JP2004342826A - 近接場光露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】近接場光露光装置の異物の再付着を防止し、微細加工を可能にする。
【解決手段】露光装置内にマスク搬送ハンド、マスクチャック、マスク、ウェハ搬送ハンドウェハチャックの各洗浄ユニットを装備し、これらの洗浄ユニットについて順序立てて異物除去を実施する。工程の順序はマスク側について、マスクをマスクチャックへ搬送する前にマスクの異物検査除去工程を行い、マスク搬送動作の前に搬送ハンドの異物検査除去工程を行い、次にマスクチャックの異物検査除去工程を実施し、密着露光前にマスクのウェハに密着する部分の異物検査除去工程を行う。一方ウェハ側はウェハをチャックへ搬送する前にウェハ搬送ハンドの異物検査除去工程を行い、ウェハセッティング前にチャックの異物検査除去工程を行う。この一連の工程はマスク側の工程の後にウェハ側の工程を行う。
【選択図】 図2
【解決手段】露光装置内にマスク搬送ハンド、マスクチャック、マスク、ウェハ搬送ハンドウェハチャックの各洗浄ユニットを装備し、これらの洗浄ユニットについて順序立てて異物除去を実施する。工程の順序はマスク側について、マスクをマスクチャックへ搬送する前にマスクの異物検査除去工程を行い、マスク搬送動作の前に搬送ハンドの異物検査除去工程を行い、次にマスクチャックの異物検査除去工程を実施し、密着露光前にマスクのウェハに密着する部分の異物検査除去工程を行う。一方ウェハ側はウェハをチャックへ搬送する前にウェハ搬送ハンドの異物検査除去工程を行い、ウェハセッティング前にチャックの異物検査除去工程を行う。この一連の工程はマスク側の工程の後にウェハ側の工程を行う。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスクに形成されたパターンを露光転写する工程に使用される露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年の電子機器の小型及び薄型化の要請から、電子機器に搭載される半導体素子の微細化への要求はますます高くなっている。例えばマスク又はレチクル(以下、本出願ではこれらの用語を交換可能に使用する)のパターンに対するデザインルールはライ・アンド・スペース(L&S)130nmを量産工程で達成し、今後ますます小さくなることが予想される。投影露光装置においても一般に解像度は使用する光源の波長が略限界であると言われ、エキシマレーザーを使用しても投影露光装置は0.10μm以下のパターンを形成することが困難である。近年、0.10μm以下の微細加工を可能にする手段として近接場光学顕微鏡(Scanning Near Field Microscope:SNOM)を用いた微細加工装置が提案されている。これは、例えば、100nm以下の大きさの微小開口からしみ出す近接場光を用いて被処理体(に塗布されたレジスト)に光の波長限界を超える局所的な露光を行う装置である。
【0003】
現在の半導体産業では、基板としてのシリコンウエハが8インチ、12インチと大型化しスループットの向上が必須ではあるが、0.10μm以下の微細加工を可能とする露光装置においては、歩留まりの向上も不可欠であり、阻害要因として異物の除去はますます重要度を増している。まして、近接場光を用いた密着型露光装置においては、異物による歩留まりの低下が懸念される。特に、マスクとウエハの密着部分において、異物が挟みこまれると異物及びその周辺部までが密着できないために露光不良が発生する。また、マスクチャックは、圧力調節装置にマスクを保持させるためにあり、マスクチャックとマスクとの間に異物による隙間が生じると、機密性が維持できなくなり、圧力調整装置からの与圧によるマスクの弾性変形が阻害されることとなる。このため、このような密着型露光装置において異物除去は必要不可欠なものとなっている(例えば、特許文献1参照)ウエハにおいてもウエハを保持するウエハチャックとウエハとの間に異物が挟み込まれるとその異物によりウエハの露光面の平面度が悪化し露光パターンのむらやマスクパターン部材のマスク母材からの剥がれが発生する。
【0004】
【特許文献1】
特開平7−151691号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
前記の近接場光を用いた露光装置は、マスクとウエハ上のレジストとが密着した方式であり、どうしてもマスクとウエハ上のレジストとが剥離する時に異物(主にレジストの破片)が発生してしまう。そこで、ステップ・アンド・リピートの間に逐次マスクの異物除去を実施することは必須事項となるが、それでもマスクとウエハ上のレジストとが剥離動作やマスクの異物除去を実施するための異物除去機構位置への移動によるところの異物の飛散は回避できない。また、マスク搬送ハンドに関わる搬送途中での異物の付着及び異物の飛散やウエハ搬送ハンド関わる搬送途中での異物の付着及び異物の飛散も有り得、そして、飛散した異物がマスクチャックに付着したりウエハチャックに付着したりする可能性もある。従来より、露光に深く関連する部署においては、特にマスクに付着した異物の除去、マスクチャックに付着した異物の除去及びウエハチャックに付着した異物の除去は実施されてはいたが、系統立てることなく、独立して実施されていた。そのため、前記各部署のなかで配置的に一番下部にあるウエハチャックは、異物除去を実施したにも関わらず異物が付着してしまっていたというケースがあった。これは、上部にあるマスクチャックやマスクについての異物除去動作を実施したことで異物が浮遊しウエハチャック上に付着したことも要因の一つであると考えられる。このように、特にウエハチャックにおいては、事前に異物除去をほどこしたにもかかわらずウエハチャック上に異物の再付着を余儀なくされるケースが発生するという問題があった。
【0006】
本発明の目的は、以上の問題を解決するもので、異物の再付着を防ぐことができ、0.10μm以下の微細加工を可能にする露光装置の歩留まりの向上させる異物除去方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決する為になされたものであり、露光装置内にマスク搬送ハンドの洗浄ユニット、マスクチャックの洗浄ユニット、マスク(ウエハ上のレジストとの密着面)の洗浄ユニット、ウエハ搬送ハンドの洗浄ユニット、ウエハチャックの洗浄ユニットを装備し、これらの洗浄ユニットについて順序立てて異物除去を実施することで、無駄のない一環した異物除去を行う。なお、これらの洗浄ユニットは異物検査をする顕微鏡と異物除去をする洗浄機構部を備えている。
【0008】
そして、マスクについての異物検査及び異物除去工程1、マスク搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程2、マスクチャックについての異物検査及び異物除去工程3、ウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4、ウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5から成る。
【0009】
即ち、マスクをマスクチャックへ搬送する前にマスクについての異物検査及び異物除去工程1を実施し、マスク搬送動作を実施する前にマスク搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程2を実施し、マスクチャックについての異物検査及び異物除去工程3を実施し、更に密着露光を実施する前にマスクのウエハとの密着部分には異物検査及び異物除去工程1を実施する。ここまでの一連した工程1,2,3,1を工程Aとする。また、ウエハをウエハチャックへ搬送する前にウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4を実施し、ウエハチャックにウエハをセッティングする前にウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5を実施する。ここまでの一連した工程4,5を工程Bとすると、工程Bは、工程Aを実施後に実施する。1枚のウエハにおいては、密着露光を実施するごとにマスクのウエハとの密着部分には異物検査及び異物除去工程1を実施する。この工程をCとする。1枚のウエハについて密着露光が各エリア全てを終了した後においては、ウエハをウエハ搬送ハンドが搬出する前にウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4を実施し、次のウエハをウエハチャックに搬入する前にウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4を実施する。ここまでの一連した工程4、4を工程Dとする。次のウエハがウエハチャックに搬入される前にウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5を実施する。この工程をEとする。工程Eは、工程C及び工程Dを実施後に実施する。ロットの最終ウエハの全露光が終了した後においては、マスクチャックから露光に使用したマスクを搬出する前にマスク搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程2を実施する。マスクチャックからマスクを搬出した後にマスク搬出ハンドには異物検査及び異物除去工程2を実施し、マスクチャックについての異物検査及び異物除去工程3を実施する。ここまでの一連した工程をFとする。工程Fは、工程C実施後に実施。そして最終ウエハがウエハチャックから搬出された後にウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5を実施することで、無駄のない一環した異物除去を行う。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に異物除去方法の一実施形態について、添付の図1、図2、図3を参照して説明する。
【0011】
(実施例)
図1は今回発明した近接場露光装置の標準的な構成図である。
【0012】
1は露光エネルギーを照射するための光源。2は効率的に光源を照射を行なうための光学系。3は露光マスク、4は露光マスク3を支持するマスクチャック、5、6は露光マスク3をウエハに密着さすための加圧部である。7はウエハ、8はウエハを支持するウエハチャック、9はウエハチャック8のポジションをXYZ方向に移動するXYZステージである。また、10はXYZステージ9のうちのXYステージ上に搭載された露光マスク3及びマスクチャック4に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。11は、加圧部5に備えられたウエハチャック8に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。12はウエハ自動搬送を行なうウエハ搬送ハンドである。13はウエハ搬送ハンド12に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。14は露光マスクを自動搬送から露光装置本体のマスクチャック4への着脱までを行なうマスク搬送ハンドである。15はマスク搬送ハンド14に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。16は装置内への外部からの異物の流入を押えるために装置全体を箱型とし装置上部へサブμレベルの異物をフィルターリングできるクリーンユニットを設け気流の流れを上から下へ流れるDOWNフロータイプとした空調システム部である。
【0013】
次に図2に示したフローチャートを用いて、近接場光露光装置のマスク搬送ハンド14、マスクチャック4、露光マスク3、ウエハ搬送ハンド12、ウエハチャック8についての異物除去の手順を説明する。先ず露光マスク3をマスクチャック4に装着する前段階として、マスク搬送ハンド14の異物検査を実施しここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度マスク搬送ハンド14の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかマスク搬送ハンド14の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。次にマスクチャック4の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度マスクチャック4の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかマスクチャック4の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。マスク搬送ハンド14及びマスクチャック4の異物のないことが確認された時点で、露光マスク3をマスク搬送ハンド14で搬入しマスクチャック4へ装着する。マスクチャック4に装着された露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するか露光マスク3の交換等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。露光マスク3側の準備が整うと次にウエハ7のウエハチャック8への搬入及び装着へ進む。ウエハ7を搬送する前段階としてウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度ウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかウエハ搬送ハンド12の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。次にウエハチャック8の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度ウエハチャック8の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかウエハチャック8の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。ウエハ搬送ハンド12及びウエハチャック8の異物のないことが確認された時点で、ウエハ7をウエハ搬送ハンド12で搬入しウエハチャック8へ装着する。露光側露光マスク3と被露光側ウエハ7の準備が整ったところで第一枚目初回の近接場光での露光工程が実施される。露光工程において露光マスク3が加圧部5,6により加圧され弾性変形してウエハ7上のレジスト面に密着された後近接場光による露光が実施される。露光が終了すると露光マスク3への加圧を大気開放もしくは負圧にしてウエハ7上のレジスト面との密着状態から剥離させる。剥離された露光マスク3のウエハ7上のレジスト面との接触面にはレジストのかけらやレジスト上に存在していた異物の付着が想定される。そこでこの時点で露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、2回目の露光工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして2回目の露光工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するか露光マスク3の交換等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。このようにステップアンドリピートによる各露光工程ごとに露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査と異物除去の工程を繰り返し実施される。そして最終露光工程が終了しそれに伴った露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査と異物除去の工程が実施される。続いて全露光工程が終了したウエハ7はウエハチャック8から離脱され、ウエハ搬送ハンド12により搬出される。ウエハ搬送ハンド12は、全露光工程が終了したウエハ7の搬出を終了するとウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施しここで異物が発見されなければ、次のウエハ7の有無を確認する。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度ウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。次のウエハ7の有無を確認する。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかウエハ搬送ハンド12の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。ロットの途中で露光すべきウエハ7が存在する場合は、前述したように露光する前段階としてウエハチャック8の異物検査及び異物除去の工程、ウエハチャック8へのウエハ7の装着、露光マスク3の異物検査及び異物除去を露光ごとに実施しながらの近接場光によるステップナアンドリピート露光、ウエハ搬送ハンド12による全露光工程が終了したウエハ7の搬出、ウエハ搬送ハンド12の異物検査及び異物除去を繰り返す。1ロットにおける露光すべきウエハ7がなくなった場合は、続いて同じ露光マスク3で露光をおこなう第2ロットの有無を確認する。第2ロットがある場合は、前述と同様に各個所での異物検査及び異物除去を間に実施しながら近接場光の露光処理を実施する。同じ露光マスク3を用いてのロットが存在しない場合は、露光マスク3の交換作業に入る。ここで露光マスク3を搬出する前段階としてマスク搬送ハンド14の異物検査を実施しここで異物が発見されなければ、露光マスク3のマスクチャック4からの離脱へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度マスク搬送ハンド14の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして露光マスク3のマスクチャック4からの離脱へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかマスク搬送ハンド14の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。マスク搬送ハンド14がマスクチャック4から露光マスク3を離脱後搬出を実施する。そして、マスク搬送ハンド14による露光マスク3おの搬出が終了すると、再びマスク搬送ハンド14の異物検査及び異物除去を実施し、続いてマスクチャック4の異物検査及び異物除去を実施、その後ウエハチャック8の異物検査及び異物除去を実施する。ここまでが露光マスク3のマスクチャック4への搬入前段階のマスク搬送ハンド14の異物検査及び異物除去に始まり、近接場光による露光処理を経て、使用済み露光マスク3の搬出、そしてマスクチャック4の異物検査及び異物除去後のウエハチャック8の異物検査及び異物除去を終わりとする異物検査及び除去を一環して実施した処理工程となる。
【0014】
なお、上述した各個所での異物検査は、異物の配置、大きさ、予想される異物の種類を観察できる撮像観察系が有効である。そして、異物除去においては異物に対して的確に吐出するマルチノズルピエゾポンプ用い洗浄液としてはイソプロピルアルコールやアセトン、水とエチルアルコール混合液等を、リンス用液体としては水を使用する。洗浄後乾燥を行うブロー装置とウエハチャック8以外は洗浄により落下した異物や廃液を処理し外部へ排出する機能の付いた処理トレイが装備され、ウエハチャック8においては、ウエハチャック8の上面に複数本の環状溝が同心円状に形成されていて、ウエハ吸着面は撥水性であり、核環状溝と排出管はそれぞれ吸引孔によって連結されている機構とした。また、マスク搬送ハンド14については各々露光マスク3を搬入する側のハンドと搬出する側のハンドに機能を分離することにより異物検査及び異物検査工程を他の処理と並行して行うことが可能なる。同様にウエハ搬送ハンド12についても、ウエハ7を搬入する側のハンドと搬出する側のハンドに機能を分離することにより異物検査及び異物検査工程を他の処理と並行して行うことが可能なる。マスク搬送ハンド14に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニット15及びウエハ搬送ハンド12に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニット13は、露光装置本体の構成から、多種類のマスクを収めたマスク収納ユニット側やウエハ格納ユニット側に装備されていても良い。
【0015】
【発明の効果】
本発明により近接場光露光装置において、異物が付着していることによって露光処理を阻害する可能性のある個所の異物除去を効率よく段階的に実施することにより、極力露光処理を阻害性を排除することで、歩留まりを向上することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】近接場光露光装置の標準的な構成図。
【図2】露光処理工程前後の各異物検査&除去工程手順フローチャート。
【符号の説明】
1 露光光源
2 露光光学系
3 露光マスク
4 マスクチャック
5 露光マスク加圧部
6 露光マスク加圧部
7 ウエハ
8 ウエハチャック
9 XYZステージ
10 マスクチャック用洗浄ユニット
11 ウエハチャック用洗浄ユニット
12 ウエハ搬送ハンド
13 ウエハ搬送ハンド用洗浄ユニット
14 マスク搬送ハンド
15 マスク搬送ハンド用洗浄ユニット
16 空調システム部
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスクに形成されたパターンを露光転写する工程に使用される露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年の電子機器の小型及び薄型化の要請から、電子機器に搭載される半導体素子の微細化への要求はますます高くなっている。例えばマスク又はレチクル(以下、本出願ではこれらの用語を交換可能に使用する)のパターンに対するデザインルールはライ・アンド・スペース(L&S)130nmを量産工程で達成し、今後ますます小さくなることが予想される。投影露光装置においても一般に解像度は使用する光源の波長が略限界であると言われ、エキシマレーザーを使用しても投影露光装置は0.10μm以下のパターンを形成することが困難である。近年、0.10μm以下の微細加工を可能にする手段として近接場光学顕微鏡(Scanning Near Field Microscope:SNOM)を用いた微細加工装置が提案されている。これは、例えば、100nm以下の大きさの微小開口からしみ出す近接場光を用いて被処理体(に塗布されたレジスト)に光の波長限界を超える局所的な露光を行う装置である。
【0003】
現在の半導体産業では、基板としてのシリコンウエハが8インチ、12インチと大型化しスループットの向上が必須ではあるが、0.10μm以下の微細加工を可能とする露光装置においては、歩留まりの向上も不可欠であり、阻害要因として異物の除去はますます重要度を増している。まして、近接場光を用いた密着型露光装置においては、異物による歩留まりの低下が懸念される。特に、マスクとウエハの密着部分において、異物が挟みこまれると異物及びその周辺部までが密着できないために露光不良が発生する。また、マスクチャックは、圧力調節装置にマスクを保持させるためにあり、マスクチャックとマスクとの間に異物による隙間が生じると、機密性が維持できなくなり、圧力調整装置からの与圧によるマスクの弾性変形が阻害されることとなる。このため、このような密着型露光装置において異物除去は必要不可欠なものとなっている(例えば、特許文献1参照)ウエハにおいてもウエハを保持するウエハチャックとウエハとの間に異物が挟み込まれるとその異物によりウエハの露光面の平面度が悪化し露光パターンのむらやマスクパターン部材のマスク母材からの剥がれが発生する。
【0004】
【特許文献1】
特開平7−151691号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
前記の近接場光を用いた露光装置は、マスクとウエハ上のレジストとが密着した方式であり、どうしてもマスクとウエハ上のレジストとが剥離する時に異物(主にレジストの破片)が発生してしまう。そこで、ステップ・アンド・リピートの間に逐次マスクの異物除去を実施することは必須事項となるが、それでもマスクとウエハ上のレジストとが剥離動作やマスクの異物除去を実施するための異物除去機構位置への移動によるところの異物の飛散は回避できない。また、マスク搬送ハンドに関わる搬送途中での異物の付着及び異物の飛散やウエハ搬送ハンド関わる搬送途中での異物の付着及び異物の飛散も有り得、そして、飛散した異物がマスクチャックに付着したりウエハチャックに付着したりする可能性もある。従来より、露光に深く関連する部署においては、特にマスクに付着した異物の除去、マスクチャックに付着した異物の除去及びウエハチャックに付着した異物の除去は実施されてはいたが、系統立てることなく、独立して実施されていた。そのため、前記各部署のなかで配置的に一番下部にあるウエハチャックは、異物除去を実施したにも関わらず異物が付着してしまっていたというケースがあった。これは、上部にあるマスクチャックやマスクについての異物除去動作を実施したことで異物が浮遊しウエハチャック上に付着したことも要因の一つであると考えられる。このように、特にウエハチャックにおいては、事前に異物除去をほどこしたにもかかわらずウエハチャック上に異物の再付着を余儀なくされるケースが発生するという問題があった。
【0006】
本発明の目的は、以上の問題を解決するもので、異物の再付着を防ぐことができ、0.10μm以下の微細加工を可能にする露光装置の歩留まりの向上させる異物除去方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決する為になされたものであり、露光装置内にマスク搬送ハンドの洗浄ユニット、マスクチャックの洗浄ユニット、マスク(ウエハ上のレジストとの密着面)の洗浄ユニット、ウエハ搬送ハンドの洗浄ユニット、ウエハチャックの洗浄ユニットを装備し、これらの洗浄ユニットについて順序立てて異物除去を実施することで、無駄のない一環した異物除去を行う。なお、これらの洗浄ユニットは異物検査をする顕微鏡と異物除去をする洗浄機構部を備えている。
【0008】
そして、マスクについての異物検査及び異物除去工程1、マスク搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程2、マスクチャックについての異物検査及び異物除去工程3、ウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4、ウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5から成る。
【0009】
即ち、マスクをマスクチャックへ搬送する前にマスクについての異物検査及び異物除去工程1を実施し、マスク搬送動作を実施する前にマスク搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程2を実施し、マスクチャックについての異物検査及び異物除去工程3を実施し、更に密着露光を実施する前にマスクのウエハとの密着部分には異物検査及び異物除去工程1を実施する。ここまでの一連した工程1,2,3,1を工程Aとする。また、ウエハをウエハチャックへ搬送する前にウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4を実施し、ウエハチャックにウエハをセッティングする前にウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5を実施する。ここまでの一連した工程4,5を工程Bとすると、工程Bは、工程Aを実施後に実施する。1枚のウエハにおいては、密着露光を実施するごとにマスクのウエハとの密着部分には異物検査及び異物除去工程1を実施する。この工程をCとする。1枚のウエハについて密着露光が各エリア全てを終了した後においては、ウエハをウエハ搬送ハンドが搬出する前にウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4を実施し、次のウエハをウエハチャックに搬入する前にウエハ搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程4を実施する。ここまでの一連した工程4、4を工程Dとする。次のウエハがウエハチャックに搬入される前にウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5を実施する。この工程をEとする。工程Eは、工程C及び工程Dを実施後に実施する。ロットの最終ウエハの全露光が終了した後においては、マスクチャックから露光に使用したマスクを搬出する前にマスク搬送ハンドについての異物検査及び異物除去工程2を実施する。マスクチャックからマスクを搬出した後にマスク搬出ハンドには異物検査及び異物除去工程2を実施し、マスクチャックについての異物検査及び異物除去工程3を実施する。ここまでの一連した工程をFとする。工程Fは、工程C実施後に実施。そして最終ウエハがウエハチャックから搬出された後にウエハチャックについての異物検査及び異物除去工程5を実施することで、無駄のない一環した異物除去を行う。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に異物除去方法の一実施形態について、添付の図1、図2、図3を参照して説明する。
【0011】
(実施例)
図1は今回発明した近接場露光装置の標準的な構成図である。
【0012】
1は露光エネルギーを照射するための光源。2は効率的に光源を照射を行なうための光学系。3は露光マスク、4は露光マスク3を支持するマスクチャック、5、6は露光マスク3をウエハに密着さすための加圧部である。7はウエハ、8はウエハを支持するウエハチャック、9はウエハチャック8のポジションをXYZ方向に移動するXYZステージである。また、10はXYZステージ9のうちのXYステージ上に搭載された露光マスク3及びマスクチャック4に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。11は、加圧部5に備えられたウエハチャック8に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。12はウエハ自動搬送を行なうウエハ搬送ハンドである。13はウエハ搬送ハンド12に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。14は露光マスクを自動搬送から露光装置本体のマスクチャック4への着脱までを行なうマスク搬送ハンドである。15はマスク搬送ハンド14に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニットである。16は装置内への外部からの異物の流入を押えるために装置全体を箱型とし装置上部へサブμレベルの異物をフィルターリングできるクリーンユニットを設け気流の流れを上から下へ流れるDOWNフロータイプとした空調システム部である。
【0013】
次に図2に示したフローチャートを用いて、近接場光露光装置のマスク搬送ハンド14、マスクチャック4、露光マスク3、ウエハ搬送ハンド12、ウエハチャック8についての異物除去の手順を説明する。先ず露光マスク3をマスクチャック4に装着する前段階として、マスク搬送ハンド14の異物検査を実施しここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度マスク搬送ハンド14の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかマスク搬送ハンド14の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。次にマスクチャック4の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度マスクチャック4の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかマスクチャック4の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。マスク搬送ハンド14及びマスクチャック4の異物のないことが確認された時点で、露光マスク3をマスク搬送ハンド14で搬入しマスクチャック4へ装着する。マスクチャック4に装着された露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するか露光マスク3の交換等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。露光マスク3側の準備が整うと次にウエハ7のウエハチャック8への搬入及び装着へ進む。ウエハ7を搬送する前段階としてウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度ウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかウエハ搬送ハンド12の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。次にウエハチャック8の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、次の部署の異物検査工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度ウエハチャック8の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして次の部署の異物検査工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかウエハチャック8の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。ウエハ搬送ハンド12及びウエハチャック8の異物のないことが確認された時点で、ウエハ7をウエハ搬送ハンド12で搬入しウエハチャック8へ装着する。露光側露光マスク3と被露光側ウエハ7の準備が整ったところで第一枚目初回の近接場光での露光工程が実施される。露光工程において露光マスク3が加圧部5,6により加圧され弾性変形してウエハ7上のレジスト面に密着された後近接場光による露光が実施される。露光が終了すると露光マスク3への加圧を大気開放もしくは負圧にしてウエハ7上のレジスト面との密着状態から剥離させる。剥離された露光マスク3のウエハ7上のレジスト面との接触面にはレジストのかけらやレジスト上に存在していた異物の付着が想定される。そこでこの時点で露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施する。ここで異物が発見されなければ、2回目の露光工程へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして2回目の露光工程へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するか露光マスク3の交換等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。このようにステップアンドリピートによる各露光工程ごとに露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査と異物除去の工程を繰り返し実施される。そして最終露光工程が終了しそれに伴った露光マスク3のウエハとの接触面の異物検査と異物除去の工程が実施される。続いて全露光工程が終了したウエハ7はウエハチャック8から離脱され、ウエハ搬送ハンド12により搬出される。ウエハ搬送ハンド12は、全露光工程が終了したウエハ7の搬出を終了するとウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施しここで異物が発見されなければ、次のウエハ7の有無を確認する。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度ウエハ搬送ハンド12の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。次のウエハ7の有無を確認する。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかウエハ搬送ハンド12の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。ロットの途中で露光すべきウエハ7が存在する場合は、前述したように露光する前段階としてウエハチャック8の異物検査及び異物除去の工程、ウエハチャック8へのウエハ7の装着、露光マスク3の異物検査及び異物除去を露光ごとに実施しながらの近接場光によるステップナアンドリピート露光、ウエハ搬送ハンド12による全露光工程が終了したウエハ7の搬出、ウエハ搬送ハンド12の異物検査及び異物除去を繰り返す。1ロットにおける露光すべきウエハ7がなくなった場合は、続いて同じ露光マスク3で露光をおこなう第2ロットの有無を確認する。第2ロットがある場合は、前述と同様に各個所での異物検査及び異物除去を間に実施しながら近接場光の露光処理を実施する。同じ露光マスク3を用いてのロットが存在しない場合は、露光マスク3の交換作業に入る。ここで露光マスク3を搬出する前段階としてマスク搬送ハンド14の異物検査を実施しここで異物が発見されなければ、露光マスク3のマスクチャック4からの離脱へと進む。もし異物が発見されると異物の洗浄及び乾燥を実施し、再度マスク搬送ハンド14の異物検査を実施し異物を除去したことを確認する。そして露光マスク3のマスクチャック4からの離脱へと進む。異物の除去が確認できなかった場合は、再度異物除去を実施するかマスク搬送ハンド14の保守作業等を実施するかは担当者の判断にゆだねることとする。マスク搬送ハンド14がマスクチャック4から露光マスク3を離脱後搬出を実施する。そして、マスク搬送ハンド14による露光マスク3おの搬出が終了すると、再びマスク搬送ハンド14の異物検査及び異物除去を実施し、続いてマスクチャック4の異物検査及び異物除去を実施、その後ウエハチャック8の異物検査及び異物除去を実施する。ここまでが露光マスク3のマスクチャック4への搬入前段階のマスク搬送ハンド14の異物検査及び異物除去に始まり、近接場光による露光処理を経て、使用済み露光マスク3の搬出、そしてマスクチャック4の異物検査及び異物除去後のウエハチャック8の異物検査及び異物除去を終わりとする異物検査及び除去を一環して実施した処理工程となる。
【0014】
なお、上述した各個所での異物検査は、異物の配置、大きさ、予想される異物の種類を観察できる撮像観察系が有効である。そして、異物除去においては異物に対して的確に吐出するマルチノズルピエゾポンプ用い洗浄液としてはイソプロピルアルコールやアセトン、水とエチルアルコール混合液等を、リンス用液体としては水を使用する。洗浄後乾燥を行うブロー装置とウエハチャック8以外は洗浄により落下した異物や廃液を処理し外部へ排出する機能の付いた処理トレイが装備され、ウエハチャック8においては、ウエハチャック8の上面に複数本の環状溝が同心円状に形成されていて、ウエハ吸着面は撥水性であり、核環状溝と排出管はそれぞれ吸引孔によって連結されている機構とした。また、マスク搬送ハンド14については各々露光マスク3を搬入する側のハンドと搬出する側のハンドに機能を分離することにより異物検査及び異物検査工程を他の処理と並行して行うことが可能なる。同様にウエハ搬送ハンド12についても、ウエハ7を搬入する側のハンドと搬出する側のハンドに機能を分離することにより異物検査及び異物検査工程を他の処理と並行して行うことが可能なる。マスク搬送ハンド14に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニット15及びウエハ搬送ハンド12に付着した異物を検査し洗浄乾燥させる洗浄ユニット13は、露光装置本体の構成から、多種類のマスクを収めたマスク収納ユニット側やウエハ格納ユニット側に装備されていても良い。
【0015】
【発明の効果】
本発明により近接場光露光装置において、異物が付着していることによって露光処理を阻害する可能性のある個所の異物除去を効率よく段階的に実施することにより、極力露光処理を阻害性を排除することで、歩留まりを向上することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】近接場光露光装置の標準的な構成図。
【図2】露光処理工程前後の各異物検査&除去工程手順フローチャート。
【符号の説明】
1 露光光源
2 露光光学系
3 露光マスク
4 マスクチャック
5 露光マスク加圧部
6 露光マスク加圧部
7 ウエハ
8 ウエハチャック
9 XYZステージ
10 マスクチャック用洗浄ユニット
11 ウエハチャック用洗浄ユニット
12 ウエハ搬送ハンド
13 ウエハ搬送ハンド用洗浄ユニット
14 マスク搬送ハンド
15 マスク搬送ハンド用洗浄ユニット
16 空調システム部
Claims (1)
- 装置内にマスクに付着した異物を除去する機構、マスクチャックに付着した異物を除去する機構、マスク搬送ハンドに付着した異物を除去する機構、ウエハチャックに付着した異物を除去する機構及びウエハ搬送ハンドに付着した異物を除去する機構を有し、マスクの異物除去、マスクチャックの異物除去、マスク搬送ハンドの異物除去、ウエハチャックの異物除去及びウエハ搬送ハンドの異物除去の順番を特徴とする近接場光露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003137309A JP2004342826A (ja) | 2003-05-15 | 2003-05-15 | 近接場光露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003137309A JP2004342826A (ja) | 2003-05-15 | 2003-05-15 | 近接場光露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004342826A true JP2004342826A (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=33527003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003137309A Withdrawn JP2004342826A (ja) | 2003-05-15 | 2003-05-15 | 近接場光露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004342826A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008129982A1 (ja) * | 2007-04-19 | 2008-10-30 | Nikon Corporation | 基板処理方法及びシステム、並びにデバイス製造方法 |
-
2003
- 2003-05-15 JP JP2003137309A patent/JP2004342826A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2008129982A1 (ja) * | 2007-04-19 | 2008-10-30 | Nikon Corporation | 基板処理方法及びシステム、並びにデバイス製造方法 |
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