JP2005103453A - Solution application apparatus and degassing method for application apparatus - Google Patents

Solution application apparatus and degassing method for application apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2005103453A
JP2005103453A JP2003340817A JP2003340817A JP2005103453A JP 2005103453 A JP2005103453 A JP 2005103453A JP 2003340817 A JP2003340817 A JP 2003340817A JP 2003340817 A JP2003340817 A JP 2003340817A JP 2005103453 A JP2005103453 A JP 2005103453A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
head
supply
degassing
pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003340817A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norio Toyoshima
範夫 豊島
Maki Morimitsu
麻紀 盛満
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Mechatronics Corp filed Critical Shibaura Mechatronics Corp
Priority to JP2003340817A priority Critical patent/JP2005103453A/en
Publication of JP2005103453A publication Critical patent/JP2005103453A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an application apparatus capable of reliably and efficiently removing gas in a head having a nozzle. <P>SOLUTION: The application apparatus comprises a head 7 having a nozzle 14 for jetting a solution by ink-jet method, a supply pipe 21 connecting a storage tank 32 and the head 7, the supply tank 31 installed in the supply pipe for setting the height of the solution surface, a gas supply pipe 46 for pressurizing the solution in the storage tank and supplying the solution to the head via the supply tank at the time of degassing in the head, an aspirator 33 installed in the portion between the storage tank of the supply pipe and the supply tank, and a recovery pipe 23 connecting the head and a suction port of the aspirator so as to pass the solution, which is supplied to the head but is not jetted by the nozzle, therein by the suction by the aspirator. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は基板に溶液をインクジェット方式で噴射して塗布する塗布装置及その塗布装置の脱気方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus for spraying a solution onto a substrate by an ink jet method and a degassing method for the coating apparatus.

一般に、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。この成膜プロセスでは、基板の板面にたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜が形成される。   Generally, in a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, there is a film forming process for forming a circuit pattern on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer. In this film forming process, a functional thin film such as an alignment film or a resist is formed on the plate surface of the substrate.

基板に機能性薄膜を形成する場合、この機能性薄膜を形成する溶液をノズルから噴射して基板の板面に塗付するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。   In the case of forming a functional thin film on a substrate, an ink jet type coating apparatus may be used in which a solution for forming the functional thin film is sprayed from a nozzle and applied to the plate surface of the substrate.

この塗付装置は、基板を搬送する搬送テーブルを有しており、この搬送テーブルの上方には、上記ノズルが穿設された複数のヘッドが基板の搬送方向に対してほぼ直交する方向に沿ってたとえば千鳥状に並設されている。それによって、搬送される基板の上面には複数のノズルから溶液が搬送方向と交差する方向に所定間隔で噴射塗布されるようになっている。   This coating apparatus has a transport table for transporting a substrate, and above the transport table, a plurality of heads in which the nozzles are formed are along a direction substantially perpendicular to the transport direction of the substrate. For example, they are arranged in a staggered pattern. Thereby, the solution is spray-applied on the upper surface of the substrate to be transported at a predetermined interval in a direction intersecting the transport direction from a plurality of nozzles.

インクジェット方式の塗布装置を用いて基板に溶液を塗付する場合、ヘッド内や溶液を供給する配管内などに気泡が残留していると、ノズルから噴射される液滴に気泡が含まれる。それによって、吐出不良となる可能性があるため、基板に溶液を均一に塗布することができないということがある。   When a solution is applied to a substrate using an ink jet type coating apparatus, if bubbles remain in a head or a pipe for supplying the solution, bubbles are included in droplets ejected from the nozzle. As a result, ejection failure may occur, and thus the solution may not be uniformly applied to the substrate.

そこで、上記塗布装置を使用する前に、上記ヘッドに溶液を加圧して供給し、上記ヘッド内に残留する気泡を、溶液とともに排出することで、ヘッド内の脱気を行なうようにしている。   Therefore, before using the coating apparatus, the solution is pressurized and supplied to the head, and bubbles remaining in the head are discharged together with the solution, thereby degassing the head.

上記塗布装置は、清浄な溶液が貯えられた貯蔵タンクを有する。この貯蔵タンクには供給タンクが配管接続されている。インクジェット方式によってノズルから溶液を噴射させる場合、ノズルに対向して設けられた圧電素子の伸縮によって一定量の溶液を基板に噴射させるため、上記ノズルの先端面と、供給タンクに収容された溶液の液面とをほぼ同等若しくはノズルの先端面よりも溶液の液面がわずかに低くなるようにしている。   The coating device has a storage tank in which a clean solution is stored. A supply tank is connected to the storage tank by piping. When a solution is ejected from a nozzle by an ink jet method, a certain amount of solution is ejected onto a substrate by expansion and contraction of a piezoelectric element provided facing the nozzle. The liquid level is almost equal to or slightly lower than the tip surface of the nozzle.

上記供給タンクは溶液の液面の高さを設定するために設けられている。溶液の液面を所定の高さに設定することで、ノズルの先端面と、供給タンクに収容された溶液の液面との水頭差によってノズルから噴射される溶液量が変動するのを防止するようにしている。   The supply tank is provided for setting the height of the liquid level of the solution. By setting the liquid level of the solution to a predetermined height, it is possible to prevent the amount of solution ejected from the nozzle from fluctuating due to a water head difference between the tip surface of the nozzle and the liquid level of the solution stored in the supply tank. I am doing so.

従来、上記ヘッド内の脱気を行なう場合、貯蔵タンクに貯えられた清浄な溶液を第1の加圧手段によって供給タンクに供給する。供給タンクに所定量の溶液が貯えられたならば、第1の加圧手段による貯蔵タンクの加圧を停止し、第2の加圧手段によって供給タンクに貯えられた溶液を加圧してヘッドに供給する。   Conventionally, when degassing the inside of the head, a clean solution stored in a storage tank is supplied to a supply tank by a first pressurizing means. When a predetermined amount of solution is stored in the supply tank, pressurization of the storage tank by the first pressurizing means is stopped, and the solution stored in the supply tank is pressurized by the second pressurizing means to the head. Supply.

ヘッドに供給された溶液の大半、つまりノズルから流出する溶液以外はヘッド内を流れ、このヘッド内の気泡とともに回収管に流出し、この回収管を通って上記貯蔵タンクに回収されるようになっている。つまり、ヘッドの脱気を行なっているときには供給タンク内が加圧されているから、ヘッド内を流れた溶液は供給タンクに戻すことができず、貯蔵タンクに戻すようにしている。   Most of the solution supplied to the head, that is, the solution other than the solution flowing out from the nozzle, flows in the head, flows out into the recovery pipe together with the bubbles in the head, and is recovered in the storage tank through the recovery pipe. ing. That is, since the inside of the supply tank is pressurized when the head is deaerated, the solution flowing through the head cannot be returned to the supply tank, but is returned to the storage tank.

上述したようにヘッドの脱気を行なうためには、貯蔵タンクに貯えられた溶液を供給タンクに貯めなければならない。そのため、供給タンクに溶液を貯めるのに時間が掛かり、脱気を能率よく行なうことができないということがあった。   In order to degas the head as described above, the solution stored in the storage tank must be stored in the supply tank. For this reason, it takes time to store the solution in the supply tank, and deaeration cannot be performed efficiently.

しかも、脱気を行なうためには、供給タンク内の溶液を加圧する加圧手段が脱気専用に必要となるから、供給タンクに脱気手段を設けなければならないことで、構成の複雑化やコストの上昇を招くということがある。さらに、ヘッドの数が多い場合、全てのヘッドを同時に脱気できるだけの量の溶液が必要となるから、供給タンクをそれだけの量を貯えることができる大きさにしなければならず、そのことによっても装置の大型化を招くことになる。   In addition, in order to perform deaeration, a pressurizing means for pressurizing the solution in the supply tank is required exclusively for degassing. In some cases, the cost increases. Furthermore, if the number of heads is large, all the heads need to have enough solution to deaerate at the same time, so the supply tank must be sized to store that much, The size of the apparatus will be increased.

一方、ヘッドに溶液を供給する配管は屈曲しているから、この配管を流れる溶液は屈曲箇所で圧力変動することが避けられない。溶液が圧力変動すると、それによって気泡が発生するから、ヘッドに供給される溶液に気泡が含まれることになる。   On the other hand, since the pipe for supplying the solution to the head is bent, it is inevitable that the pressure of the solution flowing through the pipe fluctuates. When the pressure of the solution fluctuates, bubbles are generated thereby, so that bubbles are included in the solution supplied to the head.

そこで、ヘッドの上流側に溶液に含まれる気体を分離除去する脱気手段を設け、気泡が含まれていない溶液をヘッドに供給するようにしている。ヘッドの上流側に脱気手段を設けた場合、この脱気手段に排気管を接続し、脱気手段で分離された気体を排気管を通じて排出させるようにしている。   Therefore, a deaeration means for separating and removing the gas contained in the solution is provided on the upstream side of the head so that a solution containing no bubbles is supplied to the head. When a deaeration unit is provided on the upstream side of the head, an exhaust pipe is connected to the deaeration unit, and the gas separated by the deaeration unit is discharged through the exhaust pipe.

しかしながら、脱気手段に排気管が接続されていると、ヘッドの脱気時にこのヘッドに溶液が加圧されて供給されると、その溶液はヘッドに比べて流路抵抗の小さい上記排気管に流れ、ヘッド側には流れ難くなるので、ヘッドの脱気を確実に行うことができなくなるということがある。   However, when an exhaust pipe is connected to the deaeration means, when a solution is pressurized and supplied to the head when the head is deaerated, the solution is supplied to the exhaust pipe having a smaller flow resistance than the head. Since it becomes difficult to flow to the head side, the head may not be surely degassed.

この発明は、溶液を貯蔵タンクから供給タンクを経てヘッドに連続的に流してヘッドの脱気を行なうことができるようにすることで、ヘッド内の脱気を行なうのに要する時間を短縮できるようにした塗布装置及び脱気方法を提供することにある。   According to the present invention, the time required for deaeration in the head can be shortened by allowing the solution to continuously flow from the storage tank to the head through the supply tank to perform the deaeration of the head. An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a deaeration method.

この発明は、ヘッドの上流側に、ヘッドに供給される溶液に含まれる気泡を除去する脱気手段が設けられている場合であっても、ヘッドの脱気時に供給タンクから供給された溶液をヘッドに確実に流すことができるようにした塗布装置及び塗布方法を提供することにある。   In the present invention, even if a deaeration means for removing bubbles contained in the solution supplied to the head is provided on the upstream side of the head, the solution supplied from the supply tank when the head is deaerated An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of reliably flowing to a head.

この発明は、基板に溶液を噴射塗布する溶液の塗布装置において、
上記溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドと、
上記溶液を貯蔵した貯蔵タンクと、
この貯蔵タンクと上記ヘッドとを接続した供給管と、
この供給管の中途部に設けられ上記基板に溶液を噴射塗布する際に上記溶液の液面の高さを設定する供給タンクと、
上記ヘッドの脱気を行なう際に上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧してその溶液を上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する加圧手段と、
流入口、流出口及び吸引口を有し、上記供給管の上記貯蔵タンクと上記供給タンクとの間の部分に流入口と流出口を介して設けられたアスピレータと、
上記ヘッドと上記アスピレータの吸引口とを接続し上記ヘッドに供給されてそのノズルから噴射せずに上記ヘッド内を流れた溶液が上記アスピレータの吸引作用によって流れる回収管と
を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置にある。
The present invention provides a solution coating apparatus for spray-coating a solution on a substrate.
A head having a nozzle for ejecting the solution by an inkjet method;
A storage tank storing the solution;
A supply pipe connecting the storage tank and the head;
A supply tank that is provided in the middle of the supply pipe and sets the height of the liquid level of the solution when spraying the solution onto the substrate;
Pressurizing means for pressurizing the solution stored in the storage tank when degassing the head and supplying the solution to the head through the supply tank;
An aspirator having an inflow port, an outflow port, and a suction port, and provided in the portion of the supply pipe between the storage tank and the supply tank via the inflow port and the outflow port;
A recovery pipe connected to the head and the suction port of the aspirator and supplied to the head and flowing through the head without being ejected from the nozzle; In the solution applicator.

上記供給タンク内には、上記アスピレータを通って上記供給タンクに流れる溶液に含まれる気泡を分離する気泡分離手段が設けられていることが」好ましい。   It is preferable that a bubble separating means for separating bubbles contained in the solution flowing through the aspirator and flowing into the supply tank is provided in the supply tank.

この発明は、基板に塗布される溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドの脱気を、貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧し、この溶液を上記基板に溶液を噴射塗布する際に溶液の液面の高さを設定する供給タンクを通じて上記ヘッドに流して行なう脱気方法において、
上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧し上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する工程と、
上記溶液を上記ヘッド内を流すことで、このヘッド内の気泡を溶液とともに流出させる工程と、
上記ヘッドから流出した気泡を含む溶液を、上記ヘッドに加圧供給される溶液の流れによって吸引して上記供給タンクに戻す工程と
を具備したことを特徴とする塗布装置の脱気方法にある。
In the present invention, when a head having a nozzle for spraying a solution applied to a substrate by an ink jet method is depressurized, a solution stored in a storage tank is pressurized, and the solution is sprayed and applied to the substrate on the substrate. In the deaeration method performed by flowing to the head through a supply tank for setting the liquid level of
Pressurizing the solution stored in the storage tank and supplying it to the head through the supply tank;
Allowing the bubbles in the head to flow out together with the solution by flowing the solution through the head;
And a step of sucking the solution containing bubbles flowing out of the head by the flow of the solution supplied under pressure to the head and returning it to the supply tank.

この発明は、基板に溶液を噴射塗布する溶液の塗布装置において、
上記溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドと、
上記溶液を貯蔵した貯蔵タンクと、
この貯蔵タンクと上記ヘッドとを接続した供給管と、
この供給管の中途部に設けられ上記基板に溶液を噴射塗布する際に上記溶液の液面の高さを設定する供給タンクと、
上記ヘッドの脱気を行なう際に上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧してその溶液を上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する加圧手段と、
上記供給タンクと上記ヘッドの間に設けられこの供給タンクからヘッドに流れる溶液に含まれる気泡を除去する脱気手段と、
上記加圧手段によって加圧されて上記脱気手段から上記ヘッド内を流れこのヘッド内を脱気した溶液が流出する回収管と、
上記脱気手段と上記回収管とを接続し上記脱気手段で脱気された気泡を上記回収管へ排出するとともに、上記加圧手段で加圧された溶液を上記脱気手段を通じて上記ヘッドに流しこのヘッド内の脱気を行なうときに、その溶液の一部だけが上記回収管へ流れ残りの大半の溶液が上記ヘッドに流れるよう内径寸法が設定された排気管と
を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置にある。
The present invention provides a solution coating apparatus for spray-coating a solution on a substrate.
A head having a nozzle for ejecting the solution by an inkjet method;
A storage tank storing the solution;
A supply pipe connecting the storage tank and the head;
A supply tank that is provided in the middle of the supply pipe and sets the height of the liquid level of the solution when spraying the solution onto the substrate;
Pressurizing means for pressurizing the solution stored in the storage tank when degassing the head and supplying the solution to the head through the supply tank;
A deaeration means provided between the supply tank and the head for removing bubbles contained in the solution flowing from the supply tank to the head;
A recovery pipe that is pressurized by the pressurizing means and flows from the degassing means through the head and from which the degassed solution flows out;
The degassing means and the recovery pipe are connected to discharge air bubbles degassed by the degassing means to the recovery pipe, and the solution pressurized by the pressurization means is passed to the head through the degassing means. And an exhaust pipe having an inner diameter dimension so that only a part of the solution flows into the recovery pipe and most of the remaining solution flows into the head when degassing the head. It is in a solution coating apparatus.

この発明は、基板に塗布される溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドの脱気を行なう脱気方法において、
加圧された溶液を脱気手段で脱気して上記ヘッドに供給する工程と、
上記ヘッドに供給された溶液をこのヘッド内を流して回収管に流出させることで上記ヘッド内を脱気する工程と、
上記脱気手段で脱気された気体を排気管によって上記回収管へ流す工程と、
上記脱気手段に加圧されて供給された溶液の一部だけを上記排気管に流し、残りの大半の溶液を上記脱気手段を通して上記ヘッドに流す工程と
を具備したことを特徴とする塗布装置の脱気方法にある。
The present invention relates to a degassing method for degassing a head having a nozzle that ejects a solution applied to a substrate by an ink jet method.
Degassing the pressurized solution with degassing means and supplying it to the head;
A step of degassing the inside of the head by flowing the solution supplied to the head through the head and outflowing into the collection tube;
Flowing the gas degassed by the degassing means through the exhaust pipe to the recovery pipe;
Applying only a part of the solution pressurized and supplied to the deaeration means to the exhaust pipe, and flowing most of the remaining solution to the head through the deaeration means. It is in the deaeration method of the device.

この発明によれば、貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧して供給タンクを通してヘッドに供給し、このヘッドから供給タンクに戻すことができるから、ヘッドの脱気を行なう際に、貯蔵タンクの溶液を供給タンクに移し変えずに行なえる。   According to the present invention, since the solution stored in the storage tank can be pressurized and supplied to the head through the supply tank and returned from the head to the supply tank, the solution in the storage tank can be used when degassing the head. Can be done without changing to the supply tank.

この発明によれば、加圧された溶液を脱気手段を通してヘッドに供給してこのヘッドの脱気を行なう際、上記脱気手段に接続された気泡を排出する排気管に溶液が流れるのが制限され、上記ヘッドに溶液を流すことができるから、このヘッドの脱気を確実に行うことができる。   According to the present invention, when the pressurized solution is supplied to the head through the degassing means and the head is degassed, the solution flows into the exhaust pipe that discharges the bubbles connected to the degassing means. Since the solution is allowed to flow through the head, the head can be surely degassed.

以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1と図2に示すこの発明の溶液の塗布装置はベース1を有する。ベース1の上面には所定間隔で離間した一対のレール2がベース1の長手方向に沿って敷設されている。上記レール2にはテーブル3が走行可能に設けられ、図示しない駆動源によって走行駆動されるようになっている。テーブル3の上面には多数の支持ピン4が設けられ、これら支持ピン4にはたとえば液晶表示装置に用いられるガラス製の基板Wが供給支持される。   The solution coating apparatus according to the present invention shown in FIGS. A pair of rails 2 spaced apart from each other at a predetermined interval are laid along the longitudinal direction of the base 1 on the upper surface of the base 1. A table 3 is provided on the rail 2 so as to be able to travel, and is driven to travel by a drive source (not shown). A large number of support pins 4 are provided on the upper surface of the table 3, and a glass substrate W used for, for example, a liquid crystal display device is supplied and supported on these support pins 4.

上記テーブル3とともに駆動される基板Wの上方には、上記基板Wにたとえばポリイミド膜などの機能性薄膜を形成するための溶液をインクジェット方式で噴射塗布する滴下部としての複数のヘッド、この実施の形態では3つのヘッド7が基板Wの走行方向と交差する方向に沿って一列に配設されている。   Above the substrate W driven together with the table 3, a plurality of heads as dropping portions for spraying and applying a solution for forming a functional thin film such as a polyimide film on the substrate W by an ink jet method, In the embodiment, the three heads 7 are arranged in a line along the direction intersecting the traveling direction of the substrate W.

上記ヘッド7は図3に示すようにヘッド本体8を備えている。ヘッド本体8は筒状に形成され、その下面開口は可撓板9によって閉塞されている。この可撓板9はノズルプレート11によって覆われており、このノズルプレート11と上記可撓板9との間に液室12が形成されている。   The head 7 includes a head body 8 as shown in FIG. The head body 8 is formed in a cylindrical shape, and its lower surface opening is closed by a flexible plate 9. The flexible plate 9 is covered with a nozzle plate 11, and a liquid chamber 12 is formed between the nozzle plate 11 and the flexible plate 9.

上記ヘッド本体8の長手方向一端部には上記液室12に連通する供液孔13が形成されている。この供液孔13から上記液室12にはたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜を形成する液体としての溶液が供給される。それによって、上記液室12内は溶液で満たされるようになっている。   A liquid supply hole 13 communicating with the liquid chamber 12 is formed at one longitudinal end of the head body 8. From the liquid supply hole 13, a solution as a liquid for forming a functional thin film such as an alignment film or a resist is supplied to the liquid chamber 12. Thereby, the inside of the liquid chamber 12 is filled with the solution.

図4に示すように、上記ノズルプレート11には、基板Wの搬送方向に直交する方向に沿って複数のノズル14が千鳥状に穿設されている。上記可撓板9の上面には、図3に示すように上記各ノズル14にそれぞれ対向して複数の圧電素子15が設けられている。   As shown in FIG. 4, a plurality of nozzles 14 are formed in the nozzle plate 11 in a zigzag pattern along a direction orthogonal to the transport direction of the substrate W. A plurality of piezoelectric elements 15 are provided on the upper surface of the flexible plate 9 so as to face the nozzles 14 as shown in FIG.

各圧電素子15には上記ヘッド本体8内に設けられた駆動部16によって駆動電圧が供給される。それによって、圧電素子15は伸縮し、可撓板9を部分的に変形させるから、その圧電素子15に対向位置するノズル14から溶液が基板Wの上面に噴射塗付される。   A driving voltage is supplied to each piezoelectric element 15 by a driving unit 16 provided in the head body 8. As a result, the piezoelectric element 15 expands and contracts, and the flexible plate 9 is partially deformed, so that the solution is sprayed and applied to the upper surface of the substrate W from the nozzle 14 facing the piezoelectric element 15.

図3に示すように、上記ヘッド本体8の長手方向他端部には上記液室12に連通する回収孔17が形成されている。上記給液孔13から液室12に供給された溶液は、上記回収孔17から回収することができるようになっている。すなわち、上記ヘッド7は上記液室12に供給された溶液をノズル14から噴射させるだけでなく、上記液室12を通じて上記回収孔17から回収することが可能となっている。   As shown in FIG. 3, a recovery hole 17 communicating with the liquid chamber 12 is formed at the other longitudinal end of the head body 8. The solution supplied from the liquid supply hole 13 to the liquid chamber 12 can be recovered from the recovery hole 17. That is, the head 7 can not only eject the solution supplied to the liquid chamber 12 from the nozzle 14 but also collect the solution from the recovery hole 17 through the liquid chamber 12.

図1と図3に示すように、各ヘッド7の給液孔13には溶液の供給管21から分岐された供給分岐管22が接続され、回収孔17には回収管23から分岐された回収分岐管24が接続されている。上記供給分岐管22には供給開閉弁25と後述する構成の脱気装置71とが順次設けられ、回収分岐管24には回収開閉弁26が設けられている。上記供給管21と回収管23との先端は連通弁27を介して接続されている。さらに、回収管23には回収分岐管24よりも基端側の部分に主回収弁28が設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 3, a supply branch pipe 22 branched from a solution supply pipe 21 is connected to the liquid supply hole 13 of each head 7, and a recovery branch branched from a recovery pipe 23 is connected to the recovery hole 17. A branch pipe 24 is connected. The supply branch pipe 22 is sequentially provided with a supply opening / closing valve 25 and a deaeration device 71 having a configuration described later, and the recovery branch pipe 24 is provided with a recovery opening / closing valve 26. The tips of the supply pipe 21 and the recovery pipe 23 are connected via a communication valve 27. Further, the recovery pipe 23 is provided with a main recovery valve 28 at a portion closer to the base end than the recovery branch pipe 24.

上記供給管21の基端は上記溶液Lが収容された貯液装置としての後述する構成の供給タンク31の底部に接続されている。この供給タンク31の上部には、中途部にアスピレータ33が設けられた供給分岐管34の一端が接続されている。この供給分岐管34の他端は上記供給タンク31に供給する溶液Lを貯蔵した貯蔵タンク32に接続されている。   The base end of the supply pipe 21 is connected to the bottom of a supply tank 31 having a configuration described later as a liquid storage device in which the solution L is stored. One end of a supply branch pipe 34 provided with an aspirator 33 is connected to the upper part of the supply tank 31. The other end of the supply branch pipe 34 is connected to a storage tank 32 that stores the solution L supplied to the supply tank 31.

上記供給タンク31の上部には大気開放管35が接続されている。この大気開放管35には第1の開閉制御弁36が設けられている。第1の開閉制御弁36が開放されれば、上記供給タンク31内が大気に連通する。なお、大気開放管35は、この大気開放管35から後述するように大気に放散される気体に含まれる気化溶媒を処理するための図示しない処理装置を介して大気に連通する。したがって、大気開放管35を流れる気体は抵抗を受けることになる。   An air release pipe 35 is connected to the upper part of the supply tank 31. The atmosphere opening pipe 35 is provided with a first opening / closing control valve 36. When the first opening / closing control valve 36 is opened, the supply tank 31 communicates with the atmosphere. Note that the atmosphere release pipe 35 communicates with the atmosphere through a processing device (not shown) for treating the vaporized solvent contained in the gas diffused into the atmosphere from the atmosphere release pipe 35 as described later. Therefore, the gas flowing through the atmosphere release pipe 35 receives resistance.

上記アスピレータ33は流入口33a,流出口33b及び吸引口33cを有し、上記流入口33aと流出口33bを上記供給分岐管34に接続して設けられている。上記吸引口33cには上記回収管23の基端が接続されている。上記供給分岐管34に溶液が流れてアスピレータ33の上記流入口33aを通って流出口33bから流出すると、上記吸引口33cが負圧になる。その負圧力で、吸引口33cに接続された回収管23に溶液が流れるようになっている。   The aspirator 33 has an inflow port 33a, an outflow port 33b, and a suction port 33c, and is provided by connecting the inflow port 33a and the outflow port 33b to the supply branch pipe 34. A base end of the recovery pipe 23 is connected to the suction port 33c. When the solution flows into the supply branch pipe 34 and flows out from the outlet 33b through the inlet 33a of the aspirator 33, the suction port 33c becomes negative pressure. With the negative pressure, the solution flows through the collection tube 23 connected to the suction port 33c.

上記貯蔵タンク32の上部には、上記供給タンク31と同様、第2の開閉制御弁43を有する大気開放管44が接続されている。さらに、第3の開閉制御弁45を有するガス供給管46が接続されている。このガス供給管46にはフィルタ47及び第4の開閉制御弁48が順次接続されている。第4の開閉制御弁48には流量絞り弁49が並列に設けられている。   An atmosphere release pipe 44 having a second opening / closing control valve 43 is connected to the upper portion of the storage tank 32, similarly to the supply tank 31. Further, a gas supply pipe 46 having a third opening / closing control valve 45 is connected. A filter 47 and a fourth open / close control valve 48 are sequentially connected to the gas supply pipe 46. The fourth open / close control valve 48 is provided with a flow restrictor 49 in parallel.

なお、上記供給開閉弁25、回収開閉弁26、主回収弁28、第1乃至第4の開閉制御弁36,43,45,48は図示しない制御装置によって開閉が制御されるようになっている。さらに、供給タンク31内の溶液Lの液面はレベルセンサ50によって検出される。溶液Lの液面が所定以下になったことがレベルセンサ50によって検出されると、その検出に基いて貯蔵タンク32から溶液Lが補給される。つまり、貯蔵タンク32内の溶液Lが第3の開閉制御弁45を通じて供給される不活性ガスによって加圧されることで、上記溶液Lが上記供給タンク31に補給される。   The supply on / off valve 25, the recovery on / off valve 26, the main recovery valve 28, and the first to fourth on / off control valves 36, 43, 45, and 48 are controlled to open / close by a control device (not shown). . Furthermore, the level of the solution L in the supply tank 31 is detected by the level sensor 50. When the level sensor 50 detects that the liquid level of the solution L has become below a predetermined level, the solution L is replenished from the storage tank 32 based on the detection. That is, the solution L in the storage tank 32 is pressurized by the inert gas supplied through the third opening / closing control valve 45, so that the solution L is supplied to the supply tank 31.

図2に示すように、上記テーブル3の一端面には側面形状がL字状の取付け部材51が垂直な一辺を上記テーブル3の端面に固定して設けられている。この取付け部材51の水平な他辺には上下シリンダ52が軸線を垂直にして設けられている。   As shown in FIG. 2, one end surface of the table 3 is provided with an attachment member 51 having an L-shaped side surface with a vertical side fixed to the end surface of the table 3. On the other horizontal side of the mounting member 51, an upper and lower cylinder 52 is provided with the axis line vertical.

上記上下シリンダ52のロッドには弾性部材53を介して載置板54が取付けられている。この載置板54の上面には各ヘッド7に対応する長さのブレード状のゴムなどの弾性材からなる3つのワイピング部材58設けられている。   A mounting plate 54 is attached to the rod of the upper and lower cylinders 52 via an elastic member 53. Three wiping members 58 made of an elastic material such as blade-like rubber having a length corresponding to each head 7 are provided on the upper surface of the mounting plate 54.

上記載置板54は回収槽61の内底部に設けられている。この回収槽61の一側にはガイド板62が設けられ、このガイド板62にはガイド部材63が設けられている。このガイド部材63は上記テーブル3の端面に上下方向に沿って設けられたガイドレール64にガイドされて上下動可能となっている。   The placement plate 54 is provided on the inner bottom of the collection tank 61. A guide plate 62 is provided on one side of the collection tank 61, and a guide member 63 is provided on the guide plate 62. The guide member 63 is guided by a guide rail 64 provided on the end surface of the table 3 along the vertical direction and can move up and down.

それによって、上記上下シリンダ52が駆動されれば、上記載置板54が駆動されるとともに、ガイド板62がガイドレール64に沿って上下動するから、載置板54が前後左右方向に振れるのが規制されて上下動する。   Accordingly, when the upper and lower cylinders 52 are driven, the mounting plate 54 is driven and the guide plate 62 moves up and down along the guide rails 64, so that the mounting plate 54 swings in the front-rear and left-right directions. Is regulated and moves up and down.

上記回収槽61には図1に示す回収タンク65が接続されている。この回収タンク65は、上記ヘッド7やノズル14の気泡抜きを行なう際、ノズル14から回収槽61に噴射される溶液を回収する。   A collection tank 65 shown in FIG. 1 is connected to the collection tank 61. The recovery tank 65 recovers the solution sprayed from the nozzle 14 to the recovery tank 61 when the bubbles of the head 7 and the nozzle 14 are removed.

基板Wに溶液Lを塗布する際、ワイピング部材58をヘッド7のノズル14が開口したノズル面に接触する高さに設定しておけば、基板Wがヘッド7の下方を往復動する際にノズル面に付着残留する溶液Lを拭き取ることができる。   When the solution L is applied to the substrate W, if the wiping member 58 is set to a height at which the wiping member 58 comes into contact with the nozzle surface where the nozzle 14 of the head 7 is opened, the nozzle is moved when the substrate W reciprocates below the head 7. The solution L remaining on the surface can be wiped off.

上記脱気装置71は上記供給管21から分岐された、上記供給分岐管22の、上記供給開閉弁25とヘッド本体8との間の部分(この部分を介装部分とする)に介装されている。すなわち、この脱気装置71は図5に示すように円筒状の容器72を有する。この容器72の周壁の上部には供給部としての第1の接続部71aが形成されている。この第1の接続部71aには、上記供給分岐管22の上記介装部分の上流部22aが接続される。それによって、容器72内には上記供給タンク31からの溶液Lが供給される。   The deaeration device 71 is interposed in a portion of the supply branch pipe 22 branched from the supply pipe 21 between the supply on / off valve 25 and the head body 8 (this portion is an interposed portion). ing. That is, this deaeration device 71 has a cylindrical container 72 as shown in FIG. A first connection portion 71 a as a supply portion is formed on the upper portion of the peripheral wall of the container 72. The upstream part 22a of the interposition part of the supply branch pipe 22 is connected to the first connection part 71a. Thereby, the solution L from the supply tank 31 is supplied into the container 72.

上記容器72の底部には上記供給分岐管22の介装部分の下流部22bが接続される、流出部としての第2の接続部71bが形成されている。それによって、容器72内に供給された溶液Lは底部から上記ヘッド本体8の給液孔13に供給される。   A second connection part 71b as an outflow part to which the downstream part 22b of the interposed part of the supply branch pipe 22 is connected is formed at the bottom of the container 72. Thereby, the solution L supplied into the container 72 is supplied to the liquid supply hole 13 of the head body 8 from the bottom.

上記容器72の内底部には気体分離部材73が設けられている。この気体分離部材73は、気泡が付着し易い材料、すなわち溶液Lとの接触角が10°より大きい材料、たとえば溶液がポリイミドの場合は、フッ素系やナイロン系などの合成樹脂によって網目状に形成されている。それによって、上記容器72内に供給された溶液Lが気液分離部材73の網目を通って底部に接続された供給分岐管22の介装部分の下流部22bからヘッド本体8へ流出するとき、溶液に含まれた気泡が上記気液分離部材73に付着して容器72内に残留する。   A gas separation member 73 is provided on the inner bottom of the container 72. This gas separation member 73 is formed in a mesh shape with a material that easily adheres to bubbles, that is, a material having a contact angle with the solution L of greater than 10 °, for example, a polyimide resin. Has been. Thereby, when the solution L supplied into the container 72 flows out from the downstream portion 22b of the intervening portion of the supply branch pipe 22 connected to the bottom through the mesh of the gas-liquid separation member 73, to the head body 8. Bubbles contained in the solution adhere to the gas-liquid separation member 73 and remain in the container 72.

気液分離部材73に付着残留した小さな気泡bは寄り集まって大きな気泡Bに成長し、浮力が増大すると容器72内を浮上する。容器72の上部にはこの発明の排気部となる排気管74の一端が接続される、排気部としての第3の接続部71cが形成されている。この排気管74の他端は上記回収管23に回収分岐管24を介して接続されている。それによって、容器72内を浮上した気泡Bは上記排気管74から回収管23を通って貯蔵タンク32に流入し、この貯蔵タンク32に接続された大気開放管44から大気中に放散される。   The small bubbles b adhering and remaining on the gas-liquid separation member 73 gather together and grow into large bubbles B, and rise inside the container 72 when the buoyancy increases. A third connection portion 71c as an exhaust portion is formed on the upper portion of the container 72, to which one end of an exhaust pipe 74 serving as an exhaust portion of the present invention is connected. The other end of the exhaust pipe 74 is connected to the recovery pipe 23 via the recovery branch pipe 24. Thereby, the bubbles B floating in the container 72 flow into the storage tank 32 from the exhaust pipe 74 through the recovery pipe 23, and are diffused into the atmosphere from the atmosphere open pipe 44 connected to the storage tank 32.

上記容器72の直径をD、容器72内へ供給される溶液Lの流量をQ、容器72内を浮上する気泡の直径をa、溶液Lの粘度をζ、気泡密度をρ、溶液密度をρ、重力加速度をgとすると、
D>[(4Q/π)×{6πaζ/(4πaρg/3)
−(4πaρg/3)}]1/2 …(1)式
の関係を満足するよう、Dを設定することで、容器72内で成長した気泡Bを、容器72に流入する溶液Lの速度に抗して浮上させることができる。
The diameter of the container 72 is D, the flow rate of the solution L supplied into the container 72 is Q, the diameter of bubbles rising in the container 72 is a, the viscosity of the solution L is ζ, the bubble density is ρ 1 , and the solution density is If ρ 2 and the gravitational acceleration is g,
D> [(4Q / π) × {6πaζ / (4πa 3 ρ 1 g / 3)
− (4πa 3 ρ 2 g / 3)} 1/2 ... Solution that causes bubbles B grown in the container 72 to flow into the container 72 by setting D so as to satisfy the relationship of the expression (1) It is possible to ascend against the speed of L.

なお、容器72は気泡が付着し難い材料、すなわち、溶液Lとの接触角が10°より小さい材料、たとえば溶液Lがポリイミドの場合はガラスなどによって形成されるが、それ以外にステンレスなどの金属やセラミックなど、比較的気泡が付着し難い材料で形成してもよい。上記気体分離部材74は全体を合成樹脂によって網目状に形成されているが、ステンレスなどの金属製のメッシュに合成樹脂をコーティングして形成してもよく、要は少なくとも表面を気泡が付着し易い合成樹脂によって形成すればよい。   In addition, the container 72 is formed of a material that does not easily adhere to bubbles, that is, a material having a contact angle with the solution L of less than 10 °, for example, glass or the like when the solution L is polyimide. Alternatively, it may be formed of a material that is relatively difficult to attach bubbles, such as ceramic or ceramic. The gas separation member 74 is entirely formed in a mesh shape with a synthetic resin, but it may be formed by coating a synthetic mesh on a metal mesh such as stainless steel. In short, bubbles are likely to adhere to at least the surface. What is necessary is just to form with a synthetic resin.

貯蔵タンク32内の溶液Lが第3の開閉制御弁45を通じて供給される不活性ガスによって加圧されると、上記溶液Lが上記供給タンク31に補給される。供給タンク31への溶液の供給を継続し、この供給タンク31内の圧力が上昇すると、溶液は供給タンク31から流出し、上記脱気装置71の容器72内へ上記供給分岐管22の上流部22aを通って流入する。   When the solution L in the storage tank 32 is pressurized by the inert gas supplied through the third opening / closing control valve 45, the solution L is supplied to the supply tank 31. When the supply of the solution to the supply tank 31 is continued and the pressure in the supply tank 31 rises, the solution flows out of the supply tank 31 and into the container 72 of the deaeration device 71 upstream of the supply branch pipe 22. Flows in through 22a.

上記容器72には、ヘッド7の給液孔13に連通する供給分岐管22の下流部22bと、溶液から除去した気泡が流出する気泡Bが流出する排気管とが接続されている。そのため、上記上流部22aから容器72内に流入した溶液は下流部22bと通ってヘッド7へ流れず、排気管74に流れる虞がある。   Connected to the container 72 are a downstream portion 22b of the supply branch pipe 22 communicating with the liquid supply hole 13 of the head 7 and an exhaust pipe through which bubbles B from which bubbles removed from the solution flow out. For this reason, the solution flowing into the container 72 from the upstream portion 22a may not flow to the head 7 through the downstream portion 22b but may flow to the exhaust pipe 74.

そこで、上記排気管74に流れる溶液の抵抗を、この排気管74の内径寸法を上記下流部22bの内径寸法よりも小さくしてこの下流部22bよりも十分に大きくすることで、上流部22aから容器72内に流入した溶液のほとんどが上記下流部22bに流れるよう、設定されている。すなわち、上記排気管74は、流量配分の条件式である、
Σh=ΣkQ=0 …(2)式
を満たす配管形状に設定されている。
Therefore, the resistance of the solution flowing through the exhaust pipe 74 is reduced from the upstream section 22a by making the inner diameter dimension of the exhaust pipe 74 smaller than the inner diameter dimension of the downstream section 22b and sufficiently larger than the downstream section 22b. It is set so that most of the solution flowing into the container 72 flows to the downstream portion 22b. That is, the exhaust pipe 74 is a flow rate distribution conditional expression.
Σh = ΣkQ 2 = 0 ... ( 2) is set to a pipe shape that satisfies the equation.

たとえば、排気管74の圧力損失をh、内径をDとすると、マニングの公式より、
h=kQ …(3)式
ただし、kはk=10.20nL/D16/3であり、Lは排気管74の長さ、Qが流量、nは粗度係数で、排気管74が塩化ビニル、ガラス或いは鉛であれば、0.009〜0.012である。
For example, if the pressure loss of the exhaust pipe 74 is h and the inner diameter is D, from Manning's formula,
h = kQ 2 ... (3) equation Here, k is the k = 10.20n 2 L / D 16/3 , L is the length of the exhaust pipe 74, Q is the flow rate, n represents at roughness coefficient, the exhaust pipe If 74 is vinyl chloride, glass or lead, it is 0.009 to 0.012.

図7は脱気装置71の部分の配管系統の模式図で、上流部22aは内径寸法が4mmで、流量Qの溶液が供給されるとする。排気管74の内径をD、長さをL、排気管に流れる溶液の流量をQとし、回収分岐管24の内径寸法をD、長さをL、溶液の流量をQとする。 FIG. 7 is a schematic diagram of the piping system of the deaerator 71, and the upstream portion 22a has an inner diameter of 4 mm and is supplied with a solution having a flow rate Q. The inner diameter of the exhaust pipe 74 is D 1 , the length is L 1 , the flow rate of the solution flowing through the exhaust pipe is Q 1 , the inner diameter dimension of the recovery branch pipe 24 is D 2 , the length is L 2 , and the flow rate of the solution is Q 2. And

そして、Lを100mm、Lを200mm、Dを4mmに設定して排気管74の内径寸法を図8に示すように変化させたときに回収分岐管24に流れる溶液の流量Qを測定したところ、排気管74の内径寸法が1mmでは上流部22aに供給された溶液の80%が流れ、2mmでは約70%とであり、4mmで約40%となった。 Then, 100 mm to L 1, the L 2 200 mm, the flow rate Q 2 of the solution flowing through the recovery branch pipe 24 when varied as shown in FIG. 8 the inner diameter of the exhaust pipe 74 by setting the D 2 to 4mm As a result, 80% of the solution supplied to the upstream portion 22a flowed when the inner diameter of the exhaust pipe 74 was 1 mm, and about 70% at 2 mm, and about 40% at 4 mm.

すなわち、排気管74と回収分岐管24との長さや内径寸法を設定することで、上流部22aから容器72に供給された溶液がヘッド7と排気管74とに流れる割合を設定することができ、この実施の形態ではQ:Q=2:8、好ましくは1:9に設定される。それによって、上流部22aからの溶液をヘッド7に確実に流すことができるから、用液によるヘッド7の脱気を確実に行うことができる。 That is, by setting the lengths and inner diameter dimensions of the exhaust pipe 74 and the recovery branch pipe 24, the ratio of the solution supplied from the upstream portion 22a to the container 72 to the head 7 and the exhaust pipe 74 can be set. In this embodiment, Q 1 : Q 2 = 2: 8, preferably 1: 9. Thereby, since the solution from the upstream part 22a can be reliably flowed to the head 7, the head 7 can be surely degassed with the liquid for use.

上記供給タンク31は、図6に示すようにタンク本体81を備えている。このタンク本体81はガラスなどの気泡が付着し難い材料或いは金属やセラミックなどの気泡が比較的付着しにくい材料、すなわち溶液Lとの接触角が10°より小さい材料によって円筒状に形成されているとともに、下端には次第に小径となる逆円錐状の漏斗部82及びこの漏斗部82に連続する小径円筒部83が連設されている。なお、タンク本体81を形成する材料は限定されるものでない。   The supply tank 31 includes a tank body 81 as shown in FIG. The tank body 81 is formed in a cylindrical shape by a material such as glass that is difficult to attach bubbles or a material such as metal or ceramic that is relatively difficult to attach bubbles, that is, a material whose contact angle with the solution L is less than 10 °. In addition, an inverted conical funnel portion 82 that gradually becomes smaller in diameter and a small-diameter cylindrical portion 83 that continues to the funnel portion 82 are connected to the lower end. The material forming the tank body 81 is not limited.

上記タンク本体81内には、内部を分離室84とした気泡分離手段としての分離容器85が収容され、図示しない保持部材によって保持されている。この分離容器85は、気泡が付着し難いガラス、或いは比較的気泡が付着し難い金属やセラミックなどの材料、すなわち溶液Lとの接触角が10°より小さい材料によって上端面及び先端面が開放した逆円錐状に形成されている。この分離容器85の下端部は、上記タンク本体81の小径円筒部83内に隙間のある状態で挿入されている。この分離容器85の先端部は側方に向かって屈曲されていて、開口した先端面85aは上記小径円筒部83の内周面に近接している。   In the tank main body 81, a separation container 85 as a bubble separation means having a separation chamber 84 therein is accommodated and held by a holding member (not shown). The separation container 85 has an upper end surface and a front end surface opened by a material such as glass that does not easily attach bubbles, or a material such as metal or ceramic that does not easily attach bubbles, that is, a material having a contact angle with the solution L of less than 10 °. It is formed in an inverted cone shape. The lower end portion of the separation container 85 is inserted into the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81 with a gap. The distal end portion of the separation container 85 is bent sideways, and the opened distal end surface 85 a is close to the inner peripheral surface of the small diameter cylindrical portion 83.

上記供給分岐管34の先端は、上記タンク本体81の周壁を気密に貫通し、上記分離容器85の周壁の上部の内周面に対して接線方向に沿って接続されている。上記溶液供給管21の基端は、上記タンク本体81の小径円筒部83の先端に接続されている。   The distal end of the supply branch pipe 34 penetrates the peripheral wall of the tank body 81 in an airtight manner and is connected to the inner peripheral surface of the upper part of the peripheral wall of the separation container 85 along the tangential direction. The proximal end of the solution supply pipe 21 is connected to the distal end of the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81.

上記供給分岐管34から分離容器85内に接線方向に沿って供給される溶液Lは、分離容器85の内周面を図6に矢印で示すように旋回しながら落下する。溶液Lが分離容器85の内周面に沿って旋回すると、溶液Lに遠心力が作用する。そのため、溶液Lに気泡bが含まれていると、気泡bと溶液Lとの密度差によって溶液Lから気泡bが分離して旋回中心に集まり、分離容器85内を浮上する。タンク本体81の上面に接続された大気開放管35を開放すれば、分離容器85内を浮上した気泡bは、大気開放管35から大気に放散させることができる。   The solution L supplied along the tangential direction from the supply branch pipe 34 into the separation container 85 falls while turning on the inner peripheral surface of the separation container 85 as indicated by an arrow in FIG. When the solution L swirls along the inner peripheral surface of the separation container 85, a centrifugal force acts on the solution L. Therefore, when the bubble L is included in the solution L, the bubble b is separated from the solution L due to the density difference between the bubble b and the solution L, gathers at the center of rotation, and floats in the separation container 85. If the atmosphere release pipe 35 connected to the upper surface of the tank body 81 is opened, the bubbles b floating in the separation container 85 can be diffused from the atmosphere release pipe 35 to the atmosphere.

分離容器85内を旋回しながら落下する溶液Lは、その先端面85aから流出してタンク本体81内に溜まる。タンク本体81内の溶液Lの液面は、その液面とヘッド7のノズル面とがなす水頭h(図1に示す)が一定になるよう、レベルセンサ50によって制御される。   The solution L that falls while turning in the separation container 85 flows out of the front end surface 85 a and accumulates in the tank body 81. The liquid level of the solution L in the tank body 81 is controlled by the level sensor 50 so that the water head h (shown in FIG. 1) formed by the liquid level and the nozzle surface of the head 7 is constant.

溶液Lが分離容器85の先端面85aから流出する際、溶液Lはタンク本体81の小径円筒部83の内周面に衝突する。そのため、分離容器85を落下する溶液Lに気泡bが残留していたとしても、衝突時に気泡bをタンク本体81の内壁に沿わせ溶液Lから気泡bが分離され、タンク本体81内を浮上して排出される。   When the solution L flows out from the front end surface 85 a of the separation container 85, the solution L collides with the inner peripheral surface of the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81. Therefore, even if the bubbles b remain in the solution L falling from the separation container 85, the bubbles b are separated from the solution L by causing the bubbles b to follow the inner wall of the tank body 81 at the time of collision, and the bubbles b float up in the tank body 81. Discharged.

上記構成の塗布装置において、基板Wに溶液を塗布する前に、ヘッド7の脱気が行なわれる。脱気を行なうには、貯蔵タンク32にガス供給管46を通じて不活性ガスを供給し、この貯蔵タンク32に貯蔵された溶液を加圧する。それによって、溶液は供給タンク31に流れる。 In the coating apparatus configured as described above, the head 7 is deaerated before the solution is applied to the substrate W. In order to perform deaeration, an inert gas is supplied to the storage tank 32 through the gas supply pipe 46, and the solution stored in the storage tank 32 is pressurized. Thereby, the solution flows into the supply tank 31.

溶液が供給され続けることで、供給タンク31内の圧力が上昇すると、その溶液は供給管21から分岐供給管22の上流部22aを通り、脱気装置71の容器72に流入する。容器72に流入した溶液は、下流部22bから流出してヘッド7の液室12に流入し、この液室12に残留する気泡とともに液室12から分岐回収管24を通って回収管23に流れる。ヘッド7の液室12に流入した溶液の一部はノズル14から流出する。溶液の一部がノズル14から流出することで、その流出量に応じた流量が貯蔵タンク32から供給タンク31に供給され続ける。   When the pressure in the supply tank 31 is increased by continuing to supply the solution, the solution flows from the supply pipe 21 through the upstream portion 22a of the branch supply pipe 22 into the container 72 of the deaeration device 71. The solution flowing into the container 72 flows out from the downstream portion 22b and flows into the liquid chamber 12 of the head 7, and flows from the liquid chamber 12 through the branch recovery tube 24 to the recovery tube 23 together with bubbles remaining in the liquid chamber 12. . A part of the solution flowing into the liquid chamber 12 of the head 7 flows out from the nozzle 14. As a part of the solution flows out of the nozzle 14, a flow rate corresponding to the outflow amount is continuously supplied from the storage tank 32 to the supply tank 31.

上記回収管23の基端はアスピレータ33の吸引口33cに接続されている。溶液が貯蔵タンク32から供給タンク31へ流れることで、上記アスピレータ33の吸引口33cが負圧になる。それによって、ヘッド7の液室12の脱気を行い回収管23に流れた溶液がアスピレータ33を通って供給タンク31に戻る。供給タンク31に戻った溶液は、この内部に設けられた分離容器85で脱気されてからヘッド7に供給されることになる。   The proximal end of the recovery tube 23 is connected to the suction port 33 c of the aspirator 33. As the solution flows from the storage tank 32 to the supply tank 31, the suction port 33c of the aspirator 33 becomes negative pressure. As a result, the liquid chamber 12 of the head 7 is degassed, and the solution that has flowed into the recovery pipe 23 returns to the supply tank 31 through the aspirator 33. The solution returned to the supply tank 31 is supplied to the head 7 after being deaerated in the separation container 85 provided therein.

供給タンク31に溶液から脱気された気泡が溜まったならば、大気開放管35に設けられた第1の開閉制御弁36を開放することで、大気に放散される。   If bubbles deaerated from the solution accumulate in the supply tank 31, they are dissipated into the atmosphere by opening the first opening / closing control valve 36 provided in the atmosphere opening pipe 35.

このように、貯蔵タンク32内の溶液を加圧して供給タンク31に供給しながらヘッド7内の脱気を行なうことができるから、貯蔵タンク32内の溶液を供給タンク31に所定量貯めてから、ヘッド7に供給して脱気を行なう場合に比べ、脱気を行なうために要する時間を短縮することができる。しかも、供給タンク31内の溶液を加圧する加圧手段としての配管系統が不要となるから、構成を簡略化することができる。   In this way, the head 7 can be degassed while pressurizing and supplying the solution in the storage tank 32 to the supply tank 31, so that a predetermined amount of solution in the storage tank 32 is stored in the supply tank 31. Compared with the case where deaeration is performed by supplying the head 7, the time required for deaeration can be shortened. In addition, since a piping system as a pressurizing unit that pressurizes the solution in the supply tank 31 is not necessary, the configuration can be simplified.

さらに、溶液を貯蔵タンク32から供給タンク31に供給しながらヘッド7内の脱気を行なうため、供給タンク31の容積を十分に小さくし、この供給タンク31に貯えられる溶液の量を少なくしても、ヘッド7内の脱気に支障をきたすことがない。つまり、供給タンク31を小型化することが可能となる。
なお、ヘッド7内の脱気を行なえば、それと同時に、溶液が流れる配管の脱気も行なわれることになる。
Further, since the inside of the head 7 is deaerated while supplying the solution from the storage tank 32 to the supply tank 31, the volume of the supply tank 31 is sufficiently reduced, and the amount of the solution stored in the supply tank 31 is reduced. However, the deaeration in the head 7 is not hindered. That is, the supply tank 31 can be reduced in size.
If the inside of the head 7 is deaerated, at the same time, the piping through which the solution flows is also deaerated.

一方、ヘッド7には、溶液が脱気装置71を通って供給される。脱気装置71の容器72には排気管74が接続されている。そのため、脱気装置71に供給された溶液は、ヘッド7に流入せずに、排気管74を通って回収管23に流れてしまう虞がある。   On the other hand, the solution is supplied to the head 7 through the deaeration device 71. An exhaust pipe 74 is connected to the container 72 of the deaeration device 71. Therefore, the solution supplied to the deaeration device 71 may flow into the recovery pipe 23 through the exhaust pipe 74 without flowing into the head 7.

しかしながら、排気管74を流れる溶液の抵抗が供給分岐管22の下流部分22bを通ってヘッド7に流れる溶液の抵抗よりも十分に大きくなるよう、たとえば上記排気管74の内径寸法や長さなどによって設定した。   However, the resistance of the solution flowing through the exhaust pipe 74 is sufficiently larger than the resistance of the solution flowing through the downstream portion 22 b of the supply branch pipe 22 to the head 7, for example, depending on the inner diameter size and length of the exhaust pipe 74. Set.

そのため、容器72に供給される溶液のほとんどは、排気管74に流れず、ヘッド7に流れることになるから、このヘッド7内の脱気を確実に行うことが可能となる。つまり、ヘッド7に供給される溶液を、このヘッド7の上流側に設けられた脱気装置71で脱気する構造であっても、上記脱気装置71によってヘッド7の脱気が確実に行なえなくなるのを防止することができる。   Therefore, most of the solution supplied to the container 72 does not flow to the exhaust pipe 74 but flows to the head 7, so that the degassing in the head 7 can be reliably performed. That is, even if the solution supplied to the head 7 is degassed by the deaeration device 71 provided on the upstream side of the head 7, the degassing device 71 can surely degas the head 7. It can be prevented from disappearing.

ヘッド7や配管の脱気を行なったならば、ヘッドの流出側に設けられた回収開閉弁26を閉じ、ヘッド7に供給された溶液をノズル14から流出させる。それによって、ノズル14に付着する気泡を除去することができる。   When the head 7 and the piping are degassed, the recovery on-off valve 26 provided on the outflow side of the head is closed, and the solution supplied to the head 7 is caused to flow out from the nozzle 14. Thereby, bubbles adhering to the nozzle 14 can be removed.

このようにして、各部の脱気を行なったならば、供給タンク31内の溶液の液面をヘッド7のノズル14が形成された面に対して所定の水頭hとなるよう設定する。ついで、基板Wをテーブル3によって搬送し、ヘッド7の下方に搬送されてきたならば、駆動部16によって圧電素子15に通電し、ヘッド7の液室12に供給された溶液Lをノズル14から基板Wに噴射する。それによって、基板Wに溶液Lを噴射塗布することができる。   Thus, if each part is deaerated, the liquid level of the solution in the supply tank 31 will be set so that it may become predetermined | prescribed water head h with respect to the surface in which the nozzle 14 of the head 7 was formed. Next, if the substrate W is transported by the table 3 and transported below the head 7, the drive unit 16 energizes the piezoelectric element 15, and the solution L supplied to the liquid chamber 12 of the head 7 is supplied from the nozzle 14. Spray onto the substrate W. Thereby, the solution L can be spray-coated on the substrate W.

上記一実施の形態では基板にポリイミド膜を形成するための塗布装置にこの発明の脱気装置を適用した場合について説明したが、基板に液晶を滴下供給したり、レジスト、エッチング液或いは現像液などを滴下供給する場合などであっても、この発明の塗布装置を用いることができる。   In the above embodiment, the case where the degassing apparatus of the present invention is applied to a coating apparatus for forming a polyimide film on a substrate has been described. The coating apparatus of the present invention can be used even in the case of supplying dropwise.

この発明の一実施の形態に係る溶液の塗布装置の概略的構成を示す側面図。The side view which shows schematic structure of the coating device of the solution which concerns on one embodiment of this invention. 溶液の供給管路を省略した塗布装置の正面図。The front view of the coating device which abbreviate | omitted the supply pipeline of the solution. ノズルヘッドの断面図。Sectional drawing of a nozzle head. ノズルヘッドの下面図。The bottom view of a nozzle head. 脱気装置の断面図。Sectional drawing of a deaeration apparatus. 供給タンクの断面図。Sectional drawing of a supply tank. 脱気装置に接続された各配管を示す模式図。The schematic diagram which shows each piping connected to the deaeration apparatus. 図7に示す各配管の内径寸法や長さを設定したときに回収分岐管を通って回収管に流れる溶液の量と、排気管に流れる溶液の量との関係を測定したグラフ。The graph which measured the relationship between the quantity of the solution which flows into a collection pipe through a collection branch pipe, and the quantity of the solution which flows into an exhaust pipe, when the internal-diameter dimension and length of each piping shown in FIG. 7 are set.

符号の説明Explanation of symbols

7…ヘッド、14…ノズル、21…供給管、23…回収管、31…供給タンク、32…貯蔵タンク、33…アスピレータ、34…供給分岐管、35…大気開放管、45…第3の開閉弁(加圧手段)、46…ガス供給管(加圧手段)、71…脱気装置(脱気手段)、74…排気管。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 7 ... Head, 14 ... Nozzle, 21 ... Supply pipe, 23 ... Collection pipe, 31 ... Supply tank, 32 ... Storage tank, 33 ... Aspirator, 34 ... Supply branch pipe, 35 ... Atmospheric release pipe, 45 ... Third opening / closing Valve (pressurizing means), 46 ... gas supply pipe (pressurizing means), 71 ... deaeration device (deaeration means), 74 ... exhaust pipe.

Claims (5)

基板に溶液を噴射塗布する溶液の塗布装置において、
上記溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドと、
上記溶液を貯蔵した貯蔵タンクと、
この貯蔵タンクと上記ヘッドとを接続した供給管と、
この供給管の中途部に設けられ上記基板に溶液を噴射塗布する際に上記溶液の液面の高さを設定する供給タンクと、
上記ヘッドの脱気を行なう際に上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧してその溶液を上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する加圧手段と、
流入口、流出口及び吸引口を有し、上記供給管の上記貯蔵タンクと上記供給タンクとの間の部分に流入口と流出口を介して設けられたアスピレータと、
上記ヘッドと上記アスピレータの吸引口とを接続し上記ヘッドに供給されてそのノズルから噴射せずに上記ヘッド内を流れた溶液が上記アスピレータの吸引作用によって流れる回収管と
を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置。
In a solution coating apparatus that sprays a solution onto a substrate,
A head having a nozzle for ejecting the solution by an inkjet method;
A storage tank storing the solution;
A supply pipe connecting the storage tank and the head;
A supply tank that is provided in the middle of the supply pipe and sets the height of the liquid level of the solution when spraying the solution onto the substrate;
Pressurizing means for pressurizing the solution stored in the storage tank when degassing the head and supplying the solution to the head through the supply tank;
An aspirator having an inflow port, an outflow port, and a suction port, and provided in the portion of the supply pipe between the storage tank and the supply tank via the inflow port and the outflow port;
A recovery pipe connected to the head and the suction port of the aspirator and supplied to the head and flowing through the head without being ejected from the nozzle; Application device for solution.
上記供給タンク内には、上記アスピレータを通って上記供給タンクに流れる溶液に含まれる気泡を分離する気泡分離手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の溶液の塗布装置。   2. The solution coating apparatus according to claim 1, wherein bubble supply means for separating bubbles contained in the solution flowing through the supply tank through the aspirator is provided in the supply tank. 基板に塗布される溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドの脱気を、貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧し、この溶液を上記基板に溶液を噴射塗布する際に溶液の液面の高さを設定する供給タンクを通じて上記ヘッドに流して行なう脱気方法において、
上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧し上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する工程と、
上記溶液を上記ヘッド内を流すことで、このヘッド内の気泡を溶液とともに流出させる工程と、
上記ヘッドから流出した気泡を含む溶液を、上記ヘッドに加圧供給される溶液の流れによって吸引して上記供給タンクに戻す工程と
を具備したことを特徴とする塗布装置の脱気方法。
Degassing of a head having a nozzle that ejects a solution to be applied to a substrate by an ink jet method, pressurizing the solution stored in a storage tank, and spraying the solution onto the substrate, the liquid level of the solution In the deaeration method performed by flowing the head through the supply tank that sets the height,
Pressurizing the solution stored in the storage tank and supplying it to the head through the supply tank;
Allowing the bubbles in the head to flow out together with the solution by flowing the solution through the head;
And a step of sucking the solution containing bubbles flowing out from the head by the flow of the solution supplied under pressure to the head and returning the solution to the supply tank.
基板に溶液を噴射塗布する溶液の塗布装置において、
上記溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドと、
上記溶液を貯蔵した貯蔵タンクと、
この貯蔵タンクと上記ヘッドとを接続した供給管と、
この供給管の中途部に設けられ上記基板に溶液を噴射塗布する際に上記溶液の液面の高さを設定する供給タンクと、
上記ヘッドの脱気を行なう際に上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧してその溶液を上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する加圧手段と、
上記供給タンクと上記ヘッドの間に設けられこの供給タンクからヘッドに流れる溶液に含まれる気泡を除去する脱気手段と、
上記加圧手段によって加圧されて上記脱気手段から上記ヘッド内を流れこのヘッド内を脱気した溶液が流出する回収管と、
上記脱気手段と上記回収管とを接続し上記脱気手段で脱気された気泡を上記回収管へ排出するとともに、上記加圧手段で加圧された溶液を上記脱気手段を通じて上記ヘッドに流しこのヘッド内の脱気を行なうときに、その溶液の一部だけが上記回収管へ流れ残りの大半の溶液が上記ヘッドに流れるよう内径寸法が設定された排気管と
を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置。
In a solution coating apparatus that sprays a solution onto a substrate,
A head having a nozzle for ejecting the solution by an inkjet method;
A storage tank storing the solution;
A supply pipe connecting the storage tank and the head;
A supply tank that is provided in the middle of the supply pipe and sets the height of the liquid level of the solution when spraying the solution onto the substrate;
Pressurizing means for pressurizing the solution stored in the storage tank when degassing the head and supplying the solution to the head through the supply tank;
A deaeration means provided between the supply tank and the head for removing bubbles contained in the solution flowing from the supply tank to the head;
A recovery pipe that is pressurized by the pressurizing means and flows from the degassing means through the head and from which the degassed solution flows out;
The degassing means and the recovery pipe are connected to discharge air bubbles degassed by the degassing means to the recovery pipe, and the solution pressurized by the pressurization means is passed to the head through the degassing means. An exhaust pipe having an inner diameter set so that only a part of the solution flows into the recovery pipe and most of the remaining solution flows into the head when the head is deaerated. A solution coating apparatus.
基板に塗布される溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドの脱気を行なう脱気方法において、
加圧された溶液を脱気手段で脱気して上記ヘッドに供給する工程と、
上記ヘッドに供給された溶液をこのヘッド内を流して回収管に流出させることで上記ヘッド内を脱気する工程と、
上記脱気手段で脱気された気体を排気管によって上記回収管へ流す工程と、
上記脱気手段に加圧されて供給された溶液の一部だけを上記排気管に流し、残りの大半の溶液を上記脱気手段を通して上記ヘッドに流す工程と
を具備したことを特徴とする塗布装置の脱気方法。
In a degassing method for degassing a head having a nozzle that ejects a solution applied to a substrate by an inkjet method,
Degassing the pressurized solution with degassing means and supplying it to the head;
A step of degassing the inside of the head by flowing the solution supplied to the head through the head and outflowing into the collection tube;
Flowing the gas degassed by the degassing means through the exhaust pipe to the recovery pipe;
Applying only a part of the solution pressurized and supplied to the deaeration means to the exhaust pipe, and flowing most of the remaining solution to the head through the deaeration means. How to deaerate the device.
JP2003340817A 2003-09-30 2003-09-30 Solution application apparatus and degassing method for application apparatus Pending JP2005103453A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003340817A JP2005103453A (en) 2003-09-30 2003-09-30 Solution application apparatus and degassing method for application apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003340817A JP2005103453A (en) 2003-09-30 2003-09-30 Solution application apparatus and degassing method for application apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005103453A true JP2005103453A (en) 2005-04-21

Family

ID=34535602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003340817A Pending JP2005103453A (en) 2003-09-30 2003-09-30 Solution application apparatus and degassing method for application apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005103453A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007038055A (en) * 2005-08-01 2007-02-15 Ulvac Japan Ltd Printer
JP2009248513A (en) * 2008-04-09 2009-10-29 Ulvac Japan Ltd Printing apparatus
JP2013059735A (en) * 2011-09-14 2013-04-04 Advance Denki Kogyo Kk Liquid feeder
US8500262B2 (en) 2008-10-08 2013-08-06 Konica Minolta Ij Technologies, Inc. Inkjet recording device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007038055A (en) * 2005-08-01 2007-02-15 Ulvac Japan Ltd Printer
JP2009248513A (en) * 2008-04-09 2009-10-29 Ulvac Japan Ltd Printing apparatus
US8500262B2 (en) 2008-10-08 2013-08-06 Konica Minolta Ij Technologies, Inc. Inkjet recording device
JP5321593B2 (en) * 2008-10-08 2013-10-23 コニカミノルタ株式会社 Inkjet recording device
JP2013059735A (en) * 2011-09-14 2013-04-04 Advance Denki Kogyo Kk Liquid feeder

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5719420B2 (en) Fluid droplet ejection device
CN1315653C (en) Image recording apparatus with maintenance unit
EP1403059B1 (en) Ink jet recording apparatus
KR101273428B1 (en) Fluid drop ejection
US4528996A (en) Orifice plate cleaning system
KR102635289B1 (en) Cleaning apparatus and cleaning method of ink-jet head and printing apparatus
JP5700975B2 (en) Inkjet printer
US11148433B2 (en) Liquid ejecting apparatus
JP2005103453A (en) Solution application apparatus and degassing method for application apparatus
JP2010005544A (en) Inkjet head cleaning method and device using the method
JP2005058842A (en) Deaeration apparatus, deaerating method and liquid supplying apparatus
JP2005066377A (en) Liquid-reserving device, liquid-reserving method, and liquid-feeding device
JP2005140257A (en) Fluid control valve and droplet discharging device
JP2009166002A (en) Apparatus and method for applying solution
JP2011206739A (en) Inkjet type coating apparatus
JP6634600B2 (en) Coating head cleaning device and cleaning method
JP2010022956A (en) Deaeration method, deaeration device and droplet-discharging device for liquid piping
JP5423247B2 (en) Image forming apparatus
JP4537657B2 (en) Solution coating apparatus and bubble removal method of coating apparatus
JP2006168077A (en) Maintenance method for image-forming apparatus
JP2004223356A (en) Method and apparatus for applying solution
JP2004045070A (en) Discharge apparatus and injector
JP2005040670A (en) Coating apparatus
JP2010022953A (en) Deaeration mechanism and droplet-discharging device for liquid piping
JP2017154378A (en) Cleaning device for ink jet head, cleaning method, and printing device