JP2004319982A - Field effect transistor and its manufacturing method - Google Patents

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Hiroharu Nakayama
寛晴 中山
Daisuke Miura
大祐 三浦
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a field effect transistor of large field effect mobility which is provided by a simple and easy method. <P>SOLUTION: This field effect transistor comprises an organic semiconductor layer comprising a crystallized film of a benzoporphyrin compound expressed with a formula (2) obtained by converting a coating film of an organic solvent soluble porphyrin compound expressed with a formula (1) by heating at 180-250°C. The organic semiconductor layer has a film thickness of 30-150 nm and a maximum diameter of crystal grain of 1 μm, and has strong absorbency for 660nm or more. In the formula, R<SB>1</SB>and R<SB>2</SB>are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group whose carbon number is 1-12, R<SB>3</SB>is the hydrogen atom or an aryl group, and M is two hydrogen atoms or metal atoms, or a metal oxide. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は電界効果型トランジスタおよびその製造方法に関し、特に有機溶媒可溶性のポルフィリン化合物の塗膜から加熱により得られるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜を活性層に用いることで、容易に作製可能で移動度の高い電界効果型トランジスタおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to a field-effect transistor and a method for manufacturing the same, and more particularly to a field-effect transistor using a crystallized film of a benzoporphyrin compound obtained by heating from a coating film of an organic solvent-soluble porphyrin compound, which can be easily manufactured and has a high mobility. Field-effect transistor with high resistance and a method of manufacturing the same.

有機半導体化合物の非線形光学特性、導電性、半導電性が有機エレクトロニクス、光エレクトロニクス分野において注目され、各種デバイス開発が盛んに行われてきた。有機半導体化合物の代表例がフタロシアニン系化合物、ポルフィリン化合物やポリアセン類である。それらの化合物を有機材料としてデバイス化する場合に必要となる非線形光学特性、導電性、半導電性などの特性は材料の純度のみでなく結晶性や配向性に大きく依存する。しかしながらπ共役系が拡張された多くの化合物が溶媒不溶、大気中で酸化を受けやすいなどの理由で高純度化が困難であった。また高い配向性を有する結晶化膜を得るために真空蒸着を行うなど製膜に大規模な装置を必要とした。   2. Description of the Related Art Non-linear optical properties, conductivity, and semiconductivity of organic semiconductor compounds have attracted attention in the fields of organic electronics and optoelectronics, and various devices have been actively developed. Representative examples of organic semiconductor compounds are phthalocyanine-based compounds, porphyrin compounds, and polyacenes. The characteristics such as nonlinear optical properties, conductivity, and semiconductivity required when these compounds are made into a device as an organic material largely depend on not only the purity of the material but also the crystallinity and orientation. However, it has been difficult to achieve high purity because many compounds having an expanded π-conjugated system are insoluble in solvents and easily oxidized in the atmosphere. In addition, a large-scale apparatus was required for film formation, such as performing vacuum deposition to obtain a crystallized film having high orientation.

近年になって半導体層に有機半導体化合物を用いた電界効果型トランジスタ(FET;Field Effect Transistor)素子が注目されるようになると、有機半導体化合物がシリコンなどの無機系の材料に比較して柔軟な膜性を示すためプラスチックを基材としたフレキシブルな素子作製に適していると考えられるようになった。   In recent years, a field effect transistor (FET) device using an organic semiconductor compound for a semiconductor layer has attracted attention, and the organic semiconductor compound is more flexible than an inorganic material such as silicon. Because of its film properties, it has come to be considered suitable for the production of flexible devices using plastic as a base material.

しかしながら前述の通り、有機半導体化合物の代表例であるペンタセンなどは結晶性が高く溶媒に不溶なため、真空蒸着によってのみ基板上に膜作成が可能であった。一方、有機溶媒に可溶な有機半導体の溶液からスピンなどの塗布で薄膜を形成することでより簡便にFETが作製されている。このような例としては、π−共役系高分子を半導体層に使用されたものがある(非特許文献1参照)。π−共役系高分子の場合、分子鎖の配列状態が電気伝導特性に大きな影響を及ぼすことが知られているが、同様にπ−共役系高分子電界効果型トランジスタの電界効果移動度が半導体層中における分子鎖の配列状態に大きく依存することが報告されている(非特許文献2参照)。   However, as described above, pentacene, which is a typical example of an organic semiconductor compound, has high crystallinity and is insoluble in a solvent, and thus a film can be formed on a substrate only by vacuum evaporation. On the other hand, FETs are more easily manufactured by forming a thin film from a solution of an organic semiconductor soluble in an organic solvent by spin coating or the like. As such an example, there is one in which a π-conjugated polymer is used for a semiconductor layer (see Non-Patent Document 1). In the case of a π-conjugated polymer, it is known that the arrangement state of the molecular chains has a great effect on the electric conduction characteristics. It is reported that it largely depends on the arrangement state of molecular chains in a layer (see Non-Patent Document 2).

しかしながら、π−共役系高分子の分子鎖の配列は溶液を塗布して乾燥するまでの間に行われるため、環境の変化や塗布方法の違いによって分子鎖の配列状態が大きく変化する可能性があった。ペンタセンの可溶性前駆体薄膜を塗布で形成し、熱処理によってペンタセンに変換した膜を用いたFETも報告されている(非特許文献3参照)。この場合、ペンタセンへの変換に高温処理が必要であったり、質量が大きい脱離成分を減圧によって取り除かなければならなかった。
「Japanese Journal of Applied Physics」応用物理学会、1991年、第30巻、p.596−598 「Nature」Nature Publishing Group、1999年、第401巻、p.685−687 「Advanced Materials」WILLEY−VCH Verlag GmbH、1999年、第11巻、p.480−483
However, since the arrangement of the molecular chains of the π-conjugated polymer is performed until the solution is applied and dried, there is a possibility that the arrangement state of the molecular chains may significantly change due to environmental changes or differences in the application method. there were. An FET using a film in which a soluble pentacene precursor thin film is formed by coating and converted into pentacene by heat treatment has also been reported (see Non-Patent Document 3). In this case, high-temperature treatment was required for conversion to pentacene, and desorbed components having a large mass had to be removed by reduced pressure.
"Japanese Journal of Applied Physics", Japan Society of Applied Physics, 1991, Vol. 30, p. 596-598 "Nature" Nature Publishing Group, 1999, vol. 401, p. 685-687 "Advanced Materials", WILLEY-VCH Verlag GmbH, 1999, vol. 11, p. 480-483

以上述べたように、従来、有機半導体を用いたFET素子は真空製膜などの煩雑な工程が必要であるか、もしくは環境の影響を受け易いなどの問題があった。
本発明は、この問題を解決するためになされたもので、電界効果移動度が大きく、簡便な方法で形成された有機半導体層を有する電界効果型トランジスタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
As described above, conventionally, an FET element using an organic semiconductor has a problem that a complicated process such as vacuum film formation is required, or the FET device is easily affected by the environment.
The present invention has been made to solve this problem, and has an object to provide a field-effect transistor having an organic semiconductor layer formed with a large field-effect mobility and a simple method, and a method for manufacturing the same. I do.

本発明者らは、下記の一般式(1)で表されるポルフィリン化合物の有機溶剤溶液を基板表面に塗布した時に得られる塗膜から、熱処理により容易に結晶化膜を得ることができ、さらにこの結晶化膜を有機半導体層に用いた電界効果型トランジスタが、従来の蒸着により膜作成した有機半導体層と同等もしくはそれよりも大きい電界効果移動度を示すことを見いだし、本発明に至った。   The present inventors can easily obtain a crystallized film by heat treatment from a coating film obtained when an organic solvent solution of a porphyrin compound represented by the following general formula (1) is applied to a substrate surface. The inventors have found that a field-effect transistor using this crystallized film as an organic semiconductor layer exhibits a field-effect mobility equal to or greater than that of an organic semiconductor layer formed by conventional evaporation.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)   That is, the present invention provides the following general formula (1)

Figure 2004319982
Figure 2004319982

(式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種を示し、R3 は水素原子またはアリール基より選ばれる少なくとも1種を示す。)
で表されるポルフィリン化合物の塗膜を180〜250℃の加熱により変換して得られる下記一般式(2)
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group) R 3 represents at least one selected from a hydrogen atom and an aryl group.)
A porphyrin compound coating film represented by the following formula (2) obtained by converting the coating film by heating at 180 to 250 ° C.

Figure 2004319982
Figure 2004319982

(式中、R2 、R3 は前記と同じものを示す。)
で表されるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜からなる有機半導体層を有し、該有機半導体層が膜厚30〜150nm、結晶粒の最大径が1μm以上であり、かつ660nm以上に強い吸収を持つことを特徴とする電界効果型トランジスタである。
(In the formula, R 2 and R 3 are the same as described above.)
Having an organic semiconductor layer composed of a crystallized film of a benzoporphyrin compound represented by the formula: wherein the organic semiconductor layer has a thickness of 30 to 150 nm, the maximum diameter of crystal grains is 1 μm or more, and has strong absorption at 660 nm or more. This is a field-effect transistor.

前記一般式(1)で表されるポルフィリン化合物のR1 およびR2 が水素原子であり、かつ一般式(2)で表されるベンゾポルフィリン化合物のR2 が水素原子であることが好ましい。 Wherein R 1 and R 2 of the porphyrin compound represented by the general formula (1) is a hydrogen atom, and it is preferred that R 2 of the benzoporphyrin compound represented by the general formula (2) is a hydrogen atom.

前記一般式(1)で表されるポルフィリン化合物および前記一般式(2)で表されるベンゾポルフィリン化合物のR3 が水素原子であることが好ましい。
前記有機半導体層の電界効果移動度が1×10-3cm2 /V・s以上であり、かつOn/Off比が100以上であることが好ましい。
Preferably, R 3 of the porphyrin compound represented by the general formula (1) and the benzoporphyrin compound represented by the general formula (2) is a hydrogen atom.
The organic semiconductor layer preferably has a field effect mobility of 1 × 10 −3 cm 2 / V · s or more and an On / Off ratio of 100 or more.

また、本発明は、有機半導体層を有する電界効果型トランジスタの製造方法であって、該有機半導体層を下記一般式(1)   Further, the present invention is a method for manufacturing a field effect transistor having an organic semiconductor layer, wherein the organic semiconductor layer is formed by the following general formula (1)

Figure 2004319982
Figure 2004319982

(式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種を示し、R3 は水素原子またはアリール基より選ばれる少なくとも1種を示す。)
で表されるポルフィリン化合物の有機溶媒溶液からなる塗膜を180〜250℃に加熱して得られる下記一般式(2)
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group) R 3 represents at least one selected from a hydrogen atom and an aryl group.)
The following general formula (2) obtained by heating a coating film composed of an organic solvent solution of a porphyrin compound represented by

Figure 2004319982
Figure 2004319982

(式中、R2 、R3 は前記と同じものを示す。)
で表されるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜により形成する工程を有することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法である。
(In the formula, R 2 and R 3 are the same as described above.)
A method for manufacturing a field-effect transistor, comprising a step of forming a crystallized film of a benzoporphyrin compound represented by the formula:

前記一般式(1)で表されるポルフィリン化合物の有機溶媒溶液がハロゲン溶媒を含むことが好ましい。   It is preferable that the organic solvent solution of the porphyrin compound represented by the general formula (1) contains a halogen solvent.

本発明によれば、従来に比べてはるかに簡便な方法で、電界効果移動度が大きい電界効果型トランジスタを提供することができる。   According to the present invention, a field-effect transistor having a large field-effect mobility can be provided by a much simpler method than in the related art.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における電界効果型トランジスタは、下記一般式(1)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The field effect transistor according to the present invention has the following general formula (1)

Figure 2004319982
Figure 2004319982

(式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種を示し、R3 は水素原子またはアリール基より選ばれる少なくとも1種を示す。)
で表される有機溶媒可溶性ポルフィリン化合物の塗膜を180〜250℃の加熱により変換して得られる下記一般式(2)
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group) R 3 represents at least one selected from a hydrogen atom and an aryl group.)
The following general formula (2) obtained by converting a coating film of an organic solvent-soluble porphyrin compound represented by the following formula by heating at 180 to 250 ° C:

Figure 2004319982
Figure 2004319982

(式中、R2 、R3 は前記と同じものを示す。)
で表されるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜からなる有機半導体層を有し、該有機半導体層が膜厚30〜150nm、結晶粒の最大径が1μm以上であり、かつ660nm以上に強い吸収を持つことを特徴とする。
(In the formula, R 2 and R 3 are the same as described above.)
Having an organic semiconductor layer composed of a crystallized film of a benzoporphyrin compound represented by the formula: wherein the organic semiconductor layer has a thickness of 30 to 150 nm, the maximum diameter of crystal grains is 1 μm or more, and has strong absorption at 660 nm or more. It is characterized by the following.

本発明においては、前記一般式(1)に示されるポルフィリン化合物のジシクロオクタエン環に結合した置換基R1 は熱処理によって一般式(2)に示されるベンゾポルフィリン化合物に変換される時にR1 −CH=CH−R1 となって脱離する。そのためR1 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種であれば良く、2種以上が組み合わされていても良い。炭素数が12を越えると脱離成分の分子量が増して、ベンゾポルフィリン膜中に脱離成分が残存して十分な半導体特性が得られない。最も好ましくはR1 が水素原子である。 In the present invention, R 1 when substituents R 1 attached to di cyclooctadiene ene ring of the porphyrin compound represented the general formula (1) is converted to the benzoporphyrin compound represented by the general formula (2) by heat treatment -CH = CH-R 1 to be eliminated. Therefore, R 1 may be independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group. The above may be combined. When the number of carbon atoms exceeds 12, the molecular weight of the desorbed component increases, and the desorbed component remains in the benzoporphyrin film, so that sufficient semiconductor characteristics cannot be obtained. Most preferably, R 1 is a hydrogen atom.

一般式(1)で表されるポルフィリン化合物の置換基R2 は熱処理後に得られるベンゾポルフィリン化合物にも置換基として残る。そのため置換基R2 はベンゾポルフィリンの配向に影響を与える。R2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種であれば良く、2種以上が組み合わされていても良い。R2 の炭素数が12を越えると分子全体に対するポルフィリン環の存在率が下がるためポルフィリン環同士が配向し難くなり十分な半導体特性が得られない。最も好ましくはR2 が水素原子であり、ポルフィリン環同士のスタッキングがより起こりやすく膜の結晶性が向上する。 The substituent R 2 of the porphyrin compound represented by the general formula (1) remains as a substituent in the benzoporphyrin compound obtained after the heat treatment. Therefore, the substituent R 2 affects the orientation of the benzoporphyrin. R 2 may be each independently at least one kind selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group. May be combined. If the number of carbon atoms of R 2 exceeds 12, the porphyrin ring abundance with respect to the whole molecule decreases, and the porphyrin rings are difficult to orient, and sufficient semiconductor properties cannot be obtained. Most preferably, R 2 is a hydrogen atom, and stacking between porphyrin rings is more likely to occur, and the crystallinity of the film is improved.

有機半導体層の作製法としては、一般式(1)で表されるポルフィリン化合物を有機溶媒に溶解させてから基材に塗布し、その後に加熱することで一般式(2)で表されるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜を得る方法が好ましい。   As a method for forming the organic semiconductor layer, a porphyrin compound represented by the general formula (1) is dissolved in an organic solvent, and then applied to a substrate, and then heated to heat the benzoyl compound represented by the general formula (2). A method for obtaining a crystallized film of a porphyrin compound is preferred.

ポルフィリン化合物を溶解するために用いられる有機溶媒はポルフィリン化合物が反応したり、析出しなければ特に限定されない。また、2種以上の有機溶媒を混合して用いても良い。塗膜表面の平滑性や膜厚の均一性を考慮に入れるとハロゲン溶媒を使用することが好ましい。ハロゲン溶媒の例としてはクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロエチレンなどが挙げられる。溶液の濃度は所望の膜厚によって任意に調節されるが、好ましくは0.01〜5重量%である。   The organic solvent used to dissolve the porphyrin compound is not particularly limited as long as the porphyrin compound does not react or precipitate. Further, two or more kinds of organic solvents may be mixed and used. It is preferable to use a halogen solvent in consideration of the smoothness of the coating film surface and the uniformity of the film thickness. Examples of the halogen solvent include chloroform, methylene chloride, dichloroethane, chlorobenzene, 1,2-dichloroethylene and the like. The concentration of the solution is arbitrarily adjusted depending on the desired film thickness, but is preferably 0.01 to 5% by weight.

塗布方法としては、スピンキャスト法、ディッピング法、滴下法、オフセットあるいはスクリーンなどの印刷法、インクジェット法などが挙げられる。また、半導体層中に極力ゴミなどを混入させないために事前にメンブランフィルタで濾過することが望ましい。なぜならば、不溶分や外部からのゴミの混入は均一な配向を妨げ、オフ電流の増加やオン/オフ比の低下を引き起こすからである。ベンゾポルフィリンの塗膜は130℃以下で予備乾燥することもできる。   Examples of the coating method include a spin casting method, a dipping method, a dropping method, a printing method such as offset or screen, and an ink jet method. In addition, it is desirable that the semiconductor layer is filtered with a membrane filter in advance so that dust and the like are not mixed into the semiconductor layer as much as possible. This is because insoluble matter or dust from outside impedes uniform orientation, causing an increase in off-state current and a decrease in on / off ratio. The benzoporphyrin coating may be pre-dried at 130 ° C. or less.

塗布形成されたポルフィリン化合物の膜は加熱によってレトロディールスアルダー反応を引き起こし、R1 −CH=CH−R1 の脱離を伴うベンゾポルフィリン化合物への変換が起こる。ベンゾポルフィリンの生成と同時にポルフィリン環同士のスタッキングによる結晶生長を引き起こし、ベンゾポルフィリンの結晶化膜が得られる。また、脱離反応は150℃以上で起こるが、より高い電界効果移動度を得るための加熱温度としては180〜250℃、好ましくは200〜230℃の範囲が望ましい。180℃未満では結晶生長が十分な結晶化膜が得られず、250℃を越えると急激な膜収縮のためにクラックが発生する。 The porphyrin compound film formed by application causes a retro Diels-Alder reaction by heating, and conversion to a benzoporphyrin compound accompanied by elimination of R 1 —CH = CH—R 1 occurs. At the same time as the formation of benzoporphyrin, porphyrin rings are stacked to cause crystal growth, and a crystallized benzoporphyrin film is obtained. The desorption reaction occurs at 150 ° C. or higher, and the heating temperature for obtaining higher field-effect mobility is desirably 180 to 250 ° C., preferably 200 to 230 ° C. If the temperature is lower than 180 ° C., a crystallized film having sufficient crystal growth cannot be obtained. If the temperature exceeds 250 ° C., cracks occur due to rapid film shrinkage.

加熱はホットプレート上、熱風循環型オーブンや真空オーブン中で行われるが、均一配向を得るためにはホットプレート上で瞬時に加熱する方法が好ましい。
また、より高い結晶性を得るためには加熱前の塗膜を布などで軽く擦るラビング処理を行うことが好ましい。ラビング処理に使用する布はレーヨン、木綿、絹などが挙げられるが、これらに限定されない。
Heating is performed on a hot plate, in a hot air circulation type oven or in a vacuum oven. In order to obtain uniform orientation, a method of instantaneously heating on a hot plate is preferable.
In order to obtain higher crystallinity, it is preferable to perform a rubbing treatment in which the coating film before heating is lightly rubbed with a cloth or the like. The cloth used for the rubbing treatment includes, but is not limited to, rayon, cotton, silk and the like.

これらの操作によって得られるベンゾポルフィリン配向膜を用いた有機半導体層の膜厚は30〜150nm、好ましくは50〜120nmの範囲が望ましい。膜厚が30nm未満であると膜厚の均一性が損なわれ、一方150nmを越えると膜表面の平滑性が損なわれることで電界効果移動度が低下する。   The thickness of the organic semiconductor layer using the benzoporphyrin alignment film obtained by these operations is desirably 30 to 150 nm, preferably 50 to 120 nm. When the film thickness is less than 30 nm, the uniformity of the film thickness is impaired. On the other hand, when the film thickness exceeds 150 nm, the smoothness of the film surface is impaired, and the field-effect mobility is reduced.

結晶の生長はX線回折や光学顕微鏡、レーザー顕微鏡などを用いた膜表面観察、膜の紫外−可視吸収スペクトルで確認することができる。有機半導体層中の結晶粒の最大径は1μm以上、好ましくは2〜50μmの範囲が望ましい。1μm未満であると十分な電界効果移動度が得られない。   The growth of the crystal can be confirmed by observation of the film surface using X-ray diffraction, an optical microscope, a laser microscope, or the like, and an ultraviolet-visible absorption spectrum of the film. The maximum diameter of the crystal grains in the organic semiconductor layer is 1 μm or more, preferably in the range of 2 to 50 μm. If it is less than 1 μm, sufficient field effect mobility cannot be obtained.

また、有機半導体層の紫外−可視吸収スペクトル観察において660nm以上に強い吸収を示すことが好ましい。660nm以上に吸収を持たないもしくは弱い吸収しか示さない場合、ポルフィリン環同士のスタッキングが弱く、十分に配向しないため電界効果移動度が低下する。   In addition, it is preferable that the organic semiconductor layer exhibits strong absorption at 660 nm or more in observation of an ultraviolet-visible absorption spectrum. When the porphyrin ring has no absorption or only weak absorption at 660 nm or more, the stacking between porphyrin rings is weak and the porphyrin rings are not sufficiently oriented, so that the field-effect mobility decreases.

本発明において得られる有機半導体層の電界効果移動度は1×10-3cm2 /V・s以上である。それより低いとゲート電圧の印加によって得られるソース−ドレイン間の電流値が小さすぎるため、液晶素子などの駆動に適さない。また、前記有機半導体層のOn/Off比は100以上であることが好ましい。 The field effect mobility of the organic semiconductor layer obtained in the present invention is 1 × 10 −3 cm 2 / V · s or more. If it is lower than that, the current value between the source and the drain obtained by application of the gate voltage is too small, which is not suitable for driving a liquid crystal element or the like. Further, the On / Off ratio of the organic semiconductor layer is preferably 100 or more.

図1は本発明の電界効果型トランジスタの一部を拡大して示す模式図である。本発明の電界効果型トランジスタは、ゲート電極1とゲート絶縁層2とソース電極3とドレイン電極4と有機半導体層4から構成される。   FIG. 1 is an enlarged schematic view showing a part of the field effect transistor of the present invention. The field-effect transistor of the present invention includes a gate electrode 1, a gate insulating layer 2, a source electrode 3, a drain electrode 4, and an organic semiconductor layer 4.

ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極としては、導電性材料であれば特に限定されず、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン鉛、タンタル、インジウム、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、およびこれらの合金や、インジウム・錫酸化物等の導電性金属酸化物、あるいはドーピング等で導電率を向上させた無機および有機半導体、例えばシリコン単結晶、ポリシリコン、アモルファスシリコン、ゲルマニウム、グラファイト、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、ポリパラフェニレンビニレン等が挙げられる。電極の作製方法としてはスパッタ法、蒸着法、溶液やペーストからの印刷法、インクジェット法などが挙げられる。また、電極材料としては、上に挙げた中でも半導体層との接触面において電気抵抗が少ないものが好ましい。   The gate electrode, source electrode, and drain electrode are not particularly limited as long as they are conductive materials. Platinum, gold, silver, nickel, chromium, copper, iron, tin, antimony lead, tantalum, indium, aluminum, zinc, and magnesium , And alloys thereof, conductive metal oxides such as indium tin oxide, or inorganic and organic semiconductors having improved conductivity by doping or the like, for example, silicon single crystal, polysilicon, amorphous silicon, germanium, graphite, Examples include polyacetylene, polyparaphenylene, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polythienylenevinylene, and polyparaphenylenevinylene. Examples of a method for manufacturing an electrode include a sputtering method, an evaporation method, a printing method from a solution or a paste, and an ink-jet method. As the electrode material, among those mentioned above, those having low electric resistance at the contact surface with the semiconductor layer are preferable.

ゲート絶縁層としては、一般式(1)で表される有機溶媒可溶性ポルフィリン化合物の溶液が均一に塗布できるものであれば何でもよいが、誘電率が高く、導電率が低いものが好ましい。例としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタルなどの無機酸化物や窒化物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテル、シロキサン含有ポリマー等の有機高分子が挙げられる。また、上記絶縁材料の中でも、表面の平滑性の高いものが好ましい。   As the gate insulating layer, any material can be used as long as it can uniformly apply a solution of the porphyrin compound soluble in an organic solvent represented by the general formula (1), but a material having a high dielectric constant and a low conductivity is preferable. Examples include inorganic oxides and nitrides such as silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, titanium oxide, and tantalum oxide, and organic polymers such as polyacrylate, polymethacrylate, polyethylene terephthalate, polyimide, polyether, and siloxane-containing polymers. No. Further, among the insulating materials, those having high surface smoothness are preferable.

一般式(1)で表される有機溶媒可溶性ポルフィリン化合物の溶液の絶縁層上での塗膜均一性を向上させたり、加熱により一般式(2)で表されるベンゾポルフィリン化合物の膜の配向を均一にするために、絶縁層表面のみを改質することもできる。その方法としてはオゾン、プラズマ、ヘキサメチルジシラザンガスを用いた乾式処理や、有機溶剤にテトラアルコキシシラン、トリクロロシラン、界面活性剤などを溶解した溶液を用いた湿式処理などが挙げられる。   The uniformity of the coating of the solution of the organic solvent-soluble porphyrin compound represented by the general formula (1) on the insulating layer is improved, and the orientation of the film of the benzoporphyrin compound represented by the general formula (2) is improved by heating. For uniformity, only the surface of the insulating layer can be modified. Examples of the method include dry processing using ozone, plasma, and hexamethyldisilazane gas, and wet processing using a solution in which tetraalkoxysilane, trichlorosilane, a surfactant, or the like is dissolved in an organic solvent.

本発明における電界効果型トランジスタの構造は薄膜型に限定されるものではなく、立体型でもよい。   The structure of the field-effect transistor in the present invention is not limited to a thin film type, but may be a three-dimensional type.

以下に合成例および実施例を示すが、本発明はそれらの実施例に限られるものではない。
合成例1
ビシクロポルフィリンの合成
エチル4,7−ジヒドロ−4,7−エタノ−2H−イソインドール−1―カルボキシレート0.109g(0.5mmol)とTHF(テトラヒドロフラン)15mLの混合物に水素化リチウムアルミニウム粉0.144g(3.76mmol)を0℃で加えた。反応混合物を0℃で2時間攪拌した後、水中に注ぎ、クロロホルムで抽出した。抽出溶液にp−トルエンスルホン酸0.010gを加え、室温で12時間攪拌した。さらにp−クロラニル0.150g(0.61mmol)を加えて、室温で12時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、純水、飽和食塩水の順で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶液を濃縮後、アルミナカラムクロマトグラフィーと再結晶により精製を行い、0.096gの下記の式(3)で表わされるビシクロポルフィリン結晶を得た。
Hereinafter, Synthesis Examples and Examples are shown, but the present invention is not limited to these Examples.
Synthesis Example 1
Synthesis of Bicycloporphyrin Lithium aluminum hydride powder was added to a mixture of 0.109 g (0.5 mmol) of ethyl 4,7-dihydro-4,7-ethano-2H-isoindole-1-carboxylate and 15 mL of THF (tetrahydrofuran). 144 g (3.76 mmol) were added at 0 ° C. After the reaction mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours, it was poured into water and extracted with chloroform. 0.010 g of p-toluenesulfonic acid was added to the extraction solution, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. Further, 0.150 g (0.61 mmol) of p-chloranil was added, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. The reaction mixture was washed with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, pure water and saturated saline in this order, and dried over anhydrous sodium sulfate. After the solution was concentrated, purification was performed by alumina column chromatography and recrystallization to obtain 0.096 g of a bicycloporphyrin crystal represented by the following formula (3).

Figure 2004319982
Figure 2004319982

実施例1
図1に本実施例における電界効果型トランジスタの構造を示す。
まず、N型のシリコン基板をゲート電極1とした。シリコン基板表層を熱酸化して得られる5000Åの酸化シリコン膜をゲート絶縁層2とした。その上にクロム、金の順に蒸着を行い、通常の光リソグラフィー技術でソース電極3、ドレイン電極4を形成した。この基板上に合成例1で合成したビシクロポルフィリンの1重量%クロロホルム溶液をスピンキャストした。さらに基板を200℃で加熱して下記の式(4)で表されるベンゾポルフィリン薄膜からなる有機半導体層5を形成した。有機半導体層の膜厚は60nmで、光学顕微鏡を用いた観察の結果、結晶粒の最大径は2μmであった。
Example 1
FIG. 1 shows the structure of the field-effect transistor in this embodiment.
First, an N-type silicon substrate was used as the gate electrode 1. A 5000-inch silicon oxide film obtained by thermally oxidizing the surface layer of the silicon substrate was used as the gate insulating layer 2. Then, chromium and gold were vapor-deposited in this order, and a source electrode 3 and a drain electrode 4 were formed by ordinary photolithography. A 1% by weight chloroform solution of bicycloporphyrin synthesized in Synthesis Example 1 was spin-cast on this substrate. Further, the substrate was heated at 200 ° C. to form an organic semiconductor layer 5 composed of a benzoporphyrin thin film represented by the following formula (4). The thickness of the organic semiconductor layer was 60 nm, and as a result of observation using an optical microscope, the maximum diameter of crystal grains was 2 μm.

Figure 2004319982
Figure 2004319982

以上の手順でチャネル長50μm、チャネル幅10mm、半導体層の厚さ約500Åの電界効果型トランジスタを作成した。作成したトランジスタのVd−Id曲線をAgilent社(製)のパラメーターアナライザー4156C(商品名)を用いて測定したところ、図2のような結果を得た。得られた結果からこのトランジスタは電界効果移動度が2×10-3cm2 /V・sであり、On/Off比は1000であった。 By the above procedure, a field-effect transistor having a channel length of 50 μm, a channel width of 10 mm, and a semiconductor layer thickness of about 500 ° was prepared. When the Vd-Id curve of the transistor thus formed was measured using a parameter analyzer 4156C (trade name) manufactured by Agilent (product), the result as shown in FIG. 2 was obtained. From the results obtained, this transistor had a field-effect mobility of 2 × 10 −3 cm 2 / V · s and an On / Off ratio of 1000.

同様の製膜条件で石英基板上にベンゾポルフィリン膜を形成した。その膜の紫外−可視吸収スペクトルを日立製作所(製)のスペクトロフォトメーターU3310(商品名)を用いて観察すると、690nm付近をピークとする強い吸収が観測された。   Under the same film forming conditions, a benzoporphyrin film was formed on a quartz substrate. When the ultraviolet-visible absorption spectrum of the film was observed using a spectrophotometer U3310 (trade name) manufactured by Hitachi, Ltd., strong absorption having a peak near 690 nm was observed.

実施例2
図3に本実施例における電界効果型トランジスタの構造を示す。
まず、N型のシリコン基板をゲート電極1とした。シリコン基板表層を熱酸化して得られる5000Åの酸化シリコン膜をゲート絶縁層2とした。その上に合成例1で合成したビシクロポルフィリンの1重量%クロロホルム溶液をスピンキャストした。さらに基板を200℃で加熱して式(4)で表されるベンゾポルフィリン薄膜からなる有機半導体層5を形成した。有機半導体層の膜厚は60nmで、光学顕微鏡を用いた観察の結果、結晶粒の最大径は2μmであった。その上に金の蒸着を行い、ソース電極3、ドレイン電極4を形成した。
Example 2
FIG. 3 shows the structure of the field-effect transistor in this embodiment.
First, an N-type silicon substrate was used as the gate electrode 1. A 5000-inch silicon oxide film obtained by thermally oxidizing the surface layer of the silicon substrate was used as the gate insulating layer 2. A 1% by weight chloroform solution of bicycloporphyrin synthesized in Synthesis Example 1 was spin-cast thereon. Further, the substrate was heated at 200 ° C. to form an organic semiconductor layer 5 composed of a benzoporphyrin thin film represented by the formula (4). The thickness of the organic semiconductor layer was 60 nm, and as a result of observation using an optical microscope, the maximum diameter of crystal grains was 2 μm. Gold was deposited thereon to form a source electrode 3 and a drain electrode 4.

以上の手順でチャネル長50μm、チャネル幅10mm、半導体層の厚さ約500Åの電界効果型トランジスタを作成した。作成したトランジスタのVd−Idを測定したところ、このトランジスタは電界効果移動度が4×10-3cm2 /V・sであり、On/Off比は1000であった。 By the above procedure, a field-effect transistor having a channel length of 50 μm, a channel width of 10 mm, and a semiconductor layer thickness of about 500 ° was prepared. When Vd-Id of the transistor thus manufactured was measured, the transistor had a field-effect mobility of 4 × 10 −3 cm 2 / V · s and an On / Off ratio of 1000.

比較例1
実施例1に記載の加熱温度を170℃にした以外は実施例1に準じてベンゾポルフィリン薄膜からなる電界効果型トランジスタを作製した。このトランジスタは電界効果移動度が5×10-5cm2 /V・sであり、On/Off比は10であった。有機半導体層の膜厚は60nmで、結晶粒の最大径は0.5μm以下であった。
Comparative Example 1
A field-effect transistor formed of a benzoporphyrin thin film was manufactured according to Example 1, except that the heating temperature described in Example 1 was 170 ° C. This transistor had a field-effect mobility of 5 × 10 −5 cm 2 / V · s and an On / Off ratio of 10. The thickness of the organic semiconductor layer was 60 nm, and the maximum diameter of the crystal grain was 0.5 μm or less.

石英板上に作成したベンゾポルフィリン薄膜からなる有機半導体膜は650nm付近をピークとする弱い吸収のみを示した。   The organic semiconductor film formed of a benzoporphyrin thin film formed on a quartz plate showed only weak absorption with a peak near 650 nm.

本発明の電界効果型トランジスタは、電界効果移動度が大きい電界効果型トランジスタであるので、液晶パネル、有機ELパネル、電子ペーパー、センサ等に利用することができる。   Since the field-effect transistor of the present invention is a field-effect transistor having a large field-effect mobility, it can be used for a liquid crystal panel, an organic EL panel, electronic paper, a sensor, and the like.

本発明の実施例1における電界効果型トランジスタの一部を拡大して示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an enlarged part of a field-effect transistor according to the first embodiment of the present invention. 本発明の実施例1における電界効果型トランジスタの電気特性を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating electric characteristics of the field-effect transistor according to the first embodiment of the present invention. 本発明の実施例2における電界効果型トランジスタの一部を拡大して示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a part of a field-effect transistor according to a second embodiment of the present invention in an enlarged manner.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 ゲート電極
2 ゲート絶縁層
3 ソース電極
4 ドレイン電極
5 有機半導体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gate electrode 2 Gate insulating layer 3 Source electrode 4 Drain electrode 5 Organic semiconductor layer

Claims (6)

下記一般式(1)
Figure 2004319982
(式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種を示し、R3 は水素原子またはアリール基より選ばれる少なくとも1種を示す。)
で表されるポルフィリン化合物の塗膜を180〜250℃の加熱により変換して得られる下記一般式(2)
Figure 2004319982
(式中、R2 、R3 は前記と同じものを示す。)
で表されるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜からなる有機半導体層を有し、該有機半導体層が膜厚30〜150nm、結晶粒の最大径が1μm以上であり、かつ660nm以上に強い吸収を持つことを特徴とする電界効果型トランジスタ。
The following general formula (1)
Figure 2004319982
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group) R 3 represents at least one selected from a hydrogen atom and an aryl group.)
A porphyrin compound coating film represented by the following formula (2) obtained by converting the coating film by heating at 180 to 250 ° C.
Figure 2004319982
(In the formula, R 2 and R 3 are the same as described above.)
Having an organic semiconductor layer composed of a crystallized film of a benzoporphyrin compound represented by the formula: wherein the organic semiconductor layer has a thickness of 30 to 150 nm, the maximum diameter of crystal grains is 1 μm or more, and has strong absorption at 660 nm or more. A field effect transistor characterized by the above-mentioned.
前記一般式(1)で表されるポルフィリン化合物のR1 およびR2 が水素原子であり、かつ一般式(2)で表されるベンゾポルフィリン化合物のR2 が水素原子であることを特徴とする請求項1記載の電界効果型トランジスタ。 Characterized in that R 1 and R 2 of the porphyrin compound represented by the general formula (1) is a hydrogen atom, and R 2 of the benzoporphyrin compound represented by the general formula (2) is a hydrogen atom The field-effect transistor according to claim 1. 前記一般式(1)で表されるポルフィリン化合物および前記一般式(2)で表されるベンゾポルフィリン化合物のR3 が水素原子であることを特徴とする請求項1または2記載の電界効果型トランジスタ。 3. The field effect transistor according to claim 1, wherein R 3 of the porphyrin compound represented by the general formula (1) and the benzoporphyrin compound represented by the general formula (2) is a hydrogen atom. . 前記有機半導体層の電界効果移動度が1×10-3cm2 /V・s以上であり、かつOn/Off比が100以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかの項に記載の電界効果型トランジスタ。 4. The organic semiconductor layer according to claim 1, wherein the organic semiconductor layer has a field-effect mobility of 1 × 10 −3 cm 2 / V · s or more and an On / Off ratio of 100 or more. 3. The field-effect transistor according to claim 1. 有機半導体層を有する電界効果型トランジスタの製造方法であって、該有機半導体層を下記一般式(1)
Figure 2004319982
(式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数1以上12以下のアルキル基、オキシアルキル基、チオアルキル基、アルキルエステル基より選ばれる少なくとも1種を示し、R3 は水素原子またはアリール基より選ばれる少なくとも1種を示す。)
で表されるポルフィリン化合物の有機溶媒溶液からなる塗膜を180〜250℃に加熱して得られる下記一般式(2)
Figure 2004319982
(式中、R2 、R3 は前記と同じものを示す。)
で表されるベンゾポルフィリン化合物の結晶化膜により形成する工程を有することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
A method for manufacturing a field-effect transistor having an organic semiconductor layer, wherein the organic semiconductor layer is represented by the following general formula (1)
Figure 2004319982
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or an alkyl ester group) R 3 represents at least one selected from a hydrogen atom and an aryl group.)
The following general formula (2) obtained by heating a coating film composed of an organic solvent solution of a porphyrin compound represented by
Figure 2004319982
(In the formula, R 2 and R 3 are the same as described above.)
A method for producing a field-effect transistor, comprising a step of forming a crystallized film of a benzoporphyrin compound represented by the formula:
前記一般式(1)で表されるポルフィリン化合物の有機溶媒溶液がハロゲン溶媒を含むことを特徴とする請求項5記載の電界効果型トランジスタの製造方法。   The method according to claim 5, wherein the organic solvent solution of the porphyrin compound represented by the general formula (1) contains a halogen solvent.
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