JP2005092054A - Color filter - Google Patents
Color filter Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005092054A JP2005092054A JP2003328066A JP2003328066A JP2005092054A JP 2005092054 A JP2005092054 A JP 2005092054A JP 2003328066 A JP2003328066 A JP 2003328066A JP 2003328066 A JP2003328066 A JP 2003328066A JP 2005092054 A JP2005092054 A JP 2005092054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- liquid crystal
- meth
- layer
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルターに関するものであり、特に残留電荷が低減されるカラーフィルターに関する。 The present invention relates to a color filter used in a color liquid crystal display device, and more particularly to a color filter that reduces residual charges.
液晶表示装置は、カラーフィルター等の表示側基板と液晶駆動側基板とを対向させ、両者の間に液晶化合物を封入して薄い液晶層を形成し、液晶駆動側基板により液晶層内の液晶配列を電気的に制御して表示側基板の透過光又は反射光の量を選択的に変化させることによって表示を行う。 In a liquid crystal display device, a display side substrate such as a color filter and a liquid crystal driving side substrate are opposed to each other, and a liquid crystal compound is sealed between them to form a thin liquid crystal layer. The liquid crystal driving side substrate forms a liquid crystal array in the liquid crystal layer. The display is performed by electrically changing the amount of light transmitted or reflected by the display-side substrate.
液晶表示装置には、スタティック駆動方式、単純マトリックス方式、アクティブマトリックス方式など種々の駆動方式があるが、近年、視野角の狭さを改善する一つの方式として、特開平7−159786号公報に示されるように、TFTアレイ基板とカラーフィルター間に狭持された液晶を、アレイ基板上に設けられた画素電極と共通電極間の平行電界で液晶を駆動する、いわゆるイン・プレイン・スイッチング(IPS)モードが提案されている。IPS方式のカラー液晶表示装置では、液晶が水平配向するため、表示特性に液晶の複屈折性が関与せず、広視野角を達成することができる。 There are various driving methods such as a static driving method, a simple matrix method, and an active matrix method, but in recent years, one method for improving the narrowness of the viewing angle is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-159786. In-plane switching (IPS), in which the liquid crystal sandwiched between the TFT array substrate and the color filter is driven by a parallel electric field between the pixel electrode and the common electrode provided on the array substrate. A mode has been proposed. In the IPS color liquid crystal display device, since the liquid crystal is horizontally aligned, the birefringence of the liquid crystal is not involved in the display characteristics, and a wide viewing angle can be achieved.
縦電界を用いたTN方式と平行電界を用いたIPS方式の液晶駆動の違いを概念的に図1に示す。従来のTN方式50を用いたTFT液晶表示装置では、縦電界51によって液晶52を駆動させるため、画素電極53の対向基板であるカラーフィルター54上に共通電極55としてITOの蒸着膜等の透明電極が形成されている。これに対し、IPS方式56では横電界57によって液晶52を駆動させるため、画素電極53と同じ基板58上に共通電極55が形成されており、この場合、縦方向に電界が生じると液晶の配向を乱すことから、カラーフィルター59は絶縁体でなければならない。すなわち、IPS方式用カラーフィルター59は透明電極を備えない。また、遮光するためのブラックマトリックス層は、高電気抵抗とするため金属膜でなく、樹脂中に遮光剤を分散したいわゆる樹脂ブラックマトリックスが用いられている。更に、IPS方式では、画素の保護と特にカラーフィルターの厳しい表面平滑性、及びカラーフィルター層に含まれる不純物が液晶中へ溶出することを防止するためのバリアー性が要求されることから、通常、着色層上にオーバーコート層60が設けられる。オーバーコート層は、透明性、表面平滑性、上下隣接層との密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性等の幅広い特性が要求され、これを形成するオーバーコート材としては、従来高電気抵抗の光又は熱硬化アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリグリシジルメタクリレート系樹脂、エポキシ樹脂等が用いられている。
FIG. 1 conceptually shows a difference in liquid crystal driving between the TN system using a vertical electric field and the IPS system using a parallel electric field. In the conventional TFT liquid crystal display device using the
しかしながら、上記ブラックマトリックス層も従来の上記オーバーコート層も電気抵抗が高いため、駆動時にカラーフィルター上に電荷が発生及び蓄積され、長期の画面表示により発生する残留電荷の影響等により、画面が焼きつく(残像が発生する)という不具合が生じていた。 However, since both the black matrix layer and the conventional overcoat layer have high electrical resistance, charges are generated and accumulated on the color filter during driving, and the screen is burned due to the influence of residual charges generated by long-term screen display. There was a problem of lighting (afterimage occurred).
特許文献1では、残像防止を目的として、保護膜自身に分極が誘起されない、SiO2等の無機物を使用する方式が提案されている。しかし、無機物の保護膜では、ブラックマトリックス層や着色層との密着性が低く、また、カラーフィルターの表面平滑性に劣るという問題を有していた。
特許文献2では、内部残留電圧に起因する表示画像の焼付け残像が発生し難い液晶表示装置が開示されている。しかし、IPS方式用カラーフィルターの焼付け残像に関しては開示も示唆もしていない。
表面平滑性に優れ、残留電荷を低減でき、長時間画面表示をしても画面が焼きつかない高信頼性液晶表示装置を得るためのカラーフィルターを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a color filter for obtaining a highly reliable liquid crystal display device which is excellent in surface smoothness, can reduce residual charge, and does not burn the screen even if the screen is displayed for a long time.
本発明において提供されるカラーフィルターは、透明基板と当該透明基板上に設けられた着色層を備え、且つ電極を備えないカラーフィルターであって、前記着色層を導電性オーバーコート層で被覆したことを特徴とする。 The color filter provided in the present invention is a color filter that includes a transparent substrate and a colored layer provided on the transparent substrate and does not include an electrode, and the colored layer is covered with a conductive overcoat layer. It is characterized by.
IPS方式液晶表示装置の画面焼き付き防止且つクロストーク防止の点から、前記導電性オーバーコート層の体積抵抗率が1.0×108〜1.0×1011Ω・cmであることが好ましい。 From the viewpoint of preventing screen burn-in and crosstalk of the IPS liquid crystal display device, the conductive overcoat layer preferably has a volume resistivity of 1.0 × 10 8 to 1.0 × 10 11 Ω · cm.
また、導電性の制御のし易さ及び耐熱性の点から、前記導電性オーバーコート層は、導電性粒子を含有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said conductive overcoat layer contains electroconductive particle from the point of the ease of control of electroconductivity, and heat resistance.
本発明のカラーフィルターは、オーバーコート層が導電性を有するため、駆動時にカラーフィルター上に発生及び蓄積される残留電荷を滞留することなく、効果的に除去することが可能である。従って、長時間画面表示をしても画面が焼きつかない高信頼性液晶表示装置を得るためのカラーフィルターとして用いることができる。 In the color filter of the present invention, since the overcoat layer has conductivity, residual charges generated and accumulated on the color filter during driving can be effectively removed without staying. Therefore, it can be used as a color filter for obtaining a highly reliable liquid crystal display device in which the screen does not burn even when the screen is displayed for a long time.
本発明において提供されるカラーフィルターは、透明基板と当該透明基板上に設けられた着色層を備え、且つ電極を備えないカラーフィルターであって、前記着色層を導電性オーバーコート層で被覆したことを特徴とする、カラーフィルターである。 The color filter provided in the present invention is a color filter that includes a transparent substrate and a colored layer provided on the transparent substrate and does not include an electrode, and the colored layer is covered with a conductive overcoat layer. It is a color filter characterized by.
本発明のカラーフィルターは、オーバーコート層が導電性を有するため、駆動時にカラーフィルター上に発生及び蓄積される残留電荷を滞留することなく、効果的に除去することが可能である。従って、長時間画面表示をしても画面が焼きつかない高信頼性液晶表示装置を得るためのカラーフィルターとして用いることができる。 In the color filter of the present invention, since the overcoat layer has conductivity, residual charges generated and accumulated on the color filter during driving can be effectively removed without staying. Therefore, it can be used as a color filter for obtaining a highly reliable liquid crystal display device in which the screen does not burn even when the screen is displayed for a long time.
以下、本発明のカラーフィルターの実施態様を説明する。
図2は、IPS方式の液晶パネルの一構成例である。液晶パネル101は、表示側基板であるカラーフィルター1とTFT基板2とを対向させて1〜10μm程度の間隙部3を設け、当該間隙部3内に液晶Lを充填し、その周囲をシール材4で密封した構造をとっている。カラーフィルター1は、透明基板5上に、画素間の境界部を遮光するために所定のパターンに形成されたブラックマトリックス層6と、複数の色(通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色)を所定順序に配列した画素7又は最近ではホログラムを利用した画素と、オーバーコート層8が、透明基板に近い側からこの順に積層された構造をとっている。カラーフィルター1には、表示特性を向上させる点から透明基板5とオーバーコート層8の間に位相差層(光学補償層)(図示せず)を設けてもよい。位相差層は、具体的には例えば、透明基板5とブラックマトリックス層6及び画素7の間、又は、ブラックマトリックス層6及び画素7とオーバーコート層8の間に設けることができる。
Hereinafter, embodiments of the color filter of the present invention will be described.
FIG. 2 is a configuration example of an IPS liquid crystal panel. The
一方、TFT基板2は、透明基板上に共通電極9と画素電極10を設けた構造をとっている。また、カラーフィルター1及びこれと対向するTFT基板2の内面側には配向膜11が設けられる。さらに間隙部3には、カラーフィルター1とTFT基板2の間のセルギャップを一定且つ均一に維持するために、スペーサーとしてガラス、アルミナ又はプラスチック等からなる一定サイズの球状又は棒状粒子(図示せず)が分散されている。ここで、このスペーサーは上述した粒子に限定されるものではなく、例えばいずれかの基板側に形成された柱状凸部からなるスペーサーであっても良い。又、カラーフィルター1とTFT基板2の外側にはそれぞれ偏向板(図示せず)が配設されている。
On the other hand, the
IPS方式では、TFT基板2に形成した共通電極9と画素電極との間に電圧を印加することにより、カラーフィルター1又はTFT基板2の界面とほぼ平行に電界を形成し、間隙部3内の液晶分子がカラーフィルター1及びTFT基板2と平行な面内で偏向されて回転し、光源からの光の偏向軸を回転させ、この画素が点灯状態となる。このように、各色に着色された画素それぞれ又はカラーフィルターの背後にある液晶層の光透過率を制御することによってカラー画像が得られる。
In the IPS system, an electric field is formed substantially parallel to the interface of the
図3は、前記図2のカラーフィルター1として用いられ得る本発明に係るカラーフィルターの一例(カラーフィルター102)を示す平面図であり、図4は、同じカラーフィルター102のA−A線における縦断面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an example of the color filter (color filter 102) according to the present invention that can be used as the
このカラーフィルター102は、透明基板5に所定のパターンで形成されたブラックマトリックス6と、当該ブラックマトリックス上に所定のパターンで形成した画素7(7R,7G,7B)と、当該画素を覆うように形成されたオーバーコート層8を備えている。カラーフィルター102の最内面、この場合にはオーバーコート層上には、配向膜11が形成される。
The
柱状スペーサー12は凸状スペーサーの一形状であり、ブラックマトリックス層6が形成された領域(非表示領域)に合わせて、オーバーコート層8上の所定の複数箇所(図3では5箇所)に形成されている。柱状スペーサー12は、オーバーコート層8上に形成される。また、カラーフィルターがブラックマトリックス層を備えていない場合には、画素を形成していない領域に柱状スペーサーを形成することができる。
The
カラーフィルター102の透明基板5としては、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、或いは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製1737ガラスは、熱膨張率の小さい素材であり寸法安定性及び高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルターに適している。
The
ブラックマトリックス層6は、表示画像のコントラストを向上させるために、画素7R,7G,7Bの間及び画素形成領域の外側を取り囲むように設けられる。IPS方式の場合、ブラックマトリックス層6は、抵抗値の問題から金属クロム等を用いることができず、高抵抗の樹脂組成物を用いて形成する。
The
例えば、先ず透明基板5上に、着色剤として酸化チタン等の遮光性粒子を含有させた硬化性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて感光性塗膜を形成し、当該塗膜をブラックマトリックス用のフォトマスクを介して露光、現像し、必要に応じて加熱処理を施すことによって、ブラックマトリックス層6を形成することができる。ブラックマトリックス層の厚さは、0.5〜2.5μm程度とする。
For example, first, a curable resin composition containing light-shielding particles such as titanium oxide as a colorant is applied onto the
画素7は、赤色パターン、緑色パターン及び青色パターンがモザイク型、ストライプ型、トライアングル型、4画素配置型等の所望の形態で配列されてなり、表示領域を形成する。画素は、顔料分散法、染色法、印刷法、電着法等の公知の方法により形成することができるが、その中でも、顔料等の着色剤を含有した硬化性樹脂組成物を用いる顔料分散法により形成するのが好ましい。 The pixel 7 is formed by arranging a red pattern, a green pattern, and a blue pattern in a desired form such as a mosaic type, a stripe type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type, thereby forming a display region. The pixel can be formed by a known method such as a pigment dispersion method, a dyeing method, a printing method, or an electrodeposition method. Among them, a pigment dispersion method using a curable resin composition containing a colorant such as a pigment. It is preferable to form by.
顔料分散法による場合には、先ず、硬化性樹脂組成物に顔料等の着色剤を分散させて、赤色用、緑色用、及び、青色用の光硬化性着色樹脂組成物を夫々調製する。次に、透明基板5上に、ブラックマトリックス層6を覆うように、ある色、例えば光硬化性赤色樹脂組成物をスピンコート等の公知の方法で塗布して光硬化性赤色樹脂層を形成し、赤色パターン用フォトマスクを介して露光を行い、アルカリ現像後、クリーンオーブン等で加熱硬化することにより赤色画素7Rを形成する。その後、緑色用、及び、青色用の光硬化性着色樹脂組成物を順次用いて同様にして各色をパターニングして、緑色画素7G及び青色画素7Bを形成する。着色剤としては、公知の着色剤を適切に選んで使用することができる。
In the case of the pigment dispersion method, first, colorants such as pigments are dispersed in the curable resin composition to prepare photocurable colored resin compositions for red, green, and blue, respectively. Next, on the
画素の厚さは、通常0.5〜2.5μm程度とする。また、赤色画素7Rが最も薄く、緑色画素7G、青色画素7Bの順に厚くなるというように各色の画素の厚さを変えて、各色ごとに最適な液晶層厚みに設定してもよい。
The thickness of the pixel is usually about 0.5 to 2.5 μm. Alternatively, the thickness of each color pixel may be changed so that the
IPS方式では、特にカラーフィルターの表面平滑性が要求され、オーバーコート層8は、カラーフィルターの表面を平坦化すると共に、画素7に含有される成分が液晶層に溶出するのを防止するために、画素上に設けられる。画素上とは図4のように画素の上に直接形成されても良いが、画素の上に予め別の層を形成してからその上に設けられていても良い。オーバーコート層8には、画素による色表示に影響を与えない程度の透明性が要求される。
In the IPS system, the surface smoothness of the color filter is particularly required, and the
オーバーコート層8の体積抵抗値は、好ましくは1.0×108〜1.0×1011Ω・cm、更に好ましくは、1.0×109〜1.0×1010Ω・cmである。オーバーコート層の体積抵抗値が1.0×1011Ω・cmを越えると、液晶表示装置において液晶配向膜に発生および蓄積した電荷を除去することが困難になる。一方、保護膜の体積抵抗値が1.0×108Ω・cmよりも小さくなると、電気絶縁性が不十分になり、例えば、カラーフィルターと対向基板間での導通、縦方向に電界が生じて液晶の配向が乱れるなどにより表示欠陥が生じやすくなる。オーバーコート層の体積抵抗値を上述のような範囲にすることにより、カラーフィルター基板とTFT基板間で導通しない程度の絶縁性を有し、かつ製造時や駆動時に層間などに発生および蓄積した電荷を滞留することなく効果的に除去することが可能である。その結果、導電性を有するオーバーコート層は、液晶表示装置の表示残像を改善する。
The volume resistance value of the
オーバーコート層8は、少なくともバインダー成分及び導電性材料を含み、画素に影響を与えない程度の透明性を有するオーバーコート材から形成される。
The
オーバーコート材としては、1μm膜厚で400nmの光線透過率が90%以上であり、且つ250℃1時間の耐熱試験前後での色差(C光源、ΔEab)が2以下であることが好ましい。 The overcoat material preferably has a light transmittance of 90% or more at a thickness of 1 μm and a thickness of 400 nm, and a color difference (C light source, ΔEab) before and after a heat test at 250 ° C. for 1 hour is 2 or less.
バインダー成分としては、公知のネガ型の光硬化性透明樹脂組成物および/又は熱硬化性透明樹脂組成物を用いることができ、具体的に、ネガ型の光硬化性透明樹脂組成物としては、少なくとも1個以上の不飽和結合基を有し、光重合開始剤に硬化エネルギー線を照射することにより発生するイオンまたはラジカルによりイオン重合、ラジカル重合を行い分子量の増加や架橋構造の形成を行うモノマーやオリゴマーの単体或いは混合物とポリマー及び光重合開始剤との組合せなどが用いられる。 As the binder component, a known negative photocurable transparent resin composition and / or thermosetting transparent resin composition can be used. Specifically, as the negative photocurable transparent resin composition, Monomer having at least one unsaturated bond group, and performing ion polymerization or radical polymerization by ions or radicals generated by irradiating the photopolymerization initiator with curing energy rays to increase molecular weight or form a crosslinked structure Or a combination of a simple substance or a mixture of oligomer and a polymer and a photopolymerization initiator.
このようなモノマー、オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコンアクリレートなどのアクリル型、および不飽和ポリエステル/スチレン系、ポリエン/スチレン系などの非アクリル系が挙げられるが、中でも、硬化速度、物性選択の幅の広さからアクリル系のモノマー、オリゴマーが好ましい。このようなアクリル系のモノマー、オリゴマー代表例を以下に示す。なお、(メタ)アクリルとはアクリル基又はメタクリル基のいずれかであることを意味し、(メタ)アクリレートとはアクリレート基又はメタクリレート基のいずれかであることを意味する。 Examples of such monomers and oligomers include acrylic types such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, and silicon acrylate, and non-acrylic types such as unsaturated polyester / styrene and polyene / styrene. Of these, acrylic monomers and oligomers are preferred because of their wide range of curing speed and physical property selection. Typical examples of such acrylic monomers and oligomers are shown below. In addition, (meth) acryl means that it is either an acryl group or a methacryl group, and (meth) acrylate means that it is either an acrylate group or a methacrylate group.
まず、単官能基のものとしては、メチル(メタ)クリレート、エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルエチレンオキシド(以下、EO)付加物(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのカプロラクトン付加物、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート、ノニルフェノールEO付加物にカプロラクトン付加した(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アルコールのカプロラクトン付加物(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、4,4−ジメチル−1,3−ジオキソランのカプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、3−メチル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキソランのカプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 First, as a monofunctional group, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ethylene oxide (hereinafter referred to as EO) adduct (meth) Acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone adduct of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy Diethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenol EO adduct (meth) acrylate, (meth) acrylate added with caprolactone to nonylphenol EO adduct, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, tetrahydride Rofurfuryl (meth) acrylate, furfuryl (meth) alcohol caprolactone adduct (meth) acrylate, acryloylmorpholine, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, Isobornyl (meth) acrylate, (meth) acrylate of caprolactone adduct of 4,4-dimethyl-1,3-dioxolane, (meth) of caprolactone adduct of 3-methyl-5,5-dimethyl-1,3-dioxolane An acrylate etc. can be mentioned.
また、多官能基のものとしては、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンのアセタール化合物のジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−((メタ)アクリロイロキシジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−((メタ)アクリロイロキシジエトキシ)フェニル]メタン、水添ビスフェノールエチレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロビレンオキサイド付加物トリ(メタ)アクリレート、グリセリンプロピレンオキサイド付加物トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートペンタ(メタ)アクリレート混合物、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルオスフェート等を挙げることができる。 In addition, as the polyfunctional group, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol Ester di (meth) acrylate, caprolactone adduct of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester di (meth) acrylate, (meth) acrylic acid adduct of 1,6-hexanediol diglycidyl ether, hydroxypivalaldehyde and trimethylol Di (meth) acrylate of propane acetal compound, 2,2-bis [4-((meth) acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-((meth) acryloyloxydiethoxy) ) Phenyl] methane Di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide addition of hydrogenated bisphenol ethylene oxide adduct Tri (meth) acrylate, glycerin propylene oxide adduct tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate penta (meth) acrylate mixture, dipentaerythritol caprolactone adduct (meth) acrylate, tris ((meth) acryloyloxy And ethyl) isocyanurate, 2- (meth) acryloyloxyethyl maleate and the like.
また、ポリマーとしては上記単官能モノマーの重合体或いは共重合体を用いることができ、更に側鎖にカルボキシル基を導入し、アルカリ現像性を付与したタイプのポリマーや側鎖に不飽和二重結合基を導入しラジカル反応性を付与したタイプのポリマーも用いることが出来る。 As the polymer, a polymer or copolymer of the above-mentioned monofunctional monomer can be used. Further, a carboxyl group is introduced into the side chain, and an alkali developability is imparted to the polymer or side chain. It is also possible to use a polymer of a type to which radical reactivity has been imparted by introducing a group.
光重合開始剤としてはラジカル重合性開始剤を使用することができる。ラジカル重合性開始剤は、例えば紫外線のエネルギーによりフリーラジカルを発生する化合物であって、ベンゾイン、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体又はそれらのエステルなどの誘導体;キサントン並びにチオキサントン誘導体;クロロスルフォニル、クロロメチル多核芳香族化合物、クロロメチル複素環式化合物、クロロメチルベンゾフェノン類などの含ハロゲン化合物;トリアジン類;フルオレノン類;ハロアルカン類;光還元性色素と還元剤とのレドックスカップル類;有機硫黄化合物;過酸化物などがある。好ましくは、イルガキュアー184、イルガキュアー369、イルガキュアー651、イルガキュアー907(いずれもチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)、ダロキュアー(メルク社製)、アデカ1717(旭電化工業株式会社製)、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール(黒金化成株式会社製)などのケトン系及びビイミダゾール系化合物等を挙げることができる。 As the photopolymerization initiator, a radical polymerizable initiator can be used. Radical polymerizable initiators are compounds that generate free radicals by the energy of ultraviolet rays, for example, and are derivatives such as benzophenone derivatives such as benzoin and benzophenone or their esters; xanthones and thioxanthone derivatives; chlorosulfonyl, chloromethyl polynuclear aromatics Halogen-containing compounds such as compounds, chloromethyl heterocyclic compounds and chloromethylbenzophenones; triazines; fluorenones; haloalkanes; redox couples of photoreductive dyes and reducing agents; organic sulfur compounds; is there. Preferably, Irgacure 184, Irgacure 369, Irgacure 651, Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Darocur (Merck), Adeka 1717 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), 2 , 2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole (manufactured by Kurokin Kasei Co., Ltd.) it can.
また、熱硬化性透明樹脂組成物としては、熱エネルギーによる付加反応又は縮合反応により硬化する反応性基を有する低分子化合物の単体或いはポリマーとの混合物が用いられる。代表例としては、脂環式エポキシ樹脂としてセロキサイド2021、2021A、2021F、2081、2000、3000(ダイセル化学工業製)、エポリードGT301、401(ダイセル化学工業製)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としてエピコート1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010(ジャパン・エポキシレジン製)など、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としてエピコート807(ジャパン・エポキシレジン製)など、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としてEPPN201、202(日本化薬製)、エピコート154(ジャパン・エポキシレジン製)など、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としてEOCN102、103S、104S、1020、1025、1027(日本化薬製)、エピコート180S(ジャパン・エポキシレジン製)などを例示できる。さらに、脂肪族ポリグリシジルエーテルを例示することもできる。 Moreover, as a thermosetting transparent resin composition, the low molecular compound simple substance which has a reactive group hardened | cured by the addition reaction or condensation reaction by a thermal energy, or a mixture with a polymer is used. Representative examples include celoxide 2021, 2021A, 2021F, 2081, 2000, 3000 (manufactured by Daicel Chemical Industries) as an alicyclic epoxy resin, Eporide GT301, 401 (manufactured by Daicel Chemical Industries), and Epicoat 1001 as a bisphenol A type epoxy resin. 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 (Japan Epoxy Resin), etc., Bisphenol F type epoxy resin, Epicoat 807 (Japan Epoxy Resin), etc., phenol novolac type epoxy resin, EPPN 201, 202 (Nippon Kayaku) EOCN102, 103S, 104S, 1020, 1025, 1027 (Japan) as cresol novolak type epoxy resins such as Epicoat 154 (manufactured by Japan Epoxy Resin) Of manufactured drug), it can be exemplified such as Epikote 180S (manufactured by Japan Epoxy Resins). Furthermore, aliphatic polyglycidyl ether can also be illustrated.
導電性材料としては、導電性フィラー、導電性高分子等が挙げられる。導電性フィラーの中でも、導電性微粒子が好ましく、導電性微粒子としては、導電性を示す微粒子であれば限定されないが、具体的には、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、カーボンナノチューブ、ならびにSb、F、Pなどがドープされた酸化錫、およびSn、Fなどがドープされた酸化インジウムが挙げられる。さらに導電性微粒子は、TiO2-SnO2などのような複合酸化物微粒子であってもよい。これらは、単独で、あるいは複数を組み合わせて使用され得る。導電性微粒子の粒径は、塗膜の透明性及びオーバーコート材の分散安定性の点から、好ましくは0.01〜0.1μmである。一方、導電性高分子としては、導電性を示す高分子化合物であれば限定されないが、具体的には、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレンが挙げられる。 Examples of the conductive material include a conductive filler and a conductive polymer. Among the conductive fillers, conductive fine particles are preferable, and the conductive fine particles are not limited as long as they are conductive fine particles. Specifically, zinc oxide, tin oxide, indium oxide, antimony oxide, carbon nanotubes, And tin oxide doped with Sb, F, P and the like, and indium oxide doped with Sn, F and the like. Further, the conductive fine particles may be composite oxide fine particles such as TiO 2 —SnO 2 . These may be used alone or in combination. The particle diameter of the conductive fine particles is preferably 0.01 to 0.1 μm from the viewpoint of the transparency of the coating film and the dispersion stability of the overcoat material. On the other hand, the conductive polymer is not limited as long as it is a polymer compound exhibiting conductivity, and specific examples include polythiophene, polyacetylene, polypyrrole, and polyphenylene vinylene.
導電性材料としては、中でも、導電性の調整のし易さの点から、導電性微粒子が好ましく、中でも、透明性の点から、Snがドープされた酸化インジウム、所謂ITOが特に好ましい。 As the conductive material, conductive fine particles are preferable from the viewpoint of easy adjustment of conductivity, and among them, indium oxide doped with Sn, so-called ITO is particularly preferable from the viewpoint of transparency.
導電性材料は、オーバーコート材中に固形分全量に対して30〜60質量%含まれることが好ましい。なお、固形分とは、溶剤を除いた全成分をいい、溶剤以外の液状成分も含まれる。 The conductive material is preferably contained in the overcoat material in an amount of 30 to 60% by mass with respect to the total solid content. In addition, solid content means all the components except a solvent, and liquid components other than a solvent are also contained.
導電性材料として導電性微粒子が用いられる場合には、導電性微粒子の分散性を向上させるために、分散剤を配合しても良い。 When conductive fine particles are used as the conductive material, a dispersant may be blended in order to improve the dispersibility of the conductive fine particles.
分散剤としては、次に示すような高分子分散剤、すなわち(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社油脂化学工業製)、メガファックF171、F172、F173(大日本インキ化学工業製)、フロラードFc430、Fc431(住友スリーエム製)、ソルスパース13240、20000、24000、26000、28000等の各種ソルスパース分散剤(アビシア製)、ディスパービック111、161、162、163、164、182、2000、2001(ビックケミー製)、アジスパーPB711、PB411、PB111、PB821、PB822(味の素ファインテクノ製)等を用いることができる。 As the dispersant, the following polymer dispersants, that is, (meth) acrylic acid-based (co) polymer polyflow No. 75, No. 90, No. 95 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), Megafac F171 , F172, F173 (Dainippon Ink and Chemicals), Florard Fc430, Fc431 (Sumitomo 3M), Solsperse 13240, 20000, 24000, 26000, 28000, etc. 162, 163, 164, 182, 2000, 2001 (manufactured by Big Chemie), Addisper PB711, PB411, PB111, PB821, PB822 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno) and the like can be used.
オーバーコート層8は、オーバーコート材の塗工液を、スピンコーター、ロールコーター、スプレイ、印刷等の方法により、ブラックマトリックス層6及び画素7を覆うように塗布し、常温から90℃程度で乾燥後、紫外線等の光及び/又は150〜250℃程度の熱によって硬化させることによって形成できる。
The
オーバーコート層の厚さは、組成物の光透過率、カラーフィルターの表面状態等を考慮して設定し、例えば、0.1〜2.0μm程度とする。スピンコーターを使用する場合、回転数は通常500〜1500回転/分の範囲内で設定する。 The thickness of the overcoat layer is set in consideration of the light transmittance of the composition, the surface state of the color filter, and the like, and is, for example, about 0.1 to 2.0 μm. When using a spin coater, the number of revolutions is usually set within a range of 500 to 1500 revolutions / minute.
凸状スペーサーは、カラーフィルター102をTFTアレイ基板等の対向基板(液晶駆動側基板)と貼り合わせた時にセルギャップを維持するために、基板上の非表示領域に複数設けられる。凸状スペーサーの形状及び寸法は、基板上の非表示領域に選択的に設けることができ、所定のセルギャップを基板全体に渡って維持することが可能であれば特に限定されない。凸状スペーサーとして図示したような柱状スペーサー12を形成する場合には、2〜10μm程度の範囲で一定の高さを持つものであり、突出高さ(パターンの厚み)は液晶層に要求される厚み等から適宜設定することができる。また、柱状スペーサー12の太さは5〜20μm程度の範囲で適宜設定することができる。また、柱状スペーサー12の数(密集度)は、液晶層の厚みムラ、開口率、柱状スペーサーの形状、材質等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、赤色、緑色及び青色の各画素の1組に1個の割合で必要充分なスペーサー機能を発現する。このような柱状スペーサーの形状は柱状であればよく、例えば、円柱状、角柱状、截頭錐体形状等であっても良い。
A plurality of convex spacers are provided in a non-display area on the substrate in order to maintain a cell gap when the
凸状スペーサーを形成するには、まず、硬化性樹脂組成物の塗工液をスピンコーター、ロールコーター、スプレイ、印刷等の方法により透明基板上に直接、又は、オーバーコート等の他の層を介して塗布し、乾燥して、光硬化性樹脂層を形成する。スピンコーターの回転数は、オーバーコート層を形成する場合と同様に500〜1500回転/分の範囲内で設定すればよい。次に、この樹脂層を凸状スペーサー用フォトマスクを介して露光し、アルカリ液のような現像液により現像して所定の凸状パターンを形成し、この凸状パターンを必要に応じてクリーンオーブン等で加熱処理(ポストベーク)することによって凸状スペーサーが形成される。 In order to form the convex spacer, first, the coating liquid of the curable resin composition is directly applied on the transparent substrate by a method such as spin coater, roll coater, spray, printing, or another layer such as an overcoat. And is dried to form a photocurable resin layer. The rotational speed of the spin coater may be set within the range of 500 to 1500 revolutions / minute, as in the case of forming the overcoat layer. Next, this resin layer is exposed through a photomask for convex spacers, and developed with a developer such as an alkaline solution to form a predetermined convex pattern. A convex spacer is formed by heat treatment (post-bake) or the like.
配向膜11は、カラーフィルターの内面側に、画素7を備える表示部及びブラックマトリックス層6や柱状スペーサー12を備える非表示部を覆うように設けられる。配向膜は、ポリイミド樹脂等の樹脂を含有する塗工液をスピンコート等の公知の方法で塗布し、乾燥し、必要に応じて熱や光により硬化させた後、ラビングすることによって形成できる。
The
このようにして得られる本発明に係るカラーフィルターは、残留電荷を低減でき、長時間画面表示をしても画面が焼きつかない高信頼性液晶表示装置を得ることができるカラーフィルターである。 The color filter according to the present invention thus obtained is a color filter that can reduce a residual charge and can provide a highly reliable liquid crystal display device in which the screen does not burn even when the screen is displayed for a long time.
得られたカラーフィルター102(表示側基板)と、TFTアレイ等の対向基板基板(液晶駆動側基板)を対向させ、両基板の内面側周縁部をシール剤により接合すると、両基板は所定距離のセルギャップを保持した状態で貼り合わされる。そして、基板間の間隙部に液晶を満たして密封することにより、液晶表示装置の1例であるアクティブマトリックス方式のカラー液晶表示装置が得られる。このようにして得られる液晶表示装置は、長時間画面表示をしても画面が焼きつかず、表示品質に優れる。 When the obtained color filter 102 (display side substrate) and the opposite substrate substrate (liquid crystal driving side substrate) such as a TFT array are opposed to each other and the inner peripheral side edge portions of both substrates are bonded with a sealant, the both substrates have a predetermined distance. Bonding is performed with the cell gap maintained. An active matrix color liquid crystal display device, which is an example of a liquid crystal display device, can be obtained by filling the liquid crystal in the gap between the substrates and sealing the liquid crystal. The liquid crystal display device thus obtained is excellent in display quality because the screen does not burn even when the screen is displayed for a long time.
(実施例1:カラーフィルターの作製)
(1)オーバーコート材の調製
・重合体1の合成
重合槽中にベンジルメタクリレートを15.6重量部、スチレンを37.0重量部、アクリル酸を30.5重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレートを16.9重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を200重量部、仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2'−アゾビス(イソブチロニトリル)を0.8重量部、添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下で、85℃で2時間攪拌し、さらに100℃で1時間反応させた。さらに得られた溶液に2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.9重量部、トリエチルアミンを0.5重量部、及び、ハイドロキノンを0.1重量部、添加し、100℃で5時間攪拌し、目的とする重合体1(固形分37.2%)を得た。
(Example 1: Production of color filter)
(1) Preparation of Overcoat Material Synthesis of
第1表に示す組成にて、混合・撹拌してオーバーコート材を調製した。 An overcoat material was prepared by mixing and stirring with the composition shown in Table 1.
(2)ブラックマトリックスの形成
厚み1.1mmのガラス基板(旭硝子(株)製AL材)上に第2表のブラックマトリックス用樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、膜厚約1μmの遮光層を形成した。当該遮光層を、超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、0.05%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を180℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して遮光部を形成すべき領域にブラックマトリックスを形成した。
(2) Formation of black matrix The resin composition for black matrix shown in Table 2 was applied to a 1.1 mm thick glass substrate (AL material manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) with a spin coater, and dried at 100 ° C for 3 minutes. A light shielding layer having a thickness of about 1 μm was formed. The light-shielding layer is exposed to a light-shielding pattern with an ultra-high pressure mercury lamp, developed with a 0.05% aqueous potassium hydroxide solution, and then subjected to heat treatment by leaving the substrate in an atmosphere at 180 ° C. for 30 minutes. A black matrix was formed in a region where a light shielding portion should be formed.
(3)着色層の形成
前記のようにしてブラックマトリックスを形成した基板上に、第3表の赤色パターン用樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布(塗布厚み1.5μm)し、その後、70℃のオーブン中で30分間乾燥した。
(3) Formation of colored layer On the substrate on which the black matrix was formed as described above, the red pattern resin composition shown in Table 3 was applied by spin coating (application thickness: 1.5 μm), and then 70 ° C. In the oven for 30 minutes.
次いで、赤色パターン用樹脂組成物の塗膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色パターン用樹脂組成物の塗膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を180℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターンを形成した。 Next, a photomask is placed at a distance of 100 μm from the coating film of the resin composition for red pattern, and ultraviolet rays are applied only to the region corresponding to the colored layer formation region using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner. Irradiated for 10 seconds. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali development was carried out, and only the uncured part of the coating film of the resin composition for red patterns was removed. Thereafter, the substrate was left in an atmosphere of 180 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a red relief pattern in a region where a red pixel was to be formed.
次に、第4表の緑色パターン用樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターンを形成した。 Next, using the green pattern resin composition shown in Table 4, a green relief pattern was formed in a region where a green pixel was to be formed, in the same process as the red relief pattern formation.
さらに、第5表の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフパターンを形成し、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色からなる着色層を形成した。 Further, using the blue curable resin composition of Table 5, a blue relief pattern is formed in a region where a blue pixel is to be formed in the same process as the formation of the red relief pattern, and red (R), green ( A colored layer composed of three colors of G) and blue (B) was formed.
(4)オーバーコート層の形成
着色層を形成したガラス基板上に、(1)で合成したオーバーコート材をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥膜厚1.0μmの塗膜を形成した。
(4) Formation of overcoat layer The overcoat material synthesized in (1) was applied by a spin coating method on a glass substrate on which a colored layer was formed, and dried to form a coating film having a dry film thickness of 1.0 μm.
オーバーコート材の塗膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、オーバーコート材の塗膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を200℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施してオーバーコート層を形成した。 A photomask was placed at a distance of 100 μm from the coating film of the overcoat material, and ultraviolet rays were irradiated for 10 seconds only to the region corresponding to the colored layer formation region using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali image development was carried out, and only the uncured part of the coating film of an overcoat material was removed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere at 200 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form an overcoat layer.
(5)スペーサーの形成
着色層を形成したガラス基板上に、第6表に示す柱状スペーサー用樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。
(5) Formation of Spacer On the glass substrate on which the colored layer was formed, the columnar spacer resin composition shown in Table 6 was applied and dried by a spin coating method to form a coating film having a dry film thickness of 5 μm.
柱状スペーサー用樹脂組成物の塗膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて、ブラックマトリックス上のスペーサーの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、柱状スペーサー用樹脂組成物の塗膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を200℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して固定スペーサーを形成した。更に、固定スペーサーを含む表面に、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリウレタン系およびポリ尿素系の有機化合物のなかの少なくとも1種を含む材料からなる配向膜を形成し、本発明のカラーフィルターを得た。 Place a photomask at a distance of 100 μm from the coating film of the resin composition for columnar spacers and use a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp with a proximity aligner to apply ultraviolet light only to the spacer formation area on the black matrix for 10 seconds. Irradiated. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali image development was carried out, and only the uncured part of the coating film of the resin composition for columnar spacers was removed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form a fixed spacer. Further, an alignment film made of a material containing at least one of polyimide, polyamide, polyurethane, and polyurea organic compounds was formed on the surface including the fixed spacer to obtain the color filter of the present invention.
(実施例2、比較例1:カラーフィルター)
オーバーコート材として、第1表に示す組成のオーバーコート材を用いた他は、同様にして、カラーフィルターを製造した。
<評価>
(1)液晶パネルの作製
実施例1で得られたカラーフィルターと、TFTを形成したガラス基板とを、エポキシ樹脂をシール材として用い、150℃で0.3kg/cm2の圧力をかけて接合してセル組みし、液晶(ZLI4792,メルク社製)を封入して、液晶表示装置を作製した。
(Example 2, comparative example 1: color filter)
A color filter was produced in the same manner except that the overcoat material having the composition shown in Table 1 was used as the overcoat material.
<Evaluation>
(1) Production of liquid crystal panel The color filter obtained in Example 1 and the glass substrate on which the TFT was formed were bonded using epoxy resin as a sealing material at 150 ° C. and a pressure of 0.3 kg / cm 2. Then, the cells were assembled, and liquid crystal (ZLI4792, manufactured by Merck & Co., Inc.) was sealed to produce a liquid crystal display device.
(2)透過率の評価
ガラス基板上に1μm厚に作製した導電性オーバーコートの光(波長:400nm)の透過率を、ガラス基板をリファレンスに用いて、分光器(UV-3100PC:島津製作所製)により測定した。
(2) Evaluation of transmittance The transmittance of light (wavelength: 400 nm) of a conductive overcoat produced on a glass substrate to a thickness of 1 μm is used as a reference by using a glass substrate as a reference (UV-3100PC: manufactured by Shimadzu Corporation) ).
(3)耐熱性(色差)の評価
ガラス基板上に1μm厚に作成した導電性オーバーコートの250℃1時間の耐熱試験前後の分光透過曲線を、顕微分光測光装置(オリンパス製 OSP−SP100)により測定し、その透過率の変化の最大と最小を求め、これより耐熱試験前後の色差(C光源、ΔEab)を求めた。
(3) Evaluation of heat resistance (color difference) Spectral transmission curves before and after a heat test at 250 ° C. for 1 hour of a conductive overcoat made on a glass substrate with a thickness of 1 μm were measured with a microspectrophotometer (Olympus OSP-SP100). The maximum and minimum changes in transmittance were measured, and the color difference (C light source, ΔEab) before and after the heat resistance test was determined.
(4)体積抵抗率の評価
1mm、10cm×10cmのクロム基板上に作製した3μm厚の導電性オーバーコートの体積抵抗率を、JISK6911に準拠している三菱化学(株)製高抵抗率計、ハイレスターUP(MCP−HT450)を用い、23℃相対湿度65%の環境下で測定した。
(4) Evaluation of volume resistivity The volume resistivity of a 3 μm-thick conductive overcoat produced on a 1 mm, 10 cm × 10 cm chrome substrate is a high resistivity meter manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation in accordance with JISK6911. Measurement was performed using a Hiresta UP (MCP-HT450) in an environment with a relative humidity of 65% at 23 ° C.
(5)残留電荷の評価
RDC−1(東陽テクニカ社製)を用い、キャパシター誘電吸収法により、DC10Vを25℃で30分印加後に1秒間ショートさせ、10分経過後の電圧値を測定した(測定温度;25℃)。
(5) Evaluation of residual charge Using RDC-1 (manufactured by Toyo Technica Co., Ltd.), by applying a capacitor dielectric absorption method, DC10V was applied at 25 ° C. for 30 minutes and then shorted for 1 second, and the voltage value after 10 minutes was measured ( Measurement temperature; 25 ° C.).
(6)焼き付け残像の評価
60℃で表示エリア上に固定パターンを48時間印加した後、パターン印加を止めて、表示残像(焼き付け残像)を観察し評価した。ただし、評価基準は以下の通りである。
○:1秒以内で焼き付け残像が消失する軽微な残像レベル
×:30秒以上でも焼き付け残像が消失しないような残像レベル。
(6) Evaluation of Burning Afterimage After applying a fixed pattern on the display area for 48 hours at 60 ° C., the pattern application was stopped and the display afterimage (baking afterimage) was observed and evaluated. However, the evaluation criteria are as follows.
○: A slight afterimage level at which the burn-in afterimage disappears within 1 second. X: An afterimage level at which the burn-in afterimage does not disappear even after 30 seconds.
<評価結果>
製造例1,2及び比較製造例1のオーバーコート材を用いた実施例1,2及び比較例1のカラーフィルターを用いた液晶表示装置の評価結果を表7に示す。本発明に係るカラーフィルターを用いた液晶表示装置は、残留電荷が非常に低減されて、長時間画面を表示しても画面が焼き付かなかった。
<Evaluation results>
Table 7 shows the evaluation results of the liquid crystal display devices using the color filters of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 using the overcoat materials of Production Examples 1 and 2 and Comparative Production Example 1. In the liquid crystal display device using the color filter according to the present invention, the residual charge was greatly reduced, and the screen did not burn even when the screen was displayed for a long time.
1…カラーフィルター
101…液晶パネル
102…カラーフィルター
2…電極基板
3…間隙部
4…シール材
5…透明基板
6…ブラックマトリックス層
7(7R、7G、7B)…画素
8…オーバーコート層
9…共通電極
10…画素電極
11…配向膜
12…柱状スペーサー
50…TN方式
51…縦電界
52…液晶
53…画素電極
54…カラーフィルター
55…共通電極
56…IPS方式
57…横電界
58…基板
59…カラーフィルター
60…オーバーコート層
DESCRIPTION OF
Claims (5)
The color filter according to any one of claims 1 to 4, which is an IPS color filter.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003328066A JP4467934B2 (en) | 2003-09-19 | 2003-09-19 | Color filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003328066A JP4467934B2 (en) | 2003-09-19 | 2003-09-19 | Color filter |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005092054A true JP2005092054A (en) | 2005-04-07 |
JP4467934B2 JP4467934B2 (en) | 2010-05-26 |
Family
ID=34457762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003328066A Expired - Fee Related JP4467934B2 (en) | 2003-09-19 | 2003-09-19 | Color filter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4467934B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008038800A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Seiko Precision Inc. | Optical filter and method for manufacturing same |
JP2014112133A (en) * | 2012-12-05 | 2014-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | Transparent resin composition, color filter and liquid crystal display unit |
JP2015206936A (en) * | 2014-04-22 | 2015-11-19 | 凸版印刷株式会社 | Color filter and liquid crystal display device |
-
2003
- 2003-09-19 JP JP2003328066A patent/JP4467934B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008038800A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Seiko Precision Inc. | Optical filter and method for manufacturing same |
JP2008083504A (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Seiko Precision Inc | Optical filter and manufacturing method thereof |
JP2014112133A (en) * | 2012-12-05 | 2014-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | Transparent resin composition, color filter and liquid crystal display unit |
JP2015206936A (en) * | 2014-04-22 | 2015-11-19 | 凸版印刷株式会社 | Color filter and liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4467934B2 (en) | 2010-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3568862B2 (en) | Color liquid crystal display | |
US7537810B2 (en) | Curable resin composition, photosensitive pattern-forming curable resin composition, color filter, substrate for liquid crystalline panel, and liquid crystalline panel | |
JP5897754B1 (en) | Color material dispersion, colored resin composition for color filter, color filter and display device | |
US7812905B2 (en) | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
US8574794B2 (en) | Photosensitive resin composition | |
JP4802817B2 (en) | Photocurable resin composition for batch formation of different kinds of members | |
TWI477905B (en) | Photopolymerizable resin composition | |
JP2008158138A (en) | Color filter substrate and liquid crystal display device | |
JP4488674B2 (en) | Photocurable resin composition, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel | |
TWI478950B (en) | Non-aqueous dispersant, color material dispersion liquid and method for producing the same, color resin composition and method for producing the same, color filter, liquid crystal display device and organic light-emitting display device | |
JP5041203B2 (en) | Color filter manufacturing method, color filter, and liquid crystal display device using the same | |
JP4964862B2 (en) | Photosensitive resin composition and color filter using the photosensitive resin composition | |
JP5277664B2 (en) | Color filter for horizontal electric field liquid crystal drive system | |
TWI454842B (en) | Photopolymer resin composition | |
JP4968220B2 (en) | Color filter, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel | |
JP3651874B2 (en) | Color filter and liquid crystal display device | |
JP4171332B2 (en) | Curable resin composition, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel | |
JP4467934B2 (en) | Color filter | |
US20110221990A1 (en) | Display device and method of manufacturing the same | |
JP4251442B2 (en) | Curable resin composition for forming photosensitive pattern, substrate for liquid crystal panel, and liquid crystal panel | |
JP4485135B2 (en) | Color filter and liquid crystal panel | |
JP2011075642A (en) | Color filter and liquid crystal display device using the same | |
JP2006154514A (en) | Color filter substrate and liquid crystal display device | |
JP2005148357A (en) | Anti-gelling photosensitive composition, substrate for liquid crystal panel and liquid crystal panel | |
JP3248734B2 (en) | Color filter and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090602 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091027 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100223 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100224 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140305 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |