JP2005099635A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2005099635A
JP2005099635A JP2003335796A JP2003335796A JP2005099635A JP 2005099635 A JP2005099635 A JP 2005099635A JP 2003335796 A JP2003335796 A JP 2003335796A JP 2003335796 A JP2003335796 A JP 2003335796A JP 2005099635 A JP2005099635 A JP 2005099635A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
liquid crystal
transparent
substrate
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003335796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasunari Nagata
康成 永田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2003335796A priority Critical patent/JP2005099635A/en
Publication of JP2005099635A publication Critical patent/JP2005099635A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device in which a reflective region and a transmissive region are completely distinguished from each other and further variation of reflection characteristics in the reflective region and that of transmission characteristics in the transmissive region are little and a method for manufacturing the same. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device is constructed by disposing a backlight means BL on a liquid crystal display panel LP wherein a metal reflection film 17 and a transparent insulating resin film 16 straddling at least a display pixel region 6 are adhered to and formed on a substrate 2 placed on the rear face side of the liquid crystal panel LP and further a color filter 18 is adhered to and formed on a region corresponding to the display pixel region. Also the transparent insulating resin film 16 is formed by using the metal reflection film 17 as a photomask. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶パネルの裏面側にバックライトを配し、該バックライトからの光を液晶パネルに透過させ、また液晶パネルの表示面側からの外光を液晶パネル内に配した金属反射膜にて反射しえる液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。   The present invention provides a metal reflective film in which a backlight is disposed on the back side of a liquid crystal panel, light from the backlight is transmitted to the liquid crystal panel, and external light from the display surface side of the liquid crystal panel is disposed in the liquid crystal panel. The present invention relates to a liquid crystal display device that can be reflected by a light source and a method for manufacturing the same.

通常、液晶表示装置はマトリックス表示され、第1の基板上に形成した第1の透明電極群(例えば、セグメント側透明電極群)と第2の基板上に形成した第2の透明電極群(例えば、コモン側透明電極群)とが互いに直交するように配置した液晶表示パネルを用いていた。   Usually, the liquid crystal display device is displayed in a matrix, and a first transparent electrode group (for example, a segment side transparent electrode group) formed on a first substrate and a second transparent electrode group (for example, a group of transparent electrodes formed on a second substrate) , A common-side transparent electrode group) was used so as to be orthogonal to each other.

このような液晶表示パネルは、光の透過・反射の観点からすると、光の透過モード、反射モード、さらに、両モードを組み合わせた半透過モードとがある。   Such a liquid crystal display panel has a light transmission mode, a reflection mode, and a semi-transmission mode combining both modes from the viewpoint of light transmission / reflection.

また、液晶表示パネルの表示方法として、各画素領域にカラーフィルタを形成したカラー表示、カラーフィルタを用いないモノクロ表示の液晶表示装置がある。   As a display method of the liquid crystal display panel, there are a color display in which a color filter is formed in each pixel region and a monochrome display liquid crystal display device in which no color filter is used.

さらに、液晶表示の駆動方式には、単純マトックスの駆動方式と1画素、1画素に薄膜トランジスタなどのスイッチング素子を具備したアクティブ型駆動方法とがある。   Further, the liquid crystal display driving method includes a simple matrix driving method and an active driving method in which a switching element such as a thin film transistor is provided in one pixel and one pixel.

上述した光の透過・反射の観点において、反射モードである反射型液晶表示装置は、液晶表示パネルの裏面側基板の内面または外面に金属反射膜を配置していた。そして、液晶表示面側から入射された光が、液晶層を通じて金属反射膜で反射し、再度、液晶表示面側から出射される。この金属反射層は、例えば裏面側基板の内面に表面が凹凸形状の膜を形成し、この面で散乱反射させていた。また、裏面側基板の外面に偏光膜や位相差膜を介して光反射膜などを被着していた。この反射型液晶表示装置は、バックライト手段が不要とし、周囲の光を有効に利用するものであった。
これに対して、透過モードである透過型液晶表示装置は、金属反射膜を用いておらず、裏面側基板の外側にバックライト手段を配置していた。このバックライト手段は、表示領域にわたり輝度ムラが発生することのないような光を発するものであり、例えば、光源と光を表示領域に均一に導くための導光板などから構成されている。このようなバックライト手段から放たれた光が液晶表示パネルに入射され、液晶層を通過して液晶表示面側に出射されるものである。この透過型液晶表示装置は、周囲の暗い場所でも使用できるという利点を有していた。
From the viewpoint of light transmission / reflection described above, the reflective liquid crystal display device in the reflection mode has a metal reflective film disposed on the inner surface or the outer surface of the back side substrate of the liquid crystal display panel. Then, light incident from the liquid crystal display surface side is reflected by the metal reflection film through the liquid crystal layer, and is emitted from the liquid crystal display surface side again. For example, a film having an uneven surface is formed on the inner surface of the back-side substrate, and this metal reflective layer is scattered and reflected by this surface. In addition, a light reflecting film or the like is attached to the outer surface of the back side substrate via a polarizing film or a retardation film. This reflection type liquid crystal display device eliminates the need for backlight means and effectively uses ambient light.
On the other hand, the transmissive liquid crystal display device that is in the transmissive mode does not use a metal reflection film, and the backlight means is disposed outside the back substrate. The backlight means emits light that does not cause luminance unevenness over the display area, and includes, for example, a light source and a light guide plate for uniformly guiding light to the display area. The light emitted from the backlight means is incident on the liquid crystal display panel, passes through the liquid crystal layer, and is emitted toward the liquid crystal display surface. This transmissive liquid crystal display device has the advantage that it can be used even in a dark surrounding.

表示面側から入射された光を利用し、さらに、裏面側基板の裏面側にバックライト手段を用いて光を透過させる機能を併せもつ半透過型液晶表示装置があった。
この半透過型液晶表示装置は、裏面側基板の内面側に、裏面側は入射された光を透過させ、且つ液晶表示面側から入射された光を反射させる半透過膜を用いられる。(特許文献1参照 特開平8−292413号参照)。
There has been a transflective liquid crystal display device that uses light incident from the display surface side and has a function of transmitting light to the back side of the back side substrate using backlight means.
In this semi-transmissive liquid crystal display device, a semi-transmissive film that transmits incident light on the back surface side and reflects light incident from the liquid crystal display surface side is used on the inner surface side of the rear substrate. (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-292413.)

このような半透過膜を用いた液晶表示パネルは、カラーフィルタを用いたカラー表示液晶表示パネルに多用されている。尚、駆動方法は、アクティブマトリクス駆動、通常の単純マトリックス駆動に適用される。(特許文献2 特開平7−318929号参照)。   A liquid crystal display panel using such a semi-transmissive film is often used for a color display liquid crystal display panel using a color filter. The driving method is applied to active matrix driving and normal simple matrix driving. (Refer to patent document 2 Unexamined-Japanese-Patent No. 7-318929).

このような半透過膜は、屈折率の相違する透過膜を多層積層したハーフミラー作用の半透過膜が考えられるが、表示面側からの入射光の反射率(反射特性)と、裏面側からの入射光の透過率(透過特性)の双方を満足させる半透過膜を形成することは非常に難しい。   As such a semi-transmissive film, a semi-transmissive film having a half mirror action in which transmissive films having different refractive indexes are laminated may be considered. However, the reflectance (reflection characteristics) of incident light from the display surface side and the back surface side are considered. It is very difficult to form a semi-transmissive film that satisfies both the transmittance (transmission characteristics) of incident light.

これを簡便化した半透過膜としては、反射特性の優れた金属反射膜に、基板の裏面側からの入射光が透過しえる光透過用孔を点在させた半透過膜も提案されている。(特許文献3 特許第2878231号参照)。   As a semi-transparent film that simplifies this, a semi-transparent film is also proposed in which light-transmitting holes through which incident light from the back side of the substrate can be transmitted are scattered on a metal reflective film having excellent reflection characteristics. . (Refer patent document 3 patent 2878231).

図5は従来の半透過膜を用いたカラー表示可能な液晶表示装置の液晶表示パネル部分の主要断面図である。   FIG. 5 is a main cross-sectional view of a liquid crystal display panel portion of a liquid crystal display device capable of color display using a conventional semi-transmissive film.

液晶表示装置の液晶表示パネルは、液晶表示面側に位置する第1の基板(例えばセグメント側基板)1と、裏面側に位置する第2の基板(例えば、コモン側基板)2と、この第1の基板1と第2の基板2との間に挟持される液晶層3とから構成される。   The liquid crystal display panel of the liquid crystal display device includes a first substrate (for example, a segment side substrate) 1 positioned on the liquid crystal display surface side, a second substrate (for example, a common side substrate) 2 positioned on the back side, The liquid crystal layer 3 is sandwiched between a first substrate 1 and a second substrate 2.

上面に位置する基板1の液晶層3側内面には、第1の方向(図5面では、紙面奥行き方向)に延びる複数の透明電極が形成され、これらによりセグメント透明電極4を構成している。また、コモン側基板2の液晶層3側内面には、第1の方向と直交する方向に延びる複数の透明電極が形成され、これらによりコモン透明電極群5を構成する。そして、セグメント透明電極群4とコモン透明電極群5とが、互いに液晶層3を介して対向して交差する表示画素領域6を形成し、この表示画素が縦横に配列された部分を表示部という。   A plurality of transparent electrodes extending in the first direction (in the depth direction of the paper surface in FIG. 5) are formed on the inner surface of the substrate 1 on the liquid crystal layer 3 side located on the upper surface, thereby constituting the segment transparent electrode 4. . In addition, a plurality of transparent electrodes extending in a direction orthogonal to the first direction are formed on the inner surface of the common substrate 2 on the liquid crystal layer 3 side, and these constitute a common transparent electrode group 5. Then, the segment transparent electrode group 4 and the common transparent electrode group 5 form a display pixel region 6 that is opposed to and intersects with each other through the liquid crystal layer 3, and a portion where the display pixels are arranged vertically and horizontally is called a display unit. .

セグメント側基板1のセグメント透明電極群4上で表示部の領域には少なくとも配向膜7が形成されている。   At least an alignment film 7 is formed on the segment transparent electrode group 4 of the segment side substrate 1 in the display area.

コモン側基板2のコモン透明電極群5上で表示部領域には少なくとも配向膜8が形成されている。   At least an alignment film 8 is formed in the display area on the common transparent electrode group 5 of the common substrate 2.

また、セグメント側基板1の外面側には、位相差板9、偏光板10が形成され、コモン側基板2の外面側にも位相差板11、偏光板12が形成されている。   A phase difference plate 9 and a polarizing plate 10 are formed on the outer surface side of the segment side substrate 1, and a phase difference plate 11 and a polarizing plate 12 are also formed on the outer surface side of the common side substrate 2.

また、セグメント側基板1とコモン側基板2とは、特に、コモン側基板2の外周形状に近似して、枠状のシール部材(図5では省略している)が形成されている。   In addition, the segment side substrate 1 and the common side substrate 2 are formed with a frame-shaped seal member (not shown in FIG. 5) that is particularly similar to the outer peripheral shape of the common side substrate 2.

半透過型液晶表示装置では、裏面側基板であるコモン側基板2の外側にバックライト手段(図5では省略している)を配置していた。   In the transflective liquid crystal display device, backlight means (not shown in FIG. 5) is arranged outside the common side substrate 2 which is the back side substrate.

図5の半透過型液晶表示装置では、裏面側基板であるコモン側基板2の表面、すなわち、基板表面とコモン透明電極群5の間に、半透過膜50、カラーフィルタ54、平滑用透明絶縁膜20が形成されていた。   In the transflective liquid crystal display device of FIG. 5, a transflective film 50, a color filter 54, and a smooth transparent insulation are provided on the surface of the common substrate 2 that is the back substrate, that is, between the substrate surface and the common transparent electrode group 5. A film 20 was formed.

従来、半透過膜50は、絶縁膜51及び金属反射膜52から構成されている。そして、1つの表示画素領域の中央部付近が絶縁膜51、金属反射膜52が除去されるようにして、透過用貫通孔53が形成されていた。 Conventionally, the semi-transmissive film 50 includes an insulating film 51 and a metal reflective film 52. Then, the transmission through hole 53 is formed so that the insulating film 51 and the metal reflection film 52 are removed near the center of one display pixel region.

また、1つの表示画素領域の金属薄膜52及び透過用貫通孔53を被覆するようにカラーフィルタ54が形成されていた。(特許文献4 特開2001-166289号)
半透過液晶表示装置において、反射モードによる表示におけるカラーフィルタ54を通過する回数は2回となり、透過モードによる表示におけるカラーフィルタ54を通過する回数はで1回である。このため、このカラーフィルタ54を通過する回数の違いから、透過モードの光での色純度が低下していた。
Further, the color filter 54 is formed so as to cover the metal thin film 52 and the transmission through hole 53 in one display pixel region. (Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-166289)
In the transflective liquid crystal display device, the number of passes through the color filter 54 in the display in the reflection mode is two, and the number of passes through the color filter 54 in the display in the transmissive mode is one. For this reason, due to the difference in the number of times of passing through the color filter 54, the color purity of the light in the transmission mode has been reduced.

そのため、透過モードの光が通過する領域である透過用貫通孔53と反射モードの光が反射する領域である金属反射膜52とで、厚み方向に変位させ、その結果、カラーフィルタ54の厚みを、透過用貫通孔53で厚く、また金属反射膜52上では薄くしていた。この手段としては、金属反射膜52の直下に形成した絶縁膜51である。
特開平8−292413号 特開平7−318929号 特開2001-166289号 特開2001-166289号
Therefore, the transmission through-hole 53 that is a region through which light in the transmission mode passes and the metal reflective film 52 that is a region in which light in the reflection mode is reflected are displaced in the thickness direction. As a result, the thickness of the color filter 54 is reduced. The transmission through hole 53 is thick, and the metal reflection film 52 is thin. As this means, an insulating film 51 formed immediately below the metal reflection film 52 is used.
JP-A-8-292413 JP-A-7-318929 JP 2001-166289 A JP 2001-166289 A

また、特許文献3に開示されている半透過型カラー液晶表示装置では、1つの表示画素を構成する領域、例えば、カラーフィルタ54のR(赤)、G(緑)、B(青)の1つの色素の表示画素領域で、反射領域(金属反射膜52)と透過領域(透過用貫通孔53)を設けていた。   Further, in the transflective color liquid crystal display device disclosed in Patent Document 3, a region constituting one display pixel, for example, one of R (red), G (green), and B (blue) of the color filter 54 is used. In the display pixel area of one dye, a reflection area (metal reflection film 52) and a transmission area (transmission through hole 53) are provided.

しかし、従来の液晶表示装置では、半透過膜50を構成する絶縁膜51と金属反射層52とをそれぞれ別々の工程で形成していた。しかも、金属反射膜52は、断面からみれば、1つの表示画素内のみに形成されており、しかも、独立して複数形成されていた。   However, in the conventional liquid crystal display device, the insulating film 51 and the metal reflective layer 52 constituting the semi-transmissive film 50 are formed in separate steps. Moreover, when viewed from the cross section, the metal reflective film 52 is formed only in one display pixel, and a plurality of metal reflective films 52 are independently formed.

このような構造では、1つの表示画素領域内で、絶縁膜51上に金属反射層52を完全重畳させて被着形成することは困難である。   In such a structure, it is difficult to deposit the metal reflection layer 52 on the insulating film 51 so as to be completely overlapped in one display pixel region.

この半透過膜50は、基板2上に絶縁膜51を独立して形成し、その後、絶縁膜51を含めて金属反射膜52となる例えばアルミニウムなどの金属薄膜を被着形成し、その後、フォトリソグラフィ技術でもって、金属薄膜をパターニングして金属反射膜52を形成していた。このとき、金属薄膜上に形成し、金属反射膜52を形成するために用いるフォトレジストを、絶縁膜51上に精度よく形成することは困難である。   The semi-transmissive film 50 is formed by independently forming an insulating film 51 on the substrate 2, and then depositing and forming a metal thin film such as aluminum to be the metal reflective film 52 including the insulating film 51, and The metal reflective film 52 is formed by patterning the metal thin film using the lithography technique. At this time, it is difficult to accurately form the photoresist formed on the metal thin film and used for forming the metal reflective film 52 on the insulating film 51.

その結果、透過用貫通孔53である透過領域でありながら、透過用貫通孔53内に金属反射層52の一部が存在したり、絶縁膜51上である反射領域でありながら、金属反射膜52が形成されず、絶縁膜51の一部の表面が露出する部分が発生してしまう。   As a result, a part of the metal reflection layer 52 exists in the transmission through-hole 53 while being a transmission region that is the transmission through-hole 53, or a metal reflection film while being a reflection region on the insulating film 51. 52 is not formed, and a part of the surface of the insulating film 51 is exposed.

その結果、反射率のバラツキ、反射色度のバラツキ、透過率のバラツキ、透過色度のバラツキの原因となっていた。   As a result, it has become a cause of variation in reflectance, variation in reflection chromaticity, variation in transmittance, and variation in transmission chromaticity.

本発明は、上述の問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、金属反射膜と絶縁膜との形成位置が完全一致させることにより、反射率のバラツキ、反射色度のバラツキ、透過率のバラツキ、透過色度のバラツキのない液晶表示装置を提供するものである。   The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to make the reflection positions and the reflection chromaticity variations by making the formation positions of the metal reflection film and the insulating film completely coincide. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device having no variation in transmittance and no variation in transmission chromaticity.

また、このように金属反射膜と樹脂層との形成位置を完全一致させることができる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。   It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device that can completely match the formation positions of the metal reflective film and the resin layer.

本発明は、第1の方向に延びる複数の透明電極から成る第1の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る矩形状の第1の基板と、
前記第1の方向と直交する第2の方向に延びる複数の透明電極から成る第2の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る矩形状の第2の基板とを、
第1および第2の透明電極群が互いに直交して表示画素を形成するように対向させて略矩形状のシール部材で貼り合わせて、該シール部材内に液晶を充填するとともに、第2の基板の裏面側主面にはバックライト手段を配置して成る液晶表示装置であって、
前記第2の基板上で少なくとも前記表示画素領域を跨がるように、金属反射膜、透明絶縁樹脂膜を被着形成し、且つ前記隣接しあう透明絶縁樹脂膜の一部を跨がるように第2の基板の画素領域上にカラーフィルタを被着形成するとともに、前記カラーフィルタ及び透明絶縁樹脂膜上に平滑用透明絶縁膜を、該平滑用透明絶縁膜上に第2の透明電極群を順次形成したことを特徴とする液晶表示装置である。
The present invention includes a rectangular first substrate formed by sequentially laminating a first transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a first direction and an alignment film;
A rectangular second substrate formed by sequentially stacking a second transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a second direction orthogonal to the first direction and an alignment film;
The first and second transparent electrode groups are opposed to each other so as to form display pixels orthogonal to each other, and are bonded together by a substantially rectangular sealing member, and the sealing member is filled with liquid crystal and the second substrate A liquid crystal display device in which a backlight means is disposed on the back side main surface of
A metal reflective film and a transparent insulating resin film are formed on the second substrate so as to straddle at least the display pixel region, and a part of the adjacent transparent insulating resin film is straddled. A color filter is deposited on the pixel region of the second substrate, a smoothing transparent insulating film is formed on the color filter and the transparent insulating resin film, and a second transparent electrode group is formed on the smoothing transparent insulating film. Are sequentially formed.

また、前記透明絶縁樹脂膜は、光散乱性粒子が混合されている。   The transparent insulating resin film is mixed with light scattering particles.

また、第1の方向に延びる複数の透明電極から成る第1の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る矩形状の第1の基板と、
前記第1の方向と直交する第2の方向に延びる複数の透明電極から成る第2の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る第2の基板とを、
第1および第2の透明電極群が互いに直交して表示画素を形成するように対向させて略矩形状のシール部材で貼り合わせて、該シール部材内に液晶を充填するとともに第2の基板の裏面側主面にはバックライト手段を配置して成る液晶表示装置の製造方法であって、
前記第2の基板は、
前記第2の基板上で少なくとも前記表示画素領域を間に、独立した金属反射膜を被着する第1の工程、
前記金属反射膜上に、透明絶縁樹脂膜となるポジ型光硬化可能な透明樹脂膜を被着形成する第2の工程、
前記透明樹脂膜を光分解させるべく金属反射膜側から露光処理し、透明樹脂膜側から透明樹脂膜を現像処理し透明絶縁樹脂膜を形成する第3の工程、
前記複数の透明絶縁樹脂膜上に跨がるように、前記画素領域に対応するカラーフィルタを被着形成する第4の工程、
前記カラーフィルタ上に平滑用透明絶縁膜、該平滑用透明絶縁膜上に第2の透明電極群を形成する第5の工程、
を経て形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
A rectangular first substrate formed by sequentially laminating a first transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a first direction and an alignment film;
A second substrate formed by sequentially laminating a second transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a second direction orthogonal to the first direction and an alignment film;
The first and second transparent electrode groups are opposed to each other so as to form display pixels orthogonal to each other, and bonded together with a substantially rectangular seal member, and the seal member is filled with liquid crystal and the second substrate A method of manufacturing a liquid crystal display device in which backlight means is arranged on the back side main surface,
The second substrate is
A first step of depositing an independent metal reflective film on the second substrate with at least the display pixel region in between;
A second step of depositing and forming a positive-type photocurable transparent resin film to be a transparent insulating resin film on the metal reflective film;
A third step of performing an exposure process from the metal reflective film side to photodecompose the transparent resin film, and developing the transparent resin film from the transparent resin film side to form a transparent insulating resin film;
A fourth step of depositing and forming a color filter corresponding to the pixel region so as to straddle the plurality of transparent insulating resin films;
A fifth step of forming a smoothing transparent insulating film on the color filter and a second transparent electrode group on the smoothing transparent insulating film;
It is formed through this, It is a manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.

本発明では、表示画素領域間に形成された金属反射膜及び透明絶縁樹脂膜を形成している。そして、金属反射膜と透明絶縁樹脂膜とが完全に同一の形状としているため、金属反射膜及び透明絶縁樹脂膜が重畳する反射領域と、金属反射膜及び透明絶縁樹脂膜が形成されていない透過領域とが完全に区別でき透過領域でありながら、金属反射膜が延在することがない。   In the present invention, a metal reflection film and a transparent insulating resin film formed between display pixel regions are formed. Since the metal reflective film and the transparent insulating resin film have the same shape, the reflective area where the metal reflective film and the transparent insulating resin film overlap and the transmission where the metal reflective film and the transparent insulating resin film are not formed are provided. Although the region can be completely distinguished from the transmissive region, the metal reflective film does not extend.

これにより、透過領域及び反射領域にカラーフィルタを形成した時、透過領域でのカラーフィルタの膜厚と反射領域でのカラーフィルタの膜厚とを完全に制御することができるため、反射領域での反射率のバラツキがなく、透過領域に存在する金属反射層が存在することがないため、反射領域での色度のバラツキ、透過領域での色度のバラツキがなく、透過領域に金属反射層が存在しないことから透過率のバラツキがなく、透過色度のバラツキがない液晶表示装置となる。   As a result, when color filters are formed in the transmissive region and the reflective region, it is possible to completely control the thickness of the color filter in the transmissive region and the thickness of the color filter in the reflective region. Since there is no variation in reflectivity and there is no metal reflective layer present in the transmissive region, there is no chromaticity variation in the reflective region, no chromaticity variation in the transmissive region, and there is a metal reflective layer in the transmissive region. Since it does not exist, there is no variation in transmittance and a liquid crystal display device without variations in transmission chromaticity is obtained.

また、金属反射膜の上面に重畳された透明絶縁樹脂膜が、独立した金属反射膜をマスクとして露光処理、現像処理されて、パターニングされるため、金属反射膜と透明絶縁樹脂膜とが完全に同一形状となるとなる。   In addition, since the transparent insulating resin film superimposed on the upper surface of the metal reflecting film is subjected to exposure processing, development processing and patterning using the independent metal reflecting film as a mask, the metal reflecting film and the transparent insulating resin film are completely formed. It becomes the same shape.

これにより、上述のように反射領域での反射率のバラツキ、反射色度のバラツキがなく、さらに、透過領域における透過率のバラツキ、透過色度のバラツキがない液晶表示装置を簡単に製造することができる。   Accordingly, as described above, a liquid crystal display device that is free from variations in reflectance and reflection chromaticity in the reflection region and also has no variation in transmittance and transmission chromaticity in the transmission region can be easily manufactured. Can do.

本発明においては、表示画素領域となる領域の中央部に透過領域を形成し、その周辺に反射領域を設けている。すなわち、反射領域である金属反射膜及び透明絶縁樹脂膜が各表示画素領域の周囲に形成されることになる。そして、隣接する画素領域に跨がるように金属反射膜及び透明絶縁樹脂膜が形成されている。すなわち、1つの独立した金属反射膜、透明絶縁樹脂膜については、2つの画素領域に跨がって形成されることになり、その金属反射膜、透明絶縁樹脂膜の形状は、各画素領域の内部で独立して形成される場合に比較してその加工形状を大きくできるため、非常に製造方法が簡単となる。   In the present invention, a transmissive region is formed at the center of a region to be a display pixel region, and a reflective region is provided around the transmissive region. That is, a metal reflection film and a transparent insulating resin film, which are reflection areas, are formed around each display pixel area. A metal reflective film and a transparent insulating resin film are formed so as to straddle adjacent pixel regions. That is, one independent metal reflective film and transparent insulating resin film are formed across two pixel regions, and the shape of the metal reflective film and transparent insulating resin film is the shape of each pixel region. Since the processed shape can be increased as compared with the case where it is independently formed inside, the manufacturing method becomes very simple.

以下、本発明の液晶表示装置を図面に基づいて説明する。   The liquid crystal display device of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明の液晶表示装置の平面図であり、図2は、図1のA−A線断面図である。また、図3は主要部分の断面図である。尚、本発明の液晶表示装置は、半透過型のカラー表示可能な液晶表示パネルを対象とするものであり、その駆動は通常の単純マトリックス駆動方式で説明する。 FIG. 1 is a plan view of the liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the main part. Note that the liquid crystal display device of the present invention is intended for a transflective liquid crystal display panel capable of color display, and its driving will be described by a normal simple matrix driving method.

また、この液晶表示装置は、液晶表示パネルLPと、その裏面側(液晶表示面と逆の面側)に配置されたバックライト手段BLとから構成されている。 The liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel LP and backlight means BL disposed on the back surface side (the surface side opposite to the liquid crystal display surface).

本発明の液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルLPは、一方の方向に延びる複数の透明電極から成る第1の透明電極群、例えばセグメント側端子群4と配向膜7とを順次積層して成る矩形状の第1の基板、例えばセグメント側基板1と、前記一方向と直交する他方方向に延びる複数の透明電極から成る第2の透明電極群(コモン透明電極群5)と配向膜8とを順次積層して成なる第2の基板、例えば、コモン側基板2とが、2つの透明電極群4、5が互いに直交するように対向させてシール部材14によって貼り合わせされ、このシール部材14内に液晶層3を充填して構成されている。尚、液晶表示面側には、例えばセグメント側基板1が、裏面側には、例えばコモン側基板2が配置され、このコモン側基板1の外側には、バックライト手段BLが配置されている。   The liquid crystal display panel LP used in the liquid crystal display device of the present invention is formed by sequentially laminating a first transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in one direction, for example, a segment side terminal group 4 and an alignment film 7. A rectangular first substrate, for example, a segment-side substrate 1, a second transparent electrode group (common transparent electrode group 5) composed of a plurality of transparent electrodes extending in the other direction orthogonal to the one direction, and an alignment film 8 A second substrate formed by sequentially stacking, for example, the common substrate 2 is bonded by a seal member 14 so that the two transparent electrode groups 4 and 5 are opposed to each other so as to be orthogonal to each other. The liquid crystal layer 3 is filled in. For example, the segment side substrate 1 is disposed on the liquid crystal display surface side, and the common side substrate 2 is disposed on the back side, for example, and the backlight means BL is disposed outside the common side substrate 1.

そして、この液晶層3を挟んでセグメント透明電極群4と、コモン透明電極群5との交差領域が表示画素領域6となる。尚、このカラーフィルタを用いた場合には、3つの表示画素領域6(R(赤)、G(緑)、B(青)の各色素のフィルタ領域)の集合体が視角上の画素6’となる。
そして、液晶表示パネルLPのコモン側基板2の内面側で、基板表面と透明電極群5のとの間には、反射領域と透過領域とを規定する半透過膜、この半透過膜上に被着されたカラーフィルタ、カラーフィルタ上に被着された平滑膜が配置されている。
Then, an intersection region between the segment transparent electrode group 4 and the common transparent electrode group 5 is a display pixel region 6 with the liquid crystal layer 3 interposed therebetween. When this color filter is used, an aggregate of three display pixel regions 6 (filter regions for the respective dyes of R (red), G (green), and B (blue)) is a pixel 6 ′ on the viewing angle. It becomes.
Then, on the inner surface side of the common substrate 2 of the liquid crystal display panel LP, between the substrate surface and the transparent electrode group 5, a semi-transmissive film that defines a reflective region and a transmissive region is formed on the semi-transmissive film. The applied color filter and a smooth film deposited on the color filter are arranged.

セグメント側基板
セグメント側基板1は、例えば液晶表示面側に位置する基板であり、アクリル系樹脂、ポリカーボネイト系樹脂、エポキシ系の樹脂、ガラスなどからなり、その形状は矩形状となっている。そしてこのセグメント側基板1は、平面的にはシール部材7に囲まれた領域には、上述の表示領域と、第1及び第2の配線パターン20、21が引き回される回路配線領域とを有し、さらに、セグメント側端子群23、コモン側端子群24が形成される回路配線領域を有している。
The segment side substrate 1 is a substrate located on the liquid crystal display surface side, for example, and is made of acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, glass, etc., and has a rectangular shape. The segment-side substrate 1 includes the above-described display region and a circuit wiring region in which the first and second wiring patterns 20 and 21 are routed in a region surrounded by the seal member 7 in plan view. And a circuit wiring region in which the segment side terminal group 23 and the common side terminal group 24 are formed.

基板1の液晶層3の内面側の表示領域には、図1の縦方向、図2では左右方向に延びる透明電極が形成され、セグメント透明電極群4を構成している。   In the display region on the inner surface side of the liquid crystal layer 3 of the substrate 1, transparent electrodes extending in the vertical direction in FIG. 1 and in the left-right direction in FIG. 2 are formed to constitute a segment transparent electrode group 4.

透明電極は、例えば酸化インジウム・錫(ITO)などの透明電極材料を薄膜技法により被着形成し、その後フォトリソグラフィにより所定パターンに形成する。   For the transparent electrode, for example, a transparent electrode material such as indium oxide / tin (ITO) is deposited by a thin film technique, and then formed into a predetermined pattern by photolithography.

また、セグメント側基板1の上面には、セグメント透明電極群4に接続する第1の配線パターン20が形成されている。この第1の配線パターン20は、一端が、セグメント透明電極群4を構成する各透明電極の一端に接続または一体化している。また、その他端がセグメント側基板1の一方端部、図1の下端部に延出し、セグメント側端子群23を構成する。   A first wiring pattern 20 connected to the segment transparent electrode group 4 is formed on the upper surface of the segment side substrate 1. One end of the first wiring pattern 20 is connected to or integrated with one end of each transparent electrode constituting the segment transparent electrode group 4. Further, the other end extends to one end portion of the segment side substrate 1 and the lower end portion of FIG.

また、このセグメント側基板1には、第2の配線パターン21は、表示領域とシール部材14との間の領域で、コモン側基板1のコモン透明電極群5に接続し、セグメント側基板1の一方端部、図1の下端部に延出し、コモン側端子群24を構成する。   Further, on the segment side substrate 1, the second wiring pattern 21 is connected to the common transparent electrode group 5 of the common side substrate 1 in the region between the display region and the seal member 14. One end extends to the lower end of FIG.

また、セグメント側基板1のセグメント透明電極群4の上部には、配向膜7が形成されている。   An alignment film 7 is formed on the segment transparent electrode group 4 of the segment side substrate 1.

配向膜7は、樹脂材料や無機物材料から成り、液晶層3の液晶分子のねじれ角を規定するように配向処理が施されている。配向膜7が樹脂材料である場合には、所定配向方向にラビング処理される。また、配向膜7が無機物材料の場合には、その薄膜形成過程で斜め蒸着などによって物理的な配向処理が施される。   The alignment film 7 is made of a resin material or an inorganic material and is subjected to an alignment process so as to define the twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 3. When the alignment film 7 is a resin material, it is rubbed in a predetermined alignment direction. When the alignment film 7 is an inorganic material, physical alignment processing is performed by oblique deposition or the like during the thin film formation process.

第1の配線パターン20、21は、セグメント透明電極群4を構成する透明電極と同一の材料であるITOで形成したり、このITO膜上にアルミニウムやアルミニウム合金、銀、金などの金属材料を積層した多層構造としたり、また、アルミニウムやアルミニウム合金、銀、金などの金属材料で形成した金属層で形成してもよい。   The first wiring patterns 20 and 21 are formed of ITO, which is the same material as the transparent electrodes constituting the segment transparent electrode group 4, or a metal material such as aluminum, aluminum alloy, silver, or gold is formed on the ITO film. A laminated multilayer structure may be used, or a metal layer formed of a metal material such as aluminum, an aluminum alloy, silver, or gold may be used.

また、セグメント側基板1の外面側の表示領域上には、位相差板9、偏光板10が被着形成されている。   A retardation plate 9 and a polarizing plate 10 are deposited on the display area on the outer surface side of the segment side substrate 1.

コモン側基板
コモン側基板2は、アクリル系樹脂、ポリカーボネイト系樹脂、エポキシ系の樹脂、ガラスなどからなり、その形状は矩形状となっている。このコモン側基板2の寸法において、横方向寸法は、実質的にセグメント側基板1と同一の幅となっており、縦方向寸法は実質的にセグメント側基板1よりも短い寸法となっている。
Common side substrate The common side substrate 2 is made of acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, glass or the like, and has a rectangular shape. In the dimensions of the common side substrate 2, the horizontal dimension is substantially the same width as the segment side substrate 1, and the vertical dimension is substantially shorter than the segment side substrate 1.

このコモン側基板2の表示領域内には、反射モード及び透過モードでも機能する半透過膜15が形成されている。また、この半透過膜15上に、カラーフィルタ18が形成されている。さらに、このカラーフィルタ18上には、平滑用透明絶縁膜20が形成され、この平滑用透明絶縁膜20上に複数の透明電極が形成されている。この透明電極は、例えば、セグメント透明電極群4に直交する方向に延びており、コモン透明電極群5を構成している。このコモン透明電極群5上に液晶層3と接触する配向膜8が形成されている。   In the display area of the common substrate 2, a semi-transmissive film 15 that functions also in the reflection mode and the transmission mode is formed. A color filter 18 is formed on the semipermeable membrane 15. Further, a smoothing transparent insulating film 20 is formed on the color filter 18, and a plurality of transparent electrodes are formed on the smoothing transparent insulating film 20. This transparent electrode extends, for example, in a direction orthogonal to the segment transparent electrode group 4 and constitutes the common transparent electrode group 5. An alignment film 8 is formed on the common transparent electrode group 5 to be in contact with the liquid crystal layer 3.

表示領域以外の領域には、コモン透明電極群5の一端が延出され、シール部14にまで到達している。このコモン透明電極群5の一端は、シール部14を介して、第2の配線パターン21の一端に接続する。具体的には、シール部14内に導電性粒子13を混入させておき、この導電性粒子13を介してコモン透明電極群5と第2の配線パターン21とを接続している。   One end of the common transparent electrode group 5 extends to the area other than the display area and reaches the seal portion 14. One end of the common transparent electrode group 5 is connected to one end of the second wiring pattern 21 through the seal portion 14. Specifically, the conductive particles 13 are mixed in the seal portion 14, and the common transparent electrode group 5 and the second wiring pattern 21 are connected via the conductive particles 13.

尚、コモン透明電極群5を構成する透明電極は、例えばITOなどの透明電極材料を薄膜技法により被着形成し、その後、フォトリソグラフィにより所定パターンに形成される。尚、表示部領域以外の領域においては、透明材料を用いる必要はなく、セグメント側基板1の配線パターン20のように、ITO膜上にアルミニウムやアルミニウム合金、銀、金などの金属材料を積層した多層構造としたり、また、アルミニウムやアルミニウム合金、銀、金などの金属材料で形成した金属層で形成してもよい。   The transparent electrodes constituting the common transparent electrode group 5 are formed by depositing a transparent electrode material such as ITO by a thin film technique and then forming a predetermined pattern by photolithography. It is not necessary to use a transparent material in an area other than the display area, and a metal material such as aluminum, aluminum alloy, silver, or gold is laminated on the ITO film like the wiring pattern 20 of the segment side substrate 1. A multilayer structure may be used, or a metal layer formed of a metal material such as aluminum, an aluminum alloy, silver, or gold may be used.

また、コモン側基板2の外面側の表示領域上には、位相差板11、偏光板12が被着形成されている。   A retardation plate 11 and a polarizing plate 12 are formed on the display area on the outer surface side of the common substrate 2.

この表示領域部のセグメント透明電極群4とコモン透明電極群5とが交差して構成する表示画素領域6において、反射領域と透過領域とを区別する半透過膜15が形成されている。半透過膜15は、金属反射膜17と、この金属反射膜17上に形成された透明絶縁樹脂膜16とから構成され、さらに、この半透過膜15中には通過用貫通孔19が形成されている。   In the display pixel region 6 formed by intersecting the segment transparent electrode group 4 and the common transparent electrode group 5 in the display region portion, a semi-transmissive film 15 for distinguishing between the reflective region and the transmissive region is formed. The semi-transmissive film 15 includes a metal reflective film 17 and a transparent insulating resin film 16 formed on the metal reflective film 17, and a through-hole 19 for passage is formed in the semi-transmissive film 15. ing.

本発明においては、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16とが、その形状が完全に一致して形成されている。そして、透過用貫通孔19は、各表示画素領域6の中央部に形成されている。すなわち、図3に示す断面図の各表示画素領域6は、その周囲部分には、半透過膜15が形成されている。この半透過膜15は、1つの表示画素領域6から隣接する表示画素領域6との間隔、さらに、隣接する表示画素領域6に跨がって形成されている。すなわち、金属反射膜17及び金属反射膜17の上面に形成された透明絶縁樹脂膜16は、隣接しあう表示画素領域6に跨がって形成されている。このように、隣接する2つ表示画素領域に跨がって形成することにより、従来のように、表示画素領域内に独立して形成された絶縁膜51、金属反射膜52に比較して加工対象の形状が大きくなるため、その加工精度が向上することになる。   In the present invention, the metal reflection film 17 and the transparent insulating resin film 16 are formed so that their shapes are completely coincident with each other. The transmissive through hole 19 is formed at the center of each display pixel region 6. That is, each display pixel region 6 in the cross-sectional view shown in FIG. 3 has a semi-transmissive film 15 formed in the peripheral portion thereof. The semi-transmissive film 15 is formed across the interval between one display pixel region 6 and the adjacent display pixel region 6, and further across the adjacent display pixel region 6. That is, the metal reflection film 17 and the transparent insulating resin film 16 formed on the upper surface of the metal reflection film 17 are formed across the display pixel regions 6 adjacent to each other. In this manner, by forming over two adjacent display pixel areas, processing is performed as compared with the insulating film 51 and the metal reflection film 52 independently formed in the display pixel area as in the past. Since the shape of the object becomes large, the processing accuracy is improved.

このような構成の半透過膜15では、金属反射膜17上に、この金属反射膜17と同一の平面形状の透明絶縁樹脂膜16が形成されている領域が、反射領域となり、また、金属反射層17及び透明絶縁樹脂膜16が形成されていない透過用貫通孔19が透過領域となる。   In the semi-transmissive film 15 having such a configuration, a region where the transparent insulating resin film 16 having the same planar shape as the metal reflective film 17 is formed on the metal reflective film 17 is a reflective region, and the metal reflective film The transmission through hole 19 in which the layer 17 and the transparent insulating resin film 16 are not formed becomes a transmission region.

また、この半透過膜15で、各表示画素領域6に対応して、カラーフィルタ18が形成されている。このカラーフィルタ18は、各画素領域毎に、R(赤)のフィルタ、G(緑)のフィルタ、B(青)フィルタがそれぞれ独立して形成されている。尚、図3において、3種類のフィルタが独立して形成されているが、その境界部分、すなわち、各表示画素6の境界部分に、ブラックの遮光フィルタを介在させても構わない。   In addition, a color filter 18 is formed in the semi-transmissive film 15 corresponding to each display pixel region 6. In the color filter 18, an R (red) filter, a G (green) filter, and a B (blue) filter are formed independently for each pixel region. In FIG. 3, three types of filters are independently formed. However, a black light shielding filter may be interposed at the boundary portion, that is, the boundary portion of each display pixel 6.

その他の構造
また、各表示画素領域6にスイッチング手段であるスイッチングトランジスタを設けても構わない。
In addition , a switching transistor as a switching unit may be provided in each display pixel region 6.

シール部材
シール部材14は、シール樹脂を主成分として、さらに、導電粒子13が含有している。
The seal member seal member 14 contains a seal resin as a main component and further contains conductive particles 13.

この導電粒子13を含むシール部材14は、異方性の導電特性を示すものである。このようなシール部材7は、2つの機能を有している。 The sealing member 14 including the conductive particles 13 exhibits anisotropic conductive characteristics. Such a seal member 7 has two functions.

1つは、セグメント側基板1とコモン側基板2とを貼り合わせて、その内部に液晶層3を封止するためのである。そして、シール部材14は、実質的に小さい基板であるコモン側基板2の形状に応じて、コモン側基板2の外周領域に枠状に形成される。このように、コモン側基板2の外周領域にそって形成することにより、特に、横方向において、シール部材14の外側に配線パターンを形成する必要がないため、液晶表示装置の小型化に寄与できる。   One is for bonding the segment side substrate 1 and the common side substrate 2 to seal the liquid crystal layer 3 therein. The seal member 14 is formed in a frame shape in the outer peripheral region of the common side substrate 2 in accordance with the shape of the common side substrate 2 which is a substantially small substrate. Thus, by forming along the outer peripheral region of the common side substrate 2, it is not necessary to form a wiring pattern outside the seal member 14 in the lateral direction, which can contribute to downsizing of the liquid crystal display device. .

2つめの機能は、コモン側基板2のコモン透明電極群5の一端を、セグメント側基板1の第2の配線パターン21の一端に、導通させるものである。その機能は、コモン透明電極群5がシール部材7の形成領域にまで延在するシール部材7の一部で、セグメント側基板1側に形成し、一端がこの部分に位置する第2の配線パターン21との間に接続を行うものである。即ち、コモン側基板に形成したコモン透明電極群5の一端と、セグメント側基板1に形成した第2の配線パターン21の一端とを完全に一対一に対応させること、また、隣接パターン間が存在する平面方向で短絡することなく、同時に厚み方向で導通が可能に導電性粒子13の粒径、含有量を特定することが重要である。   The second function is to connect one end of the common transparent electrode group 5 of the common side substrate 2 to one end of the second wiring pattern 21 of the segment side substrate 1. The function is that the common transparent electrode group 5 is a part of the seal member 7 extending to the formation region of the seal member 7 and is formed on the segment side substrate 1 side, and the second wiring pattern in which one end is located in this portion. 21 is connected. That is, one end of the common transparent electrode group 5 formed on the common side substrate and one end of the second wiring pattern 21 formed on the segment side substrate 1 are made to correspond completely one-to-one, and there is an interval between adjacent patterns. It is important to specify the particle size and content of the conductive particles 13 so that conduction in the thickness direction is possible at the same time without short-circuiting in the planar direction.

液晶層
液晶層3は、ツイストネマティク液晶、コレステリック液晶などの液晶材料で構成され、セグメント側基板1、コモン側基板2及びシール部材7に囲まれた領域に液晶材料を注入されて形成される。この液晶層3内には、液晶層3の厚みを制御するためのスペーサ材(図示せず)が混入されている。このスペーサ材は、一方の基板上に、シール部材14を塗布する前後に、少なくとも表示部領域に均一に噴霧することによって、結果として、液晶層3中に均一に分散することができる。
The liquid crystal layer 3 is made of a liquid crystal material such as a twisted nematic liquid crystal or a cholesteric liquid crystal, and is formed by injecting a liquid crystal material into a region surrounded by the segment side substrate 1, the common side substrate 2 and the seal member 7. . A spacer material (not shown) for controlling the thickness of the liquid crystal layer 3 is mixed in the liquid crystal layer 3. This spacer material can be uniformly dispersed in the liquid crystal layer 3 as a result by spraying uniformly on at least the display area before and after applying the seal member 14 on one substrate.

また、液晶層3の液晶分子は、液晶材料、その厚み、上述の配向膜7、8の配向処理によって規定されたチルト角、ねじれ角を有している。液晶層3に表示するための電界を与えていない時のねじれ角は、例えば270°であり、所定電界が印加されると、液晶分子は、このねじれが解消され、例えば基板の厚み方向に整列する。   The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 3 have a liquid crystal material, its thickness, and a tilt angle and a twist angle defined by the alignment treatment of the alignment films 7 and 8 described above. The twist angle when an electric field for displaying on the liquid crystal layer 3 is not applied is, for example, 270 °. When a predetermined electric field is applied, the twist is eliminated, and the liquid crystal molecules are aligned in the thickness direction of the substrate, for example. To do.

この液晶層3を通過する光は、偏光板、位相差板9、10、11、12によって、液晶層3を通過する光を遮断したり、また通過させたりし、その画素での表示ON−OFF制御して、表示領域全体で所定表示を作成する。 The light passing through the liquid crystal layer 3 is blocked or allowed to pass through the polarizing plate and the retardation plates 9, 10, 11, and 12, and the display ON− A predetermined display is created in the entire display area by performing OFF control.

バックライト手段
バックライト手段BLは、液晶表示パネルLPの外部に配置される。このバックライトBLは導光板25と光源26とからなる。
Backlight means The backlight means BL is disposed outside the liquid crystal display panel LP. The backlight BL includes a light guide plate 25 and a light source 26.

反射領域と透過領域
コモン側基板2の表示領域には、反射領域、透過領域を規定する半透過膜15が形成されている。例えば、反射領域は、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16とからなり、液晶表示画面側から入射された光が、液晶層3、カラーフィルタ18、透明絶縁樹脂膜16を通過して金属反射膜17で反射し、さらに透明絶縁樹脂膜16、カラーフィルタ18、液晶層3を介して液晶表示画面側から出射するものである。
Reflective region and transmissive region A semi-transmissive film 15 that defines the reflective region and the transmissive region is formed in the display region of the common substrate 2. For example, the reflection region includes a metal reflection film 17 and a transparent insulating resin film 16, and light incident from the liquid crystal display screen side passes through the liquid crystal layer 3, the color filter 18, and the transparent insulating resin film 16 to reflect the metal. The light is reflected by the film 17 and further emitted from the liquid crystal display screen side through the transparent insulating resin film 16, the color filter 18, and the liquid crystal layer 3.

また、透過領域は、半透過膜15の透過用貫通孔19である。この透過用貫通孔19は、液晶表示パネルLPの裏面側に配置したバックライト手段BLから放たれ光を導くものであり、反射領域部分に形成したカラーフィルタ18より厚みのカラーフィルタ18領域を通過して、液晶層3を介して液晶表示画面側から出射される。 Further, the transmission region is a transmission through hole 19 of the semi-permeable membrane 15. The transmission through-hole 19 guides light emitted from the backlight means BL arranged on the back side of the liquid crystal display panel LP, and passes through the color filter 18 region having a thickness larger than that of the color filter 18 formed in the reflection region portion. Then, the light is emitted from the liquid crystal display screen side through the liquid crystal layer 3.

この反射領域、透過領域上に形成されたカラーフィルタ18の表面は実質的に平坦化されている。すなわち、カラーフィルタ18の厚みからすれば、カラーフィルタ18の厚みが、反射領域の厚み分だけ、透過領域に比較して薄くあっている。尚、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16との厚みは、その上部に被着されるカラーフィルタ18の厚みと同等となっており、透過領域のカラーフィルタ18の厚みは、反射領域のカラーフィルタ18の厚みの2倍程度となっている。   The surface of the color filter 18 formed on the reflection region and the transmission region is substantially flattened. That is, in terms of the thickness of the color filter 18, the thickness of the color filter 18 is thinner than the transmission region by the thickness of the reflection region. Note that the thickness of the metal reflective film 17 and the transparent insulating resin film 16 is equal to the thickness of the color filter 18 deposited on the metal reflective film 17 and the thickness of the color filter 18 in the transmissive area. It is about twice the thickness of the filter 18.

また、表示画素領域、すなわち、カラーフィルタ18のR(赤)、G(緑)B(青)のそれぞれの領域においては、表示画素領域6の中央部分は、透過領域となっており、表示画素領域の周辺分が反射領域となっている。そして、1つの表示画素領域6の反射領域は、隣接する表示画素領域6の反射領域と共通に連なっている。すなわち、表示画素領域間には、反射領域が形成されていることになる。   In the display pixel region, that is, in each of the R (red), G (green), and B (blue) regions of the color filter 18, the central portion of the display pixel region 6 is a transmissive region, and the display pixel The area around the area is a reflection area. The reflection area of one display pixel area 6 is connected to the reflection area of the adjacent display pixel area 6 in common. That is, a reflective region is formed between the display pixel regions.

反射領域の構造
この反射領域は、コモン側基板2上に、金属反射膜17、この金属反射膜17と同一形状の透明絶縁樹脂膜16が被着形成されている。すなわち、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16とが完全には一致した形状となっている。
Structure of Reflection Area In this reflection area, a metal reflection film 17 and a transparent insulating resin film 16 having the same shape as the metal reflection film 17 are deposited on the common side substrate 2. That is, the metal reflection film 17 and the transparent insulating resin film 16 are in a completely matched shape.

これにより、反射領域において、金属反射膜17の形状に応じて、その上部に所定厚みの透明絶縁樹脂膜16が形成される。同時に、透過領域である透過用貫通孔19内に、金属反射膜17の一部が延出することが一切ない。 As a result, the transparent insulating resin film 16 having a predetermined thickness is formed on the reflective region in accordance with the shape of the metal reflective film 17. At the same time, a part of the metal reflection film 17 does not extend into the transmission through hole 19 which is a transmission region.

これにより、反射領域においては、反射特性が完全に均一化し、また透過領域においては、その透過率が所定値から変動することが一切ない。また、金属反射膜17で反射される光は、金属反射膜17に到達する前と、反射した後の2回のカラーフィルタ18を通過する。これに対して、透過領域においては1回したカラーフィルタ18を通過しない。しかし、カラーフィルタ18の厚みが、透過領域で約2倍の厚みとなっているため、結果として反射領域及び透過領域での色度のバラツキがそれぞれなく、しかも、それぞれの領域での色度のばらつきも解消されることになる。   As a result, the reflection characteristics are completely uniform in the reflection region, and the transmittance does not vary from the predetermined value in the transmission region. Further, the light reflected by the metal reflection film 17 passes through the color filter 18 before reaching the metal reflection film 17 and after being reflected twice. On the other hand, it does not pass through the color filter 18 once in the transmission region. However, since the thickness of the color filter 18 is about twice as thick in the transmissive region, there is no chromaticity variation in the reflective region and the transmissive region as a result. Variations are also eliminated.

よって、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16との形成位置を完全一致させることにより、反射率のバラツキ、反射色度のバラツキ、透過率のバラツキ、透過色度のバラツキのない液晶表示装置となる。   Therefore, by completely matching the formation positions of the metal reflection film 17 and the transparent insulating resin film 16, a liquid crystal display device having no reflectance variation, reflection chromaticity variation, transmittance variation, and transmission chromaticity variation is provided. Become.

コモン側基板の製造方法
また、このように金属反射膜と絶縁膜との形成位置を完全一致させることができる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。その製造方法を図4に基づいて詳説する。尚、図4では、その主要工程のみを示す。
It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a common side substrate, and a method for manufacturing a liquid crystal display device capable of completely matching the formation positions of the metal reflection film and the insulating film. The manufacturing method will be described in detail with reference to FIG. FIG. 4 shows only the main process.

まず、コモン側基板1となる基板40を用意する。このガラス基板は、多数個取りできる大型基板である。   First, a substrate 40 to be the common side substrate 1 is prepared. This glass substrate is a large substrate that can be obtained in large numbers.

次に、図4(a)に示すように、基板40の表示領域に金属反射膜17を形成する。具体的には、基板40上に金属反射膜17となる金属薄膜は、例えば、アルミニウムやAlNdなどのアルミニウム合金、または銀やAgPd,AgPdCu,AgCuAuなどの銀合金などが例示できる。この金属薄膜の厚みは、例えば0.05〜0.5μmである。そして、この金属薄膜をフォトリソグラフィ技術により、所定形状にエッチング処理して、独立した金属反射膜17を形成する。この金属反射膜17は隣接する表示画素領域6に跨がる位置に形成する。   Next, as shown in FIG. 4A, the metal reflection film 17 is formed in the display area of the substrate 40. Specifically, examples of the metal thin film that becomes the metal reflection film 17 on the substrate 40 include an aluminum alloy such as aluminum and AlNd, or a silver alloy such as silver, AgPd, AgPdCu, and AgCuAu. The thickness of the metal thin film is, for example, 0.05 to 0.5 μm. Then, the metal thin film is etched into a predetermined shape by a photolithography technique to form an independent metal reflection film 17. The metal reflection film 17 is formed at a position straddling the adjacent display pixel region 6.

次に、図4(b)に示すように、独立した金属反射膜17上に、透明絶縁樹脂膜16となる透明樹脂膜41を形成する。この透明樹脂膜41は、SiO、TiOの無機物フィラーなどの光散乱性部材を含有するアクリル系の有機樹脂材料であり、かつポジ型硬化材料を具備するものである。透明樹脂膜41は、約0.5〜3.0μmの厚みを有する。 Next, as shown in FIG. 4B, a transparent resin film 41 to be the transparent insulating resin film 16 is formed on the independent metal reflection film 17. The transparent resin film 41 is an acrylic organic resin material containing a light scattering member such as an inorganic filler of SiO 2 or TiO 2 and includes a positive-type curable material. The transparent resin film 41 has a thickness of about 0.5 to 3.0 μm.

次に、図4(c)に示すように、基板40の裏面側から露光処理(250mj(i線))を行う。この露光処理により、金属反射膜17が露光処理の際のマスクとなり、透明樹脂膜41の一部、すなわち、隣接しあう金属反射膜17の間隔部分に存在する透明樹脂膜41が露光され、可溶化部42を形成される。   Next, as shown in FIG. 4C, an exposure process (250 mj (i line)) is performed from the back side of the substrate 40. By this exposure process, the metal reflective film 17 becomes a mask for the exposure process, and a part of the transparent resin film 41, that is, the transparent resin film 41 present in the space between the adjacent metal reflective films 17 is exposed. A solubilized portion 42 is formed.

次に、図4(d)に示すように、透明樹脂膜41側から透明樹脂膜41の可溶化部42を現像処理する。これにより、基板40上には、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16とからなる反射領域と、隣接しあう金属反射膜17との間隔部分に透過領域が形成される。 Next, as shown in FIG. 4D, the solubilized portion 42 of the transparent resin film 41 is developed from the transparent resin film 41 side. As a result, a transmission region is formed on the substrate 40 at a gap between the reflective region composed of the metal reflective film 17 and the transparent insulating resin film 16 and the adjacent metal reflective film 17.

このように、金属反射膜17をフォトマスクとして透明樹脂膜41を現像処理するため、金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16とを完全に同一形状に形成でき、しかも、透過用貫通孔19内に金属反射膜17の一部が一切に残存することがない。   As described above, since the transparent resin film 41 is developed using the metal reflection film 17 as a photomask, the metal reflection film 17 and the transparent insulating resin film 16 can be formed in the same shape, and the inside of the transmission through-hole 19 can be formed. In addition, no part of the metal reflection film 17 remains.

図4(a)から図4(d)の工程における他の製造方法として、ガラス基板上に金属薄膜を全面に成膜し、ネガ型感光性透明樹脂を塗布し、露光現像処理によりネガ型感光性樹脂をパターニングすることで透明絶縁樹脂膜16とし、樹脂のパターニングにより露出した金属膜をリン酸、硝酸、酢酸の混合したエッチング液を用いてエッチングし金属反射膜17とする方法がある。 As another manufacturing method in the steps of FIGS. 4 (a) to 4 (d), a metal thin film is formed on the entire surface of a glass substrate, a negative photosensitive transparent resin is applied, and a negative photosensitive is obtained by exposure and development. There is a method in which a transparent insulating resin film 16 is formed by patterning a conductive resin, and a metal film exposed by patterning the resin is etched using an etching solution in which phosphoric acid, nitric acid, and acetic acid are mixed to form a metal reflective film 17.

次に、図4(e)に示すように、表示画素領域6に対応するカラーフィルタ18を形成する。カラーフィルタ18は顔料分散方式、すなわち、あらかじめ顔料(赤、緑、青)により調合された感光性レジストを、隣接しあう透明絶縁樹脂膜16に跨がるように塗布して、表示画素領域6に対応するようにフォトリソグラフィ技術により形成する。これにより、例えば3色のうち1色のフィルタが形成できる。これを合計3回繰り返して、RGBからなるカラーフィルタ18が形成される。尚、必要に応じて、各表示画素領域6の間隔部分にブラックの遮光フィルタを形成しても構わない。   Next, as shown in FIG. 4E, a color filter 18 corresponding to the display pixel region 6 is formed. The color filter 18 is a pigment dispersion method, that is, a photosensitive resist previously prepared by pigments (red, green, and blue) is applied so as to straddle the adjacent transparent insulating resin films 16 to display pixel regions 6. It is formed by a photolithography technique so as to correspond to the above. Thereby, for example, one color filter out of three colors can be formed. By repeating this a total of three times, a color filter 18 made of RGB is formed. If necessary, a black shading filter may be formed in the space between the display pixel regions 6.

次に、図4(f)に示すように、カラーフィルタ18上にアクリル系樹脂からなる平滑用透明絶縁膜20を形成する。   Next, as shown in FIG. 4F, a smoothing transparent insulating film 20 made of an acrylic resin is formed on the color filter 18.

その後、図4(g)に示すように、平滑用透明絶縁膜20上に、ITOからなるコモン透明電極群5を形成する。 Thereafter, as shown in FIG. 4G, the common transparent electrode group 5 made of ITO is formed on the smoothing transparent insulating film 20.

尚、このコモン透明電極群5の上には、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂から成る配向膜が順次積層されている。なお、透明電極群と配向膜との間に樹脂やSiO2等から成る絶縁膜を介在させてもよい。 On the common transparent electrode group 5, an alignment film made of polyimide resin rubbed in a certain direction is sequentially laminated. An insulating film made of resin, SiO 2 or the like may be interposed between the transparent electrode group and the alignment film.

また、他方の基板、セグメント側基板1については、基板1の内面には多数平行にストライプ状配列したITOから成るセグメント透明電極群4及び一定方向にラビングしたポリイミド樹脂から成る配向膜7が順次積層されている。   Further, with respect to the other substrate, the segment side substrate 1, a plurality of segment transparent electrode groups 4 made of ITO arranged in stripes in parallel and an alignment film 7 made of polyimide resin rubbed in a certain direction are sequentially laminated on the inner surface of the substrate 1. Has been.

そして、このような構成のセグメント側基板1およびコモン側基板2のいずれかにシール部14を形成し、同時にスペーサを散布して、たとえば200°〜260°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶材料を介してシール部材14により貼り合わせる。   Then, the seal portion 14 is formed on either of the segment side substrate 1 and the common side substrate 2 having such a configuration, and at the same time, spacers are dispersed, for example, from chiral nematic liquid crystal twisted at an angle of 200 ° to 260 °. It sticks together by the sealing member 14 through the liquid crystal material which becomes.

さらにセグメント側基板1の外側にポリカーボネイト等から成る位相差板9とヨウ素系の偏光板10とを順次形成する。また、コモン側基板2の外側にポリカーボネイト等から成る位相差板11とヨウ素系の偏光板12とを順次形成する。これらの配設については、アクリル系の材料から成る粘着材を塗布することで行う。   Further, a phase difference plate 9 made of polycarbonate or the like and an iodine polarizing plate 10 are sequentially formed outside the segment side substrate 1. Further, a phase difference plate 11 made of polycarbonate or the like and an iodine polarizing plate 12 are sequentially formed outside the common side substrate 2. About these arrangement | positioning, it carries out by apply | coating the adhesive material which consists of an acryl-type material.

そして、コモン側基板2の裏面側(液晶表示面と反対の面)側に、光源26と導光板15から成るバックライト手段BLを配設する。   Then, on the back side (the surface opposite to the liquid crystal display surface) side of the common side substrate 2, the backlight unit BL including the light source 26 and the light guide plate 15 is disposed.

上述の製造方法では、反射領域と透過領域とを区別し、かつカラーフィルタ18の膜厚を制御する金属反射膜17及び金属透明絶縁樹脂膜16を形成するにあたり、それを構成する金属反射膜17をフォトマスクとして、透明絶縁樹脂膜16を現像処理して形成しているため、工程を短縮できるだけでなく、金属反射膜17とそのままの形状で金属反射膜17上に透明絶縁樹脂膜16を簡単に形成することができる。また同時に、透過用貫通孔19を確実に形成できる。   In the manufacturing method described above, when forming the metal reflective film 17 and the metal transparent insulating resin film 16 that distinguish between the reflective area and the transmissive area and control the film thickness of the color filter 18, the metal reflective film 17 constituting the metal reflective film 17 is formed. Since the transparent insulating resin film 16 is formed by developing with the photomask as a photomask, not only can the process be shortened, but the transparent insulating resin film 16 can be simply formed on the metal reflecting film 17 in the same shape as the metal reflecting film 17. Can be formed. At the same time, the transmission through hole 19 can be reliably formed.

また、反射領域を規定する金属反射膜17と透明絶縁樹脂膜16とが、隣接する表示画素領域6に跨がって形成されるため、表示画素領域6の周囲部に位置させた反射領域が結果として、その形状が大きくなり加工が容易になり、エッチングおよび現像処理時のパターニングの精度が向上する。   In addition, since the metal reflection film 17 and the transparent insulating resin film 16 that define the reflection area are formed across the adjacent display pixel area 6, the reflection area positioned around the display pixel area 6 is As a result, the shape becomes large and processing becomes easy, and the accuracy of patterning during etching and development is improved.

本発明のように反射領域を規定する金属反射膜がフォトマスクとして透明絶縁樹脂膜16を形成したコモン側基板2を用いた液晶表示装置と、従来のような絶縁膜51と金属反射膜52とを別々の工程で形成したコモン側基板を用いた液晶表示装置とについて、透過領域での透過率、透過色(R、G、B)、透過色純度(△S)、反射領域での反射率、反射色(R、G、B)、反射色純度(△S)のバラツキを調べた。   As in the present invention, a liquid crystal display device using a common substrate 2 in which a transparent insulating resin film 16 is formed as a photomask using a metal reflective film defining a reflective region, a conventional insulating film 51 and a metal reflective film 52, And a liquid crystal display device using a common substrate formed in separate steps, transmittance in the transmissive region, transmissive color (R, G, B), transmissive color purity (ΔS), reflectance in the reflective region The variation in reflection color (R, G, B) and reflection color purity (ΔS) was examined.

尚、断面図で現れる反射領域の幅、及び透過領域(金属反射膜間のスリットの幅をそれぞれ15μmに設定した。   In addition, the width of the reflection region appearing in the cross-sectional view and the transmission region (the width of the slit between the metal reflection films were set to 15 μm, respectively.

従来の液晶表示装置では、カラーフィルタ54の膜厚を制御するための絶縁膜51と金属反射膜52との位置ずれ、すなわち、金属反射膜52間のスリットの位置ずれが発生してしまい、その位置のずれ量が〜5μmの範囲でばらついてしまう。   In the conventional liquid crystal display device, a displacement between the insulating film 51 and the metal reflection film 52 for controlling the film thickness of the color filter 54, that is, a displacement of the slit between the metal reflection films 52 occurs. The amount of positional deviation varies in the range of ˜5 μm.

その結果、液晶表示装置の透過率、透過色(R、G、B)、透過色純度(△S)、反射率、反射色(R、G、B)、反射色純度(△S)のバラツキがばらついてしまい、例えば、透過率は1.94%〜2.07%の範囲でばらつき、また、透過色純度△Sは20.5〜25.3と23.4%の範囲でバラツキ、反射率は28.7%〜29.4%の範囲でばらつき、反射色純度△Sは13.9〜15.1の範囲でバラツキいてしまう。   As a result, variation in transmittance, transmission color (R, G, B), transmission color purity (ΔS), reflectance, reflection color (R, G, B), and reflection color purity (ΔS) of the liquid crystal display device. For example, the transmittance varies in the range of 1.94% to 2.07%, and the transmission color purity ΔS varies in the range of 20.5 to 25.3 and 23.4%. The rate varies in the range of 28.7% to 29.4%, and the reflected color purity ΔS varies in the range of 13.9 to 15.1.

これに対して、本発明の液晶表示装置では、反射領域を規定する絶縁膜と金属反射膜とが一切位置ずれが発生しないため、液晶表示装置の透過率、透過色(R、G、B)、透過色純度(△S)、反射率、反射色(R、G、B)、反射色純度(△S)のバラツキが生じない。   On the other hand, in the liquid crystal display device of the present invention, since the displacement between the insulating film defining the reflective region and the metal reflective film does not occur at all, the transmittance and transmission color (R, G, B) of the liquid crystal display device , Transmission color purity (ΔS), reflectance, reflection color (R, G, B), and reflection color purity (ΔS) do not vary.

本発明の液晶表示装置の平面図であるIt is a top view of the liquid crystal display device of this invention. 図1のA−A線の断面図である。It is sectional drawing of the AA line of FIG. 本発明の主要部分の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the principal part of this invention. (a)〜(g)は、本発明の液晶表示装置の製造方法の主要部分工程の断面図である。(A)-(g) is sectional drawing of the principal part process of the manufacturing method of the liquid crystal display device of this invention. 従来の液晶表示装置の主要部分の断面図であるIt is sectional drawing of the principal part of the conventional liquid crystal display device.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・セグメント側基板
2・・・コモン側基板
3・・・液晶層
4・・・セグメント透明電極群
5・・・コモン透明電極群
6・・・表示画素領域
14・・・シール部
15・・半透過膜
16・・透明絶縁樹脂膜
17・・・金属反射膜
18・・カラーフィルタ
19・・透過用貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Segment side substrate 2 ... Common side substrate 3 ... Liquid crystal layer 4 ... Segment transparent electrode group 5 ... Common transparent electrode group 6 ... Display pixel area 14 ... Seal part 15 ..Transparent film 16 ..Transparent insulating resin film 17 ..Metal reflection film 18 ..Color filter 19 ..Transmission through-hole

Claims (4)

第1の方向に延びる複数の透明電極から成る第1の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る矩形状の第1の基板と、
前記第1の方向と直交する第2の方向に延びる複数の透明電極から成る第2の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る矩形状の第2の基板とを、
第1および第2の透明電極群が互いに直交して表示画素を形成するように対向させて略矩形状のシール部材で貼り合わせて、該シール部材内に液晶を充填するとともに、第2の基板の裏面側主面にはバックライト手段を配置して成る液晶表示装置であって、
前記第2の基板上で少なくとも前記表示画素領域に跨がるように、金属反射膜、透明絶縁樹脂膜を被着形成し、且つ前記隣接しあう透明絶縁樹脂膜の一部を跨がるように第2の基板の画素領域上にカラーフィルタを被着形成するとともに、前記カラーフィルタ及び透明絶縁樹脂膜上に平滑用透明絶縁膜を、該平滑用透明絶縁膜上に第2の透明電極群を順次形成したことを特徴とする液晶表示装置。
A rectangular first substrate formed by sequentially laminating a first transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a first direction and an alignment film;
A rectangular second substrate formed by sequentially stacking a second transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a second direction orthogonal to the first direction and an alignment film;
The first and second transparent electrode groups are opposed to each other so as to form display pixels orthogonal to each other, and are bonded together by a substantially rectangular sealing member, and the sealing member is filled with liquid crystal and the second substrate A liquid crystal display device in which a backlight means is disposed on the back side main surface of
A metal reflective film and a transparent insulating resin film are formed on the second substrate so as to straddle at least the display pixel region, and a part of the adjacent transparent insulating resin film is straddled. A color filter is deposited on the pixel region of the second substrate, a smoothing transparent insulating film is formed on the color filter and the transparent insulating resin film, and a second transparent electrode group is formed on the smoothing transparent insulating film. Are sequentially formed.
前記透明絶縁樹脂膜は、光散乱性粒子が混合されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the transparent insulating resin film is mixed with light scattering particles. 第1の方向に延びる複数の透明電極から成る第1の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る矩形状の第1の基板と、
前記第1の方向と直交する第2の方向に延びる複数の透明電極から成る第2の透明電極群と配向膜とを順次積層して成る第2の基板とを、
第1および第2の透明電極群が互いに直交して表示画素を形成するように対向させて略矩形状のシール部材で貼り合わせて、該シール部材内に液晶を充填するとともに第2の基板の裏面側主面にはバックライト手段を配置して成る液晶表示装置の製造方法であって、
前記第2の基板は、
前記第2の基板上で少なくとも前記表示画素領域を間に、独立した金属反射膜を被着する第1の工程、
前記金属反射膜上に、絶縁透明樹脂膜となるポジ型光硬化可能な透明樹脂膜を被着形成する第2の工程、
前記透明樹脂膜を光分解させるべく金属反射膜側から露光処理し、透明樹脂膜側から透明樹脂膜を現像処理してする第3の工程、
前記複数の透明樹脂膜上に跨がるように、前記画素領域に対応するカラーフィルタを被着形成する第4の工程、
前記カラーフィルタ上に平滑用透明絶縁膜、該平滑用透明絶縁膜上に第2の透明電極群を形成する第5の工程、
を経て形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A rectangular first substrate formed by sequentially laminating a first transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a first direction and an alignment film;
A second substrate formed by sequentially laminating a second transparent electrode group composed of a plurality of transparent electrodes extending in a second direction orthogonal to the first direction and an alignment film;
The first and second transparent electrode groups are opposed to each other so as to form display pixels orthogonal to each other, and bonded together with a substantially rectangular seal member, and the seal member is filled with liquid crystal and the second substrate A method of manufacturing a liquid crystal display device in which backlight means is arranged on the back side main surface,
The second substrate is
A first step of depositing an independent metal reflective film on the second substrate with at least the display pixel region in between;
A second step of depositing and forming a positive-type photocurable transparent resin film to be an insulating transparent resin film on the metal reflective film;
A third step in which the transparent resin film is exposed from the metal reflective film side to photodecompose, and the transparent resin film is developed from the transparent resin film side;
A fourth step of depositing and forming a color filter corresponding to the pixel region so as to straddle the plurality of transparent resin films;
A fifth step of forming a transparent insulating film for smoothing on the color filter, and a second transparent electrode group on the transparent insulating film for smoothing;
A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein
前記透明樹脂膜は、光散乱粒子を混合していることを特徴とする特徴とする請求項3記載の半透過型液晶表示装置の製造方法。   4. The method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to claim 3, wherein the transparent resin film is mixed with light scattering particles.
JP2003335796A 2003-09-26 2003-09-26 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same Pending JP2005099635A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003335796A JP2005099635A (en) 2003-09-26 2003-09-26 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003335796A JP2005099635A (en) 2003-09-26 2003-09-26 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005099635A true JP2005099635A (en) 2005-04-14

Family

ID=34463083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003335796A Pending JP2005099635A (en) 2003-09-26 2003-09-26 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005099635A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10353565B2 (en) 2002-02-25 2019-07-16 Apple Inc. Input apparatus and button arrangement for handheld device
US10359813B2 (en) 2006-07-06 2019-07-23 Apple Inc. Capacitance sensing electrode with integrated I/O mechanism

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10353565B2 (en) 2002-02-25 2019-07-16 Apple Inc. Input apparatus and button arrangement for handheld device
US10359813B2 (en) 2006-07-06 2019-07-23 Apple Inc. Capacitance sensing electrode with integrated I/O mechanism
US10890953B2 (en) 2006-07-06 2021-01-12 Apple Inc. Capacitance sensing electrode with integrated I/O mechanism

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101033461B1 (en) Liquid crystal display device and manufacturing of the same
JP3675420B2 (en) Liquid crystal display device and electronic device
JP2000162625A (en) Color reflection type liquid crystal display device and its production
US20030147115A1 (en) Substrate for electrooptical device, method for manufacturing the substrate, electrooptical device, method for manufacturing the electrooptical device, and electronic apparatus
JP3644442B2 (en) Color filter substrate and manufacturing method thereof, liquid crystal display device and manufacturing method thereof, and electronic apparatus
JP2005331848A (en) Liquid crystal display
JP2006343615A (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
KR20080058908A (en) Liquid crystal display device and fabricating method thereof
JP2006098623A (en) Liquid crystal display device
JP4337807B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP4045878B2 (en) Color filter substrate, electro-optical device, and electronic apparatus
JP2005099635A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2005099636A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP4617982B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP4511248B2 (en) Liquid crystal display
JP4375172B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
KR100664342B1 (en) Manufacturing method of electro-optical apparatus substrate, manufacturing method of electro-optical apparatus, electro-optical apparatus substrate, electro-optical apparatus, and electronic instrument
JP4335067B2 (en) Electro-optic device
JP4241315B2 (en) Color filter substrate, electro-optical device, method for manufacturing color filter substrate, method for manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus
JP4655734B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2005055826A (en) Liquid crystal display device, its manufacturing method, and electronic device
KR20040038232A (en) CF substrate for LCD and methode for fabricating the same
JP2006003520A (en) Transflective liquid crystal display, and method for manufacturing the same
JP2009069615A (en) Electro-optical device and electronic equipment
JP4075903B2 (en) Liquid crystal display panel, liquid crystal display panel substrate and electronic device