の範囲内の値にすることがさらに好ましい。
3. Water used for the flux cleaning composition according to the first embodiment may be used for the cleaning properties and emulsification degree of the flux cleaning composition, or the physical properties such as flash point, combustion point, viscosity, pH value, etc. It is added for adjustment, for the omission and simplification of the rinsing process, and for ensuring handling as a non-hazardous material under the Fire Service Law.
Here, the content of water is preferably determined in consideration of the degree of emulsification of limonene, handleability, and the like. For example, the water content is preferably set to a value in the range of 60 to 98% by weight with respect to the total amount. .
The reason for this is that if the water content falls below 60% by weight, it may fall under the category of dangerous goods under the Fire Service Act, or the viscosity of the cleaning composition may increase, making handling difficult. Because there is. On the other hand, if the content of water exceeds 98% by weight, the cleaning performance of the flux as the object to be cleaned may be significantly reduced.
Therefore, in consideration of the balance between the handleability and the washability, the water content is more preferably set to a value within the range of 70 to 95% by weight, based on the total amount, 80 to 90 More preferably, the value is within the range of% by weight.

4.アミン化合物
(1)種類
アミン化合物は、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性や乳化程度、あるいは引火点、燃焼点、粘度、pH値等の物性の調整のために添加される化合物である。
ここで、アミン化合物の種類は、添加目的に合致したものであれば特に制限されるものではないが、好適例として、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、2−アミノ−2−エチル−1−プロパノール、アミノメチルプロパンジオール、アミノエチルプロパンジオール、アミノブタノール、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−メチルモノエタノールアミン、N−エチルモノエタノールアミン、N−プロピルモノエタノールアミン、N−ブチルモノエタノールアミン、N−シクロヘキシルモノエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N−プロピルジエタノールアミン、N−ブチルジエタノールアミン、N−シクロヘキシルジエタノールアミン、N−シクロヘキシルジメタノールアミン、N,N−ジメチルモノエタノールアミン、N,N−ジエチルモノエタノールアミン、N,N−ジプロピルモノエタノールアミン、N,N−ジブチルモノエタノールアミン、N,N−ジシクロヘキシルモノエタノールアミン、ラウリルジメチルアミン、ミリスチルジメチルアミン、椰子アルキルジメチルアミン、セチルジメチルアミン、牛脂アルキルジメチルアミン、ステアリルジメチルアミン、ステアリルジヒドロキシエチルアミン、N−ラウロイルアミドプロピル−N’−ジメチルアミン、N−ミリストイルアミドプロピル−N’−ジメチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
4). Type of amine compound (1) The amine compound is a compound added for the purpose of adjusting the detergency and emulsification degree of the flux cleaning composition, or the physical properties such as the flash point, combustion point, viscosity, and pH value.
Here, the type of amine compound is not particularly limited as long as it matches the purpose of addition, but preferred examples include 2-amino-2-methyl-1-propanol and 2-amino-2-ethyl. -1-propanol, aminomethylpropanediol, aminoethylpropanediol, aminobutanol, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-methylmonoethanolamine, N-ethylmonoethanolamine, N-propylmonoethanolamine, N-butylmonoethanolamine, N-cyclohexylmonoethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N-propyldiethanolamine, N-butyldie Nolamine, N-cyclohexyldiethanolamine, N-cyclohexyldimethanolamine, N, N-dimethylmonoethanolamine, N, N-diethylmonoethanolamine, N, N-dipropylmonoethanolamine, N, N-dibutylmonoethanolamine N, N-dicyclohexylmonoethanolamine, lauryldimethylamine, myristyldimethylamine, coconut alkyldimethylamine, cetyldimethylamine, beef tallow alkyldimethylamine, stearyldimethylamine, stearyldihydroxyethylamine, N-lauroylamidopropyl-N′-dimethyl A single type of amine, N-myristoylamidopropyl-N′-dimethylamine, triethylamine, trimethylamine, or a combination of two or more types may be mentioned. The

また、リモネンに対する乳化程度がより優れており、臭気も少ないことより、シクロ環構造を導入したアミノアルコールを使用することもより好ましい。すなわち、N−シクロヘキシルジエタノールアミンやN−シクロヘキシルジメタノールアミン等が好適である。
さらに、これらのアミン化合物のうち、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、2−アミノ−2−エチル−1−プロパノール、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、およびN−シクロヘキシルジエタノールアミンは、比較的安価であるとともに、比較的少量添加するだけで、フラックスを洗浄する際に優れた洗浄性を示すことより、より好ましいアミノアルコールである。
In addition, it is more preferable to use an amino alcohol having a cyclo ring structure introduced, because the emulsification degree with respect to limonene is better and the odor is less. That is, N-cyclohexyldiethanolamine, N-cyclohexyldimethanolamine and the like are suitable.
Furthermore, among these amine compounds, 2-amino-2-methyl-1-propanol, 2-amino-2-ethyl-1-propanol, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, and N-cyclohexyldiethanolamine are: It is a more preferred aminoalcohol because it is relatively inexpensive and exhibits excellent detergency when the flux is washed only by adding a relatively small amount.

また、アミン化合物の種類を、そのアミン価から選択することも好ましい。すなわち、アミン価が100mgKOH/g以上のアミン化合物を選択することが好ましい。
この理由は、使用するアミン化合物のアミン価が100mgKOH/g未満になると、フラックス用洗浄剤組成物を構成した場合に、洗浄性が極端に低下し、フラックスを短時間に、かつ十分に洗浄することが困難になる場合があるためである。
一方、アミン化合物のアミン価が過度に高くなると、引火性が高くなって、得られるフラックス用洗浄剤組成物の取り扱いが困難になったり、洗浄温度を過度に低下したりしなければならない場合がある。
したがって、アミン価が150〜1000mgKOH/gのアミン化合物を選択することがより好ましく、アミン価が200〜800mgKOH/gのアミン化合物を選択することがより好ましい。
It is also preferable to select the type of amine compound from the amine value. That is, it is preferable to select an amine compound having an amine value of 100 mgKOH / g or more.
This is because when the amine value of the amine compound to be used is less than 100 mgKOH / g, when the cleaning composition for flux is constituted, the cleaning property is extremely lowered, and the flux is sufficiently cleaned in a short time. This may be difficult.
On the other hand, if the amine value of the amine compound is excessively high, the flammability becomes high, and it may be difficult to handle the resulting flux cleaning composition or the cleaning temperature may be excessively decreased. is there.
Therefore, it is more preferable to select an amine compound having an amine value of 150 to 1000 mgKOH / g, and it is more preferable to select an amine compound having an amine value of 200 to 800 mgKOH / g.

また、アミン化合物の種類を、その沸点から選択することも好ましい。すなわち、沸点が120〜400℃のアミン化合物を選択することが好ましい。
この理由は、かかるアミン化合物の沸点が120℃未満になると、引火性が高くなって、得られるフラックス用洗浄剤組成物の取り扱いが困難になったり、洗浄温度を過度に低下したりしなければならない場合があるためである。
一方、アミン化合物の沸点が400℃を超えると、フラックスを短時間に、かつ十分に洗浄することが困難になる場合があるためである。
したがって、沸点が160〜370℃のアミン化合物を選択することがより好ましい。
It is also preferable to select the type of amine compound from its boiling point. That is, it is preferable to select an amine compound having a boiling point of 120 to 400 ° C.
The reason for this is that when the boiling point of such an amine compound is less than 120 ° C., the flammability becomes high and handling of the resulting flux cleaning composition becomes difficult or the cleaning temperature is not excessively lowered. This is because there is a case where it is not possible.
On the other hand, when the boiling point of the amine compound exceeds 400 ° C., it may be difficult to sufficiently wash the flux in a short time.
Therefore, it is more preferable to select an amine compound having a boiling point of 160 to 370 ° C.

(2)含有量1
また、アミン化合物の含有量を、全体量に対して、0.1〜35重量%の範囲内の値にすることが好ましい。
この理由は、かかるアミン化合物の含有量が、0.1重量%未満の値になると、フラックス等に含まれる酸物質との反応性が低下し、結果として、フラックスに対する洗浄効果が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるアミン化合物の含有量が、35重量%を超えると、フラックスに対する洗浄効果が逆に低下したり、被洗浄物の被着物である電子部品の基板等を侵食したりする場合があるためである。
したがって、その洗浄性と、侵食性等とのバランスを考慮して、アミン化合物の含有量を、全体量に対して、0.5〜20重量%の範囲内の値にすることがより好ましく、1〜15重量%の範囲内の値にすることがさらに好ましい。
(2) Content 1
Moreover, it is preferable to make content of an amine compound into the value within the range of 0.1 to 35 weight% with respect to the whole quantity.
The reason for this is that when the content of the amine compound is less than 0.1% by weight, the reactivity with the acid substance contained in the flux or the like decreases, and as a result, the cleaning effect on the flux decreases remarkably. Because there is. On the other hand, if the content of the amine compound exceeds 35% by weight, the cleaning effect on the flux may be reduced, or the substrate of the electronic component that is the adherend of the object to be cleaned may be eroded. It is.
Therefore, in consideration of the balance between the detergency and the erodibility, the content of the amine compound is more preferably set to a value within the range of 0.5 to 20% by weight with respect to the total amount. More preferably, the value is within the range of 1 to 15% by weight.

ここで、図1〜図2を参照して、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値および洗浄性評価に対するアミン化合物の含有量の影響を詳細に説明する。なお、アミン化合物の一例として、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールを例にとって説明する。
図1は、アミン化合物の含有量が、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値に与える影響を示すことを説明する図であり、横軸に、全体量に対するアミン化合物の含有量(重量%)が採って示してあり、縦軸に、pH値(−)が採って示してある。この図1から容易に理解できるように、アミン化合物の含有量が多い程、高いpH値が得られる傾向が見られ、特に、0.1〜10重量%の含有量の範囲において変化が大きく、その後は少しずつpH値が大きくなる傾向が見られている。より具体的には、アミン化合物の含有量が1重量%の場合に、pH値は約10.8であり、5重量%の場合に、pH値は約11.6であり、10重量%の場合に、pH値は約11.9であり、20重量%の場合に、pH値は約12.2である。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値を、アミン化合物の含有量を適宜変えることによって、変えられることが理解される。
なお、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値が、洗浄性評価に密接的に関係していることは、後述する図3の結果より明白である。
Here, with reference to FIGS. 1-2, the influence of the content of the amine compound on the pH value and the detergency evaluation in the cleaning composition for flux will be described in detail. In addition, 2-amino-2-methyl-1-propanol will be described as an example of an amine compound.
FIG. 1 is a diagram for explaining the influence of the amine compound content on the pH value in the flux cleaning composition. The horizontal axis shows the amine compound content (% by weight) relative to the total amount. The pH value (-) is shown on the vertical axis. As can be easily understood from FIG. 1, the higher the amine compound content, the higher the pH value tends to be obtained, and the change is particularly large in the range of 0.1 to 10% by weight. After that, the pH value tends to increase little by little. More specifically, when the amine compound content is 1% by weight, the pH value is about 10.8, and when 5% by weight, the pH value is about 11.6 and 10% by weight. In some cases, the pH value is about 11.9, and at 20% by weight, the pH value is about 12.2.
Therefore, it is understood that the pH value in the flux cleaning composition can be changed by appropriately changing the content of the amine compound.
In addition, it is clear from the result of FIG. 3 mentioned later that the pH value in the cleaning composition for flux is closely related to the evaluation of cleaning properties.

また、図2は、アミン化合物の含有量が、フラックス用洗浄剤組成物における洗浄回数に与える影響を示すことを説明する図であり、横軸に、全体量に対するアミン化合物の含有量(重量%)が採って示してあり、縦軸に、二種類のフラックス(フラックス1およびフラックス2)を完全に洗浄できるまでの洗浄回数(−)が採って示してある。この図2から容易に理解できるように、アミン化合物の含有量が多い程、二種類のフラックスに対する洗浄回数が少なくなる傾向が見られ、特に、0.1〜5重量%の含有量の範囲において変化が大きく、その後は少しずつ洗浄回数が少なくなる傾向が見られている。より具体的には、アミン化合物の含有量が0.5重量%の場合に、フラックス1に対する洗浄回数は180回であって、フラックス2に対する洗浄回数は110回である。また、アミン化合物の含有量が5重量%の場合に、フラックス1に対する洗浄回数は90回であって、フラックス2に対する洗浄回数は60回である。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物におけるアミン化合物の含有量を適宜変えることによって、フラックスに対する洗浄回数、すなわち洗浄性を大きく変えられることが理解される。
なお、アミン化合物の含有量がフラックス用洗浄剤組成物におけるpH値あるいはアミン価に影響し、その結果、後述する図3や図4に示すように、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性に影響していることは明白である。
FIG. 2 is a diagram illustrating the influence of the amine compound content on the number of cleanings in the flux cleaning composition. The horizontal axis represents the amine compound content (wt%) relative to the total amount. ), And the vertical axis indicates the number of times of cleaning (−) until two types of fluxes (flux 1 and flux 2) can be completely cleaned. As can be easily understood from FIG. 2, as the content of the amine compound is larger, the number of times of washing with respect to the two kinds of fluxes tends to be reduced, particularly in the range of 0.1 to 5% by weight. The change is large, and after that, the number of washings tends to decrease little by little. More specifically, when the amine compound content is 0.5% by weight, the number of cleaning times for the flux 1 is 180 times and the number of cleaning times for the flux 2 is 110 times. When the content of the amine compound is 5% by weight, the number of cleaning times for the flux 1 is 90 times, and the number of cleaning times for the flux 2 is 60 times.
Therefore, it is understood that the number of cleanings with respect to the flux, that is, the cleaning property, can be greatly changed by appropriately changing the content of the amine compound in the flux cleaning composition.
The amine compound content affects the pH value or amine value of the flux cleaning composition, and as a result, affects the cleaning properties of the flux cleaning composition, as shown in FIGS. It is clear that you are doing.

(3)含有量2
また、アミン化合物の含有量を、リモネンの含有量を考慮して定めることが好ましい。すなわち、リモネン100重量部に対して、アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるアミン化合物の含有量が1重量部未満の値になると、フラックス用洗浄剤組成物の洗浄性が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるアミン化合物の含有量が400重量部を超えると、消防法上の危険物として取り扱う必要性が生じたり、洗浄剤組成物の粘度が上昇して、取り扱いが困難になったりする場合があるためである。
したがって、アミン化合物の含有量を、リモネン100重量部に対して、10〜350重量部の範囲内の値にすることがより好ましく、30〜300重量部の範囲内の値にすることがさらに好ましい。
(3) Content 2
Moreover, it is preferable to determine the content of the amine compound in consideration of the content of limonene. That is, it is preferable to set the content of the amine compound to a value within the range of 1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of limonene.
This is because when the content of the amine compound is less than 1 part by weight, the cleaning properties of the flux cleaning composition may be significantly reduced. On the other hand, if the content of the amine compound exceeds 400 parts by weight, it may be necessary to handle it as a hazardous material under the Fire Service Law, or the viscosity of the cleaning composition may increase, making it difficult to handle. Because there is.
Accordingly, the content of the amine compound is more preferably set to a value within the range of 10 to 350 parts by weight, and further preferably set to a value within the range of 30 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of limonene. .

5.添加物
また、第1の実施形態におけるフラックス用洗浄剤組成物には、その効果を損なわない範囲で、高級アルコール類、グリコールエーテル類、防錆剤、防腐剤、酸化防止剤、消泡剤等を添加することができる。
5). Additives In addition, the detergent composition for flux in the first embodiment has higher alcohols, glycol ethers, rust preventives, antiseptics, antioxidants, antifoaming agents, etc., as long as the effects are not impaired. Can be added.

6.物性
(1)引火点および燃焼点
フラックス用洗浄剤組成物の引火点を40℃以上とすることが好ましい。
この理由は、かかるフラックス用洗浄剤組成物の引火点が40℃未満となると、消防法上の危険物として慎重に取り扱わなければならないためである。
ただし、フラックス用洗浄剤組成物の引火点が過度に高くなると、使用可能なリモネン量や、アミン化合物等の種類が過度に制限される場合がある。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物の引火点を45〜200℃の範囲内の値とすることがより好ましく、50〜100℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、フラックス用洗浄剤組成物の燃焼点を60℃以上とすることが好ましい。
この理由は、かかるフラックス用洗浄剤組成物の燃焼点が60℃未満となると、消防法上の危険物として慎重に取り扱わなければならないためである。
ただし、フラックス用洗浄剤組成物の燃焼点が過度に高くなると、使用可能なリモネン量や、アミン化合物等の種類が過度に制限される場合がある。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物の燃焼点を80〜250℃の範囲内の値とすることがより好ましく、100〜150℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
6). Physical Properties (1) Flash Point and Combustion Point It is preferable that the flash point of the flux cleaning composition is 40 ° C. or higher.
The reason for this is that when the flash point of such a flux cleaning composition is less than 40 ° C., it must be handled with care as a hazardous material under the Fire Service Law.
However, if the flash point of the flux cleaning composition is excessively high, the amount of limonene that can be used and the type of amine compound may be excessively limited.
Accordingly, the flash point of the flux cleaning composition is more preferably set to a value within the range of 45 to 200 ° C, and further preferably set to a value within the range of 50 to 100 ° C.
Moreover, it is preferable that the combustion point of the flux cleaning composition is 60 ° C. or higher.
The reason for this is that when the burning point of such a cleaning composition for flux is less than 60 ° C., it must be carefully handled as a dangerous substance under the Fire Service Law.
However, if the burning point of the flux cleaning composition is excessively high, the amount of limonene that can be used and the type of amine compound may be excessively limited.
Therefore, the burning point of the flux cleaning composition is more preferably set to a value within the range of 80 to 250 ° C, and further preferably set to a value within the range of 100 to 150 ° C.

(2)揮発性有機化合物
また、フラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物(VOC)の含有量を20重量%以下とすることが好ましい。
この理由は、かかるフラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物の含有量が20重量%を超えると、環境問題が発生したり、特定な処理装置が必要になったり、さらには、水系洗浄剤組成物として取り扱うことが困難になったりする場合があるためである。
ただし、かかるフラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物の含有量を過度に小さくすると、使用可能なアミン化合物等の種類や含有量が過度に制限される場合がある。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物の含有量を0.5〜15重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、1〜10重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(2) Volatile organic compound Moreover, it is preferable that content of the volatile organic compound (VOC) in the cleaning composition for fluxes shall be 20 weight% or less.
The reason for this is that if the content of the volatile organic compound in the cleaning composition for flux exceeds 20% by weight, an environmental problem occurs, a specific processing device is required, and further, an aqueous cleaning is performed. This is because it may be difficult to handle as an agent composition.
However, if the content of the volatile organic compound in the flux cleaning composition is excessively reduced, the type and content of usable amine compounds may be excessively limited.
Accordingly, the content of the volatile organic compound in the flux cleaning composition is more preferably set to a value within the range of 0.5 to 15% by weight, and the value within the range of 1 to 10% by weight. Is more preferable.

(3)pH値
また、フラックス用洗浄剤組成物のpH値を10以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるpH値が10未満の値になると、フラックスに対する洗浄効果が著しく低下する場合があるためである。
ただし、かかるフラックス用洗浄剤組成物のpH値が過度に大きくなると、被洗浄物である電子部品の基板等を侵す場合がある。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物のpH値を10.5〜13の範囲内の値とすることがより好ましく、11〜12の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(3) pH value Moreover, it is preferable to make pH value of the cleaning composition for flux into 10 or more values.
This is because when the pH value is less than 10, the cleaning effect on the flux may be significantly reduced.
However, if the pH value of the flux cleaning composition becomes excessively large, the substrate of the electronic component that is the object to be cleaned may be affected.
Accordingly, the pH value of the flux cleaning composition is more preferably set to a value within the range of 10.5 to 13, and more preferably set to a value within the range of 11 to 12.

ここで、図3を参照して、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値と、二種類のフラックス(フラックス1およびフラックス2)のそれぞれに対する洗浄性評価(洗浄回数)との関係を具体的に説明する。
かかる図3は、後述する実施例および比較例のデータに基づいたものであるが、横軸に、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値(−)が採って示してあり、縦軸に、二種類のフラックス(フラックス1およびフラックス2)を完全に洗浄できるまでの洗浄性評価(回数)が採って示してある。この図3から容易に理解できるように、フラックス用洗浄剤組成物のpH値が高い程、二種類のフラックスに対する洗浄回数がそれぞれ少なくなる傾向が見られ、特に、pH値が10〜11の範囲において洗浄回数が著しく低下し、その後は少しずつ洗浄回数が少なくなる傾向が見られている。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値を適宜変えることによって、フラックスに対する洗浄回数、すなわち洗浄性を大きく変えられることが理解される。
なお、フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値の一つの変更手段が、アミン化合物の含有量や使用するアミン化合物の種類(アミン価)である。
Here, with reference to FIG. 3, the relationship between the pH value in the cleaning composition for flux and the cleaning performance evaluation (number of cleanings) for each of the two types of fluxes (flux 1 and flux 2) is specifically described. To do.
FIG. 3 is based on data of Examples and Comparative Examples described later. The horizontal axis indicates the pH value (−) in the flux cleaning composition, and the vertical axis indicates two values. The cleaning performance evaluation (number of times) until the types of fluxes (flux 1 and flux 2) can be completely cleaned is shown. As can be easily understood from FIG. 3, the higher the pH value of the flux cleaning composition, the smaller the number of times of cleaning with respect to the two types of flux, and in particular, the pH value ranges from 10 to 11. , The number of cleanings is significantly reduced, and thereafter the number of cleanings tends to decrease little by little.
Therefore, it is understood that the number of cleanings with respect to the flux, that is, the cleaning property can be greatly changed by appropriately changing the pH value in the flux cleaning composition.
One means for changing the pH value in the flux cleaning composition is the content of the amine compound and the type of amine compound used (amine value).

(4)アミン価
また、フラックス用洗浄剤組成物のアミン価を1mgKOH/g以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるアミン価が、1mgKOH/g未満の値になると、フラックスに対する洗浄効果が著しく低下する場合があるためである。
ただし、かかるフラックス用洗浄剤組成物のアミン価が過度に大きくなると、被洗浄物である電子部品の基板等を侵す場合が生じたり、コストが高くなったり、さらには、消防法に基づく危険物に該当する場合があるためである。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物のアミン価を10〜250mgKOH/gの範囲内の値とすることがより好ましく、20〜200mgKOH/gの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(4) Amine value Moreover, it is preferable to make the amine value of the cleaning composition for flux into the value of 1 mgKOH / g or more.
This is because when the amine value is less than 1 mg KOH / g, the cleaning effect on the flux may be significantly reduced.
However, if the amine value of such a cleaning composition for flux becomes excessively large, it may damage the substrate of electronic parts that are the objects to be cleaned, and the cost will increase. This is because it may fall under.
Accordingly, the amine value of the flux cleaning composition is more preferably set to a value within the range of 10 to 250 mgKOH / g, and further preferably set to a value within the range of 20 to 200 mgKOH / g.

ここで、図4を参照して、フラックス用洗浄剤組成物におけるアミン価(mgKOH/g)と、二種類のフラックス(フラックス1およびフラックス2)に対する洗浄性評価(回数)との関係を具体的に説明する。
かかる図4は、後述する実施例および比較例のデータに基づいたものであるが、横軸に、フラックス用洗浄剤組成物におけるアミン価(mgKOH/g)が採って示してあり、縦軸に、二種類のフラックス(フラックス1およびフラックス2)を完全に洗浄できるまでの洗浄性評価(回数)がそれぞれ採って示してある。この図4から容易に理解できるように、フラックス用洗浄剤組成物のアミン価が高い程、二種類のフラックスに対する洗浄回数がそれぞれ少なくなる傾向が見られ、特に、アミン価が10〜50の範囲において洗浄回数が著しく低下し、その後はほぼ一定の洗浄回数となる傾向が見られている。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物におけるアミン価を所定範囲内で変えることによって、フラックスに対する洗浄回数、すなわち洗浄性を大きく変えられることが理解される。
なお、フラックス用洗浄剤組成物におけるアミン価の一つの変更手段が、アミン化合物の含有量や使用するアミン化合物の種類(アミン価)である。
Here, with reference to FIG. 4, the relationship between the amine value (mgKOH / g) in the cleaning composition for flux and the detergency evaluation (number of times) for two types of fluxes (flux 1 and flux 2) is concrete. Explained.
FIG. 4 is based on data of Examples and Comparative Examples described later, and the horizontal axis indicates the amine value (mgKOH / g) in the flux cleaning composition, and the vertical axis indicates. The cleaning performance evaluation (number of times) until two types of fluxes (flux 1 and flux 2) can be completely cleaned is shown. As can be easily understood from FIG. 4, the higher the amine value of the flux cleaning composition, the smaller the number of cleaning times for the two types of flux, and in particular, the amine value ranges from 10 to 50. , The number of cleanings is remarkably reduced, and thereafter, there is a tendency that the number of cleanings is almost constant.
Therefore, it is understood that by changing the amine value in the cleaning composition for flux within a predetermined range, the number of cleanings with respect to the flux, that is, the cleaning property, can be greatly changed.
One means for changing the amine value in the flux cleaning composition is the content of the amine compound and the type of amine compound used (amine value).

(5)電気伝導度
また、フラックス用洗浄剤組成物の電気伝導度(室温)を10〜2,000μS/cmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる電気伝導度が、10μS/cm未満の値になると、フラックスに対する洗浄効果が著しく低下する場合があるためである。一方、かかる電気伝導度が、2,000μS/cmを超えると、被洗浄物である電子部品や基板等を侵す場合があるためである。
したがって、フラックス用洗浄剤組成物の電気伝導度を50〜1,500μS/cmの範囲内の値とすることがより好ましく、100〜1,000μS/cmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(5) Electric conductivity Moreover, it is preferable to make the electric conductivity (room temperature) of the cleaning composition for flux into a value within the range of 10 to 2,000 μS / cm.
The reason for this is that when the electrical conductivity is less than 10 μS / cm, the cleaning effect on the flux may be significantly reduced. On the other hand, if the electrical conductivity exceeds 2,000 μS / cm, the electronic component or the substrate that is the object to be cleaned may be affected.
Therefore, the electric conductivity of the flux cleaning composition is more preferably set to a value within the range of 50 to 1,500 μS / cm, and further preferably set to a value within the range of 100 to 1,000 μS / cm. .

[第2の実施の形態]
第2の実施の形態は、リモネンと、界面活性剤と、水と、を含むフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法であって、さらにアミン化合物を含むとともに、リモネン100重量部に対して、当該アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値としたフラックス用洗浄剤組成物を用いて、ハンダフラックスを除去することを特徴とした所定のフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法である。
[Second Embodiment]
The second embodiment is a cleaning method using a cleaning composition for flux containing limonene, a surfactant, and water, further containing an amine compound, and 100 parts by weight of limonene. A predetermined flux cleaning composition characterized in that solder flux is removed using a flux cleaning composition in which the amine compound content is in the range of 1 to 400 parts by weight. Cleaning method.

1.洗浄方法
フラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を実施するにあたり、その洗浄方法は特に制限されるものでなく、例えば、浸漬法、揺動法、超音波振動法、シャワー洗浄法、液中ジェット法などの各種手段を採用することができる。また、フラックス用洗浄剤組成物をブラシや洗浄ロール等に含浸させたり、付着させたりした状態で、フラックスを洗浄することも好ましい。
なお、フラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を実施するにあたり、より具体的には、後述する洗浄装置を使用することが好ましい。
1. Cleaning method In carrying out the cleaning method using the flux cleaning composition, the cleaning method is not particularly limited. For example, a dipping method, a rocking method, an ultrasonic vibration method, a shower cleaning method, Various means such as a jet method can be employed. It is also preferable to clean the flux in a state where the cleaning composition for flux is impregnated or adhered to a brush, a cleaning roll or the like.
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning composition, more specifically, it is preferable to use a cleaning device described later.

2.洗浄条件
また、フラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を実施するにあたり、例えば、5〜80℃、1秒〜30分の条件で洗浄することが好ましい。
この理由は、このような条件で所定の洗浄効果が得られるならば、フラックス用洗浄剤組成物自体の熱劣化や酸化劣化を有効に防止できるためである。
特に、フラックス用洗浄剤組成物が所定量のリモネンを含む場合には、リモネンの引火点が47.5℃であることを考慮して、5〜45℃、1秒〜30分の条件で洗浄することが好ましい。
2. Cleaning conditions Moreover, when implementing the cleaning method using the flux cleaning composition, it is preferable to perform cleaning under conditions of, for example, 5 to 80 ° C. and 1 second to 30 minutes.
The reason for this is that if a predetermined cleaning effect is obtained under such conditions, it is possible to effectively prevent thermal deterioration and oxidation deterioration of the flux cleaning composition itself.
In particular, when the cleaning composition for flux contains a predetermined amount of limonene, cleaning is performed under conditions of 5 to 45 ° C. and 1 second to 30 minutes, considering that the flash point of limonene is 47.5 ° C. It is preferable to do.

3.リンス工程
また、フラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を実施するにあたり、さらにリンス処理する工程を設けて、洗浄した電子部品や基板等をリンス処理することが好ましい。
この理由は、フラックス用洗浄剤組成物が残留した場合に、電子部品や基板等において、電気腐食等が発生する場合があるためである。
ここで、リンス液として、アルコール系溶剤を使用することが好ましい。この理由は、水と比較して、早期乾燥ができるとともに、リモネンやアミン化合物についても、十分除去できるためである。
また、より具体的には、アルコール系溶剤として、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、s−ブチルアルコール、アミルアルコール、1−メトキシ−2−プロパノール等の一種単独または二種以上のアルコールを使用することが好ましい。
また、これらのアルコールに対して、所定量の水を添加したアルコール系溶剤を使用することが好ましく、より具体的には、全体量に対して40重量%〜70重量%になるように水を添加したアルコール系溶剤を使用することが好ましい。
なお、リンス条件としては、5〜40℃、1秒〜30分の範囲内とし、さらに、二段階でリンス処理を実施することがより好ましい。この理由は、界面活性剤やアミン化合物の残渣についても、より少なくするためである。
ただし、ハンダ処理装置等に付着したフラックスを除去する場合には、残留した界面活性剤等による電子部品や基板等の腐食問題がないため、かかるリンス工程を省略化したり、簡略化したりすることができる。
3. Rinsing Step Further, in carrying out the cleaning method using the flux cleaning composition, it is preferable to provide a further rinsing step to rinse the cleaned electronic component or substrate.
This is because, when the flux cleaning composition remains, electrical corrosion or the like may occur in the electronic component or the substrate.
Here, it is preferable to use an alcohol solvent as the rinse liquid. This is because, compared with water, it can be dried quickly, and limonene and amine compounds can be sufficiently removed.
More specifically, as alcohol solvents, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, s-butyl alcohol, amyl alcohol, 1-methoxy-2- It is preferable to use one kind of alcohol such as propanol or two or more kinds of alcohols.
In addition, it is preferable to use an alcohol solvent in which a predetermined amount of water is added to these alcohols, and more specifically, water is added so as to be 40% by weight to 70% by weight with respect to the total amount. It is preferable to use an added alcohol solvent.
In addition, as rinse conditions, it is more preferable to carry out the rinse process in two steps within the range of 5-40 degreeC and 1 second-30 minutes. The reason for this is to reduce the amount of surfactant and amine compound residue.
However, when removing the flux adhering to the solder processing equipment, etc., there is no problem of corrosion of electronic parts and substrates due to the remaining surfactant, etc., so that the rinsing process may be omitted or simplified. it can.

4.洗浄装置
フラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を実施するにあたり、使用するフラックスの洗浄装置10としては、図5に示すように、超音波洗浄するための超音波振動子29を備えた洗浄槽12と、循環路22と、送液ポンプ24と、リンス槽14と、乾燥槽16と、を備えていることが好ましい。
より具体的には、洗浄槽12は、被洗浄物23の収容部(洗浄液)20と、超音波振動子29と、洗浄液の攪拌装置(図示せず)と、サーモスタット付きのヒーター19と、洗浄液21を循環させるための循環路22と、から構成し、攪拌および循環している洗浄液21に対して超音波振動を付与し、被洗浄物23を効率的に洗浄することが好ましい。次いで、リンス槽14において、被洗浄物23からフラックス等をさらに除去するとともに、洗浄液21を除去し、さらに乾燥槽16においては、リンス液15等を蒸発させて、完全に除去することが好ましい。
すなわち、このような洗浄装置10を使用することにより、本発明のフラックス用洗浄剤組成物を用いて、ハンダ処理された電子部品や基板を洗浄し、それらに付着しているフラックスを効率的に除去することができる。
4). Cleaning Device When performing the cleaning method using the flux cleaning composition, the flux cleaning device 10 used is a cleaning device including an ultrasonic vibrator 29 for ultrasonic cleaning as shown in FIG. It is preferable to include a tank 12, a circulation path 22, a liquid feed pump 24, a rinse tank 14, and a drying tank 16.
More specifically, the cleaning tank 12 includes a container (cleaning liquid) 20 for the object to be cleaned 23, an ultrasonic vibrator 29, a cleaning liquid stirring device (not shown), a heater 19 with a thermostat, and a cleaning liquid. It is preferable that the object to be cleaned 23 is efficiently cleaned by applying ultrasonic vibration to the cleaning liquid 21 which is constituted by a circulation path 22 for circulating the gas 21 and is stirred and circulated. Next, in the rinsing tank 14, it is preferable to further remove the flux and the like from the object 23 to be cleaned, remove the cleaning liquid 21, and further evaporate the rinsing liquid 15 and the like in the drying tank 16.
That is, by using such a cleaning apparatus 10, the flux cleaning agent composition of the present invention is used to clean soldered electronic components and substrates and efficiently remove the flux adhering to them. Can be removed.

5.被洗浄物1
フラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を実施するにあたり、フラックス用洗浄剤組成物を適用する被洗浄物の種類は、特に制限されるものではないが、ハンダ処理された電子部品や基板はもちろんのこと、ハンダ処理されていなくとも、フラックスの影響がある部品等も好適に使用することができる。したがって、例えば、プリント回路板、セラミック配線基板、半導体素子(BGA、CSP、PGA、LGA等の半導体部品を含む。)、半導体素子搭載基板、バンプ付きTABテープ、バンプ無しTABテープ、半導体素子搭載TABテープ、リードフレーム、コンデンサ、および抵抗等が具体的に挙げられる。
そして、これらの被洗浄物において、使用されるフラックスの種類は特に制限されるものではないが、例えば、通常のハンダフラックスはもちろんのこと、低VOCフラックス、鉛フリーハンダ用フラックス、または高融点ハンダフラックス、あるいは無洗浄ハンダフラックスであることが好ましい。すなわち、これらのハンダフラックスは、通常、ロジンを主成分としており、それに、有機酸塩、グリシジルエーテル化合物、オキシ酸、カルボン酸(ジカルボン酸含む。)、アニリドおよび熱硬化樹脂(例えば、エポキシ樹脂や熱硬化系アクリル樹脂)の少なくとも一つの化合物が添加してある場合が多いためである。したがって、本発明のフラックス用洗浄剤組成物であれば、通常のハンダフラックスはもちろんのこと、これらのハンダフラックスに対しても、優れた洗浄性を示すことができる。
なお、フラックスが添加される通常のハンダ、高融点ハンダ、鉛フリーハンダ、さらには無洗浄ハンダ等の種類についても特に制限されるものではないが、例えば、Sn−Ag系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Cu系、Sn−Zn系、Sn−Bi系、Pb−Sn系等が代表的である。
5). Object to be cleaned 1
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning composition, the type of the object to be cleaned to which the flux cleaning composition is applied is not particularly limited, but soldered electronic components and substrates are not limited. Of course, even if the soldering process is not performed, a component having an influence of flux can be suitably used. Therefore, for example, printed circuit boards, ceramic wiring boards, semiconductor elements (including semiconductor parts such as BGA, CSP, PGA, LGA), semiconductor element mounting boards, TAB tapes with bumps, TAB tapes without bumps, TABs with semiconductor elements Specific examples include a tape, a lead frame, a capacitor, and a resistor.
In these objects to be cleaned, the type of flux used is not particularly limited. For example, not only ordinary solder flux but also low VOC flux, lead-free solder flux, or high melting point solder. It is preferably a flux or a no-clean solder flux. That is, these solder fluxes usually have rosin as a main component, and include organic acid salts, glycidyl ether compounds, oxyacids, carboxylic acids (including dicarboxylic acids), anilides and thermosetting resins (for example, epoxy resins and This is because at least one compound of thermosetting acrylic resin) is often added. Therefore, if it is the cleaning composition for fluxes of this invention, it can show the outstanding washing | cleaning property also to these solder fluxes as well as normal solder flux.
There are no particular restrictions on the types of solder such as ordinary solder, high melting point solder, lead-free solder, and no-clean solder to which flux is added. For example, Sn-Ag, Sn-Ag-Cu Typical examples include Sn, Sn—Cu, Sn—Zn, Sn—Bi, and Pb—Sn.

6.被洗浄物2
また、被洗浄物の種類として、上述した電子部品や基板等以外に、フラックスが付着する状況にあるハンダ処理装置自体が挙げられる。
例えば、図6に示すハンダ処理装置100や、そのハンダ処理装置100に含まれるスプレーフラクサー103が挙げられる。かかるスプレーフラクサー103は、図7に一部拡大図を示すように、基板108にフラックスをスプレー処理するためのスプレー処理部(図示せず)と、基板108を把持しながら搬送するためのベルト状に配置された爪部106と、当該爪部106を駆動させたり、方向制御したりするための複数のロール112a、112b、112c、112dと、爪部106に付着したフラックスを洗浄するための洗浄部114と、から構成してあることが好ましい。
また、かかるスプレーフラクサー103においては、通常、図8の矢印で示すように、基板108を把持しながら爪部106は回転駆動されるが、その途中に、フラックス用洗浄剤組成物を適用するためのブラシ110が設けてあることが好ましい。このスプレーフラクサー103の例では、ブラシ110が複数個配置してあり、爪部106の表裏面に対して、フラックス用洗浄剤組成物を十分適用して、フラックスを洗浄できるように、上側ブラシ110aと、下側ブラシ110bとが備えてある。
6). Object to be cleaned 2
In addition to the electronic components and substrates described above, the type of the object to be cleaned includes the solder processing apparatus itself in a state where the flux adheres.
For example, the solder processing apparatus 100 shown in FIG. 6 and the spray fluxer 103 included in the solder processing apparatus 100 may be mentioned. As shown in a partially enlarged view in FIG. 7, the spray fluxer 103 includes a spray processing unit (not shown) for spraying the flux on the substrate 108 and a belt for transporting the substrate 108 while gripping it. Nail 106 arranged in a shape, a plurality of rolls 112a, 112b, 112c, 112d for driving and controlling the direction of the nail 106, and a flux for cleaning the nail 106 The cleaning unit 114 is preferably configured.
In the spray fluxer 103, as shown by an arrow in FIG. 8, the claw portion 106 is normally rotated while holding the substrate 108, and the flux cleaning composition is applied in the middle thereof. It is preferable that a brush 110 is provided. In the example of the spray fluxer 103, a plurality of brushes 110 are arranged, and the upper brush is used to clean the flux by sufficiently applying the flux cleaning composition to the front and back surfaces of the claw portion 106. 110a and a lower brush 110b are provided.

以下、実施例を挙げて、本発明を詳細に説明する。ただし、言うまでもなく、本発明の範囲は、以下の記載に何ら制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. Needless to say, the scope of the present invention is not limited to the following description.

[実施例1]
1.洗浄剤の調整および評価
(1)pH値
表1における実施例1の配合組成に示すように、容器内に、リモネン(d−リモネン)と、N−シクロヘキシルジエタノールアミン(アミン価:300mgKOH/g)と、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール(アミン価:630mgKOH/g、濃度:90重量%)と、ポリオキシエチレンオレイルエーテルと、水とを所定量収容し、均一になるよう十分に攪拌して、フラックス用洗浄剤組成物を調整した後、pH計を用いて、pH値を測定した。
[Example 1]
1. Adjustment and Evaluation of Cleaning Agent (1) pH Value As shown in the composition of Example 1 in Table 1, limonene (d-limonene) and N-cyclohexyldiethanolamine (amine value: 300 mgKOH / g) , 2-amino-2-methyl-1-propanol (amine value: 630 mg KOH / g, concentration: 90 wt%), polyoxyethylene oleyl ether, and water are contained in predetermined amounts and stirred sufficiently to be uniform. After adjusting the flux cleaning composition, the pH value was measured using a pH meter.

(2)アミン価
上述したように、実施例1の配合組成を有するフラックス用洗浄剤組成物を調整し、滴定法により、アミン価を測定した。
(2) Amine value As described above, the flux cleaning composition having the composition of Example 1 was prepared, and the amine value was measured by a titration method.

(3)洗浄性評価
プレパラートガラスに、二種類のフラックス(フラックス1およびフラックス2)をそれぞれ一滴、滴下した。次いで、105℃のオーブンを用いて、10分間、加熱して、二種類のテストピースを作成した。次いで、50mlのビーカ内に、実施例1のフラックス用洗浄剤組成物を20g収容した後、テストピースをそれぞれ浸漬した。その状態で、ビーカを前後に揺動させて、テストピースに付着したフラックスが完全に洗浄できるまでの回数を測定し、洗浄性を評価した。
(3) Detergency evaluation One drop of each of two types of fluxes (flux 1 and flux 2) was dropped on the prepared glass. Subsequently, it heated for 10 minutes using 105 degreeC oven, and produced two types of test pieces. Next, 20 g of the flux cleaning composition of Example 1 was placed in a 50 ml beaker, and then the test pieces were immersed therein. In this state, the beaker was swung back and forth, and the number of times until the flux adhering to the test piece could be completely cleaned was measured to evaluate the cleaning performance.

[実施例2〜10]
実施例2〜7では、リモネンに対する、アミン化合物としての2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールの配合比率を変えて、表1に示す洗浄剤組成物をそれぞれ準備し、実施例1と同様に、pH値および洗浄性をそれぞれ測定し、評価した。
また、実施例8〜10では、リモネンに対する、アミン化合物としてのN-シクロヘキシルジエタノールアミンの配合率を変えて、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールを添加せず、さらに界面活性剤としてのポリオキシエチレンエーテルの配合比率を変えて、表1に示すような配合組成の洗浄剤組成物をそれぞれ調整し、実施例1と同様に、pH値および洗浄性をそれぞれ測定し、評価した。
[Examples 2 to 10]
In Examples 2 to 7, the cleaning composition shown in Table 1 was prepared by changing the blending ratio of 2-amino-2-methyl-1-propanol as an amine compound with respect to limonene, and the same as in Example 1 The pH value and the detergency were measured and evaluated.
Further, in Examples 8 to 10, the blending ratio of N-cyclohexyldiethanolamine as an amine compound with respect to limonene was changed, and 2-amino-2-methyl-1-propanol was not added, and further, a polysiloxane as a surfactant was added. A cleaning composition having a composition as shown in Table 1 was prepared by changing the blending ratio of oxyethylene ether, and the pH value and detergency were measured and evaluated in the same manner as in Example 1.

[実施例11]
実施例11では、アミン化合物としてのN-シクロヘキシルジエタノールアミンを添加せずに、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールと、界面活性剤としてのポリオキシエチレンエーテルとの配合比率を変えて、表1に示すような配合組成の洗浄剤組成物をそれぞれ調整し、実施例1と同様に、pH値および洗浄性をそれぞれ測定し、評価した。
[Example 11]
In Example 11, the addition ratio of 2-amino-2-methyl-1-propanol and polyoxyethylene ether as a surfactant was changed without adding N-cyclohexyldiethanolamine as an amine compound. A cleaning composition having a composition as shown in FIG. 1 was prepared, and in the same manner as in Example 1, the pH value and the detergency were measured and evaluated.

[比較例1]
比較例1では、リモネンに対して、アミン化合物としてのN−シクロヘキシルジエタノールアミンおよび2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールを全く添加せずに、表1に示す洗浄剤組成物を準備し、実施例1と同様に、pH値および洗浄性をそれぞれ測定し、評価した。
その結果、比較例1では、所定量のアミン化合物を添加していないことから、洗浄性が極めて不十分であるという評価結果が得られた。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, a cleaning composition shown in Table 1 was prepared and added without adding N-cyclohexyldiethanolamine and 2-amino-2-methyl-1-propanol as amine compounds to limonene. In the same manner as in Example 1, the pH value and detergency were measured and evaluated.
As a result, in Comparative Example 1, since a predetermined amount of the amine compound was not added, an evaluation result that the detergency was extremely insufficient was obtained.

本発明のフラックス用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法によれば、天然成分であるリモネンおよび水を主成分としつつも、所定量のリモネンと、アミン化合物とを組み合せることにより、電子部品やハンダ処理装置等に付着したフラックスに対して、優れた洗浄性を示すことができる一方、かつ、フラックス用洗浄剤組成物の取り扱い性や処理性が著しく向上した。
したがって、高信頼性を要求される電子部品や、高周波回路基板等の基板等に対して、精度良くかつ安価にハンダ付け処理ができるばかりでなく、環境問題に配慮しつつ、洗浄後のフラックス用洗浄剤組成物を経済的かつ簡易に処理できるようになった。
According to the flux cleaning composition and the cleaning method using the same according to the present invention, the combination of a predetermined amount of limonene and an amine compound while containing mainly natural components of limonene and water, While excellent detergency can be exhibited with respect to the flux adhering to parts, solder processing equipment, etc., the handleability and disposability of the flux cleaning composition are significantly improved.
Therefore, not only can soldering be performed accurately and inexpensively on electronic components that require high reliability, substrates such as high-frequency circuit boards, etc., but also for the flux after cleaning while considering environmental issues. The cleaning composition can be processed economically and easily.

アミン化合物(2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール)のフラックス用洗浄剤組成物におけるpH値に与える影響を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the influence which it has on the pH value in the cleaning composition for fluxes of an amine compound (2-amino-2-methyl-1-propanol). アミン化合物(2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール)のフラックス用洗浄剤組成物における洗浄性評価に与える影響を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the influence which it has on the cleaning property evaluation in the cleaning composition for fluxes of an amine compound (2-amino-2-methyl-1-propanol). フラックス用洗浄剤組成物におけるpH値と、洗浄性評価との関係を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the relationship between pH value in a cleaning composition for fluxes, and cleaning property evaluation. フラックス用洗浄剤組成物におけるアミン価と、洗浄性評価との関係を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the relationship between the amine value in a cleaning composition for fluxes, and cleaning property evaluation. 洗浄装置の一例を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate an example of a washing | cleaning apparatus. ハンダ処理装置の一例を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate an example of a solder processing apparatus. ハンダ処理装置におけるスプレープラクサーを説明するために供する拡大図である。It is an enlarged view provided in order to demonstrate the spray plaquer in a solder processing apparatus. ハンダ処理装置におけるスプレープラクサーにおける爪部の動きを説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the motion of the nail | claw part in the spray plaquer in a solder processing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10:洗浄装置
12:洗浄槽
14:リンス槽
15:リンス液
16:乾燥槽
21:洗浄液
22:循環路
28:フィルター
100:ハンダ処理装置
102:作業台
103:スプレーフラクサー103
104:ハンダ処理部
106:爪部
108:基板
110:ブラシ
112:ロール
114:洗浄部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10: Cleaning apparatus 12: Cleaning tank 14: Rinse tank 15: Rinse liquid 16: Drying tank 21: Cleaning liquid 22: Circulation path 28: Filter 100: Solder processing apparatus 102: Work table 103: Spray fluxer 103
104: Solder processing unit 106: Claw unit 108: Substrate 110: Brush 112: Roll 114: Cleaning unit

Claims (8)

リモネンと、界面活性剤と、水と、を含むフラックス用洗浄剤組成物であって、アミン化合物をさらに含むとともに、前記リモネンの含有量を、全体量に対して、1〜40重量%未満の範囲内の値とするとともに、当該リモネン100重量部に対して、前記アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値とすることを特徴とするフラックス用洗浄剤組成物。   A flux cleaning composition comprising limonene, a surfactant, and water, further comprising an amine compound, and the content of the limonene is less than 1 to 40% by weight based on the total amount A flux cleaning composition characterized by having a value within the range and a content of the amine compound within a range of 1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the limonene. 前記フラックス用洗浄剤組成物の引火点を40℃以上とし、かつ、燃焼点を60℃以上とすることを特徴とする請求項1に記載のフラックス用洗浄剤組成物。   The flux cleaning composition according to claim 1, wherein the flash cleaning composition has a flash point of 40 ° C or higher and a combustion point of 60 ° C or higher. 前記フラックス用洗浄剤組成物中の揮発性有機化合物(VOC)の含有量を20重量%以下とすることを特徴とする請求項1または2に記載のフラックス用洗浄剤組成物。   The flux cleaning composition according to claim 1 or 2, wherein the content of the volatile organic compound (VOC) in the cleaning composition for flux is 20% by weight or less. 前記水の含有量を、全体量に対して、60〜98重量%の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のフラックス用洗浄剤組成物。   The flux cleaning composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the water content is set to a value within a range of 60 to 98 wt% with respect to the total amount. 前記アミン化合物のアミン価を100mgKOH/g以上とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のフラックス用洗浄剤組成物。   The flux cleaning composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the amine value of the amine compound is 100 mgKOH / g or more. 前記界面活性剤の含有量を、全体量に対して、0.1〜10重量%の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のフラックス用洗浄剤組成物。   The flux cleaning according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the surfactant is set to a value within a range of 0.1 to 10 wt% with respect to the total amount. Agent composition. 前記界面活性剤のHLB値を8〜15の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のフラックス用洗浄剤組成物。   The flux cleaning composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the surfactant has an HLB value in the range of 8 to 15. リモネンと、界面活性剤と、水と、を含むフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法であって、さらにアミン化合物を含むとともに、前記リモネン100重量部に対して、当該アミン化合物の含有量を1〜400重量部の範囲内の値としたフラックス用洗浄剤組成物を用いて、ハンダフラックスを除去することを特徴とするフラックス用洗浄剤組成物を用いた洗浄方法。   A cleaning method using a flux cleaning composition comprising limonene, a surfactant, and water, further containing an amine compound, and the content of the amine compound relative to 100 parts by weight of the limonene A cleaning method using a flux cleaning composition, wherein solder flux is removed using a flux cleaning composition having a value in the range of 1 to 400 parts by weight.
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