JP2005063532A - 磁気ディスク用研磨液組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アルミナ、水、酸化剤、及びリンと窒素のいずれも含まない無機酸(A)を含有する磁気ディスク用研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する方法、並びに前記研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。
【選択図】なし
Description
〔1〕アルミナ、水、酸化剤、及びリンと窒素のいずれも含まない無機酸(A)を含有する磁気ディスク用研磨液組成物、
〔2〕前記〔1〕記載の研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する方法、並びに
〔3〕前記〔1〕記載の研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法
に関する。
1.研磨液の調製
表1に示すアルミナ(二次粒子の平均粒径0.2 μm 、純度約99.9%)、酸化剤、(A)〜(C)成分、その他の添加剤を所定量、残分をイオン交換水として配合、攪拌し、調製した。
厚さ1.27 mm 、直径3.5 インチのNi-Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板(「Zygo NewView200 」で短波長うねり3.8nm 、長波長うねり1.6nm )の表面を両面加工機により、以下の両面加工機の設定条件でポリッシングし、磁気記録媒体用基板として用いられるNi-Pメッキされたアルミニウム合金基板の研磨物を得た。
<両面加工機の設定条件>
両面加工機:スピードファーム(株)製、9B型両面加工機
加工圧力:9.8kPa
研磨パッド:フジボウ(株)製「H9900 」(商品名)
定盤回転数:50r/min
研磨液組成物供給流量:100ml/min
研磨時間:4min
投入した基板の枚数:10枚
(1)研磨速度
研磨前後の各基板の重さを計り(Sartorius 社製「BP-210S 」)を用いて測定し、各基板の重量変化を求め、10枚の平均値を減少量とし、それを研磨時間で割った値を重量減少速度とした。重量の減少速度を下記の式に導入し、研磨速度(μm/min )に変換した。比較例の研磨速度を基準値1として各実験例の研磨速度の相対値(相対速度)を求めた。
重量減少速度(g/min) ={研磨前の重量(g) −研磨後の重量(g) }/研磨時間(min)
研磨速度( μm/min)=重量減少速度(g/min) /基板片面面積(mm 2 )
/Ni-Pメッキ密度(g/cm 3 ) ×1000000
研磨後の各基板を下記の条件で測定した。
機器 :Zygo NewView200
レンズ :2.5 倍 Micheison
ズーム比 :0.5
リムーブ :Cylinder
フィルター:FFT Fixed Band Pass
短波長うねり:50〜500 μm
長波長うねり:0.5 〜5mm
エリア :4.33mm×5.77mm
研磨後の各基板を偏光光学顕微鏡にて300倍で観察し、下記の5段階評価をした。1,2は実用上の不良である。
5:表面にアルミナ残留物や研磨クズ等が全く観察されないもの
4:極わずかしか見られなかったもの
3:少し観察されたもの
2:多く観察されたもの
1:非常に多く観察されたもの
Claims (5)
- アルミナ、水、酸化剤、及びリンと窒素のいずれも含まない無機酸(A)を含有する磁気ディスク用研磨液組成物。
- 無機酸(A)が含硫黄無機酸、含ハロゲン無機酸、及び含金属無機酸からなる群より選ばれる1 種以上である請求項1記載の磁気ディスク用研磨液組成物。
- 少なくともアルミナ、水、酸化剤、及び含窒素無機酸(B)を含有する研磨液であって、含窒素無機酸(B)と含窒素無機酸の塩(C)との重量比(C)/(B)が0〜8である磁気ディスク用研磨液組成物。
- 請求項1〜3いずれか記載の研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する方法。
- 請求項1〜3いずれか記載の研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。
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JP2008163154A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Kao Corp | 研磨液組成物の製造方法 |
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2003
- 2003-08-08 JP JP2003290697A patent/JP2005063532A/ja active Pending
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