【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、隔壁間に厚みの均一性の高い塗膜を有するパターン形成体、およびその製造方法に関するものである。本発明のパターン形成体はＥＬ発光素子に適用することが好ましいものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＥＬ発光素子は、向かい合う一対の電極間に、有機蛍光色素を含有する有機蛍光発光層、もしくはその発光層を正孔注入層等の他の層と共にはさんで保持したもので、発光層にもたらされた電子と正孔が再結合する際にエネルギーが発生し、そのエネルギーにより発光層の蛍光体が励起し、発光するものである。ＥＬ発光素子は、薄型化・軽量化が可能で、高輝度であり、かつ動画の表示にも適していることから、種々のディスプレイ用途向けに開発が進められている。
【０００３】
一般的なＥＬ発光素子においては、発光色の異なる、通常は三種類の発光層を規則的に配列して形成する必要があり、そのための種々の方式が検討されてきたが、現在では、発光層形成用塗液を用い、インクジェット方式にて発光層を形成することが効率的であるとされている。そして、発光層が予定された区域外に形成されないよう、基板上の各画素間に隔壁を設けておき、隔壁間にのみ特定の発光色に発光する発光層形成用塗液が適用されるようにしている。しかしながら、隔壁間に適用された塗液は、基板や隔壁の性質にもよるが、表面張力の影響等により隔壁間で一定の厚みになりにくく、従って、乾燥等により固化されて形成された塗膜である発光層は、隔壁に近い部分と隔壁から離れた部分とでは厚みが異なるものとなってしまい、発光ムラや発光しない部分が生じ得る。
【０００４】
従来、電極間の短絡を防止するため、隔壁の裾部の形状を規定することが提案されている。（例えば、特許文献１参照。）。
また、凸状の仕切部材（隔壁に相当する。）を設け、仕切部材で囲まれた領域に薄膜を形成する液体材料を充填する方法における仕切部材の高さと、仕切部材の幅、仕切部材間の幅、液滴の径等の関係を定め、さらに、塗液、仕切部材の間の表面や仕切部材の側面の接触角の関係も定めて、仕切部材の間および仕切部材近傍での塗液の平坦さを確保しようとする試みもある。（例えば、特許文献２参照。）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−３５１７８７号公報（第５頁、図１−２）
【特許文献２】
特開２０００−３５３５９４号公報（第１０、１２頁、図１）
【０００６】
しかし、特許文献１記載の発明においては、短絡の防止以外に、インクジェット法により塗膜を形成する際に、予め隔壁を設けておく意義や、塗膜の平坦化については、何も触れられていない。隔壁を設けた基板に対する塗膜の形成の際に、塗膜の平坦性を改善して、かつインキを所定の区域に充分に充填するには、画素部は親液性、隔壁は撥液性としておくことが好ましいが、隔壁の撥液性が強いと画素部においてもインキがはじかれる恐れがあり、発光させたときの色ムラや短絡の原因となり得るし、隔壁の撥液性が弱いと画素部から外にインキがはみ出して、周囲の画素と混色する恐れがある。
【０００７】
また、特許文献２におけるように、仕切部材の高さをその幅やその他の諸元から定め、塗液や被塗布領域の接触角を定める事は合理的なようであっても、使用材料の選択の幅を狭めるため、塗液の平坦さ以外の点が犠牲になる恐れがある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明においては、塗膜の平坦性を、画素部や隔壁の親液性もしくは撥液性によってではなく、隔壁の断面形状を変更することによって実現し得る新しい手法を提供することを課題とするものである。
【０００９】
【課題を解決する手段】
発明者の検討の結果、隔壁の断面形状を、表面形状が上に凸な曲線からなる主要部と、主要部の両側に、主要部におけるのとは異なる別の曲線からなる裾部とからなるものとすることにより、課題を解消し得ることが判明し、本発明に到達することができた。
【００１０】
第１の発明は、基板上の画素部に電極、非画素部に隔壁がそれぞれ設けられ、前記画素部には塗膜が積層されており、前記隔壁の垂直断面形状が、凸部である主要部と、前記主要部とは別の垂直断面形状を有する裾部とからなることを特徴とするパターン形成体に関するものである。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明において、前記裾部が下に凸な曲線を断面形状とするものであるパターン形成体に関するものである。
【００１２】
第３の発明は、第１または第２の発明において、前記主要部と前記裾部との境界に凹部を有することを特徴とするパターン形成体に関するものである。
【００１３】
第４の発明は、第１〜第３いずれかの発明において、前記塗膜が有機蛍光発光層であることを特徴とするパターン形成体に関するものである。
【００１４】
第５の発明は、第１〜第４いずれかの発明において、前記隔壁が前記電極の電力供給線に平行に配置されていることを特徴とするパターン形成体に関するものである。
【００１５】
第６の発明は、第５の発明において、前記隔壁が前記電力供給線上に直接設けられたものであることを特徴とするパターン形成体に関するものである。
【００１６】
第７の発明は、第１〜第６いずれかの発明において、前記隔壁の幅は、画素ピッチの１／３以下であることを特徴とするパターン形成体に関するものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１〜図３は、いずれも、本発明のパターン形成体の代表的な積層構造を示すための図である。
【００１８】
本発明のパターン形成体１は、例えば、図１（ａ）に示すように、基板２上に画素部に対応した電極５、および非画素部に対応する絶縁層３が配置されて積層されており、絶縁層３上にはさらに隔壁４が積層され、電極５上および隔壁４の透明電極５側を覆って塗膜６が積層されたものである。本発明のパターン形成体１は、絶縁層３が無く、隔壁４が絶縁層を兼ねるものであってもよい。本発明におけるパターン形成体１は、これを用いてＥＬ（エレクトロルミネッセンス）発光素子を構成する場合、基板２および電極５を透明な素材で構成した透明基板および透明電極とすることが好ましい。なお、以降の図２、および図３を引用した説明においても、基板２上には、電極５、絶縁層３をいずれも有するものを例示するが、基本的には、本発明のパターン形成体１は、基板２上に隔壁４および塗膜６を有するものであればよい。
【００１９】
図１（ａ）を引用した例における隔壁４は、隔壁４のの中央の大部分を占める、基板２から離れる方向に凸な、即ち、図中、上に凸な曲線を表面（図中の上面）の断面形状とする主要部４ａと、主要部４ａとは別の曲線を表面の断面形状とする主要部の両側の裾部４ｂ、および主要部４ａと両側の裾部４ｂとの境界部の基板２に近づく方向に凸な曲線を表面の断面形状とする凹部４ｃとからなっている。なお、以降で、特に断らない限り、断面形状とは、表面の断面形状を指す。図示の例では、裾部４ｂの断面形状は、下に凸な曲線の一部をなしている。凹部４ｃは、凹部４ｃの容積を増す意味では基板２に到達していることが好ましいが、必ずしも、基板２に到達していなくてもよい。また、図１（ａ）では凹部４ｃの裾部４ｂの上部は鋭角に切り込まれた形状をなしているが、この部分が鋭角ではなく、丸みを帯びていてもよい。
【００２０】
図１（ａ）を引用して説明した例では、隔壁４間に塗液を塗布すると、電極５上および隔壁４の表面、少なくとも隔壁４の側面が塗液に対して親和性を有していれば、透明電極５上ではほぼ平坦で、透明電極５の図中、左右の両端部から隔壁４の側面にかけて塗液が這い上がり、隔壁５の側面に塗液が連続的に付着するが、この例においては、凹部４ｃ内に塗液が吸収されるため、透明電極５上の塗液の平坦性が得られやすく、この状態は塗液の乾燥や重合硬化等の固化によっても変わらないため、電極５上に平坦性が向上した塗膜６が得られる。
【００２１】
図１（ａ）を引用して説明した形状を有する隔壁４は、感光性樹脂を用いてパターン露光および現像を行なうことにより形成することが好ましい。例えば、露光により露光部の溶解性が向上するポジ型感光性樹脂を用いて形成した感光性樹脂層７に対し、隔壁４の主要部４ａに相当する部分が遮光部であり、その他の部分が光透過部であるパターンを有する第一のマスクＡ（符号；８ａ）を介して露光を行ない（図１（ｂ））、続いて、凹部４ｃに相当する部分が光透過部であり、その他の部分が遮光部であるパターンを有する第二のマスクＢ（符号；８ｂ）を介して露光を行ない（図１（ｃ））、これら二つの露光の後に現像を行なうことにより、形成することができる。
【００２２】
本発明のパターン形成体１は、図２（ａ）に示すようなものであってもよく、やはり、基板２、透明電極５、絶縁層３、隔壁４、および塗膜６の対応関係は、図１（ａ）を引用して説明したものと同様であり、隔壁４は、その中央の大部分を占める、基板２から離れる方向に凸な曲線を断面形状とする主要部４ａと、主要部４ａの両側にある、基板２に近づく方向に凸な曲線を断面形状とする裾部４ｂとを有している。
【００２３】
図２（ａ）を引用して説明した例では、隔壁４間に塗液を塗布すると、裾部４ｂが凹状をなしているので、裾部４に塗液が吸収され、やはり、透明電極５上の塗液の平坦性が得られやすく、透明電極５上に平坦性が向上した塗膜６が得られる。
【００２４】
図２（ａ）を引用して説明した形状を有する隔壁４を形成するには、図１（ａ）を引用して説明した形状を有する隔壁４の場合と同様、隔壁４の主要部４ａに相当する部分が遮光部であり、その他の部分が光透過部であるパターンを有する第一のマスクＡ（符号；８ａ）を介して露光を行なった後（図２（ｂ））、裾部４ｂの幅に相当する部分が光透過部であり、その他の部分が遮光部であるパターンを有する第二のマスクＣ（符号；８ｃ）を介して露光を行ない（図２（ｃ））、これら二つの露光の後に現像を行なうことにより、形成することができる。
【００２５】
上記の二例においては、いずれも、第一および第二の二種類のパターンを介した露光により、特殊な断面形状を有する隔壁４を形成したが、これらの例において使用した二種類のパターンは、いずれも遮光部と光透過部の二つの部分からなる二値的なものであり、露光の際には、マスクと感光性樹脂層７との間隔をあけるか、散乱光を露光光として用いる等により、これら二値的なパターンを用いて、断面が曲線状の隔壁４を形成することができる。
【００２６】
隔壁４を形成する際のマスク７としては、隔壁４の幅方向の光学濃度分布が、隔壁４の断面形状と同傾向の形状を有する、即ち、光学濃度を連続的に変化させ得る素材で形成した連続調のマスクを用いれば、上記の二例のいずれにおいても、一種類のパターンを用いて露光し、現像して隔壁４を形成し、パターン形成体１とすることができる。このことは次の例においても同様である。
【００２７】
上記の二例では、塗液を吸収させる部分を、主に第二のマスクを介した露光により形成したが、上記において、第一のマスクを介した露光のみによっても、マスク８ａと感光性樹脂層７との間隔、もしくは露光光の散乱度合いを調整して用いる等により、基板２に近づく方向に凸な裾部４ｂを有した隔壁４を形成し、パターン形成体１とすることができる（図３（ａ）、（ｂ））。ただし、裾部４ｂが吸収し得る塗液の量は、図１（ａ）もしくは図１（ｂ）を引用して説明したものにくらべると少ないので、透明電極５上の塗膜６の平坦性が、幾分低く、従って、隔壁４の近傍での塗膜６の厚みが、透明電極５の中央部上での塗膜６の厚みにくらべて幾分厚くなる。
【００２８】
本発明のパターン形成体１を用いてＥＬ発光素子を構成するには、上記における塗膜６を有機蛍光体で、もしくは有機蛍光体を含有して構成した有機蛍光発光層とし、塗膜６上に第２電極を積層した積層体とすればよく、こうして得られた積層体の第１電極と第２電極５との間に電圧を印加することにより、塗膜６を蛍光発光させることができる。なお、ＥＬ発光素子は、正孔（ホール）注入層等の他の層を伴なってもよく、正孔注入層は、基板２上の電極５と発光層である塗膜６との間に積層するとよい。なお、本発明のパターン形成体１は、ＥＬ発光素子に適用するのに適しているが、ＥＬ発光素子以外であっても、格子状等の隔壁を設けて、隔壁間を塗液を用いて着色するような製品、例えば、隔壁がブラックマトリックスであるカラーフィルターのようなものにも適している。以降に、本発明のパターン形成体１をＥＬ発光素子とする場合を想定し、各層を構成する素材等について順次説明する。
【００２９】
パターン形成体１の基板２は、板状、もしくはフィルム状のものであり、それらを構成する素材としては、ガラス、石英等の無機材料、または樹脂板もしくは樹脂フィルム等を挙げることができる。ここでは、「基板」の用語は、フィルム状の物も含む意味で使うので、基材と言い換えてもよい。基板１が樹脂フィルムであれば、得られるパターン形成体１を、丸めたり曲げたりすることが可能なフレキシブルなものとすることができる。
【００３０】
基板２上には、パターン形成体１をＥＬ発光素子とする場合には、第１電極となる電極５を設ける。電極５は、例えば、透明導電性層で構成し、通常は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、金、もしくはポリアニリン等の薄膜で構成することが多く、全面に一様に設けた後、レジストパターンを形成してエッチングすることにより、所望の形状の電極５とすることができる。電極５の厚みは、５００ｎｍ〜３０００ｎｍ程度である。
【００３１】
なお、第１電極および第２電極における「第１」および「第２」の呼称は便宜的なもので、基板２上に積層する方を第１電極、ＥＬ層上に積層する方を第２電極と呼ぶこととする。第１電極および第２電極は、基板２に対して全面に形成されていても、もしくはパターン状に形成されていてもよい。第１電極および第２電極は、いずれかが陽極、他方が陰極であることが好ましく、また、いずれか一方が、透明または半透明であり、陽極としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料で構成されていることが好ましく、陰極としては、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電性材料で構成されていることが好ましい。いずれの電極も、抵抗はできるだけ小さいものが好ましく、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。
【００３２】
第１電極および第２電極を構成し得る具体的な陽極材料としては、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、金、もしくはポリアニリン等を、また、具体的な陰極材料としては、マグネシウム合金（ＭｇＡｇ他）、アルミニウム合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ他）、もしくは金属カルシウムを挙げることができる。陽極材料および陰極材料とも、複数の材料の混合されたものであってもよい。
【００３３】
電極５が設けられた基板２上の、電極５のパターンの間に相当する位置に、好ましくは絶縁層３を形成する。絶縁層３が無く、隔壁４が絶縁層を兼ねるものであってもよいことは既に述べた通りである。絶縁層３は絶縁性の素材であればいずれのもので構成してもよいが、パターン化が容易である点で、電極５が設けられた基板２上に感光性樹脂を一様に積層し、パターン状露光および現像により所望のパターン状に形成することが好ましい。絶縁層３の厚みは、５００ｎｍ〜３０００ｎｍ程度である。なお、絶縁層４を形成した後に、電極５を形成してもよいが、工業的にはＩＴＯ等の透明導電性層を積層した基板２を入手して以降の加工を行なうことが多いから、電極５を形成してから、絶縁層３を形成することが好ましい。
【００３４】
隔壁４は、図を引用しながら説明したように、感光性樹脂を用いて形成することが好ましく、図を引用した説明では、隔壁４をポジ型の感光性樹脂を用いて形成するように説明したが、隔壁４をネガ型の感光性樹脂を用いて形成することもできる。なお、ここで言う感光性樹脂には、紫外線を照射するタイプのもの以外に、電子線を照射するものも含めることができ、従って、隔壁４は、電離放射線硬化性樹脂を用いて形成し得るものである。
【００３５】
隔壁４は、表面を撥液性もしくは非撥液性とすることができる。隔壁４の表面を撥液性とすることにより、適用された塗液が隔壁４を越えて隣接する領域を汚染することを防止することができる。隔壁４の表面を撥液性とするには、撥液性材料を配合した素材で隔壁４を構成するか、撥液性ではない素材で形成した隔壁４をフッ素プラズマ処理等の撥液化処理を施すことによればよい。また、隔壁４を非撥液性とすることにより、適用された塗液が隔壁４ではじかれて隔壁４の近傍で塗膜の厚みが薄くなることを防止できる。この場合は、塗液が隔壁４の側面に沿って幾分這い上がり、固化して塗膜を形成する。隔壁４を非撥液性とするには、素材を選択して構成するほか、一旦形成した隔壁４を紫外線照射、紫外線照射とオゾン処理の併用、もしくはプラズマ処理等により行なうことができる。
【００３６】
供給される塗液が隔壁４を越えて隣接する領域を汚染することを防止する目的で、隔壁４の高さＨは、供給される塗液が形成する塗液層の高さ以上であることが好ましく、例えば、インクジェット法によるときの液滴の直径をＤ、隔壁４のピッチをＴ、液滴が密に充填されたときの液滴１個あたりの隔壁４の長さをＤとすると、Ｈ≧πＤ２／６Ｔであることが好ましい。
【００３７】
隔壁４は、画素部どうしの間の非画像部に設けられるものであるが、パターン形成体１が画像表示素子そのものであるか、もしくは画像表示素子の一部を構成する場合、電極の電力供給線に直角にではなく、平行に形成されていることが画素の開口率（表示区域における画素の占める面積率）の向上の観点で好ましく、隔壁４が電力供給線上に配置されていることがより好ましい。隔壁４が電力供給線上に配置されている場合には、絶縁層を省くことが可能になり、製品の歩留まりを向上させる意味で有利になる。また、画像もしくは映像の輝度向上の観点では、隔壁の幅が狭い方がよく、例えば、画素ピッチの１／３以下とすることが好ましい。
【００３８】
電極５および隔壁４が形成された基板２上の隔壁４どうしの間には、好ましくは、正孔注入層形成用塗液を適用する。正孔注入層形成用塗液の適用は、各隔壁４の間毎に、適宜なディスペンサを用いて滴下するディスペンサ方式によるか、もしくはインクジェット法により適用することにより行なうことが好ましい。これらの適用方式による場合は、隔壁４は撥液性であることが好ましい。あるいは、電極５および隔壁４が形成された基板２上の適当な箇所に塗液を滴下し、その後、基板２を高速回転して塗液をひろげる、いわゆるスピンコーティング法により行なうこともできる。スピンコーティングによる場合は、隔壁４は非撥液性であることが好ましい。適用された正孔注入層形成用塗液は、真空加熱処理等の適宜な加熱処理により加熱して、正孔注入層とする。
【００３９】
正孔注入層（もしくは陽極バッファー材料）を構成する素材としては、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、もしくはポリチオフェン誘導体がある。
【００４０】
また、正孔注入バッファー形成用組成物として市販されている、例えばポリ（３、４）エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（略称ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、バイエル社製、商品名；Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ ＣＨ ８０００、水溶液として市販。）等の水溶液も、正孔注入層形成用塗液として使用することができる。あるいは、交互吸着による多層の膜で正孔注入層を構成することも可能である。
【００４１】
基板２上の隔壁４の間の、好ましくは正孔注入層が形成された上に、有機蛍光体を溶解もしくは分散した塗液を用いて塗膜６を積層し、有機蛍光発光層とする。有機蛍光発光層は、好ましくは各隔壁４の間毎に発光色が異なるよう、例えば、赤色発光用、緑色発光用、および青色発光用の各々の発光層形成用塗液を適用し、適用した後、加熱乾燥もしくは真空乾燥（加熱を伴ない得る。）によって、乾燥し、固化させて、赤色発光用、緑色発光用、および青色発光用の各々の有機蛍光発光層とすることができる。この場合、塗液の適用は、隔壁４どうしの間毎に行なうため、ディスペンサを用いて滴下するか、もしくはインクジェット法により適用することが好ましい。いずれの隔壁４の間にも、同一の発光色を与える発光層を形成することもあるので、この場合には、スピンコーティング法のような、比較的広い面積に均一に塗液を塗布し得る方法によって適用することもできる。
【００４２】
ＥＬ発光素子は、上記のように、第１電極と第２電極との間に有機蛍光発光層のみ、もしくは正孔注入層と有機蛍光発光層とからなるもの以外に、有機蛍光発光層と電子注入層とからなるもの、有機蛍光発光層、正孔注入層、および電子注入層とからなるもの等の種々の構造のものがあり得る。
【００４３】
有機蛍光発光層を構成する素材としては、大別して、色素系、金属錯体系、もしくは高分子系のものがある。
【００４４】
色素系としては、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーがある。
【００４５】
金属錯体系としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、もしくはユーロピウム錯体等の、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、もしくはＢｅ等または、Ｔｂ、Ｅｕ、もしくはＤｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体がある。
【００４６】
高分子系としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール等、もしくはポリフルオレン誘導体がある。
【００４７】
有機蛍光発光層を構成する素材には、ドーピング材料を配合してもよく、ドーピング材料としては、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、もしくはフェノキサゾンがある。
【００４８】
上記の有機蛍光発光層を構成し得る素材は、適宜な溶媒で溶解もしくは分散して、有機蛍光発光層形成用塗液とすることができる。なお、本発明において、有機蛍光発光層形成用塗液、もしくは正孔注入層形成用塗液、またはその他の適用し得る塗液は、その表面張力が５５ｄｙｎ／ｃｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３５ｄｙｎ／ｃｍ以下である。５５ｄｙｎ／ｃｍを超えると塗膜の厚みムラが生じやすくなる。
【００４９】
有機蛍光発光層が形成された基板２上の有機蛍光発光層上には第２電極を形成する。第２電極を構成する素材は、原則的には、第１電極の素材と同様であるが、マグネシウム合金（ＭｇＡｇ他）、アルミニウム合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ他）、もしくは金属カルシウムを好ましい素材として挙げることができる。
【００５０】
なお、陰極バッファー材料を形成する場合、その素材としては、アルミリチウム合金、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレート、もしくはポリスチレンスルホン酸ナトリウムがある。
【００５１】
また、電子注入層を形成する場合、その素材としては、電子輸送性材料であれば特に限定しないが、低分子材料であれば、オキサジアゾール誘導体、ジフェニルキノン誘導体、もしくはアントラキノジメタン誘導体、高分子材料としては、前記した低分子材料を高分子バインダー中に分散したものを用いることができ、高分子バインダーとしては、ポリシラン、もしくはチオフェンオリゴマーを挙げることができる。これらの素材を用いての電子注入層の形成は、低分子材料であれば、蒸着等により、また、高分子材料であれば、公知の湿式プロセスによって行なうことができる。
【００５２】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、隔壁の垂直断面形状を、主要部を凸部、裾部を別の垂直断面形状としたことにより、感光性樹脂を用いた露光、現像により隔壁の形成が容易であり、隔壁の断面形状に基づく平坦な塗膜を有するパターン形成体を提供することができる。
【００５３】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明において、裾部が下に凸な曲線からなるものとしたので、裾部から主要部にかけての部分に塗液を吸収しやすく、より平坦な塗膜を有するパターン形成体を提供することができる。
【００５４】
請求項３の発明によれば、請求項１または請求項２の発明の効果に加え、主要部と裾部との境界部に凹部を有するので、その部分に塗液を吸収する量が増え、より一層平坦な塗膜を有するパターン形成体を提供することができる。
【００５５】
請求項４の発明によれば、請求項１〜請求項３いずれかの発明の効果に加え、塗膜を有機蛍光発光層とし、一対の電極ではさんだ積層構造としたことにより、有機蛍光発光層の厚みの均一性が高いために、発光ムラがなく、しかも隔壁間を最大限に利用できるために発光効率の高いパターン形成体を提供することができる。
【００５６】
請求項５の発明によれば、請求項１〜請求項４いずれかの発明の効果に加え、隔壁が電力供給線に平行に配置されているので、ＥＬ表示素子としたときに、画素の開口率が高く、従って、画像もしくは映像の輝度が向上するパターン形成体を提供することができる。
【００５７】
請求項６の発明によれば、請求項５の発明の効果に加え、画像もしくは映像の輝度がより一層向上する上、絶縁層を省くことが可能になるので、生産効率および歩留まりの向上が可能になるパターン形成体を提供することができる。
【００５８】
請求項７の発明によれば、請求項１〜請求項６いずれかの発明の効果に加え、
隔壁の幅を小さく、例えば、少なくとも画素ピッチの１／３以下としたことにより、画素の開口率が向上し、画像もしくは映像の輝度がさらに一層向上するパターン形成体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】裾部と凹部を伴なった隔壁を有するパターン形成体を示す図である。
【図２】裾部を伴なった隔壁を有するパターン形成体を示す図である。
【図３】単一のマスクで形成した隔壁を有するパターン形成体を示す図である。
【符号の説明】
１ パターン形成体
２ 基板
３ 絶縁層
４ 隔壁（４ａ；主要部、４ｂ；裾部、４ｃ；凹部）
５ 透明電極
６ 塗膜
７ 感光性樹脂層
８ マスク[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a pattern forming body having a highly uniform coating film between partition walls, and a method for producing the same. The pattern forming body of the present invention is preferably applied to an EL light emitting device.
[0002]
[Prior art]
An EL light-emitting element is an organic fluorescent light-emitting layer containing an organic fluorescent dye or a light-emitting layer held together with other layers such as a hole injection layer between a pair of electrodes facing each other. When the released electrons and holes recombine, energy is generated, and the phosphor in the light emitting layer is excited by the energy to emit light. EL light-emitting elements can be reduced in thickness and weight, have high luminance, and are suitable for displaying moving images. Therefore, the EL light-emitting elements are being developed for various display applications.
[0003]
In general EL light emitting devices, it is necessary to form three types of light emitting layers having different light emitting colors, and in general, various types of light emitting layers have been regularly arranged. It is said that it is efficient to form a light emitting layer by an inkjet method using a layer forming coating liquid. A partition is provided between each pixel on the substrate so that the light emitting layer is not formed outside a predetermined area, and a light emitting layer forming coating liquid that emits light in a specific emission color is applied only between the partitions. I have to. However, although the coating liquid applied between the partition walls depends on the properties of the substrate and the partition walls, it is difficult to have a constant thickness between the partition walls due to the influence of surface tension and the like. The light-emitting layer that is a film has different thicknesses at a portion close to the partition and a portion away from the partition, and uneven light emission or a portion that does not emit light may occur.
[0004]
Conventionally, in order to prevent a short circuit between electrodes, it has been proposed to define the shape of the skirt portion of the partition wall. (For example, refer to Patent Document 1).
In addition, in the method of providing a convex partition member (corresponding to a partition wall) and filling a liquid material that forms a thin film in a region surrounded by the partition member, the height of the partition member, the width of the partition member, and between the partition members In addition, the relationship between the coating liquid and the diameter of the droplets, and the contact angle between the coating liquid and the surface between the partition members and the side surface of the partition member are also determined. There is also an attempt to ensure the flatness. (For example, refer to Patent Document 2).
[0005]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-351787 (5th page, FIG. 1-2)
[Patent Document 2]
JP 2000-353594 A (10th and 12th pages, FIG. 1)
[0006]
However, in the invention described in Patent Document 1, in addition to prevention of short circuit, nothing is touched on the significance of providing a partition wall in advance when the coating film is formed by the ink jet method and the flattening of the coating film. Absent. When forming a coating film on a substrate with a partition wall, the pixel area is lyophilic and the partition wall is lyophobic in order to improve the flatness of the coating film and fully fill the area with ink. However, if the partition wall has high liquid repellency, the ink may be repelled in the pixel portion, which may cause color unevenness or short circuit when light is emitted, and if the partition wall has low liquid repellency. There is a possibility that ink may protrude from the pixel portion and be mixed with surrounding pixels.
[0007]
Further, as in Patent Document 2, the height of the partition member is determined from its width and other specifications, and it is reasonable to determine the contact angle of the coating liquid and the area to be coated. Since the range of selection is narrowed, points other than the flatness of the coating liquid may be sacrificed.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, in the present invention, it is an object to provide a new method that can realize the flatness of the coating film by changing the cross-sectional shape of the partition wall, not by the lyophilicity or liquid repellency of the pixel portion or the partition wall. It is what.
[0009]
[Means for solving the problems]
As a result of the inventor's investigation, the cross-sectional shape of the partition wall is composed of a main part made up of a curved surface with a convex surface shape, and hem parts made up of curves different from those in the main part on both sides of the main part. As a result, it has been found that the problems can be solved, and the present invention has been achieved.
[0010]
In the first invention, an electrode is provided on a pixel portion on a substrate, a partition wall is provided on a non-pixel portion, a coating film is laminated on the pixel portion, and a vertical sectional shape of the partition wall is a convex portion. And a skirt having a vertical cross-sectional shape different from that of the main part.
[0011]
A second invention relates to the pattern forming body according to the first invention, wherein the skirt has a downwardly convex curve having a cross-sectional shape.
[0012]
A third invention relates to the pattern forming body according to the first or second invention, wherein a concave portion is provided at a boundary between the main portion and the skirt portion.
[0013]
A fourth invention relates to the pattern forming body according to any one of the first to third inventions, wherein the coating film is an organic fluorescent light emitting layer.
[0014]
According to a fifth invention, in any one of the first to fourth inventions, the partition is arranged in parallel to the power supply line of the electrode.
[0015]
A sixth invention relates to the pattern forming body according to the fifth invention, wherein the partition wall is provided directly on the power supply line.
[0016]
According to a seventh invention, in any one of the first to sixth inventions, the width of the partition wall is 1/3 or less of the pixel pitch.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
1 to 3 are views for showing a typical laminated structure of the pattern forming body of the present invention.
[0018]
For example, as shown in FIG. 1A, the pattern forming body 1 of the present invention is formed by laminating an electrode 5 corresponding to a pixel portion and an insulating layer 3 corresponding to a non-pixel portion on a substrate 2. In addition, a partition wall 4 is further laminated on the insulating layer 3, and a coating film 6 is laminated on the electrode 5 and covering the transparent electrode 5 side of the partition wall 4. The pattern forming body 1 of the present invention may have the insulating layer 3 and the partition wall 4 also serving as the insulating layer. When the pattern formation body 1 in this invention comprises an EL (electroluminescence) light emitting element using this, it is preferable to set it as the transparent substrate and transparent electrode which comprised the board | substrate 2 and the electrode 5 with the transparent raw material. In the following description referring to FIG. 2 and FIG. 3, the substrate 2 has both the electrode 5 and the insulating layer 3 as an example, but basically, the pattern forming body of the present invention. 1 should just have the partition 4 and the coating film 6 on the board | substrate 2. FIG.
[0019]
The partition 4 in the example quoting FIG. 1A occupies most of the center of the partition 4 and protrudes away from the substrate 2, that is, has a convex curve on the surface (in the figure A main portion 4a having a cross-sectional shape on the upper surface), a hem portion 4b on both sides of the main portion having a curved surface different from the main portion 4a, and a boundary portion between the main portion 4a and the skirt portions 4b on both sides And a concave portion 4c having a curved surface convex in a direction approaching the substrate 2 as a cross-sectional shape of the surface. Hereinafter, unless otherwise specified, the cross-sectional shape refers to the cross-sectional shape of the surface. In the illustrated example, the cross-sectional shape of the skirt portion 4b forms a part of a downwardly convex curve. The concave portion 4c preferably reaches the substrate 2 in the sense of increasing the volume of the concave portion 4c, but does not necessarily have to reach the substrate 2. Further, in FIG. 1A, the upper part of the skirt part 4b of the recess 4c has a shape cut into an acute angle, but this part may be rounded instead of an acute angle.
[0020]
In the example described with reference to FIG. 1A, when a coating liquid is applied between the partition walls 4, the surfaces of the partition walls 4 on the electrodes 5 and at least the side surfaces of the partition walls 4 have affinity for the coating liquid. If it is almost flat on the transparent electrode 5, the coating liquid crawls up from the left and right ends to the side surface of the partition wall 4 in the figure of the transparent electrode 5, and the coating solution continuously adheres to the side surface of the partition wall 5. In this example, since the coating liquid is absorbed into the recess 4c, the flatness of the coating liquid on the transparent electrode 5 is easily obtained, and this state is not changed by solidification such as drying of the coating liquid or polymerization curing. The coating film 6 with improved flatness is obtained on the electrode 5.
[0021]
The partition wall 4 having the shape described with reference to FIG. 1A is preferably formed by performing pattern exposure and development using a photosensitive resin. For example, with respect to the photosensitive resin layer 7 formed using a positive photosensitive resin whose solubility in the exposed portion is improved by exposure, the portion corresponding to the main portion 4a of the partition 4 is a light shielding portion, and the other portions are Exposure is performed through a first mask A (reference numeral; 8a) having a pattern which is a light transmitting portion (FIG. 1B), and subsequently, a portion corresponding to the concave portion 4c is a light transmitting portion. It can be formed by performing exposure through a second mask B (reference: 8b) having a pattern in which the portion is a light-shielding portion (FIG. 1 (c)) and developing after these two exposures. .
[0022]
The pattern forming body 1 of the present invention may be as shown in FIG. 2A, and the correspondence relationship between the substrate 2, the transparent electrode 5, the insulating layer 3, the partition walls 4 and the coating film 6 is as follows. The partition wall 4 is the same as that described with reference to FIG. 1A, and the partition wall 4 occupies most of the center of the partition wall 4 and has a main portion 4a having a cross-sectional shape protruding in a direction away from the substrate 2, and a main portion. 4a, and a skirt portion 4b having a cross-sectional shape with a convex curve in a direction approaching the substrate 2 on both sides of the substrate 4a.
[0023]
In the example described with reference to FIG. 2A, when the coating liquid is applied between the partition walls 4, the skirt 4 b has a concave shape, so that the coating liquid is absorbed by the skirt 4, and the transparent electrode 5 is again used. The flatness of the upper coating liquid is easily obtained, and the coating film 6 with improved flatness is obtained on the transparent electrode 5.
[0024]
In order to form the partition 4 having the shape described with reference to FIG. 2A, the main portion 4a of the partition 4 is formed in the same manner as the partition 4 having the shape described with reference to FIG. After exposure is performed through the first mask A (symbol: 8a) having a pattern in which the corresponding part is a light shielding part and the other part is a light transmission part (FIG. 2 (b)), the skirt part 4b The portion corresponding to the width of the second portion is a light transmitting portion, and the other portion is exposed through a second mask C (reference numeral; 8c) having a light shielding portion (FIG. 2 (c)). It can be formed by developing after two exposures.
[0025]
In the above two examples, the partition 4 having a special cross-sectional shape was formed by exposure through the first and second two types of patterns, but the two types of patterns used in these examples are These are both binary parts comprising a light-shielding part and a light-transmitting part. At the time of exposure, a space between the mask and the photosensitive resin layer 7 is provided, or scattered light is used as exposure light. By using these binary patterns, the partition 4 having a curved cross section can be formed.
[0026]
The mask 7 for forming the partition wall 4 is formed of a material in which the optical density distribution in the width direction of the partition wall 4 has the same tendency as the cross-sectional shape of the partition wall 4, that is, the optical density can be continuously changed. If the continuous tone mask is used, in any of the above two examples, the pattern forming body 1 can be formed by exposing and developing using one type of pattern to form the partition 4. The same applies to the following example.
[0027]
In the above two examples, the part that absorbs the coating liquid is formed mainly by exposure through the second mask. However, in the above, the mask 8a and the photosensitive resin can be obtained only by exposure through the first mask. The partition 4 having the hem 4b that protrudes in the direction approaching the substrate 2 can be formed by adjusting the distance to the layer 7 or the degree of scattering of exposure light, etc., and the pattern forming body 1 can be obtained ( FIG. 3 (a), (b)). However, since the amount of the coating liquid that can be absorbed by the skirt 4b is smaller than that described with reference to FIG. 1 (a) or FIG. 1 (b), the flatness of the coating film 6 on the transparent electrode 5 is reduced. However, the thickness of the coating film 6 in the vicinity of the partition 4 is somewhat thicker than the thickness of the coating film 6 on the central portion of the transparent electrode 5.
[0028]
In order to construct an EL light emitting device using the pattern forming body 1 of the present invention, the coating film 6 is an organic fluorescent material or an organic fluorescent light emitting layer configured to contain an organic fluorescent material. It is only necessary to form a laminate in which the second electrode is laminated, and by applying a voltage between the first electrode and the second electrode 5 of the laminate thus obtained, the coating film 6 can emit fluorescence. . Note that the EL light emitting element may be accompanied by other layers such as a hole injection layer, and the hole injection layer is interposed between the electrode 5 on the substrate 2 and the coating film 6 which is a light emitting layer. It is good to laminate. In addition, although the pattern formation body 1 of this invention is suitable for applying to an EL light emitting element, even if it is other than an EL light emitting element, a partition in the form of a lattice is provided, and a coating liquid is used between the partition walls. It is also suitable for products that are colored, such as color filters whose partition walls are a black matrix. Hereinafter, assuming that the pattern forming body 1 of the present invention is an EL light emitting element, materials constituting each layer will be sequentially described.
[0029]
The substrate 2 of the pattern forming body 1 is in the form of a plate or a film, and examples of the material constituting them include an inorganic material such as glass and quartz, a resin plate or a resin film, and the like. Here, the term “substrate” is used to include a film-like material, and may be referred to as a base material. If the board | substrate 1 is a resin film, the pattern formation body 1 obtained can be made into the flexible thing which can be rounded or bent.
[0030]
On the substrate 2, when the pattern forming body 1 is an EL light emitting element, an electrode 5 serving as a first electrode is provided. The electrode 5 is composed of, for example, a transparent conductive layer, and is usually composed of a thin film such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, gold, or polyaniline. By forming and etching a resist pattern, the electrode 5 having a desired shape can be obtained. The thickness of the electrode 5 is about 500 nm to 3000 nm.
[0031]
In addition, the names of “first” and “second” in the first electrode and the second electrode are for convenience, and the one laminated on the substrate 2 is the second electrode and the one laminated on the EL layer is the second one. It will be called an electrode. The first electrode and the second electrode may be formed on the entire surface of the substrate 2 or may be formed in a pattern. It is preferable that one of the first electrode and the second electrode is an anode and the other is a cathode, and either one is transparent or translucent, and the anode works so that holes can be easily injected. The cathode is preferably made of a conductive material having a high function, and the cathode is preferably made of a conductive material having a low work function so that electrons can be easily injected. Each electrode preferably has a resistance as small as possible. Generally, a metal material is used, but an organic substance or an inorganic compound may be used.
[0032]
Specific anode materials that can form the first electrode and the second electrode include indium tin oxide (ITO), indium oxide, gold, polyaniline, and the like, and specific cathode materials include a magnesium alloy (MgAg). Others), aluminum alloys (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), or metallic calcium can be mentioned. Both the anode material and the cathode material may be a mixture of a plurality of materials.
[0033]
The insulating layer 3 is preferably formed on the substrate 2 provided with the electrode 5 at a position corresponding to the space between the patterns of the electrode 5. As described above, the insulating layer 3 may not be provided, and the partition 4 may also serve as the insulating layer. The insulating layer 3 may be composed of any material as long as it is an insulating material. However, a photosensitive resin is uniformly laminated on the substrate 2 provided with the electrodes 5 in that patterning is easy. It is preferable to form a desired pattern by pattern exposure and development. The thickness of the insulating layer 3 is about 500 nm to 3000 nm. The electrode 5 may be formed after the insulating layer 4 is formed. However, industrially, since the substrate 2 on which a transparent conductive layer such as ITO is laminated is obtained, the subsequent processing is often performed. It is preferable to form the insulating layer 3 after forming the electrode 5.
[0034]
As described with reference to the drawings, the partition walls 4 are preferably formed using a photosensitive resin. In the description referring to the drawings, the partition walls 4 are described using a positive photosensitive resin. However, the partition 4 can also be formed using a negative photosensitive resin. The photosensitive resin referred to here may include those that irradiate an electron beam in addition to those that irradiate ultraviolet rays. Therefore, the partition 4 can be formed using an ionizing radiation curable resin. Is.
[0035]
The partition 4 can have a surface having liquid repellency or non-liquid repellency. By making the surface of the partition 4 liquid repellent, it is possible to prevent the applied coating liquid from contaminating the adjacent region beyond the partition 4. In order to make the surface of the partition wall 4 liquid-repellent, the partition wall 4 is made of a material mixed with a liquid-repellent material, or the partition wall 4 formed of a material that is not liquid-repellent is subjected to a liquid-repellent treatment such as a fluorine plasma treatment. What is necessary is just to give. Further, by making the partition 4 non-repellent, it is possible to prevent the applied coating liquid from being repelled by the partition 4 and the thickness of the coating film from being reduced in the vicinity of the partition 4. In this case, the coating liquid rises somewhat along the side surface of the partition wall 4 and solidifies to form a coating film. In order to make the partition 4 non-liquid-repellent, a material is selected and configured, and the partition 4 once formed can be performed by ultraviolet irradiation, combined use of ultraviolet irradiation and ozone treatment, or plasma treatment.
[0036]
For the purpose of preventing the supplied coating liquid from contaminating the adjacent region beyond the partition wall 4, the height H of the partition wall 4 is not less than the height of the coating liquid layer formed by the supplied coating liquid. For example, when the diameter of the droplets by the inkjet method is D, the pitch of the partition walls 4 is T, and the length of the partition walls 4 per droplet when the droplets are densely packed is D, H ≧ πD 2 / 6T is preferable.
[0037]
The partition 4 is provided in a non-image portion between the pixel portions. When the pattern forming body 1 is the image display element itself or constitutes a part of the image display element, the power supply of the electrode is provided. In view of improving the aperture ratio of the pixel (area ratio occupied by the pixel in the display area), it is preferable that the barrier rib is formed not in a direction perpendicular to the line but in parallel. The partition 4 is more preferably disposed on the power supply line. preferable. When the partition wall 4 is disposed on the power supply line, it is possible to omit the insulating layer, which is advantageous in terms of improving the product yield. In addition, from the viewpoint of improving the brightness of an image or video, it is preferable that the width of the partition wall is narrow, and for example, it is preferable to set it to 1/3 or less of the pixel pitch.
[0038]
A coating liquid for forming a hole injection layer is preferably applied between the partition walls 4 on the substrate 2 on which the electrodes 5 and the partition walls 4 are formed. Application of the hole injection layer forming coating liquid is preferably carried out by a dispenser method in which a suitable dispenser is dropped between the partition walls 4 or by an inkjet method. In the case of these application methods, the partition walls 4 are preferably liquid repellent. Alternatively, the coating liquid can be dropped at an appropriate location on the substrate 2 on which the electrode 5 and the partition wall 4 are formed, and then the substrate 2 is rotated at a high speed to spread the coating liquid. In the case of spin coating, the partition walls 4 are preferably non-liquid repellent. The applied hole injection layer forming coating liquid is heated by an appropriate heat treatment such as a vacuum heat treatment to form a hole injection layer.
[0039]
The material constituting the hole injection layer (or anode buffer material) includes phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, aluminum oxide, amorphous carbon, polyaniline Or a polythiophene derivative.
[0040]
Further, commercially available as a composition for forming a hole injection buffer, for example, poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (abbreviated as PEDOT / PSS, manufactured by Bayer, trade name: Baytron P CH 8000, as an aqueous solution. An aqueous solution such as commercially available) can also be used as a coating liquid for forming a hole injection layer. Alternatively, the hole injection layer can be formed of a multilayer film by alternating adsorption.
[0041]
Between the partition walls 4 on the substrate 2, preferably a hole injection layer is formed, and a coating film 6 is laminated using a coating liquid in which an organic phosphor is dissolved or dispersed to form an organic fluorescent light emitting layer. The organic fluorescent light-emitting layer is preferably applied by applying a light-emitting layer forming coating solution for red light emission, green light emission, and blue light emission, for example, so that the light emission color varies between the partition walls 4. Then, it can be dried and solidified by heat drying or vacuum drying (which can be accompanied by heating) to obtain organic fluorescent light emitting layers for red light emission, green light emission, and blue light emission, respectively. In this case, since the coating liquid is applied every time between the partition walls 4, it is preferably applied by using a dispenser or by an ink jet method. Since a light emitting layer giving the same light emission color may be formed between any partition walls 4, in this case, the coating liquid can be uniformly applied over a relatively large area as in the spin coating method. It can also be applied by a method.
[0042]
As described above, the EL light-emitting element has an organic fluorescent light-emitting layer and an electron other than an organic fluorescent light-emitting layer alone or a hole injection layer and an organic fluorescent light-emitting layer between the first electrode and the second electrode. There can be various structures such as those composed of an injection layer, organic fluorescent light emitting layer, hole injection layer, and electron injection layer.
[0043]
The materials constituting the organic fluorescent light emitting layer are roughly classified into dye-based, metal complex-based, and polymer-based materials.
[0044]
As dye systems, cyclopentadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine ring compounds, There are perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, and pyrazoline dimers.
[0045]
Examples of the metal complex system include aluminum, quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethylzinc complex, porphyrin zinc complex, or europium complex. , Tb, Eu, or Dy, and a metal complex having an oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, or the like as a ligand.
[0046]
Examples of the polymer system include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyvinylcarbazole, and the like, or polyfluorene derivatives.
[0047]
The material constituting the organic fluorescent light emitting layer may be mixed with a doping material. As the doping material, a perylene derivative, a coumarin derivative, a rubrene derivative, a quinacridone derivative, a squalium derivative, a porphyrin derivative, a styryl dye, a tetracene derivative, There are pyrazoline derivatives, decacyclene, or phenoxazone.
[0048]
The material that can constitute the organic fluorescent light emitting layer can be dissolved or dispersed in an appropriate solvent to form an organic fluorescent light emitting layer forming coating solution. In the present invention, the surface tension of the coating liquid for forming an organic fluorescent light emitting layer, the coating liquid for forming a hole injection layer, or other applicable coating liquid is preferably 55 dyn / cm or less. Preferably it is 35 dyn / cm or less. If it exceeds 55 dyn / cm, unevenness in the thickness of the coating tends to occur.
[0049]
A second electrode is formed on the organic fluorescent light emitting layer on the substrate 2 on which the organic fluorescent light emitting layer is formed. The material constituting the second electrode is basically the same as the material of the first electrode, but magnesium alloy (MgAg, etc.), aluminum alloy (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), or metallic calcium is a preferred material. Can be mentioned.
[0050]
In addition, when forming the cathode buffer material, the materials include aluminum lithium alloy, lithium fluoride, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, aluminum oxide, strontium oxide, There are calcium, polymethyl methacrylate, or sodium polystyrene sulfonate.
[0051]
In addition, when the electron injection layer is formed, the material is not particularly limited as long as it is an electron transporting material, but if it is a low molecular material, an oxadiazole derivative, a diphenylquinone derivative, or an anthraquinodimethane derivative, As the polymer material, a material obtained by dispersing the above-described low-molecular material in a polymer binder can be used, and examples of the polymer binder include polysilane or thiophene oligomer. Formation of the electron injection layer using these materials can be performed by vapor deposition or the like if it is a low molecular material, or by a known wet process if it is a high molecular material.
[0052]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, the partition wall can be easily formed by exposure and development using a photosensitive resin since the partition wall has a vertical cross-sectional shape having a convex portion at the main portion and another vertical cross-sectional shape at the skirt portion. Thus, a pattern forming body having a flat coating film based on the cross-sectional shape of the partition wall can be provided.
[0053]
According to the invention of claim 2, in the invention of claim 1, the skirt part is made of a downwardly convex curve, so that it is easy to absorb the coating liquid in the part from the skirt part to the main part, and is flatter A pattern forming body having a coating film can be provided.
[0054]
According to the invention of claim 3, in addition to the effect of the invention of claim 1 or claim 2, since there is a recess at the boundary between the main part and the skirt, the amount of coating liquid absorbed in that part increases. A pattern formed body having a flatter coating film can be provided.
[0055]
According to the invention of claim 4, in addition to the effects of the invention of any one of claims 1 to 3, the coating film is an organic fluorescent light emitting layer, and a laminated structure is sandwiched between a pair of electrodes. Since the thickness uniformity is high, there is no unevenness in light emission, and the space between the partition walls can be utilized to the maximum, so that a pattern forming body with high light emission efficiency can be provided.
[0056]
According to the invention of claim 5, in addition to the effect of the invention of any one of claims 1 to 4, the partition walls are arranged in parallel to the power supply lines. It is possible to provide a pattern forming body that has a high rate and thus improves the brightness of an image or video.
[0057]
According to the invention of claim 6, in addition to the effect of the invention of claim 5, the brightness of the image or video is further improved and the insulating layer can be omitted, so that the production efficiency and the yield can be improved. Can be provided.
[0058]
According to the invention of claim 7, in addition to the effects of the invention of any one of claims 1 to 6,
By making the width of the partition wall small, for example, at least 1/3 or less of the pixel pitch, it is possible to provide a pattern forming body in which the aperture ratio of the pixel is improved and the brightness of the image or video is further improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view showing a pattern forming body having a partition wall with a skirt and a recess.
FIG. 2 is a view showing a pattern forming body having a partition wall with a skirt.
FIG. 3 is a view showing a pattern forming body having a partition formed by a single mask.
[Explanation of symbols]
1 Pattern forming body
2 Substrate
3 Insulation layer
4 Bulkhead (4a; main part, 4b; skirt part, 4c; concave part)
5 Transparent electrodes
6 Coating film
7 Photosensitive resin layer
8 Mask
