JP2004356515A - High-voltage pulse generator with discharge-excited gas laser device - Google Patents

High-voltage pulse generator with discharge-excited gas laser device Download PDF

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JP2004356515A
JP2004356515A JP2003154612A JP2003154612A JP2004356515A JP 2004356515 A JP2004356515 A JP 2004356515A JP 2003154612 A JP2003154612 A JP 2003154612A JP 2003154612 A JP2003154612 A JP 2003154612A JP 2004356515 A JP2004356515 A JP 2004356515A
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Kenji Yamamori
賢治 山森
Toyoji Inoue
豊治 井上
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Gigaphoton Inc
Ushio Denki KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-voltage pulse generator which has high input energy and can correspond to a gas laser device for exposure which is subjected to high-repetition operation. <P>SOLUTION: A magnetic assist SR1 with a core formed by laminating a sheet-like core member, a step-up transformer Tr and magnetic switches SR2, SR3 are disposed inside a tank 10 filled with an insulating refrigerant 11. A cross flow fan 27 is also provided as a cooling fan. The spacing of core members of the magnetic assist SR1, the set-up transformer Tr and the magnetic switches SR1 to SR3 is set to ensure flow of insulating refrigerant so that a peripheral temperature is below a rated temperature of the core member in operation and the inductance in saturation of wiring equipment such as the magnetic switch or the like, which is a saturable reactor, is at most a prescribed value. For example, the spacing of the core members is set at 1.5 mm or more and 5 mm or less. A rotor diameter D of the cross flow fan 27 is set at 40≤D≤120 (mm). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、その製造用の投影露光装置においては解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される露光光の短波長化が進められており、半導体露光用光源として、従来の水銀ランプから波長248nmのKrFエキシマレーザ装置が用いられている。さらに、次世代の半導体露光用光源として、波長193nmのArFエキシマレーザ装置及び波長157nmのフッ素(F)レーザ装置等の紫外線を放出するガスレーザ装置が有力である。
KrFエキシマレーザ装置においては、フッ素(F)ガス、クリプトン(Kr)ガス及びバッファーガスとしてのネオン(Ne)等の希ガスからなる混合ガス、ArFエキシマレーザ装置においては、フッ素(F)ガス、アルゴン(Ar)ガス及びバッファーガスとしてのネオン(Ne)等の希ガスからなる混合ガス、フッ素(F)レーザ装置においては、フッ素(F)ガス及びバッファーガスとしてヘリウム(He)等の希ガスからなる混合ガスであるレーザガスが数百kPaで封入されたレーザチェンバの内部で放電を発生させることにより、レーザ媒質であるレーザガスが励起される。
【0002】
レーザチェンバ内部には、レーザガスを励起するための一対の主放電電極が、レーザ発振方向に垂直な方向に所定の距離だけ離間して対向配置されている。この一対の主放電電極には高電圧パルスが印加され、主放電電極間にかかる電圧がある値(ブレークダウン電圧)に到達すると、主放電電極間のレーザガスが絶縁破壊されて主放電が開始し、この主放電によりレーザ媒質が励起される。
よって、このような露光用ガスレーザ装置は主放電の繰返しによるパルス発振を行い、放出するレーザ光はパルス光となる。現状、露光に用いられているレーザ装置のレーザパルスの繰返し周波数は2kHz程度であるが、近年、スループットの増大、露光量のバラツキの減少のため、繰返し周波数4kHz以上が要請されている。
【0003】
上記した露光用ガスレーザ装置において、上記したようにレーザチェンバ内で放電を発生させレーザガスを励起させるために設けられる高電圧パルス発生回路の例を図7に示す。
図7の高電圧パルス発生回路は、可飽和リアクトルからなる3個の磁気スイッチSR1、SR2、SR3を用いた2段の磁気パルス圧縮回路からなる。磁気スイッチSR1はIGBT等の半導体スイッチング素子である固体スイッチSWでのスイッチングロスの低減用のものであり、磁気アシストとも呼ばれる。
第1の磁気スイッチSR2と第2の磁気スイッチSR3により2段の磁気パルス圧縮回路を構成している。
ここで、図7(a)は磁気圧縮回路に加え昇圧トランスTrを含む回路、図7(b)は昇圧トランスを含まず、昇圧トランスTrの代わりにコンデンサC0の充電用のリアクトルL1を含む例である。
【0004】
以下に図7(a)にしたがって、回路の構成と動作を説明する。なお、図7(b)の回路は昇圧トランスにより昇圧される動作が無いだけで、他の動作は図7(a)と同様なので、説明を省略する。
まず、高電圧電源CHの電圧が所定の値Vinに調整され、主コンデンサC0が充電される。このとき、固体スイッチSWはオフになっている。主コンデンサC0の充電が完了し、固体スイッチSWがオンとなったとき、固体スイッチSW両端にかかる電圧は主に磁気スイッチSR1の両端にかかる。
磁気スイッチSR1の両端にかかる主コンデンサC0の充電電圧V0の時間積分値が磁気スイッチSR1の特性で決まる限界値に達すると、磁気スイッチSR1が飽和して磁気スイッチが入り、主コンデンサC0、磁気スイッチSR1、昇圧トランスTrの1次側、固体スイッチSWのループに電流が流れる。同時に、昇圧トランスTrの2次側、コンデンサC1のループに電流が流れ、主コンデンサC0に蓄えられた電荷が移行してコンデンサC1に充電される。
【0005】
この後、コンデンサC1における電圧V1の時間積分値が磁気スイッチSR2の特性で決まる限界値に達すると、磁気スイッチSR2が飽和して磁気スイッチが入り、コンデンサC1、コンデンサC2、磁気スイッチSR3のループに電流が流れ、コンデンサC1に蓄えられた電荷が移行してコンデンサC2に充電される。
さらにこの後、コンデンサC2における電圧V2の時間積分値が磁気スイッチSR3の特性で決まる限界値に達すると、磁気スイッチSR3が飽和して磁気スイッチが入り、コンデンサC2、ピーキングコンデンサCp、磁気スイッチSR3のループに電流が流れ、コンデンサC2に蓄えられた電荷が移行してピーキングコンデンサCpが充電される。
予備電離のためのコロナ放電は、第1電極11が挿入されている誘電体チューブ12と第2電極13とが接触している個所を基点として誘電体チューブ12の外周面に発生するが、ピーキングコンデンサCpの充電が進むにつれてその電圧Vpが上昇し、Vpが所定の電圧になるとコロナ予備電離部の誘電体チューブ12表面にコロナ放電が発生する。このコロナ放電によって誘電体チューブ12の表面に紫外線が発生し、主放電電極E1、E2間のレーザ媒質であるレーザガス2が予備電離される。
【0006】
ピーキングコンデンサCpの充電がさらに進むにつれて、ピーキングコンデンサCpの電圧Vpが上昇し、この電圧Vpがある値(ブレークダウン電圧)Vbに達すると、主放電電極E1、E2間のレーザガスが絶縁破壊されて主放電が開始し、この主放電によりレーザ媒質が励起され、レーザ光が発生する。
この後、主放電によりピーキングコンデンサCpの電圧が急速に低下し、やがて充電開始前の状態に戻る。
このような放電動作が固体スイッチSWのスイッチング動作によって繰り返し行なわれることにより、所定の繰り返し周波数でのパルスレーザ発振が行われる。
【0007】
ここで、高繰返し発振を実現するには、主放電電極E1,E2に印加する高電圧パルスは立上りが速く、また短パルスである必要がある。
主放電電極に印加する高電圧パルスの立上りが速い、すなわち、ピーキングコンデンサCpへのエネルギー移行時間(図7における磁気パルス圧縮回路の最終段のコンデンサC2からピーキングコンデンサCpへの電荷の移行時間)が短いと、放電開始電圧を高くすることができ、レーザ出力を大きくすることが可能となる。
特に波長の短いレーザ光を放出するガスレーザ装置ほど、放電空間に大きなエネルギーを投入しなければならず、できるだけ高速立上りの高電圧パルスが要求される。
また、ピーキングコンデンサCpに移行しきれない余剰電流が磁気パルス圧縮回路の最終段のコンデンサ(図7ではコンデンサC2)から放電空間へ流れ込むが、この余剰電流はレーザ発振に寄与しない。よって、放電パルスの後半部で電界集中等により放電が不均一となって次回のパルス放電に悪影響を及ぼす履歴が残る。
繰返し周波数が高くなるとパルス間隔が短くなるので、前回のパルス放電の履歴の影響を受ける可能性が高くなる。よって、上記履歴の影響を受けないようにするには、ピーキングコンデンサCpへの充電時間をできるだけ短くする、すなわち、上記高電圧パルスが短パルスであることが要請される。
上記した回路において、磁気スイッチSR2、SR3及びコンデンサC1、C2で構成される各段の容量移行型回路のインダクタンスを後段に行くにつれて小さくなるように設定することにより、各段を流れる電流パルスのパルス幅が順次狭くなるようなパルス圧縮動作が行われ、主放電電極E、E間に短パルスの強い放電が実現される。
【0008】
磁気スイッチの構成例を図8に示す。図7に示した回路における磁気スイッチSR2,SR3のパルス幅を圧縮する性能(圧縮性能)は、磁気スイッチ飽和後のインダクタンスが小さいほど良くなることが知られている。この構成例では、コンデンサ、コアの巻線を複数並列に設けており、コンデンサの寄生インダクタンス、磁気スイッチのコイルのインダクタンスを小さくして、上記磁気スイッチ飽和後のインダクタンスを小さくしている。
図7が例えば、磁気スイッチSR3を表している場合〔同図のSR(n+1)がSR3の場合〕、コンデンサCn〜Cnは、C2〜C2であり、C2〜C2を合成したものが図7(a)、図7(b)のC2である。このとき、コンデンサC2〜C2の一端はアース側に接続される。他端の一方は、磁気スイッチSR2を所定回数巻き回されたのちC1〜C1〔合成すると図7(a)、図7(b)のC1〕のCH側に接続され、他端の他方はSR3を所定回数巻き回された後、ピーキングコンデンサCp〜Cp〔合成すると図7(a)、図7(b)のCp〕のCH側に接続される。
ここで各磁気スイッチやコンデンサは、冷却のため絶縁性冷媒、例えば、絶縁オイルによって満たされた不図示のタンクの中に設置される。絶縁性冷媒は自然対流やファン等を用いた強制対流により、コア表面上を流れ、その際に熱交換を行う。
【0009】
前記したように、露光に用いられているレーザ装置のレーザパルスの繰返し周波数は、4kHz以上が要請され始めている。そのため、磁気スイッチのコアでの発熱量が増加する。現状の繰返し周波数2kHzに対応したコアを用いる場合、コアの定格以上に発熱してしまう。
図8に示すように、コア1は磁性合金薄帯を芯材3に年輪状に巻き回したものである。この磁性合金薄帯は両面に絶縁物の薄膜(例:シリカ薄膜)が施されている。コアが定格以上に発熱すると、磁性合金薄帯とシリカ薄膜との熱膨張係数の違いからシリカ薄膜にクラックが生じる。クラックが生じるとそこから漏れ電流が多くなり、さらに発熱し、最終的には回路素子としての特性を失うことになる。
上記したように、コア1は両面に絶縁物の薄膜が施されている磁性合金薄帯を芯材に年輪状に巻き回したものである。よって、コア1の放熱性能は磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面が高く、上記巻径方向に垂直な面は低い。
放電励起ガスレーザ装置の高繰返し周波数のレーザ動作に対応するコアには、コアを薄板状に分割して、各薄板状コアそれぞれが一定距離だけ離間するように配置されている構造が採用されることが多い。
このような構造をとることにより、絶縁性冷媒と接し、放熱性能が高い部分の面積が、図8の構造と比較して増大する。
従って、コアの冷却効率が高くなるので、発熱量が増大する4kHz以上の高繰返し周波数にも対処することが可能となる。
【0010】
図9(a)(b)は、上記したような分割したコア構造の構成例であり、本発明者等が特願2001−343534号で提案していたものである。
上記図9(a)(b)に示したものは、磁性合金薄帯を芯材3に年輪状に巻き回した各コア1a〜1d間に、円環状の支え部材4を挿入することにより、各コア1a〜1dを所定距離だけ離間させて保持させている。支え部材4の外周の直径は、コア1a〜1dの芯材3の外周の直径と略一致し、コア1a〜1dとは接触しない。支え部材4は金属製であり、例えば、ステンレス(SUS316)鋼よりなる。
ここで、支え部材4はその外周より径が小さい円環状の突出部4aを上下面に有する。この支え部材4の上下面に設けた突出部4aと嵌め合うように、コア1a〜1dの芯材の内輪側に突出した段差部3aが設けられている。支え部材4の突出部4aと、芯材3の段差部3aとにより、各コア1a〜1dが略同軸状となるように位置決めされる。
なお、設計条件によってコア1a〜1dの厚みは変わるが、例えば、厚みが10mm以下だとコアの自重によるたわみが生じる。このような場合、コアの自重によるたわみ等を防止するため、コア1a〜1d外輪側の側面にボス5を数ヶ所設けてこれらのボス5にロッド6を貫通させ、ボス5とロッド6を止めねじ7で固定する。
上記構造においては、支え部材とコア(磁性合金薄帯部)とが接触しない。よって、コア表面における冷媒の流れが妨げられる部分が生じず、4kHz以上の高繰返し周波数条件においても、効率的な熱交換が可能となる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように、高繰返し発振を実現するには、主放電電極E1,E2に印加する高電圧パルスは立上りが速く、また短パルスである必要がある。
そのためのパルス圧縮を行う磁気パルス圧縮回路において、圧縮効率を良好にするには、磁気スイッチの飽和後のインダクタンスはできるだけ小さい方が望ましい。
飽和後のインダクタンスが小さくないと圧縮比を大きくすることができない。
よって、所望のパルス幅の電圧・電流パルスを得るためには、磁気パルス圧縮回路の段数を増やしたり、あるいは、磁気パルス圧縮回路の各磁気スイッチを構成する可飽和リアクトルのコアへの巻き数を減らして、コアの断面積が大きくするといった圧縮比を大きくする方策を採る必要がある。そのため、磁気パルス圧縮回路が大型になってメンテナンスも大掛かりになり、磁気パルス圧縮回路そのものの材料コストも上昇する。
ここで、図9に示した分割コア構造を取ると、分割構造を取らないコアと比較して、コアに巻き回される巻線のインダクタンスが大きくなる。よって、磁気スイッチの飽和後のインダクタンスをあまり小さくできない。
従来は、発熱量が大きい磁気スイッチの動作条件において、放熱性能のみが考慮されて各コア間の距離が設定されてきた。しかしながら、上記したような高繰返しレーザ装置に使用する際に特有なインダクタンスの問題については全く考慮されてきていない。
よって、場合によっては、磁気スイッチの飽和後のインダクタンスが小さくならなかった。そのため、磁気パルス圧縮回路の段数を増やしたり、あるいは、磁気パルス圧縮回路の各磁気スイッチを構成する可飽和リアクトルのコアへの巻き数を減らして、コアの断面積が大きくするといった圧縮比を大きくする方策を採る必要があった。
本発明は上記事情を考慮してなされたものであって、その目的は、入力エネルギーが高く、高繰返し動作がなされる露光用ガスレーザ装置の特有の動作条件に対応可能な高電圧パルス発生装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明者等が、上記露光用ガスレーザ装置におけるコア構造について鋭意検討を重ねた結果、前記のように分割されたコアの間隔を、繰り返し周波数に応じた適切な値に定め、また、冷却用のクロスフローファンのローター径を適切に定めれば、前記した発熱の問題とインダクタンスの問題を解決することができることを見いだした。
すなわち、本発明においては、以下のようにして上記課題を解決する。
(1)コンデンサと磁気アシストと磁気スイッチとからなる磁気圧縮段を少なくとも一段有し、上記磁気アシストおよび上記磁気スイッチの少なくとも一つが絶縁性冷媒に満たされた容器中に配置され、上記容器中に配置された上記磁気アシストと磁気スイッチのコアが複数の薄板状のコア部材が所定間隔毎に積層された構造を有し、上記容器内に絶縁性冷媒を循環させるファンを設けられている、レーザ動作の繰返し周波数が4kHz以上の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置において、上記コア部材の間隔を、レーザ動作中の上記コア部材の定格温度を下回り、かつ、可飽和リアクトルである容器内の巻線機器が飽和したときのインダクタンスが所定値以下となるように設定する。
(2)複数の薄板状のコア部材が所定間隔毎に積層された構造の昇圧トランスを有する上記(1)の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置において、昇圧トランスのコア部材の間隔を上記容器内に配置された巻線機器のコア部材の上記設定間隔と等しく設定する。
(3)上記(1)(2)において、ファンとしてクロスフローファンを用いる。(4)上記(3)において、絶縁性冷媒を冷却するラジエターをクロスフローファンの流入口に設ける。
(5)上記(3)(4)において、上記容器中の巻線機器もしくは巻線機器および昇圧トランスの少なくとも1つを、コアの磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面と容器の底面とが略垂直になるように配置し、上記コア部材の間隔を1.5mm以上、5mm以下に設定する。
(6)上記(3)(4)において、上記容器中の巻線機器もしくは巻線機器および昇圧トランスの全てを、コアの磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面と容器の底面とが略平行になるように配置し、上記コア部材の間隔が2mm以上、5mm以下に設定する。
(7)上記(5)(6)において、クロスフローファンのローター径を40mm以上、120mm以下に設定する。
本発明においては、上記放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置において、磁気アシスト、磁気スイッチ、昇圧トランスのコア部材の間隔を上記のように設定したので、コアの冷却効率を高めながら、巻線のインダクタンスを所望の値以下にすることができる。このため、圧縮比を大きくする等の方策を講ずることなく、発熱量が増大する4kHz以上の高繰返し周波数にも対処することが可能となる。
また、クロスフローファンのローター径を上記のように設定したので、ファンの回転数を必要以上に増大させたり、ファンの大きさを大きくすることなく、効率的にコアを冷却することが可能となる。
【0013】
【発明の実施の形態】
図1、図2は本発明の第1の実施例の高電圧パルス発生装置の全体構成を示す図であり、絶縁性冷媒で満たされたタンク内に設置された磁気スイッチ、昇圧トランス、コンデンサ等の配置例を示す。なお、図2は図1のA−A断面図であるが、説明の都合上、ラジエータは図1とは異なる位置に示されており、また、その他、理解を容易にするため一部の部材の構成が図1とは異なって表示されている。
図1、図2において、タンク10内部の最下段には、レーストラック状のコアを備えた最終段磁気スイッチSR3が設置されている。磁気スイッチSR3のコアの磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面は、タンク10の底面と対向しており、該コアの長手方向とレーザチェンバ20内に設けられた主電極E1,E2の長手方向は略一致している。磁気スイッチSR3のコアは絶縁性冷媒11との熱交換効率を良くするため、前記図9に示したように分割されている。
磁気スイッチSR3の両側方には、複数のコンデンサC2が、主電極E1,E2の長手方向に沿って配設されている。複数のコンデンサC2は一端に設けられた導電性支持部材21(図2)により支持される。
【0014】
磁気スイッチSR3の上方には、それぞれ略円形のコアを有する磁気アシストSR1と、昇圧トランスTrと、磁気スイッチSR2とが、コアの軸方向を主電極E1,E2の長手方向と略一致させ、かつそれぞれのコアの中心軸を略一致させて配置されている。磁気スイッチSR3と同様、磁気アシストSR1、昇圧トランスTr、磁気スイッチSR2のコアは分割されている。
磁気アシストSR1と、昇圧トランスTrと、磁気スイッチSR2の両側方には、複数のコンデンサC1が、レーザチェンバ20内に設けられた主電極E1,E2の長手方向に沿って配設されている。複数のコンデンサC1は一端に設けられた導電性支持部材22(図2)により支持される。また、他端は導電性接続部材23(図2)で接続される。なお、図2においては、説明のために導電性支持部材22が図中左右に折り曲げられているように描画されている。しかし、実際には、図1で模式的に示すように、コンデンサC2の外側に折り曲げられている。
タンク10の底面に設けられた絶縁材24を貫通する負高電圧導入部材25により、負高電圧が主電極E1に供給される。
【0015】
従来、タンク10内部のコアの上方に、絶縁性冷媒を冷却する熱交換器26(以下ラジエターという)を設置していた。ラジエター26の内部には、外部からの冷却水が導入・排出される(図2では、上記のようにラジエター26がコア上部に配置される状態を示している)。
ラジエター26近傍の絶縁性冷媒は冷却され、磁気スイッチSR1〜SR3、トランスTr、コンデンサC1,C2近傍の絶縁性冷媒11は、レーザ装置動作中は加熱される。
よって、温度差により絶縁性冷媒11の自然対流が発生する。絶縁性冷媒11は、自然対流により磁気スイッチSR1〜SR3やトランスTrのコア表面やコンデンサC1,C2表面上を流れ、その際に行われる熱交換により、磁気スイッチSR1〜SR3、トランスTr、コンデンサC1,C2を冷却する。
【0016】
しかしながら、先に述べたように、近年、スループットの増大、露光量のバラツキの減少のため、繰返し周波数4kHz以上が要請されている。このような運転条件の場合、磁気スイッチSR1〜SR3、トランスTrのコアにおける自己発熱が増大し、コアの定格を越える恐れがあり、また、絶縁性冷媒11の温度も上昇する。
単に、磁気スイッチSR1〜SR3、トランスTrのコアを絶縁性冷媒11に浸漬して、同じく絶縁性冷媒に浸漬したラジエター26を設けて、絶縁性冷媒の自然対流による熱交換によって冷却させる場合、ラジエター26を大型化してしまう。よって、タンク10が大型化する。
そのため、タンク10内部に冷却用ファンを設け、タンク10内部における絶縁性冷媒を強制対流させることが望ましい。これにより、磁気スイッチSR1〜SR3やトランスTrのコア表面やコンデンサC1,C2表面上、および、ラジエター26表面を流れる絶縁性冷媒の流速が増加する。
よって、熱交換効率が上昇するので、繰返し周波数4kHz以上の運転条件においても、自然対流のときと比較してある程度ラジエター26の大型化を抑えて、磁気スイッチSR1〜SR3、トランスTr、コンデンサC1,C2を冷却することが可能となる。
【0017】
図1では上記冷却用ファンとしてクロスフローファン27を用いるようにしたものである。クロスフローファン27はその長手方向が磁気スイッチSR3の長円状のコアの長手方向と略平行となるように配置される。また、このファン27の長手方向の長さは、磁気スイッチSR3のコアの長手方向の長さと略一致するか、それ以上となるように設定してある。
なお、冷却用ファンはクロスフローファンに限るものではなく、例えば、軸流ファンを複数台、磁気スイッチSR3のコアの長手方向に設けてもよい。
しかしながら、冷却ファンをクロスフローファンとすると、軸流ファンでは不均一である絶縁性冷媒の磁気スイッチSR3の長円状コア付近での流速をほぼ均一化することが可能となり、コアの温度分布がほぼ均一となった。また、磁気アシストSR1、磁気スイッチSR2、昇圧トランスTrの各コア表面を流れる絶縁性冷媒の流速もほぼ均一化することが可能となり、各コアの温度がほぼ均一となった。
【0018】
クロスフローファン27を使用する場合、タンク10内上部で絶縁性冷媒の液面より下に図2に示すようにラジエターを配置してもよいが、図1のようにファンの絶縁性冷媒11の取入口近傍に配置するのが好ましい。
すなわち、クロスフローファン27のガイドによって作るケーシングを、流体(絶縁性冷媒11)が、図1のように上部から流入するように構成する。このように構成すると、ファン27上部の流体取入口近傍の流速が一番速い。またこの位置は、加熱されたあとの流体が流れる位置でもある。すなわち、絶縁性冷媒11のコア、コンデンサと熱交換により加熱されたあとの流速が速い位置にラジエター26を配置することが可能となる。
また、流速が速いので、従来のタンク10内上部で絶縁性冷媒11の液面より下に配置する場合より、熱交換効率が向上する。よって、ラジエター26を小型化することが可能である。
ここで、磁気アシストSR1、昇圧トランスTr、磁気スイッチSR2を上記のように配置したので、絶縁性冷媒の流れは、各コア間の隙間、すなわち、磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面を平行に通過する。上記したように、コアの放熱性能は磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面が高いので、この面を通過する絶縁性冷媒により、効率的に熱を奪うことができ、好適な冷却が可能となっている。
【0019】
本実施例では、上記構成の高電圧パルス発生装置について、上記磁気アシストSR1、昇圧トランスTr、磁気スイッチSR2の各コアの間隔dの最適な値を以下のようにして調べた。
まず、上記分割されたコアの間隔dに対応したコアの温度を測定した。その結果を図3に示す。ここで、測定したコアは、磁気スイッチSR2のコアである。
また、レーザ動作の繰返し周波数は2、4、6kHzであり、図3の横軸はコア間隔d、縦軸は温度Tであり、Tsはコアの定格温度である。
図3に示すように繰返し周波数が高いほど、コアの定格温度Tsを実現するためのコア間隔dは広くなる。しかしあるコア間隔を越えると、コアの放熱性能は飽和し、コアの温度は変わらなくなる。
そこで、繰返し周波数4kHzの場合、コア間隔を、コアの定格温度Tsのときのコア間隔dT4以上に設定する。ここで、冷却に余裕を持たせるために、例えば、繰返し周波数6kHzの場合における定格温度Tsのときのコア間隔dT6以上に設定する。
【0020】
また、発明者等は短パルス化実現のために許容される磁気スイッチ飽和後のインダクタンスの最大値Lとコア間隔dとの関係を調べた。図4に結果を示す。図4の横軸はコア間隔d、縦軸は上記インダクタンスLである。
図4から明らかなように、繰返し周波数が高いほど、許容される磁気スイッチ飽和後のインダクタンスの最大値Lは小さくなり、それに対応するコア間隔dは狭くなる。繰返し周波数4kHz以上の場合は、コア間隔をdL6以下に設定する。
以上のことから、繰返し周波数4kHz以上の場合、コア間隔dは、dT6以上、dL6以下に設定するのが望ましいことが分かる。
発明者等の実験では、dT6=1.5mm、dL6=5mmとなった。したがって、繰返し周波数4kHz以上の場合、コア間隔を1.5mm以上、5mm以下とするのが望ましい。
【0021】
次に本発明の第2の実施例を説明する。
上記第1の実施例では、磁気アシストSR1と昇圧トランスTrと磁気スイッチSR2の磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面は、絶縁性冷媒の流れと平行になっていたが、本実施例では、図5に示すように、高電圧パルス発生装置の磁気アシストSR1と、昇圧トランスTrと、磁気スイッチSR2を、磁気スイッチSR3と同様な向きに配置している。
図5は、前記図1に対応した構成を示しており、図1に示したものと同一のものには同一の符号が付されている。
同図に示すように、本実施例においては、磁気アシストSR1と、昇圧トランスTrと、磁気スイッチSR2、磁気スイッチSR3の磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面が、タンク10の底面と対向するように配置されている。また、各コアは、前記したように分割され、その中心軸を略一致させて配置している。
なお、磁気スイッチSR3のコアは、前記図1と同様、長円形のコアでもよいし、あるいは、磁気スイッチSR2等と同様、円形のコアであってもよい。
【0022】
磁気スイッチSR3の両側方には、第1の実施例と同様、複数のコンデンサC2が、主電極E1,E2の長手方向に沿って配設されている。複数のコンデンサC2は前記したように、導電性支持部材により支持される。
磁気アシストSR1と、昇圧トランスTrと、磁気スイッチSR2の両側方には、複数のコンデンサC1が、主電極E1,E2の長手方向に沿って配設されている。複数のコンデンサC1は前記したように、導電性支持部材により支持され、他端は導電性接続部材で接続される。
タンク10の底面に設けられた絶縁材24を貫通する負高電圧導入部材25により、負高電圧が電極E1に供給される。
また、冷却用ファンとしてクロスフローファン27が設けられ、クロスフローファン27はその長手方向が磁気スイッチSR3のコアと略平行となるように配置される。また、このファン27の長手方向の長さは、磁気スイッチSR3のコアの径または長手方向の長さと略一致するか、それ以上となるように設定してある。
また、ラジエター26が、クロスフローファン27の絶縁性冷媒11の取入口近傍に配置されている。
【0023】
本実施例においては、図5に示すように、各コアの磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面はすべて、絶縁性冷媒の流れ方向に対向する方向に配置されている。そのため、第1の実施例と比較してコアの放熱性能が低い。
上記構成の高電圧パルス発生装置について、前記と同様、上記磁気アシストSR1、昇圧トランスTr、磁気スイッチSR2の各コアの間隔dの最適な値を調べた。その結果、本実施例の構成では、dT6=2mm,dL6=5mmとなった。したがって、繰返し周波数4kHz以上の場合、コア間隔を2mm以上、5mm以下とするのが望ましい。
次に、上記第1、第2の実施例の構成において、クロスフローファン27の周速度と、定格温度Tsとなるコア間隔dTSとの関係を調べた。
その結果を図6に示す。ここで、コア間隔を測定した対象は、磁気スイッチSR2のコアであり、レーザ動作の繰返し周波数は4kHz、クロスフローファンの羽根車(ローター)の径は80mmである。なお、同図の横軸はクロスフローファンの周速度V(m/S)、縦軸はコア間隔dTSである。
同図に示すように、クロスフローファンの周速度が高くなるにつれて、コアの温度が定格温度Tsとなるコア間隔dTSは徐々に狭くなる。これは、ファンの周速度が増加するにつれ、コア間を流れる絶縁性冷媒の速度が増加し、熱交換効率が上昇するためと考えられる。
しかしながら、周速度がVmax以上となると、上記コア間隔dTSはdTmaxからあまり変化しない。この原因は明らかではないが、コア側面に絶縁性冷媒が衝突したときの流れの乱れが大きくなり、コア間を流れる絶縁性冷媒の速度が制限されたためと考えられる。
【0024】
前記第1、第2の実施例で示したコア間隔は、いずれも周速度がVmaxとしたときの特性である。ここで、4kHzの場合、Vmaxは0.8m/s以上であった。
また、クロスフローファンのローター径が40mmより小さい場合、Vmax=0.8m/sを実現しようとすると、ファンの回転速度が大きくなりすぎてクロスフローファンを回転させるモータの負荷が大きくなり好ましくなかった。
さらに、クロスフローファンのローター径が120mmより大きくなると、クロスフローファンを収容するタンクが大きくなりすぎ、好ましくない。
よって、4kHz以上の場合、クロスフローファンのローター径Dは、40≦D≦120(mm)が望ましいことがわかった。
【0025】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置において、磁気アシスト、磁気スイッチ、昇圧トランスのコア部材の間隔を上記のように設定したので、コアの冷却効率を高めながら、巻線のインダクタンスを所望の値以下にすることができる。
このため、圧縮比を大きくする等の方策を講ずることなく、発熱量が増大する4kHz以上の高繰返し周波数にも対処することが可能となり、装置を大型化することなく、発振周波数の高繰り返し周波数化に対応することができる。
(2)クロスフローファンのローター径を上記のように設定したので、ファンの回転数を必要以上に増大させたり、ファンの大きさを大きくすることなく、効率的にコアを冷却することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の高電圧パルス発生装置の全体構成を示す図(1)である。
【図2】本発明の第1の実施例の高電圧パルス発生装置の全体構成を示す図(2)である。
【図3】分割されたコアの間隔dとコアの温度の測定結果を示す図である。
【図4】インダクタンスの最大値Lとコア間隔dとの関係を示す図である。
【図5】本発明の第2の実施例の高電圧パルス発生装置の全体構成を示す図である。
【図6】クロスフローファンの周速度と定格温度となるコア間隔との関係を示す図である。
【図7】高電圧パルス発生回路の例を示す図である。
【図8】磁気スイッチの構成例を示す図である。
【図9】分割したコア構造の構成例を示す図である。
【符号の説明】
10 タンク
11 絶縁性冷媒
20 レーザチェンバ
21,22 導電性支持部材
23 導電性接続部材
24 絶縁材
25 負高電圧導入部材
26 ラジエター(熱交換器)
27 クロスフローファン
C1,C2 コンデンサ
E1,E2 主電極
SR3 磁気スイッチ
SR1 磁気アシスト
SR2 磁気スイッチ
Tr 昇圧トランス
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
2. Description of the Related Art As a semiconductor integrated circuit is miniaturized and highly integrated, an improvement in resolution is required for a projection exposure apparatus for manufacturing the semiconductor integrated circuit. For this reason, the wavelength of exposure light emitted from an exposure light source is being shortened, and a KrF excimer laser device having a wavelength of 248 nm from a conventional mercury lamp is used as a semiconductor exposure light source. Further, as a next-generation semiconductor exposure light source, a 193 nm wavelength ArF excimer laser device and a 157 nm wavelength fluorine (F 2 Gas laser devices that emit ultraviolet light, such as laser devices, are promising.
In a KrF excimer laser device, fluorine (F 2 ) Gas, krypton (Kr) gas, and a mixed gas composed of a rare gas such as neon (Ne) as a buffer gas. In an ArF excimer laser apparatus, fluorine (F) is used. 2 ) Gas, a mixed gas consisting of argon (Ar) gas and a rare gas such as neon (Ne) as a buffer gas; 2 ) In a laser device, fluorine (F 2 A) A laser gas, which is a laser medium, is excited by generating a discharge inside a laser chamber in which a laser gas, which is a mixed gas of a rare gas such as helium (He) as a gas and a buffer gas, is sealed at several hundred kPa. .
[0002]
Inside the laser chamber, a pair of main discharge electrodes for exciting a laser gas are opposed to each other at a predetermined distance in a direction perpendicular to the laser oscillation direction. A high voltage pulse is applied to the pair of main discharge electrodes, and when the voltage applied between the main discharge electrodes reaches a certain value (breakdown voltage), the laser gas between the main discharge electrodes is broken down and the main discharge starts. The laser medium is excited by the main discharge.
Therefore, such an exposure gas laser device performs pulse oscillation by repetition of main discharge, and emitted laser light is pulsed light. At present, the repetition frequency of a laser pulse of a laser device used for exposure is about 2 kHz. However, in recent years, a repetition frequency of 4 kHz or more has been demanded in order to increase throughput and reduce variation in exposure amount.
[0003]
FIG. 7 shows an example of a high-voltage pulse generation circuit provided to generate a discharge in the laser chamber and excite the laser gas in the above-described exposure gas laser apparatus.
The high-voltage pulse generating circuit shown in FIG. 7 includes a two-stage magnetic pulse compression circuit using three magnetic switches SR1, SR2, and SR3 each composed of a saturable reactor. The magnetic switch SR1 is for reducing switching loss in the solid-state switch SW, which is a semiconductor switching element such as an IGBT, and is also called magnetic assist.
The first magnetic switch SR2 and the second magnetic switch SR3 constitute a two-stage magnetic pulse compression circuit.
Here, FIG. 7A shows a circuit including a step-up transformer Tr in addition to a magnetic compression circuit, and FIG. 7B does not include a step-up transformer and includes a reactor L1 for charging a capacitor C0 instead of the step-up transformer Tr. It is.
[0004]
Hereinafter, the configuration and operation of the circuit will be described with reference to FIG. Note that the circuit of FIG. 7B does not have the operation of boosting the voltage by the boosting transformer, and the other operations are the same as those of FIG. 7A.
First, the voltage of the high-voltage power supply CH is adjusted to a predetermined value Vin, and the main capacitor C0 is charged. At this time, the solid state switch SW is off. When the charging of the main capacitor C0 is completed and the solid state switch SW is turned on, the voltage applied across the solid state switch SW is mainly applied across the magnetic switch SR1.
When the time integral of the charging voltage V0 of the main capacitor C0 applied to both ends of the magnetic switch SR1 reaches a limit value determined by the characteristics of the magnetic switch SR1, the magnetic switch SR1 is saturated and the magnetic switch is turned on, and the main capacitor C0 and the magnetic switch A current flows through SR1, the primary side of the step-up transformer Tr, and the loop of the solid state switch SW. At the same time, a current flows through the loop of the capacitor C1 on the secondary side of the step-up transformer Tr, and the electric charge stored in the main capacitor C0 transfers to charge the capacitor C1.
[0005]
Thereafter, when the time integral value of the voltage V1 at the capacitor C1 reaches a limit value determined by the characteristics of the magnetic switch SR2, the magnetic switch SR2 is saturated and the magnetic switch is turned on, and a loop of the capacitor C1, the capacitor C2, and the magnetic switch SR3 is formed. A current flows, and the electric charge stored in the capacitor C1 moves and charges the capacitor C2.
Thereafter, when the time integral of the voltage V2 at the capacitor C2 reaches a limit value determined by the characteristics of the magnetic switch SR3, the magnetic switch SR3 is saturated and the magnetic switch is turned on, and the capacitors C2, the peaking capacitor Cp, and the magnetic switch SR3 are turned on. A current flows through the loop, and the electric charge stored in the capacitor C2 transfers to charge the peaking capacitor Cp.
Corona discharge for preionization is generated on the outer peripheral surface of the dielectric tube 12 from a point where the dielectric tube 12 in which the first electrode 11 is inserted and the second electrode 13 are in contact with each other. As the charging of the capacitor Cp proceeds, the voltage Vp increases, and when Vp reaches a predetermined voltage, corona discharge occurs on the surface of the dielectric tube 12 of the corona preionization section. Ultraviolet rays are generated on the surface of the dielectric tube 12 by the corona discharge, and the laser gas 2 as a laser medium between the main discharge electrodes E1 and E2 is pre-ionized.
[0006]
As the charging of the peaking capacitor Cp further proceeds, the voltage Vp of the peaking capacitor Cp increases. When the voltage Vp reaches a certain value (breakdown voltage) Vb, the laser gas between the main discharge electrodes E1 and E2 is broken down. The main discharge starts, the laser medium is excited by the main discharge, and laser light is generated.
Thereafter, the voltage of the peaking capacitor Cp rapidly decreases due to the main discharge, and eventually returns to the state before the start of charging.
Such a discharge operation is repeatedly performed by the switching operation of the solid state switch SW, whereby pulse laser oscillation is performed at a predetermined repetition frequency.
[0007]
Here, in order to realize high repetition oscillation, the high voltage pulse applied to the main discharge electrodes E1 and E2 needs to have a fast rise and a short pulse.
The rise of the high-voltage pulse applied to the main discharge electrode is fast, that is, the energy transfer time to the peaking capacitor Cp (the transfer time of the charge from the capacitor C2 at the last stage of the magnetic pulse compression circuit in FIG. 7 to the peaking capacitor Cp) is short. If it is short, the discharge starting voltage can be increased, and the laser output can be increased.
In particular, a gas laser device that emits a laser beam having a shorter wavelength needs to input a larger amount of energy into a discharge space, and requires a high-voltage pulse that rises as fast as possible.
Further, excess current that cannot be transferred to the peaking capacitor Cp flows from the last stage capacitor (the capacitor C2 in FIG. 7) of the magnetic pulse compression circuit into the discharge space, but this excess current does not contribute to laser oscillation. Therefore, in the latter half of the discharge pulse, the discharge becomes non-uniform due to electric field concentration or the like, and a history that adversely affects the next pulse discharge remains.
As the repetition frequency increases, the pulse interval decreases, so that the possibility of being affected by the previous pulse discharge history increases. Therefore, in order not to be affected by the history, it is required that the charging time for the peaking capacitor Cp be as short as possible, that is, the high voltage pulse is a short pulse.
In the above-described circuit, by setting the inductance of the capacitance transition type circuit of each stage composed of the magnetic switches SR2 and SR3 and the capacitors C1 and C2 so as to become smaller toward the subsequent stage, the pulse of the current pulse flowing through each stage is set. A pulse compression operation is performed such that the width is gradually reduced, and a strong short-pulse discharge is realized between the main discharge electrodes E.
[0008]
FIG. 8 shows a configuration example of the magnetic switch. It is known that the performance (compression performance) of compressing the pulse width of the magnetic switches SR2 and SR3 in the circuit shown in FIG. 7 improves as the inductance after saturation of the magnetic switch decreases. In this configuration example, a plurality of windings of the capacitor and the core are provided in parallel to reduce the parasitic inductance of the capacitor and the inductance of the coil of the magnetic switch, thereby reducing the inductance after saturation of the magnetic switch.
For example, when FIG. 7 shows the magnetic switch SR3 (when SR (n + 1) in FIG. 7 is SR3), the capacitor Cn 1 ~ Cn n Is C2 1 ~ C2 n And C2 1 ~ C2 n C2 in FIGS. 7 (a) and 7 (b). At this time, the capacitor C2 1 ~ C2 n Is connected to the ground side. One of the other ends is connected to C1 after the magnetic switch SR2 is wound a predetermined number of times. 1 ~ C1 n 7A and 7B are connected to the CH side, and the other end is wound SR3 a predetermined number of times, and then the peaking capacitor Cp 1 ~ Cp n When combined, it is connected to the CH side of Cp in FIGS. 7A and 7B.
Here, each magnetic switch and capacitor are installed in a tank (not shown) filled with an insulating refrigerant for cooling, for example, insulating oil. The insulating refrigerant flows on the core surface by natural convection or forced convection using a fan or the like, and performs heat exchange at that time.
[0009]
As described above, a repetition frequency of a laser pulse of a laser device used for exposure is required to be 4 kHz or more. Therefore, the amount of heat generated in the core of the magnetic switch increases. When a core corresponding to the current repetition frequency of 2 kHz is used, heat is generated in excess of the core rating.
As shown in FIG. 8, the core 1 is formed by winding a magnetic alloy ribbon around a core material 3 in an annual ring shape. This magnetic alloy ribbon is provided with an insulating thin film (eg, a silica thin film) on both surfaces. If the core generates more heat than rated, cracks occur in the silica thin film due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the magnetic alloy ribbon and the silica thin film. When a crack is generated, a leakage current increases from the crack, further generates heat, and eventually loses characteristics as a circuit element.
As described above, the core 1 is formed by winding a magnetic alloy ribbon having a thin film of an insulator on both surfaces thereof in a ring shape around a core material. Therefore, the heat radiation performance of the core 1 is high on the surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon, and low on the surface perpendicular to the winding diameter direction.
The core corresponding to the high repetition frequency laser operation of the discharge excitation gas laser device shall adopt a structure in which the core is divided into thin plates and each thin core is arranged so as to be separated by a certain distance. There are many.
By adopting such a structure, the area of a portion which is in contact with the insulating refrigerant and has high heat dissipation performance is increased as compared with the structure of FIG.
Accordingly, the cooling efficiency of the core is increased, so that it is possible to cope with a high repetition frequency of 4 kHz or more in which the amount of generated heat increases.
[0010]
FIGS. 9A and 9B show an example of the configuration of the divided core structure as described above, which was proposed by the present inventors in Japanese Patent Application No. 2001-343534.
9 (a) and 9 (b), the annular support member 4 is inserted between the cores 1a to 1d formed by winding a magnetic alloy ribbon around the core material 3 in an annual ring shape. The cores 1a to 1d are held apart from each other by a predetermined distance. The diameter of the outer periphery of the support member 4 substantially matches the diameter of the outer periphery of the core material 3 of the cores 1a to 1d, and does not contact the cores 1a to 1d. The support member 4 is made of metal, for example, stainless steel (SUS316) steel.
Here, the support member 4 has annular projecting portions 4a whose diameter is smaller than the outer circumference on the upper and lower surfaces. A stepped portion 3a protruding toward the inner ring side of the core material of the cores 1a to 1d is provided so as to fit with the protruded portion 4a provided on the upper and lower surfaces of the support member 4. The cores 1a to 1d are positioned so as to be substantially coaxial by the protrusion 4a of the support member 4 and the step 3a of the core material 3.
The thickness of the cores 1a to 1d varies depending on the design conditions. For example, if the thickness is 10 mm or less, the core is bent by its own weight. In such a case, in order to prevent the core from bending due to its own weight, several bosses 5 are provided on the outer ring side surfaces of the cores 1a to 1d, and the rods 6 are made to pass through these bosses 5, and the bosses 5 and the rods 6 are stopped. Fix with screws 7.
In the above structure, the support member does not come into contact with the core (the magnetic alloy thin ribbon portion). Therefore, there is no portion where the flow of the refrigerant is obstructed on the core surface, and efficient heat exchange is possible even under a high repetition frequency condition of 4 kHz or more.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in order to realize high repetition oscillation, the high voltage pulse applied to the main discharge electrodes E1 and E2 needs to have a fast rise and a short pulse.
In a magnetic pulse compression circuit that performs pulse compression for that purpose, it is desirable that the inductance after saturation of the magnetic switch be as small as possible in order to improve the compression efficiency.
If the inductance after saturation is small, the compression ratio cannot be increased.
Therefore, in order to obtain a voltage / current pulse having a desired pulse width, the number of stages of the magnetic pulse compression circuit is increased, or the number of turns of the saturable reactor constituting each magnetic switch of the magnetic pulse compression circuit around the core is increased. It is necessary to take measures to increase the compression ratio, such as reducing the diameter and increasing the cross-sectional area of the core. Therefore, the size of the magnetic pulse compression circuit becomes large, the maintenance becomes large, and the material cost of the magnetic pulse compression circuit itself increases.
Here, when the split core structure shown in FIG. 9 is adopted, the inductance of the winding wound around the core is larger than that of the core without the split structure. Therefore, the inductance of the magnetic switch after saturation cannot be reduced too much.
Conventionally, the distance between the cores has been set in consideration of only the heat radiation performance under the operating conditions of the magnetic switch that generates a large amount of heat. However, no consideration has been given to the problem of inductance that is unique when used in a high repetition rate laser device as described above.
Therefore, in some cases, the inductance of the magnetic switch after saturation did not decrease. Therefore, increase the number of stages of the magnetic pulse compression circuit, or reduce the number of turns of the saturable reactor constituting each magnetic switch of the magnetic pulse compression circuit around the core, thereby increasing the compression ratio such as increasing the cross-sectional area of the core. It was necessary to take measures to do so.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a high-voltage pulse generator capable of coping with a specific operating condition of an exposure gas laser device having a high input energy and performing a high repetition operation. To provide.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have made intensive studies on the core structure in the gas laser apparatus for exposure, and as a result, determined the interval between the cores divided as described above to an appropriate value according to the repetition frequency, and also used for cooling. It has been found that if the rotor diameter of the cross flow fan is properly determined, the above-described problem of heat generation and the problem of inductance can be solved.
That is, in the present invention, the above-mentioned problem is solved as follows.
(1) At least one magnetic compression stage including a capacitor, a magnetic assist, and a magnetic switch is provided, and at least one of the magnetic assist and the magnetic switch is disposed in a container filled with an insulating refrigerant. The core of the arranged magnetic assist and magnetic switch has a structure in which a plurality of thin plate-shaped core members are laminated at predetermined intervals, and a fan for circulating an insulating refrigerant in the container is provided. In a high-voltage pulse generator for a discharge-excited gas laser device having a repetition frequency of operation of 4 kHz or more, the interval between the core members may be lower than the rated temperature of the core member during laser operation, and in a container that is a saturable reactor. It is set so that the inductance when the winding equipment is saturated is equal to or less than a predetermined value.
(2) In the high-voltage pulse generator for a discharge excitation gas laser device according to the above (1), which has a step-up transformer having a structure in which a plurality of thin plate-shaped core members are stacked at predetermined intervals, the distance between the core members of the step-up transformer is It is set to be equal to the above-mentioned set interval of the core member of the winding device arranged in the container.
(3) In the above (1) and (2), a cross flow fan is used as a fan. (4) In the above (3), a radiator for cooling the insulating refrigerant is provided at the inlet of the cross flow fan.
(5) In the above (3) and (4), the winding device or at least one of the winding device and the step-up transformer in the container may be provided with a surface parallel to a winding direction of a core magnetic alloy ribbon and a bottom surface of the container. Are arranged substantially perpendicular to each other, and the interval between the core members is set to 1.5 mm or more and 5 mm or less.
(6) In the above (3) and (4), the winding device or all of the winding device and the step-up transformer in the container may be configured such that the surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon of the core and the bottom surface of the container. The core members are arranged so as to be substantially parallel, and the interval between the core members is set to 2 mm or more and 5 mm or less.
(7) In the above (5) and (6), the rotor diameter of the cross flow fan is set to 40 mm or more and 120 mm or less.
In the present invention, in the high-voltage pulse generator for the discharge excitation gas laser device, the magnetic assist, the magnetic switch, and the interval between the core members of the step-up transformer are set as described above. Can be reduced to a desired value or less. Therefore, it is possible to cope with a high repetition frequency of 4 kHz or more at which the amount of heat generation increases without taking measures such as increasing the compression ratio.
In addition, since the rotor diameter of the cross flow fan is set as described above, it is possible to efficiently cool the core without increasing the number of rotations of the fan more than necessary or increasing the size of the fan. Become.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIGS. 1 and 2 are views showing the overall configuration of a high-voltage pulse generator according to a first embodiment of the present invention, in which a magnetic switch, a step-up transformer, a capacitor and the like are installed in a tank filled with an insulating refrigerant. The following shows an example of the arrangement. FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG. 1, but for convenience of explanation, the radiator is shown at a position different from that of FIG. 1, and some other members are provided for easy understanding. Are displayed differently from FIG.
In FIG. 1 and FIG. 2, a final-stage magnetic switch SR3 having a racetrack-shaped core is provided at the lowest stage inside the tank 10. The surface of the core of the magnetic switch SR3 that is parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon faces the bottom surface of the tank 10, and the longitudinal direction of the core and the main electrodes E1 and E2 provided in the laser chamber 20 correspond to each other. The longitudinal directions are substantially the same. The core of the magnetic switch SR3 is divided as shown in FIG. 9 in order to improve the efficiency of heat exchange with the insulating refrigerant 11.
On both sides of the magnetic switch SR3, a plurality of capacitors C2 are arranged along the longitudinal direction of the main electrodes E1 and E2. The plurality of capacitors C2 are supported by a conductive support member 21 (FIG. 2) provided at one end.
[0014]
Above the magnetic switch SR3, a magnetic assist SR1, which has a substantially circular core, a step-up transformer Tr, and a magnetic switch SR2, respectively, make the axial direction of the core substantially coincide with the longitudinal direction of the main electrodes E1, E2, and The cores are arranged so that their central axes are substantially aligned. Similarly to the magnetic switch SR3, the cores of the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2 are divided.
On both sides of the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2, a plurality of capacitors C1 are arranged along the longitudinal direction of the main electrodes E1 and E2 provided in the laser chamber 20. The plurality of capacitors C1 are supported by a conductive support member 22 (FIG. 2) provided at one end. The other end is connected by a conductive connection member 23 (FIG. 2). In FIG. 2, for the sake of explanation, the conductive support member 22 is drawn so as to be bent right and left in the figure. However, in reality, as shown schematically in FIG. 1, it is bent outside the capacitor C2.
A negative high voltage is supplied to the main electrode E1 by a negative high voltage introducing member 25 penetrating the insulating material 24 provided on the bottom surface of the tank 10.
[0015]
Conventionally, a heat exchanger 26 (hereinafter, referred to as a radiator) for cooling the insulating refrigerant has been provided above the core inside the tank 10. Cooling water from the outside is introduced and discharged into the radiator 26 (FIG. 2 shows a state in which the radiator 26 is arranged above the core as described above).
The insulating refrigerant near the radiator 26 is cooled, and the insulating refrigerant 11 near the magnetic switches SR1 to SR3, the transformer Tr, and the capacitors C1 and C2 is heated during operation of the laser device.
Therefore, natural convection of the insulating refrigerant 11 occurs due to the temperature difference. The insulating refrigerant 11 flows on the surfaces of the magnetic switches SR1 to SR3 and the cores of the transformer Tr and the surfaces of the capacitors C1 and C2 by natural convection, and the heat exchange performed at that time causes the magnetic switches SR1 to SR3, the transformer Tr and the capacitor C1. , C2 are cooled.
[0016]
However, as described above, in recent years, a repetition frequency of 4 kHz or more has been demanded in order to increase the throughput and reduce the variation in the exposure amount. Under such operating conditions, self-heating in the cores of the magnetic switches SR1 to SR3 and the transformer Tr increases, which may exceed the rating of the core, and the temperature of the insulating refrigerant 11 also increases.
When the cores of the magnetic switches SR1 to SR3 and the transformer Tr are simply immersed in the insulating refrigerant 11 and the radiator 26 also immersed in the insulating refrigerant is provided and cooled by heat exchange by natural convection of the insulating refrigerant, the radiator 26 is enlarged. Therefore, the size of the tank 10 is increased.
Therefore, it is desirable to provide a cooling fan inside the tank 10 and force the convection of the insulating refrigerant inside the tank 10. Thereby, the flow velocity of the insulating refrigerant flowing on the surfaces of the magnetic switches SR1 to SR3, the core of the transformer Tr, the surfaces of the capacitors C1 and C2, and the surface of the radiator 26 increases.
Therefore, the heat exchange efficiency is increased, so that even under the operating condition of the repetition frequency of 4 kHz or more, the radiator 26 is prevented from being enlarged to some extent as compared with the natural convection, and the magnetic switches SR1 to SR3, the transformer Tr, the capacitor C1, C2 can be cooled.
[0017]
In FIG. 1, a cross flow fan 27 is used as the cooling fan. The cross flow fan 27 is disposed so that its longitudinal direction is substantially parallel to the longitudinal direction of the elliptical core of the magnetic switch SR3. The length of the fan 27 in the longitudinal direction is set to be substantially equal to or longer than the longitudinal length of the core of the magnetic switch SR3.
Note that the cooling fan is not limited to the crossflow fan, and for example, a plurality of axial fans may be provided in the longitudinal direction of the core of the magnetic switch SR3.
However, if the cooling fan is a cross-flow fan, the flow velocity of the insulating refrigerant near the elliptical core of the magnetic switch SR3, which is not uniform in the axial fan, can be made substantially uniform, and the temperature distribution of the core becomes low. It became almost uniform. Further, the flow rates of the insulating refrigerant flowing on the surfaces of the respective cores of the magnetic assist SR1, the magnetic switch SR2, and the step-up transformer Tr can be made substantially uniform, and the temperatures of the respective cores become substantially uniform.
[0018]
When the cross flow fan 27 is used, a radiator may be arranged below the liquid level of the insulating refrigerant in the upper part of the tank 10 as shown in FIG. 2, but as shown in FIG. Preferably, it is located near the intake.
That is, the casing made by the guide of the cross flow fan 27 is configured such that the fluid (insulating refrigerant 11) flows in from above as shown in FIG. With this configuration, the flow velocity near the fluid inlet above the fan 27 is the fastest. This position is also where the fluid flows after being heated. That is, it becomes possible to arrange the radiator 26 at a position where the flow velocity after heating by heat exchange with the core and the condenser of the insulating refrigerant 11 is fast.
Further, since the flow velocity is high, the heat exchange efficiency is improved as compared with the case where the insulating refrigerant 11 is disposed below the liquid level in the upper part of the conventional tank 10. Therefore, the radiator 26 can be reduced in size.
Here, since the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2 are arranged as described above, the flow of the insulating refrigerant flows between the cores, that is, the surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon. Pass in parallel. As described above, since the heat dissipation performance of the core is high on the surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon, heat can be efficiently removed by the insulating refrigerant passing through this surface, and suitable cooling can be achieved. It is possible.
[0019]
In the present embodiment, the optimum value of the interval d between the cores of the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2 in the high voltage pulse generator having the above configuration was examined as follows.
First, the core temperature corresponding to the interval d between the divided cores was measured. The result is shown in FIG. Here, the measured core is the core of the magnetic switch SR2.
The repetition frequency of the laser operation is 2, 4, and 6 kHz. The horizontal axis in FIG. 3 is the core interval d, the vertical axis is the temperature T, and Ts is the rated temperature of the core.
As shown in FIG. 3, as the repetition frequency increases, the core interval d for realizing the core rated temperature Ts increases. However, when the distance exceeds a certain core interval, the heat radiation performance of the core is saturated, and the temperature of the core does not change.
Therefore, in the case of the repetition frequency of 4 kHz, the core interval is set to the core interval d at the rated temperature Ts of the core. T4 Set above. Here, in order to allow a margin for cooling, for example, the core interval d at the rated temperature Ts in the case of a repetition frequency of 6 kHz T6 Set above.
[0020]
Further, the present inventors have examined the relationship between the maximum value L of the inductance after saturation of the magnetic switch and the core interval d, which are allowed to realize a short pulse. FIG. 4 shows the results. The horizontal axis in FIG. 4 is the core interval d, and the vertical axis is the inductance L.
As is clear from FIG. 4, the higher the repetition frequency, the smaller the allowable maximum value L of the inductance after saturation of the magnetic switch, and the smaller the core interval d corresponding thereto. When the repetition frequency is 4 kHz or more, the core interval is set to d. L6 Set as follows.
From the above, when the repetition frequency is 4 kHz or more, the core interval d is d T6 Above, d L6 It can be seen that it is desirable to set the following.
In our experiments, d T6 = 1.5 mm, d L6 = 5 mm. Therefore, when the repetition frequency is 4 kHz or more, it is desirable that the core interval be 1.5 mm or more and 5 mm or less.
[0021]
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
In the first embodiment, the surfaces of the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2, which are parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon, are parallel to the flow of the insulating refrigerant. In FIG. 5, as shown in FIG. 5, the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2 of the high-voltage pulse generator are arranged in the same direction as the magnetic switch SR3.
FIG. 5 shows a configuration corresponding to FIG. 1, and the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
As shown in the figure, in the present embodiment, the surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy SR1 and the step-up transformer Tr, and the magnetic alloy thin strips of the magnetic switch SR2 and the magnetic switch SR3 are connected to the bottom surface of the tank 10. They are arranged to face each other. Further, each core is divided as described above, and the cores are arranged so as to be substantially coincident with each other.
The core of the magnetic switch SR3 may be an elliptical core as in FIG. 1, or may be a circular core as in the magnetic switch SR2 and the like.
[0022]
A plurality of capacitors C2 are arranged on both sides of the magnetic switch SR3 along the longitudinal direction of the main electrodes E1 and E2, as in the first embodiment. The plurality of capacitors C2 are supported by the conductive support members as described above.
On both sides of the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2, a plurality of capacitors C1 are arranged along the longitudinal direction of the main electrodes E1 and E2. As described above, the plurality of capacitors C1 are supported by the conductive support member, and the other ends are connected by the conductive connection member.
A negative high voltage is supplied to the electrode E1 by a negative high voltage introducing member 25 that penetrates the insulating material 24 provided on the bottom surface of the tank 10.
Further, a cross flow fan 27 is provided as a cooling fan, and the cross flow fan 27 is arranged so that its longitudinal direction is substantially parallel to the core of the magnetic switch SR3. The length of the fan 27 in the longitudinal direction is set to be substantially equal to or longer than the diameter of the core of the magnetic switch SR3 or the length in the longitudinal direction.
Further, a radiator 26 is arranged near the intake of the insulating refrigerant 11 of the cross flow fan 27.
[0023]
In this embodiment, as shown in FIG. 5, all the surfaces of the magnetic alloy ribbon of each core parallel to the winding diameter direction are arranged in the direction facing the flow direction of the insulating refrigerant. Therefore, the heat radiation performance of the core is lower than that of the first embodiment.
Regarding the high voltage pulse generator having the above configuration, the optimum value of the interval d between the cores of the magnetic assist SR1, the step-up transformer Tr, and the magnetic switch SR2 was examined in the same manner as described above. As a result, in the configuration of this embodiment, d T6 = 2mm, d L6 = 5 mm. Therefore, when the repetition frequency is 4 kHz or more, it is desirable that the core interval be 2 mm or more and 5 mm or less.
Next, in the configurations of the first and second embodiments, the peripheral speed of the cross flow fan 27 and the core interval d at which the rated temperature Ts is reached are set. TS And examined the relationship.
FIG. 6 shows the result. Here, the measurement target of the core interval is the core of the magnetic switch SR2, the repetition frequency of the laser operation is 4 kHz, and the diameter of the impeller (rotor) of the cross flow fan is 80 mm. The horizontal axis of the figure is the peripheral speed V (m / S) of the cross flow fan, and the vertical axis is the core interval d. TS It is.
As shown in the figure, as the peripheral speed of the crossflow fan increases, the core interval d at which the core temperature reaches the rated temperature Ts is obtained. TS Gradually narrows. This is presumably because as the peripheral speed of the fan increases, the speed of the insulating refrigerant flowing between the cores increases, and the heat exchange efficiency increases.
However, when the peripheral speed is equal to or higher than Vmax, the core interval d TS Is d Tmax Does not change much. Although the cause is not clear, it is considered that the flow of the insulating refrigerant when the insulating refrigerant collides with the side surface of the core becomes large and the speed of the insulating refrigerant flowing between the cores is restricted.
[0024]
The core interval shown in the first and second embodiments is a characteristic when the peripheral speed is Vmax. Here, in the case of 4 kHz, Vmax was 0.8 m / s or more.
In addition, when the rotor diameter of the cross flow fan is smaller than 40 mm, when trying to realize Vmax = 0.8 m / s, the rotation speed of the fan becomes too high and the load of the motor for rotating the cross flow fan becomes large, which is not preferable. Was.
Further, when the rotor diameter of the cross flow fan is larger than 120 mm, the tank accommodating the cross flow fan becomes too large, which is not preferable.
Therefore, it was found that when the frequency is 4 kHz or more, the rotor diameter D of the cross flow fan is preferably 40 ≦ D ≦ 120 (mm).
[0025]
【The invention's effect】
As described above, in the present invention, the following effects can be obtained.
(1) In the high-voltage pulse generator for the discharge excitation gas laser device, since the distance between the core members of the magnetic assist, the magnetic switch, and the step-up transformer is set as described above, the inductance of the winding is reduced while increasing the core cooling efficiency. It can be less than the desired value.
For this reason, it is possible to cope with a high repetition frequency of 4 kHz or more in which the amount of generated heat increases without taking measures such as increasing the compression ratio. Can respond to
(2) Since the rotor diameter of the cross flow fan is set as described above, the core can be efficiently cooled without increasing the number of rotations of the fan more than necessary or increasing the size of the fan. It becomes.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram (1) illustrating an overall configuration of a high-voltage pulse generator according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram (2) illustrating the overall configuration of the high-voltage pulse generator according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a measurement result of an interval d between divided cores and a temperature of the core;
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a maximum value L of an inductance and a core interval d.
FIG. 5 is a diagram showing an overall configuration of a high-voltage pulse generator according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram illustrating a relationship between a peripheral speed of a cross flow fan and a core interval at a rated temperature.
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a high voltage pulse generation circuit.
FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration example of a magnetic switch.
FIG. 9 is a diagram showing a configuration example of a divided core structure.
[Explanation of symbols]
10 tanks
11 Insulating refrigerant
20 Laser chamber
21,22 Conductive support member
23 conductive connecting members
24 Insulation
25 Negative high voltage introduction member
26 radiator (heat exchanger)
27 Cross Flow Fan
C1, C2 capacitor
E1, E2 main electrode
SR3 Magnetic switch
SR1 Magnetic assist
SR2 Magnetic switch
Tr step-up transformer

Claims (7)

少なくとも高電圧に充電される主コンデンサと、可飽和リアクトルからなる磁気アシストと、スイッチ手段とからなるパルス発生回路と、
コンデンサと可飽和リアクトルからなる磁気スイッチとからなる磁気圧縮段を少なくとも一段有し上記パルス発生回路の出力端に接続された磁気パルス圧縮回路とからなり、
上記磁気パルス圧縮回路の出力端に少なくともレーザチェンバ内に配置された一対の電極が接続される放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置であって、
上記磁気アシストおよび上記磁気スイッチは磁性合金薄帯が環状の巻芯に巻き回されてなるコアに巻線が巻かれた巻線機器であり、
上記磁気アシストおよび上記磁気スイッチの少なくとも一つが絶縁性冷媒に満たされた容器中に配置されていて、上記容器中に配置された巻線機器のコアは複数の薄板状のコア部材が所定間隔毎に積層された構造であり、
また上記容器内に絶縁性冷媒を循環させるファンを設けられている放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置において、
放電励起ガスレーザ装置のレーザ動作の繰返し周波数が4kHz以上であり、レーザ動作中の上記コア部材の定格温度を下回り、かつ、可飽和リアクトルである容器内の巻線機器が飽和したときのインダクタンスが所定値以下となるように、上記コア部材の間隔が設定されていることを特徴とする放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。
A main capacitor charged to at least a high voltage, a magnetic assist including a saturable reactor, and a pulse generation circuit including switch means;
A magnetic pulse compression circuit having at least one magnetic compression stage composed of a capacitor and a magnetic switch composed of a saturable reactor and connected to an output terminal of the pulse generation circuit;
A high-voltage pulse generator for a discharge-excited gas laser device, wherein a pair of electrodes arranged in at least a laser chamber are connected to an output end of the magnetic pulse compression circuit,
The magnetic assist and the magnetic switch are winding devices in which a winding is wound around a core formed by winding a magnetic alloy ribbon around an annular winding core,
At least one of the magnetic assist and the magnetic switch is disposed in a container filled with an insulating refrigerant, and a plurality of thin plate-shaped core members are provided at predetermined intervals in a core of the winding device disposed in the container. It is a structure laminated on
Further, in the high voltage pulse generator for the discharge excitation gas laser device provided with a fan for circulating the insulating refrigerant in the container,
The repetition frequency of the laser operation of the discharge excitation gas laser device is 4 kHz or more, the temperature is lower than the rated temperature of the core member during the laser operation, and the inductance when the winding device in the container which is a saturable reactor is saturated is predetermined. A high-voltage pulse generator for a discharge-excited gas laser device, wherein the interval between the core members is set so as to be equal to or less than the value.
上記放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置は、パルス発生回路で発生する電圧パルスを昇圧する昇圧トランスを有し、上記昇圧トランスは複数の薄板状のコア部材が所定間隔毎に積層された構造であって上記容器内に配置されていて、
上記昇圧トランスのコア部材の間隔が上記容器内に配置された巻線機器のコア部材の上記設定間隔と等しい
ことを特徴とする請求項1に記載の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。
The high voltage pulse generator for a discharge excitation gas laser device has a step-up transformer for stepping up a voltage pulse generated in a pulse generation circuit, and the step-up transformer has a structure in which a plurality of thin plate-shaped core members are stacked at predetermined intervals. And is disposed in the container,
2. The high voltage pulse generator for a discharge excitation gas laser device according to claim 1, wherein the interval between the core members of the step-up transformer is equal to the set interval between the core members of the winding device arranged in the container.
上記ファンとしてクロスフローファンを用いることを特徴とする請求項1または2に記載の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。3. The high voltage pulse generator for a discharge excitation gas laser device according to claim 1, wherein a cross flow fan is used as said fan. 上記絶縁性冷媒を冷却するラジエターをクロスフローファンの流入口に設けたことを特徴とする請求項3に記載の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。4. The high voltage pulse generator for a discharge excitation gas laser device according to claim 3, wherein a radiator for cooling the insulating refrigerant is provided at an inlet of the cross flow fan. 上記容器中の巻線機器もしくは巻線機器および昇圧トランスの少なくとも1つが、コアの磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面と容器の底面とが略垂直になるように配置されていて、
上記コア部材の間隔が1.5mm以上、5mm以下に設定されていることを特徴とする請求項3または4のいずれかに記載の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。
At least one of the winding device or the winding device and the step-up transformer in the container is arranged such that a surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon of the core and a bottom surface of the container are substantially perpendicular to each other,
5. The high-voltage pulse generator for a discharge-excited gas laser device according to claim 3, wherein an interval between the core members is set to 1.5 mm or more and 5 mm or less.
上記容器中の巻線機器もしくは巻線機器および昇圧トランスの全てが、コアの磁性合金薄帯の巻径方向に平行な面と容器の底面とが略平行になるように配置されていて、
上記コア部材の間隔が2mm以上、5mm以下に設定されていることを特徴とする請求項3もしくは4のいずれかに記載の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。
All of the winding device or the winding device and the step-up transformer in the container are arranged such that the surface parallel to the winding diameter direction of the magnetic alloy ribbon of the core and the bottom surface of the container are substantially parallel,
5. The high-voltage pulse generator for a discharge-excited gas laser device according to claim 3, wherein an interval between the core members is set to 2 mm or more and 5 mm or less.
上記クロスフローファンのローター径が40mm以上、120mm以下に設定されていることを特徴とする請求項5,6いずれかに記載の放電励起ガスレーザ装置用高電圧パルス発生装置。7. The high-voltage pulse generator for a discharge-excited gas laser device according to claim 5, wherein a rotor diameter of the cross flow fan is set to 40 mm or more and 120 mm or less.
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