JP2005057860A - Step-up circuit - Google Patents
Step-up circuit Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005057860A JP2005057860A JP2003284819A JP2003284819A JP2005057860A JP 2005057860 A JP2005057860 A JP 2005057860A JP 2003284819 A JP2003284819 A JP 2003284819A JP 2003284819 A JP2003284819 A JP 2003284819A JP 2005057860 A JP2005057860 A JP 2005057860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mos transistor
- mos transistors
- type
- type mos
- output voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Dc-Dc Converters (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、チャージポンプ方式により所望の電圧を得ることができる昇圧回路に関し、液晶表示器などの各種の電源装置に使用される昇圧回路に関するものである。 The present invention relates to a booster circuit capable of obtaining a desired voltage by a charge pump method, and relates to a booster circuit used in various power supply devices such as a liquid crystal display.
従来、液晶表示器に使用される電源装置の一例としては、図5に示すものが知られている。
この電源装置は、図5に示すように、チャージポンプ方式の正の昇圧回路1、2と、チャージポンプ方式の負の昇圧回路3と、昇圧回路1〜3の各出力電圧の安定化を図る電圧安定化回路4〜6と、昇圧回路1〜3の各昇圧動作を制御するタイミングジェネレータ7とを備え、電圧安定化回路4〜6から所望の正の電圧と負の電圧とを取り出すようになっている。
Conventionally, as an example of a power supply device used for a liquid crystal display, the one shown in FIG. 5 is known.
As shown in FIG. 5, this power supply device stabilizes the output voltages of the charge pump type
正の昇圧回路1は、入力電圧VDDを2倍の正の電圧に昇圧するようになっている。正の昇圧回路2は、正の昇圧回路1の出力電圧をさらに所定倍(例えば2倍)の正の電圧に昇圧するようになっている。負の昇圧回路3は、昇圧回路1の出力電圧を所定倍(例えば2倍)の負の電圧に昇圧するようになっている。
次に、正の昇圧回路1の具体的な構成について、図6を参照して説明する。
The
Next, a specific configuration of the
この昇圧回路1は、図6に示すように、昇圧の開始時の初期に出力電圧を徐々に上昇させるMOSトランジスタM1〜M4と、ある程度の昇圧電圧が得られた時点で出力電圧を急激に上昇させるMOSトランジスタM11〜M14と、昇圧用のコンデンサC1と、出力用のコンデンサC2とを備えている。
MOSトランジスタM1〜M4およびMOSトランジスタM11〜14の各ゲートには、図5に示すタイミングジェネレータ7からの制御信号が印加され、これによりその各MOSトランジスタのオンオフ制御が行われるようになっている。
As shown in FIG. 6, the
A control signal from the
MOSトランジスタM1〜M4はトランジスタサイズが小さなものが使用され、かつ、MOSトランジスタM1〜M3はP型(Pチャネル)からなり、MOSトランジスタM4はN型(Nチャネル)からなる。また、MOSトランジスタM11〜M14はトランジスタサイズが大きなものが使用され、かつ、MOSトランジスタM11〜M13はP型からなり、MOSトランジスタM14はN型からなる。 MOS transistors M1 to M4 having a small transistor size are used, and MOS transistors M1 to M3 are P-type (P channel), and MOS transistor M4 is N-type (N channel). MOS transistors M11 to M14 having a large transistor size are used, the MOS transistors M11 to M13 are P-type, and the MOS transistor M14 is N-type.
次に、このような構成からなる昇圧回路1の昇圧動作について説明する。
この昇圧回路1では、昇圧動作が開始されると、その初期にMOSトランジスタM1〜M4のみが動作する。すなわち、まずMOSトランジスタM2,M4がオンになり、入力電圧VDD(例えば3V)によりコンデンサC1が充電される。次に、MOSトランジスタM1,M3がオンになり、コンデンサC1の充電電圧に入力電圧VDDが印加され、その印加電圧が出力電圧VOUTになる。このような動作を繰り返すことにより、出力電圧VOUTが徐々に上昇していく。
Next, the boosting operation of the
In the
そして、昇圧動作の開始から所定時間を経過後に(または出力電圧VOUTが所定電圧になった時点)、MOSトランジスタM1〜M4の動作に並行してMOSトランジスタM11〜M14が動作を開始する。
すなわち、MOSトランジスタM2,M4のオンと同時にMOSトランジスタM12,14がオンになり、入力電圧VDDによりコンデンサC1が充電される。次に、MOSトランジスタM1,M3のオンと同時にMOSトランジスタM11,M13がオンになり、コンデンサC1の充電電圧に入力電圧VDDが印加され、その印加電圧が出力電圧VOUTになる。このような動作を繰り返し、出力電圧VOUTが所望の値(例えば6V)となる。
Then, after a predetermined time has elapsed from the start of the boosting operation (or when the output voltage VOUT becomes a predetermined voltage), the MOS transistors M11 to M14 start to operate in parallel with the operations of the MOS transistors M1 to M4.
That is, the MOS transistors M12 and M14 are turned on simultaneously with the turning on of the MOS transistors M2 and M4, and the capacitor C1 is charged by the input voltage VDD. Next, the MOS transistors M11 and M13 are turned on simultaneously with the turning on of the MOS transistors M1 and M3, the input voltage VDD is applied to the charging voltage of the capacitor C1, and the applied voltage becomes the output voltage VOUT. By repeating such an operation, the output voltage VOUT becomes a desired value (for example, 6V).
このような一連の動作により、昇圧回路の供給電源の電圧変動を抑制できる。 Such a series of operations can suppress voltage fluctuations in the power supply of the booster circuit.
ところで、この従来の昇圧回路において、コンデンサへの充電時などにおける電流能力を上げて昇圧能力を上げるためには、例えばMOSトランジスタM11〜14のトラジスタサイズを大きくする必要がある。このため、従来の昇圧回路では、その昇圧能力を上げるために、MOSトランジスタM11〜14のトランジスタサイズを大きくするようにしていた。 By the way, in this conventional booster circuit, in order to increase the current capability at the time of charging a capacitor or the like to increase the boost capability, it is necessary to increase the transistor size of the MOS transistors M11 to M14, for example. Therefore, in the conventional booster circuit, the transistor sizes of the MOS transistors M11 to M14 are increased in order to increase the boosting capability.
しかし、MOSトランジスタ11〜M14は、MOSトランジスタM11〜M13がP型からなり、MOSトランジスタM14がN型からなる。すなわち、昇圧能力を左右する4つのMOSトランジスタ11〜M14のうち、3つのMOSトランジスタM11〜M13がP型からなり、P型MOSトランジスタが多用されていた。
P型のMOSトランジスタはレイアウト面積が大きいので、昇圧能力を大きくする場合には、3つのMOSトランジスタについてレイアウト面積を大きくする必要があり、全体としてレイアウト面積が大型化するという不具合がある。
However, in the
Since the P-type MOS transistor has a large layout area, when increasing the boosting capability, it is necessary to increase the layout area of the three MOS transistors, and there is a problem that the layout area becomes large as a whole.
このように、従来の昇圧回路では、昇圧能力を左右するMOSトランジスタとしてP型MOSトランジスタが多用されていたので、昇圧能力を大きくする場合には、昇圧能力に係るMOSトランジスタのレイアウト面積が全体として大きくなってしまうという不具合がある。
このような不具合を解消することが望まれるが、この解消に際して起動時に確実に昇圧動作が行えることが望まれる。
As described above, in the conventional booster circuit, P-type MOS transistors are frequently used as MOS transistors that influence the boosting capability. Therefore, when the boosting capability is increased, the layout area of the MOS transistor related to the boosting capability is as a whole. There is a problem that it gets bigger.
Although it is desired to eliminate such a problem, it is desirable that the voltage boosting operation can be surely performed at the time of start-up.
そこで、本発明の目的は、上記の点に鑑み、昇圧能力に係るMOSトランジスタのレイアウト面積を小さくできる上に、起動時に確実に昇圧動作が行える昇圧回路を提供することにある。 In view of the above, an object of the present invention is to provide a booster circuit that can reduce the layout area of a MOS transistor related to boost capability and can reliably perform a boost operation at startup.
上記の課題を解決して本発明の目的を達成するために、各発明は、以下のように構成した。
すなわち、第1の発明は、チャージポンプ方式の昇圧回路であって、出力電圧ラインと共通接続ラインとの間に直列に接続され、入力電圧の正の昇圧を行う少なくとも4つからなる第1MOSトランジスタ群と、前記出力電圧ラインと前記共通接続ラインとの間に直列に接続され、前記入力電圧の正の昇圧を前記第1MOSトランジスタと連繋して行う少なくとも4つからなる第2MOSトランジスタ群とを含み、前記第1MOSトランジスタ群は、前記共通接続ライン側を通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに、その残りの部分を通常のP型MOSトランジスタで構成するようにし、前記第2MOSトランジスタ群は、前記共通接続ライン側を通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに前記出力電圧ライン側を通常のP型MOSトランジスタで構成し、かつ、その両MOSトランジスタを除く部分は、トリプルウェル構造からなるN型MOSトランジスタを少なくとも1つ含むようにした。
In order to solve the above-described problems and achieve the object of the present invention, each invention is configured as follows.
That is, the first invention is a charge pump type booster circuit, which is connected in series between an output voltage line and a common connection line, and comprises at least four first MOS transistors for positively boosting an input voltage. And a group of at least four second MOS transistors connected in series between the output voltage line and the common connection line and performing positive boosting of the input voltage in conjunction with the first MOS transistor. In the first MOS transistor group, the common connection line side is configured by a normal N-type MOS transistor, and the remaining portion is configured by a normal P-type MOS transistor, and the second MOS transistor group is configured as described above. The common connection line side is composed of a normal N-type MOS transistor and the output voltage line side is Constituted by type MOS transistor, and the portion except for the two MOS transistors have the N-type MOS transistor comprising a triple-well structure to include at least one.
第2の発明は、第1の発明において、前記第1MOSトランジスタ群は4つからなり、前記共通接続ライン側を1つの通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに、その残りの3つを通常のP型MOSトランジスタで構成するようにし、前記第2MOSトランジスタ群は4つからなり、前記共通接続ライン側を1つの通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに、前記出力電圧ライン側を1つの通常のP型MOSトランジスタで構成し、かつ、その両MOSトランジスタを除く2つは、トリプルウェル構造からなるN型MOSトランジスタで構成するようにした。 According to a second invention, in the first invention, the first MOS transistor group is composed of four, the common connection line side is constituted by one normal N-type MOS transistor, and the remaining three are set as normal The second MOS transistor group is composed of four P-type MOS transistors, the common connection line side is composed of one ordinary N-type MOS transistor, and the output voltage line side is composed of one ordinary Two P-type MOS transistors, except for both MOS transistors, were made up of N-type MOS transistors having a triple well structure.
第3の発明は、第1または第2の発明において、前記第1MOSトランジスタ群は、前記入力電圧の昇圧開始時に昇圧動作を徐々に行うようにオンオフ制御され、その昇圧開始から所定の時間経過後に、前記第2MOSトランジスタ群は、前記第1MOSトランジスタ群に並行して一気に昇圧動作を行うようにオンオフ制御されるようになっている。
このような構成からなる本発明によれば、昇圧能力に係るMOSトランジスタのレイアウト面積を小さくできる上に、起動時に確実に昇圧動作が行える。
According to a third invention, in the first or second invention, the first MOS transistor group is on / off controlled so as to gradually perform a boosting operation at the start of boosting of the input voltage, and after a predetermined time has elapsed from the start of boosting. The second MOS transistor group is controlled to be turned on / off so as to perform a step-up operation in parallel with the first MOS transistor group.
According to the present invention having such a configuration, the layout area of the MOS transistor related to the boosting capability can be reduced, and the boosting operation can be surely performed at the start-up.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
本発明の昇圧回路の実施形態の構成について、図1を参照して説明する。
この実施形態に係る昇圧回路はチャージポンプ方式の昇圧回路であり、図1に示すように、昇圧の開始時(起動開始時)に出力電圧VOUTを徐々に上昇させるためのMOSトランジスタM1〜M4(第1MOSトランジスタ群)と、昇圧の開始後に出力電圧VOUTを一気に上昇させるMOSトランジスタM21〜M24(第2MOSトランジスタ群)と、昇圧用のコンデンサC1と、出力用のコンデンサC2と、入力端子11と、出力端子12と、を備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The configuration of the embodiment of the booster circuit of the present invention will be described with reference to FIG.
The booster circuit according to this embodiment is a charge pump type booster circuit, and, as shown in FIG. 1, MOS transistors M1 to M4 (in order to gradually increase the output voltage VOUT at the start of boosting (at the start of startup)). A first MOS transistor group), MOS transistors M21 to M24 (second MOS transistor group) that increase the output voltage VOUT at once after the start of boosting, a boosting capacitor C1, an output capacitor C2, an
MOSトランジスタM1〜M4は、高い電位の出力電圧ライン13と低い電位の共通接続ライン14との間に直列に接続され、入力電圧VDDの正の昇圧動作を行うためのものである。出力電圧ライン13は出力端子12に接続され、共通接続ライン14はグランドに接続されている。
MOSトランジスタM1〜M4は、トランジスタサイズが小さなものが使用される。また、MOSトランジスタM1〜M3は通常のP型MOSトランジスタからなり、MOSトランジスタM4は通常のN型MOSトランジスタからなる。
The MOS transistors M1 to M4 are connected in series between the high-potential
MOS transistors M1 to M4 having a small transistor size are used. Further, the MOS transistors M1 to M3 are composed of ordinary P-type MOS transistors, and the MOS transistor M4 is composed of an ordinary N-type MOS transistor.
MOSトランジスタM1〜M4の各ゲートには、制御回路(図示せず)で生成される図3に示すような各制御信号S1〜S4が印加され、MOSトランジスタM1〜M4のオンオフ制御が行われるようになっている。
MOSトランジスタM21〜M24は、出力電圧ライン13と共通接続ライン14との間に直列に接続され、入力電圧VDDの正の昇圧動作を、MOSトランジスタM1〜M4と並行(連繋)して行うためのものである。
Control signals S1 to S4 as shown in FIG. 3 generated by a control circuit (not shown) are applied to the gates of the MOS transistors M1 to M4 so that the MOS transistors M1 to M4 are turned on / off. It has become.
The MOS transistors M21 to M24 are connected in series between the
MOSトランジスタM21〜M24は、トランジスタサイズが大きなものが使用される従って、MOSトランジスタM1〜M4とMOSトランジスタM21〜M24のトランジスタサイズは、MOSトランジスタM21〜M24の方が大きくなる。
また、MOSトランジスタM21は通常のP型MOSトランジスタからなり、MOSトランジスタM4は通常のN型MOSトランジスタからなる。一方、MOSトランジスタM22,M23は、トリプルウェル構造のN型MOSトランジスタからなり、この点にこの実施形態の特徴がある。
Since the MOS transistors M21 to M24 have larger transistor sizes, the MOS transistors M21 to M24 have larger transistor sizes than the MOS transistors M21 to M24.
The MOS transistor M21 is a normal P-type MOS transistor, and the MOS transistor M4 is a normal N-type MOS transistor. On the other hand, the MOS transistors M22 and M23 are N-type MOS transistors having a triple well structure, and this embodiment has a feature of this embodiment.
MOSトランジスタM21〜M24の各ゲートには、制御回路(図示せず)で生成される図3に示すような各制御信号S5〜S8が印加され、MOSトランジスタM21〜M24のオンオフ制御が行われるようになっている。
ここで、MOSトランジスタM1〜M4は、図6に示すMOSトランジスタM1〜M4に相当する。また、MOSトランジスタM21〜M24は、図6に示すMOSトランジスタM11〜M14に相当する。
Control signals S5 to S8 shown in FIG. 3 generated by a control circuit (not shown) are applied to the gates of the MOS transistors M21 to M24 so that the MOS transistors M21 to M24 are controlled to be turned on / off. It has become.
Here, the MOS transistors M1 to M4 correspond to the MOS transistors M1 to M4 shown in FIG. MOS transistors M21 to M24 correspond to MOS transistors M11 to M14 shown in FIG.
入力端子11は、入力電圧VDDが供給されるようになっている。また、入力端子11は、MOSトランジスタM2とMOSトランジスタM3の共通接続部、およびMOSトランジスタM22とMOSトランジスタM23の共通接続部にそれぞれ接続されている。
昇圧用のコンデンサC1の一端側は、MOSトランジスタM1とMOSトランジスタM2の共通接続部、およびMOSトランジスタM21とMOSトランジスタM22の共通接続部にそれぞれ接続されている。また、そのコンデンサC1の他端側は、MOSトランジスタM3とMOSトランジスタM4の共通接続部、およびMOSトランジスタM23とMOSトランジスタM24の共通接続部にそれぞれ接続されている。
The
One end side of the boosting capacitor C1 is connected to a common connection portion between the MOS transistor M1 and the MOS transistor M2 and a common connection portion between the MOS transistor M21 and the MOS transistor M22. The other end of the capacitor C1 is connected to a common connection between the MOS transistors M3 and M4 and a common connection between the MOS transistors M23 and M24.
出力用のコンデンサC2は、その一端側が出力電圧ライン13に接続され、その他端側が共通接続ライン14に接続されている。出力端子12からは出力電圧VOUTを取り出すようになっている。
次に、MOSトランジスタM22,M23は、トリプルウェル構造のN型MOSトランジスタからなるので、その構造について図2を参照して説明する。
The output capacitor C <b> 2 has one end connected to the
Next, since the MOS transistors M22 and M23 are N-type MOS transistors having a triple well structure, the structure will be described with reference to FIG.
このトリプルウェル構造のN型MOSトランジスタは、図2に示すように、例えばP型の半導体基板21を用いて構成される。すなわち、P型の半導体基板21内にN型のウェル22を形成し、このN型のウェル22内にP型のウェル23を形成する。そして、P型のウェル23内に、N型領域24を形成してこれをドレイン電極と接続している。また、そのウェル23内に、N型領域25とP型領域26とを形成し、これらを共通接続してその共通接続部をソース電極に接続している。さらに、ウェル23の上部に絶縁物を挟んで金属膜27を形成し、これをゲート電極と接続している。
This triple well structure N-type MOS transistor is configured using, for example, a P-
次に、このような構成からなる実施形態の昇圧動作について説明する。
この実施形態では、図3および図4に示すように、時刻t1で昇圧動作が開始されると、その初期にはMOSトランジスタM1〜M4のみが動作する。
すなわち、図3に示す期間T1では、制御信号S2がLレベルで制御信号S4がHレベルになるので、MOSトランジスタM2,M4がオンになり、入力電圧VDD(例えば3V)によりコンデンサC1が充電される。
Next, the boosting operation of the embodiment having such a configuration will be described.
In this embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, when the boosting operation is started at time t1, only the MOS transistors M1 to M4 operate at the initial stage.
That is, in the period T1 shown in FIG. 3, since the control signal S2 is L level and the control signal S4 is H level, the MOS transistors M2 and M4 are turned on, and the capacitor C1 is charged by the input voltage VDD (for example, 3V). The
図3に示す期間T2では、制御信号S1がLレベルで制御信号S3がLレベルになるので、MOSトランジスタM1,M3がオンになり、コンデンサC1の充電電圧に入力電圧VDDが印加され、その印加電圧が出力電圧VOUTになる。このような動作を繰り返すことにより、図4に示すように出力電圧VOUTが徐々に上昇していく。
そして、昇圧動作の開始時刻t1から所定時間を経過後の時刻t2になると、MOSトランジスタM1〜M4の動作に並行して,MOSトランジスタM21〜M24が動作を開始する。
In the period T2 shown in FIG. 3, since the control signal S1 is at L level and the control signal S3 is at L level, the MOS transistors M1 and M3 are turned on, and the input voltage VDD is applied to the charging voltage of the capacitor C1. The voltage becomes the output voltage VOUT. By repeating such an operation, the output voltage VOUT gradually increases as shown in FIG.
Then, at time t2 after elapse of a predetermined time from the start time t1 of the boost operation, the MOS transistors M21 to M24 start to operate in parallel with the operation of the MOS transistors M1 to M4.
すなわち、図3に示す期間T3では、制御信号S2がLレベル、制御信号S4がHレベル、制御信号S6がHレベル、および制御信号S8がHレベルになるので、MOSトランジスタM2,M4,M22,M24がオンになり、入力電圧VDDによりコンデンサC1が急速に充電される。
図3に示す期間T4では、制御信号S1がLレベル、制御信号S3がLレベル、制御信号S5がLレベル、および制御信号S7がHレベルになるので、MOSトランジスタM1,M3,M21,M23がオンになり、コンデンサC1の充電電圧に入力電圧VDDが印加され、その印加電圧が出力電圧VOUTになる。このような動作を繰り返すことにより、図4に示すように出力電圧VOUTが所望の値の6Vまで昇圧される。
That is, in the period T3 shown in FIG. 3, the control signal S2 is at L level, the control signal S4 is at H level, the control signal S6 is at H level, and the control signal S8 is at H level, so that the MOS transistors M2, M4, M22, M24 is turned on, and the capacitor C1 is rapidly charged by the input voltage VDD.
In the period T4 shown in FIG. 3, the control signal S1 is L level, the control signal S3 is L level, the control signal S5 is L level, and the control signal S7 is H level, so that the MOS transistors M1, M3, M21, and M23 are The input voltage VDD is applied to the charging voltage of the capacitor C1, and the applied voltage becomes the output voltage VOUT. By repeating such an operation, the output voltage VOUT is boosted to a desired value of 6V as shown in FIG.
以上説明したように、この実施形態では、MOSトランジスタM22,M23をトリプルウェル構造のN型MOSトランジスタで構成するようにしたので、レイアウト面積の小型化を図ることができる。例えば、従来と同じ昇圧能力の場合には、その昇圧能力に係る部分のMOSトランジスタのレイアウト面積を60%〜70%に減少できる。
また、この実施形態では、MOSトランジスタM22,M23をトリプルウェル構造のN型MOSトランジスタとし、ゲートにHレベルの制御信号を印加することによりオン動作を行うようにした。
As described above, in this embodiment, since the MOS transistors M22 and M23 are configured by triple well N-type MOS transistors, the layout area can be reduced. For example, in the case of the same boosting capability as in the prior art, the layout area of the portion of the MOS transistor related to the boosting capability can be reduced to 60% to 70%.
In this embodiment, the MOS transistors M22 and M23 are N-type MOS transistors having a triple well structure, and an ON operation is performed by applying an H level control signal to the gate.
しかし、この実施形態では、起動時にMOSトランジスタM1〜M4により正の昇圧電圧を得るようにし、その後に、MOSトランジスタM21〜M24を動作させるようにしたので、MOSトランジスタM22,M23のオンオフ動作を確実に行うことができ、起動時の昇圧動作を確実に行える。
なお、上記の実施形態では、MOSトランジスタM22,M23の双方をトリプルウェル構造のN型MOSトランジスタとしたが、これらのうちの1つだけでも良い。1つの場合には、MOSトランジスタM23とするのが良い。
However, in this embodiment, since the positive boosted voltage is obtained by the MOS transistors M1 to M4 at the time of startup and the MOS transistors M21 to M24 are operated thereafter, the on / off operation of the MOS transistors M22 and M23 is ensured. Thus, the boosting operation at the time of start-up can be performed reliably.
In the above embodiment, both MOS transistors M22 and M23 are triple-well N-type MOS transistors, but only one of them may be used. In one case, the MOS transistor M23 is preferable.
また、上記の実施形態では、昇圧回路として2倍昇圧の場合について説明したが、これに代えて本発明は3倍昇圧などの昇圧回路に適用することもできる。この場合には、図1に示すMOSトランジスタM1〜M4およびMOSトランジスタM21〜M24は、4つ以上となる。
また、上記の実施形態は、MOSトランジスタM1〜M4と、MOSトランジスタM21〜M24とを備えるようにしたものである。しかし、これに代えて、MOSトランジスタM1〜M4と、MOSトランジスタM21〜M24との間に、4つのMOSトランジスタ群を追加するようにしても良い。この場合には、その追加された4つのMOSトランジスタ群は、図1に示す出力電圧ライン13と共通接続ライン14との間に直列に接続されることになる。
In the above embodiment, the case of double boosting has been described as the boosting circuit. However, the present invention can be applied to a boosting circuit such as triple boosting instead. In this case, there are four or more MOS transistors M1 to M4 and MOS transistors M21 to M24 shown in FIG.
In the above embodiment, the MOS transistors M1 to M4 and the MOS transistors M21 to M24 are provided. However, instead of this, four MOS transistor groups may be added between the MOS transistors M1 to M4 and the MOS transistors M21 to M24. In this case, the added four MOS transistor groups are connected in series between the
M22,M23・・・・トリプルウェル構造のN型MOSトランジスタ、VDD・・・・入力電圧、VOUT・・・・出力電圧、11・・・・入力端子、12・・・・出力端子、13・・・・出力電圧ライン、14・・・・共通接続ライン。 M22, M23... Triple-well N-type MOS transistor, VDD... Input voltage, VOUT... Output voltage, 11... Input terminal, 12. ... Output voltage line, 14 ... Common connection line.
Claims (3)
出力電圧ラインと共通接続ラインとの間に直列に接続され、入力電圧の正の昇圧を行う少なくとも4つからなる第1MOSトランジスタ群と、
前記出力電圧ラインと前記共通接続ラインとの間に直列に接続され、前記入力電圧の正の昇圧を前記第1MOSトランジスタと連繋して行う少なくとも4つからなる第2MOSトランジスタ群とを含み、
前記第1MOSトランジスタ群は、前記共通接続ライン側を通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに、その残りの部分を通常のP型MOSトランジスタで構成するようにし、
前記第2MOSトランジスタ群は、前記共通接続ライン側を通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに前記出力電圧ライン側を通常のP型MOSトランジスタで構成し、かつ、その両MOSトランジスタを除く部分は、トリプルウェル構造からなるN型MOSトランジスタを少なくとも1つ含むようにしたことを特徴とする昇圧回路。 A charge pump type booster circuit,
A first MOS transistor group comprising at least four transistors connected in series between the output voltage line and the common connection line, and performing positive boosting of the input voltage;
A second MOS transistor group consisting of at least four connected in series between the output voltage line and the common connection line and performing positive boosting of the input voltage in conjunction with the first MOS transistor;
In the first MOS transistor group, the common connection line side is configured by a normal N-type MOS transistor, and the remaining portion is configured by a normal P-type MOS transistor,
In the second MOS transistor group, the common connection line side is constituted by a normal N-type MOS transistor, the output voltage line side is constituted by a normal P-type MOS transistor, and the portions excluding both MOS transistors are as follows: A booster circuit comprising at least one N-type MOS transistor having a triple well structure.
前記第2MOSトランジスタ群は4つからなり、前記共通接続ライン側を1つの通常のN型MOSトランジスタで構成するとともに、前記出力電圧ライン側を1つの通常のP型MOSトランジスタで構成し、かつ、その両MOSトランジスタを除く2つは、トリプルウェル構造からなるN型MOSトランジスタで構成するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の昇圧回路。 The first MOS transistor group is composed of four, and the common connection line side is configured by one normal N-type MOS transistor, and the remaining three are configured by normal P-type MOS transistors.
The second MOS transistor group is composed of four, the common connection line side is constituted by one normal N-type MOS transistor, the output voltage line side is constituted by one normal P-type MOS transistor, and 2. The booster circuit according to claim 1, wherein the two except for both MOS transistors are constituted by N-type MOS transistors having a triple well structure.
その昇圧開始から所定の時間経過後に、前記第2MOSトランジスタ群は、前記第1MOSトランジスタ群に並行して一気に昇圧動作を行うようにオンオフ制御されるようになっていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の昇圧回路。 The first MOS transistor group is ON / OFF controlled so as to gradually perform a boosting operation at the start of boosting of the input voltage,
2. The on-off control of the second MOS transistor group is performed so as to perform a boost operation at once in parallel with the first MOS transistor group after a predetermined time has elapsed since the boost start. Alternatively, the booster circuit according to claim 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003284819A JP2005057860A (en) | 2003-08-01 | 2003-08-01 | Step-up circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003284819A JP2005057860A (en) | 2003-08-01 | 2003-08-01 | Step-up circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005057860A true JP2005057860A (en) | 2005-03-03 |
Family
ID=34364641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003284819A Withdrawn JP2005057860A (en) | 2003-08-01 | 2003-08-01 | Step-up circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005057860A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008043162A (en) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Seiko Epson Corp | Power circuit, display driver, electro-optical device, and electronic equipment |
US7466189B2 (en) | 2006-02-15 | 2008-12-16 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor integrated circuit |
JP2012039860A (en) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Peregrine Semiconductor Corp | Low-noise high-efficiency bias generation circuit and method |
US8994452B2 (en) | 2008-07-18 | 2015-03-31 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
US9190902B2 (en) | 2003-09-08 | 2015-11-17 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low noise charge pump method and apparatus |
US9264053B2 (en) | 2011-01-18 | 2016-02-16 | Peregrine Semiconductor Corporation | Variable frequency charge pump |
US9354654B2 (en) | 2011-05-11 | 2016-05-31 | Peregrine Semiconductor Corporation | High voltage ring pump with inverter stages and voltage boosting stages |
US9660590B2 (en) | 2008-07-18 | 2017-05-23 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
-
2003
- 2003-08-01 JP JP2003284819A patent/JP2005057860A/en not_active Withdrawn
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9190902B2 (en) | 2003-09-08 | 2015-11-17 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low noise charge pump method and apparatus |
US10965276B2 (en) | 2003-09-08 | 2021-03-30 | Psemi Corporation | Low noise charge pump method and apparatus |
US7466189B2 (en) | 2006-02-15 | 2008-12-16 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor integrated circuit |
US7728652B2 (en) | 2006-02-15 | 2010-06-01 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor integrated circuit |
US7880530B2 (en) | 2006-08-10 | 2011-02-01 | Seiko Epson Corporation | Power supply circuit, display driver, electro-optical device, and electronic instrument |
JP2008043162A (en) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Seiko Epson Corp | Power circuit, display driver, electro-optical device, and electronic equipment |
US9429969B2 (en) | 2008-07-18 | 2016-08-30 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
US8994452B2 (en) | 2008-07-18 | 2015-03-31 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
US9660590B2 (en) | 2008-07-18 | 2017-05-23 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
JP2015057946A (en) * | 2010-08-06 | 2015-03-26 | ペレグリン セミコンダクター コーポレーション | Low-noise high-efficiency bias generation circuit and method |
US8816659B2 (en) | 2010-08-06 | 2014-08-26 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
JP2012039860A (en) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Peregrine Semiconductor Corp | Low-noise high-efficiency bias generation circuit and method |
US11188106B2 (en) | 2010-08-06 | 2021-11-30 | Psemi Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
US11662755B2 (en) | 2010-08-06 | 2023-05-30 | Psemi Corporation | Low-noise high efficiency bias generation circuits and method |
US9264053B2 (en) | 2011-01-18 | 2016-02-16 | Peregrine Semiconductor Corporation | Variable frequency charge pump |
US9413362B2 (en) | 2011-01-18 | 2016-08-09 | Peregrine Semiconductor Corporation | Differential charge pump |
US9354654B2 (en) | 2011-05-11 | 2016-05-31 | Peregrine Semiconductor Corporation | High voltage ring pump with inverter stages and voltage boosting stages |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4557577B2 (en) | Charge pump circuit | |
EP0616329A2 (en) | Voltage booster circuit | |
KR20080036607A (en) | Charge pump circuit, lcd driver ic, and electronic device | |
KR20170082139A (en) | Voltage generating circuit, flash memory and semiconductor device | |
JP2007097354A (en) | Step-up circuit | |
WO1983003174A1 (en) | Pulse generation circuit | |
JP2005057860A (en) | Step-up circuit | |
JP4974520B2 (en) | Charge pump circuit, LCD driver IC, electronic equipment | |
JP4417693B2 (en) | DC-DC conversion circuit | |
JP2006203748A (en) | Drive circuit | |
JP6406947B2 (en) | Integrated circuit device, display panel driver, display device, and boosting method | |
JP2008198985A (en) | Booster circuit | |
JP2009117426A (en) | Power supply circuit and portable device | |
JP2008289352A (en) | Booster power circuit and liquid-crystal display | |
JP2009289979A (en) | Booster circuit | |
WO2022047795A1 (en) | Buck switching power supply, electronic device, and control method | |
KR20070000999A (en) | Over step-up preventing circuit | |
TWI660564B (en) | Voltage converting circuit and control circuit thereof | |
JP2006340497A (en) | Step-down circuit and electronic apparatus | |
JP4994652B2 (en) | Charge pump circuit, LCD driver IC, electronic equipment | |
JP3831758B2 (en) | Multi-stage booster circuit with small area | |
JP4634154B2 (en) | Booster circuit | |
KR200326693Y1 (en) | Charge pump circuit of semiconductor memory device | |
JP5058081B2 (en) | Booster circuit | |
JP2001169538A (en) | Semiconductor integrated circuit and flash memory |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060531 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090113 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20090311 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |