JP2005037049A - Environment control device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an environment control device capable of improving processing accuracy by keeping the atmosphere around a flat processed member at a good environmental value. <P>SOLUTION: A supply port 29 and an exhaust port 27 connected with a gas environmental value adjusting machine 31, are formed on one side wall of a chamber 25 accommodating a processor 21, an internal partitioning wall 37 is mounted in the chamber 25 for guiding the gas supplied from the supply port 29 to an exhaust port 27 side along a ceiling wall 25a, a blowout port 41 is formed at an outlet end side of the internal partitioning wall 37 in a state of being faced to the exhaust port 27, and the flat laminar airflow is formed around the flat processed member 33 in the chamber 25. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、処理機を収容したチャンバ内に気体環境値調整機によって調整した気体を循環させることで、処理機によって処理される被処理部材の被処理面周辺の雰囲気を所定の環境値に制御する環境制御装置に関し、特に、処理機が平板状の試料の表面に対して摩擦・摩耗試験等の物性試験を実施する物性試験機の場合に好適な環境制御装置に関する。   The present invention controls the atmosphere around the surface to be processed of a processing target member to be processed by the processing machine to a predetermined environmental value by circulating the gas adjusted by the gas environmental value adjusting machine in the chamber containing the processing machine. In particular, the present invention relates to an environmental control apparatus suitable for a physical property testing machine in which a processing machine performs a physical property test such as a friction / wear test on the surface of a flat sample.

例えば、半導体デバイスや液晶デバイス等の製造分野では、被処理部材に対する加工精度の向上や、不純物の混入防止による品質の向上を図るために、被処理部材に対して一定の処理をする処理機の周囲雰囲気の温度や湿度等の環境値を、一定に安定維持させることが重要課題となっている。   For example, in the manufacturing field of semiconductor devices, liquid crystal devices, etc., in order to improve the processing accuracy of the processed member and to improve the quality by preventing the mixing of impurities, a processing machine that performs a certain process on the processed member It is an important issue to keep the environmental values such as the temperature and humidity of the ambient atmosphere constant and stable.

そこで、このような処理機の周囲雰囲気の環境値を一定に安定維持するための環境制御装置として、処理機を収容する閉空間を画成したチャンバと、チャンバ内の雰囲気をチャンバに形成された排気口から吸い出して所定の環境値に調整した後にチャンバに形成された給気口からチャンバ内に戻す気体環境値調整機とを備えた構成のものが各種提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平9−266167号公報
Therefore, as an environment control device for maintaining the environmental value of the ambient atmosphere of the processing machine to be constant and stable, a chamber defining a closed space for accommodating the processing machine and an atmosphere in the chamber are formed in the chamber. Various types of configurations including a gas environmental value adjuster that sucks out from the exhaust port and adjusts to a predetermined environmental value and then returns the air from the air supply port formed in the chamber into the chamber have been proposed (for example, Patent Document 1). reference).
JP-A-9-266167

上記特許文献1に記載の環境制御装置は、レチクルに形成されているパターンをレーザ露光によってウェハに転写する光学的処理機をチャンバ内に収容するもので、チャンバ内の雰囲気をクリーンに保つことと、光学的処理機の発熱部からの放熱がチャンバ内の雰囲気の温度分布に影響することを防止することを主目的としたものである。
そのため、チャンバ内雰囲気を気体環境値調整機に送るための排気口をチャンバの底壁の略全域に設定すると共に、気体環境値調整機によって温度等の環境値が調整された気体を受ける給気口をチャンバの天井壁の略全域に設定している。
これによって、気体環境値調整機からチャンバ内に供給される気体は、チャンバ内を天井壁から底壁に向かって流れる降下気流となって気体環境値調整機に戻る循環流となって、チャンバ内雰囲気を安定した状態に保持する。
The environmental control device described in Patent Document 1 contains an optical processing machine that transfers a pattern formed on a reticle onto a wafer by laser exposure, and keeps the atmosphere in the chamber clean. The main object is to prevent the heat radiation from the heat generating part of the optical processor from affecting the temperature distribution of the atmosphere in the chamber.
For this reason, an exhaust port for sending the atmosphere in the chamber to the gas environmental value adjuster is set in almost the entire area of the bottom wall of the chamber, and an air supply for receiving a gas whose temperature and other environmental values are adjusted by the gas environmental value adjuster. The mouth is set to almost the entire area of the ceiling wall of the chamber.
As a result, the gas supplied into the chamber from the gas environment value adjuster becomes a descending airflow that flows from the ceiling wall to the bottom wall in the chamber, and becomes a circulating flow that returns to the gas environment value adjuster. Keep the atmosphere stable.

ところが、上記特許文献1の環境制御装置は、チャンバ内全域の気体を、天井壁から底壁に向けて動かすため、気体環境値調整機として、流量の大きなものを採用しなければならず、気体環境値調整機の大型化を招くという問題があった。   However, since the environment control device of Patent Document 1 moves the gas in the entire chamber from the ceiling wall toward the bottom wall, a gas flow rate adjusting device having a large flow rate must be employed. There was a problem that the environmental value adjuster was increased in size.

また、上記特許文献1の環境制御装置は、チャンバに収容する処理機として、放熱部分が隔離し易い光学的処理機を前提としていて、その結果、隔離した放熱部分に専用の排熱手段を装備することによって、処理機からの放熱による影響も回避し易い。
ところが、チャンバに収容する処理機が、例えば、平板状の試料の表面に突き立てたピンを試料表面上で回転摺動させて、試料表面の摩擦・摩耗試験を実施するピンオンディスク型の摩擦摩耗試験機等の場合は、放熱部を一括して隔離することが実際上は不可能で、処理機の各所の放熱部による局所的な昇温がチャンバ内で生じる。そして、上記の特許文献1の循環方式では、大量のチャンバ内雰囲気がゆっくりと排気口に向かう降下気流のため、局所的な昇温を速やかに解消することができず、局所的な昇温が試験精度の低下を招く虞があった。
In addition, the environmental control device of Patent Document 1 is premised on an optical processing machine in which the heat dissipating part is easily isolated as a processing machine accommodated in the chamber, and as a result, a dedicated exhaust heat means is provided in the isolated heat dissipating part. By doing so, it is easy to avoid the influence of heat radiation from the processor.
However, a processing machine accommodated in a chamber, for example, a pin-on-disk type friction that performs a friction / wear test on a sample surface by rotating and sliding a pin protruding on the surface of a flat sample on the sample surface. In the case of a wear tester or the like, it is practically impossible to isolate the heat dissipating parts at once, and local temperature rise by the heat dissipating parts at various places in the processing machine occurs in the chamber. In the circulation method of Patent Document 1 described above, since a large amount of the atmosphere in the chamber slowly descends toward the exhaust port, the local temperature rise cannot be quickly eliminated. There was a risk of a decrease in test accuracy.

また、平板状の試料表面が水平に位置決めされている場合は、上記特許文献1のように、チャンバ内に降下気流を形成する方式では、気流が試料表面に当たって拡散して、周囲の気体の流れを阻害するため、想定されている安定した降下気流が確保できず、その結果、温度等の環境値が適正値からずれて、試験精度の低下を招く虞もあった。   Further, when the flat sample surface is positioned horizontally, in the method of forming a descending airflow in the chamber as in Patent Document 1, the airflow hits the sample surface and diffuses, and the surrounding gas flows As a result, the assumed stable downdraft cannot be secured, and as a result, the environmental value such as temperature may deviate from an appropriate value, leading to a decrease in test accuracy.

このような背景から、これまで、チャンバに収容する処理機が、上記摩擦摩耗試験機のように平板状の被処理部材の表面に対して所定の処理を実行する構成であることを前提として、図9及び図10に示す環境制御装置が検討された。
これらの環境制御装置101,102は、処理機1を収容するチャンバ3の側壁に排気口5と給気口7とを装備すると共に、気体の温度や湿度等の環境値を調整可能な気体環境値調整機9の吐出口9a及び吸込口9bを給気口7及び排気口5に接続したもので、排気口5と給気口7の開口位置や開口面積等を適宜選定することで、処理機1が処理する平板状の被処理部材11の周辺に重点的に温度等の環境値を調整した気体の層流気流を形成するようにしたものである。
From such a background, on the premise that the processing machine accommodated in the chamber is configured to execute a predetermined process on the surface of the plate-like member to be processed like the above friction and wear tester, The environmental control apparatus shown in FIGS. 9 and 10 was studied.
These environmental control apparatuses 101 and 102 are equipped with an exhaust port 5 and an air supply port 7 on the side wall of the chamber 3 that accommodates the processor 1, and a gas environment in which environmental values such as gas temperature and humidity can be adjusted. The discharge port 9a and the suction port 9b of the value adjuster 9 are connected to the air supply port 7 and the air exhaust port 5, and the processing is performed by appropriately selecting the opening positions and the opening areas of the air exhaust port 5 and the air supply port 7. A laminar air flow of gas whose temperature and other environmental values are adjusted intensively is formed around the flat plate-like member 11 processed by the machine 1.

図9に示した環境制御装置101の場合は、排気口5と給気口7を対向する側壁3a,3bに分けて装備している。これに対して、図10に示した環境制御装置102の場合は、単一の側壁3aの上下に排気口5と給気口7を装備している。
また、何れの環境制御装置101,102も、気体環境値調整機9の吐出口9aとチャンバ3の給気口7との間、気体環境値調整機9の吸込口9bとチャンバ3の排気口5との間は、ダクト15,16で接続している。
In the case of the environment control apparatus 101 shown in FIG. 9, the exhaust port 5 and the air supply port 7 are provided separately on the opposite side walls 3a and 3b. On the other hand, in the case of the environmental control apparatus 102 shown in FIG. 10, the exhaust port 5 and the air supply port 7 are equipped above and below the single side wall 3a.
In addition, any of the environmental control devices 101 and 102 is provided between the discharge port 9 a of the gas environment value adjuster 9 and the air supply port 7 of the chamber 3, the suction port 9 b of the gas environment value adjuster 9, and the exhaust port of the chamber 3. 5 is connected by ducts 15 and 16.

これらの環境制御装置101,102は、チャンバ3内の全域ではなく、処理精度等への影響度が高い被処理部材11の周辺の雰囲気のみを、重点的に循環させることになるため、特許文献1のような構成の場合と比較すると、気体環境値調整機9は、吐出流量を抑えた小型のものを採用することが可能になる。
また、想定通りの層流気流が形成できていれば、被処理部材11の周辺は、気流によって、常時、環境値が調整された新鮮な気体に入れ替わるため、隔離等をせずとも機器の放熱による局所的な昇温等の影響を回避でき、局所的な昇温に起因した処理精度(試験精度)の低下を防止することもできる。
These environmental control devices 101 and 102 circulate not only the entire area in the chamber 3 but mainly the atmosphere around the member 11 to be processed that has a high influence on the processing accuracy and the like. As compared with the case of the configuration of 1, the gas environment value adjuster 9 can employ a small-sized one with a reduced discharge flow rate.
Further, if a laminar airflow as expected can be formed, the surroundings of the member to be processed 11 are constantly replaced with fresh gas whose environmental values are adjusted by the airflow, so that the heat dissipation of the equipment is performed without isolation or the like. It is possible to avoid the influence of local temperature rise due to the above, and it is possible to prevent a decrease in processing accuracy (test accuracy) due to local temperature rise.

ところが、図9に示した対応では、チャンバ3の外周に長尺のダクト16を架設しなければならず、チャンバ3の外周に露出する長尺のダクト16のために、設定した温湿度に対して変化が大きくなり、更に、装置の外観(意匠性)が低下するという問題があった。また、ダクト16には、通常、流路断面が単純な円形または四角形の配管材が使用され、配管材の口径がチャンバ3の水平方向の幅寸法(図では、紙面に直交する方向の寸法)に比して小さいため、被処理部材11の幅寸法が大きい場合には、被処理部材11の幅寸法の一部の範囲にしか、想定した層流気流を形成できず、層流気流の循環による効力を十分に発揮させることができないという問題もあった。   However, in the correspondence shown in FIG. 9, a long duct 16 has to be installed on the outer periphery of the chamber 3, and because of the long duct 16 exposed on the outer periphery of the chamber 3, As a result, there is a problem that the change becomes large and the appearance (designability) of the apparatus is deteriorated. The duct 16 is usually made of a circular or quadrangular piping material having a simple flow path cross section, and the diameter of the piping material is the horizontal width dimension of the chamber 3 (in the figure, the dimension in the direction perpendicular to the paper surface). Therefore, when the width dimension of the member 11 to be processed is large, the assumed laminar airflow can be formed only in a part of the width dimension of the member 11 to be processed. There was also a problem that the effect of the could not be fully demonstrated.

一方、図10に示した対応では、チャンバ3の外周に取り付けるダクト16が短尺で済み、露出する長尺のダクトによって装置の外観が損なわれることがない。しかし、ダクト16からチャンバ3内に噴射された気流は、対向側壁でUターンしてダクト15に戻る流れとなるため、被処理部材11の周囲に良好な層流気流を形成することが極めて難しくなり、層流気流の循環による効力は図9の対応よりも更に低減し、実用価値が乏しいという問題が生じる。   On the other hand, in the correspondence shown in FIG. 10, the duct 16 attached to the outer periphery of the chamber 3 is short, and the appearance of the apparatus is not impaired by the long duct that is exposed. However, since the airflow injected from the duct 16 into the chamber 3 becomes a flow returning to the duct 15 after making a U-turn at the opposite side wall, it is extremely difficult to form a good laminar airflow around the member 11 to be processed. Thus, the effectiveness of the circulation of the laminar airflow is further reduced as compared with the correspondence in FIG. 9, and there is a problem that the practical value is poor.

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、気体環境値調整機を小型化することができ、また、長尺のダクトの露出による装置外観の低下を防止することができ、しかも、平板状の被処理部材の周囲には、該被処理部材の幅寸法を包含する十分な幅の平板状の層流気流を安定形成することができて、処理機の局所的な放熱が処理精度に影響を与えることを防止して、安定した処理を継続させることのできる環境制御装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to reduce the size of the gas environment value adjuster and prevent deterioration of the appearance of the apparatus due to exposure of a long duct. In addition, a flat laminar airflow having a sufficient width including the width dimension of the member to be processed can be stably formed around the member to be processed. It is an object of the present invention to provide an environment control device capable of preventing stable heat dissipation from affecting processing accuracy and continuing stable processing.

上記目的を達成するために、本発明に係る環境制御装置は、請求項1に記載したように、処理機を収容するチャンバと、前記チャンバ内の雰囲気を前記チャンバの排気口から吸い出して所定の環境値に調整した後に前記チャンバの給気口からチャンバ内に戻す気体環境値調整機とを備え、前記チャンバ内の前記処理機によって処理される被処理部材の被処理面周囲の雰囲気を、所定の環境値に制御する環境制御装置であって、
前記チャンバは、処理機の上下、前後、左右の6方位に対応した天井壁、底壁、前後側壁、左右側壁によって処理機を収容する閉空間を画成し、
前記チャンバを構成している一側壁の上縁寄り位置に前記給気口を装備すると共に、同一側壁の前記給気口から所定距離下がった位置に前記排気口を装備し、
且つ、前記チャンバの天井壁に相対向する内側には、前記給気口から導入された気体を前記天井壁に沿って前記排気口の対向位置まで導く流路を内部仕切壁によって形成し、
前記内部仕切壁によって形成した流路の吹き出し口と前記排気口とは、前記チャンバの底壁と略平行な方向に設定したことを特徴とする。
In order to achieve the above object, an environmental control apparatus according to the present invention, as described in claim 1, is configured to suck a chamber containing a processor and an atmosphere in the chamber from an exhaust port of the chamber and A gas environment value adjuster that adjusts to the environment value and then returns the chamber to the chamber through a supply port of the chamber, and the atmosphere around the surface to be processed of the member to be processed that is processed by the processor in the chamber is predetermined. An environmental control device for controlling to an environmental value of
The chamber defines a closed space for accommodating the processing machine by a ceiling wall, a bottom wall, front and rear side walls, and left and right side walls corresponding to six directions of upper, lower, front, rear, and left and right of the processing machine,
Equipped with the air supply port at a position near the upper edge of the one side wall constituting the chamber, and equipped with the exhaust port at a position a predetermined distance below the air supply port on the same side wall,
And on the inner side facing the ceiling wall of the chamber, a flow path for guiding the gas introduced from the air supply port to the position facing the exhaust port along the ceiling wall is formed by an internal partition wall,
The outlet port and the exhaust port of the flow path formed by the internal partition wall are set in a direction substantially parallel to the bottom wall of the chamber.

このように構成された環境制御装置においては、チャンバ内全域の気体を動かすのではなく、処理精度等への影響度が高い被処理部材の周辺の雰囲気のみを、被処理部材の周囲を流れる層流気流によって重点的に循環させることになるため、気体環境値調整機が循環させる気体の流量は少なく抑えることができ、気体環境値調整機として吐出流量を抑えた小型のものを採用することが可能になり、気体環境値調整機の小型化によって装置コストを抑えることが可能になる。
また、気体環境値調整機にダクトを介して接続されるチャンバ側の排気口及び給気口は、チャンバ上の一側壁に集約させているため、接続に使用するダクトは短尺に抑えることができ、設定した温湿度に対して変化は少なく、長尺のダクトの露出による装置外観の低下を防止することができる。
また、チャンバの給気口に供給される気体は、チャンバ内に装備した内部仕切壁によって画成される流路によって、排気口の対向位置に導くもので、チャンバ内の吹き出し口から排気口への経路を単純な直線経路にすることができるため、吹き出し口で層流状態を維持すれば、安定した層流気流を形成し易い。
更に、チャンバ内に内部仕切壁で形成する通路は、市販の配管材等を使用したダクトとは異なり、チャンバ内空間の全幅まで拡幅可能な偏平な流路を簡単に形成することができて、平板状の被処理部材の幅寸法に応じた十分な幅寸法を有した良好な平板状の層流気流を形成することができる。
In the environmental control apparatus configured as described above, the layer flowing around the member to be processed is not used to move the gas in the entire chamber, but only the atmosphere around the member to be processed having a high influence on the processing accuracy and the like. Since it is circulated mainly by the flowing air flow, the gas flow rate circulated by the gas environmental value adjuster can be kept low, and a small-sized gas environment value adjuster with a reduced discharge flow rate can be adopted. It becomes possible, and it becomes possible to hold down apparatus cost by size reduction of a gas environmental value adjustment machine.
In addition, since the exhaust port and air supply port on the chamber side connected to the gas environmental value adjuster via a duct are concentrated on one side wall on the chamber, the duct used for connection can be kept short. There is little change with respect to the set temperature and humidity, and deterioration of the appearance of the apparatus due to exposure of the long duct can be prevented.
In addition, the gas supplied to the air supply port of the chamber is guided to a position opposite to the exhaust port by a flow path defined by an internal partition wall provided in the chamber, and from the blowout port in the chamber to the exhaust port. Therefore, if a laminar flow state is maintained at the outlet, a stable laminar airflow can be easily formed.
Furthermore, unlike a duct using a commercially available piping material or the like, the passage formed by the internal partition wall in the chamber can easily form a flat flow path that can be expanded to the full width of the chamber internal space. A good flat laminar airflow having a sufficient width according to the width of the flat member to be processed can be formed.

また、請求項2に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項1に記載の環境制御装置において、更に、前記給気口から導入された気体を導く流路は、前記給気口から徐々に流路幅を広げたテーパ拡幅部を備え、最終的に流路幅が前記チャンバ内空間の全幅まで拡幅されていることを特徴とするものである。   Further, in order to achieve the above object, the environmental control device according to claim 2 is the environmental control device according to claim 1, further comprising: a flow path for guiding the gas introduced from the air supply port; The taper widening part which gradually widened the flow path width from the air supply port is provided, and the flow path width is finally widened to the full width of the space in the chamber.

このように構成された環境制御装置においては、気体環境値調整機からダクトを介してチャンバの給気口に供給される気流は、テーパ拡幅部によって徐々に流路幅を広げていくため、気流の急激な拡散に起因した層の剥離や渦の発生が抑えられ、安定した層流状態のままチャンバ内空間の全幅まで拡幅した平板状の層流気流を、吹き出し口から放射できる。   In the environmental control device configured in this way, the airflow supplied from the gas environmental value adjuster to the air supply port of the chamber through the duct gradually widens the flow path width by the taper widening portion. The generation of laminar separation and vortex generation due to the rapid diffusion of the gas can be suppressed, and a flat laminar airflow that is widened to the full width of the chamber space can be radiated from the blowout port in a stable laminar flow state.

また、請求項3に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項1又は2に記載の環境制御装置において、更に、前記排気口の開口幅は、前記チャンバ内空間の全幅から徐々に縮幅されて、最終的に、前記気体環境値調整機に接続される所定幅になることを特徴とするものである。   In order to achieve the above object, the environmental control apparatus according to claim 3 is the environmental control apparatus according to claim 1 or 2, wherein the opening width of the exhaust port is a total width of the space in the chamber. Is gradually reduced to a predetermined width connected to the gas environment value adjuster.

このように構成された環境制御装置においては、排気口に吸引される気流は、徐々に流路幅を狭める縮流となるため、気流と流路壁との摩擦による圧損を抑えて、気体環境値調整機側の負荷を軽減することができ、また、圧損を抑えることによって、吸込気流の層流状態が破壊されることを抑えることもできる。
従って、小型の気体環境値調整機で、平板状の層流気流の安定供給を実現することができる。
In the environmental control device configured as described above, the air flow sucked into the exhaust port becomes a contracted flow that gradually narrows the flow path width, so that pressure loss due to friction between the air flow and the flow path wall is suppressed, and the gas environment The load on the value adjuster side can be reduced, and the laminar flow state of the suction airflow can be prevented from being destroyed by suppressing the pressure loss.
Therefore, a stable supply of a flat laminar airflow can be realized with a small gas environment value adjuster.

また、請求項4に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の環境制御装置において、更に、前記内部仕切壁による流路先端の吹き出し口の前方に、前記排気口に向かって気体を吹き出す流量調整用ファンを備えたことを特徴とするものである。   In order to achieve the above object, the environmental control device according to claim 4 is the environmental control device according to any one of claims 1 to 3, further comprising: A flow rate adjusting fan that blows out gas toward the exhaust port is provided in front of the air outlet.

このように構成された環境制御装置においては、チャンバ内の内部仕切壁による流路内での圧力損失や、流路の拡幅等で気流の速度が低減する場合に、流量調整用ファンによって低減した速度を補償して、気流速度、流量を確保することができ、平板状の被処理部材の周辺部の雰囲気の循環を安定させることができる。   In the environmental control device configured as described above, when the flow velocity is reduced due to the pressure loss in the flow path due to the internal partition wall in the chamber or the widening of the flow path, it is reduced by the flow rate adjusting fan. By compensating for the velocity, the air velocity and flow rate can be ensured, and the circulation of the atmosphere around the flat plate-like member can be stabilized.

また、請求項5に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項4に記載の環境制御装置において、更に、前記流量調整用ファンには、前記チャンバ内の吹き出し口から吹き出される層流気流の幅を、前記処理機に設置された被処理部材の処理面の幅に略等しく調整する吹き出し幅調整ノズルを装備したことを特徴とするものである。   Further, in order to achieve the above object, the environmental control device according to claim 5 is the environmental control device according to claim 4, wherein the flow rate adjusting fan is further blown out from a blow-out port in the chamber. It is equipped with a blowing width adjusting nozzle for adjusting the width of the laminar airflow to be adjusted to be approximately equal to the width of the processing surface of the member to be processed installed in the processing machine.

このように構成された環境制御装置においては、被処理部材の周囲の環境値を維持するためのチャンバ内の雰囲気の循環流量を、吹き出し幅調整ノズルによって、被処理部材の幅寸法に応じた必要最小限の範囲に規制することができ、これによって、気体環境値調整機の小型化を促進することができ、また、消費エネルギーの節約にもなる。   In the environmental control apparatus configured as described above, the circulation flow rate of the atmosphere in the chamber for maintaining the environmental value around the member to be processed is required according to the width dimension of the member to be processed by the blowing width adjusting nozzle. It is possible to regulate to a minimum range, which can promote downsizing of the gas environmental value adjuster and also save energy consumption.

また、請求項6に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項4又は5に記載の環境制御装置において、更に、前記流量調整用ファンとして、回転速度の調整によって流量の増減が可能な速度可変型のものを採用したことを特徴とするものである。   According to a sixth aspect of the present invention, in order to achieve the above object, the environmental control device according to the fourth or fifth aspect further comprises the environmental control device according to the fourth or fifth aspect, wherein the flow rate adjusting fan is configured to adjust a flow rate by adjusting a rotational speed. A variable speed type that can be increased or decreased is employed.

このように構成された環境制御装置においては、チャンバ内に収容する処理機の変更や、被処理部材の変更、或いは処理条件の変更等が生じて、それに伴って、循環させる層流気流の流量の調整が必要になる場合、例えば、気体環境値調整機の作動条件の変更と、流量調整用ファンの速度調整によって、より柔軟な対応が可能になり、装置の汎用性が高まって、より多様な処理や試験に対応可能になる。   In the environmental control apparatus configured as described above, the flow rate of the laminar airflow to be circulated in accordance with the change of the processing machine accommodated in the chamber, the change of the member to be processed, the change of the processing condition, or the like occurs. For example, changing the operating conditions of the gas environmental value adjuster and adjusting the speed of the flow rate adjustment fan enables more flexible responses, increasing the versatility of the device and increasing the variety. It becomes possible to cope with various processing and tests.

また、請求項7に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の環境制御装置において、更に、前記内部仕切壁に断熱材を使用したことを特徴とするものである。   Moreover, in order to achieve the said objective, the environmental control apparatus of Claim 7 uses the heat insulating material for the said internal partition wall further in the environmental control apparatus of any one of Claims 1 thru | or 6. It is characterized by that.

このように構成された環境制御装置においては、チャンバ内の内部仕切壁による流路を気体が通過する際に、温度等の環境値の変動を抑えることができ、被処理部材に供給する循環気流の環境値を適正範囲に維持することが容易になり、処理機による処理精度の向上に繋がる。   In the environmental control device configured as described above, when the gas passes through the flow path formed by the internal partition wall in the chamber, fluctuations in environmental values such as temperature can be suppressed, and the circulating airflow supplied to the member to be processed It is easy to maintain the environmental value within the appropriate range, which leads to improvement of processing accuracy by the processing machine.

また、請求項8に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項4乃至6のいずれか1項に記載の環境制御装置において、更に、前記気体環境値調整機の吐出口付近、前記内部仕切壁で画成された前記チャンバ内の流路内、前記処理機に設置された被処理部材の被処理面の手前に、環境値を検出する温度センサ、湿度センサ、風速センサの一組ずつを装備し、前記各センサの検出信号に基づいて、前記気体環境値調整機及び流量調整用ファンの動作を制御することを特徴とするものである。   Moreover, in order to achieve the said objective, the environment control apparatus of Claim 8 is an environment control apparatus of any one of Claims 4 thru | or 6, Furthermore, the discharge port of the said gas environmental value adjustment machine. A temperature sensor, a humidity sensor, and a wind speed sensor for detecting an environmental value in the vicinity, in a flow path in the chamber defined by the internal partition wall, and in front of a surface to be processed of a member to be processed installed in the processing machine Each set is provided, and the operations of the gas environment value adjuster and the flow rate adjusting fan are controlled based on detection signals of the sensors.

このように構成された環境制御装置においては、処理機の発熱等で、チャンバ内の環境値が変動した場合に、その環境値の変動が各センサにより検出されて、速やかに気体環境値調整機や流量調整用ファンの動作制御にフィードバックされるため、良好な層流気流による被処理部材周辺の環境値の維持を自動化することができる。   In the environmental control device configured as described above, when the environmental value in the chamber fluctuates due to heat generated by the processing machine, the fluctuation of the environmental value is detected by each sensor, and the gas environmental value adjuster is promptly detected. Since it is fed back to the operation control of the flow rate adjusting fan, it is possible to automate the maintenance of the environmental value around the member to be processed by a good laminar airflow.

また、請求項9に記載の環境制御装置は、上記目的を達成するために、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の環境制御装置において、更に、前記チャンバには、前記処理機の機体の一部を隔離収容する隣接チャンバを設け、該隣接チャンバには収容した機体の温度を調整する温度調整手段を装備したことを特徴とするものである。   In addition, in order to achieve the above object, the environmental control apparatus according to claim 9 is the environmental control apparatus according to any one of claims 1 to 8, further comprising: An adjacent chamber for isolating and accommodating a part of the airframe is provided, and the adjacent chamber is equipped with a temperature adjusting means for adjusting the temperature of the airframe accommodated.

このように構成された環境制御装置においては、例えば、処理機の動力源である発熱部位等は、隣接チャンバ側に隔離した状態にし、隣接チャンバ側の温度調整手段でその発熱部の状態を制御することで、被処理部材周辺への影響を抑えることができ、具体的には、極端な温度変化に起因した結露の発生等を抑止して、高精度の処理を安定維持することが可能になる。   In the environmental control device configured in this way, for example, the heat generating part that is a power source of the processing machine is isolated on the adjacent chamber side, and the state of the heat generating part is controlled by the temperature adjusting means on the adjacent chamber side. By doing so, it is possible to suppress the influence on the periphery of the member to be processed, and specifically, it is possible to stably maintain high-precision processing by suppressing the occurrence of condensation due to extreme temperature changes. Become.

本発明の環境制御装置は、チャンバ内全域の気体を動かすのではなく、処理精度等への影響度が高い被処理部材の周辺の雰囲気を、被処理部材の周囲を流れる層流気流によって重点的に循環させることになるため、気体環境値調整機が循環させる気体の流量は少なく抑えることができ、気体環境値調整機として吐出流量を抑えた小型のものを採用することが可能になり、気体環境値調整機の小型化によって装置コストを抑えることが可能になる。   The environmental control apparatus of the present invention does not move the gas in the entire chamber, but focuses on the atmosphere around the member to be processed, which has a high influence on the processing accuracy, by the laminar airflow flowing around the member to be processed. Therefore, it is possible to reduce the flow rate of the gas circulated by the gas environment value adjuster, and it is possible to adopt a small gas environment value adjuster with a reduced discharge flow rate. The cost of the apparatus can be reduced by downsizing the environmental value adjuster.

また、気体環境値調整機にダクトを介して接続されるチャンバ側の排気口及び給気口は、チャンバ上の一側壁に集約させているため、接続に使用するダクトは短尺に抑えることができ、長尺のダクトの露出による装置外観の低下を防止することができる。   In addition, since the exhaust port and air supply port on the chamber side connected to the gas environmental value adjuster via a duct are concentrated on one side wall on the chamber, the duct used for connection can be kept short. Further, it is possible to prevent the appearance of the apparatus from being deteriorated due to the exposure of the long duct.

また、チャンバの給気口に供給される気体は、チャンバ内に装備した内部仕切壁によって画成される流路によって、排気口に対向する対向壁側に導くもので、チャンバ内の吹き出し口から排気口への経路を単純な直線経路にすることができるため、吹き出し口で層流状態を維持すれば、安定した層流気流を形成し易い。   In addition, the gas supplied to the air supply port of the chamber is led to the opposite wall side facing the exhaust port by a flow path defined by an internal partition wall provided in the chamber. Since the path to the exhaust port can be a simple straight path, if a laminar flow state is maintained at the outlet, a stable laminar airflow can be easily formed.

更に、チャンバ内に内部仕切壁で形成する流路は、市販の配管材等を使用したダクトとは異なり、チャンバ内空間の全幅まで拡幅可能な偏平な流路を簡単に形成することができて、平板状の被処理部材の幅寸法に応じた十分な幅寸法を有した良好な平板状の層流気流を形成することができる。   Furthermore, the flow path formed by the internal partition wall in the chamber can be easily formed as a flat flow path that can be widened to the full width of the internal space of the chamber, unlike a duct using commercially available piping materials. An excellent flat laminar airflow having a sufficient width according to the width of the flat member to be processed can be formed.

従って、平板状の被処理部材の周囲には、該被処理部材の幅寸法を包含する十分な幅の平板状の層流気流を平板状の被処理部材に沿って安定形成することができて、処理機の局所的な放熱が処理精度に影響を与えることを防止して、安定した処理を継続させることができる。   Therefore, a flat laminar air flow having a sufficient width including the width of the processing target member can be stably formed around the flat processing target member along the flat processing target member. The local heat dissipation of the processing machine can be prevented from affecting the processing accuracy, and stable processing can be continued.

以下、添付図面に基づいて本発明の好適な実施の形態に係る環境制御装置を詳細に説明する。   Hereinafter, an environment control apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明に係る環境制御装置の第1の実施の形態を示したものである。   FIG. 1 shows a first embodiment of an environmental control apparatus according to the present invention.

この第1の実施の形態の環境制御装置111は、処理機21を収容する閉空間23を画成したチャンバ25と、チャンバ25内の雰囲気をチャンバ25の周壁に形成された排気口27から吸い出して所定の環境値(温度,湿度などを指す)に調整した後にチャンバ25の周壁に形成された給気口29からチャンバ25内に戻す気体環境値調整機31とを備えて、チャンバ25内の処理機21によって処理される平板状の被処理部材33の被処理面周囲の雰囲気を、所定の環境値に制御する。   The environmental control device 111 according to the first embodiment sucks out a chamber 25 that defines a closed space 23 that accommodates the processing machine 21, and an atmosphere in the chamber 25 from an exhaust port 27 formed on the peripheral wall of the chamber 25. A gas environment value adjuster 31 that is adjusted to a predetermined environmental value (indicating temperature, humidity, etc.) and then returned to the chamber 25 from an air supply port 29 formed in the peripheral wall of the chamber 25. The atmosphere around the processing surface of the flat plate-shaped processing member 33 processed by the processing machine 21 is controlled to a predetermined environmental value.

本実施の形態の場合、処理機21としては、ピンオンディスク型の摩擦摩耗試験機を想定しており、被処理部材33は摩擦摩耗試験を実施する平板状の試料が該当する。摩擦摩耗試験機では、ピン21aを摩擦摺動させる被処理部材33の周囲雰囲気を、試験機の発熱の影響を受けない一定の環境値に制御することで、試験精度を向上させることができる。被処理部材33の周囲雰囲気の環境値の維持に、被処理部材33の表面に平行な層流気流が必要とされる。   In the case of this embodiment, the processing machine 21 is assumed to be a pin-on-disk type frictional wear tester, and the member to be treated 33 corresponds to a flat sample for performing the frictional wear test. In the friction and wear tester, the test accuracy can be improved by controlling the ambient atmosphere around the member 33 to be rubbed with the pin 21a to a constant environmental value that is not affected by the heat generated by the tester. In order to maintain the environmental value of the ambient atmosphere of the member to be processed 33, a laminar air flow parallel to the surface of the member to be processed 33 is required.

本実施の形態の場合、チャンバ25は、処理機21の上下、前後、左右の6方位に対応した天井壁25a、底壁25b、前後側壁25c,25d、左右側壁25e,25fによって処理機21を収容する閉空間23を画成している。   In the case of the present embodiment, the chamber 25 divides the processing machine 21 by the ceiling wall 25a, the bottom wall 25b, the front and rear side walls 25c, 25d, and the left and right side walls 25e, 25f corresponding to the six directions of the processing machine 21. A closed space 23 to be accommodated is defined.

そして、チャンバ25を構成している一側壁である右側壁25fの上縁寄り位置に給気口29を装備すると共に、同一側壁25fの給気口29から所定距離下がった位置に排気口27を装備している。   The air supply port 29 is provided at a position near the upper edge of the right side wall 25f, which is one side wall constituting the chamber 25, and the exhaust port 27 is provided at a position lower than the air supply port 29 of the same side wall 25f by a predetermined distance. Equipped.

また、チャンバ25の天井壁25aの内側、及び排気口27に相対向する対向側壁である左側壁25eの内側には、給気口29から導入された気体を天井壁25a及び対向側壁25eに沿って排気口27の対向位置まで導く流路35を内部仕切壁37によって形成している。   In addition, the gas introduced from the air supply port 29 is introduced along the ceiling wall 25a and the opposing side wall 25e on the inner side of the ceiling wall 25a of the chamber 25 and the inner side of the left side wall 25e that is the opposing side wall facing the exhaust port 27. A flow path 35 that leads to a position opposite to the exhaust port 27 is formed by an internal partition wall 37.

内部仕切壁37によって形成した流路35を経た最終的な吹き出し口41と排気口27とは、チャンバ25の底壁25bに略平行な方向に設定している。このような吹き出し口41及び排気口27の開口形状の設定によって、吹き出し口41から排気口27に向かって流れる気流を、チャンバ25の底壁25bに平行な平板状の層流気流に整流する。   The final outlet 41 and the exhaust outlet 27 that have passed through the flow path 35 formed by the internal partition wall 37 are set in a direction substantially parallel to the bottom wall 25 b of the chamber 25. By setting the opening shapes of the blowout port 41 and the exhaust port 27, the airflow flowing from the blowout port 41 toward the exhaust port 27 is rectified into a flat laminar airflow parallel to the bottom wall 25b of the chamber 25.

流路35の給気口29付近は、図1(c)にも示すように、給気口29から対向側壁25eに向かって徐々に流路幅を広げたテーパ拡幅部35aを備え、最終的に流路幅がチャンバ内空間(即ち、処理機21を収容している閉空間23)の全幅まで拡幅されている。   As shown in FIG. 1C, the vicinity of the air supply port 29 of the flow path 35 includes a taper widening portion 35a that gradually widens the flow path width from the air supply port 29 toward the opposing side wall 25e. The channel width is widened to the full width of the chamber internal space (that is, the closed space 23 accommodating the processing machine 21).

また、対向側壁25eの上部は、流路35を流れる気流の方向変換時の衝突を緩和するために、傾斜壁43に設定されている。そして、傾斜壁43に対向する内部仕切壁37の先端部37aは、流路35の先端から流出する気流が拡散流とならないように、傾斜壁43の間の間隔を徐々に僅かに狭めるように、傾斜が設定されている。   Further, the upper portion of the opposing side wall 25e is set to the inclined wall 43 in order to mitigate the collision at the time of changing the direction of the airflow flowing through the flow path 35. And the front-end | tip part 37a of the internal partition wall 37 which opposes the inclined wall 43 so that the space | interval between the inclined walls 43 may be narrowed slightly gradually so that the airflow which flows out from the front-end | tip of the flow path 35 may not become a diffused flow. The slope is set.

内部仕切壁37の先端部37aにこのような傾斜を持たせると、図2に示すように先端部37aを垂直壁にした場合と比較すると、誘導した気流が乱流になりにくく、好ましい。   It is preferable to provide the tip portion 37a of the internal partition wall 37 with such an inclination, as compared with the case where the tip portion 37a is a vertical wall as shown in FIG.

排気口27の開口幅は、図1(d)に示すように、チャンバ内空間の全幅から徐々に縮幅されて、最終的に、気体環境値調整機31に接続される所定幅になる。   As shown in FIG. 1D, the opening width of the exhaust port 27 is gradually reduced from the entire width of the chamber internal space, and finally becomes a predetermined width connected to the gas environment value adjuster 31.

また、本実施の形態の場合、内部仕切壁37による流路先端の吹き出し口41の前方に、排気口27に向かって平板状に吹き出される層流気流の速度を調整する流量調整用ファン45を備えている。   Further, in the case of the present embodiment, a flow rate adjusting fan 45 that adjusts the speed of the laminar airflow blown in a flat plate shape toward the exhaust port 27 in front of the blowout port 41 at the front end of the flow path by the internal partition wall 37. It has.

この流量調整用ファン45には、チャンバ25内の吹き出し口41から吹き出される平板状の層流気流の幅を、処理機21に設置された被処理部材33の処理面の幅に略等しく調整し、且つ、底壁25bに平行な平板状気流として吹き出し方向を制御する吹き出し制御ノズル47を装備している。   In the flow rate adjusting fan 45, the width of the flat laminar airflow blown from the blowout port 41 in the chamber 25 is adjusted to be approximately equal to the width of the processing surface of the member 33 to be processed installed in the processing machine 21. In addition, a blowing control nozzle 47 for controlling the blowing direction as a flat airflow parallel to the bottom wall 25b is provided.

吹き出し制御ノズル47及び排気口27の高さ位置は、被処理部材33の設置高さに略等しくなるように、設定されている。   The height positions of the blowout control nozzle 47 and the exhaust port 27 are set so as to be approximately equal to the installation height of the processing target member 33.

このように吹き出し制御ノズル47及び排気口27の双方の高さを被処理部材33の設置高さに揃えると、何れか一方或いは双方を被処理部材33の高さからずらして装備した場合と比較して、被処理部材33の周囲に被処理部材33の表面に沿う安定した平板状の層流気流を維持し易くなる。   When the heights of both the blowout control nozzle 47 and the exhaust port 27 are aligned with the installation height of the member to be processed 33 in this way, either one or both of them are shifted from the height of the member to be processed 33 and compared. Thus, a stable flat laminar air flow along the surface of the member to be processed 33 can be easily maintained around the member to be processed 33.

また、流量調整用ファン45には、回転速度の調整によって流量の増減が可能な速度可変型のファンが採用されている。   The flow rate adjusting fan 45 employs a variable speed fan that can increase or decrease the flow rate by adjusting the rotational speed.

本実施の形態の場合、内部仕切壁37と、チャンバ25の外壁(天井壁25a、底壁25b、前後側壁25c,25d、左右側壁25e,25fなど)は、いずれも、図3に示すように、グラスウール等の断熱材51の両側を耐食性のあるステンレス板52で挟んだ断熱材入り構造としている。   In the case of the present embodiment, the inner partition wall 37 and the outer wall of the chamber 25 (the ceiling wall 25a, the bottom wall 25b, the front and rear side walls 25c and 25d, the left and right side walls 25e and 25f, etc.) are all as shown in FIG. In addition, a heat insulating material-containing structure in which both sides of a heat insulating material 51 such as glass wool are sandwiched between corrosion-resistant stainless steel plates 52 is employed.

また、給気口29に環境値を調整した気体を送る気体環境値調整機31の吐出口付近P1、内部仕切壁37で画成された流路35内の適宜位置P2、処理機21に設置された被処理部材33の被処理面の手前位置P3に、それぞれ、環境値を検出するセンサ群48が装備されている。   In addition, the vicinity of the discharge port P1 of the gas environmental value adjuster 31 that sends the gas whose environmental value has been adjusted to the air supply port 29, the appropriate position P2 in the flow path 35 defined by the internal partition wall 37, and the processor 21 are installed. A sensor group 48 for detecting an environmental value is provided at the front position P3 of the surface to be processed of the processed member 33.

各センサ群48は、温度センサ、湿度センサ、風速センサ等の複数種のセンサを搭載したものである。各センサは、気流の流れを阻害しない小型のプローブ状のものが望ましく、また、温度センサは検出誤差が±0.5℃程度、湿度センサは検出誤差が±2%程度、風速センサは検出誤差が±0.05m/s程度以上の検出精度を持ったものを採用することが望ましい。   Each sensor group 48 includes a plurality of types of sensors such as a temperature sensor, a humidity sensor, and a wind speed sensor. Each sensor is preferably a small probe that does not obstruct the flow of airflow, the temperature sensor has a detection error of about ± 0.5 ° C, the humidity sensor has a detection error of about ± 2%, and the wind speed sensor has a detection error. It is desirable to adopt a sensor having a detection accuracy of about ± 0.05 m / s or more.

本実施の形態の環境制御装置111の場合、被処理部材33の被処理面上の気流の環境値が一定に維持されるように、図示略の制御装置が、各センサの検出信号に基づいて、気体環境値調整機31及び流量調整用ファン45の動作を制御する。   In the case of the environment control device 111 according to the present embodiment, the control device (not shown) is based on the detection signal of each sensor so that the environmental value of the airflow on the processing surface of the processing member 33 is kept constant. The operation of the gas environment value adjuster 31 and the flow rate adjusting fan 45 is controlled.

気体環境値調整機31は、加湿器と加熱器、冷却及び除湿を兼ね備えた冷却器、更なる除湿のための乾式除湿器、送風量を調整する送風機等を内蔵し、内蔵した各機器を組合せて運転することで、吸込口31aから吸入した気体を、所望の温度・湿度の気体に調整して、吐出口31bから所定速度で送り出す。   The gas environment value adjuster 31 includes a humidifier and a heater, a cooler that combines cooling and dehumidification, a dry dehumidifier for further dehumidification, a blower that adjusts the air flow, and the like. By operating, the gas sucked from the suction port 31a is adjusted to a gas having a desired temperature and humidity, and is sent out from the discharge port 31b at a predetermined speed.

なお、気体環境値調整機31には、吸込気体に含まれる微細な異物(粉塵等)を除去するフィルタ手段を内蔵するようにしても良い。   Note that the gas environment value adjuster 31 may include a filter unit that removes fine foreign matters (dust or the like) contained in the suction gas.

以上の気体環境値調整機31は、設定温度は−30℃〜+50℃の範囲で±2℃、湿度は20〜95%RHの範囲で±5%RHの精度で調整可能である。   The above gas environment value adjuster 31 can be adjusted with an accuracy of ± 2 ° C. within a range of −30 ° C. to + 50 ° C. and a humidity of ± 5% RH within a range of 20 to 95% RH.

チャンバ25の排気口27と気体環境値調整機31の吸込口31aとの間を接続するダクト55、給気口29と吐出口31bとの間を接続するダクト56は、圧力損失や、外気の影響による温度・湿度変化を抑えることから、できるだけ短尺に設定される。   A duct 55 connecting the exhaust port 27 of the chamber 25 and the suction port 31a of the gas environmental value adjuster 31 and a duct 56 connecting the air supply port 29 and the discharge port 31b are used for pressure loss and outside air. The length is set as short as possible to suppress changes in temperature and humidity due to the influence.

以上に説明した第1の実施の形態の環境制御装置111では、チャンバ25内全域の気体を動かすのではなく、処理精度等への影響度が高い被処理部材33の周辺の雰囲気を、被処理部材33の周囲を流れる層流気流によって重点的に循環させることになるため、気体環境値調整機31が循環させる気体の流量は少なく抑えることができ、気体環境値調整機31として吐出流量を抑えた小型のものを採用することが可能になり、気体環境値調整機31の小型化によって装置コストを抑えることが可能になる。   In the environment control device 111 according to the first embodiment described above, the atmosphere around the member to be processed 33 that does not move the gas in the entire chamber 25 but has a high influence on the processing accuracy is processed. Since the circulation is preferentially performed by the laminar airflow flowing around the member 33, the gas flow rate circulated by the gas environment value adjuster 31 can be reduced, and the discharge flow rate can be reduced as the gas environment value adjuster 31. Therefore, it is possible to reduce the cost of the apparatus by reducing the size of the gas environment value adjuster 31.

また、気体環境値調整機31にダクト55,56を介して接続されるチャンバ25側の排気口27及び給気口29は、チャンバ25上の一側壁に集約させているため、接続に使用するダクト55,56は短尺に抑えることができ、長尺のダクト55,56の露出による装置外観の低下を防止することができる。   Further, the exhaust port 27 and the air supply port 29 on the side of the chamber 25 connected to the gas environment value adjuster 31 via the ducts 55 and 56 are concentrated on one side wall on the chamber 25 and are used for connection. The ducts 55 and 56 can be kept short, and the appearance of the apparatus can be prevented from being deteriorated due to the exposure of the long ducts 55 and 56.

また、チャンバ25の給気口29に供給される気体は、チャンバ25内に装備した内部仕切壁37によって画成される流路35によって、排気口27に対向する対向壁側に導くもので、チャンバ25内の吹き出し口41から排気口27への経路を単純な直線経路にすることができるため、吹き出し口41で層流状態を維持すれば、安定した層流気流を形成し易い。   Further, the gas supplied to the air supply port 29 of the chamber 25 is guided to the opposing wall side facing the exhaust port 27 by the flow path 35 defined by the internal partition wall 37 equipped in the chamber 25. Since the path from the outlet 41 to the exhaust outlet 27 in the chamber 25 can be a simple straight path, if a laminar flow state is maintained at the outlet 41, a stable laminar airflow is easily formed.

更に、チャンバ25内に内部仕切壁37で形成する流路35は、市販の配管材等を使用したダクトとは異なり、チャンバ内空間の全幅まで拡幅可能な偏平な流路35を簡単に形成することができて、平板状の被処理部材33の幅寸法に応じた十分な幅寸法を有した良好な平板状の層流気流を形成することができる。   Furthermore, the flow path 35 formed by the internal partition wall 37 in the chamber 25 is different from a duct using commercially available piping materials or the like, and a flat flow path 35 that can be widened to the full width of the internal space of the chamber is easily formed. Therefore, a good flat laminar air flow having a sufficient width according to the width of the flat member 33 can be formed.

従って、平板状の被処理部材33の周囲には、該被処理部材33の幅寸法を包含する十分な幅の平板状の層流気流を平板状の被処理部材33に沿って安定形成することができて、処理機21の局所的な放熱が処理精度に影響を与えることを防止して、安定した処理を継続させることができる。   Accordingly, a flat laminar airflow having a sufficient width including the width dimension of the processing target member 33 is stably formed along the flat processing target member 33 around the flat processing target member 33. Therefore, it is possible to prevent the local heat dissipation of the processing machine 21 from affecting the processing accuracy and to continue the stable processing.

そして、本実施の形態の場合、気体環境値調整機31からダクト56を介してチャンバ25の給気口29に供給される気流は、テーパ拡幅部35aによって徐々に流路幅を広げていくため、気流の急激な拡散に起因した層の剥離や渦の発生が抑えられ、安定した層流状態のままチャンバ内空間の全幅まで拡幅した平板状の層流気流を、吹き出し口41から放射できる。   In the case of the present embodiment, the airflow supplied from the gas environment value adjuster 31 to the air supply port 29 of the chamber 25 through the duct 56 gradually widens the flow path width by the taper widening portion 35a. Further, the separation of layers and the generation of vortices due to the rapid diffusion of the airflow are suppressed, and a flat laminar airflow that is widened to the full width of the chamber internal space while being in a stable laminar flow state can be radiated from the outlet 41.

なお、図4に示すように、ダクト56の水平方向の開口幅をr、チャンバ25内の閉空間23の水平方向の全幅をd、テーパ拡幅部35aの長さをL1、テーパ拡幅部35aの終端から被処理部材33の処理部位までの距離をL2、テーパ拡幅部35aを通過前の気体の速度,圧力,温度をv0,p0,T0、テーパ拡幅部35aを通過後の気体の速度,圧力,温度をv,p,Tとすると、(d/r)の値毎に、L1とvは図5に示すような相関を示すことが判明した。   4, the horizontal opening width of the duct 56 is r, the horizontal width of the closed space 23 in the chamber 25 is d, the length of the taper widening portion 35a is L1, and the taper widening portion 35a is The distance from the end to the processing part of the member 33 to be processed is L2, the velocity, pressure and temperature of the gas before passing through the taper widening portion 35a are v0, p0 and T0, and the velocity and pressure of the gas after passing through the taper widening portion 35a. When the temperatures are v, p, and T, it is found that for each value of (d / r), L1 and v have a correlation as shown in FIG.

また、Rを気体定数、γを比熱比(Cp/Cv)とすると、pに関しては、次の(1)式が成立する。   Further, when R is a gas constant and γ is a specific heat ratio (Cp / Cv), the following equation (1) is established for p.

v={2γR/(γ−1)}×{1−(p/p0)γ/(γ−1)}T0 ……(1)
これらの図4及び図5が示すように、被処理部材33の周辺部に供給する平板状の層流気流の圧力と速度、ひいては温度及び湿度は、r,d,L1の長さを適宜に設定することで、多様に変化させることができる。但し、本願発明者の実験によれば、p0=50〜200Pa、v0=0.5〜2m/sの場合、d<3rの範囲では乱流が発生し易くなり、d>5r以上では温度差や湿度差が大きくなる傾向が見られた。この結果、安定した平板状の層流気流を維持するためには、r:d:L1=1:4:2〜4程度に設定することが望ましい。また、被処理部材33周囲の温度変化や湿度変化を小さくするためには、L2ができるだけ短くなるように処理機21の装備位置を設定することが望ましい。
v = {2γR / (γ−1)} × {1- (p / p0) γ / (γ−1) } T0 (1)
As shown in FIG. 4 and FIG. 5, the pressure and velocity of the laminar airflow in the flat plate supplied to the peripheral portion of the member to be processed 33, and the temperature and humidity are appropriately adjusted to the lengths r, d, and L1. By setting, it can be changed in various ways. However, according to the experiment by the present inventor, when p0 = 50 to 200 Pa and v0 = 0.5 to 2 m / s, turbulent flow is likely to occur in the range of d <3r, and the temperature difference is greater than d> 5r. There was a tendency for the humidity difference to increase. As a result, in order to maintain a stable flat laminar airflow, it is desirable to set r: d: L1 = 1: 4: 2-4. Further, in order to reduce the temperature change and humidity change around the member to be processed 33, it is desirable to set the equipment position of the processing machine 21 so that L2 is as short as possible.

なお、テーパ拡幅部35aの具体的な形状は、図示例に示した直線的傾斜面による拡幅形状に限らない。例えば、若干の湾曲を持たせたラッパ状やパラボナ状にすることも可能である。   In addition, the specific shape of the taper widening part 35a is not restricted to the widening shape by the linear inclined surface shown in the example of illustration. For example, it may be a trumpet shape or a parabona shape with a slight curvature.

また、本実施の形態では、排気口27に吸引される気流は、閉空間23の全幅から徐々に流路幅を狭める縮流となるため、気流と流路壁との摩擦による圧損を抑えて、気体環境値調整機31側の負荷を軽減することができ、また、圧損を抑えることによって、吸込気流の層流状態が破壊されることを抑えることもできる。   Further, in the present embodiment, the air flow sucked into the exhaust port 27 becomes a contracted flow that gradually narrows the flow path width from the entire width of the closed space 23, and therefore pressure loss due to friction between the air flow and the flow path wall is suppressed. The load on the gas environment value adjuster 31 side can be reduced, and the laminar flow state of the suction airflow can be prevented from being destroyed by suppressing the pressure loss.

従って、小型の気体環境値調整機31で、平板状の層流気流の安定供給を実現することができる。   Therefore, a stable supply of a flat laminar airflow can be realized with the small gas environment value adjuster 31.

なお、この排気口27の下流側のテーパ構造も、テーパ拡幅部35aの場合と同様に、直線的傾斜面による縮幅形状に限らない。例えば、若干の湾曲を持たせたラッパ状やパラボナ状にすることも可能である。   In addition, the taper structure on the downstream side of the exhaust port 27 is not limited to the reduced width shape by the linear inclined surface as in the case of the taper widened portion 35a. For example, it may be a trumpet shape or a parabona shape with a slight curvature.

また、本実施の形態では、内部仕切壁37による流路先端の吹き出し口41の前方に、排気口27に向かって平板状に吹き出される層流気流の速度を調整する流量調整用ファン45を備えているため、チャンバ25内の内部仕切壁37による流路35内での圧力損失や、流路35の拡幅等で気流の速度が低減する場合に、流量調整用ファン45によって低減した速度を補償して、最適な気流速度、流量を確保することができ、平板状の被処理部材33の周辺部の雰囲気の循環を安定させることができる。   Further, in the present embodiment, the flow rate adjusting fan 45 that adjusts the speed of the laminar airflow blown in a flat plate shape toward the exhaust port 27 is provided in front of the blowout port 41 at the front end of the flow path by the internal partition wall 37. Therefore, when the air flow speed is reduced due to pressure loss in the flow path 35 due to the internal partition wall 37 in the chamber 25 or widening of the flow path 35, the speed reduced by the flow rate adjusting fan 45 is reduced. Compensating can ensure the optimal air velocity and flow rate, and can stabilize the circulation of the atmosphere around the flat plate-shaped member 33.

そして、本実施の形態の場合、流量調整用ファン45には、チャンバ25内の吹き出し口41から吹き出される平板状の層流気流の幅を、処理機21に設置された被処理部材33の処理面の幅に略等しく調整する吹き出し制御ノズル47を装備している。   In the case of the present embodiment, the flow rate adjusting fan 45 has the width of the flat laminar airflow blown from the blowout port 41 in the chamber 25 of the processed member 33 installed in the processor 21. A blowout control nozzle 47 that adjusts to be substantially equal to the width of the processing surface is provided.

従って、流量調整用ファン45から吹き出される気流が過剰な幅を持つことがなく、平板状の被処理部材33の周囲の環境値を維持するためのチャンバ25内の雰囲気の循環流量を、吹き出し制御ノズル47によって、平板状の被処理部材33の幅寸法に応じた必要最小限の範囲に規制することができ、これによって、気体環境値調整機31の小型化を促進することができ、また、消費エネルギーの節約にもなる。   Therefore, the air flow blown out from the flow rate adjusting fan 45 does not have an excessive width, and the circulation flow rate of the atmosphere in the chamber 25 for maintaining the environmental value around the plate-shaped member 33 is blown out. By the control nozzle 47, it is possible to regulate the necessary minimum range according to the width dimension of the flat plate-shaped member 33, thereby promoting the miniaturization of the gas environment value adjuster 31. It also saves energy.

本願発明者が、流量調整用ファン45からの吹き出し幅を、被処理部材33の処理面の幅の1/2、等倍、2倍に変更して、各吹き出し幅について、環境値の変化を測定した。   The inventor of the present application changes the blowing width from the flow rate adjusting fan 45 to 1/2, equal to, or twice the width of the processing surface of the member to be processed 33, and changes the environmental value for each blowing width. It was measured.

その実験は、処理機21である摩擦摩耗試験機の回転数は3000rpmでその際の発熱量が1kW、流量調整用ファン45の回転数は一定として、設定環境値を3通りの条件に設定して、各吹き出し幅毎に、環境値の変化を測定した。   In the experiment, the rotational speed of the frictional wear tester as the processing machine 21 is 3000 rpm, the heat generation amount at that time is 1 kW, the rotational speed of the flow rate adjusting fan 45 is constant, and the set environment value is set to three conditions. The change in the environmental value was measured for each blowing width.

設定環境値は温度と湿度で、第1の環境設定条件は温度が10℃で湿度が30%RH、第2の環境設定条件は温度が20℃で湿度が58%RH、第3の環境設定条件は温度が30℃で湿度が80%RHとした。   The setting environment value is temperature and humidity, the first environment setting condition is temperature 10 ° C and humidity 30% RH, the second environment setting condition is temperature 20 ° C and humidity 58% RH, the third environment setting The conditions were a temperature of 30 ° C. and a humidity of 80% RH.

図6(a)は第1の環境設定条件の時の各吹き出し幅毎の環境値の変化を示し、図6(b)は第2の環境設定条件の時の各吹き出し幅毎の環境値の変化を示し、図6(c)は第3の環境設定条件の時の各吹き出し幅毎の環境値の変化を示している。   FIG. 6A shows the change in the environmental value for each balloon width when the first environment setting condition is satisfied. FIG. 6B shows the environmental value for each balloon width when the second environment setting condition is satisfied. FIG. 6C shows a change in the environmental value for each balloon width under the third environment setting condition.

いずれの環境設定条件に対しても、流量調整用ファン45からの吹き出し幅を被処理部材33の処理面の幅に略等しくした時が、温度及び湿度の環境値の変化が一番小さくなり、上記実施の形態のような吹き出し幅の設定が正しいことが確認できた。   For any environmental setting condition, when the blowing width from the flow rate adjusting fan 45 is made substantially equal to the width of the processing surface of the member to be processed 33, changes in the environmental values of temperature and humidity are the smallest, It was confirmed that the setting of the balloon width as in the above embodiment was correct.

また、本実施の形態の場合、流量調整用ファン45は、回転速度の調整によって流量の増減が可能な速度可変型のものを採用していて、例えばチャンバ25内に収容する処理機21の変更や、被処理部材33の変更、或いは処理条件の変更等が生じて、それに伴って、循環させる層流気流の流量の調整が必要になる場合、例えば、気体環境値調整機31の作動条件の変更と、流量調整用ファン45の速度調整によって、より柔軟な対応が可能になり、装置の汎用性が高まって、より多様な処理や試験に対応可能になる。   In the case of the present embodiment, the flow rate adjusting fan 45 employs a variable speed type that can increase or decrease the flow rate by adjusting the rotational speed. For example, the processing device 21 accommodated in the chamber 25 is changed. If the member to be processed 33 is changed or the processing conditions are changed, and the flow rate of the laminar airflow to be circulated needs to be adjusted accordingly, for example, the operating condition of the gas environmental value adjuster 31 By changing the speed and adjusting the speed of the flow rate adjusting fan 45, a more flexible response is possible, the versatility of the apparatus is increased, and more various processes and tests can be handled.

また、本実施の形態の場合、チャンバ25の外壁や内部仕切壁37には、断熱材51を使用していて、内部仕切壁37による流路35を気体が通過する際に、温度等の環境値の変動を抑えることができ、被処理部材33に供給する循環気流の環境値を適正範囲に維持することが容易になり、処理機21による処理精度の向上に繋がる。   Further, in the case of the present embodiment, the heat insulating material 51 is used for the outer wall and the inner partition wall 37 of the chamber 25, and the environment such as temperature when the gas passes through the flow path 35 by the inner partition wall 37. The fluctuation of the value can be suppressed, and it becomes easy to maintain the environmental value of the circulating airflow supplied to the member to be processed 33 in an appropriate range, which leads to an improvement in processing accuracy by the processor 21.

なお、外気温とチャンバ25内の設定温度の差が大きいと、その境界となるチャンバ25の外壁の内面等で結露が発生し易くなり、特に、冬季にチャンバ25内を高温多湿条件に設定すると、そのようは傾向が顕著になるが、本実施の形態の場合は、本実施の形態では、チャンバ25の外壁にも断熱材51を採用したことによって、チャンバ25内への外気の影響を回避することができ、結露の発生を十分に抑止することができる。   Note that if the difference between the outside air temperature and the set temperature in the chamber 25 is large, condensation tends to occur on the inner surface of the outer wall of the chamber 25, which is the boundary, and particularly when the inside of the chamber 25 is set to a high temperature and high humidity condition in winter. In this embodiment, the heat insulating material 51 is also used for the outer wall of the chamber 25 to avoid the influence of the outside air in the chamber 25 in this embodiment. It is possible to sufficiently suppress the occurrence of condensation.

本願発明者は、断熱材の効力を確認するため、内部仕切壁として、アルミ板に断熱材として厚さ10mmの硬質発泡ウレタン(熱伝導率λ=0.04)を貼り付けたもの、厚さ5mmの硬質発泡ウレタン(熱伝導率λ=0.04)を貼り付けたもの、天然木材(λ=0.12)を貼り付けたもの、断熱材無しのものを試作し、上記実施の形態の内部仕切壁37として使用して、環境値変化への影響を測定した。   In order to confirm the effectiveness of the heat-insulating material, the inventor of the present application applied a hard foamed urethane (heat conductivity λ = 0.04) as a heat-insulating material to an aluminum plate as an internal partition wall, the thickness 5 mm rigid urethane foam (having a thermal conductivity λ = 0.04), natural wood (λ = 0.12), and no heat insulating material were prototyped. Using it as the internal partition wall 37, the influence on the environmental value change was measured.

その実験では、断熱材として厚さ10mmの硬質発泡ウレタンを装備したものが一番温度変化が小さく、本実施の形態における断熱材51としては、少なくともこの程度の断熱性能を確保することが望ましい。   In the experiment, the one provided with a hard foamed urethane having a thickness of 10 mm as the heat insulating material has the smallest temperature change, and as the heat insulating material 51 in the present embodiment, it is desirable to ensure at least this degree of heat insulating performance.

また、本実施の形態では、気体環境値調整機31の吐出口付近、内部仕切壁37で画成された流路35内、処理機21に設置された被処理部材33の被処理面の手前等にセンサ群48を装備していて、処理機21の発熱等で、チャンバ25内の環境値が変動した場合に、その環境値の変動が各センサ群48に内蔵されたセンサにより検出されて、速やかに気体環境値調整機31や流量調整用ファン45の動作制御にフィードバックされるため、良好な層流気流による被処理部材33周辺の環境値の維持を自動化することができる。   Further, in the present embodiment, in the vicinity of the discharge port of the gas environmental value adjusting device 31, in the flow path 35 defined by the internal partition wall 37, and in front of the processing surface of the processing member 33 installed in the processing device 21. If the environmental value in the chamber 25 fluctuates due to heat generated by the processing machine 21 or the like, the fluctuation of the environmental value is detected by a sensor built in each sensor group 48. Since it is immediately fed back to the operation control of the gas environment value adjuster 31 and the flow rate adjusting fan 45, it is possible to automate the maintenance of the environment value around the member 33 to be processed by a good laminar airflow.

図8は、本発明に係る環境制御装置の第2の実施の形態の正面図を示したものである。   FIG. 8 is a front view of the second embodiment of the environmental control apparatus according to the present invention.

この第2の実施の形態の環境制御装置112は、第1の実施の形態に示したチャンバ25の底壁25bの下に、処理機21の機体の一部21bを隔離収容する隣接チャンバ61を追加装備し、更に、隣接チャンバ61には収容した機体21bの温度を調整する温度調整手段63を装備したことを特徴とするものである。   The environmental control device 112 according to the second embodiment includes an adjacent chamber 61 that separately accommodates and accommodates a part 21b of the body of the processing machine 21 below the bottom wall 25b of the chamber 25 illustrated in the first embodiment. In addition, the adjacent chamber 61 is further provided with a temperature adjusting means 63 for adjusting the temperature of the accommodated body 21b.

隣接チャンバ61及び温度調整手段63の追加以外は、第1の実施の形態で示した環境制御装置111と共通の構成であり、共通の構成については同番号を付して説明を省略する。   Except for the addition of the adjacent chamber 61 and the temperature adjustment means 63, the configuration is the same as that of the environment control device 111 shown in the first embodiment, and the same reference numerals are assigned to the common configurations and the description thereof is omitted.

この第2の実施の形態の環境制御装置112においては、例えば、処理機21の動力源である発熱部位等は、隣接チャンバ61側に隔離した状態にし、隣接チャンバ61側の温度調整手段63でその発熱部の状態を制御することで、被処理部材33周辺への影響を抑えることができ、具体的には、極端な温度変化に起因した結露の発生等を抑止して、結露による処理機の傷みや故障を防止して、高精度の処理を安定維持することが可能になる。   In the environmental control device 112 according to the second embodiment, for example, the heat generation part that is the power source of the processing machine 21 is isolated on the adjacent chamber 61 side, and the temperature adjusting unit 63 on the adjacent chamber 61 side is used. By controlling the state of the heat generating portion, it is possible to suppress the influence on the periphery of the member 33 to be processed. Specifically, the processing machine by condensation is suppressed by suppressing the occurrence of condensation due to an extreme temperature change. It is possible to prevent damage and failure of the apparatus and to stably maintain high-precision processing.

温度調整手段63は、環境制御装置112の使用環境(使用条件)に応じて、加熱ヒータ又はクーラの何れかの機能を持たせる。   The temperature adjustment means 63 has a function of either a heater or a cooler according to the use environment (use conditions) of the environment control device 112.

例えば、冬季に装置が使用される場合、外気によって処理機21が冷えている状態から、稼働時の発熱によって急激に機体の周囲温度が上昇すると、結露が発生し、結露が機体を汚損する原因となる。そのような場合に、温度調整手段63は保温ヒータとして機能させて、機体温度を一定以上に保温しておくことで、機体の急激な温度変化を防止して、結露の発生を防止することができる。   For example, when the apparatus is used in the winter, if the ambient temperature of the aircraft suddenly rises due to heat generated during operation from the state in which the processing machine 21 is cooled by the outside air, dew condensation occurs and the condensation causes the machine to become dirty. It becomes. In such a case, the temperature adjusting means 63 functions as a heat-retaining heater so that the temperature of the airframe is kept above a certain level, thereby preventing a rapid temperature change of the airframe and preventing the occurrence of condensation. it can.

逆に、夏季の高温環境で使用する場合に、機体21bが過昇温になる可能性がある場合は、冷却して、機体21bの温度を一定以下に抑えることで、処理機21の動作を安定化することも可能である。   On the other hand, if the airframe 21b is likely to be overheated when used in a high temperature environment in summer, the temperature of the airframe 21b is kept below a certain level by cooling the airframe 21b. It is also possible to stabilize.

なお、上記の各実施の形態は、処理機21として、摩擦摩耗試験機を収容する場合を説明した。しかし、本発明に係る環境制御装置は、摩擦摩耗試験機以外にも、平板状の試料の表面に対して、試験や加工等を実施する各種の物性試験機、又は処理機を、チャンバ25への収容対象とすることができる。   In each of the above-described embodiments, the case where a friction and wear tester is accommodated as the processor 21 has been described. However, the environmental control apparatus according to the present invention is not limited to the friction and wear tester, and various physical property testers or processing machines for performing tests and processing on the surface of the flat sample are supplied to the chamber 25. Can be a target of accommodation.

本発明に係る環境制御装置の第1の実施の形態の説明図で、(a)は正面からの概略断面図、(b)は(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB矢視図、(d)は(a)のC−C断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of 1st Embodiment of the environmental control apparatus which concerns on this invention, (a) is a schematic sectional drawing from the front, (b) is AA sectional drawing of (a), (c) is (a) (B) is a cross-sectional view taken along the line CC in (a). 第1の実施の形態に対比する内部仕切壁の先端部の構造の説明図である。It is explanatory drawing of the structure of the front-end | tip part of an internal partition wall compared with 1st Embodiment. 図1の内部仕切壁等に使用される断熱構造を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the heat insulation structure used for the internal partition wall etc. of FIG. 図1に示したテーパ拡幅部における寸法設定例の説明図である。It is explanatory drawing of the example of a dimension setting in the taper widening part shown in FIG. 図1に示したテーパ拡幅部の各部の寸法比に応じた気流の速度及び圧力の測定図である。It is the measurement figure of the speed and pressure of the airflow according to the dimensional ratio of each part of the taper widening part shown in FIG. 図1に示した流量調整用ファンの吹き出し口幅を変化させた時の、環境値変化の測定図である。It is a measurement figure of an environmental value change when changing the blower outlet width of the fan for flow control shown in FIG. 断熱材の種類による環境値の変動差の測定図である。It is a measurement figure of the fluctuation | variation difference of the environmental value by the kind of heat insulating material. 本発明に係る環境制御装置の第2の実施の形態の概略正面図である。It is a schematic front view of 2nd Embodiment of the environmental control apparatus which concerns on this invention. 従来の環境制御装置の改良例を示したもので、(a)は装置正面図、(b)はチャンバへのダクトの接続形態を示した斜視図である。The improvement example of the conventional environmental control apparatus was shown, (a) is an apparatus front view, (b) is the perspective view which showed the connection form of the duct to a chamber. 従来の環境制御装置の別の改良例を示したもので、(a)は装置正面図、(b)はチャンバへのダクトの接続形態を示した斜視図である。It shows another improvement example of the conventional environmental control device, (a) is a front view of the device, (b) is a perspective view showing a connection form of the duct to the chamber.

符号の説明Explanation of symbols

21 処理機
23 閉空間
25 チャンバ
25a 天井壁
25b 底壁
25c,25d 側壁
25e,25f 側壁
27 排気口
29 給気口
31 気体環境値調整機
33 被処理部材
35 流路
35a テーパ拡幅部
37 内部仕切壁
41 吹き出し口
43 傾斜壁
45 流量調整用ファン
47 吹き出し制御ノズル
51 断熱材
55,56 ダクト
61 隣接チャンバ
63 温度調整手段
111 環境制御装置
112 環境制御装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 Processing machine 23 Closed space 25 Chamber 25a Ceiling wall 25b Bottom wall 25c, 25d Side wall 25e, 25f Side wall 27 Exhaust port 29 Air supply port 31 Gas environmental value adjustment machine 33 Processed member 35 Flow path 35a Taper widening part 37 Internal partition wall DESCRIPTION OF SYMBOLS 41 Outlet port 43 Inclined wall 45 Flow rate adjusting fan 47 Outlet control nozzle 51 Heat insulating material 55,56 Duct 61 Adjacent chamber 63 Temperature control means 111 Environmental control device 112 Environmental control device

Claims (9)

処理機を収容するチャンバと、前記チャンバ内の雰囲気を前記チャンバの排気口から吸い出して所定の環境値に調整した後に前記チャンバの給気口からチャンバ内に戻す気体環境値調整機とを備え、前記チャンバ内の前記処理機によって処理される被処理部材の被処理面周囲の雰囲気を、所定の環境値に制御する環境制御装置であって、
前記チャンバは、処理機の上下、前後、左右の6方位に対応した天井壁、底壁、前後側壁、左右側壁によって処理機を収容する閉空間を画成し、
前記チャンバを構成している一側壁の上縁寄り位置に前記給気口を装備すると共に、同一側壁の前記給気口から所定距離下がった位置に前記排気口を装備し、
且つ、前記チャンバの天井壁に相対向する内側には、前記給気口から導入された気体を前記天井壁に沿って前記排気口の対向位置まで導く流路を内部仕切壁によって形成し、
前記内部仕切壁によって形成した流路の吹き出し口と前記排気口とは、前記チャンバの底壁と略平行な方向に設定したことを特徴とする環境制御装置。
A chamber that accommodates a processing machine, and a gas environmental value adjuster that draws out the atmosphere in the chamber from the exhaust port of the chamber and adjusts it to a predetermined environmental value, and then returns the atmosphere from the air supply port of the chamber to the chamber. An environment control device that controls an atmosphere around a surface to be processed of a member to be processed by the processing machine in the chamber to a predetermined environmental value,
The chamber defines a closed space for accommodating the processing machine by a ceiling wall, a bottom wall, front and rear side walls, and left and right side walls corresponding to six directions of upper, lower, front, rear, and left and right of the processing machine,
Equipped with the air supply port at a position near the upper edge of the one side wall constituting the chamber, and equipped with the exhaust port at a position a predetermined distance below the air supply port on the same side wall,
And on the inner side facing the ceiling wall of the chamber, a flow path for guiding the gas introduced from the air supply port to the position facing the exhaust port along the ceiling wall is formed by an internal partition wall,
The environment control apparatus according to claim 1, wherein the outlet and the exhaust port of the flow path formed by the internal partition wall are set in a direction substantially parallel to the bottom wall of the chamber.
前記給気口から導入された気体を前記天井壁に沿って導く流路は、前記給気口から徐々に流路幅を広げたテーパ拡幅部を備え、最終的に流路幅が前記チャンバ内空間の全幅まで拡幅されていることを特徴とする請求項1に記載の環境制御装置。 The flow path that guides the gas introduced from the air supply port along the ceiling wall includes a taper widening portion that gradually widens the flow path width from the air supply port, and finally the flow path width is within the chamber. The environment control apparatus according to claim 1, wherein the environment control apparatus is widened to the full width of the space. 前記排気口の開口幅は、前記チャンバ内空間の全幅から徐々に縮幅されて、最終的に、前記気体環境値調整機に接続される所定幅になることを特徴とする請求項1又は2に記載の環境制御装置。 The opening width of the exhaust port is gradually reduced from the entire width of the space in the chamber, and finally becomes a predetermined width connected to the gas environment value adjuster. The environmental control device described in 1. 前記内部仕切壁による流路先端の吹き出し口の前方に、前記排気口に向かって気体を吹き出す流量調整用ファンを備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の環境制御装置。 The environment according to any one of claims 1 to 3, further comprising a flow rate adjusting fan that blows gas toward the exhaust port in front of a blowout port at a front end of the flow path by the internal partition wall. Control device. 前記流量調整用ファンには、前記チャンバ内の吹き出し口から吹き出される層流気流の幅を、前記処理機に設置された被処理部材の処理面の幅に略等しく調整する吹き出し制御ノズルを装備したことを特徴とする請求項4に記載の環境制御装置。 The flow rate adjusting fan is equipped with a blowing control nozzle that adjusts the width of the laminar airflow blown from the blowing port in the chamber to be approximately equal to the width of the processing surface of the member to be processed installed in the processing machine. The environment control device according to claim 4, wherein 前記流量調整用ファンとして、回転速度の調整によって流量の増減が可能な速度可変型のものを採用したことを特徴とする請求項4又は5に記載の環境制御装置。 6. The environment control device according to claim 4, wherein the flow rate adjusting fan employs a variable speed type capable of increasing or decreasing a flow rate by adjusting a rotational speed. 前記内部仕切壁に断熱材を使用したことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の環境制御装置。 The environment control apparatus according to claim 1, wherein a heat insulating material is used for the internal partition wall. 前記気体環境値調整機の吐出口付近、前記内部仕切壁で画成された前記チャンバ内の流路内、前記処理機に設置された被処理部材の被処理面の手前に、それぞれ、環境値を検出する温度センサ、湿度センサ、風速センサを装備し、前記各センサの検出信号に基づいて、前記気体環境値調整機及び流量調整用ファンの動作を制御することを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載の環境制御装置。 Environmental values in the vicinity of the discharge port of the gas environmental value adjuster, in the flow path in the chamber defined by the internal partition wall, and in front of the surface to be processed of the target member installed in the processing machine, respectively. 5. A temperature sensor, a humidity sensor, and a wind speed sensor for detecting air flow are provided, and operations of the gas environmental value adjuster and the flow rate adjusting fan are controlled based on detection signals of the sensors. The environmental control device according to any one of 6. 前記チャンバには、前記処理機の機体の一部を隔離収容する隣接チャンバを設け、該隣接チャンバには収容した機体の温度を調整する温度調整手段を装備したことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の環境制御装置。 The said chamber is provided with the adjacent chamber which isolate | separates and accommodates a part of the body of the said processing machine, The temperature adjusting means which adjusts the temperature of the body accommodated in this adjacent chamber was equipped. The environmental control device according to any one of 8.
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