JP2004315759A - シーラント用高密度ポリエチレン樹脂及びそれを使ったシーラント用フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】Tダイ製膜等に用いた際に高速製膜安定性に優れ、特にシーラントフィルムとして用いた時、開封性に優れ、レトルト後の寸法安定性及びシール強度の安定性に優れる食品及び医療用分野の包装材料として好適なポリエチレン系のフィルムの提供。
【解決手段】特定の密度、MFR、分子量分布を持つ、メタロセン触媒により製造された高密度ポリエチレン樹脂を用いることで、上記課題を解決できる。
【選択図】 選択図なし
【解決手段】特定の密度、MFR、分子量分布を持つ、メタロセン触媒により製造された高密度ポリエチレン樹脂を用いることで、上記課題を解決できる。
【選択図】 選択図なし
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シーラントフィルムとして用いた時、レトルト後の寸法安定性に優れ、特に食品等の包装材料として好適なシーラント用高密度ポリエチレン樹脂に関する。特に、100℃以上で殺菌を行うレトルト用途において単層或いは他の素材、例えばナイロン系樹脂フィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と積層されたレトルト用耐熱性積層フィルムのシーラントして用いた際の耐熱性、寸法安定性に優れ、かつ加熱殺菌等のための短時間での熱処理(ハイサイクル処理)が可能であり、また衝撃強度、特に冷凍保存時等の低温での衝撃性に優れ、更に透明性にも優れたシーラント用高密度ポリエチレン樹脂およびそれを用いたシーラント用フィルムを提供することが可能である。
【0002】
【従来の技術】
従来、一般にレトルト容器とも言われるボイル加熱用包装容器加熱用途のシーラントとしては、Tダイ等により成型される無延伸ポリプロピレン(以下CPPと記載)系フィルムや線状低密度ポリエチレン(以下LLと記載)系フィルムが使用されてきた。これらは特に食品包装においては、アルミ箔やポリ塩化ビニリデン樹脂(PVDC)およびエチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物(EVOH)等をガスバリヤー層とし、ポリアミド樹脂層およびポリエステル樹脂層等と組み合わせ、ヒートシール層として用いられ、各種食品包装材料やボイル加熱用途に広く用いられている。
【0003】
上記のCPP系フィルムは、耐熱性、高剛性、透明性に優れることから比較的高温度での耐熱性が要求される用途に用いられていることが多いが、欠点として、低温での衝撃強度が弱く、特にボイル加熱処理済みの食品等をCPP系フィルムで包装し、冷凍保管したり、冷凍のまま輸送する際等に落下すると、低温衝撃強度が悪い為にその衝撃で破袋しやすい傾向にあった。
このCPP系フィルムの欠点を補うものとして、LL系フィルムがシーラント用途に用いられるようになっている。しかしLL系フィルムは低温衝撃強度や透明性は優れているものの、密度が一般に930kg/m3以下である為、融点が低く、そのため、耐熱性に乏しく、ボイル加熱工程において、高温での処理ができない。その為、比核的ボイル加熱処理は低い温度で行わざるを得ず、そのため、加熱時間を長くする必要があり、生産効率が上げられなかった。また、LL系フィルムはボイル加熱処理後に熱収縮等の影響で寸法収縮することがあった。
また、シングルサイト触媒で重合された線状低密度ポリエチレン樹脂に、高密度ポリエチレン樹脂(以下HDと記載)を混合した組成のシーラントフィルムも提案されているが、この場合はHD系樹脂によりフィルムの透明性が悪化する傾向にあった。
【0004】
【特許文献1】
特開平7−266520号広報
【特許文献2】
特開2001−253029号広報
【特許文献3】
特開2000−109570号広報。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
昨今はいわゆるレトルト包装分野における、ボイル加熱処理工程において、生産効率を向上させる目的や、長時間の熱処理による、食品の味覚の低下防止等の目的で、短時間での熱処理を要望されている。しかしながら、特許文献1に示すような容器では124℃程度のボイル加熱用途に用いた場合、耐熱性が不足しており破袋しやすい傾向にあった。一般にLLの融解温度は120〜125℃程度と比較的低い為、124℃程度のボイル加熱においては袋の強度が低下し、破袋するのであった。
【0006】
本発明は上記従来の技術が持つ問題点を解決し、シーラントフィルムとして用いた時、レトルト後の寸法安定性、及びシール強度の安定性に優れ、特に食品等の包装材料として好適なシーラント用高密度ポリエチレン樹脂に関する。特に、100℃以上で殺菌を行うレトルト用途において単層或いは他の素材、例えばナイロン系樹脂フィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と積層されたレトルト用耐熱性積層フィルムのシーラントして用いた際の耐熱性に優れ、ヒートシール性がよく短時間での熱処理(ハイサイクル処理)が可能であり、また衝撃強度に優れ、更に透明性にも優れたシーラント用高密度ポリエチレン樹脂およびそれを用いたシーラント用フィルムを提供する。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、特定の物性のメタロセン触媒による高密度ポリエチレン樹脂をシーラントとして用いると、上記課題を解決できることを見出し本発明に至った。即ち本発明はJIS K7210 コードD におけるMFRが0.4〜50、JIS K7112による密度が940〜975kg/m3、GPCによる分子量分布(Mw/Mn)が3〜7であリ、特定の触媒系よりなるメタロセン触媒により製造される高密度ポリエチレン樹脂(A)からなることを特徴とした、シーラント用高密度ポリエチレン樹脂を及びそれを用いたシーラント用フィルムに関する。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の要件の一つである、特定の触媒系によるメタロセン触媒により製造される高密度ポリエチレン樹脂(A)とは、(ア)担体物質、(イ)有機アルミニウム、(ウ)環状η性結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物、及び(エ)該環状η結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物と反応して触媒活性を発現する錯体を形成可能な活性化剤から調整された担持メタロセン触媒を用いて、エチレンと炭素数3〜20のα−オレフィンとを共重合して得られる。特に(ウ)の環状η結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物中の遷移金属はチタニウムが好ましい。
【0009】
担体物質(ア)としては、有機担体、無機担体のいずれでもよい。有機担体としては、好ましくは(1)炭素数2〜20のα−オレフィンの重合体例えばポリエチレンや、ポリプロピレン、ポリブテン−1、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ヘキセン−1共重合体、プロピレン−ブテン1共重合体、エチレン−ヘキセン1共重合体など、(2)芳香族不飽和炭化水素共重合体、例えばポリスチレン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、および(3)極性基含有重合体、例えばポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート等である。無機担体としては(4)無機酸化物例えば、SiO2、Al2O2、MgO,TiO2、B203、CaO、ZnO、BaO、ThO,SiO2−MgO、SiO2−Al2O3、SiO2−MgO、SiO2−V2O5など、(5)無機ハロゲン化合物、例えばMgCl2、AlCl3,MnCl2等、(6)無機の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、例えば、Na2CO3,K2CO3、CaCO3、MgCO3、Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)2等、(7)水酸化物、例えばMg(OH)2、Al(OH)3、Ca(OH)3等が例示される。最も好ましい担体はSiO2である。
【0010】
担体の粒子径は任意であるが、一般的には1μm〜3000μm、粒子の分散性の見地から、粒子形分布は好ましくは10〜1000μmの範囲内である。
上記担体物質は必要に応じて(イ)有機アルミニウム化合物で処理される。好ましい有機アルミニウム化合物としては、一般式(−Al(R)O−)nで示される直鎖状、あるいは環状重合体(Rは炭素数1〜10の炭化水素記であり、一部ハロゲン原子及び/またはRO基で置換されたものも含む。nは重合度であり、5以上、好ましくは10以上である)等が挙げられ、具体例としてRがそれぞれメチル基、エチル基、イソブチル基である、メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、イソブチルエチルアルモキサン等があげられる。
更にその他の有機アルミニウム化合物としては、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲノアルミニウム、セスキアルキルハロゲノアルミニウム、アルメニルアルミニウム、ジアルキルハイドロアルミニウム、セスキアルキルハイドロアルミニウムなどがあげられる。
【0011】
その他の有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライドなどのジアルキルハロゲノアルミニウム、セスキメチルアルミニウムクロライド、セスキエチルアルミニウムクロライドなどのセスキアルキルハロゲノアルミニウム、エチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、セスキエチルアルミニウムハイドライドなどをあげることができる。これらの中で最も好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドである。
本発明の担持触媒は例えば下記一般式(1)で示される(ウ)環状η結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物を含む。
【0012】
【化1】
【0013】
式中Mは1つ以上の配位子Lとη5結合をしている酸化数+2、+3、+4の長周期型周期律表第4族遷移金属であり、特に遷移金属としてはチタニウムが好ましい。
又Lは環状η結合性アニオン配位子であり、各々独立にシクロペンタジエニル基、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、テトラヒドロフルオレニル基、またはオクタヒドロフルオレニル基であり、これらの基は20個までの非水素原子を含む炭化水素基、ハロゲン、ハロゲン置換炭化水素基、アミノヒドロカルビ基、ヒドロカルビオルオキシ基、ジヒドロカルビルアミノ基、ジヒドロカルビルフォスフィノ基、シリル基、アミノシリル基、ヒドロカルビルオキシシリル基及びハロシリル基から各々独立に選ばれる1〜8の置換基を任意に有していてもよく、さらには2つのLが20個までの非水素原子を含むヒドロカルバジイル、ハロヒドロカルバジイル、ヒドロカルビレンオキシ、ヒドロカルビレンアミノ、ジラジイル、ハロシラジイル、アミノシランなどの2価の置換基により結合されていてもよい。
【0014】
Xは各々独立に、60までの非水素原子を有する、1価のアニオン性σ結合型配位子、Mと2価で結合する2価のアニオン性シグマ結合型配位子、またはM及びLに各々1個ずつの価数で結合する2価のアニオンσ結合型配位子である。
X’は各々独立に炭素数4乃至40からなるフォスフィン、エーテル、アミン、オレフィン、及び/又は共役ジエンから選ばれる中性ルイス塩基配位性化合物である。
又、lは1または2の整数である。pは0、1又は2の整数であり、Xが1価のアニオン性σ結合型配位子又はM及びLに各々1個ずつの価数で結合する2価のアニオン性σ結合型配位子であるときpはMの形式酸化数よりもl以上少なく、またはXがMと2価で結合する2価のアニオン性σ結合型配位子であるときpはMの形式酸化数よりもl+1以上少ない。又qは0、1または2である。遷移金属化合物としては上記一般式(1)でl=1の場合が好ましい。
例えば、遷移金属化合物の好適な例は、以下の一般式(2)で表される。
【0015】
【化2】
【0016】
式中Mは形式酸化数+2、+3又は+4のチタニウム、ジルコニウム、ハフニウムであり、特にチタニウムが好ましい。
また、R3は各々独立に、水素、炭化水素基、シリル基、ゲルミル基、シアノ基、ハロゲン、又はこれらの複合機であり、各々20までの非水素原子を有することができる。又近接するR3同士がヒドロカルバジイル、ジラジイル、またはゲルマジイル等の2価の誘導体を形成して環状となっていてもよい。
【0017】
X”は各々独立にハロゲン、炭化水素基、ヒドロカルビルオキシ基、ヒドロカルビルアミノ基、またはシリル基であり、各々20までの非水素原子を有しており、また2つのX”が炭素数5乃至30の中性共役ジエン、もしくは2価の誘導体を形成してもよい。Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり、ZはSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR* 2またはGeR* 2であり、ここでR*は各々独立に炭素数1乃至12のアルキル基又はアリール基である。又、nは1乃至3の整数である。さらに、遷移金属化合物として、より好適な例は、以下の一般式(3)および(4)で表される。
【0018】
【化3】
【0019】
【化4】
【0020】
式中R3は各々独立に、水素、炭化水素基、シリル基、ゲルミル基、シアノ基、ハロゲン、又はこれらの複合機であり、各々20までの非水素原子を有することができる。また、遷移金属Mはチタニウム、ジルコニウムまたはハフニウムであり、チタニウムが好ましい。
Z、Y、X及びX’の定義は前出のとおりである。pは0,1又は2であり、qは0又は1である。但し、pが2でqが0のとき、Mの酸化数は+4であり、且つXはハロゲン、炭化水素基、ヒドロカルビルオキシ基、ジヒドロカルビルアミノ基、ジヒドロカルビルフォスフィド基、ヒドロカルビルスルフィド基、シリル基またはこれらの複合基であり、20までの非水素原子を有している。
【0021】
またpが1でqが0のとき、Mの酸化数は+3であり、且つXはアリル基、2−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニル基または2−(N,N−ジメチル)−アミノベンジル基から選ばれる安定化アニオン配位子であるか、もしくはMの酸化数が+4であり、かつXが2価の共役ジエンの誘導体であるか、あるいはMとXがともにメタロシクロペンテン基を形成している。
またpが0でqが1のとき、Mの酸化数は+2であり、且つX’は中性の共役或いは非共役ジエンであって任意に1つ以上の炭化水素で置換されていてもよく、又該X’は40までの炭素原子を含み得るものであり、Mとπ型錯体を形成している。
さらに、本発明において、遷移金属化合物として最も好適な例は、以下の一般式(5)及び(6)で表される。
【0022】
【化5】
【0023】
【化6】
【0024】
式中R3は各々独立に、水素または炭素数1乃至6のアルキル基である。又Mはチタニウムであり、Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり、Z*はSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR2またはGeR* 2であり、ここでR*は各々独立に水素、或いは炭化水素基、ヒドロカルビルオキシ基、シリル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基またはこれらの複合基である。該R*は20までの非水素原子を有することができ、又必要に応じてZ*中の2つのR*同士またはZ*中のR*とY中のR*が環状となっていてもよい。
【0025】
pは0,1又は2であり、qは0又は1である。但し、pが2でqが0のとき、Mの酸化数は+4であり、且つXは各々独立にメチル基またはヒドロベンジル基である。
またpが1でqが0のとき、Mの酸化数は+3であり、且つXが2−(N,N−ジメチル)−アミノベンジル基であるか、或いはMの酸化数が+4でありかつXが2−ブテンー1,4−ジイルである。
【0026】
またpが0でqが1のとき、Mの酸化数は+2であり、且つX’は1,4−ジフェニル−1、3−ブタジエンまたは1,3−ペンタジエンである。前記ジエン類は金属錯体を形成する非対称ジエン類を例示したものであり、実際には各幾何異性体の混合物である。
又、本発明のメタロセン触媒は(エ)遷移金属化合物と反応して触媒活性を発現する錯体を形成可能な活性化剤を含む。通常メタロセン系触媒においては、遷移金属化合物と上記活性化剤により形成される錯体が、触媒活性種として高いオレフィン重合活性を示す。
本発明において、活性化剤としては例えば、以下の一般式(7)で定義される化合物があげられる。
【0027】
【化7】
【0028】
但し式中[L−H]d+はプロトン付与のブレンステッド酸であり、Lは中性ルイス塩基である。また[MmQt]d−は相溶性の非配位性アニオンであり、Mは周期律表第5族乃至15族から選ばれる金属またはメタロイドであり、Qは各々独立にヒドリド、ジアルキルアミド基、ハライド、アルコキサイド基、アリロキサイド基、炭化水素基、炭素数20までの置換炭化水素基であり、またハライドであるQは1個以下である。又mは1乃至7の整数であり、pは2乃至14の整数であり、dは1乃至7の整数であり、t−m=dである。
本発明で活性化剤のより好ましい例は以下の一般式(8)で定義される化合物である。
【0029】
【化8】
【0030】
但し式中[L−H]d+はプロトン付与のブレンステッド酸であり、Lは中性ルイス塩基である。また[MmQw(Gu(T−H)r)z]d−は相溶性の非配位性アニオンであり、Mは周期律表第5族乃至15族から選ばれる金属またはメタロイドであり、Qは各々独立にヒドリド、ジアルキルアミド基、ハライド、アルコキサイド基、アリロキサイド基、炭化水素基、炭素数20までの置換炭化水素基であり、またハライドであるQは1個以下である。又GはM及びTと結合するr+1の価数を持多価炭化水素基であり、TはO、S、NRまたはPRであり、ここでRはヒドロカルビル基、トリヒドロカルビルシリル基、トリヒドロカルビルゲルマニウム基、もしくは水素である。
【0031】
又mは1乃至7の整数であり、wは0乃至7の整数でありuは0または1の整数であり、rは1乃至3の整数であり、zは1乃至8の整数であり、w+z−m=dである。
本発明で活性化剤のさらに好ましい例は以下の一般式(9)で定義される化合物である。
【0032】
【化9】
【0033】
但し式中[L−H]d+はプロトン付与のブレンステッド酸であり、Lは中性ルイス塩基である。また[BQ3Q*]−は相溶性の非配位性アニオンであり、Bはホウ素原子、Qはペンタフルオロフェニル基であり、Q*は置換基としてOH基を1つ有する炭素数6乃至20の置換アリール基である。
【0034】
本発明の相溶性の非配位性アニオンの具体例としては、トリフェニル(ヒドロキシフェニル)ボレート、ジフェニル−ジ(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリフェニル(2,4−ジヒドロキシフェニル)ボレート、トリ(p−トリル)フェニル(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(2,4ジメチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(3,5ジメチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(3,5−ジ−トリフルオロメチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(2−ヒドロキシエチル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(4−ヒドロキシブチル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(4−ヒドロキシ−シクロヘキシル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(4−(4‘−ヒドロキシフェニル)フェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)ボレート等があげられ、最も好ましいのは、トリス(ペンタフルオロフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレートである。
【0035】
他の好ましい相溶性の非配意性アニオンの具体例としては、上記例示のボレートのヒドロキシ基がNHRで置き換えられたボレートがあげられる。ここでRは好ましくはメチル基、エチル基またはtert−ブチル基である。
また、プロトン付与性のブレンステッド酸の具体例としては、例えば、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ(n−ブチル)アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、およびトリ(n−オクチル)アンモニウム、ジエチルメチルアンモニウム、ジブチルメチルアンモニウム、ジブチルエチルアンモニウム、ジヘキシルメチルアンモニウム、ジオクチルメチルアンモニウム、ジデシルメチルアンモニウム、ジドデシルメチルアンモニウム、ジテトラデシルメチルアンモニウム、ジヘキサデシルメチルアンモニウム、ジオクタデシルメチルアンモニウム、ジイコシルメチルアンモニウム、ビス(水素化タロウアルキル)メチルアンモニウム等のような、トリアルキル基置換型アンモニウムカチオンがあげられ、又N,N−ジメチルアニリニウム、N,N−ジエチルアニリニウム、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウム、N,N−ジメチルベンジルアニリニウムなどのようなN,N−ジアルキルアニリニウムカチオンも好適である。
【0036】
メタロセン系触媒を用いて行うエチレンとαオレフィンの共重合は公知の各種方法を使用でき、例えば、不活性ガス中での流動床式気相重合或いは拡販式気相重合、不活性溶媒中でのスラリー重合、モノマーを溶媒とするバルク重合などがあげられる。
本発明における、ポリエチレン樹脂(A)のJIS K 7210 コードDによるMFR(以下MFRと記す)は0.4g/10min以上、50g/10min以下の範囲内であることが必用である。MFRが0.4g/10min以上であると、流動性、成形性が特に良好であり、また50未満であるとシーラントフィルムとした際のフィルム強度が良好で、特にヒートシール強度が良好となる。本発明の最も好ましい実施形態である、フィルム用途においてMFRの更に好ましい範囲は0.5g/10min以上、8g/10min以下であり、この範囲内であるとフィルム成形性が特に優れる。さらにフィルム用途において、チューブラーフィルム成型においては最も好ましいMFRの範囲は0.5g/10min以上、3g/10min以下であり、Tダイ成型用途において最も好ましいMFRの範囲は4g/10min以上、10g/10min以下である。これらの上限値以下であると、各成型法における押出性が良好になり、又下限値以上であると各成型法の製膜安定性が優れる。
【0037】
本発明におけるポリエチレン樹脂(A)のJIS K7112による密度は940kg/m3以上、975kg/m3以下の範囲内にあることが必要である。940kg/m3未満ではボイル加熱時の耐熱性が不足する。また975kg/m3を超えると腰が強くなりすぎ、耐衝撃性が悪化する。本発明において最も好ましい密度の範囲は961kg/m3以上、975kg/m3以下の範囲内にあることであり、961kg/m3以上であると124℃程度の高温のボイル加熱用途では耐熱性が特に良好であり、シール部分の強度が強くなる傾向となる。そのため、短時間でのボイル加熱処理が可能となりハイサイクル性が向上する。
【0038】
本発明によるポリエチレン樹脂(A)はGPC法による重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)が3以上7以下であることが必要である。Mw/Mnが上記範囲内であると、低分子量成分、高分子量成分を適度に含むようになるため、耐衝撃強度と透明性のバランスが良好となる。Mw/Mnのより好ましい範囲は4以上6.5以下である。この範囲内であると、耐衝撃性が向上し、特に低温での衝撃強度が優れる。
【0039】
ここで、MwおよびMnは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)から求められる重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)である。GPC測定は、日本ウォーターズ社製GPC V2000(商標名)を用い、カラムは昭和電工(株)製 UT−807(商標名)(1本)と東ソー(株)製GMHHR−H(S)HT(商標名)(2本)を直列に接続、移動相1、2、4−トリクロロベンゼン(TCB)、カラム温度140℃、流量1.0ml/分、試料濃度20mg/15ml(TCB)、注入量413μl、試料溶解温度140℃、試料溶解時間2時間の条件で行った。分子量の校正は、東ソー(株)製標準ポリスチレンのMwが1050〜206万の範囲の12点で行った。それぞれの標準ポリスチレンのMwに係数0.43を掛けてポリエチレン換算分子量とし、溶出時間とポリエチレン換算分子量のプロットから一次の校正直線を作成し、各サンプルの分子量を決定した。
【0040】
また、本発明においては低温ヒートシール性の付与および耐衝撃強度を上昇させる目的でポリエチレン樹脂(A)に線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)を混合して用いるのが好ましい。このとき用いる低密度ポリエチレン樹脂(B)のMFR(コードD)は0.5g/10min以上、5g/10min以下であることが好ましい。0.5g/10min以上であると、押出性が良好であり、5g/10minを以下であるとフィルムの製膜安定性、耐衝撃強度が良好となる。又、JIS K7112による密度は915kg/m3以上、935kg/m3以下の範囲内にあることが好ましく、915kg/m3以上ではボイル加熱時の耐熱性が良好である。また935kg/m3以下であると低温ヒートシール性が特に良好となる。
【0041】
また、(B)として高圧法低密度ポリエチレン樹脂を使用した場合は特に低温ヒートシール性が向上し好ましい。この場合高圧法低密度ポリエチレン樹脂のMW/Mnは5〜15の範囲内であるのが好ましい。この範囲内であると、適度な溶融張力が得られるため、特に高温側のヒートシール範囲が広がり、広範囲な温度範囲でのヒートシールが可能となる。ヒートシール温度範囲の拡大のために特に好ましい(B)のMw/Mnは5〜10の範囲内である。
高密度ポリエチレン樹脂(A)と線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)の重量の合計に対する、(B)の重量比率は2wt%以上、50wt%以下の範囲内が好ましく、更に好ましくは3wt%以上、30wt%以下の範囲内である。(B)の重量比率が2wt%以上であると、良好な低温ヒートシール性が発現され、50wt%以下であると耐熱性が非常に良好となる。
【0042】
本発明における高密度ポリエチレン樹脂(A)及び線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、帯電防止剤、金属不活性剤、滑剤、充填剤、他のポリオレフィン、熱可塑性樹脂、ゴム等、通常ポリオレフィンに添加、ブレンドされ得る物質は、必要に応じて使用されることは可能である。また、発泡剤を混入させて発泡成形することも可能である。
【0043】
酸化防止剤として特に好ましいのはペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチルヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチルヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4‘−ビフェニレンフォスファイト、ビス(2,4ジキュミルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト等である。
また、金属不活性剤としては一般に用いられる、ステアリン酸カルシウムやステアリン酸亜鉛、ヒドロキシステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム等の金属石鹸等が好ましく用いられる。
【0044】
上記のようなポリエチレン樹脂を用いてボイル加熱用包装容器を製造する方法としては、とは、本発明の高密度ポリエチレン樹脂(A)単体または高密度ポリエチレン樹脂(A)と低密度ポリエチレン樹脂(B)を公知のフィルム製膜方法、例えばTダイ法、チューブラー法、キャスト法等を用いればよい。例えば、食品包装においては、好ましくは、Tダイ法及びチューブラー成型法にて製膜したフィルムを、アルミ箔や塩化ビニリデン樹脂およびエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂鹸化物等をガスバリヤー層とし、ポリアミド樹脂層およびポリエステル樹脂層等と組み合わせるなどすればよい。組み合わせの方法は各樹脂を別個に押出した後に、接着剤にて張り合わせるドライラミ法や、Tダイ法やチューブラー法において、多層ダイスを用いた、多層押出法など公知の方法が利用できる。上記のうちTダイ法やチューブラー法においては本発明のフィルムは単層で押出製膜してもよいし、上記のポリアミド樹脂層およびポリエステル樹脂層等と共押出してもよい。本発明においては、このような公知の方法で成型したフィルムを利用することができる。
【0045】
【実施例】
本発明を実施例に基づいて説明する。
[実施例のメタロセン触媒による高密度ポリエチレン樹脂の製法]
発明で使用される高密度ポリエチレン樹脂(A)を下記のように製造した。
6.2g(8.8mmol)のトリエチルアンモニウムトリス(ペンタフルオロフェニール)(4−ヒドロキシフェニール)ボレートを4リットルのトルエンに加え90℃、30分攪拌した。次にこの溶液に1mol/lのトリヘキシルアルミニウムのトルエン溶液40mlを加え90℃で分間攪拌した。一方シリカP−10(日本、富士シリシア社製:商品名)を500℃で3時間窒素気流内で処理し、その処理後のシリカを1.7lのトルエン中に入れ攪拌した。このシリカスラリー溶液に、上記トリエチルアンモニウムトリエチルアンモニウムトリス(ペンタフルオロフェニール)(4−ヒドロキシフェニール)ボレートとトリヘキシルアルミニウムのトルエン溶液を加え3時間90℃で攪拌した。次に、1mol/lのトリヘキシルアルミニウムのトルエン溶液206mlを加え、さらに90℃で1時間攪拌した。その後、上澄み液を90℃のトルエンを用いて、デカンテーションを5回行い過剰のトリヘキシルアルミニウムを取り除いた。0.218mol/lの濃い紫色のtitaniumu(N−1,1−ジメチルエチル)ジメチル(1−(1,2,3,4,5−eta)−2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエンー1−イル)シラナミナート)((2−)N−(η4−1,3−ペンタジエン)のISOPAR TME(登録商標)(米国 Exxon化学社製)溶液20mlを上記混合物に加え、3時間拡販し緑色の担持触媒を得た。
【0046】
得られた担持触媒を用いて、溶媒としてヘキサン、モノマーとしてエチレン及びヘキセン−1、連鎖移動剤として水素を用いて、反応温度75℃、全圧が0.8MPaで得た高密度ポリエチレン樹脂に、熱安定剤として、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート] 500ppm、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト1000ppm、金属不活性剤としてステアリン酸カルシウムを1000ppmドライブレンドし、これを日本製綱社製押出機(スクリュー径 65mm、L/D=28)を用い、200℃にて押出し造粒した。
この用にして製造された、高密度ポリエチレン樹脂(A)および、低密度ポリエチレン樹脂(B)として高圧法ポリエチレン樹脂 MFR=0.6、密度 923kg/m3,Mw/Mn=5.4を用いて本発明のシーラント用高密度ポリエチレン樹脂を製造した。
上記のように調整した、高密度ポリエチレン樹脂の評価結果を表1に示す。
【0047】
[比較例のチタン触媒による高密度ポリエチレン樹脂の製法]
充分に窒素置換された15リットルの反応器に、トリクロルシランを2モル/リットルのn−ヘプタン溶液として3リットル仕込み、攪拌しながら65℃に保ち、組成式AlMg6(C2H5)3(n−C4H9)6.4(On−C4H9)5.6で示される有機マグネシウム成分のn−ヘプタン溶液7リットル(マグネシウム換算で5モル)を1時間かけて加え、更に65℃にて1時間攪拌下反応させた。反応終了後、上澄み液を除去し、n−ヘキサン7リットルで4回洗浄を行い、固体物質スラリーを得た。この固体を分離・乾燥して分析した結果、固体1グラム当たり、Mg 7.45ミリモルを含有していた。
【0048】
このうち固体500gを含有するスラリーを、n−ブチルアルコール1モル/リットルのn−ヘキサン溶液0.93リットルとともに、攪拌下50℃で1時間反応させた。反応終了後上澄みを除去し、7リットルのn−ヘキサンで1回洗浄した。このスラリーを50℃に保ち、ジエチルアルミニウムクロリド1モル/リットルのn−ヘキサン溶液1.3リットルを攪拌下加えて1時間反応させた。反応終了後上澄みを除去し、7リットルのn−ヘキサンで2回洗浄した。このスラリーを50℃に保ち、ジエチルアルミニウムクロリド1モル/リットルのn−ヘキサン溶液0.2リットルおよび四塩化チタン1モル/リットルのn−ヘキサン溶液0.2リットルを加えて、2時間反応した。反応終了後上澄みを除去し、固体触媒を単離し、遊離のハロゲンが検出されなくなるまでヘキサンで洗浄した。この固体触媒は2.3重量%のチタンを有していた。
【0049】
上記で得られた触媒を用い、下記の要領でポリエチレン樹脂(A)を製造した。
単段重合プロセスにおいて、容積230Lの重合器で重合した。重合温度は86℃、重合圧力は0.98MPaである。この重合器に(1)で合成したチタン触媒を0.3g/hrの速度で、トリイソブチルアルミニウムを15ミリモル/hr、ヘキサンは60リットル/hrの速度で導入した。これに、エチレン、水素、ブテン−1を、水素、ブテンの気相濃度が所定量になるように導入して重合を行い、比較例 1〜3のポリエチレン樹脂を製造した。
【0050】
[フィルムの製膜]
山口製作所製Tダイ(スクリュー径30mm、ダイス300mm幅)を用い温度230℃で厚み70ミクロン、200mm幅のフィルムを成型した。
【0051】
[フィルム性能の評価]
下記の方法で、性能を評価し、○、◎を合格とし、×を不合格とした。
(1)成型安定性 ダイスから出るフィルムのゆれ、エッジの切れ、幅変動を目視で総合して判定した。
○:成形性問題なし。
×:問題あり
(2)透明性 フィルムのヘイズ値(ASTM D1703)で判断した。
◎:8未満
○:8以上、15以下
×:15をこえる。
【0052】
(3)低温衝撃強度 JIS K7124に準拠したダート衝撃強度にて、評価した。但し測定環境温度を−5℃とした。
○:50g以上
×:50g未満
(4)ヒートシール強度 :2kgf/cm 2秒間、170℃の条件でシールした短冊状サンプルのシール部分の剥離強度を、常温にて引張り試験機で測定した。
○:1.5kg/15mm幅以上
×:1.5未満。
【0053】
(5)ヒートシール温度範囲 :上記(4)の評価法に準拠し、シール温度を130,140,150℃と10℃刻みに上昇させてシールしたサンプルのシール強度が1.5kg/15mm幅以上となる温度範囲を測定し、下記基準を持って合否判定した。
◎:80℃以上
○:40℃以上、80℃未満
×:40℃未満。
【0054】
(6)耐熱性 :耐熱性がよいほど、短時間熱処理性(ハイサイクル性)がよくなるため、ハイサイクル性の指標として利用。上記のシール強度測定条件において、引張り試験機に恒温槽を取り付け、恒温槽内の温度を120℃にした以外は、上記シール強度測定と同様の条件でシール強度を測定し、下記の基準で合否判断した。
◎:0.5kg/15mm幅以上
○:0.2以上、0.5未満
×:0.5未満。
【0055】
(7)熱処理後寸法安定性 :縦横 100mm四方にサンプリングしたフィルムサンプルを、沸騰水中で10分間煮沸加熱し、その加熱前後の寸法測定により収縮率を測定し、縦横の平均値を測定した。熱処理後寸法安定性は、上記収縮率の縦横の平均値を用い、下記の基準で合否判断した。
○:0.5%以下
×:0.5を超える。
(8)総合評価 :上記、(1)〜(6)評価がすべて合格であるもののみを合格とした。
【0056】
[実施例1〜6]
何れも、光沢、耐熱性、衝撃強度が良好であり、本発明の目的を達成している。なお実施例5では低密度ポリエチレン樹脂を混合したためヒートシール温度範囲が広がっている。
【0057】
[比較例1〜3]
従来のチーグラー法触媒のみを用いて、生成した線状ポリエチレン樹脂であるが、いずれも、本発明の目的を達成していない。
【0058】
【表1】
【0059】
【発明の効果】
本発明のシーラント用高密度ポリエチレン樹脂は、シーラントフィルムとして用いた時、レトルト後の寸法安定性に優れ、特に食品等の包装材料として好適なシーラント用高密度ポリエチレン樹脂に関する。特に、100℃以上で殺菌を行うレトルト用途において単層或いは他の素材、例えばナイロン系樹脂フィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と積層されたレトルト用耐熱性積層フィルムのシーラントして用いた際の耐熱性に優れ、短時間での熱処理(ハイサイクル処理)が可能であり、また低温での衝撃性に優れ、更に透明性にも優れる効果を有する。
【発明の属する技術分野】
本発明は、シーラントフィルムとして用いた時、レトルト後の寸法安定性に優れ、特に食品等の包装材料として好適なシーラント用高密度ポリエチレン樹脂に関する。特に、100℃以上で殺菌を行うレトルト用途において単層或いは他の素材、例えばナイロン系樹脂フィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と積層されたレトルト用耐熱性積層フィルムのシーラントして用いた際の耐熱性、寸法安定性に優れ、かつ加熱殺菌等のための短時間での熱処理(ハイサイクル処理)が可能であり、また衝撃強度、特に冷凍保存時等の低温での衝撃性に優れ、更に透明性にも優れたシーラント用高密度ポリエチレン樹脂およびそれを用いたシーラント用フィルムを提供することが可能である。
【0002】
【従来の技術】
従来、一般にレトルト容器とも言われるボイル加熱用包装容器加熱用途のシーラントとしては、Tダイ等により成型される無延伸ポリプロピレン(以下CPPと記載)系フィルムや線状低密度ポリエチレン(以下LLと記載)系フィルムが使用されてきた。これらは特に食品包装においては、アルミ箔やポリ塩化ビニリデン樹脂(PVDC)およびエチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物(EVOH)等をガスバリヤー層とし、ポリアミド樹脂層およびポリエステル樹脂層等と組み合わせ、ヒートシール層として用いられ、各種食品包装材料やボイル加熱用途に広く用いられている。
【0003】
上記のCPP系フィルムは、耐熱性、高剛性、透明性に優れることから比較的高温度での耐熱性が要求される用途に用いられていることが多いが、欠点として、低温での衝撃強度が弱く、特にボイル加熱処理済みの食品等をCPP系フィルムで包装し、冷凍保管したり、冷凍のまま輸送する際等に落下すると、低温衝撃強度が悪い為にその衝撃で破袋しやすい傾向にあった。
このCPP系フィルムの欠点を補うものとして、LL系フィルムがシーラント用途に用いられるようになっている。しかしLL系フィルムは低温衝撃強度や透明性は優れているものの、密度が一般に930kg/m3以下である為、融点が低く、そのため、耐熱性に乏しく、ボイル加熱工程において、高温での処理ができない。その為、比核的ボイル加熱処理は低い温度で行わざるを得ず、そのため、加熱時間を長くする必要があり、生産効率が上げられなかった。また、LL系フィルムはボイル加熱処理後に熱収縮等の影響で寸法収縮することがあった。
また、シングルサイト触媒で重合された線状低密度ポリエチレン樹脂に、高密度ポリエチレン樹脂(以下HDと記載)を混合した組成のシーラントフィルムも提案されているが、この場合はHD系樹脂によりフィルムの透明性が悪化する傾向にあった。
【0004】
【特許文献1】
特開平7−266520号広報
【特許文献2】
特開2001−253029号広報
【特許文献3】
特開2000−109570号広報。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
昨今はいわゆるレトルト包装分野における、ボイル加熱処理工程において、生産効率を向上させる目的や、長時間の熱処理による、食品の味覚の低下防止等の目的で、短時間での熱処理を要望されている。しかしながら、特許文献1に示すような容器では124℃程度のボイル加熱用途に用いた場合、耐熱性が不足しており破袋しやすい傾向にあった。一般にLLの融解温度は120〜125℃程度と比較的低い為、124℃程度のボイル加熱においては袋の強度が低下し、破袋するのであった。
【0006】
本発明は上記従来の技術が持つ問題点を解決し、シーラントフィルムとして用いた時、レトルト後の寸法安定性、及びシール強度の安定性に優れ、特に食品等の包装材料として好適なシーラント用高密度ポリエチレン樹脂に関する。特に、100℃以上で殺菌を行うレトルト用途において単層或いは他の素材、例えばナイロン系樹脂フィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と積層されたレトルト用耐熱性積層フィルムのシーラントして用いた際の耐熱性に優れ、ヒートシール性がよく短時間での熱処理(ハイサイクル処理)が可能であり、また衝撃強度に優れ、更に透明性にも優れたシーラント用高密度ポリエチレン樹脂およびそれを用いたシーラント用フィルムを提供する。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、特定の物性のメタロセン触媒による高密度ポリエチレン樹脂をシーラントとして用いると、上記課題を解決できることを見出し本発明に至った。即ち本発明はJIS K7210 コードD におけるMFRが0.4〜50、JIS K7112による密度が940〜975kg/m3、GPCによる分子量分布(Mw/Mn)が3〜7であリ、特定の触媒系よりなるメタロセン触媒により製造される高密度ポリエチレン樹脂(A)からなることを特徴とした、シーラント用高密度ポリエチレン樹脂を及びそれを用いたシーラント用フィルムに関する。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の要件の一つである、特定の触媒系によるメタロセン触媒により製造される高密度ポリエチレン樹脂(A)とは、(ア)担体物質、(イ)有機アルミニウム、(ウ)環状η性結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物、及び(エ)該環状η結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物と反応して触媒活性を発現する錯体を形成可能な活性化剤から調整された担持メタロセン触媒を用いて、エチレンと炭素数3〜20のα−オレフィンとを共重合して得られる。特に(ウ)の環状η結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物中の遷移金属はチタニウムが好ましい。
【0009】
担体物質(ア)としては、有機担体、無機担体のいずれでもよい。有機担体としては、好ましくは(1)炭素数2〜20のα−オレフィンの重合体例えばポリエチレンや、ポリプロピレン、ポリブテン−1、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ヘキセン−1共重合体、プロピレン−ブテン1共重合体、エチレン−ヘキセン1共重合体など、(2)芳香族不飽和炭化水素共重合体、例えばポリスチレン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、および(3)極性基含有重合体、例えばポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート等である。無機担体としては(4)無機酸化物例えば、SiO2、Al2O2、MgO,TiO2、B203、CaO、ZnO、BaO、ThO,SiO2−MgO、SiO2−Al2O3、SiO2−MgO、SiO2−V2O5など、(5)無機ハロゲン化合物、例えばMgCl2、AlCl3,MnCl2等、(6)無機の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、例えば、Na2CO3,K2CO3、CaCO3、MgCO3、Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)2等、(7)水酸化物、例えばMg(OH)2、Al(OH)3、Ca(OH)3等が例示される。最も好ましい担体はSiO2である。
【0010】
担体の粒子径は任意であるが、一般的には1μm〜3000μm、粒子の分散性の見地から、粒子形分布は好ましくは10〜1000μmの範囲内である。
上記担体物質は必要に応じて(イ)有機アルミニウム化合物で処理される。好ましい有機アルミニウム化合物としては、一般式(−Al(R)O−)nで示される直鎖状、あるいは環状重合体(Rは炭素数1〜10の炭化水素記であり、一部ハロゲン原子及び/またはRO基で置換されたものも含む。nは重合度であり、5以上、好ましくは10以上である)等が挙げられ、具体例としてRがそれぞれメチル基、エチル基、イソブチル基である、メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、イソブチルエチルアルモキサン等があげられる。
更にその他の有機アルミニウム化合物としては、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲノアルミニウム、セスキアルキルハロゲノアルミニウム、アルメニルアルミニウム、ジアルキルハイドロアルミニウム、セスキアルキルハイドロアルミニウムなどがあげられる。
【0011】
その他の有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライドなどのジアルキルハロゲノアルミニウム、セスキメチルアルミニウムクロライド、セスキエチルアルミニウムクロライドなどのセスキアルキルハロゲノアルミニウム、エチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、セスキエチルアルミニウムハイドライドなどをあげることができる。これらの中で最も好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドである。
本発明の担持触媒は例えば下記一般式(1)で示される(ウ)環状η結合性アニオン配位子を有する遷移金属化合物を含む。
【0012】
【化1】
【0013】
式中Mは1つ以上の配位子Lとη5結合をしている酸化数+2、+3、+4の長周期型周期律表第4族遷移金属であり、特に遷移金属としてはチタニウムが好ましい。
又Lは環状η結合性アニオン配位子であり、各々独立にシクロペンタジエニル基、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、テトラヒドロフルオレニル基、またはオクタヒドロフルオレニル基であり、これらの基は20個までの非水素原子を含む炭化水素基、ハロゲン、ハロゲン置換炭化水素基、アミノヒドロカルビ基、ヒドロカルビオルオキシ基、ジヒドロカルビルアミノ基、ジヒドロカルビルフォスフィノ基、シリル基、アミノシリル基、ヒドロカルビルオキシシリル基及びハロシリル基から各々独立に選ばれる1〜8の置換基を任意に有していてもよく、さらには2つのLが20個までの非水素原子を含むヒドロカルバジイル、ハロヒドロカルバジイル、ヒドロカルビレンオキシ、ヒドロカルビレンアミノ、ジラジイル、ハロシラジイル、アミノシランなどの2価の置換基により結合されていてもよい。
【0014】
Xは各々独立に、60までの非水素原子を有する、1価のアニオン性σ結合型配位子、Mと2価で結合する2価のアニオン性シグマ結合型配位子、またはM及びLに各々1個ずつの価数で結合する2価のアニオンσ結合型配位子である。
X’は各々独立に炭素数4乃至40からなるフォスフィン、エーテル、アミン、オレフィン、及び/又は共役ジエンから選ばれる中性ルイス塩基配位性化合物である。
又、lは1または2の整数である。pは0、1又は2の整数であり、Xが1価のアニオン性σ結合型配位子又はM及びLに各々1個ずつの価数で結合する2価のアニオン性σ結合型配位子であるときpはMの形式酸化数よりもl以上少なく、またはXがMと2価で結合する2価のアニオン性σ結合型配位子であるときpはMの形式酸化数よりもl+1以上少ない。又qは0、1または2である。遷移金属化合物としては上記一般式(1)でl=1の場合が好ましい。
例えば、遷移金属化合物の好適な例は、以下の一般式(2)で表される。
【0015】
【化2】
【0016】
式中Mは形式酸化数+2、+3又は+4のチタニウム、ジルコニウム、ハフニウムであり、特にチタニウムが好ましい。
また、R3は各々独立に、水素、炭化水素基、シリル基、ゲルミル基、シアノ基、ハロゲン、又はこれらの複合機であり、各々20までの非水素原子を有することができる。又近接するR3同士がヒドロカルバジイル、ジラジイル、またはゲルマジイル等の2価の誘導体を形成して環状となっていてもよい。
【0017】
X”は各々独立にハロゲン、炭化水素基、ヒドロカルビルオキシ基、ヒドロカルビルアミノ基、またはシリル基であり、各々20までの非水素原子を有しており、また2つのX”が炭素数5乃至30の中性共役ジエン、もしくは2価の誘導体を形成してもよい。Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり、ZはSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR* 2またはGeR* 2であり、ここでR*は各々独立に炭素数1乃至12のアルキル基又はアリール基である。又、nは1乃至3の整数である。さらに、遷移金属化合物として、より好適な例は、以下の一般式(3)および(4)で表される。
【0018】
【化3】
【0019】
【化4】
【0020】
式中R3は各々独立に、水素、炭化水素基、シリル基、ゲルミル基、シアノ基、ハロゲン、又はこれらの複合機であり、各々20までの非水素原子を有することができる。また、遷移金属Mはチタニウム、ジルコニウムまたはハフニウムであり、チタニウムが好ましい。
Z、Y、X及びX’の定義は前出のとおりである。pは0,1又は2であり、qは0又は1である。但し、pが2でqが0のとき、Mの酸化数は+4であり、且つXはハロゲン、炭化水素基、ヒドロカルビルオキシ基、ジヒドロカルビルアミノ基、ジヒドロカルビルフォスフィド基、ヒドロカルビルスルフィド基、シリル基またはこれらの複合基であり、20までの非水素原子を有している。
【0021】
またpが1でqが0のとき、Mの酸化数は+3であり、且つXはアリル基、2−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニル基または2−(N,N−ジメチル)−アミノベンジル基から選ばれる安定化アニオン配位子であるか、もしくはMの酸化数が+4であり、かつXが2価の共役ジエンの誘導体であるか、あるいはMとXがともにメタロシクロペンテン基を形成している。
またpが0でqが1のとき、Mの酸化数は+2であり、且つX’は中性の共役或いは非共役ジエンであって任意に1つ以上の炭化水素で置換されていてもよく、又該X’は40までの炭素原子を含み得るものであり、Mとπ型錯体を形成している。
さらに、本発明において、遷移金属化合物として最も好適な例は、以下の一般式(5)及び(6)で表される。
【0022】
【化5】
【0023】
【化6】
【0024】
式中R3は各々独立に、水素または炭素数1乃至6のアルキル基である。又Mはチタニウムであり、Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり、Z*はSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR2またはGeR* 2であり、ここでR*は各々独立に水素、或いは炭化水素基、ヒドロカルビルオキシ基、シリル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基またはこれらの複合基である。該R*は20までの非水素原子を有することができ、又必要に応じてZ*中の2つのR*同士またはZ*中のR*とY中のR*が環状となっていてもよい。
【0025】
pは0,1又は2であり、qは0又は1である。但し、pが2でqが0のとき、Mの酸化数は+4であり、且つXは各々独立にメチル基またはヒドロベンジル基である。
またpが1でqが0のとき、Mの酸化数は+3であり、且つXが2−(N,N−ジメチル)−アミノベンジル基であるか、或いはMの酸化数が+4でありかつXが2−ブテンー1,4−ジイルである。
【0026】
またpが0でqが1のとき、Mの酸化数は+2であり、且つX’は1,4−ジフェニル−1、3−ブタジエンまたは1,3−ペンタジエンである。前記ジエン類は金属錯体を形成する非対称ジエン類を例示したものであり、実際には各幾何異性体の混合物である。
又、本発明のメタロセン触媒は(エ)遷移金属化合物と反応して触媒活性を発現する錯体を形成可能な活性化剤を含む。通常メタロセン系触媒においては、遷移金属化合物と上記活性化剤により形成される錯体が、触媒活性種として高いオレフィン重合活性を示す。
本発明において、活性化剤としては例えば、以下の一般式(7)で定義される化合物があげられる。
【0027】
【化7】
【0028】
但し式中[L−H]d+はプロトン付与のブレンステッド酸であり、Lは中性ルイス塩基である。また[MmQt]d−は相溶性の非配位性アニオンであり、Mは周期律表第5族乃至15族から選ばれる金属またはメタロイドであり、Qは各々独立にヒドリド、ジアルキルアミド基、ハライド、アルコキサイド基、アリロキサイド基、炭化水素基、炭素数20までの置換炭化水素基であり、またハライドであるQは1個以下である。又mは1乃至7の整数であり、pは2乃至14の整数であり、dは1乃至7の整数であり、t−m=dである。
本発明で活性化剤のより好ましい例は以下の一般式(8)で定義される化合物である。
【0029】
【化8】
【0030】
但し式中[L−H]d+はプロトン付与のブレンステッド酸であり、Lは中性ルイス塩基である。また[MmQw(Gu(T−H)r)z]d−は相溶性の非配位性アニオンであり、Mは周期律表第5族乃至15族から選ばれる金属またはメタロイドであり、Qは各々独立にヒドリド、ジアルキルアミド基、ハライド、アルコキサイド基、アリロキサイド基、炭化水素基、炭素数20までの置換炭化水素基であり、またハライドであるQは1個以下である。又GはM及びTと結合するr+1の価数を持多価炭化水素基であり、TはO、S、NRまたはPRであり、ここでRはヒドロカルビル基、トリヒドロカルビルシリル基、トリヒドロカルビルゲルマニウム基、もしくは水素である。
【0031】
又mは1乃至7の整数であり、wは0乃至7の整数でありuは0または1の整数であり、rは1乃至3の整数であり、zは1乃至8の整数であり、w+z−m=dである。
本発明で活性化剤のさらに好ましい例は以下の一般式(9)で定義される化合物である。
【0032】
【化9】
【0033】
但し式中[L−H]d+はプロトン付与のブレンステッド酸であり、Lは中性ルイス塩基である。また[BQ3Q*]−は相溶性の非配位性アニオンであり、Bはホウ素原子、Qはペンタフルオロフェニル基であり、Q*は置換基としてOH基を1つ有する炭素数6乃至20の置換アリール基である。
【0034】
本発明の相溶性の非配位性アニオンの具体例としては、トリフェニル(ヒドロキシフェニル)ボレート、ジフェニル−ジ(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリフェニル(2,4−ジヒドロキシフェニル)ボレート、トリ(p−トリル)フェニル(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(2,4ジメチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(3,5ジメチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(3,5−ジ−トリフルオロメチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(2−ヒドロキシエチル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(4−ヒドロキシブチル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(4−ヒドロキシ−シクロヘキシル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル、)(4−(4‘−ヒドロキシフェニル)フェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)ボレート等があげられ、最も好ましいのは、トリス(ペンタフルオロフェニル)(ヒドロキシフェニル)ボレートである。
【0035】
他の好ましい相溶性の非配意性アニオンの具体例としては、上記例示のボレートのヒドロキシ基がNHRで置き換えられたボレートがあげられる。ここでRは好ましくはメチル基、エチル基またはtert−ブチル基である。
また、プロトン付与性のブレンステッド酸の具体例としては、例えば、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ(n−ブチル)アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、およびトリ(n−オクチル)アンモニウム、ジエチルメチルアンモニウム、ジブチルメチルアンモニウム、ジブチルエチルアンモニウム、ジヘキシルメチルアンモニウム、ジオクチルメチルアンモニウム、ジデシルメチルアンモニウム、ジドデシルメチルアンモニウム、ジテトラデシルメチルアンモニウム、ジヘキサデシルメチルアンモニウム、ジオクタデシルメチルアンモニウム、ジイコシルメチルアンモニウム、ビス(水素化タロウアルキル)メチルアンモニウム等のような、トリアルキル基置換型アンモニウムカチオンがあげられ、又N,N−ジメチルアニリニウム、N,N−ジエチルアニリニウム、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウム、N,N−ジメチルベンジルアニリニウムなどのようなN,N−ジアルキルアニリニウムカチオンも好適である。
【0036】
メタロセン系触媒を用いて行うエチレンとαオレフィンの共重合は公知の各種方法を使用でき、例えば、不活性ガス中での流動床式気相重合或いは拡販式気相重合、不活性溶媒中でのスラリー重合、モノマーを溶媒とするバルク重合などがあげられる。
本発明における、ポリエチレン樹脂(A)のJIS K 7210 コードDによるMFR(以下MFRと記す)は0.4g/10min以上、50g/10min以下の範囲内であることが必用である。MFRが0.4g/10min以上であると、流動性、成形性が特に良好であり、また50未満であるとシーラントフィルムとした際のフィルム強度が良好で、特にヒートシール強度が良好となる。本発明の最も好ましい実施形態である、フィルム用途においてMFRの更に好ましい範囲は0.5g/10min以上、8g/10min以下であり、この範囲内であるとフィルム成形性が特に優れる。さらにフィルム用途において、チューブラーフィルム成型においては最も好ましいMFRの範囲は0.5g/10min以上、3g/10min以下であり、Tダイ成型用途において最も好ましいMFRの範囲は4g/10min以上、10g/10min以下である。これらの上限値以下であると、各成型法における押出性が良好になり、又下限値以上であると各成型法の製膜安定性が優れる。
【0037】
本発明におけるポリエチレン樹脂(A)のJIS K7112による密度は940kg/m3以上、975kg/m3以下の範囲内にあることが必要である。940kg/m3未満ではボイル加熱時の耐熱性が不足する。また975kg/m3を超えると腰が強くなりすぎ、耐衝撃性が悪化する。本発明において最も好ましい密度の範囲は961kg/m3以上、975kg/m3以下の範囲内にあることであり、961kg/m3以上であると124℃程度の高温のボイル加熱用途では耐熱性が特に良好であり、シール部分の強度が強くなる傾向となる。そのため、短時間でのボイル加熱処理が可能となりハイサイクル性が向上する。
【0038】
本発明によるポリエチレン樹脂(A)はGPC法による重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)が3以上7以下であることが必要である。Mw/Mnが上記範囲内であると、低分子量成分、高分子量成分を適度に含むようになるため、耐衝撃強度と透明性のバランスが良好となる。Mw/Mnのより好ましい範囲は4以上6.5以下である。この範囲内であると、耐衝撃性が向上し、特に低温での衝撃強度が優れる。
【0039】
ここで、MwおよびMnは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)から求められる重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)である。GPC測定は、日本ウォーターズ社製GPC V2000(商標名)を用い、カラムは昭和電工(株)製 UT−807(商標名)(1本)と東ソー(株)製GMHHR−H(S)HT(商標名)(2本)を直列に接続、移動相1、2、4−トリクロロベンゼン(TCB)、カラム温度140℃、流量1.0ml/分、試料濃度20mg/15ml(TCB)、注入量413μl、試料溶解温度140℃、試料溶解時間2時間の条件で行った。分子量の校正は、東ソー(株)製標準ポリスチレンのMwが1050〜206万の範囲の12点で行った。それぞれの標準ポリスチレンのMwに係数0.43を掛けてポリエチレン換算分子量とし、溶出時間とポリエチレン換算分子量のプロットから一次の校正直線を作成し、各サンプルの分子量を決定した。
【0040】
また、本発明においては低温ヒートシール性の付与および耐衝撃強度を上昇させる目的でポリエチレン樹脂(A)に線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)を混合して用いるのが好ましい。このとき用いる低密度ポリエチレン樹脂(B)のMFR(コードD)は0.5g/10min以上、5g/10min以下であることが好ましい。0.5g/10min以上であると、押出性が良好であり、5g/10minを以下であるとフィルムの製膜安定性、耐衝撃強度が良好となる。又、JIS K7112による密度は915kg/m3以上、935kg/m3以下の範囲内にあることが好ましく、915kg/m3以上ではボイル加熱時の耐熱性が良好である。また935kg/m3以下であると低温ヒートシール性が特に良好となる。
【0041】
また、(B)として高圧法低密度ポリエチレン樹脂を使用した場合は特に低温ヒートシール性が向上し好ましい。この場合高圧法低密度ポリエチレン樹脂のMW/Mnは5〜15の範囲内であるのが好ましい。この範囲内であると、適度な溶融張力が得られるため、特に高温側のヒートシール範囲が広がり、広範囲な温度範囲でのヒートシールが可能となる。ヒートシール温度範囲の拡大のために特に好ましい(B)のMw/Mnは5〜10の範囲内である。
高密度ポリエチレン樹脂(A)と線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)の重量の合計に対する、(B)の重量比率は2wt%以上、50wt%以下の範囲内が好ましく、更に好ましくは3wt%以上、30wt%以下の範囲内である。(B)の重量比率が2wt%以上であると、良好な低温ヒートシール性が発現され、50wt%以下であると耐熱性が非常に良好となる。
【0042】
本発明における高密度ポリエチレン樹脂(A)及び線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、帯電防止剤、金属不活性剤、滑剤、充填剤、他のポリオレフィン、熱可塑性樹脂、ゴム等、通常ポリオレフィンに添加、ブレンドされ得る物質は、必要に応じて使用されることは可能である。また、発泡剤を混入させて発泡成形することも可能である。
【0043】
酸化防止剤として特に好ましいのはペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチルヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチルヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4‘−ビフェニレンフォスファイト、ビス(2,4ジキュミルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト等である。
また、金属不活性剤としては一般に用いられる、ステアリン酸カルシウムやステアリン酸亜鉛、ヒドロキシステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム等の金属石鹸等が好ましく用いられる。
【0044】
上記のようなポリエチレン樹脂を用いてボイル加熱用包装容器を製造する方法としては、とは、本発明の高密度ポリエチレン樹脂(A)単体または高密度ポリエチレン樹脂(A)と低密度ポリエチレン樹脂(B)を公知のフィルム製膜方法、例えばTダイ法、チューブラー法、キャスト法等を用いればよい。例えば、食品包装においては、好ましくは、Tダイ法及びチューブラー成型法にて製膜したフィルムを、アルミ箔や塩化ビニリデン樹脂およびエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂鹸化物等をガスバリヤー層とし、ポリアミド樹脂層およびポリエステル樹脂層等と組み合わせるなどすればよい。組み合わせの方法は各樹脂を別個に押出した後に、接着剤にて張り合わせるドライラミ法や、Tダイ法やチューブラー法において、多層ダイスを用いた、多層押出法など公知の方法が利用できる。上記のうちTダイ法やチューブラー法においては本発明のフィルムは単層で押出製膜してもよいし、上記のポリアミド樹脂層およびポリエステル樹脂層等と共押出してもよい。本発明においては、このような公知の方法で成型したフィルムを利用することができる。
【0045】
【実施例】
本発明を実施例に基づいて説明する。
[実施例のメタロセン触媒による高密度ポリエチレン樹脂の製法]
発明で使用される高密度ポリエチレン樹脂(A)を下記のように製造した。
6.2g(8.8mmol)のトリエチルアンモニウムトリス(ペンタフルオロフェニール)(4−ヒドロキシフェニール)ボレートを4リットルのトルエンに加え90℃、30分攪拌した。次にこの溶液に1mol/lのトリヘキシルアルミニウムのトルエン溶液40mlを加え90℃で分間攪拌した。一方シリカP−10(日本、富士シリシア社製:商品名)を500℃で3時間窒素気流内で処理し、その処理後のシリカを1.7lのトルエン中に入れ攪拌した。このシリカスラリー溶液に、上記トリエチルアンモニウムトリエチルアンモニウムトリス(ペンタフルオロフェニール)(4−ヒドロキシフェニール)ボレートとトリヘキシルアルミニウムのトルエン溶液を加え3時間90℃で攪拌した。次に、1mol/lのトリヘキシルアルミニウムのトルエン溶液206mlを加え、さらに90℃で1時間攪拌した。その後、上澄み液を90℃のトルエンを用いて、デカンテーションを5回行い過剰のトリヘキシルアルミニウムを取り除いた。0.218mol/lの濃い紫色のtitaniumu(N−1,1−ジメチルエチル)ジメチル(1−(1,2,3,4,5−eta)−2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエンー1−イル)シラナミナート)((2−)N−(η4−1,3−ペンタジエン)のISOPAR TME(登録商標)(米国 Exxon化学社製)溶液20mlを上記混合物に加え、3時間拡販し緑色の担持触媒を得た。
【0046】
得られた担持触媒を用いて、溶媒としてヘキサン、モノマーとしてエチレン及びヘキセン−1、連鎖移動剤として水素を用いて、反応温度75℃、全圧が0.8MPaで得た高密度ポリエチレン樹脂に、熱安定剤として、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート] 500ppm、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト1000ppm、金属不活性剤としてステアリン酸カルシウムを1000ppmドライブレンドし、これを日本製綱社製押出機(スクリュー径 65mm、L/D=28)を用い、200℃にて押出し造粒した。
この用にして製造された、高密度ポリエチレン樹脂(A)および、低密度ポリエチレン樹脂(B)として高圧法ポリエチレン樹脂 MFR=0.6、密度 923kg/m3,Mw/Mn=5.4を用いて本発明のシーラント用高密度ポリエチレン樹脂を製造した。
上記のように調整した、高密度ポリエチレン樹脂の評価結果を表1に示す。
【0047】
[比較例のチタン触媒による高密度ポリエチレン樹脂の製法]
充分に窒素置換された15リットルの反応器に、トリクロルシランを2モル/リットルのn−ヘプタン溶液として3リットル仕込み、攪拌しながら65℃に保ち、組成式AlMg6(C2H5)3(n−C4H9)6.4(On−C4H9)5.6で示される有機マグネシウム成分のn−ヘプタン溶液7リットル(マグネシウム換算で5モル)を1時間かけて加え、更に65℃にて1時間攪拌下反応させた。反応終了後、上澄み液を除去し、n−ヘキサン7リットルで4回洗浄を行い、固体物質スラリーを得た。この固体を分離・乾燥して分析した結果、固体1グラム当たり、Mg 7.45ミリモルを含有していた。
【0048】
このうち固体500gを含有するスラリーを、n−ブチルアルコール1モル/リットルのn−ヘキサン溶液0.93リットルとともに、攪拌下50℃で1時間反応させた。反応終了後上澄みを除去し、7リットルのn−ヘキサンで1回洗浄した。このスラリーを50℃に保ち、ジエチルアルミニウムクロリド1モル/リットルのn−ヘキサン溶液1.3リットルを攪拌下加えて1時間反応させた。反応終了後上澄みを除去し、7リットルのn−ヘキサンで2回洗浄した。このスラリーを50℃に保ち、ジエチルアルミニウムクロリド1モル/リットルのn−ヘキサン溶液0.2リットルおよび四塩化チタン1モル/リットルのn−ヘキサン溶液0.2リットルを加えて、2時間反応した。反応終了後上澄みを除去し、固体触媒を単離し、遊離のハロゲンが検出されなくなるまでヘキサンで洗浄した。この固体触媒は2.3重量%のチタンを有していた。
【0049】
上記で得られた触媒を用い、下記の要領でポリエチレン樹脂(A)を製造した。
単段重合プロセスにおいて、容積230Lの重合器で重合した。重合温度は86℃、重合圧力は0.98MPaである。この重合器に(1)で合成したチタン触媒を0.3g/hrの速度で、トリイソブチルアルミニウムを15ミリモル/hr、ヘキサンは60リットル/hrの速度で導入した。これに、エチレン、水素、ブテン−1を、水素、ブテンの気相濃度が所定量になるように導入して重合を行い、比較例 1〜3のポリエチレン樹脂を製造した。
【0050】
[フィルムの製膜]
山口製作所製Tダイ(スクリュー径30mm、ダイス300mm幅)を用い温度230℃で厚み70ミクロン、200mm幅のフィルムを成型した。
【0051】
[フィルム性能の評価]
下記の方法で、性能を評価し、○、◎を合格とし、×を不合格とした。
(1)成型安定性 ダイスから出るフィルムのゆれ、エッジの切れ、幅変動を目視で総合して判定した。
○:成形性問題なし。
×:問題あり
(2)透明性 フィルムのヘイズ値(ASTM D1703)で判断した。
◎:8未満
○:8以上、15以下
×:15をこえる。
【0052】
(3)低温衝撃強度 JIS K7124に準拠したダート衝撃強度にて、評価した。但し測定環境温度を−5℃とした。
○:50g以上
×:50g未満
(4)ヒートシール強度 :2kgf/cm 2秒間、170℃の条件でシールした短冊状サンプルのシール部分の剥離強度を、常温にて引張り試験機で測定した。
○:1.5kg/15mm幅以上
×:1.5未満。
【0053】
(5)ヒートシール温度範囲 :上記(4)の評価法に準拠し、シール温度を130,140,150℃と10℃刻みに上昇させてシールしたサンプルのシール強度が1.5kg/15mm幅以上となる温度範囲を測定し、下記基準を持って合否判定した。
◎:80℃以上
○:40℃以上、80℃未満
×:40℃未満。
【0054】
(6)耐熱性 :耐熱性がよいほど、短時間熱処理性(ハイサイクル性)がよくなるため、ハイサイクル性の指標として利用。上記のシール強度測定条件において、引張り試験機に恒温槽を取り付け、恒温槽内の温度を120℃にした以外は、上記シール強度測定と同様の条件でシール強度を測定し、下記の基準で合否判断した。
◎:0.5kg/15mm幅以上
○:0.2以上、0.5未満
×:0.5未満。
【0055】
(7)熱処理後寸法安定性 :縦横 100mm四方にサンプリングしたフィルムサンプルを、沸騰水中で10分間煮沸加熱し、その加熱前後の寸法測定により収縮率を測定し、縦横の平均値を測定した。熱処理後寸法安定性は、上記収縮率の縦横の平均値を用い、下記の基準で合否判断した。
○:0.5%以下
×:0.5を超える。
(8)総合評価 :上記、(1)〜(6)評価がすべて合格であるもののみを合格とした。
【0056】
[実施例1〜6]
何れも、光沢、耐熱性、衝撃強度が良好であり、本発明の目的を達成している。なお実施例5では低密度ポリエチレン樹脂を混合したためヒートシール温度範囲が広がっている。
【0057】
[比較例1〜3]
従来のチーグラー法触媒のみを用いて、生成した線状ポリエチレン樹脂であるが、いずれも、本発明の目的を達成していない。
【0058】
【表1】
【0059】
【発明の効果】
本発明のシーラント用高密度ポリエチレン樹脂は、シーラントフィルムとして用いた時、レトルト後の寸法安定性に優れ、特に食品等の包装材料として好適なシーラント用高密度ポリエチレン樹脂に関する。特に、100℃以上で殺菌を行うレトルト用途において単層或いは他の素材、例えばナイロン系樹脂フィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と積層されたレトルト用耐熱性積層フィルムのシーラントして用いた際の耐熱性に優れ、短時間での熱処理(ハイサイクル処理)が可能であり、また低温での衝撃性に優れ、更に透明性にも優れる効果を有する。
Claims (4)
- JIS K7210 コードD におけるMFRが0.4〜50、JIS K7112による密度が940〜975kg/m3、GPC法による分子量分布(Mw/Mn)が3〜7であり、メタロセン触媒により製造される高密度ポリエチレン樹脂(A)であることを特徴とした、シーラント用高密度ポリエチレン樹脂。
- 高密度ポリエチレン樹脂(A)のJIS K7210 コードD におけるMFRが4〜10、JIS K7112による密度が961〜975kg/m3、であることを特徴とした、請求項1記載のシーラント用高密度ポリエチレン樹脂。
- JIS K7210 コードD におけるMFRが0.5〜5、JIS K7112による密度が900〜935kg/m3である線状低密度ポリエチレン樹脂または高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B)2〜50wt%と、特許請求項1又は2記載の高密度ポリエチレン樹脂(A)98〜50wt%を含むことを特徴としたシーラント用高密度ポリエチレン樹脂組成物。
- 上記請求項1〜3のシーラント用高密度ポリエチレン樹脂を用いたシーラント用フィルム。
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JP2003115189A JP2004315759A (ja) | 2003-04-21 | 2003-04-21 | シーラント用高密度ポリエチレン樹脂及びそれを使ったシーラント用フィルム |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006091310A1 (en) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Multi-layer polyethylene films |
JP2007137920A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリエチレン系樹脂組成物及びその組成物からなるシーラントフィルム |
JP2010242078A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-28 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 無架橋発泡用ポリエチレン系樹脂組成物を含んでなる発泡成形体 |
JP7300379B2 (ja) | 2019-11-06 | 2023-06-29 | 大日本印刷株式会社 | 植物由来ポリエチレン系樹脂を用いたフィルムおよび包装袋 |
-
2003
- 2003-04-21 JP JP2003115189A patent/JP2004315759A/ja active Pending
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