JP2004506928A - 光反射防止表面を作製する方法および装置 - Google Patents
光反射防止表面を作製する方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004506928A JP2004506928A JP2002517557A JP2002517557A JP2004506928A JP 2004506928 A JP2004506928 A JP 2004506928A JP 2002517557 A JP2002517557 A JP 2002517557A JP 2002517557 A JP2002517557 A JP 2002517557A JP 2004506928 A JP2004506928 A JP 2004506928A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive material
- surface structure
- coating
- light
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
Abstract
本発明は、感光材料層が塗布された支持層を備える、最小波長λMの波長範囲における反射を防止する表面構造を作製する方法および装置に関する。この材料層は、相互にコヒーレントであり、確率的に分散された干渉界を得るように波長λBを有する、少なくとも2つの波界に露光され、それによって、露光中または露光後に、材料を選択的に除去することによって表面構造が形成される。本発明は、互いに干渉し、感光材料層に向けられるコヒーレントな波界が、α > 2 arcsin (λB / (2 ・ λM))が当てはまる角度αを形成することを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
発明の背景
発明の分野
本発明は、確率的に分散された干渉界(interference field)を得るように波長λBの少なくとも2つの相互にコヒーレント(coherent)な波界(wave field)に露光される感光材料の被膜が塗布された支持被膜を有し、それによって、露光中または露光後に、材料を選択的に除去することによって表面構造が形成される(例えば、可視光に対しての)光反射防止表面構造を作製する方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来技術の説明
好ましくは窓、表示画面、または計器の表示面に使用される、たとえばガラス板やプラスチック板のような透明な媒体の界面では、それに入射する入射光の一部分が反射されて、その光が入射してきた空間に戻される。透明な媒体の界面で起こるこの反射現象は、表示画面やディスプレイの透過性と見やすさを損なう。表示画面の透過性と見やすさを改善するために、界面の反射特性に様々な方法で影響を与える従来技術の反射防止手段がある。
【0003】
特に、反射面に適切な粗さを与えることによって反射を防止することができる。界面を粗くしても、入射光の少なからぬ部分が室内に反射されるが、表面に入射する互いに平行な光線は、表面の粗さのために様々な方向に反射される。このようにして、鮮明な反射像が防止される。これは、通常は界面で反射されて鮮明な輪郭の像を形成するような光源であっても、粗い界面をほぼ均一に照射するだけだからである。このように、輝度の明確な差が生じるのを防止することができ、反射と共に起こる妨害効果をかなり低下させることができる。
【0004】
この種の反射防止方法は、ぎらつき防止被膜と呼ばれ、たとえばディスプレイにおいて効果的に実施されている。この反射防止方法の大きな利点は、廉価な刷込みプロセスによって構造を成形できることである。しかし、この種の反射防止方法の欠点は、半球状の反射、すなわち、部屋の後部全体への鏡面反射と拡散反射との和が、最も好ましい場合に大きくならないことである。その結果、このように処理された表示画面のガラス面の背景輝度は比較的高いため、このようなぎらつき防止被膜下のディスプレイにおける各画像のコントラストはかなり低くなる。
【0005】
光学面の反射を防止する他の可能な方法は、適切な干渉被膜を塗布することである。反射を防止すべき表面は、適切な屈折率および適切な厚さを有する1枚または数枚の薄い被膜で被覆される。干渉被膜の構造は、適切な波長範囲において、反射された放射界で弱め合う干渉現象が起こり、それによってたとえば光源の反射の明るさが大幅に低下するように構成される。しかし、前述のぎらつき防止被膜とは異なり、反射放射経路内の反射像は依然として鮮明である。視覚的な残留反射が0.4%未満であったとしても、この鮮明な鏡像は、ぎらつき防止面がかなり明るい場合よりも、大きな妨害となることがある。干渉被膜のコントラスト関係は良好である。しかしながら、たいていの表示画面およびその他の用途に関しては、干渉被膜は製造費がかかり過ぎてしまう。
【0006】
光の反射を防止する第3の方法は、いわゆるサブ波長格子を設け、それによって光学的に透過的な媒体の界面上に屈折率の勾配を生じさせることにより、干渉被膜と同様の光学効果を生じさせることである。このような屈折率勾配の1つは、表面構造が入射光の波長よりも小さい場合には、この表面構造によって実現される。これに好適なのは、透明な媒体の表面に塗布されるフォトレジスト被膜におけるホログラフィによる露光によって、周期的な構造を作製するものである。このような種類のサブ波長格子の例は、ドイツ特許第3831503C2号およびドイツ特許第2422298A1号に記載されている。
【0007】
周期が200nmから300nmのこのような種類のサブ波長表面格子は、広帯域の反射低減に適している。「モスアイ反射防止面」という用語で知られている表面は、M.C. Hutley、S.J.Wilsonの論文「モスアイ反射防止面の光学特性(The Optical Properties of Moth−Eye−AntiReflection Surfaces)」(OPTICA ACTA、1982年第29巻、第7号、993〜1009ページ)に詳しく記載されている。このような種類の「モスアイ被膜」の大きな利点は、ぎらつき防止構造の刷込みプロセスと同様の刷込みプロセスによる廉価な生産複製モードである。しかしながら、このような種類の構造の大表面生産は、カラー効果を劣化させる恐れのある、構造の深さの変動に関する非常に狭い光学公差範囲および非常に高い縦横比、すなわち非常に高い構造深さ・構造周期比のために非常に困難である。さらに、このような種類の表面コーティングにおいて、光源の画像は干渉被膜の場合と同程度に鮮明に反射画像として形成される。
【0008】
たとえばドイツ特許第2807414C2号で開示されたようなエッチング・プロセスを用いた確率的プロセスにより、サブ波長範囲でサブマイクロメートル範囲で最小の表面構造を作製することもできる。さらに、A.Gombertらの論文「ガラス上のサブ波長構造反射防止面(Subwavelength−Structured Antireflective Surfaces on Glass)」Thin Solid Films、351(1999年)、73〜78ページには、前述の反射防止特性を有する確率的表面構造を、選択的な層成長によって得る方法について説明している。どちらの方法でも、得られた確率的表面構造を従来技術の刷込みプロセスによって複製することができるが、これらの方法を用いて得られる表面構造は、残留光が反射される角度を選択的に設定できない(たとえば、小さな角度の散乱や大きな立体角の散乱)という欠点を有する。
【0009】
従来技術には、たとえば、光学ディヒューザを作製する際、ホログラフィック・プロセスにより他の光学特性を用いて確率的構造を得る方法もある。確率的に分散された干渉パターンを、ホログラフィによる露光によって生成することのできる光学プロセスは、このような構造の表面で光が反射される角度範囲を設定できるという前述の確率的プロセスに勝る利点を有する。確率的な構造のパターンを刷り込むホログラフィック干渉パターンを使用する方法は、米国特許第5365354号に記載されている。この方法を用いてディヒューザを作製することができる。この特許には、ディヒューザ用の確率的構造を作製する方法が記載されているが、これは反射防止方法ではない。
【0010】
ドイツ特許第19708776C1号には、粗な粒子のスペックル・パターンとサブ波長格子の画像を重ね合わせることによって、反射防止被膜の特徴とぎらつき防止被膜の特徴を有する組合せ表面構造を得る方法が記載されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
発明の要旨
本発明の目的は、一方では、光の、表面構造で反射される部分をかなり少なくし、他方では、光の反射される部分をある立体角範囲で選択的に反射させるように、可視光の反射を防止する表面構造を作製する方法を改良することである。これにより、従来技術の表面構造ではコントラストが大幅に低くなるにもかかわらず存在するが、光の後方反射部分が後方拡散反射されるので、表面構造で生じる反射像は完全に防止されることとなる。さらに、本発明の方法は、得られた表面構造を従来技術の刷込みプロセスを用いて複製できるようにするものであり、すなわち、形成される表面構造内で起こる可能性のあるバック・カッティング(back cutting)を完全に防止するものである。最後に、他の目的は、さらに確率的分散を有する、このような種類の表面構造を作製できる装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の重要な要素は、感光材料が塗布された支持被膜であって、確率的に分散された干渉界を得るために、波長λBの少なくとも2つの相互にコヒーレントな波界に露光される支持被膜を有し、これにより、露光中または露光後に、材料を選択的に除去することにより表面構造が形成される、最小波長λMの波長範囲における反射を防止する表面構造を作製する方法を改良して、
感光材料被膜に向けられる相互に干渉するコヒーレントな波界が、
α > 2 arcsin (λB / (2 ・ λM))
となるような角度αを形成するようにすることである。
【0013】
この角度関係は、確率的表面構造によって反射防止構造を作製する際、確率的表面構造の個々の構造要素の最大横方向寸法が、反射防止方面構造に入射する波長よりも小さくなるべきであるという要件に基づく関係である。本発明の方法は、たとえば、可視スペクトル範囲において反射防止効果を有するべきである反射防止表面構造を作製することを特に目的としている。言い換えれば、個々の構造要素は、その横方向の膨張がλM以下である。ここで、λMは約380nmであり、可視スペクトル範囲の短波限界にちょうど相当する。
【0014】
好ましくは、相互に干渉するコヒーレントな波界の少なくとも一方は確率的振幅および位相分布を有する。上記の角度関係で感光材料の被膜に入射する、好ましくは振幅の大きさが等しい波界が多くなればなるほど、実現可能な露光結果が向上する。
【0015】
このような種類の表面確率的構造を作製するのにはUV範囲の波長が好適である。たとえば、364nmの露光波長(Arイオン・レーザ)により、少なくとも2つの相互にコヒーレントな干渉波界からα>57°の角度範囲が得られ、確率的干渉パターンが生成される。αの角度範囲の実際的な上限は180°である。たとえば、266nm(NdYAG波長の4倍)の短波露光波λBを使用する場合、この角度の下限は41°となる。
【0016】
このような種類の露光条件では、たとえば表面上の垂直に対して大きな角度差を有するある立体角範囲で表面構造において反射される残留光が再分散されるほど確実に、得られる表面構造の拡散反射特性にこの場合も影響を及ぼす、高周波数構造部分を有する確率的に分散された表面構造を得ることができる。これは、反射防止によって反射が大幅に少なくなるが、完全に抑制されるわけではないので有利である。したがって、残留反射については、たとえば視覚用途において、それが視野範囲角度で偏向されることも、ある立体角範囲で非対称的に反射されることもないことが望ましい。
【0017】
本発明によって作製された確率的に分散された表面構造は、前述のように、時間的に変動する信号をフーリエ公式を用いて解釈する通信技術でも知られているような高周波数構造部分を有する。同様に、光学分野では、たとえば表面浮彫り構造の場合のような空間的に変動する信号を分光することができる。たとえば、サブ波長格子の場合のような周期的表面浮彫り構造の場合、離散した空間周波数のみが生じる。本発明の方法によって得られるような確率的表面浮彫り構造は、連続的な空間周波数スペクトルを特徴とする。したがって、入射光が垂直である場合、周期的なサブ波長格子の場合と同様に、散乱のない反射防止効果をもたらすのは、表面浮彫り構造に入射する放射の波長の逆数よりも大きな空間周波数を有する構造だけである。本発明の方法によって作製された確率的に分散された表面構造の特別な特徴は、入射放射の波長の逆数とほとんど同じであるかまたはそれよりも高い程度の空間周波数を有するこのような種類の表面構造が形成されることである。確率的表面構造における最大構造深さは、表面構造に入射する光の最小波長程度に相当する。
【0018】
このような種類の確率的表面構造の最初の構成は、確率的干渉パターンを形成するのに必要なコヒーレンスを持つ光を放出する放射源を前提条件とする。特に適切な光源は、上流側のフィルタを用いて、あるいは上流側のフィルタを用いずに、光線同士が干渉させられるUV発光レーザ、たとえばArイオン・レーザである。露光波λBは、後の適用時に反射防止面に入射する光波長に等しいかまたはそれよりも小さくなければならない。
【0019】
この表面構造を形成する場合、感光被膜、たとえば、フォトレジスト被膜が確率的干渉パターンで露光され、それによって露光後または露光中に、強度を分散させることによって感光被膜に浮き彫り構造が形成される。
【0020】
したがって、強度の分散によって、たとえば、感光被膜内の低分子ポリマーを架橋することができ、それによって、被膜の表面が選択的に変形する。あるいは、フォトレジスト被膜を露光し、その後現像ステップおよびエッチング・プロセスを実行することによって、表面構造が形成される。
【0021】
このように作製された表面構造は、従来技術の複製プロセスを用い、たとえば、ドラム刷込み方法、ダイ刷込み方法、または射出成形プロセスを用いて複製することができる。これらのプロセスの利点は、構造表面を廉価に作製できることである。本発明の確率的表面構造ではアンダーカットがないので、すべてのこれらの方法を容易に適用することができる。微細構造の大表面複製を行うための刷込み型または工具として、亜鉛めっきによって作製されたマトリックスを用いることができる。このようにして、有利なことに、再複写によって単一の最初の表面構造から多くの刷込み型を得ることができる。あるいは、エッチング・プロセスによって金型に構造を適用することもできる。
【0022】
露光すべき材料被膜に光を適切に入射させる複数の光源を用いることもできる。1つの光源、たとえばエクサイマー・レーザ(excimer laser)のみを使用する場合、光線は好ましくは、中央領域が半透明になるように構成されたディヒューザの表面全体を照明するように拡散され広げられる。このディヒューザは、光がディヒューザの周辺領域のみを通過することができ、それによって、放射方向の光線が、本発明によって下流側でディヒューザと重ね合わせられるように構成されている。対応する感光材料を有する支持被膜は、ディヒューザの下流側の適切な位置に位置している。これに加えて、またはこれとは別に、定められた強度プロファイルを持つ放射源を用いることができ、所望の干渉パターンを生成するために追加のマスク、スペックル・パターンなどを持つフィルタ、ビーム形成光学手段をビーム経路内に配置することができる。
様々な照明波長λBを有する複数の光源を使用することもできる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下において、本発明の概念全体の範囲または趣旨を制限することなく、添付の図面を参照しながら好ましい実施形態を用いた例示を行うことにより、本発明を明らかにする。
【0024】
発明の好ましい実施形態の説明
図1は、コヒーレントな光線2を放出する光源1、好ましくはArイオン・レーザなどのエクサイマー・レーザを有する放射機構を示す図である。
光源の下流側の光路にはレンズ3が設けられており、光を拡散させるように働く透明なリング領域5を備え、他の部分が半透明に構成されたディヒューザ・ユニット4への光線2をレンズ3により広げている。ディヒューザ・ユニット4の下流側の光路には、フォトレジスト被膜7が塗布された支持板6が設けられている。
【0025】
ディヒューザ・ユニット4から出射する単一波は、光源に面しない側面において干渉を起こし、好ましくはリング・ディヒューザとして構成されたディヒューザ・ユニットの向かい合うセクタからの部分波が、大きな角度αを形成するようになっている。上記角度αは、リング領域5の幾何学的寸法と、ディヒューザ・ユニット4及び支持板6間の距離とにより決定される。与えられた幾何学的形状のために、主として光波はフォトレジスト被膜に入射し、フォトレジスト被膜7の平面に対して大きな入射角を形成し、それにより、対応する照射およびそれに続くフォトレジスト被膜の現像によって高空間周波数および高振幅を有する表面浮彫り構造がフォトレジスト被膜上に形成される。このようにして、反射防止効果がもたらされ、後方反射が選択的に再分散される。
【0026】
特に支持構造6上の表面構造の単純な複製可能性に関して、確率的表面構造は、理想的には構造部分の代表的な横方向寸法と同程度の振幅を有する高周波数構造を有している。
【0027】
参照符号のリスト
1 光源
2 光線
3 光学レンズ
4 ディヒューザ・ユニット
5 透明なリング領域
6 支持板
7 フォトレジスト被膜
【図面の簡単な説明】
【図1】
確率的表面構造を作製する放射構成の図である。
【発明の属する技術分野】
発明の背景
発明の分野
本発明は、確率的に分散された干渉界(interference field)を得るように波長λBの少なくとも2つの相互にコヒーレント(coherent)な波界(wave field)に露光される感光材料の被膜が塗布された支持被膜を有し、それによって、露光中または露光後に、材料を選択的に除去することによって表面構造が形成される(例えば、可視光に対しての)光反射防止表面構造を作製する方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来技術の説明
好ましくは窓、表示画面、または計器の表示面に使用される、たとえばガラス板やプラスチック板のような透明な媒体の界面では、それに入射する入射光の一部分が反射されて、その光が入射してきた空間に戻される。透明な媒体の界面で起こるこの反射現象は、表示画面やディスプレイの透過性と見やすさを損なう。表示画面の透過性と見やすさを改善するために、界面の反射特性に様々な方法で影響を与える従来技術の反射防止手段がある。
【0003】
特に、反射面に適切な粗さを与えることによって反射を防止することができる。界面を粗くしても、入射光の少なからぬ部分が室内に反射されるが、表面に入射する互いに平行な光線は、表面の粗さのために様々な方向に反射される。このようにして、鮮明な反射像が防止される。これは、通常は界面で反射されて鮮明な輪郭の像を形成するような光源であっても、粗い界面をほぼ均一に照射するだけだからである。このように、輝度の明確な差が生じるのを防止することができ、反射と共に起こる妨害効果をかなり低下させることができる。
【0004】
この種の反射防止方法は、ぎらつき防止被膜と呼ばれ、たとえばディスプレイにおいて効果的に実施されている。この反射防止方法の大きな利点は、廉価な刷込みプロセスによって構造を成形できることである。しかし、この種の反射防止方法の欠点は、半球状の反射、すなわち、部屋の後部全体への鏡面反射と拡散反射との和が、最も好ましい場合に大きくならないことである。その結果、このように処理された表示画面のガラス面の背景輝度は比較的高いため、このようなぎらつき防止被膜下のディスプレイにおける各画像のコントラストはかなり低くなる。
【0005】
光学面の反射を防止する他の可能な方法は、適切な干渉被膜を塗布することである。反射を防止すべき表面は、適切な屈折率および適切な厚さを有する1枚または数枚の薄い被膜で被覆される。干渉被膜の構造は、適切な波長範囲において、反射された放射界で弱め合う干渉現象が起こり、それによってたとえば光源の反射の明るさが大幅に低下するように構成される。しかし、前述のぎらつき防止被膜とは異なり、反射放射経路内の反射像は依然として鮮明である。視覚的な残留反射が0.4%未満であったとしても、この鮮明な鏡像は、ぎらつき防止面がかなり明るい場合よりも、大きな妨害となることがある。干渉被膜のコントラスト関係は良好である。しかしながら、たいていの表示画面およびその他の用途に関しては、干渉被膜は製造費がかかり過ぎてしまう。
【0006】
光の反射を防止する第3の方法は、いわゆるサブ波長格子を設け、それによって光学的に透過的な媒体の界面上に屈折率の勾配を生じさせることにより、干渉被膜と同様の光学効果を生じさせることである。このような屈折率勾配の1つは、表面構造が入射光の波長よりも小さい場合には、この表面構造によって実現される。これに好適なのは、透明な媒体の表面に塗布されるフォトレジスト被膜におけるホログラフィによる露光によって、周期的な構造を作製するものである。このような種類のサブ波長格子の例は、ドイツ特許第3831503C2号およびドイツ特許第2422298A1号に記載されている。
【0007】
周期が200nmから300nmのこのような種類のサブ波長表面格子は、広帯域の反射低減に適している。「モスアイ反射防止面」という用語で知られている表面は、M.C. Hutley、S.J.Wilsonの論文「モスアイ反射防止面の光学特性(The Optical Properties of Moth−Eye−AntiReflection Surfaces)」(OPTICA ACTA、1982年第29巻、第7号、993〜1009ページ)に詳しく記載されている。このような種類の「モスアイ被膜」の大きな利点は、ぎらつき防止構造の刷込みプロセスと同様の刷込みプロセスによる廉価な生産複製モードである。しかしながら、このような種類の構造の大表面生産は、カラー効果を劣化させる恐れのある、構造の深さの変動に関する非常に狭い光学公差範囲および非常に高い縦横比、すなわち非常に高い構造深さ・構造周期比のために非常に困難である。さらに、このような種類の表面コーティングにおいて、光源の画像は干渉被膜の場合と同程度に鮮明に反射画像として形成される。
【0008】
たとえばドイツ特許第2807414C2号で開示されたようなエッチング・プロセスを用いた確率的プロセスにより、サブ波長範囲でサブマイクロメートル範囲で最小の表面構造を作製することもできる。さらに、A.Gombertらの論文「ガラス上のサブ波長構造反射防止面(Subwavelength−Structured Antireflective Surfaces on Glass)」Thin Solid Films、351(1999年)、73〜78ページには、前述の反射防止特性を有する確率的表面構造を、選択的な層成長によって得る方法について説明している。どちらの方法でも、得られた確率的表面構造を従来技術の刷込みプロセスによって複製することができるが、これらの方法を用いて得られる表面構造は、残留光が反射される角度を選択的に設定できない(たとえば、小さな角度の散乱や大きな立体角の散乱)という欠点を有する。
【0009】
従来技術には、たとえば、光学ディヒューザを作製する際、ホログラフィック・プロセスにより他の光学特性を用いて確率的構造を得る方法もある。確率的に分散された干渉パターンを、ホログラフィによる露光によって生成することのできる光学プロセスは、このような構造の表面で光が反射される角度範囲を設定できるという前述の確率的プロセスに勝る利点を有する。確率的な構造のパターンを刷り込むホログラフィック干渉パターンを使用する方法は、米国特許第5365354号に記載されている。この方法を用いてディヒューザを作製することができる。この特許には、ディヒューザ用の確率的構造を作製する方法が記載されているが、これは反射防止方法ではない。
【0010】
ドイツ特許第19708776C1号には、粗な粒子のスペックル・パターンとサブ波長格子の画像を重ね合わせることによって、反射防止被膜の特徴とぎらつき防止被膜の特徴を有する組合せ表面構造を得る方法が記載されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
発明の要旨
本発明の目的は、一方では、光の、表面構造で反射される部分をかなり少なくし、他方では、光の反射される部分をある立体角範囲で選択的に反射させるように、可視光の反射を防止する表面構造を作製する方法を改良することである。これにより、従来技術の表面構造ではコントラストが大幅に低くなるにもかかわらず存在するが、光の後方反射部分が後方拡散反射されるので、表面構造で生じる反射像は完全に防止されることとなる。さらに、本発明の方法は、得られた表面構造を従来技術の刷込みプロセスを用いて複製できるようにするものであり、すなわち、形成される表面構造内で起こる可能性のあるバック・カッティング(back cutting)を完全に防止するものである。最後に、他の目的は、さらに確率的分散を有する、このような種類の表面構造を作製できる装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の重要な要素は、感光材料が塗布された支持被膜であって、確率的に分散された干渉界を得るために、波長λBの少なくとも2つの相互にコヒーレントな波界に露光される支持被膜を有し、これにより、露光中または露光後に、材料を選択的に除去することにより表面構造が形成される、最小波長λMの波長範囲における反射を防止する表面構造を作製する方法を改良して、
感光材料被膜に向けられる相互に干渉するコヒーレントな波界が、
α > 2 arcsin (λB / (2 ・ λM))
となるような角度αを形成するようにすることである。
【0013】
この角度関係は、確率的表面構造によって反射防止構造を作製する際、確率的表面構造の個々の構造要素の最大横方向寸法が、反射防止方面構造に入射する波長よりも小さくなるべきであるという要件に基づく関係である。本発明の方法は、たとえば、可視スペクトル範囲において反射防止効果を有するべきである反射防止表面構造を作製することを特に目的としている。言い換えれば、個々の構造要素は、その横方向の膨張がλM以下である。ここで、λMは約380nmであり、可視スペクトル範囲の短波限界にちょうど相当する。
【0014】
好ましくは、相互に干渉するコヒーレントな波界の少なくとも一方は確率的振幅および位相分布を有する。上記の角度関係で感光材料の被膜に入射する、好ましくは振幅の大きさが等しい波界が多くなればなるほど、実現可能な露光結果が向上する。
【0015】
このような種類の表面確率的構造を作製するのにはUV範囲の波長が好適である。たとえば、364nmの露光波長(Arイオン・レーザ)により、少なくとも2つの相互にコヒーレントな干渉波界からα>57°の角度範囲が得られ、確率的干渉パターンが生成される。αの角度範囲の実際的な上限は180°である。たとえば、266nm(NdYAG波長の4倍)の短波露光波λBを使用する場合、この角度の下限は41°となる。
【0016】
このような種類の露光条件では、たとえば表面上の垂直に対して大きな角度差を有するある立体角範囲で表面構造において反射される残留光が再分散されるほど確実に、得られる表面構造の拡散反射特性にこの場合も影響を及ぼす、高周波数構造部分を有する確率的に分散された表面構造を得ることができる。これは、反射防止によって反射が大幅に少なくなるが、完全に抑制されるわけではないので有利である。したがって、残留反射については、たとえば視覚用途において、それが視野範囲角度で偏向されることも、ある立体角範囲で非対称的に反射されることもないことが望ましい。
【0017】
本発明によって作製された確率的に分散された表面構造は、前述のように、時間的に変動する信号をフーリエ公式を用いて解釈する通信技術でも知られているような高周波数構造部分を有する。同様に、光学分野では、たとえば表面浮彫り構造の場合のような空間的に変動する信号を分光することができる。たとえば、サブ波長格子の場合のような周期的表面浮彫り構造の場合、離散した空間周波数のみが生じる。本発明の方法によって得られるような確率的表面浮彫り構造は、連続的な空間周波数スペクトルを特徴とする。したがって、入射光が垂直である場合、周期的なサブ波長格子の場合と同様に、散乱のない反射防止効果をもたらすのは、表面浮彫り構造に入射する放射の波長の逆数よりも大きな空間周波数を有する構造だけである。本発明の方法によって作製された確率的に分散された表面構造の特別な特徴は、入射放射の波長の逆数とほとんど同じであるかまたはそれよりも高い程度の空間周波数を有するこのような種類の表面構造が形成されることである。確率的表面構造における最大構造深さは、表面構造に入射する光の最小波長程度に相当する。
【0018】
このような種類の確率的表面構造の最初の構成は、確率的干渉パターンを形成するのに必要なコヒーレンスを持つ光を放出する放射源を前提条件とする。特に適切な光源は、上流側のフィルタを用いて、あるいは上流側のフィルタを用いずに、光線同士が干渉させられるUV発光レーザ、たとえばArイオン・レーザである。露光波λBは、後の適用時に反射防止面に入射する光波長に等しいかまたはそれよりも小さくなければならない。
【0019】
この表面構造を形成する場合、感光被膜、たとえば、フォトレジスト被膜が確率的干渉パターンで露光され、それによって露光後または露光中に、強度を分散させることによって感光被膜に浮き彫り構造が形成される。
【0020】
したがって、強度の分散によって、たとえば、感光被膜内の低分子ポリマーを架橋することができ、それによって、被膜の表面が選択的に変形する。あるいは、フォトレジスト被膜を露光し、その後現像ステップおよびエッチング・プロセスを実行することによって、表面構造が形成される。
【0021】
このように作製された表面構造は、従来技術の複製プロセスを用い、たとえば、ドラム刷込み方法、ダイ刷込み方法、または射出成形プロセスを用いて複製することができる。これらのプロセスの利点は、構造表面を廉価に作製できることである。本発明の確率的表面構造ではアンダーカットがないので、すべてのこれらの方法を容易に適用することができる。微細構造の大表面複製を行うための刷込み型または工具として、亜鉛めっきによって作製されたマトリックスを用いることができる。このようにして、有利なことに、再複写によって単一の最初の表面構造から多くの刷込み型を得ることができる。あるいは、エッチング・プロセスによって金型に構造を適用することもできる。
【0022】
露光すべき材料被膜に光を適切に入射させる複数の光源を用いることもできる。1つの光源、たとえばエクサイマー・レーザ(excimer laser)のみを使用する場合、光線は好ましくは、中央領域が半透明になるように構成されたディヒューザの表面全体を照明するように拡散され広げられる。このディヒューザは、光がディヒューザの周辺領域のみを通過することができ、それによって、放射方向の光線が、本発明によって下流側でディヒューザと重ね合わせられるように構成されている。対応する感光材料を有する支持被膜は、ディヒューザの下流側の適切な位置に位置している。これに加えて、またはこれとは別に、定められた強度プロファイルを持つ放射源を用いることができ、所望の干渉パターンを生成するために追加のマスク、スペックル・パターンなどを持つフィルタ、ビーム形成光学手段をビーム経路内に配置することができる。
様々な照明波長λBを有する複数の光源を使用することもできる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下において、本発明の概念全体の範囲または趣旨を制限することなく、添付の図面を参照しながら好ましい実施形態を用いた例示を行うことにより、本発明を明らかにする。
【0024】
発明の好ましい実施形態の説明
図1は、コヒーレントな光線2を放出する光源1、好ましくはArイオン・レーザなどのエクサイマー・レーザを有する放射機構を示す図である。
光源の下流側の光路にはレンズ3が設けられており、光を拡散させるように働く透明なリング領域5を備え、他の部分が半透明に構成されたディヒューザ・ユニット4への光線2をレンズ3により広げている。ディヒューザ・ユニット4の下流側の光路には、フォトレジスト被膜7が塗布された支持板6が設けられている。
【0025】
ディヒューザ・ユニット4から出射する単一波は、光源に面しない側面において干渉を起こし、好ましくはリング・ディヒューザとして構成されたディヒューザ・ユニットの向かい合うセクタからの部分波が、大きな角度αを形成するようになっている。上記角度αは、リング領域5の幾何学的寸法と、ディヒューザ・ユニット4及び支持板6間の距離とにより決定される。与えられた幾何学的形状のために、主として光波はフォトレジスト被膜に入射し、フォトレジスト被膜7の平面に対して大きな入射角を形成し、それにより、対応する照射およびそれに続くフォトレジスト被膜の現像によって高空間周波数および高振幅を有する表面浮彫り構造がフォトレジスト被膜上に形成される。このようにして、反射防止効果がもたらされ、後方反射が選択的に再分散される。
【0026】
特に支持構造6上の表面構造の単純な複製可能性に関して、確率的表面構造は、理想的には構造部分の代表的な横方向寸法と同程度の振幅を有する高周波数構造を有している。
【0027】
参照符号のリスト
1 光源
2 光線
3 光学レンズ
4 ディヒューザ・ユニット
5 透明なリング領域
6 支持板
7 フォトレジスト被膜
【図面の簡単な説明】
【図1】
確率的表面構造を作製する放射構成の図である。
Claims (13)
- 感光材料が塗布された支持被膜であって、確率的に分散された干渉界を得るために、波長λBの少なくとも2つの相互にコヒーレントな波界に露光される支持被膜を有し、これにより、露光中または露光後に、材料を選択的に除去することにより表面構造が形成される、最小波長λMの波長範囲における反射を防止する表面構造を作製する方法であって、
前記感光材料被膜に向けられる前記相互に干渉するコヒーレントな波界が、
α > 2 arcsin (λB / (2 ・λM))
となるような角度αを形成する方法。 - 1つまたは複数のUV発光レーザが光源として使用されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記確率的干渉界は、1つまたは複数の光学ディヒューザ、マスク、スペックル・パターンを持つフィルタ、および/または同様のビーム形成光学手段を用いて生成される確率的な振幅および位相分布を有することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記感光材料被膜としてポリマー被膜を使用し、露光により架橋プロセスが起こり、屈折率の局所的変化および/または前記表面上の変形が起こることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 露光後に、前記表面構造が形成される現像プロセスを受ける前記感光材料被膜として、フォトレジスト被膜が使用されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記感光材料被膜上の前記表面構造は、前記表面構造をさらに他の表面上に複製できるように亜鉛メッキ成形プロセスまたはエッチング・プロセスによって刷込み型上に転写されることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の記載の方法。
- 感光材料が塗布された支持被膜と、
少なくとも2つの波界が互いに干渉して、確率的に分散された干渉界によって前記感光材料被膜を露光できるように、前記感光材料被膜に向けて波長λBの光を放出する少なくとも1つの光源と、
を有する、最小波長λMの波長範囲における反射を防止する表面構造を作製する装置であって、
相互に干渉する波界が前記感光材料被膜に入射するように、前記光源と前記感光材料被膜との間に少なくとも1つのディヒューザが設けられており、前記波界が、
α > 2 arcsin (λB / (2 ・λM))
となるような角度αを形成する装置。 - 前記ディヒューザは、中央領域が半透明に構成されたリング・ディヒューザであることを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 前記リング・ディヒューザの向かい合うセクタから入射する前記波界の振幅の大きさが等しくなるように前記リング・ディヒューザが構成されることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 光線が前記感光材料被膜に斜めに入射して、
α > 2 arcsin (λB / (2 ・λM))
となる角度αを形成するような光源が少なくとも2つ設けられ、かつ、
前記光線の光路において、少なくとも1つの光学ディヒューザ、スペックル・パターンを持つフィルタ、マスク、および/または同様のビーム形成光学手段が設けられていることを特徴とする請求項7の一般部分に記載の装置。 - 放射源は、定められた強度分布を持つ光線を放出することを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 放射源は、エクサイマー・レーザと同様のUV光源であることを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 前記ビーム形成光学手段はアクシコンであることを特徴とする請求項10に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10038749A DE10038749A1 (de) | 2000-08-09 | 2000-08-09 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer optisch antireflektierenden Oberfläche |
PCT/EP2001/009233 WO2002012927A2 (de) | 2000-08-09 | 2001-08-09 | Vefahren und vorrichtung zur herstellung einer optisch antireflektierenden oberfläche |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004506928A true JP2004506928A (ja) | 2004-03-04 |
Family
ID=7651770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002517557A Pending JP2004506928A (ja) | 2000-08-09 | 2001-08-09 | 光反射防止表面を作製する方法および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040021948A1 (ja) |
EP (1) | EP1373943A2 (ja) |
JP (1) | JP2004506928A (ja) |
DE (1) | DE10038749A1 (ja) |
WO (1) | WO2002012927A2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10318566B4 (de) * | 2003-04-15 | 2005-11-17 | Fresnel Optics Gmbh | Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen |
IL156033A0 (en) * | 2003-05-21 | 2004-03-28 | Ophir Fromovich Ophir Fromovic | Dental implant |
US20070116934A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Miller Scott M | Antireflective surfaces, methods of manufacture thereof and articles comprising the same |
US20070115554A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Breitung Eric M | Antireflective surfaces, methods of manufacture thereof and articles comprising the same |
US8674935B2 (en) * | 2009-10-21 | 2014-03-18 | Qualcomm Incorporated | System delay mitigation in interactive systems |
US8332904B2 (en) | 2009-11-03 | 2012-12-11 | Qualcomm Incorporated | Control link for wireless display unit |
JP5204327B1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-06-05 | 株式会社東芝 | 画像処理装置、および画像処理方法 |
CN108052898B (zh) * | 2017-12-12 | 2021-10-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 指纹识别传感器、显示装置以及指纹识别方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1462618A (en) * | 1973-05-10 | 1977-01-26 | Secretary Industry Brit | Reducing the reflectance of surfaces to radiation |
US3909111A (en) * | 1974-02-27 | 1975-09-30 | Rca Corp | Controlled angle viewing screens by interference techniques |
US4114983A (en) | 1977-02-18 | 1978-09-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymeric optical element having antireflecting surface |
DE3831503A1 (de) | 1988-09-16 | 1990-03-22 | Ver Glaswerke Gmbh | Transparente deckschicht mit reflexionsvermindernder eigenschaft fuer durchsichtige glas- oder kunststoffsubstrate |
EP0479490A3 (en) * | 1990-10-02 | 1992-08-12 | Physical Optics Corporation | Volume holographic diffuser |
DE19708776C1 (de) * | 1997-03-04 | 1998-06-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
DE19813690A1 (de) * | 1998-03-27 | 2000-05-04 | Fresnel Optics Gmbh | Optisch aktives Element und Verfahren zu seiner Herstellung |
TW460758B (en) * | 1998-05-14 | 2001-10-21 | Holographic Lithography System | A holographic lithography system for generating an interference pattern suitable for selectively exposing a photosensitive material |
DE10059268C1 (de) * | 2000-11-29 | 2002-08-22 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Koppelgitters für einen Wellenleiter |
DE10105957A1 (de) * | 2001-02-09 | 2002-09-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung von Licht streuenden Elementen |
-
2000
- 2000-08-09 DE DE10038749A patent/DE10038749A1/de not_active Ceased
-
2001
- 2001-08-09 JP JP2002517557A patent/JP2004506928A/ja active Pending
- 2001-08-09 WO PCT/EP2001/009233 patent/WO2002012927A2/de not_active Application Discontinuation
- 2001-08-09 EP EP01976065A patent/EP1373943A2/de not_active Withdrawn
- 2001-08-09 US US10/344,132 patent/US20040021948A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1373943A2 (de) | 2004-01-02 |
WO2002012927A3 (de) | 2003-10-09 |
WO2002012927A2 (de) | 2002-02-14 |
DE10038749A1 (de) | 2002-02-28 |
US20040021948A1 (en) | 2004-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6359735B1 (en) | Antireflective coating and method of manufacturing same | |
JP5570210B2 (ja) | 光学的に有効な表面レリーフ微細構造及びその製造方法 | |
JP4422610B2 (ja) | 光学基板及び製造法 | |
TWI713502B (zh) | 擴散板 | |
KR102458998B1 (ko) | 확산판 및 확산판의 설계 방법 | |
US6958207B1 (en) | Method for producing large area antireflective microtextured surfaces | |
EP3203275A1 (en) | Diffusing plate and method for producing diffusing plate | |
JP6804830B2 (ja) | 拡散板 | |
CN108351437A (zh) | 扩散板、扩散板的设计方法、扩散板的制造方法、显示装置、投影装置和照明装置 | |
TWI794413B (zh) | 擴散板 | |
JP2004506928A (ja) | 光反射防止表面を作製する方法および装置 | |
US20220128742A1 (en) | Diffuser plate | |
KR20020049493A (ko) | 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치 | |
WO2022172918A1 (ja) | 拡散板 | |
JP7341645B2 (ja) | 光学体の製造方法 | |
Boerner et al. | 24.1: Microstructured Light Management Films for Information Displays Generated by Holography | |
CN116430491A (zh) | 一种均匀全息扩散片的制备装置及制备方法 | |
KR20100057468A (ko) | 투명스크린 및 그 제조방법 |