JP2004528718A - ビーム経路を改善したガス放電レーザ - Google Patents

Abstract

【課題】ガス放電レーザ、特に高エネルギ紫外線パルスレーザビームを生成する高繰返し率ガス放電レーザを提供する。
【解決手段】約５ｍＪ又はそれ以上のパルスエネルギと２，０００Ｈｚを超えるパルス繰返し率での高品質パルスレーザビームを生成することができる、パージされたビーム経路を有するエキシマレーザ。レーザシステムを通るパージされたビーム経路全体は、ビーム経路の汚染を最小限に抑えるために密封される。好ましい実施形態は、ＬＮＰ（５４）内の熱歪みを最小限に抑えるために熱的に分断されたＬＮＰ開口要素（７０Ａ）を備える。この実施形態は、特に集積回路リソグラフィ用光源として設計されたＡｒＦエキシマレーザである。波長計（７）には、出力レーザビームに露出された隔チャンバの特別なパージが設けられる。
【選択図】図３

Description

【技術分野】
【０００１】
本出願は、本明細書において引用により組み込まれる、２０００年１１月１７日出願の米国特許出願一連番号第０９／７１６，０４１号、２００１年５月１１日出願の米国特許出願一連番号第０９／８５４，０９７号、及び２００１年１１月１４日出願の米国特許出願一連番号第１０／０００，９９１号に対する優先権を主張する。本発明は、ガス放電レーザに関し、特に、高エネルギ紫外線パルスレーザビームを生成する高繰返し率ガス放電レーザに関する。
【背景技術】
【０００２】
放電ガスレーザ
放電ガスレーザは公知であり、１９６０年代のレーザの発明後間もなくから利用可能である。２つの電極間の高電圧放電によって、ガス状の利得媒体が励起される。利得媒体を含む共振空洞によって、光の増幅の促進が可能になり、その後、光は、レーザビームの形で空洞から抽出される。これらの放電ガスレーザの多くは、パルスモードで作動される。
エキシマレーザ
エキシマレーザは、特殊な形式のガス放電レーザであり、それ自体は１９７０年代半ばから知られている。集積回路リソグラフィに有益であるエキシマレーザの説明は、１９９１年６月１１日に付与された「小型エキシマレーザ」と題した米国特許第５，０２３，８８４号で説明されている。この発明は、本出願人の雇用主に譲渡されており、引用により本明細書に組み込まれる。特許第５，０２３，８８４号で説明されているエキシマレーザは、高繰返し率パルスレーザである。図１及び図２において、レーザ１０の主要要素を示す。（図１は、米国特許第５，０２３，８８４号の図１に、図２は、その図７に対応する。）放電は、約５／８インチ離間された２つの長い（約２３インチ）電極１８及び２０との間で起こる。従来技術によるレーザの繰返し率は、説明したレーザと同様に、一般的に約１００パルス／秒から２０００パルス／秒の範囲内である。これらの高繰返し率レーザには、通常、ガス循環システムが設けられている。先に言及したレーザにおいては、これは、約２３枚のブレード４８を有する長尺かご形ファン４６で行われる。ファンブレード構造体は、電極１８及び２０より若干大きく、パルス作動率において電極間の放電擾乱ガスがパルス間で取り除かれるように十分な循環を行う。図１のフィン付き水冷熱交換器５８は、放電及びファンによって追加される熱をレーザガスから取り除くために使用される。
【０００３】
モジュール設計
これらのエキシマレーザは、集積回路リソグラフィに使用される時には、一般的に製造ラインで「２４時間体制」で作動され、従ってダウンタイムは高くつく可能性がある。こういう理由から、構成要素の大半は、通常は数分以内で交換することができるモジュールにまとめられている。
ラインナローイング
リソグラフィに使用されるエキシマレーザは、ピコメートルの何分の一にまで帯域幅が減じられたその出力ビームを有する必要がある。この「ラインナローイング」は、一般的に、レーザの共振空洞の背面を形成するラインナローイングモジュール（「ラインナローイングパッケージ」又は「ＬＮＰ」と呼ばれる）において達成される。この「ＬＮＰ」は、一般的に、プリズム、ミラー、及び回折格子を含む精密な光学要素で構成される。繰返し率が大きくなるにつれて、「ＬＮＰ」による安定した性能の維持が深刻な課題になる。
【０００４】
ビーム品質の制御
集積回路リソグラフィの光源として使用された時、レーザビームパラメータ（即ち、パルスエネルギ、波長、及び帯域幅）は、一般的に、非常に厳しい仕様の範囲内に制御される。これには、パルスエネルギのパルス毎のフィードバック制御、及び、ラインナローイングされた出力ビームの波長の若干遅いフィードバック制御が必要とされる。パルス繰返し率を２倍又はそれ以上にするには、これらのフィードバック制御システムがはるかに高速に機能することが必要である。
【０００５】
繰返し率の増加
集積回路の生産増加を促進するために従来技術による装置よりも高い平均電力で作動するガス放電レーザ光源に対する必要性が存在する。例えば、４，０００Ｈｚから６，０００Ｈｚの範囲の繰返し率で５〜１０ｍＪの範囲のパルスエネルギで作動するＫｒＦレーザ、ＡｒＦレーザ、及びＦ２レーザに対する必要性がある。上記のパルスエネルギでの繰返し率が高くなるほど、これらのガス放電レーザの共振空洞内に熱及び放射線の両方に関する問題が生じる。
【０００６】
【特許文献１】
米国特許出願一連番号第０９／７１６，０４１号
【特許文献２】
米国特許出願一連番号第０９／８５４，０９７号
【特許文献３】
米国特許出願一連番号第１０／０００，９９１号
【特許文献４】
米国特許第５，０２３，８８４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
必要とされるのは、これらの実質的に増加した平均電力レベルでの高品質性能を可能にするための、これらのガス放電レーザの共振空洞構成要素の改良である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、約５ｍＪ又はそれ以上のパルスエネルギと２，０００Ｈｚを超えるパルス繰返し率での高品質パルスレーザビームを生成することができる、パージされたビーム経路を有するエキシマレーザを提供する。レーザシステムを通るパージされたビーム経路全体は、ビーム経路の汚染を最小限に抑えるために密封される。
好ましい実施形態は、ＬＮＰ内の熱歪みを最小限に抑えるために熱的に分断されたＬＮＰ開口要素を備える。この実施形態は、特に集積回路リソグラフィ用光源として設計されたＡｒＦエキシマレーザである。改良された波長計には、出力レーザビームに露出された隔チャンバの特別なパージが設けられる。
【０００９】
現在稼動中のこの一般的な種類の典型的な従来技術エキシマレーザは、約１，０００Ｈｚから２，５００Ｈｚのパルス繰返し率に限定される。本発明は、レーザビーム品質の大幅な向上と、レーザパルスの数又は全光出力によって測られる構成要素寿命の大幅な増加とを提供する。ビーム品質及び構成要素寿命のこれらの向上は、主として、超清潔で純粋なレーザビーム経路を確保することにより、かつ、熱的非定常性を最小限に抑えると同時に光学構成要素へのチャンバ振動の伝達も最小限に抑える設計上の改善により達成される。
このレーザは、保守及び修理のために素早く簡単にモジュール交換できるようにモジュール形式で製作される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の種々の好ましい実施形態は、図面を参照しながら説明することができる。
第１の好ましい実施形態
４ＫＨｚのＡｒＦリソグラフィレーザ
本発明の第１の好ましい実施形態を図３に示す。これは、集積回路リソグラフィに有益な高繰返し率のＡｒＦエキシマレーザのレーザチャンバ及び光学構成要素の概略図である。このレーザシステムは、毎秒４０００パルスの繰返し率で作動して５ｍＪの狭帯域パルスを生成するように設計される。(このシステムの基本的な構成要素は、１０ｍＪのパルスエネルギ及び４，０００Ｈｚで作動するように設計される同種のＫｒＦレーザの場合と同一である。ＡｒＦレーザのレーザパルスは、波長約１９３ｎｍであり、ＫｒＦレーザの波長は、約２４８ｎｍである。）図３に示すレーザシステムの主たるモジュールは、ラインナローイングパッケージＬＮＰモジュール３、レーザチャンバモジュール１、出力カプラモジュール５、波長計モジュール７、及びシャッタモジュール９である。
【００１１】
ＬＮＰモジュール３は、チャンバモジュールから独立して支えられ、かつ、ＬＮＰ及び出力カプラを、主としてレーザ放電及びファン回転から生じるチャンバによって引き起こされた振動から分離する低熱膨張材（「Ｉｎｖａｒ（登録商標）」など）の三バー・マウント５２（バーのうち２つのみを図示）上に出力カプラ５と共に取り付けられる。ＬＮＰは、三プリズムビーム拡大器６０、同調ミラー６２、及び回折格子ユニット６４が入った金属ケース５４を含む。ＬＮＰの要素も図４Ａ及び図４Ｂに図示されている。
【００１２】
図３に、図４に断面で示したレーザチャンバモジュール１を示す。上述の４，０００Ｈｚでの作動を対象に設計されたこのチャンバは、４つの水冷フィン付き熱交換器要素４６、５インチ径接線ファン５８、及び、２つの５０ｃｍ長電極５４０を備え、その全ては、デザイン的には従来技術チャンバと類似のものであるが、この場合は、それよりも高い４，０００Ｈｚの繰返し率に対して設計される。パルスパワーシステム（図示せず）は、高電圧電気パルスを供給して、レーザガス（このＡｒＦレーザにおいては、３．５％アルゴン、０．１％フッ素、及び残りはネオン）内の電極５４０間に放電を生み出す。レーザチャンバは、レーザシステムの光学構成要素から独立したレーザフレーム（図示せず）内に取り付けられたレール５０上で支えられる。
【００１３】
出力カプラモジュール５は、公称ＡｒＦレーザ波長１９３ｎｍで光の２０％を反射するように被覆されたＣａＦ₂から成る部分反射鏡を囲む金属容器で構成される。このモジュールは、三バーマウント５２の支持体８１上に取り付けられ、ＬＮＰ内の回折格子と共にこのレーザシステムの共振空洞の境界を形成する。
出力カプラモジュール５のすぐ下流側には、図３に示すように波長計モジュール７がある。この図では、構成要素のいくつかは、波長計の高エネルギ強度部分の重要なパージ技術を二次元で示すために実際とは異なる向きで示されている。実際の好ましい実施形態において、波長計の構成要素の大部分は、ビーム経路と幾何学的に垂直なパターンで配置される。主レーザ出力ビームは、直進して波長計を通り、解析のために部分反射鏡１７０から拾われる。波長計内のビームの解析された部分は、一般的に、主レーザビーム２８の軸線と垂直な平面を形成する。図５は、実際の向きによる波長計の構成要素を示す。
レーザシステムのシャッタは、図３に示すシャッタモジュール９に包含される。
【００１４】
ビーム経路環境の制御の必要性
紫外線レーザ業界で確立された慣例は、ビーム経路を窒素でパージすることである。このパージは、２つの大きな有益な効果を有する。ビーム経路内の酸素レベルを非常に低いレベルまで下げる。（一般的に数百ｐｐｍである。）また、気体放出から生じるビーム経路内の汚染のレベルを非常に低いレベルに維持する。しかし、非常に低いレベルの酸素及び気体放出汚染でさえも、特にユーザビーム品質仕様が厳しくなるほど重大な悪影響を生むには十分である。この問題は、２４８ｎｍのＫｒＦレーザでは顕著であるが、１９３ｎｍのＡｒＦレーザ及び１５３ｎｍのＦ₂レーザについては重大なものになる。本出願人は、任意のレーザの光学構成要素の有益な耐用年数は、ほぼ酸素レベルに反比例し、ほぼ汚染のレベルに反比例し、また、ほぼ積算紫外線フラックスに反比例すると判断した。積算フラックス率は増加していることから、構成要素耐用年数を維持するか、又は、構成要素耐用年数を延ばすためには、酸素レベル及び汚染レベルの大幅な低減が必要とされる。また、酸素及び汚染物質レベルの低減は、ビーム品質を向上させることが予想される。
【００１５】
ラインナローイングモジュール
図４Ａは、出力レーザビームの波長及びパルスエネルギを制御するために重要である好ましいレーザシステムの特徴の相互関係を示すブロック図である。三プリズムビーム拡大器、同調ミラー１４、及び回折格子６４を含むラインナローイングパッケージモジュール３が図示されている。波長計１０４は、出力ビーム波長をモニタし、フィードバック信号をＬＮＰプロセッサ１０６に供給し、ＬＮＰプロセッサ１０６は、出力ビームの波長を所望の非常に狭い範囲内に保つためにステッパモータ及びＰＺＴスタック８０の作動によって同調ミラー１４の位置を制御する。作動波長は、レーザコントローラ１０２により選択することができる。また、パルスエネルギは、波長計１０４で測定され、波長計１０４は、上述したように、フィードバック構成で放電電圧を調整することによってパルスエネルギを制御するコントローラ１０２によって使用される信号を供給する。図４Ｂは、ＰＺＴスタック８０、ステッパモータ８２、及びミラー１４を示すブロック図である。
【００１６】
ミラー１４の位置の大きな変化は、２６．５：１のレバーアーム８４を通じてステッパモータ８２によって生成される。この場合、圧電駆動装置８０端部のダイヤモンドパッド８１が、レバーアーム８４の支点で球形ツーリングボールに接触するように設けられる。レバーアーム８４の上部とミラーマウント８６との間の接触は、レバーアーム上の円筒形ドエルピンと、８５に示すようなミラーマウント上に取り付けられた４つの球形ボールベアリング（そのうちの２つのみを図示）とを用いてもたらされる。圧電駆動装置８０は、圧電マウント８０ＡでＬＮＰフレーム上に取り付けられており、ステッパモータは、ステッパモータマウント８２Ａでフレームに取り付けられている。ミラー１４は、３つのアルミニウム球を使用して３点マウントでミラーマウント８６内に取り付けられており、３点マウントのうち、１つのみが図４Ｂに図示されている。３つのばね（１つのみを図４Ａに図示）は、ミラーが球に当たるように保持する圧縮力を付加する。この実施形態は、圧電駆動装置をＬＮＰ内の環境から隔離するために、図４Ｂに示すようにドラム面８７Ａを有するダイヤフラムユニットを含む。また、この実施形態は、ステッパモータをＬＮＰ内の環境から隔離するために、図４Ｂに示すようにベローズユニット８５を含む。
ＬＮＰ内の全ての漏れ経路は密封されている。これらには、ＬＮＰ筐体本体に対してＬＮＰの金属上部カバーを密封する金属Ｃシールを含む。金属Ｃシールを有する密封カバーは、図４Ａに示すような曲げ機構６５を調節するための調節ネジ用の開口部を含む他の全ての開口部に設けられている。
【００１７】
ＬＮＰ開口の加熱
ＬＮＰの光学要素の１つは、ビーム断面寸法、特にＬＮＰを出入りするビーム幅を構成する開口である。一般的に、開口は、水平に３ｍｍ及び垂直に１８ｍｍのような寸法を有する矩形である。ビームは、チャンバ及びＬＮＰの両方において拡大し、従って、ビームのかなりの部分は、開口を形成する材料に入射する。ビームのこの部分は、材料に吸収されるか、又はそこから反射される。レーザの繰返し率が大きくなるにつれて、開口を構成する材料の加熱がかなりなものになる可能性がある。場合によっては、この種の従来技術によるレーザにおいては、開口の加熱は、ＬＮＰ筐体の歪みを引き起すのに十分なものであり、これによって、ＬＮＰ内の光学構成要素の不揃いが引き起こされ、これが、ビーム品質に悪影響を及ぼす。
図３に示す本発明の好ましい実施形態は、ＬＮＰから熱的に分断された新しいＬＮＰ開口を含む。これによって、そうでない場合にはレーザ出力の変化の結果として開口材料の周期的な加熱から生じるであろうＬＮＰ内の熱的非定常性が最小限に抑えられる。
【００１８】
熱分断式開口
ヒートシンク熱放散器部分を含む熱分断式開口を、図６Ａ、図６Ｂ、及び図６Ｃに示す。図６Ａ、図６Ｂ、及び図６Ｃでは、図７及び図３に示す２つのシールブラケット７０Ｂ及び７０Ｄは示されていない。開口通路自体７０Ｋ（図７に図示）は、幅１．７ｍｍ及び高さ２０．９５ｍｍである。本出願人は、開口の壁部は、チャンバからＬＮＰに入るパルスエネルギのほぼ約半分、及びＬＮＰから戻るパルスエネルギの約２０％を阻止すると見積もっている。阻止されたビームのほぼ約１５％から４０％は吸収され、残りは両方向に反射される。開口の壁部は、反射光が増幅されないように２度の角度を成している。好ましい実施形態の場合の開口壁部によって吸収されるエネルギは、ほぼ約１０ｍＪ／パルスである。連続作動時のレーザは、開口壁部によって吸収されるエネルギが約４０Ｊ／秒（即ち、４ワット）であるように毎秒４０００パルスを生成する。一実施形態において、開口要素はアルミニウムであり、質量約８００ｇｍ、表面積０．２ｍ²である。アルミニウムは、開口要素の熱容量が約７２０Ｊ／℃となるように約０．９Ｊ／ｇｍ°Ｋの熱容量を有する。従って、熱損失を無視すると、連続作動時には、開口要素の温度は、約０．０５５℃／秒又は約３．３℃／分の割合で上がることになる。表面積０．２ｍ²に関して１０Ｗ／ｍ²°Ｋのα拡散値を仮定すると、開口の平衡温度上昇は、約ΔＴ＝（４０Ｗ）（１０Ｗ／ｍ²°Ｃ）（０．２ｍ²）又は約２０℃になる。
【００１９】
通常、レーザは、１００パルスに対して０．３秒のダウンタイムを繰り返し、その後ウェーハ切り替えのための１分のダウンタイムがあって、次に別の１００パルスバーストなどがある、０．３秒間に毎秒４０００パルスのようなバーストモードで作動される。このシーケンスは、何日も２４時間稼動で続けることができるであろう。この作動モードで、開口要素の平均温度の変動は、約１０℃となる。これは、ＬＮＰ筐体に直接に結合された開口の壁部に最大約５０℃の温度変動が発生し、従ってＬＮＰ構造体及びその光学構成要素の歪みが発生してビーム品質に悪影響を与えた従来技術を凌ぐ重要な改良点である。
【００２０】
簡単密封ベローズシール
本出願人は、ビーム経路内にレーザモジュール（チャンバ１、出力カプラ５、波長計７、及びシャッタ９を含む）を再度設置した時に真空適合シールに対してビーム経路の素早い密封を可能にする簡単密封ベローズシールを開発した。簡単密封ベローズシールは、シールがビーム経路のそれぞれの密封された部分の真空品質の密封をもたらすが、経路は真空で作動されず、通常は大気圧を若干上回る圧力が掛かっていることに注意すべきである。
【００２１】
高速密封は、これらのモジュールが数分以内に交換可能であるべきであるという大きな必要性の点で重要である。簡単密封ベローズシールは、図３で９２Ａ、９２Ｂ、及び９２Ｃに図示されている。簡単密封ベローズシールの基本的なデザインを図８Ａから図８Ｅに示す。簡単密封ベローズシールは、４つの部分から成るシールである。これらの４つの経路は、（１）図８Ａに示すベローズ部９３Ａ、図８Aに示すフランジ部９３Ｂ、図８Ａに示す金属Ｃ密封リング９３Ｃ、それに、図８Ｃに示す第１の圧縮リングクランプ９３Ｄである。第２の圧縮リングクランプは、図８Ｅに図示されている。簡単密封ベローズは、図８Ｄでは組み付けられた状態で図示されている。２つの更なる金属Ｃシールは、第１のレーザ部９３Ｅに対してフランジ部９３Ｂを、第２のレーザ部９３Ｆに対して密封ベローズ部分９３Ａを密封するために使用することができる。これらの更なるシールは、スロット１０２及び１０４内に配置される。フランジ部９３Ｂは、座繰り穴を通り、かつ穴１０８を通じて六角レンチで締め付けられたネジで第１のレーザ部に対して密封される。
【００２２】
フランジ部９３Ｂは、テーパ付きフランジ１２０を備える。このフランジは、図８Ａに示すように２０°のテーパを有する。フランジ１１４も２０°のテーパを有する。圧縮クランプ９３Ｄは、次にフィンガボルト１１８を緩めることによって開かれ、テーパ付きフランジ１２０及び１１４回りに配置される。圧縮クランプ９３Ｄは、ヒンジ部分１２２及びボルト部分１２４を有する。圧縮クランプ９３Ｄは、フランジ１１４及び１２０の種類に適合するテーパのあるスロット付き内周部を有する。ボルト１１８が完全に挿入された状態のスロットの直径は、真空に比する密封が得られるように、ボルト１１８を締め付けた時に２つのフランジが押し合わされて両フランジ間のｃシール９３Ｃを圧縮するように、フランジ１１４及び１２０の適合傾斜面よりも若干小さい。本出願人は、所望の真空密封を確保するためには４００ポンドの圧縮が望ましいと判断した。これには、約４０インチ−ポンドのトルクを第１の圧縮リングクランプのボルト１１８の取っ手に掛ける必要がある。この実施形態においては、取っ手は、長さがわずか１インチなので、大半の技術員には、スピードレンチ（又は、類似の工具）が４０インチ−ポンドのトルクを得るのに必要であろう。２インチの取っ手が設けられている場合、指の力で密封を行うことができる。第２の圧縮リングクランプは、リングの周縁部に対して湾曲したレバーアーム１１９が所定の位置に押し込められた時、図８Ｅに示す２つのテーパ付きフランジを押し合わせる。クランプをリング周縁部から外側にアームを回すことによって開くと、リングクランプの２つの半分部分を分離させることができる。本出願人は、レバーアーム１１９の端部に４０ポンドの力を掛けると、結果的にＣシール９３Ｃ上に約４００ポンドの圧縮力が掛かると見積もった。このクランプデザインは、「プルアクション・トグルクランプ」として公知の市販クランプのデザインに基づくものである。
【００２３】
このシールシステムの重要な利点は、以下の通りである。
（１）シールで密封する時間は大きくない（約１分から２分）。
（２）優れた真空密封が得られる。
（３）チャンバと光学構成要素との間の実質的な振動結合が回避される。
（４）このシールは、これ以外の大半の真空密封技術と比較すると安価である。
密封は、図８Ｄに示すように、圧縮リングクランプ９３Ｄを使用して、図８Ａに示すように、フランジ部９３Ｂ及び９３Ａ間に挟まれた金属Ｃシール９３Ｃによりこの２つの部分の間で行われる。金属シールは、スロット１１０に嵌合する。これらの実施形態におけるシールは、円形スロット１１０に嵌合するように若干楕円形にされている。ｃシールリングの長い方の直径は１．９４６インチであり、短い方の直径は１．８４インチである。楕円形ｃシールリング内のネジ力により、組み付け時にｃシールリングが脱落するのを防止する、スロット１１０の縁部に対する力が生じる。ベローズ部９３Ａは、組み付け時に２つの部分が互いに対して摺動する時に部分９３Ｂによって引っ掻き傷ができないようにシールリング９３Ｃを保護する円形リッジ１１２を備える。従って、交換チャンバ１がレール５０上の所定の位置に入り込む時、ベローズユニット９３Ａのフランジ部１１４は、摺動して部分９３Ｂに当たるが、円形リッジ１１２は、引っ掻き傷ができないように金属Ｃリング９３Ｃを保護する。チャンバが所定の位置にある時、円形リッジは、スロット１１６に嵌合する。
【００２４】
ＬＮＰ及びチャンバ間密封
チャンバ１とＬＮＰ３との間のビーム経路を密封するために、図８Ａ、図８Ｂ、図８Ｃ、及び図８Ｄに示す標準的な簡単密封ベローズユニットは、若干変更されている。部分９３Ｂのテーパ付きフランジ部は、図７において７０Ｂに示すように、熱分断式開口要素７０Ａの重要部分とされている。開口要素７０Ａは、図６Ａ、図６Ｂ、及び図６Ｃに示すものと類似の形状を有する受動ヒートシンク部分７０Ｃを備える。また、開口要素７０Ａは、円筒形弾力密封ユニット７０Ｄを備える。このユニットは、ＬＮＰ支持体にかなりの応力を掛けることなく開口要素が熱膨張することを可能にするものである。ＬＮＰは、７０Ｆで金属Ｃシールを用いて支持ユニット８０に対して密封される。密封ユニット７０Ｄは、７０Ｇ及び７０Ｈで金属Ｃシールで密封されている。開口要素７０Ａは、先の節で説明したように、簡単密封ベローズユニット９２ａに対して密封されている。
【００２５】
他の簡単密封ベローズシール
この好ましい実施形態の図３に示すように、先に説明した簡単密封ベローズシールデザインは、９２Ｂ、９２Ｃ、及び９２Ｄに示すように、他の３ヵ所の密封を行うために使用される。ベローズシールユニット９２Ｂは、金属Ｃシールを使用してチャンバ１に対して密封されている。ブラケット７０Ｂは、金属Ｃシールで出力カプラ支持体８１に対して密封されており、先に説明した圧縮リング１０４は、９２Ｃに示すように、かつ先に説明したように、２つの部分を互いにクランプするために使用される。
出力カプラ５は、出力カプラ支持体８１に取り付けられ、図３に示すように、金属Ｃシールで密封されており、簡単密封ベローズシールは、波長計同調ブラケット７０Ｃに対して出力カプラを密封するために使用されている。同様に、簡単密封ベローズシール９２Ｄは、波長計モジュール７の筐体をシャッタモジュール９の筐体に密封的に結合させるために使用される。
【００２６】
Ｎ ₂ パージを有する高負荷サイクルＬＮＰ
ラインナローイングパッケージをパージすることは公知であるが、従来技術は、パージフローが一般的に格子面の背後などの位置に配置されたポートを通じて供給されるように、パージフローが格子面上を直接流れないようにすることを教示している。しかし、本出願人は、非常に高い繰返し率では、高温ガス（窒素）の層が回折格子の面上に作り出され、ビームの波面を歪ませて、出力レーザビームの波長及び帯域幅に不要な変動が引き起こすことを発見している。この歪は、上述の能動波長制御によって少なくとも部分的に修正することができる。別の手法は、図９に示すように回折格子の面をパージすることである。図９においては、１０インチ長、３／８インチ径のパージ管６１の上部の小さな穴（１／４インチ間隔で１ｍｍ）によって、パージフローが供給される。パージガスは、以下の節で説明するように、純粋窒素供給装置からの窒素とすることができる。他の技術が、図９Ａ、図９Ｂ、及び図９Ｃに示されている。図９Ａにおいては、Ｎ₂は、Ｎ₂管のスリットを通って入る。図９Ｂにおいては、パージフローは、格子の面からまっすぐに上昇し、図９Ｃの例においては、パージガスは再循環される。
【００２７】
超純粋窒素パージシステム
本発明の好ましい実施形態は、性能が大幅に改善されて構成要素耐用年数を大幅に延ばす超純粋Ｎ₂パージシステムを提供する。
図１０は、本発明の第１の好ましい実施形態の重要な特徴を示すブロック図である。本システムのこの実施形態において、窒素ガスによってパージされる５つのエキシマレーザ構成要素は、ＬＮＰ２Ｐ、レーザチャンバ６Ｐ上に取り付けられた高電圧構成要素４Ｐ、高電圧構成要素４Ｐを上流側パルスパワー構成要素１０Ｐと接続する高電圧ケーブル８Ｐ、出力カプラ１２Ｐ、及び波長計１４Ｐである。構成要素２Ｐ、４Ｐ、８Ｐ、１２Ｐ、及び１４Ｐの各々は、それぞれが２つのポート、即ち、Ｎ₂入口ポート及びＮ₂出口ポートのみを有する密封された容器又はチャンバに収められる。Ｎ₂供給装置１６Ｐは、集積回路製造プラントにおける一般的な大型Ｎ₂タンク（一般的に液体窒素温度に維持される）であるが、比較的に小さいＮ₂瓶とすることもできる。Ｎ₂ソースガスは、Ｎ₂供給装置１６Ｐを出ると、Ｎ₂パージモジュール１７Ｐに入り、Ｎ₂フィルタ１８Ｐを通って、パージされた構成要素に対するＮ₂流量を制御する流量制御弁を含む分配パネル２０Ｐに至る。各構成要素に対して、パージフローは、モジュール１７Ｐ及び流量モニタユニット２２Ｐに戻り、そこで、パージユニットの各々から戻る流量がモニタされ、モニタされた流量が所定の値を下回る場合には、アラーム（図示せず）が作動される。
図１０Ａは、本発明のパージ機能と特に関連しないいくつかの付加的なＮ₂の機能を含む、この好ましい実施形態の特定の構成要素を示す線図である。
【００２８】
Ｎ ₂ フィルタ
本発明の重要な特徴は、Ｎ₂フィルタ１８の介在である。過去においては、集積回路リソグラフィ用エキシマレーザの製造業者は、市販のＮ₂ガス仕様がほとんどいつも十分に良好であり、従って、仕様を満足するＮ₂ガスは十分にきれいであるので、Ｎ₂パージガス用フィルタは必要ないと考えていた。しかし、本出願人は、往々にしてソースガスは仕様外れのことがあり、又は、パージシステムに至るＮ₂ラインが汚れを含むことがあることを発見した。また、ラインは、保守又は作動手順の間に汚染される可能性がある。本出願人は、フィルタのコストは、汚染による損傷の可能性がたとえ低いとしてもそれに備えた非常に良い保険であると判断した。
好ましいＮ₂フィルタは、米国カリフォルニア州サンディェゴ所在のエアロネックス・インコーポレーテッドから入手可能な「モデル５００Ｋ不活性ガス浄化器」である。このフィルタは、Ｈ₂Ｏ、Ｏ₂、ＣＯ、ＣＯ₂、Ｈ₂、及び非メタン炭化水素を１０億分の１以下のレベルまで除去する。それは、大きさが０．００３ミクロン又はそれ以上の全ての微粒子の９９．９９９９９９９％を取り除く。
【００２９】
流量モニタ
ユニット２２における流量モニタは、５つのパージ構成要素の各々に対して設置される。これらは、低流量時のアラーム機能を有する市販のユニットである。
配管
全ての配管は、内部が電気研磨されたステンレス鋼（３１６ＳＳＴ）から成ることが好ましい。ＰＦＡ４００又は超高純度テフロンから成る特定の種類のプラスチック管材を使用してもよい。
再循環
パージガスの一部分又は全ては、図１０Ｂに示すように再循環させることができる。この場合、送風機及び水冷熱交換器がパージモジュールに増設される。例えば、光学器械からのパージフローを再循環させることができ、また、電気構成要素からのパージフローを排気することもでき、又は、その組み合わされた流れの一部分を排気させることもできるであろう。
【００３０】
システムの利点
本明細書で説明するパージシステムには、特にＡｒＦレーザ及びＫｒＦレーザに対して、長期的なエキシマレーザ性能に大きな改善が見られる。汚染に関する問題は、基本的には解消されており、結果的に構成要素寿命及びビーム品質が大幅に改善している。更に、出口ポートを介する場合を除いて漏れが解消されていることから、流量を所望の値に制御することができ、これには、Ｎ₂所要量をほぼ半減させるという効果がある。
【００３１】
ＬＮＰのヘリウムパージ
回折格子上に及ぼす高温層の影響を低減するための別の解決策は、ＬＮＰをヘリウムでパージすることである。高温層によって引き起こされる歪みが小さくなるように、ヘリウムの方が示差屈折率が小さい。更に、ヘリウムは、窒素よりもはるかに優れた熱伝達特性を有する。しかし、ヘリウムは、窒素よりもはるかに高価である。
リトロー構成の波長に対する回折格子方程式は、以下の通りである。
２ｄｎｓｉｎα＝ｍλ
ただし、αは、回折格子上の入射（回折）角、ｍは回折次数、ｎはガスの屈折率、ｄは、グレーティングの周期である。
【００３２】
この方程式は、潜在的に温度で変化する可能性がある２つの成分、ｄ（グレーティング周期）及びｎ（ガス屈折率）を有する。最先端のマイクロリソグラフィ用エキシマレーザは、通常、エシェル回折格子を有する。その格子の基板は、通常、コーニング製「ＵＬＥ」ゼロ膨張ガラスのような超低熱膨張材料で作られている。この材料の熱膨張率（ＣＴＥ）は非常に小さく、一般的に１０^-8１／°Ｃ程度であり、従って、ｄの変化は非常に小さい。一方、ガスの屈折率ｎは、以下の方程式によって説明される温度に対する依存性を有する。
ｎ＝１＋ｋＴ／３００
ただし、Ｔは、Ｃ⁰単位の温度であり、ｋは比例係数である。窒素及び２４８ｎｍ光については、ｋ＝３．１０^-4である。従って、窒素の場合、ΔＴ−１Ｃ⁰に対してΔｎ＝１．１０^-6である。方程式（１）に従って、このΔｎは、１９３ｎｍ光についてはΔλ＝０．２５ｐｍ（℃当たり）となる。これは、非常に強い温度依存度であり、ＬＮＰ内のガス温度は、ドリフトが０．０５ｐｍを下回るようにしたい場合には、０．２℃よりも良い状態に維持すべきであることを意味する。これは、技術的に非常に難しいことである。
【００３３】
ヘリウムの場合、ｋ係数は、約ｋ＝３．８・１０^-5、つまり、窒素よりも８倍小さい。従って、ヘリウムの場合、ΔＴ＝１℃に対してΔｎ＝１．２５・１０^-7である。方程式（１）に従って、このΔｎは、２４８ｎｍ光の場合は、Δλ＝０．０３ｐｍ（℃当たり）となり、１９３ｎｍ光の場合は、約０．０２５ｐｍ（℃当たり）になる。ここで、ＬＮＰ内側の温度を約２度以内までに維持しなければならないが、この方がはるかに処理しやすい問題である。実際に、好ましい実施形態において重量が約５〜１０ポンドのＬＮＰの熱質量は、数分間温度をその範囲に保持するには十分である。ヘリウムは、窒素及び空気とは遥かに異なる特性を有するので、ＬＮＰハウジングは非常に良好に密封され、図１３に示すように、唯一の出口は、熱分断式開口、簡単ベローズユニット、チャンバウィンドウユニット、及び長いピグテイル管９５である。
【００３４】
改良された波長計パージ
この好ましい実施形態においては、波長計の高紫外線フラックス部分、及び、出力カプラ及びレーザチャンバ出力ウィンドウブロックの特別なパージをもたらすために、特殊なＮ₂パージ技術が用いられる。この技術を図１１に示す。先に説明したように、レーザ出力ビームは、出力ビームとしてビームのエネルギの９５％を通過させる部分反射ミラー１７０と交差する。反射ビームの約４％は、ミラー１７１からエネルギ検出器１７２に反射され、そこで、パルスエネルギが測定される。（反射ビームの他の部分は、６１Ａに示すようにミラー１７１を通って波長計内の他のモニタに行く。）４，０００Ｈｚにおいて、出力エネルギのこの５％は、多量の紫外線を呈しており、そのために、ビームのこの部分の経路内のガスが確実に非常にきれいで純粋となるように特に注意が払われている。これを行うために、波長計は、ミラー１７０の上流側と、ミラー１７１の上流側と、検出器１７２のウィンドウの正面側との間の領域を波長計の残りから密封するように変更されている。６２Ａで示すように、この領域を出入りする特別なパージフローが設けられている。波長計の残りの部分は、エネルギ検出器１７２を最初にパージする６４Ａで示す第２のパージフローによってパージされる。エネルギ検出器１７２からの排気は、波長計の中に入り、高強度部分と比べてはるかに少ない強度の紫外線フラックスを受ける波長計光学器械の残りをパージする。
【００３５】
パージフロー６２Ａは、ミラー１７０及び１７１、及び、１７２の検出器のウィンドウにおけるシールによって波長計内に閉じ込められる。パージフローは、レーザ出力ビーム経路に沿ってこの領域を出ると、ベローズ領域９２Ｃを通り、出力カプルモジュール５に戻って出力カプルモジュールをパージする。次に、パージフローは、ベローズユニット９２Ｂを貫流してウィンドウブロック７２Ａに入り、ウィンドウブロックの出口ポート及びベローズユニット１０、９２Ｂの出口ポートを通って出ると、７４Ａに示すように、Ｎ₂パージモジュール１７に至る管を通って戻る。
【００３６】
シャッタパージ
ウィンドウ１７０の下流側は、シャッタモジュール５Ｋからのパージフローでパージされる。パージフローは、図１９に示すように、モジュール１７からのものとしてもよく、又は、場合によっては、ウィンドウ７６Ａが取り除かれ、シャッタモジュールの出力部が、パージされた顧客ビームラインと開放的に接続され、その場合、７８Ａにおける出口パージラインは、顧客パージ戻りシステムに方向づけられるか、又は、大気中に排出することができる。
【００３７】
パージ汚染の検出
本発明の好ましい実施形態は、特別なパージ汚染検出システムを含む。この検出システムは、米国オハイオ州デイトン所在のオーディオ・プロダクツのような供給業者から販売されているエレクトレット電子マイクロフォンなどの小型マイクロフォンを備える。エレクトレットマイクロフォンの出力は、高インピーダンス前置増幅器に供給される。このマイクロフォンは、この密閉チャンバを通るレーザビームのいかなる有意な吸収によって生じる音響波をも検出する。通常、パージフローには顕著な汚染はなく、従って、顕著な音響波は発生しないことになる。しかし、１９３ｎｍでレーザパルスの任意の有意な部分を吸収するいかなる材料（ガス又はその他）のいかなる極めて少ない量も、レーザの短いパルス（約３０ｎｓ）によって照射された時に、簡単に検出される衝撃波を生み出すことになる。
【００３８】
有用なエレクトレットマイクロフォンは、高さ２．２ｍｍ及び直径６．０ｍｍのオーディオ・プロダクツ部品番号ＰＯＭ−２２４４Ｐである。それは、−４４±３ｄＢ（０ｄＢ＝１Ｖ／Ｐａ）の感度を有する。検出器には、信号雑音比を改善させるために、レーザパルスの直前及びその最中に音響力をサンプリングするための時間ゲートを設けることができる。このユニットは、酸素のような何らかの極めて少ない既知量の既知の吸収体をパージガスと共に導入させることによって較正することができる。これは、非常に簡単であるが非常に効果的なパージガス汚染の検出器である。このユニットは、レーザオペレータに汚染が何であるかを正確には教えないが、酸素をビーム経路内に拡散させるであろう流れの停止などの流れに関する問題があることを教えることになる
【００３９】
本発明の範囲を変更することなく、本発明に対して様々な変更を行うことができる。当業者は、他の多くの可能な変形を認識するであろう。例えば、図６Ａから図６Ｃ及び図７に示した特定なものの代わりに、ビームの開口部分に付随する熱の消散に関する他の開口デザインを使用することができるであろう。ヒートシンク部分は、より良い熱伝達及びより大きな熱容量が得られるように銅製とすることができる（ただし、コスト高になる）。また、「Ｉｎｖａｒ（登録商標）」のような超低熱膨張材料を使用することができるであろう。別の手法は、ビームの開口部分のほとんど大部分を反射させるために、ビームに対して鋭角を成す壁部を有する開口を使用することであると考えられる。また、別の手法は、分散型開口を使用することである。この場合は、開口の壁部は、ビームに対して透過性であるが、ビーム経路から外れるようにビームの開口部分を分散させるために角度が付けられる。ＬＮＰから分断されたヒートシンク（図示するものなど）は、ビームの分散部分を吸収するため、及び、結果的に生じる熱を消散させるために使用することができるであろう。いくつかの実施形態においては、図４Ａに示す四プリズムビーム拡大器とＬＮＰのより大きな回折格子とを用いて、より狭い帯域幅がもたらされる。上記で指定した２０％よりも大きいか又は小さい反射率を有する他の出力カプラを使用することもできる。例えば、いくつかのＡｒＦ実施形態においては、本出願人は、３０％の反射率を好み、いくつかのＫｒＦ設計では、１０％の反射率を好む。従って、以上の開示内容は、制限的であることを意図したものではなく、本発明の範囲は、特許請求の範囲及びその法的均等物によって判断されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】従来技術によるレーザシステムの特徴を示す図である。
【図２】従来技術によるレーザシステムの特徴を示す図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態の特徴を示す略図である。
【図３Ａ】図３の波長計部分を更に詳細に示す図である。
【図４】好ましい実施形態のレーザチャンバの断面を示す図である。
【図５】好ましい実施形態の波長計の構成要素を示す図である。
【図５Ａ】上述の波長計のエタロン構成を示す図である。
【図５Ｂ】ラインナローイングモジュールを密封する技術を示す図である。
【図６Ａ】熱分断式開口のネジを示す図である。
【図６Ｂ】熱分断式開口のネジを示す図である。
【図６Ｃ】熱分断式開口のネジを示す図である。
【図７】熱分断式開口の一部分を示す図である。
【図８Ａ】簡単密封ベローズユニットの図である。
【図８Ｂ】簡単密封ベローズユニットの図である。
【図８Ｃ】簡単密封ベローズユニットの図である。
【図８Ｄ】簡単密封ベローズユニットの図である。
【図９】回折格子面をパージするための技術を示す図である。
【図９Ａ】回折格子面をパージするための技術を示す図である。
【図９Ｂ】回折格子面をパージするための技術を示す図である。
【図９Ｃ】回折格子面をパージするための技術を示す図である。
【図１０】パージシステムの詳細を示す図である。
【図１０Ａ】パージシステムの詳細を示す図である。
【図１１】図３の一部分の拡大図である。

Claims (27)

1. 毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができる超高速繰返し率ガス放電モジュール式レーザであって、
   Ａ）（１）レーザガス、
   （２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
   （３）毎秒４，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
   （４）少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
   を包含するレーザチャンバモジュールと、
   Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約４，０００パルスの繰返し率でレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
   Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
   Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
   を含み、
   該出力カプラ及びラインナローイングモジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
   Ｅ）ビーム経路パージシステムと、
   Ｆ）前記チャンバモジュールと前記ラインナローイングモジュールとの間で、前記パージシステムに真空品質の実質的に酸素のないビーム経路をもたらすための第１の簡単密封ベローズシールユニットと、
   Ｇ）前記チャンバモジュールと前記出力カプラとの間で、前記パージシステムに真空品質の実質的に酸素のないビーム経路をもたらすための第２の簡単密封ベローズシールユニットと、
   を更に含み、
   前記簡単密封ベローズシールは、前記チャンバモジュールの迅速な交換のために素早くかつ簡単に取り外すことができる、
   ことを特徴とするレーザ。
2. 前記簡単密封ベローズシールは、特別の工具を使用せずに手で取外し及び交換できるよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
3. 前記ビーム経路の前記チャンバモジュールと前記第１の光学構成要素モジュールとの間に配置された熱分断式開口を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
4. 前記熱分断式開口は、前記第１の簡単密封ベローズシールユニットを構成する一部分であることを特徴とする請求項３に記載のモジュール式レーザ。
5. 出力ビームを形成するパルスレーザビームを生成するよう構成され、また、該出力ビームの波長及び帯域幅をモニタするための波長計モジュールを含むことを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
6. 前記出力カプラと前記波長計モジュールとの間で、前記パージシステムに真空品質の実質的に酸素のないビーム経路をもたらすための第３の簡単密封ベローズシールを更に含むことを特徴とする請求項５に記載のモジュール式レーザ。
7. 前記ビーム経路パージシステムは、窒素パージ供給装置を含むことを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
8. 前記ビーム経路パージシステムは、ヘリウムパージ供給装置を含み、パージシステムは、前記ラインナローイングモジュールをヘリウムでパージするよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
9. 前記パージシステムは、窒素パージ供給装置及びヘリウムパージ供給装置を含み、該ヘリウムパージ供給装置は、少なくとも前記ラインナローイングモジュールをヘリウムでパージするよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
10. 前記ビーム経路又は前記出力ビーム内のレーザビーム吸収物質を検出するためのパージガス汚染検出器を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
11. 前記汚染検出器は、レーザパルス放射の前記物質による吸収から生じた圧力波を検出するためのエレクトレット音響検波器を含むことを特徴とする請求項１０に記載のモジュール式レーザ。
12. 前記レーザビーム測定及び制御システムが、エタロンユニットと、フォトダイオードアレーと、プログラム可能論理装置と、該エタロンユニットからのレーザ光を該フォトダイオードアレー上に集束させるための光学器械とを含み、
    該プログラム可能論理装置は、前記フォトダイオードアレーからのデータを解析して、エタロン縞の該フォトダイオードアレー上の位置を判断するようにプログラムされていることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
13. 前記測定及び制御システムはまた、前記プログラム可能論理装置によって捜し出された縞データから波長及び帯域幅を計算するようプログラムされたマイクロプロセッサを含むことを特徴とする請求項１２に記載のレーザ。
14. 前記プログラム可能論理装置は、前記縞の測定に基づいて波長及び帯域幅を計算するアルゴリズムを用いてプログラムされていることを特徴とする請求項１２に記載のレーザ。
15. 前記プログラム可能論理装置は、４，０００分の１秒よりも速く波長及び帯域幅の計算を行うよう構成されていることを特徴とする請求項１４に記載のレーザ。
16. 前記エタロンユニットは、回折拡散要素を含むことを特徴とする請求項１５に記載のレーザ。
17. ＰＺＴ駆動装置及びステッパモータによって駆動される同調ミラーを備えたラインナローイングユニットを更に含み、該ＰＺＴ駆動装置及びステッパモータの両者は該ラインナローイングユニットのパージされた部分からベローズシールによって分離されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
18. 前記ラインナローイングユニットは、格子面を形成する回折格子と、パージガスを該格子面の近傍に押し付けるためのパージ手段とを含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
19. 窒素フィルタを備えた窒素パージシステムを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
20. 流量モニタを備えた窒素パージモジュールを更に含み、
    レーザから排気パージガスを搬送するためのパージ排気管も含む、
    ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
21. 電気作動シャッタを備えたシャッタユニットと、指令信号によりレーザ出力ビーム経路内に配置することができる電力計とを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
22. 前記簡単密封ベローズシールの各々は、金属Ｃシールリングを含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
23. 前記簡単密封ベローズシールの各々は、エラストマーを含有せず、前記チャンバからの振動隔離をもたらし、大気ガスからのビーム列隔離をもたらし、前記ＬＮＰ又は前記出力カプラユニットを妨げることなく前記レーザチャンバの自由な交換を可能にすることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
24. 前記簡単密封ベローズシールの少なくとも１つは、前記金属Ｃシールリングの損傷を防止するように構成された円形リッジを有するベローズ部を含むことを特徴とする請求項２２に記載のレーザ。
25. 測定及び制御システムが、出力パルスの小さな割合の部分をレーザから分離するための１次ビームスプリッタと、該小さな割合の部分の一部分をパルスエネルギ検出器に向けるための２次ビームスプリッタと、該１次ビームスプリッタと境界を接する容積を隔離する手段とを含み、
    該２次ビームスプリッタ、及び、前記測定及び制御システムの他の部分からの該パルスエネルギ検出器のウィンドウは、隔離された領域を形成する、
    ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
26. 前記隔離された領域をパージガスでパージするためのパージ手段を更に含むことを特徴とする請求項２５に記載のレーザ。
27. 出力カプラユニットと出力ウィンドウユニットとを更に含み、
    前記パージ手段が、前記隔離された領域からの排気が該出力カプラユニット及び該出力ウィンドウユニットもパージするように構成される、
    ことを特徴とする請求項２６に記載のレーザ。

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