JP2005101389A - Capacitor and its manufacturing method - Google Patents

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JP2005101389A JP2003334540A JP2003334540A JP2005101389A JP 2005101389 A JP2005101389 A JP 2005101389A JP 2003334540 A JP2003334540 A JP 2003334540A JP 2003334540 A JP2003334540 A JP 2003334540A JP 2005101389 A JP2005101389 A JP 2005101389A
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Atsushi Otsuka
淳 大塚
Manabu Sato
学 佐藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a divercification for packaging a capacitor through a new application of a via electrode. <P>SOLUTION: Respective conducting between via electrodes 15a (a first and a second via electrode) from the surface of a capacitor to opposed internal electrodes 13a (a first and a second electrode layer) assures a function of the capacitor. At the same time, the via electodes 15a existing at a first repeating pitch of a first repeating pattern of the electrodes 13a are pitch-converted through internal electrodes 13b (a first and a second electrode layer for conducting) and conducted to via electrodes 15b (a first and a second via electrode for conducting) formed at a second repeating pitch scattered on the rear surface of the capacitor. Consequently the via electrodes 15a and the via electrodes 15b function as the conducting wire through the two side of the capaitor. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、内部電極層と誘電体層とを交互に複数積層させたコンデンサ、特に、内部電極層の導通にビア電極が用いられている積層コンデンサとその製造方法に関する。   The present invention relates to a capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately stacked, and more particularly to a multilayer capacitor in which a via electrode is used for conduction of the internal electrode layer and a manufacturing method thereof.

上記のような積層コンデンサでは、内部電極層を誘電体層を挟んで対向する第1電極層と第2電極層とし、これら電極層に導通するビア電極が積層方向に多数設けられている。こうしたビア電極には、第1電極層に接続されるもの(第1ビア電極)と、第2電極層に接続されるもの(第2ビア電極)とがある。これらのビア電極は、それぞれの内部電極層に導通させれば十分であることから、従来、コンデンサ表面の側から最深部の内部電極層に達しているに過ぎなかった(例えば、特許文献1を参照)。   In the multilayer capacitor as described above, the internal electrode layers are the first electrode layer and the second electrode layer facing each other with the dielectric layer in between, and a number of via electrodes that are electrically connected to these electrode layers are provided in the stacking direction. Such via electrodes include those connected to the first electrode layer (first via electrode) and those connected to the second electrode layer (second via electrode). Since it is sufficient that these via electrodes are electrically connected to the respective internal electrode layers, conventionally, the via electrodes have only reached the deepest internal electrode layer from the capacitor surface side (see, for example, Patent Document 1). reference).

特開2002−359141号公報JP 2002-359141 A 特開2003−158030号公報JP 2003-158030 A

こうしたコンデンサを種々の集積回路に実装するに当たっては、ビア電極が露出しているコンデンサ表面に他の電子デバイスを装着したり、コンデンサ表面のビア電極に配線をすれば足りていた。   In mounting such a capacitor on various integrated circuits, it is sufficient to mount another electronic device on the surface of the capacitor where the via electrode is exposed or to wire the via electrode on the surface of the capacitor.

ところで、集積回路を用いた電子機器の小型化が強く求められる近年では、例えばプリント基板の表裏面への電子デバイス実装に見られるように、デバイスの表裏面を利用することが広く普及している。しかしながら、上記公報で提案されたコンデンサでは、コンデンサの実装態様への技術的着眼がなされていないことが実状である。   By the way, in recent years when miniaturization of electronic devices using integrated circuits is strongly demanded, it is widely used to use the front and back surfaces of devices as seen in mounting electronic devices on the front and back surfaces of printed circuit boards, for example. . However, in the capacitor proposed in the above publication, the actual situation is that no technical attention is paid to the mounting mode of the capacitor.

本発明は、上記した問題点を解決するためになされ、ビア電極の新たな用途の提供を通してコンデンサ実装の多様化を図ることをその目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to diversify the mounting of capacitors through providing a new use of a via electrode.

上記した課題の少なくとも一部を解決するため、本発明のコンデンサは、
内部電極層と誘電体層とを交互に複数積層させたコンデンサであって、
前記内部電極を、コンデンサ表面側において、第1電極層と、該電極層に対向する第2電極層として交互に備え、
前記コンデンサ表面側から前記第1電極層に共通して導通するよう形成された複数の第1ビア電極と、前記コンデンサ表面側から前記第2電極層に共通して導通するよう形成された複数の第2ビア電極とを、第1の繰り返しピッチで備えると共に、
コンデンサ裏面側において、前記誘電体層を介して積層形成された第1通電電極層と第2通電電極層とを備え、
更に、
前記コンデンサ裏面側からは、前記第1通電電極層に導通する複数の第1通電用ビア電極と、前記第2通電電極層に導通する複数の第2通電用ビア電極とを、該通電用ビア電極が前記コンデンサ裏面において点在するような第2繰り返しピッチで、繰り返し形成して備え、
前記第1ビア電極と前記第1通電用ビア電極とは、少なくとも一部が前記第1通電電極層を介して導通されており、
前記第2ビア電極と前記第2通電用ビア電極とは、少なくとも一部が前記第2通電電極層を介して導通されていることをその要旨とする。
In order to solve at least a part of the problems described above, the capacitor of the present invention includes:
A capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
The internal electrodes are alternately provided as first electrode layers and second electrode layers facing the electrode layers on the capacitor surface side,
A plurality of first via electrodes formed to conduct commonly from the capacitor surface side to the first electrode layer, and a plurality of first via electrodes formed to conduct commonly from the capacitor surface side to the second electrode layer The second via electrodes are provided at a first repetition pitch,
On the back side of the capacitor, a first energizing electrode layer and a second energizing electrode layer that are laminated via the dielectric layer are provided,
Furthermore,
From the back side of the capacitor, a plurality of first energizing via electrodes that conduct to the first energizing electrode layer and a plurality of second energizing via electrodes that conduct to the second energizing electrode layer are connected to the energizing via. The electrode is repeatedly formed at a second repetition pitch interspersed on the capacitor back surface,
The first via electrode and the first energizing via electrode are at least partially connected through the first energizing electrode layer,
The gist of the second via electrode and the second energizing via electrode is that at least part of the second via electrode and the second energizing via electrode is conducted through the second energizing electrode layer.

こうすれば、コンデンサ表面側から内部電極に達する第1ビア電極と第2ビア電極は、それぞれ第1電極層と第2電極層に対して導通し、各電極層での帯電を可能としコンデンサとしての機能確保を図る。その一方、第1繰り返しピッチで存在する上記の第1ビア電極と第2ビア電極は、第1通電電極層と第2通電用電極層を介してピッチ変換され、コンデンサ裏面側から第2繰り返しピッチで形成された第1通電用ビア電極と第2通電用ビア電極と導通されている。よって、コンデンサの表裏を貫いて第1ビア電極と第1通電用ビア電極が導電線として機能し、第2ビア電極についても同様である。この結果、本発明のコンデンサによれば、従来は電荷帯電の用途しか想定しなかったビア電極を、コンデンサ表裏を貫く導電線として新たに利用できるようにするので、コンデンサ表裏への電子デバイス等の実装が可能となりその多様化を図ることができる。この場合、第1、第2の通電電極層並びに第1、第2の通電用ビア電極のピッチ(第2繰り返しピッチ)を、或いは第1、第2の電極層と第1、第2のビア電極のピッチ(第1繰り返しピッチ)を種々調整することで、コンデンサ表裏へのデバイス実装の自由度をより高めることができる。   In this way, the first via electrode and the second via electrode that reach the internal electrode from the capacitor surface side are electrically connected to the first electrode layer and the second electrode layer, respectively, and can be charged in each electrode layer as a capacitor. Secure the functions of On the other hand, the first via electrode and the second via electrode that exist at the first repetition pitch are pitch-converted through the first conduction electrode layer and the second conduction electrode layer, and the second repetition pitch from the capacitor back side. The first energizing via electrode and the second energizing via electrode formed in the above are electrically connected. Therefore, the first via electrode and the first energization via electrode penetrate through the front and back of the capacitor, and the same applies to the second via electrode. As a result, according to the capacitor of the present invention, the via electrode, which has been assumed only for the purpose of charge charging, can be newly used as a conductive wire penetrating the front and back of the capacitor. It can be implemented and diversified. In this case, the pitch (second repetition pitch) of the first and second energizing electrode layers and the first and second energizing via electrodes, or the first and second electrode layers and the first and second vias is set. Various adjustments of the electrode pitch (first repetition pitch) can increase the degree of freedom of device mounting on the front and back of the capacitor.

上記構成の本発明のコンデンサは、種々の態様を採ることができ、例えば、第1通電電極層と第2通電電極層の形成領域に存在する通電用ビア電極の第2繰り返しピッチが第1ビア電極、第2ビア電極の第1繰り返しピッチ以上とすることができる。   The capacitor of the present invention having the above configuration can take various forms. For example, the second repeated pitch of the current-carrying via electrodes existing in the formation region of the first current-carrying electrode layer and the second current-carrying electrode layer is the first via. It can be set to be equal to or more than the first repetition pitch of the electrode and the second via electrode.

こうすれば、第1通電電極層と第2通電電極層の形成領域において、極性が異なるビア電極同士が近づきすぎることがない、即ち、異極間で短絡する心配がないので、コンデンサとしての機能低下を抑制できる。   By doing so, via electrodes having different polarities do not come too close to each other in the formation region of the first energizing electrode layer and the second energizing electrode layer, that is, there is no fear of short-circuiting between different polarities. Reduction can be suppressed.

また、コンデンサ表面に、第1、第2の各ビア電極の端子となる表面側端子をビア電極ごとに形成し、コンデンサ裏面には、第1、第2の通電用の各ビア電極の端子となる裏面側端子をビア電極ごとに形成するようにすることもできる。こうすれば、端子を介してのビア電極へのリード接続、実装品との間の接続が容易となる。   Further, on the capacitor surface, surface side terminals to be terminals of the first and second via electrodes are formed for each via electrode, and on the capacitor back surface, terminals of the first and second energizing via electrodes are provided. It is also possible to form a back-side terminal for each via electrode. In this way, the lead connection to the via electrode via the terminal and the connection with the mounted product are facilitated.

上記した本発明のコンデンサは、単独で形態の他、電子デバイス等を実装済みの形態を採ることもできる、例えば、上記のコンデンサの第1ビア電極、および第2ビア電極(表面側端子)に半導体素子を接続して備える半導体素子付きコンデンサとしての形態や、コンデンサの第1、第2の通電用の各ビア電極(裏面側端子)に、電源線およびグランド線を含む配線を備えた基板が接続された基板一体型コンデンサとしての形態を採ることができる。半導体と基板をコンデンサ表裏に備えた形態も可能である。   The capacitor of the present invention described above can take a form in which an electronic device or the like is already mounted in addition to the form alone. For example, the first via electrode and the second via electrode (surface side terminal) of the above capacitor A substrate having a semiconductor element connected to a semiconductor element, or a board having wiring including a power supply line and a ground line in each of the first and second current-carrying via electrodes (back surface side terminals). It can take the form of a connected board-integrated capacitor. A configuration in which a semiconductor and a substrate are provided on both sides of the capacitor is also possible.

また、上記したコンデンサを製造するために採用した手順は、
内部電極層と誘電体層とが交互に複数積層させたコンデンサの製造方法であって、
前記内部電極をコンデンサ表面側において形成するよう、第1電極層と該電極層に対向する第2電極層となる内部電極形成材料を、前記誘電体層となる誘電材料を挟んで交互に積層し、前記第1電極層と前記第2電極層が第1繰り返しピッチで前記誘電材料表面で繰り返されるような第1の積層体を形成する工程(1)と、
前記第1の積層体において積層状の前記第1電極層同士と前記第2電極層同士をそれぞれ貫通する貫通孔を、前記第1繰り返しピッチで形成し、各貫通孔に導電性ペーストを充填する工程(2)と、
第1通電電極層と第2通電電極層の電極層形成材料が前記誘電材料を挟んで積層された第2の積層体であって、該第2の積層体は、前記第1通電電極層と前記第2通電電極層に達する孔を前記第2の積層体表面から前記孔が点在するような第2繰り返しピッチで備え、前記孔には導電性ペーストを充填した前記第2の積層体を形成する工程(3)と、
前記第1の積層体における前記第1電極層同士の充填済みペーストと前記第2電極層同士の充填済みペーストの少なくとも一部が、前記第2の積層体における前記第1、第2の通電電極層に接合するよう前記ペースト充填済みの前記第1、第2の積層体を重ね合わせる工程(4)とを有することをその要旨とする。
In addition, the procedure adopted to manufacture the above capacitor is as follows:
A method of manufacturing a capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
In order to form the internal electrode on the capacitor surface side, the internal electrode forming material to be the second electrode layer and the first electrode layer are alternately laminated with the dielectric material to be the dielectric layer interposed therebetween. (1) forming a first laminate in which the first electrode layer and the second electrode layer are repeated on the surface of the dielectric material at a first repetition pitch;
In the first laminated body, through-holes penetrating each of the laminated first electrode layers and the second electrode layers are formed at the first repetition pitch, and each through-hole is filled with a conductive paste. Step (2);
An electrode layer forming material of the first energizing electrode layer and the second energizing electrode layer is a second laminate in which the dielectric material is sandwiched between the first energizing electrode layer and the first energizing electrode layer. Holes reaching the second energizing electrode layer are provided at a second repetition pitch such that the holes are scattered from the surface of the second laminate, and the holes are filled with a conductive paste. Forming (3);
At least a part of the filled paste between the first electrode layers and the filled paste between the second electrode layers in the first laminate are the first and second energized electrodes in the second laminate. And a step (4) of superimposing the first and second laminated bodies filled with the paste so as to be bonded to a layer.

また、上記したコンデンサを製造するために採用した別の手順は、
内部電極層と誘電体層とが交互に複数積層させたコンデンサの製造方法であって、
前記内部電極をコンデンサ表面側において形成するよう、第1電極層と該電極層に対向する第2電極層となる内部電極形成材料を、前記誘電体層となる誘電材料を挟んで交互に積層し、積層体を形成する工程(1)と、
前記積層体において積層状の前記第1電極層同士と前記第2電極層同士をそれぞれ貫通する貫通孔を、第1繰り返しピッチで形成し、各貫通孔に導電性ペーストを充填する工程(2)と、
前記誘電体となる誘電材料を用いた第1シートであって、前記積層体における前記貫通孔の少なくとも一部と重なる位置に貫通孔を備え、該貫通孔に導電性ペーストを充填した前記第1シートを前記前記積層体に重ねる工程(3)と、
前記誘電体となる誘電材料を用いた第2シートであって、該第2シートは、第1通電電極層の電極層形成材料をシート表面に備え、前記第1シートの前記貫通孔の少なくとも一部と重なる位置に備えた貫通孔と、シートにおいて点在するような第2繰り返しピッチで形成され前記第1通電電極層に達する電極層到達孔とに導電性ペーストを充填したシートであり、前記第2シートを前記第1シートに重ねる工程(4)とを有することをその要旨とする。
In addition, another procedure adopted for manufacturing the capacitor described above is:
A method of manufacturing a capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
In order to form the internal electrode on the capacitor surface side, the internal electrode forming material to be the second electrode layer and the first electrode layer are alternately laminated with the dielectric material to be the dielectric layer interposed therebetween. A step (1) of forming a laminate;
Forming a through hole penetrating each of the laminated first electrode layers and the second electrode layers in the laminated body at a first repetition pitch, and filling each through hole with a conductive paste (2) When,
A first sheet using a dielectric material to be the dielectric, wherein the first sheet is provided with a through hole at a position overlapping at least a part of the through hole in the laminated body, and the through hole is filled with a conductive paste. A step (3) of stacking a sheet on the laminate;
A second sheet using a dielectric material to be the dielectric, wherein the second sheet has an electrode layer forming material for the first current-carrying electrode layer on the sheet surface, and is at least one of the through holes of the first sheet. A sheet in which a conductive paste is filled in through-holes provided at positions overlapping with a portion, and electrode layer arrival holes that are formed at a second repetition pitch and are scattered in the sheet and reach the first current-carrying electrode layer, And a step (4) of superimposing the second sheet on the first sheet.

こうした工程を経てコンデンサを製造すれば、第1電極層と第2電極層に対してはそれぞれ電荷の帯電を起こすコンデンサ表面側からの第1ビア電極・第2ビア電極を、第1通電電極層を介して、或いはこの第1通電電極層と第2通電用電極層とを介してピッチ変換され、コンデンサ裏面側から第2繰り返しピッチで形成された第1通電用ビア電極に、或いはこの第1通電電極層と第2通電用ビア電極に導通させたコンデンサを容易に製造することができる。   If a capacitor is manufactured through these steps, the first and second via electrodes from the capacitor surface side that cause charge charging to the first electrode layer and the second electrode layer are respectively connected to the first conductive electrode layer. Or through the first current-carrying electrode layer and the second current-carrying electrode layer, to the first current-carrying via electrode formed at the second repetition pitch from the back side of the capacitor, or to the first current-carrying electrode layer. A capacitor that is electrically connected to the conductive electrode layer and the second conductive via electrode can be easily manufactured.

以上説明した本発明の構成および作用を一層明らかにするために、以下、本発明の実施の形態を、以下の順序で説明する。
A.実施例:
A−1.積層セラミックコンデンサ10の構成:
A−2.積層セラミックコンデンサ10の製造工程:
A−3.作用効果:
B.変形例:
In order to further clarify the configuration and operation of the present invention described above, embodiments of the present invention will be described in the following order.
A. Example:
A-1. Configuration of multilayer ceramic capacitor 10:
A-2. Manufacturing process of multilayer ceramic capacitor 10:
A-3. Effect:
B. Variation:

A.実施例:
A−1.積層セラミックコンデンサ10の構成:
図1は本発明の実施例である積層セラミックコンデンサ10の設置例を縦断面で示す説明図である。図1に示す設置例では、ICチップ30が装着されたパッケージ50とマザーボード等の配線基板60とが積層セラミックコンデンサ10を介して接続されている。
A. Example:
A-1. Configuration of multilayer ceramic capacitor 10:
FIG. 1 is an explanatory view showing an installation example of a multilayer ceramic capacitor 10 according to an embodiment of the present invention in a longitudinal section. In the installation example shown in FIG. 1, a package 50 on which an IC chip 30 is mounted and a wiring board 60 such as a mother board are connected via a multilayer ceramic capacitor 10.

ICチップ30は、1枚のシリコン基板(ウェハ)上に、トランジスタや抵抗等の多数の回路素子が形成された細片である。形成された回路素子間は多数のアルミ配線で接続されている。回路素子に接続されたアルミ配線は、ICチップ30の下側表面に引き出され、パンプ状のパッド32に接続されている。パッド32は、アルミ配線の引き出し位置に対応するICチップ30の下側表面に、格子状に多数個配列されている。   The IC chip 30 is a strip in which a large number of circuit elements such as transistors and resistors are formed on a single silicon substrate (wafer). The formed circuit elements are connected by a number of aluminum wirings. The aluminum wiring connected to the circuit element is drawn out to the lower surface of the IC chip 30 and connected to the pump-like pad 32. A large number of pads 32 are arranged in a lattice pattern on the lower surface of the IC chip 30 corresponding to the drawing position of the aluminum wiring.

パッケージ50は、ICチップ30を装着する容器であり、ICチップ30が配置される絶縁層として下部層54を備える。本実施例では、下部層54をエポキシ樹脂を用いて成形している。勿論、他の絶縁材(例えば、エポキシ樹脂以外の樹脂材料やセラミック)で下部層54を成形することも可能である。なお、こうした下部層54に加えて、下部層54に配置されたICチップ30を被覆する絶縁層として上部層52を設ける構成を採ってもよい(図1における二点鎖線を参照)。こうすれば、ICチップ30が絶縁層内に封入されるので、ICチップ30を外部から有効に保護することができる。   The package 50 is a container in which the IC chip 30 is mounted, and includes a lower layer 54 as an insulating layer on which the IC chip 30 is disposed. In this embodiment, the lower layer 54 is formed using an epoxy resin. Of course, the lower layer 54 can be formed of other insulating materials (for example, a resin material other than epoxy resin or ceramic). In addition to the lower layer 54, a configuration in which the upper layer 52 is provided as an insulating layer covering the IC chip 30 disposed in the lower layer 54 may be employed (see the two-dot chain line in FIG. 1). In this way, since the IC chip 30 is sealed in the insulating layer, the IC chip 30 can be effectively protected from the outside.

下部層54は、矩形形状を有するエポキシ樹脂製の板状体を、多数積層することによって形成されている。下部層54の各層間は、銅めっき層や銅箔によって形成されたリード56によって導通されている。リード56は、下部層54の上面(図1における上方向の面)に露出したバンプ57と、下部層54の下面(図1における下方向の面)に露出した端子58とを備える。バンプ57は、ICチップ30に接続される端子であり、下部層54の上面に、格子状に多数個配列されている。また、端子58は、積層セラミックコンデンサ10の表面側端子16に、半田を用いて接続される。なお、図1では、電源線として用いられるリード56,バンプ57,端子58(以下、リード56+,バンプ57+,端子58+という)を黒色の塗りつぶしを用いて示し、グランド線として用いられるリード56(以下、リード56−,バンプ57−,端子58−という)を斜線ハッチングを用いて示しており、信号線として用いられるリードの記載を省略している。   The lower layer 54 is formed by laminating a number of epoxy resin plate-like bodies having a rectangular shape. The respective layers of the lower layer 54 are electrically connected by leads 56 formed of a copper plating layer or a copper foil. The lead 56 includes a bump 57 exposed on the upper surface (upper surface in FIG. 1) of the lower layer 54 and a terminal 58 exposed on the lower surface (lower surface in FIG. 1) of the lower layer 54. The bumps 57 are terminals connected to the IC chip 30, and many bumps 57 are arranged on the upper surface of the lower layer 54 in a lattice shape. The terminal 58 is connected to the surface side terminal 16 of the multilayer ceramic capacitor 10 using solder. In FIG. 1, leads 56, bumps 57, and terminals 58 (hereinafter referred to as leads 56+, bumps 57+, and terminals 58+) that are used as power supply lines are shown in black, and leads 56 (hereinafter referred to as ground lines). , Leads 56-, bumps 57-, and terminals 58-) are indicated by hatching, and the description of leads used as signal lines is omitted.

配線基板60は、制御用の配線や部品が実装されたエポキシ樹脂製の多層基板である。こうした配線基板60としては、マザーボード等のプリント基板を考えることができる。配線基板60の各層間は、銅めっき層や銅箔によって形成されたリード66によって導通されている。リード66は、配線基板60の上面(図1における上方向の面)に露出した端子67を備える。この端子67は、積層セラミックコンデンサ10の裏面側端子17に、半田を用いて接続される。なお、図1では、電源ラインに接続されたリード66,端子67(以下、リード66+,端子67+という)を黒色の塗りつぶしを用いて示し、グランドラインに接続されたリード66,端子67(以下、リード66−,端子67−という)を斜線ハッチングを用いて示しており、信号線としてのリードの記載を省略している。   The wiring board 60 is an epoxy resin multilayer board on which control wiring and components are mounted. As such a wiring board 60, a printed board such as a mother board can be considered. The respective layers of the wiring board 60 are electrically connected by leads 66 formed of a copper plating layer or a copper foil. The lead 66 includes a terminal 67 exposed on the upper surface (upper surface in FIG. 1) of the wiring board 60. This terminal 67 is connected to the back surface side terminal 17 of the multilayer ceramic capacitor 10 using solder. In FIG. 1, the lead 66 and the terminal 67 (hereinafter referred to as the lead 66+ and the terminal 67+) connected to the power supply line are shown using black fill, and the lead 66 and the terminal 67 (hereinafter referred to as the ground line) connected to the ground line. Lead 66- and terminal 67-) are shown using hatched hatching, and description of leads as signal lines is omitted.

積層セラミックコンデンサ10は、図示するコンデンサ上面側(コンデンサ表面側)において、内部電極13aを多層に積層し、各電極間に誘電体としてのセラミック層14を備え、このセラミック層14と内部電極13aとが交互に多数積層された構造(以下、多層構造という)を有する。また、コンデンサ下面側(コンデンサ裏面側)にあっては、他の内部電極13bをセラミック層14を挟んで積層・対向させている。つまり、各セラミック層14は対向する内部電極13a、或いは内部電極13bの間に挟まれた状態とされている。   The multilayer ceramic capacitor 10 includes multilayered internal electrodes 13a on the capacitor upper surface side (capacitor surface side) shown in the figure, and includes a ceramic layer 14 as a dielectric between the electrodes. The ceramic layer 14 and the internal electrodes 13a Have a structure in which a large number of layers are alternately stacked (hereinafter referred to as a multilayer structure). On the capacitor lower surface side (capacitor rear surface side), another internal electrode 13b is laminated and opposed with the ceramic layer 14 interposed therebetween. That is, each ceramic layer 14 is sandwiched between the opposed internal electrodes 13a or internal electrodes 13b.

各内部電極13aは、一層おきに、正の電荷に帯電する図中黒塗りの正電荷電極層(例えば第1電極)と負の電荷に帯電する斜線ハッチングの負電荷電極層(例えば第2電極)として所定の繰り返しパターン(第1の繰り返しパターン)で交互に形成されて対向する。この内部電極13aは、上記の正電荷電極層と負電荷電極層のそれぞれについて、共通にビア電極15aに導通し、このビア電極15aは、表面側端子16を介して、外部の電源や回路等に接続される。ビア電極15aは、積層セラミックコンデンサ10の表面10aから裏面10bに向けて最下層の正電荷電極層(例えば第1通電用電極)と負電荷電極層(例えば第2通電用電極)に達するまで形成され、その形成ピッチは、内部電極13aの第1の繰り返しパターンの繰り返しピッチ(第1繰り返しピッチ)とされている。   Each of the internal electrodes 13a has a black positive charge electrode layer (for example, the first electrode) in the figure that is charged to a positive charge and a hatched negative charge electrode layer (for example, the second electrode) that is charged to a negative charge. ) Are alternately formed in a predetermined repeating pattern (first repeating pattern) and face each other. The internal electrode 13a is electrically connected to the via electrode 15a in common for each of the positive charge electrode layer and the negative charge electrode layer, and the via electrode 15a is connected to an external power source, a circuit, etc. via the surface side terminal 16. Connected to. The via electrode 15a is formed from the front surface 10a to the back surface 10b of the multilayer ceramic capacitor 10 until it reaches the lowermost positive charge electrode layer (for example, first energization electrode) and negative charge electrode layer (for example, second energization electrode). The formation pitch is the repetition pitch (first repetition pitch) of the first repetition pattern of the internal electrodes 13a.

内部電極13bは、図中黒塗りの第1通電用電極層と斜線ハッチングの第2通電用電極層として、内部電極13aの第1の繰り返しパターンと異なる第2の繰り返しパターンで交互に形成されて対向する。この内部電極13bは、上記の第1、第2の通電用電極層のそれぞれについて、共通にビア電極15bに導通し、このビア電極15bは、裏面側端子17を介して、外部の電源や回路等に接続される。ビア電極15bは、積層セラミックコンデンサ10の裏面10bから最深部の第1、第2の通電用電極層に達するまで形成され、その形成ピッチは、積層セラミックコンデンサ10を裏面10bから平面視した場合、ビア電極15bが積層セラミックコンデンサ10の裏面10bにおいて点在するような繰り返しピッチ(第2繰り返しピッチP2)とされている。   The internal electrodes 13b are alternately formed in a second repetitive pattern different from the first repetitive pattern of the internal electrodes 13a as a black first energizing electrode layer and a hatched second energizing electrode layer in the figure. opposite. The internal electrode 13b is electrically connected to the via electrode 15b in common for each of the first and second energizing electrode layers, and the via electrode 15b is connected to an external power source or circuit via the back surface side terminal 17. Connected to etc. The via electrode 15b is formed from the back surface 10b of the multilayer ceramic capacitor 10 to reach the first and second energization electrode layers at the deepest portion, and the formation pitch is as follows when the multilayer ceramic capacitor 10 is viewed in plan from the back surface 10b. The repeated pitch (second repeated pitch P2) is such that the via electrodes 15b are scattered on the back surface 10b of the multilayer ceramic capacitor 10.

このように本実施例の積層セラミックコンデンサ10は、誘電体中に内部電極13aと内部電極13bを有するが、電極間距離が短く多層の内部電極13aにて電荷帯電を起こし、コンデンサとして機能する。つまり、内部電極13aがビア電極15aに接続されることにより、対向する正電荷電極層と負電荷電極層のそれぞれで正・負の電荷の帯電を起こし多層のコンデンサとして機能する。このような多層構造の積層セラミックコンデンサ10では、電荷が蓄積される部位が階層的に多数形成されるので、小型で大きな静電容量を実現することができる。   As described above, the multilayer ceramic capacitor 10 of this embodiment has the internal electrodes 13a and 13b in the dielectric, but the distance between the electrodes is short, and the multi-layer internal electrodes 13a are charged and function as a capacitor. That is, when the internal electrode 13a is connected to the via electrode 15a, positive and negative charges are charged in each of the opposing positive charge electrode layer and negative charge electrode layer to function as a multilayer capacitor. In the multilayer ceramic capacitor 10 having such a multilayer structure, a large number of portions where charges are accumulated are formed in a hierarchical manner, so that a small and large capacitance can be realized.

図示するように、ビア電極15aおよびビア電極15bは、それぞれコンデンサ表面側・裏面側に表面側端子16と裏面側端子17を有する。   As shown in the drawing, the via electrode 15a and the via electrode 15b have a front surface side terminal 16 and a back surface side terminal 17 on the capacitor surface side and back surface side, respectively.

本実施例の積層セラミックコンデンサ10では、上記したようにコンデンサの表裏面の側からそれぞれにビア電極15aとビア電極15bを備えるほか、この両ビア電極を、内部電極13bでのピッチ変換を経て、導通させている。しかも、こうした導通を図る上では、図中黒塗りの内部電極13a(第1電極層)と導通したビア電極15aについては、少なくともその一部を、内部電極13bの内の黒塗りの第1通電用電極層と導通したビア電極15bと導通させ、図中斜線ハッチングの内部電極13a(第2電極層)と導通したビア電極15aについても、少なくともその一部を、内部電極13bの内の斜線ハッチングの第2通電用電極層と導通したビア電極15bと導通させている。   In the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment, as described above, the via electrode 15a and the via electrode 15b are respectively provided from the front and back sides of the capacitor, and both the via electrodes are subjected to pitch conversion in the internal electrode 13b. Conducted. Moreover, in order to achieve such conduction, at least a part of the via electrode 15a that is in conduction with the black internal electrode 13a (first electrode layer) in the figure is filled with the black first conduction of the internal electrode 13b. The via electrode 15b, which is electrically connected to the via electrode 15b which is electrically connected to the internal electrode layer, and the internal electrode 13a which is electrically connected to the hatched hatching (second electrode layer) in the figure, is at least partly hatched in the internal electrode 13b. The second conductive electrode layer is electrically connected to the via electrode 15b.

これにより、積層セラミックコンデンサ10の表裏を貫いてビア電極15aとビア電極15bを導電線として機能させることができるので、従来は電荷帯電の用途しか想定しなかったビア電極を、コンデンサ表裏を貫く導電線として新たに利用できるようになる。   This allows the via electrode 15a and the via electrode 15b to function as conductive lines through the front and back of the multilayer ceramic capacitor 10, so that the via electrode, which has been assumed only for charge charging in the past, can be passed through the capacitor front and back. Newly available as a line.

A−2.積層セラミックコンデンサ10の製造工程:
上記した構成の積層セラミックコンデンサ10は次の製造方法により製造可能である。図2は積層セラミックコンデンサ10の製造の概要を説明する説明図、図3は実施例で採用した製造方法の手順を説明するための説明図、図4は製造方法の詳細な内容を説明するための説明図である。
A-2. Manufacturing process of multilayer ceramic capacitor 10:
The multilayer ceramic capacitor 10 having the above-described configuration can be manufactured by the following manufacturing method. 2 is an explanatory diagram for explaining the outline of the production of the multilayer ceramic capacitor 10, FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining the procedure of the production method employed in the embodiment, and FIG. 4 is for explaining the detailed contents of the production method. It is explanatory drawing of.

図2に示すように、積層セラミックコンデンサ10は、内部電極13aを含む部分の第1積層体11と、内部電極13bを含む部分の第2積層体12に分けて製造される。図中に記す符号P1は完成後における積層セラミックコンデンサ10でのビア電極15aのビッチを、符号P2は同じくビア電極15bのピッチを、符号dは同じくビア電極15a、15bのビア電極径を示している。   As shown in FIG. 2, the multilayer ceramic capacitor 10 is manufactured by being divided into a first laminated body 11 in a portion including the internal electrode 13a and a second laminated body 12 in a portion including the internal electrode 13b. In the figure, reference numeral P1 indicates the bitch of the via electrode 15a in the multilayer ceramic capacitor 10 after completion, reference numeral P2 indicates the pitch of the via electrodes 15b, and reference numeral d indicates the via electrode diameters of the via electrodes 15a and 15b. Yes.

図3に示すように、本実施例の製造方法では、それぞれの積層体について次の工程を経る。まず、第1積層体11について説明する。   As shown in FIG. 3, in the manufacturing method of a present Example, the following process is passed about each laminated body. First, the 1st laminated body 11 is demonstrated.

第1積層体11の形成に際しては、まず、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム等の長尺状のキャリアフィルムにチタン酸バリウムなどから成るセラミックスラリを均一に薄く塗布して乾燥させる。これにより、キャリアフィルム上にセラミック層が形成される(ステップS110)。次に、乾燥後のセラミックスラリ上に、Ag製の電極パターンのスクリーン印刷などによって、配線層を形成する(ステップS120)。この配線層が既述した内部電極13aとして機能する。次に、上記のセラミック層が形成された長尺状のキャリアフィルムを搬送させながら、一定形状に、セラミック層およびキャリアフィルムを切り出し、キャリアフィルムを剥離する(ステップS130,ステップS140)。こうした切り出しおよび剥離により、配線層の形成位置が異なる2種類のセラミックシートが形成される。次に、予め敷設されたPET(ポリエチレンテレフタレート)製のベースシートに2種類のセラミックシートを交互に積層することにより第1積層体11を形成する(ステップS150)。こうして得られた第1積層体11では、内部電極13aが既述したように第1の繰り返しパターンで交互に積層され、それぞれの電極はセラミックシートを挟んで対向することになる。   In forming the first laminate 11, first, a ceramic slurry made of barium titanate or the like is uniformly and thinly applied to a long carrier film such as a PET (polyethylene terephthalate) film and dried. Thereby, a ceramic layer is formed on the carrier film (step S110). Next, a wiring layer is formed on the dried ceramic slurry by screen printing of an Ag electrode pattern (step S120). This wiring layer functions as the internal electrode 13a described above. Next, the ceramic layer and the carrier film are cut into a certain shape while the long carrier film on which the ceramic layer is formed is conveyed, and the carrier film is peeled off (steps S130 and S140). By such cutting and peeling, two types of ceramic sheets having different wiring layer formation positions are formed. Next, the first laminate 11 is formed by alternately laminating two types of ceramic sheets on a PET (polyethylene terephthalate) base sheet laid in advance (step S150). In the first laminated body 11 thus obtained, the internal electrodes 13a are alternately laminated in the first repetitive pattern as described above, and the respective electrodes face each other with the ceramic sheet interposed therebetween.

次に、上記の第1積層体11に形成すべき導電性ペーストの充填孔をレーザ加工機を用いて形成する(ステップS160)。第1積層体11における充填孔形成に際しては、図2に示すように、第2積層体12におけるビア電極15bと内部電極13bを介して導通するビア電極15aについての充填孔は、第1積層体11を貫通するよう形成する。その一方、ビア電極15bとの導通の要しないビア電極15aについての充填孔は、最下層の内部電極13aに達する孔であればよいが、本実施例では、これを貫通孔とした。   Next, a conductive paste filling hole to be formed in the first laminate 11 is formed using a laser processing machine (step S160). When forming the filling hole in the first laminated body 11, as shown in FIG. 2, the filling hole for the via electrode 15a conducting through the via electrode 15b and the internal electrode 13b in the second laminated body 12 is formed in the first laminated body. 11 to penetrate through. On the other hand, the filling hole for the via electrode 15a that does not need to be electrically connected to the via electrode 15b may be any hole that reaches the lowermost internal electrode 13a, but in the present embodiment, this is a through hole.

こうした第1積層体11における充填孔形成に際しては、内部電極13aの形成に用いた第1の繰り返しパターンの第1繰り返しピッチ(図2におけるP1)で各充填孔が形成される。以下、この孔形成について説明する。   When forming the filling holes in the first stacked body 11, the filling holes are formed at the first repetition pitch (P1 in FIG. 2) of the first repetition pattern used to form the internal electrodes 13a. Hereinafter, this hole formation will be described.

まず、焼成後のビア電極の径,数,範囲や隣り合うビア電極間のピッチ等を決定する。本実施例では、それぞれのビア電極の径を、後述する焼成工程後に所定の径dとなるような値とし、隣り合うビア電極間のピッチを、後述する焼成工程後に上述した第1繰り返しピッチP1となるような値としている。その後、上記決定された仕様となるように、レーザ加工機を用いて、貫通孔を形成するのである。   First, the diameter, number, range, and pitch between adjacent via electrodes after firing are determined. In the present embodiment, the diameter of each via electrode is set to a value that becomes a predetermined diameter d after a firing process described later, and the pitch between adjacent via electrodes is the first repetitive pitch P1 described above after the firing process described later. The value is such that Thereafter, through holes are formed by using a laser processing machine so as to satisfy the above determined specifications.

その後、加圧容器内に第1積層体11を入れ込み、充填孔に導電性ペーストを加圧充填し(ステップS170)、図2のステップS200に移行する。充填された導電性ペーストは既述したビア電極15aとして機能する。なお、本実施例では、適度に粘度の高いペースト状のAgを導電性ペーストとして用いている。また、ペースト充填に際して、ベースシートは剥離される。   Then, the 1st laminated body 11 is put in a pressurized container, the electrically conductive paste is pressure-filled to a filling hole (step S170), and it transfers to step S200 of FIG. The filled conductive paste functions as the above-described via electrode 15a. In this embodiment, paste-like Ag having a moderately high viscosity is used as the conductive paste. Further, the base sheet is peeled off when the paste is filled.

第2積層体12についても上記した第1積層体11とほぼ同様であり、ステップS110〜170を経て、第2の繰り返しパターンで内部電極13bがセラミックシートを挟んで対向し、充填孔に導電性ペーストを充填した第2積層体12とされる。この第2積層体12は、図2に示すように、上面側に位置する誘電体層だけの上部積層部分12aと、その下側の中間積層部分12bと、最下段の下部積層部分12cを積層して形成される。そして、中間積層部分12bと下部積層部分12cについては、内部電極13bが第2の繰り返しパターンで形成される。ペースト充填のための充填孔については、上部積層部分12aでは、第1積層体11から第2積層体12の内部電極13bまで達するビア電極15aについての充填孔が貫通形成され、中間積層部分12bでは、第2積層体12を貫通するビア電極15aと下部積層部分12cの内部電極13bまで達するビア電極15aについての充填孔が貫通形成される。下部積層部分12cでは、第2積層体12を貫通するビア電極15aとコンデンサ裏面側から中間積層部分12bや下部積層部分12cの内部電極13bまで達するビア電極15aについての充填孔が貫通形成される。加圧容器内に各積層部分を入れ込んで充填孔に導電性ペーストを加圧充填する。こうして予め充填孔が貫通形成され、充填孔に導電性ペーストが充填されている上部積層部分12a、中間積層部分12bおよび下部積層部分12cが積層されて第2積層体12とされる。なお、充填孔が貫通形成済みの各積層部分を予め積層し、この積層状態のものを加圧容器内に入れ込んで充填孔に導電性ペーストを加圧充填し、これを第2積層体12とすることもできる。   The second laminated body 12 is also substantially the same as the first laminated body 11 described above, and after steps S110 to 170, the internal electrode 13b is opposed to the filling hole in the second repetitive pattern with the ceramic sheet interposed therebetween, and is electrically conductive in the filling hole. The second laminate 12 is filled with paste. As shown in FIG. 2, the second laminated body 12 is formed by laminating an upper laminated portion 12a having only a dielectric layer located on the upper surface side, an intermediate laminated portion 12b on the lower side, and a lower laminated portion 12c on the lowermost stage. Formed. And about the intermediate | middle laminated | stacked part 12b and the lower laminated part 12c, the internal electrode 13b is formed with a 2nd repeating pattern. As for the filling hole for filling the paste, in the upper laminated portion 12a, a filling hole for the via electrode 15a extending from the first laminated body 11 to the internal electrode 13b of the second laminated body 12 is formed to penetrate, and in the intermediate laminated portion 12b, A filling hole is formed through the via electrode 15a penetrating the second laminated body 12 and the via electrode 15a reaching the internal electrode 13b of the lower laminated portion 12c. In the lower laminated portion 12c, a via electrode 15a penetrating the second laminated body 12 and a filling hole for the via electrode 15a extending from the back side of the capacitor to the intermediate laminated portion 12b and the internal electrode 13b of the lower laminated portion 12c are formed to penetrate therethrough. Each laminated portion is put into a pressurized container, and a conductive paste is pressurized and filled in the filling hole. Thus, the filling hole is formed in advance, and the upper laminated portion 12a, the intermediate laminated portion 12b, and the lower laminated portion 12c in which the filling hole is filled with the conductive paste are laminated to form the second laminated body 12. It should be noted that each laminated portion in which the filling hole has been formed is laminated in advance, and the laminated state is put into a pressurized container, and the conductive paste is pressurized and filled in the filling hole. It can also be.

完成後の積層セラミックコンデンサ10において、図2に示す第2積層体12では、ビア電極15aとビア電極15bとが、前者は第1の繰り返しピッチP1で、後者は第2の繰り返しピッチP2で混在し、それぞれ図では斜線ハッチと黒塗りで表されている。斜線ハッチと黒塗りのビア電極15aおよびビア電極15bは、斜線ハッチ同士の電極がコンデンサとして使用の際に極性が同じで、黒塗り同士の電極についても極性が同じであり、斜線ハッチの電極と黒塗りの電極では極性が異なる。本実施例では、図2に示す極性が異なるビア電極15aとビア電極15bとのビア電極間ピッチP3が、内部電極13aについてのビア電極15aの繰り返しピッチP1以上となるようにした。図2では、P3がP1の約1.6倍とされている。   In the completed multilayer ceramic capacitor 10, in the second multilayer body 12 shown in FIG. 2, the via electrode 15a and the via electrode 15b are mixed at the first repetition pitch P1 in the former and at the second repetition pitch P2. In each figure, it is represented by hatched hatching and black painting. The shaded hatch and the black-painted via electrode 15a and the via electrode 15b have the same polarity when the hatched hatch electrodes are used as capacitors, and the black-coated electrodes have the same polarity. Black electrodes have different polarities. In this embodiment, the via electrode pitch P3 between the via electrodes 15a and the via electrodes 15b having different polarities shown in FIG. 2 is set to be equal to or larger than the repeating pitch P1 of the via electrodes 15a with respect to the internal electrodes 13a. In FIG. 2, P3 is about 1.6 times P1.

なお、第1積層体11と第2積層体12の形成(ステップS110〜170)は、同時並行的に進めることができるほか、各積層体を順次形成するようにすることもできる。   In addition, formation of the 1st laminated body 11 and the 2nd laminated body 12 (step S110-170) can be advanced simultaneously, and it can also be made to form each laminated body sequentially.

こうして第1積層体11と第2積層体12が形成されると、両積層体を接合する(ステップS200)。この積層体接合に際しては、第1積層体11において積層体を貫通する充填孔の導電性ペーストを、第2積層体12の図示上面の充填孔充填済みの導電性ペーストを介して内部電極13bに接合するようにして、両積層体を積層する。   When the first stacked body 11 and the second stacked body 12 are thus formed, both stacked bodies are joined (step S200). When the laminated body is joined, the conductive paste in the filling hole penetrating the laminated body in the first laminated body 11 is applied to the internal electrode 13b through the filled conductive paste on the upper surface of the second laminated body 12 in the drawing. Both laminated bodies are laminated so as to be joined.

次に、こうして接合させた積層体を高温・高圧プレスによって圧着した後(ステップS210)、コンデンサ表裏面に表面側端子16と裏面側端子17を形成する(ステップS220)。形成する表面側端子16や裏面側端子17の端子間ピッチは、概ね既述したP1、P2の繰り返しピッチとされ、それぞれの端子は、接合済み積層体上下面(コンデンサ表裏面)から導電性ペーストが露出した部位(既述したビア電極15a、ビア電極15bの上端に相当する部位)に形成される。こうした表面側端子16や裏面側端子17の形成は、導電材料の表装印刷などの手法によって行なうことができる。こうした端子形成に際しても、そのサイズや端子間ピッチは、後述する焼成による導電性ペーストの収縮率を加味して決定される。次に、積層体に、使用される積層セラミックコンデンサ10の大きさに合わせて溝を入れ、溝入れ後の積層体を脱脂した後に焼成する(ステップS230)。こうした焼成の後、溝に沿ったブレークによる個片化により、図1に示したような積層セラミックコンデンサ10が完成する。   Next, the laminated body thus bonded is pressure-bonded by a high temperature / high pressure press (step S210), and then the front surface side terminal 16 and the back surface side terminal 17 are formed on the front and back surfaces of the capacitor (step S220). The pitch between the terminals of the front surface side terminal 16 and the rear surface side terminal 17 to be formed is generally the repetition pitch of P1 and P2 described above. Is formed in the exposed portion (the portion corresponding to the upper ends of the via electrode 15a and the via electrode 15b described above). Formation of the front surface side terminal 16 and the back surface side terminal 17 can be performed by a technique such as surface printing of a conductive material. In forming such terminals, the size and the pitch between the terminals are determined in consideration of the shrinkage ratio of the conductive paste due to firing described later. Next, a groove is formed in the multilayer body in accordance with the size of the multilayer ceramic capacitor 10 to be used, and the laminated body after the grooving is degreased and fired (step S230). After such firing, the multilayer ceramic capacitor 10 as shown in FIG. 1 is completed by singulation by breaks along the grooves.

なお、この積層コンデンサの製造方法は、上述した工程に限定されるものではなく、任意の適切な工程を用いて実施することができる。例えば、上記したステップS160までの工程において、ステップ140のキャリアフィルム剥離とステップ150のシート積層を逆に行ったり、ステップS130のシート切り出しをステップS120の配線層の形成に先だって行うこともできる。また、上記した実施例では、ビア電極15a、15bを構成する導電材料として、Agを用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、Pt,Pd,Ag−Pt,Ag−Pd,Cu,Au,Niなどを用いるようにしてもよい。何れの材料を用いるかは、セラミック層の材質等との適合性を考慮して決定すればよい。また、必要に応じて無機材料を含有させるようにしてもよい。   In addition, the manufacturing method of this multilayer capacitor is not limited to the process mentioned above, It can implement using arbitrary appropriate processes. For example, in the process up to step S160 described above, the carrier film peeling in step 140 and the sheet lamination in step 150 can be performed in reverse, or the sheet cutting in step S130 can be performed prior to the formation of the wiring layer in step S120. In the above-described embodiment, Ag is used as the conductive material constituting the via electrodes 15a and 15b. However, the present invention is not limited to this. For example, Pt, Pd, Ag-Pt, Ag- Pd, Cu, Au, Ni, etc. may be used. Which material is used may be determined in consideration of compatibility with the material of the ceramic layer and the like. Moreover, you may make it contain an inorganic material as needed.

A−3.作用効果:
以上説明したように、本実施例の積層セラミックコンデンサ10では、図1に示すように、誘電体中に電極間距離が短く多層の内部電極13aを備え、この内部電極13aにはビア電極15aからの電圧印可を経て、正・負の電荷の帯電を起こし、多層のコンデンサとしての機能を実現する。しかも、こうしたコンデンサ機能を実現しつつ、コンデンサの表面10aの側からのビア電極15aを、内部電極13bでのピッチ変換を経て、コンデンサの裏面10bの側からのビア電極15bに導通させている。より詳しくは、図中黒塗りの内部電極13a(第1電極層)と導通したビア電極15aについては、少なくともその一部を、内部電極13bの内の黒塗りの第1通電用電極層と導通したビア電極15bと導通させ、図中斜線ハッチングの内部電極13a(第2電極層)と導通したビア電極15aについても、少なくともその一部を、内部電極13bの内の斜線ハッチングの第2通電用電極層と導通したビア電極15bと導通させている。
A-3. Effect:
As described above, in the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment, as shown in FIG. 1, the dielectric is provided with the multi-layer internal electrode 13a with a short inter-electrode distance, and the internal electrode 13a includes the via electrode 15a. Through this voltage application, positive and negative charges are charged, and the function as a multilayer capacitor is realized. Moreover, the via electrode 15a from the surface 10a side of the capacitor is conducted to the via electrode 15b from the back surface 10b side of the capacitor through pitch conversion at the internal electrode 13b while realizing such a capacitor function. More specifically, in the drawing, at least part of the via electrode 15a electrically connected to the black internal electrode 13a (first electrode layer) is electrically connected to the black first conductive electrode layer in the internal electrode 13b. The via electrode 15a, which is electrically connected to the via electrode 15b and is connected to the hatched internal electrode 13a (second electrode layer) in the drawing, is at least partly used for the second energization of the hatched hatch in the internal electrode 13b. The via electrode 15b is electrically connected to the electrode layer.

これにより、積層セラミックコンデンサ10の表裏を貫いてビア電極15aとビア電極15bを導電線として機能させることができるので、従来は内部電極層への通電の用途しか想定しなかったビア電極を、コンデンサ表裏を貫く導電線として新たに利用できるようになる。このため、積層セラミックコンデンサ10によれば、図1に示すように、コンデンサ表裏への電子デバイス(ICチップ30やパッケージ50、延いては配線基板60等)の実装が可能となり実装の多様化を図ることができる。この場合、表面10aにおける表面側端子16のピッチ(ビア電極15aピッチ)を定める第1の繰り返しピッチをICチップ30やパッケージ50の端子ピッチに適合させたり、裏面10bにおける裏面側端子17(ビア電極15bピッチ)を定める第2の繰り返しピッチを配線基板60の端子ピッチに適合させることができるので、コンデンサ表裏へのデバイス実装の自由度をより高めることができる。   This allows the via electrode 15a and the via electrode 15b to function as conductive lines through the front and back of the multilayer ceramic capacitor 10, so that a via electrode, which has been assumed only for current application to the internal electrode layer, can be It can be newly used as a conductive wire that penetrates the front and back. For this reason, according to the multilayer ceramic capacitor 10, as shown in FIG. 1, it is possible to mount electronic devices (IC chip 30, package 50, wiring board 60, etc.) on the front and back of the capacitor. You can plan. In this case, the first repetitive pitch that defines the pitch of the surface side terminals 16 (via electrode 15a pitch) on the front surface 10a is adapted to the terminal pitch of the IC chip 30 or the package 50, or the back surface side terminal 17 (via electrode) on the back surface 10b. 15b pitch) can be adapted to the terminal pitch of the wiring board 60, so that the degree of freedom of device mounting on the front and back of the capacitor can be further increased.

また、本実施例では、積層セラミックコンデンサ10を製造する際の第2積層体12において、上記したようにビア電極15aとビア電極15bの導通を図った場合、極性が異なるビア電極間ピッチP3を、ビア電極15aの繰り返しパターンによる繰り返しピッチP1以上、具体的には約1.6倍とした。このため、極性が異なるビア電極同士が近づきすぎることがない、即ち異極間で短絡することがないので、コンデンサとしての機能低下を抑制できる。   Further, in this embodiment, in the second multilayer body 12 when the multilayer ceramic capacitor 10 is manufactured, when the conduction between the via electrode 15a and the via electrode 15b is achieved as described above, the pitch P3 between the via electrodes having different polarities is set. The pitch of the via electrodes 15a is not less than the repeat pitch P1, specifically about 1.6 times. For this reason, since the via electrodes having different polarities do not come too close to each other, that is, the short-circuit between the different polarities does not occur, it is possible to suppress deterioration of the function as a capacitor.

また、コンデンサの表裏面に、ビア電極15aとビア電極15bの端子となる表面側端子16と裏面側端子17を各ビア電極ごとに形成した。このため、端子を介してのビア電極へのリード接続、実装品との間の接続が容易となる。具体的には、パッケージ50の端子58を積層セラミックコンデンサ10の表面側端子16に容易、かつ確実に接続できる。   Further, the front surface side terminal 16 and the back surface side terminal 17 which are terminals of the via electrode 15a and the via electrode 15b are formed for each via electrode on the front and back surfaces of the capacitor. For this reason, the lead connection to the via electrode through the terminal and the connection between the mounted products are facilitated. Specifically, the terminal 58 of the package 50 can be easily and reliably connected to the surface side terminal 16 of the multilayer ceramic capacitor 10.

B.変形例:
上記実施例では、パッケージ50とマザーボード等の配線基板60との間に積層セラミックコンデンサ10を介装したが、他の電子デバイス間に積層セラミックコンデンサ10を介装してもよい。図5は積層セラミックコンデンサ10の変形例を示す説明図である。なお、この図5に示す積層セラミックコンデンサ10は、既述した実施例において図1に示した構成と主要な部分で共通し、図5では、この共通の各部につき、符号の十の位以下を図1と同じ数字ないし英字を用いて表わしている。
B. Variation:
In the above embodiment, the multilayer ceramic capacitor 10 is interposed between the package 50 and the wiring substrate 60 such as a mother board. However, the multilayer ceramic capacitor 10 may be interposed between other electronic devices. FIG. 5 is an explanatory view showing a modified example of the multilayer ceramic capacitor 10. The multilayer ceramic capacitor 10 shown in FIG. 5 is common to the configuration shown in FIG. 1 and the main part in the embodiment described above, and in FIG. The same numbers or letters as in FIG. 1 are used.

この図5に示す変形例では、ICチップ130とパッケージ150とを積層セラミックコンデンサ110を介して接続する構成を採った形態のものである。そして、この形態では、積層セラミックコンデンサ110のビア電極115bに対応する裏面側端子117に、リード156を電源線およびグランド線として含む配線を備えたパッケージ150が接続されている。また、積層セラミックコンデンサ110のビア電極115aに対応する表面側端子116に、ICチップ130をそのパッド132で直接接続している。   In the modification shown in FIG. 5, the IC chip 130 and the package 150 are connected via the multilayer ceramic capacitor 110. In this embodiment, the package 150 including wiring including the lead 156 as a power supply line and a ground line is connected to the back surface side terminal 117 corresponding to the via electrode 115b of the multilayer ceramic capacitor 110. Further, the IC chip 130 is directly connected to the surface side terminal 116 corresponding to the via electrode 115 a of the multilayer ceramic capacitor 110 by the pad 132.

また、上記実施例や各変形例の積層セラミックコンデンサに予めICチップやパッケージ,配線基板を装着しておく形態を採ることもできる。こうした形態としては、積層セラミックコンデンサのビア電極にICチップが接続されたICチップ付きコンデンサ、積層セラミックコンデンサのビア電極が有する端子もしくは端子にパッケージが接続されたコンデンサ付きパッケージ、積層セラミックコンデンサのビア電極が有する端子に配線基板が接続されたコンデンサ付き配線基板、上記の積層セラミックコンデンサを介してICチップとパッケージとを接続してなる構造体等を考えることができる。   Further, it is possible to adopt a form in which an IC chip, a package, and a wiring board are mounted in advance on the multilayer ceramic capacitors of the above-described embodiments and modifications. As such a form, a capacitor with an IC chip in which an IC chip is connected to the via electrode of the multilayer ceramic capacitor, a terminal having the via electrode of the multilayer ceramic capacitor or a package with a capacitor connected to the terminal, a via electrode of the multilayer ceramic capacitor A wiring board with a capacitor in which a wiring board is connected to a terminal of the IC, a structure in which an IC chip and a package are connected via the above-mentioned multilayer ceramic capacitor, and the like can be considered.

また、ビア電極15aとビア電極15bのピッチP1、P2を定める第1、第2の繰り返しピッチ並びに内部電極13aと内部電極13bのパターンを定める第1、第2の繰り返しパターンは、種々の態様で規定することができる。例えば、ビア電極15aのピッチP1に対してビア電極15bのピッチP2がP1の1以上の正数倍比のピッチとしたり、正の奇数倍比としたりすることができる。或いは、ピッチP2をピッチP1の(1/n.5)倍比(ここで、nは自然数)としたりすることもできる。こうした関係を採ったとしても、図2に示す極性が異なるビア電極間ピッチP3を上記のピッチP1以上とすることが、コンデンサ機能確保の上から好ましい。   In addition, the first and second repetitive pitches that define the pitches P1 and P2 of the via electrodes 15a and the via electrodes 15b and the first and second repetitive patterns that define the patterns of the internal electrodes 13a and the internal electrodes 13b are various ways. Can be prescribed. For example, the pitch P2 of the via electrodes 15b can be set to a positive multiple ratio of 1 or more than the pitch P1 of the via electrodes 15a, or a positive odd multiple ratio. Alternatively, the pitch P2 can be set to (1 / n.5) times the pitch P1 (where n is a natural number). Even if such a relationship is taken, it is preferable from the viewpoint of securing the capacitor function that the pitch P3 between via electrodes having different polarities shown in FIG.

特に、ビア電極15bのピッチについては、定間隔に限られるものではなく、それぞれのビア電極15bが、コンデンサ裏面から見て点在するよう繰り返されていればよく、例えば、ビア電極ピッチが不等分となっているものでもよい。具体的には、あるビア電極15bからその隣のビア電極15bまでの電極間距離(ピッチ)はP0であるが、その次のビア電極15bまでの電極間距離P1がP0の2.1倍となるように、広がっていくようなものであってもよい。   In particular, the pitch of the via electrodes 15b is not limited to a constant interval, and each via electrode 15b may be repeated so as to be scattered when viewed from the back surface of the capacitor. For example, the via electrode pitch is unequal. It may be a minute. Specifically, the interelectrode distance (pitch) from one via electrode 15b to the adjacent via electrode 15b is P0, but the interelectrode distance P1 to the next via electrode 15b is 2.1 times P0. It may be something that spreads out.

また、積層セラミックコンデンサ10を製造する際に、図2に示した第2積層体12を、上部積層部分12a、中間積層部分12bおよび下部積層部分12cの順に重ねていくようにすることもできる。この場合には、まず、上部積層部分12aを第1積層体11に重ねる。この積層に先立ち、上部積層部分12aを予め形成する。つまり、誘電体となる誘電材料を用いてシートを形成し、当該シートにおいて、第1積層体11におけるビア電極15a形成用の貫通孔の少なくとも一部と重なる位置に貫通孔をあけ、その貫通孔に導電性ペーストを充填しておく。そして、ペースト充填済みの上部積層部分12aを、第1積層体11における充填済みペースト(ビア電極15a)に上部積層部分12aの充填済みペーストが接合するよう第1積層体11に重ねる。   Further, when the multilayer ceramic capacitor 10 is manufactured, the second multilayer body 12 shown in FIG. 2 may be stacked in the order of the upper multilayer portion 12a, the intermediate multilayer portion 12b, and the lower multilayer portion 12c. In this case, first, the upper laminated portion 12 a is overlaid on the first laminated body 11. Prior to this lamination, the upper laminated portion 12a is formed in advance. That is, a sheet is formed using a dielectric material that becomes a dielectric, and a through-hole is formed in the sheet at a position that overlaps at least a part of the through-hole for forming the via electrode 15a in the first stacked body 11, and the through-hole is formed. Is filled with a conductive paste. Then, the upper laminated portion 12a filled with paste is overlaid on the first laminated body 11 so that the filled paste (via electrode 15a) in the first laminated body 11 is bonded to the filled paste of the upper laminated portion 12a.

中間積層部分12bの積層では、誘電体となる誘電材料を用いてシートを形成し、当該シートの表面に内部電極13bをスクリーン印刷手法等で形成する。このシートにおいて、上部積層部分12aの貫通孔の少なくとも一部と重なる位置に貫通孔をあけると共に、シートにおいて点在するようなピッチで内部電極13bに達する電極層到達孔をあけ、この両孔に導電性ペーストを充填しておく。そして、ペースト充填済みの中間積層部分12bを、上部積層部分12aにおける充填済みペースト(ビア電極15a)に中間積層部分12bの充填済みペーストが接合するよう上部積層部分12aに重ねる。   In the lamination of the intermediate laminated portion 12b, a sheet is formed using a dielectric material serving as a dielectric, and the internal electrode 13b is formed on the surface of the sheet by a screen printing method or the like. In this sheet, a through hole is formed at a position overlapping with at least a part of the through hole of the upper laminated portion 12a, and electrode layer reaching holes reaching the internal electrode 13b are formed at a pitch that is scattered in the sheet. Fill with conductive paste. Then, the paste-filled intermediate laminated portion 12b is overlaid on the upper laminated portion 12a so that the filled paste in the intermediate laminated portion 12b is joined to the filled paste (via electrode 15a) in the upper laminated portion 12a.

下部積層部分12cの積層では、誘電体となる誘電材料を用いてシートを形成し、当該シートの表面に内部電極13bをスクリーン印刷手法等で形成する。このシートにおいて、上部積層部分12aのビア電極15aおよびビア電極15bの貫通孔・電極層到達孔の少なくとも一部と重なる位置に貫通孔をあけると共に、シートにおいて点在するようなピッチで内部電極13bに達する電極層到達孔をあけ、この両孔に導電性ペーストを充填しておく。そして、ペースト充填済みの下部積層部分12cを、中間積層部分12bにおける充填済みペースト(ビア電極15aおよびビア電極15b)に下部積層部分12cの充填済みペーストが接合するよう中間積層部分12bに重ねる。その後は、既述したようにステップS210以降の処理を行うことで、積層セラミックコンデンサ10を製造することができる。なお、中間積層部分12bおよび下部積層部分12cにおける電極層到達孔は、シートを貫通する貫通孔でもよい。   In the lamination of the lower laminated portion 12c, a sheet is formed using a dielectric material serving as a dielectric, and the internal electrode 13b is formed on the surface of the sheet by a screen printing method or the like. In this sheet, through-holes are formed at positions overlapping at least part of the through-holes / electrode layer arrival holes of the via electrode 15a and the via electrode 15b of the upper laminated portion 12a, and the internal electrodes 13b are arranged at a pitch that is scattered in the sheet. The electrode layer reaching hole is opened, and both holes are filled with a conductive paste. Then, the paste-filled lower laminated portion 12c is overlaid on the intermediate laminated portion 12b so that the filled paste (the via electrode 15a and the via electrode 15b) in the intermediate laminated portion 12b is joined to the filled paste in the lower laminated portion 12c. After that, the multilayer ceramic capacitor 10 can be manufactured by performing the processing after step S210 as described above. The electrode layer reaching holes in the intermediate laminated portion 12b and the lower laminated portion 12c may be through holes that penetrate the sheet.

このように各積層部分を順次積層するに際しては、下部積層部分12cを省略することができる。つまり、図2において、下部積層部分12cを有しないものとすることもできる。こうしても、第1積層体11における図中黒塗りのビア電極15aは、内部電極13bでピッチ変換された上で、上部積層部分12aと中間積層部分12bにおけるビア電極15bと導通する。   In this way, when sequentially laminating the respective laminated portions, the lower laminated portion 12c can be omitted. That is, in FIG. 2, the lower laminated portion 12c may not be provided. Even in this manner, the black via electrode 15a in the drawing of the first stacked body 11 is electrically connected to the via electrode 15b in the upper stacked portion 12a and the intermediate stacked portion 12b after being pitch-converted by the internal electrode 13b.

本発明の実施例である積層セラミックコンデンサ10の設置例を縦断面で示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of installation of the multilayer ceramic capacitor 10 which is an Example of this invention in a longitudinal cross section. 積層セラミックコンデンサ10の製造の概要を説明する説明図である。3 is an explanatory diagram for explaining an outline of manufacturing the multilayer ceramic capacitor 10. FIG. 実施例で採用した製造方法の手順を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the procedure of the manufacturing method employ | adopted in the Example. 製造方法の詳細な内容を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the detailed content of a manufacturing method. 積層セラミックコンデンサ10の変形例を示す説明図である。6 is an explanatory view showing a modified example of the multilayer ceramic capacitor 10. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10...積層セラミックコンデンサ
10a...表面
10b...裏面
11...第1積層体
12...第2積層体
12a...上部積層部分
12b...中間積層部分
12c...下部積層部分
13a...内部電極
13b...内部電極
14...セラミック層
15a...ビア電極
15b...ビア電極
16...表面側端子
17...裏面側端子
30...ICチップ
32...パッド
50...パッケージ
52...上部層
54...下部層
56...リード
57...バンプ
58...端子
60...配線基板
66...リード
67...端子
110...積層セラミックコンデンサ
115a...ビア電極
115b...ビア電極
116...表面側端子
117...裏面側端子
132...パッド
150...パッケージ
156...リード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Multilayer ceramic capacitor 10a ... Front surface 10b ... Back surface 11 ... 1st laminated body 12 ... 2nd laminated body 12a ... Upper laminated part 12b ... Intermediate laminated part 12c ... Lower laminated portion 13a ... Internal electrode 13b ... Internal electrode 14 ... Ceramic layer 15a ... Via electrode 15b ... Via electrode 16 ... Front side terminal 17 ... Back side terminal 30. IC chip 32 ... Pad 50 ... Package 52 ... Upper layer 54 ... Lower layer 56 ... Lead 57 ... Bump 58 ... Terminal 60 ... Wiring board 66 .. Lead 67 ... Terminal 110 ... Multilayer ceramic capacitor 115a ... Via electrode 115b ... Via electrode 116 ... Front side terminal 117 ... Back side terminal 132 ... Pad 150 ... Package 156 ... Lead

Claims (7)

内部電極層と誘電体層とを交互に複数積層させたコンデンサであって、
前記内部電極を、コンデンサ表面側において、第1電極層と、該電極層に対向する第2電極層として交互に備え、
前記コンデンサ表面側から前記第1電極層に共通して導通するよう形成された複数の第1ビア電極と、前記コンデンサ表面側から前記第2電極層に共通して導通するよう形成された複数の第2ビア電極とを、第1の繰り返しピッチで備えると共に、
コンデンサ裏面側において、前記誘電体層を介して積層形成された第1通電電極層と第2通電電極層とを備え、
更に、
前記コンデンサ裏面側からは、前記第1通電電極層に導通する複数の第1通電用ビア電極と、前記第2通電電極層に導通する複数の第2通電用ビア電極とを、該通電用ビア電極が前記コンデンサ裏面において点在するような第2繰り返しピッチで、繰り返し形成して備え、
前記第1ビア電極と前記第1通電用ビア電極とは、少なくとも一部が前記第1通電電極層を介して導通されており、
前記第2ビア電極と前記第2通電用ビア電極とは、少なくとも一部が前記第2通電電極層を介して導通されている
コンデンサ。
A capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
The internal electrodes are alternately provided as first electrode layers and second electrode layers facing the electrode layers on the capacitor surface side,
A plurality of first via electrodes formed to conduct commonly from the capacitor surface side to the first electrode layer, and a plurality of first via electrodes formed to conduct commonly from the capacitor surface side to the second electrode layer The second via electrodes are provided at a first repetition pitch,
On the back side of the capacitor, a first energizing electrode layer and a second energizing electrode layer that are laminated via the dielectric layer are provided,
Furthermore,
From the back side of the capacitor, a plurality of first energizing via electrodes that conduct to the first energizing electrode layer and a plurality of second energizing via electrodes that conduct to the second energizing electrode layer are connected to the energizing via. The electrode is repeatedly formed at a second repetition pitch interspersed on the capacitor back surface,
The first via electrode and the first energizing via electrode are at least partially connected through the first energizing electrode layer,
A capacitor in which at least a part of the second via electrode and the second energizing via electrode are conducted through the second energizing electrode layer.
請求項1記載のコンデンサであって、
前記第1通電電極層と前記第2通電電極層の形成領域に存在する前記通電用ビア電極の前記第2繰り返しピッチが前記第1ビア電極、第2ビア電極の前記第1繰り返しピッチ以上とされた
コンデンサ。
The capacitor of claim 1,
The second repeating pitch of the energizing via electrode existing in the formation region of the first energizing electrode layer and the second energizing electrode layer is greater than or equal to the first repeating pitch of the first via electrode and the second via electrode. Capacitor.
請求項1または請求項2記載のコンデンサであって、
前記第1ビア電極、および前記第2ビア電極の端子となるようビア電極ごとにコンデンサ表面に形成された表面側端子と、
前記第1、第2の通電用の各ビア電極の端子となるようビア電極ごとにコンデンサ裏面に形成された裏面側端子とを備える
コンデンサ。
The capacitor according to claim 1 or claim 2, wherein
A surface-side terminal formed on the capacitor surface for each via electrode so as to be a terminal of the first via electrode and the second via electrode;
A backside terminal formed on the backside of the capacitor for each via electrode so as to be a terminal for each of the first and second energization via electrodes.
請求項1ないし請求項3いずれか記載のコンデンサの前記第1ビア電極、および前記第2ビア電極に半導体素子を接続して備える半導体素子付きコンデンサ。   A capacitor with a semiconductor element, comprising a semiconductor element connected to the first via electrode and the second via electrode of the capacitor according to claim 1. 請求項1ないし請求項4のいずれか記載のコンデンサの前記第1、第2の通電用の各ビア電極に、電源線およびグランド線を含む配線を備えた基板が接続された基板一体型コンデンサ。   5. A substrate-integrated capacitor, wherein a substrate having a wiring including a power supply line and a ground line is connected to each of the first and second energization via electrodes of the capacitor according to claim 1. 内部電極層と誘電体層とが交互に複数積層させたコンデンサの製造方法であって、
前記内部電極をコンデンサ表面側において形成するよう、第1電極層と該電極層に対向する第2電極層となる内部電極形成材料を、前記誘電体層となる誘電材料を挟んで交互に積層し、第1の積層体を形成する工程(1)と、
前記第1の積層体において積層状の前記第1電極層同士と前記第2電極層同士をそれぞれ貫通する貫通孔を、第1繰り返しピッチで形成し、各貫通孔に導電性ペーストを充填する工程(2)と、
第1通電電極層と第2通電電極層の電極層形成材料が前記誘電材料を挟んで積層された第2の積層体であって、該第2の積層体は、前記第1通電電極層と前記第2通電電極層に達する孔を前記第2の積層体表面から前記孔が点在するような第2繰り返しピッチで備え、前記孔には導電性ペーストを充填した前記第2の積層体を形成する工程(3)と、
前記第1の積層体における前記第1電極層同士の充填済みペーストと前記第2電極層同士の充填済みペーストの少なくとも一部が、前記第2の積層体における前記第1、第2の通電電極層に接合するよう前記ペースト充填済みの前記第1、第2の積層体を重ね合わせる工程(4)とを有する
コンデンサの製造方法。
A method of manufacturing a capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
In order to form the internal electrode on the capacitor surface side, the internal electrode forming material to be the second electrode layer and the first electrode layer are alternately laminated with the dielectric material to be the dielectric layer interposed therebetween. A step (1) of forming a first laminate;
Forming through holes penetrating through the first electrode layers and the second electrode layers in the first laminated body at a first repetition pitch, and filling each through hole with a conductive paste; (2) and
An electrode layer forming material of the first energizing electrode layer and the second energizing electrode layer is a second laminate in which the dielectric material is sandwiched between the first energizing electrode layer and the first energizing electrode layer. Holes reaching the second energizing electrode layer are provided at a second repetition pitch such that the holes are scattered from the surface of the second laminate, and the holes are filled with a conductive paste. Forming (3);
At least a part of the filled paste between the first electrode layers and the filled paste between the second electrode layers in the first laminate are the first and second energized electrodes in the second laminate. And a step (4) of superimposing the first and second laminated bodies filled with the paste so as to be bonded to a layer.
内部電極層と誘電体層とが交互に複数積層させたコンデンサの製造方法であって、
前記内部電極をコンデンサ表面側において形成するよう、第1電極層と該電極層に対向する第2電極層となる内部電極形成材料を、前記誘電体層となる誘電材料を挟んで交互に積層し、積層体を形成する工程(1)と、
前記積層体において積層状の前記第1電極層同士と前記第2電極層同士をそれぞれ貫通する貫通孔を、第1繰り返しピッチで形成し、各貫通孔に導電性ペーストを充填する工程(2)と、
前記誘電体となる誘電材料を用いた第1シートであって、前記積層体における前記貫通孔の少なくとも一部と重なる位置に貫通孔を備え、該貫通孔に導電性ペーストを充填した前記第1シートを前記積層体に重ねる工程(3)と、
前記誘電体となる誘電材料を用いた第2シートであって、該第2シートは、第1通電電極層の電極層形成材料をシート表面に備え、前記第1シートの前記貫通孔の少なくとも一部と重なる位置に備えた貫通孔と、シートにおいて点在するような第2繰り返しピッチで形成され前記第1通電電極層に達する電極層到達孔とに導電性ペーストを充填したシートであり、前記第2シートを前記第1シートに重ねる工程(4)とを有する
コンデンサの製造方法。
A method of manufacturing a capacitor in which a plurality of internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
In order to form the internal electrode on the capacitor surface side, the internal electrode forming material to be the second electrode layer and the first electrode layer are alternately laminated with the dielectric material to be the dielectric layer interposed therebetween. A step (1) of forming a laminate;
Forming a through hole penetrating each of the laminated first electrode layers and the second electrode layers in the laminated body at a first repetition pitch, and filling each through hole with a conductive paste (2) When,
A first sheet using a dielectric material to be the dielectric, wherein the first sheet is provided with a through hole at a position overlapping at least a part of the through hole in the laminated body, and the through hole is filled with a conductive paste. A step (3) of stacking a sheet on the laminate;
A second sheet using a dielectric material to be the dielectric, wherein the second sheet is provided with an electrode layer forming material for the first current-carrying electrode layer on the sheet surface, and at least one of the through holes of the first sheet A sheet in which a conductive paste is filled in through-holes provided at positions overlapping with a portion, and electrode layer arrival holes that are formed at a second repetition pitch and are scattered in the sheet and reach the first current-carrying electrode layer, And a step (4) of stacking a second sheet on the first sheet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011129597A (en) * 2009-12-15 2011-06-30 Ngk Spark Plug Co Ltd Method of manufacturing capacitor, and capacitor built-in wiring board

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