JP2005066377A

JP2005066377A - Liquid-reserving device, liquid-reserving method, and liquid-feeding device

Info

Publication number: JP2005066377A
Application number: JP2003208190A
Authority: JP
Inventors: Norio Toyoshima; 範夫豊島; Maki Morimitsu; 麻紀盛満
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 2003-08-21
Filing date: 2003-08-21
Publication date: 2005-03-17

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid-reserving device which makes a liquid contain no gas when the liquid is reserved in a tank, and also provide a liquid-reserving method and a liquid-feeding device. <P>SOLUTION: The liquid-reserving device in which a liquid is reserved is provided with a separating container 85 which is formed in a reverse conical form and has apertures on its upper and lower end surfaces; a feeding branching pipe 34 which feeds the liquid so that the liquid may turn along the inner circumference surface of the separating container; a tank main body 81 which accommodates the separating container in its inside and reserves in its inside the liquid which is fed to the separating container from the upstream part, swirled and discharged from the lower end aperture; a feeding pipe 21 which is provided at the lower part of the tank main body to discharge the liquid reserved in the tank main body; and a gas releasing pipe 35 connected to the upper part of the tank main body and through which a gas separated from the liquid from the tank main body is discharged by the swirling of the liquid along the inner circumference surface of the separating container. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は内部に液体を貯える液体貯留装置、液体貯留方法及びこの液体貯留装置を用いた液体供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。この成膜プロセスでは、基板の板面にたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜が形成される。
【０００３】
基板に機能性薄膜を形成する場合、この機能性薄膜を形成する溶液をノズルから噴射して基板の板面に塗付するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。
【０００４】
この塗付装置は、基板を搬送する搬送テーブルを有しており、この搬送テーブルの上方には、上記ノズルが穿設された複数のヘッドが基板の搬送方向に対してほぼ直交する方向に沿って並設されている。各ヘッドには供給管を介して接続された溶液タンクから溶液が供給される。それによって、搬送される基板の上面には複数のノズルから溶液が所定間隔で噴射されるようになっている。
【０００５】
インクジェット方式の塗布装置を用いて基板に溶液を塗付する場合、供給管内やノズル内などに気泡が残留していると、ノズルから噴射される溶液の量が一定せず、基板に溶液を均一に塗布することができないということがある。
【０００６】
そこで、上記塗布装置を使用する前に、上記溶液タンク内を気体で加圧して上記供給管に溶液を高い圧力で供給し、上記ノズルから勢いよく噴出させる。それによって、上記供給管やノズル内に蓄積した気泡を、溶液とともに排出してから上記供給管及びヘッド内などに溶液を充満させるということが行われる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、インクジェット方式によってノズルから溶液を噴射させる場合、ノズルに対向して設けられた圧電素子の伸縮によって一定量の溶液を基板に噴射させるため、上記ノズルの先端面と、溶液タンクに収容された溶液の液面とをほぼ同等若しくはノズルの先端面よりも溶液の液面がわずかに低くなるようにしている。それによって、ノズルの先端面と、溶液タンクに収容された溶液の液面との水頭差によってノズルから噴射される溶液量が変動するのを防止するようにしている。
【０００８】
上記水頭差を一定に保つには、溶液タンクの液面をレベルセンサで検出し、その検出に基いて溶液タンクに溶液を供給するようにしている。溶液タンクへの溶液の供給は、この溶液タンクに接続された供給管によって行なわれる。
【０００９】
しかしながら、溶液タンクに溶液を供給する供給管は屈曲箇所を有するから、この供給管を流れる溶液は上記屈曲箇所で圧力変動することが避けられない。溶液が圧力変動すると、その圧力変動によって気泡が発生するから、溶液タンクに貯えられる溶液に気体が含まれてしまう。
【００１０】
その結果、上記溶液タンクからノズルに供給され、このノズルから基板に向かって噴射される溶液の量が一定にならないから、基板に溶液を均一に塗布することができなくなるということが生じる。
【００１１】
この発明は、タンク本体に液体を貯える際に、その液体に気体が含まれることがないようにした液体貯留装置、液体貯留方法及び液体供給装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明は、内部に液体を貯える液体貯留装置において、
上端面と下端面とが開口した逆円錐状に形成された分離容器と、
上記液体を上記分離容器の内周面に沿って旋回するよう流入させる流入部と、上記分離容器を内部に収容するとともに、上記流入部から上記分離容器に供給されて旋回し下端開口から流出した上記液体を内部に貯えるタンク本体と、
上記タンク本体の下部に設けられこのタンク本体内に貯えられた液体を排出する排液部と、
上記タンク本体の上部に接続され上記液体が上記分離容器の内周面に沿って旋回することでこの液体から分離された気体を上記タンク本体内から排出する排気部と、
を具備したことを特徴とする液体貯留装置にある。
【００１３】
この発明は、タンク本体内に液体を貯留する液体貯留方法において、
上記タンク本体内に上記液体を旋回させて供給する工程と、
液体を旋回させることでこの液体に含まれる気体を分離するとともに、気体が分離された液体を上記タンク本体内に貯える工程と、
液体から分離された気体を上記タンク本体内から排出する工程と、を具備したことを特徴とする液体貯留方法にある。
【００１４】
この発明は、基板に所定量の液体を供給する液体供給装置において、
上記液体を貯えた液体貯留装置と、
上記液体を上記基板に滴下供給する滴下部と、
この滴下部と上記液体貯留装置とを接続した供給配管とを備え、
上記液体貯留装置は、
タンク本体と、
上端面と下端面とが開口した逆円錐状に形成され上記タンク本体内に収容された分離容器と、
上記液体を上記分離容器の内周面に沿って旋回するよう流入させこの分離容器の下端面から流出する液体を上記タンク本体内に貯える流入部と、
上記タンク本体の下部に設けられ上記流入部から流入されてタンク本体内に貯えられた液体を排出する排液部と、
上記タンク本体の上部に接続され上記液体が上記分離容器の内周面に沿って旋回することでこの液体から分離された気体を上記タンク本体内から排出する排気部と、を具備した構成であることを特徴とする液体供給装置にある。
【００１５】
この発明によれば、タンク本体に液体を旋回させながら供給することで、旋回による遠心力で液体に含まれる気体を分離し、気体が分離された液体をタンク本体に貯えるため、気体を含まない液体をタンク本体に貯えて供給することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。
【００１７】
図１と図２に示すこの発明の液体供給装置である、溶液の塗布装置はベース１を有する。ベース１の上面には所定間隔で離間した一対のレール２がベース１の長手方向に沿って敷設されている。上記レール２にはテーブル３が走行可能に設けられ、図示しない駆動源によって走行駆動されるようになっている。テーブル３の上面には多数の支持ピン４が設けられ、これら支持ピン４にはたとえば液晶表示装置に用いられるガラス製の基板Ｗが供給支持される。
【００１８】
上記テーブル３とともに駆動される基板Ｗの上方には、上記基板Ｗにたとえばポリイミド膜などの機能性薄膜を形成するための溶液をインクジェット方式で噴射塗布する滴下部としての複数のヘッド、この実施の形態では３つのヘッド７が基板Ｗの走行方向と交差する方向に沿って一列に配設されている。
【００１９】
上記ヘッド７は図３に示すようにヘッド本体８を備えている。ヘッド本体８は筒状に形成され、その下面開口は可撓板９によって閉塞されている。この可撓板９はノズルプレート１１によって覆われており、このノズルプレート１１と上記可撓板９との間に液室１２が形成されている。
【００２０】
上記ヘッド本体８の長手方向一端部には上記液室１２に連通する供液孔１３が形成されている。この供液孔１３から上記液室１２にはたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜を形成する液体としての溶液が供給される。それによって、上記液室１２内は溶液で満たされるようになっている。
【００２１】
図４に示すように、上記ノズルプレート１１には、基板Ｗの搬送方向に直交する方向に沿って複数のノズル１４が千鳥状に穿設されている。上記可撓板９の上面には、図３に示すように上記各ノズル１４にそれぞれ対向して複数の圧電素子１５が設けられている。
【００２２】
各圧電素子１５は上記ヘッド本体８内に設けられた駆動部１６によって駆動電圧が供給される。それによって、圧電素子１５は伸縮し、可撓板９を部分的に変形させるから、その圧電素子１５に対向位置するノズル１４から溶液が基板Ｗの上面に噴射塗付される。
【００２３】
図３に示すように、上記ヘッド本体８の長手方向他端部には上記液室１２に連通する回収孔１７が形成されている。上記給液孔１３から液室１２に供給された溶液は、上記回収孔１７から回収することができるようになっている。すなわち、上記ヘッド７は上記液室１２に供給された溶液をノズル１４から噴射させるだけでなく、上記液室１２を通じて上記回収孔１７から回収することが可能となっている。
【００２４】
図１に示すように、各ヘッド７の給液孔１３には溶液の供給管２１から分岐された供給分岐管２２が接続され、回収孔１７には回収管２３から分岐された回収分岐管２４が接続されている。上記供給分岐管２２には供給開閉弁２５と後述する構成の脱気装置７１とが順次設けられ、回収分岐管２４には回収開閉弁２６が設けられている。上記供給管２１と回収管２３との先端は連通弁２７を介して接続されている。さらに、回収管２３には回収分岐管２４よりも基端側の部分に主回収弁２８が設けられている。
【００２５】
上記供給管２１の基端は上記溶液Ｌが収容された貯液装置としての後述する構成の溶液タンク３１の底部に接続されている。上記回収管２３の基端は上記溶液タンク３１に供給する溶液Ｌを貯蔵した貯蔵タンク３２に接続されている。回収管２３の基端部からは供給弁３３を有する供給分岐管３４が分岐され、この供給分岐管３４は上記溶液タンク３１に接続されている。
【００２６】
上記溶液タンク３１の上部には大気開放管３５が接続されている。この大気開放管３５には第１の開閉制御弁３６が設けられている。第１の開閉制御弁３６が開放されれば、上記溶液タンク３１内が大気に連通する。なお、大気開放管３５は、この大気開放管３５から後述するように大気に放散される気体に含まれる気化溶媒を処理するための図示しない処理装置を介して大気に連通する。したがって、大気開放管３５を流れる気体は抵抗を受けることになる。
【００２７】
上記溶液タンク３１の上部には第２の開閉制御弁３７が設けられたガス供給管３８が接続されている。このガス供給管３８には、図示しないガス供給源から窒素などの不活性ガスが供給されるようになっている。
【００２８】
上記ガス供給管３８には、上記第２の開閉制御弁３７よりも上流側にフィルタ３９と第３の開閉制御弁４０とが順次接続されている。第３の開閉制御弁４０には流量絞り弁４１が並列に設けられている。この流量絞り弁４１と上記第３の開閉制御弁４０とでガス流量制御手段を構成している。
【００２９】
上記貯蔵タンク３２の上部には、上記溶液タンク３１と同様、第４の開閉制御弁４３を有する大気開放管４４が接続されている。さらに、第５の開閉制御弁４５を有するガス供給管４６が接続されている。このガス供給管４６にはフィルタ４７及び第６の開閉制御弁４８が順次接続されている。第６の開閉制御弁４８には流量絞り弁４９が並列に設けられている。
【００３０】
なお、上記供給開閉弁２５、回収開閉弁２６、主回収弁２８、供給弁３３、第１乃至第６の開閉制御弁３６，３７，４０，４３，４５，４８は図示しない制御装置によって開閉が制御されるようになっている。さらに、溶液タンク３１内の溶液Ｌの液面はレベルセンサ５０によって検出される。溶液Ｌの液面が所定以下になったことがレベルセンサ５０によって検出されると、その検出に基いて貯蔵タンク３２から溶液Ｌが補給される。つまり、貯蔵タンク３２内の溶液Ｌが第５の開閉制御弁４５を通じて供給される不活性ガスによって加圧されることで、上記溶液Ｌが上記溶液タンク３１に補給される。
【００３１】
図２に示すように、上記テーブル３の一端面には側面形状がＬ字状の取付部材５１が垂直な一辺を上記テーブル３の端面に固定して設けられている。この取付部材５１の水平な他辺には上下シリンダ５２が軸線を垂直にして設けられている。
【００３２】
上記上下シリンダ５２のロッドには弾性部材５３を介して載置板５４が取付けられている。この載置板５４の上面には各ヘッド７に対応する長さのブレード状のゴムなどの弾性材からなる３つの押え部材５５がそれぞれ保持部材５６に上下方向に変位可能に保持されている。各押え部材５５は上記保持部材５６に設けられたばね５７によって上昇方向に弾性的に付勢されている。
【００３３】
上記載置板５４には上記押え部材５５と並列にブレード状のゴムなどの弾性材によって形成されたワイピング部材５８設けられている。このワイピング部材５８は上記押え部材５５よりも背が高く形成されている。
【００３４】
上記載置板５４は回収槽６１の内底部に設けられている。この回収槽６１の一側にはガイド板６２が設けられ、このガイド板６２にはガイド部材６３が設けられている。このガイド部材６３は上記テーブル３の端面に上下方向に沿って設けられたガイドレール６４にガイドされて上下動可能となっている。
【００３５】
それによって、上記上下シリンダ５２が駆動されれば、上記載置板５４が駆動されるとともに、ガイド板６２がガイドレール６４に沿って上下動するから、載置板５４が前後左右方向に振れるのが規制されて上下動する。
【００３６】
上記回収槽６１には図１に示す回収タンク６５が接続されている。この回収タンク６５は、上記ヘッド７のノズル１４の気泡抜きを行なう際、ノズル１４から回収槽６１に噴射される溶液を回収する。
【００３７】
上記載置板５４を上昇させ、押え部材５５によって各ヘッド７のノズル１４を閉塞すれば、溶液タンク３１内の溶液Ｌを各ヘッド７の給液孔１３から液室１２及び回収孔１７を通して循環させることができる。それによって、供給管２１、ヘッド７及び回収管２３の気泡抜きを行うことができる。
【００３８】
ノズル１４を開放して溶液タンク３１内の溶液Ｌが回収管２３に戻らない状態で溶液Ｌを各ヘッド７に供給すれば、溶液Ｌはノズル１４から噴射するから、ノズル１４の気泡抜きを行うことができる。
【００３９】
基板Ｗに溶液Ｌを塗布する際、ワイピング部材５８をヘッド７のノズル１４が開口したノズル面に接触する高さに設定しておけば、基板Ｗがヘッド７の下方を往復動する際にノズル面に付着残留する溶液Ｌを拭き取ることができる。
【００４０】
上記脱気装置７１は上記供給管２１から分岐された、上記供給分岐管２２の、上記供給開閉弁２５とヘッド本体８との間の部分（この部分を介装部分とする）に介装されている。すなわち、この脱気装置７１は図５に示すように円筒状の容器７２を有する。この容器７２の周壁の上部には、上記供給分岐管２２の上記介装部分の上流部２２ａが接続される、供給部としての第１の接続部７１ａが形成されている。それによって、容器７２内には上記溶液タンク３１からの溶液Ｌが供給される。
【００４１】
上記容器７２の底部には上記供給分岐管２２の介装部分の下流部２２ｂが接続される、流出部としての第２の接続部７１ｂが形成されている。それによって、容器７２内に供給された溶液Ｌは底部から上記ヘッド本体８の給液孔１３に供給される。
【００４２】
上記容器７２の内底部には気体分離部材７３が設けられている。この気体分離部材７３は、気泡が付着し易い材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より大きい材料、たとえば溶液がポリイミドの場合は、フッ素系やナイロン系などの合成樹脂によって網目状に形成されている。それによって、上記容器７２内に供給された溶液Ｌが気液分離部材７３の網目を通って底部に接続された供給分岐管２２の介装部分の下流部２２ｂからヘッド本体８へ流出するとき、溶液に含まれた気泡Ｂが上記気液分離部材７３に付着して容器７２内に残留する。
【００４３】
気液分離部材７３に付着残留した小さな気泡ｂは寄り集まって大きな気泡Ｂに成長し、浮力が増大すると容器７２内を浮上する。容器７２の上部にはこの発明の排気部となる排気管７４の一端が接続される、排気部としての第３の接続部７１ｃが形成されている。この排気管７４の他端は上記回収管２３に回収分岐管２４を介して接続されている。それによって、容器７２内を浮上した気泡Ｂは上記排気管７４から回収管２３を通って貯蔵タンク３２に流入し、この貯蔵タンク３２に接続された大気開放管４４から大気中に放散される。
【００４４】
上記容器７２の直径をＤ、容器７２内へ供給される溶液Ｌの流量をＱ、容器７２内を浮上する気泡の直径をａ、溶液Ｌの粘度をζ、気泡密度をρ_１、溶液密度をρ_２、重力加速度をｇとすると、

式
の関係を満足するよう、Ｄを設定することで、容器７２内で成長した気泡Ｂを、容器７２に流入する溶液Ｌの速度に抗して浮上させることができる。
【００４５】
なお、容器７２は気泡が付着し難い材料、すなわち、溶液Ｌとの接触角が１０°より小さい材料、たとえば溶液Ｌがポリイミドの場合はガラスなどによって形成されるが、それ以外にステンレスなどの金属やセラミックなど、比較的気泡が付着し難い材料で形成してもよい。上記気体分離部材７４は全体を合成樹脂によって網目状に形成されているが、ステンレスなどの金属製のメッシュに合成樹脂をコーティングして形成してもよく、要は少なくとも表面を気泡が付着し易い合成樹脂によって形成すればよい。
【００４６】
上記溶液タンク３１は、図６に示すようにタンク本体８１を備えている。このタンク本体８１はガラスなどの気泡が付着し難い材料或いは金属やセラミックなどの気泡が比較的付着しにくい材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より小さい材料によって円筒状に形成されているとともに、下端には次第に小径となる逆円錐状の漏斗部８２及びこの漏斗部８２に連続する小径円筒部８３が連設されている。なお、タンク本体８１を形成する材料は限定されるものでない。
【００４７】
上記タンク本体８１内には、内部を分離室８４とした分離容器８５が収容され、図示しない保持部材によって保持されている。この分離容器８５は、気泡が付着し難いガラス、或いは比較的気泡が付着し難い金属やセラミックなどの材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より小さい材料によって上端面及び先端面が開放した逆円錐状に形成されている。この分離容器８５の下端部は、上記タンク本体８１の小径円筒部８３内に隙間のある状態で挿入されている。この分離容器８５の先端部は側方に向かって屈曲されていて、開口した先端面８５ａは上記小径円筒部８３の内周面に近接している。
【００４８】
上記供給分岐管３４の先端は、上記タンク本体８１の周壁を気密に貫通し、上記分離容器８５の周壁の上部の内周面に対して接線方向に沿って接続されている。上記溶液供給管２１の基端は、上記タンク本体８１の小径円筒部８３の先端に接続されている。
【００４９】
上記供給分岐管３４から分離容器８５内に接線方向に沿って供給される溶液Ｌは、分離容器８５の内周面を図６に矢印で示すように旋回しながら落下する。溶液Ｌが分離容器８５の内周面に沿って旋回すると、溶液Ｌに遠心力が作用する。
そのため、溶液Ｌに気泡ｂが含まれていると、気泡ｂと溶液Ｌとの密度差によって溶液Ｌから気泡ｂが分離して旋回中心に集まり、タンク本体８１内を浮上する。タンク本体８１の上面に接続された大気開放管３５を開放すれば、タンク本体８１内を浮上した気泡ｂは、大気開放管３５から大気に放散させることができる。
【００５０】
分離容器８５内を旋回しながら落下する溶液Ｌは、その先端面８５ａから流出してタンク本体８１内に溜まる。タンク本体８１内の溶液Ｌの液面は、その液面とヘッド７のノズル面とがなす水頭ｈが一定になるよう、レベルセンサ５０によって制御される。
【００５１】
溶液Ｌが分離容器８５の先端面８５ａから流出する際、溶液Ｌはタンク本体８１の小径円筒部８３の内周面に衝突する。そのため、分離容器８５を落下する溶液Ｌに気泡ｂが残留していたとしても、衝突時に気泡ｂをタンク本体８１の内壁に沿わせ溶液Ｌから気泡ｂが分離され、タンク本体８１内を浮上して排出される。
【００５２】
上記構成の塗布装置において、基板Ｗに溶液Ｌを噴射塗布する場合、基板Ｗがテーブル３によってヘッド７の下方に搬送されてきたならば、駆動部１６によって圧電素子１５に通電し、ヘッド７の液室１２に供給された溶液Ｌをノズル１４から基板Ｗに噴射する。それによって、基板Ｗに溶液Ｌを噴射塗布することができる。
【００５３】
基板Ｗに噴射塗布される溶液Ｌは、供給分岐管２２に設けられた脱気装置７１を通ってヘッド７の給液孔１３に供給される。つまり、脱気装置７１から給液孔１３に流れる溶液Ｌは、脱気装置７１の容器７２内に設けられた網目状の気液分離部材７３を通過する。
【００５４】
溶液Ｌが気液分離部材７３を通過すると、溶液Ｌに含まれた気泡ｂが上記気液分離部材７３に付着して分離されるため、ヘッド７の液室１２には気泡ｂが除去された溶液Ｌが供給される。そのため、ヘッド７の各ノズル１４からはそれぞれ所定量の溶液Ｌを精密に噴射させることができるから、溶液Ｌを基板Ｗに均一に塗布することが可能となる。
【００５５】
気液分離部材７３に付着した気泡ｂは、寄り集まって大きな気泡Ｂに成長する。気泡Ｂが成長すると浮力が増大するから、その気泡Ｂは容器７２の溶液Ｌ内を浮上し、回収分岐管２４を通って排出される。そのため、溶液Ｌから分離された気泡Ｂが再び溶液Ｌに入り込むのを防止できる。
【００５６】
溶液タンク３１内の溶液Ｌをノズル１４から噴射することで、溶液タンク３１内の溶液Ｌのレベルが低下すると、この溶液タンク３１には貯蔵タンク３２の溶液Ｌが補給される。つまり、貯蔵タンク３２の第４の開閉制御弁４３を閉じて第６の開閉制御弁４８を開放し、不活性ガスによって貯蔵タンク３２内を加圧する。それによって、貯蔵タンク３２内の溶液Ｌが加圧されるから、溶液Ｌは供給分岐管３４を通じて溶液タンク３１に供給される。このとき、溶液タンク３１の第１の開閉制御弁３６を開放しておく。
【００５７】
貯蔵タンク３２から溶液タンク３１に流入する溶液Ｌは、タンク本体８１内の分離容器８５内に、接線方向にから流入する。分離容器８５内に接線方向から流入した溶液Ｌは、その内周面に沿って旋回しながら分離容器８５内を下降する。
それによって、旋回する溶液Ｌに遠心力が作用するから、その遠心力によって溶液Ｌに含まれる、溶液Ｌよりも密度の小さな気泡ｂが旋回中心に集まり、溶液Ｌから分離する。つまり、溶液Ｌから気泡ｂが除去される。
【００５８】
気泡Ｂが除去された溶液Ｌは、分離容器８５の先端面８５ａから流出し、タンク本体８１内に貯留される。溶液Ｌが分離容器８５の先端面８５ａから流出するとき、溶液Ｌはタンク本体８１の小径円筒部８３の内周面に衝突する。そのため、溶液Ｌに気泡ｂが残留していても、衝突時に気泡ｂをタンク本体８１の内壁に沿わせてその気泡ｂを溶液Ｌから分離除去することができる。そして、溶液タンク３１への溶液Ｌの供給は、レベルセンサ５０によって溶液Ｌの液面とヘッド７のノズル面との水頭ｈがほぼ同等になるまで行なわれる。
【００５９】
このように、溶液タンク３１に供給される溶液Ｌから気泡ｂが除去されるとともに、この溶液タンク３１からヘッド７に供給される溶液Ｌからも気泡ｂが除去される。
【００６０】
そのため、ヘッド７のノズル１４から基板Ｗに噴射塗布される溶液Ｌに気泡ｂが含まれることがほとんどないから、各ノズル１４から溶液Ｌを均一に噴射して基板Ｗに高精度で塗布することが可能となる。
【００６１】
上記一実施の形態では基板にポリイミド膜を形成するための塗布装置にこの発明の脱気装置を適用した場合について説明したが、基板に液晶を滴下供給したり、レジスト、エッチング液或いは現像液などを滴下供給する場合などであっても、それら溶液の供給管路にこの発明の脱気装置を設けることで、気泡を含まない溶液を供給することが可能となる。つまり、脱気を必要とする液体を供給する装置であれば、この発明の脱気装置を使用することができる。
【００６２】
【発明の効果】
以上のようにこの発明は、タンク本体に液体を旋回させながら供給することで、旋回による遠心力で液体に含まれる気体を分離し、気体が分離された液体をタンク本体に貯えるようにした。
そのため、気体を含まない液体をタンク本体に貯えて供給することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態に係る溶液の塗布装置の概略的構成を示す側面図。
【図２】溶液の供給管路を省略した塗布装置の正面図。
【図３】ノズルヘッドの断面図。
【図４】ノズルヘッドの下面図。
【図５】脱気装置の断面図。
【図６】溶液タンクの断面図。
【符号の説明】
２１…供給管（排液部）、３１…溶液タンク、３４…供給分岐管（流入部）、３５…大気開放管（排気部）、８１…タンク本体、８５…分離容器。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid storage device that stores liquid therein, a liquid storage method, and a liquid supply device that uses the liquid storage device.
[0002]
[Prior art]
Generally, in a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, there is a film forming process for forming a circuit pattern on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer. In this film forming process, a functional thin film such as an alignment film or a resist is formed on the plate surface of the substrate.
[0003]
In the case of forming a functional thin film on a substrate, an ink jet type coating apparatus may be used in which a solution for forming the functional thin film is sprayed from a nozzle and applied to the plate surface of the substrate.
[0004]
This coating apparatus has a transport table for transporting a substrate, and above the transport table, a plurality of heads in which the nozzles are formed are along a direction substantially perpendicular to the transport direction of the substrate. Side by side. Each head is supplied with a solution from a solution tank connected via a supply pipe. Thereby, the solution is ejected from the plurality of nozzles at a predetermined interval onto the upper surface of the substrate to be transported.
[0005]
When applying a solution to a substrate using an ink jet coating device, if bubbles remain in the supply pipe or nozzle, the amount of solution sprayed from the nozzle is not constant, and the solution is evenly distributed on the substrate. In some cases, it cannot be applied.
[0006]
Therefore, before using the coating device, the inside of the solution tank is pressurized with gas, the solution is supplied to the supply pipe at a high pressure, and the nozzle is ejected vigorously. Thereby, after the bubbles accumulated in the supply pipe and the nozzle are discharged together with the solution, the supply pipe and the head are filled with the solution.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, when a solution is ejected from a nozzle by an ink jet method, a fixed amount of solution is ejected onto a substrate by expansion and contraction of a piezoelectric element provided facing the nozzle. The liquid level of the solution is substantially equal to or slightly lower than the tip surface of the nozzle. This prevents the amount of solution ejected from the nozzle from fluctuating due to a water head difference between the tip surface of the nozzle and the liquid level of the solution stored in the solution tank.
[0008]
In order to keep the water head difference constant, the level of the solution tank is detected by a level sensor, and the solution is supplied to the solution tank based on the detection. The solution is supplied to the solution tank by a supply pipe connected to the solution tank.
[0009]
However, since the supply pipe for supplying the solution to the solution tank has a bent portion, it is inevitable that the pressure of the solution flowing through the supply pipe fluctuates at the bent portion. When the pressure of the solution fluctuates, bubbles are generated due to the pressure fluctuation, so that gas is contained in the solution stored in the solution tank.
[0010]
As a result, the amount of the solution supplied from the solution tank to the nozzle and sprayed from the nozzle toward the substrate is not constant, so that the solution cannot be uniformly applied to the substrate.
[0011]
An object of the present invention is to provide a liquid storage device, a liquid storage method, and a liquid supply device that prevent gas from being contained in the liquid when the liquid is stored in the tank body.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a liquid storage device that stores liquid therein,
A separation container formed in an inverted conical shape having an upper end surface and a lower end surface opened;
An inflow portion that allows the liquid to flow along the inner peripheral surface of the separation container, and the separation container is housed therein, and is supplied to the separation container from the inflow portion and swirls and flows out from the lower end opening. A tank body for storing the liquid therein;
A drainage part provided at the bottom of the tank body for discharging the liquid stored in the tank body;
An exhaust unit connected to an upper part of the tank body and discharging the gas separated from the liquid from the tank body by swirling along the inner peripheral surface of the separation container;
It is in the liquid storage device characterized by comprising.
[0013]
The present invention provides a liquid storage method for storing a liquid in a tank body,
Supplying the liquid by swirling the liquid into the tank body;
Separating the gas contained in the liquid by swirling the liquid, and storing the separated liquid in the tank body;
And a step of discharging the gas separated from the liquid from the tank body.
[0014]
The present invention provides a liquid supply apparatus that supplies a predetermined amount of liquid to a substrate.
A liquid storage device for storing the liquid;
A dropping unit for dropping the liquid onto the substrate;
Provided with a supply pipe connecting the dropping unit and the liquid storage device,
The liquid storage device is
The tank body,
A separation container formed in an inverted conical shape having an upper end surface and a lower end surface opened and accommodated in the tank body;
An inflow portion for allowing the liquid to flow in along the inner peripheral surface of the separation container and storing the liquid flowing out from the lower end surface of the separation container in the tank body;
A drainage unit that is provided at a lower portion of the tank body and that drains the liquid that is introduced from the inflow unit and stored in the tank body;
An exhaust unit that is connected to an upper portion of the tank main body and discharges the gas separated from the liquid from the tank main body by swirling along the inner peripheral surface of the separation container. The liquid supply apparatus is characterized by the above.
[0015]
According to the present invention, the liquid contained in the liquid is separated by the centrifugal force caused by the swirling by supplying the liquid to the tank body while swirling, and the liquid from which the gas has been separated is stored in the tank body. Liquid can be stored and supplied to the tank body.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0017]
The solution application apparatus, which is the liquid supply apparatus of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, has a base 1. A pair of rails 2 spaced apart from each other at a predetermined interval are laid along the longitudinal direction of the base 1 on the upper surface of the base 1. A table 3 is provided on the rail 2 so as to be able to travel, and is driven to travel by a drive source (not shown). A large number of support pins 4 are provided on the upper surface of the table 3, and a glass substrate W used for, for example, a liquid crystal display device is supplied and supported on these support pins 4.
[0018]
Above the substrate W driven together with the table 3, a plurality of heads as dropping portions for spraying and applying a solution for forming a functional thin film such as a polyimide film on the substrate W by an ink jet method, In the embodiment, the three heads 7 are arranged in a line along the direction intersecting the traveling direction of the substrate W.
[0019]
The head 7 includes a head body 8 as shown in FIG. The head body 8 is formed in a cylindrical shape, and its lower surface opening is closed by a flexible plate 9. The flexible plate 9 is covered with a nozzle plate 11, and a liquid chamber 12 is formed between the nozzle plate 11 and the flexible plate 9.
[0020]
A liquid supply hole 13 communicating with the liquid chamber 12 is formed at one longitudinal end of the head body 8. From the liquid supply hole 13, a solution as a liquid for forming a functional thin film such as an alignment film or a resist is supplied to the liquid chamber 12. Thereby, the inside of the liquid chamber 12 is filled with the solution.
[0021]
As shown in FIG. 4, a plurality of nozzles 14 are formed in the nozzle plate 11 in a zigzag pattern along a direction orthogonal to the transport direction of the substrate W. A plurality of piezoelectric elements 15 are provided on the upper surface of the flexible plate 9 so as to face the nozzles 14 as shown in FIG.
[0022]
Each piezoelectric element 15 is supplied with a driving voltage by a driving unit 16 provided in the head body 8. As a result, the piezoelectric element 15 expands and contracts, and the flexible plate 9 is partially deformed, so that the solution is sprayed and applied to the upper surface of the substrate W from the nozzle 14 facing the piezoelectric element 15.
[0023]
As shown in FIG. 3, a recovery hole 17 communicating with the liquid chamber 12 is formed at the other longitudinal end of the head body 8. The solution supplied from the liquid supply hole 13 to the liquid chamber 12 can be recovered from the recovery hole 17. That is, the head 7 can not only eject the solution supplied to the liquid chamber 12 from the nozzle 14 but also collect the solution from the recovery hole 17 through the liquid chamber 12.
[0024]
As shown in FIG. 1, a supply branch pipe 22 branched from a solution supply pipe 21 is connected to the liquid supply hole 13 of each head 7, and a recovery branch pipe 24 branched from a recovery pipe 23 to the recovery hole 17. Is connected. The supply branch pipe 22 is sequentially provided with a supply opening / closing valve 25 and a deaeration device 71 having a configuration described later, and the recovery branch pipe 24 is provided with a recovery opening / closing valve 26. The tips of the supply pipe 21 and the recovery pipe 23 are connected via a communication valve 27. Further, the recovery pipe 23 is provided with a main recovery valve 28 at a portion closer to the base end than the recovery branch pipe 24.
[0025]
The base end of the supply pipe 21 is connected to the bottom of a solution tank 31 having a structure to be described later as a liquid storage device in which the solution L is stored. The proximal end of the recovery pipe 23 is connected to a storage tank 32 that stores the solution L supplied to the solution tank 31. A supply branch pipe 34 having a supply valve 33 is branched from the proximal end portion of the recovery pipe 23, and the supply branch pipe 34 is connected to the solution tank 31.
[0026]
An air release pipe 35 is connected to the upper part of the solution tank 31. The atmosphere opening pipe 35 is provided with a first opening / closing control valve 36. When the first opening / closing control valve 36 is opened, the inside of the solution tank 31 communicates with the atmosphere. Note that the atmosphere release pipe 35 communicates with the atmosphere through a processing device (not shown) for treating the vaporized solvent contained in the gas diffused into the atmosphere from the atmosphere release pipe 35 as described later. Therefore, the gas flowing through the atmosphere release pipe 35 receives resistance.
[0027]
A gas supply pipe 38 provided with a second opening / closing control valve 37 is connected to the upper part of the solution tank 31. The gas supply pipe 38 is supplied with an inert gas such as nitrogen from a gas supply source (not shown).
[0028]
A filter 39 and a third opening / closing control valve 40 are sequentially connected to the gas supply pipe 38 upstream of the second opening / closing control valve 37. The third open / close control valve 40 is provided with a flow restrictor 41 in parallel. This flow restrictor 41 and the third on-off control valve 40 constitute gas flow control means.
[0029]
An atmosphere release pipe 44 having a fourth open / close control valve 43 is connected to the upper portion of the storage tank 32, similarly to the solution tank 31. Further, a gas supply pipe 46 having a fifth opening / closing control valve 45 is connected. A filter 47 and a sixth open / close control valve 48 are sequentially connected to the gas supply pipe 46. The sixth open / close control valve 48 is provided with a flow restrictor 49 in parallel.
[0030]
The supply on / off valve 25, the recovery on / off valve 26, the main recovery valve 28, the supply valve 33, and the first to sixth on / off

control valves

36, 37, 40, 43, 45, and 48 are opened and closed by a control device (not shown). To be controlled. Further, the liquid level of the solution L in the solution tank 31 is detected by the level sensor 50. When the level sensor 50 detects that the liquid level of the solution L has become below a predetermined level, the solution L is replenished from the storage tank 32 based on the detection. That is, the solution L in the storage tank 32 is pressurized by the inert gas supplied through the fifth open / close control valve 45, so that the solution L is supplied to the solution tank 31.
[0031]
As shown in FIG. 2, one end surface of the table 3 is provided with an attachment member 51 having an L-shaped side surface with a vertical side fixed to the end surface of the table 3. On the other horizontal side of the mounting member 51, an upper and lower cylinder 52 is provided with the axis line vertical.
[0032]
A mounting plate 54 is attached to the rod of the upper and lower cylinders 52 via an elastic member 53. Three holding members 55 made of an elastic material such as blade-like rubber having a length corresponding to each head 7 are held on the upper surface of the mounting plate 54 so as to be displaceable in the vertical direction. Each pressing member 55 is elastically biased in the upward direction by a spring 57 provided on the holding member 56.
[0033]
The mounting plate 54 is provided with a wiping member 58 formed of an elastic material such as a blade-like rubber in parallel with the pressing member 55. The wiping member 58 is formed taller than the pressing member 55.
[0034]
The placement plate 54 is provided on the inner bottom of the collection tank 61. A guide plate 62 is provided on one side of the collection tank 61, and a guide member 63 is provided on the guide plate 62. The guide member 63 is guided by a guide rail 64 provided on the end surface of the table 3 along the vertical direction and can move up and down.
[0035]
Accordingly, when the upper and lower cylinders 52 are driven, the mounting plate 54 is driven and the guide plate 62 moves up and down along the guide rails 64, so that the mounting plate 54 swings in the front-rear and left-right directions. Is regulated and moves up and down.
[0036]
A collection tank 65 shown in FIG. 1 is connected to the collection tank 61. The recovery tank 65 recovers the solution sprayed from the nozzle 14 to the recovery tank 61 when the bubbles of the nozzle 14 of the head 7 are removed.
[0037]
When the mounting plate 54 is raised and the nozzle 14 of each head 7 is closed by the pressing member 55, the solution L in the solution tank 31 is circulated from the liquid supply hole 13 of each head 7 through the liquid chamber 12 and the recovery hole 17. Can be made. As a result, bubbles can be removed from the supply pipe 21, the head 7, and the recovery pipe 23.
[0038]
If the solution L is supplied to each head 7 in a state where the nozzle 14 is opened and the solution L in the solution tank 31 does not return to the recovery tube 23, the solution L is ejected from the nozzle 14. be able to.
[0039]
When the solution L is applied to the substrate W, if the wiping member 58 is set to a height at which the wiping member 58 comes into contact with the nozzle surface where the nozzle 14 of the head 7 is opened, the nozzle is moved when the substrate W reciprocates below the head 7. The solution L remaining on the surface can be wiped off.
[0040]
The deaeration device 71 is interposed in a portion of the supply branch pipe 22 branched from the supply pipe 21 between the supply opening / closing valve 25 and the head body 8 (this portion is an interposed portion). ing. That is, this deaeration device 71 has a cylindrical container 72 as shown in FIG. A first connection portion 71 a as a supply portion to which the upstream portion 22 a of the interposed portion of the supply branch pipe 22 is connected is formed on the upper portion of the peripheral wall of the container 72. Thereby, the solution L from the solution tank 31 is supplied into the container 72.
[0041]
A second connection part 71b as an outflow part to which the downstream part 22b of the interposed part of the supply branch pipe 22 is connected is formed at the bottom of the container 72. Thereby, the solution L supplied into the container 72 is supplied to the liquid supply hole 13 of the head body 8 from the bottom.
[0042]
A gas separation member 73 is provided on the inner bottom of the container 72. The gas separation member 73 is formed in a mesh shape with a material that easily adheres to bubbles, that is, a material having a contact angle with the solution L of greater than 10 °, for example, a polyimide resin. Has been. Thereby, when the solution L supplied into the container 72 flows out from the downstream portion 22b of the intervening portion of the supply branch pipe 22 connected to the bottom through the mesh of the gas-liquid separation member 73, to the head body 8. Bubbles B contained in the solution adhere to the gas-liquid separation member 73 and remain in the container 72.
[0043]
The small bubbles b adhering and remaining on the gas-liquid separation member 73 gather together and grow into large bubbles B, and rise inside the container 72 when the buoyancy increases. A third connection portion 71c as an exhaust portion is formed on the upper portion of the container 72, to which one end of an exhaust pipe 74 serving as an exhaust portion of the present invention is connected. The other end of the exhaust pipe 74 is connected to the recovery pipe 23 via the recovery branch pipe 24. Thereby, the bubbles B floating in the container 72 flow into the storage tank 32 from the exhaust pipe 74 through the recovery pipe 23, and are diffused into the atmosphere from the atmosphere open pipe 44 connected to the storage tank 32.
[0044]
The diameter of the container 72 is D, the flow rate of the solution L supplied into the container 72 is Q, the diameter of bubbles rising in the container 72 is a, the viscosity of the solution L is ζ, the bubble density is ρ ₁ , and the solution density is If ρ ₂ and the gravitational acceleration is g,

By setting D so as to satisfy the relationship of the formula, the bubbles B grown in the container 72 can be floated against the speed of the solution L flowing into the container 72.
[0045]
In addition, the container 72 is formed of a material that does not easily adhere to bubbles, that is, a material having a contact angle with the solution L of less than 10 °, for example, glass or the like when the solution L is polyimide. Alternatively, it may be formed of a material that is relatively difficult to attach bubbles, such as ceramic or ceramic. The gas separation member 74 is entirely formed in a mesh shape with a synthetic resin, but it may be formed by coating a synthetic mesh on a metal mesh such as stainless steel. In short, bubbles are likely to adhere to at least the surface. What is necessary is just to form with a synthetic resin.
[0046]
The solution tank 31 includes a tank body 81 as shown in FIG. The tank body 81 is formed in a cylindrical shape by a material such as glass that is difficult to attach bubbles or a material such as metal or ceramic that is relatively difficult to attach bubbles, that is, a material whose contact angle with the solution L is less than 10 °. In addition, an inverted conical funnel portion 82 that gradually becomes smaller in diameter and a small-diameter cylindrical portion 83 that continues to the funnel portion 82 are connected to the lower end. The material forming the tank body 81 is not limited.
[0047]
In the tank body 81, a separation container 85 having a separation chamber 84 therein is accommodated and held by a holding member (not shown). The separation container 85 has an upper end surface and a front end surface opened by a material such as glass that does not easily attach bubbles, or a material such as metal or ceramic that does not easily attach bubbles, that is, a material having a contact angle with the solution L of less than 10 °. It is formed in an inverted cone shape. The lower end portion of the separation container 85 is inserted into the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81 with a gap. The distal end portion of the separation container 85 is bent toward the side, and the opened distal end surface 85 a is close to the inner peripheral surface of the small diameter cylindrical portion 83.
[0048]
The distal end of the supply branch pipe 34 penetrates the peripheral wall of the tank body 81 in an airtight manner and is connected to the inner peripheral surface of the upper part of the peripheral wall of the separation container 85 along the tangential direction. The proximal end of the solution supply pipe 21 is connected to the distal end of the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81.
[0049]
The solution L supplied along the tangential direction from the supply branch pipe 34 into the separation container 85 falls while turning on the inner peripheral surface of the separation container 85 as indicated by an arrow in FIG. When the solution L swirls along the inner peripheral surface of the separation container 85, a centrifugal force acts on the solution L.
Therefore, when the bubble L is included in the solution L, the bubble b is separated from the solution L due to the density difference between the bubble b and the solution L, and gathers at the center of rotation, and floats in the tank body 81. If the atmosphere release pipe 35 connected to the upper surface of the tank body 81 is opened, the bubbles b floating in the tank body 81 can be diffused from the atmosphere release pipe 35 to the atmosphere.
[0050]
The solution L that falls while turning in the separation container 85 flows out of the front end surface 85 a and accumulates in the tank body 81. The liquid level of the solution L in the tank body 81 is controlled by the level sensor 50 so that the water head h formed by the liquid level and the nozzle surface of the head 7 is constant.
[0051]
When the solution L flows out from the front end surface 85 a of the separation container 85, the solution L collides with the inner peripheral surface of the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81. Therefore, even if the bubbles b remain in the solution L falling from the separation container 85, the bubbles b are separated from the solution L by causing the bubbles b to follow the inner wall of the tank body 81 at the time of collision, and the bubbles b float up in the tank body 81. Discharged.
[0052]
In the coating apparatus configured as described above, when the solution L is sprayed and applied to the substrate W, if the substrate W has been transported below the head 7 by the table 3, the drive unit 16 energizes the piezoelectric element 15 and The solution L supplied to the liquid chamber 12 is sprayed from the nozzle 14 onto the substrate W. Thereby, the solution L can be spray-coated on the substrate W.
[0053]
The solution L sprayed onto the substrate W is supplied to the liquid supply hole 13 of the head 7 through the deaeration device 71 provided in the supply branch pipe 22. That is, the solution L flowing from the deaeration device 71 to the liquid supply hole 13 passes through the mesh-like gas-liquid separation member 73 provided in the container 72 of the deaeration device 71.
[0054]
When the solution L passes through the gas-liquid separation member 73, the bubbles b contained in the solution L adhere to and separate from the gas-liquid separation member 73, so that the bubbles b are removed in the liquid chamber 12 of the head 7. Solution L is supplied. Therefore, a predetermined amount of the solution L can be precisely ejected from each nozzle 14 of the head 7, so that the solution L can be uniformly applied to the substrate W.
[0055]
The bubbles b attached to the gas-liquid separation member 73 gather together and grow into large bubbles B. Since the buoyancy increases as the bubbles B grow, the bubbles B float up in the solution L of the container 72 and are discharged through the recovery branch pipe 24. Therefore, the bubbles B separated from the solution L can be prevented from entering the solution L again.
[0056]
When the level of the solution L in the solution tank 31 is lowered by spraying the solution L in the solution tank 31 from the nozzle 14, the solution L in the storage tank 32 is supplied to the solution tank 31. That is, the fourth open / close control valve 43 of the storage tank 32 is closed, the sixth open / close control valve 48 is opened, and the inside of the storage tank 32 is pressurized by the inert gas. Thereby, since the solution L in the storage tank 32 is pressurized, the solution L is supplied to the solution tank 31 through the supply branch pipe 34. At this time, the first opening / closing control valve 36 of the solution tank 31 is opened.
[0057]
The solution L flowing into the solution tank 31 from the storage tank 32 flows into the separation container 85 in the tank body 81 from the tangential direction. The solution L that has flowed into the separation container 85 from the tangential direction descends in the separation container 85 while swirling along the inner peripheral surface thereof.
As a result, centrifugal force acts on the swirling solution L, and bubbles b having a density lower than that of the solution L contained in the solution L are gathered at the swiveling center and separated from the solution L by the centrifugal force. That is, the bubbles b are removed from the solution L.
[0058]
The solution L from which the bubbles B have been removed flows out from the front end surface 85 a of the separation container 85 and is stored in the tank body 81. When the solution L flows out from the front end surface 85 a of the separation container 85, the solution L collides with the inner peripheral surface of the small diameter cylindrical portion 83 of the tank body 81. Therefore, even if the bubbles b remain in the solution L, the bubbles b can be separated from the solution L along the inner wall of the tank body 81 at the time of collision. Then, the solution L is supplied to the solution tank 31 until the water level h of the liquid surface of the solution L and the nozzle surface of the head 7 becomes substantially equal by the level sensor 50.
[0059]
In this way, the bubbles b are removed from the solution L supplied to the solution tank 31 and the bubbles b are also removed from the solution L supplied from the solution tank 31 to the head 7.
[0060]
Therefore, since the bubbles L are hardly included in the solution L sprayed and applied from the nozzles 14 of the head 7 to the substrate W, the solution L is uniformly sprayed from each nozzle 14 and applied to the substrate W with high accuracy. Is possible.
[0061]
In the above embodiment, the case where the degassing apparatus of the present invention is applied to a coating apparatus for forming a polyimide film on a substrate has been described. However, a liquid crystal is dropped on the substrate, a resist, an etching solution, a developer, or the like Even when the liquid is supplied dropwise, it is possible to supply a solution containing no bubbles by providing the degassing device of the present invention in the solution supply line. That is, the deaeration device of the present invention can be used as long as it is a device that supplies a liquid that requires deaeration.
[0062]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the liquid contained in the liquid is separated by the centrifugal force generated by the swirling by supplying the liquid to the tank body while swirling, and the liquid from which the gas has been separated is stored in the tank body.
Therefore, it becomes possible to store and supply liquid that does not contain gas in the tank body.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a side view showing a schematic configuration of a solution coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view of a coating apparatus in which a solution supply pipe is omitted.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a nozzle head.
FIG. 4 is a bottom view of the nozzle head.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a deaeration device.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a solution tank.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Supply pipe (drainage part), 31 ... Solution tank, 34 ... Supply branch pipe (inflow part), 35 ... Atmospheric open pipe (exhaust part), 81 ... Tank main body, 85 ... Separation container.

Claims

In a liquid storage device that stores liquid inside,
A separation container formed in an inverted conical shape having an upper end surface and a lower end surface opened;
An inflow part for allowing the liquid to flow along the inner peripheral surface of the separation container, and the separation container accommodated therein, and supplied to the separation container from the inflow part and swirled to flow out from the lower end opening. A tank body for storing the liquid therein;
A drainage part provided at the bottom of the tank body for discharging the liquid stored in the tank body;
An exhaust unit that is connected to an upper part of the tank main body and discharges the gas separated from the liquid from the tank main body by swirling along the inner peripheral surface of the separation container. A liquid storage device.

In the liquid storage method for storing the liquid in the tank body,
Supplying the liquid by swirling the liquid into the tank body;
Separating the gas contained in the liquid by swirling the liquid, and storing the liquid from which the gas has been separated in the tank body;
And a step of discharging the gas separated from the liquid from the tank body.

In a liquid supply apparatus for supplying a predetermined amount of liquid to a substrate,
A liquid storage device for storing the liquid;
A dropping unit for dropping the liquid onto the substrate;
Provided with a supply pipe connecting the dropping unit and the liquid storage device,
The liquid supply apparatus according to claim 1, wherein the liquid storage apparatus is configured as described in claim 1.