JP2004345090A - Functional wood - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide functional wood having an excellent anti-staining/antibacterial effect or deodorizing effect due to a photocatalyst without requiring a complicated process and excellent in dirability. <P>SOLUTION: This functional wood is equipped with a film containing the photocatalyst (a) and a binder component (B) or equipped with a film having the film containing the photocatalyst (a) and the binder component (B). The concentration of the photocatalyst (a) in the film becomes high toward an exposed surface from the surface of the wood or the surface coming into contact with a film base material. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【００１０】
（式中、Ｒは式（１）で定義した通りである。）
５．該バインダー成分（Ｂ）が、下記式（４）で表されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）を含有することを特徴とする発明１〜４のいずれかに記載の機能性木材。
Ｒ^１ _ｐＲ^２ _ｑＸ_ｒＳｉＯ_{（４−ｐ−ｑ−ｒ）／２} （４）
（式中、各Ｒ^１はフェニル基を表し、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。Ｘは、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表す。
そしてｐ、ｑ及びｒは、０＜ｐ＜４、０≦ｑ＜４、０≦ｒ＜４、及び０＜（ｐ＋ｑ＋ｒ）＜４であり、そして０．０５≦ｐ／（ｐ＋ｑ）≦１である。）
【００１１】
６．該フェニル基含有シリコーン（ＢＰ）が、下記式（５）で表される、アルキル基を含有しないフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１）であることを特徴とする発明５に記載の機能性木材。
Ｒ^１ _ｓＸ_ｔＳｉＯ_{（４−ｓ−ｔ）／２} （５）
（式中、Ｒ１はフェニル基を表し、Ｘは各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表す。ｓ及びｔは、０＜ｓ＜４、０≦ｔ＜４、そして０＜（ｓ＋ｔ）＜４である。）
【００１２】
７．該バインダー成分（Ｂ）が、下記式（６）で表されるアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）を更に含有することを特徴とする発明５に記載の機能性木材。
Ｒ^２ _ｕＸ_ｖＳｉＯ_{（４−ｕ−ｖ）／２} （６）
（式中、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。Ｘは、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表しす。そしてｕ及びｖは、０＜ｕ＜４、０≦ｖ＜４、そして０＜（ｕ＋ｖ）＜４である。）
【００１３】
８．該バインダー成分（Ｂ）が、式（５）で表される、アルキル基を含有しないフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１）と式（６）で表されるアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）を含有することを特徴とする発明１〜４のいずれかに記載の機能性木材。
Ｒ^１ _ｓＸ_ｔＳｉＯ_{（４−ｓ−ｔ）／２} （５）
（式中、Ｒ^１はフェニル基を表し、Ｘは各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表す。ｓ及びｔは、０＜ｓ＜４、０≦ｔ＜４、そして０＜（ｓ＋ｔ）＜４である。）
Ｒ^２ _ｕＸ_ｖＳｉＯ_{（４−ｕ−ｖ）／２} （６）
（式中、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。Ｘは、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表す。ｕ及びｖは、０＜ｕ＜４、０≦ｖ＜４、そして０＜（ｕ＋ｖ）＜４である。）
【００１４】
９．該アルキル基含有シリコーン（ＢＡ）が、式（７）で表されるモノオキシジオルガノシラン単位（Ｄ）と式（８）で表されるジオキシオルガノシラン単位（Ｔ）を有することを特徴とする発明７または８に記載の機能性木材。
−（Ｒ^２ _２ＳｉＯ）− （７）
（式中、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。
【００１５】
【化５】

【００１６】
（式中、Ｒ^２は式（７）で定義した通りである。）
１０． 該フェニル基含有シリコーン（ＢＰ）と該アルキル基含有シリコーン（ＢＡ）について相分離構造を有する皮膜であることを特徴とする発明７〜９のいずれかに記載の機能性木材。
１１．光触媒（ａ）が該アルキル基含有シリコーン（ＢＡ）相に存在することを特徴とする発明１０に記載の機能性木材。
１２．該変性光触媒（Ａ）の数平均粒子径が４００ｎｍ以下であることを特徴とする発明４に記載の機能性木材。
【００１７】
１３．該変性剤化合物（ｂ）が、式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）であることを特徴とする発明４に記載の機能性木材。
Ｈ_ｘＲ_ｙＳｉＯ_{（４−ｘ−ｙ）／２} （９）
（式中、Ｒは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のフルオロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、フェニル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は水酸基を表す。ｘ及びｙは、０＜ｘ＜４、０＜ｙ＜４であり、そして（ｘ＋ｙ）≦４である。）
【００１８】
１４．該Ｓｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）が、式（１０）で表されるモノＳｉ−Ｈ基含有化合物、式（１１）で表される両末端Ｓｉ−Ｈ基含有化合物、式（１２）で表されるＨシリコーンよりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする発明１３に記載の機能性木材。
【００１９】
【化６】

【００２０】
（式中、Ｒ^３は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のフルオロアルキル基、フェニル基、又は式（１３）で表されるシロキシ基を表す。
−Ｏ−（Ｒ^４ _２ＳｉＯ）_ｍ−ＳｉＲ^４ _３ ・・・（１３）
（式中、Ｒ^４はそれぞれ独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のフルオロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、又はフェニル基を表す。また、ｍは整数であり、０≦ｍ≦１０００である。））
Ｈ−（Ｒ^３ _２ＳｉＯ）_ｎ−ＳｉＲ^３ _２−Ｈ ・・・（１１）
（式中、Ｒ^３は式（１０）で定義した通りである。ｎは整数であり、０≦ｎ≦１０００である。）
（Ｒ^３ＨＳｉＯ）_ａ（Ｒ^３ _２ＳｉＯ）_ｂ（Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２）_ｃ ・・・（１２）
（式中、Ｒ^３は式（１０）で定義した通りである。ａは１以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、（ａ＋ｂ）≦１００００であり、そしてｃは０又は２である。但し、（ａ＋ｂ）が２以上の整数であり且つｃ＝０の場合、式（１２）の該Ｈシリコーンは環状シリコーンであり、ｃ＝２の場合、式（１２）の該Ｈシリコーンは鎖状シリコーンである。）
【００２１】
１５．該皮膜中のバインダー成分（Ｂ）が、相分離構造を形成していることを特徴とする発明１または２記載の機能性木材。
１６．該皮膜に含まれる光触媒（ａ）のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーの光を照射することにより光触媒活性を示すことを特徴とする発明１または２に記載の機能性木材。
１７．該皮膜に含まれる光触媒（ａ）のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーの光を照射することにより、該光触媒（ａ）粒子の近傍に存在する珪素原子に結合した有機基の少なくとも一部が水酸基及び／又はシロキサン結合に置換されてなることを特徴とする発明４、５、７、８のいずれかに記載の機能性木材。
１８．光触媒（ａ）とバインダー成分（Ｂ）を含む光触媒組成物（Ｃ）であって、発明１または２に記載の皮膜を形成することを特徴とする機能性木材用光触媒被覆組成物。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の機能性木材は、光触媒（ａ）及びバインダー成分（Ｂ）を含む皮膜を備えた木材または光触媒（ａ）及びバインダー（Ｂ）を含む皮膜を有するフィルムを備えた木材であって、該コート層中における光触媒（ａ）の濃度が木材表面、またはフィルムに接する面から露出面に向かって高くなることを特徴とする。
【００２３】
この際、全皮膜中の光触媒含有量（濃度）１００に対し、露出面と接する表面側近傍の相対濃度が１２０以上であることが光触媒能力や親水化能力の向上効果を発現し、防汚効果が大きくなるために好ましい。該表面側近傍の相対濃度はより好ましくは１５０以上、さらに好ましくは２００以上であることがよい。また、木材表面またはフィルムに接する面近傍の相対濃度が５０以下であると界面劣化防止効果の点で好ましい。木材表面またはフィルムに接する面近傍の相対濃度はより好ましくは１０以下、さらに好ましくは０であると良い。
【００２４】
また、本発明における皮膜中における光触媒（ａ）の濃度は、木材表面またはフィルムに接する面から他方の露出面に向かって徐々に高くなっても良いし、単に木材表面またはフィルムに接する面での光触媒濃度が低く、他方の露出面における光触媒濃度が高く、その間の変化が不連続であっても良い。
さらに、本発明の皮膜中において、保護層の上に光触媒層を塗布する場合に生じる様な明確な膜界面が存在しない方が好ましい。すなわち、保護層の上に光触媒層を塗布する場合に生じる様な明確な膜界面が存在しない場合、光触媒は強固に皮膜中に固定化され、光触媒の剥離等の問題が発生しなくなる。
【００２５】
本発明において、光触媒（ａ）とは、光照射によって酸化、還元反応を起こす物質のことを言う。すなわち、伝導帯と価電子帯との間のエネルギーギャップよりも大きなエネルギー（すなわち短い波長）の光（励起光）を照射したときに、価電子帯中の電子の励起（光励起）が生じて、伝導電子と正孔を生成しうる物質であり、このとき、伝導帯に生成した電子の還元力および／または価電子帯に生成した正孔の酸化力を利用して、種々の化学反応を行うことができる。例えば、種々の有機物の酸化分解反応を挙げることができる。従って、この光触媒を木材の表面に固定化させれば、木材に付着した種々の有機物（汚染物質）を、光エネルギーを利用して酸化分解することができ、さらに木材の表面を親水性に保つことが可能となる。
【００２６】
本発明において光触媒活性とは、光照射によって酸化、還元反応を起こすことを言う。材料表面の、光照射時における色素等の有機物の分解性を測定することにより表面が光触媒活性であるか否かを判定できる。光触媒活性を有する表面は、優れた汚染有機物質の分解活性や耐汚染性を発現する。
【００２７】
本発明において、木材の表面を光触媒活性にするのに有用に使用できる光触媒（ａ）としては、例えばＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ_３、ＣｄＳ、ＧａＰ、ＩｎＰ、ＧａＡｓ、ＢａＴｉＯ_３、ＢａＴｉＯ_４、ＢａＴｉ_４Ｏ_９、Ｋ_２ＮｂＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｋ_３Ｔａ_３Ｓｉ_２Ｏ_３、ＷＯ_３、ＳｎＯ_２、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＢｉＶＯ_４、ＮｉＯ、Ｃｕ_２Ｏ、ＳｉＣ、ＭｏＳ_２、ＩｎＰｂ、ＲｕＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｔａ_３Ｎ_５等、さらにはＴｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖから選ばれた少なくとも１種の元素を有する層状酸化物（例えば、特開昭６２−７４４５２号公報、特開平２−１７２５３５号公報、特開平７−２４３２９号公報、特開平８−８９７９９号公報、特開平８−８９８００号公報、特開平８−８９８０４号公報、特開平８−１９８０６１号公報、特開平９−２４８４６５号公報、特開平１０−９９６９４号公報、特開平１０−２４４１６５号公報等参照）を挙げることができる。
【００２８】
これらの光触媒（ａ）の中でＴｉＯ_２（酸化チタン）は無害であり、化学的安定性にも優れるため好ましい。酸化チタンとしては、アナターゼ、ルチル、ブルッカイトのいずれも使用できる。
また、本発明に使用する光触媒（ａ）として、可視光（例えば約４００〜８００ｎｍの波長）の照射により光触媒活性及び／又は親水性を発現することが出来る可視光応答型光触媒を選択すると、本発明の機能性木材は、室内等の紫外線が十分に照射されない場所等においても防汚性能や有機物分解作用等が発現することが出来るため好ましい。
【００２９】
上記可視光応答型光触媒は、可視光で光触媒活性及び／又は親水性を発現するものであれば全て使用することが出来るが、例えばＴａＯＮ、ＬａＴｉＯ_２Ｎ、ＣａＮｂＯ_２Ｎ、ＬａＴａＯＮ_２、ＣａＴａＯ_２Ｎ等のオキシナイトライド化合物（例えば特開２００２−６６３３３号公報参照）やＳｍ_２Ｔｉ_２Ｓ_２Ｏ_７等のオキシサルファイド化合物（例えば特開２００２−２３３７７０号公報参照）、Ｔａ_３Ｎ_５等の窒化化合物、ＣａＩｎ_２Ｏ_４、ＳｒＩｎ_２Ｏ_４、ＺｎＧａ_２Ｏ_４、Ｎａ_２Ｓｂ_２Ｏ_６等のｄ１０電子状態の金属イオンを含む酸化物（例えば特開２００２−５９００８号公報参照）、アンモニアや尿素等の窒素含有化合物存在下でチタン酸化物前駆体（オキシ硫酸チタン、塩化チタン、アルコキシチタン等）や高表面酸化チタンを焼成して得られる窒素ドープ酸化チタン（例えば特開２００２−２９７５０号公報、特開２００２−８７８１８号公報、特開２００２−１５４８２３号公報、特開２００１−２０７０８２号公報参照）、チオ尿素等の硫黄化合物存在下にチタン酸化物前駆体（オキシ硫酸チタン、塩化チタン、アルコキシチタン等）を焼成して得られる硫黄ドープ酸化チタン、酸化チタンを水素プラズマ処理したり真空下で加熱処理したりすることによって得られる酸素欠陥型の酸化チタン（例えば特開２００１−９８２１９号公報参照）、さらには光触媒粒子をハロゲン化白金化合物で処理したり（例えば特開２００２−２３９３５３号公報参照）、タングステンアルコキシドで処理（特開２００１−２８６７５５号公報参照）することによって得られる表面処理光触媒等を好適に挙げることができる。
【００３０】
上記可視光応答型光触媒の中でオキシナイトライド化合物、オキシサルファイド化合物は可視光による光触媒活性が大きく、特に好適に使用することができる。
更に、上述した光触媒（ａ）は、好適にＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅなどの金属及び／又はこれらの酸化物を添加あるいは固定化したり、多孔質リン酸カルシウム等で被覆したり光触媒（例えば特開平１０−２４４１６６号公報参照）して使用することもできる。
上記光触媒（ａ）の結晶粒子径（１次粒子径）は１〜４００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｎｍの光触媒が好適に選択される。
本発明の光触媒（ａ）の形態としては粉体、分散液、ゾルのいずれでも用いることが出来る。
【００３１】
本発明の光触媒（ａ）として、該光触媒（ａ）を、後述する少なくとも１種の変性剤化合物（ｂ）を用いて変性処理した変性光触媒（Ａ）を用いることが好ましい。
本発明において光触媒（ａ）の変性とは、後述する少なくとも１種の変性剤化合物（ｂ）を、光触媒（ａ）粒子の表面に固定化することを意味する。上記の変性剤化合物の光触媒粒子の表面への固定化は、ファン・デル・ワールス力（物理吸着）やクーロン力または化学結合によるものと考えられる。特に、化学結合を利用した変性は、変性剤化合物と光触媒との相互作用が強く、変性剤化合物が光触媒粒子の表面に強固に固定化されるので好ましい。
【００３２】
本発明の光触媒（ａ）を変性光触媒（Ａ）とすることにより、本発明の、木材表面またはフィルムに、上記光触媒（ａ）を含む皮膜を形成する場合に、該皮膜中における光触媒（ａ）の濃度が、該皮膜の木材表面またはフィルムに接する面から他方の露出面に向かって高くなる構造の形成が、特に後述するバインダー成分（Ｂ）と組み合わせた場合に容易になるため、非常に好ましい。
本発明においては、変性に用いる光触媒（ａ）の性状が、変性光触媒（Ａ）の分散安定性、成膜性、及び種々の機能の発現にとって重要な因子となる。すなわち、本発明の変性に使用される光触媒（ａ）としては、１次粒子と２次粒子との混合物（１次粒子、２次粒子何れかのみでも良い）の数平均分散粒子径が４００ｎｍ以下の光触媒が変性後の光触媒の表面特性を有効に利用できるために好ましい。特に数平均分散粒子径が１００ｎｍ以下の光触媒を使用した場合、生成する変性光触媒（Ａ）と後述するバインダー成分（Ｂ）を含む光触媒組成物（Ｃ）から形成された本発明の皮膜では、変性光触媒（Ａ）を効率的に該皮膜の表面（露出面）に存在させることができるため非常に好ましい。より好ましくは８０ｎｍ以下３ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以下３ｎｍ以上の光触媒（ａ）が好適に選択される。
【００３３】
これらの光触媒（ａ）としては、以下の理由から、光触媒粉体ではなく光触媒ゾルを使用することが好ましい。一般に微細な粒子からなる粉体は、単結晶粒子（一次粒子）が強力に凝集した二次粒子を形成するため、無駄にする表面特性が多いが、一次粒子にまで分散させるのは非常に困難である。これに対して、光触媒ゾルの場合、光触媒粒子は溶解せずに一次粒子に近い形で存在しているため表面特性を有効に利用でき、それから生成する変性光触媒は分散安定性、成膜性等に優れるばかりか、種々の機能を有効に発現するので好ましく使用することができる。ここで、本発明に用いる光触媒ゾルとは、光触媒粒子が水及び／又は有機溶媒中に好ましくは０．０１〜７０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％で一次粒子及び／または二次粒子として分散されたものである。
【００３４】
ここで、上記光触媒ゾルに使用される上記有機溶媒としては、例えばエチレングリコール、ブチルセロソルブ、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エタノール、メタノール等のアルコール類、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化合物類、ジメチルスルホキシド、ニトロベンゼン等、さらにはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【００３５】
該光触媒ゾルとして酸化チタンのゾルを例にとると、例えば実質的に水を分散媒とし、その中に酸化チタン粒子が解膠された酸化チタンヒドロゾル等を挙げることができる。（ここで、実質的に水を分散媒とするとは、分散媒中に水が８０質量％程度以上含有されていることを意味する。）かかるゾルの調整は公知であり、容易に製造できる（例えば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等参照）。例えば、硫酸チタンや四塩化チタンの水溶液を加熱加水分解して生成したメタチタン酸をアンモニア水で中和し、析出した含水酸化チタンを濾別、洗浄、脱水させると酸化チタン粒子の凝集物が得られる。この凝集物を、硝酸、塩酸、又はアンモニア等の作用の下に解膠させ水熱処理等を行うことにより酸化チタンヒドロゾルが得られる。また、酸化チタンヒドロゾルとしては、酸化チタン粒子を酸やアルカリの作用の下で解膠させたものや、酸やアルカリを使用せず、必要に応じてポリアクリル酸ソーダなどの分散安定剤を使用し、強力なせん断力の下で水中に分散させたゾルも用いることができる。さらに、ｐＨが中性付近の水溶液中においても分散安定性に優れる、粒子表面がペルオキソ基で修飾されたアナターゼ型酸化チタンゾルも、例えば、特開平１０−６７５１６号公報で提案された方法によって容易に得ることができる。
【００３６】
上述した酸化チタンヒドロゾルはチタニアゾルとして市販されている。（例えば、石原産業株式会社製「ＳＴＳ−０２」、田中転写株式会社製「ＴＯ−２４０」等）
上記酸化チタンヒドロゾル中の酸化チタンは好ましくは５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下である。さらに好ましくは３０質量％以下０．１質量％以上である。
このようなヒドロゾルの粘度（２０℃）は比較的低い。本発明においては、ヒドロゾルの粘度は、０．０５ｍＰａ・ｓ〜２０００ｍＰａ・ｓ程度の範囲にあるのが好ましい。より好ましくは０．５ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰａ・ｓである。
【００３７】
また、例えば酸化セリウムゾル（例えば、特開平８−５９２３５号公報参照）やＴｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を有する層状酸化物のゾル（例えば、特開平９−２５１２３号公報、特開平９−６７１２４号公報、特開平９−２２７１２２号公報、特開平９−２２７１２３号公報、特開平１０−２５９０２３号公報等参照）等、様々な光触媒ゾルの製造方法についても酸化チタンゾルと同様に知られている。
さらに、本発明で好適に使用できる可視光応答型の光触媒ゾルも市販されている。（例えば、昭和電工（株）製「ＮＴＢ−２００」、住友化学工業（株）製「ＴＳＳ」等）
【００３８】
また、実質的に有機溶媒を分散媒とし、その中に光触媒粒子が分散された光触媒オルガノゾルは、例えば上記光触媒ヒドロゾルをポリエチレングリコール類の如き相間移動活性を有する化合物（異なる第１の相と第２相との界面に第３の相を形成し、第１の相、第２の相、第３の相を相互に溶解及び／又は可溶化する化合物）で処理し有機溶媒で希釈したり（例えば、特開平１０−１６７７２７号公報）、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の陰イオン界面活性剤で水に不溶性の有機溶剤中に分散移行させてゾルを調整する方法（例えば、特開昭５８−２９８６３号公報）やブチルセロソルブ等の水より高沸点のアルコール類を上記光触媒ヒドロゾルに添加した後、水を（減圧）蒸留等によって除去する方法等により得ることができる。また、実質的に有機溶媒を分散媒とし、その中に酸化チタン粒子が分散された酸化チタンオルガノゾルは市販されている（例えば、テイカ株式会社製「ＴＫＳ−２５１」）。ここで、実質的に有機溶媒を分散媒とするとは、分散媒中に有機溶媒が８０質量％程度以上含有されていることを意味する。
【００３９】
本発明において、変性光触媒（Ａ）を得るのに用いられる少なくとも１種の変性剤化合物（ｂ）は、式（１）で表されるトリオルガノシラン単位、式（２）で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、式（３）で表されるジオキシオルガノシラン単位、及びフッ化メチレン（―ＣＦ_２−）単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる。
Ｒ_３Ｓｉ− （１）
（式中、Ｒは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のフルオロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、フェニル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は水酸基を表す）
−（Ｒ_２ＳｉＯ）− （２）
（式中、Ｒは式（１）で定義した通りである。）
【００４０】
【化７】

【００４１】
（式中、Ｒは式（１）で定義した通りである。）
上述した構造単位を有する変性剤化合物（ｂ）で光触媒粒子表面が変性処理された変性光触媒（Ａ）は、その粒子表面の表面エネルギーが非常に小さくなる。
本発明において、光触媒（ａ）の変性剤化合物（ｂ）による変性処理は、水及び／又は有機溶媒の存在、あるいは非存在下において、前述した光触媒（ａ）と、同じく前述した変性剤化合物（ｂ）を好ましくは質量比（ａ）／（ｂ）＝１／９９〜９９．９／０．１、より好ましくは（ａ）／（ｂ）＝１０／９０〜９９／１の割合で混合し、好ましくは０〜２００℃、より好ましくは１０〜８０℃にて加熱したり、（減圧）蒸留等により該混合物の溶媒組成を変化させる等の操作をすることにより得ることができる。
【００４２】
ここで上記変性処理を行う場合、使用できる有機溶媒としては、例えばトルエンやキシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、エチレングリコール、ブチルセロソルブ、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エタノール、メタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化合物類、ジメチルスルホキシド、ニトロベンゼン等やこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【００４３】
本発明の変性光触媒（Ａ）を得るのに使用される上記変性剤化合物（ｂ）としては、例えばＳｉ−Ｈ基、加水分解性シリル基（アルコキシシリル基、ヒドロキシシリル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシシリル基、アミノキシシリル基等）、エポキシ基、アセトアセチル基、チオール基、酸無水物基等の光触媒粒子（ａ）と反応性を有するケイ素化合物やフルオロアルキル化合物、フルオロオレフィン重合体等を挙げることができる。
【００４４】
また、上記変性剤化合物（ｂ）の他の例としては、例えばポリオキシアルキレン基、スルホン酸基、カルボキシル基等の光触媒粒子（ａ）とファン・デル・ワールス力、クーロン力等により相互作用する構造を有するケイ素化合物等やフルオロアルキル化合物、フルオロオレフィン重合体等を挙げることができる。
本発明において、上記変性剤化合物（ｂ）として、組成式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）を用いると、非常に効率よく光触媒粒子表面を変性することができるため好ましい。
Ｈ_ｘＲ_ｙＳｉＯ_{（４−ｘ−ｙ）／２} （９）
（式中、Ｒは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のフルオロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、フェニル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は水酸基を表す。ｘ及びｙは、０＜ｘ＜４、０＜ｙ＜４であり、そして（ｘ＋ｙ）≦４である。）
【００４５】
本発明において、光触媒（ａ）の上記組成式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）による変性処理は、水及び／又は有機溶媒の存在、あるいは非存在下において、光触媒（ａ）と該Ｓｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）を好ましくは質量比（ａ）／（ｂ１）＝１／９９〜９９．９／０．１、より好ましくは（ａ）／（ｂ１）＝１０／９０〜９９／１の割合で好ましくは０〜２００℃にて混合することにより実施できる。この変性の操作により混合液からは水素ガスが発生すると共に、光触媒（ａ）として光触媒ゾルを用いた場合、その平均分散粒子径の増加が観察される。また、例えば光触媒（ａ）として酸化チタンを用いた場合、上記変性の操作により、Ｔｉ−ＯＨ基の減少がＩＲスペクトルにおける３６３０〜３６４０ｃｍ^−１の吸収の減少として観測される。
【００４６】
これらのことより、変性剤化合物（ｂ）として上記式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）を選択した場合は、本発明の変性光触媒（Ａ１）は、Ｓｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）と光触媒（ａ）との単なる混合物ではなく、両者の間には化学反応に伴う何らかの相互作用を生じていることが予測できるため非常に好ましい。実際、この様にして得られた変性光触媒（Ａ）は、有機溶媒に対する分散安定性や化学的安定性、耐久性等等において非常に優れたものとなっている。
【００４７】
本発明において、光触媒（ａ）の上記式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）による変性処理は、Ｓｉ−Ｈ基に対する脱水素縮合触媒を使用して好ましくは０〜１５０℃で実施することもできる。
この場合、あらかじめ光還元法等の方法で脱水素縮合触媒を光触媒（ａ）に固定し、上記Ｓｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）で変性処理しても良いし、脱水素縮合触媒の存在下に上記Ｓｉ−Ｈ基含有化合物ケイ素（ｂ１）で光触媒（ａ）を変性処理しても良い。
【００４８】
ここでＳｉ−Ｈ基に対する脱水素縮合触媒とは、Ｓｉ−Ｈ基と光触媒表面に存在する水酸基（酸化チタンの場合はＴｉ−ＯＨ基）やチオール基、アミノ基、カルボキシル基等の活性水素基、さらには水等との脱水素縮合反応を加速する物質を意味し、該脱水素縮合触媒を使用することにより温和な条件で光触媒表面を変性することが可能となる。
【００４９】
該脱水素縮合触媒としては、例えば白金族触媒、すなわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金の単体及びその化合物や、銀、鉄、銅、コバルト、ニッケル、錫等の単体及びその化合物が挙げられる。これらの中で白金族触媒が好ましく、白金の単体及びその化合物が特に好ましい。
ここで、上記白金の化合物としては、例えば塩化白金（ＩＩ）、テトラクロロ白金酸（ＩＩ）、塩化白金（ＩＶ）、ヘキサクロロ白金酸（ＩＶ）、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）アンモニウム、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）カリウム、水酸化白金（ＩＩ）、二酸化白金（ＩＶ）、ジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金（ＩＩ）、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−オレフィン錯体等を使用することができる。
【００５０】
本発明の上記式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物において、Ｓｉ−Ｈ基は光触媒を穏和な条件で選択性良く変性するために好ましい官能基である。これに対し、加水分解性基は、同様に光触媒の変性に利用することもできるが、副反応を抑制し、得られる変性光触媒の安定性を向上するためには、その含有量は少ない方が好ましい。
本発明に好適に使用できる上記式（９）で表されるＳｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）としては、例えば式（１０）で表されるモノＳｉ−Ｈ基含有化合物、式（１１）で表される両末端Ｓｉ−Ｈ基含有化合物、式（１２）で表されるＨシリコーンよりなる群から選ばれる少なくとも１種の、加水分解性シリル基を有さないＳｉ−Ｈ基含有化合物を挙げることができる。
【００５１】
【化８】

【００５２】
（式中、Ｒ^３は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０個のフルオロアルキル基、フェニル基、又は式（１３）で表されるシロキシ基を表す。
−Ｏ−（Ｒ^４ _２ＳｉＯ）_ｍ−ＳｉＲ^４ _３ ・・・（１３）
（式中、Ｒ^４はそれぞれ独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のフルオロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基、又はフェニル基を表す。また、ｍは整数であり、０≦ｍ≦１０００である。））
Ｈ−（Ｒ^３ _２ＳｉＯ）_ｎ−ＳｉＲ^３ _２−Ｈ ・・・（１１）
（式中、Ｒ^３は式（１０）で定義した通りである。ｎは整数であり、０≦ｎ≦１０００である。）
（Ｒ^３ＨＳｉＯ）_ａ（Ｒ^３ _２ＳｉＯ）_ｂ（Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２）_ｃ ・・・（１２）
（式中、Ｒ^３は式（１０）で定義した通りである。ａは１以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、（ａ＋ｂ）≦１００００であり、そしてｃは０又は２である。但し、（ａ＋ｂ）が２以上の整数であり且つｃ＝０の場合、式（１２）の該Ｈシリコーンは環状シリコーンであり、ｃ＝２の場合、式（１２）の該Ｈシリコーンは鎖状シリコーンである。）
【００５３】
本発明において、上記式（１０）で表されるモノＳｉ−Ｈ基含有化合物の具体例としては、例えばビス（トリメチルシロキシ）メチルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）エチルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）ｎ−プロピルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）ｉ−プロピルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）ｎ−ブチルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）ｎ−ヘキシルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）シクロヘキシルシラン、ビス（トリメチルシロキシ）フェニルシラン、ビス（トリエチルシロキシ）メチルシラン、ビス（トリエチルシロキシ）エチルシラン、トリス（トリメチルシロキシ）シラン、トリス（トリエチルシロキシ）シラン、ペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，３，５，５，６，６−ノナメチルテトラシロキサン、トリメチルシラン、エチルジメチルシラン、メチルジエチルシラン、トリエチルシラン、フェニルジメチルシラン、ジフェニルメチルシラン、シクロヘキシルジメチルシラン、ｔ−ブチルジメチルシラン、ジ−ｔ−ブチルメチルシラン、ｎ−オクタデシルジメチルシラン、トリ−ｎ−プロピルシラン、トリ−ｉ−プロピルシラン、トリ−ｉ−ブチルシラン、トリ−ｎ−ヘキシルシラン、トリフェニルシラン、アリルジメチルシラン、１−アリル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、クロロメチルジメチルシラン、７−オクテニルジメチルシラン等を挙げることができる。
【００５４】
これらのモノＳｉ−Ｈ基含有化合物の中で、光触媒の変性処理時におけるＳｉ−Ｈ基の反応性（脱水素縮合反応）の良さや表面エネルギーの低さから、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシラン、トリス（トリメチルシロキシ）シラン、ペンタメチルジシロキサン等の分子中にシロキシ基を有し、フェニル基を有さない下式（１４）で表されるものが好ましい。
【００５５】
【化９】

【００５６】
（式中、Ｒはそれぞれ独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルケニル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のフルオロアルキル基、もしくは式（１３ｂ）で表されるシロキシ基から選ばれた１種以上からなる基であり、かつＲ^５の中の少なくとも１つは式（１３ｂ）で表されるシロキシ基である。
−Ｏ−（Ｒ^４’ _２ＳｉＯ）_ｍ−ＳｉＲ^４’ _３ ・・・（１３ｂ）
（式中、Ｒ^４’はそれぞれ独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のフルオロアルキル基を表す。また、ｍは整数であり、０≦ｍ≦１０００である。））
【００５７】
本発明において、上記式（１１）で表される両末端Ｓｉ−Ｈ基含有化合物の具体例としては、例えば１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルテトラシロキサン等の数平均分子量５００００以下のＨ末端ポリジメチルシロキサン類や、１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサエチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタエチルテトラシロキサン等の数平均分子量５００００以下のＨ末端ポリジエチルシロキサン類や、１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサフェニルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタフェニルテトラシロキサン等の数平均分子量５００００以下のＨ末端ポリジフェニルシロキサン類や、１，３−ジフェニル−１，３−ジメチル−ジシロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニル−トリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニル−テトラシロキサン等の数平均分子量５００００以下のＨ末端ポリフェニルメチルシロキサン類や、ジメチルシラン、エチルメチルシラン、ジエチルシラン、フェニルメチルシラン、ジフェニルシラン、シクロヘキシルメチルシラン、ｔ−ブチルメチルシラン、ジ−ｔ−ブチルシラン、ｎ−オクタデシルメチルシラン、アリルメチルシラン等を例示することができる。
【００５８】
これらの中で、光触媒の変性処理時におけるＳｉ−Ｈ基の反応性（脱水素縮合反応）の良さや表面エネルギーの低さから、数平均分子量が好ましくは１００００以下、より好ましくは２０００以下、さらに好ましくは１０００以下のＨ末端ポリジアルキルシロキサン（式（１５））が両末端Ｓｉ−Ｈ基含有化合物として好適に使用できる。
Ｈ−（Ｒ^６ _２ＳｉＯ）_ｄ−ＳｉＲ^６ _２−Ｈ ・・・（１５）
（式中、Ｒ^６はそれぞれ独立に直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数が１〜３０個のフルオロアルキル基を表す。ｄは整数であり、０≦ｄ≦１０００である。）
【００５９】
本発明に用いる上記式（１２）で表されるＨシリコーンとしては、光触媒の変性処理時における分散安定性（光触媒粒子の凝集の防止）の点より、数平均分子量が好ましくは５０００以下、より好ましくは２０００以下、さらに好ましくは１０００以下のＨシリコーンが好適に使用できる。
【００６０】
また、本発明に使用される変性剤化合物（ｂ）として、一般式（２０）で表される構造を有するフッ素系樹脂（ｂ２）を使用すると、該フッ素系樹脂で変性された変性光触媒（Ａ）は、有害物質分解性と有機基材保護性の両立に優れるため好ましい。
【００６１】
【化１０】

【００６２】
（式中、Ａ^１〜Ａ^５は同一でも異なっていても良く、それぞれフッ素原子、水素原子、塩素原子、炭素数１〜６のアルキル基、及び炭素数１〜６のハロ置換アルキル基から選ばれる１種を示す。Ｙは分子量１４〜５００００のｗ価の有機基（当該有機基Ｙの主鎖との結合以外にｗ価である基、好ましくはフッ化メチレン単位を有する基、より好ましくはパーフルオロアルキル基を有する基）を表す。Ｖは、エポキシ基、水酸基、アセトアセチル基、チオール基、環状酸無水物基、カルボキシル基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン基、加水分解性シリル基からなる群から選ばれた少なくとも１つの官能基を表す。ｋは０以上１００００００以下の整数であり、ｌは１以上１０００００以下の整数を表す。ただし、ｋ＝０の時は、好ましくはＡ^３〜Ａ^５の少なくとも１つがフッ素原子、より好ましくはＡ^３、Ａ^４が共にフッ素原子を表す。ｗは１〜２０の整数である。）
【００６３】
本発明において、光触媒（ａ）の式（２０）で表されるフッ素系樹脂（ｂ２）による変性処理は、水及び／又は有機溶媒の存在、あるいは非存在下において、光触媒（ａ）と該フッ素系樹脂（ｂ２）を好ましくは質量比（ａ）／（ｂ２）＝１／９９〜９９．９／０．１、より好ましくは（ａ）／（ｂ２）＝１０／９０〜９９／１の割合で好ましくは０〜２００℃にて混合し、好ましくは（減圧）蒸留等により該混合物の溶媒組成を変化させる等の操作をすることにより得ることができる。
【００６４】
上記フッ素系樹脂（ｂ２）の好ましい例としては、例えば式（２１）で表される構造を有するパーフルオロカーボンスルホン酸ポリマーフッ素系樹脂（ｂ２’）を挙げることができる。
【００６５】
【化１１】

【００６６】
（式中、ｘは１〜１００００００の整数であり、ｙは１〜１０００００の整数を表す。また、ｍは０〜２０の整数であり、ｎは０〜２０の整数を表す。）
本発明の変性光触媒（Ａ）において、その好ましい形態は、変性光触媒の一次粒子と二次粒子との混合物（１次粒子、２次粒子何れかのみでも良い）の数平均分散粒子径が４００ｎｍ以下、さらに好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、特に好ましくは５ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。ゾルの状態であることが好ましい。
【００６７】
また、特に数平均分散粒子径が１００ｎｍ以下の変性光触媒ゾルを本発明の光触媒組成物（Ｃ）に用いると、変性光触媒粒子の濃度が木材表面またはフィルムと接する界面近傍では小さく、皮膜の表面近傍では大きく分布するような表面方向に異方分布した皮膜を形成するのに有利となり、光触媒作用による木材表面またはフィルムとの界面劣化が無く、光触媒活性が大きい皮膜を形成するため非常に好ましい。この様な変性光触媒ゾルは、上記変性剤化合物（ｂ）で変性処理をする光触媒として前述した光触媒ゾルを用いることにより得ることができる。
【００６８】
なお、従来、二酸化チタンなどで単に粒径として表示されている数値は、多くの場合一次粒子径（結晶子径）であり、凝集による二次粒子径を考慮した数値ではない。
本発明の皮膜を形成する光触媒組成物（Ｃ）は、光触媒（ａ）（好ましくは変性光触媒（Ａ））とバインダー成分（Ｂ）を含むことを特徴とし、その質量比（ａ）／（Ｂ）は０．１／９９．９〜９０／１０であることが好ましく、（ａ）／（Ｂ）が１／９９〜５０／５０で含むことがより好ましい。
本発明の変性光触媒（Ａ）は、表面エネルギーの非常に小さい構造｛式（１）〜（３）、フッ化メチレン単位から選ばれる少なくとも１種｝を有する変性剤化合物（ｂ）で変性処理されているため、皮膜を形成する際、空気と接する側の皮膜表面に移動しやすい性質を持っている。
【００６９】
ここで、本発明のバインダー成分（Ｂ）として、光触媒（ａ）、特に該変性光触媒（Ａ）より表面エネルギーが高いバインダー成分を用いることにより、変性光触媒（Ａ）の上記性質を助長するため、本発明の光触媒組成物（Ｃ）は、光触媒（ａ）、特に変性光触媒（Ａ）の分布について大きな自己傾斜性を有することが可能となる。ここで自己傾斜性とは、光触媒組成物（Ｃ）から皮膜を形成する際、その形成過程において光触媒（ａ）、特に変性光触媒（Ａ）が、皮膜や接する界面の性状（特に親水／疎水性）に対応して、光触媒（ａ）、特に変性光触媒（Ａ）の濃度勾配を有する構造を自律的に形成することを意味する。
【００７０】
本発明のバインダー成分（Ｂ）としては、光触媒（ａ）（好ましくは変性光触媒（Ａ））より、表面エネルギーが２ｍＮ／ｍ以上、好ましくは５ｍＮ／ｍ以上大きい樹脂を選択すると、上記自己傾斜性が大きくなり非常に好ましい。
ここで、上記表面エネルギーや表面エネルギーの相対差は、例えばＰｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（米国 Ａ Ｗｉｌｅｙ−ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ 出版）等を参照したり、以下の方法で測定したりすることにより求めることができる。
【００７１】
すなわち、上記光触媒組成物（Ｃ）を構成する光触媒（ａ）、特に変性光触媒（Ａ）及びバインダー成分（Ｂ）から各々それらの皮膜を有する基材を調整し、脱イオン水を滴下して２０℃における接触角（θ）を測定し、下記のＳｅｌｌとＮｅｕｍａｎｎの実験式により、各々の表面エネルギーを求めることができる。
【００７２】
【数１】

【００７３】
［式中、γｓは脱イオン水の接触角を測定した皮膜の表面エネルギー（ｍＮ／ｍ）を表し、γｌは水の表面エネルギー｛７２．８ｍＮ／ｍ（２０℃）｝を表わす。
【００７４】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）において、バインダー成分（Ｂ）に使用できる化合物としては、上記条件を満たす表面エネルギーを有すればよく特に制限されないが、各種単量体、合成樹脂及び天然樹脂等が挙げられ、また被膜や成形体の形成後に、乾燥、加熱、吸湿、光照射等により硬化するものも挙げることができる。また、その形態については、無溶媒の状態（ペレット、粉体、液体等）であっても溶媒に溶解あるいは分散した形態であっても良く、特に制限はない。
【００７５】
上記合成樹脂としては、熱可塑性樹脂と硬化性樹脂（熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂等）の使用が可能であり、例えばシリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、アルキド樹脂、アミノアルキド樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリケトン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンスルホン樹脂ポリエーテル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン−アクリル樹脂、さらには水ガラスやジルコニウム化合物、過酸化チタン等の無機系化合物等を挙げることができる。
また、上記天然高分子としては、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、天然ゴム等のイソプレン系樹脂、カゼイン等のタンパク質系樹脂やでんぷん等を挙げることができる。
【００７６】
本発明において、光触媒組成物（Ｃ）に使用するバインダー成分（Ｂ）としては、下記式（４）で表されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）が、本発明の変性光触媒（Ａ）より表面エネルギーが高く、その骨格を成すシロキサン結合（−Ｏ−Ｓｉ−）は光触媒作用による酸化分解がおこらないため、最も好適に使用できる。
Ｒ^１ _ｐＲ^２ _ｑＸ_ｒＳｉＯ_{（４−ｐ−ｑ−ｒ）／２} （４）
（式中、各Ｒ^１はフェニル基を表し、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。Ｘは、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表す。そしてｐ、ｑ及びｒは、０＜ｐ＜４、０≦ｑ＜４、０≦ｒ＜４、及び０＜（ｐ＋ｑ＋ｒ）＜４であり、そして０．０５≦ｐ／（ｐ＋ｑ）≦１である。）
【００７７】
上記式（４）で示されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）としては、例えば一般式（１６）、（１７）、（１８）及び（１９）で表されるシロキサン結合の少なくとも１種の構造を含むシリコーンを挙げることができる。
【００７８】
【化１２】

【００７９】
−（Ｒ^７ _２ＳｉＯ）− ・・・（１７）
【００８０】
【化１３】

【００８１】
（式中、Ｒ^７はそれぞれ独立に、フェニル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基を表す。）
【００８２】
【化１４】

【００８３】
上述した構造を含むシリコーンは、例えば一般式ＲＳｉＸ_３（式中、Ｒは、フェニル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基を表す。各Ｘは、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる一つの反応性基を表す。以下同様。）で表される３官能シラン誘導体及び／又は一般式Ｒ_２ＳｉＸ_２で表される２官能シラン誘導体及び／又は一般式ＳｉＸ_４で表される４官能シラン誘導体を部分的に加水分解・縮重合させ、必要により一般式Ｒ_３ＳｉＸで表される１官能シラン誘導体及び／又はアルコール類によって末端停止させることにより調製できる。この様にして得られるシラン誘導体モノマーの部分縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは１００〜１００，０００、より好ましくは４００〜５０，０００である。
【００８４】
これらの中で、上記式（４）で示されるフェニル基含有シリコーンとして、上記式（１６）で表されるラダー構造を１０モル％以上、好ましくは４０モル％以上含むものを選択すると、本発明の光触媒組成物（Ｃ）から形成される光触媒含有皮膜は、硬度、耐熱性、耐候性、耐汚染性、耐薬品性等の点で非常に優れたものとなるため好ましい。特に、上記ラダー構造としてフェニルラダー構造〔式（１６）におけるＲ^７が全てフェニル基のもの〕を有するものは上述した光触媒含有皮膜の物性が非常に向上するため好ましい。この様なラダー構造は、例えば赤外線吸収スペクトルにおける１０４０ｃｍ^−１と１１６０ｃｍ^−１付近の２本のシロキサン結合に由来する吸収の存在により同定する事ができる。
（Ｊ．Ｆ．Ｂｒｏｗｎ．Ｊｒ．，ｅｔａｌ．：Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８２，６１９４（１９６０）参照。）
本発明に用いる上記式（４）で表されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）は、Ｐｈ−Ｓｉ結合（Ｐｈ：フェニル基）を有することが好ましい。
【００８５】
すなわち、本発明の光触媒組成物（Ｃ）において、表面エネルギーの非常に小さい構造｛式（１）〜（３）、フッ化メチレン単位から選ばれる少なくとも１種｝を有する変性剤化合物（ｂ）で変性処理されている変性光触媒（Ａ）のバインダーとして、該変性光触媒（Ａ）より表面エネルギーが高いフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）を含むバインダー成分（Ｂ）を用いることにより、本発明の光触媒組成物（Ｃ）は、変性光触媒（Ａ）の分布について非常に高い自己傾斜性を有することが可能となり、好ましい。
【００８６】
この様な表面エネルギーの高いフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）による自己傾斜性の発現効果は、フェニル基（Ｒ^１）を、フェニル基（Ｒ^１）とＲ^２（Ｒ^２は直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基を表す。）の合計｛以下（Ｒ^１＋Ｒ^２）と表す。｝に対し５モル％以上有する上記式（４）で示されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）を用いることによってより顕著に発揮することができるので、このようなフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）を用いることは好ましい。
【００８７】
また、上述した自己傾斜性の発現効果は、フェニル基（Ｒ^１）の（Ｒ^１＋Ｒ^２）に対する割合が増えるに従い増大する。よって、本発明の光触媒組成物に使用するバインダー成分（Ｂ）のフェニル基含有シリコーンとしてより好ましいものは、（Ｒ^１＋Ｒ^２）に対するフェニル基（Ｒ^１）の割合が１０モル％以上、さらに好ましくは２０モル％以上、さらに好ましくは５０モル％以上のものである。また、該フェニル基含有シリコーン（ＢＰ）は有機樹脂等の有機基材に対する密着性が良好であり、その骨格を成すシロキサン結合（−Ｏ−Ｓｉ−）は光触媒作用による酸化分解がおこらないため、本発明の光触媒組成物（Ｃ）を壁紙の意匠性ベースコート層にコーティングして得られる光触媒含有皮膜は、非常に耐候性に優れたものになる。
【００８８】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）において、バインダー成分（Ｂ）に使用するフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）として、上述した効果を発揮するより好ましいものは、下記式（５）で表されるアルキル基を含有しないフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１）である。
Ｒ^１ _ｓＸ_ｔＳｉＯ_{（４−ｓ−ｔ）／２} （５）
（式中、Ｒ^１はフェニル基を表し、Ｘは各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表し、ｓ及びｔは、０＜ｓ＜４、０≦ｔ＜４、そして０＜（ｓ＋ｔ）＜４である。）
【００８９】
また、バインダー成分（Ｂ）が、下記式（６）で表されるアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）を更に含有すると、本発明の光触媒組成物から形成される皮膜は、成膜性、硬度、耐熱性、耐汚染性、耐薬品性等の点で優れたものとなるため好ましい。
Ｒ^２ _ｕＸ_ｖＳｉＯ_{（４−ｕ−ｖ）／２} （６）
（式中、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。Ｘは、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、ハロゲン原子を表す。ｕ及びｖは、０＜ｕ＜４、０≦ｖ＜４、そして０＜（ｕ＋ｖ）＜４である。）
【００９０】
さらに、上記フェニル基含有シリコーン（ＢＰ１）と混合する上記アルキル基含有シリコーン（ＢＡ）として、式（７）で表されるモノオキシジオルガノシラン単位（Ｄ）と式（８）で表されるジオキシオルガノシラン単位（Ｔ）を、モル比が好ましくは（Ｄ）／（Ｔ）＝１００／０〜５／９５、より好ましくは９０／１０〜１０／９０の割合で有する構造のものを用いると、アルキル基含有シリコーン（ＢＡ）の応力緩和作用が増加し、本発明の光触媒組成物（Ｃ）から生成する光触媒含有トップコート層の耐クラック性が向上する結果、耐候性が非常に優れたものとなる。
−（Ｒ^２ _２ＳｉＯ）− （７）
（式中、Ｒ^２は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０個のアルケニル基を表す。）
【００９１】
【化１５】

【００９２】
（式中、Ｒ^２は式（７）で定義した通りである。）
本発明において、長期の耐候性向上には、バインダー成分（Ｂ）が相分離構造を形成することが好ましく、特にミクロ相分離した構造を形成することが好ましい。
たとえば、バインダー成分（Ｂ）として、上述した光触媒（ａ）、特に該変性光触媒（Ａ）より表面エネルギーが高いバインダー樹脂（Ｂ’）と上記式（６）で表されるアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）とを、好ましくは質量比（Ｂ’）／（ＢＡ）＝５／９５〜９５／５、より好ましくは（Ｂ’）／（ＢＡ）＝３０／７０〜９０／１０で混合したものを用いると、本発明の光触媒組成物（Ｃ）から形成される光触媒含有トップコート層は、表面エネルギーが高いバインダー樹脂（Ｂ’）とアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）が相分離したバインダー中に光触媒（ａ）が分散した構造となり、長期の耐候性に優れたものとなるため好ましい。
【００９３】
ここで、表面エネルギーが高いバインダー成分（Ｂ’）とアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）の相分離は、連続層でない相が好ましくは１ｎｍ^３〜１μｍ^３、より好ましくは１０ｎｍ^３〜０．１μｍ^３、さらに好ましくは１０ｎｍ^３〜０．００１μｍ^３の大きさのドメインを形成してミクロ相分離した場合に、より効果を奏する。
また、光触媒（ａ）が、表面エネルギーの高いバインダー樹脂（Ｂ’）と相分離状態にあるアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）相中に存在した状態は、トップコート層の表面により多く光触媒（ａ）が存在することができるため好ましい。
【００９４】
本発明におけるアルキル基含有シリコーン（ＢＡ）と相分離する表面エネルギーの高いバインダー樹脂（Ｂ’）としては、上述したフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）が、その骨格を成すシロキサン結合（−Ｏ−Ｓｉ−）は光触媒作用による酸化分解がおこらないため好ましく、アルキル基を含有しないフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１）が特に好ましい。
この際、上記フェニル基含有シリコーン（ＢＰ１）及び上記アルキル基含有シリコーン（ＢＡ）の各々の、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が、好ましくは１００〜１０，０００、より好ましくは５００〜６，０００、さらに好ましくは７００〜４，０００であるものを使用すると、上述したバインダー成分（Ｂ）はミクロ相分離構造を容易に形成するため好ましい。
【００９５】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）に使用する前述したバインダー成分（Ｂ）は、溶剤に溶けたタイプ、溶媒に分散したタイプ、溶媒と混合されていないタイプ（液体、固体）のいずれであっても良い。
本発明の光触媒組成物（Ｃ）において上記式（４）で示されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）は、反応性を有する基（式（４）中のＸ）を有しても、有さなくても良いが、反応性を有する基（式（４）中のＸ）を有する（即ち、式（４）において０＜ｒ）と、本発明の光触媒組成物（Ｃ）から得られる光触媒含有皮膜は、硬度や耐熱性、耐薬品性、耐久性等に優れたものとなるため好ましい。また、同様の理由から、式（５）において０＜ｔ、式（６）において０＜ｖが好ましい。
【００９６】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）において上記式（４）で示されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）が反応性を有する基（式（４）中のＸ）として、水酸基及び／又は加水分解性基を有する場合、従来公知の加水分解触媒や硬化触媒を、フェニル基含有シリコーン（ＢＰ）に対し、好ましくは０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％の割合で添加することができる。
該加水分解触媒としては、酸性のハロゲン化水素、カルボン酸、スルホン酸、酸性あるいは弱酸性の無機塩、イオン交換樹脂などの固体酸などが好ましい。また、加水分解触媒の量は、ケイ素原子上の加水分解性基１モルに対して好ましくは０．００１〜５モルの範囲内であることが好ましい。
【００９７】
また上記硬化触媒としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラート、酢酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドのごとき塩基性化合物類；トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、エタノールアミン類、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）−アミノプロピルトリメトキシシランのごときアミン化合物；テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネートのようなチタン化合物；アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩化アルミニウムのようなアルミニウム化合物；錫アセチルアセトナート、ジブチル錫オクチレート、ジブチル錫ジラウレートのような錫化合物；コバルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナートのごとき含金属化合物類；リン酸、硝酸、フタル酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリクロル酢酸のごとき酸性化合物類などが挙げられる。
【００９８】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）において上記式（４）で示されるフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）がＳｉ−Ｈ基を有する場合、多官能アルケニル化合物のごとき架橋剤を、Ｓｉ−Ｈ基に対しアルケニル基が好ましくは０．０１〜２当量、より好ましくは０．１〜１当量となるように添加することが好ましい。該多官能アルケニル合物としては、アルケニル基を有しＳｉ−Ｈ基と反応して硬化を促進するものであれば何でもよいが、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基などの炭素数２〜３０の１価不飽和炭化水素基を有するアルケニル基含有シリコーンが一般に用いられている。
【００９９】
また、Ｓｉ−Ｈ基と該多官能アルケニル化合物の反応を促進する目的で、触媒をフェニル基含有シリコーン（ＢＰ）と多官能アルケニル化合物の総量に対しに好ましくは１〜１００００ｐｐｍ、より好ましくは１〜１０００ｐｐｍの割合で添加しても良い。該触媒としては白金族触媒、すなわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金の化合物が適しているが、特に白金の化合物とパラジウムの化合物が好適である。白金の化合物としては、例えば塩化白金（ＩＩ）、テトラクロロ白金酸（ＩＩ）、塩化白金（ＩＶ）、ヘキサクロロ白金酸（ＩＶ）、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）アンモニウム、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）カリウム、水酸化白金（ＩＩ）、二酸化白金（ＩＶ）、ジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金（ＩＩ）、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−オレフィン錯体や白金の単体、アルミナやシリカや活性炭に固体白金を担持させたものが挙げられる。パラジウムの化合物としては、例えば塩化パラジウム（ＩＩ）、塩化テトラアンミンパラジウム（ＩＩ）酸アンモニウム、酸化パラジウム（ＩＩ）等が挙げられる。該白金族触媒はＳｉ−Ｈ基含有シリコーンと多官能アルケニル化合物の合計量に対し白金族金属の量で好ましくは５〜１０００ｐｐｍの範囲内で使用されるが、これは反応性、経済性及び所望の硬化速度等に応じて増減させることができる。また、所望により白金族触媒の活性を抑制し、ポットライフを延長させる目的で、各種の有機窒素化合物、有機リン化合物、アセチレン系化合物などの活性抑制剤を添加してもよい。
【０１００】
また、本発明の光触媒組成物（Ｃ）には、それから形成される光触媒含有皮膜の硬度や耐擦傷性、親水性を向上させる目的でシリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、希土類酸化物等の金属酸化物微粒子を粉末あるいはゾルの状態で添加しても良い。ただしこれら金属酸化物微粒子は、本発明におけるバインダー成分（Ｂ）の様なバインダーとしての能力はなく、光触媒と同様に皮膜の柔軟性（耐屈曲性、耐衝撃性）を低下させる。よって、該金属酸化物の添加量は、光触媒組成物（Ｃ）から形成される光触媒含有皮膜中において光触媒（Ａ）と金属酸化物の総重量が５０質量％以下とすることが好ましい。
【０１０１】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）は、無溶媒の状態（液体、固体）であっても溶媒に溶解あるいは分散した状態であっても良く、特に制限はないが、コーティング剤として用いる場合は、溶媒に対し溶解あるいは分散した状態が好ましい。この際、該光触媒組成物（Ｃ）中の変性光触媒（Ａ１）とバインダー成分（Ｂ）の総量は、好ましくは０．０１〜９５質量％、より好ましくは０．１〜７０質量％である。
【０１０２】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）に用いる溶媒としては、例えば水やエチレングリコール、ブチルセロソルブ、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エタノール、メタノール等のアルコール類、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化合物類、ジメチルスルホキシド、ニトロベンゼン等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は組み合わせて用いられる。
また、本発明の光触媒組成物（Ｃ）には、必要により通常、塗料に添加配合される成分、例えば顔料、充填剤、分散剤、光安定剤、湿潤剤、増粘剤、レオロジーコントロール剤、消泡剤、可塑剤、成膜助剤、防錆剤、染料、防腐剤等がそれぞれの目的に応じて選択、組み合わせて配合することができる。
【０１０３】
本発明の光触媒組成物（Ｃ）において、自己傾斜性が非常に高い場合（即ち、皮膜中の変性光触媒（Ａ）含有量（濃度）１００に対し、木材表面またはフィルムでない側である、露出面と接する表面近傍の相対濃度が好ましくは１５０以上、より好ましくは２００以上である場合）、該光触媒組成物（Ｃ）において変性光触媒（Ａ）とバインダー成分（Ｂ）の質量比が好ましくは（Ａ）／（Ｂ）＝０．１／９９．９〜４０／６０、より好ましくは（Ａ）／（Ｂ）＝０．１／９９．９〜３０／７０という変性光触媒（Ａ）の含有量が非常に少ない範囲においてさえ、形成される皮膜は、光照射による優れた光触媒活性を有する。また、この様に光触媒含有量が少ない皮膜はバインダー成分（Ｂ）本来の物性を発現するため、強度や柔軟性（耐屈曲性、耐衝撃性）等に優れたものとなる。
【０１０４】
本発明における機能性木材は、例えば上記光触媒組成物（Ｃ）を木材表面に塗布し、乾燥した後、所望により好ましくは２０℃〜５００℃、より好ましくは３０℃〜２５０℃の熱処理や紫外線照射等を行い、皮膜を形成することにより得ることができる。上記塗布方法としては、例えばスプレー吹き付け法、フローコーティング法、ロールコート法、刷毛塗り法、キャスティング法、スポンジ塗り法、ナイフコ−ト法、グラビアコ−ト法、スクリ−ンコ−ト法、彫刻ロ−ルコ−ト法、フレキソコ−ト法あるいはディッピング法等の公知の方法が挙げられる。
【０１０５】
この際、本発明の光触媒組成物（Ｃ）から形成される皮膜の膜厚は、好ましくは０．１〜２００μｍ、より好ましくは０．２〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５〜１０μｍである。
この際、皮膜の状態は、連続膜であっても、不連続膜、島状分散膜等の態様であっても構わない。
また、本発明の機能性木材は、本発明の光触媒組成物（Ｃ）を上述した方法で塗布したフィルムを木材表面に接着剤で貼着したり、ホットメルト接着法、ヒートシール法、ラミネート接着法等により固定化することにより得ることができる。ここで上記フィルム基材には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック製フィルムが好適に利用できる。
【０１０６】
本発明の機能性木材の表面層には、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎのような金属を添加することができる。前記金属を添加した表面層は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させることができる。
本発明の機能性木材を得るのに使用できる木材としては、天然木から得られる木材が好ましいが、天然木の薄板を張り合わせたもの、細かく砕いた天然木材を接合させたもの、さらには、天然木またはその粉砕物を圧縮加工したものであってもよい。木材の形状は、円柱、角柱、シ−ト、板、ブロック、球、ランダムなど、どのようなものであってもよく、特に限定されない。
【０１０７】
また、これらの木材表面には、絵柄が設けられていてもよい。絵柄を形成するインキには、有機顔料、無機顔料のいずれも使用でき、そのビヒクルとしては、熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂などの有機系樹脂やシロキサン樹脂も使用できる。さらに、絵つけ方法としては、グラビア印刷、オフセット印刷、シルク印刷、フレキソ印刷など が使用できる。また、本発明の組成物は、劣化した木材の再塗装にも有用である。木材には、下地調整、密着性向上、多孔質基材の目止め、平滑化、模様付けなどを目的として、予め表面処理を施すこともできる。表面処理としては、例えば、研磨、目止め、防虫処理などを挙げることができる。
【０１０８】
本発明の組成物による塗布操作は、木材の種類や状態、塗布方法によって異なる。例えば、用途に応じてプライマーを用いても用いなくてもよい。プライマーの種類は特に限定されず、木材と組成物との密着性を向上させる作用を有するものであればよく、木材の種類、使用目的に応じて選択する。プライマーは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また顔料などの着色成分を含むエナメルでも、該着色成分を含まないクリアでもよい。プライマーの種類としては、例えば、アルキド樹脂、アミノアルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリルシリコン樹脂、アクリル樹脂エマルジョン、エポキシ樹脂エマルジョン、ポリウレタンエマルジョン、ポリエステルエマルジョンなどを挙げることができる。また、これらのプライマーには、厳しい条件での木材と皮膜との密着性が必要な場合、各種の官能基を付与することもできる。このような能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミド基、アミン基、グリシジル基、アルコキシシリル基、エーテル結合、エステル結合などを挙げることができる。さらに、プライマーには、紫外線吸収剤、紫外線安定剤などが配合されていてもよい。また、本発明の組成物から形成した皮膜の表面には、皮膜の耐摩耗性や光沢をさらに高めることを目的として、例えば、米国特許第３，９８６，９９７号明細書、米国特許第４，０２７，０７３号明細書などに記載されたコロイダルシリカとシロキサン樹脂との安定な分散液のようなシロキサン樹脂系塗料などからなるクリア層を形成することもできる。
【０１０９】
本発明の機能性木材に備えられた皮膜に含まれる光触媒（ａ）はバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーの光（励起光）を照射することにより光触媒活性を示し、優れた防汚性、抗菌性、脱臭性等の機能を発現する。この際、光触媒（ａ）が、上述した式（１）で表されるトリオルガノシラン単位、式（２）で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、式（３）で表されるジオキシオルガノシラン単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも１種の変性剤化合物（ｂ）で変性処理された変性光触媒（Ａ）である場合、励起光照射により光触媒（ａ）粒子の近傍に存在する該変性剤化合物（ｂ）の珪素原子に結合した有機基（Ｒ）の少なくとも一部は、光触媒の分解作用により水酸基に置換される。その結果、本発明の皮膜表面の親水性が高まると共に、生成した水酸基同士が脱水縮合反応してシロキサン結合が生成した場合には、該皮膜の硬度が非常に高くなる。この様な状態は、本発明の様態において好ましい。
【０１１０】
また、バインダー成分（Ｂ）として上述したシリコーンを用いたときも同様に、励起光照射により光触媒（ａ）粒子の近傍に存在するシリコーンの珪素原子に結合した有機基の少なくとも一部は、光触媒の分解作用により水酸基に置換され、本発明の皮膜表面の親水性が高まると共に、生成した水酸基同士の脱水縮合反応が進行しシロキサン結合が生成した場合には、該皮膜の硬度が非常に高くなる。この様な状態は、本発明の様態において好ましい。
本発明において、光触媒（ａ）のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーの光の光源としては、太陽光や室内照明灯等の一般住宅環境下で得られる光の他、ブラックライト、キセノンランプ、水銀灯等の光が利用できる。
【０１１１】
【実施例】
以下の実施例、参考例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
実施例、参考例及び比較例中において、各種の物性は下記の方法で測定した。
１．粒径分布及び数平均粒子径
試料中の光触媒含有量が１−２０質量％となるよう適宜溶媒を加えて希釈し、湿式粒度分析計（日機装製マイクロトラックＵＰＡ−９２３０）を用いて測定した。
【０１１２】
２．重量平均分子量
ポリスチレン標品を用いて作成した検量線を用い、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求めた。
ＧＰＣの条件は以下の通りである。
・装置：東ソー製ＨＬＣ−８０２０ ＬＣ−３Ａ型クロマトグラフ
・カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｇ１０００Ｈ_ＸＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００Ｈ_ＸＬおよびＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００Ｈ_ＸＬ（いずれも東ソー製）を直列に接続して用いた。
・データ処理装置：島津製作所製ＣＲ−４Ａ型データ処理装置
・移動相：
テトラヒドロフラン（フェニル基含有シリコーンの分析に使用）
クロロホルム（フェニル基を含有しないシリコーンの分析に使用）
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．
・サンプル調製法
移動相に使用する溶媒で希釈（濃度は０．５〜２重量％の範囲で適宜調節した）して分析に供した。
【０１１３】
３．赤外線吸収スペクトル
日本分光製ＦＴ／ＩＲ−５３００型赤外分光計を用いて測定した。
４．^２９Ｓｉ核磁気共鳴の測定
日本電子製ＪＮＭ−ＬＡ４００を用いて測定した。
５．皮膜硬度
ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じ、鉛筆硬度（皮膜のすり傷）として求めた。
６．紫外線照射後の皮膜硬度
皮膜表面に、東芝ライテック製ＦＬ２０Ｓ ＢＬＢ型ブラックライトの光を７日間照射後、上記の方法（５）にて測定した。
−２型紫外線強度計｛受光部として、トプコン製ＵＤ−３６型受光部（波長３１０〜４００ｎｍの光に対応）を使用｝を用いて測定した紫外線強度が１ｍＷ／ｃｍ^２となるよう調整した。
【０１１４】
７．試料表面に対する水の接触角
試料表面に脱イオン水の滴を乗せ、２０℃で１分間放置した後、協和界面科学製ＣＡ−Ｘ１５０型接触角計を用いて測定した。
水の接触角が小さいほど、試料表面は親水性が高い。
８．紫外線照射前後の、試料表面の親水性（疎水性）の変化
試料の表面に、上記６の方法で紫外線を７日間照射した後、上記７の方法にて水の接触角を測定した。
９．耐候性（光沢保持率）
スガ試験器製ＤＰＷＬ−５Ｒ型デューパネル光コントロールウェザーメーターを使用して曝露試験（照射：６０℃４時間、暗黒・湿潤：４０℃４時間）を行った。曝露１０００時間後の６０°−６０°鏡面反射率を最終的な光沢値として測定し、これを初期光沢値で割り、この値を光沢保持率として算出した。
【０１１５】
１０．光触媒の傾斜構造の評価
試料をエポキシ樹脂（Ｑｕｅｔｏｌ８１２）に包埋後、独国Ｒｅｉｃｈｅｒｔ社製ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｎ型ミクロトームにより５０〜６０ｎｍの厚さの超薄切片を作成し、支持膜を張ったメッシュに積載した。続いて５分程度のＲｕＯ４蒸気染色を施した後、カーボン蒸着を行い検鏡用試料とし、ＴＥＭにより皮膜断面の観察を実施した。
ＴＥＭ観察の条件は以下の通りである。
・装置：日立製ＨＦ２０００型
・加速電圧：１２５ｋＶ
また、光触媒酸化チタンの存在場所は、Ｔｉ元素のＥＤＸ分析により解析した。
また、アクリルウレタン系のベースコート層を有するアルミ板上に形成させた皮膜の観察は、試料をＤＩＳＣＯエンジニアリングサービス製ＤＡＤ３２１型ダイシングソーで粗切断した後、ＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）加工を行い、ＴＥＭによる皮膜断面の観察を実施した。
ＦＩＢ加工条件は以下の通りである。
使用機器：日立製ＦＢ２０００型
加工条件：加速電圧（３０ｋＶ）
イオン源：Ｇａ
また、ＴＥＭ観察の条件は以下の通りである。
・装置：日立製ＨＦ２０００型
・加速電圧：２００ｋＶ
【０１１６】
１１．耐衝撃性
ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じ、デュポン式（５００ｇ×５０ｃｍ）で評価した。
１２．防汚性能
５ｃｍ×１ｃｍに切り出した試料を１２０ｍｌのガラス製瓶に入れ、たばこ５本分の煙を充満させ、試料にたばこのヤニを付着させた後、試料に東芝ライテック製ＦＬ２０ＳＢＬＢ型ブラックライトの光を４時間照射し、試料の外観（目視で評価）に基づき、防汚性能を以下の３段階で評価した。
このとき、トプコン製ＵＶＲ−２型紫外線強度計｛受光部として、トプコン製ＵＤ−３６型受光部（波長３１０〜４００ｎｍの光に対応）を使用｝を用いて測定した紫外線強度が２ｍＷ／ｃｍ^２となるよう調整した。
○：たばこのヤニによる着色が完全に消失
△：たばこのヤニによる着色が薄くなる
×：たばこのヤニによる着色に変化無し
【０１１７】
１３．紫外線照射による抗菌性試験
５ｃｍ×１ｃｍの試料を殺菌されたプラスチックシャ−レに入れ、大腸菌の菌数が約１０^５個／ｍｌとなるように調整された菌液を、それぞれのシャ−レ中の試料に０．５ｍｌずつ滴下し、シャ−レをポリエチレンフィルムで覆い外気と遮断し、検体試料上の菌液の乾燥と外部からの菌の侵入を防止した。続いて、シャーレの外から東芝ライテック製ＦＬ２０ＳＢＬＢ型ブラックライトの光を４時間照射した後、シャ−レの試料から菌液を洗い出し、培地に移して、その生菌数を測定し、次式により求めた死滅率に基づき、抗菌性を以下の３段階で評価した。
死滅率＝｛（当初生菌数−試験後の生菌数）／当初生菌数｝×１００
○：死滅率８０％以上
△：死滅率２０％以上８０％未満
×：死滅率２０％未満
紫外線強度は、トプコン製ＵＶＲ−２型紫外線強度計｛受光部として、トプコン製ＵＤ−３６型受光部（波長３１０〜４００ｎｍの光に対応）を使用｝を用いて測定した紫外線強度が２ｍＷ／ｃｍ^２となるよう調整した。
【０１１８】
１４．耐光性
試料に東芝ライテック製ＦＬ２０ＳＢＬＢ型ブラックライトの光を３０日間照射後、試料の外観（目視で評価）に基づき、耐光性を以下の３段階で評価した。
このとき、日本国トプコン製ＵＶＲ−２型紫外線強度計｛受光部として、日本国トプコン製ＵＤ−３６型受光部（波長３１０〜４００ｎｍの光に対応）を使用｝を用いて測定した紫外線強度が１ｍＷ／ｃｍ２となるよう調整した。
○：外観変化なし
△：光触媒層の剥がれが若干生じる
×：部材の部分的分解
【０１１９】
［参考例１］
フェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）の合成。
【０１２０】
還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にいれたジオキサン７８ｇにフェニルトリクロロシラン２６．０ｇを添加した後、室温にて約１０分間撹拌した。これに水３．２ｇとジオキサン１２．９ｇからなる混合液を、反応液を１０〜１５℃に保ちながら約３０分かけて滴下した後、さらに１０〜１５℃で約３０分撹拌し、続いて反応液を６０℃に昇温させ３時間撹拌した。得られた反応液を２５〜３０℃に降温させ、３９２ｇのトルエンを約３０分かけて滴下した後、再度反応液を６０℃に昇温させ２時間撹拌した。
【０１２１】
得られた反応液を１０〜１５℃に降温させ、メタノール１９．２ｇを約３０分かけて添加した。その後さらに２５〜３０℃にて約２時間撹拌を続行し、続いて反応液を６０℃に昇温させ２時間撹拌した。得られた反応液から６０℃で減圧下に溶媒を溜去することにより重量平均分子量３６００のラダ−骨格を有するフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）を得た。（得られたフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）には、ＩＲスペクトルにおけるラダ−骨格の伸縮振動に由来する吸収（１１３０ｃｍ^−１及び１０３７ｃｍ^−１）が観測された。）
また、^２９Ｓｉ核磁気共鳴の測定結果より求めた上記フェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）の式は、（Ｐｈ）_１（ＯＣＨ_３）_０．５８ＳｉＯ_１．２１であった。（ここでＰｈはフェニル基を表す。）
【０１２２】
［参考例２］
アルキル基含有シリコーン（ＢＡ−１）の合成。
【０１２３】
還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器に入れたメタノール３００ｇにメチルトリメトキシシラン１３６ｇ（１モル）、及びジメチルジメトキシシラン１２０ｇ（１モル）を添加した後、室温にて約１０分間撹拌した。これに氷冷下で、０．０５Ｎの塩酸水溶液１２．６ｇ（０．７モル）とメタノール６３ｇからなる混合液を、約４０分かけて滴下し、加水分解を行った。滴下終了後、さらに１０℃以下で約２０分、室温で６時間それぞれ撹拌した。
その後、得られた反応液から６０℃で減圧下に溶媒を溜去することにより重量平均分子量３６００のアルキル基含有シリコーン（ＢＡ−１）を得た。得られたアルキル基含有シリコーン（ＢＡ−１）の構造を^２９Ｓｉ核磁気共鳴によって測定したところ、Ｔ構造とＤ構造を示すシグナルが確認され、その比率はＴ構造：Ｄ構造＝１：１であった。
また、^２９Ｓｉ核磁気共鳴の測定結果より求めた上記アルキル基含有シリコーン（ＢＡ−１）の平均組成式は、（ＣＨ_３）_１．５（ＯＣＨ_３）_０．２７ＳｉＯ_１．１２であった。
【０１２４】
［参考例３］
シリコーン組成物（Ｂ−１）の調整。
参考例１で合成したフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）６ｇと参考例２で合成したアルキル基含有シリコーン（ＢＡ−１）３ｇを混合したものに、トルエン１４．７ｇ、イソプロパノール２９．８ｇ、ブチルセロソルブ１５．１ｇを添加し、室温で撹拌する事によりバインダー成分（Ｂ−１）の溶液を得た。
また、各々の組成物の平均組成式より、上記バインダー成分（Ｂ−１）の平均組成式は、（Ｐｈ）_０．６７（ＣＨ_３）_０．５（ＯＣＨ_３）_０．４７ＳｉＯ_１．１８と計算できる。（ここでＰｈはフェニル基を表す。）
【０１２５】
［参考例４］
還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にいれたＴＫＳ−２５１｛酸化チタンオルガノゾルの商品名（テイカ製）、分散媒：トルエンとイソプロパノールの混合溶媒、ＴｉＯ２濃度２０重量％、平均結晶子径６ｎｍ（カタログ値）｝４０ｇにビス（トリメチルシロキシ）メチルシランの２０重量％トルエン溶液４０ｇを５０℃にて約５分かけて添加し、さらに５０℃で１２時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な変性光触媒オルガノゾル（Ａ−１）を得た。この時、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシランの反応に伴い生成した水素ガス量は２３℃において７１８ｍｌであった。また、得られた変性酸化チタンオルガノゾルをＫＢｒ板上にコーティングしＩＲスペクトルを測定したところ、Ｔｉ−ＯＨ基の吸収（３６３０〜３６４０ｃｍ^−１）の消失が観測された。
【０１２６】
また、図１、図２にそれぞれ変性処理前のＴＫＳ−２５１及び得られた変性光触媒オルガノゾル（Ａ−１）の粒径分布を示す。得られた変性光触媒オルガノゾル（Ａ−１）の粒径分布は単一分散（数平均粒子径は２５ｎｍ）であり、さらに変性処理前のＴＫＳ−２５１の単一分散（数平均粒子径は１２ｎｍ）の粒径分布が完全に消失していることが分かる。
続いて、参考例３で調整したシリコーン成分（Ｂ−１）の溶液６８ｇに上記変性光触媒オルガノゾル（Ａ−１）２０ｇを室温にて撹拌下において添加し、さらに硬化触媒（ジラウリル酸ジブチル錫）０．５ｇを攪拌下に添加して光触媒組成物（Ｃ−１）を得た。
【０１２７】
５０ｍｍ×６０ｍｍに裁断した厚さ１ｍｍのアルミ板（ＪＩＳ，Ｈ，４０００（Ａ１０５０Ｐ））にマイティラック白｛アクリルウレタン樹脂塗料（２液混合型）の商品名（日本ペイント製）｝をスプレー塗布し、室温にて３日間乾燥した。得られたアクリルウレタン塗装を行ったアルミ板に上記光触媒組成物（Ｃ−１）を膜厚が２μｍとなるようにスプレー塗布した後、室温で１時間乾燥し、１５０℃で３０分加熱する事により、光触媒皮膜を有する試験板（Ｄ−１）を得た。
【０１２８】
得られた光触媒皮膜を有する試験板（Ｄ−１）をＦＩＢ加工し、ＴＥＭによる皮膜断面の観察を行った結果を図３（ａ）の写真に示す。また、図３（ａ）の写真のイラストレーションが図３（ｂ）である。変性光触媒粒子（図３（ｂ）中の参照番号１で示す）を含む光触媒皮膜（図３（ｂ）中の参照番号２で示す）と、基材である、顔料酸化チタン（図３（ｂ）中の参照番号４で示す）を含むアクリルウレタン皮膜（図３（ｂ）中の参照番号３で示す）との界面には変性光触媒粒子は存在せず、光触媒皮膜表面は全て変性光触媒粒子で覆われていることが観察された。
【０１２９】
得られた光触媒皮膜を有する試験板（Ｄ−１）の鉛筆硬度はＨであり、水との接触角は１０５゜であった。また、耐衝撃性試験は合格した。
また、得られた光触媒皮膜を有する試験板（Ｄ−１）の紫外線（ブラックライト）照射後の鉛筆硬度は５Ｈ以上であり、水の接触角は０゜であった。
さらに、デューパネル光コントロールウェザーメーターによる曝露試験（１０００時間後）による光沢保持率は９８％であり、非常に良好な耐候性を示した。
【０１３０】
続いて、光触媒組成物（Ｃ−１）をエポキシ樹脂（Ｑｕｅｔｏｌ８１２）上にスプレー塗布した後、室温で２日間乾燥し、続いて５０℃にて３日間加熱することにより平滑な光触媒皮膜を有するエポキシ樹脂（Ｄ−２）を得た。
得られた光触媒皮膜を有するエポキシ樹脂（Ｄ−２）をエポキシ樹脂（Ｑｕｅｔｏｌ８１２）に包埋後、ミクロトームにより５０〜６０ｎｍの厚さの超薄切片を作成し、ＲｕＯ_４でフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）を染色した後、ＴＥＭによる皮膜断面の観察を行った結果を図４（ａ）の写真に示す。また、図４（ａ）の写真のイラストレーションが図４（ｂ）である。
【０１３１】
変性光触媒粒子（図４（ｂ）中の参照番号１で示す）を含む光触媒皮膜（図４（ｂ）中の参照番号２で示す）と基材であるエポキシ樹脂（図４（ｂ）中の参照番号５で示す）との界面には変性光触媒粒子はほとんど存在せず、光触媒皮膜表面は全て変性光触媒粒子で覆われていることが観察された。
また、図４（ｂ）中の参照番号５（ｂ）で示す部分が、変性光触媒粒子相１と変性光触媒粒子を含まないバインダー相７との境界部分で、その部分を拡大した写真が図５（ａ）である。また、図５（ａ）の写真のイラストレーションが図５（ｂ）である。
【０１３２】
図５（ａ）には、変性光触媒粒子（図５（ｂ）中の参照番号１で示す）を含むバインダー相と変性光触媒粒子を含まないバインダー相（図５（ｂ）中の参照番号７で示す）が存在することが観察できる。また、変性光触媒粒子を含まないバインダー相（図５（ｂ）中の参照番号７で示す）では、ＲｕＯ_４で染色されたフェニル基含有シリコーンと染色されていないアルキル基含有シリコーンがミクロ相分離構造を有して存在していることが観察できる。
【０１３３】
［参考例５］
変性光触媒オルガノゾル（Ａ−１）２０ｇの代わりに変性処理をしていないＴＫＳ−２５１の１０ｇを用いた以外は、参考例４と同様の操作を行い光触媒組成物（Ｃ−２）を得た。
得られた光触媒組成物（Ｃ−２）を用い、参考例４と同様の操作を行って光触媒皮膜（酸化チタン含量は参考例４と同量）を有する試験板（Ｄ−３）を得た。
得られた光触媒皮膜を有する試験板（Ｄ−３）の鉛筆硬度はＨであり、水との接触角は９７゜であった。
また、得られた光触媒皮膜を有する試験板（Ｄ−３）の紫外線（ブラックライト）照射後の鉛筆硬度は３Ｈであり、水の接触角は９４゜であった。
さらに、デューパネル光コントロールウェザーメーターによる２００時間の曝露試験で、光沢保持率は１０％以下となり、チョーキング現象が観察された。
【０１３４】
続いて、上記光触媒組成物（Ｃ−２）をエポキシ樹脂（Ｑｕｅｔｏｌ８１２）上にスプレー塗布した後、室温で２日間乾燥し、続いて５０℃にて３日間加熱することにより平滑な光触媒皮膜を有するエポキシ樹脂（Ｄ−４）を得た。
得られた光触媒皮膜を有するエポキシ樹脂（Ｄ−４）をエポキシ樹脂（Ｑｕｅｔｏｌ８１２）に包埋後、ミクロトームにより５０〜６０ｎｍの厚さの超薄切片を作成し、ＲｕＯ_４でフェニル基含有シリコーン（ＢＰ１−１）を染色した後、ＴＥＭによる皮膜断面の観察を行った結果を図６（ａ）の写真に示す。また図６（ａ）の写真のイラストレーションが図６（ｂ）である。
【０１３５】
変性光触媒粒子（図６（ｂ）中の参照番号１で示す）を含む光触媒皮膜（図６（ｂ）中の参照番号２で示す）と、基材であるエポキシ樹脂（図６（ｂ）中の参照番号５で示す）との界面には変性光触媒粒子が多く存在し、光触媒皮膜の露出表面は全て変性光触媒粒子の存在しないアルキル基含有シリコーン（図６（ｂ）中参照番号８で示す）で覆われており、光触媒活性の発現が期待できないことが観察された。
【０１３６】
［実施例１］
１０５℃で乾燥させたベイマツ薄板（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ×０．５ｍｍ）表面に参考例４で調整した光触媒組成物（Ｃ−１）を乾燥膜厚が約３μｍとなるように塗布し、１５０℃で１０分間熱処理した後、東芝ライテック製ＦＬ２０ＳＢＬＢ型ブラックライトの光［トプコン製ＵＶＲ−２型紫外線強度計（受光部：トプコン製ＵＤ−３６型受光部）を用いて測定した紫外線強度が２ｍＷ／ｃｍ^２となるよう調整］５日間照射して機能性木材（Ｅ−１）を作成した。
この試料（Ｅ−１）の防汚性能は非常に良好な結果（○）であった。また、抗菌性能も非常に良好な結果（○）となった。さらに、耐光性も非常に良好（○）であった。
また、耐光性試験後の試料（Ｅ−１）の防汚性能、抗菌性能も非常に良好な結果（○）を維持していた。
【０１３７】
［比較例１］
未処理の１０５℃で乾燥させたベイマツ薄板（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ×０．５ｍｍ）を用いて、その防汚性能、抗菌性能を評価したところ、両性能とも非常に悪い結果（×）であった。
【０１３８】
［比較例２］
参考例４で調整した光触媒組成物（Ｃ−１）の代わりに参考例５で調整した光触媒組成物（Ｃ−２）を使用した以外は実施例１と同様に実施し、機能性木材（Ｅ−２）を得た。
この試料（Ｅ−２）の防汚性能および抗菌性能は悪い結果（×）であった。また、耐光性も非常に悪い結果（×）であった。
【０１３９】
［比較例３］
１０５℃で乾燥させたベイマツ薄板（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ×０．５ｍｍ）表面に市販の光触媒コーティング液であるＳＴ−Ｋ０３（石原産業（株）製）を乾燥膜厚が約０．３μｍとなるように塗布し、１５０℃で１０分間熱処理した後、東芝ライテック製ＦＬ２０ＳＢＬＢ型ブラックライトの光［トプコン製ＵＶＲ−２型紫外線強度計（受光部：トプコン製ＵＤ−３６型受光部）を用いて測定した紫外線強度が２ｍＷ／ｃｍ^２となるよう調整］５日間照射して機能性木材（Ｅ−３）を作成した。
この試料（Ｅ−３）の防汚性能および抗菌性能共に非常に良好な結果（○）を示した。しかし、耐光性は非常に悪い結果（×）であった。
【０１４０】
【発明の効果】
本発明は、生活環境下の光により、木材自体を劣化すること無しに、長期間にわたり優れた防汚性、抗菌性を発現する機能性木材を、煩雑な工程を必用とせずに提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、変性処理前のＴＫＳ２５１（市販の酸化チタンオルガノゾル）の粒径分布を、湿式粒度分析計を使用して測定した結果を示す図である。
【図２】図２は、参考例４で上記ＴＫＳ−２５１を変性処理して得られた変性光触媒オルガノゾル（Ａ−１）の粒径分布を、湿式粒度分析計を使用して測定した結果を示す図である。
【図３】図３（ａ）は、参考例４で得られた光触媒含有皮膜を有する試験板（Ｄ−１）の断面のＴＥＭ写真である。
図３（ｂ）は、図３（ａ）のイラストレーションである。
【図４】図４（ａ）は、参考例４で得られた光触媒含有皮膜を有するエポキシ樹脂（Ｄ−２）の断面のＴＥＭ写真である。
図４（ｂ）は、図４（ａ）のイラストレーションである。
【図５】図５（ａ）は、図４（ａ）のＴＥＭ写真の一部を拡大した写真である。
図５（ｂ）は、図５（ａ）のイラストレーションである。
【図６】図６（ａ）は、参考例５で得られた光触媒含有皮膜を有するエポキシ樹脂（Ｄ−３）の断面のＴＥＭ写真である。
図６（ｂ）は、図６（ａ）のイラストレーションである。
【符号の説明】
１ 変性光触媒粒子
２ 光触媒含有皮膜
３ アクリルウレタン皮膜
４ 顔料である酸化チタン
５ エポキシ樹脂
５（ｂ） 変性光触媒粒子相１と変性光触媒粒子を含まないバインダー相７との境界部分で、その拡大図を図５（ｂ）に示す
６ 包埋用エポキシ樹脂
７ 変性光触媒粒子を含まないバインダー相
８ アルキル基含有シリコーン[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
TECHNICAL FIELD The present invention relates to functional wood that decomposes the causative substances and attached bacteria by photocatalysis before dirt penetrates the wood, and also has a deodorizing effect.
[0002]
[Prior art]
Traditionally, wood has been used for building materials such as benches, decks, pillars, handrails, wall materials, tiles, bridges, etc., indoors and outdoors, furniture such as desks, tables, chairs, closets, bowls, chopsticks, and chopping boards. It has been used as kitchen utensils, footwear such as clogs and sandals. However, wood itself is susceptible to corrosion by sunlight, wind and rain, contamination by propagation of bacteria, pollution by exhaust gas and dust, etc., and it has been difficult to purify once contaminated wood.
[0003]
On the other hand, titanium oxide has a photocatalytic function and emits NOx_,Recent research has revealed that it exerts a function of decomposing and detoxifying harmful substances such as SOx and dioxin, or various harmful bacteria such as Escherichia coli and MRSA (mesitylin-resistant Staphylococcus aureus). It is used for applications such as.
Recently, especially in nursery schools, schools, nursing homes, etc., non-inorganic interiors with a natural atmosphere are preferred, and at the same time hygiene is required, so that natural wood is not degraded and the texture is not impaired. Further, there is a demand for a method of performing antifouling and antibacterial treatment without using paints and chemicals such as antiseptics and insect repellents in consideration of human body and environment.
Therefore, it has been considered to use a photocatalyst such as titanium oxide to impart a self-cleaning effect to wood.However, if the photocatalyst comes into direct contact with wood, the photocatalytic oxidation function will deteriorate the wood itself. Until, it has not been possible to directly apply a compound having a photocatalytic function to wood.
[0004]
In order to solve these problems, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-85354 discloses a method of protecting an organic member such as wood by applying a base coat using a compound which is hardly decomposable against the oxidative decomposition of a photocatalyst. There has been proposed a method of forming a protective layer and then applying a coating agent in which a photocatalyst is dispersed. Also, for example, JP-A-2001-79809 discloses an inorganic composite wood having a silicon dioxide layer chemically and / or physically on the surface and / or inside of the wood and further having a titanium oxide layer on its outer surface. A method of creating one has been proposed. However, since the work of applying a base coat or performing a pre-treatment becomes complicated, a method of obtaining a functional wood having a photocatalytic function with excellent durability without using a base coat or a pre-treatment has been required. Was desired.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-2000-85354
[Patent Document 2]
JP 2001-79809 A
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a functional wood to which an excellent antifouling / antibacterial effect and a deodorizing effect by a photocatalyst are provided without requiring a complicated process.
Specifically, it is an object of the present invention to provide a highly durable functional wood having a photocatalytic function without requiring a protective layer on the wood surface.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have intensively studied to solve the above-mentioned problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the present invention is as follows.
1. Wood comprising a coating containing a photocatalyst (a) and a binder component (B), wherein the concentration of the photocatalyst (a) in the coating increases from the surface in contact with the wood surface to the exposed surface. Functional wood.
2. Wood comprising a film having a film containing a photocatalyst (a) and a binder component (B), wherein the concentration of the photocatalyst (a) in the film increases from the surface in contact with the film substrate to the exposed surface. Functional wood characterized by that.
3. The functional wood according to invention 1 or 2, wherein the coating is formed from a photocatalyst composition (C) containing a photocatalyst (a) and a binder component (B).
[0008]
4. The photocatalyst (a) comprises a triorganosilane unit represented by the formula (1), a monooxydiorganosilane unit represented by the formula (2), a dioxyorganosilane unit represented by the formula (3), and Methylene fluoride (-CF₂-) A modified photocatalyst (A) modified with at least one modifier compound (b) selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of units; The functional wood according to any one of Inventions 1 to 3.
R₃Si- (1)
(Wherein, R is each independently a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a straight-chain or branched A fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydroxyl group)
− (R₂SiO)-(2)
(In the formula, R is as defined in the formula (1).)
[0009]
Embedded image

[0010]
(In the formula, R is as defined in the formula (1).)
5. The functional wood according to any one of Inventions 1 to 4, wherein the binder component (B) contains a phenyl group-containing silicone (BP) represented by the following formula (4).
R¹ _pR² _qX_rSiO_{(4-pqr) / 2}          (4)
(Wherein each R¹Represents a phenyl group;²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom.
And p, q and r are 0 <p <4, 0 ≦ q <4, 0 ≦ r <4, and 0 <(p + q + r) <4, and 0.05 ≦ p / (p + q) ≦ 1. is there. )
[0011]
6. The functional wood according to invention 5, wherein the phenyl group-containing silicone (BP) is a phenyl group-containing silicone (BP1) having no alkyl group and represented by the following formula (5).
R¹ _sX_tSiO_{(4-st) / 2}          (5)
(Wherein, R1 represents a phenyl group, and X is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms. S and t are 0 <s <4, 0 ≦ t <4, and 0 <(s + t) <4.)
[0012]
7. The functional wood according to invention 5, wherein the binder component (B) further contains an alkyl group-containing silicone (BA) represented by the following formula (6).
R² _uX_vSiO_{(4-uv) / 2}              (6)
(Where R²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. U and v are 0 <u <4, 0 ≦ v <4, and 0 <(u + v) <4. )
[0013]
8. The binder component (B) contains a phenyl group-containing silicone (BP1) containing no alkyl group represented by the formula (5) and an alkyl group-containing silicone (BA) represented by the formula (6). Functional wood according to any one of inventions 1 to 4, characterized in that:
R¹ _sX_tSiO_{(4-st) / 2}              (5)
(Where R¹Represents a phenyl group, and X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. . s and t are 0 <s <4, 0 ≦ t <4, and 0 <(s + t) <4. )
R² _uX_vSiO_{(4-uv) / 2}              (6)
(Where R²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. u and v are 0 <u <4, 0 ≦ v <4, and 0 <(u + v) <4. )
[0014]
9. The alkyl group-containing silicone (BA) has a monooxydiorganosilane unit (D) represented by the formula (7) and a dioxyorganosilane unit (T) represented by the formula (8). Functional wood according to invention 7 or 8.
− (R² ₂SiO)-(7)
(Where R²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms.
[0015]
Embedded image

[0016]
(Where R²Is as defined in equation (7). )
10. The functional wood according to any one of Inventions 7 to 9, wherein the phenyl group-containing silicone (BP) and the alkyl group-containing silicone (BA) are films having a phase-separated structure.
11. The functional wood according to invention 10, wherein the photocatalyst (a) is present in the alkyl group-containing silicone (BA) phase.
12. The functional wood according to invention 4, wherein the modified photocatalyst (A) has a number average particle size of 400 nm or less.
[0017]
13. The functional wood according to invention 4, wherein the modifier compound (b) is a Si-H group-containing silicon compound (b1) represented by the formula (9).
H_xR_ySiO_{(4-xy) / 2}  (9)
(In the formula, R is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a linear or branched carbon group having 1 to 30 carbon atoms. Represents a fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydroxyl group, wherein x and y are 0 <x <4,0. <Y <4, and (x + y) ≦ 4.)
[0018]
14． The Si-H group-containing silicon compound (b1) is a mono-Si-H group-containing compound represented by the formula (10), a compound having both ends Si-H groups represented by the formula (11), a formula (12) 14. The functional wood according to invention 13, which is at least one compound selected from the group consisting of H silicone represented by the formula:
[0019]
Embedded image

[0020]
(Where R³Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, It represents a chain or branched C1-C30 fluoroalkyl group, a phenyl group, or a siloxy group represented by the formula (13).
-O- (R⁴ ₂SiO)_m-SiR⁴ ₃  ... (13)
(Where R⁴Are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Represents a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a phenyl group. Further, m is an integer, and 0 ≦ m ≦ 1000. ))
H- (R³ ₂SiO)_n-SiR³ ₂-H (11)
(Where R³Is as defined in equation (10). n is an integer, and 0 ≦ n ≦ 1000. )
(R³HSiO)_a(R³ ₂SiO)_b(R³ ₃SiO_1/2)_c  ... (12)
(Where R³Is as defined in equation (10). a is an integer of 1 or more, b is an integer of 0 or more, (a + b) ≦ 10000, and c is 0 or 2. However, when (a + b) is an integer of 2 or more and c = 0, the H silicone of the formula (12) is a cyclic silicone, and when c = 2, the H silicone of the formula (12) is a chain silicone. Silicone. )
[0021]
15. 3. The functional wood according to the invention 1 or 2, wherein the binder component (B) in the coating forms a phase separation structure.
16. 3. The functional wood according to the invention 1 or 2, wherein the functional wood exhibits photocatalytic activity when irradiated with light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst (a) contained in the coating.
17. By irradiating light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst (a) contained in the film, at least a part of the organic groups bonded to the silicon atoms present near the photocatalyst (a) particles has a hydroxyl group and a hydroxyl group. Functional wood according to any of inventions 4, 5, 7, and 8, characterized in that the functional wood is substituted with a siloxane bond.
18. A photocatalyst composition (C) containing a photocatalyst (a) and a binder component (B), wherein the photocatalyst coating composition for functional wood forms the film according to the first or second aspect of the present invention.
[0022]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The functional wood of the present invention is wood provided with a film containing a photocatalyst (a) and a binder component (B) or wood provided with a film containing a film containing a photocatalyst (a) and a binder (B). It is characterized in that the concentration of the photocatalyst (a) in the coat layer increases from the surface in contact with the wood surface or the film to the exposed surface.
[0023]
At this time, when the relative concentration of the photocatalyst content (concentration) of the entire film is 100 or more in the vicinity of the surface side in contact with the exposed surface, the effect of improving the photocatalytic ability and the hydrophilizing ability is exhibited, and the antifouling effect Is preferred. The relative concentration near the surface side is more preferably 150 or more, and further preferably 200 or more. In addition, it is preferable that the relative concentration in the vicinity of the wood surface or the surface in contact with the film is 50 or less from the viewpoint of the effect of preventing interface deterioration. The relative density near the wood surface or the surface in contact with the film is more preferably 10 or less, and further preferably 0.
[0024]
Further, the concentration of the photocatalyst (a) in the coating in the present invention may be gradually increased from the surface in contact with the wood or the film toward the other exposed surface, or may be simply increased in the surface in contact with the wood or the film. The photocatalyst concentration may be low, the photocatalyst concentration on the other exposed surface may be high, and the change during that period may be discontinuous.
Further, in the film of the present invention, it is preferable that there is no clear film interface as occurs when a photocatalytic layer is applied on the protective layer. That is, when there is no clear film interface as occurs when the photocatalyst layer is applied on the protective layer, the photocatalyst is firmly fixed in the film, and the problem such as separation of the photocatalyst does not occur.
[0025]
In the present invention, the photocatalyst (a) refers to a substance that causes an oxidation or reduction reaction by light irradiation. That is, when light (excitation light) having an energy (that is, shorter wavelength) larger than the energy gap between the conduction band and the valence band is irradiated, excitation of the electrons in the valence band (photoexcitation) occurs, A substance that can generate conduction electrons and holes. At this time, various chemical reactions are performed using the reducing power of the electrons generated in the conduction band and / or the oxidizing power of the holes generated in the valence band. be able to. For example, oxidative decomposition reactions of various organic substances can be mentioned. Therefore, if this photocatalyst is immobilized on the surface of wood, various organic substances (contaminants) attached to the wood can be oxidatively decomposed using light energy, and the surface of the wood is kept hydrophilic. It becomes possible.
[0026]
In the present invention, the term "photocatalytic activity" means that an oxidation or reduction reaction is caused by light irradiation. It is possible to determine whether or not the surface has photocatalytic activity by measuring the degradability of an organic substance such as a dye at the time of light irradiation on the material surface. The surface having photocatalytic activity exhibits excellent decomposition activity of contaminating organic substances and contamination resistance.
[0027]
In the present invention, the photocatalyst (a) which can be usefully used to make the surface of wood photocatalytically active is, for example, TiO.₂, ZnO, SrTiO₃, CdS, GaP, InP, GaAs, BaTiO₃, BaTiO₄, BaTi₄O₉, K₂NbO₃, Nb₂O₅, Fe₂O₃, Ta₂O₅, K₃Ta₃Si₂O₃, WO₃, SnO₂, Bi₂O₃, BiVO₄, NiO, Cu₂O, SiC, MoS₂, InPb, RuO₂, CeO₂, Ta₃N₅And layered oxides containing at least one element selected from Ti, Nb, Ta and V (for example, JP-A-62-74452, JP-A-2-172535, JP-A-7-24329). JP-A-8-89799, JP-A-8-89800, JP-A-8-89804, JP-A-8-198061, JP-A-9-248465, JP-A-10-99694 And JP-A-10-244165).
[0028]
Among these photocatalysts (a), TiO₂(Titanium oxide) is preferable because it is harmless and has excellent chemical stability. As titanium oxide, any of anatase, rutile and brookite can be used.
When a visible light responsive photocatalyst capable of exhibiting photocatalytic activity and / or hydrophilicity by irradiation with visible light (for example, a wavelength of about 400 to 800 nm) is selected as the photocatalyst (a) used in the present invention, The functional wood of the present invention is preferable because it can exhibit antifouling performance, organic substance decomposition action, and the like even in places such as indoors where ultraviolet rays are not sufficiently irradiated.
[0029]
The above visible light responsive photocatalyst can be used as long as it exhibits photocatalytic activity and / or hydrophilicity with visible light. For example, TaON, LaTiO₂N, CaNbO₂N, LaTaON₂, CaTaO₂Oxynitride compounds such as N (see, for example, JP-A-2002-66333) and Sm₂Ti₂S₂O₇Oxysulfide compounds (for example, see JP-A-2002-233770), Ta₃N₅Nitride compounds such as CaIn₂O₄, SrIn₂O₄, ZnGa₂O₄, Na₂Sb₂O₆And oxides containing metal ions in the d10 electronic state (see, for example, JP-A-2002-59008), and titanium oxide precursors (titanium oxysulfate, titanium chloride, alkoxytitanium) in the presence of a nitrogen-containing compound such as ammonia or urea. Etc.) and nitrogen-doped titanium oxide obtained by firing high surface titanium oxide (for example, JP-A-2002-29750, JP-A-2002-87818, JP-A-2002-154823, JP-A-2001-207082) Sulfur-doped titanium oxide and titanium oxide obtained by calcining titanium oxide precursors (titanium oxysulfate, titanium chloride, alkoxytitanium, etc.) in the presence of sulfur compounds such as thiourea, etc. Oxygen-deficient titanium oxide obtained by heat treatment with No. 8219), and further obtained by treating the photocatalyst particles with a platinum halide compound (for example, see JP-A-2002-239353) or by treating with a tungsten alkoxide (see JP-A-2001-286755). A surface-treated photocatalyst and the like can be suitably mentioned.
[0030]
Among the above visible light responsive photocatalysts, oxynitride compounds and oxysulfide compounds have high photocatalytic activity by visible light and can be used particularly preferably.
Further, the above-mentioned photocatalyst (a) is preferably added or fixed with a metal such as Pt, Rh, Ru, Nb, Cu, Sn, Ni, Fe and / or an oxide thereof, or coated with porous calcium phosphate or the like. It can also be used as a photocatalyst (for example, see JP-A-10-244166).
The crystal particle diameter (primary particle diameter) of the photocatalyst (a) is preferably 1 to 400 nm, and more preferably a photocatalyst having a diameter of 1 to 50 nm is suitably selected.
As the form of the photocatalyst (a) of the present invention, any of powder, dispersion, and sol can be used.
[0031]
As the photocatalyst (a) of the present invention, it is preferable to use a modified photocatalyst (A) obtained by modifying the photocatalyst (a) with at least one type of modifier compound (b) described below.
In the present invention, the modification of the photocatalyst (a) means that at least one type of the modifier compound (b) described below is immobilized on the surface of the photocatalyst (a) particles. It is considered that the above-mentioned modifier compound is fixed to the surface of the photocatalyst particles by van der Waals force (physical adsorption), Coulomb force or chemical bonding. In particular, modification using a chemical bond is preferable because the interaction between the modifier compound and the photocatalyst is strong, and the modifier compound is firmly fixed to the surface of the photocatalyst particles.
[0032]
When the photocatalyst (a) of the present invention is used as the modified photocatalyst (A) to form a film containing the photocatalyst (a) on the wood surface or film of the present invention, the photocatalyst (a) in the film is used. Is very preferable, since the formation of a structure in which the concentration of the coating increases from the surface of the coating in contact with the wood surface or the film toward the other exposed surface becomes easy, particularly when combined with the binder component (B) described below. .
In the present invention, the properties of the photocatalyst (a) used for modification are important factors for the dispersion stability, film formability, and expression of various functions of the modified photocatalyst (A). That is, the photocatalyst (a) used for the modification of the present invention has a number average dispersed particle diameter of a mixture of primary particles and secondary particles (only primary particles or secondary particles may be used) of 400 nm or less. The photocatalyst is preferable because the surface characteristics of the photocatalyst after modification can be effectively used. In particular, when a photocatalyst having a number average dispersed particle diameter of 100 nm or less is used, the modified photocatalyst (A) formed and the coating of the present invention formed from the photocatalyst composition (C) containing the binder component (B) described below have a modified property. It is very preferable that the photocatalyst (A) can be efficiently present on the surface (exposed surface) of the film. More preferably, a photocatalyst (a) having a size of 80 nm or less and 3 nm or more, further preferably 50 nm or less and 3 nm or more is suitably selected.
[0033]
As the photocatalyst (a), it is preferable to use a photocatalyst sol instead of a photocatalyst powder for the following reasons. In general, powders composed of fine particles form secondary particles in which single crystal particles (primary particles) are strongly aggregated, so that many surface characteristics are wasted, but it is very difficult to disperse them into primary particles. It is. In contrast, in the case of a photocatalytic sol, the photocatalytic particles exist in a form close to the primary particles without dissolving, so that the surface characteristics can be effectively utilized, and the modified photocatalyst generated therefrom has dispersion stability, film forming property, etc. In addition to being excellent in the properties, various functions can be effectively exhibited, so that it can be preferably used. Here, the photocatalyst sol used in the present invention means that the photocatalyst particles are preferably in the range of 0.01 to 70% by mass, more preferably 0.1 to 50% by mass in water and / or an organic solvent, and are preferably primary particles and / or secondary particles. It is dispersed as secondary particles.
[0034]
Here, examples of the organic solvent used in the photocatalytic sol include alcohols such as ethylene glycol, butyl cellosolve, n-propanol, isopropanol, n-butanol, ethanol, and methanol; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. , Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, dimethylacetamide and dimethyl Examples include amides such as formamide, halogen compounds such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, nitrobenzene, and the like, and a mixture of two or more of these.
[0035]
Taking titanium oxide sol as an example of the photocatalyst sol, for example, titanium oxide hydrosol in which water is substantially used as a dispersion medium and titanium oxide particles are peptized therein can be used. (Here, “substantially using water as a dispersion medium” means that the dispersion medium contains about 80% by mass or more of water.) The preparation of such a sol is known and can be easily produced ( For example, see JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, JP-A-11-43327, and the like. For example, metatitanic acid produced by heating and hydrolyzing an aqueous solution of titanium sulfate or titanium tetrachloride is neutralized with aqueous ammonia, and the precipitated hydrous titanium oxide is filtered, washed, and dehydrated to obtain an aggregate of titanium oxide particles. Can be The aggregates are peptized under the action of nitric acid, hydrochloric acid, ammonia, or the like, and subjected to hydrothermal treatment or the like to obtain a titanium oxide hydrosol. In addition, as the titanium oxide hydrosol, one obtained by peptizing titanium oxide particles under the action of an acid or an alkali, or a dispersion stabilizer such as sodium polyacrylate as necessary without using an acid or an alkali, is used. Sols that are used and dispersed in water under strong shear can also be used. Further, anatase-type titanium oxide sol in which the particle surface is modified with a peroxo group, which has excellent dispersion stability even in an aqueous solution having a pH around neutrality, can be easily prepared, for example, by a method proposed in JP-A-10-67516. Obtainable.
[0036]
The titanium oxide hydrosol described above is commercially available as titania sol. (For example, "STS-02" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., "TO-240" manufactured by Tanaka Transcription Co., Ltd.)
The titanium oxide in the titanium oxide hydrosol is preferably at most 50% by mass, more preferably at most 30% by mass. More preferably, it is 30% by mass or less and 0.1% by mass or more.
The viscosity (20 ° C.) of such hydrosols is relatively low. In the present invention, the viscosity of the hydrosol is preferably in the range of about 0.05 mPa · s to 2000 mPa · s. It is more preferably from 0.5 mPa · s to 1000 mPa · s, and still more preferably from 1 mPa · s to 500 mPa · s.
[0037]
Further, for example, a cerium oxide sol (see, for example, JP-A-8-59235) or a layered oxide sol containing at least one element selected from the group consisting of Ti, Nb, Ta, and V (for example, see JP-A-9-59235) -25123, JP-A-9-67124, JP-A-9-227122, JP-A-9-227123, JP-A-10-259023, etc.). It is known as well as titanium oxide sol.
Further, a visible light responsive photocatalyst sol that can be suitably used in the present invention is also commercially available. (For example, "NTB-200" manufactured by Showa Denko KK, "TSS" manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[0038]
Further, a photocatalyst organosol in which an organic solvent is substantially used as a dispersion medium and photocatalyst particles are dispersed therein is, for example, a compound having phase transfer activity such as polyethylene glycol (such as a different first phase and a second phase). A third phase is formed at the interface with the phase, and the first phase, the second phase, and the third phase are treated with a compound that dissolves and / or solubilizes each other and diluted with an organic solvent (for example, JP-A-10-167727), a method of preparing a sol by dispersing and transferring in an organic solvent insoluble in water with an anionic surfactant such as sodium dodecylbenzenesulfonate (for example, JP-A-58-29863). Publication) and alcohols having a higher boiling point than water, such as butyl cellosolve, are added to the photocatalyst hydrosol, and then the water is removed by (reduced pressure) distillation or the like.A titanium oxide organosol in which an organic solvent is substantially used as a dispersion medium and titanium oxide particles are dispersed therein is commercially available (for example, “TKS-251” manufactured by Teica Corporation). Here, “substantially using an organic solvent as a dispersion medium” means that the dispersion medium contains about 80% by mass or more of an organic solvent.
[0039]
In the present invention, the at least one modifier compound (b) used to obtain the modified photocatalyst (A) is a triorganosilane unit represented by the formula (1) or a monooxy compound represented by the formula (2). A diorganosilane unit, a dioxyorganosilane unit represented by the formula (3), and methylene fluoride (—CF₂-) Selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of units;
R₃Si- (1)
(Wherein, R is each independently a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a straight-chain or branched A fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydroxyl group)
− (R₂SiO)-(2)
(In the formula, R is as defined in the formula (1).)
[0040]
Embedded image

[0041]
(In the formula, R is as defined in the formula (1).)
In the modified photocatalyst (A) in which the surface of the photocatalyst particles is modified with the modifier compound (b) having the above-mentioned structural unit, the surface energy of the particle surface becomes very small.
In the present invention, the modification treatment of the photocatalyst (a) with the modifier compound (b) is carried out in the presence or absence of water and / or an organic solvent, in the presence or absence of the photocatalyst (a) and the modifier compound ( b) is preferably mixed at a mass ratio of (a) / (b) = 1/99 to 99.9 / 0.1, more preferably (a) / (b) = 10/90 to 99/1. , Preferably at 0 to 200 ° C, more preferably at 10 to 80 ° C, or by changing the solvent composition of the mixture by (reduced pressure) distillation or the like.
[0042]
Here, in the case of performing the above-mentioned denaturation treatment, as an organic solvent that can be used, for example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, hexane, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as heptane, ethyl acetate, n-butyl acetate and the like Esters, alcohols such as ethylene glycol, butyl cellosolve, isopropanol, n-butanol, ethanol and methanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide And halogen compounds such as chloroform, methylene chloride and carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, nitrobenzene and the like, and a mixture of two or more thereof.
[0043]
Examples of the modifier compound (b) used to obtain the modified photocatalyst (A) of the present invention include a Si-H group, a hydrolyzable silyl group (alkoxysilyl group, hydroxysilyl group, halogenated silyl group, Acetoxysilyl groups, aminoxysilyl groups, etc.), epoxy compounds, acetoacetyl groups, thiol groups, acid anhydride groups, etc., reactive with photocatalyst particles (a), silicon compounds, fluoroalkyl compounds, fluoroolefin polymers, etc. Can be mentioned.
[0044]
Further, as another example of the modifier compound (b), the modifier compound (b) interacts with photocatalyst particles (a) such as a polyoxyalkylene group, a sulfonic acid group and a carboxyl group by van der Waals force, Coulomb force and the like. Examples thereof include a silicon compound having a structure, a fluoroalkyl compound, and a fluoroolefin polymer.
In the present invention, when the Si—H group-containing silicon compound (b1) represented by the composition formula (9) is used as the modifier compound (b), the surface of the photocatalyst particles can be modified very efficiently. preferable.
H_xR_ySiO_{(4-xy) / 2}  (9)
(In the formula, R is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a linear or branched carbon group having 1 to 30 carbon atoms. Represents a fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydroxyl group, wherein x and y are 0 <x <4,0. <Y <4, and (x + y) ≦ 4.)
[0045]
In the present invention, the modification of the photocatalyst (a) with the Si—H group-containing silicon compound (b1) represented by the above composition formula (9) is carried out in the presence or absence of water and / or an organic solvent. (A) and the Si-H group-containing silicon compound (b1) preferably have a mass ratio of (a) / (b1) = 1/99 to 99.9 / 0.1, and more preferably (a) / (b1). = 10/90 to 99/1, preferably at 0 to 200 ° C. Hydrogen gas is generated from the mixed solution by this modification operation, and when a photocatalyst sol is used as the photocatalyst (a), an increase in the average dispersed particle diameter is observed. Further, for example, when titanium oxide is used as the photocatalyst (a), the decrease of the Ti—OH group is reduced by 3630 to 3640 cm in the IR spectrum by the above modification operation.^-1Is observed as a decrease in absorption.
[0046]
From these facts, when the Si—H group-containing silicon compound (b1) represented by the above formula (9) is selected as the modifier compound (b), the modified photocatalyst (A1) of the present invention has a Si—H It is not a mere mixture of the group-containing silicon compound (b1) and the photocatalyst (a), but it is very preferable because it is possible to predict that some interaction accompanying a chemical reaction occurs between the two. In fact, the modified photocatalyst (A) obtained in this way is very excellent in dispersion stability, chemical stability, durability and the like in an organic solvent.
[0047]
In the present invention, the modification treatment of the photocatalyst (a) with the Si—H group-containing silicon compound (b1) represented by the above formula (9) is preferably performed using a dehydrocondensation catalyst for the Si—H group. It can also be carried out at 150 ° C.
In this case, the dehydrocondensation catalyst may be fixed to the photocatalyst (a) in advance by a method such as a photoreduction method, and may be modified with the Si—H group-containing silicon compound (b1). The photocatalyst (a) may be modified with the above-mentioned Si-H group-containing compound silicon (b1).
[0048]
Here, the dehydrocondensation catalyst for the Si-H group means a Si-H group and an active hydrogen group such as a hydroxyl group (Ti-OH group in the case of titanium oxide), a thiol group, an amino group, a carboxyl group, etc. present on the photocatalyst surface. Further, it refers to a substance that accelerates the dehydrocondensation reaction with water or the like. By using the dehydrocondensation catalyst, the surface of the photocatalyst can be modified under mild conditions.
[0049]
Examples of the dehydrocondensation catalyst include, for example, platinum group catalysts, that is, ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, a simple substance of platinum and its compound, and a simple substance of silver, iron, copper, cobalt, nickel, tin and the like and its compound. No. Of these, platinum group catalysts are preferred, and simple platinum and its compounds are particularly preferred.
Here, as the platinum compound, for example, platinum (II) chloride, tetrachloroplatinic acid (II), platinum chloride (IV), hexachloroplatinic acid (IV), ammonium hexachloroplatinum (IV), hexachloroplatinum (IV) Potassium, platinum (II) hydroxide, platinum (IV) dioxide, dichloro-dicyclopentadienyl-platinum (II), platinum-vinylsiloxane complex, platinum-phosphine complex, platinum-olefin complex and the like can be used. .
[0050]
In the Si—H group-containing silicon compound represented by the above formula (9) of the present invention, the Si—H group is a preferred functional group for modifying the photocatalyst under mild conditions with good selectivity. On the other hand, the hydrolyzable group can also be used for the modification of the photocatalyst, but in order to suppress the side reaction and improve the stability of the resulting modified photocatalyst, the smaller the content thereof, the better. preferable.
Examples of the Si—H group-containing silicon compound (b1) represented by the formula (9) that can be suitably used in the present invention include a mono-Si—H group-containing compound represented by the formula (10), At least one Si-H group-containing compound having no hydrolyzable silyl group selected from the group consisting of H-silicone compounds represented by Formula (12), Can be mentioned.
[0051]
Embedded image

[0052]
(Where R³Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, It represents a chain or branched C1-C30 fluoroalkyl group, a phenyl group, or a siloxy group represented by the formula (13).
-O- (R⁴ ₂SiO)_m-SiR⁴ ₃  ... (13)
(Where R⁴Are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Represents a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a phenyl group. Further, m is an integer, and 0 ≦ m ≦ 1000. ))
H- (R³ ₂SiO)_n-SiR³ ₂-H (11)
(Where R³Is as defined in equation (10). n is an integer, and 0 ≦ n ≦ 1000. )
(R³HSiO)_a(R³ ₂SiO)_b(R³ ₃SiO_1/2)_c  ... (12)
(Where R³Is as defined in equation (10). a is an integer of 1 or more, b is an integer of 0 or more, (a + b) ≦ 10000, and c is 0 or 2. However, when (a + b) is an integer of 2 or more and c = 0, the H silicone of the formula (12) is a cyclic silicone, and when c = 2, the H silicone of the formula (12) is a chain silicone. Silicone. )
[0053]
In the present invention, specific examples of the mono-Si-H group-containing compound represented by the above formula (10) include, for example, bis (trimethylsiloxy) methylsilane, bis (trimethylsiloxy) ethylsilane, bis (trimethylsiloxy) n-propylsilane , Bis (trimethylsiloxy) i-propylsilane, bis (trimethylsiloxy) n-butylsilane, bis (trimethylsiloxy) n-hexylsilane, bis (trimethylsiloxy) cyclohexylsilane, bis (trimethylsiloxy) phenylsilane, bis (triethylsiloxy) ) Methylsilane, bis (triethylsiloxy) ethylsilane, tris (trimethylsiloxy) silane, tris (triethylsiloxy) silane, pentamethyldisiloxane, 1,1,1,3,3,5,5-heptamethyltrisilo Sun, 1,1,1,3,3,5,5,6,6-nonamethyltetrasiloxane, trimethylsilane, ethyldimethylsilane, methyldiethylsilane, triethylsilane, phenyldimethylsilane, diphenylmethylsilane, cyclohexyldimethylsilane , T-butyldimethylsilane, di-t-butylmethylsilane, n-octadecyldimethylsilane, tri-n-propylsilane, tri-i-propylsilane, tri-i-butylsilane, tri-n-hexylsilane, triphenyl Examples thereof include silane, allyldimethylsilane, 1-allyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, chloromethyldimethylsilane, and 7-octenyldimethylsilane.
[0054]
Among these mono-Si-H group-containing compounds, bis (trimethylsiloxy) methylsilane, tris (trimethylsiloxy) methylsilane, and tris (trimethylsiloxy) methylsilane are preferred because of their high reactivity (dehydrogenation condensation reaction) and low surface energy during the modification treatment of the photocatalyst. (Trimethylsiloxy) silane, pentamethyldisiloxane, and the like having a siloxy group in the molecule and not having a phenyl group are preferably represented by the following formula (14).
[0055]
Embedded image

[0056]
(Wherein, R is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 1 to 30 carbon atoms, and 5 to 20 carbon atoms. R 1 is a cycloalkyl group, a linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or a group consisting of at least one siloxy group represented by the formula (13b), and R⁵At least one is a siloxy group represented by the formula (13b).
-O- (R^{4 '} ₂SiO)_m-SiR^{4 '} ₃  ... (13b)
(Where R^{4 '}Are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched fluoroalkyl having 1 to 30 carbon atoms. Represents a group. Further, m is an integer, and 0 ≦ m ≦ 1000. ))
[0057]
In the present invention, specific examples of the compound having a Si—H group at both ends represented by the above formula (11) include, for example, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,3,3,5 H-terminal polydimethylsiloxanes having a number average molecular weight of 50,000 or less, such as 1,5-hexamethyltrisiloxane and 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane; Number average molecular weight of 50,000 or less such as 3-tetraethyldisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexaethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7-octaethyltetrasiloxane H-terminal polydiethylsiloxanes, 1,1,3,3-tetraphenyldisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexaphenyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5 , 7,7-octa H-terminal polydiphenylsiloxanes having a number average molecular weight of 50,000 or less such as phenyltetrasiloxane, 1,3-diphenyl-1,3-dimethyl-disiloxane, 1,3,5-trimethyl-1,3,5-triphenyl H-terminal polyphenylmethylsiloxanes having a number average molecular weight of 50,000 or less, such as trisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenyl-tetrasiloxane, dimethylsilane and ethylmethyl Examples thereof include silane, diethylsilane, phenylmethylsilane, diphenylsilane, cyclohexylmethylsilane, t-butylmethylsilane, di-t-butylsilane, n-octadecylmethylsilane, and allylmethylsilane.
[0058]
Among these, the number average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 2000 or less, from the viewpoint of the reactivity (dehydrocondensation reaction) of the Si—H group and the low surface energy during the modification treatment of the photocatalyst. Preferably, an H-terminal polydialkylsiloxane of 1000 or less (formula (15)) can be suitably used as a compound having a Si-H group at both ends.
H- (R⁶ ₂SiO)_d-SiR⁶ ₂-H (15)
(Where R⁶Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or a linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms. d is an integer and 0 ≦ d ≦ 1000. )
[0059]
The H silicone represented by the above formula (12) used in the present invention has a number average molecular weight of preferably 5,000 or less, more preferably 5,000 or less, from the viewpoint of dispersion stability (prevention of aggregation of photocatalyst particles) during the modification treatment of the photocatalyst. H silicone of 2000 or less, more preferably 1000 or less can be suitably used.
[0060]
When a fluororesin (b2) having a structure represented by the general formula (20) is used as the modifier compound (b) used in the present invention, the modified photocatalyst (A) modified with the fluororesin is used. ) Is preferable because it is excellent in decomposing harmful substances and protecting organic substrates.
[0061]
Embedded image

[0062]
(Where A¹~ A⁵May be the same or different and each represents one selected from a fluorine atom, a hydrogen atom, a chlorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a halo-substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Y is a w-valent organic group having a molecular weight of 14 to 50,000 (a group having a w-valence other than bonding to the main chain of the organic group Y, preferably a group having a methylene fluoride unit, more preferably a perfluoroalkyl group) Group). V is at least one functional group selected from the group consisting of an epoxy group, a hydroxyl group, an acetoacetyl group, a thiol group, a cyclic acid anhydride group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a polyoxyalkylene group, and a hydrolyzable silyl group. Represents k is an integer of 0 or more and 1,000,000 or less, and 1 represents an integer of 1 or more and 100,000 or less. However, when k = 0, preferably A³~ A⁵At least one is a fluorine atom, more preferably A³, A⁴Both represent a fluorine atom. w is an integer of 1 to 20. )
[0063]
In the present invention, the modification of the photocatalyst (a) with the fluororesin (b2) represented by the formula (20) is carried out in the presence or absence of water and / or an organic solvent. The ratio of the system resin (b2) is preferably (a) / (b2) = 1/99 to 99.9 / 0.1, more preferably (a) / (b2) = 10/90 to 99/1. And preferably by mixing at 0 to 200 ° C., preferably by changing the solvent composition of the mixture by distillation (reduced pressure) or the like.
[0064]
Preferred examples of the above-mentioned fluororesin (b2) include, for example, perfluorocarbonsulfonic acid polymer fluororesin (b2 ') having a structure represented by the formula (21).
[0065]
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[0066]
(In the formula, x is an integer of 1 to 1,000,000, y represents an integer of 1 to 100,000, and m is an integer of 0 to 20, and n represents an integer of 0 to 20.)
In the modified photocatalyst (A) of the present invention, a preferable mode is that a mixture of primary particles and secondary particles of the modified photocatalyst (only primary particles or secondary particles may be used) has a number average dispersed particle diameter of 400 nm or less. And more preferably 1 nm or more and 100 nm or less, particularly preferably 5 nm or more and 80 nm or less. It is preferably in a sol state.
[0067]
When a modified photocatalyst sol having a number average dispersed particle size of 100 nm or less is used for the photocatalyst composition (C) of the present invention, the concentration of the modified photocatalyst particles is small near the wood surface or near the interface in contact with the film, and near the surface of the film. This is advantageous for forming a film which is anisotropically distributed in the surface direction such that it is largely distributed, and it is very preferable because there is no deterioration of the interface with the wood surface or the film due to the photocatalytic action and a film having a large photocatalytic activity is formed. Such a modified photocatalyst sol can be obtained by using the above-described photocatalyst sol as a photocatalyst to be modified with the modifier compound (b).
[0068]
Conventionally, a numerical value simply indicated as a particle size in titanium dioxide or the like is a primary particle size (crystallite size) in many cases, and is not a numerical value in consideration of a secondary particle size due to aggregation.
The photocatalyst composition (C) forming the film of the present invention is characterized by containing a photocatalyst (a) (preferably a modified photocatalyst (A)) and a binder component (B), and has a mass ratio of (a) / (B). ) Is preferably 0.1 / 99.9 to 90/10, and more preferably (a) / (B) is included in 1/99 to 50/50.
The modified photocatalyst (A) of the present invention is modified with a modifier compound (b) having a structure with very low surface energy {at least one selected from formulas (1) to (3) and methylene fluoride units}. Therefore, when forming a film, it has the property of easily moving to the surface of the film in contact with air.
[0069]
Here, by using a photocatalyst (a), particularly a binder component having a higher surface energy than the modified photocatalyst (A) as the binder component (B) of the present invention, to promote the above-mentioned properties of the modified photocatalyst (A), The photocatalyst composition (C) of the present invention can have a large self-gradient in the distribution of the photocatalyst (a), particularly the modified photocatalyst (A). The term “self-gradient” means that when a film is formed from the photocatalyst composition (C), the photocatalyst (a), particularly the modified photocatalyst (A), forms the film (particularly hydrophilic / hydrophobic) during the formation process. ) Means autonomously forming a structure having a concentration gradient of the photocatalyst (a), particularly the modified photocatalyst (A).
[0070]
As the binder component (B) of the present invention, when a resin having a surface energy larger than that of the photocatalyst (a) (preferably the modified photocatalyst (A)) by 2 mN / m or more, preferably 5 mN / m or more is selected, the above-mentioned self-grading property is obtained. Is very preferable.
Here, the surface energy and the relative difference between the surface energies can be determined, for example, by referring to Polymer Handbook (published by A Wiley-interscience publication in the United States) or measuring by the following method.
[0071]
That is, the photocatalyst (a) constituting the photocatalyst composition (C), in particular, the modified photocatalyst (A) and the binder component (B) were used to prepare substrates having their respective coatings, and deionized water was added dropwise to the base. The contact angle (θ) at ° C. is measured, and the respective surface energies can be obtained by the following Sell and Neumann empirical formulas.
[0072]
(Equation 1)

[0073]
[In the formula, γs represents the surface energy (mN / m) of the film obtained by measuring the contact angle of deionized water, and γ1 represents the surface energy of water {72.8 mN / m (20 ° C.)}.
[0074]
In the photocatalyst composition (C) of the present invention, the compound that can be used for the binder component (B) is not particularly limited as long as it has a surface energy that satisfies the above conditions, and various compounds, synthetic resins, natural resins, and the like can be used. And those which are cured by drying, heating, moisture absorption, light irradiation or the like after the formation of the coating or the molded article. The form may be in a solvent-free state (pellet, powder, liquid, or the like) or may be dissolved or dispersed in a solvent, and is not particularly limited.
[0075]
As the synthetic resin, a thermoplastic resin and a curable resin (a thermosetting resin, a photocurable resin, a moisture curable resin, etc.) can be used. For example, a silicone resin, an acrylic resin, a methacrylic resin, a fluororesin, Alkyd resin, amino alkyd resin, vinyl resin, polyester resin, styrene-butadiene resin, polyolefin resin, polystyrene resin, polyketone resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, polyetheretherketone resin, polyphenylene oxide resin, polysulfone resin, Polyphenylene sulfone resin Polyether resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, urea resin, phenol resin, melamine resin, epoxy resin, urethane resin, silicone-acryl resin, water glass and zircon Um compounds, mention may be made of inorganic compounds such as titanium peroxide.
Examples of the natural polymer include cellulose resins such as nitrocellulose, isoprene resins such as natural rubber, protein resins such as casein, and starch.
[0076]
In the present invention, as the binder component (B) used in the photocatalyst composition (C), a phenyl group-containing silicone (BP) represented by the following formula (4) is more surface energy than the modified photocatalyst (A) of the present invention. And the siloxane bond (—O—Si—) forming the skeleton thereof is most preferably used because it does not undergo oxidative decomposition by photocatalysis.
R¹ _pR² _qX_rSiO_{(4-pqr) / 2}          (4)
(Wherein each R¹Represents a phenyl group;²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. And p, q and r are 0 <p <4, 0 ≦ q <4, 0 ≦ r <4, and 0 <(p + q + r) <4, and 0.05 ≦ p / (p + q) ≦ 1. is there. )
[0077]
The phenyl group-containing silicone (BP) represented by the above formula (4) includes, for example, at least one structure of a siloxane bond represented by the general formulas (16), (17), (18) and (19). Silicone can be mentioned.
[0078]
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[0079]
− (R⁷ ₂SiO)-... (17)
[0080]
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[0081]
(Where R⁷Each independently represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms. )
[0082]
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[0083]
The silicone having the above-mentioned structure is, for example, a general formula RSix₃(In the formula, R represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms. Each X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, (It represents one reactive group selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom. The same applies hereinafter.) And / or a trifunctional silane derivative represented by the general formula R₂Six₂And / or a general formula SiX₄Is partially hydrolyzed and polycondensed, and if necessary, the general formula R₃It can be prepared by terminating the terminal with a monofunctional silane derivative represented by SiX and / or an alcohol. The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the partial condensate of the silane derivative monomer thus obtained is preferably 100 to 100,000, more preferably 400 to 50,000.
[0084]
Among these, when the phenyl group-containing silicone represented by the formula (4) is selected from those containing the ladder structure represented by the formula (16) in an amount of 10 mol% or more, preferably 40 mol% or more, the present invention The photocatalyst-containing film formed from the photocatalyst composition (C) is preferable because it is extremely excellent in hardness, heat resistance, weather resistance, stain resistance, chemical resistance and the like. In particular, a phenyl ladder structure [R in formula (16)]⁷Are all phenyl groups] since the physical properties of the photocatalyst-containing film described above are greatly improved. Such a ladder structure is, for example, 1040 cm in an infrared absorption spectrum.^-1And 1160cm^-1It can be identified by the presence of absorption derived from two nearby siloxane bonds.
(See JF Brown. Jr., et al .: J. Am. Chem. Soc., 82, 6194 (1960).)
The phenyl group-containing silicone (BP) represented by the above formula (4) used in the present invention preferably has a Ph-Si bond (Ph: phenyl group).
[0085]
That is, in the photocatalyst composition (C) of the present invention, a modifier compound (b) having a structure with very low surface energy {at least one selected from formulas (1) to (3) and methylene fluoride units} The photocatalyst composition of the present invention is obtained by using a binder component (B) containing a phenyl group-containing silicone (BP) having a higher surface energy than the modified photocatalyst (A) as a binder of the modified photocatalyst (A) that has been subjected to the modification treatment. (C) is preferable because it allows the modified photocatalyst (A) to have a very high self-gradient in the distribution.
[0086]
The effect of expressing self-gradient by such a phenyl group-containing silicone (BP) having a high surface energy is due to the phenyl group (R¹) With a phenyl group (R¹) And R²(R²Represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms. ) Or less (R¹+ R²). The use of such a phenyl group-containing silicone (BP), which can be more remarkably achieved by using a phenyl group-containing silicone (BP) represented by the above formula (4) having 5 mol% or more of｝, Is preferred.
[0087]
Further, the above-described effect of expressing the self-gradient is due to the phenyl group (R¹) Of (R¹+ R²) Increases as the ratio increases. Therefore, the more preferable phenyl group-containing silicone of the binder component (B) used in the photocatalyst composition of the present invention is (R)¹+ R²) To the phenyl group (R¹) Is at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%, and even more preferably at least 50 mol%. In addition, the phenyl group-containing silicone (BP) has good adhesion to an organic substrate such as an organic resin, and the siloxane bond (—O—Si—) forming the skeleton thereof does not undergo oxidative decomposition due to photocatalysis, The photocatalyst-containing film obtained by coating the photocatalyst composition (C) of the present invention on the decorative base coat layer of the wallpaper has extremely excellent weather resistance.
[0088]
In the photocatalyst composition (C) of the present invention, as the phenyl group-containing silicone (BP) used for the binder component (B), a more preferable one exhibiting the above-mentioned effects is an alkyl group represented by the following formula (5). Is a phenyl group-containing silicone (BP1) containing no.
R¹ _sX_tSiO_{(4-st) / 2}          (5)
(Where R¹Represents a phenyl group, X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom. , S and t are 0 <s <4, 0 ≦ t <4, and 0 <(s + t) <4. )
[0089]
When the binder component (B) further contains an alkyl group-containing silicone (BA) represented by the following formula (6), a film formed from the photocatalyst composition of the present invention has a film-forming property, hardness, and heat resistance. It is preferable because it is excellent in terms of properties, stain resistance, chemical resistance and the like.
R² _uX_vSiO_{(4-uv) / 2}          (6)
(Where R²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. u and v are 0 <u <4, 0 ≦ v <4, and 0 <(u + v) <4. )
[0090]
Furthermore, as the alkyl group-containing silicone (BA) mixed with the phenyl group-containing silicone (BP1), a monooxydiorganosilane unit (D) represented by the formula (7) and a dioxy compound represented by the formula (8) are used. When a structure having a molar ratio of oxyorganosilane units (T) of preferably (D) / (T) = 100/0 to 5/95, more preferably 90/10 to 10/90 is used. The alkyl group-containing silicone (BA) has an increased stress relaxation effect, and the photocatalyst-containing topcoat layer formed from the photocatalyst composition (C) of the present invention has improved crack resistance, resulting in extremely excellent weather resistance. It becomes.
− (R² ₂SiO)-(7)
(Where R²Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. )
[0091]
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[0092]
(Where R²Is as defined in equation (7). )
In the present invention, in order to improve long-term weather resistance, it is preferable that the binder component (B) forms a phase-separated structure, and particularly preferably forms a structure with microphase separation.
For example, as the binder component (B), the above-mentioned photocatalyst (a), in particular, a binder resin (B ′) having a higher surface energy than the modified photocatalyst (A) and an alkyl group-containing silicone (BA) represented by the above formula (6) ) Is preferably mixed at a mass ratio of (B ′) / (BA) = 5/95 to 95/5, more preferably (B ′) / (BA) = 30/70 to 90/10. And the photocatalyst-containing top coat layer formed from the photocatalyst composition (C) of the present invention comprises a photocatalyst (a) in a binder in which a binder resin (B ′) having a high surface energy and an alkyl group-containing silicone (BA) are phase-separated. ) Is dispersed, which is preferable because it has excellent long-term weather resistance.
[0093]
Here, in the phase separation between the binder component (B ') having a high surface energy and the alkyl group-containing silicone (BA), a phase which is not a continuous layer is preferably 1 nm.³~ 1 μm³, More preferably 10 nm³~ 0.1 μm³, More preferably 10 nm³~ 0.001 μm³Is more effective when micro-phase separation is performed by forming a domain having a size of
In addition, the state where the photocatalyst (a) was present in the alkyl group-containing silicone (BA) phase in a phase-separated state with the binder resin (B ′) having a high surface energy is more present on the surface of the top coat layer. Is preferred because it can be present.
[0094]
In the present invention, as the binder resin (B ′) having a high surface energy that is phase-separated from the alkyl group-containing silicone (BA), the phenyl group-containing silicone (BP) described above is a siloxane bond (—O—Si— Is preferable since oxidative decomposition by photocatalysis does not occur, and a phenyl group-containing silicone (BP1) containing no alkyl group is particularly preferable.
At this time, the phenyl group-containing silicone (BP1) and the alkyl group-containing silicone (BA) have a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC of preferably 100 to 10,000, more preferably 500 to 6, respectively. When the binder component having a molecular weight of 000, more preferably 700 to 4,000 is used, the above-mentioned binder component (B) is preferable because it easily forms a microphase-separated structure.
[0095]
The binder component (B) used in the photocatalyst composition (C) of the present invention may be any of a type dissolved in a solvent, a type dispersed in a solvent, and a type not mixed with a solvent (liquid or solid). Is also good.
In the photocatalyst composition (C) of the present invention, the phenyl group-containing silicone (BP) represented by the above formula (4) has a reactive group (X in the formula (4)) even if it has a reactive group. The photocatalyst-containing coating obtained from the photocatalyst composition (C) of the present invention may have a reactive group (X in the formula (4)) (that is, 0 <r in the formula (4)). Is preferred because it has excellent hardness, heat resistance, chemical resistance, durability and the like. For the same reason, it is preferable that 0 <t in Expression (5) and 0 <v in Expression (6).
[0096]
In the photocatalyst composition (C) of the present invention, the phenyl group-containing silicone (BP) represented by the above formula (4) has a reactive group (X in the formula (4)) as a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group. In the case of having phenyl group-containing silicone (BP), a conventionally known hydrolysis catalyst or curing catalyst is added at a ratio of preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass. be able to.
Preferred examples of the hydrolysis catalyst include acidic hydrogen halides, carboxylic acids, sulfonic acids, acidic or weakly acidic inorganic salts, and solid acids such as ion exchange resins. The amount of the hydrolysis catalyst is preferably in the range of 0.001 to 5 mol per mol of the hydrolyzable group on the silicon atom.
[0097]
Examples of the curing catalyst include basic compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methylate, sodium acetate, tetramethylammonium chloride, and tetramethylammonium hydroxide; tributylamine, diazabicycloundecene, ethylenediamine Amine compounds such as diethylenetriamine, ethanolamines, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) -aminopropyltrimethoxysilane; titanium compounds such as tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate; Aluminum compounds such as propoxide, aluminum acetylacetonate, aluminum perchlorate, aluminum chloride; tin acetylacetonate, dibutyltin octane Tin compounds such as tylate and dibutyltin dilaurate; metal-containing compounds such as cobalt octylate, cobalt acetylacetonate and iron acetylacetonate; acidic compounds such as phosphoric acid, nitric acid, phthalic acid, p-toluenesulfonic acid and trichloroacetic acid And the like.
[0098]
In the photocatalyst composition (C) of the present invention, when the phenyl group-containing silicone (BP) represented by the above formula (4) has a Si—H group, a crosslinking agent such as a polyfunctional alkenyl compound is added to the Si—H group. It is preferable that the alkenyl group is added in an amount of preferably 0.01 to 2 equivalents, more preferably 0.1 to 1 equivalent. The polyfunctional alkenyl compound is not particularly limited as long as it has an alkenyl group and reacts with an Si-H group to promote curing, but may have any of 2 to 30 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group, and a hexenyl group. Alkenyl group-containing silicones having a monovalent unsaturated hydrocarbon group are generally used.
[0099]
For the purpose of promoting the reaction between the Si-H group and the polyfunctional alkenyl compound, the catalyst is preferably used in an amount of 1 to 10,000 ppm, more preferably 1 to 10,000 ppm based on the total amount of the phenyl group-containing silicone (BP) and the polyfunctional alkenyl compound. It may be added at a rate of 1000 ppm. As the catalyst, a platinum group catalyst, that is, a compound of ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, and platinum is suitable, and a compound of platinum and a compound of palladium are particularly preferable. Examples of the platinum compound include platinum chloride (II), tetrachloroplatinic acid (II), platinum chloride (IV), hexachloroplatinic acid (IV), ammonium hexachloroplatinum (IV), potassium hexachloroplatinum (IV), and hydroxide. Platinum (II), platinum dioxide (IV), dichloro-dicyclopentadienyl-platinum (II), platinum-vinylsiloxane complex, platinum-phosphine complex, platinum-olefin complex and platinum alone, alumina, silica and activated carbon What carried solid platinum is mentioned. Examples of the palladium compound include palladium (II) chloride, ammonium tetraamminepalladium (II) chloride, palladium (II) oxide and the like. The platinum group catalyst is used in an amount of preferably 5 to 1000 ppm in terms of platinum group metal based on the total amount of the Si-H group-containing silicone and the polyfunctional alkenyl compound. Can be increased or decreased according to the curing speed or the like. Further, an activity inhibitor such as various organic nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, and acetylene compounds may be added for the purpose of suppressing the activity of the platinum group catalyst and extending the pot life, if desired.
[0100]
Further, the photocatalyst composition (C) of the present invention contains silica, alumina, zirconium oxide, antimony oxide, rare earth oxide, etc. for the purpose of improving the hardness, scratch resistance and hydrophilicity of the photocatalyst-containing film formed therefrom. The metal oxide fine particles may be added in a powder or sol state. However, these metal oxide fine particles do not have the ability as a binder like the binder component (B) in the present invention, and lower the flexibility (bending resistance and impact resistance) of the film similarly to the photocatalyst. Therefore, it is preferable that the total amount of the photocatalyst (A) and the metal oxide in the photocatalyst-containing film formed from the photocatalyst composition (C) be 50% by mass or less.
[0101]
The photocatalyst composition (C) of the present invention may be in a solvent-free state (liquid or solid) or in a state of being dissolved or dispersed in a solvent, and is not particularly limited. It is preferably in a state of being dissolved or dispersed in a solvent. At this time, the total amount of the modified photocatalyst (A1) and the binder component (B) in the photocatalyst composition (C) is preferably 0.01 to 95% by mass, more preferably 0.1 to 70% by mass.
[0102]
Examples of the solvent used in the photocatalyst composition (C) of the present invention include water, alcohols such as ethylene glycol, butyl cellosolve, isopropanol, n-butanol, ethanol, and methanol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; hexane; Aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and heptane; esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; dimethylacetamide and dimethylformamide Examples include amides, halogen compounds such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, nitrobenzene, and the like. These solvents are used alone or in combination.
In addition, the photocatalyst composition (C) of the present invention usually contains components that are usually added to the paint as necessary, such as pigments, fillers, dispersants, light stabilizers, wetting agents, thickeners, rheology control agents, An antifoaming agent, a plasticizer, a film forming aid, a rust inhibitor, a dye, a preservative, and the like can be selected and combined according to the respective purposes.
[0103]
In the photocatalyst composition (C) of the present invention, when the self-gradient is very high (that is, the exposed surface, which is the side other than the wood surface or the film, relative to the modified photocatalyst (A) content (concentration) of 100 in the film. When the relative concentration in the vicinity of the surface in contact with is preferably 150 or more, more preferably 200 or more), the mass ratio of the modified photocatalyst (A) to the binder component (B) in the photocatalyst composition (C) is preferably (A ) / (B) = 0.1 / 99.9-40 / 60, more preferably (A) / (B) = 0.1 / 99.9-30 / 70, the content of the modified photocatalyst (A) Even in a very small range, the films formed have excellent photocatalytic activity by light irradiation. In addition, since the film having a small content of the photocatalyst expresses the intrinsic properties of the binder component (B), the film has excellent strength, flexibility (bending resistance, impact resistance), and the like.
[0104]
The functional wood in the present invention is obtained by, for example, applying the photocatalyst composition (C) to the wood surface, drying the coated wood, and then subjecting it to a heat treatment at preferably 20 ° C. to 500 ° C., and more preferably 30 ° C. to 250 ° C. Etc. to form a film. Examples of the application method include a spraying method, a flow coating method, a roll coating method, a brush coating method, a casting method, a sponge coating method, a knife coating method, a gravure coating method, a screen coating method, and an engraving method. Publicly known methods such as a coating method, a flexocoat method and a dipping method.
[0105]
At this time, the thickness of the film formed from the photocatalyst composition (C) of the present invention is preferably 0.1 to 200 μm, more preferably 0.2 to 20 μm, and further preferably 0.5 to 10 μm.
At this time, the state of the film may be a continuous film, a discontinuous film, an island-shaped dispersion film, or the like.
Further, the functional wood of the present invention can be obtained by bonding a film obtained by applying the photocatalyst composition (C) of the present invention by the above-mentioned method to a wood surface with an adhesive, a hot melt bonding method, a heat sealing method, a laminate bonding. It can be obtained by immobilization by a method or the like. Here, a plastic film such as polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, acrylic resin, and polycarbonate can be suitably used as the film substrate.
[0106]
Metals such as Ag, Cu, and Zn can be added to the surface layer of the functional wood of the present invention. The surface layer to which the metal is added can kill bacteria and molds attached to the surface even in a dark place.
As the wood that can be used to obtain the functional wood of the present invention, wood obtained from natural wood is preferable, but wood obtained by bonding thin sheets of natural wood, wood obtained by joining finely crushed natural wood, and natural wood It may be obtained by compressing wood or a crushed product thereof. The shape of the wood may be any shape such as a cylinder, a prism, a sheet, a board, a block, a sphere, and a random shape, and is not particularly limited.
[0107]
In addition, a picture pattern may be provided on the surface of these woods. Either organic pigments or inorganic pigments can be used as the ink for forming the picture, and as the vehicle, an organic resin such as a thermoplastic resin or a thermosetting resin, or a siloxane resin can also be used. Further, as a painting method, gravure printing, offset printing, silk printing, flexographic printing, and the like can be used. The compositions of the present invention are also useful for repainting degraded wood. The wood may be subjected to a surface treatment in advance for the purpose of adjusting the foundation, improving the adhesion, filling the porous substrate, smoothing, and patterning. Examples of the surface treatment include polishing, filling, and insect repellent treatment.
[0108]
The application operation using the composition of the present invention differs depending on the type and state of wood and the application method. For example, a primer may or may not be used depending on the application. The type of primer is not particularly limited as long as it has an effect of improving the adhesion between wood and the composition, and is selected according to the type of wood and the purpose of use. The primers can be used alone or as a mixture of two or more kinds. The primers may be enamels containing a coloring component such as a pigment or clear without the coloring component. Examples of the type of primer include, for example, alkyd resin, aminoalkyd resin, epoxy resin, polyester, acrylic resin, urethane resin, fluororesin, acrylic silicone resin, acrylic resin emulsion, epoxy resin emulsion, polyurethane emulsion, polyester emulsion, and the like. Can be. In addition, these primers can be provided with various functional groups when adhesion between the wood and the film under severe conditions is required. Examples of such functional groups include a hydroxyl group, a carboxyl group, a carbonyl group, an amide group, an amine group, a glycidyl group, an alkoxysilyl group, an ether bond, an ester bond, and the like. Further, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, and the like may be blended in the primer. Further, on the surface of the film formed from the composition of the present invention, for the purpose of further increasing the abrasion resistance and gloss of the film, for example, US Pat. No. 3,986,997, US Pat. A clear layer composed of a siloxane resin-based coating such as a stable dispersion of colloidal silica and a siloxane resin described in, for example, Japanese Patent No. 027,073 can also be formed.
[0109]
The photocatalyst (a) contained in the coating provided on the functional wood of the present invention exhibits photocatalytic activity when irradiated with light (excitation light) having an energy higher than the band gap energy, and has excellent antifouling properties and antibacterial properties. It exhibits functions such as deodorization. At this time, the photocatalyst (a) is composed of a triorganosilane unit represented by the above formula (1), a monooxydiorganosilane unit represented by the formula (2), and a dioxyorgano unit represented by the formula (3). When the modified photocatalyst (A) is modified with at least one modifier compound (b) selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of silane units, the excitation light At least a part of the organic group (R) bonded to the silicon atom of the modifier compound (b) present near the particles of the photocatalyst (a) by irradiation is replaced with a hydroxyl group by the decomposition action of the photocatalyst. As a result, the hydrophilicity of the surface of the film of the present invention is increased, and when the generated hydroxyl groups are dehydrated and condensed to form a siloxane bond, the hardness of the film becomes extremely high. Such a state is preferable in the embodiment of the present invention.
[0110]
Similarly, when the above-mentioned silicone is used as the binder component (B), at least a part of the organic group bonded to the silicon atom of the silicone present in the vicinity of the photocatalyst (a) particle by the irradiation of the excitation light, Hydroxyl groups are substituted by the decomposing action to increase the hydrophilicity of the film surface of the present invention, and when the dehydration condensation reaction between the generated hydroxyl groups proceeds to form siloxane bonds, the hardness of the film becomes extremely high. Such a state is preferable in the embodiment of the present invention.
In the present invention, as a light source of light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst (a), in addition to light obtained in a general residential environment such as sunlight and indoor lighting, black light, xenon lamp, mercury lamp, and the like Light is available.
[0111]
【Example】
The present invention will be specifically described with reference to the following examples, reference examples, and comparative examples, but these do not limit the scope of the present invention.
In Examples, Reference Examples and Comparative Examples, various physical properties were measured by the following methods.
1. Particle size distribution and number average particle size
The sample was appropriately diluted by adding a solvent so that the photocatalyst content in the sample was 1 to 20% by mass, and measured using a wet particle size analyzer (Nikkiso Microtrac UPA-9230).
[0112]
2. Weight average molecular weight
It was determined by gel permeation chromatography (GPC) using a calibration curve prepared using a polystyrene standard.
The GPC conditions are as follows.
-Equipment: Tosoh HLC-8020 LC-3A type chromatograph
・ Column: TSKgel G1000H_XL, TSKgel G2000H_XLAnd TSKgel G4000H_XL(All manufactured by Tosoh Corporation) were used in series.
・ Data processor: Shimadzu CR-4A type data processor
・ Mobile phase:
Tetrahydrofuran (used for analysis of phenyl group-containing silicone)
Chloroform (used for analysis of silicone containing no phenyl group)
-Flow rate: 1.0 ml / min.
・ Sample preparation method
The solution was diluted with the solvent used for the mobile phase (the concentration was appropriately adjusted in the range of 0.5 to 2% by weight), and then subjected to analysis.
[0113]
3. Infrared absorption spectrum
It measured using the JASCO FT / IR-5300 type infrared spectrometer.
4.²⁹Measurement of Si nuclear magnetic resonance
It measured using JEOL JNM-LA400.
5. Film hardness
According to JIS-K5400, it was determined as pencil hardness (scratch of the film).
6. Film hardness after UV irradiation
The surface of the film was irradiated with light of a FL20S BLB type black light manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp. for 7 days, and then measured by the above method (5).
UV intensity measured using a type-2 UV intensity meter {using a UD-36 type light receiving unit made by Topcon (corresponding to light having a wavelength of 310 to 400 nm) as the light receiving unit} is 1 mW / cm.²It was adjusted to become.
[0114]
7. Water contact angle with sample surface
Drops of deionized water were placed on the surface of the sample, left at 20 ° C. for 1 minute, and measured using a CA-X150 contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science.
The smaller the contact angle of water, the higher the hydrophilicity of the sample surface.
8. Change in hydrophilicity (hydrophobicity) of the sample surface before and after UV irradiation
After the surface of the sample was irradiated with ultraviolet rays for 7 days by the above method 6, the contact angle of water was measured by the above method 7.
9. Weather resistance (gloss retention rate)
An exposure test (irradiation: 60 ° C. for 4 hours, dark / wet: 40 ° C. for 4 hours) was performed using a DPWL-5R type due panel light control weather meter manufactured by Suga Test Instruments. The 60 ° -60 ° specular reflectance after 1000 hours of exposure was measured as the final gloss value, divided by the initial gloss value, and this value was calculated as the gloss retention.
[0115]
10. Evaluation of graded structure of photocatalyst
After embedding the sample in an epoxy resin (Quetol 812), an ultrathin section having a thickness of 50 to 60 nm was prepared with an ULTRACUT-N type microtome manufactured by Reichert, Germany, and mounted on a mesh with a support film. Subsequently, after performing RuO4 vapor staining for about 5 minutes, carbon vapor deposition was performed to obtain a sample for a microscope, and the cross section of the film was observed with a TEM.
The conditions for TEM observation are as follows.
・ Equipment: Hitachi HF2000
・ Acceleration voltage: 125 kV
The location of the photocatalytic titanium oxide was analyzed by EDX analysis of the Ti element.
The observation of the film formed on the aluminum plate having the acrylic urethane-based base coat layer was performed by roughly cutting the sample with a DAD321 type dicing saw manufactured by DISCO Engineering Service, then performing FIB (Focused Ion Beam) processing, and using a TEM. The cross section of the coating was observed.
FIB processing conditions are as follows.
Equipment used: Hitachi FB2000
Processing conditions: acceleration voltage (30 kV)
Ion source: Ga
The conditions for TEM observation are as follows.
・ Equipment: Hitachi HF2000
・ Acceleration voltage: 200 kV
[0116]
11. Impact resistance
According to JIS-K5400, it was evaluated by the Dupont method (500 g × 50 cm).
12. Antifouling performance
A sample cut into a size of 5 cm × 1 cm is put into a 120 ml glass bottle, filled with five cigarettes of smoke, and a sample of cigarette is adhered to the sample. Irradiation was conducted for a time, and the antifouling performance was evaluated on the basis of the following three grades based on the appearance of the sample (evaluated visually).
At this time, the UV intensity measured using a Topcon UVR-2 type UV intensity meter {using a Topcon UD-36 type light receiving unit (corresponding to light having a wavelength of 310 to 400 nm) as a light receiving unit} is 2 mW / cm.²It was adjusted to become.
：: complete discoloration of cigarette tar
Δ: Coloring due to tobacco tar becomes lighter
×: No change in coloring due to cigarette tar
[0117]
13. Antibacterial test by ultraviolet irradiation
A sample of 5 cm × 1 cm was placed in a sterilized plastic dish, and the number of E. coli was about 10⁵0.5 ml of a bacterial solution adjusted to be the number of cells / ml was dropped on each sample in each dish, and the dish was covered with a polyethylene film to be shielded from the outside air. Drying and invasion of bacteria from outside were prevented. Then, after irradiating the light of FL20SBLB type black light made by Toshiba Lighting Tech from outside of the petri dish for 4 hours, the bacterial solution was washed out from the petri dish, transferred to the medium, and the number of viable cells was measured. Based on the obtained mortality, the antibacterial property was evaluated in the following three grades.
Death rate = {(initial viable cell count−viable cell count after test) / initial viable cell count} × 100
○: Death rate of 80% or more
Δ: Death rate 20% or more and less than 80%
×: death rate less than 20%
The UV intensity was 2 mW / cm as measured using a Topcon UVR-2 UV intensity meter {using a Topcon UD-36 light receiving unit (corresponding to light having a wavelength of 310 to 400 nm) as a light receiving unit}.²It was adjusted to become.
[0118]
14． Lightfastness
After irradiating the sample with light of a FL20SBLB type black light manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp. for 30 days, the light resistance was evaluated on the following three scales based on the appearance of the sample (evaluated visually).
At this time, the UV intensity measured using a UVR-2 type UV intensity meter manufactured by Topcon of Japan (using a UD-36 type light receiving unit manufactured by Topcon of Japan (corresponding to light having a wavelength of 310 to 400 nm) as the light receiving unit) It was adjusted to 1 mW / cm2.
○: No change in appearance
Δ: slight peeling of the photocatalyst layer occurs
×: Partial decomposition of members
[0119]
[Reference Example 1]
Synthesis of phenyl group-containing silicone (BP1-1).
[0120]
After 26.0 g of phenyltrichlorosilane was added to 78 g of dioxane in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, the mixture was stirred at room temperature for about 10 minutes. A mixed solution consisting of 3.2 g of water and 12.9 g of dioxane was added dropwise thereto over about 30 minutes while maintaining the reaction solution at 10 to 15 ° C., followed by stirring at 10 to 15 ° C. for about 30 minutes. The reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 3 hours. The temperature of the obtained reaction solution was lowered to 25 to 30 ° C., and 392 g of toluene was added dropwise over about 30 minutes. Then, the reaction solution was again heated to 60 ° C. and stirred for 2 hours.
[0121]
The temperature of the obtained reaction solution was lowered to 10 to 15 ° C., and 19.2 g of methanol was added over about 30 minutes. Thereafter, stirring was further continued at 25 to 30 ° C. for about 2 hours, and then the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 2 hours. The phenyl group-containing silicone (BP1-1) having a ladder skeleton having a weight average molecular weight of 3600 was obtained by distilling off the solvent from the obtained reaction solution under reduced pressure at 60 ° C. (The obtained phenyl group-containing silicone (BP1-1) has an absorption (1130 cm) derived from the stretching vibration of the ladder skeleton in the IR spectrum.^-1And 1037cm^-1) Was observed. )
Also,²⁹The formula of the phenyl group-containing silicone (BP1-1) obtained from the measurement results of Si nuclear magnetic resonance is (Ph)₁(OCH₃)_0.58SiO_1.21Met. (Here, Ph represents a phenyl group.)
[0122]
[Reference Example 2]
Synthesis of alkyl group-containing silicone (BA-1).
[0123]
136 g (1 mol) of methyltrimethoxysilane and 120 g (1 mol) of dimethyldimethoxysilane were added to 300 g of methanol in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and then stirred at room temperature for about 10 minutes. did. Under ice-cooling, a mixture of 12.6 g (0.7 mol) of a 0.05 N hydrochloric acid aqueous solution and 63 g of methanol was added dropwise over about 40 minutes to carry out hydrolysis. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at a temperature of 10 ° C. or lower for about 20 minutes and at room temperature for 6 hours.
Thereafter, the solvent was distilled off from the obtained reaction solution at 60 ° C. under reduced pressure to obtain an alkyl group-containing silicone (BA-1) having a weight average molecular weight of 3,600. The structure of the obtained alkyl group-containing silicone (BA-1)²⁹When measured by Si nuclear magnetic resonance, a signal indicating a T structure and a D structure was confirmed, and the ratio was T structure: D structure = 1: 1.
Also,²⁹The average composition formula of the alkyl group-containing silicone (BA-1) obtained from the measurement result of Si nuclear magnetic resonance is (CH₃)_1.5(OCH₃)_0.27SiO_1.12Met.
[0124]
[Reference Example 3]
Preparation of silicone composition (B-1).
A mixture of 6 g of the phenyl group-containing silicone (BP1-1) synthesized in Reference Example 1 and 3 g of the alkyl group-containing silicone (BA-1) synthesized in Reference Example 2 was mixed with 14.7 g of toluene, 29.8 g of isopropanol, and butyl cellosolve. 15.1 g was added and stirred at room temperature to obtain a solution of the binder component (B-1).
From the average composition formula of each composition, the average composition formula of the binder component (B-1) is (Ph)_0.67(CH₃)_0.5(OCH₃)_0.47SiO_1.18Can be calculated. (Here, Ph represents a phenyl group.)
[0125]
[Reference Example 4]
Trade name of TKS-251 titanium oxide organosol (manufactured by Teica) in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, a dispersion medium: a mixed solvent of toluene and isopropanol, a TiO2 concentration of 20% by weight, and an average crystal By adding 40 g of a 20% by weight solution of bis (trimethylsiloxy) methylsilane to toluene at 6 nm (catalog value) of about 40 g at 50 ° C. for about 5 minutes, and further stirring at 50 ° C. for 12 hours, very A modified photocatalyst organosol (A-1) having good dispersibility was obtained. At this time, the amount of hydrogen gas generated by the reaction of bis (trimethylsiloxy) methylsilane was 718 ml at 23 ° C. When the obtained modified titanium oxide organosol was coated on a KBr plate and the IR spectrum was measured, the absorption of Ti-OH group (3630-3640 cm) was measured.^-1) Disappearance was observed.
[0126]
1 and 2 show the particle size distribution of TKS-251 before the modification treatment and the obtained modified photocatalyst organosol (A-1), respectively. The particle size distribution of the resulting modified photocatalyst organosol (A-1) is monodisperse (number-average particle size is 25 nm), and TKS-251 before modification (number-average particle size is 12 nm). It can be seen that the particle size distribution has completely disappeared.
Subsequently, 20 g of the modified photocatalyst organosol (A-1) was added to 68 g of the silicone component (B-1) solution prepared in Reference Example 3 with stirring at room temperature, and the curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was added. 0.5 g was added with stirring to obtain a photocatalyst composition (C-1).
[0127]
Spray-coated aluminum plate (JIS, H, 4000 (A1050P)) having a thickness of 1 mm cut into 50 mm x 60 mm with Mighty Lac white (brand name of acrylic urethane resin paint (two-liquid mixed type) (Nippon Paint)). And dried at room temperature for 3 days. The above-mentioned photocatalyst composition (C-1) is spray-coated to a thickness of 2 μm on the obtained acrylic urethane-coated aluminum plate, dried at room temperature for 1 hour, and heated at 150 ° C. for 30 minutes. As a result, a test plate (D-1) having a photocatalytic film was obtained.
[0128]
The test plate (D-1) having the obtained photocatalyst film was subjected to FIB processing, and the result of observing the film cross section by TEM is shown in the photograph of FIG. FIG. 3B is an illustration of the photograph in FIG. A photocatalytic film (indicated by reference numeral 2 in FIG. 3 (b)) containing modified photocatalyst particles (indicated by reference numeral 1 in FIG. 3 (b)) and a pigment, titanium oxide (see FIG. ), The modified photocatalyst particles are not present at the interface with the acrylic urethane film (indicated by reference numeral 3 in FIG. 3B) containing the modified photocatalyst particles. Observed to be covered.
[0129]
The pencil hardness of the test plate (D-1) having the obtained photocatalytic film was H, and the contact angle with water was 105 °. Also, the impact resistance test passed.
Further, the pencil hardness of the test plate (D-1) having the obtained photocatalytic film after irradiation with ultraviolet light (black light) was 5H or more, and the contact angle of water was 0 °.
Furthermore, the gloss retention by an exposure test (after 1000 hours) using a Dupanel light control weather meter was 98%, indicating very good weather resistance.
[0130]
Subsequently, the photocatalyst composition (C-1) is spray-coated on an epoxy resin (Quetol 812), dried at room temperature for 2 days, and then heated at 50 ° C. for 3 days to form an epoxy having a smooth photocatalytic film. Resin (D-2) was obtained.
After embedding the obtained epoxy resin (D-2) having a photocatalytic film in an epoxy resin (Quetol 812), an ultrathin section having a thickness of 50 to 60 nm was prepared by a microtome, and RuO was used.₄After dyeing the phenyl group-containing silicone (BP1-1) with, the result of observing the cross section of the film by TEM is shown in the photograph of FIG. FIG. 4B is an illustration of the photograph in FIG.
[0131]
A photocatalytic film (indicated by reference numeral 2 in FIG. 4 (b)) containing the modified photocatalyst particles (indicated by reference numeral 1 in FIG. 4 (b)) and an epoxy resin as a substrate (in FIG. 4 (b)) (Indicated by reference numeral 5), almost no modified photocatalyst particles were present, and it was observed that the entire surface of the photocatalytic film was covered with the modified photocatalyst particles.
Further, the portion indicated by reference numeral 5 (b) in FIG. 4 (b) is a boundary portion between the modified photocatalyst particle phase 1 and the binder phase 7 not containing the modified photocatalyst particles, and FIG. (A). FIG. 5B is an illustration of the photograph in FIG.
[0132]
FIG. 5 (a) shows a binder phase containing modified photocatalyst particles (indicated by reference numeral 1 in FIG. 5 (b)) and a binder phase not containing modified photocatalyst particles (reference numeral 7 in FIG. 5 (b)). Can be observed. In the binder phase containing no modified photocatalyst particles (indicated by reference numeral 7 in FIG. 5B), RuO₄It can be observed that the phenyl group-containing silicone and the undyed alkyl group-containing silicone which are dyed in the above have a microphase-separated structure.
[0133]
[Reference Example 5]
A photocatalyst composition (C-2) was obtained by performing the same operation as in Reference Example 4 except that 10 g of TKS-251 not subjected to the modification treatment was used instead of 20 g of the modified photocatalyst organosol (A-1).
Using the obtained photocatalyst composition (C-2), the same operation as in Reference Example 4 was performed to obtain a test plate (D-3) having a photocatalyst film (the content of titanium oxide was the same as in Reference Example 4). .
The pencil hardness of the test plate (D-3) having the obtained photocatalytic film was H, and the contact angle with water was 97 °.
Moreover, the pencil hardness of the test plate (D-3) having the obtained photocatalyst film after irradiation with ultraviolet light (black light) was 3H, and the contact angle of water was 94 °.
Furthermore, in a 200-hour exposure test using a Dupanel light control weather meter, the gloss retention was 10% or less, and a chalking phenomenon was observed.
[0134]
Subsequently, the photocatalyst composition (C-2) is spray-coated on an epoxy resin (Quetol 812), dried at room temperature for 2 days, and subsequently heated at 50 ° C. for 3 days to have a smooth photocatalyst film. An epoxy resin (D-4) was obtained.
After embedding the obtained epoxy resin (D-4) having a photocatalyst film in epoxy resin (Quetol 812), an ultrathin section having a thickness of 50 to 60 nm was prepared by a microtome, and RuO was prepared.₄After dyeing the phenyl group-containing silicone (BP1-1) with, the result of observing the cross section of the film by TEM is shown in the photograph of FIG. FIG. 6B is an illustration of the photograph shown in FIG.
[0135]
A photocatalytic film (indicated by reference numeral 2 in FIG. 6 (b)) containing the modified photocatalyst particles (indicated by reference numeral 1 in FIG. 6 (b)) and an epoxy resin as a base material (in FIG. 6 (b)) And the exposed surface of the photocatalytic film is an alkyl group-containing silicone without any modified photocatalyst particles (indicated by reference numeral 8 in FIG. 6 (b)). It was observed that expression of photocatalytic activity could not be expected.
[0136]
[Example 1]
The photocatalyst composition (C-1) prepared in Reference Example 4 was applied to the surface of a thin layer of Baymatsu (210 mm × 297 mm × 0.5 mm) dried at 105 ° C. so that the dry film thickness was about 3 μm. After the heat treatment for 10 minutes, the intensity of the ultraviolet light measured using a light of a FL20SBLB type black light manufactured by Toshiba Lighting & Technology (UVR-2 type UV intensity meter manufactured by Topcon (light receiving unit: UD-36 type light receiving unit manufactured by Topcon)) is 2 mW / cm.²Irradiation for 5 days to prepare a functional wood (E-1).
The antifouling performance of this sample (E-1) was a very good result (○). In addition, the antibacterial performance was also a very good result (○). Furthermore, the light resistance was also very good (（).
Further, the antifouling performance and antibacterial performance of the sample (E-1) after the light resistance test also maintained very good results (（).
[0137]
[Comparative Example 1]
When the antifouling performance and antibacterial performance were evaluated using an untreated Baymatsu thin plate (210 mm × 297 mm × 0.5 mm) dried at 105 ° C., both performances were very poor (×).
[0138]
[Comparative Example 2]
Functional wood (E) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the photocatalyst composition (C-2) prepared in Reference Example 5 was used instead of the photocatalyst composition (C-1) prepared in Reference Example 4. -2) was obtained.
The antifouling performance and antibacterial performance of this sample (E-2) were poor (x). The light resistance was also very poor (x).
[0139]
[Comparative Example 3]
A commercially available photocatalyst coating solution, ST-K03 (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) was applied to the surface of a Baymatsu thin plate (210 mm × 297 mm × 0.5 mm) dried at 105 ° C. so that the dry film thickness was about 0.3 μm. After applying and heat-treating at 150 ° C. for 10 minutes, the light was measured using the light of a FL20SBLB type black light manufactured by Toshiba Lighting & Technology [UVR-2 type UV intensity meter manufactured by Topcon (light receiving unit: UD-36 type light receiving unit manufactured by Topcon)] Strength 2mW / cm²Irradiation for 5 days to prepare a functional wood (E-3).
This sample (E-3) showed very good results (共 に) in both the antifouling performance and the antibacterial performance. However, the light resistance was a very poor result (x).
[0140]
【The invention's effect】
The present invention provides functional wood that exhibits excellent antifouling properties and antibacterial properties over a long period of time without deteriorating the wood itself due to light in a living environment, without requiring complicated processes. Can be.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view showing the results of measuring the particle size distribution of TKS251 (a commercially available titanium oxide organosol) before a denaturation treatment using a wet particle size analyzer.
FIG. 2 shows the results of measuring the particle size distribution of a modified photocatalyst organosol (A-1) obtained by modifying the above TKS-251 in Reference Example 4 using a wet particle size analyzer. FIG.
FIG. 3A is a TEM photograph of a cross section of a test plate (D-1) having a photocatalyst-containing film obtained in Reference Example 4.
FIG. 3B is an illustration of FIG. 3A.
FIG. 4A is a TEM photograph of a cross section of an epoxy resin (D-2) having a photocatalyst-containing film obtained in Reference Example 4.
FIG. 4B is an illustration of FIG. 4A.
FIG. 5 (a) is an enlarged photograph of a part of the TEM photograph of FIG. 4 (a).
FIG. 5B is an illustration of FIG. 5A.
FIG. 6A is a TEM photograph of a cross section of an epoxy resin (D-3) having a photocatalyst-containing film obtained in Reference Example 5.
FIG. 6B is an illustration of FIG. 6A.
[Explanation of symbols]
1 Modified photocatalyst particles
2 Photocatalyst containing film
3 Acrylic urethane film
4 Titanium oxide as a pigment
5 Epoxy resin
5 (b) FIG. 5 (b) is an enlarged view of the boundary between the modified photocatalyst particle phase 1 and the binder phase 7 containing no modified photocatalyst particles.
6 Epoxy resin for embedding
7. Binder phase without modified photocatalyst particles
8 Alkyl-containing silicone

Claims (18)

Functional wood comprising a coating containing a photocatalyst (a) and a binder component (B), wherein the concentration of the photocatalyst (a) in the coating increases from the surface in contact with the wood toward the exposed surface. Functional wood. Functional wood comprising a film having a film containing a photocatalyst (a) and a binder component (B), wherein the concentration of the photocatalyst (a) in the film is from the surface in contact with the film substrate to the exposed surface. Functional wood characterized by its height. 3. The functional wood according to claim 1, wherein the coating is formed from a photocatalyst composition (C) containing a photocatalyst (a) and a binder component (B). The photocatalyst (a) comprises a triorganosilane unit represented by the formula (1), a monooxydiorganosilane unit represented by the formula (2), a dioxyorganosilane unit represented by the formula (3), and A modified photocatalyst modified with at least one modifier compound (b) selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of methylene fluoride (—CF ₂ —) units ( The functional wood according to any one of claims 1 to 3, which is A).
R ₃ Si- (1)
(Wherein, R is each independently a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a straight-chain or branched A fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydroxyl group)
— (R ₂ SiO) — (2)
(In the formula, R is as defined in the formula (1).)

(In the formula, R is as defined in the formula (1).) The functional wood according to any one of claims 1 to 4, wherein the binder component (B) contains a phenyl group-containing silicone (BP) represented by the following formula (4).
^{_{R 1 p R 2 q X r}} SiO (4-p-q-r) / 2 (4)
(Wherein each R ¹ represents a phenyl group, and each R ² is independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched Represents a branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms;
X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. And p, q and r are 0 <p <4, 0 ≦ q <4, 0 ≦ r <4, and 0 <(p + q + r) <4, and 0.05 ≦ p / (p + q) ≦ 1. is there. ) The functional wood according to claim 5, wherein the phenyl group-containing silicone (BP) is a phenyl group-containing silicone (BP1) having no alkyl group and represented by the following formula (5).
R ¹ _{s Xt} SiO _(4- ^st _{) / 2} (5)
(Wherein, R ¹ represents a phenyl group. X is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime having 1 to 20 carbon atoms. And s and t are 0 <s <4, 0 ≦ t <4, and 0 <(s + t) <4.) The functional wood according to claim 5, wherein the binder component (B) further contains an alkyl group-containing silicone (BA) represented by the following formula (6).
^{_{R 2 u X v SiO (4}} -u-v) / 2 (6)
(Wherein R ² is independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched 2 to 30 carbon atoms. X independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. And u and v are 0 <u <4, 0 ≦ v <4, and 0 <(u + v) <4.) The binder component (B) contains a phenyl group-containing silicone (BP1) not containing an alkyl group represented by the formula (5) and an alkyl group-containing silicone (BA) represented by the formula (6). The functional wood according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
R ¹ _{s Xt} SiO _(4- ^st _{) / 2} (5)
(Wherein, R ¹ represents a phenyl group, X is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime having 1 to 20 carbon atoms. And s and t are 0 <s <4, 0 ≦ t <4, and 0 <(s + t) <4.)
^{_{R 2 u X v SiO (4}} -u-v) / 2 (6)
(Wherein, R ² is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched 2 to 30 carbon atoms. X is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom. Represent.
u and v are 0 <u <4, 0 ≦ v <4, and 0 <(u + v) <4. ) The alkyl group-containing silicone (BA) has a monooxydiorganosilane unit (D) represented by the formula (7) and a dioxyorganosilane unit (T) represented by the formula (8). 9. The functional wood according to claim 7 or 8, wherein
_{^{- (R 2 2 SiO) -}} (7)
(Wherein R ² is independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or a linear or branched 2 to 30 carbon atoms. Represents an alkenyl group of

(Wherein R ² is as defined in formula (7).) The functional wood according to any one of claims 7 to 9, wherein the functional wood is a film having a phase separation structure for the phenyl group-containing silicone (BP) and the alkyl group-containing silicone (BA). The functional wood according to claim 10, wherein the photocatalyst (a) is present in the alkyl group-containing silicone (BA) phase. The functional wood according to claim 4, wherein the number average particle diameter of the modified photocatalyst (A) is 400 nm or less. The functional wood according to claim 4, wherein the modifier compound (b) is a Si-H group-containing silicon compound (b1) represented by the formula (9).
_{H x R y SiO (4-} x-y) / 2 (9)
(Wherein, R is each independently a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a straight-chain or branched Represents a fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydroxyl group, wherein x and y are 0 <x <4,0. <Y <4, and (x + y) ≦ 4.) The Si-H group-containing silicon compound (b1) is a mono-Si-H group-containing compound represented by the formula (10), a compound having both ends Si-H groups represented by the formula (11), a formula (12) 14. The functional wood according to claim 13, which is at least one compound selected from the group consisting of H silicone represented by the formula:

(Wherein, R ³ is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, and 5 to 20 carbon atoms. , A linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, or a siloxy group represented by the formula (13).
_{^{-O- (R 4 2 SiO) m}} -SiR 4 3 ··· (13)
(Wherein, R ⁴ is independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a linear or branched carbon group having 1 to 30 carbon atoms) Represents a 30 fluoroalkyl group, a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a phenyl group, and m is an integer and 0 ≦ m ≦ 1000.)
_{^{H- (R 3 2 SiO) n}} -SiR 3 2 -H ··· (11)
(In the formula, R ³ is as defined in the formula (10). N is an integer and 0 ≦ n ≦ 1000.)
_{^{(R 3 HSiO) a (R}} 3 2 SiO) b (R 3 3 SiO 1/2) c ··· (12)
(Wherein R ³ is as defined in formula (10), a is an integer of 1 or more, b is an integer of 0 or more, (a + b) ≦ 10000, and c is 0 or 2 However, when (a + b) is an integer of 2 or more and c = 0, the H silicone of the formula (12) is a cyclic silicone, and when c = 2, the H silicone of the formula (12) Is a chain silicone.) 3. The functional wood according to claim 1, wherein the binder component (B) in the coating forms a phase separation structure. The functional wood according to claim 1 or 2, wherein the functional wood exhibits photocatalytic activity when irradiated with light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst (a) contained in the coating. By irradiating light having an energy higher than the bandgap energy of the photocatalyst (a) contained in the film, at least a part of the organic groups bonded to the silicon atoms present in the vicinity of the photocatalyst (a) particles have hydroxyl groups and The functional wood according to any one of claims 4, 5, 7, and 8, wherein the functional wood is substituted with a siloxane bond. A photocatalyst composition (C) containing a photocatalyst (a) and a binder component (B), wherein the photocatalyst coating composition for functional wood forms the film according to claim 1 or 2.

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