JP2005004188A - Light-emitting device and electronic device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device that can independently display images of both front and back sides, in a light emitting device that can display in the both sides and also to provide a light-emitting device in which the aperture ratio of both or either of front and back displays can be increased and the aperture ratio of the total of the front and back displays can be increased. <P>SOLUTION: The light-emitting device is arranged with a first light-emitting element and a second light-emitting element that are adjacent to each other are arranged in matrix; wherein the first light-emitting element can emit light to a first side of a substrate and the second light-emitting element can emit light to a second side that is opposite to the first side of the substrate. And light-emission of the first light-emitting element to the second side is shielded and light-emission of the second light-emitting element to the first side is shielded. In each light-emitting element, since a side opposite to a light-emitting side has a film having a light shielding effect, light-emission can be performed separately in each side. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、一対の電極間にエレクトロルミネセンス(Electro-Luminescence:発光)材料を含む発光層を有する発光素子で画素部を形成した発光装置に関し、特に、二面に表示することが可能な発光装置に関する。また、表示面を表裏二面に有する電子機器に関する。   The present invention relates to a light-emitting device in which a pixel portion is formed using a light-emitting element having a light-emitting layer containing an electroluminescence (Electro-Luminescence) material between a pair of electrodes, and in particular, light emission that can be displayed on two surfaces. Relates to the device. Moreover, it is related with the electronic device which has a display surface on two surfaces.

近年、自発光型の発光素子として発光素子を用いた発光装置の研究が活発化している。この発光装置は有機EL(Electro-Luminescence)ディスプレイ、又は有機発光ダイオードとも呼ばれている。これらの発光装置は、動画表示に適した速い応答速度、低電圧、低消費電力駆動などの特徴を有しているため、新世代の携帯電話や携帯情報端末(PDA)をはじめ、次世代ディスプレイとして大きく注目されている。   In recent years, research on a light-emitting device using a light-emitting element as a self-luminous light-emitting element has been activated. This light emitting device is also called an organic EL (Electro-Luminescence) display or an organic light emitting diode. These light-emitting devices have features such as fast response speed, low voltage, and low power consumption driving suitable for moving image display, so next-generation displays such as new-generation mobile phones and personal digital assistants (PDAs) It is attracting a lot of attention.

有機化合物の層を発光層とする発光素子は、少なくとも一層の発光材料を含む層が挿入された多層膜が基板上に積層された構造を有する。この多層膜は、一方が透光性を有する導電膜で形成される一対の電極、即ち陽極及び陰極と、発光材料を含む層とで構成される。陽極と陰極とに電場を加えることにより、発光物質を含む層からエレクトロルミネッセンスを発する。なお、ここでは、陰極と陽極との間に設けられる全ての層を総称して発光物質を含む層という。   A light-emitting element using an organic compound layer as a light-emitting layer has a structure in which a multilayer film in which at least one layer containing a light-emitting material is inserted is stacked over a substrate. This multilayer film is composed of a pair of electrodes formed of a light-transmitting conductive film, that is, an anode and a cathode, and a layer containing a light emitting material. By applying an electric field to the anode and the cathode, electroluminescence is emitted from the layer containing the luminescent material. Here, all layers provided between the cathode and the anode are collectively referred to as a layer containing a light-emitting substance.

上記の発光物質を含む層は「正孔輸送層/発光層/電子輸送層」に代表される積層構造を有する場合が多い。また、発光物質を含む層を形成する材料は低分子系(モノマー系)材料と高分子系(ポリマー系)材料に大別される。   In many cases, the layer containing the light-emitting substance has a laminated structure represented by “hole transport layer / light-emitting layer / electron transport layer”. In addition, materials for forming a layer containing a light-emitting substance are roughly classified into a low molecular (monomer) material and a high molecular (polymer) material.

典型的な発光素子は、基板上にスパッタリング法で成膜された透明導電膜を陽極とし、その上に発光物質を含む層とアルミニウム等の金属を用いた陰極が積層された構造(以下、下面出射型発光素子と示す。)を有している。この構造の発光素子では、基板上に成膜された陽極から発光が取り出される。この構造の発光素子を画素とするディスプレイをアクティブマトリクス駆動で表示する場合、基板上の駆動素子、例えばTFTが陽極を透過した発光を遮ることになり、発光の効率を大きく低下させる。   A typical light-emitting element has a structure in which a transparent conductive film formed on a substrate by a sputtering method is used as an anode, and a layer containing a light-emitting substance and a cathode using a metal such as aluminum are stacked (hereinafter referred to as a lower surface). It is referred to as an emission type light emitting element). In the light-emitting element having this structure, light emission is extracted from the anode formed on the substrate. When a display using light emitting elements of this structure as pixels is displayed by active matrix driving, the driving elements on the substrate, for example, TFTs block light emitted through the anode, and the efficiency of light emission is greatly reduced.

また、基板上に透光性のない金属の電極を陽極として成膜し、その上に発光物質を含む層と、陰極である透光性の導電物質とを積層した構造の発光素子(以下、上面出射型素子と示す。)もある。この構造の発光素子では、基板上に成膜された陰極から発光が取り出される。このため、ディスプレイをアクティブマトリクス駆動で表示する場合にも、基板上駆動素子が発光を遮ることはない。   In addition, a light-emitting element having a structure in which a non-light-transmitting metal electrode is formed on a substrate as an anode and a layer containing a light-emitting substance and a light-transmitting conductive substance serving as a cathode are stacked thereon (hereinafter, referred to as a light-emitting element) Also referred to as a top emission element). In the light-emitting element having this structure, light emission is extracted from the cathode formed on the substrate. For this reason, even when the display is displayed by active matrix driving, the driving element on the substrate does not block light emission.

さらには、陰極側及び陽極側の両面から発光が取り出される構造の発光素子、すなわちひとつの画素が上面出射型であり、かつ、下面出射型である素子とが設けられた構造(以下、両面出射型素子と示す。)も提案されている(特許文献1)。
特開20001−332392号公報
Further, a light emitting element having a structure in which light emission is extracted from both the cathode side and the anode side, that is, a structure in which one pixel is a top emission type and a bottom emission type element (hereinafter referred to as dual emission). (Referred to as a mold element) has also been proposed (Patent Document 1).
JP 20001-332392 A

しかしながら、特許文献1に記載の両面出射型素子を画素部に有する発光装置を駆動表示させると、一方の面の画像に対して、もう一方の面ではその鏡像が表示されることになる。そのため、どちらか一方の面では文字が反転してしまうといった問題が生じてしまう。   However, when the light emitting device having the dual emission element described in Patent Document 1 is driven and displayed, the mirror image is displayed on the other side of the image on one side. For this reason, there arises a problem that characters are reversed on either side.

また、上記両面出射型の素子は、陽極側および陰極側のどちらの電極も透光性を有するため、陰極側からは陽極側の、陽極側からは陰極側の、奥の風景までもが見えてしまうこととなる。そのため、表示された画像を正確に認知するためには、見る面の裏面全面に遮光性のものを適宜あてがう必要が生ずる。その場合、両面より同時に画像を見ることが出来なくなってしまう。   In addition, since both the anode side and cathode side electrodes have translucency in the dual emission type element, the anode side can be seen from the cathode side, and the back side can be seen from the anode side to the back side. It will end up. Therefore, in order to accurately recognize the displayed image, it is necessary to appropriately apply a light-shielding material to the entire back surface of the viewing surface. In that case, the images cannot be viewed simultaneously from both sides.

また、アクティブマトリクス駆動の両面出射型素子においては、下面出射型素子の駆動素子が表示部分(表示領域)の一部に設けられており、下面出射型素子領域での開口率が低下してしまうという問題も挙げられる。   Further, in the active matrix driving dual emission type element, the drive element of the bottom emission type element is provided in a part of the display portion (display area), and the aperture ratio in the bottom emission type element area is lowered. The problem is also mentioned.

そこで本発明は、上記課題に鑑み、表面と裏面とに表示が可能な発光装置において、二面の画像を独立に表示することが可能であり、また表面と裏面それぞれ、又は一方の開口率を向上させた発光装置を提供する。さらには、表面と裏面との合計の開口率を向上させた発光装置を提供することを目的とする。   Therefore, in view of the above problems, the present invention can display images on two surfaces independently in a light emitting device capable of displaying on the front surface and the back surface, and each of the front surface and the back surface can have an aperture ratio. An improved light emitting device is provided. Furthermore, it aims at providing the light-emitting device which improved the total aperture ratio of the surface and a back surface.

本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子がマトリクス状に配置されており、前記第一の発光素子は、基板の第一の面に発光が可能であり、前記第二の発光素子は前記基板の第一の面と反対側の第二の面に発光が可能である発光装置である。また、前記第一の発光素子の前記第二の面側への発光は遮光されており、前記第二の発光素子の前記第一の面側への発光は、遮光されている。各発光素子において、発光面の反対方向では遮光性を有する膜を有するため、各面別々に発光することができる。   In one aspect of the present invention, adjacent first light emitting elements and second light emitting elements are arranged in a matrix, and the first light emitting elements can emit light on a first surface of a substrate, The second light emitting element is a light emitting device capable of emitting light on the second surface opposite to the first surface of the substrate. Further, light emitted from the first light emitting element toward the second surface is shielded from light, and light emitted from the second light emitting element toward the first surface is shielded from light. Each light-emitting element has a light-shielding film in the direction opposite to the light-emitting surface, so that each surface can emit light separately.

また、本発明の一は、上記の構成に加え、第一の発光素子(対向基板側に発光する素子)は、第一の発光素子を駆動する半導体素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子を覆っている事を特徴とする発光装置である。この構造により、第二の発光素子(基板側に発光する素子、即ち下面出射型素子)において、発光素子を駆動する半導体素子により遮光される領域が減少するため、両面の開口率を向上させることができる。即ち、表示装置全体の開口率を向上させることができる。また、第一の面と第二の面それぞれ、又は一方の開口率を向上させることができる。   According to another aspect of the present invention, in addition to the above structure, the first light-emitting element (an element that emits light toward the counter substrate) includes a semiconductor element that drives the first light-emitting element and a semiconductor that drives the second light-emitting element. It is a light emitting device characterized by covering an element. With this structure, in the second light-emitting element (an element that emits light toward the substrate side, that is, a bottom emission element), the area shielded by the semiconductor element that drives the light-emitting element is reduced, so that the aperture ratio on both sides is improved. Can do. That is, the aperture ratio of the entire display device can be improved. In addition, each of the first surface and the second surface, or one of the aperture ratios can be improved.

また、本発明の一は、上記の構成に加え、各発光素子各々に映像信号を入力する手段を有することを特徴とする発光装置である。代表例としては、各発光素子にソース信号線及び駆動用素子を設ける。各ソース信号線から入力される信号によって、各発光素子の発光、非発光を制御することができる。   Another embodiment of the present invention is a light-emitting device including a device for inputting a video signal to each light-emitting element in addition to the above structure. As a typical example, a source signal line and a driving element are provided for each light emitting element. Light emission and non-light emission of each light emitting element can be controlled by a signal input from each source signal line.

また、各発光素子各々に映像信号を入力する他の手段として、2つの発光素子に共通のソース信号線及び排他的に機能するスイッチを設ける。ひとつのソース信号線に入力される信号を、排他的に機能するスイッチによって各発光素子に入力することにより、各発光素子の発光、非発光を制御することができる。なお、排他的に機能するスイッチの代わりに、独立的に制御する制御信号を用いてもよい。   Further, as other means for inputting a video signal to each light emitting element, a common source signal line and a switch that functions exclusively are provided for the two light emitting elements. By inputting a signal input to one source signal line to each light emitting element by a switch that functions exclusively, light emission and non-light emission of each light emitting element can be controlled. Note that control signals that are independently controlled may be used instead of the switches that function exclusively.

以上の構造により、各発光素子で単独の表示をすることが可能となり、各表示面に発光することが可能な発光装置において、各面で任意の画像を表示することができる。   With the above structure, each light emitting element can perform independent display, and a light emitting device capable of emitting light on each display surface can display an arbitrary image on each surface.

なお、本明細書中における発光装置とは、発光素子を用いた発光デバイスや画像表示デバイスを指す。また、発光素子にコネクター、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)もしくはTAB(Tape Automated Bonding)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)やCPUが直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。   Note that the light emitting device in this specification refers to a light emitting device or an image display device using a light emitting element. In addition, a module in which a connector such as an FPC (Flexible Printed Circuit) or TAB (Tape Automated Bonding) tape or TCP (Tape Carrier Package) is attached to the light emitting element, or a TAB tape or a module provided with a printed wiring board at the end of TCP Alternatively, a module in which an IC (integrated circuit) or CPU is directly mounted on a light emitting element by a COG (Chip On Glass) method is included in the light emitting device.

上記した本発明の要旨に基づく本発明の発光装置は、以下に示す構成を包含することができる。   The light emitting device of the present invention based on the gist of the present invention described above can include the following configurations.

本発明の一は、基板の一表面に第一の表示面を有し、該一表面と反対の表面に第二の表示面を有し、第一の発光素子で第一の表示面の画像を表示し、第二の発光素子で第二の表示面の画像を表示し、第一の表示面の画像と第二の表示面の画像とを独立に制御することを特徴とする発光装置である。なお、第一の発光素子は、第一の発光素子を駆動する半導体素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子を覆っている。   One embodiment of the present invention includes a first display surface on one surface of a substrate, a second display surface on a surface opposite to the one surface, and an image of the first display surface by the first light emitting element. And a second light emitting device for displaying an image on the second display surface, and independently controlling the image on the first display surface and the image on the second display surface. is there. Note that the first light emitting element covers the semiconductor element that drives the first light emitting element and the semiconductor element that drives the second light emitting element.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子がマトリクス状に配置された画素部を有し、第一の発光素子は、基板の第一の面に発光が可能であり、第二の発光素子は基板の第一の面と反対側の第二の面に発光が可能であり、第一の発光素子における第二の面側への発光は遮光されており、第二の発光素子における第一の面側への発光は遮光されていることを特徴とする発光装置である。なお、第一の発光素子は、第一の発光素子を駆動する半導体素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子を覆っている。  One embodiment of the present invention includes a pixel portion in which first and second light-emitting elements adjacent to each other are arranged in a matrix, and the first light-emitting element emits light on a first surface of a substrate. The second light emitting element can emit light on the second surface opposite to the first surface of the substrate, and the light emission to the second surface side of the first light emitting element is shielded from light. The light emitting device is characterized in that light emitted to the first surface side of the second light emitting element is shielded from light. Note that the first light emitting element covers the semiconductor element that drives the first light emitting element and the semiconductor element that drives the second light emitting element.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、第一の発光素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、第一の発光素子は、第一の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第二の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、第二の発光素子は、第三の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第二の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、第一の発光素子は、第一の遮光膜、第一の半導体素子、及び第二の発光素子を覆設し、第二の発光素子は、第二の遮光膜に覆設されることを特徴とする発光装置である。なお、第一の透光性を有する電極及び第三の透光性を有する電極は、同じ材料で形成されていてもよい。また、第一の遮光膜は、第一の半導体素子及び第二の半導体素子に覆われている。    According to another aspect of the present invention, adjacent first light-emitting elements and second light-emitting elements are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements that drive the first light-emitting elements and the second light-emitting elements. The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-transmitting electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a second light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. The second light-emitting element has a stacked structure in which a third light-transmitting electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a second light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side, One light-emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light-emitting element is connected to the second semiconductor element, and the first light-emitting element includes the first light-shielding film, the first semiconductor element, and the first The light emitting device is characterized in that the second light emitting element is covered with a second light shielding film.Note that the first light-transmitting electrode and the third light-transmitting electrode may be formed of the same material. The first light shielding film is covered with the first semiconductor element and the second semiconductor element.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、第一の発光素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、第一の発光素子は、第一の半導体素子及び第二の発光素子を覆設し、第二の発光素子は、第二の遮光膜に覆設されることを特徴とする発光装置である。  According to another aspect of the present invention, adjacent first light-emitting elements and second light-emitting elements are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements that drive the first light-emitting elements and the second light-emitting elements. The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side, The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. The light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element, the first light emitting element covers the first semiconductor element and the second light emitting element, The second light-emitting element is a light-emitting device that is covered with a second light-shielding film.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、第一の発光素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、第一の発光素子は、第一の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第二の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第二の発光素子は、第三の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第一の遮光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、第一の発光素子は、第二の遮光膜及び第一の半導体素子及び第二の発光素子を覆設することを特徴とする発光装置である。なお、第一の透光性を有する電極及び第三の透光性を有する電極は、同じ材料で形成されていてもよい。また、第二の遮光膜は、第一の半導体素子及び第二の半導体素子に覆われている。  According to another aspect of the present invention, adjacent first light-emitting elements and second light-emitting elements are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements that drive the first light-emitting elements and the second light-emitting elements. The first light-emitting element has a stacked structure in which an electrode having a first light-transmitting property, a layer containing a light-emitting substance, and an electrode having a second light-transmitting property are sequentially provided from the substrate side, The second light-emitting element has a stacked structure in which a third light-transmitting electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a first light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side, The light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element, and the first light emitting element includes the second light shielding film, the first semiconductor element, and the second semiconductor element. A light-emitting device characterized by covering a light-emitting element. Note that the first light-transmitting electrode and the third light-transmitting electrode may be formed of the same material. The second light shielding film is covered with the first semiconductor element and the second semiconductor element.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、第一の発光素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第二の遮光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、第一の発光素子は、第一の半導体素子及び第二の半導体素子を覆設することを特徴とする発光装置である。  According to another aspect of the present invention, adjacent first light-emitting elements and second light-emitting elements are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements that drive the first light-emitting elements and the second light-emitting elements. The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side, The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a second light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side, and the first light-emitting element The element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element, and the first light emitting element covers the first semiconductor element and the second semiconductor element. The light emitting device is characterized.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、第一の発光素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、第一の発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、第二の発光物質を含む層、及び第二の遮光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、第一の発光素子は、第一の半導体素子、第二の半導体素子、及び第二の発光素子を覆設することを特徴とする発光装置である。  According to another aspect of the present invention, adjacent first light-emitting elements and second light-emitting elements are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements that drive the first light-emitting elements and the second light-emitting elements. The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a first light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing a second light-emitting substance, and a second light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side. The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element, and the first light emitting element is the first semiconductor element or the second semiconductor element. And a second light-emitting element.

また、本発明の一は、隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、第一の発光素子及び第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、第一の発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、第二の発光物質を含む層、及び第二の遮光性を有する電極が、基板側から順に設けられた積層構造を有し、第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、第一の発光素子は、第一の半導体素子、前記第二の半導体素子を覆設することを特徴とする発光装置である。なお、第一の発光素子の第一の透光性を有する電極及び第二の発光素子の第二の透光性を有する電極は、同じ材料で形成されていてもよい。  According to another aspect of the present invention, adjacent first light-emitting elements and second light-emitting elements are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements that drive the first light-emitting elements and the second light-emitting elements. The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a first light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing a second light-emitting substance, and a second light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side. The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element, and the first light emitting element is the first semiconductor element and the second semiconductor element. A light-emitting device characterized by covering an element. Note that the first light-transmitting electrode of the first light-emitting element and the second light-transmitting electrode of the second light-emitting element may be formed of the same material.

本発明により、表裏二面に表示が可能な発光装置において、二面の画像を独立に表示することが可能であり、また表面と裏面それぞれ、又は一方の開口率を向上させることができる。さらには、表面と裏面との合計の開口率が向上する。この結果、表示装置全体の開口率を向上させることができる。 According to the present invention, in a light emitting device capable of displaying on both the front and back surfaces, it is possible to display images on the two surfaces independently, and to improve the aperture ratio of one or both of the front surface and the back surface. Furthermore, the total aperture ratio of the front surface and the back surface is improved. As a result, the aperture ratio of the entire display device can be improved.

また、本発明の表示装置を用いる電子機器は、表裏二面の画像を独立に表示することが可能であるため、同時に両表示面で違和感なく同じ画像を閲覧することが可能である。また、両画面で異なった画像を閲覧することが可能であるため、小スペース且つ低コストで複数の人が同時に多くの情報を収集することができる。また電気式の軽量化、薄型化が可能で、かつ、操作性が高まるとともに高付加価値化が実現する。   In addition, since the electronic device using the display device of the present invention can display images on both the front and back surfaces independently, it is possible to simultaneously view the same image on both display surfaces without a sense of incongruity. In addition, since different images can be browsed on both screens, a plurality of people can collect a large amount of information at the same time in a small space and at a low cost. In addition, the electric weight can be reduced and the thickness can be reduced, and operability is enhanced and high added value is realized.

本発明の実施の形態について、以下に図面を用いて詳細に説明する。ここでは、アクティブマトリクス方式の駆動素子を用いて説明しているが、駆動方式は単純マトリクス方式であってもよい。また、スイッチ素子や駆動素子として、薄膜トランジスタ(TFT)を用いて説明するが、特に限定はされない。例えば、MOSトランジスタ、有機トランジスタ、分子トランジスタ等の半導体素子を同様に用いても良い。さらには、本実施の形態では、一つの発光素子に対応する発光領域を一画素とする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Here, an active matrix driving element is used for description, but the driving method may be a simple matrix method. Further, although description is given using a thin film transistor (TFT) as a switching element and a driving element, there is no particular limitation. For example, a semiconductor element such as a MOS transistor, an organic transistor, or a molecular transistor may be used similarly. Furthermore, in this embodiment mode, a light-emitting region corresponding to one light-emitting element is used as one pixel.

(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の発光装置の構造を、図1を用いて説明する。図1には、隣接する二つの発光素子が形成されている領域の発光装置の断面図を示す。本実施の形態の発光素子において、基板側に形成される電極を第一の電極、対向基板側に形成される電極を第二の電極と示す。
(Embodiment 1)
In this embodiment mode, a structure of a light-emitting device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows a cross-sectional view of a light emitting device in a region where two adjacent light emitting elements are formed. In the light-emitting element of this embodiment mode, an electrode formed on the substrate side is referred to as a first electrode, and an electrode formed on the counter substrate side is referred to as a second electrode.

基板2007、2107、2207、2307、2407、2507上には、上面出射型発光素子及び下面出射型発光素子のスイッチ素子、駆動素子等が形成されている層(以下、半導体素子を有する層と示す。)2001、2101、2201、2301、2401、2501が形成されている。また、上面出射型発光素子及び下面出射型発光素子それぞれには、少なくともスイッチ素子及び駆動素子等が接続されている。   On the substrates 2007, 2107, 2207, 2307, 2407, and 2507, a layer in which a switch element, a drive element, and the like of the top emission light emitting element and the bottom emission light emitting element are formed (hereinafter referred to as a layer having a semiconductor element). .) 2001, 2101, 2201, 2301, 2401, 2501 are formed. Each of the top emission type light emitting element and the bottom emission type light emitting element is connected to at least a switch element, a drive element, and the like.

半導体素子を有する層2001、2101、2201、2301、2401、2501の上方へ発光する素子を上面出射型発光素子とし、半導体素子が形成されている層の下方へ発光する発光素子を下面出射型発光素子とする。即ち、基板側へ発光する素子を下面出射型発光素子とする。上面出射型発光素子の発光領域は、2021、2121、2221、2321、2421、2521であり、下面出射型発光素子の発光領域は、2022、2122、2222、2322、2422、2522である。各発光素子の上方、すなわち基板と反対側には、対向基板2008、2108、2208、2308、2408、2508が形成されている。   An element that emits light above the layers 2001, 2101, 2201, 2301, 2401, and 2501 having a semiconductor element is a top emission light emitting element, and a light emitting element that emits light below the layer where the semiconductor element is formed is a bottom emission light emission. Element. That is, an element that emits light toward the substrate side is a bottom emission light emitting element. The light emitting areas of the top emission light emitting elements are 2021, 2121, 2221, 2231, 2421, and 2521, and the light emitting areas of the bottom emission light emitting elements are 2022, 2122, 2222, 2322, 2422, and 2522. Opposing substrates 2008, 2108, 2208, 2308, 2408, and 2508 are formed above each light emitting element, that is, on the side opposite to the substrate.

各発光素子は、第一の電極、第二の電極、この二つの間に形成されている発光物質を含む層からなる。また、各発光素子は、スイッチ素子、駆動素子等で、発光、非発光を制御されている。   Each light-emitting element includes a first electrode, a second electrode, and a layer containing a light-emitting substance formed between the two. Each light emitting element is controlled to emit light and not emit light by a switch element, a drive element, and the like.

また、上面出射型発光素子の下方、すなわち基板側には、遮光膜が形成されている。また、下面出射型発光素子の上方、すなわち対向基板側にも、別の遮光膜が形成されている。この構造により、各発光素子で発光した光は、一方向へしか発光しないため、各素子ごとに一方向へ発光することができる。この結果、二方向において異なった画像を表示することができる。   A light shielding film is formed below the top emission type light emitting element, that is, on the substrate side. Further, another light shielding film is formed above the bottom emission light emitting element, that is, on the counter substrate side. With this structure, light emitted from each light emitting element emits light only in one direction, so that each element can emit light in one direction. As a result, different images can be displayed in the two directions.

以下に各構造の詳細について説明する。   Details of each structure will be described below.

図1(A)では、上面出射型発光素子の第一の電極、第二の電極、下面出射型発光素子の第一の電極、及び第二の電極は、透光性を有する導電膜で形成されており、各発光素子に別途遮光膜が設けられている構造を示す。   In FIG. 1A, the first electrode and the second electrode of the top emission light-emitting element, the first electrode and the second electrode of the bottom emission light-emitting element are formed using a light-transmitting conductive film. The structure in which a light shielding film is provided separately for each light emitting element is shown.

上面出射型発光素子の基板2007上には第一の遮光膜2005が形成され、下面出射型発光素子の基板2007上には第一の絶縁層2010が形成されている。上面出射型発光素子の発光領域2021において、第一の遮光膜2005上には、半導体素子を有する層が形成されている。なお、第一の遮光膜2005は、基板と半導体素子を有する層との間、又は半導体素子を有する層中に成膜し、これを所望の形状にエッチングすることによって形成することができる。また、インクジェット法等で、所望の形状に成膜することができる。さらには、フィルター状のものを基板表面に設けることができる。なお、第一の遮光膜が導電性の場合、半導体素子を有する層と第一の遮光膜との間に、絶縁膜を形成することが好ましい。   A first light-shielding film 2005 is formed on the substrate 2007 of the top emission light emitting element, and a first insulating layer 2010 is formed on the substrate 2007 of the bottom emission light emitting element. In the light-emitting region 2021 of the top emission light-emitting element, a layer including a semiconductor element is formed over the first light-shielding film 2005. Note that the first light-shielding film 2005 can be formed by forming a film between a substrate and a layer having a semiconductor element or in a layer having a semiconductor element and etching the film into a desired shape. In addition, the film can be formed into a desired shape by an inkjet method or the like. Furthermore, a filter can be provided on the substrate surface. Note that in the case where the first light-shielding film is conductive, an insulating film is preferably formed between the layer having a semiconductor element and the first light-shielding film.

また、半導体素子を有する層2001および第一の絶縁層2010それぞれの上に、各発光素子の第一の電極2002a、2002bが形成されている。この上に、発光物質を含む層2003が形成されており、その上に第二の電極2004が形成されている。第一の電極及2002a、2002b及び第二の電極2004は、透光性を有する導電膜で形成されている。   In addition, first electrodes 2002a and 2002b of the light-emitting elements are formed over the layer 2001 having a semiconductor element and the first insulating layer 2010, respectively. A layer 2003 containing a light-emitting substance is formed over this, and a second electrode 2004 is formed thereover. The first electrode 2002a, 2002b, and the second electrode 2004 are formed using a light-transmitting conductive film.

また、下面出射型発光素子の発光領域2022では、第二の電極上に第二の遮光膜2006が形成されており、上面出射型発光素子の発光領域2021では第二の絶縁層2011が形成されている。それらの上に対向基板2008が設けられている。なお、第二の遮光膜2006は、遮光性を有する膜を成膜し、これを所望の形状にエッチングすることによって形成することができる。また、インクジェット法等で、所望の形状に成膜することができる。フィルター状のものを対向基板2008表面に設けることができる。なお、第二の遮光膜が導電性の場合、第二の電極2004と第二の遮光膜2006との間に、絶縁膜を形成することが好ましい。   In the light emitting region 2022 of the bottom emission light emitting element, a second light shielding film 2006 is formed on the second electrode, and in the light emitting region 2021 of the top emission light emitting element, a second insulating layer 2011 is formed. ing. A counter substrate 2008 is provided over them. Note that the second light-shielding film 2006 can be formed by forming a film having a light-shielding property and etching the film into a desired shape. In addition, the film can be formed into a desired shape by an inkjet method or the like. A filter-like object can be provided on the surface of the counter substrate 2008. Note that when the second light-shielding film is conductive, an insulating film is preferably formed between the second electrode 2004 and the second light-shielding film 2006.

次に、図1(B)の構造について説明する。図1(B)では、上面出射型発光素子の第一の電極は、遮光性を有する導電膜で形成されており、上面出射型発光素子の第二の電極、下面出射型発光素子の第一の電極及び第二の電極は、透光性を有する導電膜で形成されている。また、下面出射型発光素子の対向基板側に、別途遮光膜が設けられている構造を示す。 Next, the structure of FIG. 1B will be described. In FIG. 1B, the first electrode of the top emission light emitting element is formed of a light-shielding conductive film, the second electrode of the top emission light emitting element, and the first electrode of the bottom emission light emitting element. The electrode and the second electrode are formed of a light-transmitting conductive film. In addition, a structure in which a light shielding film is separately provided on the counter substrate side of the bottom emission light emitting element is shown.

基板2107上の、上面出射型発光素子の発光領域2121において、半導体素子を有する層2101が形成され、下面出射型発光素子の発光領域2122においては、第一の絶縁層2110が形成されている。   A layer 2101 having a semiconductor element is formed in the light emitting region 2121 of the top emission light emitting element over the substrate 2107, and a first insulating layer 2110 is formed in the light emitting region 2122 of the bottom emission light emitting element.

また、半導体素子を有する層2101および第二の絶縁層2110それぞれの上に、各発光素子の第一の電極2102a、2102bが形成されている。この上に、発光物質を含む層2103が形成されており、その上に第二の電極2104が形成されている。上面出射型発光素子の第一の電極2102aは、遮光性を有する導電膜で形成されており、代表的には、駆動TFTのドレイン電極又はそれに接続される導電膜で形成することができる。また、遮光性を有する導電膜上に透光性を有する導電膜を形成してもよい。下面出射型発光素子の第一の電極2102bは、透光性を有する導電膜で形成されている。また、各発光素子の第二の電極2104は、透光性を有する導電膜で形成されている。なお、半導体素子を有する層2101及び第一の絶縁層2110上に、透光性を有する膜を形成し、これらを各電極の形状に形成した後、上面出射型発光素子の第一の電極領域に不純物を添加して、可視領域に吸収をもたせてもよい。   In addition, first electrodes 2102a and 2102b of the light-emitting elements are formed over the layer 2101 having the semiconductor element and the second insulating layer 2110, respectively. A layer 2103 containing a light-emitting substance is formed over this, and a second electrode 2104 is formed thereover. The first electrode 2102a of the top emission light-emitting element is formed using a light-shielding conductive film, and can be typically formed using a drain electrode of a driving TFT or a conductive film connected thereto. Alternatively, a light-transmitting conductive film may be formed over the light-blocking conductive film. The first electrode 2102b of the bottom emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. The second electrode 2104 of each light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. Note that a light-transmitting film is formed over the layer 2101 having a semiconductor element and the first insulating layer 2110 and formed into the shape of each electrode, and then the first electrode region of the top emission light-emitting element. Impurities may be added to provide absorption in the visible region.

また、下面出射型発光素子の発光領域2122では、第二の電極2104上に遮光膜2106が形成されており、上面出射型発光素子の発光領域2021では第二の絶縁層2112が形成されている。それらの上に対向基板2108が設けられている。なお、遮光膜2106の形成方法及び位置は図1(A)の第二の遮光膜2006と同様とすることができる。   In the light emitting region 2122 of the bottom emission light emitting element, a light shielding film 2106 is formed over the second electrode 2104, and in the light emitting region 2021 of the top emission light emitting element, a second insulating layer 2112 is formed. . A counter substrate 2108 is provided over them. Note that the formation method and position of the light-blocking film 2106 can be the same as those of the second light-blocking film 2006 in FIG.

次に、図1(C)の構造について説明する。図1(C)では、上面出射型発光素子の第一の電極、第二の電極、および下面出射型発光素子の第一の電極は、透光性を有する導電膜で形成されており、下面出射型発光素子の第二の電極は、遮光性を有する導電膜で形成されている。また、上面出射型発光素子の基板側に、別途遮光膜が設けられている構造を示す。 Next, the structure of FIG. 1C will be described. In FIG. 1C, the first electrode, the second electrode, and the first electrode of the bottom emission light-emitting element are formed using a light-transmitting conductive film. The second electrode of the emission type light emitting element is formed of a conductive film having a light shielding property. In addition, a structure in which a light shielding film is separately provided on the substrate side of the top emission light emitting element is shown.

上面出射型発光素子の基板2207上には遮光膜2205が形成され、下面出射型発光素子の基板2207上には第一の絶縁層2210が形成されている。上面出射型発光素子の発光領域2221において、遮光膜2205及び半導体素子を有する層2201が形成される。   A light shielding film 2205 is formed on the substrate 2207 of the top emission type light emitting element, and a first insulating layer 2210 is formed on the substrate 2207 of the bottom emission type light emitting element. In the light-emitting region 2221 of the top emission light-emitting element, a light-blocking film 2205 and a layer 2201 including a semiconductor element are formed.

また、半導体素子を有する層2201および第一の絶縁層2210それぞれの上に、各発光素子の第一の電極2202a、2202bが形成されており、その上に、発光物質を含む層2203が形成されている。上面出射型発光素子においては、その上に第二の電極2204aが形成されており、下面出射型発光素子においては、第二の電極2204bが形成されている。各発光素子の第一の電極2202a、2202bは、透光性を有する導電膜で形成されている。また、上面出射型発光素子の第二の電極2204aは、透光性を有する導電膜で形成されており、下面出射型発光素子の第二の電極2204bは、遮光性を有する導電膜で形成されている。それらの上に対向基板2208が設けられている。なお、遮光膜2205の形成方法及び位置は図1(A)の第一の遮光膜2005と同様とすることができる。   In addition, first electrodes 2202a and 2202b of the light-emitting elements are formed over the layer 2201 having a semiconductor element and the first insulating layer 2210, respectively, and a layer 2203 containing a light-emitting substance is formed thereover. ing. In the top emission type light emitting element, a second electrode 2204a is formed thereon, and in the bottom emission type light emitting element, a second electrode 2204b is formed. The first electrodes 2202a and 2202b of each light-emitting element are formed using a light-transmitting conductive film. The second electrode 2204a of the top emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film, and the second electrode 2204b of the bottom emission light-emitting element is formed using a light-shielding conductive film. ing. A counter substrate 2208 is provided over them. Note that the formation method and position of the light shielding film 2205 can be the same as those of the first light shielding film 2005 in FIG.

次に、図1(D)の構造について説明する。図1(D)では、上面出射型発光素子の第一の電極は、遮光性を有する導電膜で形成されており、上面出射型発光素子の第二の電極は、透光性導電膜で形成されている。また、下面出射型発光素子の第一の電極は、透光性導電膜で形成されており、第二の電極は遮光性を有す導電膜で形成されている。本構造では、別途遮光膜を設けなくともよい。   Next, the structure of FIG. 1D will be described. In FIG. 1D, the first electrode of the top emission light-emitting element is formed using a light-shielding conductive film, and the second electrode of the top emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. Has been. The first electrode of the bottom emission type light emitting element is formed of a light-transmitting conductive film, and the second electrode is formed of a light-shielding conductive film. In this structure, it is not necessary to provide a separate light shielding film.

基板2307上の、上面出射型発光素子の発光領域2321において、半導体素子を有する層2301が形成され、下面出射型発光素子の発光領域2322においては、第一の絶縁層2310が形成されている。   A layer 2301 having a semiconductor element is formed in the light emitting region 2321 of the top emission light emitting element over the substrate 2307, and a first insulating layer 2310 is formed in the light emitting region 2322 of the bottom emission light emitting element.

また、半導体素子を有する層2301および第一の絶縁層2310それぞれの上に、各発光素子の第一の電極2302a、2302bが形成されている。上面出射型発光素子の第一の電極2302aは、遮光性を有する導電膜で形成されており、代表的には、駆動TFTのドレイン電極又はそれに接続される導電膜で形成することができる。また、遮光性を有する導電膜上に透光性を有する導電膜を形成してもよい。下面出射型発光素子の第一の電極2302bは、透光性を有する導電膜で形成されている。また、半導体素子を有する層2301及び第一の絶縁層2310上に、透光性を有する膜を形成し、これらを各電極の形状に形成した後、上面出射型発光素子の第一の電極領域2301に不純物を添加して、可視領域に吸収をもたせてもよい。   In addition, first electrodes 2302a and 2302b of the light-emitting elements are formed over the layer 2301 having a semiconductor element and the first insulating layer 2310, respectively. The first electrode 2302a of the top emission light-emitting element is formed using a light-shielding conductive film, and can be typically formed using a drain electrode of a driving TFT or a conductive film connected thereto. Alternatively, a light-transmitting conductive film may be formed over the light-blocking conductive film. The first electrode 2302b of the bottom emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. In addition, a light-transmitting film is formed over the semiconductor element-containing layer 2301 and the first insulating layer 2310 and formed into the shape of each electrode, and then the first electrode region of the top emission light-emitting element. Impurities may be added to 2301 to absorb in the visible region.

これらの上に、発光物質を含む層2303が形成されており、その上に第二の電極2304a、2304bが形成されている。上面出射型発光素子の第二の電極2304aは、透光性を有する導電膜で形成されている。下面出射型発光素子の第二の電極2304bは、遮光性を有する導電膜で形成されている。それらの上に対向基板2308が設けられている。   A layer 2303 containing a light-emitting substance is formed over them, and second electrodes 2304a and 2304b are formed thereover. The second electrode 2304a of the top emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. The second electrode 2304b of the bottom emission light emitting element is formed using a light-shielding conductive film. A counter substrate 2308 is provided over them.

次に、図1(E)の構造について説明する。図1(E)では、図1(A)〜図1(D)と異なり、異なる2つの発光物質を含む層が形成されており、上面出射型発光素子の発光物質を含む層2403aは、下面出射型発光素子の発光領域を覆っている。また、上面出射型発光素子の第一の電極2405aは、遮光性を有する導電膜で形成されており、上面出射型発光素子の第二の電極2404は、透光性導電膜で形成されている。また、下面出射型発光素子の第一の電極2402bは、透光性導電膜で形成されており、第二の電極2405bは遮光性を有す導電膜で形成されている。本構造では、別途遮光膜を設けなくともよい。また、本構造では、上面出射型発光素子は、下面出射型発光素子を覆っている。このため、上面出射型発光素子は、下面出射型発光素子が形成された領域の上方からも発光することが可能となり、両面の開口率の合計が増加する。   Next, the structure of FIG. In FIG. 1E, unlike FIGS. 1A to 1D, a layer containing two different light-emitting substances is formed, and the layer 2403a containing the light-emitting substance of the top emission light-emitting element is formed on the bottom surface. The light emitting area of the emission type light emitting element is covered. In addition, the first electrode 2405a of the top emission light-emitting element is formed using a light-shielding conductive film, and the second electrode 2404 of the top emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. . In addition, the first electrode 2402b of the bottom emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film, and the second electrode 2405b is formed using a light-shielding conductive film. In this structure, it is not necessary to provide a separate light shielding film. In this structure, the top emission light emitting element covers the bottom emission light emitting element. For this reason, the top emission type light emitting element can emit light from above the region where the bottom emission type light emitting element is formed, and the sum of the aperture ratios on both sides increases.

基板2407上の、上面出射型発光素子の発光領域2421において、半導体素子を有する層2401が形成され、下面出射型発光素子の発光領域2422においては、第一の絶縁層2410が形成されている。   A layer 2401 having a semiconductor element is formed in the light emitting region 2421 of the top emission light emitting element over the substrate 2407, and a first insulating layer 2410 is formed in the light emitting region 2422 of the bottom emission light emitting element.

第一の絶縁層2410上に、下面出射型発光素子の第一の電極2402bが形成されている。下面出射型発光素子の第一の電極2402bは、透光性を有する導電膜で形成されている。下面出射型発光素子の第一の電極上に、第一の発光物質を含む層2403bが形成されている。発光物質を含む層2403b上に第二の電極2405bが形成されており、その上に第二の絶縁層2412が形成されている。一方、半導体素子を有する層2401上に、第三の絶縁層2411が形成されており、第二の絶縁層及び第三の絶縁層の上に、上面出射型発光素子の第一の電極2405a、第二の発光物質を含む層2403a、第二の電極2404が形成されている。また、下面出射型発光素子の第二の電極2405b及び上面出射型発光素子の第一の電極2405aは、遮光性を有する導電膜であり、上面出射型発光素子の第二の電極2404は、透光性を有する導電膜で形成される。なお、上面出射型発光素子を下面出射型発光素子の上方で重ねず形成してもよい。この場合、下面出射型発光素子の第二の電極2405a及び上面出射型発光素子の第一の電極2405bは、同一の材料で形成することができる。   A first electrode 2402b of a bottom emission light emitting element is formed over the first insulating layer 2410. The first electrode 2402b of the bottom emission light-emitting element is formed using a light-transmitting conductive film. A layer 2403b containing a first light-emitting substance is formed over the first electrode of the bottom emission light-emitting element. A second electrode 2405b is formed over the layer 2403b containing a light-emitting substance, and a second insulating layer 2412 is formed thereover. On the other hand, a third insulating layer 2411 is formed over the layer 2401 having a semiconductor element, and the first electrode 2405a of the top emission light-emitting element is formed over the second insulating layer and the third insulating layer. A layer 2403a containing a second light-emitting substance and a second electrode 2404 are formed. The second electrode 2405b of the bottom emission light emitting element and the first electrode 2405a of the top emission light emitting element are light-shielding conductive films, and the second electrode 2404 of the top emission light emitting element is a transparent electrode. It is formed of a conductive film having light properties. Note that the top emission light emitting element may be formed without being overlapped above the bottom emission light emitting element. In this case, the second electrode 2405a of the bottom emission light-emitting element and the first electrode 2405b of the top emission light-emitting element can be formed using the same material.

上面出射型発光素子の第二の電極2404上には、対向基板2408が設けられている。   A counter substrate 2408 is provided over the second electrode 2404 of the top emission light-emitting element.

次に、図1(F)の構造について説明する。図1(F)では、図1(E)と同様、異なる2つの発光物質を含む層が形成されている。また、上面出射型発光素子の第一の電極は、遮光性を有する導電膜で形成されており、上面出射型発光素子の第二の電極は、透光性導電膜で形成されている。また、下面出射型発光素子の第一の電極は、透光性導電膜で形成されており、第二の電極は遮光性を有する導電膜で形成されている。本構造では、別途遮光膜を設けなくともよい。   Next, the structure of FIG. In FIG. 1F, similarly to FIG. 1E, a layer including two different light-emitting substances is formed. The first electrode of the top emission type light emitting element is formed of a light-shielding conductive film, and the second electrode of the top emission type light emitting element is formed of a translucent conductive film. The first electrode of the bottom emission light emitting element is formed of a light-transmitting conductive film, and the second electrode is formed of a light-shielding conductive film. In this structure, it is not necessary to provide a separate light shielding film.

基板2507上に、上面出射型発光素子の発光領域2521において、半導体素子を有する層2501が形成され、その上に、上面出射型発光素子の第一の電極2502aが形成され、その上に、第一の発光物質を含む層2503aが形成されており、その上に第二の電極2504aが形成されている。また、第二の電極上に、第一の絶縁層2511が形成されている。   A layer 2501 having a semiconductor element is formed over a substrate 2507 in a light emitting region 2521 of the top emission light emitting element, and a first electrode 2502a of the top emission light emitting element is formed thereover, and a first electrode 2502a is formed thereover. A layer 2503a containing one light-emitting substance is formed, and a second electrode 2504a is formed thereover. A first insulating layer 2511 is formed over the second electrode.

下面出射型発光素子の発光領域2522においては、基板2507それぞれの上に、第二の絶縁層2510が形成されている。第二の絶縁層2510上に、下面出射型発光素子の第一の電極2502bが形成されており、その上に第二の発光物質を含む層2503bが形成されており、その上に第二の電極2504bが形成されている。   In the light emitting region 2522 of the bottom emission light emitting element, a second insulating layer 2510 is formed on each of the substrates 2507. A first electrode 2502b of a bottom emission light-emitting element is formed over the second insulating layer 2510, a layer 2503b containing a second light-emitting substance is formed thereover, and a second electrode 2502b is formed thereover. An electrode 2504b is formed.

上面出射型発光素子の第一の電極及び下面出射型発光素子の第二の電極は、遮光性を有する導電膜で形成されている。また、下面出射型発光素子の第二の電極及び下面出射型発光素子の第一の電極は、透光性を有する導電膜で形成されている。   The first electrode of the top emission light emitting element and the second electrode of the bottom emission light emitting element are formed of a light-shielding conductive film. The second electrode of the bottom emission light emitting element and the first electrode of the bottom emission light emitting element are formed of a light-transmitting conductive film.

上面出射型発光素子の第二の電極2504a及び下面出射型発光素子の第一の電極2502bは、透光性を有する導電膜であり、同一の材料で形成することができる。   The second electrode 2504a of the top emission light-emitting element and the first electrode 2502b of the bottom emission light-emitting element are light-transmitting conductive films and can be formed using the same material.

上面出射型発光素子に形成されている第一の絶縁層2511及び下面出射型発光素子に形成されている第二の電極2504b上に対向基板2508が設けられている。   A counter substrate 2508 is provided over the first insulating layer 2511 formed in the top emission light-emitting element and the second electrode 2504b formed in the bottom emission light-emitting element.

(実施の形態2)
本発明の二面出射型の発光装置の一例を図2および図4を用いて説明する。なお、本実施の形態は、実施の形態1で説明した図1(B)の構造に相当する。
(Embodiment 2)
An example of the dual emission type light emitting device of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that this embodiment corresponds to the structure of FIG. 1B described in Embodiment 1.

図2は画素部の一部における断面を示す図である。図2において、101は基板、102、109、111は絶縁層、107a、107bはTFT、110a、110bが第一の電極(それぞれ、110aは遮光導電層、110bは透明導電層)、112は発光物質を含む層、113は第二の電極、114は遮光層、115は透明保護層、116はシール剤、117は対向基板、141は上面出射型発光素子の発光領域、142は下面出射型発光素子の発光領域である。以下に、発光素子の構造の詳細を説明する。   FIG. 2 is a diagram showing a cross section of a part of the pixel portion. In FIG. 2, 101 is a substrate, 102, 109 and 111 are insulating layers, 107a and 107b are TFTs, 110a and 110b are first electrodes (110a is a light-shielding conductive layer and 110b is a transparent conductive layer, respectively), and 112 is light emitting. A layer containing a substance, 113 is a second electrode, 114 is a light shielding layer, 115 is a transparent protective layer, 116 is a sealant, 117 is a counter substrate, 141 is a light emitting region of a top emission light emitting element, and 142 is a bottom emission light emission. This is a light emitting region of the element. Details of the structure of the light-emitting element will be described below.

本実施の形態では、第一の電極110a、第一の発光物質を含む層112、及び第二の電極113で上面出射型発光素子を構成し、第一の電極110b、第一の発光物質を含む層112、及び第二の電極113で下面出射型発光素子を構成する。   In this embodiment mode, a top emission light-emitting element is formed using the first electrode 110a, the first light-emitting substance-containing layer 112, and the second electrode 113, and the first electrode 110b and the first light-emitting substance are used. The included layer 112 and the second electrode 113 form a bottom emission light emitting element.

基板101上に絶縁層102を介して、TFT107a、107b(pチャネル型TFT)が形成される。各TFTは、チャネル形成領域103a、103b、低濃度不純物領域104a、104b、高濃度不純物領域(ソース領域またはドレイン領域)105a、105bで形成される半導体領域、半導体領域とゲート電極との間に設けられらゲート絶縁膜(図示しない)、ゲート電極106a、106b、ドレイン電極(またはソース電極)108a、108bで形成される。   TFTs 107 a and 107 b (p-channel TFTs) are formed on the substrate 101 with an insulating layer 102 interposed therebetween. Each TFT is provided between channel formation regions 103a and 103b, low-concentration impurity regions 104a and 104b, high-concentration impurity regions (source regions or drain regions) 105a and 105b, and between the semiconductor region and the gate electrode. These are formed by a gate insulating film (not shown), gate electrodes 106a and 106b, and drain electrodes (or source electrodes) 108a and 108b.

図示しないが、ドレイン電極108a、108bと同じ工程で電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)やソース配線などの配線も同時に形成される。なお、第一電極とドレイン電極とを別々に形成する例を示したが、同一の層で形成してもよい。この場合、ドレイン電極が上面出射型発光素子の発光領域に形成される。このときのドレイン電極は、チタン膜と、窒化チタン膜と、アルミニウムを主成分とする膜と、窒化チタン膜とを順に積層したものを用いるとよい。   Although not shown, wiring such as a power supply line (a wiring for supplying a constant voltage or a constant current) and a source wiring are formed at the same time in the same process as the drain electrodes 108a and 108b. In addition, although the example which forms a 1st electrode and a drain electrode separately was shown, you may form with the same layer. In this case, the drain electrode is formed in the light emitting region of the top emission type light emitting element. In this case, a drain electrode in which a titanium film, a titanium nitride film, a film containing aluminum as a main component, and a titanium nitride film are sequentially stacked may be used.

半導体領域とドレイン電極(またはソース電極)108a、108bとの間には、有機材料または無機材料からなる絶縁層109が形成される。また、ここでは図示しないが、一つの画素には、他にもTFT(nチャネル型TFTまたはpチャネル型TFT)を一つ、または複数設けている。また、ここでは、一つのチャネル形成領域103a、103bを有するTFTを示したが、特に限定されず、複数のチャネルを有するTFTとしてもよい。また、ここでは、低濃度不純物領域104a、104bを有するTFTを示したが、これに限定されず、チャネル形成領域103a、103b及び高濃度不純物領域(ソース領域及びドレイン領域)105a、105bを有するTFTとしてもよい。   An insulating layer 109 made of an organic material or an inorganic material is formed between the semiconductor region and the drain electrodes (or source electrodes) 108a and 108b. Although not shown here, one or more other TFTs (n-channel TFTs or p-channel TFTs) are provided in one pixel. Although a TFT having one channel formation region 103a and 103b is shown here, the TFT is not particularly limited and may be a TFT having a plurality of channels. Although the TFT having the low concentration impurity regions 104a and 104b is shown here, the present invention is not limited to this. The TFT having the channel formation regions 103a and 103b and the high concentration impurity regions (source region and drain region) 105a and 105b. It is good.

半導体領域は、非晶質半導体領域または結晶質半導体領域で形成できる。また、半導体領域の材料としては、半導体元素(シリコン、ゲルマニウム等)の単体または合金、有機半導体材料等を用いることができる。有機半導体材料とは、比抵抗が10-2〜1016Ωcm程度の半導体的な電気的性質を示す有機化合物のことであり、その構造は、骨格が共役二重結合から構成されるπ電子共役系の高分子材料が望ましい。具体的には、ポリチオフェン、ポリ(3−アルキルチオフェン)、ポリチオフェン誘導体等の可溶性の高分子材料である。 The semiconductor region can be formed of an amorphous semiconductor region or a crystalline semiconductor region. As a material for the semiconductor region, a single element or alloy of a semiconductor element (silicon, germanium, or the like), an organic semiconductor material, or the like can be used. An organic semiconductor material is an organic compound exhibiting semiconducting electrical properties with a specific resistance of about 10 −2 to 10 16 Ωcm, and its structure is a π-electron conjugate whose skeleton is composed of conjugated double bonds. Polymeric materials of the system are desirable. Specifically, it is a soluble polymer material such as polythiophene, poly (3-alkylthiophene), and polythiophene derivatives.

基板101および対向基板117としては、アルミノホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラスなどの無アルカリガラス基板、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PES(ポリエーテルサルファイド)、ポリプロピレン、ポリプロピレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリサルフォン、またはポリフタールアミド等のプラスチック基板を用いることができる。 Examples of the substrate 101 and the counter substrate 117 include alkali-free glass substrates such as aluminoborosilicate glass, barium borosilicate glass, and aluminosilicate glass, PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyether sulfide), and polypropylene. A plastic substrate such as polypropylene sulfide, polycarbonate, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polysulfone, or polyphthalamide can be used.

また、第一の電極110a、110bは、発光素子の陽極(或いは陰極)であって、110aは遮光性を有する導電膜からなり、第一の電極110bは透明導電膜からなる。本実施の形態では、遮光性を有する導電膜からなる第一の電極110aは、上面出射型発光素子の発光領域141を覆う。また、透明導電膜からなる第一の電極110bは、下面出射型発光素子の発光領域142を覆う。すなわち、遮光性を有する導電膜からなる第一の電極110aは、上面出射型発光素子のTFT107a及び下面出射型発光素子のTFT107bのドレイン電極108bの一部以外を覆う。この構造により、下面出射型発光素子の発光領域142の面積を増加させることができる。なお、遮光性を有する導電膜からなる第一の電極110aは、透明導電膜との2層構造、または積層構造でもよい。   The first electrodes 110a and 110b are anodes (or cathodes) of the light emitting element, 110a is made of a light-shielding conductive film, and the first electrode 110b is made of a transparent conductive film. In this embodiment mode, the first electrode 110a made of a light-shielding conductive film covers the light-emitting region 141 of the top emission light-emitting element. The first electrode 110b made of a transparent conductive film covers the light emitting region 142 of the bottom emission light emitting element. That is, the first electrode 110a made of a light-shielding conductive film covers a portion other than the drain electrode 108b of the TFT 107a of the top emission light emitting element and the TFT 107b of the bottom emission light emitting element. With this structure, the area of the light emitting region 142 of the bottom emission light emitting element can be increased. Note that the first electrode 110a made of a light-shielding conductive film may have a two-layer structure or a stacked structure with a transparent conductive film.

遮光性を有する導電膜の材料の詳細は、実施の形態4に示す。   Details of the material of the conductive film having a light-blocking property are described in Embodiment 4.

また、第一の電極110a、110bは、絶縁層109を覆う絶縁層111を介して、それぞれドレイン電極108a、108bに接続されている。このため、上面出射型発光素子は、下面出射型発光素子に接続されるTFT上に形成することができる。絶縁層111としては、無機材料(酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコンなど)、感光性または非感光性の有機材料(ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、レジストまたはベンゾシクロブテン)、またはこれらの積層などを用いることができる。   The first electrodes 110a and 110b are connected to the drain electrodes 108a and 108b through the insulating layer 111 covering the insulating layer 109, respectively. Therefore, the top emission light emitting element can be formed on a TFT connected to the bottom emission light emitting element. As the insulating layer 111, an inorganic material (silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, or the like), a photosensitive or non-photosensitive organic material (polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, resist, or benzocyclobutene), or a material thereof Lamination etc. can be used.

発光物質を含む層112は、蒸着法またはスピンコート法、インクジェット等の塗布法を用いて形成する。発光材料が低分子材料の場合には主に蒸着法を用い、中分子、高分子の場合には主に塗布法を用いる。ここでは、発光物質を含む層112を蒸着装置で成膜を行い、均一な膜厚を得る。なお、信頼性を向上させるため、発光物質を含む層112の形成直前に真空加熱(100℃〜250℃)を行って脱気を行うことが好ましい。   The layer 112 containing a light-emitting substance is formed by an evaporation method, a spin coating method, a coating method such as inkjet. When the light emitting material is a low molecular weight material, the vapor deposition method is mainly used, and when the light emitting material is a medium molecule or high molecular weight, the coating method is mainly used. Here, the layer 112 containing a light-emitting substance is formed with a vapor deposition apparatus to obtain a uniform film thickness. Note that in order to improve reliability, it is preferable to perform deaeration by performing vacuum heating (100 ° C. to 250 ° C.) immediately before formation of the layer 112 containing a light-emitting substance.

第二の電極113は、導電膜からなり、発光素子の陰極(或いは陽極)である。発光素子の陰極(或いは陽極)の材料の詳細は、実施の形態4に示す。ここでは、第二の電極を通過させて発光させる二面出射型であるので、1nm〜10nmのAg膜、もしくはMgAg合金膜を用いる。また、1nm〜10nmのAg膜を形成する前に陰極バッファ層としてCaF2、MgF2、またはBaF2からなる透光性を有する層(膜厚1nm〜5nm)を形成してもよい。 The second electrode 113 is made of a conductive film and is a cathode (or an anode) of the light emitting element. Details of the material of the cathode (or the anode) of the light-emitting element are described in Embodiment Mode 4. Here, since it is a dual emission type that emits light through the second electrode, an Ag film of 1 nm to 10 nm or an MgAg alloy film is used. In addition, a light-transmitting layer (film thickness: 1 nm to 5 nm) made of CaF 2 , MgF 2 , or BaF 2 may be formed as a cathode buffer layer before forming an Ag film of 1 nm to 10 nm.

また、陰極の低抵抗化を図るため、1nm〜10nmの金属薄膜上に透明導電膜(ITO(酸化インジウム酸化スズ合金)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In23―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等)を膜厚50nm〜200nmで形成してもよい。陰極形成の際には蒸着法、又は抵抗加熱法を用い、蒸着マスクを用いて選択的に形成すればよい。 In order to reduce the resistance of the cathode, a transparent conductive film (ITO (indium oxide tin oxide alloy), indium zinc oxide alloy (In 2 O 3 —ZnO), zinc oxide (ZnO) is formed on a metal thin film of 1 nm to 10 nm. ) Etc.) may be formed with a film thickness of 50 nm to 200 nm. In forming the cathode, an evaporation method or a resistance heating method may be used, and it may be selectively formed using an evaporation mask.

遮光膜114は、下面出射型発光素子から発せられる光が上面に漏れないように設ける。遮光膜は、Al、Ti、Mo、その他の金属や、顔料を含む非透光性の樹脂材料で形成すれば良い。遮光膜を導電膜とすることで補助電極の機能をも有し、陰極の低抵抗化を図ることができる。 The light shielding film 114 is provided so that light emitted from the bottom emission light emitting element does not leak to the top surface. The light shielding film may be formed of non-translucent resin material including Al, Ti, Mo, other metals, and pigments. By using a light-shielding film as the conductive film, it also has the function of an auxiliary electrode, and the resistance of the cathode can be reduced.

透明保護層115はスパッタ法または蒸着法により形成し、金属薄膜からなる第二の電極113及び遮光層114を保護するとともに水分の侵入を防ぐ封止膜となる。透明保護層115としては、スパッタ法またはCVD法により得られる窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜(SiNO膜(組成比N>O)またはSiON膜(組成比N<O))、炭素を主成分とする薄膜(例えばDLC膜、CN膜)を用いることができる。   The transparent protective layer 115 is formed by sputtering or vapor deposition, and serves as a sealing film that protects the second electrode 113 and the light shielding layer 114 made of a metal thin film and prevents moisture from entering. As the transparent protective layer 115, a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film (SiNO film (composition ratio N> O) or SiON film (composition ratio N <O)) obtained by sputtering or CVD, carbon A thin film (for example, a DLC film or a CN film) whose main component is can be used.

こうして形成された透明保護層115は有機化合物を含む層を発光物質を含む層とする発光素子の封止膜として最適である。   The transparent protective layer 115 thus formed is optimal as a sealing film for a light-emitting element in which a layer containing an organic compound is used as a layer containing a light-emitting substance.

また、シール剤116で対向基板117と基板101とを貼り合せている。シール剤は基板間隔を確保するためのギャップ材を含有しており、画素部を囲むように配置されている。   Further, the counter substrate 117 and the substrate 101 are bonded to each other with a sealant 116. The sealing agent contains a gap material for securing the gap between the substrates, and is disposed so as to surround the pixel portion.

つぎに、本実施の形態で示される隣接する2つの画素(上面出射型発光素子及び下面出射型発光素子)の上面図を図4に示す。図4は、図2において、第一の電極110a、110bを形成した後(すなわち、発光物質を含む層112を形成する前)の上面図である。図2と同様の部分は同様の符号を用いて説明を省略する。   Next, FIG. 4 shows a top view of two adjacent pixels (a top emission light emitting element and a bottom emission light emitting element) shown in this embodiment mode. FIG. 4 is a top view after the formation of the first electrodes 110a and 110b in FIG. 2 (that is, before the formation of the layer 112 containing a light-emitting substance). Components similar to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図4に示すように、本実施の形態の隣接する2つの画素の画素は、第一のソース信号線121、第二のソース信号線122、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)123、ゲート信号線124を有する。第一のソース信号線121は、上面出射型発光素子151のソース信号線であり、第二のソース信号線122は下面出射型発光素子152のソース信号線である。また、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)123及びゲート信号線124は各発光素子において共通に設けているが、各発光素子ごとに設けてもよい。   As shown in FIG. 4, the pixels of two adjacent pixels in this embodiment include a first source signal line 121, a second source signal line 122, and a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current). 123 and a gate signal line 124. The first source signal line 121 is a source signal line of the top emission type light emitting element 151, and the second source signal line 122 is a source signal line of the bottom emission type light emitting element 152. Further, the power supply line (wiring for supplying a constant voltage or constant current) 123 and the gate signal line 124 are provided in common in each light emitting element, but may be provided for each light emitting element.

上面出射型発光素子には、スイッチング用TFTと駆動用TFTとが設けられており、それそれ半導体領域が125、135で形成される。また、下面出射型発光素子にも同様にスイッチング用TFTと駆動用TFTとが設けられており、それぞれ半導体領域が126、136で形成される。スイッチングTFTのソース領域では、各ソース信号線121、122が電気的に接続されている。また、ゲート信号線124が半導体領域125、126それぞれのチャネル形成領域を覆っている。さらに、スイッチングTFTのドレイン領域には、それぞれドレイン電極129、130が接続されており、かつ駆動用TFTのゲート配線127、128と接続されている。またゲート配線127、128は、駆動用TFTの半導体領域135、136それぞれのチャネル形成領域を覆っている。駆動用TFTのソース領域は、それぞれ電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)123が接続されており、ドレイン領域は、ドレイン電極108a、108bを介して、それぞれ第一の電極110a、110bに接続している。   The top emission light emitting element is provided with a switching TFT and a driving TFT, and a semiconductor region is formed of 125 and 135, respectively. Similarly, a bottom emission type light emitting element is provided with a switching TFT and a driving TFT, and semiconductor regions are formed of 126 and 136, respectively. In the source region of the switching TFT, the source signal lines 121 and 122 are electrically connected. Further, the gate signal line 124 covers the channel formation regions of the semiconductor regions 125 and 126, respectively. Further, drain electrodes 129 and 130 are connected to the drain region of the switching TFT, respectively, and are connected to gate wirings 127 and 128 of the driving TFT. The gate wirings 127 and 128 cover the channel formation regions of the semiconductor regions 135 and 136 of the driving TFT. The source region of the driving TFT is connected to a power supply line (wiring for supplying constant voltage or constant current) 123, and the drain region is connected to the first electrodes 110a and 110b via the drain electrodes 108a and 108b, respectively. Connected to.

半導体領域131及び132は、容量素子を形成し、電源線123と電気的に接続されている。第一の半導体領域131、第一のゲート配線127、電源線123とこれらの間に形成される絶縁膜とで第一の容量を形成する。また、第二の半導体領域132、第二のゲート配線128、電源線123と、これらの間に形成されている絶縁層とで第二の容量素子を形成する。なお、これらの容量素子は、各駆動用TFTのゲート配線とソース領域との間に形成されている。   The semiconductor regions 131 and 132 form a capacitive element and are electrically connected to the power supply line 123. A first capacitor is formed by the first semiconductor region 131, the first gate wiring 127, the power supply line 123, and the insulating film formed therebetween. Further, the second capacitor element is formed by the second semiconductor region 132, the second gate wiring 128, the power supply line 123, and the insulating layer formed therebetween. Note that these capacitive elements are formed between the gate wiring and the source region of each driving TFT.

この後、各第一の電極上に発光物質を含む層112及び第二の電極113を形成し、下面出射型発光素子の第二の電極上に遮光膜114を形成することで、表裏二面(すなわち上面及び下面)に画像を表示することができる。   Thereafter, a layer 112 containing a light-emitting substance and a second electrode 113 are formed on each first electrode, and a light-shielding film 114 is formed on the second electrode of the bottom emission light-emitting element. In other words, images can be displayed on the upper surface and the lower surface.

図4に示されるように、上面出射型発光素子151の第一の電極110aは上面出射型発光素子151の発光領域を覆っている。この領域には、下面出射型発光素子152のスイッチング用TFT及び駆動用TFTが形成されており、下面出射型発光素子152の第一の電極の接続部分133を除く部分を覆っている。このため、下面出射型発光素子152の開口率が向上する。また、各発光素子それぞれにソース信号線121、122が設けられているため、発光素子それぞれで異なる画像を表示することが可能である。   As shown in FIG. 4, the first electrode 110 a of the top emission light emitting element 151 covers the light emitting region of the top emission light emitting element 151. In this region, a switching TFT and a driving TFT of the bottom emission type light emitting element 152 are formed, and covers a portion excluding the connection portion 133 of the first electrode of the bottom emission type light emitting element 152. For this reason, the aperture ratio of the bottom emission light emitting element 152 is improved. Further, since the source signal lines 121 and 122 are provided for the respective light emitting elements, different images can be displayed for the respective light emitting elements.

(実施の形態3)
本実施の形態では、実施の形態2と異なる構造にて二面に表示することが可能な表示装置を図3を用いて説明する。なお、本実施の形態は、実施の形態1で説明した図1(E)の構造に相当する。なお、図2と同様の部位に関しては、同様の符号を用い詳細な説明を省略する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, a display device capable of displaying images on two sides with a structure different from that in Embodiment 2 will be described with reference to FIGS. Note that this embodiment corresponds to the structure of FIG. 1E described in Embodiment 1. In addition, about the site | part similar to FIG. 2, the same code | symbol is used and detailed description is abbreviate | omitted.

本実施の形態では、第一の電極214、第二の発光物質を含む層215、及び第二の電極216で上面出射型発光素子を構成し、第一の電極211、第一の発光物質を含む層212、及び第二の電極213で下面出射型発光素子を構成する。   In this embodiment mode, a top-emission light-emitting element is formed using the first electrode 214, the layer 215 containing the second light-emitting substance, and the second electrode 216, and the first electrode 211 and the first light-emitting substance are used. The included layer 212 and the second electrode 213 form a bottom emission light-emitting element.

実施の形態2と同様に、基板101上にTFT107a、107bが形成されており、第二の絶縁層109及びドレイン電極(またはソース電極)108a、108b上には、下面出射型発光素子の第一の電極、すなわち下面出射型発光素子の陽極(または陰極)211が形成されている。この第一の電極211は、実施の形態2の第一の電極110bと同様に、透光性を有する導電膜で形成される。     Similarly to Embodiment Mode 2, TFTs 107a and 107b are formed over the substrate 101, and the first emission of the bottom emission light emitting element is formed over the second insulating layer 109 and the drain electrodes (or source electrodes) 108a and 108b. , That is, an anode (or cathode) 211 of a bottom emission light emitting element is formed. The first electrode 211 is formed of a light-transmitting conductive film, similarly to the first electrode 110b of the second embodiment.

第一の電極211の端部、第二の絶縁層109及びドレイン電極(またはソース電極)108a、108b上には、これらを覆う第三の絶縁物209(バンク、隔壁、障壁、土手などと呼ばれる)を有している。   On the end portion of the first electrode 211, the second insulating layer 109, and the drain electrodes (or source electrodes) 108a and 108b, a third insulator 209 (bank, partition wall, barrier, bank, etc.) covering them is called. )have.

絶縁層209としては、無機材料(酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコンなど)、感光性または非感光性の有機材料(ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、レジストまたはベンゾシクロブテン)、またはこれらの積層などを用いることができる。なお、有機樹脂の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いて、絶縁物の上端部のみに曲率半径を有する曲面を持たせてもよい。また、絶縁物として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。   As the insulating layer 209, an inorganic material (silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, or the like), a photosensitive or non-photosensitive organic material (polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, resist, or benzocyclobutene), or a material thereof Lamination etc. can be used. Note that positive photosensitive acrylic may be used as the organic resin material, and only the upper end portion of the insulator may have a curved surface having a radius of curvature. As the insulator, either a negative type that becomes insoluble in an etchant by photosensitive light or a positive type that becomes soluble in an etchant by light can be used.

蒸着法またはスピンコート法、インクジェット等の塗布法を用いて第一の発光物質を含む層212が、下面出射型発光素子の発光領域242に形成される。次に、下面出射型発光素子の第二の電極213が形成される。   A layer 212 containing a first light-emitting substance is formed in the light-emitting region 242 of the bottom emission light-emitting element by a vapor deposition method, a spin coating method, or a coating method such as inkjet. Next, the second electrode 213 of the bottom emission light emitting element is formed.

次に、第三の絶縁層209、及び第二の電極213を覆う第四の絶縁層210が形成される。この後、第三の絶縁層209、及び第四の絶縁層210にコンタクトホールが形成され、TFT107aのドレイン電極108aに接続する上面出射型発光素子の第一の電極214が形成される。この後、上面出射型発光素子の第一の電極214に第二の発光物質を含む層215が形成され、第四の絶縁層210及び第二の発光物質を含む層215上に第二の電極216が形成される。第二の電極216は、実施の形態2の第二の電極113と同様のもので形成される。第一の電極214、第二の発光物質を含む層215、及び第二の電極216が重畳する領域が上面出射型発光素子の発光領域241である。第四の絶縁層を介してTFT及び下面出射型発光素子上に上面出射型発光素子を形成することが可能である。このため、上面出射型発光素子の発光領域の面積が増加する。   Next, a fourth insulating layer 210 that covers the third insulating layer 209 and the second electrode 213 is formed. Thereafter, contact holes are formed in the third insulating layer 209 and the fourth insulating layer 210, and the first electrode 214 of the top emission light emitting element connected to the drain electrode 108a of the TFT 107a is formed. Thereafter, a layer 215 containing a second light emitting material is formed on the first electrode 214 of the top emission light emitting element, and the second electrode is formed on the fourth insulating layer 210 and the layer 215 containing the second light emitting material. 216 is formed. The second electrode 216 is formed of the same material as the second electrode 113 of the second embodiment. A region where the first electrode 214, the layer 215 containing the second light-emitting substance, and the second electrode 216 overlap with each other is a light-emitting region 241 of the top emission light-emitting element. A top emission light emitting element can be formed over the TFT and the bottom emission light emitting element through the fourth insulating layer. For this reason, the area of the light emitting region of the top emission type light emitting element increases.

この後、実施の形態2と同様に第四の絶縁層210および第二の電極216上に透明保護層115が形成される。この後、基板101及び対向基板117がシール剤116で張り合わされる。   Thereafter, the transparent protective layer 115 is formed on the fourth insulating layer 210 and the second electrode 216 as in the second embodiment. Thereafter, the substrate 101 and the counter substrate 117 are attached to each other with a sealant 116.

なお、本実施の形態では、各第二の電極213及び216は分離しているが、これらは発光領域外で接続していてもよい。   In the present embodiment, the second electrodes 213 and 216 are separated from each other, but they may be connected outside the light emitting region.

以上の発光素子を有する発光装置は、二面に同時に同一または別の表示物を表示することが可能である。また、下面出射型発光素子のTFTが及び下面出射型発光素子が上面出射型発光素子の第一の電極(遮光性電極)の下方にあるため、下面出射型発光素子の開口率が格段に向上する。また、上面出射型発光素子が下面出射型発光素子を覆うため、上面出射型発光素子の発光面積が増加する。このため、表示装置全体の開口率が増加する。   The light emitting device having the above light emitting element can display the same or different display objects on two surfaces at the same time. In addition, since the bottom emission type light emitting element TFT and the bottom emission type light emitting element are located below the first electrode (light-shielding electrode) of the top emission type light emitting element, the aperture ratio of the bottom emission type light emitting element is remarkably improved. To do. In addition, since the top emission light emitting element covers the bottom emission light emitting element, the light emission area of the top emission light emitting element is increased. For this reason, the aperture ratio of the entire display device increases.

なお、下面出射型発光素子の第二の電極213を形成すると同時に、上面出射型発光素子の第一の電極214を形成してもよい。この場合、上面出射型発光素子は、下面出射型発光素子を覆わないが、別途工程を設けずとも2種類の電極を形成することができるための材料の種類が少なくて済み、コスト削減が可能である。   Note that the first electrode 214 of the top emission light emitting element may be formed simultaneously with the formation of the second electrode 213 of the bottom emission light emitting element. In this case, the top emission light-emitting element does not cover the bottom emission light-emitting element, but the number of types of materials for forming two types of electrodes can be reduced without providing a separate process, and the cost can be reduced. It is.

なお、実施の形態2又は実施の形態3と同様に、図1に示される他の発光装置も形成される。   Note that the other light-emitting device shown in FIG. 1 is also formed as in the second embodiment or the third embodiment.

(実施の形態4)
本実施の形態では、実施の形態1〜3で適応が可能な発光素子の構造について図5を用いて説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment, a structure of a light-emitting element that can be applied in Embodiments 1 to 3 will be described with reference to FIGS.

発光素子は、一対の陽極と陰極、上記陽極および陰極に挟まれる発光物質を含む層とで構成される。以下、基板側に設けられる電極を第一の電極と示し、上記基板の対向側に設けられる電極を第二の電極と示す。   The light-emitting element includes a pair of an anode and a cathode, and a layer containing a light-emitting substance sandwiched between the anode and the cathode. Hereinafter, the electrode provided on the substrate side is referred to as a first electrode, and the electrode provided on the opposite side of the substrate is referred to as a second electrode.

発光物質を含む層は、少なくとも発光層を含み、正孔注入層、正孔輸送層、ブロッキング層、電子輸送層、および電子注入層といったキャリアに対する機能の異なる層のいずれか一つ、もしくは複数を組み合わせて積層することにより形成される。   The layer containing a light-emitting substance includes at least a light-emitting layer, and includes any one or a plurality of layers having different functions for carriers, such as a hole injection layer, a hole transport layer, a blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. It is formed by combining and laminating.

図5に、発光素子の断面構造の一例を示す。   FIG. 5 illustrates an example of a cross-sectional structure of the light-emitting element.

図5(A)においては、発光物質を含む層1303は、第一の電極(陽極)1301上に、正孔注入層1304、正孔輸送層1305、発光層1306、電子輸送層1307、電子注入層1308が積層されており、電子注入層1308に接して第二の電極(陰極)1302が設けられている。この構造を、ここでは順積み型素子という。   In FIG. 5A, a layer 1303 containing a light-emitting substance includes a hole injection layer 1304, a hole transport layer 1305, a light-emitting layer 1306, an electron transport layer 1307, and an electron injection over the first electrode (anode) 1301. A layer 1308 is stacked, and a second electrode (cathode) 1302 is provided in contact with the electron injection layer 1308. This structure is referred to herein as a progressive stacking element.

また、図5(B)においては、発光物質を含む層1313は、第一の電極(陰極)1311上に、電子注入層1318、電子輸送層1317、発光層1316、正孔輸送層1315、正孔注入層1314が積層されており、正孔注入層1314に接して第二の電極(陽極)1312が設けられている。この構造を、ここでは逆積み型素子という。   In FIG. 5B, the layer 1313 containing a light-emitting substance is formed over the first electrode (cathode) 1311 with an electron injection layer 1318, an electron transport layer 1317, a light-emitting layer 1316, a hole transport layer 1315, A hole injection layer 1314 is stacked, and a second electrode (anode) 1312 is provided in contact with the hole injection layer 1314. This structure is referred to herein as a reverse stacked element.

本実施の形態では、前記第一の発光素子及び第二の発光素子が図5(A)図5(B)、のどちらの形態をとっても良い。前記第一の発光素子及び第二の発光素子のどちらも順積み方素子または逆積み型素子を形成していても良いし、一方を順積み型素子で他方を逆積み型素子を形成していても良い。図2で表される発光素子の場合は前者の層構造が、図3で表される発光素子の場合は後者の層構造が好ましい。   In this embodiment mode, the first light-emitting element and the second light-emitting element may take any of the forms shown in FIGS. Either the first light emitting element or the second light emitting element may form a forward stacking element or a reverse stacking element, or one may be a forward stacking element and the other a reverse stacking element. May be. The former layer structure is preferable in the case of the light emitting element shown in FIG. 2, and the latter layer structure is preferable in the case of the light emitting element shown in FIG.

なお、本実施の形態はこれに限定するものではなく、種々の発光素子構造、例えば、陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/陰極、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔ブロッキング層/電子輸送層/陰極、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔ブロッキング層/電子輸送層/電子注入層/陰極等の構造でも構わない。なお、発光領域の配置、即ち画素電極の配置としてはストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列などを挙げることができる。   The present embodiment is not limited to this, and various light-emitting element structures such as anode / hole injection layer / light-emitting layer / electron transport layer / cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / Light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / light emission layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode, anode / hole injection layer / hole transport A structure such as a layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode may be used. Note that examples of the arrangement of the light emitting regions, that is, the arrangement of the pixel electrodes include a stripe arrangement, a delta arrangement, and a mosaic arrangement.

以下に、基板側及び対向基板側、即ち表裏二面に発光することが可能な発光素子の材料を以下に説明する。   Hereinafter, materials of a light-emitting element capable of emitting light on the substrate side and the counter substrate side, that is, the front and back surfaces will be described below.

陽極の材料としては、仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましい。陽極側を光の取り出し方向とするのであれば、インジウム−スズ酸化物(ITO)、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)等の透明導電性材料を用いればよい。また、陽極側を遮光性とするのであれば、TiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Al等の単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を用いることができる。あるいは、上記の遮光性を有する膜の上に上述した透明導電性材料を積層する方法でもよい。 As an anode material, it is preferable to use a conductive material having a large work function. If the anode side is the light extraction direction, a transparent conductive material such as indium-tin oxide (ITO) or indium-zinc oxide (IZO) may be used. In addition, if the anode side is made light-shielding, a laminate of titanium nitride and a film mainly composed of aluminum in addition to a single layer film such as TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Al, A three-layer structure of a titanium nitride film, a film containing aluminum as its main component, and a titanium nitride film can be used. Or the method of laminating | stacking the transparent conductive material mentioned above on the film | membrane which has said light-shielding property may be sufficient.

また、陰極の材料としては、仕事関数の小さい導電性材料を用いることが好ましく、具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金(Mg:Ag、Al:Liなど)の他、YbやEr等の希土類金属を用いて形成することもできる。また、LiF、CsF、CaF2、Li2O等の電子注入層を用いる場合は、アルミニウム等の通常の導電性薄膜を用いることができる。また、陰極側を光の取り出し方向とする場合は、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属を含む超薄膜と、透明導電膜(ITO、IZO、ZnO等)との積層構造を用いればよい。あるいは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属と電子輸送材料を共蒸着した電子注入層を形成し、その上に透明導電膜(ITO、IZO、ZnO等)を積層してもよい。 Moreover, it is preferable to use a conductive material having a small work function as the material of the cathode. Specifically, alkaline metals such as Li and Cs, alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, and these are used. In addition to alloys including Mg (Ag, Al: Li, etc.), rare earth metals such as Yb and Er can also be used. Further, LiF, CsF, in the case of using an electron injecting layer such as CaF 2, Li 2 O, may be used usual conductive thin film such as aluminum. When the cathode side is the light extraction direction, an ultrathin film containing an alkali metal such as Li or Cs and an alkaline earth metal such as Mg, Ca, or Sr, and a transparent conductive film (ITO, IZO, ZnO, etc.) ) And a stacked structure may be used. Alternatively, an electron injection layer in which an alkali metal or an alkaline earth metal and an electron transport material are co-evaporated may be formed, and a transparent conductive film (ITO, IZO, ZnO, or the like) may be stacked thereon.

発光物質を含む層1303、1313を形成する材料としては、低分子系、高分子系、もしくはオリゴマーやデンドリマーに代表される、中分子系の公知の有機化合物を用いることができる。また、一重項励起により発光(蛍光)する発光材料(蛍光材料、シングレット化合物)、または三重項励起により発光(リン光)する発光材料(燐光材料、トリプレット化合物)を用いることができる。   As a material for forming the layers 1303 and 1313 containing a light-emitting substance, a known organic compound having a low molecular weight, a high molecular weight, or a medium molecular weight typified by an oligomer or a dendrimer can be used. Alternatively, a light-emitting material (fluorescent material or singlet compound) that emits light (fluorescence) by singlet excitation or a light-emitting material (phosphorescent material or triplet compound) that emits light (phosphorescence) by triplet excitation can be used.

以下に、発光物質を含む層1303、1313を形成する材料の具体的例を示す。   Specific examples of materials for forming the layers 1303 and 1313 containing a light-emitting substance are shown below.

正孔注入層1304、1314を形成する正孔注入材料としては、有機化合物であればポルフィリン系の化合物が有効であり、フタロシアニン(以下、H2−Pcと示す)、銅フタロシアニン(以下、Cu−Pcと示す)等を用いることができる。また、導電性高分子化合物に化学ドーピングを施した材料も用いることが可能であり、ポリスチレンスルホン酸(以下、PSSと示す)をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン(以下、PEDOTと示す)や、ポリアニリン、ポリビニルカルバゾール(以下、PVKと示す)などが挙げられる。また、五酸化バナジウムのような無機半導体の薄膜や、酸化アルミニウムなどの無機絶縁体の超薄膜も有効である。 As a hole injection material for forming the hole injection layers 1304 and 1314, porphyrin compounds are effective as long as they are organic compounds, and phthalocyanine (hereinafter referred to as H 2 -Pc), copper phthalocyanine (hereinafter referred to as Cu--). And the like can be used. In addition, a material obtained by chemically doping a conductive polymer compound can also be used. Polyethylenedioxythiophene (hereinafter referred to as PEDOT) doped with polystyrene sulfonic acid (hereinafter referred to as PSS), polyaniline, Examples thereof include polyvinyl carbazole (hereinafter referred to as PVK). In addition, an inorganic semiconductor thin film such as vanadium pentoxide or an ultra-thin film of an inorganic insulator such as aluminum oxide is also effective.

正孔輸送層1305、1315を形成する正孔輸送材料としては、芳香族アミン系(すなわち、ベンゼン環−窒素の結合を有するもの)の化合物が好適である。広く用いられている材料として、例えば、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(略称:TPD)や、その誘導体である4,4'−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(略称:α−NPD)などがある。また、4,4',4''−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(略称:TDATA)や、4,4',4''−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(略称:MTDATA)などのスターバースト型芳香族アミン化合物が挙げられる。   As the hole transporting material for forming the hole transporting layers 1305 and 1315, an aromatic amine-based compound (that is, a compound having a benzene ring-nitrogen bond) is preferable. As a widely used material, for example, N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine (abbreviation: TPD), 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (abbreviation: α-NPD) which is a derivative thereof. In addition, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine (abbreviation: TDATA) and 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) ) -N-phenyl-amino] -triphenylamine (abbreviation: MTDATA) and the like.

発光層1306、1316を形成する発光材料としては、具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(以下、Alq3と示す)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(以下、Almq3と示す)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(以下、BeBq2と示す)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−(4−ヒドロキシ−ビフェニリル)−アルミニウム(以下、BAlqと示す)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(以下、Zn(BOX)2と示す)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(以下、Zn(BTZ)2と示す)などの金属錯体があり、また各種蛍光色素が有効である。また、三重項発光材料も可能であり、白金ないしはイリジウムを中心金属とする錯体が主体である。三重項発光材料としては、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(以下、Ir(ppy)3と示す)、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィリン−白金(以下、PtOEPと示す)などが知られている。 Specific examples of a light emitting material for forming the light emitting layers 1306 and 1316 include tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter referred to as Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (hereinafter referred to as Almq 3). ), Bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) beryllium (hereinafter referred to as BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato)-(4-hydroxy-biphenylyl) -aluminum (hereinafter referred to as BAlq). ), Bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (hereinafter referred to as Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (hereinafter referred to as There are metal complexes such as Zn (BTZ) 2 ), and various fluorescent dyes are effective. A triplet light emitting material is also possible, and is mainly a complex having platinum or iridium as a central metal. As the triplet light emitting material, tris (2-phenylpyridine) iridium (hereinafter referred to as Ir (ppy) 3 ), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21H, 23H-porphyrin -Platinum (hereinafter referred to as PtOEP) is known.

電子輸送層1307、1317を形成する電子輸送材料としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq3)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−(4−ヒドロキシ−ビフェニリル)−アルミニウム(略称:BAlq)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX)2)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ)2)などの金属錯体が挙げられる。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)などのオキサジアゾール誘導体、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)などのトリアゾール誘導体、2,2’,2”−(1,3,5−ベンゼントリイル)トリス[1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール](略称:TPBI)のようなイミダゾール誘導体、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)などのフェナントロリン誘導体を用いることができる。 As an electron transport material for forming the electron transport layers 1307 and 1317, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10 -Hydroxybenzo [h] -quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato)-(4-hydroxy-biphenylyl) -aluminum (abbreviation: BAlq), bis [2- (2- Metal complexes such as hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ) and bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn (BTZ) 2 ). . In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (abbreviation: PBD), 1,3-bis [5- Oxadiazole derivatives such as (p-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4-tert-butylphenyl) -4 -Phenyl-5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) ) -1,2,4-triazole (abbreviation: p-EtTAZ) derivative, 2,2 ′, 2 ″-(1,3,5-benzenetriyl) tris [1-phenyl-1H-benzimidazole ] An imidazole derivative such as (abbreviation: TPBI), a phenanthroline derivative such as bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), and bathocuproin (abbreviation: BCP) can be used.

電子注入層1308、1318に用いることができる電子注入材料としては、上述した電子輸送材料を用いることができる。その他に、LiF、CsFなどのアルカリ金属ハロゲン化物や、CaF2のようなアルカリ土類ハロゲン化物、Li2Oなどのアルカリ金属酸化物のような絶縁体の超薄膜がよく用いられる。また、リチウムアセチルアセトネート(略称:Li(acac)や8−キノリノラト−リチウム(略称:Liq)などのアルカリ金属錯体も有効である。 As the electron injecting material that can be used for the electron injecting layers 1308 and 1318, the above-described electron transporting materials can be used. In addition, an ultra-thin film of an insulator such as an alkali metal halide such as LiF or CsF, an alkaline earth halide such as CaF 2 , or an alkali metal oxide such as Li 2 O is often used. In addition, alkali metal complexes such as lithium acetylacetonate (abbreviation: Li (acac) and 8-quinolinolato-lithium (abbreviation: Liq) are also effective.

実施の形態1〜3に示した発光素子は、上に示した構造及び材料を適宜選択して用いることができる。   For the light-emitting elements described in any of Embodiments 1 to 3, the structures and materials described above can be selected as appropriate.

本実施の形態の発光装置をフルカラー表示とする場合、発光物質を含む層1303、1313に、赤色、緑色、青色の発光を示す材料層を、それぞれ蒸着マスクを用いて蒸着することができる。また、この方法に代わって、スピンコート法、インクジェット法など適宜、選択的に成膜することもできる。   In the case where the light-emitting device of this embodiment mode is used for full-color display, a material layer that emits red, green, and blue light can be deposited on the layers 1303 and 1313 containing a light-emitting substance using a deposition mask. Further, instead of this method, a film can be selectively formed as appropriate, such as a spin coating method or an ink jet method.

さらには、発光物質を含む層を白色発光とし、カラーフィルターを別途設けることでフルカラー表示しても良い。あるいは、発光物質を含む層を青色発光とし、色変換層などを別途設けることによってフルカラー表示してもよい。   Further, a layer containing a light emitting substance may emit white light, and a full color display may be performed by separately providing a color filter. Alternatively, a layer containing a light emitting substance may emit blue light, and a full color display may be performed by separately providing a color conversion layer or the like.

(実施の形態5)
次に、実施形態1〜4で示す本発明の発光装置の駆動方法に関して、以下に説明する。
(Embodiment 5)
Next, the driving method of the light emitting device of the present invention shown in Embodiments 1 to 4 will be described below.

本実施の形態において、TFTのソース領域とドレイン領域とは、構造や動作条件によって、分別が難しいため、一方を第一の電極、他方を第二の電極として表記する。また、第一の発光素子を上面出射型発光素子とし、第二の発光素子を下面出射型発光素子とする。   In this embodiment mode, since the source region and the drain region of the TFT are difficult to separate depending on the structure and operating conditions, one is described as a first electrode and the other as a second electrode. The first light emitting element is a top emission light emitting element, and the second light emitting element is a bottom emission light emitting element.

本実施の形態の一例を図6に示す。ここでは、第一の発光素子3007、第二の発光素子3008の発光、非発光の制御を、それぞれ第一、第二の駆動用TFT3005a、3005bによって行う例を示す。   An example of this embodiment is shown in FIG. Here, an example in which light emission and non-light emission control of the first light emitting element 3007 and the second light emitting element 3008 is performed by the first and second driving TFTs 3005a and 3005b, respectively.

点線枠3000で囲まれた領域が発光装置の繰り返し単位であり、第一のソース信号線3001a、第二のソース信号線3001b、ゲート信号線3002、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)3003、第一のスイッチング用TFT3004a、第二のスイッチング用TFT3004b、第一の駆動用TFT3005a、第二の駆動用TFT3005b、第一の発光素子3007、第二の発光素子3008を有する。各画素において、第一の発光素子3007の出射光が得られる領域を第一の領域、第二の発光素子3008の出射光が得られる領域を第二の領域とし、いずれも繰り返し単位内に一つずつ含まれる。なお、第一の領域は上面出射とし、第二の領域は下面出射とする。   A region surrounded by a dotted frame 3000 is a repeating unit of the light emitting device, and includes a first source signal line 3001a, a second source signal line 3001b, a gate signal line 3002, and a power supply line (a wiring for supplying a constant voltage or a constant current). ) 3003, a first switching TFT 3004a, a second switching TFT 3004b, a first driving TFT 3005a, a second driving TFT 3005b, a first light emitting element 3007, and a second light emitting element 3008. In each pixel, a region where the emitted light of the first light emitting element 3007 is obtained is a first region, and a region where the emitted light of the second light emitting element 3008 is obtained is a second region. Included one by one. Note that the first region is top emission and the second region is bottom emission.

第一のスイッチング用TFT3004aのゲート電極は、ゲート信号線3002と電気的に接続され、第一の電極は、第一のソース信号線3001aと電気的に接続され、第二の電極は、第一の駆動用TFT3005aのゲート電極と電気的に接続されている。第一の駆動用TFT3005aの第一の電極は、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)3003と電気的に接続され、第二の電極は、第一の発光素子3007の第一の電極と電気的に接続されている。第二のスイッチング用TFT3004bのゲート電極は、ゲート信号線3002と電気的に接続され、第一の電極は、第二のソース信号線3001bと電気的に接続され、第二の電極は、第二の駆動用TFT3005bのゲート電極と電気的に接続されている。第二の駆動用TFT3005bの第一の電極は、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)3003と電気的に接続され、第二の電極は、第二の発光素子3008の第一の電極と電気的に接続されている。第一の発光素子3007の第二の電極および、第二の発光素子3008の第二の電極は、それぞれ、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)と電位差を有する対向電極3009、3010にそれぞれ接続されている。なお、対向電極3009、3010は共通の電極でもよい。   The gate electrode of the first switching TFT 3004a is electrically connected to the gate signal line 3002, the first electrode is electrically connected to the first source signal line 3001a, and the second electrode is The driving TFT 3005a is electrically connected to the gate electrode. The first electrode of the first driving TFT 3005a is electrically connected to a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current) 3003, and the second electrode is a first electrode of the first light emitting element 3007. It is electrically connected to the electrode. The gate electrode of the second switching TFT 3004b is electrically connected to the gate signal line 3002, the first electrode is electrically connected to the second source signal line 3001b, and the second electrode is The driving TFT 3005b is electrically connected to the gate electrode. The first electrode of the second driving TFT 3005b is electrically connected to a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current) 3003, and the second electrode is connected to the first light emitting element 3008. It is electrically connected to the electrode. The second electrode of the first light-emitting element 3007 and the second electrode of the second light-emitting element 3008 are counter electrodes 3009 and 3010 having a potential difference from a power supply line (a wiring for supplying a constant voltage or a constant current), respectively. Are connected to each. The counter electrodes 3009 and 3010 may be a common electrode.

第一のソース信号線3001aに出力された映像信号は、第一のスイッチング用TFT3004aがONするタイミングで、第一の駆動用TFT3005aのゲート電極へと入力され、映像信号にしたがって、第一、第二の発光素子3007、3008に電流が供給されて発光する。同様に、第二のソース信号線3001bに出力された映像信号は、第二のスイッチング用TFT3004bがONするタイミングで、第二の駆動用TFT3005bのゲート電極へと入力され、映像信号にしたがって、第一、第二の発光素子3007、3008に電流が供給されて発光する。前述のとおり、第一の領域、第二の領域は、それぞれ基板表裏から出射光が得られる。   The video signal output to the first source signal line 3001a is input to the gate electrode of the first driving TFT 3005a at the timing when the first switching TFT 3004a is turned on. A current is supplied to the second light emitting elements 3007 and 3008 to emit light. Similarly, the video signal output to the second source signal line 3001b is input to the gate electrode of the second driving TFT 3005b at the timing when the second switching TFT 3004b is turned on. A current is supplied to the first and second light emitting elements 3007 and 3008 to emit light. As described above, outgoing light is obtained from the front and back of the substrate in each of the first region and the second region.

なお、図6においては、各発光素子3007、3008は、ゲート信号線3002、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)3003を共通としているが、この構造に限られず、各発光素子にそれぞれゲート信号線及び電源線を有してもよい。また、各発光素子の、発光、非発光を制御する駆動TFTを、画素内に設けた例を示したが、これに限られず、画素部の外側(周辺部)に設けても良い。さらには、外付けICチップ等を用いてもよい。     In FIG. 6, the light emitting elements 3007 and 3008 share a gate signal line 3002 and a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current) 3003. However, the present invention is not limited to this structure. Each may have a gate signal line and a power supply line. Further, although the example in which the driving TFT for controlling light emission and non-light emission of each light emitting element is provided in the pixel is shown, the present invention is not limited to this, and the driving TFT may be provided outside the pixel portion (peripheral portion). Further, an external IC chip or the like may be used.

図6とは異なる駆動方法を図7を用いて示す。ここでは、各発光素子を排他的にON、OFFするスイッチを設ける構造を示す。図7において、点線枠4000で囲まれた領域が発光装置の繰り返し単位であり、ソース信号線4001、ゲート信号線4002、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)4003、スイッチング用TFT4004、第一の駆動用TFT4005、第二の駆動用TFT4006、第一の発光素子4007、第二の発光素子4008を有する。各画素において、第一の発光素子4007の出射光が得られる領域が第一の領域、第二の発光素子4008の出射光が得られる領域が第二の領域であり、いずれも繰り返し単位内に一つずつ含まれる。   A driving method different from that in FIG. 6 will be described with reference to FIG. Here, a structure is shown in which a switch for exclusively turning on and off each light emitting element is provided. In FIG. 7, a region surrounded by a dotted line frame 4000 is a repeating unit of the light emitting device, and includes a source signal line 4001, a gate signal line 4002, a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current) 4003, a switching TFT 4004, A first driving TFT 4005, a second driving TFT 4006, a first light emitting element 4007, and a second light emitting element 4008 are included. In each pixel, the region from which the emitted light from the first light emitting element 4007 is obtained is the first region, and the region from which the emitted light from the second light emitting element 4008 is obtained is the second region. Included one by one.

スイッチング用TFT4004のゲート電極は、ゲート信号線4002と電気的に接続され、第一の電極は、ソース信号線4001と電気的に接続され、第二の電極は、第一、第二の駆動用TFT4005、4006のゲート電極と電気的に接続されている。第一の駆動用TFT4005の第一の電極は、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)4003と電気的に接続され、第二の電極は、第一の発光素子3007の第一の電極と電気的に接続されている。第二の駆動用TFT4006の第一の電極は、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)4003と電気的に接続され、第二の電極は、第二の発光素子4008の第一の電極と電気的に接続されている。第一の発光素子4007の第二の電極および、第二の発光素子4008の第二の電極は、それぞれ、電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)と電位差を有する対向電極4009、4010と電気的に接続されている。   The gate electrode of the switching TFT 4004 is electrically connected to the gate signal line 4002, the first electrode is electrically connected to the source signal line 4001, and the second electrode is used for the first and second driving. The gate electrodes of the TFTs 4005 and 4006 are electrically connected. A first electrode of the first driving TFT 4005 is electrically connected to a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current) 4003, and a second electrode is a first electrode of the first light emitting element 3007. It is electrically connected to the electrode. A first electrode of the second driving TFT 4006 is electrically connected to a power supply line (wiring for supplying a constant voltage or a constant current) 4003, and the second electrode is a first electrode of the second light emitting element 4008. It is electrically connected to the electrode. The second electrode of the first light-emitting element 4007 and the second electrode of the second light-emitting element 4008 are counter electrodes 4009 and 4010 having a potential difference from a power supply line (a wiring for supplying a constant voltage or a constant current), respectively. And are electrically connected.

電源線(定電圧もしくは定電流を供給する配線)4003と、第一、第二の駆動用TFT4005、4006の第一の電極との間に、それぞれ排他的に動作するアナログスイッチ4011、4012を設け、表示面制御信号によってON・OFFを制御することにより、ある期間ではアナログスイッチ4011がONし、第一の発光素子4007に電流が供給されると、第一の領域には出射光が得られる。一方、アナログスイッチ4011と排他的に動作するアナログスイッチ4012は、この時はOFFしており、第二の発光素子4008への電流供給経路を遮断する。よって第二の領域は発光しない。反対に、アナログスイッチ4012がONし、第二の発光素子4008に電流が供給され、第二の領域に映像が表示されている期間では、アナログスイッチ4011はOFFし、第一の発光素子4007への電流供給経路を遮断する。よって第一の領域は発光しない。このため、第一の領域と第二の領域とを交互に発光するため、各領域で表示する映像信号を交互にソース信号線4001に入力すれば、各領域で異なった光を射出することができ、この結果、表裏で異なる画像を表示することができる。   Analog switches 4011 and 4012 that operate exclusively are provided between a power supply line (wiring for supplying constant voltage or constant current) 4003 and the first electrodes of the first and second driving TFTs 4005 and 4006, respectively. By controlling ON / OFF by the display surface control signal, the analog switch 4011 is turned ON for a certain period, and when current is supplied to the first light emitting element 4007, emitted light is obtained in the first region. . On the other hand, the analog switch 4012 that operates exclusively with the analog switch 4011 is OFF at this time, and the current supply path to the second light emitting element 4008 is cut off. Therefore, the second region does not emit light. On the other hand, in a period in which the analog switch 4012 is turned on, current is supplied to the second light emitting element 4008, and an image is displayed in the second region, the analog switch 4011 is turned off and the first light emitting element 4007 is turned on. Shut off the current supply path. Therefore, the first region does not emit light. For this reason, since the first region and the second region emit light alternately, if the video signal to be displayed in each region is alternately input to the source signal line 4001, different light can be emitted in each region. As a result, different images can be displayed on the front and back sides.

ここでは、各発光素子を排他的にON、OFFするスイッチとしてアナログスイッチを用いたが、これに限られず、TFT、機械的スイッチ等を用いることもできる。また、各発光素子を排他的にON、OFFするスイッチを、画素内に設けた例を示したが、これに限られず、画素外(駆動回路等)、外付けICチップ等を用いてもよい。     Here, an analog switch is used as a switch for exclusively turning on and off each light emitting element. However, the present invention is not limited to this, and a TFT, a mechanical switch, or the like can also be used. In addition, although an example in which a switch for exclusively turning on and off each light emitting element is provided in the pixel is shown, the present invention is not limited to this, and an external IC chip or the like outside the pixel may be used. .

また、アナログスイッチ4011、4012を排他的に動作させるのではなく、図8に示すように、第一のインバータ5013、第二のインバータ5014、第一のアナログスイッチ4011、第二のアナログスイッチ4012、表示面制御信号1、表示面制御信号2を用いて独立に制御してもよい。この構成によると、第一の領域、第二の領域はいずれも任意に表示・非表示を切り替えることが出来る。   Further, instead of operating the analog switches 4011 and 4012 exclusively, as shown in FIG. 8, the first inverter 5013, the second inverter 5014, the first analog switch 4011, the second analog switch 4012, You may control independently using the display surface control signal 1 and the display surface control signal 2. FIG. According to this configuration, both the first area and the second area can be arbitrarily switched between display and non-display.

図7、図8に示した構成を用いて、第一の領域と第二の領域とで互いに異なる映像を表示させる方法としては、例えば1フレーム期間において、奇数フレームで第一の領域の表示を行い、偶数フレームで第二の領域の表示を行うなどといった方法が挙げられる。このとき、表示面制御信号は、1フレーム期間ごとに反転させ、図7のアナログスイッチ4011と4012、図8のアナログスイッチ4011と4012が互いに1フレームごとにON・OFFを切り替えられれば良い。   As a method of displaying different images in the first area and the second area using the configuration shown in FIGS. 7 and 8, for example, in the one frame period, the display of the first area is performed in odd frames. For example, the second area may be displayed in an even frame. At this time, the display surface control signal may be inverted every frame period, and the analog switches 4011 and 4012 in FIG. 7 and the analog switches 4011 and 4012 in FIG. 8 may be switched ON / OFF for each frame.

また、図7に示す構成において、表示面制御信号が、使用者が何らかの操作を行うことによって出力され、表示面の切り替えを行っても良いし、使用している状態(例えば端末を折りたたんだ状態か開いている状態かなど)によって、自動的に切り替え動作が行われるようにしても良い。   In the configuration shown in FIG. 7, the display surface control signal is output when the user performs some operation, and the display surface may be switched or used (for example, the terminal is folded). The switching operation may be automatically performed depending on whether it is open or not.

以上の駆動方法により、第一の領域と第二の領域、すなわち発光装置の表裏で同時に異なる像を表示することができる。このため両方向から表示装置を見たとき、一方が他方の鏡像を見ることなく、同時に同じ画像を見ることが可能である。また、両方向でまったく異なる画像を見ることも可能である。     By the above driving method, different images can be displayed simultaneously on the first area and the second area, that is, on the front and back of the light emitting device. For this reason, when viewing the display device from both directions, one can view the same image at the same time without looking at the mirror image of the other. It is also possible to see completely different images in both directions.

本実施例では、実施の形態1〜5で形成される発光装置有する電気機器について述べる。代表的には、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはデジタルビデオディスク(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)、テレビ受像機、電光掲示板、電子ブック、などが挙げられる。以下にこれらの代表例を示す。   In this example, electric appliances having the light-emitting device formed in Embodiment Modes 1 to 5 are described. Typically, a video camera, a digital camera, a notebook personal computer, a portable information terminal (such as a mobile computer, a mobile phone, a portable game machine, or an electronic book), and an image reproducing device (specifically, a digital device) provided with a recording medium And a television receiver, an electronic bulletin board, an electronic book, and the like. Typical examples of these are shown below.

本実施例では、本発明の発光装置を、携帯情報端末において代表的な携帯電話に適用した例を示す。   In this embodiment, an example in which the light emitting device of the present invention is applied to a typical mobile phone in a portable information terminal is shown.

図9は、本発明にかかる携帯電話機の概観図であり、図9(A)は、開いた状態の斜視図、図9(B)は同様のものの閉じた状態の斜視図であって、第二の表示面が設けられている第一の筐体側から見た斜視図である。   9A and 9B are schematic views of a mobile phone according to the present invention, in which FIG. 9A is a perspective view in an opened state, and FIG. 9B is a perspective view in a closed state of the same, It is the perspective view seen from the 1st housing | casing side provided with the 2nd display surface.

携帯電話機は、2つの筐体(第一の筺体8000a及び第二の筺体8000b)が、ヒンジ8101によって接続されており、ヒンジ8101を中心として回転させることが可能である。   In the mobile phone, two housings (a first housing 8000a and a second housing 8000b) are connected by a hinge 8101, and can be rotated around the hinge 8101.

第一の筐体8000aには、第一の表示面8001a、第二の表示面8001b、操作ボタン8002b、スピーカ8003a、8003b、アンテナ8004、カメラ用レンズ8005等が設けられている。   The first housing 8000a is provided with a first display surface 8001a, a second display surface 8001b, operation buttons 8002b, speakers 8003a and 8003b, an antenna 8004, a camera lens 8005, and the like.

一方、第二の筐体8000bには、操作ボタン8002a、マイク8102、等を有している。   On the other hand, the second housing 8000b includes operation buttons 8002a, a microphone 8102, and the like.

携帯電話機が開いている場合、第一の表示面8001aを主な表示面として使用する。画面操作は、操作ボタン8002aによって行う。携帯電話が閉じている場合、第二の表示面8001bを主な表示面として使用する。この場合には、第一の筐体に設けられた操作ボタン8002bによって表示情報の操作を行う。   When the mobile phone is open, the first display surface 8001a is used as a main display surface. The screen operation is performed using the operation button 8002a. When the cellular phone is closed, the second display surface 8001b is used as a main display surface. In this case, the display information is operated by an operation button 8002b provided on the first housing.

図9(C)は、図9(A)の携帯電話機を真横から見た断面図である。第一の筺体8000aの内部には、表示部に接続された表示コントローラ8008が設けられており、表示内容を制御している。また、第二の筺体8000b内部には、バッテリー8010と本体駆動用モジュール8009が設けられており、バッテリー8010で生じた電力を用いて、表示部、表示コントローラ8008、本体駆動用モジュール8009等を駆動する。   FIG. 9C is a cross-sectional view of the mobile phone in FIG. 9A viewed from the side. Inside the first housing 8000a, a display controller 8008 connected to the display unit is provided to control display contents. In addition, a battery 8010 and a main body driving module 8009 are provided in the second casing 8000b, and the display unit, the display controller 8008, the main body driving module 8009, and the like are driven using the power generated in the battery 8010. To do.

図(D)は、図9(C)の領域Aを拡大した図である。第一の表示面8001aと第二の表示面8001bは、表示部8013(基板8011と対向基板8012との間に形成された発光素子を含む)から発光された画像を各表示面にて表示している。   FIG. (D) is an enlarged view of region A in FIG. 9 (C). The first display surface 8001a and the second display surface 8001b display images emitted from the display portion 8013 (including a light emitting element formed between the substrate 8011 and the counter substrate 8012) on each display surface. ing.

実施の形態1〜5で示される発光装置を、本実施例の表示部8013に用いることができる。   The light-emitting device described in any of Embodiments 1 to 5 can be used for the display portion 8013 of this example.

第一の表示面8001aと第二の表示面8001bを同時に表示すれば、撮影者8006側からも被撮影者8007側からもモニタ映像を見ることが可能となり、アングル等の撮影意図が満たされているかを被撮影者が確認してから撮影者がシャッターを切るということも可能となる。このような撮影では、撮影者と被撮影者のコミュニケーションが円滑となり、撮影の失敗を減らす効果がある。   If the first display surface 8001a and the second display surface 8001b are displayed at the same time, the monitor image can be viewed from both the photographer 8006 side and the photographed person 8007 side, and the photographing intention such as the angle is satisfied. It is also possible for the photographer to release the shutter after the photographed person confirms whether or not. In such shooting, the communication between the photographer and the person to be photographed is smooth, and there is an effect of reducing shooting failures.

また、レンズ8005を手前に向けた状態での撮影時にも、表示領域の広い第二の表示面8001bでモニタしながらの撮影が可能となる。   Further, even when shooting with the lens 8005 facing forward, shooting can be performed while monitoring on the second display surface 8001b having a wide display area.

また、従来は、第一の表示面と第二の表示面とを表示するためには、二つの表示装置が必要であったが、本実施例では、ひとつの表示装置で異なる表示面で表示することが可能であるため、携帯電話機の容積を低減することが可能であり、機器の小型化が図れる。   Conventionally, two display devices are required to display the first display surface and the second display surface, but in this embodiment, display is performed on different display surfaces with one display device. Therefore, the volume of the mobile phone can be reduced, and the size of the device can be reduced.

また、従来はスペースの関係上、第二の表示面を有する表示部は、小さな表示面積のものしか内蔵出来なかったが、本発明によって、第一の表示面8001aと同等の表示サイズを有する第二の表示面8001bを設けることが可能となるため、携帯電話機を開けなくともメール、Webページ等の閲覧が可能となる。このため、操作の煩雑を低減することができる。 Conventionally, the display unit having the second display surface can be incorporated only with a small display area because of space, but according to the present invention, the display unit having the same display size as the first display surface 8001a can be provided. Since the second display surface 8001b can be provided, it is possible to browse e-mails, web pages, and the like without opening the mobile phone. For this reason, the complexity of operation can be reduced.

なお、本発明の発光装置は、デジタルカメラやデジタルビデオカメラにも実施可能であり、携帯電話機と同様の効果を有する。   Note that the light-emitting device of the present invention can also be implemented in a digital camera or a digital video camera, and has the same effect as a mobile phone.

本発明の発光装置をノート型パーソナルコンピュータに適用した例を図10に示す。   An example in which the light-emitting device of the present invention is applied to a notebook personal computer is shown in FIG.

図10は、本発明にかかるノート型パーソナルコンピュータの概観図であり、図10(A)は、開いた状態の側面図、図10(B)は、同様のものを使用者(説明者)9005、すなわち2つの筺体を閉じた場合にキーボードに面する第一の表示面側から見た斜視図、図10(C)は、同様のものを聴講者9006、すなわち第一の表示面の反対側の表示面(第二の表示面)9002bからみた斜視図である。   10A and 10B are schematic views of a notebook personal computer according to the present invention. FIG. 10A is a side view in an opened state, and FIG. 10B is a user (explainer) 9005. FIG. 10C is a perspective view seen from the side of the first display surface facing the keyboard when the two housings are closed, and FIG. 10C shows the same thing as the listener 9006, that is, the opposite side of the first display surface. It is the perspective view seen from the display surface (second display surface) 9002b.

ノート型パーソナルコンピュータは、2つの筐体(第一の筺体9000a及び第二の筺体9000b)が、ヒンジ9001によって接続されており、ヒンジ9001を中心として回転させることが可能である。   The notebook personal computer has two housings (first housing 9000 a and second housing 9000 b) connected by a hinge 9001, and can be rotated around the hinge 9001.

第一の筐体9000aには、表示パネル、操作ボタン、スピーカ、表示部駆動用モジュール(図示しない)等が設けられており、表示パネルは、第一の表示面9002a及び第二の表示面9002bを有する。   The first housing 9000a is provided with a display panel, operation buttons, speakers, a display unit driving module (not shown), and the like. The display panel includes a first display surface 9002a and a second display surface 9002b. Have

一方、第二の筐体9000bには、キーボード9003、開閉ボタン9004、本体駆動用モジュール(図示しない)等を有している。   On the other hand, the second housing 9000b includes a keyboard 9003, an open / close button 9004, a main body driving module (not shown), and the like.

なお、本発明の発光装置を有するノート型パーソナルコンピュータは、1つの表示装置で2つの表示面を設けることができるため、表示部の厚さを抑えることが可能であり、表示部の重量が減少し、かつ薄型化となる。すなわち、ノート型パーソナルコンピュータの軽量化及び小型化が図れる。また、パソコンを操作している人(説明者)9005が見る画像と同様のものを、聴講者9006が反対側で見ることができるため、対面式で説明をする際、互いに違和感なく画像を見ることができる。   Note that since the notebook personal computer including the light-emitting device of the present invention can have two display surfaces with one display device, the thickness of the display portion can be suppressed, and the weight of the display portion is reduced. However, the thickness is reduced. That is, the laptop personal computer can be reduced in weight and size. In addition, since the listener 9006 can see the same image as the image viewed by the person (explainer) 9005 who operates the personal computer on the opposite side, the images can be viewed without any sense of incongruity when explaining in a face-to-face manner. be able to.

なお、本発明の発光装置を、テレビ受像機、DVD再生機等に設けることも可能である。この場合も、ノート型パーソナルコンピュータと同様の効果を得ることができる。さらには、第一の表示面と第二の表示面とで、まったく異なった画像を表示することが可能であるため、ひとつのテレビ受像機、DVD再生機等で複数の画像を見ることが可能である。   Note that the light-emitting device of the present invention can be provided in a television receiver, a DVD player, or the like. In this case, the same effect as that of the notebook personal computer can be obtained. Furthermore, since it is possible to display completely different images on the first display surface and the second display surface, it is possible to view multiple images on a single TV receiver, DVD player, etc. It is.

本発明の表示装置を電光掲示板に適応した例を図11に示す。   An example in which the display device of the present invention is applied to an electric bulletin board is shown in FIG.

図11は、電車の時刻を表示する電光掲示板であり、筺体7001、表示部7002、表示部を駆動するための駆動装置(図示せず)が設けられている。また、支持体7003によって電光掲示板を天井、壁、柱等に固定している。   FIG. 11 is an electric bulletin board that displays train times, and is provided with a housing 7001, a display portion 7002, and a drive device (not shown) for driving the display portion. In addition, the electronic bulletin board is fixed to a ceiling, a wall, a pillar, or the like by a support 7003.

本発明の発光装置を、表示部に適応することで、電車種類、出発時刻、行き先、車両数等の電車情報を表裏に表示することができるため、電光掲示板の重量を軽量化することが可能である。また、異なった情報を各面において表示することができるため、電光掲示板の数量を減らすことが可能であり、コスト削減が可能である。   By adapting the light emitting device of the present invention to the display unit, train information such as train type, departure time, destination, number of vehicles can be displayed on the front and back, so the weight of the electric bulletin board can be reduced. It is. In addition, since different information can be displayed on each surface, the number of electronic bulletin boards can be reduced, and the cost can be reduced.

なお、電光掲示板の代わりに電光案内板にも本発明を適応することができる。この場合も、電光掲示板と同様の効果を得ることができる。   The present invention can also be applied to an electric light guide plate instead of the electric bulletin board. In this case, the same effect as the electronic bulletin board can be obtained.

本発明の発光装置の断面を説明する図。FIG. 6 illustrates a cross section of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の断面を説明する図。FIG. 6 illustrates a cross section of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の断面を説明する図。FIG. 6 illustrates a cross section of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の上面を説明する図。FIG. 6 illustrates a top surface of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光素子を説明する図。4A and 4B illustrate a light-emitting element of the present invention. 本発明の駆動方法を説明する図。The figure explaining the drive method of this invention. 本発明の駆動方法を説明する図。The figure explaining the drive method of this invention. 本発明の駆動方法を説明する図。The figure explaining the drive method of this invention. 本発明の電子機器の一例を説明する図。8A and 8B each illustrate an example of an electronic device of the invention. 本発明の電子機器の一例を説明する図。8A and 8B each illustrate an example of an electronic device of the invention. 本発明の電子機器の一例を説明する図。8A and 8B each illustrate an example of an electronic device of the invention.

Claims (11)

隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子がマトリクス状に配置された画素部を有し、
前記第一の発光素子は、基板の第一の面に発光が可能であり、前記第二の発光素子は前記基板の第一の面と反対側の第二の面に発光が可能であり、
前記第一の発光素子の前記第二の面側への発光は遮光されており、前記第二の発光素子の前記第一の面側への発光は遮光されており、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、前記第一の半導体素子及び前記第二の半導体素子は、前記第一の発光素子又は前記第二の発光素子に覆われていることを特徴とする発光装置。
A pixel portion in which adjacent first light emitting elements and second light emitting elements are arranged in a matrix,
The first light emitting element can emit light on a first surface of the substrate, and the second light emitting element can emit light on a second surface opposite to the first surface of the substrate,
Light emission to the second surface side of the first light emitting element is shielded, light emission to the first surface side of the second light emitting element is shielded,
The first light emitting element is connected to a first semiconductor element, the second light emitting element is connected to a second semiconductor element, and the first semiconductor element and the second semiconductor element are connected to the first semiconductor element. A light-emitting device covered with a light-emitting element or the second light-emitting element.
隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、前記第一の発光素子及び前記第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、
前記第一の発光素子は、第一の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第二の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第二の発光素子は、第三の透光性を有する電極、前記発光物質を含む層、及び前記第二の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、
前記第一の発光素子は、第一の遮光膜、前記第1の半導体素子及び前記第二の半導体素子を覆設し、
前記第二の発光素子は、第二の遮光膜に覆設されることを特徴とする発光装置。
Adjacent first light emitting element and second light emitting element are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements for driving the first light emitting element and the second light emitting element,
The first light-emitting element has a laminated structure in which an electrode having a first light-transmitting property, a layer containing a light-emitting substance, and an electrode having a second light-transmitting property are sequentially provided from the substrate side,
The second light-emitting element has a stacked structure in which a third light-transmitting electrode, a layer containing the light-emitting substance, and the second light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. And
The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element,
The first light emitting element covers the first light shielding film, the first semiconductor element and the second semiconductor element,
The light-emitting device, wherein the second light-emitting element is covered with a second light-shielding film.
請求項2において、前記第一の透光性を有する電極及び前記第三の透光性を有する電極は、同じ材料で形成されていることを特徴とする発光装置。   The light-emitting device according to claim 2, wherein the first light-transmitting electrode and the third light-transmitting electrode are formed of the same material. 隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、前記第一の発光素子及び前記第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、
前記第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、前記発光物質を含む層、及び前記第一の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、
前記第一の発光素子は、前記第1の半導体素子及び前記第二の半導体素子を覆設し、
前記第二の発光素子は、第二の遮光膜に覆設されることを特徴とする発光装置。
Adjacent first light emitting element and second light emitting element are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements for driving the first light emitting element and the second light emitting element,
The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side,
The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing the light-emitting substance, and the first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. And
The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element,
The first light emitting element covers the first semiconductor element and the second semiconductor element,
The light-emitting device, wherein the second light-emitting element is covered with a second light-shielding film.
隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、前記第一の発光素子及び前記第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、
前記第一の発光素子は、第一の透光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第二の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第二の発光素子は、第三の透光性を有する電極、前記発光物質を含む層、及び第一の遮光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、
前記第一の発光素子は、第二の遮光膜、前記第1の半導体素子及び前記第二の半導体素子を覆設することを特徴とする発光装置。
Adjacent first light emitting element and second light emitting element are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements for driving the first light emitting element and the second light emitting element,
The first light-emitting element has a laminated structure in which an electrode having a first light-transmitting property, a layer containing a light-emitting substance, and an electrode having a second light-transmitting property are sequentially provided from the substrate side,
The second light-emitting element has a stacked structure in which a third light-transmitting electrode, a layer containing the light-emitting substance, and a first light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side,
The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element,
The light-emitting device, wherein the first light-emitting element covers a second light-shielding film, the first semiconductor element, and the second semiconductor element.
請求項5において、前記第一の透光性を有する電極及び前記第三の透光性を有する電極は、同じ材料で形成されていることを特徴とする発光装置。   6. The light-emitting device according to claim 5, wherein the first light-transmitting electrode and the third light-transmitting electrode are formed of the same material. 隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、前記第一の発光素子及び前記第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、
前記第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、前記発光物質を含む層、及び第二の遮光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、
前記第一の発光素子は、前記第1の半導体素子及び前記第二の半導体素子を覆設することを特徴とする発光装置。
Adjacent first light emitting element and second light emitting element are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements for driving the first light emitting element and the second light emitting element,
The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side,
The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing the light-emitting substance, and a second light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side,
The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element,
The first light-emitting element covers the first semiconductor element and the second semiconductor element.
隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、前記第一の発光素子及び前記第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、
前記第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、第一の発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、第二の発光物質を含む層、及び第二の遮光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、
前記第一の発光素子は、前記第1の半導体素子、前記第二の半導体素子、及び前記第二の発光素子を覆設することを特徴とする発光装置。
Adjacent first light emitting element and second light emitting element are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements for driving the first light emitting element and the second light emitting element,
The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a first light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. And
The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing a second light-emitting substance, and a second light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side. And
The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element,
The first light-emitting element covers the first semiconductor element, the second semiconductor element, and the second light-emitting element.
隣り合う第一の発光素子及び第二の発光素子が、前記第一の発光素子及び前記第二の発光素子を駆動する半導体素子が設けられた基板上にマトリクス状に配置され、
前記第一の発光素子は、第一の遮光性を有する電極、第一の発光物質を含む層、及び第一の透光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第二の発光素子は、第二の透光性を有する電極、第二の発光物質を含む層、及び第二の遮光性を有する電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第一の発光素子は第一の半導体素子と接続し、第二の発光素子は第二の半導体素子と接続し、
前記第一の発光素子は、前記第1の半導体素子、前記第二の半導体素子を覆設することを特徴とする発光装置。
Adjacent first light emitting element and second light emitting element are arranged in a matrix on a substrate provided with semiconductor elements for driving the first light emitting element and the second light emitting element,
The first light-emitting element has a stacked structure in which a first light-shielding electrode, a layer containing a first light-emitting substance, and a first light-transmitting electrode are sequentially provided from the substrate side. And
The second light-emitting element has a stacked structure in which a second light-transmitting electrode, a layer containing a second light-emitting substance, and a second light-shielding electrode are sequentially provided from the substrate side. And
The first light emitting element is connected to the first semiconductor element, the second light emitting element is connected to the second semiconductor element,
The first light-emitting element covers the first semiconductor element and the second semiconductor element.
請求項9において、第一の発光素子の前記第一の透光性を有する電極及び第二の発光素子の第二の透光性を有する電極は、同じ材料で形成されていることを特徴とする発光装置。   10. The first light-transmitting electrode of the first light-emitting element and the second light-transmitting electrode of the second light-emitting element are formed of the same material according to claim 9. Light-emitting device. 請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の発光装置を有する電子機器。

An electronic apparatus comprising the light emitting device according to claim 1.

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