JP2005106771A - Radiation image conversion panel and manufacturing method for it - Google Patents

Radiation image conversion panel and manufacturing method for it Download PDF

Info

Publication number
JP2005106771A
JP2005106771A JP2003344252A JP2003344252A JP2005106771A JP 2005106771 A JP2005106771 A JP 2005106771A JP 2003344252 A JP2003344252 A JP 2003344252A JP 2003344252 A JP2003344252 A JP 2003344252A JP 2005106771 A JP2005106771 A JP 2005106771A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation image
image conversion
support
conversion panel
phosphor layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003344252A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Kondo
真史 近藤
Hideki Shibuya
英樹 澁谷
Kuniaki Nakano
中野  邦昭
Yoshitami Kasai
惠民 笠井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2003344252A priority Critical patent/JP2005106771A/en
Priority to US10/951,577 priority patent/US20050072937A1/en
Priority to EP20040023127 priority patent/EP1520899B1/en
Priority to EP10185336A priority patent/EP2261303B1/en
Publication of JP2005106771A publication Critical patent/JP2005106771A/en
Priority to US11/334,068 priority patent/US8956686B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image conversion panel whose warpage is reduced and which is excellent in resistance to impact in and to provide a manufacturing method for the panel. <P>SOLUTION: The radiation image conversion panel includes a stimulable phosphor layer 12 containing stimulable phosphors on a support 11 by a gas phase lay-up method. Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、気相堆積法により支持体上に輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を備えた放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a radiation image conversion panel provided with a stimulable phosphor layer containing a stimulable phosphor on a support by a vapor deposition method, and a method for producing the radiation image conversion panel.

従来より、放射線画像を得るために銀塩を使用した、いわゆる放射線写真法が利用されているが、銀塩を使用しないで放射線像を画像化する方法が開発されている。すなわち、被写体を透過した放射線を輝尽性蛍光体に吸収させ、その後、この輝尽性蛍光体をある種のエネルギーで励起してこの輝尽性蛍光体が蓄積している放射線エネルギーを輝尽性蛍光体として放射させ、この蛍光を検出して画像化する方法が開示されている。
具体的な方法としては、支持体上に輝尽性蛍光体層を設けたパネルを用い、励起エネルギーとして可視光線及び赤外線の一方又は両方を用いる放射線画像変換方法が知られている(特許文献1参照)。
Conventionally, so-called radiography using a silver salt is used to obtain a radiographic image, but a method for imaging a radiographic image without using a silver salt has been developed. That is, the radiation transmitted through the subject is absorbed by the stimulable phosphor, and then the stimulable phosphor is excited with a certain energy to excite the radiation energy accumulated in the stimulable phosphor. A method of emitting as a fluorescent material and detecting and imaging this fluorescence is disclosed.
As a specific method, a radiation image conversion method using a panel having a photostimulable phosphor layer on a support and using one or both of visible light and infrared light as excitation energy is known (Patent Document 1). reference).

ところで、近年、高輝度、高感度、高鮮鋭性の輝尽性蛍光体を用いた放射線像変換方法として、CsBrなどのハロゲン化アルカリを母体にEuを賦活した輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルが提案されている。特にEuを賦活剤とすることで、従来不可能であったX線変換効率の向上が可能になるとされている。   By the way, in recent years, as a radiation image conversion method using a high-luminance, high-sensitivity, high-sharp stimulable phosphor, radiation using a stimulable phosphor in which Eu is activated with an alkali halide such as CsBr as a base material. An image conversion panel has been proposed. In particular, by using Eu as an activator, X-ray conversion efficiency, which has been impossible in the past, can be improved.

一方、診断画像の解析においてより感度に優れた放射線画像変換パネルが要求されており、この手段として、例えば、気相堆積法により形成した輝尽性蛍光体層の結晶構造が塩化セシウム型構造の蛍光体からなる蛍光体層において、主な成長方向が(110)あるいは(100)方向に規定したものが提案されている(特許文献2参照)。
米国特許第3,859,527号明細書 特開2003−107160号公報
On the other hand, there is a demand for a radiation image conversion panel with higher sensitivity in the analysis of diagnostic images. As a means for this, for example, the crystal structure of the photostimulable phosphor layer formed by vapor deposition is a cesium chloride type structure. A phosphor layer made of a phosphor has been proposed in which the main growth direction is defined as the (110) or (100) direction (see Patent Document 2).
US Pat. No. 3,859,527 JP 2003-107160 A

しかしながら、上記特許文献2に記載の放射線像変換パネルには、輝尽性蛍光体層の結晶構造の結晶成長方向について記載されているのみであり、支持体中心からそれぞれ異なる位置で最大強度を示す第1ピーク強度が現れ、第1ピーク強度分布が等方的ではなかった。そのため、熱の分布や残留応力の分布が均等とならず、均一に分散させることができないので、ある方向に沿ってパネルが反ったり、耐衝撃性が低下するという問題があった。   However, the radiation image conversion panel described in Patent Document 2 only describes the crystal growth direction of the crystal structure of the stimulable phosphor layer, and exhibits maximum intensity at different positions from the center of the support. The first peak intensity appeared and the first peak intensity distribution was not isotropic. For this reason, the distribution of heat and the distribution of residual stress are not uniform and cannot be uniformly dispersed, so that there is a problem that the panel is warped along a certain direction or impact resistance is lowered.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、パネルの反りを低減し、耐衝撃性に優れた放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法を提供することを課題としている。   This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the manufacturing method of the radiation image conversion panel which reduced the curvature of the panel, and was excellent in impact resistance, and a radiation image conversion panel.

上記課題を解決するために、請求項1の発明は、気相堆積法により支持体上に輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を備えた放射線像変換パネルであって、
前記輝尽性蛍光体層面内のX線回折パターンにおいて最大強度を示す第1ピーク強度の
分布が前記支持体中心から等方的であることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the invention of claim 1 is a radiation image conversion panel comprising a stimulable phosphor layer containing a stimulable phosphor on a support by a vapor deposition method,
The first peak intensity distribution showing the maximum intensity in the X-ray diffraction pattern in the surface of the photostimulable phosphor layer is isotropic from the center of the support.

請求項1の発明によれば、第1ピーク強度の分布が支持体中心から等方的であるので、結晶性が等方的となり、熱の分布や応力の分布も等方的で均等に分散することができる。そのため、パネルの反りを低減することができ、耐衝撃性に優れる。よって、放射線画像の画質を向上させることができる。   According to the invention of claim 1, since the distribution of the first peak intensity is isotropic from the center of the support, the crystallinity is isotropic, and the heat distribution and the stress distribution are isotropic and evenly distributed. can do. Therefore, the warpage of the panel can be reduced and the impact resistance is excellent. Therefore, the image quality of the radiation image can be improved.

請求項2の発明は、請求項1に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記第1ピーク強度の変動係数が40%以下であることを特徴とする。
The invention of claim 2 is the radiation image conversion panel according to claim 1,
The variation coefficient of the first peak intensity is 40% or less.

請求項2の発明によれば、第1ピーク強度の変動係数が40%以下であるので、面内方向において第1ピーク強度分布が略均一とされ、パネルの反りをより一層低減でき、耐衝撃性もより高めることができる。   According to the invention of claim 2, since the coefficient of variation of the first peak intensity is 40% or less, the first peak intensity distribution is made substantially uniform in the in-plane direction, the panel warpage can be further reduced, and the impact resistance The sex can also be enhanced.

請求項3の発明は、請求項1に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記第1ピーク強度の変動係数が30%以下であることを特徴とする。
The invention of claim 3 is the radiation image conversion panel according to claim 1,
The variation coefficient of the first peak intensity is 30% or less.

請求項4の発明は、請求項1に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記第1ピーク強度の変動係数が20%以下であることを特徴とする。
The invention of claim 4 is the radiation image conversion panel according to claim 1,
The variation coefficient of the first peak intensity is 20% or less.

請求項5の発明は、請求項1に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記第1ピーク強度の変動係数が10%以下であることを特徴とする。
The invention of claim 5 is the radiation image conversion panel according to claim 1,
The variation coefficient of the first peak intensity is 10% or less.

請求項6の発明は、請求項1〜5のいずれか一項に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記第1ピークの面指数が(x,0,0)面[x=1,2,3]であることを特徴とする。
Invention of Claim 6 is a radiation image conversion panel as described in any one of Claims 1-5.
The plane index of the first peak is (x, 0, 0) plane [x = 1, 2, 3].

請求項6の発明によれば、第1ピークの面指数が(x,0,0)面[x=1,2,3]であるので、感度が非常に高い放射線像変換パネルとすることができる。   According to the invention of claim 6, since the plane index of the first peak is the (x, 0, 0) plane [x = 1, 2, 3], the radiation image conversion panel having a very high sensitivity can be obtained. it can.

請求項7の発明は、請求項6に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記第1ピークの面指数である(x,0,0)面において、x=2であることを特徴とする。
The invention of claim 7 is the radiation image conversion panel according to claim 6,
In the (x, 0, 0) plane which is the plane index of the first peak, x = 2.

請求項8の発明は、請求項1〜7のいずれか一項に記載の放射線像変換パネルにおいて、
前記輝尽性蛍光体層は、下記一般式(1)で表されるハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体を含有することを特徴とする。
1X・aM2X′2・bM3X″3:eA…(1)
〔式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X′、X″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e<1.0の範囲の数値を表す。〕
Invention of Claim 8 is the radiation image conversion panel as described in any one of Claims 1-7,
The photostimulable phosphor layer contains a photostimulable phosphor based on an alkali halide represented by the following general formula (1).
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA (1)
[Wherein, M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu. And at least one divalent metal atom selected from each atom of Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, At least one trivalent metal atom selected from each atom of Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least selected from each atom of F, Cl, Br and I 1 type of halogen atom, A is Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg. At least one metal atom selected from each atom, and a, b, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e <1.0.]

請求項8の発明によれば、輝尽性蛍光体層が上記一般式(1)で表されるハロゲン化アルカリを母体としているので、高感度、高精鋭性を両立する輝尽性蛍光体層とすることができ、放射線画像の画質を格段に向上させることができる。   According to the invention of claim 8, since the photostimulable phosphor layer is based on the alkali halide represented by the general formula (1), the photostimulable phosphor layer having both high sensitivity and high sharpness. And the image quality of the radiation image can be significantly improved.

請求項8の発明は、真空容器と、該真空容器内に設けられて、支持体に輝尽性蛍光体を蒸着させる蒸発源と、前記支持体を支持するとともに前記蒸発源に対して回転させることによって該蒸発源からの輝尽性蛍光体を蒸着させる支持体回転機構とを備えた蒸着装置を使用して、請求項1〜7のいずれか一項に記載の放射線像変換パネルを製造する放射線像変換パネルの製造方法であって、
前記支持体を前記支持体回転機構により支持させるとともに回転させることによって、前記蒸発源から蒸発する輝尽性蛍光体を前記支持体上に蒸着させて、輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする。
The invention of claim 8 is a vacuum vessel, an evaporation source that is provided in the vacuum vessel and deposits a stimulable phosphor on a support, and supports the support and rotates with respect to the evaporation source. The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 7 is manufactured by using a vapor deposition apparatus provided with a support rotating mechanism for vapor-depositing a stimulable phosphor from the evaporation source. A method for manufacturing a radiation image conversion panel, comprising:
The stimulable phosphor layer evaporating from the evaporation source is deposited on the support by supporting and rotating the support by the support rotating mechanism to form a stimulable phosphor layer. Features.

請求項8の発明によれば、支持体を支持体回転機構により支持させるとともに回転させることによって、蒸発源から蒸発する輝尽性蛍光体を支持体上に蒸着させて輝尽性蛍光体層を形成するので、支持体上に均一に輝尽性蛍光体層が形成されることとなる。
また、支持体を回転させることによって輝尽性蛍光体を蒸着させるので、蒸着時に残存する残留応力が均一に分散されて、パネルの反りを低減することができ、耐衝撃性に優れる。よって、放射線画像の画質を向上させることができる。
According to the invention of claim 8, by supporting and rotating the support by the support rotating mechanism, the stimulable phosphor evaporating from the evaporation source is deposited on the support to form the stimulable phosphor layer. As a result, the photostimulable phosphor layer is uniformly formed on the support.
In addition, since the photostimulable phosphor is deposited by rotating the support, the residual stress remaining at the time of deposition is uniformly dispersed, the panel warpage can be reduced, and the impact resistance is excellent. Therefore, the image quality of the radiation image can be improved.

本発明に係る放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法によれば、第1ピーク強度の分布が支持体中心から等方的であるので、結晶性が等方的となり、熱の分布や応力の分布も等方的で均等に分散することができる。そのため、パネルの反りを低減することができ、耐衝撃性に優れる。
また、支持体を回転させることによって輝尽性蛍光体を蒸着させるので、支持体上に均一に輝尽性蛍光体層が形成されて、この点においてもパネルの反りを低減でき、耐衝撃性に優れる。
According to the radiation image conversion panel and the method for manufacturing the radiation image conversion panel according to the present invention, the distribution of the first peak intensity is isotropic from the center of the support, so that the crystallinity becomes isotropic, The stress distribution is isotropic and can be evenly distributed. Therefore, the warpage of the panel can be reduced and the impact resistance is excellent.
In addition, since the stimulable phosphor is deposited by rotating the support, a stimulable phosphor layer is uniformly formed on the support, and also in this respect, the warpage of the panel can be reduced and the impact resistance is improved. Excellent.

以下、本発明に係る放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法について詳細に説明する。
本発明の放射線像変換パネルは、図1に示すように支持体11と、該支持体11上に形成されて輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層12とを備えている。また、必要に応じて輝尽性蛍光体層12を保護する保護層が設けられている。なお、輝尽性蛍光体層12において、輝尽性蛍光体の柱状結晶13間には間隙14が形成されている。
Hereinafter, the radiation image conversion panel and the method for manufacturing the radiation image conversion panel according to the present invention will be described in detail.
As shown in FIG. 1, the radiation image conversion panel of the present invention includes a support 11 and a stimulable phosphor layer 12 formed on the support 11 and containing a stimulable phosphor. Moreover, the protective layer which protects the photostimulable phosphor layer 12 is provided as needed. In the photostimulable phosphor layer 12, a gap 14 is formed between the columnar crystals 13 of the photostimulable phosphor.

本発明者等は、輝尽性蛍光体層面内のX線回折パターンにおいて最大強度を示す第1ピーク強度の分布が支持体中心から等方的なパネルとすることによって、結晶性が等方的となり、熱の分布や応力の分布も等方的で均等に分散でき、パネルの反りを低減することができ、耐衝撃性に優れることを見いだした。   The inventors of the present invention have made the isotropic crystallinity by making the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in the X-ray diffraction pattern in the stimulable phosphor layer plane isotropic from the center of the support. As a result, it was found that the heat distribution and stress distribution are isotropic and evenly distributed, the panel warpage can be reduced, and the impact resistance is excellent.

ここで、X線回折パターンは、X線回折装置によりX線入射角20°から70°までの範囲で測定した場合である。
また、第1ピーク強度の分布が支持体中心から等方的であるとは、図5(a)に示すように、略同心円上にある(支持体中心から略等距離にある)第1ピークの強度が略等しいという意味である。なお、逆に異方的であるとは、例えば図5(b)や(c)に示すように、図示した線上にある第1ピークの強度が等しくなっている状態をいい、支持体中心から略同心円上にある第1ピークの強度が等しくないという意味である。
Here, the X-ray diffraction pattern is a case where the X-ray diffraction apparatus measures the X-ray incident angle in a range from 20 ° to 70 °.
In addition, the distribution of the first peak intensity is isotropic from the center of the support, as shown in FIG. 5 (a), is the first peak that is substantially concentric (at approximately the same distance from the support center). This means that the strengths of are substantially equal. On the contrary, being anisotropic means a state in which the intensity of the first peak on the illustrated line is equal, as shown in FIGS. 5B and 5C, for example, from the center of the support. This means that the intensities of the first peaks on substantially concentric circles are not equal.

また、本発明の効果を得る観点から、第1ピーク強度の変動係数は40%以下であることが好ましい。
上記変動係数は、好ましくは30%以下であり、さらに好ましくは20%以下で、10%以下であることが最も好ましい。
ここで言う変動係数とは、「変動係数=面内の第1ピーク強度の標準偏差/第1ピーク強度の平均」のことである。
Further, from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention, the variation coefficient of the first peak intensity is preferably 40% or less.
The coefficient of variation is preferably 30% or less, more preferably 20% or less, and most preferably 10% or less.
The variation coefficient mentioned here is “variation coefficient = standard deviation of first peak intensity in plane / average of first peak intensity”.

また、上記第1ピークの面指数が(x,0,0)面[x=1,2,3]であることが好ましく、特に、x=2であることが好ましい。   The plane index of the first peak is preferably an (x, 0, 0) plane [x = 1, 2, 3], and particularly preferably x = 2.

本発明で使用される支持体は、従来の放射線像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができるが、気相堆積法により蛍光体層を形成する際の支持体となる場合には、石英ガラスシート、アルミニウム、鉄、スズ、クロムなどからなる金属シート及び炭素繊維強化シートが好ましい。
また、支持体には、その表面を平滑な面とするために樹脂層を有することが好ましい。
樹脂層は、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、パラフィン、グラファイト等の化合物を含有することが好ましく、その膜厚は、約5μm〜50μmであることが好ましい。この樹脂層は、支持体の表面に設けても裏面に設けても両面に設けても良い。
また、支持体上に樹脂層を設ける手段としては、貼合法、塗設法等の手段が挙げられる。
貼合は加熱、加圧ローラを用いて行い、加熱条件としては約80〜150℃が好ましく、加圧条件としては4.90×10〜2.94×102N/cm、搬送速度は0.1〜2.0m/秒が好ましい。
The support used in the present invention can be arbitrarily selected from known materials as a support for a conventional radiation image conversion panel. However, in the case of forming a phosphor layer by a vapor deposition method, In particular, a quartz glass sheet, a metal sheet made of aluminum, iron, tin, chromium, or the like, and a carbon fiber reinforced sheet are preferable.
The support preferably has a resin layer in order to make the surface smooth.
The resin layer preferably contains a compound such as polyimide, polyethylene terephthalate, paraffin, graphite, and the film thickness is preferably about 5 μm to 50 μm. This resin layer may be provided on the front surface, the back surface, or both surfaces of the support.
Examples of means for providing the resin layer on the support include means such as a bonding method and a coating method.
Bonding is performed using heating and a pressure roller, and the heating condition is preferably about 80 to 150 ° C., the pressing condition is 4.90 × 10 to 2.94 × 10 2 N / cm, and the conveyance speed is 0. .1 to 2.0 m / sec is preferable.

本発明の輝尽性蛍光体層の膜厚は、放射線像像変換パネルの使用目的によって、また輝尽性蛍光体の種類により異なるが、本発明の効果を得る観点から50μm〜2000μmであり、好ましくは50μm〜1000μmであり、さらに好ましくは100μm〜800μmである。   The film thickness of the photostimulable phosphor layer of the present invention is 50 μm to 2000 μm from the viewpoint of obtaining the effects of the present invention, although it varies depending on the intended use of the radiation image conversion panel and the type of stimulable phosphor. Preferably they are 50 micrometers-1000 micrometers, More preferably, they are 100 micrometers-800 micrometers.

また、輝尽性蛍光体層は、下記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体を含有することが好ましい。
一般式(1)
1X・aM2X’2・bM3X”3:eA[式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X’、X”はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。]
The stimulable phosphor layer preferably contains a stimulable phosphor represented by the following general formula (1).
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA [wherein M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms; 2 is at least one divalent metal atom selected from the atoms of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd. , Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, and In, at least one trivalent metal atom, and X, X ′, X ″ is at least one halogen atom selected from F, Cl, Br, and I atoms, and A is Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd , Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg It is at least one kind of metal atom, and a, b and e each represent a numerical value in the range of 0 ≦ a <0.5, 0 ≦ b <0.5, and 0 <e ≦ 0.2. ]

上記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体において、M1は、Na、K、Rb及びCs等の各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子を表し、中でもRb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属原子が好ましく、さらに好ましくはCs原子である。 In the photostimulable phosphor represented by the general formula (1), M 1 represents at least one alkali metal atom selected from each atom such as Na, K, Rb and Cs. At least one alkaline earth metal atom selected from each atom is preferred, and a Cs atom is more preferred.

2は、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNi等の各原子から選ばれる少なくとも1種の二価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのは、Be、Mg、Ca、Sr及びBa等の各原子から選ばれる二価の金属原子である。 M 2 represents at least one divalent metal atom selected from atoms such as Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu, and Ni, and among these, Be, It is a divalent metal atom selected from each atom such as Mg, Ca, Sr and Ba.

3は、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びIn等の各原子から選ばれる少なくとも1種の三価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのはY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びIn等の各原子から選ばれる三価の金属原子である。 M 3 is selected from atoms such as Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, and In. At least one trivalent metal atom is represented, but among them, a trivalent metal atom selected from each atom such as Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In is preferable. It is.

Aは、Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子である。   A is at least one selected from each atom of Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. It is a seed metal atom.

輝尽性蛍光体の輝尽発光輝度向上の観点から、X、X’及びX”はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子を表すが、F、Cl及びBrから選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が好ましく、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が更に好ましい。   From the viewpoint of improving the photostimulable emission luminance of the photostimulable phosphor, X, X ′ and X ″ represent at least one halogen atom selected from F, Cl, Br and I atoms. At least one halogen atom selected from Br is preferable, and at least one halogen atom selected from Br and I atoms is more preferable.

また、一般式(1)において、b値は0≦b<0.5であるが、好ましくは、0≦b<10-2である。 In the general formula (1), the b value is 0 ≦ b <0.5, and preferably 0 ≦ b <10 −2 .

そして、特に本発明においては、前述の一般式(1)において、原子(M1;Cs、X;Br)の組み合わせであるCsBrを母体とする輝尽性蛍光体を用いることが好適である。 In particular, in the present invention, it is preferable to use a stimulable phosphor having, as a base, CsBr which is a combination of atoms (M 1 ; Cs, X; Br) in the general formula (1).

本発明の一般式(1)で表される輝尽性蛍光体は、例えば以下に述べる方法により製造される。
蛍光体原料としては、
(a)NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIから選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物が用いられる。
The photostimulable phosphor represented by the general formula (1) of the present invention is produced, for example, by the method described below.
As a phosphor material,
(A) At least one compound selected from NaF, NaCl, NaBr, NaI, KF, KCl, KBr, KI, RbF, RbCl, RbBr, RbI, CsF, CsCl, CsBr and CsI is used.

(b)MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCl2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCI2、BaBr2、BaBr2・2H2O、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2の化合物から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の化合物が用いられる。 (B) MgF 2, MgCl 2 , MgBr 2, MgI 2, CaF 2, CaCl 2, CaBr 2, CaI 2, SrF 2, SrCl 2, SrBr 2, SrI 2, BaF 2, BaCI 2, BaBr 2, BaBr 2 2H 2 O, BaI 2 , ZnF 2 , ZnCl 2 , ZnBr 2 , ZnI 2 , CdF 2 , CdCl 2 , CdBr 2 , CdI 2 , CuF 2 , CuCl 2 , CuBr 2 , CuI, NiF 2 , NiCl 2 , NiBr At least one or two or more compounds selected from 2 and NiI 2 compounds are used.

(c)前記一般式(1)において、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMg等の各原子から選ばれる金属原子を有する化合物が用いられる。   (C) In the general formula (1), Eu, Tb, In, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu And a compound having a metal atom selected from each atom such as Mg.

上記の数値範囲の混合組成になるように前記(a)〜(c)の蛍光体原料を秤量し、純水にて溶解する。
この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合しても良い。
次に、得られた水溶液のpH値Cを0<C<7に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させる。
次に、得られた原料混合物を石英ルツボあるいはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉中で焼成を行う。焼成温度は500〜1000℃が好ましい。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、0.5〜6時間が好ましい。
焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気あるいは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。
The phosphor materials (a) to (c) are weighed so as to have a mixed composition in the above numerical range, and dissolved in pure water.
At this time, the mixture may be sufficiently mixed using a mortar, ball mill, mixer mill or the like.
Next, a predetermined acid is added so that the pH value C of the obtained aqueous solution is adjusted to 0 <C <7, and then water is evaporated.
Next, the obtained raw material mixture is filled in a heat-resistant container such as a quartz crucible or an alumina crucible and fired in an electric furnace. The firing temperature is preferably 500 to 1000 ° C. The firing time varies depending on the filling amount of the raw material mixture, the firing temperature and the like, but is preferably 0.5 to 6 hours.
The firing atmosphere includes a nitrogen gas atmosphere containing a small amount of hydrogen gas, a weak reducing atmosphere such as a carbon dioxide gas atmosphere containing a small amount of carbon monoxide, a neutral atmosphere such as a nitrogen gas atmosphere and an argon gas atmosphere, or a small amount of oxygen gas. A weak oxidizing atmosphere is preferred.

なお、前記の焼成条件で一度焼成した後、焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行えば輝尽性蛍光体の発光輝度を更に高めることができ、また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の輝尽性蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気もしくは中性雰囲気のままで冷却しても良い。   After firing once under the aforementioned firing conditions, the fired product is taken out from the electric furnace and pulverized, and then the fired product powder is again filled in a heat-resistant container and placed in the electric furnace, and again under the same firing conditions as described above. If the firing is performed, the luminous brightness of the photostimulable phosphor can be further increased, and when the fired product is cooled to the room temperature from the firing temperature, the fired product is taken out of the electric furnace and allowed to cool in the air. Although the desired photostimulable phosphor can be obtained, it may be cooled in the same weakly reducing atmosphere or neutral atmosphere as in the firing.

また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気もしくは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた輝尽性蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができ好ましい。   In addition, by moving the fired product from the heating part to the cooling part in an electric furnace and quenching in a weakly reducing atmosphere, neutral atmosphere or weakly oxidizing atmosphere, the resulting stimulable phosphor is excited. The emission luminance can be further increased, which is preferable.

また、本発明の輝尽性蛍光体層は気相堆積法によって形成される。
輝尽性蛍光体の気相堆積法としては、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、その他を用いることができるが、本発明では特に蒸着法が好ましい。
The photostimulable phosphor layer of the present invention is formed by a vapor deposition method.
As the vapor phase deposition method of the photostimulable phosphor, an evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, and others can be used. In the present invention, the evaporation method is particularly preferable.

以下、本発明に好適な蒸着法について説明する。なお、ここでは図3に示す蒸着装置を使用して支持体に輝尽性蛍光体を蒸着するので、蒸着装置の説明とともに説明する。
図3に示すように、蒸着装置1は、真空容器2と、該真空容器2内に設けられて支持体11に蒸気を蒸着させる蒸発源3と、支持体11を保持する支持体ホルダ4と、該支持体ホルダ4を蒸発源3に対して回転させることによって該蒸発源3からの蒸気を蒸着させる支持体回転機構5と、真空容器2内の排気及び大気の導入を行う真空ポンプ6等を備えている。
Hereinafter, the vapor deposition method suitable for the present invention will be described. Here, since the stimulable phosphor is deposited on the support using the deposition apparatus shown in FIG. 3, it will be described together with the description of the deposition apparatus.
As shown in FIG. 3, the vapor deposition apparatus 1 includes a vacuum vessel 2, an evaporation source 3 that is provided in the vacuum vessel 2 and deposits vapor on the support 11, and a support holder 4 that holds the support 11. A support rotating mechanism 5 for depositing vapor from the evaporation source 3 by rotating the support holder 4 with respect to the evaporation source 3, a vacuum pump 6 for introducing the exhaust in the vacuum vessel 2 and introducing the atmosphere, etc. It has.

蒸発源3は、輝尽性蛍光体を収容して抵抗加熱法で加熱するため、ヒータを巻いたアルミナ製のるつぼから構成しても良いし、ボートや、高融点金属からなるヒータから構成しても良い。また、輝尽性蛍光体を加熱する方法は、抵抗加熱法以外に電子ビームによる加熱や、高周波誘導による加熱等の方法でも良いが、本発明では、比較的簡単な構成で取り扱いが容易、安価、かつ、非常に多くの物質に適用可能である点から抵抗加熱法が好ましい。また、蒸発源3は分子源エピタキシャル法による分子線源でも良い。
支持体回転機構5は、例えば、支持体ホルダを支持するとともに支持体ホルダ4を回転させる回転軸5aと、真空容器2外に配置されて回転軸5aの駆動源となるモータ(図示しない)等から構成されている。
また、支持体ホルダ4には、支持体11を加熱する加熱ヒータ(図示しない)を備えることが好ましい。支持体11を加熱することによって、支持体11表面の吸着物を離脱・除去し、支持体11表面と輝尽性蛍光体との間に不純物層の発生を防いだり、密着性の強化や輝尽性蛍光体層の膜質調整を行うことができる。
さらに、支持体11と蒸発源3との間に、蒸発源3から支持体11に至る空間を遮断するシャッタ(図示しない)を備えるようにしても良い。シャッタによって輝尽性蛍光体の表面に付着した目的物以外の物質が蒸着の初期段階で蒸発し、支持体11に付着するのを防ぐことができる。
Since the evaporation source 3 contains a stimulable phosphor and is heated by a resistance heating method, the evaporation source 3 may be composed of an alumina crucible around which a heater is wound, or a boat or a heater made of a refractory metal. May be. In addition to the resistance heating method, the stimulable phosphor may be heated by an electron beam or a high frequency induction method. However, in the present invention, it is easy to handle with a relatively simple structure and is inexpensive. In addition, the resistance heating method is preferable because it can be applied to a large number of substances. The evaporation source 3 may be a molecular beam source by a molecular source epitaxial method.
The support rotation mechanism 5 includes, for example, a rotation shaft 5a that supports the support holder and rotates the support holder 4, a motor (not shown) that is disposed outside the vacuum vessel 2 and serves as a drive source for the rotation shaft 5a, and the like. It is composed of
The support holder 4 is preferably provided with a heater (not shown) for heating the support 11. By heating the support 11, the adsorbate on the surface of the support 11 is separated and removed, and the generation of an impurity layer between the surface of the support 11 and the photostimulable phosphor is prevented, the adhesion is enhanced and the brightness is increased. The film quality of the stimulable phosphor layer can be adjusted.
Furthermore, a shutter (not shown) that blocks a space from the evaporation source 3 to the support 11 may be provided between the support 11 and the evaporation source 3. Substances other than the target substance attached to the surface of the photostimulable phosphor by the shutter can be prevented from evaporating at the initial stage of vapor deposition and adhering to the support 11.

このように構成された蒸着装置1を使用して、支持体11に輝尽性蛍光体層を形成するには、まず、支持体ホルダ4に支持体11を取り付ける。
次いで、真空容器2内を真空排気する。その後、支持体回転機構5により支持体ホルダ4を蒸発源3に対して回転させ、蒸着可能な真空度に真空容器2が達したら、加熱された蒸発源3から輝尽性蛍光体を蒸発させて、支持体11表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。この場合において、支持体11と蒸発源3との間隔は、100mm〜1500mmに設置するのが好ましい。
In order to form the photostimulable phosphor layer on the support 11 using the vapor deposition apparatus 1 configured as described above, first, the support 11 is attached to the support holder 4.
Next, the vacuum container 2 is evacuated. Thereafter, the support holder 4 is rotated with respect to the evaporation source 3 by the support rotating mechanism 5, and when the vacuum container 2 reaches a vacuum degree capable of vapor deposition, the stimulable phosphor is evaporated from the heated evaporation source 3. Then, a stimulable phosphor is grown on the surface of the support 11 to a desired thickness. In this case, the distance between the support 11 and the evaporation source 3 is preferably set to 100 mm to 1500 mm.

なお、蒸発源として使用する輝尽性蛍光体は、加圧圧縮によりタブレットの形状に加工しておくことが好ましい。
また、輝尽性蛍光体の代わりにその原料もしくは原料混合物を用いても構わない。
The stimulable phosphor used as the evaporation source is preferably processed into a tablet shape by pressure compression.
Further, instead of the photostimulable phosphor, a raw material or a raw material mixture may be used.

図2は、支持体11上に輝尽性蛍光体層12が蒸着により形成される具体的な様子を示す図である。支持体ホルダ4に固定された支持体11面の法線方向(R)に対する輝尽性蛍光体の蒸気流15の入射角度をθ2(図では60°)とし、形成される柱状結晶13の支持体面の法線方向(R)に対する角度をθ1(図では30°)とすると、経験的にはθ1はθ2の約半分となり、この角度で柱状結晶13が形成される。なお、図3では、蒸気流15の入射角度θ2が0°に設定されている場合である。
ここでは、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層12が形成されるが、柱状結晶13の間に形成された間隙14に結着剤等の充填物を充填しても良く、輝尽性蛍光体層12の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射の物質を充填しても良い。これにより補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層12に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。
FIG. 2 is a diagram showing a specific state in which the photostimulable phosphor layer 12 is formed on the support 11 by vapor deposition. The incident angle of the vapor flow 15 of the stimulable phosphor with respect to the normal direction (R) of the surface of the support 11 fixed to the support holder 4 is θ 2 (60 ° in the figure), and the columnar crystals 13 formed Assuming that the angle with respect to the normal direction (R) of the support surface is θ 1 (30 ° in the figure), θ 1 is empirically about half of θ 2 , and the columnar crystal 13 is formed at this angle. In FIG. 3, the incident angle θ 2 of the vapor flow 15 is set to 0 °.
Here, the photostimulable phosphor layer 12 containing no binder is formed. However, the gap 14 formed between the columnar crystals 13 may be filled with a filler such as a binder. In addition to reinforcing the phosphor layer 12, a highly light-absorbing substance and a highly reflecting substance may be filled. In addition to providing a reinforcing effect, this is effective in reducing the light diffusion in the lateral direction of the photostimulated excitation light incident on the photostimulable phosphor layer 12.

また、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。さらに、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。   In the vapor deposition step, the photostimulable phosphor layer can be formed in a plurality of times. Further, in the vapor deposition step, it is possible to co-evaporate using a plurality of resistance heaters or electron beams to synthesize the desired photostimulable phosphor on the support and simultaneously form the photostimulable phosphor layer. is there.

また、蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて、被蒸着体(支持体、保護層又は中間層)を冷却あるいは加熱しても良い。
さらに、蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理しても良い。また、蒸着法においては必要に応じてO2、H2等のガスを導入して蒸着する反応性蒸着を行っても良い。
In the vapor deposition method, the vapor deposition target (support, protective layer, or intermediate layer) may be cooled or heated as necessary during vapor deposition.
Further, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after the vapor deposition. In the vapor deposition method, reactive vapor deposition may be performed in which vapor deposition is performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 as necessary.

上記の気相堆積法による輝尽性蛍光体層の形成にあたり、輝尽性蛍光体層が形成される支持体の温度は、室温(rt)〜300℃に設定することが好ましく、さらに好ましくは50〜200℃である。   In forming the photostimulable phosphor layer by the vapor deposition method, the temperature of the support on which the photostimulable phosphor layer is formed is preferably set to room temperature (rt) to 300 ° C., more preferably 50-200 ° C.

以上のようにして、粒子状結晶構造の層と柱状結晶構造の層とを備えた輝尽性蛍光体層を形成した後、必要に応じて輝尽性蛍光体層の支持体とは反対の側に保護層を設けることにより本発明の放射線画像変換パネルを製造する。保護層は、保護層用の塗布液を輝尽性蛍光体層の表面に直接塗布して形成もよいし、また、予め別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層に接着してもよい。   As described above, after forming the photostimulable phosphor layer including the layer of the particulate crystal structure and the layer of the columnar crystal structure, the opposite of the support of the photostimulable phosphor layer is performed as necessary. The radiation image conversion panel of the present invention is manufactured by providing a protective layer on the side. The protective layer may be formed by directly applying a coating solution for the protective layer to the surface of the photostimulable phosphor layer, or a protective layer separately formed in advance may be adhered to the photostimulable phosphor layer. .

保護層の材料としては、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体などの通常の保護層用材料が用いられる。他に透明なガラス基板を保護層として用いることもできる。   Materials for the protective layer include cellulose acetate, nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, nylon, polytetrafluoroethylene, polytrifluoride-chloride. Usual protective layer materials such as ethylene, ethylene tetrafluoride-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer are used. In addition, a transparent glass substrate can be used as the protective layer.

また、この保護層は蒸着法、スパッタリング法等により、SiC、SiO2、SiN、Al23等の無機物質を積層して形成してもよい。これらの保護層の層厚は0.1μm〜2000μmが好ましい。 Further, this protective layer may be formed by laminating inorganic substances such as SiC, SiO 2 , SiN, Al 2 O 3 by vapor deposition, sputtering, or the like. The thickness of these protective layers is preferably 0.1 μm to 2000 μm.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれに限定されるものではない。
下記の方法にしたがって実施例1〜実施例4、比較例1、比較例2の放射線像変換パネルを作製した。
[実施例1]
(放射線像変換パネルの作製)
炭素繊維強化樹脂シートからなる支持体の片面に輝尽性蛍光体(CsBr:0.0002Eu)を、図3に示す蒸着装置1を使用して蒸着させ輝尽性蛍光体層を形成した。
すなわち、まず、上記蛍光体原料を蒸着材料として抵抗加熱ルツボに充填し、また回転する支持体ホルダ4に支持体11を設置し、支持体11と蒸発源3との間隔を300mmに調節した。続いて蒸着装置1内を一旦排気し、Arガスを導入して0.1Paに真空度を調整した後、10rpmの速度で支持体11を回転しながら支持体11の温度を100℃に保持した。次いで、抵抗加熱ルツボを加熱して輝尽性蛍光体を蒸着し、輝尽性蛍光体層の膜厚が500μmとなったところで蒸着を終了させた。
次いで、乾燥空気内で輝尽性蛍光体層を保護層袋に入れ、輝尽性蛍光体層が密封された構造の放射線像変換パネルを得た。
このとき得られた放射線像変換パネルは等方性のある膜厚分布であった。また、放射線像変換パネルについて、X線回折装置(日本電子製JDX-11RA)を用いてX線回折測定を行いX線回折パターンを得たところ、第1ピークの面指数が(1,0,0)面であった。また、第1ピーク強度の面内の変動係数が57%であった。変動係数は、上述の式により求めた。なお、最大強度を示すピークを第1ピークとした。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to this.
Radiation image conversion panels of Examples 1 to 4, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 were produced according to the following method.
[Example 1]
(Production of radiation image conversion panel)
A stimulable phosphor layer was formed by depositing a stimulable phosphor (CsBr: 0.0002Eu) on one side of a support made of a carbon fiber reinforced resin sheet using the deposition apparatus 1 shown in FIG.
That is, first, the phosphor raw material was filled in a resistance heating crucible as an evaporation material, and the support 11 was placed on the rotating support holder 4, and the distance between the support 11 and the evaporation source 3 was adjusted to 300 mm. Subsequently, the inside of the vapor deposition apparatus 1 was once evacuated, Ar gas was introduced and the degree of vacuum was adjusted to 0.1 Pa, and then the temperature of the support 11 was maintained at 100 ° C. while rotating the support 11 at a speed of 10 rpm. . Next, the resistance heating crucible was heated to deposit a stimulable phosphor, and the deposition was terminated when the thickness of the stimulable phosphor layer reached 500 μm.
Next, the stimulable phosphor layer was placed in a protective layer bag in dry air to obtain a radiation image conversion panel having a structure in which the stimulable phosphor layer was sealed.
The radiation image conversion panel obtained at this time had an isotropic film thickness distribution. Further, the X-ray diffraction measurement was performed on the radiation image conversion panel using an X-ray diffractometer (JDX-11RA manufactured by JEOL Ltd.) to obtain an X-ray diffraction pattern. 0) plane. The in-plane variation coefficient of the first peak intensity was 57%. The coefficient of variation was determined by the above formula. The peak showing the maximum intensity was defined as the first peak.

[実施例2]
支持体と蒸発源との間隔を400mmに調節した以外は、実施例1と同様にして放射線像変換パネルを作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルは等方性のある膜厚分布であり、第1ピークの面指数が(1,0,0)面、第1ピーク強度の面内の変動係数が37%であった。
[Example 2]
A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the distance between the support and the evaporation source was adjusted to 400 mm. At this time, the obtained radiation image conversion panel has an isotropic film thickness distribution, the first peak has a (1, 0, 0) plane index, and the in-plane variation coefficient of the first peak intensity is 37. %Met.

[実施例3]
支持体と蒸発源との間隔を600mmに調節した以外は、実施例1と同様にして放射線像変換パネルを作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルは等方性のある膜厚分布であり、第1ピークの面指数が(2,0,0)面、第1ピーク強度の面内の変動係数が25%であった。
[Example 3]
A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the distance between the support and the evaporation source was adjusted to 600 mm. At this time, the obtained radiation image conversion panel has an isotropic film thickness distribution, the plane index of the first peak is (2, 0, 0) plane, and the in-plane variation coefficient of the first peak intensity is 25. %Met.

[実施例4]
支持体と蒸発源との間隔を800mmに調節した以外は、実施例1と同様にして放射線像変換パネルを作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルの第1ピークの面指数が(2,0,0)面であり、第1ピーク強度の面内の変動係数が16%であった。
[Example 4]
A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the distance between the support and the evaporation source was adjusted to 800 mm. At this time, the plane index of the first peak of the obtained radiation image conversion panel was (2, 0, 0) plane, and the in-plane variation coefficient of the first peak intensity was 16%.

[実施例5]
支持体と蒸発源との間隔を1000mmに調節した以外は、実施例1と同様にして放射線像変換パネルを作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルの第1ピークの面指数が(2,0,0)面であり、第1ピーク強度の面内の変動係数が4%であった。
[Example 5]
A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the distance between the support and the evaporation source was adjusted to 1000 mm. At this time, the plane index of the first peak of the obtained radiation image conversion panel was (2, 0, 0) plane, and the in-plane variation coefficient of the first peak intensity was 4%.

[比較例1]
炭素繊維強化樹脂シートからなる支持体の片面に輝尽性蛍光体(CsBr:0.0002Eu)を、図4に示す蒸着装置1Aを使用して蒸着させ輝尽性蛍光体層を形成した。
すなわち、まず、上記蛍光体原料を蒸着材料として抵抗加熱ルツボに充填し、また支持体ホルダ4Aに支持体11を設置し、支持体11と蒸発源3Aとの間隔を400mmとした。
続いて蒸着装置1A内を一旦排気し、Arガスを導入して0.1Paに真空度を調整した後、蒸発源3Aに対して水平方向に支持体11を支持体搬送機構5Aによって搬送しながら支持体11の温度を100℃に保持した。次いで、抵抗加熱ルツボを加熱して輝尽性蛍光体を蒸着し、輝尽性蛍光体層の膜厚が500μmとなったところで蒸着を終了させた。なお、図4中、2Aは真空容器、6Aはスリット、7Aは防着板、8Aは真空ポンプを示す。
次いで、乾燥空気内で輝尽性蛍光体層を保護層袋に入れ、輝尽性蛍光体層が密封された構造の放射線像変換パネルを得た。
このとき得られた放射線像変換パネルは異方性のある膜厚分布であった。また、第1ピークの面指数が(2,0,0)面であり、第1ピーク強度の面内の変動係数が53%であった。
[Comparative Example 1]
A stimulable phosphor layer was formed by depositing a stimulable phosphor (CsBr: 0.0002Eu) on one side of a support made of a carbon fiber reinforced resin sheet using the deposition apparatus 1A shown in FIG.
That is, first, the resistance heating crucible was filled with the phosphor raw material as a vapor deposition material, and the support 11 was placed on the support holder 4A, and the distance between the support 11 and the evaporation source 3A was set to 400 mm.
Subsequently, the inside of the vapor deposition apparatus 1A is once evacuated, Ar gas is introduced and the degree of vacuum is adjusted to 0.1 Pa, and then the support 11 is transported by the support transport mechanism 5A in the horizontal direction with respect to the evaporation source 3A. The temperature of the support 11 was kept at 100 ° C. Next, the resistance heating crucible was heated to deposit a stimulable phosphor, and the deposition was terminated when the thickness of the stimulable phosphor layer reached 500 μm. In FIG. 4, 2A denotes a vacuum container, 6A denotes a slit, 7A denotes a deposition preventing plate, and 8A denotes a vacuum pump.
Next, the stimulable phosphor layer was placed in a protective layer bag in dry air to obtain a radiation image conversion panel having a structure in which the stimulable phosphor layer was sealed.
The radiation image conversion panel obtained at this time had an anisotropic film thickness distribution. Further, the plane index of the first peak was the (2, 0, 0) plane, and the in-plane variation coefficient of the first peak intensity was 53%.

[比較例2]
支持体と蒸発源との間隔を1000mmに調節した以外は、比較例1と同様にして放射線像変換パネルを作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルの第1ピークの面指数が(2,0,0)であり、第1ピーク強度の面内の変動係数が41%であった。
[Comparative Example 2]
A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the distance between the support and the evaporation source was adjusted to 1000 mm. At this time, the plane index of the first peak of the obtained radiation image conversion panel was (2, 0, 0), and the in-plane variation coefficient of the first peak intensity was 41%.

そして、以上のようにして得られた放射線像変換パネルについて下記のような評価を行った。
《パネルの反り》
放射線像変換パネルの反り量は、放射線像変換パネルを真直度の良いステンレス板に5°の角度で立てかけた時の上側2角、及び180°回転させて残りの2角を隙間ゲージで測定し、その最大値を反り量(mm)とした。表1にその結果を示す。
And the following evaluation was performed about the radiation image conversion panel obtained as mentioned above.
《Panel warpage》
The amount of warpage of the radiation image conversion panel is measured with the gap gauge on the upper two corners when the radiation image conversion panel is leaned against a stainless steel plate with good straightness at an angle of 5 ° and the other two corners by rotating 180 °. The maximum value was taken as the amount of warpage (mm). Table 1 shows the results.

《耐衝撃性》
放射線像変換パネルに対して20cm離れた高さ位置から500gの鉄球を落下させた後、放射線像変換パネルについて目視評価した。その後、各放射線像変換パネルに、管電圧80kVpのX線を支持体の裏面側から照射した後、放射線像変換パネルをHe−Neレーザー光(633nm)で走査して励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器(分光感度S−5の光電子増倍管)で受光して電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として再生し、出力装置よりプリントアウトし、得られたプリント画像を目視にて以下に示す基準にしたがって耐衝撃性の評価を行った。表1にその結果を示す。
◎:ひび割れがなく、また、均一な画像である。
○:ひび割れがなく、画質的にほとんど気にならないレベルである。
△:ひび割れが見られ、画欠が確認されるが、実用上許容できるレベルである。
×:ひび割れが見られ、明らかな画欠が認められ、実用上問題が発生するレベルである。
《Shock resistance》
After dropping a 500 g iron ball from a height position 20 cm away from the radiation image conversion panel, the radiation image conversion panel was visually evaluated. Thereafter, each radiation image conversion panel is irradiated with X-rays having a tube voltage of 80 kVp from the back side of the support, and then the radiation image conversion panel is excited by scanning with a He—Ne laser beam (633 nm) to produce stimulable fluorescence. Stimulated luminescence emitted from the body layer is received by a light receiver (photomultiplier tube with spectral sensitivity S-5) and converted into an electrical signal, which is reproduced as an image by an image reproducing device and printed out from an output device. Then, the obtained printed image was visually evaluated for impact resistance according to the following criteria. Table 1 shows the results.
(Double-circle): There is no crack and it is a uniform image.
○: There is no crack, and the image quality is hardly a concern.
(Triangle | delta): Although a crack is seen and a notch is confirmed, it is a level acceptable practically.
X: Cracks are observed, clear omissions are observed, and practically problematic.

Figure 2005106771
以上、表1の結果から明らかなように、輝尽性蛍光体層面内の第1ピーク強度の分布が支持体中心から等方的に実施例1〜実施例5は、第1ピーク強度の分布が異方的な比較例1、比較例2に比べて、パネルの反りが極めて少なく、耐衝撃性についてもその評価が△以上であり実用上許容できるレベルであった。
また、蒸着装置についても図4に示すように支持体を水平方向に搬送することによって蒸着する搬送方式に比べて、図3に示すように支持体を回転することによって蒸着する回転方式の方が、支持体上に輝尽性蛍光体層を均一に蒸着させることができ、この点においてもパネルの反りを防ぐことができることがわかる。
また、第1ピーク強度の変動係数が40%以下である実施例2〜実施例5は、変動係数が40%を越える比較例1、比較例2に比べて、パネルの反りを低減でき、耐衝撃性に強いことがわかる。
また、特に、第1ピーク強度の変動係数が最も小さい実施例5の結果から、変動係数が小さい程、パネルの反り防止及び耐衝撃性に有利であることがわかる。
さらに、第1ピークの面指数が(1,0,0)面である実施例1、実施例2に比べて、第1ピークの面指数が(2,0,0)面である実施例3〜実施例5の方が第1ピーク強度の変動係数を小さく抑えることができ、本発明の効果に有利であることがわかる。
Figure 2005106771
As is apparent from the results of Table 1, the distribution of the first peak intensity in the stimulable phosphor layer surface is isotropic from the center of the support in Examples 1 to 5. Compared with the comparative examples 1 and 2 which are anisotropic, the warpage of the panel is extremely small, and the evaluation of the impact resistance is Δ or more, which is a practically acceptable level.
Also, as for the vapor deposition apparatus, the rotation method for vapor deposition by rotating the support body as shown in FIG. 3 is better than the conveyance method for vapor deposition by conveying the support body in the horizontal direction as shown in FIG. It can be seen that the photostimulable phosphor layer can be uniformly deposited on the support, and the warpage of the panel can be prevented also in this respect.
Further, Examples 2 to 5 in which the coefficient of variation of the first peak intensity is 40% or less can reduce the warpage of the panel as compared with Comparative Examples 1 and 2 in which the coefficient of variation exceeds 40%. It turns out that it is strong in impact.
In particular, it can be seen from the results of Example 5 that the coefficient of variation of the first peak intensity is the smallest, the smaller the coefficient of variation, the more advantageous for the panel warpage prevention and impact resistance.
Further, in comparison with Example 1 and Example 2 in which the plane index of the first peak is the (1, 0, 0) plane, Example 3 in which the plane index of the first peak is the (2, 0, 0) plane. It can be seen that Example 5 is more advantageous for the effect of the present invention because the variation coefficient of the first peak intensity can be reduced.

したがって、輝尽性蛍光体層面内のX線回折パターンにおいて第1ピーク強度の強度分布を支持体中心から等方的とすることにより、パネルの反りを低減でき、耐衝撃性を高めることが可能となる。また、第1ピーク強度の変動係数を40%以下とすることによって、より一層本発明の効果を向上させることができる。   Therefore, by making the intensity distribution of the first peak intensity isotropic from the center of the support in the X-ray diffraction pattern in the photostimulable phosphor layer surface, it is possible to reduce the warp of the panel and improve the impact resistance. It becomes. Moreover, the effect of this invention can be improved further by making the variation coefficient of 1st peak intensity | strength 40% or less.

支持体上に形成した輝尽性蛍光体層の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the photostimulable phosphor layer formed on the support body. 支持体上に輝尽性蛍光体層が蒸着法により形成される様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that a photostimulable phosphor layer is formed on a support body by a vapor deposition method. 回転方式による蒸着装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the vapor deposition apparatus by a rotation system. 搬送方式による蒸着装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the vapor deposition apparatus by a conveyance system. (a)は、第1ピーク強度の分布が支持体中心から等方的であることを説明するための図、(b)、(c)は、第1ピーク強度の分布が支持体中心から異方的であることを説明するための図である。(a) is a diagram for explaining that the distribution of the first peak intensity is isotropic from the center of the support, and (b) and (c) are diagrams showing that the distribution of the first peak intensity is different from the support center. It is a figure for demonstrating that it is direction.

符号の説明Explanation of symbols

1 蒸着装置
2 真空容器
3 蒸発源
5 支持体回転機構
11 支持体
12 輝尽性蛍光体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Deposition apparatus 2 Vacuum container 3 Evaporation source 5 Support body rotation mechanism 11 Support body 12 Stimulable phosphor layer

Claims (9)

気相堆積法により支持体上に輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を備えた放射線像変換パネルであって、
前記輝尽性蛍光体層面内のX線回折パターンにおいて最大強度を示す第1ピーク強度の
分布が前記支持体中心から等方的であることを特徴とする放射線像変換パネル。
A radiation image conversion panel comprising a stimulable phosphor layer containing a stimulable phosphor on a support by vapor deposition,
The radiation image conversion panel, wherein the first peak intensity distribution showing the maximum intensity in the X-ray diffraction pattern in the surface of the photostimulable phosphor layer is isotropic from the center of the support.
前記第1ピーク強度の変動係数が40%以下であることを特徴とする請求項1に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a variation coefficient of the first peak intensity is 40% or less. 前記第1ピーク強度の変動係数が30%以下であることを特徴とする請求項1に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a variation coefficient of the first peak intensity is 30% or less. 前記第1ピーク強度の変動係数が20%以下であることを特徴とする請求項1に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a variation coefficient of the first peak intensity is 20% or less. 前記第1ピーク強度の変動係数が10%以下であることを特徴とする請求項1に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a variation coefficient of the first peak intensity is 10% or less. 前記第1ピークの面指数が(x,0,0)面[x=1,2,3]であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   6. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the plane index of the first peak is an (x, 0, 0) plane [x = 1, 2, 3]. 前記第1ピークの面指数である(x,0,0)面において、x=2であることを特徴とする請求項6に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 6, wherein x = 2 in the (x, 0, 0) plane which is the plane index of the first peak. 前記輝尽性蛍光体層は、下記一般式(1)で表されるハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。
1X・aM2X′2・bM3X″3:eA…(1)
〔式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X′、X″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e<1.0の範囲の数値を表す。〕
The photostimulable phosphor layer contains a photostimulable phosphor based on an alkali halide represented by the following general formula (1). The radiation image conversion panel described.
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA (1)
[Wherein, M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu. And at least one divalent metal atom selected from each atom of Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, At least one trivalent metal atom selected from each atom of Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least selected from each atom of F, Cl, Br and I 1 type of halogen atom, A is Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg. At least one metal atom selected from each atom, and a, b, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e <1.0.]
真空容器と、該真空容器内に設けられて、支持体に輝尽性蛍光体を蒸着させる蒸発源と、前記支持体を支持するとともに前記蒸発源に対して回転させることによって該蒸発源からの輝尽性蛍光体を蒸着させる支持体回転機構とを備えた蒸着装置を使用して、請求項1〜8のいずれか一項に記載の放射線像変換パネルを製造する放射線像変換パネルの製造方法であって、
前記支持体を前記支持体回転機構により支持させるとともに回転させることによって、前記蒸発源から蒸発する輝尽性蛍光体を前記支持体上に蒸着させて、輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
A vacuum vessel, an evaporation source provided in the vacuum vessel for depositing a stimulable phosphor on a support, and supporting the support and rotating the evaporation source from the evaporation source. The manufacturing method of the radiation image conversion panel which manufactures the radiation image conversion panel as described in any one of Claims 1-8 using the vapor deposition apparatus provided with the support body rotation mechanism which vapor-deposits a stimulable fluorescent substance. Because
The stimulable phosphor layer evaporating from the evaporation source is deposited on the support by supporting and rotating the support by the support rotating mechanism to form a stimulable phosphor layer. A method for producing a radiation image conversion panel.
JP2003344252A 2003-10-02 2003-10-02 Radiation image conversion panel and manufacturing method for it Pending JP2005106771A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003344252A JP2005106771A (en) 2003-10-02 2003-10-02 Radiation image conversion panel and manufacturing method for it
US10/951,577 US20050072937A1 (en) 2003-10-02 2004-09-27 Radiation image conversion panel and preparation method thereof
EP20040023127 EP1520899B1 (en) 2003-10-02 2004-09-29 Radiation image conversion panel and preparation method thereof
EP10185336A EP2261303B1 (en) 2003-10-02 2004-09-29 Radiation image conversion panel and preparation method thereof
US11/334,068 US8956686B2 (en) 2003-10-02 2006-01-18 Radiation image conversion panel and preparation method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003344252A JP2005106771A (en) 2003-10-02 2003-10-02 Radiation image conversion panel and manufacturing method for it

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005106771A true JP2005106771A (en) 2005-04-21

Family

ID=34537948

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003344252A Pending JP2005106771A (en) 2003-10-02 2003-10-02 Radiation image conversion panel and manufacturing method for it

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005106771A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007057306A (en) * 2005-08-23 2007-03-08 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Radiation image conversion panel using stimulable phosphor and method for manufacturing it

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007057306A (en) * 2005-08-23 2007-03-08 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Radiation image conversion panel using stimulable phosphor and method for manufacturing it

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8956686B2 (en) Radiation image conversion panel and preparation method thereof
JP2005106682A (en) Radiation image conversion panel and its manufacturing method
US20050061992A1 (en) Radiation image conversion panel and preparation method thereof
JP2006113007A (en) Radiographic image conversion panel
JP4333304B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP4474877B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP3952012B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2005091146A (en) Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel
JP4345460B2 (en) Radiation image conversion panel
US7081333B2 (en) Radiation image conversion panel and preparation method thereof
JP2006090851A (en) Apparatus for manufacturing radiographic image conversion panel and method of manufacturing radiographic image conversion panel
JP3997978B2 (en) Radiation image conversion panel
US7193235B2 (en) Radiation image conversion panel and preparation method thereof
JP2005106771A (en) Radiation image conversion panel and manufacturing method for it
JP2005091148A (en) Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel
JP2005106770A (en) Radiation image conversion panel and manufacturing method for it
JP4752254B2 (en) Radiation image conversion panel, manufacturing method and manufacturing apparatus thereof
JP2005098716A (en) Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel
JP4830280B2 (en) Radiation image conversion panel manufacturing apparatus and radiation image conversion panel manufacturing method
JP5136662B2 (en) Radiation image conversion panel manufacturing apparatus and radiation image conversion panel manufacturing method
JP2005164534A (en) Radiation image transformation panel, and manufacturing method therefor
JP2005156411A (en) Radiological image conversion panel
JP2005091140A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing it
JP2006010617A (en) Manufacturing method of radiation conversion panel and its manufacture equipment
JP2005164382A (en) Radiation image conversion panel