JP2004354830A - Display device and its manufacturing method - Google Patents

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JP2004354830A
JP2004354830A JP2003154248A JP2003154248A JP2004354830A JP 2004354830 A JP2004354830 A JP 2004354830A JP 2003154248 A JP2003154248 A JP 2003154248A JP 2003154248 A JP2003154248 A JP 2003154248A JP 2004354830 A JP2004354830 A JP 2004354830A
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Japan
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low
glass material
display device
resin
melting glass
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Application number
JP2003154248A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Yokota
昌広 横田
Koji Nishimura
孝司 西村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device with improved productivity and its manufacturing method that enable speedy and stable sealing operation by using a resin-based bonding material and low-fusion-point glass. <P>SOLUTION: An envelope 10 of the display device has a sealed part, sealed with the resin-based bonding material 13, at least partially and the resin-based bonding material has conductivity. In the sealing, the resin-based bonding material is electrified to heat up, and thus thermally cured for sealing. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、少なくとも一部が封着された外囲器を有する表示装置、およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
画像表を表示する表示装置として、陰極線管(以下、CRTと称する)、液晶ディスプレイ(以下、LCDと称する)、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)、フィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称する)、表面伝導電子放出ディスプレイ(以下、SEDと称する)など知られている。これらの表示装置は、通常、表示素子を収納する外囲器を有し、外囲器は少なくともその一部が封着材により封着されている。
【0003】
例えばLCDでは、2枚の基板の周辺部同士を樹脂系接着材により封着して外囲器を構成している。この場合、一般的にはエポキシ樹脂接着材が周辺部に印刷塗布された基板を貼り合わせ、加熱炉で基板全体を100℃以上の温度に加熱して所定時間維持することで接着材を熱硬化させ封着している。
【0004】
また、PDP、FED、SED、CRTでは、基板や排気管などをフリットガラスにより封着して外囲器を構成している。この場合、基板等の封着部にフリットガラスを印刷塗布もしくは充填し、基板等を加熱炉で350〜450℃程度の温度に加熱してフリットガラスを軟化溶融(場合により結晶化)させた後、冷却固化させている。
【0005】
上記のような封着工程では、外囲器全体を所定の温度に加熱保持する必要があった。そのため、大掛かりな加熱装置を必要とすること、基板の熱膨張により位置合わせ精度が劣化すること、加熱、冷却時間が長くなることなどの問題を抱えており、特に大型の表示装置では深刻な問題となっている。
【0006】
この問題を解決する方法として、外囲器の封着部に比較的低温で溶融するインジウム等の低融点金属封着材を充填し、導電性封着材に通電しそのジュール熱により導電性封着材自身を発熱、溶解させ、基板を結合する方法(以下、通電加熱と称する)が検討されている(例えば、特許文献1参照)。この方法によれば、この方法によれば、封着部のみに必要最低限の加熱を加えることで、外囲器を封着することができ、上記問題が軽減される。
【0007】
【特許文献1】
特開2002−319346号
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、封着材として広く用いられている樹脂系接着材や低融点ガラスは絶縁物であるため、通電加熱封着の技術が適用できなかった。
【0009】
この発明は、以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、樹脂系接着材や低融点ガラスを用いて封着作業を迅速かつ安定して行うことができ、生産性の向上した表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明の形態に係る表示装置では、樹脂系接着材や低融点ガラス自体に導電性を持たせる構成としている。
すなわち、この発明の態様に係る表示装置は、低融点ガラス材により封着された封着部を少なくとも一部に有した外囲器を備え、上記低融点ガラス材は導電性を有していることを特徴としている。
また、この発明の他の態様に係る表示装置は、樹脂系接着材により封着された封着部を少なくとも一部に有した外囲器を備え、上記樹脂系接着材は導電性を有していることを特徴としている。
【0011】
この発明の態様に係る表示装置の製造方法は、導電性を有する低融点ガラス材により少なくとも一部が封着された外囲器を備えた表示装置の製造方法において、
上記外囲器の封着部に低融点ガラス材を配置し、上記配置された低融点ガラス材に通電して加熱し、低融点ガラスを軟化溶融させて封着することを特徴としている。
【0012】
また、この発明の他の態様に係る表示装置の製造方法は、導電性を有する樹脂系接着材により少なくとも一部が封着された外囲器を備えた表示装置の製造方法において、上記外囲器の封着部に樹脂系接着材を配置し、上記配置された樹脂系接着材に通電して加熱し、樹脂系接着材を熱硬化させて封着することを特徴としている。
【0013】
上記構成の表示装置およびその製造方法によれば、樹脂系接着材や低融点ガラス材を用いた封着においても通電加熱技術を適用することが可能になり、表示装置の生産性を高めることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明に係る表示装置を平面型表示装置としてのLCDに適用した実施の形態について詳細に説明する。
図1および図2に示すように、LCDは外囲器10を備えている。外囲器10は、所定の隙間をおいて対向配置された一対の基板11、12を有し、これら基板の周縁部は、導電性を有した樹脂系の接着材13により互いに貼り合わされて封着部を構成している。基板11、12間には液晶層14が封入されている。接着材13は、基板11、12の周縁部に沿って枠状に形成され、その一対の端部13aは隙間を置いて対向し、液晶注入口17を規定している。この液晶注入口17は、液晶を注入した後、例えば、紫外線硬化樹脂接着材からなる封止材18により封止されている。基板11の内面には図示しない画素電極、スイッチイング素子、複数の配線が設けられ、基板12の内面には図示しない対向電極等が設けられている。
【0015】
次に、上記構成を有したLCDの製造方法について説明する。まず、電極、配線等がそれぞれ形成された基板11、12を用意し、一方の基板の周縁部に沿って接着材13を枠状に印刷塗布する。続いて、基板11、12を互いに位置合わせした後、接着材13により互いに貼り合わせる。この際、図3に示すように、加圧装置15により基板11、12を挟持し、互いに接近する方向へ所定の圧力で加圧する。また、各基板11、12の外面において、接着材13と対向する領域、つまり、封着部の外側の領域を、環状の断熱部16で覆う。断熱部16は、後述する通電加熱により接着材13を加熱した際、大気雰囲気や伝熱により熱が逃げないようにするもので、熱伝導が低く比熱の小さいセラミクスなどの部材形成されている。
【0016】
この状態で、図4に示すように、液晶注入口17を規定している樹脂系接着材13の2つの端部13aに電源供給部19を接続し、これらの端部から接着材13に電流を通電して接着材を加熱する。
【0017】
ここで接着材13は、エポキシ樹脂を母材とし、樹脂固形分の70重量%の銀と20重量%のカーボン、および予め硬化剤と5μmのスペーサ部材(シリカ、アルミナ等の粒)を適量配合した1液性の接着材組成とした。カーボンを配合した理由は、出来るだけ少ない導電性フィラーで低い低効率を達成させるためである。銀のみを添加した場合、導電パスを形成するために必要な最低添加量が多くなり、接着材としての接着力および気密性が劣化する。しかし、樹脂内への分散性に優れたカーボンを適量配合することで、少ない銀添加量で銀粉間の導電を確保することができ、結果的に封着部の接着力および気密性を向上させている。接着材13の抵抗率は、1×10−2〜1×10−3Ωcm程度である。
【0018】
基板11、12を加圧した状態の接着材13の断面は、幅10mm、厚さ5μmである。接着材13は通電加熱により室温から120℃まで昇温され、120℃で30分間維持される。本実施形態では、断熱部16により適切な断熱処理を施しているため、封着部1cmあたり約1W(通電電流にして0.2〜2A程度)の電力投入により、接着材13を含む封着部の温度は、1〜3分で120℃に達している。
【0019】
断熱部16に設置した熱電対により封着部の温度を測定しながら、接着材13が120℃を維持するのに必要なだけの電力投入を行い接着材を熱硬化させた後、通電を停止する。通電停止とともに基板11、12から断熱部16を離間する。次いで、基板11、12の表面をエアブロー冷却する。これにより、基板11、12の周縁部同士が封着され、また、基板11、12は通電停止から約1〜2分で充分冷却され、次工程への基板払出しが可能となる。
【0020】
以上のように、本LCDおよびその製造方法によれば、導電性を有した樹脂系の接着材を用い、この接着材を通電加熱して基板11、12を封着している。これにより、従来の基板全体を加熱する大型加熱炉が不要となるばかりか、加熱、冷却にかかる時間を数分に短縮することができる。同時に、熱膨張による基板の位置合わせ劣化も緩和される。
【0021】
上述の実施形態ではエポキシ樹脂系の接着材について説明したが、ポリイミド、ポリアミド樹脂系の接着材、アクリル樹脂系や無機系など他の接着材についても同様に適用することができる。また、接着材に導電性を付与する添加物として銀とカーボンを用いたが、ニッケル、銅、金、ステンレスなど金属微粒子を用いてもよく、その形状も粒状、フレーク状など任意に選択することができる。
【0022】
本実施形態では、液晶注入口17を規定している接着材13の一対の端部を通電用の電極として用いたが、液晶注入口を基板に形成した適当な孔により構成し、封着部を構成する接着材13は、切れ目の無い枠状の構成としてもよい。この場合、例えば矩形枠状に塗布形成された接着材の対向するコーナー2箇所に外側へ突出した突出部を形成し、これらの突出部を通電用の電極として用いてもよい。
【0023】
次に、この発明の第2の実施形態に係るPDPについて説明する。
図5および図6に示すように、PDPは外囲器20を備えている。外囲器20は、所定の隙間をおいて対向配置された一対の基板21、22を有し、これら基板の周縁部は、低融点ガラス材として、導電性を有したフリットガラス材23により互いに貼り合わされて封着部を構成している。フリットガラス材23は、基板21、22の周縁部に沿って枠状に塗布されているとともに、対向する2つのコーナーから外側に突出した一対の突出部24を有している。一方の基板21の内面には図示しない多数の隔壁、蛍光体、配線等が設けられて、他方の基板22の内面には図示しない陰極あるいは表示電極等が設けられている。
【0024】
次に、上記構成を有したPDPの製造方法について説明する。まず、隔壁、蛍光体、配線等がそれぞれ形成された基板21、22を用意し、一方の基板の周縁部に沿ってフリットガラス材23を枠状に印刷塗布する。続いて、基板21、22を互いに位置合わせした後、フリットガラス材23により互いに貼り合わせる。この際、図6に示すように、基板11、12の周縁部をクランパ25を挟持し、互いに接近する方向へ所定の圧力で加圧する。この状態で、図7に示すように、フリットガラス材23の一対の突出部24に電源供給部29を接続し、これらの突出部からフリットガラス材23に電流を通電してフリットガラス材を軟化溶融させる。これにより、基板21、22の周縁部をフリットガラス材23により封着し、封着部とする。
【0025】
フリットガラス材23は、フリットガラスの50〜90重量%のステンレス鋼粉を配合した組成とした。導電性フィラーの添加量は、フリット組成にあわせて最適な構成とする必要がある。導電性フィラーが少ないと導電パス形成不足となり、多すぎると封着部の気密性が劣化する。同時に、ステンレス粉径とフリット組成を調整することでフリットガラス材23と基板21、22との熱膨張係数を合わせている。フリットガラス材23の抵抗率は、1×10〜1×10Ωcm程度である。
【0026】
基板21、22を加圧した時のフリットガラス材23の断面は、幅8mm、厚さ0.2mmである。基板21、22を加熱炉中で350℃に加熱維持した状態で、フリットガラス材23の突出部24から0.3〜1Aを通電すると、約3〜5分でフリットガラス材が400℃に達して飽和する。その後、15分維持し通電を停止する。これにより、基板21、22の周縁部同士が封着される。
【0027】
以上のように、本PDPおよびその製造方法によれば、導電性を有したフリットガラス材を用い、このフリットガラス材を通電加熱して基板21、22を封着している。これにより、従来の基板全体を加熱する大型加熱炉が不要となるばかりか、加熱、冷却にかかる時間を数分に短縮することができる。同時に、熱膨張による基板の位置合わせ劣化も緩和される。
【0028】
上記第2の実施形態では、フリットガラスに導電性を付与する添加物としてステンレス鋼粉を用いたが、他の金属粉でもよく、フリットガラスの熱膨張係数調整フィラーに金属コートあるいはメタライズ処理した粉体でもよい。また、金属粉あるいは金属化表面を有する粉体では金属のネットワークによる導電によるが、導電性の機構としてはこれに限るものではなく他の導電性機構を利用してもよい。
【0029】
例えば、ガラス材の抵抗率には温度が上昇すると抵抗率が低下する温度依存性があり、ガラス転移温度以下では温度と抵抗率の指数がほぼ比例し、100℃の温度では抵抗率が概ね1/100となる。一般的に、低融点ガラス材の軟化溶融温度は350〜450℃と高温であり、通電加熱のベース温度も熱膨張差による応力が発生しないように上記軟化溶融温度に近い高温としている。このように、封着時のベース温度を高温とすることでガラス材そのものの電気抵抗を下げてもよい。あるいは、このガラス材の温度依存性を併用することで、導電性フィラーの添加量を低減することができる。
【0030】
ガラス材の抵抗率については、Li、Na、Kといったガラス体内で電離拡散し易い元素番号の小さいアルカリ金属の酸化物を多めに配合することで、400℃程度の高温で低融点ガラス材の抵抗率を1×10〜1×10Ωcmまで低減することが可能となる。また、Sn、Sb、In、Ruなどの酸化物を添加することで、低融点ガラス材の抵抗率を1×10Ωcm以下にすることもできる。
【0031】
しかしながら、これらの導電機構はアルカリ金属イオンの移動や結晶欠陥部の正孔の移動であるため、基本的に導電性キャリアは封着材内に局在する。このため、上記導電機構を持つ低融点ガラス材に直流電流を流しつづけるとキャリア移動による電流枯渇や応力上昇を招く。よって、これらの低融点ガラス材を封着材として用い通電加熱する場合、交流通電を用い、キャリアが片寄らないようにすることが望ましい。また、封着材の抵抗が高すぎると通電に必要な電圧が高くなり、近接する配線アレイの放電破壊、装置耐圧設計負担の上昇を招く。実用的には、封着時の封着材抵抗率は1×10Ωcmが上限である。
【0032】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【0033】
例えば、上述した実施の形態では、LCD、PDPについて説明したが、この発明は、FEDやSED等の他の平面型表示装置、あるいはCRT等の表示装置にも適用することができる。また、外囲器の封着部は基板の周縁部に限定されることなく、基板と枠体との間、あるいは外囲器と排気管との間を封着部により接合した構成としてもよい。
【0034】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、樹脂系接着材や低融点ガラスを用いて封着作業を迅速かつ安定して行うことができ、生産性の向上した表示装置およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態に係るLCDを示す平面図。
【図2】上記LCDの断面図。
【図3】上記LCDの製造工程において、一対の基板を貼り合わせて加圧した工程を示す断面図。
【図4】上記LCDの製造工程において、基板の封着部に塗布印刷された樹脂系接着材を通電加熱する工程を概略的に示す平面図。
【図5】この発明の第2の実施形態に係るPDPを示す平面図。
【図6】上記PDPの断面図。
【図7】上記PDPの製造工程において、基板の封着部に塗布印刷された樹脂系接着材を通電加熱する工程を概略的に示す平面図。
【符号の説明】
10…外囲器、 11、12、21、22…基板、
13…樹脂系接着材、 23…フリットガラス材、
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a display device having an envelope at least partially sealed, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
As a display device for displaying an image table, a cathode ray tube (hereinafter, referred to as CRT), a liquid crystal display (hereinafter, referred to as LCD), a plasma display panel (hereinafter, referred to as PDP), a field emission display (hereinafter, referred to as FED) And surface conduction electron emission displays (hereinafter, referred to as SEDs). These display devices usually have an envelope for accommodating the display element, and at least a part of the envelope is sealed with a sealing material.
[0003]
For example, in an LCD, an envelope is formed by sealing peripheral portions of two substrates with a resin-based adhesive. In this case, generally, a substrate having an epoxy resin adhesive printed and applied to its periphery is attached to the substrate, and the entire substrate is heated to a temperature of 100 ° C. or more in a heating furnace and maintained for a predetermined time to thermally cure the adhesive. It is sealed.
[0004]
In PDPs, FEDs, SEDs, and CRTs, the envelope and the exhaust pipe are sealed with frit glass. In this case, after frit glass is printed or applied to the sealing portion of the substrate or the like, and the substrate or the like is heated to a temperature of about 350 to 450 ° C. in a heating furnace to soften and melt (and possibly crystallize) the frit glass. , Cooled and solidified.
[0005]
In the above sealing process, it was necessary to heat and maintain the entire envelope at a predetermined temperature. Therefore, there are problems such as the necessity of a large-scale heating device, the deterioration of the alignment accuracy due to the thermal expansion of the substrate, and the prolongation of the heating and cooling times. It has become.
[0006]
As a method of solving this problem, the sealing portion of the envelope is filled with a low-melting metal sealing material such as indium that melts at a relatively low temperature, the conductive sealing material is energized, and the conductive sealing is performed by Joule heat. A method (hereinafter referred to as energizing heating) of bonding and heating the substrate itself by heating and melting itself has been studied (for example, see Patent Document 1). According to this method, the envelope can be sealed by applying only necessary minimum heating to the sealing portion, and the above problem is reduced.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-319346
[Problems to be solved by the invention]
However, resin-based adhesives and low-melting-point glass, which are widely used as sealing materials, are insulators, so that the technology of energization heating and sealing cannot be applied.
[0009]
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a display device capable of performing a sealing operation quickly and stably using a resin-based adhesive or a low-melting glass, and having improved productivity. And a method of manufacturing the same.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the display device according to the embodiment of the present invention has a configuration in which the resin-based adhesive or the low-melting glass itself has conductivity.
That is, the display device according to an embodiment of the present invention includes an envelope having at least a part of a sealing portion sealed with a low-melting glass material, and the low-melting glass material has conductivity. It is characterized by:
Further, a display device according to another aspect of the present invention includes an envelope having at least a part of a sealing portion sealed with a resin-based adhesive, wherein the resin-based adhesive has conductivity. It is characterized by having.
[0011]
A method for manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention is a method for manufacturing a display device including an envelope at least partially sealed with a low-melting glass material having conductivity,
A low-melting-point glass material is placed in the sealing portion of the envelope, and the low-melting-point glass material placed is heated by being energized to soften and melt the low-melting-point glass for sealing.
[0012]
According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a display device including an envelope at least partially sealed with a conductive resin-based adhesive. It is characterized in that a resin-based adhesive is disposed in a sealing portion of a vessel, and the resin-based adhesive disposed above is heated by being energized, and the resin-based adhesive is thermally cured to be sealed.
[0013]
According to the display device having the above-described configuration and the method for manufacturing the same, the energization heating technique can be applied to sealing using a resin-based adhesive or a low-melting glass material, and the productivity of the display device can be increased. it can.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment in which a display device according to the present invention is applied to an LCD as a flat display device will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1 and 2, the LCD includes an envelope 10. The envelope 10 has a pair of substrates 11 and 12 which are opposed to each other with a predetermined gap therebetween, and the peripheral portions of these substrates are adhered to each other and sealed by a resin-based adhesive 13 having conductivity. It constitutes a wearing part. A liquid crystal layer 14 is sealed between the substrates 11 and 12. The adhesive 13 is formed in a frame shape along the peripheral edges of the substrates 11 and 12, and the pair of ends 13 a face each other with a gap therebetween and define a liquid crystal injection port 17. After injecting the liquid crystal, the liquid crystal injection port 17 is sealed with a sealing material 18 made of, for example, an ultraviolet curable resin adhesive. A pixel electrode (not shown), a switching element, and a plurality of wirings are provided on an inner surface of the substrate 11, and a counter electrode (not shown) is provided on an inner surface of the substrate 12.
[0015]
Next, a method of manufacturing the LCD having the above configuration will be described. First, substrates 11 and 12 on which electrodes, wirings, and the like are respectively formed are prepared, and an adhesive 13 is printed and applied in a frame shape along the periphery of one of the substrates. Subsequently, after the substrates 11 and 12 are aligned with each other, they are bonded to each other with the adhesive 13. At this time, as shown in FIG. 3, the substrates 11 and 12 are sandwiched by the pressing device 15 and pressurized at a predetermined pressure in a direction approaching each other. Further, on the outer surface of each of the substrates 11 and 12, a region facing the adhesive 13, that is, a region outside the sealing portion is covered with the annular heat insulating portion 16. The heat insulating part 16 is for preventing heat from escaping due to the atmosphere or heat transfer when the adhesive 13 is heated by energizing heating described later, and is formed of a material such as ceramics having low heat conductivity and low specific heat.
[0016]
In this state, as shown in FIG. 4, a power supply unit 19 is connected to two ends 13a of the resin-based adhesive 13 defining the liquid crystal injection port 17, and a current is supplied from these ends to the adhesive 13. To heat the adhesive.
[0017]
Here, the adhesive 13 is made of an epoxy resin as a base material, and a suitable amount of 70% by weight of silver and 20% by weight of carbon of resin solids, and a curing agent and a 5 μm spacer member (particles of silica, alumina, etc.) in advance. One-part adhesive composition was used. The reason for blending carbon is to achieve low low efficiency with as little conductive filler as possible. When only silver is added, the minimum amount required to form a conductive path increases, and the adhesive strength and airtightness of the adhesive deteriorate. However, by blending an appropriate amount of carbon having excellent dispersibility in the resin, it is possible to secure conductivity between silver powders with a small amount of added silver, and as a result, to improve the adhesive strength and airtightness of the sealing portion. ing. The resistivity of the adhesive 13 is about 1 × 10 −2 to 1 × 10 −3 Ωcm.
[0018]
The cross section of the adhesive 13 in a state where the substrates 11 and 12 are pressed has a width of 10 mm and a thickness of 5 μm. The temperature of the adhesive 13 is increased from room temperature to 120 ° C. by applying electric current, and is maintained at 120 ° C. for 30 minutes. In the present embodiment, since the appropriate heat insulating treatment is performed by the heat insulating portion 16, the sealing including the adhesive 13 is performed by applying power of about 1 W (approximately 0.2 to 2 A in terms of a conduction current) per 1 cm of the sealing portion. The temperature of the part reaches 120 ° C. in 1-3 minutes.
[0019]
While measuring the temperature of the sealing portion with a thermocouple installed in the heat insulating portion 16, the power is supplied as much as necessary to maintain the adhesive 13 at 120 ° C., and the adhesive is thermally cured, and then the energization is stopped. I do. At the same time as the power supply is stopped, the heat insulating portion 16 is separated from the substrates 11 and 12. Next, the surfaces of the substrates 11 and 12 are air blow cooled. Thus, the peripheral portions of the substrates 11 and 12 are sealed with each other, and the substrates 11 and 12 are sufficiently cooled in about 1 to 2 minutes after the power is stopped, so that the substrates can be discharged to the next step.
[0020]
As described above, according to the present LCD and the method of manufacturing the same, a resin-based adhesive having conductivity is used, and the adhesive is heated by energizing to seal the substrates 11 and 12. This eliminates the need for a conventional large heating furnace for heating the entire substrate, and can reduce the time required for heating and cooling to several minutes. At the same time, the deterioration of the alignment of the substrate due to thermal expansion is reduced.
[0021]
In the above-described embodiment, an epoxy resin-based adhesive has been described, but other adhesives such as a polyimide or polyamide resin-based adhesive, an acrylic resin-based or inorganic adhesive can be similarly applied. Although silver and carbon are used as additives for imparting conductivity to the adhesive, fine particles of metal such as nickel, copper, gold, and stainless steel may be used, and the shape may be arbitrarily selected, such as granular or flake. Can be.
[0022]
In the present embodiment, a pair of ends of the adhesive 13 defining the liquid crystal injection port 17 is used as a current-carrying electrode. However, the liquid crystal injection port is formed by an appropriate hole formed in the substrate, and the sealing portion is formed. May be a frame-like structure without any break. In this case, for example, outwardly projecting portions may be formed at two opposing corners of an adhesive applied and formed in a rectangular frame shape, and these projecting portions may be used as electrodes for energization.
[0023]
Next, a PDP according to a second embodiment of the present invention will be described.
As shown in FIGS. 5 and 6, the PDP includes an envelope 20. The envelope 20 has a pair of substrates 21 and 22 opposed to each other with a predetermined gap therebetween, and the peripheral portions of these substrates are separated from each other by a frit glass material 23 having conductivity as a low melting glass material. They are bonded together to form a sealing part. The frit glass material 23 is applied in a frame shape along the peripheral edges of the substrates 21 and 22, and has a pair of protrusions 24 protruding outward from two opposing corners. On the inner surface of one substrate 21, a number of partitions, phosphors, wirings, etc., not shown, are provided. On the inner surface of the other substrate 22, cathodes, display electrodes, etc., not shown, are provided.
[0024]
Next, a method of manufacturing the PDP having the above configuration will be described. First, substrates 21 and 22 on which partitions, phosphors, wirings, and the like are formed are prepared, and frit glass material 23 is printed and applied in a frame shape along the periphery of one of the substrates. Subsequently, after the substrates 21 and 22 are aligned with each other, they are bonded to each other with the frit glass material 23. At this time, as shown in FIG. 6, the peripheral portions of the substrates 11 and 12 are clamped by the clamper 25 and pressurized at a predetermined pressure in a direction approaching each other. In this state, as shown in FIG. 7, a power supply unit 29 is connected to the pair of protrusions 24 of the frit glass material 23, and a current is applied to the frit glass material 23 from these protrusions to soften the frit glass material. Let melt. Thus, the peripheral portions of the substrates 21 and 22 are sealed with the frit glass material 23 to form a sealed portion.
[0025]
The frit glass material 23 had a composition containing 50 to 90% by weight of frit glass and stainless steel powder. The amount of the conductive filler to be added needs to be an optimum configuration in accordance with the frit composition. When the amount of the conductive filler is small, the formation of the conductive path is insufficient, and when the amount is too large, the airtightness of the sealing portion is deteriorated. At the same time, the coefficient of thermal expansion of the frit glass material 23 and the substrates 21 and 22 are adjusted by adjusting the stainless steel powder diameter and the frit composition. The resistivity of the frit glass material 23 is about 1 × 10 to 1 × 10 2 Ωcm.
[0026]
The cross section of the frit glass material 23 when the substrates 21 and 22 are pressed is 8 mm in width and 0.2 mm in thickness. When the substrates 21 and 22 are heated to 350 ° C. in a heating furnace and a current of 0.3 to 1 A is applied from the protruding portion 24 of the frit glass material 23, the frit glass material reaches 400 ° C. in about 3 to 5 minutes. Saturated. After that, the power is stopped for 15 minutes. Thereby, the peripheral portions of the substrates 21 and 22 are sealed.
[0027]
As described above, according to the present PDP and the method for manufacturing the same, the frit glass material having conductivity is used, and the frit glass material is electrically heated to seal the substrates 21 and 22. This eliminates the need for a conventional large heating furnace for heating the entire substrate, and can reduce the time required for heating and cooling to several minutes. At the same time, the deterioration of the alignment of the substrate due to thermal expansion is reduced.
[0028]
In the second embodiment, stainless steel powder is used as an additive for imparting conductivity to the frit glass. However, other metal powders may be used. It may be your body. In the case of a metal powder or a powder having a metallized surface, the conductivity depends on the network of the metal. However, the conductive mechanism is not limited to this, and another conductive mechanism may be used.
[0029]
For example, the resistivity of a glass material has a temperature dependence in which the resistivity decreases as the temperature rises. Below the glass transition temperature, the index of the resistivity is substantially proportional to the index, and at a temperature of 100 ° C., the resistivity is approximately 1%. / 100. Generally, the softening and melting temperature of the low melting point glass material is as high as 350 to 450 ° C., and the base temperature of the electric heating is set to a high temperature close to the softening and melting temperature so as not to generate stress due to a difference in thermal expansion. As described above, the electric resistance of the glass material itself may be reduced by increasing the base temperature at the time of sealing. Alternatively, by additionally using the temperature dependence of the glass material, the amount of the conductive filler to be added can be reduced.
[0030]
Regarding the resistivity of the glass material, by adding a large amount of an oxide of an alkali metal having a small element number, such as Li, Na, and K, which easily ionizes and diffuses in the glass, the resistance of the low melting glass material at a high temperature of about 400 ° C. The rate can be reduced to 1 × 10 3 to 1 × 10 5 Ωcm. Further, by adding an oxide such as Sn, Sb, In, or Ru, the resistivity of the low-melting glass material can be reduced to 1 × 10 Ωcm or less.
[0031]
However, these conductive mechanisms are the movement of alkali metal ions and the movement of holes in crystal defects, and thus the conductive carrier is basically localized in the sealing material. For this reason, if a direct current is continuously supplied to the low melting point glass material having the above-described conductive mechanism, current depletion and stress increase due to carrier movement are caused. Therefore, in the case where the low-melting-point glass material is used as a sealing material and heated by energization, it is preferable to use alternating current to prevent the carrier from being biased. On the other hand, if the resistance of the sealing material is too high, the voltage required for energization becomes high, which causes a discharge breakdown of an adjacent wiring array and an increase in a device withstand voltage design burden. Practically, the upper limit of the sealing material resistivity at the time of sealing is 1 × 10 4 Ωcm.
[0032]
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying constituent elements in an implementation stage without departing from the scope of the invention. Various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above embodiments. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Further, components of different embodiments may be appropriately combined.
[0033]
For example, in the above-described embodiments, LCDs and PDPs have been described. However, the present invention can be applied to other flat display devices such as FEDs and SEDs, or display devices such as CRTs. Further, the sealing portion of the envelope is not limited to the peripheral portion of the substrate, and may have a configuration in which the sealing portion joins between the substrate and the frame or between the envelope and the exhaust pipe. .
[0034]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to perform a sealing operation quickly and stably using a resin-based adhesive or a low-melting glass, and to provide a display device with improved productivity and a method of manufacturing the same. can do.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing an LCD according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view of the LCD.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a step of bonding and pressing a pair of substrates in the manufacturing process of the LCD.
FIG. 4 is a plan view schematically showing a step of energizing and heating a resin adhesive applied and printed on a sealing portion of a substrate in the LCD manufacturing process.
FIG. 5 is a plan view showing a PDP according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a sectional view of the PDP.
FIG. 7 is a plan view schematically showing a step of conducting and heating a resin-based adhesive applied and printed on a sealing portion of a substrate in the PDP manufacturing process.
[Explanation of symbols]
10 ... envelope, 11, 12, 21, 22 ... board,
13 resin adhesive, 23 frit glass,

Claims (18)

低融点ガラス材により封着された封着部を少なくとも一部に有した外囲器を備え、上記低融点ガラス材は導電性を有していることを特徴とする表示装置。A display device comprising: an envelope having at least a part of a sealing portion sealed with a low-melting glass material, wherein the low-melting glass material has conductivity. 上記低融点ガラス材の封着時の抵抗率は、1×10Ωcmより小さいことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。2. The display device according to claim 1, wherein the resistivity of the low-melting glass material at the time of sealing is smaller than 1 × 10 4 Ωcm. 上記低融点ガラス材は、カーボンあるいは金属微粒子を含んでいることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置。The display device according to claim 1, wherein the low-melting glass material contains fine particles of carbon or metal. 上記低融点ガラス材は、少なくともSn、Sb、In、Ruの1つを含んでいることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の表示装置。The display device according to claim 1, wherein the low-melting glass material contains at least one of Sn, Sb, In, and Ru. 上記低融点ガラス材は、少なくともLi、Na、Kの1つを含んでいることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の表示装置。4. The display device according to claim 1, wherein the low-melting glass material contains at least one of Li, Na, and K. 5. 上記外囲器は対向配置された一対の基板を備え、上記基板の周縁部は上記封着部により封着されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の表示装置。The display according to any one of claims 1 to 5, wherein the envelope includes a pair of substrates arranged to face each other, and a peripheral portion of the substrate is sealed by the sealing portion. apparatus. 樹脂系接着材により封着された封着部を少なくとも一部に有した外囲器を備え、上記樹脂系接着材は導電性を有していることを特徴とする表示装置。A display device, comprising: an envelope having at least a part of a sealing portion sealed with a resin-based adhesive, wherein the resin-based adhesive has conductivity. 上記樹脂系接着材は、カーボンあるいは金属微粒子を含んでいることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。The display device according to claim 7, wherein the resin-based adhesive contains carbon or metal fine particles. 上記外囲器は対向配置された一対の基板を備え、上記基板の周縁部は上記封着部により封着されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の表示装置。The display according to any one of claims 1 to 5, wherein the envelope includes a pair of substrates arranged to face each other, and a peripheral portion of the substrate is sealed by the sealing portion. apparatus. 導電性を有する低融点ガラス材により少なくとも一部が封着された外囲器を備えた表示装置の製造方法において、
上記外囲器の封着部に低融点ガラス材を配置し、
上記配置された低融点ガラス材に通電して加熱し、低融点ガラスを軟化溶融させて封着することを特徴とする表示装置の製造方法。
In a method for manufacturing a display device including an envelope at least partially sealed by a low-melting glass material having conductivity,
Placing a low-melting glass material in the sealing part of the envelope,
A method for manufacturing a display device, characterized in that the low-melting glass material arranged is heated by energizing, and the low-melting glass is softened and melted and sealed.
上記低融点ガラスに通電する電流の向きを時間により変化させることを特徴とする請求項10に記載の表示装置の製造方法。The method of manufacturing a display device according to claim 10, wherein the direction of a current supplied to the low-melting glass is changed with time. 上記外囲器を上記低融点ガラス材の軟化溶融温度近傍まで加熱した状態で、上記低融点ガラス材に通電して加熱軟化することを特徴とする請求項10又は12に記載の表示装置の製造方法。13. The display device according to claim 10, wherein the envelope is heated to a temperature close to the softening and melting temperature of the low-melting glass material, and the low-melting glass material is heated and softened by energizing the low-melting glass material. Method. 上記低融点ガラス材の封着時の抵抗率は、1×10Ωcmより小さいことを特徴とする請求項10に記載の表示装置の製造方法。The method of manufacturing a display device according to claim 10, wherein the resistivity of the low-melting glass material at the time of sealing is smaller than 1 × 10 4 Ωcm. 上記低融点ガラス材は、カーボンあるいは金属微粒子を含んでいることを特徴とする請求項10ないし13のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。14. The method for manufacturing a display device according to claim 10, wherein the low melting point glass material contains fine particles of carbon or metal. 上記低融点ガラス材は、少なくともSn、Sb、In、Ruの1つを含んでいることを特徴とする請求項10ないし13のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。14. The method according to claim 10, wherein the low-melting-point glass material contains at least one of Sn, Sb, In, and Ru. 上記低融点ガラス材は、少なくともLi、Na、Kの1つを含んでいることを特徴とする請求項10ないし13のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。The method according to any one of claims 10 to 13, wherein the low-melting glass material contains at least one of Li, Na, and K. 導電性を有する樹脂系接着材により少なくとも一部が封着された外囲器を備えた表示装置の製造方法において、
上記外囲器の封着部に樹脂系接着材を配置し、
上記配置された樹脂系接着材に通電して加熱し、樹脂系接着材を熱硬化させて封着することを特徴とする表示装置の製造方法。
In a method of manufacturing a display device having an envelope at least partially sealed by a resin-based adhesive having conductivity,
Placing a resin adhesive in the sealing part of the envelope,
A method for manufacturing a display device, characterized in that a current is applied to the resin-based adhesive disposed above to heat the resin-based adhesive, and the resin-based adhesive is thermally cured and sealed.
上記樹脂系接着材は、カーボンあるいは金属微粒子を含んでいることを特徴とする請求項17に記載の表示装置の製造方法。18. The method according to claim 17, wherein the resin-based adhesive contains fine particles of carbon or metal.
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