JP2004505529A - ホログラフィック光学要素をワイヤレス遠隔通信システム受信器で使用するためのシステムおよび方法 - Google Patents
ホログラフィック光学要素をワイヤレス遠隔通信システム受信器で使用するためのシステムおよび方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
(発明の背景)
1.発明の分野
本発明は一般にワイヤレス遠隔通信システムに関し、より詳細には、ホログラフィック光学要素(HOE)デバイスを光学ワイヤレス遠隔通信システム受信器で使用することに関する。
【0002】
2.背景情報
基本的レベルでは、通常の光学ワイヤレス遠隔通信システムは光学送信器および光学受信器を含み、データを光ビーム上で変調かつ復調するための関連する電子部品を有する。しばしば、受信器は基本的には望遠鏡である。
【0003】
通常の受信器システムの構成の一例を図1の10に示す。システム10は、レンズおよびカバー14(通常はガラス製)を一端に有する円筒受信管12、および光を信号受信点に収集かつ集束させるための内部ミラーのシステムを有する。このシステム10では、光ビーム16が受信管12に入り、内部ミラーを使用して収集され、内部ミラーはミラー18および球面ミラー20を含む。最後に、ミラー18と20が光ビーム16を光検出器22の信号受信点上に集束させる。このような従来のシステムの一例はカセグレン望遠鏡であり、望遠鏡では検出器の電子部品がアイピースに取って代わる。
【0004】
システム10のための様々な光学系および構成要素は重く、壊れやすく、かさばり、一貫した品質で製造することが困難であり、高価である。光通信システムでは従来の無線周波数(RF)システムよりもはるかに高いデータ転送速度が可能であり、安定した安価なシステムを作る能力がますます望ましくなっている。
【0005】
(発明の概要)
本発明の一態様によれば、システムがホログラフィック光学要素(HOE)デバイスを含む。HOEデバイスは、第1および第2の表面を有する第1の要素を有し、第1の表面は入射光線に面するように位置決め可能である。干渉パターンが記録されているエマルジョン材料が第1の要素の第2の表面上に配置される。第2の要素は、エマルジョン材料上に配置された第1の表面を有し、干渉パターンによって回析された入射光線から導出された結果の光線を、第2の要素の第2の表面に面する場所に向かう方向に渡すように構築される。光学処理装置が結果の光線を受信する。
【0006】
本発明の非制限的かつ非網羅的な実施形態を以下の図において記載する。図では、そうでないと指定されない限り、様々な図を通じて類似の参照番号が類似の部分を指す。
【0007】
(例示の実施形態の詳細な説明)
ホログラフィック光学要素(HOE)デバイスをワイヤレス遠隔通信システム受信器で使用するためのシステムおよび方法の実施形態を詳細に本明細書に記載する。以下の記載では、図5〜6における様々な受信器システム構成要素の記載など、多数の特定の詳細を提供して本発明の実施形態の完全な理解を提供する。しかし、本発明を、1つまたは複数の特定の詳細なしに、あるいは他の方法、材料、構成要素などにより実施できることは当業者には理解されよう。他の場合では、周知の構造、材料または動作を詳細に図示あるいは記載せずに、本発明の様々な実施形態の態様を不明確にすることを回避する。さらに、図に示す様々な実施形態は例示的表現であり、必ずしも比例するように図示されないことを理解されたい。
【0008】
本明細書中で「1つの実施形態」または「一実施形態」と指すことは、その実施形態に関して記載する特定の特徴、構造、材料または特性が本発明の少なくとも1つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、「1つの実施形態では」または「一実施形態では」という句が本明細書中の様々な場所で現れるものは、必ずしもすべてが同じ実施形態を指しているのではない。さらに、特定の特徴、構造、材料または特性を、1つまたは複数の実施形態においていかなる適切な方法でも組み合わせることができる。
【0009】
最初に図2を参照すると、全体的に24で示すものは、円筒管28内に配置されたHOEデバイス26を有する受信器システムの一実施形態である。受信器システム24は、図1に示すものなど、従来の光学受信器要素をHOEデバイス26で置き換える。基本的レベルでは、HOEデバイス26が入射光線30のための光収集動作のほとんどまたはすべてを実行し、結果の光線32を検出ユニット34上に集束させる。
【0010】
動作において、入射光線30が、光学送信器システム(図示せず)から送信された、変調されたデータを有する光信号の全部または一部を含む。一実施形態によれば、入射光線30がレーザ光などからなり、これはたとえば1548.51nmの波長を有する。入射光線30は、単色性またはいずれかの特定の波長または色に限定されず、可視光線ならびにスペクトルの紫外線または赤外線部分を含むことができる。
【0011】
検出ユニット34は光学処理装置の一部を形成しており、この装置は、光検出器(たとえば、アバランシュ・フォト・ダイオード、PIN検出器、または他のこのような検出器または感光性デバイスなど)、プロセッサ、変調器/復調器、および、データを結果の光線32から抽出かつ処理するための他の電子ロジックおよび電子回路を含む。図2に示す実施形態によれば、HOEデバイス26は結果の光線32を検出ユニット34のスポットに集束させることができる。
【0012】
本発明の一実施形態によれば、HOEデバイス26はホログラムを含む。ホログラムは、2つの光信号(レーザなど)からの干渉縞フィールド(たとえば、干渉パターン)をフォトレジスト材料(たとえば、エマルジョン材料)に記録し、次いでフォトレジスト材料を現像することによって作成される。記録された干渉パターンを有するHOEデバイスを製造する方法の実施形態は、本願と同じ譲受人に譲渡された、現在係属中の 日出願の「APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING ABERRATIONS IN PHOTON COLLECTION DEVICES」という名称の米国特許出願第 号(弁理士整理番号第004524.P006号)に開示されており、これは参照により組み込まれる。この同時係属の特許出願はさらに、非球面の構成要素の使用による収差を修正する装置/方法を開示している。
【0013】
図3のように、一実施形態のHOEデバイス26は、第1の要素36および第2の要素38を含み、両方の要素が、干渉パターン42が記録されている現像されたエマルジョン材料40を間に挟んでいる。上で識別した同時係属の出願において記載されたものなど、記録プロセス中に、エマルジョン材料40が最初に第1の要素36の表面44の上に付着され、次いで干渉光信号に露光されて干渉パターン42が得られる。続いて、第2の要素38が、現像されたエマルジョン材料40上に添付あるいは結合されて、エマルジョン材料40を湿気などの環境汚染物質から保護するようにシールする。その後、反射防止コーティングをHOEデバイス26の1つまたは複数の露光面に塗布することができる。反射防止コーティングの塗布はまた、第2の要素38を現像されたエマルジョン材料40上に添付する前に行うこともできる。
【0014】
一実施形態によれば、第1の要素36および第2の要素38が、平坦な表面を有するガラスの板を含むが、他の実施形態では、成形プラスチックなど他のタイプの材料を使用することができる。第1の要素36および第2の要素38はたとえば、16インチの直径および0.236インチの厚さを有している。これらの寸法は変わる可能性があり、あるいは、使用する材料のタイプ、塗布のタイプ、熱膨張係数、屈折率、分散率など、様々な基準および光学要因に基づいてスケーリングできることは当業者には理解されよう。受信器システム24のために使用される例示的HOEデバイス26は、標準のBK−7ガラスを第1の要素36として、かつ第2の要素38として使用することができ、BK−7ガラスは既知の物理および光学特性を有する。第1の要素36のため、かつ第2の要素38のために使用される材料は、たとえば約1.5の屈折率を有することができる。したがって、本発明は必ずしも、第1の要素36および第2の要素38の特定の物理的寸法によって、あるいは特定の物理または光学特性によって限定されない。
【0015】
一実施形態によれば、HOEデバイス26は重クロム酸塩ゼラチンをエマルジョン材料40のために利用することができるが、所期の目的のために高レベルの回析効率を有するか、あるいはそうでない場合は特定の波長について適切に機能することができる感光性樹脂も使用することができる。当業者によって知られている比に従って重クロム酸塩と混合することができる適切なタイプのゼラチンは、Paradise City,Utahに位置するRalcon Development Labによって設計され、Sioux City,Iowaに位置するKind & Knox Gelantine,Inc.によって、同社の光学的ゼラチンのGelita(商標)ライン、タイプ7644、ロット2の下で製造される。別の実施形態では、エマルジョン材料40をゼラチンおよびハロゲン化銀の均質混合から作ることができ、これは光学的応用例のために市販である混合物などである。
【0016】
第1の要素36および第2の要素38の表面は通常、可能な限りスムースになるように作られて、プレイバック・プロセス中に受け入れ不可能な収差の導入が回避される。加えて、第1の要素36および第2の要素38を作る材料を透明にして、散乱効果を低減し、かつ/または入射光線30の透過効率を向上させるようにすべきである。
【0017】
HOEデバイス26の一実施形態は記録された体積位相ホログラム(たとえば、干渉パターン42)を使用し、これにより、プレイバック・プロセス中(たとえば、入射光線30の受信中)にHOEデバイス26を通過する光線を第2の要素38の露光面に面する場所に実質的に集束させる(たとえば、検出ユニット34上のスポットに集束させる)。別の方法で述べると、プレイバック中に、入射光線30(一実施形態では1548.51nmの波長である)がHOEデバイス26で受信されるとき、入射光線30が第1の要素36を通過して干渉パターン42まで行く。干渉パターン42は入射光線30を第2の要素38に、かつ検出ユニット34に向けて回析する。
【0018】
体積位相ホログラムにおける屈折率は、開口部上で正弦波的に変わる。正弦波周波数は、開口部の増大により増大する。正弦波パターンは、構成光学系によって記録プロセス中に得られ、HOEデバイス26の焦点距離fを確立する。ただし焦点距離fは軸上の受信器システム74のためのHOEデバイス26の光軸に沿って、およそ干渉パターン42から、結果の光線32が集束する検出ユニット34上のスポットまで測定された距離である。HOEデバイス26の焦点距離fを、一般的な表現では、以下の式によって決定することができる。
【数1】
【0019】
図4は、この式における様々なパラメータの関係を例示する。図4では、記録プロセス50の一実施形態を例示し、光52(一実施形態では488nmにすることができる構成波長λoである)が2つのパス54と56に分割される。第1の構成点58と第2の構成点59から、2つの光パス54と56がそれぞれエマルジョン材料40の表面上に広がり、それによってエマルジョン材料40が2つの干渉する光パス54と56に露光される。エマルジョン材料40上に記録された干渉パターン42が結果として生ずる。
【0020】
図4では、距離Roは、第1の構成点58から光軸55に沿ってエマルジョン材料40までの距離であり、距離Rrは、第2の構成点59から光軸55に沿ってエマルジョン材料40までの距離である。上の式では、回析次数qを一次では±1にすることができ、プレイバック波長λcを一実施形態では1548.51nmにすることができる。HOEデバイス26に入る光はこのようにプレイバック中に回析され、この焦点距離fに応じてHOEデバイスの背後の点に集束される。一実施形態では、HOEデバイス26がf1のfナンバ(たとえば、焦点距離fと体積位相ホログラムの直径/開口部の間で1対1の比)を有する。このfナンバを、構成光学計を変えることによって操作することができる。
【0021】
本発明の実施形態を、様々な構成を使用して実施することができる。たとえば、図5は、「直接集束」構成の一実施形態を示し、図6は、「コリメート」構成の一実施形態を示す。コリメート構成には、追跡、品質管理などのためにビーム・スプリッタを容易に挿入することができるという利点がある。
【0022】
最初に図5を参照すると、全体的に60で示すものは、直接集束構成を有する受信器システムの一実施形態である。受信器システム60は、受信器システム60の前部に位置するHOEデバイス26を含み、第1の要素36が入射光線30に面するようにし、かつ結果の光線32が第2の要素38から渡されるようにする。また、受信機器システム60は複数の平面ミラー62および64、およびステアリング・ミラー66を含んで結果の光線32の方向をコントロールすることもでき、またさらに様々な検出器の電子部品を含んで結果の光線32を処理することができる。すべての光強度(たとえば、集束能力)はHOEデバイス26から来る。
【0023】
平面ミラー62および64は、結果の光線32をそれらで折り返すことによってパッケージング・サイズを減らすために使用される。すなわち、結果の光線32が最初に平面ミラー62から平面ミラー64に向けて反射される。次いで、平面ミラー64が結果の光線32をステアリング・ミラー66に向けて反射させる。この方法で、受信器システム60の焦点距離全体が縮められる。
【0024】
ステアリング・ミラー66は、画像が検出ユニット34上で集束された(たとえば、結果の光線32を集束する)状態を保つために使用される。この方法で、ステアリング・ミラー66が、受信器システム60への動揺または振動によって引き起こされる高周波の動きを補償するために使用される。ステアリング・ミラー66を入射光線30に対して、あるいはHOEデバイス26の光軸68に対して45°の角度に向けることができる。したがって、検出ユニット34を光軸68に対して90°に位置決めすることができる。明瞭にするため、この位置決め/角度を図5には図示しない。
【0025】
ステアリング・ミラー66の背後に位置決めされたビーム・スプリッタ70を使用して、入力ビームの一部(たとえば、結果の光線32の一部)をピック・オフし、これを象限セル光学検出器72上に向けることができる。象限セル光学検出器72上の結果のスポットは、入力ビームの相対的入力角を示す。次いで、この入力角を使用して受信器システム60が、ステアリング・ミラー66の角度を調節することによって入射光線30を様々な範囲で送信する送信器システム(図示せず)まで「追跡」することを続けることができる。
【0026】
検出ユニット34は、高いゲインおよび増大された感度を有するアバランシュ・フォト・ダイオードを含むことができる。これは、通常は通信のために使用される検出器のタイプであるが、いずれかの適切な光信号検出器も使用することができる。たとえば、PIN検出器を使用することができる。
【0027】
コリメート構成を有する受信器システム74の一実施形態を図6に示す。図5示す直接集束構成に類似して、図6の受信器システム74のコリメート構成もまたHOEデバイス26を前部で使用し、結果の光線32をそれらで折り返すための複数の平面ミラー76および78、および、結果の光線32の方向をコントロールするためのステアリング・ミラー79を使用する。再度、ステアリング・ミラー79および/または検出ユニット34を光軸に対して異なる角度/位置に向けることができ、このような向きを図6には例示しない。これは例示および説明を簡単にするためである。受信器システム74は、通信のための様々な機能の実現を容易にするための他の構成要素を含む。
【0028】
たとえば、コリメート光学アセンブリ80は、反射された結果の光線32を平面ミラー78から受信し、これらをコリメートされた光線81に再度コリメートする。一実施形態では、コリメート光学アセンブリ80が一連のレンズを含み、これらが結果の光線32の収差訂正、集束およびコリメートを実行する。HOEデバイス26およびコリメート光学アセンブリ80は無限焦点望遠鏡として動作し、光線がコリメート・インかつコリメート・アウトされる。この構成は幾分、双眼鏡および天体望遠鏡の構成に類似しており、HOEデバイス26が対物レンズとして機能し、コリメート光学アセンブリ80がアイピースとして機能する。
【0029】
コリメート光学アセンブリ80におけるレンズなどの最後の要素82を長手方向に動かして、受信器システム74を送信器システム(図示せず)からの異なるリンク範囲に対して再集束させることができる。この方法で、受信器システム74を調節して、特定の距離に位置する送信器システム(図示せず)からの光の受信を最適化することができる。コリメート光線81のコリメート・パスが受信器システム74にいくつかの異なる特性を与える。これには以下のものが含まれる。
【0030】
1.HOEデバイス26の下流の光学系のための耐性の低減。
2.システム受信器74のためのコストの削減。
3.コリメート・パスに沿ったビーム・スプリッタ(図示せず)の使用で多数のチャネルが可能になる。
4.発散光において使用されるプレート・ビーム・スプリッタが非点収差を導入し、したがってスポット・サイズが増大するが、コリメート・パスにおけるビーム・スプリッタは非点収差を導入しない。
【0031】
受信器システム74は、ビーム分割光学アセンブリ84を含むことができる。ビーム分割光学アセンブリ84は、コリメート光線81から、通信チャネルを追跡チャネルから分割するために使用される1つまたは複数の構成要素を有するモジュールを含むことができるが、共通の集束レンズ86を使用する。次いで、通信チャネルの光線を検出ユニット34へ収束するか、あるいはそれに向けて送ることができる。一実施形態によれば、ビーム分割光学アセンブリ84は、レンズ86、ビーム・スプリッタおよびミラーを含むモジュールを含むことができる。
【0032】
要約すると、HOEデバイス26は、体積位相ホログラムまたは干渉パターン42が記録されており、このデバイスを受信器システムで使用して入射光線30を受信し、かつ、結果の光線32をHOEデバイス26に面する場所に向かう方向に実質的に集束させることができる。このような場所を検出ユニット34のスポットにすることができるが、様々なミラー、ビーム・スプリッタ、コリメート光学アセンブリ、ビーム分割光学アセンブリなどを使用して、結果の光線が検出ユニット34に到達する前にこれらをコントロールかつ操作することができる。HOEデバイス26は、第1の要素36と第2の要素38の間に挟まれるエマルジョン材料40を含むことができ、エマルジョン材料40は現像かつ処理されて、体積位相ホログラムなどの干渉パターン42を含むようにされる。
【0033】
本明細書に記載した様々な実施形態におけるHOEデバイス26の使用は、従来の受信器光学系に勝るいくつかの利点を提供する。第1に、HOEデバイス26の性質のため、これは光のただ1つの周波数のみを収集する能力を有する。したがって、すべての光強度が透過ビーム(たとえば、入射光線30)の収集の専用にされ、光学干渉の可能性が低い。図1のシステム10のような従来のシステムはそれほど効率的ではなく、これはミラー18および20が周波数にかかわらず光のすべてを収集し、それにより結果として背景光による干渉が可能となるからである。
【0034】
本発明の実施形態のもう1つの主な利点はコストである。従来の光学系は、球面ミラー20など、高価な球面ミラーを利用する。さらに、従来技術のシステムにおける各ミラーは製造技術によりわずかに異なるようになる。本発明のHOEデバイス26の製造は安価であり、厳密な仕様への再生が比較的容易である。したがって、はるかに低いコストで品質レベルがはるかに高い。
【0035】
さらに、HOEデバイス26を、受信器システム24内など、受信器システム内に組み込むことにより、結果としてよりかさばらないユニットとなる。HOEデバイス26はf1のfナンバを有するように製造することができるが、従来の光学系は容易にこのように操作することができず、類似の開口部サイズではf3からf5程度を超えるfナンバを有する(たとえば、同じ開口部サイズでより長い頂点距離f)。したがって、受信器システム24、60および74など、受信器システムは全体の長さが短くなる。これは大量生産の商用ワイヤレス光学遠隔通信システムにとって大きい利点である。
【0036】
本発明の例示した実施形態の上の記載は、要約書に記載するものを含めて、網羅的となるように、あるいは本発明を開示した正確な形式に限定するように意図されるものではない。本発明の特定の実施形態および実施例を本明細書で例示のために記載するが、様々な同等の修正が本発明の範囲内で可能であることは当業者には理解されよう。たとえば、受信器システムのいくつかの実施形態を、特定の向きを有するミラーおよび/またはビーム・スプリッタを使用するものとして記載したが、他の実施形態はこれらの構成要素を含まない可能性があること、または、他の実施形態が他の構成または向きを有する可能性があることを理解されたい。
【0037】
上で詳述した記載を考えて、これらの修正を本発明に行うことができる。以下の特許請求の範囲で使用する用語は、本発明を本明細書および特許請求の範囲において開示された特定の実施形態に限定するように解釈されるべきではない。むしろ、本発明の範囲は、完全に以下の特許請求の範囲によって決定されるべきであり、特許請求の範囲は、特許請求の範囲の解釈の確立された教示に従って解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の光学受信器システムを示す機能ブロック図である。
【図2】本発明の一実施形態による、受信器システムにおけるホログラフィック光学要素(HOE)デバイスを示す機能ブロック図である。
【図3】図2の受信器システムで使用することができるHOEデバイスの一実施形態を例示する図である。
【図4】図2のHOEデバイスのための構成光学系において使用されるパラメータを例示する図である。
【図5】本発明のもう1つの実施形態による受信器システムにおける、図3のHOEデバイスを示す機能ブロック図である。
【図6】本発明のもう1つの実施形態による受信器システムにおける、図3のHOEデバイスを示す機能ブロック図である。
Claims (28)
- 第1および第2の表面を有する第1の要素であって、第1の表面は入射光線に面するように位置決め可能である第1の要素と、
第1の要素の第2の表面上に配置され、記録された干渉パターンを有するエマルジョン材料と、
エマルジョン材料上に配置された第1の表面を有する第2の要素であって、記録された干渉パターンによって回析された入射光線から導出された結果の光線を、第2の要素の第2の表面に面する場所に向かう方向に通過させるように構成される第2の要素とを有するホログラフィック光学要素(HOE)デバイス、および
結果の光線を受信するための光学処理装置
を含むシステム。 - 第1および第2の要素がガラス材料からなり、エマルジョン材料が重クロム酸塩ゼラチン材料からなる請求項1に記載のシステム。
- 光学処理装置が、受信された結果の光線を電子信号に変換するためのアバランシュ・フォト・ダイオードまたはPIN検出器からなる光検出器を含む請求項1に記載のシステム。
- 第2の要素の第2の表面に面する場所が、HOEデバイスの光軸に沿った場所を含む請求項1に記載のシステム。
- HOEデバイスと光学処理装置の間に位置決め可能な複数のミラーをさらに含み、複数のミラーは、HOEデバイスの第2の要素から渡された結果の光線の方向をコントロールすることによってHOEデバイスの焦点距離全体を縮めることができる請求項1に記載のシステム。
- HOEデバイスと光学処理装置の間に位置決め可能なステアリング・ミラーをさらに含み、ステアリング・ミラーは、HOEデバイスの動きに応答して、結果の光線が光学処理装置に向けて集束される状態を保つことができる請求項1に記載のシステム。
- 光学検出器と、
追跡動作に関連付けられた結果の光線の第1の部分を光学検出器に向けて送るため、かつ、変調されたデータを有する結果の光線の第2の部分を光学処理装置に向けて送るためのビーム・スプリッタとをさらに含む請求項1に記載のシステム。 - 結果の光線をコリメートするための、HOEデバイスと光学処理装置の間に位置決め可能なコリメート光学アセンブリと、
コリメートされた結果の光線から、追跡チャネルおよび通信チャネルを分離するため、かつ、通信チャネルを光学処理装置に向けて送るための、コリメート光学アセンブリと光学処理装置の間に位置決め可能な光学要素とをさらに含む請求項1に記載のシステム。 - 光学要素がビーム分割光学アセンブリからなる請求項8に記載のシステム。
- コリメート光学アセンブリが、コリメートされた結果の光線を縦に再集束させるための再集束要素を含む請求項8に記載のシステム。
- 光学処理装置が、受信された結果の光線を電子信号に変換するためのPIN検出器またはフォトダイオードを含む請求項8に記載のシステム。
- 記録された干渉パターンが体積位相ホログラムを含む請求項1に記載のシステム。
- 記録された干渉パターンを含み、入射光線に面するように位置決め可能であり、かつ、記録された干渉パターンによって回析された結果の光線として入射光線を通すことができるホログラフィック光学要素(HOE)デバイスを受信器ユニット内に配置された装置。
- 記録された干渉パターンが体積位相ホログラムを含む請求項13に記載の装置。
- 受信器ユニットが、
結果の光線を受信するための光学処理装置と、
光学処理装置とHOEデバイスの間で、結果の光線の方向をHOEデバイスから光学処理装置へコントロールするための複数のミラーとを含む請求項13に記載の装置。 - 結果の光線をコリメートするための、HOEデバイスと光学処理装置の間に位置決め可能なコリメート光学アセンブリと、
コリメートされた結果の光線から、追跡チャネルおよび通信チャネルを分離するため、かつ、通信チャネルを光学処理装置に向けて送るための、コリメート光学アセンブリと光学処理装置の間に位置決め可能な光学要素とをさらに含む請求項13に記載の装置。 - コリメートされた結果の光線をコリメート光学アセンブリから受信するように、かつ、コリメートされた結果の光線を複数の通信チャネルに分割するように位置決め可能なビーム・スプリッタをさらに含む請求項16に記載の装置。
- HOEデバイスが、現像されたエマルジョン材料を間に挟むガラス要素のペアを含み、現像されたエマルジョン材料が記録された干渉パターンを含む請求項13に記載の装置。
- 受信器ユニットのホログラフィック光学要素(HOE)デバイスを入射光線に面するように位置決めするステップと、
HOEデバイスにおいて記録された干渉パターンを使用して、入射光線を結果の光線として回析させるステップと、
回析された結果の光線を検出し、変調されたデータを得るステップとを含む方法。 - 結果の光線の方向を変更して、HOEデバイスの焦点距離全体を縮めるステップをさらに含む請求項19に記載の方法。
- 結果の光線をコリメートするステップと、
コリメートされた光線を通信チャネルおよび追跡チャネルに分割するステップとをさらに含む請求項19に記載の方法。 - ビーム・スプリッタを使用して、追跡に関連付けられた結果の光線の一部を追跡のために光学検出器に向けて送るステップと、
ビーム・スプリッタを使用して、通信データに関連付けられた結果の光線の別の一部を光学処理装置に向けて送るステップとをさらに含む請求項19に記載の方法。 - 干渉パターンをエマルジョン材料に記録するステップと、
エマルジョン材料を要素のペアの間に配置してホログラフィック光学要素(HOE)デバイスを形成するステップと、
HOEデバイスを受信器ユニット内に取り付けるステップとを含む方法。 - 要素のペアがガラス板のペアを含む請求項23に記載の方法。
- 干渉パターンをエマルジョン材料に記録するステップが、
光を第1および第2のパスに分割するステップと、
光を第1の点からの第1のパスからエマルジョン材料に向けて広げるステップと、
光を第2の点からの第2のパスからエマルジョン材料に向けて広げるステップと、
第1および第2の点から広げられた光の干渉からエマルジョン材料での干渉パターンを得るステップとを含む請求項23に記載の方法。 - 複数のミラーを受信器ユニット内に取り付けて、HOEデバイスを通過する光線の方向をコントロールするステップをさらに含む請求項23に記載の方法。
- エマルジョン材料が感光性樹脂材料を含む請求項1に記載のシステム。
- 要素のペアがプラスチック材料から作られる請求項23に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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