JP2005079474A - Multilayer wiring board, base therefor, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Shoji Ito
彰二 伊藤
Ryoichi Kishihara
亮一 岸原
Hiroki Hashiba
浩樹 橋場
Satoru Nakao
知 中尾
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To relieve a phenomenon caused by difference in the material characteristics between the conductive substance used for interlayer continuity and an insulating layer, and to suppress the occurrence of ion migration at a boundary section in the insulating layer. <P>SOLUTION: In a base (1) for multilayer wiring boards, a through hole (4) is formed in an insulating layer (2) whose one side has a conductive layer (3) for composing a wiring pattern, and a protection insulating layer (5) is formed on the circumferential face of the through hole (4). Then, a conductive substance (6) for obtaining interlayer continuity in the conductive layer (3) is arranged in the through hole (4) inside the protection insulating layer (5). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、多層配線板、多層配線板用基材およびその製造方法に関し、とくに、フレキシブル多層配線板、フレキシブル多層配線板用基材およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a multilayer wiring board, a substrate for a multilayer wiring board, and a manufacturing method thereof, and more particularly to a flexible multilayer wiring board, a substrate for a flexible multilayer wiring board, and a manufacturing method thereof.

近年の電子機器は、高周波信号、デジタル化等に加え、小型・軽量化が進み、それにともない、搭載されるプリント配線板においても、小型、高密度実装化が要求され、これらの要求に応えるプリント配線板として、多層配線板が数多く発表されている。   In recent years, electronic devices have become smaller and lighter in addition to high-frequency signals, digitization, etc. Along with this, printed wiring boards to be mounted are also required to be compact and high-density mounting, and prints that meet these requirements Many multilayer wiring boards have been announced as wiring boards.

一般に、多層配線板における層間接続の手段は、スルーホールとバイアホールの2つに大別される。   In general, the means for interlayer connection in a multilayer wiring board is roughly divided into two types, a through hole and a via hole.

スルーホールは、多層積層後の基板に一括で孔あけを施し、この孔(基板貫通孔)にメッキによって、または導電性組成物を充填することによって層間導通部を形成するものである。積層後に一括で孔あけを施すため、工数は少なくて済むが、層間導通部が基板の深さ方向に一直線状になければならないため、配線の自由度が小さく、高密度配線に適しているとはいえない。   The through hole is used to form an interlayer conductive portion by punching the substrate after multilayer lamination in a lump, and filling this hole (substrate through hole) by plating or filling a conductive composition. The number of man-hours can be reduced because the holes are made in a lump after stacking, but the interlayer conduction part must be straight in the depth direction of the substrate, so the degree of freedom of wiring is small and suitable for high-density wiring I can't say that.

一方、バイアホールは、1層1層ごとに層間導通部分を作り込んでいくものであり、とくに、IVH(Interstitial Via Hole)タイプの多層配線板は、配線の高密度化、および配線の自由度の大きさの点で優位性があることから、携帯電話等の小型の電気製品に広く利用されている。その代表的な工法として、松下電子部品社のALIVH工法(非特許文献1参照)や、DTサーキットテクノロジー社のBit工法(非特許文献2参照)などが挙げられる。 On the other hand, a via hole is one in which an interlayer conductive portion is formed for each layer. In particular, an IVH (Interstitial Via Hole) type multilayer wiring board has a higher wiring density and a higher degree of freedom in wiring. Therefore, it is widely used for small electric products such as mobile phones. Typical examples of the construction method include the ALIVH construction method (see Non-Patent Document 1) manufactured by Matsushita Electronic Parts Co., Ltd. and the B 2 it construction method (see Non-Patent Document 2) manufactured by DT Circuit Technology.

これらの工法に共通するのはビルドアップ法であるという点である。ビルドアップ法の場合、コア層からビルドアップ層を1層ずつ逐次積層し、作り上げていく工法であり、層間の位置合わせが容易であるため、IVH多層配線板のほとんどに利用されている。こうした理由から、IVH多層配線板をビルドアップ基板と呼ぶことも多い。   Common to these methods is the build-up method. In the case of the build-up method, the build-up layer is sequentially laminated from the core layer one by one, and is built up. Since the alignment between the layers is easy, it is used for most IVH multilayer wiring boards. For these reasons, IVH multilayer wiring boards are often referred to as build-up boards.

しかし、ビルドアップ工法の場合、1層1層逐次積層していくため、回路形成工程は層数分だけ必要となる。このことは、試作納期の遅延、製造工程数の増加によるコストアップという問題を引き起こしている。   However, in the case of the build-up method, since the layers are sequentially laminated one by one, the circuit forming process is required for the number of layers. This causes problems such as delay in trial delivery and cost increase due to an increase in the number of manufacturing processes.

そこで、最近、回路形成済みの基材複数枚を重ね合わせ、一括で積層貼り合わせを行う一括積層法によるIVH多層配線板の開発が盛んになってきている。その例として、デンソー社による商標名PALAP(非特許文献3参照)などが挙げられる。この工法の場合、製造工程を大きく簡略化できるばかりでなく、不良層はあらかじめ交換除去して、良層だけを積層することができるため、歩留まり向上に大きく貢献する。
「電子材料」1995年10月号、p52−58、中谷誠一等「全層IVH構造を有する樹脂多層基板「ALIVH」」 「エレクトロニクス実装学会誌」Vol.3、No.7(2000)、p563−568、福岡義孝「厚膜・薄膜混成高密度ビルドアップ配線板技術」 「第16回エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集」p67−68、上村力也等「PALAP基板を用いたプリント基板リサイクルシステムの検討」
Therefore, recently, development of an IVH multilayer wiring board by a collective laminating method in which a plurality of substrates on which circuits have been formed is superposed and laminated together is becoming active. As an example thereof, there is a trade name PALAP (see Non-Patent Document 3) by Denso Corporation. In the case of this construction method, not only the manufacturing process can be greatly simplified, but also the defective layer can be replaced and removed in advance and only the good layer can be laminated, which greatly contributes to the yield improvement.
“Electronic Materials” October 1995 issue, p52-58, Seiichi Nakatani et al. “Resin multilayer substrate with all-layer IVH structure“ ALIVH ”” “Journal of Japan Institute of Electronics Packaging” Vol. 3, no. 7 (2000), p563-568, Yoshitaka Fukuoka “Thick film / thin film hybrid high-density build-up wiring board technology” “Proceedings of the 16th Electronics Packaging Conference” p67-68, Rikiya Uemura, etc. “Examination of printed circuit board recycling system using PALAP substrate”

しかしながら、このような多層配線板は各種材料の複合体であるため、各材料の熱的特性、機械的特性をある程度合わせることによって信頼性を確保する必要がある。とくに、絶縁層の材料と層間導通部分の材料との特性を合わせることが重要となるが、実際にはこれらを完全に一致させることは難しい。   However, since such a multilayer wiring board is a composite of various materials, it is necessary to ensure reliability by matching the thermal characteristics and mechanical characteristics of each material to some extent. In particular, it is important to match the characteristics of the material of the insulating layer and the material of the interlayer conductive portion, but in reality, it is difficult to completely match them.

例えば、バイアホールまたはスルーホールを構成する絶縁層の材料と、バイアホールまたはスルーホール内の層間導通材料との線膨張係数の違いによって、熱衝撃試験時に層間導通部分にクラックが入ったり、または、電気抵抗が大きく上昇したりする問題が発生する。   For example, due to the difference in the coefficient of linear expansion between the material of the insulating layer constituting the via hole or the through hole and the interlayer conductive material in the via hole or the through hole, the interlayer conductive portion is cracked during the thermal shock test, or There arises a problem that the electrical resistance is greatly increased.

また、多層配線板の場合、絶縁層を多数重ね合わせた構造をとることになる。そのため、絶縁層の境界部分は、境界以外の絶縁層内部に比べて機械的強度が弱く、そこからイオンマイグレーションが進行しやすいという問題がある。   In the case of a multilayer wiring board, a structure in which a large number of insulating layers are stacked is adopted. Therefore, the boundary portion of the insulating layer has a problem that the mechanical strength is weaker than that inside the insulating layer other than the boundary, and ion migration easily proceeds from there.

この発明の課題は、上記従来のもののもつ問題点を排除して、層間導通に用いる導電性物質と絶縁層との材料特性の違いに起因する現象を緩和するとともに、絶縁層の境界部分におけるイオンマイグレーションの発生を抑制することのできる多層配線板、多層配線板用基材およびその製造方法を提供することにある。   The object of the present invention is to eliminate the problems of the above-mentioned conventional ones, to alleviate the phenomenon caused by the difference in material characteristics between the conductive material used for interlayer conduction and the insulating layer, and to reduce the ions at the boundary portion of the insulating layer. An object of the present invention is to provide a multilayer wiring board capable of suppressing the occurrence of migration, a substrate for multilayer wiring board, and a method for manufacturing the same.

この発明は上記課題を解決するものであって、請求項1に係る発明は、配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に貫通孔を形成し、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質が配置される多層配線板用基材において、前記貫通孔の周面に保護絶縁層を形成した多層配線板用基材である。   The present invention solves the above-mentioned problem, and the invention according to claim 1 forms a through hole in an insulating layer provided on one side with a conductive layer forming a wiring pattern, and the conductive layer is formed in the through hole. In the multilayer wiring board base material on which a conductive material for obtaining interlayer conduction is disposed, the protective wiring layer is formed on the peripheral surface of the through hole.

この多層配線板用基材によれば、導電性物質と絶縁層との間に保護絶縁層が形成されるため、導電性物質と絶縁層との材料特性の違いに起因する現象を保護絶縁層によって緩和することができる。   According to this multilayer wiring board substrate, since the protective insulating layer is formed between the conductive substance and the insulating layer, the phenomenon caused by the difference in material characteristics between the conductive substance and the insulating layer is prevented. Can be relaxed.

請求項2に係る発明は、請求項1記載の発明において、前記絶縁層は、前記導電層が一側面に設けられた絶縁性基材と、この絶縁性基材の他側面に設けられた層間接着層とで構成される多層配線板用基材である。   The invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein the insulating layer includes an insulating base material on which the conductive layer is provided on one side surface and an interlayer provided on the other side surface of the insulating base material. It is a base material for multilayer wiring boards composed of an adhesive layer.

この多層配線板用基材によれば、層間接着層を利用して複数枚の多層配線板用基材を容易に接合することができる。   According to this multilayer wiring board substrate, a plurality of multilayer wiring board substrates can be easily joined using the interlayer adhesive layer.

請求項3に係る発明は、請求項2記載の発明において、前記保護絶縁層は前記絶縁性基材と前記層間接着層との境界を覆うように形成される多層配線板用基材である。   A third aspect of the present invention is the multilayer wiring board substrate according to the second aspect, wherein the protective insulating layer is formed so as to cover a boundary between the insulating substrate and the interlayer adhesive layer.

この多層配線板用基材によれば、絶縁性基材と層間接着層との境界が、保護絶縁層に覆われることで導電性物質と直接接触せず、保護絶縁層により導電性物質からバリヤされているため、イオンマイグレーションの発生を抑制することができる。   According to this multilayer wiring board substrate, the boundary between the insulating substrate and the interlayer adhesive layer is covered with the protective insulating layer so that it does not come into direct contact with the conductive material. Therefore, the occurrence of ion migration can be suppressed.

請求項4に係る発明は、請求項1〜3のいずれかに記載の発明において、前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材に比べてヤング率の小さい材料で構成される多層配線板用基材である。   A fourth aspect of the present invention is the multilayer wiring according to any one of the first to third aspects, wherein the protective insulating layer is made of a material having a Young's modulus smaller than that of the insulating layer or the insulating base material. It is a base material for board.

この多層配線板用基材によれば、絶縁層または絶縁性基材に比べてヤング率の小さい材料で構成される保護絶縁層が、導電性物質と絶縁層または絶縁性基材との線膨張係数の違いにより発生する応力を緩和し、熱衝撃試験における耐性を向上させることができる。   According to this multilayer wiring board base material, the protective insulating layer made of a material having a lower Young's modulus than the insulating layer or the insulating base material has a linear expansion between the conductive substance and the insulating layer or the insulating base material. The stress generated by the difference in coefficient can be relaxed and the resistance in the thermal shock test can be improved.

また、この多層配線板用基材によれば、絶縁性基材に比べてヤング率の小さい材料で構成される保護絶縁層が、絶縁性基材と層間接着層との境界を覆うように形成されることで、イオンマイグレーションの発生の抑制と、導電性物質と絶縁性基材との線膨張係数の違いにより発生する応力の緩和とを両立することができる。   Moreover, according to this multilayer wiring board substrate, the protective insulating layer made of a material having a lower Young's modulus than the insulating substrate is formed so as to cover the boundary between the insulating substrate and the interlayer adhesive layer. By doing so, it is possible to achieve both suppression of the occurrence of ion migration and relaxation of stress generated due to the difference in the coefficient of linear expansion between the conductive material and the insulating base material.

請求項5に係る発明は、請求項1〜4のいずれかに記載の発明において、前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材に比べて誘電率の低い材料で構成される多層配線板用基材である。   A fifth aspect of the present invention is the multilayer wiring according to any one of the first to fourth aspects, wherein the protective insulating layer is made of a material having a lower dielectric constant than the insulating layer or the insulating substrate. It is a base material for board.

この多層配線板用基材によれば、絶縁層または絶縁性基材に比べて誘電率の低い材料で構成される保護絶縁層が、伝送速度の遅延を回避させることができる。   According to this multilayer wiring board substrate, the protective insulating layer made of a material having a lower dielectric constant than that of the insulating layer or the insulating substrate can avoid a delay in transmission speed.

また、この多層配線板用基材によれば、保護絶縁層が、絶縁層または絶縁性基材に比べてヤング率が小さく、かつ誘電率の低い材料で構成されることで、導電性物質と絶縁層または絶縁性基材との線膨張係数の違いにより発生する応力の緩和と、伝送速度の遅延の回避とを両立することができる。   Further, according to this multilayer wiring board substrate, the protective insulating layer is made of a material having a lower Young's modulus and a lower dielectric constant than the insulating layer or the insulating substrate. It is possible to achieve both relaxation of stress generated due to a difference in coefficient of linear expansion from the insulating layer or the insulating base material and avoidance of transmission speed delay.

また、この多層配線板用基材によれば、絶縁層または絶縁性基材に比べて誘電率の低い材料で構成される保護絶縁層が、絶縁層または絶縁性基材と層間接着層との境界を覆うように形成されることで、イオンマイグレーションの発生の抑制と、伝送速度の遅延の回避とを両立することができる。   Further, according to the multilayer wiring board substrate, the protective insulating layer made of a material having a lower dielectric constant than the insulating layer or the insulating substrate is formed between the insulating layer or the insulating substrate and the interlayer adhesive layer. By being formed so as to cover the boundary, it is possible to achieve both suppression of ion migration and avoidance of transmission speed delay.

さらに、この多層配線板用基材によれば、絶縁層または絶縁性基材に比べてヤング率が小さく、かつ誘電率の低い材料で構成される保護絶縁層が、絶縁層または絶縁性基材と層間接着層との境界を覆うように形成されることで、イオンマイグレーションの発生の抑制と、導電性物質と絶縁層または絶縁性基材との線膨張係数の違いにより発生する応力の緩和と、伝送速度の遅延の回避とを共に実現することができる。   Furthermore, according to this multilayer wiring board substrate, the protective insulating layer made of a material having a lower Young's modulus and a lower dielectric constant than the insulating layer or the insulating substrate is provided with the insulating layer or the insulating substrate. Is formed so as to cover the boundary between the conductive layer and the interlayer adhesive layer, thereby suppressing the occurrence of ion migration and mitigating the stress generated by the difference in linear expansion coefficient between the conductive material and the insulating layer or insulating base material. Both avoidance of transmission rate delay can be realized.

請求項6に係る発明は、請求項1〜5のいずれかに記載の発明において、前記絶縁層または前記絶縁性基材はポリイミド等の可撓性樹脂で構成される多層配線板用基材である。   The invention according to claim 6 is the substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the insulating layer or the insulating substrate is a substrate for a multilayer wiring board composed of a flexible resin such as polyimide. is there.

この多層配線板用基材によれば、ポリイミド等の可撓性樹脂で構成される絶縁層または絶縁性基材は、屈曲が容易に行える。とくに、保護絶縁層を絶縁層または絶縁性基材に比べてヤング率の小さい材料で構成することで、屈曲した場合の絶縁層または絶縁性基材からの導電性物質の剥離、および導電性物質の破壊を抑制することができる。   According to this multilayer wiring board substrate, the insulating layer or the insulating substrate made of a flexible resin such as polyimide can be easily bent. In particular, the protective insulating layer is made of a material having a lower Young's modulus than that of the insulating layer or the insulating base material, so that the conductive material is peeled off from the insulating layer or the insulating base material when bent, and the conductive material. Can be prevented from breaking.

請求項7に係る発明は、請求項1〜6のいずれかに記載の多層配線板用基材を複数枚用意し、任意の多層配線板用基材の前記導電性物質が、当該多層配線板用基材の前記導電層と、当該導電性物質が接する他の多層配線板用基材の導電層との層間導通をとるように位置決めして相互に接合した多層配線板である。   The invention according to claim 7 provides a plurality of the multilayer wiring board substrates according to any one of claims 1 to 6, wherein the conductive substance of any multilayer wiring board substrate is the multilayer wiring board. The multilayer wiring board is positioned and joined to each other so as to establish interlayer conduction between the conductive layer of the substrate for use and the conductive layer of the other substrate for multilayer wiring board in contact with the conductive substance.

この多層配線板によれば、貫通孔の周面に保護絶縁層を形成することで、イオンマイグレーションの発生を抑制することができる。   According to this multilayer wiring board, it is possible to suppress the occurrence of ion migration by forming the protective insulating layer on the peripheral surface of the through hole.

請求項8に係る発明は、配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に貫通孔が形成され、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質が配置されるとともに、この貫通孔の周面に保護絶縁層が形成される多層配線板用基材の製造方法であって、前記絶縁層に前記貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔の周面に前記保護絶縁層を形成する工程と、前記保護絶縁層の内側において前記貫通孔内に前記導電性物質を充填する工程と、を含む多層配線板用基材の製造方法である。   According to an eighth aspect of the present invention, a through hole is formed in an insulating layer provided with a conductive layer forming a wiring pattern on one side, and a conductive substance for obtaining interlayer conduction of the conductive layer is disposed in the through hole. And a manufacturing method of a substrate for a multilayer wiring board in which a protective insulating layer is formed on a peripheral surface of the through hole, the step of forming the through hole in the insulating layer, and the peripheral surface of the through hole A method for manufacturing a substrate for a multilayer wiring board, comprising: forming a protective insulating layer; and filling the through hole with the conductive substance inside the protective insulating layer.

この多層配線板用基材の製造方法によれば、絶縁層に貫通孔を形成したのち、貫通孔の周面に保護絶縁層を形成し、つぎに保護絶縁層の内側において貫通孔内に導電性物質を充填することで、多層配線板用基材を製造することができる。   According to this method for manufacturing a multilayer wiring board substrate, after forming a through hole in the insulating layer, a protective insulating layer is formed on the peripheral surface of the through hole, and then conductive inside the through hole inside the protective insulating layer. The base material for multilayer wiring boards can be manufactured by filling the functional material.

請求項9に係る発明は、請求項8記載の発明において、前記保護絶縁層を形成する工程は、加熱により体積収縮して硬化する性質を有する保護絶縁層形成材料を前記貫通孔内に充填する工程と、前記保護絶縁層形成材料を加熱して体積収縮硬化させることで前記貫通孔の周面に保護絶縁層をコーティングする工程と、を含む多層配線板用基材の製造方法である。   The invention according to claim 9 is the invention according to claim 8, wherein in the step of forming the protective insulating layer, the through-hole is filled with a protective insulating layer forming material having a property of being hardened by volume shrinkage by heating. And a step of coating the protective insulating layer on the peripheral surface of the through hole by heating and shrinking the volume of the protective insulating layer forming material to form a substrate for a multilayer wiring board.

この多層配線板用基材の製造方法によれば、印刷法を用いて容易に多層配線板用基材を製造することができる。   According to this multilayer wiring board substrate manufacturing method, a multilayer wiring board substrate can be easily manufactured using a printing method.

この発明は以上のように、配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に貫通孔を形成し、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質を配置するとともに、この貫通孔の周面に保護絶縁層を形成したので、層間導通に用いる導電性物質と絶縁層との材料特性の違いに起因する現象を緩和することができ、また、絶縁層の境界部分におけるイオンマイグレーションの発生を抑制することができる効果がある。   As described above, according to the present invention, a through hole is formed in an insulating layer having a conductive layer forming a wiring pattern on one side, and a conductive substance for obtaining interlayer conduction of the conductive layer is disposed in the through hole. Since the protective insulating layer is formed on the peripheral surface of the through hole, the phenomenon caused by the difference in material characteristics between the conductive material used for interlayer conduction and the insulating layer can be alleviated, and the boundary portion of the insulating layer This has the effect of suppressing the occurrence of ion migration.

この発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図1は、この発明による多層配線板用基材の一実施形態を示す説明図であり、この多層配線板用基材1をその製造方法とともに説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a multilayer wiring board substrate according to the present invention, and this multilayer wiring board substrate 1 will be described together with its manufacturing method.

まず、図1(a)に示すように、ポリイミド基材21の片面に銅箔31が接着された片面銅箔付きポリイミド基材11を、出発材料として用意する。   First, as shown to Fig.1 (a), the polyimide base material 11 with the single-sided copper foil in which the copper foil 31 was adhere | attached on the single side | surface of the polyimide base material 21 is prepared as a starting material.

つぎに、この片面銅箔付きポリイミド基材11に対し、サブトラクティブ法を用いて銅箔31をエッチングすることで、図1(b)に示すように、配線パターンをなす導電層3を片面に備えた回路形成済み配線板12を作製する。   Next, by etching the copper foil 31 using a subtractive method on the polyimide substrate 11 with a single-sided copper foil, the conductive layer 3 forming the wiring pattern is formed on one side as shown in FIG. The circuit-formed wiring board 12 provided is prepared.

この方法に代えて、例えば、両面に銅箔の付かないポリイミド基材を出発材料とし、このポリイミド基材に対してアディティブ法、セミアディティブ法を用いて回路を形成することも可能である。   Instead of this method, for example, it is also possible to use a polyimide base material having no copper foil on both sides as a starting material, and to form a circuit using this additive base material using an additive method or a semi-additive method.

つぎに、図1(c)に示すように、回路形成済み配線板12におけるポリイミド基材21の配線パターンをなす導電層3とは反対側の面に層間接着層22を形成する。この層間接着層22としては、熱可塑性ポリイミドに熱硬化性機能を付与したものを使用することができる。これ以外にも、例えば、エポキシ等に代表される熱硬化性の樹脂や、熱可塑性ポリイミド等の熱可塑性樹脂を層間接着層として使用することも可能である。   Next, as shown in FIG.1 (c), the interlayer contact bonding layer 22 is formed in the surface on the opposite side to the conductive layer 3 which makes the wiring pattern of the polyimide base material 21 in the wiring board 12 by which the circuit was formed. As the interlayer adhesive layer 22, a thermoplastic polyimide provided with a thermosetting function can be used. In addition to this, for example, a thermosetting resin typified by epoxy or the like, or a thermoplastic resin such as thermoplastic polyimide may be used as the interlayer adhesive layer.

そして、ポリイミド基材21と層間接着層22とを合わせたものが、この多層配線板用基材1の絶縁層2を構成する。すなわち、図1(c)には、配線パターンをなす導電層3を片面に備えた絶縁層2が示されている。   And what combined the polyimide base material 21 and the interlayer adhesion layer 22 comprises the insulating layer 2 of this base material 1 for multilayer wiring boards. That is, FIG. 1C shows the insulating layer 2 having the conductive layer 3 forming the wiring pattern on one side.

つぎに、図1(d)に示すように、この絶縁層2の導電層3に対応する位置に、層間接着層22およびポリイミド基材21を貫通する貫通孔4を形成する。この貫通孔4はバイアホールであり、UV−YAGレーザによる穴開け加工ののち、プラズマ照射によるソフトエッチを施すことでデスミアを行って形成することができる。   Next, as shown in FIG. 1 (d), a through hole 4 penetrating the interlayer adhesive layer 22 and the polyimide base material 21 is formed at a position corresponding to the conductive layer 3 of the insulating layer 2. The through hole 4 is a via hole, and can be formed by performing desmearing by performing soft etching by plasma irradiation after drilling with a UV-YAG laser.

UV−YAGレーザに代えて、例えば、炭酸ガスレーザやエキシマレーザ等によって、より高速で加工することも可能である。また、デスミアの方法として、過マンガン酸塩を使用した湿式デスミアもごく一般的であり、使用可能である。   Instead of the UV-YAG laser, for example, a carbon dioxide laser, an excimer laser, or the like can be used to process at higher speed. Further, as a desmear method, wet desmear using a permanganate is very common and can be used.

図1(d)から、バイアホール4は、ポリイミド基材21および層間接着層22によって形成されていて、バイアホール4内には異種材料(ポリイミド基材21と層間接着層22)の境界23が存在していることがわかる。   From FIG. 1D, the via hole 4 is formed by the polyimide base material 21 and the interlayer adhesive layer 22, and a boundary 23 between different materials (the polyimide base material 21 and the interlayer adhesive layer 22) is present in the via hole 4. You can see that it exists.

つぎに、図1(e)に示すように、このバイアホール4の周面に保護絶縁層5を形成する。すなわち、まず、必要なマスキングを施したうえ、熱可塑性ポリイミドのTHF(テトラヒドロフラン)溶液を印刷法によりスクイジングすることで、バイアホール4内に充填する。   Next, as shown in FIG. 1E, a protective insulating layer 5 is formed on the peripheral surface of the via hole 4. That is, first, necessary masking is performed, and the via hole 4 is filled by squeezing a THF (tetrahydrofuran) solution of thermoplastic polyimide by a printing method.

熱可塑性ポリイミドのTHF(テトラヒドロフラン)溶液は、加熱によりTHF(テトラヒドロフラン)溶液が除去され体積収縮して硬化する性質を有しているため、バイアホール4に充填後加熱することで、体積収縮して硬化した熱可塑性ポリイミドがバイアホール4の周面にコーティングされることとなる。   Since the THF (tetrahydrofuran) solution of thermoplastic polyimide has the property that the THF (tetrahydrofuran) solution is removed by heating and shrinks in volume, the volume shrinks by filling the via hole 4 and heating. The cured thermoplastic polyimide is coated on the peripheral surface of the via hole 4.

保護絶縁層5を構成する樹脂としては、熱可塑性ポリイミド以外にも、例えば、エポキシ樹脂やエポキシ樹脂の混合物など、液状の樹脂であれば適宜のものを使用することが可能である。   As the resin constituting the protective insulating layer 5, in addition to thermoplastic polyimide, any suitable resin can be used as long as it is a liquid resin such as an epoxy resin or a mixture of epoxy resins.

但し、保護絶縁層5は、ポリイミド基材21に比べてヤング率の小さい材料で構成されることが好ましく、また、接着後の層間接着層22に比べてヤング率の小さい材料で構成されることが好ましい。   However, the protective insulating layer 5 is preferably made of a material having a lower Young's modulus than the polyimide base material 21 and made of a material having a lower Young's modulus than the interlayer adhesive layer 22 after bonding. Is preferred.

また、保護絶縁層5は、ポリイミド基材21に比べて誘電率の低い材料で構成されることが好ましく、また、接着後の層間接着層22に比べて誘電率の低い材料で構成されることが好ましい。   The protective insulating layer 5 is preferably made of a material having a lower dielectric constant than that of the polyimide base material 21 and is made of a material having a lower dielectric constant than that of the interlayer adhesive layer 22 after bonding. Is preferred.

つぎに、図1(f)に示すように、この保護絶縁層5の内側の穴に、導電性物質6として銀または銀ペーストを充填し、加熱して硬化させる。穴埋めに用いる導電性物質6としては、各種の導電性組成物を使用することができる。例えば、銅ペースト、カーボンペースト、ニッケルペーストなど種々の金属ペーストを使用することが可能である。   Next, as shown in FIG. 1 (f), the inner hole of the protective insulating layer 5 is filled with silver or a silver paste as the conductive material 6, and is cured by heating. As the conductive material 6 used for filling the hole, various conductive compositions can be used. For example, various metal pastes such as copper paste, carbon paste, and nickel paste can be used.

このようにしてできあがったものが多層配線板用基材1である。この多層配線板用基材1は、図1(f)に示すように、導電性物質6と絶縁層2(ポリイミド基材21および層間接着層22)との間に保護絶縁層5が形成されるため、導電性物質6と絶縁層2との材料特性の違いに起因する現象を保護絶縁層5によって緩和することができる。   The substrate 1 for the multilayer wiring board is thus completed. As shown in FIG. 1 (f), the multilayer wiring board substrate 1 has a protective insulating layer 5 formed between the conductive material 6 and the insulating layer 2 (polyimide substrate 21 and interlayer adhesive layer 22). Therefore, the phenomenon caused by the difference in material characteristics between the conductive substance 6 and the insulating layer 2 can be mitigated by the protective insulating layer 5.

また、この多層配線板用基材1は、ポリイミド基材21と層間接着層22との境界23が、保護絶縁層5に覆われることで導電性物質6と直接接触せず、保護絶縁層5により導電性物質6からバリヤされているため、イオンマイグレーションの発生を抑制することができる。   In addition, the multilayer wiring board substrate 1 is not in direct contact with the conductive material 6 because the boundary 23 between the polyimide substrate 21 and the interlayer adhesive layer 22 is covered with the protective insulating layer 5. Therefore, the occurrence of ion migration can be suppressed.

また、この多層配線板用基材1は、ポリイミド基材21に比べてヤング率の小さい材料で構成される保護絶縁層5が、導電性物質6とポリイミド基材21との線膨張係数の違いにより発生する応力を緩和し、熱衝撃試験における耐性を向上させることができる。   Further, the substrate 1 for multilayer wiring board has a difference in linear expansion coefficient between the conductive material 6 and the polyimide base material 21 because the protective insulating layer 5 made of a material having a lower Young's modulus than the polyimide base material 21 is used. Can relieve the stress generated by the heat resistance and improve the resistance in the thermal shock test.

同様に、接着後の層間接着層22に比べてヤング率の小さい材料で構成される保護絶縁層5が、導電性物質6と接着後の層間接着層22との線膨張係数の違いにより発生する応力を緩和し、熱衝撃試験における耐性を向上させることができる。   Similarly, the protective insulating layer 5 made of a material having a lower Young's modulus than the bonded interlayer adhesive layer 22 is generated due to a difference in linear expansion coefficient between the conductive material 6 and the bonded interlayer adhesive layer 22. The stress can be relaxed and the resistance in the thermal shock test can be improved.

また、この多層配線板用基材1は、ポリイミド基材21に比べて誘電率の低い材料で構成される保護絶縁層5が、伝送速度の遅延を回避させることができる。   Further, in this multilayer wiring board substrate 1, the protective insulating layer 5 made of a material having a lower dielectric constant than the polyimide substrate 21 can avoid a delay in transmission speed.

同様に、接着後の層間接着層22に比べて誘電率の低い材料で構成される保護絶縁層5が、伝送速度の遅延を回避させることができる。   Similarly, the protective insulating layer 5 made of a material having a lower dielectric constant than the interlayer adhesive layer 22 after bonding can avoid a delay in transmission speed.

図2は、図1のようにして作製した多層配線板用基材1を複数枚(図では2枚)と最下層に回路形成済み配線板12を積層することで構成される多層配線板を示す説明図である。   FIG. 2 shows a multilayer wiring board constructed by laminating a plurality of (two in the figure) substrate 1 for multilayer wiring board produced as shown in FIG. 1 and a circuit-formed wiring board 12 in the lowermost layer. It is explanatory drawing shown.

この多層配線板8は、2枚の多層配線板用基材1a,1bの導電性物質6a,6bが、互いの導電層3a,3bどうしの層間導通をとるとともに、回路形成済み配線板12の導電層3との層間導通もとるように位置合わせを施した後に重ね合わせ、真空熱プレス機によって真空度1kPa以下の条件で加熱・加圧して接合・形成したものである。   In this multilayer wiring board 8, the conductive materials 6a and 6b of the two multilayer wiring board substrates 1a and 1b establish interlayer conduction between the conductive layers 3a and 3b, and the circuit-formed wiring board 12 After being aligned so as to obtain interlayer conduction with the conductive layer 3, they are superposed and joined and formed by heating and pressurizing under a vacuum degree of 1 kPa or less by a vacuum hot press.

この位置合わせには、ピンアラインメント方式を採用することも可能であるが、その場合はピン用の穴を開けるスペースが必要になるため、好ましいとはいえない。そのため、画像認識による位置合わせを採用することが好ましい。   For this alignment, it is possible to adopt a pin alignment method. However, in this case, a space for opening a pin hole is required, which is not preferable. For this reason, it is preferable to employ alignment by image recognition.

このようにして作製された多層配線板8を、85℃、85RH%、30Vの条件でマイグレーション試験を実施したところ、バイアピッチが500μmの場合で、1000時間以上経過後も絶縁抵抗が1GΩ以上を維持した。   When the multilayer wiring board 8 thus manufactured was subjected to a migration test under the conditions of 85 ° C., 85 RH%, and 30 V, the insulation resistance was maintained at 1 GΩ or more after 1000 hours or more when the via pitch was 500 μm. did.

これに対し、バイアホール周面に保護絶縁層が形成されていない従来の多層配線板用基材を用いて作製した多層配線板を、比較のため同様のマイグレーション試験を実施したところ、バイアピッチが500μmの場合で、500時間程度で絶縁抵抗が1GΩ以下まで低下した。   On the other hand, when a similar migration test was performed on a multilayer wiring board manufactured using a conventional multilayer wiring board base material in which a protective insulating layer was not formed on the peripheral surface of the via hole, a via pitch was 500 μm. In this case, the insulation resistance decreased to 1 GΩ or less in about 500 hours.

また、バイアホール4周面に絶縁層2よりもヤング率の小さい材料の保護絶縁層5が形成されている多層配線板用基材1からなる多層配線板8と、そのような保護絶縁層が形成されていない従来の多層配線板用基材からなる多層配線板について、有限要素法により、バイアホール周面に発生する応力を比較したところ、保護絶縁層5が形成されている多層配線板用基材1からなる多層配線板8に優位性が認められた。   Also, a multilayer wiring board 8 made of a multilayer wiring board substrate 1 having a protective insulating layer 5 made of a material having a Young's modulus smaller than that of the insulating layer 2 on the peripheral surface of the via hole 4, and such a protective insulating layer For a multilayer wiring board made of a conventional multilayer wiring board substrate that is not formed, the stress generated on the peripheral surface of the via hole is compared by a finite element method. Superiority was recognized in the multilayer wiring board 8 made of the substrate 1.

図3〜5は、この発明による多層配線板の他の実施形態を示す説明図であり、この多層配線板100をその製造方法とともに説明する。   3-5 is explanatory drawing which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention, This multilayer wiring board 100 is demonstrated with the manufacturing method.

まず、図3(a)に示すように、片面回路形成済み両面銅箔付きガラスエポキシ基材111を出発材料とし、これを2枚用意し、位置合わせを施した後、層間接着材122を挟んで重ね合わせ、加熱加圧することで、図3(b)に示すように貼り合わせて多層配線板用基材101を形成する。   First, as shown in FIG. 3 (a), a glass epoxy base material 111 having a double-sided copper foil with a single-sided circuit formed thereon is used as a starting material, two of them are prepared, aligned, and then an interlayer adhesive 122 is sandwiched between them. By overlapping and heating and pressurizing, the multilayer wiring board substrate 101 is formed by bonding as shown in FIG.

層間接着材122には、エポキシ系のシート状接着材を使用することができる。このほかにも、オレフィン系、シリコン系等、任意の接着材を使用することが可能である。   As the interlayer adhesive 122, an epoxy-based sheet adhesive can be used. In addition to this, it is possible to use an arbitrary adhesive such as olefin or silicon.

つぎに、図3(c)に示すように、多層配線板用基材101の所定の位置にドリルによって貫通孔104を形成する。この貫通孔104はスルーホールである。   Next, as shown in FIG.3 (c), the through-hole 104 is formed with a drill in the predetermined position of the base material 101 for multilayer wiring boards. The through hole 104 is a through hole.

つぎに、図4(d)に示すように、このスルーホール104の周面に、エポキシ樹脂を塗布し、加熱することで硬化させて保護絶縁層105を形成する。   Next, as shown in FIG. 4D, an epoxy resin is applied to the peripheral surface of the through-hole 104 and cured by heating to form a protective insulating layer 105.

保護絶縁層105に用いる樹脂としては、他にも、有機溶剤に分散させた熱可塑性ポリイミドや、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸、または、エポキシの混合物等、液状の樹脂組成物であれば適宜のものを使用することが可能である。   As the resin used for the protective insulating layer 105, any other liquid resin composition such as thermoplastic polyimide dispersed in an organic solvent, polyamic acid that is a precursor of polyimide, or a mixture of epoxies may be used. Can be used.

つぎに、図4(e)に示すように、この保護絶縁層105の内側の穴に、導電性組成物106として銀ペーストを印刷法によって充填し、加熱して硬化させる。穴埋めに用いる導電性組成物106としては、例えば、銅ペースト、カーボンペースト、ニッケルペーストなど種々の金属ペーストを使用することが可能である。   Next, as shown in FIG. 4E, a silver paste as a conductive composition 106 is filled in the hole inside the protective insulating layer 105 by a printing method, and is cured by heating. As the conductive composition 106 used for filling the holes, for example, various metal pastes such as a copper paste, a carbon paste, and a nickel paste can be used.

導電性組成物106が多層配線板用基材101の表面まではみ出している場合は、はみ出した導電性組成物106をバフ研磨することで、図4(f)に示すように、多層配線板用基材101の表面を平らにする。   When the conductive composition 106 protrudes to the surface of the multilayer wiring board substrate 101, the protruding conductive composition 106 is buffed, as shown in FIG. 4F, for the multilayer wiring board. The surface of the substrate 101 is flattened.

つぎに、図5(g)に示すように、多層配線板用基材101の表面に電解メッキによって銅メッキ層107を析出させる。これにより、銅箔131と導電性組成物106との密着はより強固なものとなる。   Next, as shown in FIG. 5G, a copper plating layer 107 is deposited on the surface of the multilayer wiring board substrate 101 by electrolytic plating. Thereby, the adhesion between the copper foil 131 and the conductive composition 106 becomes stronger.

最後に、図5(h)に示すように、表面の銅箔131をエッチングによって回路形成を施すことで、多層配線板100が作製される。   Finally, as shown in FIG. 5 (h), the multilayer wiring board 100 is manufactured by performing circuit formation by etching the copper foil 131 on the surface.

この多層配線板100についても、図2に示す多層配線板8と同様に、有限要素法により、スルーホール104の周面に絶縁層(2枚のポリイミド基材121およびそれに挟まれた層間接着材122)よりもヤング率の小さい保護絶縁層105がある場合とない場合とでスルーホール104の周面に発生する応力を比較したところ、保護絶縁層105がある場合に優位性が認められた。   Also for the multilayer wiring board 100, an insulating layer (two polyimide base materials 121 and an interlayer adhesive sandwiched between them) is formed on the peripheral surface of the through-hole 104 by a finite element method, similarly to the multilayer wiring board 8 shown in FIG. When the stress generated on the peripheral surface of the through hole 104 was compared with and without the protective insulating layer 105 having a Young's modulus smaller than that of 122), superiority was recognized when the protective insulating layer 105 was present.

この発明による多層配線板用基材の一実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one Embodiment of the base material for multilayer wiring boards by this invention. この発明による多層配線板の一実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one Embodiment of the multilayer wiring board by this invention. この発明による多層配線板の他の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention. この発明による多層配線板の他の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention. この発明による多層配線板の他の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows other embodiment of the multilayer wiring board by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,101 多層配線板用基材
2,122 絶縁層
3,103 導電層
4 貫通孔(バイアホール)
5,105 保護絶縁層
6 導電性物質
8,100 多層配線板
104 貫通孔(スルーホール)
106 導電性組成物
1,101 Substrate for multilayer wiring board 2,122 Insulating layer 3,103 Conductive layer 4 Through hole (via hole)
5,105 Protective insulating layer 6 Conductive material 8,100 Multilayer wiring board 104 Through hole (through hole)
106 conductive composition

Claims (9)

配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に貫通孔を形成し、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質が配置される多層配線板用基材において、
前記貫通孔の周面に保護絶縁層を形成したことを特徴とする多層配線板用基材。
In a multilayer wiring board substrate in which a through hole is formed in an insulating layer provided on one side with a conductive layer forming a wiring pattern, and a conductive material for obtaining interlayer conduction of the conductive layer is disposed in the through hole.
A base material for a multilayer wiring board, wherein a protective insulating layer is formed on a peripheral surface of the through hole.
前記絶縁層は、前記導電層が一側面に設けられた絶縁性基材と、この絶縁性基材の他側面に設けられた層間接着層とで構成されることを特徴とする請求項1記載の多層配線板用基材。   The said insulating layer is comprised with the insulating base material in which the said conductive layer was provided in one side surface, and the interlayer contact bonding layer provided in the other side surface of this insulating base material. Base material for multilayer wiring boards. 前記保護絶縁層は前記絶縁性基材と前記層間接着層との境界を覆うように形成されることを特徴とする請求項2記載の多層配線板用基材。   3. The multilayer wiring board substrate according to claim 2, wherein the protective insulating layer is formed so as to cover a boundary between the insulating substrate and the interlayer adhesive layer. 前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材に比べてヤング率の小さい材料で構成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の多層配線板用基材。   The base material for a multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the protective insulating layer is made of a material having a Young's modulus smaller than that of the insulating layer or the insulating base material. 前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材に比べて誘電率の低い材料で構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の多層配線板用基材。   The base material for a multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the protective insulating layer is made of a material having a dielectric constant lower than that of the insulating layer or the insulating base material. 前記絶縁層または前記絶縁性基材はポリイミド等の可撓性樹脂で構成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の多層配線板用基材。   6. The multilayer wiring board substrate according to claim 1, wherein the insulating layer or the insulating substrate is made of a flexible resin such as polyimide. 請求項1〜6のいずれかに記載の多層配線板用基材を複数枚用意し、任意の多層配線板用基材の前記導電性物質が、当該多層配線板用基材の前記導電層と、当該導電性物質が接する他の多層配線板用基材の導電層との層間導通をとるように位置決めして相互に接合したことを特徴とする多層配線板。   A plurality of multilayer wiring board substrates according to any one of claims 1 to 6, wherein the conductive substance of any multilayer wiring board substrate is the conductive layer of the multilayer wiring board substrate. A multilayer wiring board characterized in that it is positioned and joined to each other so as to establish interlayer conduction with a conductive layer of another multilayer wiring board substrate that is in contact with the conductive substance. 配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に貫通孔が形成され、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質が配置されるとともに、この貫通孔の周面に保護絶縁層が形成される多層配線板用基材の製造方法であって、
前記絶縁層に前記貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔の周面に前記保護絶縁層を形成する工程と、
前記保護絶縁層の内側において前記貫通孔内に前記導電性物質を充填する工程と、
を含むことを特徴とする多層配線板用基材の製造方法。
A through hole is formed in an insulating layer having a conductive layer forming a wiring pattern on one side, and a conductive material for obtaining interlayer conduction of the conductive layer is disposed in the through hole, and the peripheral surface of the through hole A method for producing a multilayer wiring board substrate on which a protective insulating layer is formed,
Forming the through hole in the insulating layer;
Forming the protective insulating layer on the peripheral surface of the through hole;
Filling the through hole with the conductive material inside the protective insulating layer;
The manufacturing method of the base material for multilayer wiring boards characterized by including this.
前記保護絶縁層を形成する工程は、
加熱により体積収縮して硬化する性質を有する保護絶縁層形成材料を前記貫通孔内に充填する工程と、
前記保護絶縁層形成材料を加熱して体積収縮硬化させることで前記貫通孔の周面に保護絶縁層をコーティングする工程と、
を含むことを特徴とする請求項8記載の多層配線板用基材の製造方法。
The step of forming the protective insulating layer includes:
Filling the through-hole with a protective insulating layer forming material having a property of shrinking and curing by heating; and
Coating the protective insulating layer on the peripheral surface of the through hole by heating the protective insulating layer forming material and volume shrinkage hardening; and
The manufacturing method of the base material for multilayer wiring boards of Claim 8 characterized by the above-mentioned.
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