【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスク基板をマスクケースに格納し搬送するマスク移送冶具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造に用いるマスク基板（フォトマスク）において、マスクメーカーがフォトマスクを製造した後、顧客先へフォトマスクを納入するための出荷時では、マスクケースを使用して１枚のフォトマスクを格納し包装した後、さらにエアーキャップ等の緩衝材でマスクケースを包装し、段ボールケース等で梱包して輸送する場合が一般的であった。
【０００３】
又、フォトマスク製造ライン内での工程間の移送においても、マスクケースに格納し、プラスックフイルム等で簡易包装し、密封された状態で搬送されている場合が多かった。
【０００４】
一方では、完成されたフォトマスクをマスクケースに格納する場合、該作業はクリーンルーム内で格納することが一般的である。しかし、クリーンルーム内の環境で格納作業をしても、マスクケースの密封度は高いものでなく、搬送中に外気が進入する可能性が高い。また、プラスックフイルム等で密封包装しても十分ではない問題がある。（特許文献１参照）
【０００５】
又顧客先の要求面では、より高精度化が要求されるフォトマスクでは、搬送途中でのその品質維持が重要であり、外気の進入により不純物の汚染や変質といった品質低下が問題となってくる。（特許文献２参照）
【０００６】
搬送中のフォトマスクにおいて、温度管理などせずに外気の影響の直撃を受ける問題もあった。さらに、マスクケースに振動が伝わると、フォトマスクとマスクケースとの接触及び摩擦等により発塵や傷が発生しフォトマスクの品質の劣化不良となる問題があった。（特許文献３参照）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、フォトマスクを顧客先へ納入時、使用するマスクケースでは、外気の進入を防ぎフォトマスクの汚染を防止できること、及びフォトマスクに異物付着や傷の発生を防止でき、フォトマスクの品質を維持することができるマスク移送冶具を提供することである。
【０００８】
【特許文献１】
特開２０００−１７０８７６号公報
【特許文献２】
特開２０００−２１９６６号公報
【特許文献３】
特開平１１−１５４７００号公報
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る発明は、マスク基板をマスクケースに格納し搬送するマスク移送冶具において、マスクケースの収納室と該収納室に隣接して予備室を持ち、前記収納室と予備室それぞれに開閉のための扉若しくは蓋を有し、該扉若しくは蓋は閉時にＯリング等によって完全に密封される構造であることを特徴とするマスク移送冶具である。
【００１０】
次に、本発明の請求項２に係る発明は、前記収納室の天井及び床には、バネが組み付けられており、マスクケースを収納後、前記バネをマスクケースに上下の双方向から押し付けてバネの弾力性を用いてマスクケースを収納室壁より遊離させ、マスクケースへの振動伝達を防止させることを特徴とする請求項１記載のマスク移送冶具である。
【００１１】
本発明の請求項３に係る発明は、前記収納室の内壁には、断熱材が組み込まれており、前記予備室に保温材を格納することが可能であり、前記保温材を格納しマスクケースを収納後、収納室内の温度を一定に保つことを特徴とする請求項１、又は２記載のマスク移送冶具である。
【００１２】
本発明の請求項４に係る発明は、前記収納室には、マスクケースを収納し室内を密封した後、前記ドレイン用開閉弁より不活性ガスを室内に充填させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載のマスク移送冶具である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明のマスク移送冶具の実施形態を詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明のマスク移送冶具の一実施例を説明する部分平面図である。
【００１５】
図１は、マスク移送冶具の本体（１）の上蓋（３）を除去後の内部平面図である。前記上蓋（３）は、本体（１）と接する面にはＯリング（１０）が組み込まれており密閉可能な状態になる。本体（１）の予備室（２１）の内部には、保温材（８）を装備する空間と、例えば図面上では保温材（８）を装備した状態であり、その奥にガス充填用弁（４）が配置されている。また、図面手前の正面には開閉扉（２）が配置されている。
【００１６】
前記保温材（８）は、該保温材の温度で一定に保つ機能を備えている。さらに、顧客先でのマスク基板の使用環境の温度に近い保温材を装備することにより、顧客側で直ぐに使用することも可能となる効果がある。
【００１７】
図２は、本発明のマスク移送冶具の一実施例を説明する部分正面図である。
【００１８】
図２は、正面側の開閉扉（２）を開いた状態での正面図であり、本体の収納室（３１）にマスクケース（１１）を出し入れ可能な開閉扉（２）がある。なお、本体（１）の上部には、破線により予備室（２１）と、その上に上蓋（３）が配置されている。また、本体（１）が開閉扉（２）の閉時に接する面にはＯリング（９）が組み込まれており密閉可能な状態になる。収納室（３１）の天井及び床面にはバネ機構（６）が取り付けられ、マスクケースを収納時では直接天井及び床面に接することはない。なお、図面上では、マスクケース（１１）を収納した状態を示している。
【００１９】
前記バネ機構（６）は、バネ定数が２０００〜５０００Ｎ／ｃｍ程度バネを複数個取り付け、載置するマスクケースは２〜４ケース程度が適当である。前記バネは同一のバネ定数を持つものを用いるほうが良い。また、バネの取付け位置は、上下に配置したが横揺れ等を想定すると左右の横方向にもバネを配置することも有効である。本実施例において注意することは、載置するマスクケースの数量である。数量が異なると、バネの作用する力が変動して振動防止としての機能を維持することができなくなってしまう。そこで、数量は常に一定数量にしておくことが重要である。移送するマスク基板が少ない場合、空のマスクケースを一緒に載置し、マスクケースの数量を一定にすることで問題は解消される。
【００２０】
図３は、本発明のマスク移送冶具の一実施例を説明する側断面図である。
【００２１】
図３は、図１のｘ−ｙ面の断面図であり、図面右側に開閉扉（２）があり、本体（１）の内側には断熱材（７）が組み込まれている。本体の上部の予備室（２１）には、保温材（８）が収納され、該保温材（８）の効果により収納室（３１）内の室温を一定に保つ機能を備えている。また、図面の左上には、収納室（３１）の内部にガスを充填させるためのガス充填用弁（４）が配置され、前記収納室の内部にガスを供給することができる。更に、図面の右下には前記ガスを収納室（３１）から排出するためにドレイン用弁（５）が取り付けられている。
【００２２】
前記断熱材（７）は保温効果のために用いたものであり、例えば、上蓋（３）及び開閉扉（２）にも断熱材を用いて保温効果を高めることも重要となる。前記ガス充填用弁（４）からガスを充填する場合、前記ドレイン用弁（５）は開放して、充填するガスへの置換を迅速にすることが重要である。一般に、充填するガスは比重の軽いものが多いので、ガス充填用弁（４）は上部に配置し、ドレイン用弁（５）は下部には位置することが好ましい。
【００２３】
【実施例】
以下に具体的な実施例に従って説明する。
【００２４】
＜実施例１＞
本発明のマスク移送冶具の一実施例での取扱の手順に従って説明する。顧客先へ納入するフォトマスクをマスクケース（１１）に収納した。次に、本発明のマスク移送冶具の本体（１）の開閉扉（２）を開けて、前記マスクケース（１１）を収納室（３１）内のバネ機構（６）に載置した。前記バネ機構（６）は、バネ定数が３５００Ｎ／ｃｍ 程度のバネを上下に４個取り付けた。
【００２５】
次に、本体の予備室（２１）に保温材（８）を装備させ、上蓋（３）を取り付け密閉した。前記保温材は、２０℃に７２時間保持できるように選定した。収納室内に、４ケースのマスクケース（１１）を載置した。次に開閉扉（２）を閉めた後、窒素ガスを本体（１）内に充填した。窒素ガスの充填においては、ドレイン用弁（５）を開けておくと、送り込まれた窒素ガスが本体内の空気を押し出すことにより置換がより十分に、より迅速になる。窒素ガスで本体内を充填して、本発明のマスク移送冶具を用いた梱包の手順が終了した。
【００２６】
以上の手順により、本発明のマスク移送冶具に収納した４個のマスクケースは、移送中の環境の温度に大きく影響されたりマスクケース内での結露やフォトマスクの曇り等が発生することがないので、フォトマスクの品質が安定した状態で顧客先にフォトマスクを供給できる。さらに、顧客先でのフォトマスクの使用環境の温度２０℃に維持するように保温材を装備することにより、顧客側で直ぐに使用することも可能となる効果がある。
【００２７】
【発明の効果】
本発明のマスク移送冶具によれば、フォトマスクの基板を顧客先へ納入する場合、又は製作段階のフォトマスクの基板の工場内搬送において、外気によるフォトマスクの基板の汚染や異物付着、傷の発生を防止することができ、フォトマスクの基板の品質を保つことが可能となる。さらには、緩衝材等の包装材料が不要となり経費節減にも効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマスク移送冶具の一実施例を説明する部分平面図である。
【図２】本発明のマスク移送冶具の一実施例を説明する部分正面図である。
【図３】本発明のマスク移送冶具の一実施例を説明するｘ−ｙ面の側断面図である。
【符号の説明】
１…（マスク移送冶具の）本体
２…開閉扉
３…上蓋
４…ガス充填用弁
５…ドレイン用弁
６…バネ機構
７…断熱材
８…保温材
９…Ｏリング
１０…Ｏリング
１１…マスクケース
２１…本体の予備室
３１…本体の収納室[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a mask transfer jig for storing and transporting a mask substrate in a mask case.
[0002]
[Prior art]
In a mask substrate (photomask) used for manufacturing a semiconductor device, a mask maker manufactures a photomask, and then at the time of shipment to deliver the photomask to a customer, a photomask is used using a mask case. In general, after storing and packaging, a mask case is further wrapped with a cushioning material such as an air cap, and then packed and transported with a cardboard case or the like.
[0003]
Further, in the transfer between processes in the photomask production line, the product is often stored in a mask case, simply packaged with a plastic film or the like, and conveyed in a sealed state.
[0004]
On the other hand, when a completed photomask is stored in a mask case, the operation is generally stored in a clean room. However, even if the storing operation is performed in an environment in a clean room, the degree of sealing of the mask case is not high, and there is a high possibility that outside air will enter during transportation. In addition, there is a problem that it is not sufficient even if hermetically sealed with a plastic film or the like. (See Patent Document 1)
[0005]
In terms of customer requirements, it is important to maintain the quality of photomasks that require higher precision during transport, and quality degradation such as contamination and alteration of impurities due to the ingress of outside air becomes a problem. . (See Patent Document 2)
[0006]
There is also a problem that the photomask being transported is directly hit by the influence of outside air without temperature control. Further, when vibration is transmitted to the mask case, there is a problem that dust generation or scratches are generated due to contact and friction between the photomask and the mask case, resulting in poor quality of the photomask. (See Patent Document 3)
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The problem of the present invention is that the mask case used when the photomask is delivered to the customer can prevent the outside air from entering and prevent the photomask from being contaminated, and the photomask can prevent foreign matter from adhering and scratching. It is to provide a mask transfer jig capable of maintaining the quality of the mask.
[0008]
[Patent Document 1]
JP 2000-170876 A [Patent Document 2]
JP 2000-21966 A [Patent Document 3]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-154700
[Means for Solving the Problems]
The invention according to claim 1 of the present invention is a mask transfer jig for storing and transporting a mask substrate in a mask case, and has a storage chamber for the mask case and a spare chamber adjacent to the storage chamber. Each of the mask transfer jigs has a door or lid for opening and closing, and the door or lid is completely sealed by an O-ring or the like when closed.
[0010]
Next, in the invention according to claim 2 of the present invention, a spring is assembled to the ceiling and floor of the storage chamber, and after storing the mask case, the spring is pressed against the mask case from both the upper and lower sides. 2. The mask transfer jig according to claim 1, wherein the mask case is released from the storage chamber wall by using elasticity of a spring to prevent vibration transmission to the mask case.
[0011]
In the invention according to claim 3 of the present invention, a heat insulating material is incorporated in the inner wall of the storage chamber, a heat insulating material can be stored in the spare chamber, and the heat insulating material is stored in a mask case. 3. The mask transfer jig according to claim 1, wherein the temperature in the storage chamber is kept constant after storing the mask.
[0012]
The invention according to claim 4 of the present invention is characterized in that the storage chamber is filled with an inert gas from the on-off valve for the drain after the mask case is stored and the chamber is sealed. It is a mask transfer jig of any one of thru | or 3.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of the mask transfer jig of the present invention will be described in detail.
[0014]
FIG. 1 is a partial plan view for explaining an embodiment of the mask transfer jig of the present invention.
[0015]
FIG. 1 is an internal plan view after removing the upper lid (3) of the main body (1) of the mask transfer jig. The upper lid (3) has an O-ring (10) built in a surface in contact with the main body (1), and can be sealed. In the spare chamber (21) of the main body (1), there is a space equipped with a heat insulating material (8), for example, a state equipped with a heat insulating material (8) in the drawing, and a gas filling valve ( 4) is arranged. An opening / closing door (2) is arranged in front of the drawing.
[0016]
The heat insulating material (8) has a function of keeping it constant at the temperature of the heat insulating material. Furthermore, by installing a heat insulating material close to the temperature of the usage environment of the mask substrate at the customer site, there is an effect that the customer side can use it immediately.
[0017]
FIG. 2 is a partial front view for explaining an embodiment of the mask transfer jig of the present invention.
[0018]
FIG. 2 is a front view showing a state in which the front-side opening / closing door (2) is opened, and there is an opening / closing door (2) in which the mask case (11) can be taken in and out of the storage chamber (31) of the main body. In addition, a preliminary chamber (21) and an upper lid (3) are arranged on the upper portion of the main body (1) by a broken line. Further, an O-ring (9) is incorporated in a surface that the main body (1) contacts when the opening / closing door (2) is closed, so that the main body (1) can be sealed. A spring mechanism (6) is attached to the ceiling and floor surface of the storage chamber (31), and the mask case does not directly contact the ceiling and floor surface during storage. In the drawing, the mask case (11) is stored.
[0019]
In the spring mechanism (6), a plurality of springs having a spring constant of about 2000 to 5000 N / cm are attached, and about 2 to 4 cases of the mask case to be placed are appropriate. It is better to use the springs having the same spring constant. In addition, although the spring mounting positions are arranged up and down, it is also effective to arrange the springs in the horizontal direction on the left and right when rolling or the like is assumed. In this embodiment, attention should be paid to the number of mask cases to be placed. If the quantity is different, the force acting on the spring fluctuates and the function of preventing vibration cannot be maintained. Therefore, it is important to always keep the quantity constant. When there are few mask substrates to be transferred, the problem is solved by placing empty mask cases together and keeping the number of mask cases constant.
[0020]
FIG. 3 is a side sectional view for explaining an embodiment of the mask transfer jig of the present invention.
[0021]
FIG. 3 is a cross-sectional view of the xy plane of FIG. 1, with an opening / closing door (2) on the right side of the drawing, and a heat insulating material (7) incorporated in the main body (1). The preliminary chamber (21) at the upper part of the main body stores the heat insulating material (8) and has a function of keeping the room temperature in the storage chamber (31) constant by the effect of the heat insulating material (8). A gas filling valve (4) for filling the inside of the storage chamber (31) with a gas is disposed at the upper left of the drawing, and gas can be supplied to the inside of the storage chamber. Further, a drain valve (5) is attached to the lower right of the drawing in order to discharge the gas from the storage chamber (31).
[0022]
The heat insulating material (7) is used for a heat retaining effect. For example, it is also important to enhance the heat retaining effect by using a heat insulating material for the upper lid (3) and the open / close door (2). When filling the gas from the gas filling valve (4), it is important to open the drain valve (5) so that the replacement with the filling gas can be performed quickly. In general, since the gas to be filled is often light in specific gravity, it is preferable that the gas filling valve (4) is disposed at the upper portion and the drain valve (5) is disposed at the lower portion.
[0023]
【Example】
This will be described in accordance with specific examples.
[0024]
<Example 1>
Description will be made in accordance with a handling procedure in one embodiment of the mask transfer jig of the present invention. The photomask delivered to the customer was stored in the mask case (11). Next, the opening / closing door (2) of the main body (1) of the mask transfer jig of the present invention was opened, and the mask case (11) was placed on the spring mechanism (6) in the storage chamber (31). The spring mechanism (6) has a spring constant of 3500 N / cm. About four springs were attached up and down.
[0025]
Next, the preparatory chamber (21) of the main body was equipped with a heat insulating material (8), and the upper lid (3) was attached and sealed. The heat insulating material was selected so that it could be held at 20 ° C. for 72 hours. Four mask cases (11) were placed in the storage chamber. Next, after closing the open / close door (2), the main body (1) was filled with nitrogen gas. In filling with nitrogen gas, if the drain valve (5) is kept open, the nitrogen gas fed in pushes out the air in the main body, thereby making the replacement more sufficiently and more quickly. The inside of the main body was filled with nitrogen gas, and the packing procedure using the mask transfer jig of the present invention was completed.
[0026]
According to the above procedure, the four mask cases housed in the mask transfer jig of the present invention are not greatly affected by the temperature of the environment during transfer, and no condensation or fogging of the photomask occurs in the mask case. Therefore, the photomask can be supplied to the customer with a stable quality of the photomask. Furthermore, by installing a heat insulating material so as to maintain the temperature of the usage environment of the photomask at the customer's site at 20 ° C., there is an effect that the customer can use it immediately.
[0027]
【The invention's effect】
According to the mask transfer jig of the present invention, when a photomask substrate is delivered to a customer, or when the photomask substrate is transported to the factory in the production stage, contamination of the photomask substrate, adhesion of foreign matter, and scratches due to the outside air. Occurrence can be prevented, and the quality of the photomask substrate can be maintained. Furthermore, a packaging material such as a cushioning material is not required, which is effective in reducing costs.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a partial plan view for explaining an embodiment of a mask transfer jig of the present invention.
FIG. 2 is a partial front view for explaining an embodiment of the mask transfer jig of the present invention.
FIG. 3 is a side sectional view of the xy plane for explaining an embodiment of the mask transfer jig of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Main body (of mask transfer jig) 2 ... Open / close door 3 ... Upper lid 4 ... Gas filling valve 5 ... Drain valve 6 ... Spring mechanism 7 ... Heat insulating material 8 ... Insulating material 9 ... O ring 10 ... O ring 11 ... Mask Case 21 ... Main body spare room 31 ... Main body storage room
