JP2004341073A - 液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワークを支持するワーク搬送テーブルと、ワーク搬送テーブルを装置本体２に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器１５を有する移動距離検出手段と、液滴吐出装置１の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、移動距離検出手段および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備える。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワークを支持するワーク搬送テーブルと、ワーク搬送テーブルを装置本体２に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器１５を有する移動距離検出手段と、液滴吐出装置１の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、移動距離検出手段および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備える。
【選択図】図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェットプリンターのインクジェット方式（液滴吐出方式）を応用して、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに使用する産業用の液滴吐出装置（インクジェット描画装置）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような液滴吐出装置は、基板等のワークと、液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ液滴を吐出することにより、ワーク上に所定のパターンを形成（描画）するものである。従来の液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッドを移動させつつ、その液滴吐出ヘッドの移動距離を検出し、その検出結果に基づいて所定のタイミングで液滴を吐出する。また、従来の液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドの移動距離を検出する手段として、液滴吐出ヘッドの移動経路に沿って設けられたリニアエンコーダフィルムと、液滴吐出ヘッドに設けられたエンコーダ素子（発光素子および受光素子）とで構成されたリニアエンコーダを有しており、このリニアエンコーダ（エンコーダ素子）から出力されるエンコーダパルスから、前記液滴を吐出するタイミングを生成している。
【０００４】
しかしながら、液滴吐出ヘッドは大型化する傾向にあり、前記のような従来の液滴吐出装置では、液滴を吐出する際、その液滴吐出ヘッドを移動させるので、液滴吐出ヘッドが大きく振動してしまうという欠点がある。
特に、前述したような用途に使用する液滴吐出装置は、形成（描画）するパターンに極めて高い精度が必要とされるが、前記従来の液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッドの移動距離を検出し、その検出結果に基づいて液滴を吐出するタイミングを生成するので、液滴吐出ヘッドが振動して液滴吐出ヘッドが傾くと、これにより、リニアエンコーダフィルムに対するエンコーダ素子の位置が変わってしまい、液滴吐出ヘッドの移動距離を正確に検出することができず、液滴を吐出するタイミング（吐出タイミング）が大きくずれてしまう。このため、高い精度で安定してパターンを形成（描画）するのが困難であった。
また、吐出された液滴がリニアエンコーダに付着し（リニアエンコーダが汚れ）、これにより、そのリニアエンコーダが故障する場合がある。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−２０５４８７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる液滴吐出装置および液滴吐出システム、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器を有する移動距離検出手段と、
当該液滴吐出装置の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、
前記移動距離検出手段および前記気圧検出手段の検出結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【０００８】
すなわち、液滴吐出ヘッドに比べて振動や傾きの小さいワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により検出（測定）し、この検出結果および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【０００９】
特に、移動距離検出手段および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、気圧変動に伴う移動距離検出手段の検出値の変化分を補正することができ、これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１０】
また、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により、ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するので、ワーク搬送テーブルが傾いたとしても、その傾斜分も含めてワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を検出することができ、これによって液滴を正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。すなわち、Ｙ軸方向移動機構の精度が低くてもその影響を抑制（または阻止）することができ、このため、Ｙ軸方向移動機構を容易かつ安価に製造することができる。
【００１１】
また、吐出液滴によるパターン形成距離（描画距離）が長くなっても、前記移動距離を正確に検出することができ、これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。
また、レーザー測長器を構成する各部のうちの主要部は、ワークや液滴吐出ヘッドから所定距離離間した位置に設置されるので、液滴吐出ヘッドから吐出される液滴によってレーザー測長器が汚れてしまうのを防止することができ、これにより、レーザー測長器の液滴による故障を防止することができる。
【００１２】
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器を有する移動距離検出手段と、
当該液滴吐出装置の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、
前記気圧検出手段の検出結果に基づいて前記移動距離検出手段の検出結果を補正し、該補正後の検出結果に基づいて前記液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１３】
すなわち、液滴吐出ヘッドに比べて振動や傾きの小さいワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により検出（測定）し、この検出結果および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００１４】
特に、気圧検出手段の検出結果に基づいて移動距離検出手段の検出結果を補正し、この補正後の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、気圧変動に伴う移動距離検出手段の検出値の変化分を補正することができ、これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１５】
また、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により、ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するので、ワーク搬送テーブルが傾いたとしても、その傾斜分も含めてワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を検出することができ、これによって液滴を正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。すなわち、Ｙ軸方向移動機構の精度が低くてもその影響を抑制（または阻止）することができ、このため、Ｙ軸方向移動機構を容易かつ安価に製造することができる。
【００１６】
また、吐出液滴によるパターン形成距離（描画距離）が長くなっても、前記移動距離を正確に検出することができ、これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。
また、レーザー測長器を構成する各部のうちの主要部は、ワークや液滴吐出ヘッドから所定距離離間した位置に設置されるので、液滴吐出ヘッドから吐出される液滴によってレーザー測長器が汚れてしまうのを防止することができ、これにより、レーザー測長器の液滴による故障を防止することができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置では、前記制御手段は、前記気圧検出手段の検出結果に基づいて、前記レーザー測長器から発せられるレーザー光の波長または当該波長に対応する物理量を求め、該求めた波長または物理量に基づいて前記移動距離検出手段の検出結果を補正するよう構成されているのが好ましい。
これにより、気圧変動に伴う移動距離検出手段の検出値の変化分を補正することができ、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置では、標準気圧における液滴の吐出タイミングは、前記レーザー測長器から出力される基準タイミング信号に同期し、かつ、該基準タイミング信号の周期の複数倍の周期を有するのが好ましい。
これにより、液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１９】
本発明の液滴吐出装置では、液滴の吐出タイミングは、前記補正により、前記標準気圧における液滴の吐出タイミングに対し、前記基準タイミング信号の少なくとも１個分、時間的に前または後へずれるか、または、前記標準気圧における液滴の吐出タイミングと同一となるよう構成されているのが好ましい。
これにより、液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２０】
本発明の液滴吐出装置では、当該液滴吐出装置は、内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用されるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記条件には、温度および／または湿度が含まれるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２１】
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー測長器は、レーザー光の光路を少なくとも１回屈曲させる屈曲手段を備えるのが好ましい。
これにより、レーザー測長器を構成する各部を任意の位置に配置することができ、また、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー測長器は、レーザー光を発する発光部と、前記発光部から発せられたレーザー光を反射する反射部と、前記反射部で反射したレーザー光を受光する受光部とを備え、
前記反射部は、前記ワーク搬送テーブル側に設けられ、前記発光部および前記受光部は、前記装置本体側に設けられているのが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２２】
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー測長器は、レーザー光を発する発光部およびレーザー光を受光する受光部を有するレーザー測長器センサヘッドと、レーザー光を反射する反射部と、レーザー光の光路を少なくとも１回屈曲させる屈曲手段とを備え、
前記反射部は、前記ワーク搬送テーブル側に設けられ、前記レーザー測長器センサヘッドおよび前記屈曲手段は、前記装置本体側に設けられており、
前記発光部から発せられたレーザー光が前記反射部に照射され、前記反射部で反射したレーザー光が前記受光部で受光され、かつ、前記レーザー測長器センサヘッドと前記反射部との間でレーザー光の光路が前記屈曲手段によって少なくとも１回屈曲するように前記レーザー測長器を構成する各部が配置されているのが好ましい。
【００２３】
前記屈曲手段を設けることにより、レーザー測長器を構成する各部を任意の位置に配置することができ、また、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
また、前記反射部を前記ワーク搬送テーブル側に設け、前記レーザー測長器センサヘッドおよび前記屈曲手段を前記装置本体側に設けることにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２４】
本発明の液滴吐出装置では、前記反射部は、前記ワーク搬送テーブルまたはその近傍に設けられているのが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルが傾いたとしても、その傾斜分も含めてワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を正確に検出することができ、これによって液滴をさらに正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００２５】
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー光の光路は、ほぼ同一の平面内にあるのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
本発明の液滴吐出装置では、前記平面は、水平面であるのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置のさらなる小型化（省スペース化）が図れる。
【００２６】
本発明の液滴吐出装置では、前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構を有するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置では、前記Ｙ軸方向を主走査方向とし、前記Ｘ軸方向を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２８】
本発明の液滴吐出システムは、本発明の液滴吐出装置と、
前記液滴吐出装置を収容し、その内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００２９】
本発明の液滴吐出システムでは、前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置をさらに備えることが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電気光学装置を提供することができる。
【００３０】
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、ワークに対するパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電子機器を提供することができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１および図２は、それぞれ、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムの実施形態を示す平面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図１および図２中の右方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図１および図２中の左方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図１中の下方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図１中の上方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００３２】
図１および図２に示す液滴吐出システム（液滴吐出系）１０は、液滴吐出ヘッド１１１を有する液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１と、この液滴吐出装置１を収容するチャンバ９１とを備えている。
液滴吐出装置１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものである。液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。
【００３３】
また、本発明で対象とするワークは、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型のワーク（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００３４】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワーク搬送テーブル（ワーク搬送ステージ）としての基板搬送テーブル（基板搬送ステージ）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、給液タンク、排液タンクおよび再利用タンクを備えたタンクユニット１３と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板搬送テーブル３の移動距離を光学的に検出（測定）するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、液滴吐出装置１の近傍の気圧、すなわち、チャンバ９１内の気圧を検出（測定）する気圧計（気圧検出手段）１７と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００３５】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００３６】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板搬送テーブル３は、リニアモータ５１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板搬送テーブル３上に載置される。
【００３７】
液滴吐出装置１では、基板搬送テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板Ｗから、基板搬送テーブル３より小さい比較的小型の基板Ｗまで、様々な大きさおよび形状の基板Ｗを対象にすることができる。基板Ｗは、原則としては基板搬送テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板Ｗの場合には、基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００３８】
図１に示すように、基板搬送テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット１０４が設置されている。描画前フラッシングユニット１０４には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段（移動距離測定手段）としてのレーザー測長器１５により検出（測定）される。
【００３９】
図３は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す平面図、図４は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す側面図である。
レーザー測長器１５は、光（レーザー光）の干渉を利用して対象物の移動距離（変位）を光学的に検出（測定）する装置であり、図３および図４に示すように、装置本体２側に設置されたレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー（屈曲手段）１５２およびレーザー測長器本体１５３と、基板搬送テーブル３側に設置された反射部としてのコーナーキューブ（プリズム）１５４とを有している。
【００４０】
レーザー測長器センサヘッド１５１は、レーザー光を発する（照射する）発光部と、レーザー光を受光して光電変換する受光部（レーザー検出部）と、前記発光部から発せられ、前記コーナーキューブ１５４で反射したレーザー光を、前記発光部から発せられた基準レーザー光と干渉させて前記受光部に照射する干渉部と、前記受光部からのアナログ信号を信号処理（例えば、２値化）して第１のパルス信号を生成するとともに、この第１のパルス信号に基づいて、第１のパルス信号に対して位相が９０°所定方向（遅れ方向または進み方向）にずれた第２のパルス信号を生成するパルス信号生成部（いずれも図示せず）などを有している。また、レーザー測長器本体１５３は、レーザー測長器センサヘッド１５１を駆動するための電源（図示せず）などを有している。
【００４１】
レーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２およびレーザー測長器本体１５３は、それぞれ、装置本体２の上面に、Ｘ軸方向に沿って、図３中下側から上側に向かってレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２、レーザー測長器本体１５３の順序で設置されている。また、コーナーキューブ１５４は、基板搬送テーブル３と一体的にＹ軸方向に移動する後述するベース１０８に設けられた支持部１０９の先端（Ｙ軸方向の端部）に設置されている。このコーナーキューブ１５４と前記ミラー１５２とを結ぶ直線（線分）は、Ｙ軸とほぼ平行である。なお、コーナーキューブ１５４は、前記ベース１０８に限らず、例えば、基板搬送テーブル３に設置されていてもよい。
【００４２】
図３および図４中の一点鎖線は、レーザー光の光路を示すが、このレーザー光の光路は、ほぼ同一の水平面（Ｘ−Ｙ平面）内にある。
レーザー測長器センサヘッド１５１の発光部からは、レーザー光が発せられ、Ｘ軸方向に沿って出射される。このレーザー光は、ミラー１５２で９０°に屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ１５４に照射される。コーナーキューブ１５４で反射したレーザー光（反射光）は、ミラー１５２で９０°に屈曲してＸ軸方向に進み、レーザー測長器センサヘッド１５１に戻る。レーザー測長器センサヘッド１５１では、このレーザー測長器センサヘッド１５１に戻ってきたレーザー光は、干渉部により、前記発光部から発せられた基準レーザー光と干渉するように、前記受光部に照射される。
また、このレーザー測長器１５の近傍、すなわち、レーザー測長器センサヘッド１５１の側方（図３中下側）に、気圧計１７が設置されている。
【００４３】
液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）および気圧計１７によって検出されたチャンバ９１内の気圧に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出タイミングが生成される。
なお、本実施形態では、レーザー光の光路は、ほぼ同一の水平面内にあるが、レーザー光の光路の位置する平面は、これに限らず、例えば、鉛直面であってもよい。この場合、例えば、図３および図４に示す構成において、図３中のミラー１５２の鉛直方向下側（図３中の紙面の裏側の位置）にレーザー測長器センサヘッド１５１を設置し、レーザー光の光路が、Ｙ軸方向からミラー１５２において鉛直方向下方に向かって９０°屈曲するよう構成する。
【００４４】
また、レーザー光の光路は、同一の平面内になくてもよい。
また、レーザー光の光路は、２回以上屈曲してもよい。すなわち、レーザー光の光路を屈曲させる屈曲手段が２以上の部材（光学部品）で構成されていてもよい。この場合、例えば、図３および図４に示す構成において、レーザー測長器センサヘッド１５１の位置に、レーザー測長器センサヘッド１５１に換えて、プリズムやミラーなどの光学部品を設置し、その光学部品の鉛直方向下側（図３中の紙面の裏側の位置）に前記レーザー測長器センサヘッド１５１を設置し、レーザー光の光路が、Ｘ軸方向から前記光学部品において鉛直方向下方に向かって９０°屈曲するよう構成する。
また、レーザー光の光路を屈曲させる屈曲手段としては、前記ミラー１５２に限らず、例えば、プリズムやハーフミラーなどの他の光学部品を用いてもよい。
【００４５】
図１および図２に示すように、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１が、基板搬送テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ６２の駆動により、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００４６】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、レーザー測長器１５および気圧計１７を用いて生成した吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００４７】
ここで、各液滴吐出ヘッド１１１には、それぞれ、後述するように、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が形成されており、各吐出ノズルに対し、それぞれ、図示しないピエゾ素子（圧電素子）を有する駆動部が形成されている。
後述する制御装置１６は、各液滴吐出ヘッド１１１に対し、それぞれ、図示しないヘッドドライバを介して前記各駆動部の駆動を制御することにより、所定の液滴吐出ヘッド１１１の所定の吐出ノズルからそれぞれ液滴を吐出する。この場合、例えば、ピエゾ素子に所定の電圧が印加されると、そのピエゾ素子が変形（伸縮）し、これにより対応する圧力室（液室）が加圧され、対応する吐出ノズルから所定量の液滴が吐出される。
【００４８】
図１２は、図１および図２に示す液滴吐出装置の制御装置（制御手段）を含む主要部を示すブロック図である。
制御装置（制御手段）１６は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御するものであり、図１２に示すように、各液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）の駆動を制御するヘッド駆動制御部（ヘッド駆動制御手段）７を備えている。ヘッド駆動制御部７は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）７１と、トリガ回路を有するトリガ基板７２と、ヘッドドライバを介して液滴吐出ヘッド１１１の駆動部（吐出ノズル）を駆動するヘッド駆動基板７３と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部７４とを備えている。なお、図１に示す構成では、制御装置１６は、後述するチャンバ９１の外部に設置されている。
【００４９】
この液滴吐出装置１において、液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの液滴吐出動作を行う際は、ＣＰＵ７１は、トリガ基板７２に対し、液滴の吐出タイミングの設定を行う。
また、トリガ基板７２は、ヘッド駆動基板７３に対し、設定された吐出タイミングで液滴の吐出指示（トリガ信号の送出）を行う。
ヘッド駆動基板７３は、前記トリガ基板７２から前記液滴の吐出指示（トリガ信号）を受けると、ヘッドドライバを介して、所定の液滴吐出ヘッド１１１の所定の駆動部（吐出ノズル）を駆動する。これにより、対応する液滴吐出ヘッド１１１の対応する吐出ノズルから液滴が吐出される。
【００５０】
次に、前記吐出タイミングの生成について説明する。
ヘッドユニット１１の液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出して基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する際は、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。
【００５１】
図１３は、レーザー測長器から出力される第１のパルス信号（Ａ相）および第２のパルス信号（Ｂ相）が示され、液滴を吐出するタイミングを説明するためのタイミングチャートである。
レーザー測長器センサヘッド１５１の受光部では、前記受光したレーザー光が光電変換され、この受光部からのアナログ信号は、前記パルス信号生成部において、信号処理（例えば、２値化）される。この場合、基板搬送テーブル３が移動しているので、パルス信号生成部では、図１３に示す第１のパルス信号（Ａ相）が生成される。また、パルス信号生成部では、この第１のパルス信号に基づいて、第１のパルス信号に対して位相が９０°所定方向（図示例では、遅れ方向）にずれた図１３に示す第２のパルス信号（Ｂ相）が生成される。
【００５２】
これら第１のパルス信号および第２のパルス信号は、基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）を示す。但し、第１のパルス信号および第２のパルス信号には、それぞれ、チャンバ９１内の気圧変動に伴う誤差が含まれており、この液滴吐出装置１では、その気圧変動分を補正する処理が行われる。なお、ここでは、理解を容易にするため、まず、チャンバ９１内が標準状態（標準気圧）であって補正を行わない場合を説明し、補正については、後で詳述する。
【００５３】
前記第１のパルス信号および第２のパルス信号は、それぞれ、制御装置１６のヘッド駆動制御部７のトリガ基板７２に入力される。制御装置１６では、これら第１のパルス信号および第２のパルス信号、すなわち、レーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出タイミングが生成される。これら第１のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りと、第２のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りとをそれぞれ、吐出タイミングに利用することができる。以下、これら第１のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りと、第２のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りとを示す信号を、それぞれ、「基準タイミング信号」と言い、図１３中、一点鎖線で示す。
ここで、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する際は、そのパターンに基づいて、対応する液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出希望タイミングが決定される。
【００５４】
一方、ヘッド駆動制御部７のトリガ基板７２では、図示しないカウンタにより、前記第１のパルス信号の立ち上がり、第２のパルス信号の立ち上がり、第１のパルス信号の立ち下り、第２のパルス信号の立ち下りの各基準タイミング信号を順次カウント（計数）する。
そして、この基準タイミング信号を分周して液滴吐出用のタイミング信号（吐出タイミング）を生成し、この生成されたタイミング信号に同期して、液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出する。
【００５５】
すなわち、トリガ基板７２では、レーザー測長器１５から入力される基準タイミング信号をｎ個（但し、ｎは、２以上の整数）カウントしたときを液滴の吐出タイミングとする。そして、その吐出タイミングにおいて液滴を吐出する場合は（その吐出タイミングが吐出希望タイミングであれば）、その吐出タイミングに同期して、ヘッド駆動基板７３に対し、液滴の吐出指示（トリガ信号の送出）を行う。
ヘッド駆動基板７３は、前記トリガ基板７２から前記液滴の吐出指示（トリガ信号）を受けると、ヘッドドライバを介して、所定の液滴吐出ヘッド１１１の所定の駆動部（吐出ノズル）を駆動する。これにより、対応する液滴吐出ヘッド１１１の対応する吐出ノズルから液滴が吐出される。
【００５６】
このように、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングは、基準タイミング信号に同期し、かつ、基準タイミング信号の周期の複数倍の周期を有する。図１３（ａ）には、標準状態における液滴の吐出タイミングとして、ｎ＝３に設定された例が示されており、その吐出タイミングは、基準タイミング信号に同期し、かつ、基準タイミング信号の周期の３倍の周期を有する。
なお、前記ｎは、特に限定されず、基準タイミング信号の周期、すなわち、隣り合うタイミング信号間の間隔（１ピッチ）や、液滴の吐出において要求される分解能などの諸条件によって適宜設定されるが、例えば、２〜９程度とするのが好ましい。
【００５７】
以上述べたような液滴の吐出制御は、各液滴吐出ヘッド１１１の各吐出ノズルの駆動部に対してそれぞれ行われる。
なお、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動制御は、前記レーザー測長器１５から出力される前記第１のパルス信号および前記第２のパルス信号、すなわち、基準タイミング信号に基づいて行われる。
【００５８】
以上の動作（吐出タイミングの生成）は、チャンバ９１内の状態が予め設定されている標準状態のとき、すなわち、チャンバ９１内の気圧が予め設定されている標準気圧のときの動作であり、この液滴吐出装置１は、チャンバ９１内の状態が標準状態のとき、すなわち、チャンバ９１内の気圧が標準気圧のとき、レーザー測長器１５により検出される基板搬送テーブル３の移動距離（変位）が、実際の基板搬送テーブル３の移動距離と等しくなるように設定されている。
【００５９】
ところで、チャンバ９１内の気圧が変動すると、チャンバ９１内の空気の屈折率が変化し、レーザー測長器１５におけるレーザー光の波長（レーザー波長）が変化する。これにより、レーザー測長器１５により検出される基板搬送テーブル３の移動距離（変位）は、実際の基板搬送テーブル３の移動距離と異なるものとなり、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングがずれてしまう。
【００６０】
そこで、この液滴吐出装置１では、気圧計（気圧検出手段）１７により、チャンバ９１内（レーザー光の光路となる部分）の気圧を検出（測定）し、検出されたチャンバ９１内の気圧（検出値）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングを補正する。
すなわち、液滴吐出装置１では、レーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）を、気圧計１７によって検出されたチャンバ９１内の気圧に基づいて補正し、この補正後の移動距離に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出タイミングが生成される。
【００６１】
この場合、気圧計１７の検出結果、すなわち、検出されたチャンバ９１内の気圧に基づいて、レーザー測長器１５におけるレーザー光（レーザー測長器１５の発光部から発せられるレーザー光）の波長またはその波長に対応する物理量を求め、求めた波長または物理量に基づいて、レーザー測長器１５の検出結果、すなわち、検出された基板搬送テーブル３の移動距離を補正する。
【００６２】
前記波長に対応する物理量としては、例えば、チャンバ９１内の雰囲気（例えば、空気）の屈折率等が挙げられる。
なお、後述するように、この液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度が管理された環境下、すなわち、内部の雰囲気の条件（温度および湿度）が管理されたチャンバ９１内に置かれている。このため、この液滴吐出装置１では、チャンバ９１内の雰囲気の温度、湿度、二酸化炭素濃度等の各条件は、それぞれ、一定に保持され、また、その値も既知である。従って、これらの変動による液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングのずれは、実質的になく、補正は不要である。
【００６３】
次に、液滴吐出装置１におけるチャンバ９１内の気圧変動に基づく液滴を吐出するタイミングの補正（補正の原理）について説明する。
この液滴吐出装置１では、チャンバ９１内の状態が予め設定されている標準状態のとき、すなわち、チャンバ９１内の気圧が予め設定されている標準気圧のときを基準とし、それに対し、補正を行う。
【００６４】
まず、液滴吐出装置１の使用環境（チャンバ９１内）における基板搬送テーブル３の実際の移動距離（変位ｘ）は、下記式（１）で表される。
（変位ｘ）＝（カウント値Ｃｎ）×（分解能ｒ）×（対象物温度補正係数ｋ）
・・・式（１）
（カウント値Ｃｎ）：基準タイミング信号（ＡＢ相信号を４逓倍した後のパルス）のカウント値
（分解能ｒ）：（使用環境でのレーザー波長λ）／８
なお、本実施形態では、式（１）において、対象物温度補正係数ｋを１とするが、これに限らず、ｋを算出し、その値を式（１）に代入してもよい。
【００６５】
また、上記式（１）中の使用環境でのレーザー波長λは、下記式（２）で表される。
（使用環境でのレーザー波長λ）＝［（標準状態でのレーザー波長λ０）／（使用環境での空気の屈折率ｎｐｒｏｐ）］×１．０００２７１３ ・・・式（２）
なお、標準状態でのレーザー波長λ０の値は、実験的に求めることがきる（既知である）。
【００６６】
また、上記式（２）中の使用環境での空気の屈折率ｎｐｒｏｐは、ｔ：使用環境での温度（℃）、ｐ：使用環境での気圧（Ｐａ）、ｈ：使用環境での湿度（％）、ｘｃ：使用環境での二酸化炭素濃度（ｐｐｍ）としたとき、下記式（３）で表される（計算結果の精度１×１０−７）。
ｎｐｒｏｐ＝１＋（ρａ／ρａｘｓ）（ｎａｘｓ−１）＋（ρｗ／ρｗｓ）（ｎｗａ−１）（ｎａｘｓ−１）＝２．７６５３０×１０−４［１＋０．５３４×１０−６（ｘｃ−４５０）］ ・・・式（３）
（ｎｗａ−１）＝３．０８３×１０−６
ρａ＝０．１２０２７１６７０ｐＭａ（１−ｘｗ）／ＺＴ
ρａｘｓ＝４２．３０９５５５７１５６３９７６Ｍａ
ρｗ＝０．００２１６６６９４１３ｐｘｗ／ＺＴ
ρｗｓ＝０．００９８５９３８１０９
Ｔ＝２７３．１５＋ｔ
Ｚ＝１−（ｐ／Ｔ）［１．５８１２３×１０−６−２．９３３１×１０−８ｔ＋１．１０４３×１０−１０ｔ２＋（５．７０７×１０−６−２．０５１×１０−８ｔ）ｘｗ＋（１．９８９８×１０−４−２．３７６×１０−６ｔ）ｘｗ ２］＋（ｐ／Ｔ）２（１．８３×１０−１１−０．７６５×１０−８ｘｗ ２）
ｘｗ＝（１．０００６２＋３．１４×１０−８ｐ＋５．６×１０−７ｔ２）（ｈ／１００）×ｅｘｐ［（１．２３７８８４７×１０−５Ｔ２−１．９１２１３１６×１０−２Ｔ＋３３．９３７１１０４７−６．３４３１６４５×１０３／Ｔ）／ｐ］
Ｍａ＝２．８９６３５×１０−２＋１．２０１１×１０−８（ｘｃ−４００）
【００６７】
ここで、前述したように、チャンバ９１内の雰囲気の条件、すなわち、温度、湿度および二酸化炭素濃度は、それぞれ、管理され、所定の値（一定値）に保持されているので、上記ｔ、ｈおよびｘｃは、それぞれ、既知であり、ｐのみが気圧計１７で検出（測定）され、ヘッド駆動制御部７のＣＰＵ７１に入力される。
この気圧計１７で検出されたチャンバ９１内の気圧ｐおよび上記各式により、基板搬送テーブル３の実際の移動距離（変位ｘ）が求まる。
【００６８】
一方、チャンバ９１内が標準状態のときの基板搬送テーブル３の実際の移動距離（変位ｘ０）は、下記式（４）で表される。
（変位ｘ０）＝（カウント値Ｃｎ）×（分解能ｒ０）×（対象物温度補正係数ｋ（本実施形態ではｋ＝１）） ・・・式（４）
上記式（１）と式（４）とから判るように、同一のカウント値の場合、標準状態（チャンバ９１内の気圧が標準気圧）のときの変位ｘ０と、チャンバ９１内の気圧が所定の気圧のときの変位ｘとの比ｘ０／ｘは、λ０／λとなる。
【００６９】
また、前述したように、この液滴吐出装置１では、標準状態の場合、基準タイミング信号をｎ（但し、ｎは、２以上の整数）分周して液滴吐出用のタイミング信号を生成、すなわち、基準タイミング信号をｎ個カウントしたときを液滴の吐出タイミングとしている。
従って、気圧計１７で検出されたチャンバ９１内の気圧がｐの場合には、基準タイミング信号をｍ分周して液滴吐出用のタイミング信号を生成、すなわち、基準タイミング信号をｍ個カウントしたときを液滴の吐出タイミングとする。このｍは、下記式（５）で表される。
【００７０】
すなわち、ｍは、上記式（５）に示すように、気圧計１７で検出されたチャンバ９１内の気圧ｐを変数とする関数で表される。本実施形態では、例えば、このような演算式や、テーブル等の検量線を予め作成し、記憶部７４に記憶しておく。そして、ＣＰＵ７１は、気圧計１７により検出されたチャンバ９１内の気圧ｐと、その検量線とを用いて、前記ｍを求め、液滴の吐出タイミングを設定する。
【００７１】
前記ｍとｎとが等しくない場合は、液滴の吐出タイミングは、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングに対し、基準タイミング信号の少なくとも１個分、時間的に前（進み方向）または後（遅れ方向）へずれる。一方、ｍとｎとが等しい場合は、液滴の吐出タイミングは、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングと同一となる。
【００７２】
図１３（ｂ）には、ｎ＝３に設定されており、補正により、液滴の吐出タイミングとして、ｍ＝４に設定された例が示されている。この補正後の吐出タイミングは、基準タイミング信号に同期し、かつ、基準タイミング信号の周期の４倍の周期を有する。すなわち、液滴の吐出タイミングは、補正により、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングに対し、基準タイミング信号の１個分ずつ、時間的に後へずれる。
【００７３】
前記気圧計１７によるチャンバ９１内の気圧の検出やその検出結果に基づく前記補正、すなわち、液滴の吐出タイミングの設定は、本実施形態では、例えば、基板Ｗ上に液滴を吐出してパターンを形成（描画）する際、それに先立って行われ、パターンの形成（描画）が終了するまでその吐出タイミングが維持される。
なお、前記気圧計１７によるチャンバ９１内の気圧の検出やその検出結果に基づく前記補正のタイミング、回数等は、本発明では、前記に限定されない（諸条件に応じて適宜設定される）。
【００７４】
図２に示すように、装置本体２には、基板Ｗ上に吐出された液滴を半乾燥させるブロー装置１４が設置されている。ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００７５】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００７６】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００７７】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００７８】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通ってタンクユニット１３に設置された再利用タンク内に流入し貯留される。この貯留された液体は、回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００７９】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００８０】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００８１】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１のノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００８２】
タンクユニット１３には、前述したキャッピング時に回収された吐出液を貯留する再利用タンクと、描画前フラッシング、定期フラッシングおよびドット抜け検出で回収された吐出液を貯留する排液タンクのほか、液滴吐出ヘッド１１１へ供給される吐出液を貯留する給液タンクや、クリーニングユニット１２２へ供給される洗浄液を貯留する給液タンクなどがそれぞれ設置されている。各給液タンク内は、液滴吐出装置１の近傍（好ましくは後述するチャンバ９１の外）に設置された図示しない加圧気体供給源から供給された例えば窒素ガス等の加圧気体により加圧され、この圧力によって、吐出液および洗浄液が送出される。
【００８３】
このような液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度が管理された環境下に置かれている。チャンバ装置９は、液滴吐出装置１を収納するチャンバ９１と、チャンバ９１の外部に設置された空調装置９２とを有している。空調装置９２は、公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（温調空気）を生成する。この温調空気は、導入ダクト９３を通ってチャンバ９１の天井裏９１１に送り込まれる。この温調空気は、天井裏９１１からフィルタ９１２を透過して、チャンバ９１の主室９１３に導入される。
【００８４】
チャンバ９１内には、隔壁９１４、９１５により副室９１６が設けられており、タンクユニット１３は、この副室９１６内に設置されている。隔壁９１４には、主室９１３と副室９１６とを連通する連通部（開口）９１７が形成されている。
副室９１６には、チャンバ９１の外部に対する開閉扉（開閉部）９１８が設けられている（図１参照）。なお、副室９１６の開閉部は、開閉扉９１８のような開き戸に限らず、引き戸、シャッターなどでもよい。
また、副室９１６には、副室９１６内の気体を排出する排気口が形成され、この排気口には、外部へ伸びる排気ダクト９４が接続されている。主室９１３に導入された温調空気は、連通部９１７を通過して副室９１６に流入した後、排気ダクト９４を通過してチャンバ装置９の外部に排出される。
【００８５】
このようなチャンバ装置９によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板Ｗや装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板Ｗ上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンクユニット１３も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板Ｗを清浄に維持することができる。
なお、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
【００８６】
また、このような液滴吐出システム１０では、開閉扉９１８を開くことにより、主室９１３を外部に開放することなく、タンクユニット１３にアクセスすることができる。これにより、タンクユニット１３へのアクセス時に液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、タンクの交換、液体の補充または回収を行った直後でも、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、タンクの交換、液体の補充または回収を行った後でも、主室９１３内の温度や液滴吐出装置１の各部の温度が管理された値に戻るのを待たずに済むので、スループット（生産能率）の向上が図れる。このようなことから、基板Ｗ等のワークを高い精度で量産するのに極めて有利であり、製造コスト低減が図れる。
図３および図４に示すように、石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３と、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構５とが設置されている。図３に示すように、基板搬送テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引口（吸引部）３３２が形成されている。
【００８７】
図４に示すように、Ｙ軸方向移動機構５は、リニアモータ５１と、エアスライダ５２とを有している。エアスライダ５２は、石定盤２２上でＹ軸方向に沿って延在するスライドガイド５２１と、このスライドガイド５２１に沿って移動するスライドブロック５２２とを有している。スライドブロック５２２は、スライドガイド５２１との間に空気を吹き出す吹き出し口を有しており、この吹き出し口から吹き出す空気をスライドガイド５２１との間に介在させることにより、円滑に移動可能になっている。
【００８８】
スライドブロック５２２上には、ベース１０８が固定され、このベース１０８の上に、基板搬送テーブル３がθ軸回転機構１０５を介して固定されている。このようにして、基板搬送テーブル３は、エアスライダ５２によってＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ５１の駆動によりＹ軸方向に移動するようになっている。また、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構１０５により、基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。
【００８９】
Ｙ軸方向移動機構５の上方には、例えばステンレス鋼等の金属材料で構成された一対の帯状の薄板１０１がＹ軸方向移動機構５を上側から覆うように張り渡されている。薄板１０１は、ベース１０８の上面に形成された凹部（溝）内を通ってベース１０８とθ軸回転機構１０５との間を挿通している。この薄板１０１が設けられていることにより、液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液がＹ軸方向移動機構５に付着するのを防止することができ、Ｙ軸方向移動機構５を保護することができる。
【００９０】
石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２は、環境温度変化に対する安定性、振動に対する減衰性、経年変化（劣化）に対する安定性、吐出液に対する耐食性等の各種の特性に優れている。本発明では、このような石定盤２２によってＹ軸方向移動機構５および後述するＸ軸方向移動機構６を支持したことにより、環境温度変化、振動、経年変化（劣化）等の影響による誤差が少なく、基板搬送テーブル３とヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）との相対的な移動に高い精度が得られるとともに、その高い精度を常に安定して維持することができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００９１】
石定盤２２を構成する石材は、特に限定されないが、ベルファストブラック、ラステンバーグ、クルヌールおよびインディアンブラックのいずれかであるのが好ましい。これにより、石定盤２２の上記の各特性をより優れたものとすることができる。
このような石定盤２２は、架台２１に支持されている。架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。架台２１は、好ましくは空気バネまたはゴムブッシュ等による防振構造を有しており、床からの振動を石定盤２２に極力伝達しないように構成されている。
また、石定盤２２は、好ましくは架台２１と非締結状態（非固定状態）で架台２１に支持（載置）されている。これにより、架台２１に生じる熱膨張等が石定盤２２に影響するのを回避することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００９２】
図５は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図、図６は、図５中の矢印Ａ方向から見た側面図、図７は、図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図である。
図６および図７に示すように、石定盤２２の上には、４本の支柱２３と、これらの支柱２３に支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とが設置されている。基板搬送テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００９３】
液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動機構６は、桁２４および２５を介して、４本の支柱２３に支持されている。図５に示すように、Ｘ軸方向移動機構６は、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ（ヘッドユニット支持体）６１と、桁２４上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するとともに駆動するリニアモータアクチュエータ６２と、桁２５上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するガイド６３とを有している。メインキャリッジ６１は、リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間に架け渡されるようにして設置されている。
【００９４】
ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対し着脱可能に支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。
リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間には、さらに、カメラキャリッジ１０６が架け渡されるようにして設置されている。カメラキャリッジ１０６は、リニアモータアクチュエータ６２およびガイド６３をメインキャリッジ６１と共用するとともに、メインキャリッジ６１と独立してＸ軸方向に移動する。
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００９５】
図６に示すように、メインキャリッジ６１上には、二次タンク４１２が設置されており、この二次タンク４１２には、タンクユニット１３に設置された吐出液を貯留する給液タンクから延びる給液配管４１１が接続されている。給液配管４１１は、可撓性を有するチューブで構成され、この給液配管４１１の途中には、メインキャリッジ６１とともに移動する二次タンク４１２の移動に合わせて給液配管４１１の二次タンク４１２側の部分が移動可能となるように給液配管４１１を中継する中継部４１３が設けられている。
【００９６】
二次タンク４１２には、１２個の液滴吐出ヘッド１１１の各々に対応する１２本の分岐配管４１４の一端がそれぞれ接続されており、これらの分岐配管４１４の他端は、ヘッドユニット１１に設けられた、各液滴吐出ヘッド１１１に対応する１２個の流入口１１２にそれぞれ接続されている。なお、図６中では、見易くするため、１２本の分岐配管４１４のうちの２本のみを図示する。
【００９７】
各分岐配管４１４の途中には、遮断弁４１５が設けられている。給液配管４１１を通った吐出液は、二次タンク４１２に流入し、二次タンク４１２内で圧力調整された後、各分岐配管４１４を通って各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。遮断弁４１５は、二次タンク４１２内の圧力を調整する負圧制御ユニットが何らかの原因で機能しない場合、分岐配管４１４の流路を遮断し、二次タンク４１２より低い位置にある液滴吐出ヘッド１１１に二次タンク４１２から吐出液が流れ続けて液滴吐出ヘッド１１１から漏出するのを防止する。
【００９８】
図８は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図８に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００９９】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
【０１００】
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド１１１で構成してもよい。また、メインキャリッジ６１に複数のヘッドユニット１１が設置されていてもよい。
【０１０１】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。基板搬送テーブル３上に基板Ｗが給材され、液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置（説明省略）の作動により基板搬送テーブル３上で所定の位置に位置決め（プリアライメント）されると、基板搬送テーブル３の各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラ１０７が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構１０５が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
【０１０２】
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、前述したように、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【０１０３】
その後、メインキャリッジ６１を移動させることにより、ヘッドユニット１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了したら、ヘッドユニット１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板Ｗの全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する。
【０１０４】
図９は、図３に示す状態から基板搬送テーブルを取り外した状態を示す平面図、図１０は、架台の平面図である。
図９に示すように、石定盤２２は、平面視で、Ｙ軸方向に長い長方形をなすＹ軸方向移動機構支持部２２１と、このＹ軸方向移動機構支持部２２１の長手方向の途中の部分からＸ軸方向に両側にそれぞれ突出する支柱支持部２２２および２２３とで構成されており、その結果、石定盤２２の形状は、平面視で十字状をなしている。換言すれば、石定盤２２は、平面視で、長方形から４つの隅部付近（除去部分Ｃ）を除去したような形状をなしている。
【０１０５】
Ｙ軸方向移動機構支持部２２１上には、Ｙ軸方向移動機構５が設置されている。そして、支柱支持部２２２の角部２２２ａおよび２２２ｂと、支柱支持部２２２３の角部２２３ａおよび２２３ｂの４箇所の上には、それぞれ、支柱２３が設置される。
このように、石定盤２２は、平面視で、図９中の一点鎖線で示す長方形Ｒから、Ｙ軸方向移動機構５および支柱２３を設置しない部分（除去部分Ｃ）を除去したような形状をなすものとなっている。これにより、長方形Ｒのような形状のままで使用した場合と比べ、重量を軽減することができる。その結果、液滴吐出装置１の据え付け場所への輸送が容易になるとともに、工場の据え付け場所の床の耐荷重も小さくて済む。
【０１０６】
また、除去部分Ｃの分だけ石定盤２２が占める領域を少なくできるので、液滴吐出装置１全体の小型化が図れる。すなわち、除去部分Ｃに配管部品、電装部品等を設置することにより省スペース化を図ることができたり、除去部分Ｃを装置のメンテナンスのためのスペースとして用いることができる。よって、工場内での占有面積を小さくすることができ、また、液滴吐出装置１の据え付け場所への輸送も容易となる。また、液滴吐出装置１をチャンバ９１内に収容して稼動する場合にも、チャンバ９１の大きさを小さくすることができ、有利である。
このようなことから、液滴吐出装置１を用いることにより、基板Ｗのようなワークに対するパターンの形成（描画）を低コストで行うことができる。
【０１０７】
また、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５は、平面視で、石定盤２２の長手方向に平行にかつその中心線が石定盤２２の中心線（石定盤２２の長手方向に沿った中心線）にほぼ合致した状態で設置され、Ｘ軸方向移動機構６は、平面視で、石定盤２２の長手方向に垂直にかつその中心線が石定盤２２の中心線（石定盤２２の短手方向に沿った中心線）にほぼ合致した状態で設置されている。これにより、Ｙ軸方向移動機構５およびＸ軸方向移動機構６が相互の中間位置で十字状に交差し、かつ石定盤２２の中央に設置される。このため、Ｙ軸方向移動機構５およびＸ軸方向移動機構６を石定盤２２上により一層バランス良く支持することができる。
【０１０８】
また、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５は、石定盤２２の長手方向と平行に延在し、かつ石定盤２２上に直接載置されている。これにより、Ｙ軸方向移動機構５をより一層高い精度（平面度）で安定的に支持することができる。
また、本実施形態では、Ｘ軸方向移動機構６は、４つの支柱２３を介してＹ軸方向移動機構５を跨いで設置されるとともに、４つの支柱２３は、平面視で、石定盤２２の長手方向に沿った中心線を介して対称に分散配置されている。これにより、Ｘ軸方向移動機構６をより一層高い精度（平面度）で安定的に支持することができる。
【０１０９】
図１０に示すように、石定盤２２を支持する架台２１は、平面視で石定盤２２とほぼ同様の形状（十字状）をなしている。これにより、液滴吐出装置１全体としてのさらなる重量軽減（軽量化）、小型化（省スペース化）が図れる。この架台２１は、３点（３箇所）以上の複数の支持部２１３にて石定盤２２を支持している。この支持部２１３は、例えばアジャストボルト等の機構による高さ調整機構を備えており、各支持部２１３の高さを調整することにより、石定盤２２の上面の平面度および水平度を調整可能になっている。
【０１１０】
図１１は、石定盤の他の構成例を示す平面図である。前述した実施形態では、石定盤２２は、１個の石材で構成されていたが、図１１に示す石定盤２２’では、Ｙ軸方向移動機構支持部２２１’と、支柱支持部２２２’と、支柱支持部２２３’とがそれぞれ別個の石材で構成されている。そして、石定盤２２は’、これら３個の石材を組み合わせ、図示しない固定部材により互いに連結して構成されている。
【０１１１】
このように、複数個の石材を組み合わせて石定盤２２’を構成することにより、長方形でない石定盤２２’を容易かつ安価で製造することができる。また、石定盤２２’を分解して据え付け場所へ輸送することができ、輸送も容易に行うことができる。
なお、石定盤２２’を複数個の石材を組み合わせて構成する場合、その分割の境界は、図示の構成に限らず、例えば図１１中で横方向に３分割されるようなものでもよい。
【０１１２】
以上、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
例えば、レーザー測長器１５の構成は、前述した実施形態には限定されない。
【０１１３】
また、前記本実施形態では、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動制御は、レーザー測長器１５から出力される第１のパルス信号および第２のパルス信号に基づいて行われるが、前記基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動制御は、これに限らず、例えば、リニアエンコーダ（例えば、光学式リニアエンコーダ）やロータリーエンコーダ（例えば、光学式ロータリーエンコーダ）などを用い、この検出結果に基づいて行われるように構成されていてもよい。
また、Ｙ軸方向移動機構、Ｘ軸方向移動機構は、リニアモータに代えて、例えばボールネジ（送りネジ）などでもよい。
【０１１４】
以上述べたように、本発明によれば、ヘッドユニット１１に比べて振動や傾きの小さい基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離を検出（測定）し、この検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングを制御するので、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【０１１５】
また、レーザー測長器１５により、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離を検出するので、基板搬送テーブル３が傾いたとしても、その傾斜分も含めて基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離を検出することができ、また、吐出液滴によるパターン形成距離（描画距離）が長くなっても、前記移動距離を正確に検出することができ、これによって液滴を正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。すなわち、Ｙ軸方向移動機構５の精度が低くてもその影響を抑制（または阻止）することができ、このため、Ｙ軸方向移動機構５を容易かつ安価に製造することができる。
【０１１６】
特に、気圧計１７により、チャンバ９１内の気圧を検出し、その検出結果に基づいて補正を行って、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングを制御するので、気圧変動に伴うレーザー測長器１５の検出値の変化分を補正することができ、これにより、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【０１１７】
また、レーザー測長器１５のうちのレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２およびレーザー測長器本体１５３は、基板Ｗや液滴吐出ヘッド１１１から所定距離離間した位置に設置されるので、液滴吐出ヘッド１１１から吐出される液滴によってレーザー測長器１５が汚れてしまうのを防止することができ、これにより、レーザー測長器１５の液滴による故障を防止することができる。
【０１１８】
また、レーザー測長器１５は、レーザー光の光路を屈曲させるミラー１５２を有しているので、レーザー測長器１５を構成するレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２、レーザー測長器本体１５３およびコーナーキューブ１５４を任意の位置に配置することができ、また、液滴吐出装置１の小型化（省スペース化）が図れる。
【０１１９】
また、レーザー光の光路は、ほぼ同一の平面内にあり、特に、ほぼ同一の水平面内にあるので、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
また、レーザー測長器１５のうち、コーナーキューブ１５４を基板搬送テーブル３側に設け、レーザー測長器センサヘッド１５１およびミラー１５２を装置本体２側に設けることにより、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【０１２０】
特に、コーナーキューブ１５４は、基板搬送テーブル３の近傍に設けられているので、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離をさらに正確に検出することができ、これによって液滴をさらに正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【０１２１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図３】架台、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す平面図。
【図４】架台、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す側面図。
【図５】ヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図。
【図６】図５中の矢印Ａ方向から見た側面図。
【図７】図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図。
【図８】ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図９】図３に示す状態から基板搬送テーブルを取り外した状態を示す平面図。
【図１０】架台の平面図。
【図１１】石定盤の他の構成例を示す平面図。
【図１２】液滴吐出装置の制御装置を含む主要部を示すブロック図。
【図１３】液滴を吐出するタイミングを説明するための図。
【符号の説明】
１……液滴吐出装置、２……装置本体、１５……レーザー測長器
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェットプリンターのインクジェット方式（液滴吐出方式）を応用して、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに使用する産業用の液滴吐出装置（インクジェット描画装置）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような液滴吐出装置は、基板等のワークと、液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ液滴を吐出することにより、ワーク上に所定のパターンを形成（描画）するものである。従来の液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッドを移動させつつ、その液滴吐出ヘッドの移動距離を検出し、その検出結果に基づいて所定のタイミングで液滴を吐出する。また、従来の液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドの移動距離を検出する手段として、液滴吐出ヘッドの移動経路に沿って設けられたリニアエンコーダフィルムと、液滴吐出ヘッドに設けられたエンコーダ素子（発光素子および受光素子）とで構成されたリニアエンコーダを有しており、このリニアエンコーダ（エンコーダ素子）から出力されるエンコーダパルスから、前記液滴を吐出するタイミングを生成している。
【０００４】
しかしながら、液滴吐出ヘッドは大型化する傾向にあり、前記のような従来の液滴吐出装置では、液滴を吐出する際、その液滴吐出ヘッドを移動させるので、液滴吐出ヘッドが大きく振動してしまうという欠点がある。
特に、前述したような用途に使用する液滴吐出装置は、形成（描画）するパターンに極めて高い精度が必要とされるが、前記従来の液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッドの移動距離を検出し、その検出結果に基づいて液滴を吐出するタイミングを生成するので、液滴吐出ヘッドが振動して液滴吐出ヘッドが傾くと、これにより、リニアエンコーダフィルムに対するエンコーダ素子の位置が変わってしまい、液滴吐出ヘッドの移動距離を正確に検出することができず、液滴を吐出するタイミング（吐出タイミング）が大きくずれてしまう。このため、高い精度で安定してパターンを形成（描画）するのが困難であった。
また、吐出された液滴がリニアエンコーダに付着し（リニアエンコーダが汚れ）、これにより、そのリニアエンコーダが故障する場合がある。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−２０５４８７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる液滴吐出装置および液滴吐出システム、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器を有する移動距離検出手段と、
当該液滴吐出装置の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、
前記移動距離検出手段および前記気圧検出手段の検出結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【０００８】
すなわち、液滴吐出ヘッドに比べて振動や傾きの小さいワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により検出（測定）し、この検出結果および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【０００９】
特に、移動距離検出手段および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、気圧変動に伴う移動距離検出手段の検出値の変化分を補正することができ、これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１０】
また、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により、ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するので、ワーク搬送テーブルが傾いたとしても、その傾斜分も含めてワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を検出することができ、これによって液滴を正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。すなわち、Ｙ軸方向移動機構の精度が低くてもその影響を抑制（または阻止）することができ、このため、Ｙ軸方向移動機構を容易かつ安価に製造することができる。
【００１１】
また、吐出液滴によるパターン形成距離（描画距離）が長くなっても、前記移動距離を正確に検出することができ、これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。
また、レーザー測長器を構成する各部のうちの主要部は、ワークや液滴吐出ヘッドから所定距離離間した位置に設置されるので、液滴吐出ヘッドから吐出される液滴によってレーザー測長器が汚れてしまうのを防止することができ、これにより、レーザー測長器の液滴による故障を防止することができる。
【００１２】
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器を有する移動距離検出手段と、
当該液滴吐出装置の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、
前記気圧検出手段の検出結果に基づいて前記移動距離検出手段の検出結果を補正し、該補正後の検出結果に基づいて前記液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１３】
すなわち、液滴吐出ヘッドに比べて振動や傾きの小さいワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により検出（測定）し、この検出結果および気圧検出手段の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００１４】
特に、気圧検出手段の検出結果に基づいて移動距離検出手段の検出結果を補正し、この補正後の検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御するので、気圧変動に伴う移動距離検出手段の検出値の変化分を補正することができ、これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１５】
また、レーザー測長器を有する移動距離検出手段により、ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するので、ワーク搬送テーブルが傾いたとしても、その傾斜分も含めてワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を検出することができ、これによって液滴を正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。すなわち、Ｙ軸方向移動機構の精度が低くてもその影響を抑制（または阻止）することができ、このため、Ｙ軸方向移動機構を容易かつ安価に製造することができる。
【００１６】
また、吐出液滴によるパターン形成距離（描画距離）が長くなっても、前記移動距離を正確に検出することができ、これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。
また、レーザー測長器を構成する各部のうちの主要部は、ワークや液滴吐出ヘッドから所定距離離間した位置に設置されるので、液滴吐出ヘッドから吐出される液滴によってレーザー測長器が汚れてしまうのを防止することができ、これにより、レーザー測長器の液滴による故障を防止することができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置では、前記制御手段は、前記気圧検出手段の検出結果に基づいて、前記レーザー測長器から発せられるレーザー光の波長または当該波長に対応する物理量を求め、該求めた波長または物理量に基づいて前記移動距離検出手段の検出結果を補正するよう構成されているのが好ましい。
これにより、気圧変動に伴う移動距離検出手段の検出値の変化分を補正することができ、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置では、標準気圧における液滴の吐出タイミングは、前記レーザー測長器から出力される基準タイミング信号に同期し、かつ、該基準タイミング信号の周期の複数倍の周期を有するのが好ましい。
これにより、液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１９】
本発明の液滴吐出装置では、液滴の吐出タイミングは、前記補正により、前記標準気圧における液滴の吐出タイミングに対し、前記基準タイミング信号の少なくとも１個分、時間的に前または後へずれるか、または、前記標準気圧における液滴の吐出タイミングと同一となるよう構成されているのが好ましい。
これにより、液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２０】
本発明の液滴吐出装置では、当該液滴吐出装置は、内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用されるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記条件には、温度および／または湿度が含まれるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２１】
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー測長器は、レーザー光の光路を少なくとも１回屈曲させる屈曲手段を備えるのが好ましい。
これにより、レーザー測長器を構成する各部を任意の位置に配置することができ、また、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー測長器は、レーザー光を発する発光部と、前記発光部から発せられたレーザー光を反射する反射部と、前記反射部で反射したレーザー光を受光する受光部とを備え、
前記反射部は、前記ワーク搬送テーブル側に設けられ、前記発光部および前記受光部は、前記装置本体側に設けられているのが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２２】
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー測長器は、レーザー光を発する発光部およびレーザー光を受光する受光部を有するレーザー測長器センサヘッドと、レーザー光を反射する反射部と、レーザー光の光路を少なくとも１回屈曲させる屈曲手段とを備え、
前記反射部は、前記ワーク搬送テーブル側に設けられ、前記レーザー測長器センサヘッドおよび前記屈曲手段は、前記装置本体側に設けられており、
前記発光部から発せられたレーザー光が前記反射部に照射され、前記反射部で反射したレーザー光が前記受光部で受光され、かつ、前記レーザー測長器センサヘッドと前記反射部との間でレーザー光の光路が前記屈曲手段によって少なくとも１回屈曲するように前記レーザー測長器を構成する各部が配置されているのが好ましい。
【００２３】
前記屈曲手段を設けることにより、レーザー測長器を構成する各部を任意の位置に配置することができ、また、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
また、前記反射部を前記ワーク搬送テーブル側に設け、前記レーザー測長器センサヘッドおよび前記屈曲手段を前記装置本体側に設けることにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００２４】
本発明の液滴吐出装置では、前記反射部は、前記ワーク搬送テーブルまたはその近傍に設けられているのが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルが傾いたとしても、その傾斜分も含めてワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離を正確に検出することができ、これによって液滴をさらに正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００２５】
本発明の液滴吐出装置では、前記レーザー光の光路は、ほぼ同一の平面内にあるのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
本発明の液滴吐出装置では、前記平面は、水平面であるのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置のさらなる小型化（省スペース化）が図れる。
【００２６】
本発明の液滴吐出装置では、前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構を有するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置では、前記Ｙ軸方向を主走査方向とし、前記Ｘ軸方向を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２８】
本発明の液滴吐出システムは、本発明の液滴吐出装置と、
前記液滴吐出装置を収容し、その内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００２９】
本発明の液滴吐出システムでは、前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置をさらに備えることが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電気光学装置を提供することができる。
【００３０】
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、ワークに対するパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電子機器を提供することができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１および図２は、それぞれ、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムの実施形態を示す平面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図１および図２中の右方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図１および図２中の左方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図１中の下方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図１中の上方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００３２】
図１および図２に示す液滴吐出システム（液滴吐出系）１０は、液滴吐出ヘッド１１１を有する液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１と、この液滴吐出装置１を収容するチャンバ９１とを備えている。
液滴吐出装置１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものである。液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。
【００３３】
また、本発明で対象とするワークは、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型のワーク（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００３４】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワーク搬送テーブル（ワーク搬送ステージ）としての基板搬送テーブル（基板搬送ステージ）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、給液タンク、排液タンクおよび再利用タンクを備えたタンクユニット１３と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板搬送テーブル３の移動距離を光学的に検出（測定）するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、液滴吐出装置１の近傍の気圧、すなわち、チャンバ９１内の気圧を検出（測定）する気圧計（気圧検出手段）１７と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００３５】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００３６】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板搬送テーブル３は、リニアモータ５１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板搬送テーブル３上に載置される。
【００３７】
液滴吐出装置１では、基板搬送テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板Ｗから、基板搬送テーブル３より小さい比較的小型の基板Ｗまで、様々な大きさおよび形状の基板Ｗを対象にすることができる。基板Ｗは、原則としては基板搬送テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板Ｗの場合には、基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００３８】
図１に示すように、基板搬送テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット１０４が設置されている。描画前フラッシングユニット１０４には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段（移動距離測定手段）としてのレーザー測長器１５により検出（測定）される。
【００３９】
図３は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す平面図、図４は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す側面図である。
レーザー測長器１５は、光（レーザー光）の干渉を利用して対象物の移動距離（変位）を光学的に検出（測定）する装置であり、図３および図４に示すように、装置本体２側に設置されたレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー（屈曲手段）１５２およびレーザー測長器本体１５３と、基板搬送テーブル３側に設置された反射部としてのコーナーキューブ（プリズム）１５４とを有している。
【００４０】
レーザー測長器センサヘッド１５１は、レーザー光を発する（照射する）発光部と、レーザー光を受光して光電変換する受光部（レーザー検出部）と、前記発光部から発せられ、前記コーナーキューブ１５４で反射したレーザー光を、前記発光部から発せられた基準レーザー光と干渉させて前記受光部に照射する干渉部と、前記受光部からのアナログ信号を信号処理（例えば、２値化）して第１のパルス信号を生成するとともに、この第１のパルス信号に基づいて、第１のパルス信号に対して位相が９０°所定方向（遅れ方向または進み方向）にずれた第２のパルス信号を生成するパルス信号生成部（いずれも図示せず）などを有している。また、レーザー測長器本体１５３は、レーザー測長器センサヘッド１５１を駆動するための電源（図示せず）などを有している。
【００４１】
レーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２およびレーザー測長器本体１５３は、それぞれ、装置本体２の上面に、Ｘ軸方向に沿って、図３中下側から上側に向かってレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２、レーザー測長器本体１５３の順序で設置されている。また、コーナーキューブ１５４は、基板搬送テーブル３と一体的にＹ軸方向に移動する後述するベース１０８に設けられた支持部１０９の先端（Ｙ軸方向の端部）に設置されている。このコーナーキューブ１５４と前記ミラー１５２とを結ぶ直線（線分）は、Ｙ軸とほぼ平行である。なお、コーナーキューブ１５４は、前記ベース１０８に限らず、例えば、基板搬送テーブル３に設置されていてもよい。
【００４２】
図３および図４中の一点鎖線は、レーザー光の光路を示すが、このレーザー光の光路は、ほぼ同一の水平面（Ｘ−Ｙ平面）内にある。
レーザー測長器センサヘッド１５１の発光部からは、レーザー光が発せられ、Ｘ軸方向に沿って出射される。このレーザー光は、ミラー１５２で９０°に屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ１５４に照射される。コーナーキューブ１５４で反射したレーザー光（反射光）は、ミラー１５２で９０°に屈曲してＸ軸方向に進み、レーザー測長器センサヘッド１５１に戻る。レーザー測長器センサヘッド１５１では、このレーザー測長器センサヘッド１５１に戻ってきたレーザー光は、干渉部により、前記発光部から発せられた基準レーザー光と干渉するように、前記受光部に照射される。
また、このレーザー測長器１５の近傍、すなわち、レーザー測長器センサヘッド１５１の側方（図３中下側）に、気圧計１７が設置されている。
【００４３】
液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）および気圧計１７によって検出されたチャンバ９１内の気圧に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出タイミングが生成される。
なお、本実施形態では、レーザー光の光路は、ほぼ同一の水平面内にあるが、レーザー光の光路の位置する平面は、これに限らず、例えば、鉛直面であってもよい。この場合、例えば、図３および図４に示す構成において、図３中のミラー１５２の鉛直方向下側（図３中の紙面の裏側の位置）にレーザー測長器センサヘッド１５１を設置し、レーザー光の光路が、Ｙ軸方向からミラー１５２において鉛直方向下方に向かって９０°屈曲するよう構成する。
【００４４】
また、レーザー光の光路は、同一の平面内になくてもよい。
また、レーザー光の光路は、２回以上屈曲してもよい。すなわち、レーザー光の光路を屈曲させる屈曲手段が２以上の部材（光学部品）で構成されていてもよい。この場合、例えば、図３および図４に示す構成において、レーザー測長器センサヘッド１５１の位置に、レーザー測長器センサヘッド１５１に換えて、プリズムやミラーなどの光学部品を設置し、その光学部品の鉛直方向下側（図３中の紙面の裏側の位置）に前記レーザー測長器センサヘッド１５１を設置し、レーザー光の光路が、Ｘ軸方向から前記光学部品において鉛直方向下方に向かって９０°屈曲するよう構成する。
また、レーザー光の光路を屈曲させる屈曲手段としては、前記ミラー１５２に限らず、例えば、プリズムやハーフミラーなどの他の光学部品を用いてもよい。
【００４５】
図１および図２に示すように、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１が、基板搬送テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ６２の駆動により、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００４６】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、レーザー測長器１５および気圧計１７を用いて生成した吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００４７】
ここで、各液滴吐出ヘッド１１１には、それぞれ、後述するように、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が形成されており、各吐出ノズルに対し、それぞれ、図示しないピエゾ素子（圧電素子）を有する駆動部が形成されている。
後述する制御装置１６は、各液滴吐出ヘッド１１１に対し、それぞれ、図示しないヘッドドライバを介して前記各駆動部の駆動を制御することにより、所定の液滴吐出ヘッド１１１の所定の吐出ノズルからそれぞれ液滴を吐出する。この場合、例えば、ピエゾ素子に所定の電圧が印加されると、そのピエゾ素子が変形（伸縮）し、これにより対応する圧力室（液室）が加圧され、対応する吐出ノズルから所定量の液滴が吐出される。
【００４８】
図１２は、図１および図２に示す液滴吐出装置の制御装置（制御手段）を含む主要部を示すブロック図である。
制御装置（制御手段）１６は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御するものであり、図１２に示すように、各液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）の駆動を制御するヘッド駆動制御部（ヘッド駆動制御手段）７を備えている。ヘッド駆動制御部７は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）７１と、トリガ回路を有するトリガ基板７２と、ヘッドドライバを介して液滴吐出ヘッド１１１の駆動部（吐出ノズル）を駆動するヘッド駆動基板７３と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部７４とを備えている。なお、図１に示す構成では、制御装置１６は、後述するチャンバ９１の外部に設置されている。
【００４９】
この液滴吐出装置１において、液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの液滴吐出動作を行う際は、ＣＰＵ７１は、トリガ基板７２に対し、液滴の吐出タイミングの設定を行う。
また、トリガ基板７２は、ヘッド駆動基板７３に対し、設定された吐出タイミングで液滴の吐出指示（トリガ信号の送出）を行う。
ヘッド駆動基板７３は、前記トリガ基板７２から前記液滴の吐出指示（トリガ信号）を受けると、ヘッドドライバを介して、所定の液滴吐出ヘッド１１１の所定の駆動部（吐出ノズル）を駆動する。これにより、対応する液滴吐出ヘッド１１１の対応する吐出ノズルから液滴が吐出される。
【００５０】
次に、前記吐出タイミングの生成について説明する。
ヘッドユニット１１の液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出して基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する際は、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。
【００５１】
図１３は、レーザー測長器から出力される第１のパルス信号（Ａ相）および第２のパルス信号（Ｂ相）が示され、液滴を吐出するタイミングを説明するためのタイミングチャートである。
レーザー測長器センサヘッド１５１の受光部では、前記受光したレーザー光が光電変換され、この受光部からのアナログ信号は、前記パルス信号生成部において、信号処理（例えば、２値化）される。この場合、基板搬送テーブル３が移動しているので、パルス信号生成部では、図１３に示す第１のパルス信号（Ａ相）が生成される。また、パルス信号生成部では、この第１のパルス信号に基づいて、第１のパルス信号に対して位相が９０°所定方向（図示例では、遅れ方向）にずれた図１３に示す第２のパルス信号（Ｂ相）が生成される。
【００５２】
これら第１のパルス信号および第２のパルス信号は、基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）を示す。但し、第１のパルス信号および第２のパルス信号には、それぞれ、チャンバ９１内の気圧変動に伴う誤差が含まれており、この液滴吐出装置１では、その気圧変動分を補正する処理が行われる。なお、ここでは、理解を容易にするため、まず、チャンバ９１内が標準状態（標準気圧）であって補正を行わない場合を説明し、補正については、後で詳述する。
【００５３】
前記第１のパルス信号および第２のパルス信号は、それぞれ、制御装置１６のヘッド駆動制御部７のトリガ基板７２に入力される。制御装置１６では、これら第１のパルス信号および第２のパルス信号、すなわち、レーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出タイミングが生成される。これら第１のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りと、第２のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りとをそれぞれ、吐出タイミングに利用することができる。以下、これら第１のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りと、第２のパルス信号の立ち上がりおよび立ち下りとを示す信号を、それぞれ、「基準タイミング信号」と言い、図１３中、一点鎖線で示す。
ここで、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する際は、そのパターンに基づいて、対応する液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出希望タイミングが決定される。
【００５４】
一方、ヘッド駆動制御部７のトリガ基板７２では、図示しないカウンタにより、前記第１のパルス信号の立ち上がり、第２のパルス信号の立ち上がり、第１のパルス信号の立ち下り、第２のパルス信号の立ち下りの各基準タイミング信号を順次カウント（計数）する。
そして、この基準タイミング信号を分周して液滴吐出用のタイミング信号（吐出タイミング）を生成し、この生成されたタイミング信号に同期して、液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出する。
【００５５】
すなわち、トリガ基板７２では、レーザー測長器１５から入力される基準タイミング信号をｎ個（但し、ｎは、２以上の整数）カウントしたときを液滴の吐出タイミングとする。そして、その吐出タイミングにおいて液滴を吐出する場合は（その吐出タイミングが吐出希望タイミングであれば）、その吐出タイミングに同期して、ヘッド駆動基板７３に対し、液滴の吐出指示（トリガ信号の送出）を行う。
ヘッド駆動基板７３は、前記トリガ基板７２から前記液滴の吐出指示（トリガ信号）を受けると、ヘッドドライバを介して、所定の液滴吐出ヘッド１１１の所定の駆動部（吐出ノズル）を駆動する。これにより、対応する液滴吐出ヘッド１１１の対応する吐出ノズルから液滴が吐出される。
【００５６】
このように、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングは、基準タイミング信号に同期し、かつ、基準タイミング信号の周期の複数倍の周期を有する。図１３（ａ）には、標準状態における液滴の吐出タイミングとして、ｎ＝３に設定された例が示されており、その吐出タイミングは、基準タイミング信号に同期し、かつ、基準タイミング信号の周期の３倍の周期を有する。
なお、前記ｎは、特に限定されず、基準タイミング信号の周期、すなわち、隣り合うタイミング信号間の間隔（１ピッチ）や、液滴の吐出において要求される分解能などの諸条件によって適宜設定されるが、例えば、２〜９程度とするのが好ましい。
【００５７】
以上述べたような液滴の吐出制御は、各液滴吐出ヘッド１１１の各吐出ノズルの駆動部に対してそれぞれ行われる。
なお、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動制御は、前記レーザー測長器１５から出力される前記第１のパルス信号および前記第２のパルス信号、すなわち、基準タイミング信号に基づいて行われる。
【００５８】
以上の動作（吐出タイミングの生成）は、チャンバ９１内の状態が予め設定されている標準状態のとき、すなわち、チャンバ９１内の気圧が予め設定されている標準気圧のときの動作であり、この液滴吐出装置１は、チャンバ９１内の状態が標準状態のとき、すなわち、チャンバ９１内の気圧が標準気圧のとき、レーザー測長器１５により検出される基板搬送テーブル３の移動距離（変位）が、実際の基板搬送テーブル３の移動距離と等しくなるように設定されている。
【００５９】
ところで、チャンバ９１内の気圧が変動すると、チャンバ９１内の空気の屈折率が変化し、レーザー測長器１５におけるレーザー光の波長（レーザー波長）が変化する。これにより、レーザー測長器１５により検出される基板搬送テーブル３の移動距離（変位）は、実際の基板搬送テーブル３の移動距離と異なるものとなり、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングがずれてしまう。
【００６０】
そこで、この液滴吐出装置１では、気圧計（気圧検出手段）１７により、チャンバ９１内（レーザー光の光路となる部分）の気圧を検出（測定）し、検出されたチャンバ９１内の気圧（検出値）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングを補正する。
すなわち、液滴吐出装置１では、レーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）を、気圧計１７によって検出されたチャンバ９１内の気圧に基づいて補正し、この補正後の移動距離に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴の吐出タイミングが生成される。
【００６１】
この場合、気圧計１７の検出結果、すなわち、検出されたチャンバ９１内の気圧に基づいて、レーザー測長器１５におけるレーザー光（レーザー測長器１５の発光部から発せられるレーザー光）の波長またはその波長に対応する物理量を求め、求めた波長または物理量に基づいて、レーザー測長器１５の検出結果、すなわち、検出された基板搬送テーブル３の移動距離を補正する。
【００６２】
前記波長に対応する物理量としては、例えば、チャンバ９１内の雰囲気（例えば、空気）の屈折率等が挙げられる。
なお、後述するように、この液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度が管理された環境下、すなわち、内部の雰囲気の条件（温度および湿度）が管理されたチャンバ９１内に置かれている。このため、この液滴吐出装置１では、チャンバ９１内の雰囲気の温度、湿度、二酸化炭素濃度等の各条件は、それぞれ、一定に保持され、また、その値も既知である。従って、これらの変動による液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングのずれは、実質的になく、補正は不要である。
【００６３】
次に、液滴吐出装置１におけるチャンバ９１内の気圧変動に基づく液滴を吐出するタイミングの補正（補正の原理）について説明する。
この液滴吐出装置１では、チャンバ９１内の状態が予め設定されている標準状態のとき、すなわち、チャンバ９１内の気圧が予め設定されている標準気圧のときを基準とし、それに対し、補正を行う。
【００６４】
まず、液滴吐出装置１の使用環境（チャンバ９１内）における基板搬送テーブル３の実際の移動距離（変位ｘ）は、下記式（１）で表される。
（変位ｘ）＝（カウント値Ｃｎ）×（分解能ｒ）×（対象物温度補正係数ｋ）
・・・式（１）
（カウント値Ｃｎ）：基準タイミング信号（ＡＢ相信号を４逓倍した後のパルス）のカウント値
（分解能ｒ）：（使用環境でのレーザー波長λ）／８
なお、本実施形態では、式（１）において、対象物温度補正係数ｋを１とするが、これに限らず、ｋを算出し、その値を式（１）に代入してもよい。
【００６５】
また、上記式（１）中の使用環境でのレーザー波長λは、下記式（２）で表される。
（使用環境でのレーザー波長λ）＝［（標準状態でのレーザー波長λ０）／（使用環境での空気の屈折率ｎｐｒｏｐ）］×１．０００２７１３ ・・・式（２）
なお、標準状態でのレーザー波長λ０の値は、実験的に求めることがきる（既知である）。
【００６６】
また、上記式（２）中の使用環境での空気の屈折率ｎｐｒｏｐは、ｔ：使用環境での温度（℃）、ｐ：使用環境での気圧（Ｐａ）、ｈ：使用環境での湿度（％）、ｘｃ：使用環境での二酸化炭素濃度（ｐｐｍ）としたとき、下記式（３）で表される（計算結果の精度１×１０−７）。
ｎｐｒｏｐ＝１＋（ρａ／ρａｘｓ）（ｎａｘｓ−１）＋（ρｗ／ρｗｓ）（ｎｗａ−１）（ｎａｘｓ−１）＝２．７６５３０×１０−４［１＋０．５３４×１０−６（ｘｃ−４５０）］ ・・・式（３）
（ｎｗａ−１）＝３．０８３×１０−６
ρａ＝０．１２０２７１６７０ｐＭａ（１−ｘｗ）／ＺＴ
ρａｘｓ＝４２．３０９５５５７１５６３９７６Ｍａ
ρｗ＝０．００２１６６６９４１３ｐｘｗ／ＺＴ
ρｗｓ＝０．００９８５９３８１０９
Ｔ＝２７３．１５＋ｔ
Ｚ＝１−（ｐ／Ｔ）［１．５８１２３×１０−６−２．９３３１×１０−８ｔ＋１．１０４３×１０−１０ｔ２＋（５．７０７×１０−６−２．０５１×１０−８ｔ）ｘｗ＋（１．９８９８×１０−４−２．３７６×１０−６ｔ）ｘｗ ２］＋（ｐ／Ｔ）２（１．８３×１０−１１−０．７６５×１０−８ｘｗ ２）
ｘｗ＝（１．０００６２＋３．１４×１０−８ｐ＋５．６×１０−７ｔ２）（ｈ／１００）×ｅｘｐ［（１．２３７８８４７×１０−５Ｔ２−１．９１２１３１６×１０−２Ｔ＋３３．９３７１１０４７−６．３４３１６４５×１０３／Ｔ）／ｐ］
Ｍａ＝２．８９６３５×１０−２＋１．２０１１×１０−８（ｘｃ−４００）
【００６７】
ここで、前述したように、チャンバ９１内の雰囲気の条件、すなわち、温度、湿度および二酸化炭素濃度は、それぞれ、管理され、所定の値（一定値）に保持されているので、上記ｔ、ｈおよびｘｃは、それぞれ、既知であり、ｐのみが気圧計１７で検出（測定）され、ヘッド駆動制御部７のＣＰＵ７１に入力される。
この気圧計１７で検出されたチャンバ９１内の気圧ｐおよび上記各式により、基板搬送テーブル３の実際の移動距離（変位ｘ）が求まる。
【００６８】
一方、チャンバ９１内が標準状態のときの基板搬送テーブル３の実際の移動距離（変位ｘ０）は、下記式（４）で表される。
（変位ｘ０）＝（カウント値Ｃｎ）×（分解能ｒ０）×（対象物温度補正係数ｋ（本実施形態ではｋ＝１）） ・・・式（４）
上記式（１）と式（４）とから判るように、同一のカウント値の場合、標準状態（チャンバ９１内の気圧が標準気圧）のときの変位ｘ０と、チャンバ９１内の気圧が所定の気圧のときの変位ｘとの比ｘ０／ｘは、λ０／λとなる。
【００６９】
また、前述したように、この液滴吐出装置１では、標準状態の場合、基準タイミング信号をｎ（但し、ｎは、２以上の整数）分周して液滴吐出用のタイミング信号を生成、すなわち、基準タイミング信号をｎ個カウントしたときを液滴の吐出タイミングとしている。
従って、気圧計１７で検出されたチャンバ９１内の気圧がｐの場合には、基準タイミング信号をｍ分周して液滴吐出用のタイミング信号を生成、すなわち、基準タイミング信号をｍ個カウントしたときを液滴の吐出タイミングとする。このｍは、下記式（５）で表される。
【００７０】
【００７１】
前記ｍとｎとが等しくない場合は、液滴の吐出タイミングは、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングに対し、基準タイミング信号の少なくとも１個分、時間的に前（進み方向）または後（遅れ方向）へずれる。一方、ｍとｎとが等しい場合は、液滴の吐出タイミングは、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングと同一となる。
【００７２】
図１３（ｂ）には、ｎ＝３に設定されており、補正により、液滴の吐出タイミングとして、ｍ＝４に設定された例が示されている。この補正後の吐出タイミングは、基準タイミング信号に同期し、かつ、基準タイミング信号の周期の４倍の周期を有する。すなわち、液滴の吐出タイミングは、補正により、標準状態（標準気圧）における液滴の吐出タイミングに対し、基準タイミング信号の１個分ずつ、時間的に後へずれる。
【００７３】
前記気圧計１７によるチャンバ９１内の気圧の検出やその検出結果に基づく前記補正、すなわち、液滴の吐出タイミングの設定は、本実施形態では、例えば、基板Ｗ上に液滴を吐出してパターンを形成（描画）する際、それに先立って行われ、パターンの形成（描画）が終了するまでその吐出タイミングが維持される。
なお、前記気圧計１７によるチャンバ９１内の気圧の検出やその検出結果に基づく前記補正のタイミング、回数等は、本発明では、前記に限定されない（諸条件に応じて適宜設定される）。
【００７４】
図２に示すように、装置本体２には、基板Ｗ上に吐出された液滴を半乾燥させるブロー装置１４が設置されている。ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００７５】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００７６】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００７７】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００７８】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通ってタンクユニット１３に設置された再利用タンク内に流入し貯留される。この貯留された液体は、回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００７９】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００８０】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００８１】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１のノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００８２】
タンクユニット１３には、前述したキャッピング時に回収された吐出液を貯留する再利用タンクと、描画前フラッシング、定期フラッシングおよびドット抜け検出で回収された吐出液を貯留する排液タンクのほか、液滴吐出ヘッド１１１へ供給される吐出液を貯留する給液タンクや、クリーニングユニット１２２へ供給される洗浄液を貯留する給液タンクなどがそれぞれ設置されている。各給液タンク内は、液滴吐出装置１の近傍（好ましくは後述するチャンバ９１の外）に設置された図示しない加圧気体供給源から供給された例えば窒素ガス等の加圧気体により加圧され、この圧力によって、吐出液および洗浄液が送出される。
【００８３】
このような液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度が管理された環境下に置かれている。チャンバ装置９は、液滴吐出装置１を収納するチャンバ９１と、チャンバ９１の外部に設置された空調装置９２とを有している。空調装置９２は、公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（温調空気）を生成する。この温調空気は、導入ダクト９３を通ってチャンバ９１の天井裏９１１に送り込まれる。この温調空気は、天井裏９１１からフィルタ９１２を透過して、チャンバ９１の主室９１３に導入される。
【００８４】
チャンバ９１内には、隔壁９１４、９１５により副室９１６が設けられており、タンクユニット１３は、この副室９１６内に設置されている。隔壁９１４には、主室９１３と副室９１６とを連通する連通部（開口）９１７が形成されている。
副室９１６には、チャンバ９１の外部に対する開閉扉（開閉部）９１８が設けられている（図１参照）。なお、副室９１６の開閉部は、開閉扉９１８のような開き戸に限らず、引き戸、シャッターなどでもよい。
また、副室９１６には、副室９１６内の気体を排出する排気口が形成され、この排気口には、外部へ伸びる排気ダクト９４が接続されている。主室９１３に導入された温調空気は、連通部９１７を通過して副室９１６に流入した後、排気ダクト９４を通過してチャンバ装置９の外部に排出される。
【００８５】
このようなチャンバ装置９によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板Ｗや装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板Ｗ上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンクユニット１３も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板Ｗを清浄に維持することができる。
なお、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
【００８６】
また、このような液滴吐出システム１０では、開閉扉９１８を開くことにより、主室９１３を外部に開放することなく、タンクユニット１３にアクセスすることができる。これにより、タンクユニット１３へのアクセス時に液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、タンクの交換、液体の補充または回収を行った直後でも、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、タンクの交換、液体の補充または回収を行った後でも、主室９１３内の温度や液滴吐出装置１の各部の温度が管理された値に戻るのを待たずに済むので、スループット（生産能率）の向上が図れる。このようなことから、基板Ｗ等のワークを高い精度で量産するのに極めて有利であり、製造コスト低減が図れる。
図３および図４に示すように、石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３と、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構５とが設置されている。図３に示すように、基板搬送テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引口（吸引部）３３２が形成されている。
【００８７】
図４に示すように、Ｙ軸方向移動機構５は、リニアモータ５１と、エアスライダ５２とを有している。エアスライダ５２は、石定盤２２上でＹ軸方向に沿って延在するスライドガイド５２１と、このスライドガイド５２１に沿って移動するスライドブロック５２２とを有している。スライドブロック５２２は、スライドガイド５２１との間に空気を吹き出す吹き出し口を有しており、この吹き出し口から吹き出す空気をスライドガイド５２１との間に介在させることにより、円滑に移動可能になっている。
【００８８】
スライドブロック５２２上には、ベース１０８が固定され、このベース１０８の上に、基板搬送テーブル３がθ軸回転機構１０５を介して固定されている。このようにして、基板搬送テーブル３は、エアスライダ５２によってＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ５１の駆動によりＹ軸方向に移動するようになっている。また、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構１０５により、基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。
【００８９】
Ｙ軸方向移動機構５の上方には、例えばステンレス鋼等の金属材料で構成された一対の帯状の薄板１０１がＹ軸方向移動機構５を上側から覆うように張り渡されている。薄板１０１は、ベース１０８の上面に形成された凹部（溝）内を通ってベース１０８とθ軸回転機構１０５との間を挿通している。この薄板１０１が設けられていることにより、液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液がＹ軸方向移動機構５に付着するのを防止することができ、Ｙ軸方向移動機構５を保護することができる。
【００９０】
石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２は、環境温度変化に対する安定性、振動に対する減衰性、経年変化（劣化）に対する安定性、吐出液に対する耐食性等の各種の特性に優れている。本発明では、このような石定盤２２によってＹ軸方向移動機構５および後述するＸ軸方向移動機構６を支持したことにより、環境温度変化、振動、経年変化（劣化）等の影響による誤差が少なく、基板搬送テーブル３とヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）との相対的な移動に高い精度が得られるとともに、その高い精度を常に安定して維持することができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００９１】
石定盤２２を構成する石材は、特に限定されないが、ベルファストブラック、ラステンバーグ、クルヌールおよびインディアンブラックのいずれかであるのが好ましい。これにより、石定盤２２の上記の各特性をより優れたものとすることができる。
このような石定盤２２は、架台２１に支持されている。架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。架台２１は、好ましくは空気バネまたはゴムブッシュ等による防振構造を有しており、床からの振動を石定盤２２に極力伝達しないように構成されている。
また、石定盤２２は、好ましくは架台２１と非締結状態（非固定状態）で架台２１に支持（載置）されている。これにより、架台２１に生じる熱膨張等が石定盤２２に影響するのを回避することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００９２】
図５は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図、図６は、図５中の矢印Ａ方向から見た側面図、図７は、図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図である。
図６および図７に示すように、石定盤２２の上には、４本の支柱２３と、これらの支柱２３に支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とが設置されている。基板搬送テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００９３】
液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動機構６は、桁２４および２５を介して、４本の支柱２３に支持されている。図５に示すように、Ｘ軸方向移動機構６は、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ（ヘッドユニット支持体）６１と、桁２４上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するとともに駆動するリニアモータアクチュエータ６２と、桁２５上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するガイド６３とを有している。メインキャリッジ６１は、リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間に架け渡されるようにして設置されている。
【００９４】
ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対し着脱可能に支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。
リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間には、さらに、カメラキャリッジ１０６が架け渡されるようにして設置されている。カメラキャリッジ１０６は、リニアモータアクチュエータ６２およびガイド６３をメインキャリッジ６１と共用するとともに、メインキャリッジ６１と独立してＸ軸方向に移動する。
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００９５】
図６に示すように、メインキャリッジ６１上には、二次タンク４１２が設置されており、この二次タンク４１２には、タンクユニット１３に設置された吐出液を貯留する給液タンクから延びる給液配管４１１が接続されている。給液配管４１１は、可撓性を有するチューブで構成され、この給液配管４１１の途中には、メインキャリッジ６１とともに移動する二次タンク４１２の移動に合わせて給液配管４１１の二次タンク４１２側の部分が移動可能となるように給液配管４１１を中継する中継部４１３が設けられている。
【００９６】
二次タンク４１２には、１２個の液滴吐出ヘッド１１１の各々に対応する１２本の分岐配管４１４の一端がそれぞれ接続されており、これらの分岐配管４１４の他端は、ヘッドユニット１１に設けられた、各液滴吐出ヘッド１１１に対応する１２個の流入口１１２にそれぞれ接続されている。なお、図６中では、見易くするため、１２本の分岐配管４１４のうちの２本のみを図示する。
【００９７】
各分岐配管４１４の途中には、遮断弁４１５が設けられている。給液配管４１１を通った吐出液は、二次タンク４１２に流入し、二次タンク４１２内で圧力調整された後、各分岐配管４１４を通って各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。遮断弁４１５は、二次タンク４１２内の圧力を調整する負圧制御ユニットが何らかの原因で機能しない場合、分岐配管４１４の流路を遮断し、二次タンク４１２より低い位置にある液滴吐出ヘッド１１１に二次タンク４１２から吐出液が流れ続けて液滴吐出ヘッド１１１から漏出するのを防止する。
【００９８】
図８は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図８に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００９９】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
【０１００】
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド１１１で構成してもよい。また、メインキャリッジ６１に複数のヘッドユニット１１が設置されていてもよい。
【０１０１】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。基板搬送テーブル３上に基板Ｗが給材され、液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置（説明省略）の作動により基板搬送テーブル３上で所定の位置に位置決め（プリアライメント）されると、基板搬送テーブル３の各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラ１０７が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構１０５が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
【０１０２】
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、前述したように、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【０１０３】
その後、メインキャリッジ６１を移動させることにより、ヘッドユニット１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了したら、ヘッドユニット１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板Ｗの全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する。
【０１０４】
図９は、図３に示す状態から基板搬送テーブルを取り外した状態を示す平面図、図１０は、架台の平面図である。
図９に示すように、石定盤２２は、平面視で、Ｙ軸方向に長い長方形をなすＹ軸方向移動機構支持部２２１と、このＹ軸方向移動機構支持部２２１の長手方向の途中の部分からＸ軸方向に両側にそれぞれ突出する支柱支持部２２２および２２３とで構成されており、その結果、石定盤２２の形状は、平面視で十字状をなしている。換言すれば、石定盤２２は、平面視で、長方形から４つの隅部付近（除去部分Ｃ）を除去したような形状をなしている。
【０１０５】
Ｙ軸方向移動機構支持部２２１上には、Ｙ軸方向移動機構５が設置されている。そして、支柱支持部２２２の角部２２２ａおよび２２２ｂと、支柱支持部２２２３の角部２２３ａおよび２２３ｂの４箇所の上には、それぞれ、支柱２３が設置される。
このように、石定盤２２は、平面視で、図９中の一点鎖線で示す長方形Ｒから、Ｙ軸方向移動機構５および支柱２３を設置しない部分（除去部分Ｃ）を除去したような形状をなすものとなっている。これにより、長方形Ｒのような形状のままで使用した場合と比べ、重量を軽減することができる。その結果、液滴吐出装置１の据え付け場所への輸送が容易になるとともに、工場の据え付け場所の床の耐荷重も小さくて済む。
【０１０６】
また、除去部分Ｃの分だけ石定盤２２が占める領域を少なくできるので、液滴吐出装置１全体の小型化が図れる。すなわち、除去部分Ｃに配管部品、電装部品等を設置することにより省スペース化を図ることができたり、除去部分Ｃを装置のメンテナンスのためのスペースとして用いることができる。よって、工場内での占有面積を小さくすることができ、また、液滴吐出装置１の据え付け場所への輸送も容易となる。また、液滴吐出装置１をチャンバ９１内に収容して稼動する場合にも、チャンバ９１の大きさを小さくすることができ、有利である。
このようなことから、液滴吐出装置１を用いることにより、基板Ｗのようなワークに対するパターンの形成（描画）を低コストで行うことができる。
【０１０７】
また、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５は、平面視で、石定盤２２の長手方向に平行にかつその中心線が石定盤２２の中心線（石定盤２２の長手方向に沿った中心線）にほぼ合致した状態で設置され、Ｘ軸方向移動機構６は、平面視で、石定盤２２の長手方向に垂直にかつその中心線が石定盤２２の中心線（石定盤２２の短手方向に沿った中心線）にほぼ合致した状態で設置されている。これにより、Ｙ軸方向移動機構５およびＸ軸方向移動機構６が相互の中間位置で十字状に交差し、かつ石定盤２２の中央に設置される。このため、Ｙ軸方向移動機構５およびＸ軸方向移動機構６を石定盤２２上により一層バランス良く支持することができる。
【０１０８】
また、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５は、石定盤２２の長手方向と平行に延在し、かつ石定盤２２上に直接載置されている。これにより、Ｙ軸方向移動機構５をより一層高い精度（平面度）で安定的に支持することができる。
また、本実施形態では、Ｘ軸方向移動機構６は、４つの支柱２３を介してＹ軸方向移動機構５を跨いで設置されるとともに、４つの支柱２３は、平面視で、石定盤２２の長手方向に沿った中心線を介して対称に分散配置されている。これにより、Ｘ軸方向移動機構６をより一層高い精度（平面度）で安定的に支持することができる。
【０１０９】
図１０に示すように、石定盤２２を支持する架台２１は、平面視で石定盤２２とほぼ同様の形状（十字状）をなしている。これにより、液滴吐出装置１全体としてのさらなる重量軽減（軽量化）、小型化（省スペース化）が図れる。この架台２１は、３点（３箇所）以上の複数の支持部２１３にて石定盤２２を支持している。この支持部２１３は、例えばアジャストボルト等の機構による高さ調整機構を備えており、各支持部２１３の高さを調整することにより、石定盤２２の上面の平面度および水平度を調整可能になっている。
【０１１０】
図１１は、石定盤の他の構成例を示す平面図である。前述した実施形態では、石定盤２２は、１個の石材で構成されていたが、図１１に示す石定盤２２’では、Ｙ軸方向移動機構支持部２２１’と、支柱支持部２２２’と、支柱支持部２２３’とがそれぞれ別個の石材で構成されている。そして、石定盤２２は’、これら３個の石材を組み合わせ、図示しない固定部材により互いに連結して構成されている。
【０１１１】
このように、複数個の石材を組み合わせて石定盤２２’を構成することにより、長方形でない石定盤２２’を容易かつ安価で製造することができる。また、石定盤２２’を分解して据え付け場所へ輸送することができ、輸送も容易に行うことができる。
なお、石定盤２２’を複数個の石材を組み合わせて構成する場合、その分割の境界は、図示の構成に限らず、例えば図１１中で横方向に３分割されるようなものでもよい。
【０１１２】
以上、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
例えば、レーザー測長器１５の構成は、前述した実施形態には限定されない。
【０１１３】
また、前記本実施形態では、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動制御は、レーザー測長器１５から出力される第１のパルス信号および第２のパルス信号に基づいて行われるが、前記基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動制御は、これに限らず、例えば、リニアエンコーダ（例えば、光学式リニアエンコーダ）やロータリーエンコーダ（例えば、光学式ロータリーエンコーダ）などを用い、この検出結果に基づいて行われるように構成されていてもよい。
また、Ｙ軸方向移動機構、Ｘ軸方向移動機構は、リニアモータに代えて、例えばボールネジ（送りネジ）などでもよい。
【０１１４】
以上述べたように、本発明によれば、ヘッドユニット１１に比べて振動や傾きの小さい基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離を検出（測定）し、この検出結果に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングを制御するので、液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【０１１５】
また、レーザー測長器１５により、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離を検出するので、基板搬送テーブル３が傾いたとしても、その傾斜分も含めて基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離を検出することができ、また、吐出液滴によるパターン形成距離（描画距離）が長くなっても、前記移動距離を正確に検出することができ、これによって液滴を正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。すなわち、Ｙ軸方向移動機構５の精度が低くてもその影響を抑制（または阻止）することができ、このため、Ｙ軸方向移動機構５を容易かつ安価に製造することができる。
【０１１６】
特に、気圧計１７により、チャンバ９１内の気圧を検出し、その検出結果に基づいて補正を行って、液滴吐出ヘッド１１１の液滴を吐出するタイミングを制御するので、気圧変動に伴うレーザー測長器１５の検出値の変化分を補正することができ、これにより、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【０１１７】
また、レーザー測長器１５のうちのレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２およびレーザー測長器本体１５３は、基板Ｗや液滴吐出ヘッド１１１から所定距離離間した位置に設置されるので、液滴吐出ヘッド１１１から吐出される液滴によってレーザー測長器１５が汚れてしまうのを防止することができ、これにより、レーザー測長器１５の液滴による故障を防止することができる。
【０１１８】
また、レーザー測長器１５は、レーザー光の光路を屈曲させるミラー１５２を有しているので、レーザー測長器１５を構成するレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２、レーザー測長器本体１５３およびコーナーキューブ１５４を任意の位置に配置することができ、また、液滴吐出装置１の小型化（省スペース化）が図れる。
【０１１９】
また、レーザー光の光路は、ほぼ同一の平面内にあり、特に、ほぼ同一の水平面内にあるので、液滴吐出装置の小型化（省スペース化）が図れる。
また、レーザー測長器１５のうち、コーナーキューブ１５４を基板搬送テーブル３側に設け、レーザー測長器センサヘッド１５１およびミラー１５２を装置本体２側に設けることにより、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離をより正確に検出することができ、これによって液滴をより正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【０１２０】
特に、コーナーキューブ１５４は、基板搬送テーブル３の近傍に設けられているので、基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離をさらに正確に検出することができ、これによって液滴をさらに正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【０１２１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図３】架台、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す平面図。
【図４】架台、基板搬送テーブルおよびレーザー測長器を示す側面図。
【図５】ヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図。
【図６】図５中の矢印Ａ方向から見た側面図。
【図７】図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図。
【図８】ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図９】図３に示す状態から基板搬送テーブルを取り外した状態を示す平面図。
【図１０】架台の平面図。
【図１１】石定盤の他の構成例を示す平面図。
【図１２】液滴吐出装置の制御装置を含む主要部を示すブロック図。
【図１３】液滴を吐出するタイミングを説明するための図。
【符号の説明】
１……液滴吐出装置、２……装置本体、１５……レーザー測長器
Claims (20)
- 装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器を有する移動距離検出手段と、
当該液滴吐出装置の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、
前記移動距離検出手段および前記気圧検出手段の検出結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備えることを特徴とする液滴吐出装置。 - 装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの前記Ｙ軸方向の移動距離を検出するレーザー測長器を有する移動距離検出手段と、
当該液滴吐出装置の近傍の気圧を検出する気圧検出手段と、
前記気圧検出手段の検出結果に基づいて前記移動距離検出手段の検出結果を補正し、該補正後の検出結果に基づいて前記液滴吐出ヘッドの液滴を吐出するタイミングを制御する制御手段とを備えることを特徴とする液滴吐出装置。 - 前記制御手段は、前記気圧検出手段の検出結果に基づいて、前記レーザー測長器から発せられるレーザー光の波長または当該波長に対応する物理量を求め、該求めた波長または物理量に基づいて前記移動距離検出手段の検出結果を補正するよう構成されている請求項２に記載の液滴吐出装置。
- 標準気圧における液滴の吐出タイミングは、前記レーザー測長器から出力される基準タイミング信号に同期し、かつ、該基準タイミング信号の周期の複数倍の周期を有する請求項２または３に記載の液滴吐出装置。
- 液滴の吐出タイミングは、前記補正により、前記標準気圧における液滴の吐出タイミングに対し、前記基準タイミング信号の少なくとも１個分、時間的に前または後へずれるか、または、前記標準気圧における液滴の吐出タイミングと同一となるよう構成されている請求項４に記載の液滴吐出装置。
- 当該液滴吐出装置は、内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用される請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
- 前記条件には、温度および／または湿度が含まれる請求項６に記載の液滴吐出装置。
- 前記レーザー測長器は、レーザー光の光路を少なくとも１回屈曲させる屈曲手段を備える請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
- 前記レーザー測長器は、レーザー光を発する発光部と、前記発光部から発せられたレーザー光を反射する反射部と、前記反射部で反射したレーザー光を受光する受光部とを備え、
前記反射部は、前記ワーク搬送テーブル側に設けられ、前記発光部および前記受光部は、前記装置本体側に設けられている請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。 - 前記レーザー測長器は、レーザー光を発する発光部およびレーザー光を受光する受光部を有するレーザー測長器センサヘッドと、レーザー光を反射する反射部と、レーザー光の光路を少なくとも１回屈曲させる屈曲手段とを備え、
前記反射部は、前記ワーク搬送テーブル側に設けられ、前記レーザー測長器センサヘッドおよび前記屈曲手段は、前記装置本体側に設けられており、
前記発光部から発せられたレーザー光が前記反射部に照射され、前記反射部で反射したレーザー光が前記受光部で受光され、かつ、前記レーザー測長器センサヘッドと前記反射部との間でレーザー光の光路が前記屈曲手段によって少なくとも１回屈曲するように前記レーザー測長器を構成する各部が配置されている請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。 - 前記反射部は、前記ワーク搬送テーブルまたはその近傍に設けられている請求項９または１０に記載の液滴吐出装置。
- 前記レーザー光の光路は、ほぼ同一の平面内にある請求項１ないし１１のいずれかに記載の液滴吐出装置。
- 前記平面は、水平面である請求項１２に記載の液滴吐出装置。
- 前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構を有する請求項１ないし１３のいずれかに記載の液滴吐出装置。
- 前記Ｙ軸方向を主走査方向とし、前記Ｘ軸方向を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出する請求項１４に記載の液滴吐出装置。
- 請求項１ないし１５のいずれかに記載の液滴吐出装置と、
前記液滴吐出装置を収容し、その内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする液滴吐出システム。 - 前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置を備える請求項１６に記載の液滴吐出システム。
- 請求項１ないし１５のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項１ないし１５のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 請求項１８に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
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| JP2003135080A JP2004341073A (ja) | 2003-05-13 | 2003-05-13 | 液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 |
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|---|---|---|---|---|
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-
2003
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