JP2004322233A - Chamfering work method of hard fragile plate - Google Patents
Chamfering work method of hard fragile plate Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004322233A JP2004322233A JP2003117328A JP2003117328A JP2004322233A JP 2004322233 A JP2004322233 A JP 2004322233A JP 2003117328 A JP2003117328 A JP 2003117328A JP 2003117328 A JP2003117328 A JP 2003117328A JP 2004322233 A JP2004322233 A JP 2004322233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tool
- edge
- vibration
- chamfering
- cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Milling Processes (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】
この発明は、硬質脆性板の辺の鋭い稜線を斜めに又は円弧形状に面取りする方法に関するもので、例えば液晶パネルに用いられるガラス板の割断辺に生ずる鋭い稜線の面取に好適な方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
電子装置の表示デバイスとして用いられる液晶パネルは、所定寸法のガラス基板上に複数のデバイスをマトリックス状に形成して、その後、各デバイス毎の寸法に割断するという工程で製作されている。ガラス板を割断する一般的な方法は、ガラスの脆性を利用するもので、ダイヤモンドの尖針やローラでガラス表面にスクライブ溝(引っ掻き溝)を形成し、このときスクライブ溝に沿って生ずる微小な垂直クラックを熱や衝撃力で助長して分断するというものである。このような方法で割断されたガラス基板の割断辺の稜線部分には、引っ掻きによる荒れた稜線又は割れによる鋭い稜線が形成される。そこで、この稜線部分を面取して、作業者が持ち上げたときに指先を傷つけたり、稜線に欠けやクラックが発生するのを防止する必要がある。
【0003】
従来この面取は、図6、7に示すように、回転砥石を用いて行われている。即ち、図6に示すように、面取しようとする稜線2aと略平行な軸11回りに回転する、通常は複数枚の円板状の砥石12の外周をワークとなるガラス基板1の稜線2に接触させて、ガラス基板1を当該稜線に沿う図の矢印13方向に砥石12に対して相対移動させる。回転軸11に例えば3枚の砥石を装着したときは、3枚の砥石によって順次切り込まれて、当該稜線部に面取寸法Cの面取が行われる。なお、砥石12の回転方向は、ガラス基板の面から辺に向う図の矢印14方向である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図6、7に示すような従来の砥石によるガラス基板の面取においては、砥石12が高速で加工点を摺擦することによる、加工点の温度上昇を抑えるために、加工点に切削液を供給することが不可欠であり、図7に示すように、加工点15に向けた切削液ノズル16から大量の切削液を連続的に供給しながら加工を行う必要があった。即ち、研削砥石によるガラス基板の面取では、加工点における熱発生が大きいため、その熱を奪って温度上昇を抑える加工液の量も多くなり、容量の大きな給水タンクや噴射された切削液を回収するための排水構造などを装置に設ける必要があった。特に回転砥石で面取をする場合には、砥石の回転に伴って切削液が四方八方に飛散するので、飛散した水滴やミストを捕集するための大掛かりなカバーが必要であり、切削液の排水構造が大掛かりになる。
【0005】
また、面取加工の加工能率を向上させるためには、砥石回転の高速化が必要であるが、砥石の回転を高くすると、砥石とガラス基板の摺擦面への切削液の流入が砥石の摺擦速度に追いつかなくなって、ドライ研削に近い状態となり、加工点の温度が急激に上昇してくると共に、加工面の品質が低下するという現象や砥石の寿命低下が起こり、これが限界となってワークの送り速度や砥石の切込深さを大きくするのに限界があるという問題があった。
【0006】
更に、硬質脆性材料の研削においては、砥石がワークをむしり取るように除去して加工を行うので、チッピングや欠けなどを生じやすいという問題があった。
【0007】
この発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになされたもので、加工点の温度上昇を可及的に抑えることが可能で、従って大量の切削液の供給を必要とせず、かつ加工面の品質も高くできるガラス基板などの硬質脆性板の面取加工方法を得ることを課題としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本願の発明に係る硬質脆性板の面取加工方法では、請求項1に記載のように、硬質脆性板1の面取しようとする辺の稜線部に工具刃先6、6a、6bを接触させて、当該硬質脆性板と工具刃先とを工具の切削方向である前記稜線の方向に相対移動させると共に、工具刃先6、6a、6bに超音波振動を付与することにより、上記課題を解決している。
【0009】
上記の面取加工方法において工具刃先6、6a、6bに与える超音波振動の振動方向としては、請求項2に記載のように、上記切削方向すなわち面取りしようとする稜線方向の移動を含む振動、例えば当該方向を直径方向とする円や楕円振動ないし揺動振動とするのが好ましい。
【0010】
また上記の本願の面取加工方法において工具刃先6、6a、6bに与える超音波振動としては、請求項3に記載のように、工具刃先6、6a、6bの振動時における刃先の軌跡が面取りしようとする稜線と交差する方向の軸回り、典型的には当該稜線と直交する方向の軸回りの円又は楕円軌跡の振動ないし円弧又は楕円弧軌跡の揺動振動とするのが好ましい。
【0011】
また工具としてフライスカッタなどの回転工具10を用いるときは、請求項4に記載のように、工具刃先6a、6bに与える超音波振動の振動方向を当該回転工具の回転軸方向とすることも可能である。
【0012】
工具の刃先形状は、一般的な金属切削加工用の工具の刃先形状に準じたものとすることができる。切削液を全く用いないで加工を行うこともできるが、加工点への切削液の滴下などによる湿潤状態で加工を行うことが、場合によっては良い結果が得られる。この場合の切削液の量は極めて僅かであり、装置に特別な排水構造を設ける必要はない。
【0013】
印加する超音波の振動数は、一般的には10〜50キロヘルツで、片振幅数十ミクロンであるが、振動数を高くすれば加工速度を高くすることができる。ワーク送り速度は、印加する超音波の振動数や振幅によって異なるが、数m〜数十m/分の速度である。
【0014】
【発明の実施の形態】
次に図面を参照して、この発明の実施形態を説明する。割断辺2を面取りしようとするガラス板1をテーブル3上に固定し、圧電振動子を内蔵した加振装置4にチップホルダ(ホーン)5を介して装着された工具刃先(スローアウエイチップ)6を臨ませ、圧電振動子に振動発振器7から加振電圧を印加して、工具刃先6を矢印8方向に加振しながら矢印9方向に送る。ここで矢印9で示す送り方向は、割断辺2と平行であり、工具刃先の加振方向8は、送り方向9と同方向である。
【0015】
工具刃先6の振動軌跡は、図3(a)に示すような直線往復運動による直線軌跡でもよいが、同図(b)に示すように、送り方向9と平行な速度成分を有する円弧ないし楕円弧軌跡とするのが好ましく、同図(c)に示すように、円ないし楕円軌跡としてもよい。円ないし楕円軌跡とするときは、工具刃先6がワーク1と接触するときに、工具刃先6が送り方向に移動するように振動させる。
【0016】
このような振動切削においては、振動によって工具刃先6が退避する方向に移動するときの速度が送り速度より大きいことが必要で、これにより工具刃先6が間欠的にワークの切削点から離れ、放熱が促進される。切削点に加工液を供給するときは、工具刃先6の送り方向前方に切削液の滴下ノズルを配置するか、あるいは面取しようとする割断辺2の稜線部分に、予め切削液を塗布するなどの手段を採用できる。
【0017】
加振装置4の振動方向は、チップホルダの軸5aをワークの稜線2aに対してどのような方向に設けるかにもよるが、図1〜3に示すように、ワークの上面1aと直交する方向に設けたときは、当該軸5aを送り方向に撓ませる撓み振動や、軸心回りに捩る捩り振動によって、図3(a)、(b)に示すような振動を刃先に付与することができる。
【0018】
図1、2では三角形の工具刃先を用いてガラス基板1の上方の稜線を斜めに面取りする例を示しているが、工具刃先6の形状により、円弧状に面取することが可能であり、また工具刃先6をガラス基板1の上下に一体に設けて、上下の稜線を同時に面取りすることも可能である。なお、液晶等のガラス基板においては、面取寸法Cは0.3〜0.5mm程度である。
【0019】
図4及び図5は、エンドミルやリーマなどの回転工具10を用いた例を示した図で、図4は回転工具10の端面の刃先6aで加工する例を、図5は周面の刃先6bで加工する例を示している。図中、矢印9は工具10に対するワーク1の送り方向であり、矢印8a、8bは振動方向であり、工具刃先6a、6bを矢印8a、8bのいずれか又は両方の方向に振動させることを示している。
【0020】
【発明の効果】
以上説明したこの発明によれば、ガラス基板等の硬質脆性板の面取加工において、切削抵抗が減少し、加工温度の上昇が抑えられるため、微量の切削液又は条件により切削液を使用せずに面取加工が可能となり、従来必要とした切削液の供給、排出及び飛散防止のための大掛かりな構造が不要となり、ランニングコストも低減できる。また、工具刃先の振動により、小刻みに切り屑が発生するため、工具刃先に切り屑が付着し難く、工具寿命及び加工面精度の向上を図ることができる。更に、振動切削による切削性向上から、送り速度の向上が可能で、硬質脆性板の面取加工の生産性を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の面取加工方法を模式的に示す斜視図
【図2】図1の方法における加工部の模式的な拡大正面
【図3】工具刃先の振動軌跡の例を示す側面図
【図4】回転工具の端面の刃先で加工する例を示した斜視図
【図5】回転工具の周面の刃先で加工する例を示した斜視図
【図6】従来の回転砥石による面取加工方法を模式的に示す斜視図
【図7】図6の方法における加工部の拡大正面図
【符号の説明】
1 ガラス板
6,6a,6b 工具刃先
10 回転工具[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for chamfering a sharp ridge line of a side of a hard brittle plate obliquely or in an arc shape, for example, to a method suitable for chamfering a sharp ridge line generated on a cut side of a glass plate used for a liquid crystal panel. It is.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A liquid crystal panel used as a display device of an electronic device is manufactured by a process of forming a plurality of devices in a matrix on a glass substrate having a predetermined size, and then cutting the device into dimensions for each device. A general method of cutting a glass plate is to use the brittleness of glass. A scribe groove (scratch groove) is formed on the surface of the glass with a diamond point or a roller. Vertical cracks are promoted by heat or impact to break the cracks. A rough ridge line due to scratching or a sharp ridge line due to cracks is formed at the ridge portion of the cut side of the glass substrate cut by such a method. Therefore, it is necessary to chamfer the ridge line portion to prevent the fingertip from being hurt when the operator lifts, and to prevent the ridge line from being chipped or cracked.
[0003]
Conventionally, this chamfering is performed using a rotary grindstone as shown in FIGS. That is, as shown in FIG. 6, the outer periphery of a plurality of disk-
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
In chamfering a glass substrate using a conventional grindstone as shown in FIGS. 6 and 7, a cutting fluid is applied to a machining point in order to suppress a rise in temperature at the machining point due to the grinding
[0005]
In addition, in order to improve the machining efficiency of chamfering, it is necessary to increase the rotation speed of the grinding wheel. It becomes impossible to catch up with the rubbing speed, it becomes a state close to dry grinding, the temperature of the processing point sharply rises, and the phenomenon that the quality of the processed surface deteriorates and the life of the grinding wheel decreases, and this is the limit There is a problem that there is a limit in increasing the feed speed of the workpiece and the cutting depth of the grinding wheel.
[0006]
Further, in the grinding of a hard brittle material, there is a problem that chipping or chipping is liable to occur since the grinding is performed by removing the work so as to peel off the work.
[0007]
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and it is possible to suppress a rise in the temperature of a processing point as much as possible. It is an object of the present invention to provide a method for chamfering a hard brittle plate such as a glass substrate, which can have a high surface quality.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In the method for chamfering a hard brittle plate according to the invention of the present application, the
[0009]
As the vibration direction of the ultrasonic vibration applied to the
[0010]
In the above-described chamfering method of the present application, as the ultrasonic vibration applied to the
[0011]
When the
[0012]
The shape of the cutting edge of the tool can conform to the shape of the cutting edge of a general metal cutting tool. Processing can be performed without using any cutting fluid, but performing processing in a wet state, such as by dropping a cutting fluid onto a processing point, can provide good results in some cases. In this case, the amount of cutting fluid is extremely small, and it is not necessary to provide a special drainage structure in the apparatus.
[0013]
The frequency of the ultrasonic wave to be applied is generally 10 to 50 kHz and the amplitude of one side is several tens of microns, but the processing speed can be increased by increasing the frequency. The workpiece feed speed varies depending on the vibration frequency and amplitude of the applied ultrasonic wave, but is a speed of several m to several tens m / min.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. A
[0015]
The vibration trajectory of the
[0016]
In such vibration cutting, it is necessary that the speed at which the
[0017]
The vibration direction of the vibrating device 4 depends on the direction in which the
[0018]
1 and 2 show an example in which the upper ridge line of the
[0019]
4 and 5 are views showing an example using a
[0020]
【The invention's effect】
According to the present invention described above, in the chamfering of a hard brittle plate such as a glass substrate, the cutting resistance is reduced, and the increase in the processing temperature is suppressed. This eliminates the need for a large-scale structure for supplying, discharging, and preventing scattering of the cutting fluid, which is required in the past, and reduces running costs. In addition, since chips are generated in small increments due to the vibration of the tool edge, the chips are less likely to adhere to the tool edge, and tool life and machining surface accuracy can be improved. Further, there is an effect that the feed rate can be improved due to the improvement in machinability by vibration cutting, and the productivity of chamfering hard brittle plates can be improved.
[Brief description of the drawings]
1 is a perspective view schematically showing a chamfering method according to the present invention; FIG. 2 is a schematic enlarged front view of a processing portion in the method shown in FIG. 1; FIG. 3 is a side view showing an example of a vibration locus of a tool edge; FIG. 4 is a perspective view showing an example of machining with a cutting edge on the end face of the rotary tool. FIG. 5 is a perspective view showing an example of machining with a cutting edge on the peripheral surface of the rotary tool. FIG. 6 is a chamfer using a conventional rotary grindstone. FIG. 7 is a perspective view schematically showing a processing method. FIG. 7 is an enlarged front view of a processing portion in the method of FIG.
1
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003117328A JP2004322233A (en) | 2003-04-22 | 2003-04-22 | Chamfering work method of hard fragile plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003117328A JP2004322233A (en) | 2003-04-22 | 2003-04-22 | Chamfering work method of hard fragile plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004322233A true JP2004322233A (en) | 2004-11-18 |
Family
ID=33497251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003117328A Pending JP2004322233A (en) | 2003-04-22 | 2003-04-22 | Chamfering work method of hard fragile plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004322233A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007044815A (en) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Kobe Univ | Machining device and method using magnetic fluid |
JP2009012084A (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Okuma Corp | Cutting method |
WO2015152526A1 (en) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 동우화인켐 주식회사 | Window substrate and method for processing chamfered part thereof |
JP2016524547A (en) * | 2013-05-31 | 2016-08-18 | ザウアー ウルトラソニック ゲーエムベーハーSauer Ultrasonic Gmbh | Tool, machine tool, and workpiece machining method |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08224728A (en) * | 1995-02-21 | 1996-09-03 | Techno Ishii:Kk | Cutting tool |
JPH09234616A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | ▲桜▼井精技株式会社 | Chamfering device and its feeding base |
JPH11300501A (en) * | 1998-04-16 | 1999-11-02 | Seiko Epson Corp | Cutting method and cutting tool of optical part |
JP2002066801A (en) * | 2000-09-04 | 2002-03-05 | Canon Inc | Cutting method, optical element and die for molding it |
JP2002346817A (en) * | 2001-05-21 | 2002-12-04 | Masao Murakawa | Ultra-sonic milling device |
-
2003
- 2003-04-22 JP JP2003117328A patent/JP2004322233A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08224728A (en) * | 1995-02-21 | 1996-09-03 | Techno Ishii:Kk | Cutting tool |
JPH09234616A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | ▲桜▼井精技株式会社 | Chamfering device and its feeding base |
JPH11300501A (en) * | 1998-04-16 | 1999-11-02 | Seiko Epson Corp | Cutting method and cutting tool of optical part |
JP2002066801A (en) * | 2000-09-04 | 2002-03-05 | Canon Inc | Cutting method, optical element and die for molding it |
JP2002346817A (en) * | 2001-05-21 | 2002-12-04 | Masao Murakawa | Ultra-sonic milling device |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007044815A (en) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Kobe Univ | Machining device and method using magnetic fluid |
JP2009012084A (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Okuma Corp | Cutting method |
US8360698B2 (en) | 2007-06-29 | 2013-01-29 | Okuma Corporation | Cutting method |
JP2016524547A (en) * | 2013-05-31 | 2016-08-18 | ザウアー ウルトラソニック ゲーエムベーハーSauer Ultrasonic Gmbh | Tool, machine tool, and workpiece machining method |
US9981321B2 (en) | 2013-05-31 | 2018-05-29 | Sauer Ultrasonic Gmbh | Tool, machine tool, and workpiece machining method |
WO2015152526A1 (en) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 동우화인켐 주식회사 | Window substrate and method for processing chamfered part thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6144107B2 (en) | Wafer cutting method | |
JP2015202545A (en) | Grinding device | |
KR102343159B1 (en) | Grinding apparatus | |
CN101885163A (en) | Method for using squirt gun to auxiliarily perform chemical mechanical polishing processing program and system thereof | |
JP2017094455A (en) | Cutting device | |
JP5651744B1 (en) | Ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning method | |
JP6145548B1 (en) | Chamfering grinding method and chamfering grinding apparatus | |
JP2004322233A (en) | Chamfering work method of hard fragile plate | |
JP2000015622A (en) | Method and device for cutting outer peripheral blade | |
JP2022047538A (en) | Chamfer grinding method and chamfer grinding device | |
JP2019136845A (en) | Cutting blade forming method | |
JP2946554B2 (en) | Grinding cutting method | |
JPH11226851A (en) | Deburring method for copper lined laminated plate and device thereof | |
JPH11123365A (en) | Ultrasonic vibrating combined processing tool | |
JP5352892B2 (en) | Grinding method and grinding apparatus | |
JP4259044B2 (en) | Cutting blade and blade surface machining method | |
JP2006059914A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JPH0624691B2 (en) | Precision Surface Polishing Method for Work Surface by Complex Vibration of Grinding Wheel | |
JP2006281341A (en) | Grinding device | |
JP2006218556A (en) | Grinding method | |
JP3115420U (en) | Segment type grinding wheel for vertical surface grinding | |
JP2006312217A (en) | Blade conditioning method | |
JP2007136425A (en) | Washing method and washing device | |
JP2000015625A (en) | Cutting method for hard and fragile material and inner peripheral blade cutting device | |
JP4695731B2 (en) | Precision finishing method for cutting edges |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100406 |