JP2005071823A - Static elimination method, static elimination device, droplet discharge device equipped with it, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a static elimination method, a static elimination device and a droplet discharge device capable of efficiently eliminating static generated in separating a workpiece having an electrifiable property from a work table. <P>SOLUTION: This static elimination method is used for eliminating static generated in separating the workpiece W having flexibility from the work table 141 by using an ionization light irradiation means 391. In a state that a part of the workpiece is brought into contact with the work table 141, other parts are lifted up, ionization light is radiated to a space between the lifted-up workpiece W and the work table 141, and the workpiece W is separated from the work table 141 in this radiation state. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を除電する除電方法、除電装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a static elimination method for neutralizing static electricity generated when a chargeable workpiece having flexibility is pulled away from a work table, a static elimination device, a droplet discharge device including the static elimination device, a method of manufacturing an electro-optical device, and an electro-optical device. The present invention relates to an apparatus and an electronic device.

従来、この種の除電方法および除電装置として、インクジェット方式でR・G・B各色のフィルタ素子を成膜するフィルタカラーフィルタの製造装置にイオナイザーを用いたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。この製造装置では、基板(ワーク)を走査するXYステージ(ワークテーブル)にイオナイザーを臨ませ、XYステージ上にセットした基板にイオン化エアーを吹き付けて、これに帯電した静電気を除電する。これにより、基板の表面における静電気が除電され、インクジェットヘッドから吐出されるインク滴の飛行曲がりを防止できるようになっている。また、基板にイオン化エアーを吹き付けるときに、基板を僅かにリフトアップしておいて、イオン化エアーを基板の裏面側にも送風し、除電を行うようにしている。
特開平11−281810号公報
Conventionally, as this kind of static elimination method and static elimination apparatus, an apparatus using an ionizer in a filter color filter manufacturing apparatus that forms R, G, and B color filter elements in an ink jet system is known (for example, Patent Documents). 1). In this manufacturing apparatus, an ionizer is exposed to an XY stage (work table) that scans a substrate (work), and ionized air is blown onto the substrate set on the XY stage to remove static electricity from the ionized air. As a result, static electricity on the surface of the substrate is eliminated, and flight bending of ink droplets ejected from the inkjet head can be prevented. Further, when ionizing air is blown onto the substrate, the substrate is lifted up slightly, and the ionized air is blown to the back side of the substrate so as to perform static elimination.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-281810

このような従来の除電方法および除電装置では、帯電したワークをワークテーブルにセットした後およびセットする前に除電することは可能であるが、ワークをワークテーブルから引き離す瞬間に発生する剥離帯電による静電気を除電する発想はない。もっとも、フィルタ素子を形成した後、ワークをワークテーブルから引き離すときにイオナイザーを再度駆動すれば、剥離帯電による静電気の除電も可能になる。しかし、ワークの面積が十分にあり且つ剥離帯電による静電気容量がこの面積に比例することにかんがみると、ワークをワークテーブルから単純に引き離したときに、発生した静電気が除電される前に放電により成膜部(フィルタ素子)が損傷を受ける問題が想定される。   In such a conventional static elimination method and static elimination device, it is possible to eliminate static electricity after setting a charged work piece on the work table and before setting it, but static electricity due to peeling electrification that occurs at the moment of separating the work piece from the work table. There is no idea to remove the charge. However, if the ionizer is driven again when the work is pulled away from the work table after the filter element is formed, static electricity can be eliminated by peeling charging. However, considering that the area of the work is sufficient and the electrostatic capacity due to peeling electrification is proportional to this area, when the work is simply pulled away from the work table, the generated static electricity is discharged before the charge is removed. A problem that the film forming part (filter element) is damaged is assumed.

本発明は、帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、効率良く除電することができる除電方法、除電装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。   The present invention relates to a static elimination method capable of efficiently eliminating static electricity generated when a chargeable workpiece is pulled away from a work table, a static elimination device, a droplet discharge device including the static elimination device, a method of manufacturing an electro-optical device, An object is to provide an optical device and an electronic device.

本発明の除電方法は、可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、エアーをイオン化するためのイオン化光を照射するイオン化光照射手段を用いて除電する除電方法であって、ワークテーブルに対し、ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップし、このリフトアップしたワークとワークテーブルとの空間にイオン化光を照射し、この照射状態で、ワークをワークテーブルから引き離すことを特徴とする。   The static elimination method of the present invention is a static elimination method in which static electricity generated when a chargeable workpiece having flexibility is pulled away from a work table is neutralized by using ionized light irradiation means for irradiating ionized light for ionizing air. The other part is lifted up with a part of the work being brought into contact with the work table, and the space between the lifted work and the work table is irradiated with ionized light. Is separated from the work table.

同様に、本発明の除電装置は、可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、エアーをイオン化するためのイオン化光を照射することにより除電する除電装置において、イオン化光を照射するイオン化光照射手段と、ワークテーブルに対し、ワークを部分的にリフトアップ可能なリフトアップ手段と、イオン化光照射手段および前記リフトアップ手段の駆動を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、ワークテーブルに対しワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップさせた後、ワークとワークテーブルとの空間にイオン化光を照射させ、この照射状態でワークをワークテーブルから引き離すよう再度リフトアップすることを特徴とする。   Similarly, the static eliminator of the present invention is a static eliminator that neutralizes static electricity generated by pulling away a flexible charged workpiece from the work table by irradiating ionized light for ionizing air. An ionizing light irradiation means for irradiating light, a lift-up means capable of partially lifting the work with respect to the work table, and a control means for controlling the driving of the ionizing light irradiation means and the lift-up means, The control means lifts up the other part in a state where a part of the work is in contact with the work table, and then irradiates the space between the work and the work table with ionized light. It is characterized in that it is lifted up again so as to be separated from.

これらの構成によれば、ワークテーブルに対し、ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップし、この状態でワークをワークテーブルから引き離すようにしているため、ワークテーブルに対するワークの剥離面積を小さくすることができ、発生する静電気容量を少なくすることができる。また、ワークテーブルに対し、ワークの一部を接触させ他の部分をリフトアップした状態で、ワークとワークテーブルとの空間にイオン化光を照射するようにしているため、ワークとワークテーブルとの空間にイオン化した十分なエアーを発生させることができ、発生する静電気を確実に除電することができる。   According to these configurations, since the other part is lifted up in a state where a part of the work is brought into contact with the work table and the work is pulled away from the work table in this state, the work is not moved to the work table. The peeling area can be reduced, and the generated electrostatic capacity can be reduced. In addition, the space between the work and the work table is irradiated with ionized light in a state where a part of the work is brought into contact with the work table and the other part is lifted up. Sufficient ionized air can be generated, and the generated static electricity can be surely eliminated.

この場合、照射状態で、ワークをイオン化光の光軸と略直交する方向に移動させることが、好ましい。   In this case, it is preferable to move the workpiece in a direction substantially orthogonal to the optical axis of the ionized light in the irradiated state.

同様に、ワークテーブルを介して、ワークをイオン化光の光軸と略直交する方向に移動させると共に、制御手段によりその駆動が制御される移動テーブルを、更に備え、制御手段は、照射状態でワークを移動させることが好ましい。   Similarly, the apparatus further includes a moving table that moves the work in a direction substantially orthogonal to the optical axis of the ionized light via the work table and whose driving is controlled by the control means. Is preferably moved.

これらの構成によれば、ある程度の時間は要するものの、大掛かりなイオン化光照射手段を必要とすることなく、ワークの除電が可能になる。   According to these configurations, although a certain amount of time is required, the work can be neutralized without requiring a large ionizing light irradiation means.

この場合、ワークを挟むようにして対向配置した一対のイオン化光照射手段を用い、ワークテーブルに対し、ワークを移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、この状態でイオン化光を照射することが、好ましい。   In this case, using a pair of ionizing light irradiation means arranged opposite to each other with the workpiece sandwiched therebetween, the workpiece is lifted up so that the intermediate portion along the moving direction is brought into contact with the workpiece table and both sides thereof are curved. Irradiation with ionized light is preferred.

同様に、イオン化光照射手段は、ワークを挟むようにして対向配置した一対のもので構成されており、制御手段は、ワークを移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、この状態でイオン化光を照射させることが、好ましい。   Similarly, the ionizing light irradiating means is composed of a pair of opposingly arranged so as to sandwich the work, and the control means lifts the work so that the intermediate part along the moving direction is brought into contact and both sides thereof are curved. In this state, it is preferable to irradiate with ionized light.

これらの構成によれば、部分的にリフトアップしたワークの両側にイオン化エアーを発生させることができ、効率良く除電を行うことができる。また、変則的なワークのリフトアップを安定に行うことができる。   According to these configurations, ionized air can be generated on both sides of a partially lifted workpiece, and charge removal can be performed efficiently. Further, the irregular workpiece lift-up can be stably performed.

本発明の他の除電方法は、可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、イオン化したエアーを吹き付けるイオン化エアーブロー手段を用いて除電する除電方法であって、ワークテーブルに対し、ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップし、このリフトアップしたワークとワークテーブルとの空間にイオン化エアーをブローし、このブロー状態で、ワークをワークテーブルから引き離すことを特徴とする。   Another static elimination method of the present invention is a static elimination method for neutralizing static electricity generated when a chargeable workpiece having flexibility is pulled away from a work table by using ionized air blow means for blowing ionized air. With the part of the workpiece in contact with the table, the other part is lifted up, and ionized air is blown into the space between the lifted work and the work table. In this blown state, the work is removed from the work table. It is characterized by pulling apart.

同様に、本発明の他の除電装置は、可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、イオン化したエアーを吹き付けることにより除電する除電装置において、イオン化エアーを吹き付けるイオン化エアーブロー手段と、ワークテーブルに対し、ワークを部分的にリフトアップ可能なリフトアップ手段と、イオン化エアーブロー手段およびリフトアップ手段の駆動を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、ワークテーブルに対しワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップさせた後、ワークとワークテーブルとの空間にイオン化エアーをブローさせ、このブロー状態でワークをワークテーブルから引き離すよう再度リフトアップすることを特徴とする。   Similarly, another static eliminator of the present invention is an ionization apparatus that neutralizes static electricity generated by pulling away a flexible charged work from the work table by blowing ionized air. An air blow means, a lift up means capable of partially lifting the work with respect to the work table, and a control means for controlling driving of the ionized air blow means and the lift up means. The other part is lifted up while part of the work is in contact with the air, and then ionized air is blown into the space between the work and the work table, and the work is lifted up again to separate the work from the work table. It is characterized by doing.

これらの構成によれば、ワークテーブルに対し、ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップし、この状態でワークをワークテーブルから引き離すようにしているため、ワークテーブルに対するワークの剥離面積を小さくすることができ、発生する静電気容量を少なくすることができる。また、ワークテーブルに対し、ワークの一部を接触させ他の部分をリフトアップした状態で、ワークとワークテーブルとの空間にイオン化エアーをブローするようにしているため、ワークとワークテーブルとの空間に十分なイオン化エアーを送り込むことができ、発生する静電気を確実に除電することができる。   According to these configurations, since the other part is lifted up in a state where a part of the work is brought into contact with the work table and the work is pulled away from the work table in this state, the work is not moved to the work table. The peeling area can be reduced, and the generated electrostatic capacity can be reduced. In addition, since ionized air is blown into the space between the work and the work table in a state where a part of the work is brought into contact with the work table and the other part is lifted up, the space between the work and the work table is reduced. Sufficient ionized air can be fed to the surface, and the generated static electricity can be surely eliminated.

この場合、ブロー状態で、ワークをイオン化エアーの吹出し方向と略直交する方向に移動させることが、好ましい。   In this case, it is preferable to move the workpiece in a direction substantially perpendicular to the blowing direction of ionized air in the blown state.

同様に、ワークテーブルを介して、ワークをイオン化エアーの吹出し方向と略直交する方向に移動させると共に、制御手段によりその駆動が制御される移動テーブルを、更に備え、制御手段は、ブロー状態でワークを移動させることが、好ましい。   Similarly, a work table is further provided through the work table to move the work in a direction substantially perpendicular to the blowing direction of the ionized air, and the driving of the work is controlled by the control means. Is preferably moved.

これらの構成によれば、ある程度の時間は要するものの、大掛かりなイオン化エアーブロー手段を必要とすることなく、ワークの除電が可能になる。   According to these structures, although a certain amount of time is required, it is possible to remove the work without requiring a large ionized air blowing means.

この場合、ワークを挟むようにして対向配置した一対のイオン化エアーブロー手段を用い、ワークテーブルに対し、ワークを移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、この状態でイオン化エアーをブローすることが、好ましい。   In this case, using a pair of ionized air blow means arranged opposite to each other so as to sandwich the workpiece, the workpiece is lifted up so that the intermediate portion along the moving direction is brought into contact with the work table and both sides thereof are curved. It is preferable to blow ionized air.

同様に、イオン化エアーブロー手段は、ワークを挟むようにして対向配置した一対のもので構成されており、制御手段は、ワークを移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、この状態でイオンエアーをブローさせることが、好ましい。   Similarly, the ionized air blow means is composed of a pair of opposed parts arranged so as to sandwich the work, and the control means lifts the work so that the intermediate part along the moving direction is brought into contact and both sides thereof are curved. In this state, it is preferable to blow ion air.

これらの構成によれば、部分的にリフトアップしたワークの両側にイオン化エアーを送り込むことができ、効率良く除電を行うことができる。また、変則的なワークのリフトアップを安定に行うことができる。   According to these configurations, ionized air can be sent to both sides of a partially lifted workpiece, and charge removal can be performed efficiently. Further, the irregular workpiece lift-up can be stably performed.

これらの場合、リフトアップ手段は、ワークテーブルに形成した多数の貫通孔に出没自在に遊挿され、ワークの中間部を突き上げる中間部ピン群およびワークの両側部を突き上げる一対の側部ピン群と、中間部ピン群を立設した中間部支持プレート、および各側部ピン群を立設した一対の側部支持プレートと、中間部支持プレートを上下動させる中間部上下動機構、および各側部支持プレートを上下動させる一対の側部上下動機構と、を有し、制御手段は、中間部上下動機構および一対の側部上下動機構を個別に制御可能に構成されていることが、好ましい。   In these cases, the lift-up means is loosely inserted into a large number of through-holes formed in the work table so as to freely move in and out, and an intermediate pin group that pushes up the intermediate part of the work and a pair of side pin groups that push up both sides of the work An intermediate part support plate in which the intermediate part pin group is erected, a pair of side support plates in which each side part pin group is erected, an intermediate part vertical movement mechanism for moving the intermediate part support plate up and down, and each side part And a pair of side vertical movement mechanisms for moving the support plate up and down, and the control means is preferably configured to be able to individually control the intermediate vertical movement mechanism and the pair of side vertical movement mechanisms. .

この構成によれば、制御手段により、中間部上下動機構および一対の側部上下動機構を個別に制御することにより、ワークのリフトアップ形態を自在に選択することができる。また、このリフトアップ手段により、ワークのセット形態も自在に工夫することができる。   According to this configuration, the lift-up form of the workpiece can be freely selected by individually controlling the intermediate part vertical movement mechanism and the pair of side vertical movement mechanisms by the control means. In addition, the lift-up means can be devised to set the work set freely.

この場合、中間部ピン群、中間部支持プレートおよび中間部上下動機構は、これらを支持する中間部ベースフレームによりユニット化され、且つ各側部ピン群、各側部支持プレートおよび各側部上下動機構は、これらを支持する側部ベースフレームによりユニット化されていることが、好ましい。   In this case, the intermediate part pin group, the intermediate part support plate, and the intermediate part vertical movement mechanism are unitized by an intermediate part base frame that supports them, and each side pin group, each side part support plate, and each side part vertical movement mechanism. The moving mechanism is preferably unitized by a side base frame that supports them.

この構成によれば、リフトアップ手段を3つのユニットで構成することにより、その組立て、取付け、交換およびメンテナンス等を容易に行うことができる。   According to this configuration, the lift-up means is configured by three units, so that the assembly, attachment, replacement, maintenance and the like can be easily performed.

本発明の液滴吐出装置は、上記した除電装置と、ワークテーブルと、を備え、ワークテーブルにセットしたワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、ワーク上に機能液を吐出して描画を行うことを特徴とする。   The droplet discharge device of the present invention includes the above-described static elimination device and a work table, while relatively moving the functional droplet discharge head into which the functional liquid is introduced with respect to the workpiece set on the work table, Drawing is performed by discharging a functional liquid onto a workpiece.

この構成によれば、ワークの搬入・搬出等に際し発生する静電気に対し、ワーク上に描画した機能液が損傷を受けるのを有効に防止することができる。   According to this configuration, it is possible to effectively prevent the functional liquid drawn on the workpiece from being damaged by static electricity generated when the workpiece is carried in / out.

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。   A method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention is characterized in that a film-forming unit made of functional droplets is formed on a workpiece using the above-described droplet discharge device.

また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。   In addition, an electro-optical device according to the present invention is characterized in that the above-described droplet discharge device is used to form a film forming portion using functional droplets on a workpiece.

これらの構成によれば、ワークの搬入・搬出等に際し発生する静電気を有効に除電することができる液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置(フラットパネルディスプレイ)としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機EL装置、PDP装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるFED(Field Emission Display)やSED(Surface-conduction Electron-Emitter Display)装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。   According to these configurations, a highly reliable electro-optical device can be manufactured because it is manufactured using a droplet discharge device that can effectively remove static electricity generated when a workpiece is carried in and out. It becomes. As the electro-optical device (flat panel display), a color filter, a liquid crystal display device, an organic EL device, a PDP device, an electron emission device, and the like are conceivable. The electron emission device is a concept including a so-called FED (Field Emission Display) or SED (Surface-conduction Electron-Emitter Display) device. Further, as the electro-optical device, devices including metal wiring formation, lens formation, resist formation, light diffuser formation, and the like are conceivable.

本発明の電子機器は、上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device.

この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。   In this case, the electronic apparatus corresponds to various electric products in addition to a mobile phone and a personal computer equipped with a so-called flat panel display.

本発明の除電方法および除電装置によれば、帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、効率良く除電することができるため、ワークに形成した素子の放電による損傷を有効に防止することができる。   According to the static elimination method and static elimination apparatus of the present invention, static electricity generated when a chargeable workpiece is pulled away from the work table can be efficiently eliminated, so that damage caused by discharge of elements formed on the workpiece can be effectively prevented. be able to.

本発明の液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器によれば、信頼性の高い電気光学装置を安定に製造することが可能となる。   According to the droplet discharge device, the electro-optical device manufacturing method, the electro-optical device, and the electronic apparatus of the present invention, it is possible to stably manufacture a highly reliable electro-optical device.

以下、添付の図面を参照しながら、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機EL装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。   Hereinafter, a droplet discharge device to which the present invention is applied will be described with reference to the accompanying drawings. This droplet discharge device is incorporated in a so-called flat display production line, and emits light that becomes a color filter of a liquid crystal display device or each pixel of an organic EL device by a droplet discharge method using a functional droplet discharge head. An element or the like is formed.

図1ないし図4に示すように、液滴吐出装置1は、吐出装置本体2と、これに併設したタンクキャビネット3とを、不活性ガスやドライエアーを導入したチャンバ装置4に収容して構成されている。吐出装置本体2は、床上に設置した大型の架台11と、架台11上に載置された石定盤12と、を備えている。これらの図に示すように、架台11上には、石定盤12を介して描画装置21が広く配設され、また、石定盤12から外れた機台13上には、描画装置21に添設するようにメンテナンス装置22が配設されている。また、吐出装置本体2は、液体供給回収装置23を備えており、タンクキャビネット3には、描画装置21に供給する機能液を貯留する液体供給回収装置23のタンク類が収容されている(詳細は後述する)。さらに、吐出装置本体2には、各装置に圧縮エアー(不活性ガスやドライエアー)を供給するエアー供給装置24や、ワークWを吸引セットするためのエアー吸引装置25、各装置を統括制御する制御装置26が設けられている他、ワーク認識カメラ236やヘッド認識カメラ225等、各種付帯装置が配設されている。   As shown in FIGS. 1 to 4, the droplet discharge device 1 is configured by accommodating a discharge device main body 2 and a tank cabinet 3 provided therewith in a chamber device 4 into which inert gas or dry air is introduced. Has been. The discharge device main body 2 includes a large base 11 installed on the floor and a stone surface plate 12 placed on the base 11. As shown in these drawings, a drawing device 21 is widely arranged on the gantry 11 via a stone surface plate 12, and the drawing device 21 is placed on a machine base 13 removed from the stone surface plate 12. A maintenance device 22 is disposed so as to be attached. The discharge device body 2 includes a liquid supply / recovery device 23, and the tank cabinet 3 accommodates tanks of the liquid supply / recovery device 23 that stores the functional liquid supplied to the drawing device 21 (details). Will be described later). Further, the discharge device main body 2 controls the air supply device 24 for supplying compressed air (inert gas or dry air) to each device, the air suction device 25 for sucking and setting the workpiece W, and the respective devices. In addition to the control device 26, various auxiliary devices such as a work recognition camera 236 and a head recognition camera 225 are provided.

この液滴吐出装置1では、液体供給回収装置23から機能液を供給しながら、エアー吸引装置25で吸着セットしたワークW上に、描画装置21に搭載された機能液滴吐出ヘッド51により機能液滴を吐出して描画を行うと共に、メンテナンス装置22により適宜機能液滴吐出ヘッド51のメンテナンスを行うようにしている。上述したように、吐出装置本体2は、チャンバ装置4内に収容されており、ワークWに対する描画処理や機能液滴吐出ヘッド51のメンテナンス処理等、ほとんどの処理を、これに導入した不活性ガスやドライエアーの雰囲気中で行うようになっている(図1参照)。   In this droplet discharge device 1, while supplying the functional liquid from the liquid supply / recovery device 23, the functional liquid is discharged by the functional droplet discharge head 51 mounted on the drawing device 21 onto the work W sucked and set by the air suction device 25. In addition to performing drawing by discharging droplets, maintenance of the functional droplet discharge head 51 is appropriately performed by the maintenance device 22. As described above, the discharge device main body 2 is accommodated in the chamber device 4, and an inert gas into which most processes such as a drawing process for the workpiece W and a maintenance process for the functional liquid droplet discharge head 51 are introduced. Or in a dry air atmosphere (see FIG. 1).

ここで、液滴吐出装置1の各装置について簡単に説明する。描画装置21は、セットテーブル141(後述する)にセットしたワークWに機能液を吐出するための吐出手段31と、セットテーブル141に対してワークWを除給(着脱)するためのワーク除給手段32と、を備えている。吐出手段31は、機能液滴吐出ヘッド51を有するヘッドユニット41(サブキャリッジ)と、ヘッドユニット41を着脱可能に支持するメインキャリッジ42と、セットテーブル141(後述する)にセットしたワークWに対してヘッドユニット41を相対的に移動させるX・Y移動機構43と、を有している。   Here, each device of the droplet discharge device 1 will be briefly described. The drawing apparatus 21 includes a discharge means 31 for discharging functional liquid onto a work W set on a set table 141 (described later), and a work discharge for discharging or attaching (detaching) the work W to or from the set table 141. Means 32. The ejection means 31 is for a head unit 41 (subcarriage) having a functional liquid droplet ejection head 51, a main carriage 42 that detachably supports the head unit 41, and a workpiece W set on a set table 141 (described later). And an XY movement mechanism 43 that relatively moves the head unit 41.

図5に示すように、ヘッドユニット41は、ヘッド保持部材(図示省略)を介して機能液滴吐出ヘッド51を搭載したヘッドプレート52と、メインキャリッジ42に着脱可能に構成されたヘッド支持部材53と、を備えている。ヘッドプレート52の端部には、配管ジョイント55を有するジョイントユニット54が配設されており、配管ジョイント55の一端は、機能液滴吐出ヘッド51(配管アダプタ65)からのヘッド側配管部材(図示省略)が接続され、もう一端は機能液滴吐出ヘッド51に機能液を供給する機能液供給機構(図示省略)からの装置側配管部材(図示省略)が接続される。   As shown in FIG. 5, the head unit 41 includes a head plate 52 on which the functional liquid droplet ejection head 51 is mounted via a head holding member (not shown), and a head support member 53 configured to be detachable from the main carriage 42. And. A joint unit 54 having a pipe joint 55 is disposed at the end of the head plate 52, and one end of the pipe joint 55 is a head side pipe member (not shown) from the functional liquid droplet ejection head 51 (pipe adapter 65). The other end is connected to a device-side piping member (not shown) from a functional liquid supply mechanism (not shown) that supplies the functional liquid to the functional liquid droplet ejection head 51.

ヘッドユニット41には、ヘッドプレート52に12個の機能液滴吐出ヘッド51および12個の配管ジョイント55を搭載した第1ヘッドユニットと、ヘッドプレート52に2個の機能液滴吐出ヘッド51および2個の配管ジョイント55を搭載した第2ヘッドユニットとの2種類のものが用意されており、第1ヘッドユニットおよび第2ヘッドユニットの機能液滴吐出ヘッド51は、同一の配置パターンに倣って、所定角度傾けた状態でヘッドプレート52に取り付けられている。なお、第1ヘッドユニットおよび第2ヘッドユニットは、メインキャリッジ42に対する同一の取付形態を有しており、相互に交換可能に構成されている。ただし、機能液滴吐出ヘッド51の個数や配列は、上記したものに限られるものではなく任意である。なお、図5、図7および図8は、第1ヘッドユニットを示している。   The head unit 41 includes a first head unit in which twelve functional liquid droplet ejection heads 51 and twelve pipe joints 55 are mounted on the head plate 52, and two functional liquid droplet ejection heads 51 and 2 on the head plate 52. Two types of second head units equipped with a plurality of pipe joints 55 are prepared, and the functional liquid droplet ejection heads 51 of the first head unit and the second head unit follow the same arrangement pattern, It is attached to the head plate 52 in a state inclined at a predetermined angle. The first head unit and the second head unit have the same mounting form with respect to the main carriage 42, and are configured to be interchangeable. However, the number and arrangement of the functional liquid droplet ejection heads 51 are not limited to those described above and are arbitrary. 5, 7 and 8 show the first head unit.

図6に示すように、機能液滴吐出ヘッド51は、いわゆる2連のものであり、2連の接続針62を有する機能液導入部61と、機能液導入部61に連なる2連のヘッド基板63と、機能液導入部61の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体64と、を備えている。各接続針62は、配管アダプタ65を介して、ヘッド側配管部材に接続されており、機能液滴吐出ヘッド51は、各接続針62から機能液の供給を受けるようになっている。ヘッド本体64は、キャビティ71(ピエゾ圧電素子)と、ノズル面73を有するノズルプレート72と、で構成されている。ノズル面73の下面には、多数(180個)の吐出ノズル74からなるノズル列が2列形成されている。機能液滴吐出ヘッド51では、キャビティ71のポンプ作用により吐出ノズル74から機能液を吐出する。   As shown in FIG. 6, the functional liquid droplet ejection head 51 has a so-called double structure, a functional liquid introduction part 61 having two connection needles 62, and a dual head substrate that is continuous with the functional liquid introduction part 61. 63, and a head main body 64 which is connected to the lower side of the functional liquid introducing portion 61 and has an in-head flow path filled with the functional liquid therein. Each connection needle 62 is connected to the head side piping member via a pipe adapter 65, and the functional liquid droplet ejection head 51 is supplied with a functional liquid from each connection needle 62. The head main body 64 is composed of a cavity 71 (piezoelectric element) and a nozzle plate 72 having a nozzle surface 73. On the lower surface of the nozzle surface 73, two rows of nozzle rows composed of a large number (180) of discharge nozzles 74 are formed. In the functional liquid droplet ejection head 51, the functional liquid is ejected from the ejection nozzle 74 by the pump action of the cavity 71.

図7および図8に示すように、メインキャリッジ42は、ヘッドユニット41(第1ヘッドユニットおよび第2ヘッドユニット)を着脱可能に支持するキャリッジ本体81と、キャリッジ本体81を吊設し、Y軸テーブル122に支持された吊設部材82と、を備えており、吊設部材82には、ヘッドユニット41をθ軸方向に回動させるヘッド回動機構83、およびヘッドユニット41を昇降させるヘッド昇降機構84が組み込まれている。両図に示すように、吊設部材82は、Y軸テーブル122のブリッジプレート241(後述する)に固定される一対のヘッド固定部材91と、一対のヘッド固定部材91の上面に架け渡されたヘッド支持プレート92と、を有しており、ヘッド回動機構83の上部に連結したヘッド昇降機構84がヘッド支持プレート92に支持されている。   As shown in FIGS. 7 and 8, the main carriage 42 has a carriage body 81 that detachably supports a head unit 41 (first head unit and second head unit), a carriage body 81 suspended, and a Y axis. A suspension member 82 supported by the table 122. The suspension member 82 includes a head rotation mechanism 83 that rotates the head unit 41 in the θ-axis direction, and a head lift that moves the head unit 41 up and down. A mechanism 84 is incorporated. As shown in both drawings, the suspension member 82 is bridged between a pair of head fixing members 91 fixed to a bridge plate 241 (described later) of the Y-axis table 122 and the upper surfaces of the pair of head fixing members 91. The head support plate 92 is supported by the head support plate 92. The head lifting mechanism 84 is connected to the upper portion of the head rotation mechanism 83.

ヘッド回動機構83は、ワークWに対するヘッドユニット41の水平面内における角度補正等に用いられるものであり、キャリッジ本体81を支持するようにその上面に固定されたヘッド回動部101と、上側に位置するヘッド昇降機構84に固定されると共にヘッド回動部101をθ軸方向に回動可能に支持するヘッド固定部102と、ヘッド回動部101を回動させる正逆回転可能なヘッド回動モータ103と、を有している。ヘッド回動モータ103は、ヘッド回動部101とヘッド固定部102との間に介設したいわゆるダイレクトモータ(ステッピングモータ)であり、このヘッド回動モータ103を駆動すると、ヘッド回動部101がθ軸を中心に回動する。これにより、キャリッジ本体81を介して、ヘッドユニット41を回動させることができ、水平面内におけるヘッドユニット41(機能液滴吐出ヘッド51)の傾き角度を自在に変更させることが可能となる。ヘッド回動機構83の回動軸となるθ軸は、ヘッドユニット41の重心を通っており、ヘッドユニット41を安定した状態で回動できるようになっている。   The head rotation mechanism 83 is used for angle correction or the like in the horizontal plane of the head unit 41 with respect to the workpiece W, and includes a head rotation unit 101 fixed to the upper surface so as to support the carriage body 81 and an upper side. A head fixing portion 102 that is fixed to the head raising / lowering mechanism 84 and supports the head rotation portion 101 so as to be rotatable in the θ-axis direction, and a head rotation that can be rotated forward and backward to rotate the head rotation portion 101. And a motor 103. The head rotation motor 103 is a so-called direct motor (stepping motor) interposed between the head rotation unit 101 and the head fixing unit 102. When the head rotation motor 103 is driven, the head rotation unit 101 is It rotates around the θ axis. Thereby, the head unit 41 can be rotated via the carriage body 81, and the inclination angle of the head unit 41 (functional liquid droplet ejection head 51) in the horizontal plane can be freely changed. The θ-axis serving as the rotation axis of the head rotation mechanism 83 passes through the center of gravity of the head unit 41 so that the head unit 41 can be rotated in a stable state.

なお、ヘッド回動部101の側部には、セットテーブル141の一部を撮像し、セットテーブル141の基準値に対する位置ずれを検出する吐出補正用カメラ104が固定されており、この検出結果に基づいて、機能液滴吐出ヘッド51の吐出タイミングを補正するようになっている(図7参照)。   An ejection correction camera 104 that captures a part of the set table 141 and detects a positional deviation with respect to a reference value of the set table 141 is fixed to the side of the head rotating unit 101. Based on this, the ejection timing of the functional liquid droplet ejection head 51 is corrected (see FIG. 7).

ヘッド昇降機構84は、ヘッドユニット41に搭載した機能液滴吐出ヘッド51のノズル面73と、X・Y移動機構43のセットテーブル141(後述する)にセットされたワークW表面との間隙、すなわちワークギャップを調整するためのものであり、下部に固定したヘッド回動機構83およびキャリッジ本体81を介してヘッドユニット41を昇降させる。図7および図8に示すように、ヘッド昇降機構84は、一対のヘッド固定部材91に昇降自在に支持されるヘッド昇降スライダ111と、ヘッド固定部材91とヘッド昇降スライダ111との間に介設され、ヘッド昇降スライダ111の昇降移動を案内する4組のヘッド昇降ガイド112と、ヘッド支持プレート92の上面中央に、ヘッド支持プレート92を貫通させて固定したヘッド昇降モータ113(サーボモータまたはステッピングモータ)と、ヘッド昇降モータ113により正逆回転するヘッド昇降ボールねじ(図示省略)と、ヘッド昇降ボールねじに螺合すると共に、ヘッド昇降スライダ111の正面に固定されたヘッド昇降ブロック115と、を備えている。なお、符号116は、ヘッド昇降ブロック115の下限位置を規制するために、ヘッド昇降ブロック115に度当たりする度当り部材であり、度当たり部材116は、度当り調整ねじ117に螺設されている。   The head lifting mechanism 84 is a gap between the nozzle surface 73 of the functional liquid droplet ejection head 51 mounted on the head unit 41 and the surface of the workpiece W set on a set table 141 (described later) of the XY movement mechanism 43, that is, For adjusting the work gap, the head unit 41 is moved up and down via a head rotation mechanism 83 and a carriage body 81 fixed to the lower part. As shown in FIGS. 7 and 8, the head elevating mechanism 84 includes a head elevating slider 111 that is supported by a pair of head fixing members 91 so as to elevate freely, and is interposed between the head fixing member 91 and the head elevating slider 111. The four head lifting guides 112 for guiding the head lifting and lowering slider 111 and the head lifting motor 113 (servo motor or stepping motor) fixed to the center of the upper surface of the head supporting plate 92 through the head supporting plate 92. ), A head lifting ball screw (not shown) that rotates forward and backward by the head lifting motor 113, and a head lifting block 115 that is screwed to the head lifting ball screw and fixed to the front of the head lifting slider 111. ing. Reference numeral 116 denotes a contact member that contacts the head lifting block 115 in order to restrict the lower limit position of the head lifting block 115, and the contact member 116 is screwed to the adjustment screw 117. .

ヘッド昇降モータ113を駆動するとヘッド昇降ボールねじが回転し、4組のヘッド昇降ガイド112にガイドされながら、ヘッド昇降ブロック115を介してヘッド昇降スライダ111が昇降する。この結果、ヘッド昇降スライダ111に吊設されたヘッド回動機構83およびキャリッジ本体81を介してヘッド回動機構83に支持するヘッドユニット41が昇降する。この場合、ヘッド昇降モータ113の回転軸は、ヘッド回動機構83のθ軸と一致していると共に、4組のヘッド昇降ガイド112およびヘッド昇降ブロック115は、θ軸に対して点対称に配設されている。これにより、ヘッド昇降スライダ111の水平面内のずれを防止して、ヘッド昇降スライダ111を介して、精度よくヘッドユニット41を昇降させることができるようになっている。   When the head lifting / lowering motor 113 is driven, the head lifting / lowering ball screw rotates, and the head lifting / lowering slider 111 moves up and down via the head lifting / lowering block 115 while being guided by the four head lifting / lowering guides 112. As a result, the head unit 41 supported by the head rotating mechanism 83 moves up and down via the head rotating mechanism 83 suspended from the head lifting slider 111 and the carriage body 81. In this case, the rotation axis of the head lifting motor 113 coincides with the θ axis of the head rotation mechanism 83, and the four sets of head lifting guide 112 and the head lifting block 115 are arranged symmetrically with respect to the θ axis. It is installed. Accordingly, the head lifting slider 111 can be prevented from shifting in the horizontal plane, and the head unit 41 can be lifted and lowered with high accuracy via the head lifting slider 111.

X・Y移動機構43は、いわゆるX・Yロボットであり、X軸方向に延在してワークWをX軸方向に移動させるX軸テーブル121と、X軸テーブル121に直交して配設されたY軸テーブル122と、で構成されている(図2等参照)。なお、Y軸テーブル122の図示手前側の領域がワークWの搬出入が行われるワーク搬出入領域131に、またX軸テーブル121とY軸テーブル122が交わる領域がワークWに描画処理を行う描画領域132になっている。そして、図示しないが、ワーク搬出入領域131に面して、チャンバ装置4には搬出入用開口が形成されており、ワークWは移載ロボットにより、この搬出入用開口から搬入および搬出されるようになっている。   The X / Y moving mechanism 43 is a so-called X / Y robot, and is arranged orthogonal to the X-axis table 121 and an X-axis table 121 that extends in the X-axis direction and moves the workpiece W in the X-axis direction. And a Y-axis table 122 (see FIG. 2 and the like). Note that the area on the near side of the Y-axis table 122 in the drawing is the work carry-in / out area 131 where the work W is carried in and out, and the area where the X-axis table 121 and the Y-axis table 122 intersect is drawn in the work W. This is an area 132. Although not shown, the chamber device 4 has a loading / unloading opening facing the workpiece loading / unloading area 131, and the workpiece W is loaded and unloaded from the loading / unloading opening by the transfer robot. It is like that.

図3、図9および図10に示すように、X軸テーブル121は、ワークWをセットするセットテーブル141(ワークテーブル)と、セットテーブル141をX軸方向にスライド自在に支持するX軸エアースライダ142と、X軸方向に延在し、セットテーブル141を介してワークWをX軸方向に移動させる左右一対のX軸リニアモータ143と、X軸リニアモータ143に並設され、X軸エアースライダ142の移動を案内する一対のX軸ガイドレール144と、を備えており、一対のX軸リニアモータ143を(同期させて)駆動すると、一対のX軸ガイドレール144をガイドにしながら、X軸エアースライダ142がX軸方向に移動し、セットテーブル141にセットされたワークWがX軸方向に移動する。また、一対のX軸ガイドレール144の間には、X軸リニアスケール145が併設されている。X軸リニアスケール145に基づいて、X軸テーブル121を移動するセットテーブル141の刻々の位置を正確に把握し、機能液滴吐出ヘッド51の吐出タイミング用基準パルスを得ている。なお、図中に示す符号146は、各X軸ガイドレール144を上側から覆うように張架された帯状のステンレス製の防液シートであり、これによりX軸ガイドレール144等に対する機能液の付着が防止される。   As shown in FIGS. 3, 9, and 10, the X-axis table 121 includes a set table 141 (work table) for setting a work W and an X-axis air slider that supports the set table 141 slidably in the X-axis direction. 142, a pair of left and right X-axis linear motors 143 that extend in the X-axis direction and move the workpiece W in the X-axis direction via the set table 141, and the X-axis linear motor 143, and are arranged in parallel with each other. 142, and a pair of X-axis guide rails 144 that guide the movement of 142. When the pair of X-axis linear motors 143 are driven (synchronized), the X-axis The air slider 142 moves in the X-axis direction, and the workpiece W set on the set table 141 moves in the X-axis direction. Further, an X-axis linear scale 145 is provided between the pair of X-axis guide rails 144. Based on the X-axis linear scale 145, the position of the set table 141 that moves the X-axis table 121 is accurately grasped, and the reference pulse for ejection timing of the functional liquid droplet ejection head 51 is obtained. A reference numeral 146 shown in the drawing is a belt-like stainless steel liquid-proof sheet stretched so as to cover each X-axis guide rail 144 from above, whereby the functional liquid adheres to the X-axis guide rail 144 and the like. Is prevented.

図10に示すように、セットテーブル141は、X軸エアースライダ142に支持されたθテーブル151に、ワークWを吸着セットする吸着テーブル152を重合させたものである。図11に示すように、θテーブル151は、X軸エアースライダ142に支持されたθテーブル支持部161と、吸着テーブル152の下面に着脱可能に固定され、θテーブル支持部161に対してθ軸方向に回動可能なθテーブル回転部162と、を有している。また、θテーブル支持部161とθテーブル回転部162との間には、θテーブル支持部161側のアウタレース164およびθテーブル回転部162側のインナレース165(環状リング)間に多数のボールを有するベアリング状部材163が組み込まれている。θテーブル回転部162から径方向が外方に延びる作動アーム(図示省略)の先端には、θテーブル回転部162を回転(回動)させるθテーブル駆動部167が設けられている。   As shown in FIG. 10, the set table 141 is obtained by superposing a suction table 152 that sucks and sets the workpiece W on the θ table 151 supported by the X-axis air slider 142. As shown in FIG. 11, the θ table 151 is detachably fixed to the lower surface of the suction table 152 and the θ table support portion 161 supported by the X-axis air slider 142, and is attached to the θ table support portion 161 with the θ axis. And a θ table rotating section 162 that can rotate in the direction. Further, between the θ table support portion 161 and the θ table rotation portion 162, there are many balls between the outer race 164 on the θ table support portion 161 side and the inner race 165 (annular ring) on the θ table rotation portion 162 side. A bearing-like member 163 is incorporated. A θ table driving unit 167 that rotates (rotates) the θ table rotating unit 162 is provided at the tip of an operating arm (not shown) whose radial direction extends outward from the θ table rotating unit 162.

θテーブル駆動部167は、モータで構成したアクチュエータ171と、アクチュエータ171に連結したθボールねじ172と、θボールねじ172に螺合する雌ねじ(図示省略)を有するθスライダ173とを有し、このθスライダ173に上記の作動アームが取り付けられている。θスライダ173は、作動アームの角度変化および角度変化に伴う延在方向の寸法変化を許容する回動受け部175および径方向スライド部176を有し、θボールねじ172の正逆回転に伴う進退動を、作動アームの回動動作に動力変換する。これにより、ワークWを吸着テーブル152上にセットした後、アクチュエータ171を駆動すると、θテーブル回転部162がθ軸方向に僅かに回動し、吸着テーブル152を介して、θ軸方向におけるワークWの位置を微調整(補正)できるようになっている。   The θ table driving unit 167 includes an actuator 171 configured by a motor, a θ ball screw 172 connected to the actuator 171, and a θ slider 173 having a female screw (not shown) screwed to the θ ball screw 172. The operating arm is attached to the θ slider 173. The θ slider 173 has a rotation receiving portion 175 and a radial slide portion 176 that allow an angle change of the operating arm and a dimensional change in the extending direction accompanying the angle change, and advances and retreats with the forward and reverse rotation of the θ ball screw 172. The power is converted into a rotational movement of the operating arm. Accordingly, when the work W is set on the suction table 152 and then the actuator 171 is driven, the θ table rotating portion 162 is slightly rotated in the θ axis direction, and the work W in the θ axis direction is passed through the suction table 152. Can be finely adjusted (corrected).

図12および図13に示すように、吸着テーブル152は、θテーブル151に着脱可能に固定された支持ベース181と、支持ベース181に立設された3点支持機構182と、3点支持機構182に支持され、ワークWを吸着セットするテーブル本体183と、を有している。なお、同図に示すように、吸着テーブル152には、ワーク除給手段32のリフトアップ機構261(後述する)およびプリアライメント機構262(後述する)が組み込まれている。   As shown in FIGS. 12 and 13, the suction table 152 includes a support base 181 that is detachably fixed to the θ table 151, a three-point support mechanism 182 that is erected on the support base 181, and a three-point support mechanism 182. And a table body 183 for sucking and setting the workpiece W. As shown in the figure, the suction table 152 incorporates a lift-up mechanism 261 (described later) and a pre-alignment mechanism 262 (described later) of the workpiece discharging means 32.

支持ベース181は、方形に形成した板状の石材で構成されており、支持ベース181の左右両端部下面には、吸着テーブル152の搬出入に用いる一対のテーブル運搬用鋼材184が固定されている。支持ベース181は、吸着テーブル152の重心がθテーブル151の回転軸(すなわちθ軸)と略一致するようにθテーブル回転部162の上面に固定されている。支持ベース181には、θ軸とテーブル本体183の重心が一致するように3点支持機構182が配設されており、この3点支持機構182の3点(後述する3本のテーブル支持部材191)は、上記のインナレース165のほぼ直上部に且つ周方向に等間隔となるように位置している。また、図12および図13に示すように、支持ベース181には、3点支持機構182によって支持されるテーブル本体183の横ブレを規制する4組8個の位置規制部材185が設けられている。詳細は後述するが、この他にも支持ベース181上には、メンテナンス装置22の吐出前フラッシングユニット411や、ワーク除給手段32のリフトアップ機構261およびプリアライメント機構262が配設されていると共に、ワークWを吸着セットするための吸引配管部572(バルブ・配管部)や吸着テーブル152廻りの各機構に圧縮エアーを供給するためのエアー配管部553(バルブ・配管部)等が設置されている。   The support base 181 is formed of a square plate-shaped stone material, and a pair of table transporting steel materials 184 used for carrying in and out of the suction table 152 are fixed to the lower surfaces of both left and right ends of the support base 181. . The support base 181 is fixed to the upper surface of the θ table rotation unit 162 so that the center of gravity of the suction table 152 substantially coincides with the rotation axis of the θ table 151 (that is, the θ axis). A three-point support mechanism 182 is disposed on the support base 181 so that the θ axis and the center of gravity of the table main body 183 coincide with each other. Three points of the three-point support mechanism 182 (three table support members 191 described later). ) Are positioned almost directly above the inner race 165 and at equal intervals in the circumferential direction. As shown in FIGS. 12 and 13, the support base 181 is provided with four sets of eight position restricting members 185 for restricting lateral blurring of the table main body 183 supported by the three-point support mechanism 182. . Although details will be described later, on the support base 181, a pre-discharge flushing unit 411 of the maintenance device 22, a lift-up mechanism 261 and a pre-alignment mechanism 262 of the work discharging means 32 are disposed. In addition, a suction piping section 572 (valve / pipe section) for sucking and setting the work W, an air piping section 553 (valve / pipe section) for supplying compressed air to each mechanism around the suction table 152 are installed. Yes.

3点支持機構182は、3点支持により、テーブル本体183を安定して支持するものであり、図13に示すように、3本のテーブル支持部材191(支柱部材)で構成されている。3本のテーブル支持部材191は、各テーブル支持部材191を結んだ三角形が略正三角形となり、かつ各テーブル支持部材191に略均等にテーブル本体の重量がかかるよう(すなわち、テーブル本体183の重心と各テーブル支持部材191を結んだときに形成される三角形の重心を一致させて)配設されている。   The three-point support mechanism 182 stably supports the table main body 183 by the three-point support, and includes three table support members 191 (support members) as shown in FIG. In the three table support members 191, the triangle connecting the table support members 191 is a substantially regular triangle, and the weight of the table body is applied to each table support member 191 substantially equally (that is, the center of gravity of the table body 183 The triangles formed when the table support members 191 are connected to each other are arranged so that their center of gravity coincides.

各テーブル支持部材191は、その上面中央にテーブル本体183をねじ止めするための雌ねじが螺設された円柱状のテーブル支持部192と、上端にテーブル支持部192をフランジ形式で固定したテーブル高さ調整機構193と、を有している。   Each table support member 191 has a columnar table support portion 192 in which a female screw for screwing the table main body 183 is screwed at the center of the upper surface, and a table height in which the table support portion 192 is fixed to the upper end in a flange form. An adjustment mechanism 193.

3点支持に対応する3つのテーブル高さ調整機構193は、それぞれが上下に微調整されることにより、テーブル本体183(のセット面183a)の水平面に対する平行度を高精度に調整できるようになっている(理論的には3点支持のうち2点が調整できればよい)。図14を参照して説明すると、各テーブル高さ調整機構193は、支持ベース181に位置決め固定されたケース状のベースフレーム194と、ベースフレーム194に対し昇降自在(上下動自在)に支持されたテーブル本体183側の昇降ブロック195と、昇降ブロック195の下面に接触すると共にベースフレーム194に対しX軸方向に進退自在に支持された支持ベース181側の進退ブロック196と、ベースフレーム194に回動自在に軸支され軸部を進退ブロック196に螺合したテーブル高さ調整ねじ197と、を有している。   The three table height adjusting mechanisms 193 corresponding to the three-point support can finely adjust each up and down to adjust the parallelism of the table body 183 (the set surface 183a) with respect to the horizontal plane with high accuracy. (Theoretically, it is only necessary to adjust two of the three-point support). Referring to FIG. 14, each table height adjusting mechanism 193 is supported by a case-like base frame 194 positioned and fixed to the support base 181 and is movable up and down (movable up and down) with respect to the base frame 194. A lifting block 195 on the table body 183 side, a back and forth block 196 on the support base 181 side which contacts the lower surface of the lifting block 195 and is supported so as to be able to advance and retreat in the X-axis direction with respect to the base frame 194, and rotate to the base frame 194 And a table height adjusting screw 197 that is supported freely and has a shaft portion screwed into an advance / retreat block 196.

同図に示すように、進退ブロック196および昇降ブロック195は、相互の接触面が相補的な形状をしており、進退ブロック196の上端面(接触面)は、スライド方向に対して僅かに傾斜して形成される一方、昇降ブロック195の下端面(接触面)は、進退ブロック196のスライド方向に対して、進退ブロック196と反対方向に同角度に傾斜して形成されている。したがって、テーブル高さ調整ねじ197を正逆回転させると、進退ブロック196がX軸方向にスライドし、相互の接触面のカム作用により昇降ブロック195が昇降する。   As shown in the figure, the advancing / retreating block 196 and the lifting / lowering block 195 have complementary contact surfaces, and the upper end surface (contact surface) of the advancing / retreating block 196 is slightly inclined with respect to the sliding direction. On the other hand, the lower end surface (contact surface) of the elevating block 195 is formed to be inclined at the same angle in the opposite direction to the advance / retreat block 196 with respect to the sliding direction of the advance / retreat block 196. Therefore, when the table height adjusting screw 197 is rotated forward and backward, the advance / retreat block 196 slides in the X-axis direction, and the elevating block 195 is raised and lowered by the cam action of the mutual contact surfaces.

進退ブロック196および昇降ブロック195の両接触面は、スライド方向に直交する断面形状が凹凸を為して接合しており、これらブロック195,196が相互に横ブレしないようになっている。そして、高さ調整が終了すると、調整した高さが狂わないようにブロック固定ねじ200でねじ止めする。具体的には、昇降ブロック195およびベースフレーム194を2個のブロック固定ねじ200で、高さ調整ねじ197と同じ方向にねじ止めし、進退ブロック196およびベースフレーム194を2個のブロック固定ねじ200で高さ調整ねじ197と直交する方向にねじ止めする。この場合、ベースフレーム194の両側板には、ねじ穴198が、進退ブロック196には、スライド方向に延在する長穴199が形成されており、進退ブロック196のスライド位置に合わせて、これらをねじ止めできるようになっている(図14参照)。   The contact surfaces of the advancing / retreating block 196 and the elevating block 195 are joined so that the cross-sectional shape perpendicular to the sliding direction is uneven, so that the blocks 195 and 196 do not laterally shake each other. Then, when the height adjustment is completed, the block fixing screw 200 is used for screwing so that the adjusted height does not go wrong. Specifically, the elevating block 195 and the base frame 194 are screwed with the two block fixing screws 200 in the same direction as the height adjusting screw 197, and the advance / retreat block 196 and the base frame 194 are fixed with the two block fixing screws 200. Then, it is screwed in a direction orthogonal to the height adjusting screw 197. In this case, screw holes 198 are formed in both side plates of the base frame 194, and a long hole 199 extending in the sliding direction is formed in the advance / retreat block 196. These holes are arranged in accordance with the slide position of the advance / retreat block 196. It can be screwed (see FIG. 14).

テーブル本体183は、石材で厚板状に構成された平面視略正方形の石盤である。テーブル本体183の一辺の長さは、ワークWの長辺の長さと一致しており、コストダウンを図るべく最小限の大きさに形成されると共に、縦置きおよび横置きのいずれか任意の向きでワークWをセット可能となっている。図15に示すように、テーブル本体183には、後述するリフトアップ機構261の複数のリフトアップピン271を貫通させるための縦4個×横8個、計32個の貫通孔201(挿通孔)が形成されていると共に、3点支持機構182にテーブル本体183を固定ねじ(図示省略)でねじ止めするための固定穴202が3個形成されている。固定穴202は、固定ねじの頭部がテーブル本体183の表面から突出しないようにざぐり穴203を有している。   The table main body 183 is a stone plate having a substantially square shape in plan view, which is made of stone and is formed into a thick plate shape. The length of one side of the table body 183 coincides with the length of the long side of the workpiece W, and is formed to have a minimum size for cost reduction. It is possible to set the work W. As shown in FIG. 15, the table body 183 has a total of 32 through holes 201 (insertion holes), 4 × 8 in total, for passing through a plurality of lift-up pins 271 of a lift-up mechanism 261 described later. Are formed, and three fixing holes 202 are formed in the three-point support mechanism 182 for screwing the table main body 183 with fixing screws (not shown). The fixing hole 202 has a counterbore 203 so that the head of the fixing screw does not protrude from the surface of the table main body 183.

図15に示すように、テーブル本体183の周縁部には、これに切り込むように後述するプリアライメント機構262のX軸位置決め機構331(後述する)およびY軸位置決め機構361(後述する)を逃がすための逃がし溝204が前後に1箇所ずつ、および左右に2箇所ずつの計6箇所形成されている。また、テーブル本体183の下面周縁部には、左右各一対の逃がし溝204bの外側に位置して、その左右端部に、各一対ずつ計4個の当接溝205が形成されている。上記した4組の位置規制部材185は、その先端部にばね付きの当接ピン186を有しており、2組の位置規制部材185が、逃がし溝204aの外側に位置してテーブル本体183の前後端面に当接し、残り2組が、左右各一対の当接溝205の先端面205aに当接するよう配設されている。すなわち、テーブル本体183は、その側端面に4組の位置規制部材185の当接ピン186を当接させることにより、水平面内における位置規制を受けている。なお、当接溝205により、2組の位置規制部材185はテーブル本体183の輪郭内に納まり、残りの2組の位置規制部材185は、テーブル本体183に添設した一対のフラッシングボックス(後述する)を含む輪郭内に納まるようになっている。   As shown in FIG. 15, an X-axis positioning mechanism 331 (to be described later) and a Y-axis positioning mechanism 361 (to be described later) of a pre-alignment mechanism 262, which will be described later, are released at the peripheral edge of the table main body 183 so as to cut into the table body 183. A total of six relief grooves 204 are formed, one at the front and the rear and two at the left and right. Further, a total of four contact grooves 205 are formed on the left and right end portions of the table main body 183 on the outer peripheral edge of the lower surface of the pair of left and right escape grooves 204b. The four sets of position restricting members 185 described above have a contact pin 186 with a spring at the tip, and the two sets of position restricting members 185 are positioned outside the escape groove 204a and The two sets are in contact with the front and rear end surfaces, and the remaining two sets are arranged to contact the front end surfaces 205a of the pair of left and right contact grooves 205. That is, the table main body 183 is subjected to position restriction in the horizontal plane by bringing the contact pins 186 of the four sets of position restriction members 185 into contact with the side end surfaces thereof. The two sets of position restricting members 185 are accommodated within the outline of the table main body 183 by the contact groove 205, and the remaining two sets of position restricting members 185 are a pair of flushing boxes (described later) attached to the table main body 183. ).

また、図15に示すように、テーブル本体183の表面(セット面183a)には、32個の貫通孔201、3個の固定穴202、および6個の逃がし溝204の他、これらを逃げるように、ワークWを吸引するための吸引溝211が複数形成されている。吸引溝211は、ワークWの主要部を吸引するための主吸引溝212と、ワークWの周縁部を吸引するための副吸引溝213と、を有している。主吸引溝212は、5本の環状吸引溝で構成されており、テーブル本体183の中心から外側に向かって大きくなる(同心状の)五重の正方形にパターニングされている。また、副吸引溝213は、X軸方向に延在する縦吸引溝213aとY軸方向に延在する横吸引溝213bとで構成されており、主吸引溝212の外側に形成されている。縦吸引溝213aは、テーブル本体183の周縁部の左右各2個の逃がし溝204bの間に延在する左右2本の吸引溝で構成されており、ワークWを横置きセットしたときに用いられる。一方、横吸引溝213bはワークWを縦置きセットしたときに用いられるものであり、テーブル本体183周縁部の前後各1個の逃がし溝204aで分断するように形成した4本の吸引溝で構成されている。   Further, as shown in FIG. 15, on the surface (set surface 183a) of the table body 183, in addition to the 32 through holes 201, the 3 fixing holes 202, and the 6 escape grooves 204, they can escape. In addition, a plurality of suction grooves 211 for sucking the workpiece W are formed. The suction groove 211 has a main suction groove 212 for sucking the main part of the work W and a sub suction groove 213 for sucking the peripheral edge of the work W. The main suction groove 212 is composed of five annular suction grooves, and is patterned into a five-fold square (concentric) that increases from the center of the table body 183 toward the outside. The sub suction groove 213 includes a vertical suction groove 213 a extending in the X-axis direction and a horizontal suction groove 213 b extending in the Y-axis direction, and is formed outside the main suction groove 212. The vertical suction groove 213a is composed of two left and right suction grooves extending between the two right and left escape grooves 204b on the peripheral edge of the table body 183, and is used when the workpiece W is set horizontally. . On the other hand, the horizontal suction groove 213b is used when the workpiece W is set vertically, and is composed of four suction grooves formed so as to be divided by one escape groove 204a before and after the peripheral edge of the table body 183. Has been.

図15および図26に示すように、各吸引溝212,213a,213bには、支持ベース181上の吸引配管(図示省略)に連通する吸引孔214(個別吸引孔)が2個ずつ形成されている。吸引孔214の直径は、吸引溝211の幅よりも一回り大きく形成されており、吸引溝211を介して十分な吸引力をワークWに作用させることができるようになっている(実際には、吸引溝211:径2mm、吸引孔214:径3mm)。そして、吸引孔214からエアー吸引を行うと、吸引孔214および吸引溝211からワークWに対して略均一に吸引力を作用させることができ、ワークWの平坦度を維持しつつ、テーブル本体183に対してワークWを不動に吸着セットできるようになっている。   As shown in FIGS. 15 and 26, two suction holes 214 (individual suction holes) communicating with the suction piping (not shown) on the support base 181 are formed in each suction groove 212, 213a, 213b. Yes. The diameter of the suction hole 214 is formed to be slightly larger than the width of the suction groove 211 so that a sufficient suction force can be applied to the workpiece W through the suction groove 211 (in practice, , Suction groove 211: diameter 2 mm, suction hole 214: diameter 3 mm). When air suction is performed from the suction hole 214, a suction force can be applied to the work W from the suction hole 214 and the suction groove 211 substantially uniformly, and the table body 183 is maintained while maintaining the flatness of the work W. On the other hand, the workpiece W can be fixed by suction.

なお、テーブル本体183には、検査用の小型基板をセットするためのセット箇所216が4箇所設けられており、いずれか任意の位置に小型基板をセット可能となっている。4つのセット箇所216は、テーブル本体183の4隅近傍に設けられており、各セット箇所216には、小型基板を吸着セットするための4個の吸引孔217が形成されている。   The table main body 183 is provided with four set locations 216 for setting a small substrate for inspection, and the small substrate can be set at any arbitrary position. The four set locations 216 are provided in the vicinity of the four corners of the table main body 183, and four suction holes 217 for sucking and setting a small substrate are formed in each set location 216.

ワークWに対して精度よく描画処理を行うため、テーブル本体183(セット面183a)の平面度(平坦度)は厳密に調整される。具体的には、装置外において吸着テーブル152をθテーブル151に取り付ける場合、先ず、支持ベース181に固定した3点支持機構182のテーブル支持部材191にテーブル本体183をねじ止めする。このねじ止めによりセット面183aの平面度が微少に狂うため、続いてハンドラップ(セット面183aの表面を僅かに削る)を行い、セット面183aの平面度を出す。次に、これを装置内に運び込み、支持ベース181をθテーブル回転部162に固定した後、支持ベース181の固定により影響を補償するため、テーブル高さ調整機構193のテーブル高さ調整ねじ197によりテーブル本体183の高さ位置を微調整する。これにより、セット面183aに極めて高い平面度を得ることが可能となる。   In order to accurately perform the drawing process on the workpiece W, the flatness (flatness) of the table main body 183 (set surface 183a) is strictly adjusted. Specifically, when the suction table 152 is attached to the θ table 151 outside the apparatus, the table main body 183 is first screwed to the table support member 191 of the three-point support mechanism 182 fixed to the support base 181. Since the flatness of the set surface 183a slightly deviates due to this screwing, hand lapping (the surface of the set surface 183a is slightly shaved) is subsequently performed to obtain the flatness of the set surface 183a. Next, after this is carried into the apparatus and the support base 181 is fixed to the θ table rotating portion 162, the table height adjusting screw 197 of the table height adjusting mechanism 193 is used to compensate for the influence by fixing the support base 181. The height position of the table body 183 is finely adjusted. This makes it possible to obtain extremely high flatness on the set surface 183a.

図3および図11に示すように、X軸エアースライダ142は、セットテーブル141を支持するスライダ本体221と、スライダ本体221の下部に固定され、一対のX軸ガイドレール144にガイドされる一対のガイド部222と、で構成されている。スライダ本体221の上面には、2つの浅溝223が形成されており、各浅溝223内に防液シート146が挿通される。また、スライダ本体221には、テーブル本体183に形成したカメラ開口226に臨み、レンズを上方に(機能液滴吐出ヘッド51側に)向けた上記のヘッド認識カメラ225が設置されている。ヘッド認識カメラ225は、ヘッドユニット41を撮像するものであり、この撮像結果に基づいて、ヘッドユニット41を介して機能液滴吐出ヘッド51の位置を微調整するようになっている。ヘッド認識カメラ225は、焦点距離を調整するためにカメラ本体225aを昇降させる昇降機構を有しており、ヘッドユニット41の高さ位置に合わせてカメラ本体225aの高さ位置を調節可能となっている。   As shown in FIGS. 3 and 11, the X-axis air slider 142 is fixed to a slider body 221 that supports the set table 141, and a pair of X-axis guide rails 144 that are fixed to the lower portion of the slider body 221. And a guide part 222. Two shallow grooves 223 are formed on the upper surface of the slider body 221, and the liquid-proof sheet 146 is inserted into each shallow groove 223. The slider body 221 is provided with the head recognition camera 225 that faces the camera opening 226 formed in the table body 183 and has the lens facing upward (toward the functional liquid droplet ejection head 51). The head recognition camera 225 images the head unit 41, and finely adjusts the position of the functional liquid droplet ejection head 51 via the head unit 41 based on the imaging result. The head recognition camera 225 has an elevating mechanism that raises and lowers the camera body 225a to adjust the focal length, and the height position of the camera body 225a can be adjusted according to the height position of the head unit 41. Yes.

ところで、ワークWは、ガラスや樹脂等で構成されているため、セットするテーブル本体183に温度むらが生じていると、その影響を受けて不均一に熱膨張し、描画処理結果に悪影響を及ぼす。そこで、本実施形態では、テーブル本体183を、温度むらが生じにくく熱膨張率の小さな石材で構成すると共に、温度むらの原因となるテーブル本体183の穴や溝の割合を極力少なくしている。これにより、テーブル本体183の表面における温度むらが削減されると共に、ワークWのテーブル本体183に対する接触面積を増すことができ、テーブル本体183の温度むらによるワークWの歪を防止可能である。   By the way, since the workpiece W is made of glass, resin, or the like, if the temperature of the table main body 183 to be set is uneven, the workpiece W is influenced by the thermal expansion unevenly and adversely affects the drawing processing result. . Therefore, in the present embodiment, the table main body 183 is made of a stone material that hardly causes temperature unevenness and has a small thermal expansion coefficient, and the ratio of holes and grooves in the table main body 183 that causes temperature unevenness is reduced as much as possible. As a result, temperature unevenness on the surface of the table main body 183 can be reduced, the contact area of the work W with the table main body 183 can be increased, and distortion of the work W due to temperature unevenness of the table main body 183 can be prevented.

具体的には、ワークWをテーブル本体183上にセットしたときに接触する貫通孔201および固定穴202の直径を可能な限り小さくする(貫通孔201:18mm、固定穴202(ざぐり穴:33mm)と共に、吸引溝211の溝幅を極力細くしている(吸引溝211:2mm)。また、詳細は後述するが、リフトアップピン271の数を極力削減して、貫通孔201の数を減らしている。これにより、本実施形態では、ワークWの96.5%がテーブル本体183の石盤部分(平坦部)に接触する構成となっている。なお、ワークWとテーブル本体183の石盤部分との接触割合は、ワークWの材質(熱膨張率)等やワークWに描画処理を行ったときの歩留まり等を考慮して設定可能であるが、少なくとも80%以上、より好ましくは90%あるいは95%以上とすることが効果的である。   Specifically, the diameters of the through hole 201 and the fixing hole 202 that come into contact when the workpiece W is set on the table body 183 are made as small as possible (through hole 201: 18 mm, fixing hole 202 (bore hole: 33 mm)). At the same time, the width of the suction groove 211 is made as thin as possible (suction groove 211: 2 mm), and as will be described in detail later, the number of lift-up pins 271 is reduced as much as possible to reduce the number of through holes 201. Thus, in this embodiment, 96.5% of the workpiece W is in contact with the stone portion (flat portion) of the table body 183. The workpiece W and the stone portion of the table body 183 The contact ratio can be set in consideration of the material (thermal expansion coefficient) of the workpiece W, the yield when the drawing process is performed on the workpiece W, etc., but is preferably at least 80% or more, more preferably It is effective to 0% or 95% or more.

一方、テーブル本体183と、テーブル高さ調整機構193を介してこれを支持する支持ベース181とは、相互に固定状態にあるが、いずれも石材で構成されているため、相互間での熱的影響(熱膨張)はきわめて少ない。支持ベース181を金属で構成した場合には、テーブル高さ調整機構193の下面を支持ベース181に非固定状態とするか、あるいは、テーブル本体183をテーブル高さ調整機構193の上面に対し非固定状態とすることが好ましい。これにより、テーブル本体183が支持ベース181による熱的影響をほとんど受けることがなく、テーブル本体183の平坦度を維持することができる。   On the other hand, the table main body 183 and the support base 181 that supports the table main body 183 via the table height adjusting mechanism 193 are fixed to each other. The influence (thermal expansion) is very small. When the support base 181 is made of metal, the lower surface of the table height adjustment mechanism 193 is not fixed to the support base 181, or the table body 183 is not fixed to the upper surface of the table height adjustment mechanism 193. It is preferable to be in a state. Thereby, the table main body 183 is hardly affected by the heat of the support base 181 and the flatness of the table main body 183 can be maintained.

もっとも、テーブル高さ調整機構193の下面を支持ベース181に固定し、テーブル本体183の上面をテーブル高さ調整機構193に固定する場合であっても、テーブル高さ調整機構193を介してテーブル本体183および支持ベース181相互間の熱収縮差および熱膨張差を吸収することが可能である。具体的には、進退ブロック196と昇降ブロック195とのねじ止め、および昇降ブロック195とベースフレーム194とのねじ止めを行わず、昇降ブロック195および進退ブロック196間を非固定状態とする。すなわち、昇降ブロック195に対して進退ブロック196をスライド可能とすることにより、テーブル本体183および支持ベース181相互間のX軸方向における熱的影響を吸収できるようになっている。この場合、ベースフレーム194とテーブル高さ調整ねじ197との間に、テーブル高さ調整ねじ197の軸部を進退ブロック196のスライド方向に付勢するばね(図示省略)を介設するなどして、テーブル高さ調整ねじ197の緩みを防止することが好ましい。なお、Y軸方向における熱的影響は、凹凸に形成された進退ブロック196および昇降ブロック195の両接触面の寸法交差によって吸収する。   However, even when the lower surface of the table height adjusting mechanism 193 is fixed to the support base 181 and the upper surface of the table main body 183 is fixed to the table height adjusting mechanism 193, the table main body is provided via the table height adjusting mechanism 193. It is possible to absorb the heat shrinkage difference and the thermal expansion difference between 183 and the support base 181. Specifically, screwing between the advancing / retreating block 196 and the elevating block 195 and screwing between the elevating block 195 and the base frame 194 are not performed, and the space between the elevating block 195 and the advancing / retreating block 196 is set in an unfixed state. That is, by allowing the advance / retreat block 196 to slide relative to the lifting block 195, the thermal influence in the X-axis direction between the table main body 183 and the support base 181 can be absorbed. In this case, a spring (not shown) for biasing the shaft portion of the table height adjusting screw 197 in the sliding direction of the advance / retreat block 196 is interposed between the base frame 194 and the table height adjusting screw 197. It is preferable to prevent the table height adjusting screw 197 from loosening. It should be noted that the thermal influence in the Y-axis direction is absorbed by the dimensional intersection of both contact surfaces of the advance / retreat block 196 and the elevation block 195 formed in the unevenness.

図16ないし図18に示すように、Y軸テーブル122は、上記した石定盤12に立設した4本の支柱231上に、X軸テーブル121を跨ぐように掛け渡した一対のY軸支持部材232上に支持されている。4本の支柱231は、前後左右2本ずつ並んで配設されており、左右(Y軸方向)に並んだ2本の支柱231上に、Y軸方向に延在するブロック状の石材で構成された一対のY軸支持部材232が架け渡されている。各支柱231の上端とY軸支持部材232との間には、装置の組み立て時に、石材で構成したY軸支持部材232の高さ調整をするための高さ調整プレート233が介設されている。高さ調整プレート233は、支柱231の上端部に固定されており、Y軸支持部材232を非固定状態で支持している。もっとも、高さ調整プレート233の両側部には、Y軸支持部材232を挟むようにしてその横ブレを規制する一対の規制片234が形成されており、これにより非固定状態のY軸支持部材232が位置規制されている。また、前後(X軸方向)に並んだ2本の支柱231間には、上下中間位置よりもやや下側にこれらを連結する連結部材235が架け渡されている。なお、実情に応じて、高さ調整プレート233を省いて構成することも可能である。   As shown in FIGS. 16 to 18, the Y-axis table 122 is a pair of Y-axis supports that span the X-axis table 121 on the four columns 231 erected on the stone surface plate 12. Supported on member 232. The four struts 231 are arranged side by side in the front-rear and left-right directions, and are composed of block-shaped stones extending in the Y-axis direction on the two struts 231 aligned in the left-right direction (Y-axis direction). A pair of the Y-axis support members 232 is stretched over. A height adjustment plate 233 for adjusting the height of the Y-axis support member 232 made of stone is interposed between the upper end of each column 231 and the Y-axis support member 232 when the apparatus is assembled. . The height adjustment plate 233 is fixed to the upper end portion of the column 231 and supports the Y-axis support member 232 in an unfixed state. However, a pair of restricting pieces 234 are formed on both sides of the height adjustment plate 233 so as to sandwich the Y-axis support member 232 so as to restrict the lateral blur, thereby the unfixed Y-axis support member 232 is formed. The position is regulated. In addition, a connecting member 235 is connected between the two support columns 231 arranged in the front-rear direction (X-axis direction) slightly below the upper and lower intermediate positions. Note that the height adjustment plate 233 may be omitted depending on the actual situation.

また、一対のY軸支持部材232には、その内側に位置して、ワークWのアライメントを認識するための一対のワーク認識カメラ236が描画領域132に臨んで配設されている(図16ないし図18参照)。一対のワーク認識カメラ236は、レンズを下方(ワークW側)に向けており、ヘッド認識カメラ225と同様、ワークWの厚みに対応して焦点距離を調節すべく、カメラ本体(図示省略)を昇降させるカメラ昇降機構(図示省略)を有している。さらに、Y軸支持部材232とワーク認識カメラ236との間には、ワーク認識カメラ236をY軸方向にスライド移動させるスライド機構(図示省略)が介設されており、ワークWの種類などに対応させてワーク認識カメラ236の位置を調整可能になっている。また、図示後方のY軸支持部材232には、セットテーブル141(のセット箇所216)にセットされた検査用の小型基板の位置補正を行うための2眼の検収用カメラ237が配設されている。   A pair of workpiece recognition cameras 236 for recognizing the alignment of the workpiece W are disposed on the pair of Y-axis support members 232 so as to face the drawing region 132 (see FIG. 16 to FIG. 16). FIG. 18). The pair of workpiece recognition cameras 236 have their lenses facing downward (the workpiece W side). Like the head recognition camera 225, the camera body (not shown) is adjusted to adjust the focal length corresponding to the thickness of the workpiece W. It has a camera lifting mechanism (not shown) that moves up and down. In addition, a slide mechanism (not shown) is provided between the Y-axis support member 232 and the workpiece recognition camera 236 to slide the workpiece recognition camera 236 in the Y-axis direction. Thus, the position of the workpiece recognition camera 236 can be adjusted. In addition, the Y-axis support member 232 at the rear of the figure is provided with a two-lens inspection camera 237 for correcting the position of the inspection small board set on the set table 141 (the set location 216). Yes.

Y軸テーブル122は、メインキャリッジ42を挿通して固定したブリッジプレート241と、ブリッジプレート241を両持ちで支持する一対のY軸スライダ(図示省略)と、Y軸方向に延在し、一対のY軸スライダを介してブリッジプレート241をY軸方向に移動させる一対のY軸リニアモータ243と、Y軸リニアモータ243に並設され、ブリッジプレート241の移動を案内する一対のY軸ガイドレール(LMガイド:図示省略)と、メインキャリッジ42(ヘッドユニット41)の移動位置を検出するためのY軸リニアスケール(図示省略)と、を備えている(図2、図4、図16ないし図18等参照)。一対のY軸リニアモータ243を駆動すると、一対のY軸スライダが一対のY軸ガイドレールを案内にして同時にY軸方向を平行移動し、ブリッジプレート241を両持ち状態でY軸方向に移動させる。   The Y-axis table 122 includes a bridge plate 241 inserted and fixed through the main carriage 42, a pair of Y-axis sliders (not shown) that support the bridge plate 241 by holding both ends, and extends in the Y-axis direction. A pair of Y-axis linear motors 243 that move the bridge plate 241 in the Y-axis direction via the Y-axis slider, and a pair of Y-axis guide rails that are arranged in parallel to the Y-axis linear motor 243 and guide the movement of the bridge plate 241 ( An LM guide (not shown) and a Y-axis linear scale (not shown) for detecting the movement position of the main carriage 42 (head unit 41) are provided (FIGS. 2, 4, 16 to 18). Etc.). When the pair of Y-axis linear motors 243 are driven, the pair of Y-axis sliders move in parallel in the Y-axis direction using the pair of Y-axis guide rails as guides, and the bridge plate 241 is moved in the Y-axis direction in a state where both ends are supported. .

ブリッジプレート241は、その略中間位置にメインキャリッジ42を挿通させるための開口(図示省略)が形成されており、ブリッジプレート241にメインキャリッジ42のヘッド固定部材91を上面からねじ止めすると、ヘッド回動機構83およびヘッドユニット41が下方に突出した状態で支持される。なお、一対のY軸支持部材232上には、ブリッジプレート241に並んで、ブリッジプレート241と独立してY軸方向に移動可能なカメラ用ブリッジプレート245が架け渡されており、カメラ用ブリッジプレート245には、ワークWに行った描画処理結果を確認するための描画観察カメラ246が搭載されている(図16ないし図18参照)。描画観察カメラ246にも、ワークWに合わせてカメラ本体を昇降させる昇降機構が組み込まれている。   The bridge plate 241 has an opening (not shown) through which the main carriage 42 is inserted at a substantially intermediate position. When the head fixing member 91 of the main carriage 42 is screwed to the bridge plate 241 from the upper surface, the head rotation is performed. The moving mechanism 83 and the head unit 41 are supported in a state of protruding downward. A camera bridge plate 245 that is movable in the Y-axis direction independently of the bridge plate 241 is bridged on the pair of Y-axis support members 232 so as to be bridged with the bridge plate 241. A drawing observation camera 246 for confirming the result of the drawing processing performed on the workpiece W is mounted on the H.245 (see FIGS. 16 to 18). The drawing observation camera 246 also incorporates a lifting mechanism that lifts and lowers the camera body in accordance with the workpiece W.

なお、先に説明したX軸テーブル121では、一対のX軸リニアモータ143、一対のX軸ガイドレール144、X軸リニアスケール145は、上記した石定盤12上に直接設置されている。一方、Y軸テーブル122の各Y軸支持部材232は、直方体の石板で構成されており、各Y軸支持部材232上には、Y軸リニアモータ243、Y軸ガイドレール、Y軸リニアスケールが直接載置されている。このように、X軸テーブル121およびY軸テーブル122の主要部を、平面度を出し易くかつ熱膨張率の小さい石材上に設置することにより、ワークWおよびヘッドユニット41を精度よく移動させることが可能となり、ワークWに対する描画処理精度を極めて高いものとすることができる。この場合、石定盤12を架台11に、Y軸支持部材232を支柱231(高さ調整プレート233)に固定してもよいが、石定盤12を架台11に対し非固定状態で載置し、同様にY軸支持部材232も支柱231に対し非固定状態で載置することが好ましい。これにより、いずれも架台および補強プレートの熱膨張の影響を排除し得る。   In the X-axis table 121 described above, the pair of X-axis linear motors 143, the pair of X-axis guide rails 144, and the X-axis linear scale 145 are directly installed on the stone surface plate 12 described above. On the other hand, each Y-axis support member 232 of the Y-axis table 122 is configured by a rectangular parallelepiped stone plate. On each Y-axis support member 232, a Y-axis linear motor 243, a Y-axis guide rail, and a Y-axis linear scale are provided. It is placed directly. In this way, the work W and the head unit 41 can be moved with high accuracy by installing the main parts of the X-axis table 121 and the Y-axis table 122 on a stone material that is easy to obtain flatness and has a low coefficient of thermal expansion. Thus, the drawing processing accuracy for the workpiece W can be made extremely high. In this case, the stone surface plate 12 may be fixed to the gantry 11 and the Y-axis support member 232 may be fixed to the column 231 (height adjustment plate 233). Similarly, it is preferable that the Y-axis support member 232 is also placed in a non-fixed state with respect to the column 231. Thereby, both can eliminate the influence of the thermal expansion of the gantry and the reinforcing plate.

図3等に示すように、一対のX軸リニアモータ143は、一対のX軸収容ボックス内に収容されている。X軸収容ボックス251内には、X軸リニアモータ143に並設させて、セットテーブル141等に接続するチューブやケーブル類を収容したX軸ケーブル担持体(ケーブルベア:登録商標)が収容されており、セットテーブル141の移動に追従させて、ケーブル類の可動端を移動させる構成となっている。同様に、Y軸リニアモータ243、Y軸ガイドレール、およびY軸スライダは、ヘッドユニット41等に接続するチューブやケーブル類を収容したY軸ケーブル担持体(ケーブルベア:登録商標)と共に、Y軸支持部材232上に設置された一対のY軸収容ボックス252内に収容されている(図4等参照)。   As shown in FIG. 3 etc., a pair of X-axis linear motor 143 is accommodated in a pair of X-axis accommodation box. In the X-axis storage box 251, an X-axis cable carrier (cable bear: registered trademark) that stores tubes and cables connected to the set table 141 and the like in parallel with the X-axis linear motor 143 is stored. The movable end of the cables is moved following the movement of the set table 141. Similarly, the Y-axis linear motor 243, the Y-axis guide rail, and the Y-axis slider, together with the Y-axis cable carrier (cable bear: registered trademark) containing the tubes and cables connected to the head unit 41 and the like, It is accommodated in a pair of Y-axis accommodation boxes 252 installed on the support member 232 (see FIG. 4 etc.).

そして、各Y軸収容ボックス252は、Y軸支持部材232の側面に外向きに固定した一対のブラケット247に支持されている。これにより、Y軸支持部材232は、Y軸ガイドレール等を支持する機能を充足すると共に、コストダウンを図るべく、最小限の大きさに形成されている。なお、図中の符号255は、各組の支柱231の上部間に掛け渡した一対のエアーブロー機構である。各エアーブロー機構255は、チャンバ装置4内の温度と同温度のエアーをブローヘッドからX軸方向に移動するワークW上に吹き付けるものであり、描画後の機能液滴(画素)の溶剤を強制的に気化させる(成膜)。   Each Y-axis storage box 252 is supported by a pair of brackets 247 that are fixed outward on the side surface of the Y-axis support member 232. As a result, the Y-axis support member 232 is formed to a minimum size in order to satisfy the function of supporting the Y-axis guide rail and the like and to reduce the cost. In addition, the code | symbol 255 in a figure is a pair of air blow mechanism spanned between the upper part of the support | pillar 231 of each group. Each air blow mechanism 255 blows air having the same temperature as that in the chamber device 4 onto the workpiece W moving in the X-axis direction from the blow head, and forces the solvent of the functional droplet (pixel) after drawing. Vaporize (film formation).

ここで、描画処理時における吐出手段31の一連の動作について説明する。先ず、X・Y移動機構43により、ヘッドユニット41およびセットテーブル141を描画領域132に移動させる。そして、機能液を吐出する前の準備として、ヘッド認識カメラ225により、機能液滴吐出ヘッド51の位置を確認しながら、ヘッド回動機構83を駆動して、ヘッドユニット41のθ軸方向の位置補正を行う。続いて、セットテーブル141をワーク搬出入領域131に移動させ、ワークWをセットした後、再びセットテーブル141を描画領域132に移動させる。そして、ワーク認識カメラ236に基づいてθテーブル151を駆動し、セットテーブル141にセットされたワークWのθ軸方向の位置補正を行う。なお、本実施形態では、描画処理の前段階として、吐出補正用カメラ104により、予め機能液滴吐出ヘッド51の吐出タイミング補正を行うと共に、セットするワークWに合わせて、ヘッド昇降機構84によりワークギャップを調整している。但し、ワークギャップに関しては、ワークギャップを検出するギャップ検出センサ等を設け、描画処理毎にギャップ調整を行うようにしてもよい。   Here, a series of operations of the ejection unit 31 during the drawing process will be described. First, the head unit 41 and the set table 141 are moved to the drawing area 132 by the XY movement mechanism 43. Then, as a preparation before discharging the functional liquid, the head recognizing head 51 is driven by the head recognition camera 225 while confirming the position of the functional liquid droplet discharge head 51, and the position of the head unit 41 in the θ-axis direction. Make corrections. Subsequently, after the set table 141 is moved to the work carry-in / out area 131 and the work W is set, the set table 141 is moved again to the drawing area 132. Then, the θ table 151 is driven based on the workpiece recognition camera 236 to correct the position of the workpiece W set on the set table 141 in the θ-axis direction. In the present embodiment, as the previous stage of the drawing process, the ejection timing of the functional liquid droplet ejection head 51 is corrected in advance by the ejection correction camera 104, and the work is moved by the head lifting mechanism 84 in accordance with the work W to be set. The gap is adjusted. However, with respect to the work gap, a gap detection sensor or the like for detecting the work gap may be provided, and the gap adjustment may be performed for each drawing process.

次に、X・Y移動機構43(X軸テーブル121)が、ワークWを主走査(X軸)方向に往動させる。ワークWの往動と同期して、機能液滴吐出ヘッド51が選択的に駆動され、ワークWに対する機能液の選択的な吐出動作が行われる。ワークWが一往動すると、X・Y移動機構43(Y軸テーブル122)は、ヘッドユニット41を副走査(Y軸)方向に移動させる。そして、X・Y移動機構43により、ワークWを復動させると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド51の選択的な駆動を行う。ワークWの一復動が終了すると、X・Y移動機構43により、ヘッドユニット41を副走査させる。そして、ワークWの主走査方向へ往復動と機能液滴吐出ヘッド51の駆動と、を繰り返すことにより吐出手段31は、ワークWに機能液による描画を行っている。   Next, the XY movement mechanism 43 (X-axis table 121) moves the workpiece W in the main scanning (X-axis) direction. In synchronization with the forward movement of the workpiece W, the functional liquid droplet ejection head 51 is selectively driven, and the functional fluid is selectively ejected onto the workpiece W. When the workpiece W moves once, the XY movement mechanism 43 (Y-axis table 122) moves the head unit 41 in the sub-scanning (Y-axis) direction. Then, the work W is moved backward by the X / Y moving mechanism 43 and the functional liquid droplet ejection head 51 is selectively driven in synchronization therewith. When the backward movement of the work W is completed, the head unit 41 is sub-scanned by the X / Y moving mechanism 43. Then, by repeating the reciprocating motion of the workpiece W in the main scanning direction and the driving of the functional liquid droplet ejection head 51, the ejection means 31 performs drawing on the workpiece W with the functional liquid.

ワーク除給手段32は、ワーク搬出入領域131に搬入された未処理のワークWをセットテーブル141に適切にセットすると共に、描画処理を行ったワークWをセットテーブル141から適切にリフトアップするためのものであり、セットテーブル141に対してワークWを離接させるリフトアップ機構261と、リフトアップ機構261によりセットテーブル141に載置された未処理のワークWを位置決めするプリアライメント機構262と、ワークWをセットテーブル141から離間させるときにワークWに生じる剥離帯電を除電するための除電手段263と、を備えている。なお、ワークWをリフトアップさせた状態で、上述の移載ロボットのロボットアーム(図示省略)がこれに下側から臨み、ワークWの装置外への搬入・搬出が行われる。   In order to appropriately set the unprocessed workpiece W loaded into the workpiece loading / unloading area 131 on the set table 141 and to lift up the workpiece W on which the drawing process has been performed from the set table 141 appropriately. A lift-up mechanism 261 that separates and contacts the workpiece W with respect to the set table 141, a pre-alignment mechanism 262 that positions an unprocessed workpiece W placed on the set table 141 by the lift-up mechanism 261, Neutralizing means 263 for neutralizing the peeling charge generated on the workpiece W when the workpiece W is separated from the set table 141. In the state where the workpiece W is lifted up, the robot arm (not shown) of the transfer robot described above faces this from the lower side, and the workpiece W is carried in and out of the apparatus.

リフトアップ機構261は、吸着テーブル152の支持ベース181上に配設されており、吸着テーブル152の貫通孔201から昇降するリフトアップピン271を介し、吸着テーブル152に対してワークWを離接させるものである。図12に示すように、リフトアップ機構261は、X軸方向を列方向として、1列を8本のリフトアップピン271で構成した4列のリフトアップピン列272を有している。同図に示すように、4列のリフトアップピン列272は、Y軸方向に等間隔に配設されており、リフトアップ機構261は、両端に位置する各1列のリフトアップピン列272を昇降させる一対の第1リフトアップユニット273と、中央2列のリフトアップピンを同時に昇降させる第2リフトアップユニット274と、で構成されている。   The lift-up mechanism 261 is disposed on the support base 181 of the suction table 152, and causes the workpiece W to be brought into and out of contact with the suction table 152 via lift-up pins 271 that move up and down from the through holes 201 of the suction table 152. Is. As shown in FIG. 12, the lift-up mechanism 261 has four rows of lift-up pin rows 272 each having eight rows of lift-up pins 271 with the X-axis direction as the row direction. As shown in the figure, four lift-up pin rows 272 are arranged at equal intervals in the Y-axis direction, and the lift-up mechanism 261 has one lift-up pin row 272 located at both ends. A pair of first lift-up units 273 that moves up and down and a second lift-up unit 274 that lifts and lowers the lift-up pins in the two central rows simultaneously are configured.

図19に示すように、各第1リフトアップユニット273は、8本の第1リフトアップピン271a(側部ピン群)と、これらをX軸方向に対して等間隔に立設させた第1リフトアッププレート281(側部支持プレート)と、第1リフトアッププレート281を昇降させるための第1リフトアップ機構282(側部上下動機構)と、第1リフトアップ機構282を支持する第1リフトアップベースプレート283(側部ベースフレーム)と、で構成されている。第1リフトアップ機構282は、第1リフトアッププレート281を昇降させる第1リフトアップモータ291(サーボモータ)と、第1リフトアップモータ291により正逆回転する(1本の)第1リフトアップボールねじ292と、第1リフトアップボールねじ292に螺合し、第1リフトアッププレート281を昇降自在に支持する第1雌ねじブロック293と、第1リフトアッププレート281の昇降をガイドする前後一対(2本)の第1リフトアップガイド294と、第1リフトアップピン271aの昇降位置を検出する第1昇降位置検出センサ295と、を有している。   As shown in FIG. 19, each first lift-up unit 273 includes eight first lift-up pins 271 a (side pin groups), and the first lift-up pins 271 a are erected at regular intervals in the X-axis direction. Lift-up plate 281 (side support plate), first lift-up mechanism 282 (side vertical movement mechanism) for raising and lowering first lift-up plate 281, and first lift for supporting first lift-up mechanism 282 And an up base plate 283 (side base frame). The first lift-up mechanism 282 includes a first lift-up motor 291 (servo motor) that moves the first lift-up plate 281 up and down, and a first lift-up ball (one) that rotates forward and backward by the first lift-up motor 291. A screw 292, a first female screw block 293 that is screwed to the first lift-up ball screw 292 and supports the first lift-up plate 281 so as to be movable up and down, and a pair of front and rear (2 A first lift-up guide 294 and a first lift position detection sensor 295 that detects the lift position of the first lift-up pin 271a.

第1リフトアッププレート281の長手方向中間には、第1雌ねじブロック293が固定されている。そして、第1リフトアッププレート281には、その中心位置に第1リフトアップボールねじ292が貫通していると共に、第1リフトアップボールねじ292の前後に離間して一対の第1リフトアップガイド294が貫通している。第1リフトアップボールねじ292は、下端部を第1ベルトボックス297内に位置して第1リフトアップベースプレート283の中心位置に軸支され、且つ上端部を第1リフトアップベースプレート283に立設した第1ボールねじ支持部材296に軸支され、この状態で第1雌ねじブロック293に螺合している。第1リフトアップモータ291は、その出力軸を第1ベルトボックス297内に臨ませる下向き姿勢でこれに支持されている。第1リフトアップモータ291の出力軸および第1リフトアップボールねじ292には、それぞれ第1プーリ298が固定され、この両プーリ間には、第1リフトアップモータ291の動力を第1リフトアップボールねじ292に伝達する第1タイミングベルト299が掛け渡されている。   A first female screw block 293 is fixed in the middle in the longitudinal direction of the first lift-up plate 281. The first lift-up plate 281 has a first lift-up ball screw 292 that passes through the center of the first lift-up plate 281, and is spaced apart from the front and rear of the first lift-up ball screw 292. Has penetrated. The first lift-up ball screw 292 has a lower end portion located in the first belt box 297 and pivotally supported at the center position of the first lift-up base plate 283, and an upper end portion erected on the first lift-up base plate 283. The first ball screw support member 296 is pivotally supported, and in this state, is screwed into the first female screw block 293. The first lift-up motor 291 is supported on the output shaft in a downward posture so that the output shaft faces the first belt box 297. A first pulley 298 is fixed to each of the output shaft of the first lift-up motor 291 and the first lift-up ball screw 292, and the power of the first lift-up motor 291 is transmitted between the pulleys to the first lift-up ball 292. A first timing belt 299 that is transmitted to the screw 292 is suspended.

第1リフトアップモータ291を駆動すると、第1タイミングベルト299を介して第1リフトアップボールねじ292が正逆回転し、第1雌ねじブロック293を介して、第1リフトアッププレート281を昇降させる。これにより、第1リフトアップピン271aが昇降する。なお、第1リフトアップユニット273は、第1リフトアップボールねじ292を中心として対称に構成されており、第1リフトアッププレート281を安定に昇降できるようになっている。   When the first lift-up motor 291 is driven, the first lift-up ball screw 292 rotates forward and backward via the first timing belt 299, and the first lift-up plate 281 is moved up and down via the first female screw block 293. Thereby, the 1st lift up pin 271a raises / lowers. The first lift-up unit 273 is configured symmetrically around the first lift-up ball screw 292 so that the first lift-up plate 281 can be moved up and down stably.

図19に示すように、第1昇降位置検出センサ295は、第1ボールねじ支持部材296に取り付けられており、第1リフトアップピン271aの上動端位置に対応して配設され、第1リフトアッププレート281の上限位置を検出する第1上限位置検出センサ301(フォトインタラプタ)と、第1リフトアップピン271aの下動端位置に対応して配設され、第1リフトアップピン271aの下限位置を検出する第1下限位置検出センサ302(フォトインタラプタ)と、を有している。また、第1下限位置検出センサ302の上側には、第1リフトアップピン271aがワークWに突き当たる状態に対応する第1原点センサ303(フォトインタラプタ)が設けられている。そして、第1リフトアッププレート281には、第1検出片304(透光板)が固定されおり、第1リフトアッププレート281と共に昇降する第1検出片304を、第1上限位置検出センサ301、第1原点センサ303および第1下限位置検出センサ302で検出することにより、第1リフトアップピン271aの上動端位置、ワーク突当て位置および下動端位置を検出する。この場合、上動端位置は、ワークWを載せ替えるためのリフトアップ位置であり、下動端位置は、第1リフトアップピン271aがテーブル本体183の貫通孔201に没入する位置である。   As shown in FIG. 19, the first lift position detection sensor 295 is attached to the first ball screw support member 296, and is disposed corresponding to the upper end position of the first lift-up pin 271a. A first upper limit position detection sensor 301 (photo interrupter) that detects an upper limit position of the lift-up plate 281 and a lower limit position of the first lift-up pin 271a are disposed corresponding to the lower end position of the first lift-up pin 271a. And a first lower limit position detection sensor 302 (photo interrupter) for detecting the position. A first origin sensor 303 (photo interrupter) corresponding to a state in which the first lift-up pin 271a hits the workpiece W is provided above the first lower limit position detection sensor 302. A first detection piece 304 (translucent plate) is fixed to the first lift-up plate 281, and the first detection piece 304 that moves up and down together with the first lift-up plate 281 is replaced with the first upper limit position detection sensor 301, By detecting the first origin sensor 303 and the first lower limit position detection sensor 302, the upper moving end position, the workpiece abutting position and the lower moving end position of the first lift up pin 271a are detected. In this case, the upper moving end position is a lift-up position for transferring the workpiece W, and the lower moving end position is a position where the first lift-up pin 271a is inserted into the through hole 201 of the table body 183.

本実施形態では、第1リフトアップピン271aは、テーブル本体183に載置(セット)されているワークWに対し、下動端位置から上昇を開始するが、ワークWの突当て位置まではきわめて低速で上昇する。第1リフトアップピン271aがワークWに突き当たってこれを受け取った後は、高速で上動端位置まで上昇する。また、これと逆の動作で第1リフトアップピン271aの下降動作が行われる。このように、ワークWをテーブル本体183から離間させる前後においてワークWを低速で上昇させるようにしているため、第1リフトアップピン271aの突き当て時の衝撃を抑え、且つ剥離帯電を抑制することができる。同様に、ワークWをテーブル本体183に載置するときに、ワークWを低速で下降させるようにしているため、ワークWをテーブル本体183との間にエアー(気泡)がかみ込むのを防止することができる。   In the present embodiment, the first lift-up pin 271a starts to rise from the lower moving end position with respect to the work W placed (set) on the table main body 183. Ascend at low speed. After the first lift-up pin 271a hits the workpiece W and receives it, the first lift-up pin 271a rises to the upper moving end position at a high speed. Further, the lowering operation of the first lift-up pin 271a is performed by the reverse operation. As described above, since the workpiece W is raised at a low speed before and after the workpiece W is separated from the table main body 183, the impact at the time of abutment of the first lift-up pin 271a is suppressed, and peeling electrification is suppressed. Can do. Similarly, since the work W is lowered at a low speed when the work W is placed on the table main body 183, air (bubbles) is prevented from being caught between the work W and the table main body 183. be able to.

図20に示すように、第2リフトアップユニット274は、16本の第2リフトアップピン271b(中間部ピン群)と、これらを2列に二分して立設させた第2リフトアッププレート311(中間部支持プレート)と、第2リフトアッププレート311を昇降させるための第2リフトアップ機構312(中間部上下動機構)と、第2リフトアップ機構312を支持する第2リフトアップベースプレート313(中間部ベースフレーム)と、第2リフトアップピン271bの昇降位置を検出する第2昇降位置検出センサ320と、を有している。同図に示すように、第2リフトアップ機構312は、第2リフトアップボールねじ314に螺合する第2雌ねじブロック310が第2リフトアッププレート311を昇降自在に支持しており、第1リフトアップユニット273と略同様に構成されているが、前後一対(2本)の第2リフトアップボールねじ314と、前後各一対(4本)の第2リフトアップガイド315が設けられていると共に、前後一対の第2ボールねじ支持部材316が第2リフトアッププレート311を軸支している点で異なっている。第2リフトアップモータ317は、第2リフトアッププレート311を貫通すると共に、一方の第2リフトアップボールねじ314に対峙するように第2リフトアップベースプレート313に立設している。また、第2リフトアップモータ317は、その出力軸を第2ベルトボックス319内に臨ませており、第2リフトアップモータ317の出力軸および一対の第2リフトアップボールねじ314には、それぞれプーリが固定されている。そして、図20に示すように、これら3つのプーリ間には、第2タイミングベルト318が掛け渡されており、単一の第2リフトアップモータ317により、一対の第2リフトアップボールねじ314が同期しながら正逆回転する。第2リフトアップモータ317を除けば、第2リフトアップ機構312は、対称に構成されており、安定して第2リフトアッププレート311をリフトアップできるようになっている。   As shown in FIG. 20, the second lift-up unit 274 includes 16 second lift-up pins 271b (intermediate pin groups) and a second lift-up plate 311 that is bisected in two rows. (Intermediate part support plate), a second lift-up mechanism 312 (intermediate part vertical movement mechanism) for raising and lowering the second lift-up plate 311, and a second lift-up base plate 313 (supporting the second lift-up mechanism 312) Intermediate base frame) and a second lift position detection sensor 320 that detects the lift position of the second lift-up pin 271b. As shown in the figure, the second lift-up mechanism 312 includes a second female screw block 310 that is screwed into the second lift-up ball screw 314 and supports the second lift-up plate 311 so that the second lift-up plate 311 can be raised and lowered. Although it is configured in substantially the same manner as the up unit 273, a pair of front and rear (two) second lift-up ball screws 314 and a pair of front and rear (four) second lift-up guides 315 are provided, A difference is that the pair of front and rear second ball screw support members 316 pivotally support the second lift-up plate 311. The second lift-up motor 317 is erected on the second lift-up base plate 313 so as to penetrate the second lift-up plate 311 and to face one second lift-up ball screw 314. The second lift-up motor 317 has its output shaft facing the second belt box 319. The output shaft of the second lift-up motor 317 and the pair of second lift-up ball screws 314 are respectively connected to pulleys. Is fixed. Then, as shown in FIG. 20, a second timing belt 318 is stretched between these three pulleys, and a pair of second lift-up ball screws 314 are formed by a single second lift-up motor 317. It rotates forward and reverse while synchronizing. Except for the second lift-up motor 317, the second lift-up mechanism 312 is configured symmetrically so that the second lift-up plate 311 can be lifted up stably.

また、第1リフトアップ機構282と同様に、第2リフトアップモータ317に対峙する第2ボールねじ支持部材316には、第2上限位置検出センサ(フォトインタラプタ)および第2下限位置検出センサ(フォトインタラプタ)から成る第2昇降位置検出センサ320と、第2リフトアップピン271bがワークWに突き当たる状態に対応する第2原点センサ(図示省略)と、が設けられている。一方、第2リフトアッププレート311には、第2検出片(図示省略)が取り付けられており、この第2検出片を介して、第2リフトアップピン271bの上動端位置、下動端位置、および原点位置を検出できるようになっている。   Similarly to the first lift-up mechanism 282, the second ball screw support member 316 that faces the second lift-up motor 317 includes a second upper limit position detection sensor (photo interrupter) and a second lower limit position detection sensor (photo). A second lift position detection sensor 320 made up of an interrupter and a second origin sensor (not shown) corresponding to a state in which the second lift-up pin 271b hits the workpiece W are provided. On the other hand, a second detection piece (not shown) is attached to the second lift-up plate 311. Through the second detection piece, the upper moving end position and the lower moving end position of the second lift up pin 271b. , And the origin position can be detected.

なお、第1リフトアッププレート281および第2リフトアッププレート311の上限位置および下限位置は、各リフトアッププレート281,311上のリフトアップピン271のピン先の位置により規定されており、各リフトアッププレート281,311の上限位置は、リフトアップピン271が吸着テーブル152のセット面183aから約50mm程度突出する位置、各リフトアッププレート281,311の下限位置は、リフトアップピン271が吸着テーブル152のセット面183aよりも約1mm程度低くなる位置となっている。   Note that the upper limit position and the lower limit position of the first lift-up plate 281 and the second lift-up plate 311 are defined by the position of the pin tip of the lift-up pin 271 on each lift-up plate 281, 311. The upper limit positions of the plates 281 and 311 are positions where the lift-up pins 271 protrude from the set surface 183 a of the suction table 152 by about 50 mm, and the lower-limit positions of the lift-up plates 281 and 311 are the lift-up pins 271 of the suction table 152. The position is about 1 mm lower than the set surface 183a.

リフトアップピン271は、ワークWに当接するピン本体276と、先端にピン本体276を固定すると共に、第1リフトアッププレート281または第2リフトアッププレート311にねじ止め固定されるピンホルダ277と、を有している。ピン本体276の先端、すなわちワークWと接触する部分は、樹脂等のピーク材で構成され、ピン本体276の先端以外とピンホルダ277はステンレスやスチールのロッド材で構成されている。   The lift-up pin 271 includes a pin body 276 that contacts the workpiece W, a pin body 276 that fixes the pin body 276 at the tip, and a pin holder 277 that is screwed and fixed to the first lift-up plate 281 or the second lift-up plate 311. Have. The tip of the pin body 276, that is, the portion that comes into contact with the workpiece W is made of a peak material such as resin, and the pins other than the tip of the pin body 276 and the pin holder 277 are made of a rod material made of stainless steel or steel.

ここで、リフトアップ機構261の一連の動作について説明する。上述したように、一対の第1リフトアップユニット273および第2リフトアップユニット274は、それぞれリフトアップモータを有しているため、一対の第1リフトアッププレート281および第2リフトアッププレート311を独立して昇降させることができる。そこで、これらを異なるタイミングで昇降させることにより、ワークWを適切に吸着テーブル152に載置すると共に、吸着テーブル152からワークWをリフトアップすることができるようになっている。   Here, a series of operations of the lift-up mechanism 261 will be described. As described above, since the pair of first lift-up unit 273 and second lift-up unit 274 each have a lift-up motor, the pair of first lift-up plate 281 and second lift-up plate 311 are independent. Can be moved up and down. Therefore, by raising and lowering them at different timings, the workpiece W can be appropriately placed on the suction table 152 and the workpiece W can be lifted up from the suction table 152.

ワーク搬出入領域131に搬入された未処理のワークWを吸着テーブル152に載置する場合、先ず、一対の第1リフトアッププレート281および第2リフトアッププレート311を上限位置まで上昇させておいて、4列全てのリフトアップピン271により、ワーク搬出入領域131に臨む吸着テーブル152上でワークWを受け取る。次に、第2リフトアップモータ317のみを駆動し、第2リフトアップピン271bのみを下降させていく。これによりワークWは自重で歪み、弧状に反る。第2リフトアップモータ317の駆動から所定時間経過後、第2リフトアップモータ317を駆動したまま、一対の第1リフトアップユニット273の各第1リフトアップモータ291を同時に駆動し、ワークWを弧状に反らした状態(上反り状態)で下降させていく。すなわち、第1リフトアップピン271aに先行して、第2リフトアップピン271bを下降させることにより、先ず、第2リフトアップピン271bに支持されたワークWの中央部を吸着テーブル152に接触させ、これに追従するようにワークWの左右両端部を吸着テーブル152に接触させている。これにより、ワークWおよび吸着テーブル152間の空気は、ワークWの中央部から両端部に向けて押し出されるように逃げてゆくため、ワークWと吸着テーブル152との間に空気を残留させることなく、ワークWを吸着テーブル152上に載置することができる。   When placing an unprocessed workpiece W loaded in the workpiece loading / unloading area 131 on the suction table 152, first, the pair of first lift-up plates 281 and second lift-up plates 311 are raised to the upper limit position. The work W is received on the suction table 152 facing the work carry-in / out area 131 by all four rows of lift-up pins 271. Next, only the second lift-up motor 317 is driven, and only the second lift-up pin 271b is lowered. As a result, the workpiece W is distorted by its own weight and warps in an arc shape. After a predetermined time has elapsed from the driving of the second lift-up motor 317, the first lift-up motors 291 of the pair of first lift-up units 273 are simultaneously driven while the second lift-up motor 317 is being driven, and the workpiece W is arcuated. It is lowered in a state of warping (upward warping state). That is, by lowering the second lift-up pin 271b prior to the first lift-up pin 271a, first, the central portion of the work W supported by the second lift-up pin 271b is brought into contact with the suction table 152, The left and right ends of the work W are brought into contact with the suction table 152 so as to follow this. As a result, the air between the work W and the suction table 152 escapes so as to be pushed out from the center of the work W toward both ends, so that no air remains between the work W and the suction table 152. The workpiece W can be placed on the suction table 152.

この場合、リフトアップピン271の下降と並行して、テーブル本体183のエアー吸引を行うことが好ましい。より好ましくは、上記した副吸引溝213によるエアー吸引に先行して、主吸引溝212によるエアー吸引を行うといったように、セット面183aの中央部から外側に向かって順次エアー吸引を行うようにする。これにより、ワークWおよび吸着テーブル152間に空気が残留することを効果的に防止できる。なお、リフトアップピン271にワークWを支持させた後の一連の動作は、描画処理のためのワークWの描画領域132への移動と並行して行うことが可能である。   In this case, it is preferable to perform air suction of the table body 183 in parallel with the lowering of the lift-up pins 271. More preferably, air suction is sequentially performed from the center of the set surface 183a toward the outside, such as air suction by the main suction groove 212 prior to air suction by the sub suction groove 213 described above. . Thereby, it is possible to effectively prevent air from remaining between the workpiece W and the suction table 152. A series of operations after the work W is supported on the lift-up pins 271 can be performed in parallel with the movement of the work W to the drawing area 132 for drawing processing.

一方、描画処理を終えたワークWを吸着テーブル152から持ち上げる(引き剥がす)ときには、先ず、各第1リフトアップモータ291を同時に駆動して、第1リフトアップピン271aを上昇させ、ワークWの両端部を突き上げるように持ち上げる。各第1リフトアップモータ291の駆動から所定時間経過後、各第1リフトアップモータ291を駆動したまま、第2リフトアップモータ317を駆動する。これにより、ワークWの両端部がその中央部よりも先行して持ち上げられ、ワークWは弧状に反った状態で吸着テーブル152から引き剥が(離間)される。したがって、ワークWとテーブル本体183との間に、その端から徐々に空気を流入させることができ、ワークWに無理な力をかけることなくワークWを吸着テーブル152から離間させることができる。また、剥離帯電を抑制することができる。そして、吸着テーブル152からワークWが完全に引き剥がされた後は、一対の第1リフトアップピン271aおよび第2リフトアッププレート311がそれぞれ上動端位置まで達するまで、各第1リフトアップモータ291および第2リフトアップモータ317を駆動する。なお、詳細は後述するが、リフトアップ機構261により吸着テーブル152からワークWを引き離すときには、除電手段263を同期して駆動させ、剥離帯電によりワークWの裏面に生じる静電気の除電を行う。   On the other hand, when lifting (peeling) the workpiece W after the drawing process from the suction table 152, first, the first lift-up motors 291 are simultaneously driven to raise the first lift-up pins 271a, so that both ends of the workpiece W are lifted. Lift up to push the part up. After a predetermined time has elapsed since the driving of the first lift-up motors 291, the second lift-up motors 317 are driven while the first lift-up motors 291 are driven. As a result, both end portions of the work W are lifted ahead of the central portion, and the work W is peeled off (separated) from the suction table 152 in a state of warping in an arc. Therefore, air can be gradually introduced from the end between the workpiece W and the table main body 183, and the workpiece W can be separated from the suction table 152 without applying an excessive force to the workpiece W. Moreover, peeling electrification can be suppressed. Then, after the workpiece W is completely peeled from the suction table 152, the first lift-up motors 291 until the pair of first lift-up pins 271a and the second lift-up plate 311 reach the upper moving end positions. And the second lift-up motor 317 is driven. Although details will be described later, when the workpiece W is pulled away from the suction table 152 by the lift-up mechanism 261, the static elimination means 263 is driven in synchronization to eliminate static electricity generated on the back surface of the workpiece W due to peeling charging.

また、上述したようにワークWを吸着テーブル152に離接させる瞬間には、リフトアップピン271の昇降速度を抑え、吸着テーブル152への離接によってワークWが受ける衝撃を小さくしている。すなわち、吸着テーブル152にワークWを載置する場合、第2リフトアッププレート311を先ず速度Vd1で下降させてゆき、ワークWが吸着テーブルに接触するときには速度Vd2で下降させている(但し、Vd1>Vd2)。一方、吸着テーブル152からワークWを引き剥がす場合には、第1リフトアップピン271aを先ず速度Vu1で上昇させてゆき、ワークWが吸着テーブルから完全に離間した後は速度Vu2で上昇させている(但し、Vd1<Vd2)。このように、吸着テーブル152にワークWを離接させるときの昇降速度を制御することにより、ワークWの昇降に要するサイクルタイムを削減できる。また、ワークWの昇降速度およびワークWを昇降させるときの反らし具合は、ワークWの材質や厚み、形状等を考慮して個別に設定可能である。   Further, as described above, at the moment when the workpiece W is separated from and attached to the suction table 152, the lifting speed of the lift-up pin 271 is suppressed, and the impact received by the workpiece W due to the separation and contact with the suction table 152 is reduced. That is, when the work W is placed on the suction table 152, the second lift-up plate 311 is first lowered at the speed Vd1, and when the work W contacts the suction table, it is lowered at the speed Vd2 (however, Vd1 > Vd2). On the other hand, when the work W is peeled off from the suction table 152, the first lift-up pin 271a is first raised at the speed Vu1, and after the work W is completely separated from the suction table, it is raised at the speed Vu2. (However, Vd1 <Vd2). As described above, by controlling the lifting speed when the workpiece W is moved to and away from the suction table 152, the cycle time required for lifting the workpiece W can be reduced. Moreover, the raising / lowering speed of the workpiece | work W and the curvature state when raising / lowering the workpiece | work W can be set individually in consideration of the material of the workpiece | work W, thickness, a shape, etc.

また、本実施形態においては、全てのリフトアップピン271を同一の長さで構成し、ワークWの中間部を支持する(第2リフトアップユニット274の)リフトアップピン271とその両側端部を支持する(第1リフトアップユニット273の)リフトアップピン271の昇降タイミングを変えることにより、吸着テーブル152に対する離接時にワークWを弧状に支持するようにしているが、昇降タイミングを同じにして、ワークWの中間部を支持するリフトアップピン271の昇降速度をその両側端部を支持するリフトアップピン271の昇降速度よりも低速としても同様の効果を得ることができる。また、ワークWの中間部に当接するリフトアップピン271を短く形成し、両側端に向かってリフトアップピン271を長くなるように形成してもよい。   Further, in this embodiment, all the lift-up pins 271 are configured to have the same length, and the lift-up pins 271 (of the second lift-up unit 274) that support the intermediate portion of the workpiece W and both side end portions thereof are provided. By changing the lift timing of the lift-up pins 271 to be supported (of the first lift-up unit 273), the workpiece W is supported in an arc shape when being attached to and detached from the suction table 152. The same effect can be obtained even if the lifting speed of the lift-up pin 271 that supports the intermediate portion of the workpiece W is lower than the lifting speed of the lift-up pin 271 that supports both side ends thereof. Alternatively, the lift-up pins 271 that contact the intermediate portion of the workpiece W may be formed short, and the lift-up pins 271 may be formed longer toward both side ends.

また、ワークWをリフトアップピン271に支持させると、ワークWの自重により、リフトアップピン271間でワークWの撓みが生じる。ワークWには、許容撓み量が予め設定されており、この許容撓み量を満たす範囲内で、リフトアップピン271数が最小になるように、各リフトアップピン列272間の距離(ピッチ)および1列を構成するリフトアップピン271間の距離が設定されている。このように、リフトアップ機構261のリフトアップピン271数を、許容可能な最小数とすることにより、リフトアップピン271を貫通させるための貫通孔201数を最小としている。   When the work W is supported by the lift-up pins 271, the work W is bent between the lift-up pins 271 due to the weight of the work W. An allowable deflection amount is set in advance for the work W, and the distance (pitch) between the lift-up pin rows 272 and the lift-up pin rows 272 are set so that the number of lift-up pins 271 is minimized within a range satisfying the allowable deflection amount. A distance between lift-up pins 271 configuring one row is set. Thus, by setting the number of lift-up pins 271 of the lift-up mechanism 261 to an allowable minimum number, the number of through-holes 201 for penetrating the lift-up pins 271 is minimized.

図12に示すように、プリアライメント機構262は、リフトアップ機構261により吸着テーブル152に載置されたワークWのテーブル本体183に対する位置決め(プリアライメント)を行うものであり、一対のX挟持部材332でワークWの前後端を挟み込むことにより、ワークWの前後方向(X軸方向)の位置決めを行うX軸位置決めユニット321と、2組のY挟持部材362でワークWの左右端を挟み込むことにより、ワークWの左右方向(Y軸方向)の位置決めを行うY軸位置決めユニット322と、を備えている。   As shown in FIG. 12, the pre-alignment mechanism 262 performs positioning (pre-alignment) of the work W placed on the suction table 152 with respect to the table body 183 by the lift-up mechanism 261, and a pair of X clamping members 332. By sandwiching the front and rear ends of the workpiece W with the X axis positioning unit 321 for positioning the workpiece W in the front and rear direction (X axis direction), and by sandwiching the left and right ends of the workpiece W with two sets of Y clamping members 362, And a Y-axis positioning unit 322 that positions the workpiece W in the left-right direction (Y-axis direction).

同図に示すように、X軸位置決めユニット321は、相互に対峙させて支持ベース181上に配設された一対のX軸位置決め機構331で構成されており、各X軸位置決め機構331は、ワークWを挟持するためのX挟持部材332と、X挟持部材332をX軸方向およびZ軸方向に移動可能に支持するX挟持部材移動機構333と、X挟持部材移動機構333を支持するX機構ベース334と、を有している。X機構ベース334は、テーブル本体183周縁部に形成された各逃がし溝204aの位置に対応して、支持ベース181の周縁部に沿って固定されており、X挟持部材332は、通常、テーブル本体183の下に潜りこんだ状態で支持されている(待機位置)。X挟持部材332は、ワークWに当接してこれを挟持するX挟持片341と、X挟持片341を保持するX挟持片ホルダ342と、を有している。X挟持片341は、ワークWの損傷を防止するため、樹脂等の比較的柔軟性の高い材料で構成されている。   As shown in the figure, the X-axis positioning unit 321 is composed of a pair of X-axis positioning mechanisms 331 disposed on a support base 181 so as to face each other. An X clamping member 332 for clamping W, an X clamping member moving mechanism 333 that supports the X clamping member 332 so as to be movable in the X axis direction and the Z axis direction, and an X mechanism base that supports the X clamping member moving mechanism 333 334. The X mechanism base 334 is fixed along the peripheral edge of the support base 181 corresponding to the position of each escape groove 204a formed in the peripheral edge of the table main body 183, and the X clamping member 332 is usually the table main body. It is supported in a state of being under the 183 (standby position). The X clamping member 332 includes an X clamping piece 341 that contacts and clamps the workpiece W, and an X clamping piece holder 342 that holds the X clamping piece 341. In order to prevent the workpiece W from being damaged, the X clamping piece 341 is made of a relatively flexible material such as a resin.

X挟持部材移動機構333は、X機構ベース334に載置固定される第1X移動機構351と、第1X移動機構351に立設した第2X移動機構352と、第2X移動機構352に支持され、X挟持片ホルダ342を介してX挟持片341をスライド自在に支持する第3X移動機構353と、で構成されており、これら第1〜第3X移動機構351、352、353は、それぞれ、Xエアーシリンダ354と、Xエアーシリンダ354にスライド自在に支持されたXスライダ355と、を有している。   The X clamping member moving mechanism 333 is supported by the first X moving mechanism 351 placed and fixed on the X mechanism base 334, the second X moving mechanism 352 standing on the first X moving mechanism 351, and the second X moving mechanism 352. And a third X moving mechanism 353 that slidably supports the X holding piece 341 via the X holding piece holder 342, and these first to third X moving mechanisms 351, 352, and 353 are respectively X air A cylinder 354 and an X slider 355 slidably supported by the X air cylinder 354 are provided.

図12に示すように、X挟持部材移動機構333は、第1〜第3X移動機構351、352、353により側面視「コ」字状に構成されている。具体的に説明すると、第1X移動機構351の第1Xエアーシリンダ354aは、X機構ベース334に固定され、第1Xスライダ355aをX軸方向にスライド自在に支持している。第1Xスライダ355aには、第2X移動機構352の第2Xエアーシリンダ354bが立設され、第2Xエアーシリンダ354bには、第2Xスライダ355bがZ軸方向(鉛直方向)にスライド自在に支持されている。また、第2Xスライダ355bの上端部には、第3X移動機構353の第3Xエアーシリンダ354cが支持されており、第3Xエアーシリンダ354cには、X挟持片ホルダ342を固定した第3Xスライダ355cがX軸方向にスライド自在に支持されている。   As shown in FIG. 12, the X clamping member moving mechanism 333 is configured in a “U” shape in a side view by first to third X moving mechanisms 351, 352, and 353. More specifically, the first X air cylinder 354a of the first X movement mechanism 351 is fixed to the X mechanism base 334, and supports the first X slider 355a so as to be slidable in the X-axis direction. The first X slider 355a is provided with a second X air cylinder 354b of the second X moving mechanism 352. The second X air cylinder 354b supports the second X slider 355b so as to be slidable in the Z-axis direction (vertical direction). Yes. Further, the third X air cylinder 354c of the third X moving mechanism 353 is supported on the upper end portion of the second X slider 355b, and the third X slider 355c to which the X clamping piece holder 342 is fixed is supported on the third X air cylinder 354c. It is slidably supported in the X-axis direction.

ワークWの位置決めを行うときには、第1X移動機構351、第2X移動機構352、第3X移動機構353の順で、一対のX挟持部材移動機構333を同時に駆動させ、X挟持部材332を逃がし溝204aに臨ませるように、X挟持部材332を「コ」字状に移動させる。すなわち、まず、第1X移動機構351により、X挟持部材332を吸着テーブル152から離間する方向にスライド移動させた後、第2X移動機構352により、所定の高さ(セット面183aの高さ程度)までX挟持部材332を上昇させ、さらに第3X移動機構353により、X挟持部材332をワークWに突き当てるように挟持移動させる(挟持位置)。もっとも、上述したようにワークWは縦置きに加え横置きも可能となっており、縦置きの場合には、X挟持部材332をX軸方向に比較的短い距離を移動させるだけでワークWに突き当てさせることができるため、X軸方向の移動を第1X軸移動機構(または第3X軸移動機構)のみで行ってもよい。これにより、ワークWの前後端をX挟持片341が挟持するように、ワークWの前後端面に一対のX挟持片341が当接し、ワークWの前後方向の位置決めが為される。ワークWの位置決め終了後は、位置決めを行うときと逆の手順でX挟持部材332を移動させ、再びX挟持部材332をテーブル本体183の下(待機位置)に移動させる。なお、X挟持部材332は、通常、テーブル本体183の下に収容されており、吸着テーブル152にワークWを載置するときや、描画処理を行うときなどにX挟持部材332が障害となることがない。   When positioning the workpiece W, the pair of X clamping member moving mechanisms 333 are simultaneously driven in the order of the first X moving mechanism 351, the second X moving mechanism 352, and the third X moving mechanism 353, thereby releasing the X clamping member 332 and releasing the groove 204a. The X sandwiching member 332 is moved in a “U” shape so as to face the surface. That is, first, the X clamping member 332 is slid in the direction away from the suction table 152 by the first X moving mechanism 351, and then the predetermined height (about the height of the set surface 183a) by the second X moving mechanism 352. Then, the X clamping member 332 is moved up and further moved by the third X moving mechanism 353 so that the X clamping member 332 abuts against the workpiece W (a clamping position). However, as described above, the workpiece W can be placed horizontally as well as vertically. In the case of the portrait placement, the workpiece W can be moved to the workpiece W only by moving the X clamping member 332 by a relatively short distance in the X-axis direction. Since it can be made to abut, the movement in the X-axis direction may be performed only by the first X-axis movement mechanism (or the third X-axis movement mechanism). As a result, the pair of X clamping pieces 341 are brought into contact with the front and rear end surfaces of the workpiece W so that the X clamping pieces 341 clamp the front and rear ends of the workpiece W, and the workpiece W is positioned in the longitudinal direction. After the positioning of the workpiece W is completed, the X clamping member 332 is moved in the reverse procedure to the positioning, and the X clamping member 332 is moved again below the table main body 183 (standby position). Note that the X clamping member 332 is normally housed under the table main body 183, and the X clamping member 332 becomes an obstacle when a workpiece W is placed on the suction table 152 or when a drawing process is performed. There is no.

なお、一対のX軸位置決め機構331のうち、一方のX軸位置決め機構331(本実施形態では図示後ろ側)は、他方のX軸位置決め機構331(X軸方向における位置決め基準)の受けとなっており、受け側のX軸位置決め機構331のX挟持片341とX挟持片ホルダ342との間には、X挟持片341を挟持方向に付勢する2個のXばね356が介設されている。したがって、一対のX挟持片341をワークWに当接させたときの当接力を2個のXばね356で吸収することができ、ワークWに過剰な力がかかることを防止することができる。   Of the pair of X-axis positioning mechanisms 331, one X-axis positioning mechanism 331 (the rear side in the drawing in the present embodiment) serves as a receiver for the other X-axis positioning mechanism 331 (positioning reference in the X-axis direction). Two X springs 356 for biasing the X clamping piece 341 in the clamping direction are interposed between the X clamping piece 341 and the X clamping piece holder 342 of the receiving side X-axis positioning mechanism 331. . Therefore, the contact force when the pair of X clamping pieces 341 are contacted with the workpiece W can be absorbed by the two X springs 356, and an excessive force can be prevented from being applied to the workpiece W.

図12に示すように、Y軸位置決めユニット322は、前後2組(4個)のY軸位置決め機構361により構成されており、テーブル本体183周縁部の左右に形成された各2個の逃がし溝204bに対応させて支持ベース181上に配設されている。各Y軸位置決め機構361は、X軸位置決め機構331と略同様に構成されており、ワークWを挟持するためのY挟持部材362と、Y挟持部材362がセット面183aから突出しないように、テーブル本体183の下(待機位置)にY挟持部材362を支持すると共に、これをY軸方向およびZ軸方向に移動可能に支持するY挟持部材移動機構363(Y挟持片移動機構)と、Y挟持部材移動機構363を支持するY機構ベース364と、を有している。   As shown in FIG. 12, the Y-axis positioning unit 322 is composed of two sets of front and rear (four) Y-axis positioning mechanisms 361, each having two relief grooves formed on the left and right sides of the peripheral portion of the table main body 183. 204b is disposed on the support base 181 so as to correspond to 204b. Each Y-axis positioning mechanism 361 is configured in substantially the same manner as the X-axis positioning mechanism 331, and a table is provided so that the Y clamping member 362 for clamping the workpiece W and the Y clamping member 362 do not protrude from the set surface 183a. A Y-clamping member moving mechanism 363 (Y-clamping piece moving mechanism) that supports the Y-clamping member 362 under the main body 183 (standby position) and is movable in the Y-axis direction and the Z-axis direction; And a Y mechanism base 364 that supports the member moving mechanism 363.

Y挟持部材362は、ワークWに当接する円柱状のY挟持ピン371(Y挟持片)と、Y挟持ピン371を立設したY挟持プレート372と、を有している。Y挟持ピン371のワーク当接部371aは、X挟持片341と同様、樹脂等の比較的柔軟性の高い材料で構成されている。なお、X軸位置決め機構331と同様、各Y軸位置決め機構361の一方(本実施形態では図示右側)は、他方(Y軸方向における位置決め基準)の受けとなっており、受け側2つのY軸位置決め機構361には、Y挟持ピン371とY挟持プレート372との間に介設され、Y挟持ピン371を挟持方向に付勢する2個のYばね373を有する逃がし機構374が設けられている。   The Y clamping member 362 includes a columnar Y clamping pin 371 (Y clamping piece) that abuts against the workpiece W, and a Y clamping plate 372 on which the Y clamping pin 371 is erected. The workpiece contact portion 371a of the Y clamping pin 371 is made of a relatively flexible material such as resin, like the X clamping piece 341. As with the X-axis positioning mechanism 331, one of the Y-axis positioning mechanisms 361 (the right side in the figure in the present embodiment) is the other (positioning reference in the Y-axis direction) and receives the two Y-axis on the receiving side. The positioning mechanism 361 is provided with an escape mechanism 374 having two Y springs 373 interposed between the Y clamping pin 371 and the Y clamping plate 372 and biasing the Y clamping pin 371 in the clamping direction. .

Y挟持部材移動機構363は、Y機構ベース364に載置固定された第1Y移動機構381と、第1Y移動機構381に支持された第2Y移動機構382と、第2Y移動機構382に立設され、Y挟持プレート372を支持する第3Y移動機構383と、で構成されている。第1Y移動機構381の第1Yエアーシリンダ384aは、Y機構ベース364に固定され、第1Yスライダ385aをY軸方向にスライド自在に支持している。第1Yスライダ385aには、第2Y移動機構382の第2Yスライダ385bをY軸方向にスライド自在に支持する第2Yエアーシリンダ384bが支持され、第2Yスライダ385bには、第3Y移動機構383の第3Yエアーシリンダ384cが立設されている。そして、第3Yエアーシリンダ384cには、第3Yスライダ385cがZ軸方向にスライド自在に支持され、第3Yスライダ385cの上端面には、Y挟持プレート372が支持されている。   The Y clamping member moving mechanism 363 is erected on the first Y moving mechanism 381 placed and fixed on the Y mechanism base 364, the second Y moving mechanism 382 supported by the first Y moving mechanism 381, and the second Y moving mechanism 382. , And a third Y moving mechanism 383 that supports the Y clamping plate 372. The first Y air cylinder 384a of the first Y moving mechanism 381 is fixed to the Y mechanism base 364, and supports the first Y slider 385a to be slidable in the Y-axis direction. The first Y slider 385a supports a second Y air cylinder 384b that slidably supports the second Y slider 385b of the second Y moving mechanism 382 in the Y-axis direction, and the second Y slider 385b supports the second Y slider 385b of the third Y moving mechanism 383. A 3Y air cylinder 384c is erected. The third Y air cylinder 384c supports a third Y slider 385c so as to be slidable in the Z-axis direction, and a Y clamping plate 372 is supported on the upper end surface of the third Y slider 385c.

ワークWの位置決めを行うときには、4つのY挟持部材移動機構363を同時に駆動して、X挟持部材移動機構333と同様に、各Y挟持部材362(Y挟持ピン371)を逃がし溝204bに臨ませるように、「コ」字状に移動させる。この場合、第1Y移動機構381、第3Y移動機構383、第2Y移動機構382の順に駆動させればよい。これにより、4本のY挟持ピン371のワーク当接部371a(の側面)がワークWの左右両端面に当接し、ワークWの左右方向(Y軸方向)の位置決めが為される。なお、ワーク当接部371aは断面円形状であるため、ワークWは各ワーク当接部371aの側面に点で当接する。このため、右側2本、左側2本のY挟持ピン371を精度よく当接させることができ、ワークWを精度よく位置決め可能である。なお、X挟持部材移動機構333と同様に、ワークWの縦置き/横置きに応じて、Y軸方向の移動を第1Y軸移動機構381(または第2Y軸移動機構382)のみで行ってもよい。   When positioning the workpiece W, the four Y clamping member moving mechanisms 363 are driven at the same time, and each Y clamping member 362 (Y clamping pin 371) is allowed to escape and face the groove 204b in the same manner as the X clamping member moving mechanism 333. As shown in FIG. In this case, the first Y moving mechanism 381, the third Y moving mechanism 383, and the second Y moving mechanism 382 may be driven in this order. As a result, the workpiece contact portions 371a (side surfaces) of the four Y clamping pins 371 contact the left and right end surfaces of the workpiece W, and the workpiece W is positioned in the left-right direction (Y-axis direction). In addition, since the workpiece | work contact part 371a is circular in cross section, the workpiece | work W contact | abuts to the side surface of each workpiece | work contact part 371a with a point. For this reason, the two right and two left Y clamping pins 371 can be brought into contact with each other with high accuracy, and the workpiece W can be positioned with high accuracy. Note that, similarly to the X clamping member moving mechanism 333, the Y-axis direction may be moved only by the first Y-axis moving mechanism 381 (or the second Y-axis moving mechanism 382) according to the vertical / horizontal placement of the workpiece W. Good.

なお、プリアライメント機構262は、吸着テーブル152に組み込まれているため、ワークWを描画領域に移動させながらプリアライメント動作を行うことができ、吸着テーブル152に対するワークWのセットと、ワークWの描画領域への移動と、をオーバーラップさせて行うことにより、ワーク1枚当たりの描画処理時間を削減可能である。   Since the pre-alignment mechanism 262 is incorporated in the suction table 152, the pre-alignment operation can be performed while moving the work W to the drawing area, and the work W is set on the suction table 152 and the work W is drawn. By making the movement to the area overlap, the drawing processing time per work can be reduced.

除電手段263は、リフトアップ機構261によりワークWを吸着テーブル152から引き離すときに、ワークWの裏面に剥離帯電した静電気を軟X線の照射により除去するものであり、左右一対(2つ)の静電除去装置391で構成されている。図16および図17に示すように、一対の静電除去装置391は、石定盤12に立設した4本の支柱231うち、手前側に配設された左右一対の支柱231に固定(対向配置)されており、描画領域132に臨む吸着テーブル152上のワークWに対して左右両側から(ワークWの移動方向と直交する方向から)軟X線を照射する構成となっている。このように、除電手段263は、2つの静電除去装置391を有しているので、効率的かつ確実に除電を行うことができる。なお、静電除去装置391としては、軟X線を照射するものの他、静電気を(電気的に)中和させるイオン化エアーをワークWに送風するイオン送風型のもの(例えばイオナイザー)を用いることも可能である。この場合も、ワークWの移動方向と直交するように、ワークWの両側からイオン化エアーをブローさせる。なお、上記の静電除去装置391を用いたワークWの除電方法については後述する。   The static elimination means 263 removes the static electricity peeled off and charged on the back surface of the workpiece W by soft X-ray irradiation when the workpiece W is pulled away from the suction table 152 by the lift-up mechanism 261. It comprises an electrostatic removal device 391. As shown in FIGS. 16 and 17, the pair of static eliminators 391 are fixed (opposed) to the pair of left and right columns 231 arranged on the front side among the four columns 231 erected on the stone surface plate 12. And is configured to irradiate the work W on the suction table 152 facing the drawing area 132 from both the left and right sides (from the direction orthogonal to the moving direction of the work W). Thus, since the static elimination means 263 has the two static elimination apparatuses 391, static elimination can be performed efficiently and reliably. In addition to the device that irradiates the soft X-ray, an electrostatic blower that irradiates the workpiece W with ionized air that neutralizes static electricity (for example, an ionizer) may be used as the static eliminator 391. Is possible. Also in this case, ionized air is blown from both sides of the workpiece W so as to be orthogonal to the moving direction of the workpiece W. In addition, the static elimination method of the workpiece | work W using said electrostatic removal apparatus 391 is mentioned later.

次に、メンテナンス装置22について説明する。メンテナンス装置22は、機能液滴吐出ヘッド51の機能維持(または回復)を目的としたものであり、図21および図22に示すように、フラッシングユニット401と、吸引ユニット402と、ワイピングユニット403と、吐出検査ユニット404と、重量測定ユニット405と、を備えている。両図に示すように、吐出検査ユニット404を除き、メンテナンス装置22の各ユニットは、上記した機台13上に、X軸方向にスライド自在に構成された移動テーブル406上に配設されている。移動テーブル406とヘッドユニット41のY軸方向における移動領域が交わる領域がメンテナンス領域407となっており、機能液滴吐出ヘッド51の保守を行うときには、ヘッドユニット41をメンテナンス領域407に移動させると共に、移動テーブル406を適宜移動させ、メンテナンス領域407に機能液滴吐出ヘッド51のメンテナンスに供するユニットを臨ませる。なお、移動テーブル406上における各ユニットは、各ユニットの使用頻度およびメンテナンス手順を考慮して配置されている。また、各ユニットは、第1ヘッドユニットに対応して構成されているが、上述したように、第2ヘッドユニットは、第1ヘッドユニットの配置パターンに合わせて機能液滴吐出ヘッド51を搭載しているため、第1ヘッドユニットとの兼用でこれら各ユニットを利用することが可能である。   Next, the maintenance device 22 will be described. The maintenance device 22 is intended to maintain (or recover) the function of the functional liquid droplet ejection head 51, and as shown in FIGS. 21 and 22, a flushing unit 401, a suction unit 402, a wiping unit 403, and the like. A discharge inspection unit 404 and a weight measurement unit 405 are provided. As shown in both figures, except for the discharge inspection unit 404, each unit of the maintenance device 22 is disposed on the above-described machine base 13 on a moving table 406 configured to be slidable in the X-axis direction. . The area where the moving area of the moving table 406 and the head unit 41 in the Y-axis direction is a maintenance area 407. When performing maintenance of the functional liquid droplet ejection head 51, the head unit 41 is moved to the maintenance area 407. The moving table 406 is appropriately moved, and a unit for maintenance of the functional liquid droplet ejection head 51 is caused to face the maintenance area 407. Each unit on the moving table 406 is arranged in consideration of the use frequency of each unit and the maintenance procedure. Each unit is configured to correspond to the first head unit. As described above, the second head unit is equipped with the functional liquid droplet ejection head 51 according to the arrangement pattern of the first head unit. Therefore, these units can be used in combination with the first head unit.

フラッシングユニット401は、フラッシング動作、すなわち機能液滴吐出ヘッド51の予備吐出(捨て吐出)により吐出された機能液を受けるためのものであり、描画処理中において、ワークWに機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシングの機能液を受けるための吐出前フラッシングユニット411と、ワークWの交換時のように、ワークWに対する機能液の吐出が一時的に休止される時に定期的に行われる定期フラッシングの機能液を受けるための定期フラッシングユニット412と、を有している。   The flushing unit 401 is for receiving the functional liquid ejected by the flushing operation, that is, the preliminary ejection (discarding ejection) of the functional liquid droplet ejection head 51, and immediately before the functional liquid is ejected to the workpiece W during the drawing process. And the pre-discharge flushing unit 411 for receiving the pre-discharge flushing functional liquid and the periodic flushing periodically performed when the discharge of the functional liquid to the work W is temporarily stopped, such as when the work W is replaced. A regular flushing unit 412 for receiving the functional fluid.

図12に示すように、吐出前フラッシングユニット411は、吸着テーブル152(テーブル本体183)の前後が挟むように配設され、吐出前フラッシングの機能液を受ける一対の吐出前フラッシングボックス415と、一対の吐出前フラッシングボックス415を昇降自在に支持する一対のボックス昇降機構416と、で構成されている。吐出前フラッシングボックス415は、平面視長方形の細長い箱状に形成されており、その長辺の長さをテーブル本体183の一辺の長さと一致させて構成され、テーブル本体183に添設されている。吐出前フラッシングボックス415内には、機能液を吸収させる吸収材417が敷設されている。各ボックス昇降機構416は、テーブル本体183から張り出すように支持ベース181の周縁部に支持された一対のボックス昇降シリンダ418(エアーシリンダ)を有しており、各吐出前フラッシングボックス415は、一対(2つ)のボックス昇降シリンダ418により両持ちで支持されている。このように、テーブル本体183を挟むように一対の吐出前フラッシングボックス415を配設しているので、ワークWをX軸方向に往復動すると、機能液滴吐出ヘッド51は、ワークWに臨む直前に順次フラッシングボックスに臨んで吐出前フラッシングを行うことができる。すなわち、吐出前フラッシングだけのためにヘッドユニット41を移動させることが不要となる。   As shown in FIG. 12, the pre-discharge flushing unit 411 is disposed so that the front and rear of the suction table 152 (table body 183) are sandwiched, and a pair of pre-discharge flushing boxes 415 for receiving the pre-discharge flushing functional liquid and a pair And a pair of box elevating mechanisms 416 that support the pre-discharge flushing box 415 so as to be movable up and down. The pre-discharge flushing box 415 is formed in an elongated box shape having a rectangular shape in plan view, is configured such that the length of the long side thereof coincides with the length of one side of the table body 183, and is attached to the table body 183. . In the pre-discharge flushing box 415, an absorbent material 417 for absorbing the functional liquid is laid. Each box elevating mechanism 416 has a pair of box elevating cylinders 418 (air cylinders) supported on the peripheral edge of the support base 181 so as to project from the table body 183, and each pre-discharge flushing box 415 includes a pair. Both boxes are supported by (two) box lifting cylinders 418. Thus, since the pair of pre-discharge flushing boxes 415 are arranged so as to sandwich the table main body 183, when the work W is reciprocated in the X-axis direction, the functional liquid droplet discharge head 51 immediately before facing the work W. The pre-discharge flushing can be performed sequentially on the flushing box. That is, it is not necessary to move the head unit 41 only for pre-discharge flushing.

一対のボックス昇降機構416は、非描画処理時には、一対の吐出前フラッシングボックス415の上端面が吸着テーブル152のセット面183aの高さよりも低くなる位置(待機位置)でこれを支持する。一方、描画処理を行うとき、すなわち吐出前フラッシングを受けるときには、一対のボックス昇降機構416は、吐出前フラッシングボックス415を上昇させ、その上端面をセットされたワークWの表面の高さに一致させた状態でこれを支持する。これにより、吐出前フラッシングの機能液を外部に飛び散らせることなく、吐出前フラッシングボックス415に受けることができる。なお、吸収材423の膨張等を考慮して、上昇時における吐出前フラッシングボックス415の上端面の位置を、ワークWよりも若干低い位置とすることも可能である。   The pair of box elevating mechanisms 416 support the upper end surfaces of the pair of pre-discharge flushing boxes 415 at a position (standby position) where the upper end surfaces of the pair of pre-discharge flushing boxes 415 are lower than the height of the set surface 183a of the suction table 152. On the other hand, when performing the drawing process, that is, when receiving pre-discharge flushing, the pair of box elevating mechanisms 416 raises the pre-discharge flushing box 415 so that the upper end surfaces thereof coincide with the height of the surface of the set work W. I support this in the state. Accordingly, the pre-discharge flushing functional liquid can be received by the pre-discharge flushing box 415 without splashing outside. In consideration of the expansion of the absorbent 423 and the like, the position of the upper end surface of the pre-discharge flushing box 415 at the time of ascent can be set slightly lower than the workpiece W.

定期フラッシングユニット412は、メンテナンス領域407に臨んで配設されており、図21および図22に示すように、定期フラッシングの機能液を受ける箱状の定期フラッシングボックス421と、定期フラッシングボックス421を支持するボックススタンド422と、を有している。定期フラッシングボックス421は、第1ヘッドユニットに搭載された12個の機能液滴吐出ヘッド51を同時に定期フラッシングできるように十分な大きさで構成されている。なお、本実施形態では、第1ヘッドユニットの二分された12個の機能液滴吐出ヘッド51に対応して、定期フラッシングボックス421には、機能液の吸収材423が2列に敷設されているが、定期フラッシングボックス421の全体に吸収材423を敷設するようにしてもよい。ボックススタンド422は、定期フラッシングボックス421の上端面が、セットされたワークWの表面と同じ高さとなるように定期フラッシングボックス421を支持している。この場合も、吐出前フラッシングボックス415と同様に、定期フラッシングボックス421の上端面をワークW(表面)よりも僅かに低い位置に支持させるようにしてもよい。   The regular flushing unit 412 is disposed facing the maintenance area 407, and as shown in FIGS. 21 and 22, supports a regular flushing box 421 and a box-shaped regular flushing box 421 that receives the functional liquid for regular flushing. A box stand 422. The regular flushing box 421 is configured to be sufficiently large so that the 12 functional liquid droplet ejection heads 51 mounted on the first head unit can be flushed at the same time. In the present embodiment, the functional liquid absorbers 423 are laid in two rows in the regular flushing box 421 corresponding to the twelve divided functional liquid droplet ejection heads 51 of the first head unit. However, the absorbent material 423 may be laid on the entire regular flushing box 421. The box stand 422 supports the regular flushing box 421 so that the upper end surface of the regular flushing box 421 is at the same height as the surface of the set workpiece W. Also in this case, like the pre-discharge flushing box 415, the upper end surface of the regular flushing box 421 may be supported at a position slightly lower than the workpiece W (front surface).

図21および図22に示すように、吸引ユニット402は、機能液滴吐出ヘッド51のノズル詰まりを防止(解消)するために、機能液滴吐出ヘッド51の吸引を行うものであり、機能液滴吐出ヘッド51のノズル面73に密着するキャップ426を有するキャップユニット425と、密着させたキャップ426を介して機能液滴吐出ヘッド51を吸引する吸引手段(図示省略)と、を有している。キャップユニット425も、第1ヘッドユニットに対応して構成されており、キャップユニット425は、第1ヘッドユニットに搭載された12個の機能液滴吐出ヘッド51の配置パターンと同一パターンでもって、キャップベース427に12個のキャップ426を配置させている。図示省略したが、吸引手段は、機能液滴吐出ヘッド51に吸引力を作用させる単一のエゼクタと、12個のキャップ426とエゼクタとを接続する吸引チューブと、を有している。吸引チューブのキャップ426とエゼクタとの間には、後述する機能液回収系483の再利用タンク531が介設されており、エゼクタと再利用タンク531との間には開閉バルブ(図示省略)が介設されている。   As shown in FIGS. 21 and 22, the suction unit 402 performs suction of the functional liquid droplet ejection head 51 in order to prevent (resolve) nozzle clogging of the functional liquid droplet ejection head 51, and A cap unit 425 having a cap 426 in close contact with the nozzle surface 73 of the discharge head 51 and a suction means (not shown) for sucking the functional liquid droplet discharge head 51 through the close cap 426 are provided. The cap unit 425 is also configured corresponding to the first head unit, and the cap unit 425 has the same pattern as the arrangement pattern of the twelve functional liquid droplet ejection heads 51 mounted on the first head unit. Twelve caps 426 are arranged on the base 427. Although not shown, the suction means has a single ejector that applies a suction force to the functional liquid droplet ejection head 51 and a suction tube that connects the twelve caps 426 and the ejector. A reuse tank 531 of a functional liquid recovery system 483 described later is interposed between the suction tube cap 426 and the ejector, and an open / close valve (not shown) is provided between the ejector and the reuse tank 531. It is installed.

ワイピングユニット403は、機能液滴吐出ヘッド51の吸引(クリーニング)等により機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド51のノズル面73を、ワイピングシートを用いて拭き取るものであり、別個独立に構成されたシート供給ユニット431と拭き取りユニット432とを備えている。これらシート供給ユニット431と拭き取りユニット432とは、移動テーブル406上に、拭き取りユニット432を吸引ユニット側に位置させた状態でX軸方向に並べて配置されており、メンテナンス領域407に存するヘッドユニット41に向けて移動テーブル406の動きにより拭き取りユニット432がシート供給ユニット431と一体に払拭方向たるX軸方向一方に移動し、ヘッドユニット41における12個全ての機能液滴吐出ヘッド51のノズル面73を払拭する。   The wiping unit 403 uses a wiping sheet to wipe away the nozzle surface 73 of each functional liquid droplet ejection head 51 that has been contaminated by the functional liquid adhering to the functional liquid droplet ejection head 51 by suction (cleaning) or the like. A sheet supply unit 431 and a wiping unit 432 configured independently are provided. The sheet supply unit 431 and the wiping unit 432 are arranged side by side in the X-axis direction on the moving table 406 with the wiping unit 432 positioned on the suction unit side, and are arranged on the head unit 41 in the maintenance area 407. The wiping unit 432 moves together with the sheet supply unit 431 to one side in the X axis direction by the movement of the moving table 406 and wipes the nozzle surfaces 73 of all twelve functional liquid droplet ejection heads 51 in the head unit 41. To do.

拭き取りユニット432は、Y軸方向両側に立設した一対のスタンド433間においてエアーシリンダにより昇降自在に支持される昇降枠434と、昇降枠434上に両持ちで回転自在に支持される押圧ローラ435と、押圧ローラ435に送り込まれるワイピングシート(図示省略)に機能液の溶剤から成る洗浄液を供給する洗浄液吐出ヘッド51とを備えている(図21および図22参照)。なお、この場合の押圧ローラ435は、周面を弾性体とした自由回転ローラで構成されている。   The wiping unit 432 includes an elevating frame 434 that is supported by an air cylinder so as to be movable up and down between a pair of stands 433 erected on both sides in the Y-axis direction, and a pressing roller 435 that is rotatably supported by both ends on the elevating frame 434. And a cleaning liquid discharge head 51 for supplying a cleaning liquid made of a functional liquid solvent to a wiping sheet (not shown) fed to the pressing roller 435 (see FIGS. 21 and 22). In this case, the pressing roller 435 is constituted by a free rotating roller having a peripheral surface as an elastic body.

図23に示すように、シート供給ユニット431は、Y軸方向両側に立設した一対のフレーム439に着脱自在に軸支した上側の繰出しリール440および下側の巻取りリール441と、巻取りリール441を巻取り回転させる巻取りモータ442とを備えている。また、両フレームの上側部には、サブフレーム443が固定されており、このサブフレーム443には、繰出しリール440の先方に位置するように速度検出ローラ444が支持されている。さらに、これら構成部品の下側には、滴下した洗浄液を受ける洗浄液パン445が配設されている。   As shown in FIG. 23, the sheet supply unit 431 includes an upper supply reel 440 and a lower take-up reel 441 that are detachably supported by a pair of frames 439 erected on both sides in the Y-axis direction, and a take-up reel. And a winding motor 442 for winding and rotating 441. Further, a sub-frame 443 is fixed to the upper part of both frames, and a speed detection roller 444 is supported on the sub-frame 443 so as to be positioned ahead of the supply reel 440. Further, a cleaning liquid pan 445 for receiving the dropped cleaning liquid is disposed below these components.

繰出しリール440には、ロール状のワイピングシート(図示省略)が挿填され、繰出しリール440から繰り出されたワイピングシートは、速度検出ローラ444を介して拭き取りユニット432に送り込まれる。巻取りリール441と巻取りモータ442との間にはタイミングベルト446が掛け渡され、巻取りリール441は巻取りモータ442により回転してワイピングシートを巻き取るようになっている。この場合、巻取りモータ442およびタイミングベルト446等の動力源および動力伝達系は、描画装置21とは逆側に位置しており、ワイピングシートを可能な限り描画装置21側に寄せて配設できるようになっている。   A roll-shaped wiping sheet (not shown) is inserted into the feeding reel 440, and the wiping sheet fed from the feeding reel 440 is sent to the wiping unit 432 through the speed detection roller 444. A timing belt 446 is stretched between the take-up reel 441 and the take-up motor 442, and the take-up reel 441 is rotated by the take-up motor 442 to take up the wiping sheet. In this case, the power source and the power transmission system such as the winding motor 442 and the timing belt 446 are located on the side opposite to the drawing device 21, and the wiping sheet can be arranged as close to the drawing device 21 as possible. It is like that.

繰出しリール440は、これの軸端に設けたトルクリミッタ447により、巻取りモータ442に抗するように制動回転する。速度検出ローラ444は、自由回転する上下2つのローラ444a、444bから成るグリップローラであり、これの軸端に設けた速度検出器448により、巻取りモータ442を制御する。すなわち、繰出しリール440は、ワイピングシートを張った状態で送り出し、巻取りリール441は、ワイピングシートを弛みが生じないように巻き取るようになっている。また、繰出しリール440と速度検出ローラ444との間のシート走行路部分の下方に光学式のシート検出器449が配設されており、繰出しリール440から繰り出されるワイピングシートの端末が通過したことをこのシート検出器449で検出したとき、繰出しリール440および巻取りリール441の交換指令を出すようにしている。   The feeding reel 440 is braked and rotated so as to resist the winding motor 442 by a torque limiter 447 provided at the shaft end thereof. The speed detection roller 444 is a grip roller composed of two upper and lower rollers 444 a and 444 b that freely rotate, and the winding motor 442 is controlled by a speed detector 448 provided at the shaft end thereof. That is, the feeding reel 440 feeds the wiping sheet in a stretched state, and the take-up reel 441 winds the wiping sheet so that no slack occurs. In addition, an optical sheet detector 449 is disposed below the sheet traveling path portion between the feeding reel 440 and the speed detection roller 444, and the end of the wiping sheet fed from the feeding reel 440 has passed. When detected by the sheet detector 449, an exchange command for the supply reel 440 and the take-up reel 441 is issued.

図23および図24に示すように、繰出しリール440は、中空のリール軸本体450と、リール軸本体450の両端に設けた左右一対のフランジ451R・451Lと、図示右側においてトルクリミッタ447が固定された右部リール短軸452と、図示左側のフランジの外側に延びる左部リール短軸453と、を有しており、右部リール短軸452および左部リール短軸453により、それぞれ軸受けを介して上記一対のフレーム439に回転自在に軸支されている。右部リール短軸452および右側のフランジ451Rとの間には筒状継手454が介設されている。右側のフランジ451Rには、テーパ形状の頭部を有する右部軸ピン456が貫通しており、右部軸ピン456のピン先には、右部リール短軸452と同径に形成され、筒状継手454に嵌合する円柱部材455が固定されている。一方、左側のフランジ451Lには、左部リール短軸453の軸心部分に嵌入係止される左部軸ピン457が貫通している。そして、リール軸本体450は、右部軸ピン456および左部軸ピン457を介し、フランジ451R・451Lに挟持されている。すなわち、右部軸ピン456および左部軸ピン457の両頭部により、リール軸本体450の両端(両小口)が閉塞するように挟持されている。この場合、右側のフランジ451Rは、筒状継手454を介して右部リール短軸452に固定される一方、左側のフランジ451Lは左部リール短軸453に固定されている。   As shown in FIGS. 23 and 24, the supply reel 440 has a hollow reel shaft main body 450, a pair of left and right flanges 451R and 451L provided at both ends of the reel shaft main body 450, and a torque limiter 447 on the right side in the drawing. The right reel short shaft 452 and the left reel short shaft 453 extending to the outside of the left flange in the drawing are provided, and the right reel short shaft 452 and the left reel short shaft 453 are respectively connected via bearings. The pair of frames 439 are pivotally supported. A cylindrical joint 454 is interposed between the right reel short shaft 452 and the right flange 451R. A right shaft pin 456 having a tapered head passes through the right flange 451R, and a pin tip of the right shaft pin 456 is formed to have the same diameter as the right reel short shaft 452, A cylindrical member 455 that fits into the joint 454 is fixed. On the other hand, a left shaft pin 457 that is fitted and locked to the shaft center portion of the left reel short shaft 453 passes through the left flange 451L. The reel shaft main body 450 is sandwiched between the flanges 451R and 451L via the right shaft pin 456 and the left shaft pin 457. In other words, the both ends (both ends) of the reel shaft main body 450 are clamped by both heads of the right shaft pin 456 and the left shaft pin 457. In this case, the right flange 451R is fixed to the right reel short shaft 452 via the cylindrical joint 454, while the left flange 451L is fixed to the left reel short shaft 453.

図24に示すように、筒状継手454は、かみ合い形式で係合する右部継手片454Rおよび左部継手片454Lとから成り、右部継手片454Rには右部リール短軸452の軸端が嵌合し、左部継手片454Lには右部軸ピン456に固定した円柱部材455が嵌合している。そして、右部リール短軸452の軸端は、右部継手片454Rを貫通するように螺合した右部ユリアねじ458により右部継手片454Rに押圧固定され、円柱部材455は、左部継手片454Lを貫通するように螺合した左部ユリアねじ459により左部継手片454Lに押圧固定されている。なお、この2つのユリアねじ458・459により、筒状継手454は自在継手として機能する。   As shown in FIG. 24, the cylindrical joint 454 includes a right joint piece 454R and a left joint piece 454L that are engaged with each other in a meshing manner, and the right joint piece 454R has a shaft end of the right reel short shaft 452. And a cylindrical member 455 fixed to the right shaft pin 456 is fitted to the left joint piece 454L. The shaft end of the right reel short shaft 452 is pressed and fixed to the right joint piece 454R by a right urea screw 458 screwed so as to pass through the right joint piece 454R, and the column member 455 has a left joint. The left joint piece 454L is pressed and fixed by a left urea screw 459 screwed so as to pass through the piece 454L. The cylindrical joint 454 functions as a universal joint by the two urea screws 458 and 459.

右部リール短軸452は、十分な長さを有しており、例えば右部ユリアねじ458を緩め、筒状継手454を介して右側のフランジ451R(右部軸ピン456)を右側に移動させると、リール軸本体450の右端部が右部軸ピン456の頭部から離間する。すなわち、やり返し動作により、リール軸本体450が両フランジから離脱する。この場合、右部軸ピン456のリール軸本体450(小口)への挿入深さL1よりも筒状継手454の移動可能範囲L2が大きくなっている。なお、右部軸ピン456および左部軸ピン457の両頭部には、ガイドピン456a・457aが上方に突出していると共に、リール軸本体450の両端部にはガイドピンに嵌合させる一対の長穴が切り込むように形成されている。これにより、リール軸本体450の装着をガイドすると共に、ワイピングシートの繰り出し時に装着したリール軸本体450が空回転することを防止する。   The right reel short shaft 452 has a sufficient length. For example, the right urea screw 458 is loosened, and the right flange 451R (right shaft pin 456) is moved to the right via the cylindrical joint 454. Then, the right end portion of the reel shaft main body 450 is separated from the head of the right shaft pin 456. In other words, the reel shaft main body 450 is detached from both flanges by the reversing operation. In this case, the movable range L2 of the cylindrical joint 454 is larger than the insertion depth L1 of the right shaft pin 456 into the reel shaft main body 450 (small opening). Note that guide pins 456a and 457a protrude upward at both heads of the right shaft pin 456 and the left shaft pin 457, and a pair of long lengths that are fitted to the guide pins at both ends of the reel shaft body 450. The hole is formed so as to cut. This guides the mounting of the reel shaft main body 450 and prevents the reel shaft main body 450 mounted when the wiping sheet is fed out from rotating idly.

また、リール軸本体450を右側のフランジ451Rに固定とし、右部ユリアねじ458と共に左部ユリアねじ459を緩めることにより、リール軸本体450、右部軸ピン456、右側のフランジ451R、および円柱部材455を一体として離脱させることも可能である。この場合、筒状継手454内における円柱部材455の挿入深さL3よりも筒状継手454の移動可能範囲L2を大きくする。   Further, by fixing the reel shaft main body 450 to the right flange 451R and loosening the left urea screw 459 together with the right urea screw 458, the reel shaft main body 450, the right shaft pin 456, the right flange 451R, and the column member It is also possible to remove 455 as a unit. In this case, the movable range L2 of the cylindrical joint 454 is made larger than the insertion depth L3 of the columnar member 455 in the cylindrical joint 454.

ワイピングシートは、リール軸本体450にロール状を巻回して外部から運び込まれるが、このようにリール軸本体450が、筒状継手454を介して径方向に着脱できるようになっているため、ワイピングシートを着脱するためのスペースを左右方向(Y軸方向)に執る必要がなく、且つワイピングシートを簡単に交換することができる。また、着脱のための筒状継手454を単純な筒体ではなく、かみ合い形式の継手としているため、繰出しリール440自体の回転ブレを防止することができる。なお、巻取りリール441も繰出しリール440と同様に着脱形式とすることが、好ましい。   The wiping sheet rolls around the reel shaft main body 450 and is carried from the outside. Since the reel shaft main body 450 is detachable in the radial direction via the cylindrical joint 454 in this way, It is not necessary to provide a space for attaching / detaching the sheet in the left-right direction (Y-axis direction), and the wiping sheet can be easily replaced. Further, since the cylindrical joint 454 for attachment / detachment is not a simple cylindrical body but a meshing type joint, rotation blurring of the feeding reel 440 itself can be prevented. In addition, it is preferable that the take-up reel 441 is also a detachable type like the supply reel 440.

吐出検査ユニット404は、ワークWに対する描画不良を防止するために、機能液滴吐出ヘッド51から実際に吐出された飛翔中の機能液滴を撮像することにより、機能液滴吐出ヘッド51から機能液が適切に吐出されているか否かを検査するものである。図9および図10に示すように、吐出検査ユニット404は、ヘッドユニット41のY軸方向における移動領域に臨み、かつX軸テーブル121から外れた石定盤12上に配設されており、吐出検査のために吐出された機能液を受ける機能液受け461と、機能液受け461に対して吐出された飛翔中の機能液滴を撮像する撮像ユニット462と、撮像する機能液滴に光を照射する照明ユニット463と、を有している。なお、撮像ユニット462による撮像結果は、制御装置26に送信されて画像認識され、この画像認識に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド51の各吐出ノズル74が正常に機能液を吐出しているか(ノズル詰まりがないか)否かが判断される。   The discharge inspection unit 404 captures the functional liquid droplets from the functional liquid droplet ejection head 51 by imaging the functional liquid droplets that are actually ejected from the functional liquid droplet ejection head 51 in order to prevent drawing defects on the workpiece W. It is inspected whether or not the liquid is properly discharged. As shown in FIGS. 9 and 10, the discharge inspection unit 404 is disposed on the stone surface plate 12 that faces the movement region of the head unit 41 in the Y-axis direction and is detached from the X-axis table 121. A functional liquid receiver 461 that receives the functional liquid ejected for the inspection, an imaging unit 462 that captures the functional liquid droplet that is ejected to the functional liquid receiver 461, and irradiates the functional liquid droplet that is imaged with light. And an illumination unit 463. Note that the imaging result of the imaging unit 462 is transmitted to the control device 26 for image recognition. Based on this image recognition, whether each ejection nozzle 74 of each functional liquid droplet ejection head 51 is normally ejecting functional liquid. It is determined whether or not (no nozzle clogging).

図21および図22に示すように、重量測定ユニット405は、機能液滴吐出ヘッド51から吐出された機能液滴の重量を測定することにより、機能液滴吐出ヘッド51の吐出不良を検出するためのものであり、検出のための機能液を受ける12個の受け容器472と、12個の受け容器472を12個の機能液滴吐出ヘッド51の並びに合わせて載置する受け皿471と、吐出された機能液を収容した各受け容器472の重量を測定する図外の電子天秤と、を有している。受け皿471も、第1ヘッドユニットに対応した構成となっており、受け皿471には、第1ヘッドユニットの機能液滴吐出ヘッド51の配置パターンに倣って、12個の受け容器472を載置するための12個の浅溝(図示省略)が形成されている。   As shown in FIGS. 21 and 22, the weight measuring unit 405 detects the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head 51 by measuring the weight of the functional liquid droplet ejected from the functional liquid droplet ejection head 51. 12 receiving containers 472 that receive the functional liquid for detection, a receiving tray 471 on which the 12 receiving containers 472 are placed together with the 12 functional liquid droplet discharging heads 51, and discharged. And an electronic balance (not shown) for measuring the weight of each receiving container 472 containing the functional liquid. The tray 471 also has a configuration corresponding to the first head unit, and twelve receptacles 472 are placed on the tray 471 according to the arrangement pattern of the functional liquid droplet ejection heads 51 of the first head unit. Twelve shallow grooves (not shown) are formed.

次に、液体供給回収装置23について説明する。液体供給回収装置23は、ヘッドユニット41(各機能液滴吐出ヘッド51)に機能液を供給する機能液供給系481と、メンテナンス装置22のフラッシングユニット401からの廃液を回収する廃液回収系482と、吸引ユニット402で吸引した機能液および吸引ユニット402に吐出された機能液を回収する機能液回収系483と、ワイピングユニット403に機能材料の溶剤を洗浄用として供給する洗浄液供給系484と、で構成されている。上記したタンクキャビネット3の上段には、洗浄液供給系484の2個の洗浄液タンク541が、中段には機能液供給系481の3個のメインタンク501が、下段には機能液回収系483の3個の再利用タンク531および廃液回収系482の小型の廃液タンク521がそれぞれ配設されている(図4参照)。   Next, the liquid supply / recovery device 23 will be described. The liquid supply / recovery device 23 includes a functional liquid supply system 481 that supplies a functional liquid to the head unit 41 (each functional liquid droplet ejection head 51), a waste liquid recovery system 482 that recovers the waste liquid from the flushing unit 401 of the maintenance device 22. A functional liquid recovery system 483 for recovering the functional liquid sucked by the suction unit 402 and the functional liquid discharged to the suction unit 402; and a cleaning liquid supply system 484 for supplying the wiping unit 403 with a solvent of the functional material for cleaning. It is configured. Two cleaning liquid tanks 541 of the cleaning liquid supply system 484 are arranged in the upper stage of the tank cabinet 3 described above, three main tanks 501 of the functional liquid supply system 481 are arranged in the middle stage, and three functional liquid collection systems 483 are arranged in the lower stage. A single reuse tank 531 and a small waste liquid tank 521 of a waste liquid recovery system 482 are provided (see FIG. 4).

機能液供給系481は、主に第1ヘッドユニットを用い、大量のワークWに描画処理を行う場合に対応させた第1機能液供給系491と、主に第2ヘッドユニットを用い、少量のワークWに描画処理を行う場合に対応させた第2機能液供給系492と、を有している。第1機能液供給系491は、大量(3L)の機能液を貯留する3個のメインタンク501と、対応するメインタンク501から送液された機能液を貯留すると共に、各機能液滴吐出ヘッド51に機能液を供給する3個のサブタンク502と、メインタンク501からサブタンク502を経て機能液滴吐出ヘッド51に至る給液流路を形成する第1給液配管部503と、を有している。   The functional liquid supply system 481 mainly uses the first head unit, and uses the first functional liquid supply system 491 corresponding to the case where the drawing process is performed on a large amount of workpieces W, and mainly uses the second head unit. A second functional liquid supply system 492 corresponding to the case where the drawing process is performed on the workpiece W. The first functional liquid supply system 491 stores three main tanks 501 that store a large amount (3 L) of functional liquid, and stores the functional liquid sent from the corresponding main tank 501, and each functional liquid droplet ejection head. And three sub tanks 502 that supply the functional liquid to 51, and a first liquid supply pipe section 503 that forms a liquid supply flow path from the main tank 501 through the sub tank 502 to the functional liquid droplet ejection head 51. Yes.

メインタンク501は、エアー供給装置24から導入される圧縮エアーにより、第1給液配管部503を介して機能液を対応するサブタンク502に圧送する。3個のサブタンク502は、上記したブリッジプレート241上に横並びで配設されており、ヘッドユニット41と共にY軸方向を移動する(図1ないし図4等参照)。機能液滴吐出ヘッド51とサブタンク502との水頭差を所定値に維持するために、各サブタンク502内は負圧制御されている。これにより、機能液滴吐出ヘッド51の吐出ノズル74から機能液が液垂れすることを防止すると共に、圧電素子のポンプ作用により機能液滴が精度良く吐出されるようになっている。図示省略したが、第1給液配管部503は、メインタンク501およびサブタンク502を接続する3本の共通給液チューブと、各サブタンク502に4本ずつ繋ぎ込まれ、サブタンク502と各機能液滴吐出ヘッド51とを接続する12本の個別給液チューブと、各共通給液チューブを開閉するための3個の開閉バルブと、を有している。なお、ブリッジプレート241上には、12本の個別給液チューブ505を開閉する12個のヘッド側開閉バルブ508を有するヘッド側バルブユニット507が配設されている。   The main tank 501 pressure-feeds the functional liquid to the corresponding sub tank 502 via the first liquid supply piping unit 503 by compressed air introduced from the air supply device 24. The three sub tanks 502 are arranged side by side on the bridge plate 241 and move in the Y-axis direction together with the head unit 41 (see FIGS. 1 to 4 and the like). In order to maintain the water head difference between the functional liquid droplet ejection head 51 and the sub tank 502 at a predetermined value, the pressure in each sub tank 502 is controlled. Thus, the functional liquid is prevented from dripping from the discharge nozzle 74 of the functional liquid droplet discharge head 51, and the functional liquid droplets are accurately discharged by the pump action of the piezoelectric element. Although not shown, the first liquid supply piping unit 503 is connected to three common liquid supply tubes that connect the main tank 501 and the sub tank 502 and four to each sub tank 502. Twelve individual liquid supply tubes that connect the discharge head 51 and three open / close valves for opening and closing each common liquid supply tube are provided. On the bridge plate 241, a head side valve unit 507 having 12 head side opening / closing valves 508 for opening and closing 12 individual liquid supply tubes 505 is disposed.

第2機能液供給系492は、機能液を貯留した機能液パック511(または小型のインクタンク)と、これを1個ずつ載置する3つのパック載置部材512と、3つのパック載置部材512を支持するパック支持部材513と、機能液パックと機能液滴吐出ヘッド51とを接続し、機能液を供給するための第2給液配管部(図示省略)と、を有している。パック支持部材513は、右後ろに立設した支柱231に固定されている。パック支持部材513と支柱231との間には、パック支持部材513を昇降させるパック昇降機構515が介設されており、パック昇降機構515の調整ねじ516を調整することにより、機能液パック511の高さ位置を調整できる。これにより、機能液パック511(液面)の高さを機能液滴吐出ヘッド51のノズル面73よりも僅かに低く調整することできるため、機能液パック511と機能液滴吐出ヘッド51との水頭差を所定値に合わせこむことができる。   The second functional liquid supply system 492 includes functional liquid packs 511 (or small ink tanks) that store functional liquids, three pack mounting members 512 that mount the functional liquid packs one by one, and three pack mounting members. A pack support member 513 that supports 512, and a second liquid supply piping section (not shown) for connecting the functional liquid pack and the functional liquid droplet ejection head 51 to supply the functional liquid. The pack support member 513 is fixed to a column 231 erected on the right rear side. A pack lifting / lowering mechanism 515 for moving the pack supporting member 513 up and down is interposed between the pack supporting member 513 and the column 231. By adjusting the adjustment screw 516 of the pack lifting / lowering mechanism 515, The height position can be adjusted. As a result, the height of the functional liquid pack 511 (liquid level) can be adjusted slightly lower than the nozzle surface 73 of the functional liquid droplet ejection head 51, and therefore the water head between the functional liquid pack 511 and the functional liquid droplet ejection head 51. The difference can be adjusted to a predetermined value.

廃液回収系482は、フラッシングユニット401の両フラッシングボックス415、421および吐出検査ユニット404の機能液受け461で受けられた機能液を回収するためのもので、回収した機能液を貯留する廃液タンク521と、両フラッシングボックス415、421、および機能液受け461の排出口(図示省略)に接続され、これらに吐出された機能液を廃液タンク521に導く廃液チューブ(図示省略)と、を有している。廃液チューブには、廃液ポンプ(図示省略)が介設されており、廃液ポンプを介して機能液が廃液タンク521に回収される。   The waste liquid recovery system 482 is for recovering the functional liquid received by the flushing boxes 415 and 421 of the flushing unit 401 and the functional liquid receiver 461 of the discharge inspection unit 404, and a waste liquid tank 521 for storing the recovered functional liquid. And waste liquid tubes (not shown) that are connected to both flushing boxes 415 and 421 and a discharge port (not shown) of the functional liquid receiver 461 and guide the functional liquid discharged to the waste liquid tank 521. Yes. The waste liquid tube is provided with a waste liquid pump (not shown), and the functional liquid is collected in the waste liquid tank 521 via the waste liquid pump.

機能液回収系483は、吸引ユニット402のキャップ426を介して吸引した機能液をメインタンク501毎に個別に回収するためのものであり、回収した機能液を貯留する3個の再利用タンク531を有している。上述したように、再利用タンク531は、キャップ426とエゼクタとの間に設けられており、エゼクタにより吸引された機能液を貯留する。   The functional liquid collection system 483 is for individually collecting the functional liquid sucked through the cap 426 of the suction unit 402 for each main tank 501, and three reuse tanks 531 for storing the collected functional liquid. have. As described above, the reuse tank 531 is provided between the cap 426 and the ejector, and stores the functional liquid sucked by the ejector.

洗浄液供給系484は、ワイピングユニット403のワイピングシート(図示省略)に滴下する洗浄液を洗浄液ヘッド436に供給するためのもので、洗浄液を貯留する2個の洗浄液タンク541と、洗浄液タンク541と洗浄液ヘッド436を接続する洗浄液供給チューブ(図示省略)と、を有している。洗浄液タンク541は、エアー供給装置24に接続されており、エアー供給装置24から洗浄液タンク541に圧縮エアーを導入することにより、洗浄液タンク541から洗浄液が加圧送液されるようになっている。なお、洗浄液には、比較的揮発性の高い機能液の溶剤が用いられており、機能液滴吐出ヘッド51のノズル面73に付着する機能液を効率的に除去できるようになっている。   The cleaning liquid supply system 484 is for supplying the cleaning liquid dropped onto the wiping sheet (not shown) of the wiping unit 403 to the cleaning liquid head 436. The cleaning liquid tank 541 stores the cleaning liquid, the cleaning liquid tank 541, and the cleaning liquid head. 436 and a cleaning liquid supply tube (not shown). The cleaning liquid tank 541 is connected to the air supply device 24, and the cleaning liquid is pressurized and fed from the cleaning liquid tank 541 by introducing compressed air from the air supply device 24 to the cleaning liquid tank 541. The cleaning liquid uses a functional liquid solvent with relatively high volatility so that the functional liquid adhering to the nozzle surface 73 of the functional liquid droplet ejection head 51 can be efficiently removed.

次に、エアー供給装置24について説明する。エアー供給装置24は、圧縮エアーを各部に供給するためものであり、主に架台11上に載置された各装置に圧縮エアーを供給する第1エアー供給ユニット551と、主に機台13に載置されたメンテナンス装置22に圧縮エアーを供給する第2エアー供給ユニット(図示省略)と、を備えている。図示省略したが、両エアー供給ユニットには、エアーを圧縮するエアーポンプ550(コンプレッサー)と、エアーポンプ550からの圧縮エアーを供給先に応じて一定圧力に保つレギュレータと、エアーポンプ550と各部とを配管接続するエアー配管部553と、がそれぞれ備えられている。エアー配管部553は、エアー供給チューブ555およびこれを開閉するエアー開閉バルブ556から成る給気側配管部554と、給気(供給)したエアーを回収するエアー回収チューブ558を有する排気側配管部557と、で構成されている。   Next, the air supply device 24 will be described. The air supply device 24 is for supplying compressed air to each part. The air supply device 24 mainly supplies a first air supply unit 551 for supplying compressed air to each device mounted on the gantry 11, and mainly to the machine base 13. And a second air supply unit (not shown) for supplying compressed air to the placed maintenance device 22. Although not shown in the drawings, both air supply units include an air pump 550 (compressor) for compressing air, a regulator for maintaining the compressed air from the air pump 550 at a constant pressure according to the supply destination, the air pump 550 and each part. And an air pipe portion 553 for connecting the pipes to each other. The air piping portion 553 includes an air supply side piping portion 554 including an air supply tube 555 and an air opening / closing valve 556 for opening and closing the air supply tube 555, and an exhaust side piping portion 557 having an air recovery tube 558 for collecting the supplied (supplied) air. And is composed of.

本実施形態では、エアー配管部553の構成を単純化するため、圧縮エアーの供給を受ける各装置(または機構)を集約的に配置させている。吸着テーブル152に配設されたエアー配管部553を例に説明する。図12および図25に示すように、吸着テーブル152の支持ベース181には、エアーシリンダを有するプリアライメント機構262および吐出前フラッシングユニット411と共に、これらの各エアーシリンダに接続する複数本の個別エアー供給チューブ561と、各エアーシリンダに接続された複数本の個別エアー回収チューブ562と、エアーポンプに接続した共通エアー供給チューブ(図示省略)および複数本の個別エアー供給チューブ561を接続すると共に、複数本の個別エアー回収チューブ562を合流させ、まとめて排気させるためのエアーマニホールド563(分岐マニホールド)と、が配設されている。そして、支持ベース181に配設された複数のエアーシリンダを左右に略二分してエアーを供給するように、支持ベース181には、2個のエアーマニホールド563が配設されている。エアーマニホールド563内には、複数のエアー開閉バルブ556(電磁バルブ:制御バルブ)が設けられており、各エアー開閉バルブ556は、対応する個別エアー供給チューブ561および個別エアー回収チューブ562に接続されている。   In the present embodiment, in order to simplify the configuration of the air piping portion 553, each device (or mechanism) that receives the supply of compressed air is intensively arranged. The air piping portion 553 disposed on the suction table 152 will be described as an example. As shown in FIGS. 12 and 25, the support base 181 of the suction table 152 has a pre-alignment mechanism 262 having an air cylinder and a pre-discharge flushing unit 411, and a plurality of individual air supplies connected to each of these air cylinders. A tube 561, a plurality of individual air collection tubes 562 connected to each air cylinder, a common air supply tube (not shown) connected to the air pump, and a plurality of individual air supply tubes 561 are connected together. The air manifolds 563 (branch manifolds) for joining the individual air collection tubes 562 and exhausting them together are disposed. The support base 181 is provided with two air manifolds 563 so that the air cylinders provided on the support base 181 are substantially divided into right and left to supply air. A plurality of air opening / closing valves 556 (electromagnetic valves: control valves) are provided in the air manifold 563, and each air opening / closing valve 556 is connected to a corresponding individual air supply tube 561 and individual air recovery tube 562. Yes.

このように、支持ベース181上に複数のエアーシリンダを集約配置しているので、エアー供給チューブ555およびエアー回収チューブ558を分岐・合流させるエアーマニホールド563を用いることにより、外部から支持ベース181に接続されるエアー配管部553(エアー供給チューブ数およびエアー回収チューブ数)を削減することができ、エアー配管部553の引き回しを単純にすることができる。なお、本実施形態では、吸着テーブル152がX軸方向に移動する構成であるが、外部から支持ベース181に接続されるエアー配管部553を削減することにより、吸着テーブル152の移動に対するエアー配管部553の影響を抑えることができ、精度よく吸着テーブル152の移動を行わせることが可能となる。また、支持ベース181には、2個のエアーマニホールド563が吸着テーブル152の中心(重心)に対して点対称に配設されており、外部から接続されるエアー配管部553により、吸着テーブル152に不均一な力がかかることを防止し、吸着テーブル152を安定して移動させることができるようになっている。   In this way, since a plurality of air cylinders are centrally arranged on the support base 181, the air supply tube 555 and the air recovery tube 558 are connected to the support base 181 from the outside by using the air manifold 563 that branches and merges. The number of air piping portions 553 (the number of air supply tubes and the number of air recovery tubes) to be provided can be reduced, and the routing of the air piping portions 553 can be simplified. In this embodiment, the suction table 152 is configured to move in the X-axis direction. However, by reducing the number of air piping portions 553 connected to the support base 181 from the outside, the air piping portion with respect to the movement of the suction table 152 is used. The influence of 553 can be suppressed, and the suction table 152 can be moved with high accuracy. In addition, two air manifolds 563 are arranged on the support base 181 in point symmetry with respect to the center (center of gravity) of the suction table 152, and the suction pipe 152 is connected to the suction table 152 by an air piping portion 553 connected from the outside. An uneven force is prevented from being applied, and the suction table 152 can be moved stably.

本実施形態では、ヘッド認識カメラ225をX軸エアースライダ142に支持させているが、支持ベース181に支持するようにしてもよい。この場合、支持ベース181に固定され、支持ベース181から側方に延びるブラケット(すし省略)にヘッド認識カメラ225を支持させ、テーブル本体183のカメラ開口226にヘッド認識カメラ225のカメラ本体225aを臨ませる。また、支持ベース181上に、ヘッド認識カメラ225と略同一構成のノズル観察カメラ(図示省略)を配設してもよい。ノズル観察カメラは、機能液滴吐出ヘッド51のノズル詰まりを観察するためのものであり、テーブル本体183に形成した開口からレンズを臨ませ、各吐出ノズル74を撮像する。これらの場合、カメラ本体を昇降させる昇降機構をエアーシリンダで構成すれば、エアーマニホールド563を介して昇降機構に圧縮エアーを供給することができる。   In this embodiment, the head recognition camera 225 is supported by the X-axis air slider 142, but may be supported by the support base 181. In this case, the head recognition camera 225 is supported by a bracket (not shown) fixed to the support base 181 and extending laterally from the support base 181, and the camera body 225 a of the head recognition camera 225 is exposed to the camera opening 226 of the table body 183. I will. Further, a nozzle observation camera (not shown) having substantially the same configuration as the head recognition camera 225 may be disposed on the support base 181. The nozzle observation camera is for observing nozzle clogging of the functional liquid droplet ejection head 51, and the lens is exposed from an opening formed in the table main body 183 and images each ejection nozzle 74. In these cases, if an elevating mechanism for elevating and lowering the camera body is formed of an air cylinder, compressed air can be supplied to the elevating mechanism via the air manifold 563.

次に、エアー吸引装置25は、エアー吸引を行う真空ポンプ571と、吸着テーブル152の吸引孔214と真空ポンプ571とを配管接続する吸引配管部572と、を有しており、エアー吸引により、吸着テーブル152に載置されたワークWを不動に吸着セットするものである。図26に示すように、吸引配管部572は、上記した主吸引溝212、副吸引溝213の縦吸引溝213a、横吸引溝213bの吸引孔214にそれぞれ連通する3本の個別エアー吸引チューブ573と、各個別エアー吸引チューブ573を開閉する3個の吸引用開閉バルブ574と、3本の個別エアー吸引チューブ573を真空ポンプ571に接続するためのエアー吸引マニホールド575と、を有しており、ワークWのセット方向に応じてエアー吸引を行うようになっている。また、各個別エアー吸引チューブ573には、ワークWの吸引圧力を検出するための圧力センサ576が介設されている。   Next, the air suction device 25 includes a vacuum pump 571 that performs air suction, and a suction pipe portion 572 that pipe-connects the suction hole 214 of the suction table 152 and the vacuum pump 571. The workpiece W placed on the suction table 152 is fixedly sucked and set. As shown in FIG. 26, the suction pipe portion 572 has three individual air suction tubes 573 that communicate with the main suction groove 212, the vertical suction groove 213a of the sub suction groove 213, and the suction holes 214 of the lateral suction groove 213b, respectively. And three suction opening / closing valves 574 for opening and closing each individual air suction tube 573, and an air suction manifold 575 for connecting the three individual air suction tubes 573 to the vacuum pump 571, Air suction is performed in accordance with the set direction of the workpiece W. Each individual air suction tube 573 is provided with a pressure sensor 576 for detecting the suction pressure of the workpiece W.

ワークWを横置きしたときには横吸引溝213bの吸引孔214に接続する個別エアー吸引チューブ573が吸引用開閉バルブ574により閉塞され、ワークWを縦置きしたときには縦吸引溝213aの吸引孔214に接続する個別エアー吸引チューブ573が閉塞される。すなわち、ワークWに接触する副吸引溝213のみから、エアー吸引が為されるようになっている。なお、ワークWの吸着セットを解除する場合には、各個別エアー吸引チューブ573を介して、エアー供給装置24(第1エアー供給ユニット551)から圧縮エアーを供給して真空破壊を行う構成となっており、各個別エアー吸引チューブ573には、切替え用の開閉バルブ577が介設されたエアー供給チューブ555が接続されている。   When the work W is placed horizontally, the individual air suction tube 573 connected to the suction hole 214 of the horizontal suction groove 213b is closed by the suction opening / closing valve 574, and when the work W is placed vertically, it is connected to the suction hole 214 of the vertical suction groove 213a. The individual air suction tube 573 is closed. That is, air suction is performed only from the sub suction groove 213 that contacts the workpiece W. When releasing the suction set of the workpiece W, the vacuum break is performed by supplying compressed air from the air supply device 24 (first air supply unit 551) via each individual air suction tube 573. Each air suction tube 573 is connected to an air supply tube 555 provided with a switching on-off valve 577.

制御装置26は、パソコン等で構成されている。図示省略したが、制御装置26は、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるRAMと、各種記憶領域を有し、制御プログラムや各種データを記憶するハードディスクと、ハードディスクに記憶されたプログラム等に基づいて、各種データを演算処理するCPUと、これらを相互に接続するバスと、を備えており、液滴吐出装置1全体を相互に関連付けながら、統括的に制御している。   The control device 26 is composed of a personal computer or the like. Although not shown, the control device 26 has a storage area that can be temporarily stored, has a RAM used as a work area for control processing, and various storage areas, and stores a control program and various data. Based on a program stored in the hard disk, a CPU that performs arithmetic processing on various data, and a bus that interconnects these, while correlating the entire droplet discharge device 1 with each other, It has overall control.

例えば、ワークWに生じる剥離帯電を効果的に除去するために、描画処理を行ったワークWを吸着テーブル152から持ち上げるときには、制御装置26は、上記したリフトアップ機構261、X軸テーブル121、および除電手段263を同期して駆動させている。ワークWを吸着テーブル152から持ち上げるときの除電方法について具体的に説明する。吸着テーブル152からのワークWの持ち上げに先立ち、先ず、X軸テーブル121を駆動して、吸着テーブル152をワーク搬出入領域131に移動させる。そして、エアー吸引装置25の駆動を停止させると共に、開閉バルブ506を開弁して、各個別エアー吸引チューブ573にエアー供給チューブ555を連通させ、ワークWの吸着セットを解除する。(ここでの順序は問わない)   For example, when the workpiece W that has been subjected to the drawing process is lifted from the suction table 152 in order to effectively remove the peeling charge generated on the workpiece W, the control device 26 includes the lift-up mechanism 261, the X-axis table 121, and The static elimination means 263 is driven in synchronization. A method for removing static electricity when lifting the workpiece W from the suction table 152 will be specifically described. Prior to lifting the workpiece W from the suction table 152, first, the X-axis table 121 is driven to move the suction table 152 to the workpiece carry-in / out area 131. Then, the driving of the air suction device 25 is stopped, and the open / close valve 506 is opened, the air supply tube 555 is communicated with each individual air suction tube 573, and the suction set of the workpiece W is released. (The order here does not matter)

次に、一対の静電除去装置391を駆動させて軟X線の照射を行う。軟X線の照射を行ったまま、リフトアップ機構261の一対の第1リフトアップ機構282を同期させて駆動し、ワークWを左右両端部から徐々に持ち上げていく。そして、ワークWの中央部が吸着テーブル152のセット面183aに接触させたまま、左右両端の高さが所定の高さ(イオン化する空気層が十分となる高さであり、ここでは5cmとする)に達すると、この状態で、X軸テーブル121を駆動し、ワークWを描画領域132の方へ往動させていく。この場合、一対の静電除去装置391による光軸とX軸方向は直交している。これにより、吸着テーブル152と上反り状態のワークWとの間の空気層がイオン化され、ワークWの裏面(およびセット面183a)における静電気を除電することができる。この場合、ワークWの移動速度は、イオン化した空気によりワークWの両端部が十分に除電されるよう、描画処理時の移動速度に比して低速度に設定される。   Next, the pair of electrostatic eliminators 391 are driven to perform soft X-ray irradiation. The pair of first lift-up mechanisms 282 of the lift-up mechanism 261 are driven in synchronization with the soft X-ray irradiation, and the workpiece W is gradually lifted from both left and right ends. And while the center part of the workpiece | work W is contacting the set surface 183a of the adsorption | suction table 152, the height of both right-and-left both ends is predetermined height (the height which the air layer to ionize becomes sufficient, and is 5 cm here) ), The X-axis table 121 is driven in this state, and the workpiece W is moved forward toward the drawing area 132. In this case, the optical axis by the pair of static eliminators 391 and the X-axis direction are orthogonal. As a result, the air layer between the suction table 152 and the warped workpiece W is ionized, and static electricity on the back surface (and the set surface 183a) of the workpiece W can be eliminated. In this case, the moving speed of the work W is set to a lower speed than the moving speed during the drawing process so that both ends of the work W are sufficiently neutralized by the ionized air.

ワークWの往動が終了してワーク両端部の除電が終了した後、軟X線を照射したまま、X軸テーブル121を駆動してワークWを復動させ、ワークWの左右辺の中心を一対の静電除去装置391に臨ませる。続いて、第2リフトアップ機構312を駆動させ、ワークWの中心部を吸着テーブル152から引き離す。そして、ワークWが吸着テーブル152から完全に引き剥がされた後、一対の静電除去装置391の駆動を停止させる。このように、ワークWを吸着テーブル152から引き剥がす一連の動作において、常に軟X線を照射する構成とすることにより、ワークWの静電気を効果的に除電することが可能となる。   After the forward movement of the workpiece W is completed and the static elimination at both ends of the workpiece is completed, the X-axis table 121 is driven to move the workpiece W backward while irradiating soft X-rays, and the centers of the left and right sides of the workpiece W are moved. It faces a pair of electrostatic eliminators 391. Subsequently, the second lift-up mechanism 312 is driven, and the center portion of the workpiece W is pulled away from the suction table 152. Then, after the workpiece W is completely peeled off from the suction table 152, the driving of the pair of electrostatic removal devices 391 is stopped. As described above, in the series of operations for peeling the workpiece W from the suction table 152, the configuration in which the soft X-rays are always irradiated makes it possible to effectively remove static electricity from the workpiece W.

また、本実施形態では、ワークWを左右両端部のみを持ち上げた状態で除電作業を行っているが、ワークWの材質やワークWのリフトアップ方法に起因して、ワークWをリフトアップさせたときの帯電量が少ない場合には、ワークW全体を持ち上げた状態から、除電作業を開始してもよい。例えば、一対の第1リフトアップ機構282の駆動に続き、第2リフトアップ機構312を駆動させ、ワークWを吸着テーブル152から完全に離間させる。そして、X軸テーブル121を駆動して、軟X線を照射する一対の静電除去装置391にワークWを臨ませるように、ワークWの往復動を行い、ワークW全体の除電を行うようにする。   Further, in this embodiment, the static elimination work is performed with the workpiece W lifted only at the left and right ends, but the workpiece W is lifted up due to the material of the workpiece W and the lift-up method of the workpiece W. If the amount of charge at that time is small, the static elimination work may be started from a state where the entire workpiece W is lifted. For example, following the driving of the pair of first lift-up mechanisms 282, the second lift-up mechanism 312 is driven to completely separate the workpiece W from the suction table 152. Then, the X-axis table 121 is driven so that the workpiece W is reciprocated so that the workpiece W faces the pair of electrostatic eliminators 391 that emit soft X-rays, and the entire workpiece W is neutralized. To do.

なお当然のことながら、この除電手段263は、吸着テーブル152にワークWを載置したときにも用いることができる。この場合、ワークWを吸着テーブル152に載置した後、一対の静電除去装置391を駆動し、さらにX軸テーブル121を駆動する。これにより、ワークW表面における静電気が中和される。したがって、描画処理の前準備としてワークWの除電を行うことにより、描画処理時におけるワークWの静電気の影響を抑えることができる。   As a matter of course, this static elimination means 263 can also be used when the work W is placed on the suction table 152. In this case, after placing the workpiece W on the suction table 152, the pair of electrostatic removal devices 391 are driven, and the X-axis table 121 is further driven. Thereby, static electricity on the surface of the workpiece W is neutralized. Therefore, by performing the static elimination of the work W as a preparation for the drawing process, it is possible to suppress the influence of static electricity of the work W during the drawing process.

次に、本実施形態の液滴吐出装置1を用いて製造される電気光学装置(フラットパネルディスプレイ)として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機EL装置、プラズマディスプレイ(PDP装置)、電子放出装置(FED装置、SED装置)、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。   Next, as an electro-optical device (flat panel display) manufactured using the droplet discharge device 1 of this embodiment, a color filter, a liquid crystal display device, an organic EL device, a plasma display (PDP device), an electron emission device ( FED devices, SED devices), and active matrix substrates formed in these display devices will be described as an example for their structures and manufacturing methods. Note that an active matrix substrate refers to a substrate on which a thin film transistor, a source line electrically connected to the thin film transistor, and a data line are formed.

先ず、液晶表示装置や有機EL装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図27は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図28は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ600(フィルタ基体600A)の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程(S11)では、図28(a)に示すように、基板(W)601上にブラックマトリクス602を形成する。ブラックマトリクス602は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス602を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス602を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
First, a method for manufacturing a color filter incorporated in a liquid crystal display device, an organic EL device or the like will be described. FIG. 27 is a flowchart showing the manufacturing process of the color filter, and FIG. 28 is a schematic cross-sectional view of the color filter 600 (filter base body 600A) of this embodiment shown in the order of the manufacturing process.
First, in the black matrix forming step (S11), a black matrix 602 is formed on a substrate (W) 601 as shown in FIG. The black matrix 602 is formed of metal chromium, a laminate of metal chromium and chromium oxide, or resin black. In order to form the black matrix 602 made of a metal thin film, a sputtering method, a vapor deposition method, or the like can be used. Further, when forming the black matrix 602 made of a resin thin film, a gravure printing method, a photoresist method, a thermal transfer method, or the like can be used.

続いて、バンク形成工程(S12)において、ブラックマトリクス602上に重畳する状態でバンク603を形成する。即ち、まず図28(b)に示すように、基板601及びブラックマトリクス602を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層604を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム605で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図28(c)に示すように、レジスト層604の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層604をパターニングして、バンク603を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク603とその下のブラックマトリクス602は、各画素領域607aを区画する区画壁部607bとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド51により着色層(成膜部)608R、608G、608Bを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
Subsequently, in a bank formation step (S12), a bank 603 is formed in a state of being superimposed on the black matrix 602. That is, first, as shown in FIG. 28B, a resist layer 604 made of a negative transparent photosensitive resin is formed so as to cover the substrate 601 and the black matrix 602. Then, an exposure process is performed with the upper surface covered with a mask film 605 formed in a matrix pattern shape.
Further, as shown in FIG. 28C, the resist layer 604 is patterned by etching an unexposed portion of the resist layer 604 to form a bank 603. When the black matrix is formed from resin black, it is possible to use both the black matrix and the bank.
The bank 603 and the black matrix 602 below the bank 603 serve as partition wall portions 607b that partition each pixel region 607a, and in the subsequent colored layer formation step, the functional liquid droplet ejection head 51 uses colored layers (film forming portions) 608R, 608G, When forming 608B, the landing area of the functional droplet is defined.

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体600Aが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク603の材料として、塗膜表面が疎液(疎水)性となる樹脂材料を用いている。そして、基板(ガラス基板)601の表面が親液(親水)性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク603(区画壁部607b)に囲まれた各画素領域607a内への液滴の着弾位置精度が向上する。
The filter substrate 600A is obtained through the above black matrix forming step and bank forming step.
In the present embodiment, as the material of the bank 603, a resin material whose surface is lyophobic (hydrophobic) is used. Since the surface of the substrate (glass substrate) 601 is lyophilic (hydrophilic), the droplets into each pixel region 607a surrounded by the bank 603 (partition wall portion 607b) in the colored layer forming step described later. The landing position accuracy is improved.

次に、着色層形成工程(S13)では、図28(d)に示すように、機能液滴吐出ヘッド51によって機能液滴を吐出して区画壁部607bで囲まれた各画素領域607a内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド51を用いて、R・G・Bの3色の機能液(フィルタ材料)を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Next, in the colored layer forming step (S13), as shown in FIG. 28 (d), the functional liquid droplets are ejected by the functional liquid droplet ejection head 51, and each pixel area 607a surrounded by the partition wall portion 607b is formed. Make it land. In this case, the functional liquid droplet ejection head 51 is used to introduce functional liquids (filter materials) of three colors of R, G, and B to eject functional liquid droplets. Note that the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

その後、乾燥処理(加熱等の処理)を経て機能液を定着させ、3色の着色層608R、608G、608Bを形成する。着色層608R、608G、608Bを形成したならば、保護膜形成工程(S14)に移り、図28(e)に示すように、基板601、区画壁部607b、および着色層608R、608G、608Bの上面を覆うように保護膜609を形成する。
即ち、基板601の着色層608R、608G、608Bが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜609が形成される。
そして、保護膜609を形成した後、カラーフィルタ600は、次工程の透明電極となるITO(Indium Tin Oxide)などの膜付け工程に移行する。
Thereafter, the functional liquid is fixed through a drying process (a process such as heating) to form three colored layers 608R, 608G, and 608B. If the colored layers 608R, 608G, and 608B are formed, the process proceeds to the protective film forming step (S14), and as shown in FIG. 28 (e), the substrate 601, the partition wall portion 607b, and the colored layers 608R, 608G, and 608B are moved. A protective film 609 is formed so as to cover the upper surface.
That is, after the protective film coating liquid is discharged over the entire surface of the substrate 601 where the colored layers 608R, 608G, and 608B are formed, the protective film 609 is formed through a drying process.
Then, after forming the protective film 609, the color filter 600 proceeds to a film forming process such as ITO (Indium Tin Oxide) which becomes a transparent electrode in the next process.

図29は、上記のカラーフィルタ600を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置(液晶装置)の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置620に、液晶駆動用IC、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ600は図28に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 29 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a passive matrix liquid crystal device (liquid crystal device) as an example of a liquid crystal display device using the color filter 600 described above. By attaching auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support to the liquid crystal device 620, a transmissive liquid crystal display device as a final product can be obtained. Since the color filter 600 is the same as that shown in FIG. 28, the corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

この液晶装置620は、カラーフィルタ600、ガラス基板等からなる対向基板621、及び、これらの間に挟持されたSTN(Super Twisted Nematic)液晶組成物からなる液晶層622により概略構成されており、カラーフィルタ600を図中上側(観測者側)に配置している。
なお、図示していないが、対向基板621およびカラーフィルタ600の外面(液晶層622側とは反対側の面)には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板621側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
The liquid crystal device 620 is roughly constituted by a color filter 600, a counter substrate 621 made of a glass substrate, and a liquid crystal layer 622 made of an STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal composition sandwiched between them. The filter 600 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.
Although not shown, polarizing plates are disposed on the outer surfaces of the counter substrate 621 and the color filter 600 (surfaces opposite to the liquid crystal layer 622 side), and the polarizing plates positioned on the counter substrate 621 side are also provided. A backlight is disposed outside.

カラーフィルタ600の保護膜609上(液晶層側)には、図29において左右方向に長尺な短冊状の第1電極623が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極623のカラーフィルタ600側とは反対側の面を覆うように第1配向膜624が形成されている。
一方、対向基板621におけるカラーフィルタ600と対向する面には、カラーフィルタ600の第1電極623と直交する方向に長尺な短冊状の第2電極626が所定の間隔で複数形成され、この第2電極626の液晶層622側の面を覆うように第2配向膜627が形成されている。これらの第1電極623および第2電極626は、ITOなどの透明導電材料により形成されている。
On the protective film 609 of the color filter 600 (on the liquid crystal layer side), a plurality of strip-shaped first electrodes 623 elongated in the left-right direction in FIG. 29 are formed at predetermined intervals. The color of the first electrode 623 A first alignment film 624 is formed so as to cover the surface opposite to the filter 600 side.
On the other hand, a plurality of strip-shaped second electrodes 626 elongated in a direction orthogonal to the first electrode 623 of the color filter 600 are formed on the surface of the counter substrate 621 facing the color filter 600 at a predetermined interval. A second alignment film 627 is formed so as to cover the surface of the two electrodes 626 on the liquid crystal layer 622 side. The first electrode 623 and the second electrode 626 are made of a transparent conductive material such as ITO.

液晶層622内に設けられたスペーサ628は、液晶層622の厚さ(セルギャップ)を一定に保持するための部材である。また、シール材629は液晶層622内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第1電極623の一端部は引き回し配線623aとしてシール材629の外側まで延在している。
そして、第1電極623と第2電極626とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ600の着色層608R、608G、608Bが位置するように構成されている。
The spacer 628 provided in the liquid crystal layer 622 is a member for keeping the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 622 constant. The sealing material 629 is a member for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 622 from leaking to the outside. Note that one end portion of the first electrode 623 extends to the outside of the sealing material 629 as a lead-out wiring 623a.
A portion where the first electrode 623 and the second electrode 626 intersect with each other is a pixel, and the color layers 608R, 608G, and 608B of the color filter 600 are located in the portion that becomes the pixel.

通常の製造工程では、カラーフィルタ600に、第1電極623のパターニングおよび第1配向膜624の塗布を行ってカラーフィルタ600側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板621に、第2電極626のパターニングおよび第2配向膜627の塗布を行って対向基板621側の部分を作成する。その後、対向基板621側の部分にスペーサ628およびシール材629を作り込み、この状態でカラーフィルタ600側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材629の注入口から液晶層622を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。   In a normal manufacturing process, patterning of the first electrode 623 and application of the first alignment film 624 are performed on the color filter 600 to create a portion on the color filter 600 side. Patterning of the electrode 626 and application of the second alignment film 627 are performed to create a portion on the counter substrate 621 side. Thereafter, a spacer 628 and a sealing material 629 are formed in the portion on the counter substrate 621 side, and the portion on the color filter 600 side is bonded in this state. Next, liquid crystal constituting the liquid crystal layer 622 is injected from the inlet of the sealing material 629, and the inlet is closed. Thereafter, both polarizing plates and the backlight are laminated.

実施形態の液滴吐出装置1は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料(機能液)を塗布すると共に、対向基板621側の部分にカラーフィルタ600側の部分を貼り合わせる前に、シール材629で囲んだ領域に液晶(機能液)を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材629の印刷を、機能液滴吐出ヘッド51で行うことも可能である。さらに、第1・第2両配向膜624,627の塗布を機能液滴吐出ヘッド51で行うことも可能である。   The droplet discharge device 1 according to the embodiment applies, for example, the spacer material (functional liquid) that constitutes the cell gap, and before the portion on the color filter 600 side is bonded to the portion on the counter substrate 621 side, the sealing material The liquid crystal (functional liquid) can be uniformly applied to the region surrounded by 629. Further, the printing of the sealing material 629 can be performed by the functional liquid droplet ejection head 51. Furthermore, the first and second alignment films 624 and 627 can be applied by the functional liquid droplet ejection head 51.

図30は、本実施形態において製造したカラーフィルタ600を用いた液晶装置の第2の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置630が上記液晶装置620と大きく異なる点は、カラーフィルタ600を図中下側(観測者側とは反対側)に配置した点である。
この液晶装置630は、カラーフィルタ600とガラス基板等からなる対向基板631との間にSTN液晶からなる液晶層632が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板631およびカラーフィルタ600の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
FIG. 30 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a second example of a liquid crystal device using the color filter 600 manufactured in the present embodiment.
The liquid crystal device 630 is significantly different from the liquid crystal device 620 in that the color filter 600 is arranged on the lower side (the side opposite to the observer side) in the figure.
The liquid crystal device 630 is generally configured by sandwiching a liquid crystal layer 632 made of STN liquid crystal between a color filter 600 and a counter substrate 631 made of a glass substrate or the like. Although not shown, polarizing plates and the like are provided on the outer surfaces of the counter substrate 631 and the color filter 600, respectively.

カラーフィルタ600の保護膜609上(液晶層632側)には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第1電極633が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極633の液晶層632側の面を覆うように第1配向膜634が形成されている。
対向基板631のカラーフィルタ600と対向する面上には、カラーフィルタ600側の第1電極633と直交する方向に延在する複数の短冊状の第2電極636が所定の間隔で形成され、この第2電極636の液晶層632側の面を覆うように第2配向膜637が形成されている。
On the protective film 609 of the color filter 600 (on the liquid crystal layer 632 side), a plurality of strip-shaped first electrodes 633 elongated in the depth direction in the figure are formed at predetermined intervals, and the liquid crystal of the first electrodes 633 is formed. A first alignment film 634 is formed so as to cover the surface on the layer 632 side.
A plurality of strip-shaped second electrodes 636 extending in a direction orthogonal to the first electrode 633 on the color filter 600 side are formed on the surface of the counter substrate 631 facing the color filter 600 at a predetermined interval. A second alignment film 637 is formed so as to cover the surface of the second electrode 636 on the liquid crystal layer 632 side.

液晶層632には、この液晶層632の厚さを一定に保持するためのスペーサ638と、液晶層632内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材639が設けられている。
そして、上記した液晶装置620と同様に、第1電極633と第2電極636との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ600の着色層608R、608G、608Bが位置するように構成されている。
The liquid crystal layer 632 is provided with a spacer 638 for keeping the thickness of the liquid crystal layer 632 constant, and a sealing material 639 for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 632 from leaking to the outside. Yes.
Similarly to the liquid crystal device 620 described above, a portion where the first electrode 633 and the second electrode 636 intersect with each other is a pixel, and the colored layers 608R, 608G, and 608B of the color filter 600 are located in the portion that becomes the pixel. Is configured to do.

図31は、本発明を適用したカラーフィルタ600を用いて液晶装置を構成した第3の例を示したもので、透過型のTFT(Thin Film Transistor)型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置650は、カラーフィルタ600を図中上側(観測者側)に配置したものである。
FIG. 31 shows a third example in which a liquid crystal device is configured using a color filter 600 to which the present invention is applied, and is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a transmissive TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal device. It is.
In the liquid crystal device 650, the color filter 600 is arranged on the upper side (observer side) in the drawing.

この液晶装置650は、カラーフィルタ600と、これに対向するように配置された対向基板651と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ600の上面側(観測者側)に配置された偏光板655と、対向基板651の下面側に配設された偏光板(図示せず)とにより概略構成されている。
カラーフィルタ600の保護膜609の表面(対向基板651側の面)には液晶駆動用の電極656が形成されている。この電極656は、ITO等の透明導電材料からなり、後述の画素電極660が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極656の画素電極660とは反対側の面を覆った状態で配向膜657が設けられている。
The liquid crystal device 650 includes a color filter 600, a counter substrate 651 disposed so as to face the color filter 600, a liquid crystal layer (not shown) sandwiched therebetween, and an upper surface side (observer side) of the color filter 600. The polarizing plate 655 is generally configured by a polarizing plate 655 and a polarizing plate (not shown) disposed on the lower surface side of the counter substrate 651.
A liquid crystal driving electrode 656 is formed on the surface of the protective film 609 of the color filter 600 (the surface on the counter substrate 651 side). The electrode 656 is made of a transparent conductive material such as ITO, and is a full surface electrode that covers the entire region where a pixel electrode 660 described later is formed. An alignment film 657 is provided so as to cover the surface of the electrode 656 opposite to the pixel electrode 660.

対向基板651のカラーフィルタ600と対向する面には絶縁層658が形成されており、この絶縁層658上には、走査線661及び信号線662が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線661と信号線662とに囲まれた領域内には画素電極660が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極660上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。   An insulating layer 658 is formed on the surface of the counter substrate 651 facing the color filter 600, and the scanning lines 661 and the signal lines 662 are formed on the insulating layer 658 so as to be orthogonal to each other. A pixel electrode 660 is formed in a region surrounded by the scanning lines 661 and the signal lines 662. Note that in an actual liquid crystal device, an alignment film is provided over the pixel electrode 660, but the illustration is omitted.

また、画素電極660の切欠部と走査線661と信号線662とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ663が組み込まれて構成されている。そして、走査線661と信号線662に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ663をオン・オフして画素電極660への通電制御を行うことができるように構成されている。   In addition, a thin film transistor 663 including a source electrode, a drain electrode, a semiconductor, and a gate electrode is incorporated in a portion surrounded by the cutout portion of the pixel electrode 660 and the scanning line 661 and the signal line 662. . The thin film transistor 663 is turned on / off by application of a signal to the scanning line 661 and the signal line 662 so that energization control to the pixel electrode 660 can be performed.

なお、上記の各例の液晶装置620,630,650は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。   The liquid crystal devices 620, 630, and 650 of the above examples have a transmissive configuration, but a reflective layer or a semi-transmissive reflective layer is provided to form a reflective liquid crystal device or a transflective liquid crystal device. You can also

次に、図32は、有機EL装置の表示領域(以下、単に表示装置700と称する)の要部断面図である。   Next, FIG. 32 is a cross-sectional view of a main part of a display region of an organic EL device (hereinafter simply referred to as a display device 700).

この表示装置700は、基板(W)701上に、回路素子部702、発光素子部703及び陰極704が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置700においては、発光素子部703から基板701側に発した光が、回路素子部702及び基板701を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部703から基板701の反対側に発した光が陰極704により反射された後、回路素子部702及び基板701を透過して観測者側に出射されるようになっている。
The display device 700 is schematically configured with a circuit element portion 702, a light emitting element portion 703, and a cathode 704 laminated on a substrate (W) 701.
In this display device 700, light emitted from the light emitting element portion 703 to the substrate 701 side is transmitted through the circuit element portion 702 and the substrate 701 and emitted to the observer side, and the light emitting element portion 703 is opposite to the substrate 701. After the light emitted to the side is reflected by the cathode 704, the light passes through the circuit element portion 702 and the substrate 701 and is emitted to the observer side.

回路素子部702と基板701との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜706が形成され、この下地保護膜706上(発光素子部703側)に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜707が形成されている。この半導体膜707の左右の領域には、ソース領域707a及びドレイン領域707bが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域707cとなっている。   A base protective film 706 made of a silicon oxide film is formed between the circuit element portion 702 and the substrate 701, and an island-like semiconductor film 707 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective film 706 (on the light emitting element portion 703 side). Is formed. In the left and right regions of the semiconductor film 707, a source region 707a and a drain region 707b are formed by high concentration cation implantation, respectively. A central portion where no cation is implanted is a channel region 707c.

また、回路素子部702には、下地保護膜706及び半導体膜707を覆う透明なゲート絶縁膜708が形成され、このゲート絶縁膜708上の半導体膜707のチャネル領域707cに対応する位置には、例えばAl、Mo、Ta、Ti、W等から構成されるゲート電極709が形成されている。このゲート電極709及びゲート絶縁膜708上には、透明な第1層間絶縁膜711aと第2層間絶縁膜711bが形成されている。また、第1、第2層間絶縁膜711a、711bを貫通して、半導体膜707のソース領域707a、ドレイン領域707bにそれぞれ連通するコンタクトホール712a,712bが形成されている。   In the circuit element portion 702, a transparent gate insulating film 708 covering the base protective film 706 and the semiconductor film 707 is formed, and a position corresponding to the channel region 707c of the semiconductor film 707 on the gate insulating film 708 is formed. For example, a gate electrode 709 made of Al, Mo, Ta, Ti, W or the like is formed. A transparent first interlayer insulating film 711 a and second interlayer insulating film 711 b are formed on the gate electrode 709 and the gate insulating film 708. Further, contact holes 712a and 712b are formed through the first and second interlayer insulating films 711a and 711b and communicating with the source region 707a and the drain region 707b of the semiconductor film 707, respectively.

そして、第2層間絶縁膜711b上には、ITO等からなる透明な画素電極713が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極713は、コンタクトホール712aを通じてソース領域707aに接続されている。
また、第1層間絶縁膜711a上には電源線714が配設されており、この電源線714は、コンタクトホール712bを通じてドレイン領域707bに接続されている。
A transparent pixel electrode 713 made of ITO or the like is patterned and formed on the second interlayer insulating film 711b in a predetermined shape, and the pixel electrode 713 is connected to the source region 707a through the contact hole 712a. .
A power line 714 is disposed on the first interlayer insulating film 711a, and the power line 714 is connected to the drain region 707b through the contact hole 712b.

このように、回路素子部702には、各画素電極713に接続された駆動用の薄膜トランジスタ715がそれぞれ形成されている。   Thus, the driving thin film transistors 715 connected to the pixel electrodes 713 are formed in the circuit element portion 702, respectively.

上記発光素子部703は、複数の画素電極713上の各々に積層された機能層717と、各画素電極713及び機能層717の間に備えられて各機能層717を区画するバンク部718とにより概略構成されている。
これら画素電極713、機能層717、及び、機能層717上に配設された陰極704によって発光素子が構成されている。なお、画素電極713は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極713の間にバンク部718が形成されている。
The light emitting element portion 703 includes a functional layer 717 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 713, and a bank portion 718 provided between each pixel electrode 713 and the functional layer 717 to partition each functional layer 717. It is roughly structured.
The pixel electrode 713, the functional layer 717, and the cathode 704 provided on the functional layer 717 constitute a light emitting element. Note that the pixel electrode 713 is formed by patterning in a substantially rectangular shape in plan view, and a bank portion 718 is formed between the pixel electrodes 713.

バンク部718は、例えばSiO、SiO、TiO等の無機材料により形成される無機物バンク層718a(第1バンク層)と、この無機物バンク層718a上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層718b(第2バンク層)とにより構成されている。このバンク部718の一部は、画素電極713の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部718の間には、画素電極713に対して上方に向けて次第に拡開した開口部719が形成されている。
The bank part 718 is laminated on the inorganic bank layer 718a (first bank layer) 718a (first bank layer) formed of an inorganic material such as SiO, SiO 2 or TiO 2 , and is made of an acrylic resin, a polyimide resin or the like. It is composed of an organic bank layer 718b (second bank layer) having a trapezoidal cross section formed of a resist having excellent heat resistance and solvent resistance. A part of the bank portion 718 is formed on the peripheral edge of the pixel electrode 713.
Between each bank portion 718, an opening 719 that gradually expands upward with respect to the pixel electrode 713 is formed.

上記機能層717は、開口部719内において画素電極713上に積層状態で形成された正孔注入/輸送層717aと、この正孔注入/輸送層717a上に形成された発光層717bとにより構成されている。なお、この発光層717bに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入/輸送層717aは、画素電極713側から正孔を輸送して発光層717bに注入する機能を有する。この正孔注入/輸送層717aは、正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物(機能液)を吐出することで形成される。正孔注入/輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
The functional layer 717 includes a hole injection / transport layer 717a formed on the pixel electrode 713 in a stacked state in the opening 719 and a light emitting layer 717b formed on the hole injection / transport layer 717a. Has been. Note that another functional layer having other functions may be further formed adjacent to the light emitting layer 717b. For example, it is possible to form an electron transport layer.
The hole injection / transport layer 717a has a function of transporting holes from the pixel electrode 713 side and injecting them into the light emitting layer 717b. The hole injection / transport layer 717a is formed by discharging a first composition (functional liquid) containing a hole injection / transport layer forming material. A known material is used as the hole injection / transport layer forming material.

発光層717bは、赤色(R)、緑色(G)、又は青色(B)の何れかに発光するもので、発光層形成材料(発光材料)を含む第2組成物(機能液)を吐出することで形成される。第2組成物の溶媒(非極性溶媒)としては、正孔注入/輸送層717aに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層717bの第2組成物に用いることにより、正孔注入/輸送層717aを再溶解させることなく発光層717bを形成することができる。   The light emitting layer 717b emits light in red (R), green (G), or blue (B), and discharges a second composition (functional liquid) containing a light emitting layer forming material (light emitting material). Is formed. As the solvent (nonpolar solvent) of the second composition, a known material insoluble in the hole injection / transport layer 717a is preferably used, and such a nonpolar solvent is used as the second composition of the light emitting layer 717b. By using the light emitting layer 717b, the light emitting layer 717b can be formed without re-dissolving the hole injection / transport layer 717a.

そして、発光層717bでは、正孔注入/輸送層717aから注入された正孔と、陰極704から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。   The light emitting layer 717b is configured such that holes injected from the hole injection / transport layer 717a and electrons injected from the cathode 704 are recombined in the light emitting layer to emit light.

陰極704は、発光素子部703の全面を覆う状態で形成されており、画素電極713と対になって機能層717に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極704の上部には図示しない封止部材が配置される。   The cathode 704 is formed so as to cover the entire surface of the light emitting element portion 703, and plays a role of flowing current to the functional layer 717 in a pair with the pixel electrode 713. Note that a sealing member (not shown) is disposed on the cathode 704.

次に、上記の表示装置700の製造工程を図33〜図41を参照して説明する。
この表示装置700は、図33に示すように、バンク部形成工程(S21)、表面処理工程(S22)、正孔注入/輸送層形成工程(S23)、発光層形成工程(S24)、及び対向電極形成工程(S25)を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
Next, a manufacturing process of the display device 700 will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 33, the display device 700 includes a bank part forming step (S21), a surface treatment step (S22), a hole injection / transport layer forming step (S23), a light emitting layer forming step (S24), It is manufactured through an electrode formation step (S25). In addition, a manufacturing process is not restricted to what is illustrated, and when other processes are removed as needed, it may be added.

まず、バンク部形成工程(S21)では、図34に示すように、第2層間絶縁膜711b上に無機物バンク層718aを形成する。この無機物バンク層718aは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層718aの一部は画素電極713の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層718aを形成したならば、図35に示すように、無機物バンク層718a上に有機物バンク層718bを形成する。この有機物バンク層718bも無機物バンク層718aと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部718が形成される。また、これに伴い、各バンク部718間には、画素電極713に対して上方に開口した開口部719が形成される。この開口部719は、画素領域を規定する。
First, in the bank part forming step (S21), as shown in FIG. 34, an inorganic bank layer 718a is formed on the second interlayer insulating film 711b. The inorganic bank layer 718a is formed by forming an inorganic film at a formation position and then patterning the inorganic film using a photolithography technique or the like. At this time, a part of the inorganic bank layer 718 a is formed so as to overlap with the peripheral edge of the pixel electrode 713.
When the inorganic bank layer 718a is formed, an organic bank layer 718b is formed on the inorganic bank layer 718a as shown in FIG. This organic bank layer 718b is also formed by patterning using a photolithography technique or the like, similarly to the inorganic bank layer 718a.
In this way, the bank portion 718 is formed. Accordingly, an opening 719 that opens upward with respect to the pixel electrode 713 is formed between the bank portions 718. The opening 719 defines a pixel region.

表面処理工程(S22)では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層718aの第1積層部718aa及び画素電極713の電極面713aであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極713であるITOの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層718bの壁面718s及び有機物バンク層718bの上面718tに施され、例えば4フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理(撥液性に処理)される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド51を用いて機能層717を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部719から溢れ出るのを防止することが可能となる。
In the surface treatment step (S22), a lyophilic process and a lyophobic process are performed. The regions to be subjected to the lyophilic treatment are the first stacked portion 718aa of the inorganic bank layer 718a and the electrode surface 713a of the pixel electrode 713. These regions are made lyophilic by plasma treatment using, for example, oxygen as a treatment gas. Is done. This plasma treatment also serves to clean the ITO that is the pixel electrode 713.
In addition, the lyophobic treatment is performed on the wall surface 718s of the organic bank layer 718b and the upper surface 718t of the organic bank layer 718b, and the surface is fluorinated (treated to be liquid repellent) by plasma treatment using, for example, tetrafluoromethane. )
By performing this surface treatment process, when the functional layer 717 is formed using the functional liquid droplet ejection head 51, the functional liquid droplets can be landed more reliably on the pixel area. It is possible to prevent the functioning liquid droplets from overflowing from the opening 719.

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体700Aが得られる。この表示装置基体700Aは、図1に示した液滴吐出装置1のセットテーブル141に載置され、以下の正孔注入/輸送層形成工程(S23)及び発光層形成工程(S24)が行われる。   The display device base 700A is obtained through the above steps. The display device base 700A is placed on the set table 141 of the droplet discharge device 1 shown in FIG. 1, and the following hole injection / transport layer forming step (S23) and light emitting layer forming step (S24) are performed. .

図36に示すように、正孔注入/輸送層形成工程(S23)では、機能液滴吐出ヘッド51から正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物を画素領域である各開口部719内に吐出する。その後、図37に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第1組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極(電極面713a)713上に正孔注入/輸送層717aを形成する。   As shown in FIG. 36, in the hole injection / transport layer forming step (S23), the first composition containing the hole injection / transport layer forming material is transferred from the functional liquid droplet ejection head 51 to each opening 719 that is a pixel region. Discharge inside. Then, as shown in FIG. 37, a drying process and a heat treatment are performed to evaporate the polar solvent contained in the first composition, thereby forming a hole injection / transport layer 717a on the pixel electrode (electrode surface 713a) 713.

次に発光層形成工程(S24)について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入/輸送層717aの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第2組成物の溶媒として、正孔注入/輸送層717aに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入/輸送層717aは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第2組成物を正孔注入/輸送層717a上に吐出しても、正孔注入/輸送層717aと発光層717bとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層717bを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入/輸送層717aの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理(表面改質処理)を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第2組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入/輸送層717a上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入/輸送層717aの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/輸送層717aに均一に塗布することができる。
Next, the light emitting layer forming step (S24) will be described. In this light emitting layer forming step, as described above, in order to prevent re-dissolution of the hole injection / transport layer 717a, a hole injection / transport layer 717a is used as a solvent for the second composition used in forming the light emitting layer. A non-polar solvent insoluble in.
However, since the hole injection / transport layer 717a has a low affinity for the nonpolar solvent, the hole injection / transport layer 717a has a low affinity even if the second composition containing the nonpolar solvent is discharged onto the hole injection / transport layer 717a. There is a possibility that the injection / transport layer 717a and the light emitting layer 717b cannot be adhered to each other or the light emitting layer 717b cannot be applied uniformly.
Therefore, in order to increase the surface affinity of the hole injection / transport layer 717a with respect to the nonpolar solvent and the light emitting layer forming material, it is preferable to perform a surface treatment (surface modification treatment) before forming the light emitting layer. In this surface treatment, a surface modifying material which is the same solvent as the non-polar solvent of the second composition used in forming the light emitting layer or a similar solvent is applied on the hole injection / transport layer 717a, and this is applied. This is done by drying.
By performing such a treatment, the surface of the hole injection / transport layer 717a is easily adapted to the nonpolar solvent, and in the subsequent process, the second composition containing the light emitting layer forming material is added to the hole injection / transport layer. It can be uniformly applied to 717a.

そして次に、図38に示すように、各色のうちの何れか(図38の例では青色(B))に対応する発光層形成材料を含有する第2組成物を機能液滴として画素領域(開口部719)内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第2組成物は、正孔注入/輸送層717a上に広がって開口部719内に満たされる。なお、万一、第2組成物が画素領域から外れてバンク部718の上面718t上に着弾した場合でも、この上面718tは、上述したように撥液処理が施されているので、第2組成物が開口部719内に転がり込み易くなっている。   Next, as shown in FIG. 38, the second composition containing the light emitting layer forming material corresponding to any one of the colors (blue (B) in the example of FIG. 38) is used as a functional droplet as a pixel region ( A predetermined amount is driven into the opening 719). The second composition driven into the pixel region spreads on the hole injection / transport layer 717a and fills the opening 719. Even if the second composition deviates from the pixel region and lands on the upper surface 718t of the bank portion 718, the upper composition 718t is subjected to the liquid repellent treatment as described above, and thus the second composition An object is easy to roll into the opening 719.

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第2組成物を乾燥処理し、第2組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図39に示すように、正孔注入/輸送層717a上に発光層717bが形成される。この図の場合、青色(B)に対応する発光層717bが形成されている。   Thereafter, by performing a drying process or the like, the discharged second composition is dried, the nonpolar solvent contained in the second composition is evaporated, and as shown in FIG. 39, the hole injection / transport layer 717a A light emitting layer 717b is formed thereon. In the case of this figure, a light emitting layer 717b corresponding to blue (B) is formed.

同様に、機能液滴吐出ヘッド51を用い、図40に示すように、上記した青色(B)に対応する発光層717bの場合と同様の工程を順次行い、他の色(赤色(R)及び緑色(G))に対応する発光層717bを形成する。なお、発光層717bの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Similarly, using the functional liquid droplet ejection head 51, as shown in FIG. 40, the same steps as in the case of the light emitting layer 717b corresponding to the blue (B) described above are sequentially performed, and other colors (red (R) and red (R) and A light emitting layer 717b corresponding to green (G)) is formed. Note that the order in which the light-emitting layers 717b are formed is not limited to the illustrated order, and may be formed in any order. For example, the order of formation can be determined according to the light emitting layer forming material. Further, the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

以上のようにして、画素電極713上に機能層717、即ち、正孔注入/輸送層717a及び発光層717bが形成される。そして、対向電極形成工程(S25)に移行する。   As described above, the functional layer 717, that is, the hole injection / transport layer 717 a and the light emitting layer 717 b are formed on the pixel electrode 713. And it transfers to a counter electrode formation process (S25).

対向電極形成工程(S25)では、図41に示すように、発光層717b及び有機物バンク層718bの全面に陰極704(対向電極)を、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等によって形成する。この陰極704は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極704の上部には、電極としてのAl膜、Ag膜や、その酸化防止のためのSiO、SiN等の保護層が適宜設けられる。
In the counter electrode formation step (S25), as shown in FIG. 41, a cathode 704 (counter electrode) is formed on the entire surface of the light emitting layer 717b and the organic bank layer 718b by, for example, vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. In the present embodiment, the cathode 704 is configured, for example, by laminating a calcium layer and an aluminum layer.
On top of the cathode 704, an Al film and an Ag film as electrodes, and a protective layer such as SiO 2 and SiN for preventing oxidation thereof are appropriately provided.

このようにして陰極704を形成した後、この陰極704の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置700が得られる。   After forming the cathode 704 in this way, the display device 700 is obtained by performing other processing such as sealing processing and wiring processing for sealing the upper portion of the cathode 704 with a sealing member.

次に、図42は、プラズマ型表示装置(PDP装置:以下、単に表示装置800と称する)の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置800を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置800は、互いに対向して配置された第1基板801、第2基板802、及びこれらの間に形成される放電表示部803を含んで概略構成される。放電表示部803は、複数の放電室805により構成されている。これらの複数の放電室805のうち、赤色放電室805R、緑色放電室805G、青色放電室805Bの3つの放電室805が組になって1つの画素を構成するように配置されている。
Next, FIG. 42 is an exploded perspective view of a main part of a plasma display device (PDP device: hereinafter simply referred to as a display device 800). In the figure, the display device 800 is shown with a part thereof cut away.
The display device 800 includes a first substrate 801, a second substrate 802, and a discharge display portion 803 formed between the first substrate 801 and the second substrate 802, which are disposed to face each other. The discharge display unit 803 includes a plurality of discharge chambers 805. Among the plurality of discharge chambers 805, the three discharge chambers 805 of the red discharge chamber 805R, the green discharge chamber 805G, and the blue discharge chamber 805B are arranged to form one pixel.

第1基板801の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極806が形成され、このアドレス電極806と第1基板801の上面とを覆うように誘電体層807が形成されている。誘電体層807上には、各アドレス電極806の間に位置し、且つ各アドレス電極806に沿うように隔壁808が立設されている。この隔壁808は、図示するようにアドレス電極806の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極806と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁808によって仕切られた領域が放電室805となっている。
Address electrodes 806 are formed in stripes at predetermined intervals on the upper surface of the first substrate 801, and a dielectric layer 807 is formed so as to cover the address electrodes 806 and the upper surface of the first substrate 801. On the dielectric layer 807, partition walls 808 are provided so as to be positioned between the address electrodes 806 and along the address electrodes 806. The partition 808 includes one extending on both sides in the width direction of the address electrode 806 as shown, and one not shown extending in a direction orthogonal to the address electrode 806.
A region partitioned by the partition 808 is a discharge chamber 805.

放電室805内には蛍光体809が配置されている。蛍光体809は、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室805Rの底部には赤色蛍光体809Rが、緑色放電室805Gの底部には緑色蛍光体809Gが、青色放電室805Bの底部には青色蛍光体809Bが各々配置されている。   A phosphor 809 is disposed in the discharge chamber 805. The phosphor 809 emits red (R), green (G), or blue (B) fluorescence, and the red phosphor 809R is located at the bottom of the red discharge chamber 805R, and the green discharge chamber 805G. A green phosphor 809G and a blue phosphor 809B are disposed at the bottom and the blue discharge chamber 805B, respectively.

第2基板802の図中下側の面には、上記アドレス電極806と直交する方向に複数の表示電極811が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層812、及びMgOなどからなる保護膜813が形成されている。
第1基板801と第2基板802とは、アドレス電極806と表示電極811が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極806と表示電極811は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極806,811に通電することにより、放電表示部803において蛍光体809が励起発光し、カラー表示が可能となる。
On the lower surface of the second substrate 802 in the figure, a plurality of display electrodes 811 are formed in stripes at predetermined intervals in a direction orthogonal to the address electrodes 806. A dielectric layer 812 and a protective film 813 made of MgO or the like are formed so as to cover them.
The first substrate 801 and the second substrate 802 are bonded so that the address electrodes 806 and the display electrodes 811 face each other in a state of being orthogonal to each other. The address electrode 806 and the display electrode 811 are connected to an AC power source (not shown).
When the electrodes 806 and 811 are energized, the phosphor 809 emits light in the discharge display portion 803, and color display is possible.

本実施形態においては、上記アドレス電極806、表示電極811、及び蛍光体809を、図1に示した液滴吐出装置1を用いて形成することができる。以下、第1基板801におけるアドレス電極806の形成工程を例示する。
この場合、第1基板801を液滴吐出装置1のセットテーブル141に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド51により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
In the present embodiment, the address electrode 806, the display electrode 811, and the phosphor 809 can be formed using the droplet discharge device 1 shown in FIG. Hereinafter, a process of forming the address electrode 806 in the first substrate 801 will be exemplified.
In this case, the following process is performed with the first substrate 801 placed on the set table 141 of the droplet discharge device 1.
First, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the address electrode formation region as a functional liquid droplet by the functional liquid droplet ejection head 51. This liquid material is obtained by dispersing conductive fine particles such as metal in a dispersion medium as a conductive film wiring forming material. As the conductive fine particles, metal fine particles containing gold, silver, copper, palladium, nickel, or the like, a conductive polymer, or the like is used.

補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極806が形成される。   When the replenishment of the liquid material is completed for all the address electrode formation regions to be replenished, the address material 806 is formed by drying the discharged liquid material and evaporating the dispersion medium contained in the liquid material. .

ところで、上記においてはアドレス電極806の形成を例示したが、上記表示電極811及び蛍光体809についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極811の形成の場合、アドレス電極806の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体809の形成の場合には、各色(R,G,B)に対応する蛍光材料を含んだ液体材料(機能液)を機能液滴吐出ヘッド51から液滴として吐出し、対応する色の放電室805内に着弾させる。
By the way, although the formation of the address electrode 806 has been exemplified in the above, the display electrode 811 and the phosphor 809 can also be formed through the above steps.
In the case of forming the display electrode 811, as in the case of the address electrode 806, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the display electrode formation region as a functional droplet.
Further, in the case of forming the phosphor 809, a liquid material (functional liquid) containing a fluorescent material corresponding to each color (R, G, B) is ejected as droplets from the functional liquid droplet ejection head 51, and corresponding. Land in the color discharge chamber 805.

次に、図43は、電子放出装置(FED装置あるいはSED装置ともいう:以下、単に表示装置900と称する)の要部断面図である。なお、同図では表示装置900を、その一部を断面として示してある。
この表示装置900は、互いに対向して配置された第1基板901、第2基板902、及びこれらの間に形成される電界放出表示部903を含んで概略構成される。電界放出表示部903は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部905により構成されている。
Next, FIG. 43 is a cross-sectional view of an essential part of an electron emission device (also referred to as an FED device or an SED device: hereinafter simply referred to as a display device 900). In the figure, a part of the display device 900 is shown as a cross section.
The display device 900 is schematically configured to include a first substrate 901 and a second substrate 902 that are arranged to face each other, and a field emission display portion 903 formed therebetween. The field emission display unit 903 includes a plurality of electron emission units 905 arranged in a matrix.

第1基板901の上面には、カソード電極906を構成する第1素子電極906aおよび第2素子電極906bが相互に直交するように形成されている。また、第1素子電極906aおよび第2素子電極906bで仕切られた部分には、ギャップ908を形成した導電性膜907が形成されている。すなわち、第1素子電極906a、第2素子電極906bおよび導電性膜907により複数の電子放出部905が構成されている。導電性膜907は、例えば酸化パラジウム(PdO)等で構成され、またギャップ908は、導電性膜907を成膜した後、フォーミング等で形成される。   A first element electrode 906a and a second element electrode 906b constituting the cathode electrode 906 are formed on the upper surface of the first substrate 901 so as to be orthogonal to each other. In addition, a conductive film 907 having a gap 908 is formed in a portion partitioned by the first element electrode 906a and the second element electrode 906b. In other words, the first element electrode 906a, the second element electrode 906b, and the conductive film 907 constitute a plurality of electron emission portions 905. The conductive film 907 is made of, for example, palladium oxide (PdO), and the gap 908 is formed by forming after forming the conductive film 907.

第2基板902の下面には、カソード電極906に対峙するアノード電極909が形成されている。アノード電極909の下面には、格子状のバンク部911が形成され、このバンク部911で囲まれた下向きの各開口部912に、電子放出部905に対応するように蛍光体913が配置されている。蛍光体913は、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部912には、赤色蛍光体913R、緑色蛍光体913Gおよび青色蛍光体913Bが、上記した所定のパターンで配置されている。   An anode electrode 909 facing the cathode electrode 906 is formed on the lower surface of the second substrate 902. A lattice-shaped bank portion 911 is formed on the lower surface of the anode electrode 909, and a phosphor 913 is disposed in each downward opening 912 surrounded by the bank portion 911 so as to correspond to the electron emission portion 905. Yes. The phosphor 913 emits fluorescence of any color of red (R), green (G), and blue (B), and each opening 912 has a red phosphor 913R, a green phosphor 913G, and a blue color. The phosphors 913B are arranged in the predetermined pattern described above.

そして、このように構成した第1基板901と第2基板902とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置900では、導電性膜(ギャップ908)907を介して、陰極である第1素子電極906aまたは第2素子電極906bから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極909に形成した蛍光体913に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。   The first substrate 901 and the second substrate 902 configured as described above are bonded together with a minute gap. In this display device 900, electrons that jump out of the first element electrode 906a or the second element electrode 906b, which are cathodes, via the conductive film (gap 908) 907 are transferred to the phosphor 913 formed on the anode electrode 909 that is an anode. When excited, it emits light and enables color display.

この場合も、他の実施形態と同様に、第1素子電極906a、第2素子電極906b、導電性膜907およびアノード電極909を、液滴吐出装置1を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体913R,913G,913Bを、液滴吐出装置1を用いて形成することができる。   Also in this case, as in the other embodiments, the first element electrode 906a, the second element electrode 906b, the conductive film 907, and the anode electrode 909 can be formed using the droplet discharge device 1 and each color. The phosphors 913R, 913G, and 913B can be formed using the droplet discharge device 1.

第1素子電極906a、第2素子電極906bおよび導電性膜907は、図44(a)に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図44(b)に示すように、予め第1素子電極906a、第2素子電極906bおよび導電性膜907を作り込む部分を残して、バンク部BBを形成(フォトリソグラフィ法)する。次に、バンク部BBにより構成された溝部分に、第1素子電極906aおよび第2素子電極906bを形成(液滴吐出装置1によるインクジェット法)し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜907を形成(液滴吐出装置1によるインクジェット法)する。そして、導電性膜907を成膜後、バンク部BBを取り除き(アッシング剥離処理)、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機EL装置の場合と同様に、第1基板901および第2基板902に対する親液化処理や、バンク部911,BBに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。   The first element electrode 906a, the second element electrode 906b, and the conductive film 907 have the planar shape shown in FIG. 44 (a). When these are formed, as shown in FIG. 44 (b). In addition, the bank portion BB is formed (photolithographic method), leaving portions where the first element electrode 906a, the second element electrode 906b, and the conductive film 907 are previously formed. Next, the first element electrode 906a and the second element electrode 906b were formed in the groove portion constituted by the bank portion BB (inkjet method using the droplet discharge device 1), and the solvent was dried to form a film. After that, a conductive film 907 is formed (an ink jet method using the droplet discharge device 1). Then, after forming the conductive film 907, the bank portion BB is removed (ashing peeling process), and the process proceeds to the above forming process. As in the case of the organic EL device described above, it is preferable to perform a lyophilic process on the first substrate 901 and the second substrate 902 and a lyophobic process on the bank portions 911 and BB.

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置1を各種の電気光学装置(デバイス)の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。   As other electro-optical devices, devices such as metal wiring formation, lens formation, resist formation, and light diffuser formation are conceivable. By using the droplet discharge device 1 described above for manufacturing various electro-optical devices (devices), various electro-optical devices can be efficiently manufactured.

本実施形態にかかる液滴吐出装置全体の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the whole droplet discharge device concerning this embodiment. 本実施形態にかかる液滴吐出装置の平面図である。It is a top view of the droplet discharge device concerning this embodiment. 本実施形態にかかる液滴吐出装置の正面図である。It is a front view of the droplet discharge device concerning this embodiment. 本実施形態にかかる液滴吐出装置の右側面図である。It is a right view of the droplet discharge device concerning this embodiment. (第1)ヘッドユニットの平面図である。(First) It is a top view of a head unit. 機能液滴吐出ヘッドの説明図であり、(a)は機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図、(b)は、機能液滴吐出ヘッドをヘッドプレートに取り付けたときの断面図である。4A and 4B are explanatory views of a functional liquid droplet ejection head, in which FIG. 3A is an external perspective view of the functional liquid droplet ejection head, and FIG. 2B is a cross-sectional view when the functional liquid droplet ejection head is attached to a head plate. メインキャリッジにヘッドユニットを搭載したときの外観斜視図である。FIG. 4 is an external perspective view when a head unit is mounted on a main carriage. メインキャリッジにヘッドユニットを搭載したときの右側面図である。FIG. 4 is a right side view when the head unit is mounted on the main carriage. X軸テーブル廻りの外観斜視図である。It is an external appearance perspective view around an X-axis table. X軸テーブル廻りの右側面図である。It is a right side view around the X-axis table. θテーブルの説明図であり、(a)は、X軸エアースライダにθテーブル支持部を支持させたときの平面図、(b)は、X軸エアースライダにθテーブル支持部を支持させたときの正面図、(c)は、X軸エアースライダにθテーブルを支持させたときの外観斜視図である。It is explanatory drawing of (theta) table, (a) is a top view when the X-axis air slider supports the θ table support part, (b) is when the X-axis air slider supports the θ table support part FIG. 4C is an external perspective view when the θ table is supported on the X-axis air slider. 吸着テーブル廻りの説明図であり、テーブル本体を除いた吸着テーブルの外観斜視図である。It is explanatory drawing around an adsorption | suction table, and is an external appearance perspective view of the adsorption | suction table except a table main body. 吸着テーブルの説明図である。It is explanatory drawing of a suction table. 3点支持機構のテーブル高さ調整機構の説明図であり、(a)は、テーブル高さ調整機構の平面図、(b)は、テーブル高さ調整機構の正面図、(c)は、テーブル高さ調整機構の側面図である。It is explanatory drawing of the table height adjustment mechanism of a 3 point | piece support mechanism, (a) is a top view of a table height adjustment mechanism, (b) is a front view of a table height adjustment mechanism, (c) is a table. It is a side view of a height adjustment mechanism. 吸着テーブルのテーブル本体の平面図である。It is a top view of the table main body of a suction table. Y軸テーブル廻りの外観斜視図である。It is an external appearance perspective view around a Y-axis table. Y軸テーブル廻りの側面図である。It is a side view around a Y-axis table. Y軸テーブル廻りの背面図である。It is a rear view around the Y-axis table. 第1リフトアップユニットの説明図であり、(a)および(b)は、第1リフトアップユニットの外観斜視図、(c)は、第1リフトアップユニットの断面図である。It is explanatory drawing of a 1st lift up unit, (a) And (b) is an external appearance perspective view of a 1st lift up unit, (c) is sectional drawing of a 1st lift up unit. 第2リフトアップユニットの説明図であり、(a)は、第2リフトアップユニットの外観斜視図、(b)は、第2リフトアップユニットの断面図である。It is explanatory drawing of a 2nd lift up unit, (a) is an external appearance perspective view of a 2nd lift up unit, (b) is sectional drawing of a 2nd lift up unit. 機台廻りの外観斜視図である。It is an external perspective view around the machine base. 機台廻りの平面図である。It is a top view around the machine base. ワイピングユニットのシート供給ユニットの外観斜視図である。It is an external perspective view of the sheet supply unit of the wiping unit. シート供給ユニットの繰り出しリールの説明図であり、(a)は、繰り出しリールの平面図、(b)は、繰り出しリールの断面図である。4A and 4B are explanatory views of a feeding reel of the sheet supply unit, in which FIG. 4A is a plan view of the feeding reel, and FIG. 吸着テーブルに配設されたエアー配管部の説明図である。It is explanatory drawing of the air piping part arrange | positioned at the adsorption | suction table. エアー吸引装置の説明図であり、(a)は、吸引配管部を模式的に示した系統図であり、(b)は、吸着テーブルの吸引孔および吸引溝と個別エアー吸引チューブの関係を示した図である。It is explanatory drawing of an air suction device, (a) is the systematic diagram which showed the suction piping part typically, (b) shows the relationship between the suction hole and suction groove of a suction table, and an individual air suction tube. It is a figure. カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining a color filter manufacturing process. (a)〜(e)は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。(A)-(e) is a schematic cross section of the color filter shown to the manufacturing process order. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第2の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 2nd example using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第3の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 3rd example using the color filter to which this invention is applied. 有機EL装置である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing process of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an inorganic bank layer. 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an organic substance bank layer. 正孔注入/輸送層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a positive hole injection / transport layer is formed. 正孔注入/輸送層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the positive hole injection / transport layer was formed. 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a blue light emitting layer is formed. 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the blue light emitting layer was formed. 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the light emitting layer of each color was formed. 陰極の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of a cathode. プラズマ型表示装置(PDP装置)である表示装置の要部分解斜視図である。It is a principal part disassembled perspective view of the display apparatus which is a plasma type display apparatus (PDP apparatus). 電子放出装置(FED装置)である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an electron emission apparatus (FED apparatus). 表示装置の電子放出部廻りの平面図(a)およびその形成方法を示す平面図(b)である。It is the top view (a) around the electron emission part of a display apparatus, and the top view (b) which shows the formation method.

符号の説明Explanation of symbols

1 液滴吐出装置 26 制御装置
51 機能液滴吐出ヘッド 121 X軸テーブル
141 セットテーブル 201 貫通孔
261 リフトアップ機構 263 除電手段
271a 第1リフトアップピン 271b 第2リフトアップピン
281 第1リフトアッププレート 282 第1リフトアップ機構
283 第1リフトアップベースプレート
311 第2リフトアッププレート 312 第2リフトアップ機構
313 第2リフトアップベースプレート
391 静電除去装置
W ワーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Droplet discharge device 26 Control apparatus 51 Function droplet discharge head 121 X-axis table 141 Set table 201 Through-hole 261 Lift-up mechanism 263 Static elimination means 271a 1st lift-up pin 271b 2nd lift-up pin 281 1st lift-up plate 282 First lift-up mechanism 283 First lift-up base plate 311 Second lift-up plate 312 Second lift-up mechanism 313 Second lift-up base plate 391 Electrostatic removal device W Workpiece

Claims (18)

可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、エアーをイオン化するためのイオン化光を照射するイオン化光照射手段を用いて除電する除電方法であって、
前記ワークテーブルに対し、前記ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップし、
このリフトアップした前記ワークと前記ワークテーブルとの空間にイオン化光を照射し、
この照射状態で、前記ワークを前記ワークテーブルから引き離すことを特徴とする除電方法。
A static elimination method for neutralizing static electricity generated when a chargeable workpiece having flexibility is separated from a work table using an ionizing light irradiation means for irradiating ionized light for ionizing air,
Lifting up the other part with the part of the work in contact with the work table,
Irradiate ionized light to the space between the lifted workpiece and the work table,
A static elimination method, wherein the workpiece is separated from the work table in this irradiation state.
前記照射状態で、前記ワークを前記イオン化光の光軸と略直交する方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載の除電方法。   The static elimination method according to claim 1, wherein the workpiece is moved in a direction substantially orthogonal to the optical axis of the ionized light in the irradiation state. 前記ワークを挟むようにして対向配置した一対の前記イオン化光照射手段を用い、
前記ワークテーブルに対し、前記ワークを前記移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、
この状態でイオン化光を照射することを特徴とする請求項2に記載の除電方法。
Using a pair of the ionized light irradiation means arranged to face each other so as to sandwich the workpiece,
Lifting up the work table so that the work is brought into contact with an intermediate part along the moving direction and curved on both sides thereof,
3. The static elimination method according to claim 2, wherein ionizing light is irradiated in this state.
可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、イオン化したエアーを吹き付けるイオン化エアーブロー手段を用いて除電する除電方法であって、
前記ワークテーブルに対し、前記ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップし、
このリフトアップした前記ワークと前記ワークテーブルとの空間にイオン化エアーをブローし、
このブロー状態で、前記ワークを前記ワークテーブルから引き離すことを特徴とする除電方法。
A static elimination method for neutralizing static electricity generated when a chargeable workpiece having flexibility is pulled away from a work table by using ionized air blow means for blowing ionized air,
Lifting up the other part with the part of the work in contact with the work table,
Ionized air is blown into the space between the lifted workpiece and the work table,
A static elimination method, wherein the work is pulled away from the work table in the blow state.
前記ブロー状態で、前記ワークを前記イオン化エアーの吹出し方向と略直交する方向に移動させることを特徴とする請求項4に記載の除電方法。   5. The static elimination method according to claim 4, wherein the workpiece is moved in a direction substantially perpendicular to a blowing direction of the ionized air in the blow state. 前記ワークを挟むようにして対向配置した一対の前記イオン化エアーブロー手段を用い、
前記ワークテーブルに対し、前記ワークを前記移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、
この状態でイオン化エアーをブローすることを特徴とする請求項5に記載の除電方法。
Using a pair of the ionized air blow means arranged so as to sandwich the workpiece,
Lifting up the work table so that the work is brought into contact with an intermediate part along the moving direction and curved on both sides thereof,
6. The static elimination method according to claim 5, wherein ionized air is blown in this state.
可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、エアーをイオン化するためのイオン化光を照射することにより除電する除電装置において、
イオン化光を照射するイオン化光照射手段と、
前記ワークテーブルに対し、前記ワークを部分的にリフトアップ可能なリフトアップ手段と、
前記イオン化光照射手段および前記リフトアップ手段の駆動を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記ワークテーブルに対し前記ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップさせた後、前記ワークと前記ワークテーブルとの空間にイオン化光を照射させ、この照射状態で前記ワークを前記ワークテーブルから引き離すよう再度リフトアップすることを特徴とする除電装置。
In a static eliminator that neutralizes static electricity generated when a chargeable workpiece having flexibility is pulled away from a work table by irradiating with ionized light for ionizing air,
Ionizing light irradiation means for irradiating ionized light;
Lift-up means capable of partially lifting the workpiece with respect to the work table;
Control means for controlling the driving of the ionized light irradiation means and the lift-up means,
The control means lifts the other part in a state where a part of the work is brought into contact with the work table, and then irradiates the space between the work and the work table with ionized light. And removing the workpiece again from the workpiece table.
前記ワークテーブルを介して、前記ワークを前記イオン化光の光軸と略直交する方向に移動させると共に、前記制御手段によりその駆動が制御される移動テーブルを、更に備え、
前記制御手段は、前記照射状態で前記ワークを移動させることを特徴とする請求項7に記載の除電装置。
The work table is further moved through the work table in a direction substantially perpendicular to the optical axis of the ionized light, and further includes a moving table whose driving is controlled by the control means,
The static eliminator according to claim 7, wherein the control unit moves the workpiece in the irradiation state.
前記イオン化光照射手段は、前記ワークを挟むようにして対向配置した一対のもので構成されており、
前記制御手段は、前記ワークを前記移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、この状態で前記イオン化光を照射させることを特徴とする請求項8に記載の除電装置。
The ionized light irradiation means is composed of a pair of opposingly arranged so as to sandwich the workpiece,
The said control means lifts up so that the intermediate part along the said moving direction may contact the said workpiece | work, and the both sides may be curved, and irradiates the said ionized light in this state, It is characterized by the above-mentioned. Static eliminator.
可とう性を有する帯電性のワークをワークテーブルから引き離すときに生ずる静電気を、イオン化したエアーを吹き付けることにより除電する除電装置において、
イオン化エアーを吹き付けるイオン化エアーブロー手段と、
前記ワークテーブルに対し、前記ワークを部分的にリフトアップ可能なリフトアップ手段と、
前記イオン化エアーブロー手段および前記リフトアップ手段の駆動を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記ワークテーブルに対し前記ワークの一部を接触させた状態で他の部分をリフトアップさせた後、前記ワークと前記ワークテーブルとの空間にイオン化エアーをブローさせ、このブロー状態で前記ワークを前記ワークテーブルから引き離すよう再度リフトアップすることを特徴とする除電装置。
In a static eliminator that neutralizes static electricity generated by pulling away a chargeable workpiece having flexibility from a work table by blowing ionized air,
Ionized air blowing means for blowing ionized air;
Lift-up means capable of partially lifting the workpiece with respect to the work table;
Control means for controlling the driving of the ionized air blow means and the lift-up means,
The control means lifts the other part in a state where a part of the work is brought into contact with the work table, and then blows ionized air into the space between the work and the work table. And removing the workpiece again from the workpiece table.
前記ワークテーブルを介して、前記ワークを前記イオン化エアーの吹出し方向と略直交する方向に移動させると共に、前記制御手段によりその駆動が制御される移動テーブルを、更に備え、
前記制御手段は、前記ブロー状態で前記ワークを移動させることを特徴とする請求項10に記載の除電装置。
The work table is further moved through the work table in a direction substantially orthogonal to the blowing direction of the ionized air, and further includes a moving table whose driving is controlled by the control means,
The static eliminator according to claim 10, wherein the control unit moves the workpiece in the blow state.
前記イオン化エアーブロー手段は、前記ワークを挟むようにして対向配置した一対のもので構成されており、
前記制御手段は、前記ワークを前記移動方向に沿う中間部を接触させ且つその両側を湾曲させるようにリフトアップし、この状態で前記イオンエアーをブローさせることを特徴とする請求項11に記載の除電装置。
The ionized air blow means is composed of a pair of opposingly arranged so as to sandwich the workpiece,
The said control means lifts up so that the intermediate part along the said moving direction may contact the said workpiece | work, and the both sides may be curved, The said ion air is blown in this state, It is characterized by the above-mentioned. Static eliminator.
前記リフトアップ手段は、前記ワークテーブルに形成した多数の貫通孔に出没自在に遊挿され、前記ワークの中間部を突き上げる中間部ピン群および前記ワークの両側部を突き上げる一対の側部ピン群と、
前記中間部ピン群を立設した中間部支持プレート、および前記各側部ピン群を立設した一対の側部支持プレートと、
前記中間部支持プレートを昇降させる中間部上下動機構、および前記各側部支持プレートを昇降させる一対の側部上下動機構と、を有し、
前記制御手段は、前記中間部上下動機構および前記一対の側部上下動機構を個別に制御可能に構成されていることを特徴とする請求項7ないし12のいずれかに記載の除電装置。
The lift-up means is loosely inserted in a large number of through holes formed in the work table, and includes a middle pin group that pushes up the middle part of the work and a pair of side pin groups that push up both side parts of the work. ,
An intermediate support plate erected with the intermediate pin group, and a pair of side support plates erected with the side pin groups;
An intermediate vertical movement mechanism that raises and lowers the intermediate part support plate, and a pair of side vertical movement mechanisms that raise and lower each side support plate;
13. The static eliminator according to claim 7, wherein the control unit is configured to be able to individually control the intermediate part vertical movement mechanism and the pair of side vertical movement mechanisms.
前記中間部ピン群、前記中間部支持プレートおよび前記中間部上下動機構は、これらを支持する中間部ベースフレームによりユニット化され、
且つ前記各側部ピン群、前記各側部支持プレートおよび前記各側部上下動機構は、これらを支持する側部ベースフレームによりユニット化されていることを特徴とする請求項13に記載の除電装置。
The intermediate part pin group, the intermediate part support plate, and the intermediate part vertical movement mechanism are unitized by an intermediate part base frame that supports them,
14. The static eliminator according to claim 13, wherein each side pin group, each side support plate, and each side vertical movement mechanism are unitized by a side base frame that supports them. apparatus.
請求項7ないし14のいずれかに記載の除電装置と、前記ワークテーブルと、を備え、
前記ワークテーブルにセットしたワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記ワーク上に機能液を吐出して描画を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
A static eliminator according to any one of claims 7 to 14, and the work table,
Liquid droplet ejection, wherein the drawing is performed by ejecting the functional liquid onto the work while moving the functional liquid droplet ejection head introduced with the functional liquid relative to the work set on the work table. apparatus.
請求項15に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。   16. A method of manufacturing an electro-optical device, wherein the droplet discharge device according to claim 15 is used to form a film forming portion with functional droplets on the workpiece. 請求項15に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device using the droplet discharge device according to claim 15, wherein a film forming portion using functional droplets is formed on the workpiece. 請求項16に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項17に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device manufactured by the method for manufacturing the electro-optical device according to claim 16 or the electro-optical device according to claim 17.
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