JP2004311385A - Rod member, sealing material using this, sheet sealing material, board for sealing, sealing configuration, mounter and manufacturing method of these - Google Patents
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 123
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 title claims description 204
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 82
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 435
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 435
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 222
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 754
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 381
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 333
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 332
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims description 294
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 222
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 134
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 116
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 109
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 104
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 103
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 103
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 82
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 75
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 73
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 72
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 72
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 58
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 58
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 49
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 49
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 39
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 34
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 33
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 31
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 29
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 29
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 25
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 25
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 24
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 23
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 18
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 claims description 17
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 17
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 17
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 claims description 16
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 16
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 15
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 14
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 14
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 claims description 13
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 13
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 13
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 13
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 claims description 12
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 11
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 11
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 10
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 claims description 10
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 9
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 claims description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 9
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 8
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 8
- 239000004760 aramid Substances 0.000 claims description 7
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 claims 6
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 claims 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 321
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 139
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 93
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 78
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 70
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 69
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 65
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 57
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 52
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 44
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 31
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 26
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 26
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 21
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 20
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 20
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 19
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 19
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 17
- 230000006870 function Effects 0.000 description 17
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 17
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 16
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 14
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 13
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 12
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 12
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 11
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 9
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 8
- 239000006023 eutectic alloy Substances 0.000 description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ROTONRWJLXYJBD-UHFFFAOYSA-N oxan-2-ylmethanol Chemical compound OCC1CCCCO1 ROTONRWJLXYJBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 6
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 6
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940063557 methacrylate Drugs 0.000 description 6
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 5
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 5
- BWZOPYPOZJBVLQ-UHFFFAOYSA-K aluminium glycinate Chemical compound O[Al+]O.NCC([O-])=O BWZOPYPOZJBVLQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 4
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N butyl alcohol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229940074076 glycerol formal Drugs 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 4
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- XBTRYWRVOBZSGM-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)methanediamine Chemical compound CC1=CC=C(C(N)N)C=C1 XBTRYWRVOBZSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 3
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(COCC1OC1)COCC1CO1 PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YAXXOCZAXKLLCV-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1CC(=O)OC1=O YAXXOCZAXKLLCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHTLGFCVBKENTE-UHFFFAOYSA-N 4-methyloxan-2-one Chemical compound CC1CCOC(=O)C1 YHTLGFCVBKENTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTNUOGWCFLMGLF-UHFFFAOYSA-N 5-methylbenzene-1,2,3,4-tetrol Chemical compound CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1O YTNUOGWCFLMGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 3
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 3
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 3
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1OC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CO1 KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 3
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 3
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZVEMLYIXBCTVOF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-isocyanatopropan-2-yl)-3-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(C(C)(C)N=C=O)=C1 ZVEMLYIXBCTVOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;2-methylprop-2-enoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDXAEDSUUCCDFG-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;prop-2-enoic acid;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O FDXAEDSUUCCDFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DABQKEQFLJIRHU-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 3,3,5-trimethylcyclohexyl ester Chemical compound CC1CC(OC(=O)C(C)=C)CC(C)(C)C1 DABQKEQFLJIRHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZUBYCLWSJCMM-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenedec-1-ene Chemical compound CCCCCCCC(=C)C=C DQZUBYCLWSJCMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)C(=C)C=C WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000271 Kevlar® Polymers 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical class C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 2
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N decyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTIXMGZYGRZMAW-UHFFFAOYSA-N ditridecyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCCCCCCC VTIXMGZYGRZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 2
- 235000019197 fats Nutrition 0.000 description 2
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000004761 kevlar Substances 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000196 poly(lauryl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003214 poly(methacrylonitrile) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 2
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- YOSXAXYCARLZTR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl isocyanate Chemical compound C=CC(=O)N=C=O YOSXAXYCARLZTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCXVPNKIBYLBIT-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 3,5,5-trimethylhexaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(=O)OOOC(C)(C)C HCXVPNKIBYLBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLCILCNDLBSOIO-UHFFFAOYSA-N (3-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC(OC(=O)C=C)=C1 YLCILCNDLBSOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGRNZQRTNVZCZ-AATRIKPKSA-N (3e)-3-methylpenta-1,3-diene Chemical compound C\C=C(/C)C=C BOGRNZQRTNVZCZ-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- OGQVROWWFUXRST-FNORWQNLSA-N (3e)-hepta-1,3-diene Chemical compound CCC\C=C\C=C OGQVROWWFUXRST-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)CF MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVPKLOPETWVKQD-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-tribromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=C(Br)C1=CC=CC=C1 JVPKLOPETWVKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGRNZQRTNVZCZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-butadiene Natural products CC=C(C)C=C BOGRNZQRTNVZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical group C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroperoxypropan-2-yl)-4-methylcyclohexane Chemical compound CC1CCC(C(C)(C)OO)CC1 XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]-3-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(O)COC(C)COC(C)CO XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTUUFEOXIVJCMZ-UHFFFAOYSA-N 1-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]-2-phenoxyundecan-2-ol Chemical compound OCCOCCOCCOCC(O)(CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1 BTUUFEOXIVJCMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- QWDQYHPOSSHSAW-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatooctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN=C=O QWDQYHPOSSHSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyethane-1,2-diol Chemical compound COC(O)CO CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxyethane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)OC1=CC=CC=C1 NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGKZKRJVQXEQPN-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanone;propane Chemical class CCC.CC(=O)C1=CC=CC=C1 MGKZKRJVQXEQPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZQHMMCSJAXCQP-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxynaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C(C=C)(=O)OC1=C(C=CC2=CC=CC=C12)S(=O)(=O)O GZQHMMCSJAXCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPOUDZAPLMMUES-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(C)(OOC(C)(C)C)OOC(C)(C)C JPOUDZAPLMMUES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-9,9-dimethylfluorene Chemical compound C1=C(Br)C=C2C(C)(C)C3=CC=C(Br)C=C3C2=C1 ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLRFPQPVXRIBCQ-UHFFFAOYSA-N 2-$l^{1}-oxidanyl-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)[O] ZLRFPQPVXRIBCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHYCMHWTYHPIQS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-methoxyethanol Chemical compound COC(O)COCCO YHYCMHWTYHPIQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 2-Methyl-2-butenoic acid Natural products C\C=C(\C)C([O-])=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- WBSXINVZPSZFFL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]-1-methoxyethanol Chemical compound COC(O)COCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO WBSXINVZPSZFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(Br)=C XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXJBPMWCKMWLS-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CCC(=C)C(C)=C PJXJBPMWCKMWLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUFLEYZWYCAZCC-UHFFFAOYSA-N 2-methylhexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC(C)=C KUFLEYZWYCAZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTEZVHMDMFEURJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentan-2-yl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C RTEZVHMDMFEURJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)CS(O)(=O)=O AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLDSRRGGACALMN-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyundecane-1,2-diol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)(CO)OC1=CC=CC=C1 WLDSRRGGACALMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVGWMNRYRLGBNQ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxybenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1OC(=O)C=C YVGWMNRYRLGBNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXIJHCSGLOHNES-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C=CC1=CC=CC=C1 DXIJHCSGLOHNES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTTAWIGVQMSWMV-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylhexa-1,3-diene Chemical compound CCC(C)=C(C)C=C QTTAWIGVQMSWMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKYSFRFMQHMOF-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-5-methylpyridine-2-carbonitrile Chemical compound CC1=CN=C(C#N)C(Br)=C1 WGKYSFRFMQHMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GITIYCQMJWQMKC-UHFFFAOYSA-N 3-methylhepta-1,3-diene Chemical compound CCCC=C(C)C=C GITIYCQMJWQMKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPEHEHYVDRYEDX-UHFFFAOYSA-N 3-methyloxan-2-one Chemical compound CC1CCCOC1=O SPEHEHYVDRYEDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHMGQFGGUBDJI-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-(2-hydroxyethoxy)octan-2-ol Chemical compound CCCCC(CC)CC(O)COCCO KRHMGQFGGUBDJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSNRMRKAYAJYRZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylidenehex-2-ene Chemical compound CCC(=C)C=CC ZSNRMRKAYAJYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004864 4-thiomethylphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEYRFBGCKAPAPR-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(CCC)OOC(CCCCCCCC(C)(C)C)=O Chemical compound C(C)(C)(CCC)OOC(CCCCCCCC(C)(C)C)=O XEYRFBGCKAPAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRJNCGSKISNBSR-UHFFFAOYSA-N C(C)NC1=CC=C(C(=O)C2=CC=C(C=C2)NCC)C=C1.C(C1=CC=CC=C1)(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C)NC1=CC=C(C(=O)C2=CC=C(C=C2)NCC)C=C1.C(C1=CC=CC=C1)(=O)C1=CC=CC=C1 SRJNCGSKISNBSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKODZEIHQDLCLN-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3C(C12)=O.C(C)(C)C1=CC=2C(C3=CC=CC=C3SC2C=C1)=O Chemical class C1=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3C(C12)=O.C(C)(C)C1=CC=2C(C3=CC=CC=C3SC2C=C1)=O YKODZEIHQDLCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMONOXOCMIPNNU-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCCCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O Chemical compound C=CC(=O)OCCCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O WMONOXOCMIPNNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 101150093210 DPP4 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 241000255925 Diptera Species 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004716 Ethylene/acrylic acid copolymer Substances 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Natural products OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N Methoxyphenone Chemical compound C1=C(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 1
- 229920000577 Nylon 6/66 Polymers 0.000 description 1
- JXAWGXGLGKOORK-UHFFFAOYSA-N OCC1OCCCC1.O1CCCCC1 Chemical group OCC1OCCCC1.O1CCCCC1 JXAWGXGLGKOORK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N Padimate A Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- FPBUKYMLBDTKET-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylbenzoyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 FPBUKYMLBDTKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVSZWTSJSQFSCJ-UHFFFAOYSA-N [SiH4].CO[Si](CCC1CCC2OC2C1)(OC)OC Chemical compound [SiH4].CO[Si](CCC1CCC2OC2C1)(OC)OC RVSZWTSJSQFSCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical class 0.000 description 1
- TZYHIGCKINZLPD-UHFFFAOYSA-N azepan-2-one;hexane-1,6-diamine;hexanedioic acid Chemical compound NCCCCCCN.O=C1CCCCCN1.OC(=O)CCCCC(O)=O TZYHIGCKINZLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007980 azole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000005250 beta ray Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007707 calorimetry Methods 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- SBDRYJMIQMDXRH-UHFFFAOYSA-N gallium;sulfuric acid Chemical compound [Ga].OS(O)(=O)=O SBDRYJMIQMDXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N mercury xenon Chemical compound [Xe].[Hg] VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N n-butyl isocyanate Chemical compound CCCCN=C=O HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMSLOZQEMPDGPI-UHFFFAOYSA-N p-Mentha-1,3,5,8-tetraene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C)C=C1 MMSLOZQEMPDGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N phenyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1 DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000779 poly(divinylbenzene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQAGEUFKLGHJPA-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoylsilicon Chemical compound [Si]C(=O)C=C RQAGEUFKLGHJPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000008279 sol Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRIFGVOVRHAALC-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3,3-dimethylbutaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(=O)OOC(C)(C)C PRIFGVOVRHAALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYXDFNAPHIAFH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-tert-butylperoxycarbonylbenzoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC(C)(C)C)=C1 JIYXDFNAPHIAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006230 thermoplastic polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical compound CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、LCD素子、有機EL素子、無機EL素子等のディスプレイ表示素子や太陽電池素子等の各種機能素子を実装した基板の封止に使用する条部材及びこれを用いた防湿性の封止材、封止用基板、封止構成体、これらを用いて封止した封止体、実装体、並びにこれらの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ等の発光装置の表示素子や色素増感型の太陽電池素子などの機能素子は、一般的に化学的に不安定であるために、空気中の水分や酸素との反応によって腐食や酸化を生じ、これが上記のような機能素子の経時的な特性劣化の原因となることが知られている。例えば有機EL素子の場合には、有機EL素子が酸素や水分に触れると、酸素や水分による素子構成材料の酸化が促進されて素子が劣化し、ダークスポットと呼ばれる無発光部分が発生する。従って、これらの素子の長寿命化を図る上からは、素子に酸素や水分が出来るだけ侵入しないように当該素子を封止することが望まれる。
【0003】
従来、この封止機能を有するものとして種々のものが提案されており、その一つに、ペースト状のシール材がある。しかし、ペースト状のシール材を使うと、シール材を基板上に均一に塗布することが難しく、シール材表面に凹凸が出来てしまうので、シール材の凹凸を通して素子が外気に触れてしまうおそれがあった。従って、発光装置においては、電極材料の酸化、水分による腐食を防ぐために、乾燥剤をシール材と併用してきた。
【0004】
この場合、シール材は、ボトムエミッション方式で用いられ、酸化バリウムや酸化カルシウムなどの白色粉末の固体であり光を遮る乾燥剤は、対向基板の素子に面する側に固定テープで保持することにより配置する。
【0005】
【特許文献1】
特表平11−510647号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、近年では、発光強度・輝度の向上を目的に、これまでのボトムエミッション方式からトップエミッション方式に変更されつつある。このトップエミッション方式は、対向基板側から光を取り出す構造であるため、従来使用してきた乾燥剤をこれまで通りに使用することが出来ない。かと言って、ペースト状のシール剤のみを用いると、シール材の凹凸から外気の進入を許してしまう。
【0007】
他方、別の封止機能を有する接合材として、はんだ等の低融点金属が利用されている(例えば、特許文献1参照)。この場合は、接着当初は基板及び対向基板に充分密着し、接着性が良いが、その接合は応力に弱いため、経時的に見ると、外部から熱・圧力が加わったときに特に接着がもろくなり、素子が外気に触れて酸化、腐食を招いてしまうという問題点があった。又、対向基板の材料としてガラス基板を用いた場合においては、はんだとガラス基板との良好的な密着性は本来的に期待し難い。
【0008】
このため、酸素及び水分の遮断性が高く、接合の耐久性を備えた、従来の封止材に代わるものが必要とされている。又、過熱による機能素子の破損が引き起こされないように比較的低温で基板及び対向基板(機能素子基板と機能素子保護基板)を接合できる封止材が求められている。
【0009】
本発明は、上記した従来の問題を解決するために為されたもので、本発明の目的は、従来のシール材と乾燥剤の併合使用に代わって基板と対向基板との封止に使用でき、接着機能及び防湿機能を有し遮蔽性が改善された封止接合を実現可能な封止用の条部材、防湿性の封止材、シート状封止材、これらを用いた封止用基板、封止構成体、封止体、実装体、及びこれらの製造方法を提供することにある。
【0010】
本発明の他の目的は、接着機能と防湿機能とを一体的に有する封止材を用いて、機能素子が外気から遮断された信頼性及び耐性が高い長寿命の機能素子実装体を提供することにある。
【0011】
又、基板と対向基板とを比較的低温で強固に接合でき、酸素及び水分の遮断性に優れ、且つ、耐久性に優れた接合を形成可能な封止材及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0012】
又、使用時の作業性に優れ封止作業を簡便に行うことができる防湿性の封止材及びその製造方法を提供することを他の目的とする。
【0013】
更に、長期安定性のある実装体及びその製造方法を提供することを他の目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の一態様によれば、条部材は、弾性変形可能な条状の芯材と、該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する。
【0015】
本発明の他の態様によれば、樹脂接着剤による接合の遮蔽性を高めるための封止用条部材は、条状の金属材と、前記金属材に組み込まれる弾性変形可能な条状の芯材とを有する。
【0016】
又、本発明の一態様によれば、条部材の製造方法は、弾性変形可能な条状の芯材を用意する工程と、該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を設ける工程とを有する。
【0017】
又、本発明の一態様によれば、封止材は、弾性変形可能な条状の芯材と、該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;及び、前記条部材に添設される接着剤層を有する。
【0018】
本発明の他の態様によれば、封止材は、弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを各々が有し並列する複数の条部材;及び、前記複数の条部材を接続する樹脂層を有する。
【0019】
又、本発明の一態様によれば、封止材の製造方法は、弾性変形可能な条状の芯材を用意する工程と、該芯材の少なくとも一部を覆う金属層が形成された条部材を作成する工程と、前記条部材の周囲の少なくとも一部を覆う接着剤層を形成する工程とを有する。
【0020】
又、本発明の一態様によれば、シート状封止材は、離型性面を有する基材;弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;及び、該条部材と共に前記基材の該離型性面上に支持される接着剤を有する。
【0021】
本発明の他の態様によれば、シート状封止材は、離型性面を有する基材;弾性を有する条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを各々が有し並列する複数の条部材;及び、該複数の条部材と共に前記基材の該離型性面上に支持される接着剤を有する。
【0022】
又、本発明の一態様によれば、シート状封止材の製造方法は、弾性変形可能な条状の芯材の少なくとも一部を金属層が覆う条部材を用意する工程と、離型性面を有する基材を用意する工程と、前記基材の該離型性面に樹脂接着剤を配置する工程と、前記基材の該離型性面に前記条部材を配置する工程とを有する。
【0023】
又、本発明の一態様によれば、封止用基板は、離型性面を有する基材;弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;及び、該条部材と共に前記基材の該離型性面上に支持される樹脂接着剤:を有するシート状封止材と、前記シート状封止材の該樹脂接着剤が貼着された基板とを有する。
【0024】
本発明の他の態様によれば、封止用基板は、基板;該基板上に配置され、弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;該条部材と共に該基板上に配置される樹脂接着剤;及び、離型性面を有し、該離型性面で該樹脂接着剤を覆う基材を有する。
【0025】
又、本発明の一態様によれば、封止構成体は、基板上に配置され、弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;及び該条部材と共に前記基板上に配置される接着剤を有する、前記基板を他の基板と封止接合するための封止構成体である。
【0026】
又、本発明の一態様によれば、封止構成体の製造方法は、弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材を用意する工程と、該条部材及び接着剤を基板上に配置する工程とを有する、前記基板を他の基板と封止接合するための封止構成体の製造方法である。
【0027】
本発明の他の態様によれば、封止構成体の製造方法は、弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を被覆する金属層とを各々が有する複数の条部材を用意する工程と、基板上に該複数の条部材及び接着剤を配置して、該接着剤を並列する該複数の条部材の間に位置させる工程とを有する、前記基板を他の基板と封止接合するための封止構成体の製造方法である。
【0028】
本発明の他の態様によれば、封止構成体は、基板と対向基板とを封止接合するために該基板上に設けられる封止構成体であって、条状の防湿層と、該基板を該対向基板と接合するための接着層と、該基板が該対向基板と接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層とを有する。
【0029】
本発明の他の態様によれば、封止構成体の製造方法は、条状の防湿層と、該防湿層と並列し、基板を対向基板と接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層とを該基板上に設ける工程と、該基板を該対向基板と接合するための接着層を該基板上に設ける工程とを有する、該基板を対向基板と封止接合するための封止構成体の製造方法である。
【0030】
又、本発明の一態様によれば、封止体は、基板及び該基板に対向する対向基板;前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;及び、弾性変形した条状の芯材と、該芯材の少なくとも一部を覆い、弾性変形した該芯材によって前記基板及び前記対向基板の双方に圧接される金属層とを有する、前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条部材を有する。
【0031】
本発明の他の態様によれば、封止体は、基板及び該基板に対向する対向基板;前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の金属層;及び、前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記金属層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する条状の芯材を有する。
【0032】
本発明の他の態様によれば、封止体は、基板及び該基板に対向する対向基板;前記基板と前記対向基板とを接合する接着層;前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の防湿層;及び、前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記防湿層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する弾性層を有する。
【0033】
又、本発明の一態様によれば、実装体は、基板及び該基板に対向する対向基板;前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;弾性変形した条状の芯材と、該芯材の少なくとも一部を覆い、弾性変形した該芯材によって前記基板及び前記対向基板の双方に圧接される金属層とを有する、前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条部材;及び、前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子を有する。
【0034】
本発明の他の態様によれば、実装体は、基板及び該基板に対向する対向基板;前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の金属層;前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記金属層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する条状の芯材;及び、前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子を有する。
【0035】
本発明の他の態様によれば、実装体は、基板及び該基板に対向する対向基板;前記基板と前記対向基板とを接合する接着層;前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の防湿層;前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記防湿層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する弾性層;及び、前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子を有する。
【0036】
又、本発明の一態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を有する条部材を、前記機能素子を取り囲むように前記基板上に配置する工程と、前記条部材と並列するように接着剤を前記基板上に配置する工程と、前記条部材に対向基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0037】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を有する条部材を、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように前記対向基板上に配置する工程と、前記条部材と並列するように接着剤を前記対向基板上に配置する工程と、前記条部材に前記基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0038】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を有する条部材と、該条部材と並列する接着剤とが、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように設けられた前記対向基板を用意する工程と、前記基板に前記条部材を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0039】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、条状の防湿層と、該防湿層に並列し、前記基板と対向基板とを接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層とを、前記機能素子を取り囲むように該基板上に設ける工程と、前記防湿層と並列する接着層を前記基板上に設ける工程と、前記弾性層に対向基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0040】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、条状の防湿層と、該防湿層に並列し、前記基板と対向基板とを接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層と、前記防湿層と並列する接着層とが、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように設けられた該対向基板を用意する工程と、前記弾性層に該基板を圧接しながら、前記接着層によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0041】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、条状の金属層と、該金属に並列し、前記基板と対向基板とを接合した時に弾性変形により該金属層を該基板及び該対向基板に圧接可能な条状の弾性芯材と、前記金属層と並列する接着剤とが、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように設けられた該対向基板を用意する工程と、前記弾性芯材に該基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0042】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を各々が有する複数の条部材が接着層を介して並列に配置される封止構成体を、前記機能素子を取り囲むように前記基板上に配置する工程と、前記条部材に対向基板を圧接しながら、前記接着層によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程とを有する。
【0043】
本発明の他の態様によれば、実装体の製造方法は、機能素子が設けられた基板を用意する工程と、弾性を有する条状の芯材が金属層で被覆された条部材と、離型性面を有する基材と、該離型性面上に前記条部材と共に支持される接着剤とを有するシート状シール材で前記機能素子を取り囲むように、該シート状シール材の該接着剤を前記基板に貼付する工程と、前記基材を該接着剤から剥離する工程と、前記基板上の前記条部材に対向基板を押圧しながら前記接着剤で該基板と該対向基板とを接合する工程とを有することを特徴とする実装体の製造方法。
【0044】
本発明の他の態様によれば、実装体は、基板及び該基板に対向する対向基板;
前記基板と前記対向基板とを接合する接着層;前記基板及び前記対向基板の双方に圧接され前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の防湿層;及び、前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子を有する。
【0045】
本発明の他の態様によれば、実装体は、基板及び該基板に対向して接合される対向基板;前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の金属層;前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記防湿層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する条状の芯材;及び、前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子を有する。
【0046】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。以下の図面の記載において、同じ器材、部材を有する要素は同じ参照符号で表す。各図は理解を容易にするため特徴部分を表したイラストであり、実寸図ではない。
【0047】
液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等の表示素子を基板間に配置して封止する場合、表示素子を湿分から保護するための防湿性が封止材に求められるが、それだけではなく、温度変化に伴って生じる応力歪に接合が耐え得るような耐応力性も必要である。一般に、封止材として用いられるものには、樹脂接着剤やはんだに代表される金属接合材があるが、樹脂接着剤は、外部応力に対して比較的適応性があり、応力歪が生じても接合剥離が生じにくい反面、湿分が透過し易い。他方、金属接合材は、湿分の遮蔽能が高いが、外部応力に対する適応性が低く、温度変化を伴う部材の接合では剥離や材料破壊を生じ易い。従って、いずれの場合も、単独では表示素子の封止には不十分である。
【0048】
そこで、基板と対向基板とを接合する封止材として、透湿防止用の金属部材と樹脂接着剤とを併用することが考えられるが、単に樹脂接着剤と金属材とを併用しただけでは、実際には双方の利点を活かすことは難しい。その理由は、樹脂接合した基板及び対向基板と金属部材との間に隙間が生じ易く、僅かな隙間により防湿性が損なわれることにある。
【0049】
従って、本発明では、基板の封止において、条状(細長く連続した状態を意味し、形状は限定されず、例えば中空であってもよい)の金属部材と樹脂接着剤とを併用した封止材を用い、樹脂接着剤が硬化した接合状態において透湿防止層を構成する金属部材の遮蔽性を高めるために、基板及び対向基板と金属部材との間に押圧力が作用するようにしてこれらを密接させ基板間の閉塞性を高める。接合状態での金属部材と基板とを密接させる押圧力は、接着剤の硬化に伴う収縮力を利用することができ、これは、金属部材と基板とが当接する状態で樹脂接着剤を硬化させれば得られる。このような接合状態では、樹脂接着剤の収縮力によって金属部材が基板と密着する。但し、基板及び金属部材の表面の僅かな凹凸によって生じる隙間を防ぐには、さらに大きい押圧力が必要である。このためには、樹脂接着剤の硬化時に金属部材を基板に押圧して圧接状態にし、基板と金属部材とを密着させて隙間を閉塞しながら樹脂接着剤を硬化させることが有効である。この接合状態では、押圧により弾性変形した金属部材のスプリングバックが金属部材と基板との密着に寄与する。
【0050】
この際、金属部材の弾性限度あるいは融点が低いと、接合時の押圧力による塑性変形あるいは樹脂接着剤を軟化・硬化させるための加熱による軟化流動・溶融が生じる。これらは、隙間の閉塞にとっては有効に作用するが、作業状況によってはかえって材料流れによって遮蔽性を損なったり基板の位置ずれによる不良品を生じる場合もあり、スプリング効果が得られない。このような場合、弾性限度あるいは融点が高い芯材を金属部材に組み込んで用いると、芯材によって構成される弾性層がスペーサとして働いて対向基板を支持して位置ずれなどを防止し、金属の流動による隙間の閉塞によって透湿防止層の遮蔽性が更に高まる。しかも、弾性層と基板及び対抗基板との間に透湿防止層が介在すると、芯材の弾性によるスプリング作用が介在する透湿防止層に働いて基板及び対向基板に密着させる。この時、金属部材が溶融して基板に接着すると、樹脂接着剤による接合を補助する効果があるが、金属部材と基板との接着は必須ではない。
【0051】
上述した接着層、透湿防止層及び弾性層を有し透湿防止層の遮蔽性が高い封止構造は、弾性層を形成する芯材、透湿防止層を形成する金属材及び接着層を形成する樹脂接着剤からなる封止材によって得られ、封止材の態様には、1)樹脂接着剤、条状の金属材及び条状の芯材は各々別体であり使用時に組み合わせる、2)条状の金属材及び条状の芯材が一体化した条部材と樹脂接着剤とを使用時に組み合わせる、3)条状の金属材、条状の芯材及び樹脂接着剤が一体化した封止材を用いる、に大別される。
【0052】
以下に、封止材及びこれを用いて基板を接合した実装体の実施形態を説明する。
【0053】
[第1の実施形態]
(実装体)
図1は、本発明の実装体の一実施形態、特に有機EL素子の実装を表したもので、(a)は基板接合形成前、(b)は基板接合形成後の実装体、(c)は実装体の基板に平行な断面図を示す。この実装体は、基板5と、この基板5に対向する対向基板6と、上記基板5と上記対向基板6との間に介装された有機EL素子12と、有機EL素子12を囲繞するように基板5の周縁部に配置される4つの条状の封止材4a〜dからなる封止構成体とから構成される。
【0054】
この実施形態において封止構成体に使用される封止材4a〜dの各々は、2つの部材の組み合せ、即ち、芯材1及びこの芯材1の外周を被覆する金属層2からなる条部材13と、この条部材の内側及び外側に並列配置される条状の接着層3との組み合せであり、基板上の封止位置に適切に配置して封止構成体とする。金属層2は低融点金属で形成され、芯材1は、金属層2より弾性限度が高い弾性変形可能な素材で構成される。接着層3は、基板5と対向基板6とを接着する機能を有し、図1(a),(b)に示すように、対向基板6を条部材に抗して基板5の方へ押圧しながら接着層3により基板5と対向基板6とを接着すると、金属層2が外気を遮断し、基板5と対向基板6との間に介装された有機EL素子12を酸化・腐食から守る封止機能が発揮される。
【0055】
(封止材)
上記実装体の製造に用いる封止材4a〜4dの条部材13は、芯材1と金属層2とからなり、使用可能な条部材の例として、具体的には、図2〜4に示すような芯材1が異なるものが挙げられる。
【0056】
芯材1は、押圧力に対して物理的に弾性変形可能な芯材となるものであれば良く、具体的には、プラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管ワイヤ1cによって形成可能であり、これらの芯材1a〜1cを用いた条部材の例を図2〜4に示す。芯材1の線径は、基板を接合した状態で基板5及と対抗基板6との間隔が有機EL素子12の高さより大きくなるように、芯材1の弾性圧縮及び金属層2の変形を考慮して適宜決定する。尚、これらの図では芯材1を断面形状が円形のものとして記載するが、芯材及び条部材は必ずしも断面円形状である必要はなく、図5(b)に示すように芯材の断面が三角形の条部材であっても良く、又、図5(c)、(d)に示すように芯材1の断面が多角形状の条部材であっても良い。但し、条部材が基板及び対向基板と接触する部分において条部材の表面が連続的な曲面で基板及び対向基板と線接触すると、押圧による条部材と基板及び対向基板との密着性つまり遮蔽性が得易く、この点では、芯材及び条部材の断面形状が円形、楕円形あるいは部分的に円弧を有する形状のものが有利である。封止材の製造容易性及び封止作業での取り扱い易さを考慮すれば、断面が円形のものが好ましい。以下の説明では、断面が円形のものを説明するが、他の形状の場合は「線径」を「線幅(太さ)」と解すればよい。
【0057】
芯材1がプラスチックワイヤ1aの場合、押圧力に対して弾性変形可能なプラスチック製のワイヤであればよく、実用的には0.01GPa以上の圧力で弾性変形するものであれば特に制約はない。具体的には、圧縮弾性率が室温で、0.3GPa以上20GPa以下のものが好ましい。圧縮弾性率が0.3GPaより小さいと加圧時の変形量が大き過ぎて加湿時の防湿性が不十分になる。又、圧縮弾性率が20GPaより大きいと、加圧時の変形量が小さいため接合後に低融点金属層を基板及び対向基板に押圧する応力が小さく、防湿性が低下する。より好ましくは、圧縮弾性率が0.5GPa以上10GPa以下とし、1.0GPa以上7.0GPa以下が最も好ましい。基板の接合のために加熱を必要とする樹脂接着剤を接着層3として用いる場合、加熱状態で弾性変形可能である必要があるので、このような場合の芯材1には、温度が50℃以上における圧縮弾性率が上記範囲のものを用いるのが好ましい。
【0058】
又、プラスチックワイヤ1aの線径は、実装体内に封止される機能素子によって異なり、図1のような場合、0.05mm以上20mm以下のものが好ましい。線径が0.05mmより小さいと、金属層2及び基板に与える弾性圧及び押圧面積が小さくなり、遮蔽性が低下する。又、線径が20mmより大きいと、条部材の寸法が大きくなり過ぎて、接着層3との寸法差の過剰により接着不良が生じ易く防湿性が低下する。より好ましくは、プラスチックワイヤ1aの線径は0.1mm以上10mm以下とし、0.3mm以上5mm以下が最も好ましい。プラスチックワイヤ1aの素材の具体例としては、例えば、ポリエチレン、6−ナイロン、ポリビニルアルコール、アラミド繊維、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、PAN、ポリ塩化ビニル、ポリフェニレンサルファイドなどがあげられる。あるいは、これらの材料を複数含む複合物等を用いることもできる。
【0059】
芯材1が金属ワイヤ1bの場合、金属層2より弾性限度が高いものであればよく、圧縮弾性率が10GPa以上300GPa以下のものが好適である。50GPa以上200GPa以下のものが好ましい。圧縮弾性率が300GPaを超えると、芯材が変形しにくくなり、空隙が発生して防湿信頼性が低下する。圧縮弾性率が10GPaより小さいと、芯材の変形量が過剰になり弾性体としての効果が十分に発現しないため、防湿信頼性が低下する。金属の弾性限度は素材及び熱処理によってことなるので、熱処理履歴を考慮して適宜選択することができる。金属ワイヤ1bの線径は、0.05mm以上20mm以下のものが使用可能である。線径が0.05mmより小さいと、金属層2及び基板に与える弾性圧及び押圧面積が小さくなり、遮蔽性が低下する。又、線径が20mmより大きいと、条部材の寸法が大きくなり過ぎて、接着層3との寸法差の過剰により接着不良が生じ易く防湿性が低下する。好ましくは、金属ワイヤ1bの線径は0.1mm以上10mm以下とし、0.3mm以上5mm以下が最も好ましい。金属ワイヤ1bの素材の具体例としては、例えば、銅、ステンレス、鉄、アルミ、ニッケルなどがあげられる。又、コバルト合金、鉄合金、ニッケル合金等の合金材を用いてもよく、更に、このような金属材を繊維材と複合化した繊維複合材料でもよい。複合化する繊維としては、スチール繊維、アルミ合金繊維、チタン合金繊維等の金属繊維の他に、ボロン繊維、アルミナ繊維、SiC繊維、ガラス繊維、炭素繊維、ケブラー繊維、PBT繊維等の非金属繊維が挙げられる。
【0060】
芯材1として管状ワイヤを用いる場合の利点は、管状ワイヤの肉厚の調整によってワイヤに適度の弾性をもたせることができることであり、素材自体の硬度や弾性等の物性による制約が軽減できる。また、例えば、複数の条部材が交差するために圧縮する必要がある場合のように、部分的に条部材の塑性変形が必要な場合にも、管状の芯材1は有利である。
【0061】
芯材1が金属管ワイヤ1cである場合、線径が0.05mm以上20mm以下で管の肉厚が10μm以上1mm以下のものが使用可能である。線径が0.05mmより小さいと、金属層2及び基板に与える弾性圧及び押圧面積が小さくなり、遮蔽性が低下する。又、線径が20mmより大きいと、条部材の寸法が大きくなり過ぎて、接着層3との寸法差が過剰になり接着不良により防湿性が低下する。一方、管の肉厚が10μmより小さいと、加圧時に容易に塑性変形しスプリングバックによる防湿性の向上が得られ難い。又、管の肉厚が1mmより大きいと、管状ワイヤを用いる利点が得られず、加圧時に弾性変形し難いため、やはり防湿性が向上しない。より好ましくは、金属管ワイヤ1cの肉厚は20μm以上0.5mm以下とし、30μm以上0.3mm以下が最も好ましい。金属管ワイヤ1cの材質としては、例えば、銅、ステンレス、鉄、アルミ、ニッケルなどがあげられる。又、コバルト合金,鉄合金,ニッケル合金等の合金材を用いてもよく、更に、このような金属材を繊維材と複合化した繊維複合材料でもよい。複合化する繊維としては、スチール繊維、アルミ合金繊維、チタン合金繊維等の金属繊維の他に、ボロン繊維、アルミナ繊維、SiC繊維、ガラス繊維、炭素繊維、ケブラー繊維、PBT繊維等の非金属繊維が挙げられる。
【0062】
尚、プラスチック管ワイヤを芯材1として使用することも可能であり、前述した管状ワイヤの利点が得られる。
【0063】
金属層2は、基板5及び対向基板6に密着接続して水分を遮蔽するためのもので、この意味では、湿分透過を抑制できる厚さがある限りあらゆる金属がその素材として適用可能である。この実施形態においては、融点が80〜250℃の範囲内の低融点金属を用いており、低温加熱による溶融によって基板5及び対向基板6との僅かな隙間を埋めて遮蔽性を高める効果を有する。更に、金属層2が基板に接着すると、接着層3による接合を補佐する。この金属の融点が50℃よりも低いと、高温時に実装体の防湿信頼性が低下するため好ましくない。融点が250℃以上であると、基板との僅かな隙間を埋めるために流動化させる場合に、素子に悪影響が生じるような高温となる。このような点において、より好ましくは、融点を100℃以上220℃以下とし、120℃以上200℃以下が最も好ましい。金属層2の厚みは1μm〜5mmの範囲で使用できる。この値が1μmより小さくても5mmより大きくても実装体防湿信頼性が低下する。より好ましくは、金属層2の厚みは3μm以上1mm以下とし、5μm以上0.5mm以下が最も好ましい。金属層2に用いる低融点金属としては、各種の共晶合金あるいは非共晶低融点合金あるいは単独金属が使用できる。融点が250℃以上の高融点金属であっても、Sb(630℃)、Bi(271℃)、Pb(327℃)、Zn(420℃)等の金属では、その合金や酸化物は単体のときより融点が低下する。例えば、Pb88.9%/Sn11.1%(融点250℃)や、以下同様な表現で示すと、Pb82.6/Cd17.4(248℃)Pb85/Au15(215℃)、Tl93.7/Na6.3(238℃)、Tl92/As8(220℃)、Tl99.4/L:0.6(211℃)、Tl82.9/Cd17.1(203℃)、Tl97/Mg3(203℃)、Tl80/Sb20(195℃)、Tl52.5/Bi47.5(188℃)、Tl96.5/K3.5(173℃)、Tl73/Au27(131℃)、Bi97/Na3(218℃)、Bi76.5/23.5Tl(198℃)、Bi60/Cd40(144℃)、Bi57/Sn43(139℃)、Bi56.5/Pb43.5(125℃)、Sn(232℃)、Sn67.7/Cd32.3(177℃)、Sn56.5/Tl43.5(170℃)、In97.2/Zn2.8(144℃)、In74/Cd26(123℃)、Bi57/Pb11/Sn42(135℃)、Bi56/Sn40/Zn4(130℃)、Bi53.9/Sn25.9/Cd20.2(103℃)、Sn48/In52(117℃)In(157℃)、Ag5/Pb15/In80(149℃)、Pb38/Sn62(183℃)、Pb47/Sn50/Sb3(186℃)、Pb50/In50(180℃)、Pb50/Sn50(183℃)、Pb10/Sn90(183℃) Au3.5/Pb96.5(221℃)、Pb5/Sn95(183℃)、Ag10/In90(204℃)、Pb60/Sn40(183℃)、Sn95/Sb5(232℃)、Bi67/In33(109℃)、Sn35/In45/Bi2O(98℃)等が低融点金属の例として挙げられる。このような金属層2は、芯材1となるプラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管ワイヤ1cの外側の一部又は全面に形成され、図2(b)に示す低融点金属被覆プラスチックワイヤ、図3(b)に示す低融点金属被覆金属ワイヤ、図4(b)に示す低融点金属被覆金属管ワイヤとなる。接合状態においては、基板5及び対向基板6に密接する条状の金属層となる。金属層2による芯材1の被覆率が大きいほど防湿性が向上し、被覆率(経方向断面における外周について計算される)が50%以上になるように被覆するのが適しており、より好ましくは90%以上、最も好ましくは99%以上とする。
【0064】
芯材1が金属製のワイヤである場合に、金属層2を省略して金属製芯材1のみを条部材として用いることも可能であるが、より防湿性の高い接合を形成するには芯材1及び金属層2の役割に各々適したものを適用するのが好ましい。
【0065】
接着層3は、基板と対向基板とを接合するための接着剤として作用する樹脂組成物からなる。この樹脂組成物として、接合形成に加熱を要する樹脂(熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂)を用いる場合、熱による素子の劣化を避けるために、200℃以上に素子が加熱されることを伴わない樹脂である必要がある。つまり、軟化温度及び硬化(架橋)温度が200℃以下である必要がある。加えて、軟化温度が30℃以下では通常の雰囲気で粘着性が発現して取り扱いが困難となるため、樹脂組成物の軟化温度は30℃以上200℃以下、好ましくは50℃以上180℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下となる。通常、熱可塑性樹脂を主成分とした樹脂組成物は、高温時の接着性が低下するため、温度変化を伴う基板実装体にとっては好ましくない。これを考慮すると、樹脂組成物としては熱硬化性樹脂又は放射線硬化樹脂を使用することが好ましい。但し、熱可塑性樹脂であっても他の樹脂や架橋成分との複合化により上記の条件に適合する組成物を構成可能である。
【0066】
熱硬化性樹脂を使用する場合、硬化温度が50℃以上200℃以下、好ましくは180℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下とする。硬化温度が50℃より低いと保存安定性が劣る。又、硬化温度が低い組成物では耐熱性も低下する傾向にあるため、高温時の接着性が不足する。一方、硬化温度が200℃より高くなると、硬化時の加熱により表示素子の熱劣化を招く。樹脂の硬化は、硬化温度より低い温度においても進行し、加熱温度と樹脂の硬化温度との差が大きいほど硬化速度は遅くなる。接着層3の硬化に必要な温度が高い場合は、表示素子の加熱を避け得るような局所加熱方式を採ることが望ましい。
【0067】
又、樹脂組成物は、基板5及び対向基板6を接着する際、加圧及び/又は加熱により速やかに流動して、基板及び対抗基板に密着する必要があり、金属層及び芯材(芯材が金属層に完全に被覆されていない場合)にも接着するのが望ましい。そのため、樹脂の流動性を示すMI(メルトインデックス:Melt Index)が0.2〜200の範囲にあるものが好ましい。MIが0.2より小さいと流動性が不十分なため、防湿性が低下する。又、MIが200より大きくなると、流動性が高過ぎるため、条部材への密着が困難になる。MIは1.0〜150の範囲が更に好ましく、2.0〜100の範囲が最も好ましい。
【0068】
このような接着層3の樹脂組成物が放射線硬化樹脂の場合、α線、β線、γ線、中性子線、X線や加速電子線、紫外線などの放射線により硬化する樹脂を使用することができ、分子内に不飽和2重結合を有するプレポリマーが好適であり、ポリオキシアルキレン型ポリマーに(メタ)アクリル酸とのエステル交換反応や(メタ)アクリルイソシアネートとの反応により得られるポリマー、ポリオキシアルキレングリコール酸とグリシジル(メタ)アクリレートとの反応により得られるポリマー、ポリオキシアルキレングリコールとエピクロルヒドリンとの反応により得られるポリマーが使われる。より詳細には、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールの(メタ)アクリル酸付加物、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールの(メタ)アクリルイソシアネート付加物、ポリエチレングリコール酸やポリプロピレングリコール酸のグリシジル(メタ)アクリレート付加物、ポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物があげられる。分子内に導入する基としてはアクリロイル基とメタクリロイル基の反応性が良く、良好な結果が得られる。
【0069】
又、接着層3の樹脂組成物が熱硬化性樹脂である場合の具体例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂などが適用可能である。エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂やハロゲン化ビスフェノール型エポキシ樹脂等を使用することが出来る。又、エポキシ樹脂以外では天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1,2−ブタジェン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1,3−ブタジェン、ポリ−2−t−ブチル−1,3−ブタジェン、ポリ−1,3−ブタジェンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、フェノキシ樹脂などをあげることが出来る。その他にもエチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体変性物、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸塩共重合体、アクリル酸エステル系ゴム、ポリイソブチレン、アタクチックポリプロピレン、ポリビニルブチラール、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、エチレンセルロース、ポリアミド、シリコン系ゴム、ポリクロロプレン等の合成ゴム類、ポリビニルエーテルなどが適用可能であり、単独あるいは2種以上併用して用いられる。アクリル樹脂としては以下に示すものがあげられる。ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−2−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−t−ブチルアクリレート、ポリ−3−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−n−プロピルメタクリレート、ポリ−3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−2−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−1,1−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ(メタ)アクリル酸エステル、又はこれらの共重合体を使用することが出来る。又、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。特にウレタンアクリレート、エポキシアクリレートは被着体への密着性の点で優れており、エポキシアクリレートとしては、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付加物があげられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは支持体への密着性向上に有効である。
【0070】
これらのポリマーは、必要に応じて2種以上共重合しても良く、2種類以上をブレンドして使用することも可能である。又、これらは、通常、汎用溶剤に溶解させるか、又は無溶剤のまま金属分散剤などとともに攪拌・混合して使用することが出来る。
【0071】
本発明で使用する樹脂組成物には、必要に応じて、分散剤の他に、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤や充填剤などの添加剤を配合しても良い。又、接着力を向上させるための粘着付与剤としては、ジシクロペンタジェン樹脂、ロジン、変性ロジン、テルペン樹脂、キシレン樹脂、テルペン−フェノール樹脂、アルキルフェノール樹脂、クマロン−インデン樹脂等があり、これらを必要に応じて、単独あるいは2種以上併用して用いる。粘着性調整剤としては、例えば、ジオクチルフタレートをはじめとする各種可塑剤類等が代表的である。
【0072】
一方、熱硬化性樹脂を利用する場合の適度な架橋性を与える硬化剤としては、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、アルキル置換イミダゾールなどを使うことが出来る。これらは単独で用いても良いし、2種以上混合して用いても良い。又、使用しなくても良い。これらの硬化剤(架橋剤)の添加量は上記ポリマー100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましくは1〜30重量部の範囲で選択できる。この量が0.1重量部未満であると硬化が不十分となり、50重量部を超えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。尚、本発明にいう「重量部」とは、溶媒や添加剤などの配合剤の重量を、樹脂100部に対する部数として示すときに用いる表記法である。
【0073】
これらの樹脂組成物を成形する際に使用する溶剤としては、アセトン、ジエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキ サノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセタート、エチルセロソルブアセタート等のセロソルブ系溶剤、乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル等のアルコール系溶剤などを必要に応じて、単独又は2種類以上組み合わせて用いることが出来る。これらの溶剤は用いても良いし用いなくても良い。
【0074】
基板5又は対向基板6上に接着層3(樹脂組成物の層)を形成する際、上記したような有機溶剤で樹脂組成物の粘度を適宜調節しながら、公知のディスペンサー方式、スクリーン印刷方式のような技術を用いて、所望の厚さの接着層3を形成することが出来る。その厚さ(基板に垂直な高さ方向の寸法)は、好ましくは前記芯材1の直径の20%以上400%以下、より好ましくは前記芯材1の直径の50%以上200%以下、最も好ましくは前記芯材1の直径の70%以上150%以下とする。接着層3の厚さが芯材1に比べて薄過ぎると、基板5及び対向基板6の接着が不足し易く、好ましくない。また、接着層3の厚さが大き過ぎると、金属層2と基板5又は対向基板6との接触界面間に樹脂が侵入し実装体の防湿性が低下してしまうため、好ましくない。
【0075】
(条部材の製造方法)
条部材は、例えば、以下のようにして製造される。まず、図2(a),図3(a)、図4(a)に示すように、変形可能な芯材1となるプラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b、金属管ワイヤ1cを準備する。そして、図2(b),図3(b),図4(b)に示すように、これら芯材1の外側に金属層2を設ける。芯材1上に金属層2を形成する方法としては、公知のいかなる方法を使っても良いが、めっき法を使うことにより効果的に形成することが出来る。5μm以上の金属層を均一に形成するには電解めっき法が適している。例えば、芯材1がプラスチックワイヤ1aの場合には、このプラスチックワイヤ1aからなる芯材にシーダ処理を施した後、無電解銅や無電解ニッケルめっきを施して導電層を形成し、しかる後に電解めっきによって被覆ができ、金属層2が形成される。又、芯材1が金属ワイヤ1bの場合には、この金属ワイヤ1bに直接、無電解銅や無電解ニッケルめっきを施し、しかる後に電解めっきによって金属層2の被覆を形成出来る。芯材1が金属管ワイヤ1cの場合にも、金属管ワイヤ1cに直接無電解銅や無電解ニッケルめっきを施し、しかる後に電解めっきによって金属層2の被覆が出来る。あるいは、融解した上記の低融点金属を直接プラスチックワイヤ1a・金属ワイヤ1b・金属管ワイヤ1c上に融着する融着法を利用することも可能である。その際、プラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管ワイヤ1cの外面にコロナ処理、プラズマ処理、易接着コート(プライマー)処理などの表面処理を施しておくと金属層2との密着性が向上し、温度変化等に伴う応力歪による金属層2の芯材1からの剥離が抑制される。プラズマ処理及びコロナ放電処理は心材1の表面に水酸基、カルボン酸基等のような化学的に活性な極性基を付与することによって金属層2との密着性が向上する。プライマー処理も、同様の極性基を有するプライマーを塗布することによって金属層2との親和性を高め密着性が向上する。プライマーとして、例えば、接着層4を形成する樹脂組成物又はその類似物を使用可能である。又、金属層2の表面をシランカップリング剤などで処理すると、金属層2と接着層4との親和性が向上するので好ましい。
【0076】
(封止材の応用・変形)
上述した封止材は応用・変形が可能であり、条部材の芯材1と金属層2とを別体として芯材1及び金属条材の組み合せで使用することも可能である。この場合、1つの芯材1に対して1あるいは2以上の金属条材を組み合わせることが可能である。この場合の封止構成体については以下の実装体の製造方法において封止材の使用形態として後述する。
【0077】
スペーサとしての芯材1は、線径が一定である必要はなく、狭窄部を有したり数珠状であってもよいが、金属層を基板に密着させるためには、基板上での高さは一定である必要がある。換言すれば、基板上に配置される芯材1の横方向(基板と平行な方向)については線幅が一定でなくてもよい。
【0078】
(実装体の製造方法)
基板5及び対向基板6は、発光層からの発光に対して高い透過性を与える電気絶縁性物質からなっているもの(以下、「透光性基板」という。)又は電気絶縁性の非透光性基板を用いる。図1(a),(b)及び図7(b),(c),(d),(e)等に示すような対向基板6側を光取り出し面とするトップエミッション方式では、対抗基板6に透光性基板を用い、基板5には透光性基板、非透光性基板のいずれを用いても良い。基板5側から光を取り出すボトムエミッション方式の場合には、基板5には透過性基板を用い、対向基板6には透過性基板、非透過性基板のいずれを用いても良い。透過性基板及び非透過性基板は、これらのいずれを使用する場合でも、封止材を用いて封着する際に表面にかかる圧力や熱に対して耐圧性、耐熱性を有している必要がある。
【0079】
有機EL素子12は、すでに知られている有機EL素子を用いて良く、他の機能素子に代えてもよい。有機EL素子の層構成の具体例としては、例えば、基板5側から順に下記(1)〜(4)のように積層したものがあげられる。
【0080】
(1)下部電極7、発光層9、上部電極(透明電極)11
(2)下部電極7、電子輸送層8、発光層9、上部電極(透明電極)11
(3)下部電極7、発光層9、正孔輸送層10、上部電極(透明電極)11
(4)下部電極7、電子輸送層8、発光層9、正孔輸送層10、上部電極(透明電極)11
尚、上記構成は、図1(a),(b)、図7(b),(c),(d),(e),等に示すように、上部電極11側から光を取り出す場合のトップエミッション方式を示したものであり、基板5側から光を取り出すボトムエミッション方式の場合には、基板5上の積層順を上記の逆となり、その場合は下部電極7に透明電極が用いられる。
【0081】
実装体の製造は、例えば、以下のように実施することができる。
【0082】
(I)まず、図7(a)に示すように、基板5に導体層として機能する下部電極7を設け(図7(a))、その上に、図7(b)に示すように有機EL素子12を配置し、更に、有機EL素子12が配置されていない領域に絶縁膜15を設ける。この絶縁膜15は、窒化ケイ素(SiN)、酸化ケイ素(SiO2)またはSiNOなどを蒸着やスパッタなどの方法により形成する。
【0083】
尚、絶縁膜15は、電極の腐食防止のため、及び、導電性である条部材と下部電極のショート防止のためのものであり、図1(a)、(b)に示すように、条部材4の下になる位置で下部電極7の上に設ける。絶縁膜15の厚さは10nm〜10μmの範囲で形成することが可能であるが、100nm〜1μmが最も適している。
【0084】
(II)次に、芯材1(図2(a),図3(a)、図4(a)に示すプラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b、金属管1c)及び金属層2、又は、芯材1を金属層2で被覆した条部材13と、接着層3とを準備する。
【0085】
(III)例えば図6(b)〜(e)のように封止材4a〜dで有機EL素子12を囲繞するように、芯材1及び金属層2を基板5又は対向基板6上に配置する。芯材1に金属層2を被覆した条部材13を用いる場合は、図7(c)に示すように、絶縁膜15が敷設された基板5上、又は、対向基板6上の対応する位置に条部材13を配置する。芯材1と金属層2とが別体である場合は、 例えば、図8(a)に示すように、絶縁膜15が敷設された基板5上に1対の金属層2が平列するように配置して、有機EL素子12を囲繞する。あるいは、対向基板6上の対応位置に金属層2を配置しても良い。その後、図8(b)に示すように、芯材1を上記金属層2に並列状に配置する。
【0086】
(IV)さらに、図7(d),図8(c)に示すように、芯材1及び金属層2に対して並列状に、樹脂組成物からなる接着層3を設け、封止構成体を作成する。接着層3は、公知のディスペンサー、スクリーン印刷、スプレーにより作成してもよいし、樹脂成形物を配置しても良い。樹脂をスプレー法によって塗布させる場合、スプレーガンと樹脂加圧タンクより構成されるスプレーシステムを使うことが出来る。スプレーガンとしては、重力式や吸上げ式、あるいは圧送式などのものが使え、そのノズル口径は1.0〜8.0mmφが適当である。又、そのときの空気使用量は、樹脂の粘度にもよるが、50〜600l/minで使用可能である。又、空気を使わない、いわゆるエアレス方式では、コールドスプレー、ホットスプレー、2液スプレー、静電エアレススプレー、ハイドロエアスプレーなどを利用することが出来る。
【0087】
封止構成体は、有機EL素子12の封止が十分達成されるように配置されれば、どのように配置されていても良い。例えば、図6(b)、(e)に示すように4本の封止材4a,4b,4c,4dを基板5の4辺に沿ってそれぞれ配置することが出来る。あるいは、図6(c),(d)に示すように、一本の封止材4aを、基板5の各辺に沿って周回配置し、封止材4aの両端を図6(c)に示すように一点でクロスさせたり、図6(d)のように封止材4aの両端の側部を密着させても良い。更に、図示はしていないが、封止材を2重、3重またはそれ以上に囲繞して封止構成体としても良い。
【0088】
封止構成体の配置の応用例を図11に示す。図11(a)及び(b)では、金属層2で被覆される芯材1の片側のみに接着層3を配置する。図11(c),(d)は、芯材1と金属層2とが別体の例を示し、芯材1、低融点金属層2及び接着層3を並列させて配置する。図11(e)では、芯材1を金属層2上に重ねて、その両側(又は片側でもよい)に接着層3を配置する。図11(f)では、複数の芯材1、金属層2及び接着層3を配置した例である。基板及び対抗基板に金属層を密着させる弾性層として芯材1を機能させる観点から、少なくとも1つの芯材1と低融点金属層2とが隣接していることが望ましい。図11(g)の封止構成体では、金属層2で被覆される芯材1の下側に接着層3を配置する。接着層3の樹脂が軟化状態の時に芯材を押圧することにより下部の樹脂は移動するので、このように芯材1の下にあってもよく、接着層3の形成は芯材1を基板上に配置する前後のいずれでもよいので、必要に応じて追加して塗布量を調整することもできる。
【0089】
(V)更に、図7(e)に示すように、対向基板6を配置する。
【0090】
(VI)その後、対抗基板6を基板5に対して押圧する方向(図9に示すD5又はD6)に加圧しながら、接着層3による基板の接合を行う。その際、封止構成体を構成する芯材1及び低融点金属層2は、図9に示すように変形する。接着層3が流動状態から硬化することにより接合が形成され、このために、熱硬化性樹脂の場合や架橋剤による硬化の場合は加熱、放射線硬化樹脂の場合は放射線の照射が適用される。加圧圧力は、10kPa〜50MPaが好適であり、好ましくは100kPa〜20MPa、より好ましくは500kPa〜10MPaとする。
【0091】
接着層の加熱での硬化は、樹脂組成物の硬化温度付近の温度で行い、加熱温度が硬化温度より低いときは加熱時間を長くする。樹脂組成物の加熱硬化に限らず、加熱処理は、表示素子が長時間約150℃以上の高温に晒されないように配慮する。素子が晒される温度は120℃以下が好ましく、より好ましくは100℃以下である。
【0092】
上記の加熱及び加圧の好適範囲は、後続の実施形態においても同様である。
【0093】
放射線硬化方式を使う場合、α線、β線、γ線、中性子線、X線や加速電子線、紫外線などの活性エネルギー線を使うことが出来る。その被照射線量は、電子線の場合、通常、0.1〜100Mradの範囲で使用されるが、1〜20Mradが望ましい。紫外線の場合は0.01〜10J/cm2で0.1〜6J/cm2が特に好適である。
【0094】
封止構成体を構成する接着層3は、加圧(及び加熱)によって塑性変形し速やかにD7,D8,D9,D10の方向に流動する。金属層2は、絶縁膜15及び対向基板6に当接する。この際、芯材1は弾性変形し、この状態で接着層が硬化すると、芯材1が元の形に戻ろうとするD1及びD2の方向の力が働き、それがスプリング効果を生じ、金属層2を基板及び対抗基板に押圧し密着させる。また、接着層の硬化収縮によってもスプリング効果が生じる。
【0095】
尚、図6(b)、(c)のように封止材4の一部をクロスさせる場合には、図10(a)に示すように、封止材が重なる部分がクロスしていない部分と比べて隆起することになる。この場合には、クロスしていない部分とクロスしている部分とで封止構成体が同じ高さhになるように、図10(b)に示すようにクロスしている部分に他の部分よりも高い圧力をかける。
【0096】
[第2の実施形態]
以下に、封止材及びこれを用いて基板を接合した実装体の他の実施形態を説明する。この実施形態では、前述の条部材と接着層3とを一体化した封止材を使用して封止構成体を設ける。
【0097】
(実装体)
図12は、芯材1、金属層2及び接着層3が一体化した条部材を封止材4a’〜4d’として用いて基板を接合する有機EL素子実装体を表したもので、(a)は基板接合形成前、(b)は基板接合形成後の実装体、(c)は実装体の基板に平行な断面図を示す。この実装体は、基板5と、この基板5に対向する対向基板6と、上記基板5と上記対向基板6との間に介装された有機EL素子12と、有機EL素子12を囲繞するように基板5の周縁部に配置される4つの封止材からなる封止構成体とから構成される。
【0098】
この実施形態において封止構成体に使用される封止材4a’〜4d’の各々は、芯材1、この芯材1の外周を被覆する金属層2、及び、この金属層2の外周を被覆する接着層3’からなる条部材であり、図12(c)のように有機EL素子12を囲繞するように基板上に適切に配置して封止構成体とする。金属層2は低融点金属で形成され、芯材1は、金属層2より弾性限度が高い弾性変形可能な素材で構成される。接着層3’は、基板5と対向基板6とを接着する機能を有し、図12(a),(b)に示すように、対向基板6を封止材に抗して基板5の方へ押圧しながら接着層3’により基板5と対向基板6とを接合する。この結果、図12(b)に示すように、得られる実装体は、前述の第1の実施形態における図1(b)の実装体と本質的に同じになる。
【0099】
(封止材)
上記実装体の製造に用いる封止材4a’〜4d’は、各々、芯材1と金属層2と接着層3’とからなり、これらが一体化されているので、基板上に配置する作業が容易である。使用可能な封止材の例として、具体的には、図13(a)〜(c)に示すように、芯材1としてプラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管ワイヤ1cを用いたものが挙げられる。
【0100】
封止材の芯材1及び金属層2は、前述の第1の実施形態の場合と同様であるので、説明は省略する。尚、図13では芯材1を断面形状が円形のものとして記載するが、円形に限定されない。芯材及び封止材の断面形状が多角形の例を、図14(b)、(c)、(d)、(f)に示す。
【0101】
封止材の接着層3’は、前述の第1の実施形態の場合と同様の樹脂組成物によって構成することができる。その厚みは1μm以上10mm以下であることが好ましい。1μm未満では厚さの制御が困難な上、接着力の低下が大きい。又、厚みが10mm以上では平滑な接着面が得られないため、やはり充分な接着性が得られない。より好ましくは、接着層の厚みは3μm以上5mm以下、最も好ましくは5μm以上1mm以下とする。
【0102】
但し、樹脂組成物の流動性によっては、次のような構造上の変形が有効となる場合がある。
【0103】
接着層3’は金属層2を覆っているので、基板の接合時に樹脂組成物がうまく流動せずに金属層2と基板5及び対向基板6との間に残ると、基板5と対抗基板6との間が金属層2によって完全に遮蔽されないので、残存樹脂組成物を介して実装体内部に湿分が浸入する。このような場合、接着層3’が基板5及び対向基板6に接着する際に、金属層2が露出して基板5及び対抗基板6に当接可能である必要がある。この問題を回避するのに有効な封止材の例として、基板5及び対抗基板6に面する部分の接着層3’を薄くする、又は、設けないものが挙げられ、図14(e),(f)では、金属層2の頂部及び底部が完全に接着層3’から露出している。このような場合、図14(e),(f)に示すように、封止材を基板5及び対抗基板6間に配置して当接した状態で接着層3’と基板5及び対抗基板6の間に隙間D3を有していることが好ましい。図14(e),(f)の構成では、封止材が基板5と対向基板6との間に介装された後に図17に示すようにD5及び/又はD6の方向に圧力を加えると、金属層2と基板5及び対抗基板6とが直接接触し、接着層3’が金属層2と基板5及び対抗基板6の間に残らない。更に、隙間D3があることによって、芯材1は、上下方向に圧縮され横方向に拡張するように容易に弾性変形する。この隙間D3は、芯材1が弾性変形した時に接着層3’が基板5及び対抗基板6に接して接着機能を発揮し易い寸法である必要がある。
【0104】
(封止材の製造方法)
封止材は、前述の第1の実施形態における条部材13の製造方法に従って、芯材1の外側に金属層2を設け、この外側に接着層3’(樹脂組成物の層)を形成する。この際、第1の実施形態において記載したような有機溶剤で適宜組成物の粘度を調節し、公知のディップ法のような表面コート技術を用いて、所望の厚さの接着層を形成することが出来る。例えば、金属層2で芯材1を被覆した条部材を、接着層3’の材料となる融解した樹脂の中に浸漬させるか、又はスプレーによりふきつけることにより被覆する。樹脂をスプレー法によって被覆させる場合、スプレーガンと樹脂加圧タンクより構成されるスプレーシステムを使うことが出来る。スプレーガンとしては、重力式や吸上げ式、あるいは圧送式などのものが使え、そのノズル口径は1.0〜8.0mmφが適当である。又、そのときの空気使用量は、樹脂の粘度にもよるが、50〜600l/minで使用可能である。又、空気を使わない、いわゆるエアレス方式では、コールドスプレー、ホットスプレー、2液スプレー、静電エアレススプレー、ハイドロエアスプレーなどを利用することが出来る。
【0105】
尚、図14(e),(f)に示すような封止材を形成するには、上述のように金属層2の外側全体を接着層3’で被覆した後、接着層3’の一部を削り取ればよい。
【0106】
(実装体の製造方法)
実装体の製造方法は、以下のようになる。
【0107】
(I)まず、第1の実施形態の(I)と同様に、基板5に下部電極7を設け(図15(a))、有機EL素子12を配置し、有機EL素子12が配置されていない領域に絶縁膜15を設ける(図15(b))。
【0108】
(II)次に、芯材1(プラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管1c)、金属層2及び接着層3’からなる封止材を準備する。
【0109】
(III)有機EL素子12を囲繞するように、封止材4a’〜4d’を基板5又は対向基板6上に配置する(図15(c))。封止材は、有機EL素子12の封止が十分達成されるように配置されれば、どのように配置されていても良く、例えば、第1の実施形態と同様に、図16(b)〜(e)のような配置を採用することができ、図15においては図16(b)と同様の配置を取っている。
【0110】
(IV)更に、図15(d)に示すように、対向基板6を配置する。
【0111】
(V)その後、対抗基板6を基板5に対して押圧する方向(図17に示すD5又はD6)に加圧しながら、接着層3’による基板の接合を行う。接着層3’は、図17に示すように、加圧(及び加熱)によって塑性変形し速やかにD7,D8,D9,D10の方向に流動する。金属層2は、接着層3’から露出し、絶縁膜15及び対向基板6に当接する。この際、芯材1は弾性変形し、接着層3’が流動状態から硬化することにより接合が形成され、このために、熱硬化性樹脂の場合や架橋剤による硬化の場合は加熱、放射線硬化樹脂の場合は放射線の照射が適用される。接着層3’が硬化すると、芯材1が元の形に戻ろうとするD1及びD2の方向の力が働いてスプリング効果を生じ、金属層2を基板及び対抗基板に押圧し密着させる。また、接着層の硬化収縮によってもスプリング効果が生じる。
【0112】
尚、図16(b)、(c)のように封止材の一部をクロスさせる場合には、図18(a)に示すように、封止材が隆起するので、クロスしていない部分とクロスしている部分とで封止構成体が同じ高さhになるように、図18(b)に示すようにクロスしている部分に他の部分よりも高い圧力をかける。
【0113】
[第3の実施形態]
この実施形態では、複数の第1の実施形態の条部材を接着層3で一体化した封止材を使用する。
【0114】
(実装体)
図19は、金属層2で被覆した芯材1が少なくとも2つ以上、接着層3により一体化した条部材を封止材4a”〜4d”として用いて基板を接合する有機EL素子実装体を表したもので、(a)は基板接合形成前、(b)は基板接合形成後の実装体、(c)は実装体の基板に平行な断面図を示す。この実装体は、基板5と、この基板5に対向する対向基板6と、上記基板5と上記対向基板6との間に介装された有機EL素子12と、有機EL素子12を囲繞するように基板5の周縁部に配置される4つの封止材からなる封止構成体とから構成される。
【0115】
この実施形態において封止構成体に使用される封止材4a”〜4d”の各々は、複数の芯材1、各芯材1の外周を被覆する金属層2、及び、この金属層2の外周を被覆し複数の芯材1を一体化する接着層3”からなる条状の部材であり、図19(c)のように有機EL素子12を囲繞するように基板上に適切に配置して封止構成体とする。金属層2は低融点金属で形成され、芯材1は、金属層2より弾性限度が高い弾性変形可能な素材で構成される。接着層3”は、基板5と対向基板6とを接着する機能を有し、図19(a),(b)に示すように、対向基板6を封止材に抗して基板5の方へ押圧しながら接着層3”により基板5と対向基板6とを接着する。この結果、図19(b)に示すように、得られる実装体は、前述の第2の実施形態における図12(b)の実装体の封止性をより強化したものになる。
【0116】
(封止材)
上記実装体の製造に用いる封止構成体の封止材4a”〜4d”は、少なくとも2本以上の芯材1及び金属層2と接着層3”とからなり、使用可能な封止材の例として、具体的には、図20(a)〜(c)に示すように、芯材1としてプラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管ワイヤ1cを用いたものが挙げられる。図19及び20は、金属層2で被覆した芯材1を2本用いているが、図21(e)のように3本あるいはそれ以上であってもよく、その場合、芯材1が互いに平行になるように並列させて一体化する。
【0117】
封止材の芯材1及び金属層2は、前述の第1の実施形態の場合と同様であるので、説明は省略する。図20及び図21(a)では芯材1を断面形状が円形のものとして記載するが、円形に限定されない。芯材及び封止材の断面形状が多角形の例を、図21(b)、(c)、(d)に示す。
【0118】
封止材の接着層3”は、前述の第1,2の実施形態の場合と同様の樹脂組成物によって構成することができる。その厚みは1μm以上10mm以下であることが好ましい。1μm未満では厚さの制御が困難な上、接着力の低下が大きい。又、厚みが10mm以上では平滑な接着面が得られないため、やはり充分な接着性が得られない。より好ましくは、接着層の厚みは3μm以上5mm以下、最も好ましくは5μm以上1mm以下とする。
【0119】
第2の実施形態で述べたように、樹脂組成物の流動性によっては、基板5及び対抗基板6に面する部分の接着層3”を薄くする、又は、設けないような構造上の変形が有効となる場合がある。図21(f),(g),(h)では、金属層2の頂部及び底部が完全に接着層3”から露出している。このような場合、図21(g),(h)に示すように、封止材を基板5及び対抗基板6間に配置して当接した状態で接着層3”と基板5及び対抗基板6との間に隙間D3を有していることが好ましい。図21(g),(g),(h)の構成では、封止材が基板5と対向基板6に介装された後に図24に示すようにD5及び/又はD6の方向に圧力を加えると、金属層2と基板5及び対抗基板6とが直接接触し、接着層3”が金属層2と基板5及び対抗基板6の間に残らない。更に、隙間D3があることによって、芯材1は上下方向に圧縮され横方向に拡張するように容易に弾性変形する。この隙間D3は、芯材1が弾性変形した時に接着層3”が基板5及び対抗基板6に接して接着機能を発揮し易い寸法である必要がある。
【0120】
(封止材の製造方法)
封止材は、前述の第2の実施形態における封止材の製造方法に従って、芯材1の外側に金属層2を設け、この外側に接着層3’(樹脂組成物の層)を形成し、複数の封止材を製造する。これらを並列させて接着層3’を融着することによって、複数の芯材1及び金属層2が接着層3”によって一体化された封止材が得られる。樹脂組成物が流動性を有する場合は、そのまま融着可能である。流動性を失っている場合は、加熱により融着することができる。
【0121】
尚、図21(f),(g),(h)に示すような封止材を形成するには、上述のように金属層2の外側全体を接着層3’で被覆した後、接着層3’の一部を削り取ればよい。
【0122】
(実装体の製造方法)
実装体の製造は、以下に示すように、封止材を図20又は21に示す封止材に代えて第2の実施形態と同様の製造方法に従って実施することができる。
【0123】
(I)まず、第1の実施形態の(I)と同様に、基板5に下部電極7を設け(図22(a))、有機EL素子12を配置し、有機EL素子12が配置されていない領域に絶縁膜15を設ける(図22(b))。
【0124】
(II)次に、芯材1(プラスチックワイヤ1a、金属ワイヤ1b又は金属管1c)、金属層2及び接着層3”からなる封止材を準備する。
【0125】
(III)有機EL素子12を囲繞するように、封止材4a”〜4d”を基板5又は対向基板6上に配置する(図22(c))。封止材は、有機EL素子12の封止が十分達成されるように配置されれば、どのように配置されていても良く、例えば、第1の実施形態と同様に、図23(b)〜(e)のような配置を採用することができ、図22においては図23(b)と同様の配置を取っている。
【0126】
(IV)更に、図22(d)に示すように、対向基板6を配置する。
【0127】
(V)その後、対抗基板6を基板5に対して押圧する方向(図24に示すD5又はD6)に加圧しながら、接着層3”による基板の接合を行う。接着層3”は、図24に示すように、加圧(及び加熱)によって塑性変形し速やかにD7,D8,D9,D10の方向に流動する。金属層2は、接着層3”から露出し、絶縁膜15及び対向基板6に当接する。この際、芯材1は弾性変形し、接着層3”が流動状態から硬化することにより接合が形成され、このために、熱硬化性樹脂の場合や架橋剤による硬化の場合は加熱、放射線硬化樹脂の場合は放射線の照射が適用される。接着層3”が硬化すると、芯材1が元の形に戻ろうとするD1及びD2の方向の力が働いてスプリング効果を生じ、金属層2を基板及び対抗基板に押圧し密着させる。また、接着層の硬化収縮によってもスプリング効果が生じる。
【0128】
尚、図23(b)、(c)のように封止材の一部をクロスさせる場合には、図25(a)に示すように、封止材が隆起するので、クロスしていない部分とクロスしている部分とで封止構成体が同じ高さhになるように、図25(b)に示すようにクロスしている部分に他の部分よりも高い圧力をかける。
【0129】
[実装体の特性]
上述のように、有機EL素子12を囲繞する形で封止材を基板5上に配置して基板を押圧しながら接合して得られる本発明の実装体は、有機EL素子の防湿性に優れる。
【0130】
実装体の使用において、防湿性が低いと、表示素子にダークスポット(無発光面)が発生する。ダークスポット面積比を下記式のように定義した時、実装体の実用性としては、60℃、相対湿度90%、1000時間の加速試験後の素子の発光面積に対するダークスポット面積比が10%以下であることが好ましく、2%以下であることがより好ましい。
【0131】
本発明によって提供される実装体は、ダークスポットの発生及びその成長が抑制され、上記ダークスポット面積比の条件を満足するものであり、この点は従来に見られない卓越した特徴である。
【0132】
本発明の実装体において初期防湿特性及び初期接着力、加熱加湿後の防湿特性及び接着性の保持が発現する理由は必ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。
【0133】
すなわち、金属層2で被覆した芯材1を基板5と対向基板6との間に挟んで圧接することにより金属層2が基板5及び対向基板6と密着した時、金属が流動又は融解するようなエネルギーが加えられることによって、流動・融解した金属が基板及び対向基板の表面に沿って変形するため、金属層2と基板5及び対向基板6との間に隙間のない更に密な接触が形成され、優れた防湿性が発現する。この点に関して、基板接合時に弾性変形し常態において元に戻ろうとするスプリング効果を発揮可能な弾性を有する芯材1と基板5及び対向基板6との間に金属層2が介在することが重要であり、芯材1を金属層2で覆う又は囲む構造が有効である。また、流動化し易い低融点金属で金属層2を形成することが極めて有効である。尚、芯材1の弾性によるスプリング効果は実装体の対衝撃性緩和にも有効である。
【0134】
更に、金属層2及び芯材1が基板5及び対向基板6に圧接した状態で接着層3による接合が形成されると、接着層3の硬化収縮及び弾性変形した芯材1のスプリングバックによって金属層2の両端部が基板5及び対向基板6に押圧され、金属層2と基板5及び対向基板6との密着が保持される。接着層3は、芯材1のスプリング作用による応力、熱応力、加湿時に発生する応力に対応しながら接合を維持し、封止材の防湿性を維持する。この結果、長期の加熱加湿試験後も安定した防湿性と接着性とが発現される。この点に関しては、ポリマーを主成分とする樹脂組成物が応力耐性に優れているので、環境変化に適応性を有する接合を形成する接着剤として応力耐性を有する樹脂組成物を用いることに意味がある。また、接着層3の流動性は、基板5及び保護基板6の接着を確実に行う上で重要であり、特に封止材に一体化した場合、金属層2と基板5及び対向基板6との間に残存することなく金属層2を速やかに基板5及び対向基板6と密着させるために重要である。この点に関して、基板上に配置した封止材を、一旦、剥離処理した加圧板などを用いて軽く基板に押圧しながら樹脂の軟化温度に加熱して金属層が露出するようにし、この後、対抗基板を対面させて芯材の弾性変形に必要な加圧及び樹脂の硬化処理を行うと効果的である。
【0135】
尚 トップエミッション方式をとる必要がない場合 実装体の製造時に乾燥剤を組み込むことで EL素子実装体の信頼性及び耐久性を更に向上させることができる。
【0136】
又、本発明に従って得られる実装体は、湿分及び酸素だけでなく、他の物質についても非常に遮断性が高く、様々な成分の出入りを遮断することができるので、LCD素子、有機EL素子、無機EL素子等のディスプレイ表示素子や太陽電池素子等以外に、半導体や化学的安定性が高くない物質を用いて形成される種々の機能素子の実装体に適用することができる。
【0137】
[シート状封止材]
基板間に封止される機能素子が非常に薄い場合、使用する条部材は、上述の実施形態で説明した条部材より細いものの方が有益となる。また、封止体の小型化のためにもより細い条部材が有利であり、表示装置の実用化においては表示エリアを大きく確保できる点から、太さが7mm以下、特に2mm以下の条部材の有用性が高い。このような細い条部材の場合、条部材13及び接着層を基板上に配置する作業を容易にするためには、例えば図26〜図34に示すような、条部材13と樹脂接着剤14とが剥離性基材6上で一体化されたシート状の封止材が有効である。
【0138】
以下に、シート状封止材の実施形態について説明する。
【0139】
特に有用なシート状封止材において、芯材1は前述の実施形態のものより細く、具体的には、芯材1の線径(幅)は、0.01mm以上7mm未満のものが好適に使用され、0.03mm以上5mm以下がより好ましく、0.07mm以上1mm以下が最も好ましい。線径が0.01mmより小さいと、金属層2及び基板に与える弾性圧及び押圧面積が小さくなるため、基板との密着性及び遮蔽性が低下する。線径が7mmを超えるものは、小型の実装体の製造におけるニーズが低いので、シート状封止材としての必要性はさほど高くない。
【0140】
芯材1は、押圧力に対して弾性変形可能な材質で条状に形成されたものであればよく、実用的には0.01GPa以上の圧力で弾性変形するものであれば特に制約はない。具体的には、室温での圧縮弾性率が0.3GPa以上20GPa以下のプラスチック製ワイヤが好適に使用でき、圧縮弾性率が0.5GPa以上10GPa以下がより好ましく、1.0GPa以上7.0GPa以下が最も好ましい。圧縮弾性率が0.3GPaより小さいと加圧時の変形量が大き過ぎて加湿時の防湿性が不十分になる。又、圧縮弾性率が20GPaより大きいと、加圧時の変形量が小さいため接合後に低融点金属層を基板及び対向基板に押圧する応力が小さく、防湿性が低下する。
【0141】
芯材1の素材の具体例としては、例えば、ポリエチレン、6−ナイロン、ポリビニルアルコール、アラミドモノフィラメント、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、PAN、ポリ塩化ビニル、ポリフェニレンサルファイドなどがあげられる。あるいは、これらの材料を複数含む複合物等を用いることもできる。また、芯材1は金属製であってもよく、例えば、銅、金、白金、チタン等やこれらを含有する合金が挙げられる。
【0142】
条部材13が細い場合、金属層2の形成により高い精密さを必要とするので、芯材1の金属層2に対する親和性が低いと層形成の精密さが低下し、芯材1と金属層2との密着性も低下する。密着性が低いと、金属層2の遊離又は剥離が生じ易く、僅かな遊離又は剥離が封止材の遮蔽性に大きく影響する。従って、芯材がプラスチック製の場合、金属層2を設ける前に、芯材1の表面にプラズマ処理、コロナ放電処理またはプライマ−処理(易接着処理)のいずれかの処理を施して、芯材1と金属層2との密着性を高めることが好ましい。
【0143】
芯材1の表面をプライマー処理する場合のプライマーとしては、熱硬化性樹脂を好適に使用することができ、例えば、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂などが適用可能である。エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂やハロゲン化ビスフェノール型エポキシ樹脂などが挙げられる。また、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。特に、ウレタンアクリレート及びエポキシアクリレートは、芯材への密着性が優れており、エポキシアクリレートとしては、1、6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは芯材及び金属層への密着性向上に有効である。
【0144】
上記のポリマーは、必要に応じて、2種以上共重合して、又は、2種類以上を混合して、プライマーとして使用してもよい。尚、後述する樹脂接着剤14と同様の樹脂組成物をプライマーとして使用可能である。
【0145】
プライマーは、通常、汎用溶剤に溶解させて使用するが、無溶剤のまま使用することもできる。溶剤としては、アセトン、ジエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキ サノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセタート、エチルセロソルブアセタート等のセロソルブ系溶剤、乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル等のアルコール系溶剤などが挙げられ、必要に応じて、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
【0146】
プライマーには、必要に応じて、カップリング剤、接着力を向上させるための粘着付与剤、粘着性を調整するための可塑剤等の添加剤等を添加しても良い。カップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルシラザンなどのアミノ基を有するシランカップリング剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基を有するシランカップリング剤、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプト基を有するシランカップリング剤、および、γ−クロロプロピルトリメトキシシランなどのハロゲン基を有するシランカップリング剤等のシランカップリング剤、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルジアクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート等のチタネート系カップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミニウム系カップリング剤およびアセチルアセトン・ジルコニウム錯体等のジルコニウム系カップリング剤等がある。
【0147】
粘着付与剤としては、ジシクロペンタジェン樹脂、ロジン、変性ロジン、テルペン樹脂、キシレン樹脂、テルペン−フェノール樹脂、アルキルフェノール樹脂、クマロン−インデン樹脂等があり、必要に応じて単独あるいは2種以上組み合わせて用いることができる。また、プラスチック芯材との密着性を向上させるために、エポキシシラン、アミノシラン、アクリルシランなどの汎用のシランカップリング剤を使うことができる。
【0148】
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート等が代表的である。
【0149】
プライマーに使用する熱硬化性樹脂には、必要に応じて硬化剤(架橋剤)を添加してもよく、硬化剤としては、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、アルキル置換イミダゾール、多官能イソシアネート化合物などが挙げられる。硬化剤は、単独で用いても、あるいは、2種以上混合して用いてもよい。硬化剤の添加量は、上記ポリマー100重量部に対して0.1重量部以上50重量部以下、好ましくは1重量部以上30重量部以下の範囲で選択するのがよい。硬化剤の添加量が0.1重量部未満であると硬化が不十分となり、50重量部を超えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。
【0150】
条部材13の金属層2の厚みは1μm以上5mm以下の範囲において好適に使用することができ、3μm以上1mm以下が好ましく、5μm以上0.5mm以下が最も好ましい。厚みが1μmより小さくても5mmより大きくても防湿信頼性が低下する。
【0151】
図18又は図25のように条部材13が上下に重なり合う封止形態では、基板と金属層2との間に隙間が生じ易いので、この点を考慮すると、金属層2の厚さが5μm以上であることが好ましい。5μm未満であると、4MPa以上で押圧しても隙間が生じるようになり、2MPa以上での押圧によって金属層の剥離を生じる。5μm以上30μm以下の厚さの金属層2の場合、1〜4MPaの押圧によって基板との間に隙間を生じることなく良好に封止することが可能であり、より好ましくは10μm以上30μm以下とする。更に、使用する金属によるコスト及び製造時間の短縮を考慮すると、10μm以上20μm以下が最適である。
【0152】
金属層2を形成する金属は、融点が約80℃以上のあらゆる金属が好適に使用可能であり、単独金属又は各種の共晶合金あるいは非共晶合金が使用できる。融点が80℃よりも低いと、温度上昇によって防湿信頼性が容易に低下するため、好ましくない。但し、使用可能な金属の融点の下限は、実装体を用いた実用製品に求められる耐熱温度の目標値によって変動する。封止材による基板の接合時に金属層2が溶融すると、金属層の形状が基板表面の微少な凹凸にも対応でき、密着性が向上する。又、金属による接合が形成されれば、樹脂接着剤の接合を補助することができる。このような観点から、基板及び素子の耐熱限界温度より融点が低い低融点金属、つまり、融点が250℃以下の金属が適正であり、90℃以上220℃以下が好ましく、100℃以上200℃以下がより好ましい。融点が250℃以上であると、溶融接着時に高温を必要とし、機能素子に高温による悪影響が生じるため、上記の目的を果たせなくなる。使用可能な低融点金属の具体例は、前述の実装体の第1の実施形態において記載しているので、ここでは省略する。最適な金属として、錫及びインジウムを含有する融点が100℃以上150℃以下程度の合金が挙げられ、錫/インジウム(48/52)共晶合金の融点は117℃である。錫/インジウム合金に亜鉛を添加すると、金属層2のガラスに対する密着性が向上する。
【0153】
金属層2は、電解めっき、無電解めっき、融着めっき等の方法によって芯材1の表面に形成することができる。例えば、芯材1にシーダ処理を施した後、無電解銅めっき又は無電解ニッケルめっき等を施して導電層を設け、しかる後に電解メッキによって上記した金属の被膜を形成することによって、めっき法により好適に金属層2が設けられる。融着法では、例えば、上記の金属を溶融して芯材に直接融着することによって金属層2を形成できる。
【0154】
但し、融着めっきは、5μm以上の厚さのめっきを均一に形成することが難しく、電解めっきでは5〜30μmの厚さの均一なめっきを形成することが容易である。又、無電解めっきは厚い膜を形成するのに時間がかかる。従って、製造効率及び精密さを考慮すると電解めっきが好ましいが、プラスチックの芯材には直接適用することができない。プラスチックの芯材に電解めっきを施すには、図35(a)に示すように、まず導電層17を形成し、この後に電解めっきを施して所望の厚さの金属層2を得る。導電層17の組成は、導電性を有するものであればいかなるものでも良く、金属に限られないが、無電解めっきで膜形成が可能な銅、ニッケル等が一般的であり、コストの面では銅が好ましい。無電解めっきによる導電層17の厚さは、必要な導電性を得る点、及び、コストや製造時間の低減の点から、0.05μm以上50μm以下の範囲が好適であり、0.2μm以上10μm以下が好ましく、0.5μm以上3μm以下が最も好ましい。無電解銅めっき膜は欠陥を有し易く脆いので、更に電解めっきを行って導電層17の密着性、延性を向上させることが望ましい。このような条部材13’を用いて基板を封止接合した実装体の一例を図35(b)に示す。導電層17は、その材質及び物性によって、芯材1の一部として作用する場合も、金属層2として作用する場合もある。
【0155】
金属層2を均一な膜厚で形成するには電解めっき法が特に適している。錫/インジウム共晶合金の金属層2を電解めっき法で形成する場合、例えば、錫/インジウム共晶合金用電解めっき液(石原薬品社製)中に、導電層を形成したプラスチック製の芯材または金属製の芯材を浸漬して、電流密度が0.05A/cm2以上0.5A/cm2以下となるように通電することによって、均一な膜厚で錫/インジウム共晶合金が積層される。電流密度が0.05A/cm2未満では、錫のみのめっき膜になり易く、錫/インジウム共晶合金が得られない。電流密度が0.5A/cm2を超えると、合金が急激に析出して膜厚が不均一になる。
【0156】
上述のような条部材を用いて構成される本発明のシート状封止材の実施形態を以下に説明する。
【0157】
[シート状封止材の第1の実施形態]
この実施形態のシート状封止材では、図26(a)〜(f)に示すように、条部材13がフィルム状の樹脂接着剤14に埋設され、表面に離型処理を施した基材16によって支持されている。従って、基板の封止材を配置する位置に樹脂接着剤14の上面を付着させて基材16を剥離除去すれば、条部材13及び樹脂接着剤14からなる封止材が基板上に正確且つ簡便に配置することができる。この図では、樹脂接着剤14中に複数の条部材13が並列しているが、図1のような単数の条部材13での封止の場合には、1本の条状の樹脂接着剤14のフィルムに条部材13を1本のみ埋設するか、または、図26の封止材を条部材13に沿って適宜裁断して使用する。あるいは、図26の封止材の複数の条部材13を各々個別に利用できるように、条部材に13に並行したミシン目及び切り溝を基材16及び樹脂接着剤14に設けて分割できるようにしてもよい。図27(a)は、図26(a)のタイプのシート状封止材(但し、条部材の断面形状は異なる)から1つの条部材13を使用するために条部材に沿って分割したシート状封止材を示し、図27(b)は2つの条部材13を分割した例である。また、図27(c)は、1対の条部材13が隣接するように樹脂接着剤14に埋設し、2本単位で分割使用するようしたシート状封止材の例を示す。
【0158】
樹脂接着剤14のフィルムの厚さは、1μm以上1mm以下であることが好ましく、更に好ましくは3μm以上500μm以下、最も好ましくは5μm以上300μm以下である。1μm未満は厚さの制御が困難な上、接着力の低下が大きい。また厚みが1mmを超えると平滑な表面のフィルムが得られ難いため、やはり充分な接着性が得られない。
【0159】
図26の(a)及び(f)では、条部材13の外径と樹脂接着剤14の厚さとが同じであり、(b),(d)及び(e)では条部材13の外径より樹脂接着剤14の厚さの方が大きく、(d)では条部材13の外径より樹脂接着剤14の厚さが小さい。条部材13の外径と樹脂接着剤14の厚さとが同じであると、基板に封止材を貼着した時に樹脂接着剤14及び条部材13の両方が基板に当接するので、樹脂接着剤が基板を接合した時に金属層2と基板とが好適に密着する。
【0160】
上記のようなシート状封止材を基板に貼着して基材16を剥し、被着体間つまり対向する基板の間に挟んで加熱圧着すると、条部材と被着体と間に樹脂接着剤14がある場合は押し出されて金属層2が樹脂接着剤14から露出し、図1のように被着体表面つまり基板表面に当接する。この時、金属層2が溶融するようなエネルギーを加えると、融解した金属が両サイドの被着体表面の微細な凹凸に適応して密着性が増す。更に、金属層2と被着体との接合が形成されれば、樹脂接着剤の接合を補助する役割を果たす。金属による接合は、熱応力や加湿時に発生する応力に対して接着力を維持できないが、ポリマーを主成分とする樹脂組成物は応力適応性に優れており、金属と樹脂組成物との併用により、応力の分散・吸収によって被着体との接合が破壊され難くなる。
【0161】
本発明では、芯材1の弾性圧縮を利用して、加圧により弾性変形した芯材の元に戻ろうとするいわゆるスプリング効果を金属層に作用させて被着体に圧接することにより、接合後の実装体は、加熱及び/加湿を被っても優れた防湿特性を保持できる。樹脂組成物が硬化する際に生じる収縮も芯材1のスプリング効果に寄与する。
【0162】
樹脂接着剤14は、基板と対向基板とを接合するための接着剤として作用する樹脂組成物であればよく、接合形成に加熱を要する樹脂(熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂)及び加熱が不要の樹脂(放射線硬化樹脂等)のいずれも使用可能である。熱による素子の劣化を避けるために、素子が200℃を超える温度に加熱されることを伴わない樹脂組成物であること(軟化温度及び硬化(架橋)温度が200℃以下であること)、通常の雰囲気での取り扱いの点から樹脂組成物の軟化温度が30℃以上200℃以下、好ましくは50℃以上180℃以下、より好ましくは60℃以上150℃以下となること、及び、実装体における接着性が高温時に低下しないように、熱硬化性樹脂又は放射線硬化樹脂を使用することが好ましく、これらは、前述の接着層4の樹脂組成物の場合と同様である。
【0163】
シート状封止材としての要件としては、常温において硬化前の樹脂組成物が、基材上で形状を維持可能な程度の保形性を有することが好ましい。このよな点をふまえて、いかに樹脂接着剤14として使用する樹脂組成物について具体的に記載する。
【0164】
熱硬化性樹脂を使用する場合、保存安定性、耐熱性及び封止する機能素子の熱劣化防止の点から、硬化温度が50℃以上200℃以下、好ましくは180℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下とすることは前述の接着層4の樹脂組成物の場合と同様である。熱硬化樹脂は、硬化温度より低い温度においても硬化は進行し、加熱温度と樹脂の硬化温度との差が大きいほど硬化速度は遅くなる。樹脂の硬化に必要な温度が高い場合は、局所加熱方式によって素子の加熱を避けることが可能である。
【0165】
樹脂組成物が熱硬化性樹脂である場合の具体例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂のような樹脂などが適用可能である。その他にもビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂を使用することができる。
【0166】
又、エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の例として、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1、2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン、ポリ−2−t−ブチル−1、3−ブタジエン、ポリ−1、3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、フェノキシ樹脂などを挙げられる。その他にも、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体変性物、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸塩共重合体、アクリル酸エステル系ゴム、ポリイソブチレン、アタクチックポリプロピレン、ポリビニルブチラール、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、エチレンセルロース、ポリアミド、シリコン系ゴム、ポリクロロプレン等の合成ゴム類、ポリビニルエーテルなどが適用可能であり、単独あるいは2種以上併用して用いられる。アクリル樹脂としては以下に示すものが挙げられる。ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−2−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−t−ブチルアクリレート、ポリ−3−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−n−プロピルメタクリレート、ポリ−3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−2−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−1,1−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ(メタ)アクリル酸エステル、又はこれらの共重合体を使用することができる。また、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。特にウレタンアクリレート、エポキシアクリレートは被着体への密着性の点で優れており、エポキシアクリレートとしては、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げられる。
【0167】
必要に応じて、上記樹脂の2種以上を共重合したもの、あるいは、2種類以上をブレンドしたものを使用することも可能である。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは支持体への密着性向上に有効である。又、接合を形成した樹脂接着剤14がゴム弾性を有すると、芯材によるスプリングバックの応力に対する適応性が高く樹脂接着剤14の接着破壊が更に抑制される。この点については、硬化した樹脂組成物の弾性率が0.005GPa以上30GPa以下であるものが好ましく、より好ましくは0.1GPa以上10GPa以下、最も好ましくは0.5GPa以上7.0GPa以下となる。
【0168】
熱硬化性樹脂を利用する場合、硬化剤(架橋剤)として、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、アルキル置換イミダゾール、多官能イソシアネート化合物などを使うことができる。硬化剤は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。また、使用しなくてもよい。
【0169】
硬化剤の添加量は、上記樹脂100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましくは1〜30重量部の範囲で選択するのがよい。硬化剤(架橋剤)の添加量が0.1重量部未満であると、硬化が不十分となり、50重量部を超えると、架橋過剰になり、接着性に悪影響を与える場合がある。
【0170】
樹脂接着剤14として、α線、β線、γ線、中性子線、X線や加速電子線、紫外線等の放射線を照射することで硬化する放射線硬化樹脂も使用可能である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、以下に例示するようなラジカル(共)重合体(A)、少なくとも一つのラジカル重合性基を有するラジカル重合性単量体(B)及び光重合開始剤が混合されたラジカル重合性樹脂接着剤がある。
【0171】
上記ラジカル(共)重合体(A)は、少なくとも一つのラジカル重合性基を有するラジカル重合性単量体を用いてラジカル重合開始剤により反応させて調製することができ、このラジカル重合性単量体としては、ブタジエン、イソプレン及び2−クロロブタジエン等のジオレフィン系単量体; メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,3−ジブロモプロピル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アクリレート、トリメチルシロキシエチル(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類; スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジメチルスチレン、t−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン等のビニル化合物類; (メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、N,N−メチレンビス(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類; N−フェニルマレイミド、N−ラウリルマレイミド等のマレイミド類; (メタ)アクリロニトリル、マレイン酸アルキルモノエステル、フマル酸アルキルモノエステル、イタコン酸アルキルモノエステル、(メタ)アクリル酸、無水(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、チグリン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、テトラコン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、アシッドホスホオキシエチル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−アシッドホスホオキシプロピル(メタ)アクリレート、アシッドホスホオキシプロピル(メタ)アクリレート、アシッドホスホオキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、アシッドホスホオキシプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシナフタレン−2−スルホン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシベンゼンスルホン酸等の酸基または酸無水物基を有する単量体等がある。
【0172】
ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過硫酸カリウムや過硫酸アンモニウム等の無機過酸化物、t−ブチルヒドロパーオキサイド、過酸化t−ジブチル、クメンヒドロパーオキサイド、過酸化アセチル、過酸化ベンゾイル及び過酸化ラウロイル等の有機過酸化物; 及び、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩及びアゾビスシアノ吉草酸等のアゾ化合物等がある。無機過酸化物及び有機過酸化物に対しては、エチルアミン、トリエタノールアミン及びジメチルアニリン等のアミン、ポリアミン、2価鉄塩化合物、アンモニア、トリエチルアルミニウム、トリエチルほう素、ジエチル亜鉛等の有機金属化合物、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、ナフテン酸コバルト、スルフィン酸、メルカプタン等の適切な還元剤を併用しても良い。更に、ラジカル(共)重合体を作る際に用いるラジカル重合開始剤として、紫外線や可視光線の照射により重合開始ラジカルが発生する光重合開始剤を用いても良い。あるいは、ラジカル重合開始剤を用いずに、電子線、エックス線やプラズマ等の高エネルギー線を照射して重合開始ラジカルを発生させてもよい。
【0173】
ラジカル重合開始剤として、有機過酸化物及び/又はアゾ化合物を用いて製造すると、ラジカル(共)重合体を含んだラジカル重合性樹脂接着剤の光重合性が高くなる。とりわけ、2,2−ジメチル置換アルキル(アシル)オキシラジカルを発生させる有機過酸化物を用いて製造したラジカル(共)重合体を含んだ樹脂接着剤は、低紫外線照射量で高度に架橋するため、好ましい。2,2−ジメチル置換アルキル(アシル)オキシラジカルとして、t−ブトキシラジカル、t−ヘキシルオキシラジカル及びクメンオキシラジカル等が特に有効である。2,2−ジメチル置換アルキル(アシル)オキシラジカルを発生させる有機過酸化物としては、例えば、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ3,5,5,−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジt−ブチルパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシマレイックアシド、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルパーオキシネオヘキサノエート等のt−ブチルパーオキシエステル化合物; t−ヘキシルパーオキシネオドデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート等のt−ヘキシルパーオキシエステル化合物; クミルパーオキシオクトエート、クミルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート等のクミルパーオキシエステル化合物; 1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタン等のパーオキシケタール化合物; t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド化合物; ジt−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド化合物等がある。
【0174】
上記ラジカル重合性単量体(B)は、少なくとも1つのラジカル重合性基と1以上の官能基数とを有する化合物であればよい。反応性が高く好ましい化合物として、(メタ)アクリル化合物、(メタ)アクリルアミド化合物及びビニルエーテル化合物が挙げられる。具体的には、例えば、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジオキシジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、フォスファゼン(メタ)アクリレート、アクリル共重合体へ(メタ)アクリロイル基を導入したもの、等の(メタ)アクリル化合物; ポリブタジエンや不飽和ポリエステル化合物等の主鎖及び側鎖に不飽和結合を有する化合物、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、マレイミド基、(メタ)アクリルアミド基等のラジカル重合性2重結合を有する化合物等がある。これらの一種または二種以上の混合物を用いることができる。ラジカル重合性樹脂接着剤の紫外線硬化性を高くし、塗膜の性能を向上させるために、官能基数が2以上のラジカル重合性単量体を1種以上用いることができる。
【0175】
官能基として鎖状エーテル基に隣接するメチン基及び/又はメチレン基を有するラジカル重合性単量体の具体的例を挙げると、例えば、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート(ポリエチレングリコール鎖数:30)、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシノナエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(ポリエチレングリコール鎖数:30)、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレン(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボニルオキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルオキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のアルキルオキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート類及びアリルオキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート類; N−n−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシエチル(メタ)アクリルアミド等のN−アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド類等が挙げられる。
【0176】
また、官能基として環状エーテル基に隣接するメチン基及び/又はメチレン基を有するラジカル重合性単量体としては、例えば、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールのモノε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールのジε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールのモノβ−メチル−δ−バレロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールのジβ−メチル−δ−バレロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールの2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート付加物、2−テトラヒドロフロニック酸のグリシジル(メタ)アクリレート反応物、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリルアミド、テトラヒドロフルフリルオキシメチル(メタ)アクリルアミド等のテトラヒドロフラン環を有する(メタ)アクリレート類及びテトラヒドロフラン環を有する(メタ)アクリルアミド類;テトラヒドロピラン−2−メタノール(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールのモノε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールのジε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールのモノβ−メチル−δ−バレロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールのジβ−メチル−δ−バレロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロピラン−2−メタノールの2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート付加物、テトラヒドロピラン−2−メタノールのエピクロルヒドリン付加体の(メタ)アクリル酸反応物、テトラヒドロピラン−2−メタノール(メタ)アクリルアミド、テトラヒドロピラン−2−メタノールオキシメチル(メタ)アクリルアミド等のテトラヒドロピラン環を有する(メタ)アクリレート類及びテトラヒドロピラン環を有する(メタ)アクリルアミド類; 2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとエチレングリコールの縮合体の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとエチレングリコールの縮合体のモノε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとエチレングリコールの縮合体のモノβ−メチル−δ−バレロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとエチレングリコールの縮合体のエピクロールヒドリン付加体の(メタ)アクリル酸反応物、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとエチレングリコールの縮合体の2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート付加物、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとプロピレングリコールの縮合体の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとプロピレングリコールの縮合体のモノε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとプロピレングリコールの縮合体のエピクロールヒドリン付加体の(メタ)アクリル酸反応物、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとプロピレングリコールの縮合体の2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート付加物、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとネオペンチルグリコールの縮合体の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとネオペンチルグリコールの縮合体のモノε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとネオペンチルグリコールの縮合体のエピクロールヒドリン付加体の(メタ)アクリル酸反応物、2,2−ジメチル−3−オキシプロパナールとネオペンチルグリコールの縮合体の2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート付加物、グリセロールフォルマール(メタ)アクリレート、グリセロールフォルマールのモノε−カプロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、グリセロールフォルマールのモノβ−メチル−δ−バレロラクトン付加物の(メタ)アクリレート、グリセロールフォルマールのエピクロールヒドリン付加体の(メタ)アクリル酸反応物、グリセロールフォルマールの2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート付加物等のジオキソラン環を有する(メタ)アクリレート類等が挙げられる。
【0177】
また、官能基として水酸基に隣接するメチン基及び/又はメチレン基を有するラジカル重合性単量体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−ラウロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート類が挙げられる。
【0178】
官能基としてカーバメート基に隣接するメチン基及び/又はメチレン基を有するラジカル重合性単量体としては、2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレートのイソプロピルアルコール付加物、2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレートのn−ブチルアルコール付加物、n−ブチルイソシアナートの2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート付加物、フェニルイソシアネートの2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート付加物、オクタデシルイソシアネートの2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート付加物等のカ−バメート基を有する(メタ)アクリレート類; 3−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネートのイソプロピルアルコール付加物、3−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネートのn−ブチルアルコール付加物等のカ−バメート基を有するビニル化合物類等が挙げられる。
【0179】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)ー2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロハキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4ーチオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系化合物; 2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物、ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル; ベンゾフェノン、ο−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物; 2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物; ミヒラーケトン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物; 10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアンスラキノン、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等が挙げられる。
【0180】
ラジカル重合性樹脂接着剤の紫外線硬化に関して、重合は光重合開始剤だけでもおこるが、より効率的に重合をさせるために、更に光増感剤を併用することが好ましい。かかる増感剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル等のアミン類がある。
【0181】
更に、必要に応じて、非反応性オリゴマー、顔料、染料、無機充填剤、有機充填剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、カップリング等の密着向上剤等を添加しても良い。無機充填剤及び有機充填剤は、一般的に、強度、クッション性、滑り性等の機械的特性の向上のために用いる。
【0182】
上記の添加物に特に制限はないが、有機顔料、無機顔料及び染料については、溶解性に優れる油解性染料が特に適している。
【0183】
無機充填剤としては、二酸化珪素、酸化珪素、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、タルク、カオリンクレー、焼成クレー、酸化亜鉛、硫酸亜鉛、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、ガラス、雲母、硫酸バリウム、アルミナホワイト、ゼオライト、シリカバルーン、ガラスバルーンなどがある。無機充填剤に、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤及びジルコネート系カップリング剤等を添加、反応させる等の方法により、ハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、チオール基及びアミド基等の官能基を持たせてもかまわない。
【0184】
有機充填剤としては、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン・メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコーン樹脂、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリオレフィン樹脂、エチレン・アクリル酸共重合体、ポリスチレン、架橋ポリスチレン、ポリジビニルベンゼン、スチレン・ジビニルベンゼン共重合体、アクリル共重合体、架橋アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、塩化ビニリデン樹脂、フッ素樹脂、ナイロン12、ナイロン11、ナイロン6/66、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等がある。有機充填剤は、ハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、チオール基及びアミド基等の官能基を有していてもかまわない。
【0185】
カップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルシラザンなどのアミノ基を有するシランカップリング剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基を有するシランカップリング剤、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプト基を有するシランカップリング剤、およびγ−クロロプロピルトリメトキシシランなどのハロゲン基を有するシランカップリング剤等のシランカップリング剤、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルジアクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート等のチタネート系カップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミニウム系カップリング剤およびアセチルアセトン・ジルコニウム錯体等のジルコニウム系カップリング剤等がある。
【0186】
ラジカル重合性樹脂接着剤に照射する光は、波長180nm〜900nmの紫外線又は可視光線が好ましい。光発生源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光等がある。とりわけ、254nm、313nm、365nm、405nmの波長の光が、このラジカル重合性樹脂接着剤の架橋に有効である。100mJ/cm2〜10J/cm2の光照射量で高度に架橋することができる。なお、光照射量は、例えば、工業用UVチェッカーUVR−T37(株式会社トプコン製)によって測定できる。
【0187】
なお、上記ラジカル重合性樹脂接着剤は、光重合開始剤を含まなくても紫外線によって硬化する。又、光以外の高エネルギー線によって架橋させても差し支えない。高エネルギー線としては、電子線、X線、α線、β線、γ線のような電磁放射線等がある。
【0188】
また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤は、主たる硬化剤として紫外線等の光照射による光分解でルイス酸触媒を放出するルイス酸塩型硬化剤を含み、光照射により発生されたルイス酸が触媒となって主成分であるエポキシ樹脂がエポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を用いたカチオン重合型の反応機構により重合し、硬化するタイプの接着剤である。この主成分であるエポキシ樹脂としては、エポキシ化オレフィン樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。また、上記硬化剤としては、芳香族ジアゾニウムのルイス酸塩、ジアリルヨードニウムのルイス酸塩、トリアリルスルホニウムのルイス酸塩、トリアリルセレニウムのルイス酸塩等が挙げられる。これらのうちでは、ジアリルヨードニウムのルイス酸塩が好ましい。
【0189】
樹脂接着剤14として、熱可塑性エラストマーを使うことも可能である。その例としては、スチレン−ブタジエンブロックコポリマーをはじめ、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−ブタジエン−エチレン−スチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンなどが挙げられる。
【0190】
熱可塑性エラストマーのソフトセグメント成分としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−3−エチル−1,3−ブタジエン、3−メチル−1,3−ペンタジエン、2−エチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン、2−メチル−1,3−ヘキサジエン、1,3−ヘプタジエン、3−メチル−1,3−ヘプタジエン、1,3−オクタジエン、3,4−ジメチル−1,3−ヘキサジエンなどを挙げることが出来るが、特に1,3−ブタジエン、イソプレンなどが好適である。また、これらの共役ジエンと共重合可能なビニル単量体としてはエチレンなどを挙げることが出来る。これらの単量体は、上記共役ジエンの重合速度を低下させない範囲で共重合することができる。実用的見地からは、これらのビニル単量体の量は、共役ジエンの重量の1/10以下であることが好ましい。
【0191】
熱可塑性エラストマーのハードセグメント成分としては、スチレンのほかo−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレンなどの核アルキル置換スチレン、モノクロルスチレン、ジクロルスチレン、ジブロムスチレン、トリブロムスチレンなどの核ハロゲン置換スチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−p−メチルスチレンなどのα−アルキル置換スチレンなどを指すが、代表的なものとしては、スチレン単独あるいはその一部をスチレン以外の上記ビニル芳香族単量体で置き換えた単量体混合物がある。ここで言う上記不飽和ニトリル単量体とは、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどであるが、代表的なものはアクリロニトリルである。
上記ソフトセグメント成分とハードセグメント成分の重量比に特に制約はなく、目的に応じ調整される。
【0192】
また、熱可塑性エラストマーの分子量に特に制約は無く、常用の1,000〜500,000であれば良い。好ましい分子量の範囲は5,000〜100,000である。
【0193】
樹脂接着剤14には、必要に応じて、乾燥剤(吸湿剤)の他に、分散剤、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤や充填剤などの添加剤を配合してもよい。特に、乾燥剤は、実装体に用いられるガラスにもともと吸着している微量の水分や樹脂中に含まれる水分を捕獲吸収して有機EL素子の寿命をさらに向上させるのに有効である。このような乾燥剤の例として、例えば、酸化カルシウム(CaO)、酸化バリウム(BaO)、酸化マグネシウム(MgO)等のアルカリ土類金属酸化物; 硫酸リチウム(Li2SO4)、硫酸ナトリウム(Na2SO4)、硫酸カルシウム(CaSO4)、硫酸マグネシウム(MgSO4)、硫酸コバルト(CoSO4)、硫酸ガリウム(Ga2(SO4)3)、硫酸チタン(Ti(SO4)2)、硫酸ニッケル(NiSO4)等の硫酸塩が挙げられる。乾燥剤の含有量は、その種類等に応じて適宜設定すれば良いが、通常、樹脂接着剤の樹脂成分100重量部に対して乾燥剤1重量部以上80重量部以下程度とすれば良い。好ましくは乾燥剤5重量部以上70重量部以下程度、最も好ましくは乾燥剤10重量部以上50重量部以下程度とすれば良い。
【0194】
また、樹脂接着剤14の接着力を向上させるために粘着付与剤を加えてもよく、例えば、ジシクロペンタジェン樹脂、ロジン、変性ロジン、テルペン樹脂、キシレン樹脂、テルペン−フェノール樹脂、アルキルフェノール樹脂、クマロン−インデン樹脂等が使用でき、これらを必要に応じて単独あるいは2種以上併用して用いる。また、エポキシシラン、アミノシラン、アクリルシランなどの汎用のシランカップリング剤を使用すると、ガラスとの密着性を向上させることができる。
【0195】
また、粘着性調整剤として、例えば、ジオクチルフタレートをはじめとする各種可塑剤類等を使用してもよい。
【0196】
上記のような樹脂接着剤は、通常、汎用の溶剤に溶解させて成形に用いるが、無溶剤のまま使用することもできる。金属分散剤などと共に攪拌・混合して使用してもよい。成形する際に使用する溶剤として、例えば、アセトン、ジエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキ サノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセタート、エチルセロソルブアセタート等のセロソルブ系溶剤、乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル等のアルコール系溶剤などが挙げられ、必要に応じて単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
【0197】
樹脂接着剤14を支持する基材16の材質としては、例えば、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリウレタン樹脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂からなるフィルムを挙げることができる。
【0198】
基材16は、厚みが10μm以上1mm以下のものが適正である。10μm未満又は1mm以上では、取り扱いが難しくなる。20μm以上500μm以下が更に好ましく、30μm以上200μm以下が最も好ましい。
【0199】
基材16は、少なくとも樹脂接着剤14を支持する面が離型性を有していればよく、基材表面をシリコーンのような剥離剤で離型処理をしたものや、ポリエチレン、ポリプロピレン、PET等のような離型性を有する材料で基材自体を形成した剥離シートが利用可能である。離型性の基材16上に配置された条部材13及び樹脂接着剤14を、別の離型性を有する基材で被覆することによって、樹脂接着剤が保護される。基材16の両面が離型性を有すると、樹脂接着剤14及び条部材13が基材16上に支持されたシート状封止材をロール上に巻き取って保存することができる。これらの場合、2つの離型性面の離型性の程度に差があることが必要である。つまり、樹脂接着剤フィルムが形成される基材面の表面張力が、背面または他方の基材の表面の表面張力よりも大きくなければならない。離型処理の程度は、濡れ指数液(和光純薬(株)製)を用いて簡易的に測定することができ、濡れ指数で5dyn/cm以上の差があることが望ましい。この差が5dyn/cm未満では、ロール状に巻き取ったシート状封止材を使用時に引き出すと樹脂接着剤が基材の背面に転写することがある。
【0200】
[シート状封止材の第2の実施形態]
この実施形態のシート状封止材では、条部材13は、図28(a)に示すように、表面に離型処理を施した基材16によって支持されるフィルム状の樹脂接着剤14の上に載設される。このシート状封止材の利点は、製造が容易であることであり、樹脂接着剤14として軟らかい樹脂を用いれば、基板に貼着する際にシート状封止材を基板に対して軽く押圧することにより、条部材13が樹脂接着剤14のフィルムに埋め込まれる。
【0201】
このようなシート状封止材は、離型処理を施した基材16上に、ロールコート法、印刷法、スピンコート法等の薄膜形成技術を用いて樹脂接着剤14のフィルムを形成し、その上に条部材13を配置することによって製造される。条部材13をフィルム上に配置する際に織機等を用いると、複数の条部材を平行に並べて同時に送り出すことができる。離型処理した別の基材を介して、あるいは、ロールラミネータ等を用いて、条部材をフィルムに押圧することによって条部材はフィルム上に固着する。
【0202】
[シート状封止材の第3の実施形態]
この実施形態のシート状封止材では、表面に離型処理を施した基材16によって支持されるフィルム状の樹脂接着剤14は、図28(b),(c),(d)に示すように、条部材13に対応した形状つまり同じ幅のスリットを有し、条部材13はスリット内に内接配置されて基材16上に直接支持される。このシート状封止材の利点は、スリットがフィルムを貫通することにより、封止材を被着体(基板)に貼着した時に条部材13と被着体との間に樹脂接着剤14が存在しないため、金属層2と被着体とが確実に当接し金属層2が被着体に密着する確度が高いことである。
【0203】
このようなシート状封止材は、ロールコート法、印刷法、スピンコート法等の薄膜形成技術及びマスク等の成形器材を用いて、スリットを有する樹脂接着剤14の層を、離型処理した基材16上に形成し、スリット内に条部材13を配置することによって製造される。条部材13をスリット内に配置する際に、織機等を用いると複数の条部材13を平行に並べて同時に送り出すことが容易である。スリットから外れている条部材がある場合には、離型処理した別の基材を介して、あるいは、ロールラミネータ等を用いて、条部材を押圧しスリット内に適正に納めることができる。
【0204】
[シート状封止材の変形例]
シート状封止材において、条部材13は、図26(f)のように直線上に配置されるものに限定されず、基板の封止形態に応じて条部材13の配置形状を適宜変えることができる。例えば、離型処理した基材16上に、円環、楕円環、多角環等のような幾何学的に閉じた形状の樹脂接着剤14のフィルムを設け、これに対応した環状に条部材13を配置して、条部材13を図26のようにフィルム内に埋設したり、図28(a)のようにフィルム上に載置することができる(図32参照)。また、大きさが異なる同心環状のスリットを有する樹脂接着剤フィルムを形成して、対応する同心環状の条部材をスリットに配置すると、図28(b)〜(d)のように条部材及び樹脂接着剤フィルムが交互に並ぶように構成される。封止は、幾何学的に閉じた形状で行われるので、末端を有する条部材を用いて封止する際には条部材のつなぎ目の遮蔽性が問題になる。従って、封止形状に合わせて、条部材13を幾何学的に閉じた形状に予め成形すると、条部材のつなぎ目における透湿の問題を無くすことができ、有利である。環状の条部材は、芯材1を環状に成形して同様に金属層2を形成することにより製造できる。
【0205】
[シート状封止材の製造方法]
上述の第1〜3の実施形態を例としてシート状封止材の製造方法を説明する。
【0206】
まず、図2(a)に示すような線径1μm以上5mm以下の条状の芯材1の表面を、プラスチック製の場合にはコロナ処理、プラズマ処理、易接着コート(プライマー)処理などの表面処理を施し、電解めっき、無電解めっき、融着めっき法等を利用して、芯材1の外周に低融点金属で厚さ1μm〜5mmの金属層2を形成して条部材13を得る。めっき方法では、例えば、芯材にシーダ処理を施し、無電解銅又は無電解ニッケルめっきを施した後に、低融点金属の電解めっきを行うことによりに良好に金属の被覆ができる。融着法では、融解した低融点金属を直接条部材上に融着する。
【0207】
次に、ロールコート法、印刷法あるいはスピンコート法などの被膜形成技術を用いて、離型性を有する基材もしくは離型処理した基材16上に、図29(a)に示すように、樹脂接着剤のフィルムを形成する。あるいは、マスクなどを介して樹脂接着剤14をコーティングすることにより、図29(b)に示すように、所定のスリットを有する形状に樹脂接着剤14のフィルムを形成して基材表面が曝される部分を残す。樹脂接着剤の粘度は、樹脂接着剤フィルムの所望の厚さに応じて適宜調節され、樹脂接着剤が溶媒を含む組成物の場合は溶媒の添加量によって、樹脂接着剤が無溶媒系の場合は希釈モノマーの使用量などによって調節できる。
【0208】
最後に、図28(a)に示すように作製した樹脂接着剤フィルム上に条部材13を配置する。あるいは、図28(b)〜(d)に示すように条部材13を樹脂接着剤フィルムのスリット内に配置する。この際、条部材を一本づつ順次配置しても、織機等を用いて複数の条部材を平行に並べて同時に配置してもよい。配置された条部材13は、別の離型処理基材を介して、或いは、ロールラミネータ等により直接、樹脂接着剤に圧着することによりフィルム上又はスリット内に固定される。フィルム上の条部材13への圧力を増すことによって、条部材13は、図26(a)〜(c),(e)のようにフィルム中に埋設される。条部材13を樹脂接着剤内に埋設した後に更に樹脂接着剤フィルムを積層すれば図26(d)のシート条封止材が得られる。条部材13の位置は、上下2層に分けて成膜した樹脂接着剤フィルムを用いれば正確に制御できる。
【0209】
複数の条部材を平行に配置したシート状封止材は、条部材13の軸方向に沿って適宜裁断することにより、図27(a)〜(c)に示すように、必要数の条部材13を含んだ封止材が作成される。
【0210】
[実装体の製造]
シート状封止材を用いて、機能素子を基板間に封止した実装体を製造するプロセスを図30(a)〜(e)を参照して以下に説明する。ここでは、上述の第1の実施形態に係るシート状封止材を用い、図1に要部断面図として示されるEL表示装置を製造する例を示すが、本発明はこれに限られるものではない。
【0211】
基板5及び対向基板(表示素子保護基板)6は、有機EL素子の発光層からの発光に対して高い透過性を与える電気絶縁性物質からなっているもの(「透光性基板」と称する)又は電気絶縁性の非透光性基板を用いる。トップエミッション方式では、対向基板6に透光性基板を用い、基板5は透光性基板及び不透光性基板のいずれでもよい。ボトムエミッション方式では、基板5に透光性基板を用い、対向基板5には透光性基板及び不透光性基板のいずれでもよい。透光性材料には、透明又は半透明なガラス、PET、ポリカーボネート、非晶型ポリオレフィンなどが挙げられる。不透光性材料にはステンレス鋼などがある。基板5及び対向基板6は、これらの材料を薄膜に成形した可撓性を有するでもよい。但し、封止材を用いて封着する際に係る圧力や熱に対して耐圧性、耐熱性を有する必要がある。
【0212】
まず、図30(a)に示すように、基板5の片面上にAl−Li合金等からなる下部電極(陰極)7が形成され、この上に、図30(b)のように、オキサジアゾール誘導体やトリアゾール誘導体等からなる電子輸送層8、発光層9、TPD等からなる正孔輸送層10及び上部電極(陽極)11を抵抗加熱蒸着法やイオンビームスパッタ法等の薄膜形成方法により積層して有機EL素子12が構成される。これを表示素子基板と称する。更に、下部電極7上の表示素子が搭載されていないエリアの封止材で封着する位置に絶縁膜15が形成される。絶縁膜15は、窒化ケイ素(SiN)、酸化ケイ素(SiO2)又はSiNOなどを蒸着やスパッタなどの方法により形成する。この絶縁膜15は、金属層を有し導電性である本発明の封止材によって下部電極7がショートするのを防止するために設けられ、電極の腐食防止等の効果も有する。絶縁膜15の厚さは、10nm〜100μmの範囲で形成すればよく、100nm〜10μmが最も適している。有機EL素子12の層構造は上記のものに限定されず、表示素子として機能するものであればよく、前述の実装体の第1の実施形態において記載した(1)〜(4)の層構造が挙げられる。
【0213】
尚、図30はトップエミッション方式の実装を示し、上部電極11は透明電極であるが、ボトムエミッション方式の場合は、有機EL素子12の積層順序が逆になり、下部電極7が透明電極となる。同様に、素子を構成する各層の材料も特に限定されるものではなく、表示素子が得られさえすれば種々の材料を使用することができる。
【0214】
次に、図30(c)に示すように、対向基板(保護基板)6を基板5と向かい合わせた時に有機EL素子12を囲むように、対向基板5の絶縁膜15と対応する位置にシート状封止材Sを貼り付けて基材16を剥離除去する。樹脂接着剤14の貼着に必要ならば、シート状封止材を加温又は加圧する。
【0215】
更に、図30(d)に示すように、対向基板(保護基板)6を基板5と向かい合わせて、露出した樹脂接着剤14を絶縁膜15に貼着する。この作業を乾燥窒素で置換したグローブボックス中で行うと、空気中の水分や酸素を2枚の基板間に閉じ込めることがないため、有機EL素子12の寿命の点から好ましい。
【0216】
図30(d)の樹脂接着剤14の軟化に必要ならば加熱し、図30(e)に示すように、対向基板6を基板5に抗して相対的に加圧して金属層2を基板5の絶縁膜15及び対向基板6に接触させ、芯材1を弾性圧縮させる。加圧圧力は10kPa〜50MPaが好適である。この状態で、樹脂接着剤14を流動状態から硬化させて接合を形成する。樹脂接着剤の硬化は、熱硬化性樹脂を用いた場合や架橋剤による硬化の場合は加熱、放射線硬化樹脂の場合は放射線照射が適用される。この結果、芯材1のスペーサとしての機能により基板5と対向基板6との間に保持される空間に有機EL素子12が封止されたEL表示装置としての実装体が得られる。この状態において、弾性圧縮状態の芯材1が元の形状に戻ろうとする力が働き、そのスプリング効果によって、金属層2が基板及び対向基板に押圧され密着する。又、樹脂接着剤の硬化収縮によってもスプリング効果が生じる。
【0217】
樹脂接着剤14の硬化によって接合が形成される前に、金属層2が熱により軟化又は溶融すると、金属層2の界面が被着体(基板)表面の微細な凹凸にも適合し、透湿防止性が高まる。
【0218】
シート状封止材は、図30(c)のように対向基板6に貼着する代わりに、前述の実施形態と同様に基板5の絶縁膜15に封止材を貼着して図30(d)のように組み立ててもよい。
【0219】
図30(b)のように基板5上にフィルム状封止材を貼り付けるときの代表的な封止材の配置形状を図31(a)〜(d)に示す。図31(a)は、4片のシート状封止材Sa〜dを四角形の有機EL素子12の各辺に沿って基板周縁部に配置する配置形状の平面図で、封止材は4点で交差する。図31(b)は、1片のシート状封止材Sが四角形の有機EL素子12の4辺に沿って基板周縁部1周する配置形状を示し、封止材は1点のみで交差する。図31(c)では、1片のシート状封止材Sが四角形の有機EL素子12の4辺に沿って基板周縁部を1周し、封止材は交差することなく両末端が重なる。図31(d)は、4片のシート状封止材Sa〜dを四角形の有機EL素子12の各辺に沿って基板周縁部に配置するが、2片Sb,dの両末端は他の2片Sa,cにT字状に当接し、交わらない。
【0220】
シート状封止材は、素子を外気から完全に遮断するように配置されればよいので、配置形状は上記の例に限られない。又、基板上に形成された表示素子を封止材で囲んで封止可能なものであれば、基板の形状はどの様な形状でもよい。
【0221】
図32は、封止材の封止確度を高めるために、幾何学的に閉じた形状にシート状封止材を成形した例を示し、この例のシート状封止材S’は、四角形の素子を囲むように四角環状に成形される。
【0222】
図33は、図30(a)〜(e)において有機EL素子の代わりに無機EL素子20を形成し、EL表示装置を製造する例を示す。図33(a)において図30(a)と同様に下部電極7を設けた基板5は、図33(b)において、絶縁膜21、発光層22、絶縁膜23及び電極(Al)24を積層して無機EL素子20を設け、封止する部分に絶縁膜15を設ける。シート状封止材で封止する図33(c)〜(e)の工程は、図30(c)〜(e)の工程と同様であるので説明は省略する。
【0223】
図34は、図30(a)〜(e)において有機EL素子の代わりに太陽電池素子30を形成した封止体を製造する例を示す。図34(a)において図30(a)と同様に下部電極7を設けた基板5は、図34(b)において、太陽電池素子30及び電荷輸送層31を積層し、封止する部分に絶縁膜15を設ける。シート状封止材で封止する図34(c)〜(e)の工程は、図30(c)〜(e)の工程と同様である。
【0224】
【実施例】
以下、実施例を参照して、本発明を説明する。但し、本実施例は、発明を限定するものではない。
【0225】
先ず、以下に示す記載に従って実装体を作製し、下記の評価方法によって、得られた実装体を評価した。評価結果を表1〜22に示す。尚、実装体の作製に用いた材料の物性は下記の測定方法に従って得た。
【0226】
[測定方法及び評価方法]
(1)プラスチックワイヤの圧縮弾性率
プラスチックワイヤの圧縮弾性率は、JIS K−7161に基づき、各プラスチックワイヤを融点以上で加熱・加圧してフィルム化し、ダンベルで所定形状に打ち抜いた後、(株)オリエンテック製、テンシロン/UTM−4−100を使って測定した。
【0227】
(2)プラスチックワイヤ、金属ワイヤ及び金属管ワイヤの平均線径、金属管ワイヤの肉厚
注形用エポキシ樹脂(エピコート828/トリエチレンテトラミン=10/1)中に金属被覆プラスチックワイヤ、金属ワイヤなどの芯材を投入して硬化させた後、ワイヤの部分が露出するまで注形樹脂の表面を研磨し、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製、S−4700)で観察した。画像処理によって線径を算出し、各サンプルについて10点の値をとってその平均値を平均線径とした。
【0228】
(3)金属の融点
ホットプレート上にサンプルを乗せ、5℃/分の昇温速度で加熱しながら、光学顕微鏡(オリンパス社製、BH−2)により倍率100倍で観察した。固体金属が100%液状化したときの温度を融点とした。
【0229】
(4)金属層の厚さ
平均線径の測定と同様に、注形用エポキシ樹脂中に金属被覆した芯材を投入して硬化させた後、芯材部分が露出するまで注形樹脂の表面を研磨し、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製、S−4700)で観察した。画像処理によって金属層の厚さを算出し、10点の値をとってその平均値を計算した。芯材が金属ワイヤの場合も同様にして、硬化樹脂中の芯材の断面を走査型電子顕微鏡で観察することにより測定した。その際、最外層の低融点金属層の厚さを金属層の厚さとした。
【0230】
(5)プラスチックワイヤ、金属ワイヤ、金属管の被覆率
平均線径の測定と同様に、注形用エポキシ樹脂中に金属被覆芯材を投入して硬化させた後、芯材部分が露出するまで注形樹脂の表面を研磨し、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製、S−4700)で観察した。画像処理により、金属によるワイヤの被覆率を算出し、10点の値の平均値をとった。
【0231】
(6)樹脂組成物の軟化温度
JIS K−7206に基づいて樹脂組成物のビカット軟化温度を測定した。
【0232】
(7)MI
JIS K−7210に基づいて、手動切り取り法により、測定温度125℃、試験荷重3.2Nで樹脂組成物のMIを測定した。
【0233】
(8)樹脂組成物の硬化温度
示差熱走査熱量計(パーキン・エルマー社製、DSC−2)を使って、5℃/分の昇温速度で熱量測定を行い、発熱ピーク時の温度を硬化温度とした。
【0234】
(9)樹脂組成物の塗布厚
(株)ピーコック社製の厚みゲージ(PDS−2)を使い、5点の値の平均値をとった。
【0235】
(10)透湿度
JIS K−7129(感湿センサ法)に準拠して、0.7mm厚のソーダガラス2枚の間を封止材で封止し、サンプルの封止材内外に湿度差を設け、室温における封止材内外の水蒸気量の変化を感湿センサで測定した。24hの間に高湿側から低湿側に移動した水蒸気の量を定量することによって透湿度を算出した。
【0236】
(11)接着力
各実施例及び比較例の条件に従って、0.7mm厚のソーダガラス2枚の間を封止材で封止し、レオメータ(不動工業(株)製、NRM−3002D−H)を使って、剥離速度50mm/分におけるせん断の接着強度を測定した。
【0237】
(12)ダークスポット面積比
CCDカメラを備えた光学顕微鏡(オリンパス社製、BH−2)で、倍率800倍で有機EL素子発光面を観察した。得られた画像を画像処理により二値化することによってダークスポット面積比を測定した。
【0238】
(実験A1) まず、表1に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、ポリスチレンペレットSD120(旭化成工業(株)製、弾性率1.8GPa)を融点以上に加熱溶融した後、徐冷してゲル状の球晶を得た。この集積物を圧縮成形して得られた厚さ5mmのシートを直径1mmのダイを通して超延伸し、平均線径1mm、長さ0.1mのポリスチレン製のプラスチックワイヤを得た。得られたポリスチレンワイヤ上に、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解ニッケルめっき液中でニッケル層を0.2μm析出させた。その後、常法により、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆層の厚さが100μmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ポリスチレンワイヤを、25mm×100mmのソーダガラスの周辺に配置し、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)を、ディスペンサーにて樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=1.0mm)になるようにはんだ被覆ポリスチレンワイヤの両側に塗布した。樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスを向かい合わせにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用のサンプルとした。一方、100mm×100mmのソーダガラス上の4辺にはんだ被覆ポリスチレンワイヤを配置し、樹脂層及びはんだ被覆ポリスチレンワイヤの幅の合計が2mmになるようにはんだ被覆ポリスチレンワイヤの両側に樹脂厚が1.0mmの該エポキシ樹脂組成物を塗布した。その後、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用のサンプルとした。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0239】
(実験a1) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A1で使用したポリスチレンワイヤの線径を7mmのものを使用した以外は、すべて実験A1と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a1を実験例A1と対比すると、実験a1では透湿度が高くなり、プラスチックワイヤの線径は1.0mmの方が7.0mmより適していることが分かる。
【0240】
(実験A2) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりに、ポリエチレン(製鉄化学(株)製、フロービーズCL12007、平均粒径1.0mm)を使い、実験A1と同様に、超延伸法により、平均線径2.0mm、長さ0.1mのポリエチレン製のプラスチックワイヤを得た。得られたワイヤ上に、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解ニッケルめっき液中で、ニッケル層を0.2μm析出させた。その後、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が3.0mmになるまで電解めっきを施した。樹脂として70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)を用い、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比を125%(=2.5mm)とし、樹脂の硬化は実験A1の硬化温度での加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射によって行い、それ以外は実験A1と同様にして、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0241】
(実験a2) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A2で使用したポリエチレンワイヤに代えて、圧縮弾性率が0.1GPaで線径が1.0mmのポリエチレンワイヤを使用し 樹脂塗布厚の対ワイヤ径比を100%とした以外はすべて実験A2と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a2を実験A2と対比すると、実験a2では透湿度が高くなり、芯材の圧縮弾性率は0.5GPaの方が0.10Gpaより適していることが分かる。
【0242】
(実験A3) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりに、PMMAペレット(三菱レーヨン(株)製、アクリルペレットIRD−50、平均粒径5.0mm)を用いて平均線径5.0mm、長さ0.1mのPMMA製のプラスチックワイヤを作製し、被覆金属としてIn/Cdの代わりに共晶はんだTI/Na=93.7/6.3(融点238℃)を用い、共晶はんだを金属の融着によりワイヤ上に被覆し、ダイヤモンドダイスによりはんだ被覆厚が3.0mmになるように調節した。更に、樹脂組成物としてエポキシ樹脂に代えてフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)を使用し、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は150%(=7.5mm)として、実験A1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、実験A1と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0243】
(実験a3) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A3で使用した被覆金属をPb100%のものに代えたこと以外はすべて実験A3と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a3を実験A3と対比すると、実験a3では透湿度が高くなり、被覆金属の組成は、TI/NA=93.7/6.3 の方が鉛(Pb)100%よりも適していることが分かる。
【0244】
(実験A4) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりに66ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM3007、平均粒径0.5mm)を用いて平均線径0.5mmのワイヤを作製し、被覆金属としてIn/Cdの代わりに共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を用いて、金属の融着により共晶はんだをワイヤ上に被覆し、ダイヤモンドダイスによりはんだ被覆厚が1.0mmになるように調節した。更に、樹脂組成物としてエポキシ樹脂に代えてメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)を使用し、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=0.5mm)として、実験A1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0245】
(実験a4) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A4で使用した金属の厚さを7mmとした以外は、すべて実験A4と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a4を実験A4と対比すると、実験a4では接着力が低くなり、金属の厚さは1.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0246】
(実験A5) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリエステルのペレット(東レ(株)製、シベラスL204G35、平均粒径0.3mm)を用いて線径10mmのワイヤを作製し、In/Cdの代わりに共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を0.05mm厚に被覆した。樹脂組成物としてエポキシ樹脂に代えてキシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用し、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は80%(=8mm)になるようにして、実験A1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、実験A1と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0247】
(実験a5) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A5で使用した低融点金属によるプラスチックワイヤの被覆率を40%とした以外は、すべて実験A5と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a5を実験A5と対比すると、実験a5では透湿度が高くなり、金属によるプラスチックワイヤの被覆率は99%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0248】
(実験A6) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリプロピレンのペレット(住友化学(株)製、ノーブレンH501、平均粒径0.03mm)を用いて線径0.5mmのワイヤを作製し、In/Cdの代わりに共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用して、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=0.5mm)になるようにして、実験A1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0249】
(実験a6) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A6で使用したプラスチックワイヤの線径を0.03mmとした以外は、すべて実験A6と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして図15に示す条件のもと、特性試験を行い、図15に示す結果を得た。この実験a6を実験A6と対比すると、実験a6では透湿度が高くなり、プラスチックワイヤの線径としては0.5mmの方が0.03mmよりも適していることが分かる。
【0250】
(実験A7) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリ塩化ビニルのペレット(東ソー(株)製、リューロンペースト772、平均粒径0.05mm)を用いて線径1mmのワイヤを作製し、In/Cdの代わりに共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を被覆し、更に樹脂組成物としてエポキシ樹脂に代えてアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=1.0mm)として、樹脂の硬化は実験A1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射によって行い、それ以外は実験A1と同様に接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0251】
(実験a7) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A7で使用した基板に樹脂を塗布する樹脂厚の対ワイヤ径比を500%(=5.0mm)とした以外はすべて実験A7と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a7を実験A7と対比すると、実験a7では透湿度が高くなり、基板に樹脂を塗布する厚みは、1.0mmの方が5.0mmよりも適していることが分かる。
【0252】
(実験A8) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりに6ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM1007、平均粒径0.5mm)を用いて線径0.2mmのワイヤを作製し、In/Cdの代わりに共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を被覆した。ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=200μm)として、それ以外は実験A1と同様にして、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0253】
(実験a8) 表4に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験A8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験A8と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表4に示す条件のもと、評価試験を行い、表4に示す結果を得た。この実験a8を実験A8と対比すると、実験a8ではEL素子が黒色に変色してしまうという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化してしまったことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0254】
(実験A9) 表1に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験A1で使用したポリスチレンペレットの代わりに6ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM1007、平均粒径0.5mm)を用いて線径0.2mmのワイヤを作製し、In/Cdの代わりに共晶はんだSn/In=48/62(融点117℃)を被覆して条部材を得た。ソーダガラス上に実験A1と同様のエポキシ樹脂を0.2mmの樹脂厚で塗布した後に、樹脂の上に条部材を載せ、それ以外は実験A1と同様にして、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表1に示す条件のもと、評価試験を行い、表1に示す結果を得た。
【0255】
(実験B1) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、金属銅のインゴットを1100℃で融解し、水を貯めた回転ドラムの内側にノズルから融液を噴出させた。固化した銅繊維を遠心力によってドラムの内側に巻いて、線径1.5mm、長さ1mの銅ワイヤを作製した。得られた銅ワイヤ上に、常法により、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1.2mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆銅ワイヤを25mm×100mmのソーダガラスの周部に配置し、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)を、はんだ被覆銅ワイヤの両側の基板上に樹脂厚の対ワイヤ径比が150%(=1.5mm)になるようにディスペンサーにて塗布した。樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスが向かい合わせになるようにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用のサンプルとした。一方、100mm×100mmのソーダガラス上の4辺にはんだ被覆銅ワイヤを配置し、樹脂層とはんだ被覆銅ワイヤの幅の合計が2mm幅になるように該エポキシ樹脂組成物を1.0mmの樹脂厚ではんだ被覆銅ワイヤの両側に塗布した。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用のサンプルとした。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0256】
(実験b1) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B1で使用した銅線の代わりに線径が0.01mmの銅線を使用し、樹脂厚の対ワイヤ径比を100%(=0.01mm)とした以外は、すべて実験B1と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b1を実験B1と対比すると、実験b1では透湿度が高くなるとともに、接着力も弱くなり、金属ワイヤの線径としては、1.0mmの方が0.01mmよりも適していることが分かる。
【0257】
(実験B2) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使って、実験B1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのステンレスワイヤを得た。得られたワイヤ上に、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1.5mmになるまで電解めっきを施した。樹脂として70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)を用い、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比を200%(=1mm)とし、樹脂の硬化を実験A1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射によって行い、それ以外は実験B1と同様にして、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0258】
(実験b2) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B2で使用した共晶はんだの組成をPb100%とした以外はすべて実験B2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b2を実験B2と対比すると、実験b2では透湿度が高くなり、被覆金属の組成としてはPb/Sn=5/95の方がPb100%よりも適していることが分かる。
【0259】
(実験B3) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりに鉄を使って、実験B1と同様にして平均線径10mm、長さ1.0mの鉄線を得た。得られたワイヤ上に、共晶はんだBi/In=67/33(融点109℃)を用いて、被覆したワイヤの直径が16mmになるように共晶はんだを融着した。はんだ被覆鉄線を25mm×100mmのソーダガラスの周辺に配置し、70℃に加熱溶融したフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)を、はんだ被覆鉄線の両側に樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=10mm)となるように塗布した。以下、実験B1と同様にして、樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0260】
(実験b3) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B3で使用した低融点金属の金属層の厚さを7.0mmとした以外はすべて実験B3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作成した。そして、表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b3を実験B3と対比すると、実験b3では透湿度が高くなってしまい、被覆金属層の厚さとしては3.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0261】
(実験B4) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりにアルミを使い、実験B1と同様にして、平均線径1.0mm、長さ1.0mのアルミワイヤを得た。得られたワイヤ上に、共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を用いて、被覆したワイヤの直径が3.0mmになるように共晶はんだを融着した。70℃に加熱溶融したメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)を、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比を100%(=1.0mm)とし、以下、実験B1と同様にして、樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0262】
(実験b4) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B4で使用した金属被覆したアルミワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験B4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b4を実験B4と対比すると、実験b4では透湿度が高くなり、金属によるアルミワイヤ被覆率は、100%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0263】
(実験B5) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりにニッケルを使い、実験B1と同様にして平均線径1.0mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。得られたワイヤ上に、共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、キシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用した。ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=1.0mm)になるようにして、実験11と同様に、樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0264】
(実験b5) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B5で使用した金属ワイヤを線径10mmの鉛に代え、樹脂厚を10mmとした以外はすべて実験B5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b5を実験B5と対比すると、実験b5ではワイヤ線が断線するなどの異常が発見された。従って、金属ワイヤの種類及び線径としては、ニッケルで線径1.0mmのもの方が鉛で線径10mmのものよりも適していることが分かる。
【0265】
(実験B6) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験B1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのステンレスワイヤを得た。得られたワイヤ上に、共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を被覆した。更に、樹脂組成物として、ポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用した。ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=0.5mm)になるようにして、実験B1と同様に、樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0266】
(実験b6) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B1で使用した金属ワイヤを線径30mmの銅線、樹脂厚を30mmとした以外は、すべて実験B1と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b6を実験B1と対比すると、実験b6では透湿度が高くなり、金属ワイヤの線径は、線径1.0mmのものの方が線径30.0mmのものよりも適していることが分かる。
【0267】
(実験B7) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験B1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのステンレスワイヤを得た。得られたワイヤ上に、共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、アクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用した。ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は140%(=0.7mm)とし、樹脂の硬化は実験B1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験B1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0268】
(実験b7) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B3で使用した被覆金属層の厚さを0.0005mmとした以外はすべて実験B3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b7を実験B3と対比すると、実験b7では透湿度が高くなり、被覆金属層の厚さは0.3mmの方が0.0005mmよりも適していることが分かる。
【0269】
(実験B8) 表2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験B1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのステンレスワイヤを得た。得られたワイヤ上に、共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を被覆し、樹脂組成物として、実験B1と同じエポキシ樹脂を使用し、ソーダガラスに配置する樹脂厚の対ワイヤ径比は100%(=0.5mm)になるようにして、実験B1と同様に、樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表2に示す条件のもと、評価試験を行い、表2に示す結果を得た。
【0270】
(実験b8) 表5に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験B8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験B8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表5に示す条件のもと、評価試験を行い、表5に示す結果を得た。この実験b8を実験B8と対比すると、実験b8ではEL素子が黒色に変色してしまうという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化してしまったことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0271】
(実験C1) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験B1と同様にして、金属銅のインゴットを1100℃で融解し、水を貯めた回転ドラムの内側にノズルから融液を噴出させた。ただし、ノズル口の断面形状を円環状とすることにより、芯材として、実験B1の銅線の代わりに、中空構造の銅ワイヤが得られた。次に、固化した中空銅ワイヤ(銅管線)を遠心力によってドラムの内側に巻いて、線径1mm、肉厚0.1mm、長さ1mの銅管線を作製した。得られた銅管線上に、実験B1と同様にして、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆銅管線の直径が1.2mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆銅管線を、25mm×100mmのソーダガラスの周部に配置し、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)を、はんだ被覆銅管線の両側に樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=1.0mm)になるようにディスペンサーにて塗布した。樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスが向かい合わせになるようにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用のサンプルとした。一方、100mm×100mmのソーダガラス上の4辺にはんだ被覆銅管線を配置し、該エポキシ樹脂組成物を、樹脂層とはんだ被覆銅管線の幅の合計が2mm幅になるようにはんだ被覆銅管線の両側の基板上に1.0mmの樹脂厚で塗布した。その後、80℃、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、100℃、3Mpaで60分間加熱加圧して透湿度測定用のサンプルとした。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0272】
(実験c1) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C1で使用した銅線の線径を0.04mm、肉厚を0.01mmに変更した以外はすべて実験C1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c1を実験C1と対比すると、実験c1では透湿度が高くなり、接着力も弱くなり、金属管の線径が1.0mmで肉厚が0.1mmの方が線径が0.04mmで肉厚が0.01mmよりも適していることが分かる。
【0273】
(実験C2) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験C1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.05mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られたワイヤ上に、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆管ワイヤの直径が1.5mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたワイヤをソーダガラスの周部に配置し、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)の樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=0.5mm)となるようにワイヤの両側に塗布し、樹脂の硬化は、実験C1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験C1と同様にして、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0274】
(実験c2) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C2で使用した共晶はんだの組成をPb100%に変更した以外はすべて実験C2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c2を実験C2と対比すると、実験c2では透湿度が高くなり、被覆金属の組成はPb/Sn=5/95の方がPb100%よりも適していることが分かる。
【0275】
(実験C3) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりに鉄を使い、実験C1と同様にして平均線径10mm、管の肉厚0.5mm、長さ1.0mの鉄管線を得た。得られた鉄管線に共晶はんだBi/In=67/33(融点109℃)を融着して、管線の直径が16mmになるように共晶はんだを被覆した。樹脂として、70℃に加熱溶融したフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)を使用し、基板上に配置する樹脂厚を10mmとしたこと以外は実験C1と同様にして、樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0276】
(実験c3) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C3で使用した低融点金属の金属層の厚さを7.0mmに変更した以外はすべて実験C3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c3を実験C3と対比すると、実験c3では透湿度が高くなり、低融点金属の金属層の厚さは、3.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0277】
(実験C4) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりにアルミを使い、実験C1と同様にして、平均線径1.0mm、管の肉厚0.2mm、長さ1.0mのアルミ管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を融着して、管ワイヤの直径が3.0mmになるように共晶はんだで被覆した。樹脂として、70℃に加熱溶融したメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)を用い、基板上に配置される樹脂厚の対ワイヤ径比を100%(=1.0mm)とした以外は実験C1と同様にして、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0278】
(実験c4) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C4で使用した金属被覆アルミ管ワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験C4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c4を実験C4と対比すると、実験c4では透湿度が高くなり、金属によるアルミ管ワイヤの被覆率は100%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0279】
(実験C5) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりにニッケルを使い、実験C1と同様にして平均線径1.0mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのニッケル管ワイヤを得た。得られた管ワイヤを、共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)で被覆し、樹脂組成物として、キシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を用いて樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=1.0mm)になるようにワイヤ両側の基板上に配置し、実験C1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0280】
(実験c5) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C5で使用した金属管ワイヤを線径10mmの鉛管ワイヤとした以外はすべて実験C5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c5を実験C5と対比すると、実験c5ではワイヤ線が断線するなどの異常が発見された。従って、金属管ワイヤの種類及び線径としては、ニッケルで線径が1.0mmのもの方が鉛で線径10mmのものよりも適していることが分かる。
【0281】
(実験C6) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験C1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤを共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)で被覆して、樹脂組成物として、ポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を用いて、ソーダガラス上に配置する樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=0.5mm)になるようにして、実験C1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0282】
(実験c6) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C1で使用した管状銅線の肉厚を0.005mmとしたこと以外はすべて実験C1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c6を実験C1と対比すると、実験c6では透湿度が高くなってしまい、金属ワイヤ管の肉厚は、肉厚0.1mmのものの方が肉厚が0.005mmのものよりも適していることが分かる。
【0283】
(実験C7) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験C1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤを、共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)で被覆して、樹脂組成物として、アクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を用いて樹脂厚の対ワイヤ径比が140%(=0.7mm)となるようにワイヤ両側の基板上に配置した。樹脂の硬化は、実験C1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験C1と同様に、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0284】
(実験c7) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C3で使用した被覆金属層を電解めっきで0.0005mmの厚さに形成した以外はすべて実験C3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c7を実験C3と対比すると、実験c7では透湿度が高くなり、被覆金属層の厚さは、0.3mmの方が0.0005mmよりも適していることが分かる。
【0285】
(実験C8) 表3に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験C1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験C1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤを、共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)で被覆して、樹脂組成物として実験C1と同じエポキシ樹脂を使用して樹脂厚の対ワイヤ径比が100%(=0.5mm)になるようにワイヤの両側の基板上に配置して、実験C1と同様に、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表3に示す条件のもと、評価試験を行い、表3に示す結果を得た。
【0286】
(実験c8) 表6に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験C8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験C8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表6に示す条件のもと、評価試験を行い、表6に示す結果を得た。この実験c8を実験C8と対比すると、実験c8ではEL素子が黒色に変色してしまうという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化してしまったことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0287】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
(実験D1) 表7に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、ポリスチレンペレットSD120(旭化成工業(株)製、弾性率1.8GPa)を融点以上に加熱溶融した後、徐冷してゲル状の球晶を得た。この集積物を圧縮成形して得られた厚さ5mmのシートを直径1mmのダイを通して超延伸し、平均線径1mm、長さ0.1mのポリスチレン製のプラスチックワイヤを得た。得られたポリスチレンワイヤに、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解ニッケルめっき液中で、ニッケル層を0.2μm析出させた。その後、常法により、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1200μmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ポリスチレンワイヤを、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)中に浸漬し、樹脂厚が10μmになるまでワイヤ上に溶着させて封止材を得た。得られた封止材を、25mm×100mmのソーダガラスの周部に貼り付け、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスを向かい合わせにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用サンプルとした。一方、封止材を、100mm×100mmのソーダガラス上の4辺に貼り付けた。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで60分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用サンプルとした。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0288】
(実験d1) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D1で使用したポリスチレンワイヤの線径を7mmのものに変更した以外は、すべて実験D1と同様にして接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d1を実験D1と対比すると、実験d1では透湿度が高く、プラスチックワイヤの線径は、0.1mmの方が7mmより適していることが分かる。
【0289】
(実験D2) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりに、ポリエチレン(製鉄化学(株)製、フロービーズCL12007、平均粒径1.0mm)を使い、実験D1と同様に超延伸法により、平均線径2.0mm、長さ0.1mのポリエチレン製のプラスチックワイヤを得た。得られたワイヤに、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解ニッケルめっき液中で、ニッケル層を0.2μm析出させた。その後、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が3mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ポリエチレンワイヤを、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)中に浸漬し、樹脂厚が25μmになるまでワイヤ上に溶着させて封止材を得た。以下、実験D1と同様にして、封止材をソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験D1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験D1と同様にして、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0290】
(実験d2) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D2で使用したポリエチレンワイヤを圧縮弾性率が0.1GPaのものに変更した以外はすべて実験D2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d2を実験D2と対比すると、実験d2では透湿度が高かった。圧縮弾性率は、0.5GPaの方が0.10Gpaより適していることが分かる。
【0291】
(実験D3) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりにPMMAペレット(三菱レーヨン(株)製、アクリルペレットIRD−50、平均粒径5.0mm)を用いて線径5mmの芯材とし、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだTI/Na=93.7/6.3(融点238℃)を用い、金属の融着によりワイヤ上に被覆し、ダイヤモンドダイスにより樹脂厚が50μmになるように調節した。更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)を使用して封止材を得、その他については実験D1と同様にして、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0292】
(実験d3) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D3で使用した被覆金属をPb100%のものに変更した以外はすべて実験D3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d3を実験D3と対比すると、実験d3では透湿度が高かった。被覆金属の組成としては、TI/NA=93.7/6.3の方が鉛(Pb)100%よりも適していることが分かる。
【0293】
(実験D4) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりに66ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM3007、平均粒径0.5mm)を用いて線径0.5mmの芯材とし、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を用い、金属の融着によりワイヤ上に被覆し、ダイヤモンドダイスにより樹脂厚が5μmになるように調節した。更に、樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)を使用して封止材を得た。その他については実験D1と同様にして、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0294】
(実験d4) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D4で使用した被覆金属の厚さを7mmに変更した以外はすべて実験D4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d4を実験D4と対比すると、実験d4では接着力が低く、取り扱い時に基板が剥離した。被覆金属の厚さとしては1.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0295】
(実験D5) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリエステルのペレット(東レ(株)製、シベラスL204G35、平均粒径0.3mm)を用いて線径10mmの芯材とし、被覆金属としてIn/Cdの代わりに共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を用いて0.05mm厚で被覆した。更に、樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてキシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用し、樹脂厚は20μmになるようにして封止材を作製し、実験D1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0296】
(実験d5) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D5で使用した金属被覆プラスチックワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験D5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d5を実験D5と対比すると、実験d5では透湿度が高かった。金属によるプラスチックワイヤの被覆率は99%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0297】
(実験D6) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリプロピレンのペレット(住友化学(株)製、ノーブレンH501、平均粒径0.03mm)を用いて線径0.5mmの芯材とし、被覆金属としてIn/Cdの代わりに共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を用いて0.015mm厚で被覆した。更に、樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用し、樹脂厚は20μmになるようにして封止材を作製し、実験D1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0298】
(実験d6) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D6で使用したプラスチックワイヤを線径が0.03mmのものに変更した以外は、すべて実験D6と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d6を実験D6と対比すると、実験d6では透湿度が高かった。プラスチックワイヤの線径は0.5mmの方が0.03mmよりも適していることが分かる。
【0299】
(実験D7) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリ塩化ビニルのペレット(東ソー(株)製、リューロンペースト772、平均粒径0.05mm)を用いて線径10mmの芯材とし、被覆金属としてIn/Cdの代わりに共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を用いて0.3mm厚に被覆し、更に、樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、樹脂厚は20μmになるようにして封止材を作製した。樹脂の硬化は実験1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験D1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0300】
(実験d7) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D7で使用した金属被覆プラスチックワイヤに樹脂を塗布する厚みを1.5mmに変更した以外はすべて実験D7と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d7を実験D7と対比すると、実験d7では透湿度が高かった。低融点金属被覆プラスチックワイヤに塗布する樹脂の厚みは、0.02mmの方が1.5mmよりも適していることが分かる。
【0301】
(実験D8) 表7に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験D1で使用したポリスチレンペレットの代わりに6ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM1007、平均粒径0.5mm)を用いて線径0.2mmの芯材とし、被覆金属としてIn/Cdの代わりに共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を使用して0.5mm厚に被覆した。更に、樹脂厚が20μmとなるようにエポキシ樹脂を被覆して封止材を作製し、実験D1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表7に示す条件のもと、評価試験を行い、表7に示す結果を得た。
【0302】
(実験d8) 表10に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験D8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験D8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験d8を実験D8と対比すると、実験d8ではEL素子が黒色に変色する異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化してしまったことが分かった。従って、樹脂組成物を硬化する温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0303】
(実験E1) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、金属銅のインゴットを1100℃で融解し、水を貯めた回転ドラムの内側にノズルから融液を噴出させた。固化した銅繊維を遠心力によってドラムの内側に巻いて、線径1mm、長さ1mの銅ワイヤを作製した。得られた銅ワイヤ上に、常法により、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1.2mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆銅ワイヤを、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)中に浸漬し、樹脂厚が10μmになるまでワイヤ上に溶着させて封止材を得た。得られた封止材を、25mm×100mmのソーダガラスの周部に貼り付け、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスを向かい合わせにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで60分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用サンプルとした。一方、封止材を100mm×100mmのソーダガラス上の4辺に貼り付けた。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用サンプルとした。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0304】
(実験e1) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E1で使用した銅線の線径を0.01mmのものに変更した以外はすべて実験E11と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表11に示す条件のもと、評価試験を行い、表11に示す結果を得た。この実験e1を実験E1と対比すると、実験e1では透湿度が高くなるとともに、接着力も弱くなった。金属ワイヤの線径は、1.0mmの方が0.01mmよりも適していることが分かる。
【0305】
(実験E2) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりにステンレスを用いて、実験11と同様の方法で平均線径0.5mm、長さ1.0mのステンレスワイヤを得た。得られたワイヤ上に、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1.5mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ステンレスワイヤを、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)中に浸漬して樹脂厚が25μmになるまでワイヤ上に溶着させ、封止材を得た。封止材を実験E1と同様にソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は、実験11の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験E1と同様にして、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0306】
(実験e2) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E2で使用した共晶はんだの組成をPb100%に変更した以外はすべて実験E2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験e2を実験E2と対比すると、実験e2では透湿度が高かった。被覆金属の組成としてはPb/Sn=5/95の方がPb100%よりも適していることが分かる。
【0307】
(実験E3) 表E2に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりに鉄を用いて、実験E1と同様の方法で平均線径10mm、長さ1.0mの鉄線を得た。得られたワイヤに、共晶はんだBi/In=67/33(融点109℃)を融着してワイヤの直径が16mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆鉄線を、70℃に加熱溶融したフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)中に浸漬し、樹脂をワイヤ上に溶着させた。樹脂の溶着厚はダイヤモンドダイスにより50μmになるように調節した。以下、実験E1と同様にして、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0308】
(実験e3) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E3で使用した被覆金属層の厚さを7.0mmとした以外はすべて実験E3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作成した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験e3を実験E3と対比すると、実験e3では透湿度が高かった。被覆金属層の厚さは、3.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0309】
(実験E4) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりにアルミを使い、実験E1と同様の方法で平均線径1.0mm、長さ1.0mのアルミワイヤを得た。得られたワイヤに共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を融着してワイヤの直径が3.0mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆アルミワイヤを、70℃に加熱溶融したメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)中に浸漬し、樹脂厚が5μmになるまでワイヤ上に溶着させ、封止材を得た。以下、実験E1と同様にして、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0310】
(実験e4) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E4で使用した金属被覆アルミワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験E4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表11に示す条件のもと、評価試験を行い、表11に示す結果を得た。この実験e4を実験E4と対比すると、実験e4では透湿度が高かった。はんだによるアルミワイヤの被覆率は、100%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0311】
(実験E5) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりにニッケルを使い、実験E1と同様にして平均線径1.0mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。被覆金属として、共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を、樹脂組成物として、キシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用し、樹脂厚は20μmになるようにして、得られたワイヤを被覆した。実験E1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0312】
(実験e5) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E5で使用した金属ワイヤを線径10mmの鉛とした以外はすべて実験E5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表11に示す条件のもと、評価試験を行い、表11に示す結果を得た。この実験e5を実験E5と対比すると、実験e5ではワイヤ線が断線するなどの異常が発見された。従って、金属ワイヤの種類及び線径は、線径1.0mmのニッケル線の方が線径10mmの鉛線よりも適していることが分かる。
【0313】
(実験E6) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験E1と同様にして平均線径0.5 mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を0.015mm厚に被覆し、樹脂組成物として、ポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用して、樹脂厚は20μmになるようにして被覆し、封止材を得た。更に、実験E1と同様にして、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0314】
(実験e6) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E1で使用した金属ワイヤを線径30mmの銅線に変更した以外はすべて実験E1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表11に示す条件のもと、評価試験を行い、表11に示す結果を得た。この実験e6を実験E1と対比すると、実験e6では透湿度が高かった。金属ワイヤの線径は、線径1.0mmのものの方が線径30.0mmのものよりも適していることが分かる。
【0315】
(実験E7) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験E1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を得られたワイヤに被覆し、樹脂組成物としてアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、樹脂厚は20μmとなるように被覆して、封止材を得た。実験E1と同様に封止材をソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験E1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験E1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0316】
(実験e7) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E3で使用した被覆金属層の厚さを0.0005mmとした以外はすべて実験E3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表11に示す条件のもと、評価試験を行い、表11に示す結果を得た。この実験e7を実験E3と対比すると、実験e7では透湿度が高かった。被覆金属層の厚さは、0.3mmの方が0.0005mmよりも適していることが分かる。
【0317】
(実験E8) 表8に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験E1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験E1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)をワイヤに被覆し、樹脂組成物として実験E1と同じエポキシ樹脂を使用し、樹脂厚は20μmになるように、得られたワイヤに被覆し、封止材を得た。更に、実験E1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表8に示す条件のもと、評価試験を行い、表8に示す結果を得た。
【0318】
(実験e8) 表11に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験E8で使用した樹脂組成物の硬化温度を215℃とした以外はすべて実験E8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表11に示す条件のもと、評価試験を行い、表11に示す結果を得た。この実験e8を実験E8と対比すると、実験e8ではEL素子が黒色に変色するという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化してしたことが分かった。従って、樹脂組成物を硬化する温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0319】
(実験F1) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1と同様にして、金属銅のインゴットを1100℃で融解し、水を貯めた回転ドラムの内側にノズルから融液を噴出させた。ただし、ノズル孔の断面形状を円環状として、中空の銅線が得られた。次に、固化した中空銅ワイヤ(銅管線)を遠心力によってドラムの内側に巻いて、線径1mm、管の肉厚0.1mm、長さ1mの銅管線を作製した。得られた銅管線に、実験1と同様にして、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆銅管線の直径が1.2mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆銅管線を、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)中に浸漬し、樹脂厚が10μmになるまでワイヤ上に溶着させ、封止材を得た。得られた封止材を、25mm×100mmのソーダガラスの周辺に貼り付け、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスが向かい合わせになるようにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して接着力測定用サンプルとした。一方、封止材を100mm×100mmのソーダガラス上の4辺に貼り付けた。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して透湿度測定用のサンプルとした。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0320】
(実験f1) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F1で使用した銅線の線径を0.04mmのものを使用した以外は、すべて実験F1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f1を実験F1と対比すると、実験f1では透湿度が高くなるとともに、接着力も弱かった。金属管ワイヤの線径は、1.0mmで肉厚が0.1mmの方が線径が0.04mmで肉厚が0.01mmよりも適していることが分かる。
【0321】
(実験F2) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験F2と同様にして、平均線径0.5mm、管の肉厚0.05mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られたワイヤに、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆管ワイヤの直径が1.5mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ステンレス管ワイヤを、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)中に浸漬し、樹脂厚が25μmになるまでワイヤ上に溶着させ、封止材を得た。更に、実験F1と同様にして封止材をソーダガラス上に配置して、樹脂の硬化は実験F1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験F1と同様にして、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0322】
(実験f2) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F2で使用した共晶はんだに代えてPb100%とした以外はすべて実験F2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f2を実験F2と対比すると、実験f2では透湿度が高かった。被覆金属の組成はPb/Sn=5/95の方がPb100%よりも適していることが分かる。
【0323】
(実験F3) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりに鉄を使い、実験F1と同様にして平均線径10mm、管の肉厚0.5mm、長さ1.0mの鉄管線を得た。得られた鉄管線に共晶はんだBi/In=67/33(融点109℃)を融着し、被覆管線の直径が16mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆鉄管線を、70℃に加熱溶融したフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)中に浸漬し、樹脂を鉄管線上に溶着させた。樹脂の溶着厚は、ダイヤモンドダイスにより5μmになるように調節した。以下、実験F1と同様にして、ソーダガラス上での樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0324】
(実験f3) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F3で使用した金属被覆管線の金属層の厚さを7.0mmとした以外はすべて実験F3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f3を実験F3と対比すると、実験f3では透湿度が高かった。被覆金属層の厚さは、3.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0325】
(実験F4) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりにアルミを使い、実験F1と同様にして平均線径1.0mm、管の肉厚0.2mm、長さ1.0mのアルミ管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を融着して被覆管ワイヤの直径が3.0mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆アルミ管ワイヤを、70℃に加熱溶融したメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)中に浸漬し、樹脂厚が0.2mmになるまで管ワイヤ上に溶着させ、封止材を得た。以下、実験F1と同様にして、ソーダガラス上での樹脂の軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0326】
(実験f4) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F4で使用した金属によるアルミ管ワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験F4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f4を実験F4と対比すると、実験f4では透湿度が高かった。被覆金属による金属管ワイヤの被覆率は100%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0327】
(実験F5) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりにニッケルを使い、実験F1と同様にして平均線径1.0mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのニッケル管ワイヤを得た。得られた管ワイヤを、共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)で被覆し、更に樹脂組成物として、キシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用して、樹脂厚が20μmになるように被覆して封止材を得た。実験F1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0328】
(実験f5) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F5で使用した金属管ワイヤを線径10mmの鉛管ワイヤとした以外はすべて実験F5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f5を実験F5と対比すると、実験f5ではワイヤ線が断線するなどの異常が発見された。従って、金属管ワイヤの種類及び線径は、ニッケル製の線径が1.0mmのもの方が鉛製の線径10mmのものよりも適していることが分かる。
【0329】
(実験F6) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験F1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、ポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用して樹脂厚が20μmになるように被覆して封止材を得た。実験F1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0330】
(実験f6) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F1で使用した金属管ワイヤを肉厚が0.005mmの銅線に変更した以外はすべて実験F1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表10に示す条件のもと、評価試験を行い、表10に示す結果を得た。この実験f6を実験F1と対比すると、実験f6では透湿度が高かった。金属ワイヤ管の種類及びその線径としては、ステンレス製の線径0.1mmのものの方が銅製の線径が0.005mmのものよりも適していることが分かる。
【0331】
(実験F7) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験F1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、アクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用して樹脂厚は20μmとなるよう被覆して封止材を得た。実験F1と同様に封止材をソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験F1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験21と同様に、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0332】
(実験f7) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F3で使用した被覆金属層を電解めっきで0.0005mmの厚さとした以外はすべて実験F3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f7を実験F3と対比すると、実験f7では透湿度が高かった。被覆金属層の厚さは、0.3mmの方が0.0005mmよりも適していることが分かる。
【0333】
(実験F8) 表9に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験F1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験F1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を被覆し、樹脂組成物として、実験F1と同じエポキシ樹脂を使用して樹脂厚が0.2mmになるように被覆して封止材を得た。実験F1と同様に、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表9に示す条件のもと、評価試験を行い、表9に示す結果を得た。
【0334】
(実験f8) 表12に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験F8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験F8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表12に示す条件のもと、評価試験を行い、表12に示す結果を得た。この実験f8を実験F8と対比すると、実験f8ではEL素子が黒色に変色するという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化したことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0335】
【表7】
【表8】
【表9】
【表10】
【表11】
【表12】
(実験G1) 表13に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、ポリスチレンペレットSD120(旭化成工業(株)製、弾性率1.8GPa)を融点以上に加熱溶融した後、徐冷してゲル状の球晶を得た。この集積物を圧縮成形して得られた厚さ5mmのシートを直径1mmのダイを通して超延伸し、平均線径1mm、長さ0.1mのポリスチレン製のプラスチックワイヤを得た。得られたポリスチレンワイヤに、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解ニッケルめっき液中でニッケル層を0.2μm析出させた。その後、常法により、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が200μmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られた、はんだ被覆ポリスチレンワイヤを、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)中に浸漬し、樹脂厚が10μmになるまでワイヤ上に溶着させた。樹脂及びはんだで被覆したポリスチレンワイヤ二本を平行に接触配置し、80℃に加熱して融着し、封止材とした。得られた封止材を、25mm×100mmのソーダガラスの周部に貼り付け、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスを向かい合わせににして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用サンプルとした。一方、封止材を、100mm×100mmのソーダガラス上の4辺に貼り付けた。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用サンプルとした。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0336】
(実験g1) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G1で使用したポリスチレンワイヤの線径を7mmに変更した以外はすべて実験G1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g1を実験例G1と対比すると、実験g1では透湿度が高くなり、プラスチックワイヤの線径は0.1mmの方が0.7mmより適していることが分かる。
【0337】
(実験G2) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリエチレン(製鉄化学(株)製、フロービーズCL12007、平均粒径1.0mm)を用いて実験G1と同様に超延伸法により平均線径2.0mm、長さ0.1mのポリエチレン製のプラスチックワイヤを得た。得られたワイヤに、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解ニッケルめっき液中でニッケル層を0.2μm析出させた。その後、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が0.7mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られた、はんだ被覆ポリエチレンワイヤを、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)中に浸漬し、樹脂厚が25μmになるまでワイヤ上に溶着させた。アクリル樹脂及びはんだで被覆したポリエチレンワイヤ二本を平行に接触配置し、70℃に加熱して融着し、封止材を得た。更に、実験G1と同様に封止材をソーダガラス上に配置し、硬化は実験G1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射によって行い、それ以外は実験G1と同様にして、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表133に示す結果を得た。
【0338】
(実験g2) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G2で使用したポリエチレンワイヤを圧縮弾性率が0.1GPaのものに変更した以外はすべて実験G2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g2を実験G2と対比すると、実験g2では透湿度が高くなっり、圧縮弾性率は0.5GPaの方が0.10Gpaより適していることが分かる。
【0339】
(実験G3) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりにPMMAペレット(三菱レーヨン(株)製、アクリルペレットIRD−50、平均粒径5.0mm)を用いて線径5mmのワイヤを作製し、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだTI/Na=93.7/6.3(融点238℃)を用い、更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)を使用し、共晶はんだは金属の融着によりワイヤ上に被覆し、ダイヤモンドダイスにより樹脂厚が50μmになるように被覆量を調節して被覆した。その他については実験1と同様にして、封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0340】
(実験g3) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G3で使用した被覆金属の組成をPb100%に変更した以外はすべて実験G3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g3を実験G3と対比すると、実験g3では透湿度が高くなり、被覆金属の組成はTI/NA=93.7/6.3 の方が鉛(Pb)が100%よりも適していることが分かる。
【0341】
(実験G4) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりに66ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM3007、平均粒径0.5mm)を用いて線径0.5mmのワイヤを作製し、、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を用いて金属の融着により共晶はんだでワイヤを被覆し、更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)を使用し、ダイヤモンドダイスにより樹脂厚が5μmになるように被覆量を調節して被覆した。その他は実験G1と同様にして、封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0342】
(実験g4) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G4で使用した被覆金属の厚さを7mmとした以外はすべて実験G4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g4を実験G4と対比すると、実験g4では接着力が低くなり、被覆金属の厚さは1.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0343】
(実験G5) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリエステルのペレット(東レ(株)製、シベラスL204G35、平均粒径0.3mm)を用いて線径10mmのワイヤを作製し、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を用い、更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてキシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用し、樹脂厚は20μmになるようにしてはんだ及び樹脂で被覆した。その他は実験G1と同様にして、封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0344】
(実験g5) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G5で使用したプラスチックワイヤの金属による被覆率を40%とした以外はすべて実験G5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g5を実験G5と対比すると、実験g5では透湿度が高くなり、金属によるプラスチックワイヤの被覆率は99%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0345】
(実験G6) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリプロピレンのペレット(住友化学(株)製、ノーブレンH501、平均粒径0.03mm)を用いて線径0.5mmのワイヤを作製し、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を用い、更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用し、樹脂厚は20μmになるようにして、はんだ及び樹脂で被ワイヤを覆した。その他については実験G1と同様にして、封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0346】
(実験g6) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G6で使用したプラスチックワイヤを線径が0.03mmのものに変更した以外はすべて実験G6と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g6を実験G6と対比すると、実験g6では透湿度が高くなってしまい、プラスチックワイヤの線径は0.5mmの方が0.03mmよりも適していることが分かる。
【0347】
(実験G7) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりにポリ塩化ビニルのペレット(東ソー(株)製、リューロンペースト772、平均粒径0.05mm)を用いて線径10mmのワイヤを作製し、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を用い、更に樹脂組成物として、エポキシ樹脂に代えてアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、樹脂厚は20μmとなるようにしてはんだ及び樹脂で被覆した。その他については実験G1と同様にして、封止材を作製した。封止材をソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験G1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験G1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0348】
(実験g7) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G7で使用した金属被覆プラスチックワイヤに塗布する樹脂の厚みを1.5mmとした以外はすべて実験G7と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g7を実験G7と対比すると、実験g7では透湿度が高くなり、金属被覆プラスチックワイヤに塗布する樹脂の厚みは、0.02mmの方が1.5mmよりも適していることが分かる。
【0349】
(実験G8) 表13に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1で使用したポリスチレンペレットの代わりに6ナイロンのペレット(東レ(株)製、アラミンCM1007、平均粒径0.5mm)を用いて線径0.2mmのワイヤを作製し、被覆金属として、In/Cdの代わりに共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を使用し、樹脂厚は20μmとして、実験G1と同様に封止材を得た。封止材をソーダガラス上に配置し、軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表13に示す条件のもと、評価試験を行い、表13に示す結果を得た。
【0350】
(実験g8) 表16に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験G8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験G8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験g8を実験G8と対比すると、実験g8ではEL素子が黒色に変色するという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化したことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0351】
(実験H1) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、金属銅のインゴットを1100℃で融解し、水を貯めた回転ドラムの内側にノズルから融液を噴出させた。固化した銅繊維を遠心力によってドラムの内側に巻いて、線径1mm、長さ1mの銅ワイヤを作製した。得られた銅ワイヤに、常法により、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1.2mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆銅ワイヤを、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)中に浸漬し、樹脂厚が10μmになるまでワイヤ上に溶着させた。エポキシ樹脂及びはんだで被覆した銅ワイヤ二本を平行に接触配置し、80℃に加熱して融着して封止材を得た。得られた封止材を、25mm×100mmのソーダガラスの周部に貼り付け、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスを向かい合わせにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで60分間加熱加圧して樹脂を硬化させ、接着力測定用サンプルとした。一方、封止材を100mm×100mmのソーダガラス上の4辺に貼り付けた。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用サンプルとした。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0352】
(実験h1) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H1で使用した銅線を線径が0.01mmのものに変更した以外はすべて実験H1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表17に示す条件のもと、評価試験を行い、表17に示す結果を得た。この実験h1を実験H1と対比すると、実験h1では透湿度が高くなるとともに、接着力も弱くなり、金属ワイヤの線径は、1.0mmの方が0.01mmよりも適していることが分かる。
【0353】
(実験H2) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験H1と同様にして、平均線径0.5mm、長さ1.0mのステンレスワイヤを得た。得られたワイヤに、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆ワイヤの直径が1.5mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ステンレスワイヤを、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)中に浸漬し、樹脂厚が25μmになるまでワイヤ上に溶着させた。アクリル樹脂及びはんだで被覆したステンレスワイヤ二本を平行に接触配置し、70℃に加熱溶融して融着し、封止材を得た。封止材を実験H1と同様にソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験H1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射により行い、実験H1と同様にして、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0354】
(実験h2) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H2で使用した共晶はんだをPb100%に変更した以外はすべて実験H2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験h2を実験H2と対比すると、実験h2では透湿度が高くなり、被覆金属の組成はPb/Sn=5/95の方がPb100%よりも適していることが分かる。
【0355】
(実験H3) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりに鉄を使い、実験H1と同様にして平均線径10mm、長さ1.0mの鉄線を得た。得られたワイヤに、共晶はんだBi/In=67/33(融点109℃)を融着してワイヤの直径が16mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆鉄線を、70℃に加熱溶融したフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)中に浸漬し、樹脂をワイヤ上に溶着させた。樹脂の溶着量は、ダイヤモンドダイスにより5μmになるように調節した。以下、実験H1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0356】
(実験h3) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H3で使用した被覆金属層の厚さを7.0mmとした以外はすべて実験H3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作成した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験h3を実験H3と対比すると、実験h3では透湿度が高くなり、被覆金属層の厚さは3.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0357】
(実験H4) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりにアルミを使い、実験H1と同様にして平均線径1.0mm、長さ1.0mのアルミワイヤを得た。得られたワイヤに、共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を融着し、被覆したワイヤの直径が3.0mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆アルミワイヤを、70℃に加熱溶融したメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)中に浸漬し、樹脂厚が20μmになるまでワイヤ上に溶着させた。以下、実験H1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0358】
(実験h4) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H4で使用した被覆金属によるアルミワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験14と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表17に示す条件のもと、評価試験を行い、表17に示す結果を得た。この実験h4を実験H4と対比すると、実験h4では透湿度が高くなり、金属によるアルミワイヤの被覆率は100%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0359】
(実験H5) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりにニッケルを使い、実験H1と同様にして平均線径1.0mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。得られたワイヤに、共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、キシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用して、樹脂厚が20μmになるように被覆した。更に、実験H1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0360】
(実験h5) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H5で使用した金属ワイヤを線径10mmの鉛ワイヤに変更した以外はすべて実験H5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表17に示す条件のもと、評価試験を行い、表17に示す結果を得た。この実験h5を実験H5と対比すると、実験h5ではワイヤ線が断線するなどの異常が発見された。従って、金属ワイヤの種類及び線径は、ニッケル製の線径1.0mmのものの方が鉛製の線径10mmのものよりも適していることが分かる。
【0361】
(実験H6) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験H1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。得られたワイヤに、共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、ポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用して、樹脂厚が20μmになるように被覆した。更に、実験H1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0362】
(実験h6) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H6で使用した金属ワイヤを線径30mmの銅線に変更した以外はすべて実験H1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表17に示す条件のもと、評価試験を行い、表17に示す結果を得た。この実験h6を実験H1と対比すると、実験h6では透湿度が高くなり、金属ワイヤの線径は、線径1.0mmのものの方が線径30.0mmのものよりも適していることが分かる。
【0363】
(実験H7) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験H1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。得られたワイヤに、共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、アクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、樹脂厚が20μmとなるように被覆した。更に、実験H1と同様に被覆ワイヤ2本から封止材を作製してソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験11の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、その他については実験H1と同様に、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0364】
(実験h7) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H7で使用した被覆金属層の厚さを0.0005mmとした以外はすべて実験H3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表17に示す条件のもと、評価試験を行い、表17に示す結果を得た。この実験h7を実験H7と対比すると、実験h7では透湿度が高くなり、被覆金属層の厚さは、0.3mmの方が0.0005mmよりも適していることが分かる。
【0365】
(実験H8) 表14に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験H1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験H1と同様にして平均線径0.5mm、長さ1.0mのニッケルワイヤを得た。得られたワイヤに、共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を被覆し、樹脂組成物として、実験1と同じエポキシ樹脂を使用し、樹脂厚が20μmになるように被覆した。以下、実験H1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を得て、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表14に示す条件のもと、評価試験を行い、表14に示す結果を得た。
【0366】
(実験h8) 表17に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験H8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験H8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表17に示す条件のもと、評価試験を行い、表17に示す結果を得た。この実験h8を実験H8と対比すると、実験h8ではEL素子が黒色に変色するという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化したことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0367】
(実験I1) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験G1と同様にして金属銅のインゴットを1100℃で融解し、水を貯めた回転ドラムの内側にノズルから融液を噴出させた。ただし、ノズルの断面形状を円環状とすることにより、中空構造の銅管線が作製された。固化した中空銅ワイヤ(銅管線)を遠心力によってドラムの内側に巻いて、線径1mm、管の肉厚0.1mm、長さ1mの銅管線を得た。得られた銅管線に、実験G1と同様にして、In/Cd=74/26の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆銅管線の直径が1.2mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆銅管線を、80℃に加熱溶融したエポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)中に浸漬し、樹脂厚が10μmになるまでワイヤ上に溶着させた。エポキシ樹脂及びはんだで被覆した銅管線二本を平行に接触配置し、80℃に加熱溶融して融着して封止材を得た。得られた封止材を、25mm×100mmのソーダガラスの周部に貼り付け、樹脂の軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のガラスを向かい合わせにして貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用サンプルとした。一方、封止材を、100mm×100mmのソーダガラス上の4辺に貼り付けた。その後、軟化温度(80℃)、1Mpaで10分間加熱加圧した後、もう1枚のソーダガラスを貼り合わせ、120℃、3Mpaで10分間加熱加圧して樹脂を硬化し、透湿度測定用サンプルとした。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0368】
(実験i1) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I1で使用した銅線を線径が0.04mmのものに変更した以外はすべて実験I1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i1を実験I1と対比すると、実験i1では透湿度が高くなるとともに、接着力も弱くなり、金属管ワイヤの線径は、1.0mmの方が0.04mmよりも適していることが分かる。
【0369】
(実験I2) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験I2と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.05mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られたワイヤに、常法により、Pb/Sn=5/95(融点183℃)の共晶はんだのめっき浴中で、はんだ被覆管ワイヤの直径が1.5mmになるまで電解めっきを施した。このようにして得られたはんだ被覆ステンレス管ワイヤを、70℃に加熱溶融したアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)中に浸漬し、樹脂厚が25μmになるまでワイヤ上に溶着させた。アクリル樹脂及びはんだで被覆したステンレス管ワイヤ二本を平行に接触配置し、70℃に加熱して融着して封止材を得た。実験I1と同様に封止材をソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験I1の加熱に代えて1.0J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験I1と同様にして、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0370】
(実験i2) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I2で使用した被覆金属の組成をPb100%とした以外はすべて実験I2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i2を実験I2と対比すると、実験i2では透湿度が高くなり、被覆金属の組成はPb/Sn=5/95の方がPb100%よりも適していることが分かる。
【0371】
(実験I3) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりに鉄を使い、実験I1と同様にして平均線径10mm、管の肉厚0.5mm、長さ1.0mの鉄管線を得た。得られた鉄管線に、共晶はんだBi/In=67/33(融点109℃)を融着して、被覆した管線の直径が16mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆鉄管線を、70℃に加熱溶融したフェノール樹脂(住友ベークライト(株)製フェノール樹脂PM−8200)中に浸漬し、樹脂を鉄管線上に溶着させ、樹脂の溶着量はダイヤモンドダイスにより5μmになるように調節した。被覆ワイヤ2本を融着して封止材を得た。以下、実験I1と同様にして、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用のサンプル及び透湿度測定用のサンプルを作製した。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0372】
(実験i3) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I3で使用した被覆金属層の厚さを7.0mmとした以外はすべて実験I3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i3を実験I3と対比すると、実験i3では透湿度が高くなり、被覆金属層の厚さは、3.0mmの方が7.0mmよりも適していることが分かる。
【0373】
(実験I4) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりにアルミを使い、実験I1と同様にして平均線径1.0mm、管の肉厚0.2mm、長さ1.0mのアルミ管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだSn35/In45/Bi2O(融点98℃)を融着して被覆した管ワイヤの直径が3.0mmになるように共晶はんだで被覆した。次に、はんだ被覆アルミ管ワイヤを、70℃に加熱溶融したメラミン樹脂(日立化成工業(株)製メラン523)中に浸漬し、樹脂厚が20μmになるまで管ワイヤ上に溶着させた。以下、実験I1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着力測定用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0374】
(実験i4) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I4で使用した金属被覆アルミ管ワイヤの被覆率を40%とした以外はすべて実験I4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i4を実験I4と対比すると、実験i4では透湿度が高くなり、金属による金属管ワイヤの被覆率は100%の方が40%よりも適していることが分かる。
【0375】
(実験I5) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりにニッケルを使い、実験I1と同様にして平均線径1.0mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのニッケル管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだSn/In=48/52(融点117℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、キシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用して、樹脂厚が20μmになるように被覆した。以下、実験I1と同様に、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0376】
(実験i5) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I5で使用した金属管ワイヤを線径10mmの鉛管に変更した以外はすべて実験I5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i5を実験I5と対比すると、実験i5ではワイヤ線が断線するなどの異常が発見された。従って、金属ワイヤ管の種類及び線径は、ニッケル製の線径が1.0mmのもの方が鉛製の線径が10mmのものよりも適していることが分かる。
【0377】
(実験I6) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験I1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、ポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL))を使用して、樹脂厚が20μmになるように被覆した。以下、実験I1と同様にして、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0378】
(実験i6) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I1で使用した金属管ワイヤを肉厚が0.005mmの銅管線とした以外はすべて実験I1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表16に示す条件のもと、評価試験を行い、表16に示す結果を得た。この実験i6を実験I1と対比すると、実験i6では透湿度が高くなり、金属ワイヤ管の種類及びその線径は、ステンレス製の線径0.1mmのものの方が銅製の線径が0.005mmのものよりも適していることが分かる。
【0379】
(実験I7) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験I1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を被覆し、更に樹脂組成物として、アクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、樹脂厚が20μmとなるように被覆した。実験I1と同様に、被覆ワイヤ2本から封止材を作製してソーダガラス上に配置し、樹脂の硬化は実験I1の加熱に代えて2.4J/cm2のUV照射により行い、それ以外は実験I1と同様に、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表I3に示す条件のもと、評価試験を行い、表I3に示す結果を得た。
【0380】
(実験i7) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I3で使用した被覆金属層を電解めっきで0.0005mmの厚さとした以外はすべて実験I3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i7を実験I3と対比すると、実験i7では透湿度が高くなり、被覆金属層の厚さは、0.3mmの方が0.0005mmよりも適していることが分かる。
【0381】
(実験I8) 表15に示す条件でサンプルを作成した。つまり、実験I1で使用した金属銅の代わりにステンレスを使い、実験I1と同様にして平均線径0.5mm、管の肉厚0.1mm、長さ1.0mのステンレス管ワイヤを得た。得られた管ワイヤに、共晶はんだIn/Zn=97.2/2.8(融点144℃)を被覆し、樹脂組成物として、実験I1と同じエポキシ樹脂を使用し、樹脂厚は20μmになるように被覆した。実験I1と同様に、被覆ワイヤ2本から封止材を作製し、ソーダガラス上での軟化温度及び120℃での加熱加圧を経て、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表15に示す条件のもと、評価試験を行い、表15に示す結果を得た。
【0382】
(実験i8) 表18に示す条件でサンプルを作成した。すなわち、実験I8で使用した樹脂組成物を硬化する温度を215℃とした以外はすべて実験I8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。そして、表18に示す条件のもと、評価試験を行い、表18に示す結果を得た。この実験i8を実験I8と対比すると、実験i8ではEL素子が黒色に変色するという異常が見られ、EL素子が酸化、腐食化してしたことが分かった。従って、樹脂組成物の硬化温度は、120℃の方が215℃より適していることが分かる。
【0383】
【表13】
【表14】
【表15】
【表16】
【表17】
【表18】
(実験J1) 芯材としてナイロンモノフィラメント(東レ(株)製、平均線径0.1mm、弾性率4.0GPa)を振動搬送しながら、プラズマ処理機により1KWのプラズマ処理を10m/分の速度で表面に施した。表面処理したナイロンモノフィラメントに塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解銅めっき液中で0.2μm銅を析出させて、常法によりSn/In=48/52共晶はんだ(融点117℃)のめっき浴中で、はんだ被覆モノフィラメントの直径が160μm(被覆厚さ30μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0384】
エポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)100重量部に対して、4−メチル−2−エチルイミダゾール4重量部、乾燥剤である酸化バリウム(和光純薬(株)製)を10重量部添加し、アプリケータを使用してPETフィルム(東洋紡(株)製、A−4100、フィルム厚75μm)上に膜厚が100μmになるように塗布してエポキシ樹脂フィルムを形成した。このフィルム上に前述のはんだ被覆ナイロンモノフィラメントを配置して図26(c)のように埋設してシート状シール材を得た。
【0385】
得られたシート状シール材を、25mm×100mmのソーダガラスの4辺に沿って外周部にフィルム幅が2mmになるように貼り付け、80℃(樹脂の軟化温度)、1MPaで10分間加熱加圧し、上面のPETフィルムを剥離除去した。次に、露出したエポキシ樹脂に、もう1枚のガラスを向かい合わせになるようにして貼り合わせ、120℃、3MPaで60分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用のサンプルとした。一方、100mm×100mmのソーダガラス2枚を用い、JIS K−7129に従って、ガラスの4辺に沿って外周部にフィルム幅が2mmになるように封止材を貼り付けて前述と同様の温度及び圧力条件でガラスどうしを接合して透湿度測定用のサンプルとした。
【0386】
表19に示す条件のもと、評価試験を行い、表19に示す結果を得た。
【0387】
(実験j1) 使用したナイロンモノフィラメントの線径を7mmに変更したこと以外はすべて実験J1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製し、評価試験を行って、表20に示す結果を得た。
【0388】
この実験J1と実験j1との比較は、モノフィラメントの線径の違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、モノフィラメントの線径が大きくなると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も、共に上昇した。接着力は、線径が大きくなると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も共に上昇した。つまり、モノフィラメントの線径が大きくなると、接着力は増すが、透湿度も増すので、モノフィラメントの線径が大きい場合はEL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0389】
(実験J2) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、実験J1で使用したナイロンモノフィラメントの代わりにPETモノフィラメント(東レ(株)製、ポリエステルモノフィラメント、平均線径0.8mm、弾性率10GPa)を用い、また被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだSn/Bi=43/57(融点139℃)を用いてはんだ被覆モノフィラメントの直径が820μm(被覆厚さ10μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0390】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂の代わりにアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)を使用し、酸化バリウム(和光純薬(株)製)を10重量部添加して、アプリケータを用いてPETフィルム(東洋紡(株)製、A−4100、フィルム厚75μm)上に膜厚が820μmになるように塗布してアクリル樹脂のフィルムを得た。得られた樹脂フィルム上に、前述のはんだ被覆PETモノフィラメントを配置して埋設し、図26(b)のてシート状シール材を得た。
【0391】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で1.0J/cm2のUV照射により行い、この時150℃の加熱を併せて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0392】
(実験j2) 使用したPETモノフィラメントに代えて、平均線径が0.8mm、弾性率が0.1GPaのポリエチレンモノフィラメント(東レ(株)製、ポリエチレンモノフィラメント)を使用したこと以外はすべて実験J2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0393】
実験J2と実験j2との比較は、モノフィラメントの材質及び弾性率の違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、弾性率が低下すると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も、共に低下した。接着力は、弾性率が増加しても、初期の値も温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も変化しなかった。つまり、モノフィラメントの弾性率が低下すると、接着力は変わらないが透湿度は増してしまうので、モノフィラメントの弾性率が小さい場合はEL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0394】
(実験J3) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、実験J1で使用したナイロンモノフィラメントの代わりにポリプロピレンモノフィラメント(萩原工業(株)製、マルフレン、平均線径0.2mm、弾性率5.5GPa)を用い、被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を用いて、はんだ被覆モノフィラメントの直径が240μm(被覆厚さ20μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0395】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えてポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL)を使用し、乾燥剤である酸化カルシウム(和光純薬(株)製)を20重量部添加し、基材としてPETの代わりにポリプロピレンフィルム(日立化成工業(株)製、K8−40)を使用して、上述の樹脂接着剤を基材に塗布して、膜厚が200μmのポリエステル樹脂フィルムを形成した。得られた樹脂フィルム上に、前述のはんだ被覆ポリプロピレンモノフィラメントを配置して埋設し、図26(c)のシート状シール材を得た。
【0396】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で加熱温度を150℃に変えて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0397】
(実験j3) 被覆金属としてPb100%を使用したこと以外はすべて実験J3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0398】
実験J3と実験j3との比較は、金属の違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。被覆金属がPbであると、接着力は、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値もあまり変化しなかったが、透湿度は、いずれの値も上昇した。Pbはかなり軟らかく変形し易い金属であるため、封止前の被覆金属表面の傷や凹凸等に因って接合した基板との間に隙間を生じ、透湿度が上昇したものと考えられる。しかし、このような隙間は、封止時に金属を溶融させることによって解決される。Pbは融点が高いが、融点が低い金属であれば、この問題は封止時の加熱によって容易に解決される。
【0399】
(実験J4) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、ナイロンモノフィラメントの代わりにポリフェニレンサルファイドモノフィラメント(東レ(株)製、平均線径0.5mm、弾性率3.5GPa)を用い、被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだAg/In=10/90(融点204℃)を用いて、はんだ被覆モノフィラメントの直径が510μm(被覆厚さ5μm)になるまで電解めっきを施した。但し、モノフィラメントはプラズマ処理を実施せずにめっきした。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0400】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えてSBSゴム(シェルジャパン(株)製クレイトンD−1101CU)を使用し、乾燥剤である酸化カルシウム(和光純薬(株)製)を15重量部添加した。また、基材としてPETフィルムの代わりにポリカーボネートのシート(帝人化成(株)製、パンライトL−1250、135℃及び20kgf/cm2でプレスして厚さ550μmに調整)を用い、実験J1と同様に樹脂接着剤を基材に塗布して厚さ550μのフィルムを形成し、前述のはんだ被覆モノフィラメントを配置して埋設し、図26(e)のシート状シール材を得た。
【0401】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に配置し100℃に加熱して貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で加熱温度を210℃に変えて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0402】
(実験j4) 被覆金属の厚さを7mmに変えたこと以外はすべて実験J4と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0403】
実験J4と実験j4との比較は、被覆金属の厚さの違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、被覆金属の層の厚さが増しても、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も共に変化しなかった。接着力は、被覆金属の層の厚さが増すと、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も激減した。つまり、被覆金属の層の厚さが増すと透湿度は変化しないが接着力が激減するので、金属層が厚い場合はEL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0404】
(実験J5) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、ナイロンモノフィラメントの代わりに、PETモノフィラメント(東レ(株)製、ポリエステルモノフィラメント、平均線径0.1mm、弾性率10Gpa)を用い、また低融点金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだBi/Pb=56.5/43.5(融点125℃)を用いて、はんだ被覆モノフィラメントの直径が110μm(被覆厚さ5μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0405】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えてキシレン/アクリル樹脂=80/20(キシレン樹脂:三菱瓦斯化学(株)製、ニカノールHP−100、アクリル樹脂:帝国化学産業(株)製、HTR−860P−3)を使用し、乾燥剤である酸化カルシウム(和光純薬(株)製)を20重量部添加して、基材としてPETの代わりにポリイミドフィルム(東レ・デュポン(株)製、カプトン100H)を用いて、実験J1と同様に樹脂接着剤を基材に塗布して膜厚が200μmのキシレン/アクリル樹脂フィルムを形成した。得られたフィルム上に、前述のはんだ被覆PETモノフィラメントを配置して埋設し、図26(d)のシート状シール材を得た。
【0406】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で加熱温度を140℃に変えて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0407】
(実験j5) 金属による芯材の被覆率を40%としたこと以外はすべて実験J5と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0408】
実験J5と実験j5との比較は、金属による芯材の被覆率の違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、金属による芯材の被覆率が減少すると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も、共に激増した。接着力は、金属による芯材の被覆率が減少しても、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も変化しなかった。つまり、芯材の被覆率が減少すると透湿度は激増するので、金属による芯材の被覆率が低い場合はEL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0409】
(実験J6) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、ナイロンモノフィラメントの代わりに、ポリプロピレンモノフィラメント(萩原工業(株)製、マルフレン、平均線径0.2mm、弾性率5.5GPa)を用い、被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだBi/Sn/Zn=56/40/4(130℃)を用いて、はんだ被覆モノフィラメントの直径が210μm(被覆厚さ5μm)になるまで融着めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0410】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えてポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL)を使用し、乾燥剤である酸化カルシウム(和光純薬(株)製)を20重量部添加して、実験J1と同様にして樹脂接着剤を基材に塗布して膜厚が210μmのキシレン/アクリル樹脂フィルムを得た。但し、基材としてはPETの代わりにポリプロピレンフィルム(日立化成工業(株)製、K8−40)を使用した。得られたフィルム上に前述のはんだ被覆ポリプロピレンモノフィラメントを配置して埋設し、図26(a)のシート状シール材を得た。
【0411】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で加熱温度を140℃に変えて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0412】
(実験j6) 樹脂接着剤を硬化する加熱温度を140℃から250℃に変更したこと以外はすべて実験J6と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0413】
実験J6と実験j6との比較は、樹脂接着剤の硬化温度の違いがEL素子の外観に及ぼす影響を示す。加熱温度が250℃まで上昇すると、ダークスポットが発生して外観が劣化し、表示素子としての品質が低下した。従って、樹脂接着剤の硬化に必要な加熱温度が高すぎる場合はEL表示装置の外観、品質を低下させる。
【0414】
(実験J7) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、ナイロンモノフィラメントの代わりに、ポリ塩化ビニルモノフィラメント(東ソー(株)製、リューロンペースト772、平均線径0.5mm、弾性率3.8GPa)を用い、被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだPb/Sn=5/95(融点183℃)を用いて、はんだ被覆モノフィラメントの直径が510μm(被覆厚さ5μm)になるまで融着めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0415】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えてアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2)を使用し、乾燥剤である酸化バリウム(和光純薬(株)製)を5重量部添加して、実験J1と同様にして樹脂接着剤を基材に塗布して、膜厚が400μmのアクリル樹脂フィルムを得た。但し、基材としてはPETの代わりにポリエチレンフィルム(日立化成工業(株)製、CA−60)を使用した。得られた樹脂フィルム上に、前述のはんだ被覆ポリ塩化ビニルモノフィラメントを配置して埋設し、図26(c)のシート状シール材を得た。
【0416】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で2.4J/cm2のUV照射により行い、この時200℃の加熱を併せて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0417】
(実験j7) 樹脂接着剤の基材上への塗布厚を1.5mmとしたこと以外はすべて実験J7と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0418】
実験J7と実験j7との比較は、樹脂接着剤フィルムの厚さの違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、樹脂接着剤フィルムが厚くなると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も、共に増加した。接着力は、樹脂接着剤フィルムが厚くなると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も変化しなかった。つまり、防湿接着層の膜厚が厚くなると、接着力は変化しないが透湿度は増加するので、樹脂接着剤フィルムが厚い場合はEL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0419】
(実験J8) 実験J1の手順を以下のように変更して表19の条件でサンプルを作製した。即ち、ナイロンモノフィラメントにプラズマ処理を施さず、はんだ被覆モノフィラメントの直径が110μm(厚さ5μm)になるように融着めっきによってはんだを施したこと以外は実験J1と同様にして、はんだ被覆モノフィラメントを得た。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0420】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えて、UV硬化カチオン重合樹脂組成物[エピコート1001/エピコート828(以上、ビスフェノール型エポキシ樹脂、油化シェル(株)/ニポール1032(ニトリルゴム、日本ゼオン(株)製)/ヒタノール2400(アルキルフェノール、日立化成工業(株)製)/トリフェニルスルホニウム塩系硬化剤(トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート、旭電化(株)製)/酸化バリウム=50/20/20/10/4/10の配合比の樹脂組成物]を用い、マイクロシリンジを使ってPETフィルム(東洋紡(株)製、A−4100、フィルム厚75μm)上に、膜厚が120μm、幅が2mmになるように塗布して樹脂フィルムを形成した。この樹脂フィルム上に、上記はんだ被覆ナイロンモノフィラメントを配置して埋設し、図26(b)のシート状シール材を得た。
【0421】
実験J1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験J1と同様の加圧条件で6J/cm2のUV照射により行い、この時120℃の加熱を併せて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表19に示す結果を得た。
【0422】
(実験j8) 樹脂接着剤の基材上への塗布厚を0.5μmとしたこと以外はすべて実験J8と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0423】
実験J8と実験j8との比較は、樹脂接着剤フィルムの厚さの違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、樹脂接着剤の膜厚が小さくなると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も、共に低下した。接着力は、樹脂接着剤の膜厚が小さくなると、初期の値も、温度が60℃、湿度が90%で1000H放置した後の値も、低下した。つまり、樹脂接着剤の膜厚が小さくなると接着力は低下し、透湿度は増加するので、樹脂接着剤の膜厚が小さい場合はEL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0424】
【表19】
【表20】
(実験K1) 芯材としてナイロンモノフィラメント(東レ(株)製、平均線径0.1mm、弾性率4.0GPa)を振動搬送しながら、プラズマ処理機により1KWのプラズマ処理を10m/分の速度で表面に施した。エポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)100重量部に対して多官能性イソシアネート化合物(日本ポリウレタン(株)製、コロネートL)を5重量部添加して作製したプライマーの10%MEK溶液に、プラズマ処理したナイロンモノフィラメントを1分間浸漬し、120℃で10分間乾燥硬化させることによってプライマー処理を施した。その後、常法によりSn/In=48/52共晶はんだ(融点117℃)のめっき浴中で、はんだ被覆モノフィラメントの直径が160μm(被覆厚さ30μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0425】
エポキシ樹脂組成物((株)アルファ技研製、アルテコ3500、変性エポキシ樹脂/変性ポリアミン=100/50)100重量部に対して、4−メチル−2−エチルイミダゾール4重量部、乾燥剤である酸化バリウム(和光純薬(株)製)10重量部を添加し、アプリケータを使用してPETフィルム(東洋紡(株)製、A−4100、フィルム厚75μm)上に膜厚が100μmになるように塗布してエポキシ樹脂フィルムを形成した。このフィルム上に前述のはんだ被覆ナイロンモノフィラメントを配置して図26(c)のように埋設してシート状シール材を得た。
【0426】
得られたシート状シール材を、25mm×100mmのソーダガラスの4辺に沿って外周部にフィルム幅が2mmになるように貼り付け、80℃(樹脂の軟化温度)、1MPaで10分間加熱加圧し、上面のPETフィルムを剥離除去した。次に、露出したエポキシ樹脂に、もう1枚のガラスを向かい合わせになるようにして貼り合わせ、120℃、3MPaで60分間加熱加圧して樹脂を硬化し、接着力測定用のサンプルとした。一方、100mm×100mmのソーダガラス2枚を用い、JIS K−7129に従って、ガラスの4辺に沿って外周部にフィルム幅が2mmになるように封止材を貼り付けて前述と同様の温度及び圧力条件でガラスどうしを接合して透湿度測定用のサンプルとした。
【0427】
表21に示す条件のもと、評価試験を行い、表21に示す結果を得た。
【0428】
(実験k1) はんだによるナイロンモノフィラメントの被覆率が40%になるように電解めっきを行ったこと以外はすべて実験K1と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製し、評価試験を行って、表22に示す結果を得た。
【0429】
この実験K1と実験k1との比較は、はんだによる被覆率の違いが透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。透湿度は、はんだによる被覆率が小さくなると、初期の値も、温度が80℃、湿度が90%で1000時間放置した後の値も、共に上昇した。接着力は、被覆率が小さくなっても、初期の値も、温度が80℃、湿度が90%で1000時間放置した後の値も変化しなかった。つまり、はんだによる被覆率が低下する場合、透湿度が増すので、EL表示装置の長期安定性に問題がある。
【0430】
(実験K2) 実験K1の手順を以下のように変更して表21の条件でサンプルを作製した。即ち、実験K1で使用したナイロンモノフィラメントの代わりにPETモノフィラメント(東レ(株)製、ポリエステルモノフィラメント、平均線径0.1mm、弾性率10GPa)を用い、プライマーをアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)に変更してPETモノフィラメントに塗布し、1.0J/cm2のUV照射によりアクリル樹脂を硬化させた。このモノフィラメントに、被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだSn/Bi=43/57(融点139℃)を用いてはんだ被覆モノフィラメントの直径が120μm(被覆厚さ10μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0431】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂の代わりにアクリル樹脂(日立化成工業(株)製、防湿絶縁材料TF−3348−15F2G)を使用し、酸化バリウム(和光純薬(株)製)を10重量部添加して、アプリケータを用いてPETフィルム(東洋紡(株)製、A−4100、フィルム厚75μm)上に膜厚が120μmになるように塗布してアクリル樹脂のフィルムを得た。得られた樹脂フィルム上に、前述のはんだ被覆PETモノフィラメントを配置して埋設し、図26(a)のシート状シール材を得た。
【0432】
実験K1と同様にしてシール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験K1と同様の加圧条件で1.0J/cm2のUV照射により行い、この時150℃の加熱を併せて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表21に示す結果を得た。
【0433】
(実験k2) プラズマ処理及びプライマー処理のいずれも実施しなかったこと以外はすべて実験K2と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0434】
実験K2と実験k2との比較は、モノフィラメントのプラズマ及びプライマーによる表面処理の有無が透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。実験k2において、透湿度は、表面処理を施さないと、温度が80℃、湿度が90%で1000H放置した後の値が低下した(但し、温度が60℃の場合は、1000時間放置後も変化しなかった)。接着力は、表面処理を施さなくても、初期の値も温度が80℃、湿度が90%で1000時間放置した後の値も変化しなかった。つまり、プラズマ又はプライマーによる表面処理がない場合は、接着力は変わらないが透湿度は増してしまうので、EL表示装置の厳しい条件下での長期安定性に問題がある。
【0435】
(実験K3) 実験K1の手順を以下のように変更して表21の条件でサンプルを作製した。即ち、実験K1で使用したナイロンモノフィラメントの代わりにポリプロピレンモノフィラメント(萩原工業(株)製、マルフレン、平均線径0.2mm、弾性率5.5GPa)を用い、プライマーをポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL)に変更して、プラズマ処理を行わずに、ポリプロピレンモノフィラメントをプライマーの10%MEK溶液に1分間浸漬して120℃で10分間乾燥硬化させることによってプライマー処理を施した。その後、被覆金属として、Sn/Inの代わりに共晶はんだBi/Cd=60/40(融点144℃)を用いて、はんだ被覆モノフィラメントの直径が240μm(被覆厚さ20μm)になるまで電解めっきを施した。はんだの被覆率は99%以上であった。
【0436】
更に、樹脂接着剤として、エポキシ樹脂に代えてポリエステル樹脂/架橋剤=100/2(ポリエステル樹脂:東洋紡(株)製、バイロンVG700、架橋剤:日本ポリウレタン(株)製、コロネートL)を使用し、乾燥剤である酸化カルシウム(和光純薬(株)製)を20重量部添加し、基材としてPETの代わりにポリプロピレンフィルム(日立化成工業(株)製、K8−40)を使用して、上述の樹脂接着剤を基材に塗布して、膜厚が200μmのポリエステル樹脂フィルムを形成した。得られた樹脂フィルム上に、前述のはんだ被覆ポリプロピレンモノフィラメントを配置して埋設し、図26(c)のシート状シール材を得た。
【0437】
実験K1と同様にして、シール材をソーダガラス上に貼付し、樹脂の硬化は、実験K1と同様の加圧条件で加熱温度を150℃に変えて行って、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。評価試験を行って、表21に示す結果を得た。
【0438】
(実験k3) プライマー処理を行わなかったこと以外はすべて実験K3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0439】
実験K3と実験k3との比較は、プライマー処理の有無が透湿度及び接着力に及ぼす影響を示す。接着力は、プライマ処理を行わなくても、初期の値も、温度が80℃、湿度が90%で1000時間放置した後の値もあまり変化しなかったが、透湿度は、1000時間後の値が上昇した(但し、温度を60℃とした場合は、1000時間後も値は変わらなかった。つまり、プライマーによる表面処理がない場合は、接着力は変わらないが透湿度は増してしまうので、EL表示装置の厳しい条件下での長期安定性に問題がある。
【0440】
(実験K4) プライマー処理を行わなずに、プラズマ処理機による1KWのプラズマ処理を10m/分の速度で芯材表面に施したこと以外はすべて実験K3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0441】
評価試験の結果は、80℃、湿度90%で1000時間放置した後の透湿度の値が僅かに上昇したが、温度が60℃では1000時間放置後でも透湿度及び接着力のいずれの項目についても良好な値が得られた。
【0442】
(実験K5) プライマー処理を行わなずに、コロナ処理機による5KWのプコロナ放電処理を20m/分の速度で芯材表面に施したこと以外はすべて実験K3と同様にして、接着用サンプル及び透湿度測定用サンプルを作製した。
【0443】
評価試験の結果は、80℃、湿度90%で1000時間放置した後の透湿度の値が僅かに上昇したが、温度が60℃では1000時間放置後でも透湿度及び接着力のいずれの項目についても良好な値が得られた。
【0444】
【表21】
【表22】
(実験L1) 直径100μmのナイロンファイバーをイソプロピルアルコールに浸漬して脱脂した後、表面にプラズマ処理を施した。更に、塩化パラジウムによるシーダ処理を施した後、無電解銅めっき液(CUST2000、日立化成工業社製)中に液温25℃で10分間浸漬して0.2μmの銅を析出させた。この時の銅めっき膜は脆く、剥離し易かった。更に、電解銅めっき液中で、電流密度が0.003A/cm2になるように電流値を調整して液温25℃で5分間電解銅めっきを施した。これを蒸留水中で洗浄した後、乾燥機を用いて120℃で10分間乾燥した。めっき被覆ファイバーの直径は160μm(被覆厚さ30μm、はんだの被覆率は99%以上)であり、銅めっき膜は、剥離を生じない強度を有していた。更に、この銅めっき被膜ファイバーは、Sn/In=48/52共晶はんだの電解めっき液(石原薬品社製)を用いて、電流密度0.25A/cm2になるように電流値を調整して液温25℃で10分間Sn/In共晶合金電解めっきを施した。その結果、膜厚15±1μmの良好なSn/In共晶合金被覆が形成され、Sn/In合金めっきの膜厚の均一性は非常に高かった。
【0445】
(実験L2) 直径100μmの軟銅線をイソプロピルアルコールに浸漬して10分間脱脂した後、Sn/In=48/52共晶はんだの電解めっき液(石原薬品社製)を用いて、電流密度0.3A/cm2になるように電流値を調整して液温25℃で10分間Sn/In共晶合金電解めっきを施した。その結果、膜厚20±1μmの良好なSn/In共晶合金被覆が形成され、Sn/In合金めっきの膜厚の均一性は非常に高かった。
【0446】
【発明の効果】
本発明によれば、初期及び長時間加熱加湿後の防湿性に優れ、且つ、基板と対向基板との接合の密着性が良好な封止を実現できる封止材及び封止構成体を提供することができる。
【0447】
また、本発明によれば、接着機能及び防湿機能に優れた封止構成体を用いて基板と対向基板とを封止するので、搭載される機能素子の耐久性や信頼性が改善され、防湿性及び耐酸化性に優れた長寿命の実装体を提供することができる。
【0448】
また、機能素子や基板を損傷しない温度範囲で基板と対向基板とを強固に接合でき、スペーサの機能を有し、作業性に優れるシート状封止材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る実装体の基板接合前の基板に垂直な断面図(a)、基板接合後の実装体を示す基板に垂直な断面図(b)、及び、図1(a),(b)の実装体の封止材の配置を説明するための基板に平行な概略構成図(c)である。
【図2】第1の実施形態における封止材の条部材の製造工程の一例を説明するための斜断図(a),(b)である。
【図3】第1の実施形態における封止材の条部材の製造工程の他の例を説明するための斜断図(a),(b)である。
【図4】第1の実施形態における封止材の条部材の製造工程の他の例を説明するための斜断図(a),(b)である。
【図5】第1の実施形態における封止材の芯材の断面図(a),(b),(c),(d)である。
【図6】第1の実施形態における封止構成体の配置状態の例を示し、(b),(c),(d),(e)は基板に平行な概略構成図、(a)は、図6(b),(c),(d),(e)のA−A’線断面図である。
【図7】第1の実施形態における実装体の製造方法を説明する製造工程の模式図(a)〜(f)である。
【図8】第1の実施形態における実装体の製造方法の他の例を説明する製造工程の模式図(a)〜(c)である。
【図9】第1の実施形態に係る実装体の製造における加圧下での封止構成体を表す要部断面図である。
【図10】図6(b)の封止構成体の配置での実装体の製造過程を説明するための、図6(b)のB−B’線方向から見た要部の断面図であり、(a)は接合前、(b)は接合後を示す。
【図11】封止構成体の応用例を示す、基板に垂直な断面図(a)〜(g)である。
【図12】本発明の第2の実施の形態に係る実装体の基板接合前の基板に垂直な断面図(a)、基板接合後の実装体を示す基板に垂直な断面図(b)、及び、図12(a),(b)の実装体の封止材の配置を説明するための基板に平行な概略構成図(c)である。
【図13】第2の実施形態における封止材の例を説明するための斜断図(a),(b),(c)である。
【図14】第2の実施形態における封止材の断面図(a)〜(f)である。
【図15】第2の実施形態における実装体の製造方法を説明する製造工程の模式図(a)〜(e)である。
【図16】第2の実施形態における封止構成体の配置状態の例を示し、(b),(c),(d),(e)は基板に平行な概略構成図、(a)は、図16(b),(c),(d),(e)のA−A’線断面図である。
【図17】第2の実施形態に係る実装体の製造における加圧下での封止構成体を表す要部断面図である。
【図18】図16(b)の封止構成体の配置での実装体の製造過程を説明するための、図6(b)のB−B’線方向から見た要部の断面図であり、(a)は接合前、(b)は接合後を示す。
【図19】本発明の第3の実施の形態に係る実装体の基板接合前の基板に垂直な断面図(a)、基板接合後の実装体を示す基板に垂直な断面図(b)、及び、図19(a),(b)の実装体の封止材の配置を説明するための基板に平行な概略構成図(c)である。
【図20】第3の実施形態における封止材の例を説明するための斜断図(a),(b),(c)である。
【図21】第3の実施形態における封止材の断面図(a)〜(h)である。
【図22】第3の実施形態における実装体の製造方法を説明する製造工程の模式図(a)〜(e)である。
【図23】第3の実施形態における封止構成体の配置状態の例を示し、(b),(c),(d),(e)は基板に平行な概略構成図、(a)は、図23(b),(c),(d),(e)のA−A’線断面図である。
【図24】第3の実施形態に係る実装体の製造における加圧下での封止構成体を表す要部断面図である。
【図25】図23(b)の封止構成体の配置での実装体の製造過程を説明するための、図23(b)のB−B’線方向から見た要部の断面図であり、(a)は接合前、(b)は接合後を示す。
【図26】本発明に係るシート状封止材の第1の実施形態における変形を示す断面図(a)〜(e)、及び、図26(a)のシート状封止材の斜視透視図(f)である。
【図27】本発明に係るシート状封止材の第1の実施形態における他の変形例を示す断面図(a)〜(c)である。
【図28】本発明に係るシート状封止材の第2の実施形態を示す断面図(a)〜(d)である。
【図29】本発明に係るシート状封止材の製造方法を説明するための各工程における断面図(a),(b)である。
【図30】本発明に係るシート状封止材を用いた実装体の製造方法の一実施形態としてEL表示装置の製造方法を説明するための各工程における断面図(a)〜(e)であり、図30(c)は、図31のA−A’線矢視断面図である。
【図31】シート状封止材の配置の変形例を示すための、図30(c)における基板の平面図(a)〜(d)である。
【図32】本発明に係るシート状封止材の他の実施形態を説明するための、基板の平面図である。
【図33】本発明に係るシート状封止材を用いた実装体の製造方法の他の実施形態として無機EL素子によるEL表示装置の製造方法を説明するための各工程における断面図(a)〜(e)である。
【図34】本発明に係るシート状封止材を用いた実装体の製造方法の他の実施形態として太陽電池素子を封止した実装体の製造方法を説明するための各工程における断面図(a)〜(e)である。
【図35】本発明に係る封止材の条部材の変形例及びそれを用いた実装体を示す条部材の斜断図(a)及び実装体の基板に垂直な断面図(b)である。
【符号の説明】
1 芯材、 1a プラスチックワイヤ、 1b 金属ワイヤ
1c 金属管線、 2 金属層、 3,3’,3” 接着層
4a〜4d,4a’〜4d’,4a”〜4d” 封止材
5 基板、 6 対向基板、 7 下部電極、 8 電子輸送層
9 発光層、 10 正孔輸送層、 11 上部電極
12 有機EL素子、 13 条部材、 14 樹脂接着剤
15 絶縁膜、 16 基材、 17 導電層
20 無機EL素子、 21,23 絶縁層、 22 発光層
24 電極(Al)、 30 太陽電池素子、 31 電荷輸送層[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a strip member used for sealing a substrate on which various functional elements such as a display element such as an LCD element, an organic EL element and an inorganic EL element and a solar cell element are mounted, and a moisture-proof seal using the same. The present invention relates to a material, a sealing substrate, a sealing structure, a sealing body and a mounting body sealed using the same, and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
Display elements of light-emitting devices such as liquid crystal displays, organic EL displays, and inorganic EL displays, and functional elements such as dye-sensitized solar cell elements are generally chemically unstable. It is known that the reaction with oxygen causes corrosion and oxidation, which causes the above-mentioned deterioration of the functional element over time. For example, in the case of an organic EL element, when the organic EL element comes into contact with oxygen or moisture, oxidation of the element constituting material is accelerated by the oxygen or moisture, the element is deteriorated, and a non-light emitting portion called a dark spot is generated. Therefore, in order to extend the life of these devices, it is desirable to seal the devices so that oxygen and moisture do not enter the devices as much as possible.
[0003]
Conventionally, various types have been proposed as having this sealing function, and one of them is a paste-like sealing material. However, when a paste-like sealing material is used, it is difficult to apply the sealing material uniformly on the substrate, and the surface of the sealing material becomes uneven, so that the element may come into contact with the outside air through the unevenness of the sealing material. there were. Therefore, in the light emitting device, a desiccant has been used together with the sealant in order to prevent oxidation of the electrode material and corrosion due to moisture.
[0004]
In this case, the sealing material is used in a bottom emission method, and a desiccant which is a solid of a white powder such as barium oxide or calcium oxide and blocks light is held by a fixing tape on a side of the counter substrate facing the element. Deploy.
[0005]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 11-510647
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in recent years, the conventional bottom emission method has been changed to a top emission method for the purpose of improving the emission intensity and luminance. Since the top emission method has a structure in which light is extracted from the counter substrate side, a conventionally used desiccant cannot be used as before. However, if only the paste-like sealing agent is used, the entrance of the outside air is allowed due to the unevenness of the sealing material.
[0007]
On the other hand, as a joining material having another sealing function, a low melting point metal such as solder is used (for example, see Patent Document 1). In this case, at the beginning of the adhesion, it is sufficiently adhered to the substrate and the opposing substrate, and the adhesion is good. Thus, there is a problem that the element is exposed to the outside air and causes oxidation and corrosion. Further, when a glass substrate is used as the material of the counter substrate, good adhesion between the solder and the glass substrate cannot be expected originally.
[0008]
Therefore, there is a need for an alternative to the conventional sealing material, which has a high barrier property against oxygen and moisture and has a durability in bonding. There is also a need for a sealing material that can join a substrate and a counter substrate (a functional element substrate and a functional element protection substrate) at a relatively low temperature so that the functional element is not damaged by overheating.
[0009]
The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to use the present invention for sealing a substrate and a counter substrate instead of using a combined sealant and desiccant. , A sealing member, a moisture-proof sealing material, a sheet-like sealing material, and a sealing substrate using the same, which have an adhesive function and a moisture-proof function and can realize a sealing joint with improved shielding properties. It is an object of the present invention to provide a sealing structure, a sealing body, a mounting body, and a manufacturing method thereof.
[0010]
Another object of the present invention is to provide a long-life functional element package having high reliability and durability in which a functional element is shielded from the outside air by using a sealing material having an adhesive function and a moisture-proof function integrally. It is in.
[0011]
It is another object of the present invention to provide a sealing material capable of forming a bond between a substrate and an opposing substrate firmly at a relatively low temperature, having excellent barrier properties against oxygen and moisture, and having excellent durability. Aim.
[0012]
Another object of the present invention is to provide a moisture-proof sealing material which is excellent in workability at the time of use and can easily perform a sealing operation, and a method for producing the same.
[0013]
It is another object of the present invention to provide a package having a long-term stability and a method for manufacturing the same.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
According to one aspect of the present invention, the strip member has a strip-shaped core material that can be elastically deformed, and a metal layer that covers at least a part of the core material.
[0015]
According to another aspect of the present invention, the sealing strip member for enhancing the shielding property of the joining by the resin adhesive is a strip-shaped metal material, and an elastically deformable strip-shaped core incorporated in the metal material. Material.
[0016]
Further, according to one aspect of the present invention, a method for manufacturing a strip member includes a step of preparing an elastically deformable strip-shaped core material and a step of providing a metal layer covering at least a part of the core material. .
[0017]
Further, according to one aspect of the present invention, the sealing material is a strip member having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material; It has an adhesive layer attached.
[0018]
According to another aspect of the present invention, the sealing member includes a plurality of strip members each having a resiliently deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material, and being arranged in parallel; And a resin layer connecting the plurality of strip members.
[0019]
According to one aspect of the present invention, a method of manufacturing a sealing material includes a step of preparing an elastically deformable strip-shaped core material and a step of forming a metal layer covering at least a part of the core material. A step of forming a member; and a step of forming an adhesive layer covering at least a part of the periphery of the strip member.
[0020]
Further, according to one embodiment of the present invention, the sheet-shaped sealing material includes a base material having a releasable surface; an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material. And an adhesive supported on the releasable surface of the substrate together with the strip member.
[0021]
According to another aspect of the present invention, the sheet-shaped sealing material includes a substrate having a releasable surface; a strip-shaped core having elasticity; and a metal layer covering at least a part of the core. A plurality of strip members arranged in parallel with each other; and an adhesive supported together with the plurality of strip members on the release surface of the substrate.
[0022]
Further, according to one aspect of the present invention, a method of manufacturing a sheet-shaped sealing material includes a step of preparing a strip member in which at least a part of an elastically deformable strip-shaped core material is covered by a metal layer; Preparing a substrate having a surface, a step of disposing a resin adhesive on the releasable surface of the substrate, and a step of disposing the strip member on the releasable surface of the substrate. .
[0023]
According to one embodiment of the present invention, the sealing substrate includes a base material having a release surface; an elastically deformable strip-shaped core material, and a metal layer covering at least a part of the core material. A sheet-like sealing material having a strip member; and a resin adhesive supported on the releasable surface of the substrate together with the strip member, and the resin adhesive of the sheet-like sealing material is adhered. Substrate.
[0024]
According to another aspect of the present invention, a sealing substrate comprises: a substrate; a substrate disposed on the substrate and having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material. A member; a resin adhesive disposed on the substrate together with the strip member; and a substrate having a releasable surface and covering the resin adhesive with the releasable surface.
[0025]
Further, according to one aspect of the present invention, a sealing member is disposed on a substrate, and has an elastically deformable strip-shaped core material and a metal member covering at least a part of the core material; And a sealing structure for sealingly bonding the substrate to another substrate, the sealing structure including an adhesive disposed on the substrate together with the strip member.
[0026]
According to one aspect of the present invention, a method of manufacturing a sealing structure includes a step of preparing a strip member having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material. And a step of arranging the strip member and the adhesive on the substrate. A method for producing a sealing structure for sealingly joining the substrate to another substrate.
[0027]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a sealing structure includes a plurality of strip members each having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material. Preparing, and arranging the plurality of strip members and the adhesive on the substrate, having a step of positioning the adhesive between the plurality of strip members arranged in parallel, the substrate and another substrate This is a method for manufacturing a sealing structure for sealing and joining.
[0028]
According to another aspect of the present invention, the sealing structure is a sealing structure provided on the substrate to seal and bond the substrate and the counter substrate, wherein the strip-shaped moisture-proof layer, An adhesive layer for bonding the substrate to the counter substrate; and an elastic layer capable of pressing the moisture-proof layer to the substrate and the counter substrate by elastic deformation when the substrate is bonded to the counter substrate.
[0029]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a sealing structure includes a step-shaped moisture-proof layer, and the moisture-proof layer is arranged in parallel with the moisture-proof layer. And a step of providing an elastic layer capable of being pressed against the counter substrate on the substrate, and a step of providing an adhesive layer on the substrate for bonding the substrate to the counter substrate. This is a method for manufacturing a sealing structure for sealing and joining.
[0030]
Further, according to one embodiment of the present invention, the sealing body includes a substrate and a counter substrate facing the substrate; an adhesive bonding the substrate and the counter substrate; and an elastically deformed strip-shaped core material. Covering at least a portion of the core material, and having a metal layer pressed against both the substrate and the counter substrate by the elastically deformed core material, and shielding a space between the substrate and the counter substrate. It has a strip member.
[0031]
According to another aspect of the present invention, a sealing body includes a substrate and a counter substrate facing the substrate; an adhesive bonding the substrate and the counter substrate; and a space between the substrate and the counter substrate. A strip-shaped metal layer to be shielded; and a strip-shaped core material that elastically deforms between the substrate and the counter substrate to press the metal layer against both the substrate and the counter substrate.
[0032]
According to another aspect of the present invention, the sealing body includes a substrate and an opposing substrate facing the substrate; an adhesive layer joining the substrate and the opposing substrate; and a space between the substrate and the opposing substrate. A strip-shaped moisture-proof layer for shielding; and an elastic layer elastically deforming between the substrate and the counter substrate to press the moisture-proof layer against both the substrate and the counter substrate.
[0033]
Further, according to one aspect of the present invention, the mounted body includes a substrate and an opposing substrate facing the substrate; an adhesive for joining the substrate and the opposing substrate; an elastically deformed strip-shaped core material; A strip member that covers at least a part of the material and has a metal layer pressed against both the substrate and the counter substrate by the elastically deformed core material, and shields a space between the substrate and the counter substrate; And a functional element provided in the space between the substrate and the counter substrate.
[0034]
According to another aspect of the present invention, a mounting body includes a substrate and an opposing substrate facing the substrate; an adhesive bonding the substrate and the opposing substrate; shielding a space between the substrate and the opposing substrate. A strip-shaped metal layer; a strip-shaped core material that elastically deforms between the substrate and the counter substrate to press the metal layer against both the substrate and the counter substrate; and the substrate and the counter substrate. And a functional element provided in the space between them.
[0035]
According to another aspect of the present invention, a mounting body includes a substrate and an opposing substrate facing the substrate; an adhesive layer joining the substrate and the opposing substrate; shielding a space between the substrate and the opposing substrate. An elastic layer that elastically deforms between the substrate and the opposite substrate to press the moisture-proof layer against both the substrate and the opposite substrate; and between the substrate and the opposite substrate. And a functional element provided in the space.
[0036]
According to one aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate provided with a functional element, and covering an elastically deformable strip-shaped core material and at least a part of the core material. A step of disposing a strip member having a metal layer on the substrate so as to surround the functional element; a step of disposing an adhesive on the substrate so as to be in parallel with the strip member; Bonding the substrate and the counter substrate with the adhesive while pressing the substrates.
[0037]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate on which a functional element is provided, a step of forming an elastically deformable strip-shaped core material and a metal covering at least a part of the core material. Arranging a strip member having a layer on the counter substrate so as to surround the functional element when the substrate and the counter substrate face each other, and applying an adhesive on the counter substrate so as to be parallel to the strip member. And bonding the substrate and the opposing substrate with the adhesive while pressing the substrate against the strip member.
[0038]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate on which a functional element is provided, a step of forming an elastically deformable strip-shaped core material and a metal covering at least a part of the core material. A step of preparing the counter substrate provided so as to surround the functional element when the substrate and the counter substrate face each other, Bonding the substrate and the counter substrate with the adhesive while pressing the strip member against the substrate.
[0039]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate provided with a functional element, a step-shaped moisture-proof layer, and a substrate and a counter substrate, which are arranged in parallel with the moisture-proof layer. Providing an elastic layer capable of pressing the moisture-proof layer to the substrate and the counter substrate by elastic deformation when bonded to the substrate so as to surround the functional element, and an adhesive layer parallel to the moisture-proof layer. A step of providing the substrate and the opposing substrate with the adhesive while pressing the opposing substrate against the elastic layer.
[0040]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate provided with a functional element, a step-shaped moisture-proof layer, and a substrate and a counter substrate, which are arranged in parallel with the moisture-proof layer. An elastic layer capable of pressing the moisture-proof layer to the substrate and the counter substrate by elastic deformation when bonded, and an adhesive layer parallel to the moisture-proof layer, the functional element when the substrate and the counter substrate face each other. And a step of bonding the substrate and the opposing substrate by the adhesive layer while pressing the substrate against the elastic layer.
[0041]
According to another aspect of the present invention, a method for manufacturing a package includes a step of preparing a substrate provided with a functional element, a strip-shaped metal layer, and a substrate and a counter substrate arranged in parallel with the metal. When the metal layer can be pressed against the substrate and the counter substrate by elastic deformation at the time of bonding, a strip-shaped elastic core material, and an adhesive arranged in parallel with the metal layer, when the substrate and the counter substrate face each other. A step of preparing the counter substrate provided so as to surround the functional element; and a step of bonding the substrate and the counter substrate with the adhesive while pressing the substrate against the elastic core material.
[0042]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate on which a functional element is provided, a step of forming an elastically deformable strip-shaped core material and a metal covering at least a part of the core material. Arranging a sealing structure in which a plurality of strip members each having a layer are arranged in parallel via an adhesive layer on the substrate so as to surround the functional element; and pressing a counter substrate against the strip member. Bonding the substrate and the counter substrate with the adhesive layer.
[0043]
According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a package includes a step of preparing a substrate on which a functional element is provided, a step of separating a strip member having an elastic strip-shaped core material covered with a metal layer, The adhesive of the sheet-like sealing material so as to surround the functional element with a sheet-like sealing material having a substrate having a moldable surface and an adhesive supported on the release surface together with the strip member. Bonding the substrate to the substrate, peeling the base material from the adhesive, and bonding the substrate and the counter substrate with the adhesive while pressing the counter substrate against the strip member on the substrate. And a method for manufacturing a mounted body.
[0044]
According to another aspect of the present invention, the mounting body is a substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive layer that joins the substrate and the counter substrate; a strip-shaped moisture-proof layer that is pressed against both the substrate and the counter substrate to shield a space between the substrate and the counter substrate; It has a functional element provided in the space between the opposing substrate.
[0045]
According to another aspect of the present invention, the mounting body is a substrate and a counter substrate bonded to the substrate; a strip-shaped metal layer for shielding a space between the substrate and the counter substrate; A strip-shaped core material that elastically deforms between the substrate and the counter substrate to press the moisture-proof layer against both the substrate and the counter substrate; and is provided in the space between the substrate and the counter substrate. It has a functional element.
[0046]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following description of the drawings, elements having the same equipment and members are denoted by the same reference numerals. Each drawing is an illustration showing a characteristic portion for easy understanding, and is not an actual size diagram.
[0047]
When a display element such as a liquid crystal display or an organic EL display is disposed between substrates and sealed, moisture-proof properties for protecting the display element from moisture are required for the sealing material. It is also necessary to have stress resistance such that the joint can withstand the resulting stress strain. Generally, there is a metal bonding material typified by a resin adhesive or a solder used as a sealing material, but the resin adhesive is relatively adaptable to external stress, and stress distortion occurs. Also, although the peeling of the bonding hardly occurs, the moisture easily permeates. On the other hand, the metal bonding material has a high moisture shielding ability, but has low adaptability to external stress, and is liable to cause peeling and material destruction when bonding members with temperature changes. Therefore, in any case, it is not enough to seal the display element by itself.
[0048]
Therefore, as a sealing material for joining the substrate and the counter substrate, it is conceivable to use a metal member for preventing moisture permeation and a resin adhesive in combination. In practice, it is difficult to take advantage of both. The reason is that a gap is easily formed between the resin-bonded substrate and the counter substrate and the metal member, and the moisture-proof property is impaired by a small gap.
[0049]
Therefore, in the present invention, in the sealing of the substrate, the sealing using a strip-shaped (meaning elongated and continuous state, the shape is not limited and may be, for example, hollow) and the resin adhesive is used in combination. In order to improve the shielding property of the metal member constituting the moisture permeation preventing layer in the joined state where the resin adhesive is cured, a pressing force acts between the substrate and the counter substrate and the metal member. To increase the closeness between the substrates. The pressing force for bringing the metal member and the substrate into close contact with each other in the joined state can utilize the contraction force accompanying the curing of the adhesive, and this can cure the resin adhesive in a state where the metal member and the substrate are in contact with each other. You can get it. In such a bonding state, the metal member comes into close contact with the substrate due to the contraction force of the resin adhesive. However, in order to prevent a gap caused by slight irregularities on the surfaces of the substrate and the metal member, a larger pressing force is required. For this purpose, it is effective to press the metal member against the substrate during the curing of the resin adhesive to bring the metal member into pressure contact, and to cure the resin adhesive while closing the gap between the substrate and the metal member. In this joint state, the springback of the metal member elastically deformed by the pressure contributes to the close contact between the metal member and the substrate.
[0050]
At this time, if the elastic limit or melting point of the metal member is low, plastic deformation due to pressing force at the time of joining or softening flow / melting due to heating for softening / hardening the resin adhesive occurs. These work effectively for closing the gap, but depending on the working conditions, the flow of the material may impair the shielding property or cause a defective product due to the displacement of the substrate, and the spring effect cannot be obtained. In such a case, when a core material having a high elastic limit or a high melting point is used by incorporating it into a metal member, the elastic layer constituted by the core material acts as a spacer to support the opposing substrate, thereby preventing misalignment and the like. The blocking property of the gap due to the flow further enhances the shielding property of the moisture-permeable preventing layer. In addition, when the moisture-permeable layer is interposed between the elastic layer and the substrate and the counter substrate, the spring action due to the elasticity of the core acts on the interposed moisture-permeable layer to bring the substrate and the opposing substrate into close contact with each other. At this time, if the metal member is melted and adhered to the substrate, there is an effect of assisting the joining by the resin adhesive, but the adhesion between the metal member and the substrate is not essential.
[0051]
The sealing structure having the adhesive layer, the moisture-permeable layer and the elastic layer described above and having a high shielding property of the moisture-permeable layer has a core material for forming the elastic layer, a metal material for forming the moisture-permeable layer, and an adhesive layer. It is obtained by a sealing material made of a resin adhesive to be formed, and the mode of the sealing material is as follows. ) Combining a strip member in which a strip-shaped metal material and a strip-shaped core material are integrated with a resin adhesive at the time of use 3) Sealing in which a strip-shaped metal material, a strip-shaped core material and a resin adhesive are integrated Using stop materials.
[0052]
Hereinafter, an embodiment of a sealing material and a mounted body in which a substrate is bonded using the sealing material will be described.
[0053]
[First Embodiment]
(Mounted body)
FIGS. 1A and 1B show an embodiment of the mounting body of the present invention, in particular, mounting of an organic EL element. FIG. 1A shows a mounting body before forming a substrate junction, FIG. Shows a sectional view parallel to the substrate of the mounting body. This mounting body surrounds the
[0054]
Each of the sealing
[0055]
(Sealing material)
The
[0056]
The
[0057]
When the
[0058]
Further, the wire diameter of the
[0059]
When the
[0060]
An advantage of using a tubular wire as the
[0061]
When the
[0062]
Note that it is also possible to use a plastic tube wire as the
[0063]
The
[0064]
When the
[0065]
The
[0066]
When a thermosetting resin is used, the curing temperature is 50 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. If the curing temperature is lower than 50 ° C., the storage stability is poor. In addition, a composition having a low curing temperature tends to have low heat resistance, and thus has insufficient adhesiveness at high temperatures. On the other hand, when the curing temperature is higher than 200 ° C., heating during curing causes thermal degradation of the display element. Curing of the resin proceeds even at a temperature lower than the curing temperature, and the greater the difference between the heating temperature and the curing temperature of the resin, the slower the curing speed. When the temperature required for curing the
[0067]
Further, when bonding the
[0068]
When the resin composition of the
[0069]
Further, as a specific example when the resin composition of the
[0070]
If necessary, two or more of these polymers may be copolymerized, or two or more of them may be used as a blend. These can be used by dissolving them in a general-purpose solvent or stirring and mixing with a metal dispersant or the like without a solvent.
[0071]
In the resin composition used in the present invention, if necessary, in addition to the dispersant, a thixotropic agent, an antifoaming agent, a leveling agent, a diluent, a plasticizer, an antioxidant, and a metal deactivator. Further, additives such as a coupling agent and a filler may be blended. Further, as a tackifier for improving the adhesive force, there are dicyclopentadiene resin, rosin, modified rosin, terpene resin, xylene resin, terpene-phenol resin, alkylphenol resin, cumarone-indene resin and the like. If necessary, they may be used alone or in combination of two or more. Representative examples of the tackifier include various plasticizers such as dioctyl phthalate.
[0072]
On the other hand, as a curing agent that provides an appropriate crosslinking property when using a thermosetting resin, amines such as triethylenetetramine, xylenediamine, diaminodiphenylmethane, phthalic anhydride, maleic anhydride, dodecylsuccinic anhydride, and anhydride Acid anhydrides such as pyromellitic acid and benzophenonetetracarboxylic anhydride, diaminodiphenylsulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resins, dicyandiamide, and alkyl-substituted imidazole can be used. These may be used alone or as a mixture of two or more. Also, it is not necessary to use it. The addition amount of these curing agents (crosslinking agents) can be selected in the range of 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer. If this amount is less than 0.1 part by weight, curing will be insufficient, and if it exceeds 50 parts by weight, excessive crosslinking will occur, which may adversely affect the adhesiveness. In the present invention, "parts by weight" is a notation used when the weight of a compounding agent such as a solvent or an additive is indicated as a number of parts with respect to 100 parts of the resin.
[0073]
Solvents used for molding these resin compositions include ketone solvents such as acetone, diethyl ketone, methyl amyl ketone and cyclohexanone, aromatic solvents such as toluene and xylene, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate. , Ethylcellosolve solvents such as ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, butyl acetate, isoamyl acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, methyl pyruvate, ester solvents such as ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methanol Alcoholic solvents such as ethanol, propanol, propylene glycol methyl ether, propylene glycol ethyl ether, propylene glycol propyl ether, etc., alone or as needed. More than one kind can be used in combination. These solvents may or may not be used.
[0074]
When forming the adhesive layer 3 (the layer of the resin composition) on the
[0075]
(Method of manufacturing strip members)
The strip member is manufactured, for example, as follows. First, as shown in FIGS. 2 (a), 3 (a), and 4 (a), a
[0076]
(Application and deformation of sealing material)
The above-described sealing material can be applied and modified, and the
[0077]
The
[0078]
(Method of manufacturing the mounting body)
The
[0079]
As the
[0080]
(1)
(2)
(3)
(4)
Note that the above configuration is used when light is extracted from the
[0081]
The manufacture of the mounted body can be performed, for example, as follows.
[0082]
(I) First, as shown in FIG. 7 (a), a
[0083]
The insulating
[0084]
(II) Next, the core material 1 (the
[0085]
(III) For example, the
[0086]
(IV) Further, as shown in FIGS. 7 (d) and 8 (c), an
[0087]
The sealing structure may be arranged in any manner as long as it is arranged so that the sealing of the
[0088]
FIG. 11 shows an application example of the arrangement of the sealing structure. In FIGS. 11A and 11B, the
[0089]
(V) Further, as shown in FIG. 7E, the
[0090]
(VI) Thereafter, the substrates are joined by the
[0091]
The curing of the adhesive layer by heating is performed at a temperature near the curing temperature of the resin composition, and when the heating temperature is lower than the curing temperature, the heating time is lengthened. Not only the heat curing of the resin composition but also the heat treatment is performed so that the display element is not exposed to a high temperature of about 150 ° C. or more for a long time. The temperature to which the element is exposed is preferably 120 ° C. or less, more preferably 100 ° C. or less.
[0092]
The preferred ranges of the above-mentioned heating and pressurizing are the same in the following embodiments.
[0093]
When the radiation curing method is used, active energy rays such as α-rays, β-rays, γ-rays, neutron rays, X-rays, accelerated electron beams, and ultraviolet rays can be used. In the case of an electron beam, the irradiation dose is usually used in the range of 0.1 to 100 Mrad, but preferably 1 to 20 Mrad. 0.01 to 10 J / cm for UV 2 0.1 to 6 J / cm 2 Is particularly preferred.
[0094]
The
[0095]
When a part of the sealing
[0096]
[Second embodiment]
Hereinafter, other embodiments of a sealing material and a mounted body in which a substrate is bonded using the sealing material will be described. In this embodiment, a sealing member is provided using a sealing material in which the above-mentioned strip member and the
[0097]
(Mounted body)
FIG. 12 shows an organic EL element mounted body in which substrates are joined by using a strip member in which the
[0098]
In this embodiment, each of the sealing
[0099]
(Sealing material)
Each of the sealing
[0100]
Since the
[0101]
The adhesive layer 3 'of the sealing material can be made of the same resin composition as in the case of the first embodiment. The thickness is preferably 1 μm or more and 10 mm or less. If it is less than 1 μm, it is difficult to control the thickness, and the adhesive strength is greatly reduced. On the other hand, if the thickness is 10 mm or more, a smooth adhesive surface cannot be obtained, so that sufficient adhesiveness cannot be obtained. More preferably, the thickness of the adhesive layer is 3 μm or more and 5 mm or less, and most preferably 5 μm or more and 1 mm or less.
[0102]
However, depending on the fluidity of the resin composition, the following structural deformation may be effective.
[0103]
Since the
[0104]
(Method of manufacturing sealing material)
As the sealing material, a
[0105]
In order to form a sealing material as shown in FIGS. 14E and 14F, the entire outside of the
[0106]
(Method of manufacturing the mounting body)
The manufacturing method of the mounted body is as follows.
[0107]
(I) First, similarly to (I) of the first embodiment, the
[0108]
(II) Next, a sealing material composed of the core material 1 (
[0109]
(III) The sealing
[0110]
(IV) Further, as shown in FIG. 15D, the
[0111]
(V) Thereafter, the substrates are joined by the adhesive layer 3 'while pressing the opposing
[0112]
When a part of the sealing material is crossed as shown in FIGS. 16B and 16C, the sealing material is raised as shown in FIG. As shown in FIG. 18 (b), a higher pressure is applied to the crossed portion than to the other portions so that the sealing structure has the same height h between the crossed portion and the crossed portion.
[0113]
[Third Embodiment]
In this embodiment, a sealing material in which a plurality of the strip members of the first embodiment are integrated with an
[0114]
(Mounted body)
FIG. 19 shows an organic EL element mounted body in which substrates are joined using at least two or
[0115]
In this embodiment, each of the sealing
[0116]
(Sealing material)
The sealing
[0117]
Since the
[0118]
The
[0119]
As described in the second embodiment, depending on the fluidity of the resin composition, structural deformation such that the portion of the
[0120]
(Method of manufacturing sealing material)
As the sealing material, a
[0121]
In order to form a sealing material as shown in FIGS. 21 (f), (g) and (h), the entire outside of the
[0122]
(Method of manufacturing the mounting body)
As described below, the mounting body can be manufactured according to a manufacturing method similar to that of the second embodiment instead of the sealing material shown in FIG. 20 or 21.
[0123]
(I) First, similarly to (I) of the first embodiment, the
[0124]
(II) Next, a sealing material composed of the core material 1 (
[0125]
(III) The sealing
[0126]
(IV) Further, as shown in FIG. 22D, the
[0127]
(V) Thereafter, the substrates are joined by the
[0128]
When a part of the sealing material is crossed as shown in FIGS. 23 (b) and 23 (c), the sealing material rises as shown in FIG. As shown in FIG. 25 (b), a higher pressure is applied to the crossed portion than to the other portions so that the sealing structure has the same height h between the crossed portion and the crossed portion.
[0129]
[Characteristics of mounting body]
As described above, the mounting body of the present invention obtained by arranging the sealing material on the
[0130]
In the use of the mounted body, if the moisture resistance is low, a dark spot (non-light emitting surface) is generated on the display element. When the dark spot area ratio is defined as the following equation, the practicality of the mounting body is as follows: the dark spot area ratio to the light emitting area of the device after an acceleration test at 60 ° C., 90% relative humidity and 1000 hours is 10% or less. And more preferably 2% or less.
[0131]
The mounting body provided by the present invention suppresses the generation and growth of dark spots and satisfies the condition of the dark spot area ratio, which is an outstanding feature not seen in the past.
[0132]
The reason why the initial moisture-proof property and the initial adhesive strength, the moisture-proof property after heating and humidification, and the retention of the adhesive property are exhibited in the package of the present invention is not necessarily clear, but is considered as follows.
[0133]
That is, when the
[0134]
Further, when the bonding by the
[0135]
In the case where it is not necessary to use the top emission method, the reliability and durability of the EL element mounted body can be further improved by incorporating a desiccant at the time of manufacturing the mounted body.
[0136]
In addition, the package obtained according to the present invention has a very high barrier property not only for moisture and oxygen but also for other substances, and can block the entry and exit of various components. In addition to a display element such as an inorganic EL element, a solar cell element, and the like, the present invention can be applied to a package of various functional elements formed using a semiconductor or a substance having low chemical stability.
[0137]
[Sheet-shaped sealing material]
When the functional element sealed between the substrates is very thin, it is more beneficial to use a thinner member than that described in the above embodiment. Further, a thinner strip member is advantageous for downsizing the sealing body, and in practical use of a display device, a large display area can be ensured. High usefulness. In the case of such a thin strip member, in order to facilitate the operation of arranging the
[0138]
Hereinafter, embodiments of the sheet-shaped sealing material will be described.
[0139]
In a particularly useful sheet-like sealing material, the
[0140]
The
[0141]
Specific examples of the material of the
[0142]
When the
[0143]
As a primer when the surface of the
[0144]
The above-mentioned polymer may be used as a primer by copolymerizing two or more kinds or mixing two or more kinds as necessary. In addition, the same resin composition as the
[0145]
The primer is usually used by dissolving it in a general-purpose solvent, but may be used without a solvent. Solvents include ketone solvents such as acetone, diethyl ketone, methyl amyl ketone and cyclohexanone, aromatic solvents such as toluene and xylene, cellosolve solvents such as methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and lactic acid. Ethyl, butyl acetate, isoamyl acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, methyl pyruvate, ester solvents such as ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methanol, ethanol, propanol, propylene glycol methyl ether, propylene glycol Examples include alcoholic solvents such as ethyl ether and propylene glycol propyl ether, and if necessary, used alone or in combination of two or more. Can be.
[0146]
The primer may optionally contain additives such as a coupling agent, a tackifier for improving the adhesive strength, and a plasticizer for adjusting the tackiness. As coupling agents, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-amino Silane coupling agents having an amino group such as propyltrimethoxysilane and hexamethylsilazane; silanes having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane A coupling agent, a silane coupling agent having a mercapto group such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and a silane coupling agent such as a silane coupling agent having a halogen group such as γ-chloropropyltrimethoxysilane; 2,2-dia Loxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, isopropyldimethacrylisostearoyl titanate, isopropyldiacrylisostearoyl titanate, isopropyltriisostearoyl titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) Titanate coupling agents such as ethylene titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyltricumylphenyl titanate, aluminum coupling agents such as acetoalkoxyaluminum diisopropylate, and zirconium coupling agents such as acetylacetone / zirconium complex. is there.
[0147]
Examples of the tackifier include dicyclopentadiene resin, rosin, modified rosin, terpene resin, xylene resin, terpene-phenol resin, alkylphenol resin, coumarone-indene resin, and the like, if necessary, alone or in combination of two or more. Can be used. In addition, a general-purpose silane coupling agent such as epoxy silane, amino silane, or acryl silane can be used to improve the adhesion to the plastic core material.
[0148]
Typical examples of the plasticizer include dioctyl phthalate.
[0149]
A curing agent (crosslinking agent) may be added to the thermosetting resin used for the primer, if necessary. Examples of the curing agent include amines such as triethylenetetramine, xylenediamine, diaminodiphenylmethane, and phthalic anhydride. Acid anhydrides such as maleic anhydride, dodecyl succinic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, diaminodiphenyl sulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resin, dicyandiamide, alkyl-substituted imidazole, polyfunctional isocyanate And the like. The curing agents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the curing agent to be added is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer. If the amount of the curing agent is less than 0.1 part by weight, the curing is insufficient, and if it exceeds 50 parts by weight, excessive crosslinking may occur, which may adversely affect the adhesiveness.
[0150]
The thickness of the
[0151]
In the sealing mode in which the
[0152]
As the metal forming the
[0153]
The
[0154]
However, it is difficult to uniformly form a plating having a thickness of 5 μm or more in the fusion plating, and it is easy to form a uniform plating having a thickness of 5 to 30 μm in the electrolytic plating. In addition, electroless plating takes time to form a thick film. Therefore, electrolytic plating is preferable in consideration of manufacturing efficiency and precision, but cannot be directly applied to a plastic core material. In order to apply electrolytic plating to a plastic core material, as shown in FIG. 35A, first, a
[0155]
Electroplating is particularly suitable for forming the
[0156]
An embodiment of the sheet-like sealing material of the present invention constituted by using the above-described strip member will be described below.
[0157]
[First Embodiment of Sheet-shaped Sealing Material]
In the sheet-like sealing material of this embodiment, as shown in FIGS. 26A to 26F, a base member in which the
[0158]
The film thickness of the
[0159]
In (a) and (f) of FIG. 26, the outer diameter of the
[0160]
When the sheet-like sealing material as described above is adhered to the substrate, the
[0161]
In the present invention, the elastic compression of the
[0162]
The
[0163]
As a requirement for the sheet-shaped sealing material, it is preferable that the resin composition before curing at room temperature has a shape-retaining property that can maintain the shape on the base material. Taking these points into account, the resin composition used as the
[0164]
When a thermosetting resin is used, the curing temperature is 50 ° C. or more and 200 ° C. or less, preferably 180 ° C. or less, more preferably 70 ° C., from the viewpoint of storage stability, heat resistance, and prevention of thermal deterioration of the functional element to be sealed. The temperature of 150 ° C. or lower is the same as in the case of the resin composition of the
[0165]
As a specific example when the resin composition is a thermosetting resin, a resin such as a phenol resin, a melamine resin, an epoxy resin, and a xylene resin can be applied. In addition, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resin, novolak type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, polyalcohol / polyglycol type epoxy resin, polyolefin type epoxy resin, alicyclic type Or an epoxy resin such as halogenated bisphenol.
[0166]
Examples of thermosetting resins and thermoplastic resins other than epoxy resins include natural rubber, polyisoprene, poly-1,2-butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene and poly- (Di) enes such as 2-t-butyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, and polyethers such as polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, and polyvinyl butyl ether And polyesters such as polyvinyl acetate and polyvinyl propionate, polyurethane, ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, polysulfide, and phenoxy resin. In addition, ethylene-vinyl acetate copolymer, modified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic ester copolymer, ethylene-acryl Acid salt copolymer, acrylate rubber, polyisobutylene, atactic polypropylene, polyvinyl butyral, acrylonitrile-butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, ethylene cellulose, polyamide, Silicone rubber, synthetic rubbers such as polychloroprene, polyvinyl ether, and the like are applicable, and may be used alone or in combination of two or more. Examples of the acrylic resin include the following. Polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, poly-2-ethylhexyl acrylate, poly-t-butyl acrylate, poly-3-ethoxypropyl acrylate, polyoxycarbonyltetramethacrylate, polymethylacrylate, polyisopropylmethacrylate, polydodecylmethacrylate, polytetra Decyl methacrylate, poly-n-propyl methacrylate, poly-3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate, polyethyl methacrylate, poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate, poly-1,1-diethylpropyl methacrylate, polymethyl Poly (meth) acrylates such as methacrylate or copolymers thereof can be used. Further, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate and the like can also be used. In particular, urethane acrylate and epoxy acrylate are excellent in adhesion to an adherend. Examples of epoxy acrylate include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl alcohol diglycidyl ether, and resorcinol. (Meth) acrylic such as diglycidyl ether, diglycidyl adipate, diglycidyl phthalate, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether, etc. Acid adducts.
[0167]
If necessary, it is also possible to use a resin obtained by copolymerizing two or more of the above resins, or a blend of two or more of the above resins. Polymers having a hydroxyl group in the molecule, such as epoxy acrylate, are effective in improving the adhesion to the support. In addition, when the
[0168]
When a thermosetting resin is used, as a curing agent (crosslinking agent), amines such as triethylenetetramine, xylenediamine, diaminodiphenylmethane, phthalic anhydride, maleic anhydride, dodecylsuccinic anhydride, pyromellitic anhydride, and pyromellitic anhydride, Acid anhydrides such as benzophenonetetracarboxylic acid, diaminodiphenylsulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resins, dicyandiamide, alkyl-substituted imidazole, and polyfunctional isocyanate compounds can be used. The curing agents may be used alone or as a mixture of two or more. Also, it is not necessary to use it.
[0169]
The amount of the curing agent to be added is selected in the range of 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin. If the amount of the curing agent (crosslinking agent) is less than 0.1 part by weight, curing will be insufficient, and if it exceeds 50 parts by weight, crosslinking will be excessive and adversely affect adhesiveness.
[0170]
As the
[0171]
The radical (co) polymer (A) can be prepared by reacting a radical polymerizable monomer having at least one radical polymerizable group with a radical polymerization initiator. As a body, diolefin monomers such as butadiene, isoprene, and 2-chlorobutadiene; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and t-butyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate , Glish (Meth) acrylate, 2,3-dibromopropyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, Such as fluorooctylethyl (meth) acrylate, trimethylsiloxyethyl (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate (Meth) acrylates; vinyl compounds such as styrene, chlorostyrene, α-methylstyrene, dimethylstyrene, t-butylstyrene, divinylbenzene, vinyl acetate, and N-vinylpyrrolidone; Acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, (Meth) acrylamides such as N-methylol (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N, N-methylenebis (meth) acrylamide; maleimides such as N-phenylmaleimide and N-laurylmaleimide; (meth) acrylonitrile , Maleic acid alkyl monoester, fumaric acid alkyl monoester, itaconic acid alkyl monoester, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic anhydride, crotonic acid, isocrotonic acid, vinyl acetic acid, tiglic acid, oleic acid, sol Acid, linoleic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, citraconic acid, tetraconic acid, itaconic acid, itaconic anhydride, acid phosphooxyethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-acid phosphooxypropyl (meth ) Acrylate, acid phosphooxypropyl (meth) acrylate, acid phosphooxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate, acid phosphooxypropylene glycol mono (meth) acrylate, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, styrene sulfone Monomers having an acid group or an acid anhydride group such as an acid, sulfopropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxynaphthalene-2-sulfonic acid, and 2- (meth) acryloyloxybenzenesulfonic acid. There are bodies.
[0172]
Examples of the radical polymerization initiator include hydrogen peroxide, inorganic peroxides such as potassium persulfate and ammonium persulfate, t-butyl hydroperoxide, t-dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, acetyl peroxide, benzoyl peroxide and Organic peroxides such as lauroyl peroxide; and azobisisobutyronitrile, azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, methyl azobisisobutyrate, azobisisobutylamidine hydrochloride and azobiscyanovaleric acid Azo compounds and the like. For inorganic peroxides and organic peroxides, amines such as ethylamine, triethanolamine and dimethylaniline, polyamines, divalent iron salt compounds, ammonia, organometallic compounds such as triethylaluminum, triethylboron and diethylzinc , Sodium sulfite, sodium bisulfite, cobalt naphthenate, sulfinic acid, mercaptan and the like may be used in combination. Further, as a radical polymerization initiator used for producing a radical (co) polymer, a photopolymerization initiator that generates a polymerization initiation radical by irradiation with ultraviolet light or visible light may be used. Alternatively, a polymerization initiation radical may be generated by irradiating a high energy beam such as an electron beam, an X-ray, or plasma without using a radical polymerization initiator.
[0173]
When produced using an organic peroxide and / or an azo compound as the radical polymerization initiator, the photopolymerizability of the radically polymerizable resin adhesive containing a radical (co) polymer is increased. In particular, a resin adhesive containing a radical (co) polymer produced using an organic peroxide that generates a 2,2-dimethyl-substituted alkyl (acyl) oxy radical is highly crosslinked at a low UV irradiation dose. ,preferable. As the 2,2-dimethyl-substituted alkyl (acyl) oxy radical, a t-butoxy radical, a t-hexyloxy radical, a cumeneoxy radical and the like are particularly effective. Examples of the organic peroxide that generates a 2,2-dimethyl-substituted alkyl (acyl) oxy radical include t-butyl peroxypivalate, t-butyl peroxy neodecanoate, and t-butyl peroxy 2-ethyl. Hexanoate, t-
[0174]
The radical polymerizable monomer (B) may be a compound having at least one radical polymerizable group and one or more functional groups. Preferred compounds having high reactivity include (meth) acrylic compounds, (meth) acrylamide compounds and vinyl ether compounds. Specifically, for example, (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, Dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) ac Rate, 1,6-hexanedi (meth) acrylate, bisphenol A dioxydiethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) Acrylate, N-vinylpyrrolidone, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polybutadiene (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, (Meth) acrylic compounds such as phosphazene (meth) acrylate and acrylic copolymers with (meth) acryloyl groups introduced; polybutadiene and unsaturated polyester compounds The main chain and a compound having an unsaturated bond in the side chain of an allyl group, a vinyl group, vinyl ether group, a maleimide group, a compound having a radical polymerizable double bond such as (meth) acrylamide group. One or a mixture of two or more of these can be used. One or more radical polymerizable monomers having two or more functional groups can be used to enhance the ultraviolet curability of the radical polymerizable resin adhesive and improve the performance of the coating film.
[0175]
Specific examples of the radical polymerizable monomer having a methine group and / or a methylene group adjacent to a chain ether group as a functional group include, for example, diethylene glycol mono (meth) acrylate and triethylene glycol mono (meth) acrylate , Nonaethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate (polyethylene glycol chain number: 30), methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, Methoxy nona ethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate (polyethylene glycol chain number: 30), 3-methoxybutyl (meth) a Relate, ethoxydiethylene (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexylethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyldiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, nonyl Phenoxyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, tricyclo [5,2,1,0 2,6 Alkyloxypolyalkylene glycol (meth) acrylates such as decanyloxyethyl (meth) acrylate, isobonyloxyethyl (meth) acrylate, cyclohexyloxyethyl (meth) acrylate, and methoxytripropylene glycol (meth) acrylate; and allyloxy Polyalkylene glycol (meth) acrylates; N-alkoxyalkyl (meth) acrylamides such as Nn-butoxymethyl (meth) acrylamide, N-isobutoxymethyl (meth) acrylamide, and N-methoxyethyl (meth) acrylamide Is mentioned.
[0176]
Examples of the radical polymerizable monomer having a methine group and / or a methylene group adjacent to a cyclic ether group as a functional group include, for example, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate and monoε-caprolactone adduct of tetrahydrofurfuryl alcohol. (Meth) acrylate, (meth) acrylate of diε-caprolactone adduct of tetrahydrofurfuryl alcohol, (meth) acrylate of mono β-methyl-δ-valerolactone adduct of tetrahydrofurfuryl alcohol, and (meth) acrylate of tetrahydrofurfuryl alcohol (Β-methyl-δ-valerolactone adduct (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryloxydiethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfury Oxytetraethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryloxypropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryloxydipropylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryloxy tripropylene glycol (meth) acrylate, 2- of tetrahydrofurfuryl alcohol (Meth) having a tetrahydrofuran ring such as isocyanate ethyl (meth) acrylate adduct, glycidyl (meth) acrylate reactant of 2-tetrahydrofuronic acid, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylamide, tetrahydrofurfuryloxymethyl (meth) acrylamide, etc. Acrylates and (meth) acrylamides having a tetrahydrofuran ring; tetrahydropyran-2-methanol (meth Acrylate, (meth) acrylate of mono-ε-caprolactone adduct of tetrahydropyran-2-methanol, (meth) acrylate of diε-caprolactone adduct of tetrahydropyran-2-methanol, mono β- of tetrahydropyran-2-methanol (Meth) acrylate of methyl-δ-valerolactone adduct, (meth) acrylate of diβ-methyl-δ-valerolactone adduct of tetrahydropyran-2-methanol, tetrahydropyran-2-methanoloxyethyl (meth) acrylate , Tetrahydropyran-2-methanoloxydiethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydropyran-2-methanoloxytetraethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydropyran-2-methanoloxypropyl (Meth) acrylate, tetrahydropyran-2-methanoloxydipropylene glycol (meth) acrylate, tetrahydropyran-2-methanoloxytripropylene glycol (meth) acrylate, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate of tetrahydropyran-2-methanol Tetrahydropyran ring such as adduct, (meth) acrylic acid reactant of epichlorohydrin adduct of tetrahydropyran-2-methanol, tetrahydropyran-2-methanol (meth) acrylamide, tetrahydropyran-2-methanoloxymethyl (meth) acrylamide (Meth) acrylates having the formula (1) and (meth) acrylamides having a tetrahydropyran ring; 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and ethylene glycol (Meth) acrylate of a condensate of (2), (meth) acrylate of mono-ε-caprolactone adduct of a condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and ethylene glycol, 2,2-dimethyl-3-oxypropanal (Meth) acrylate of a mono-β-methyl-δ-valerolactone adduct of ethylene glycol and a condensate of ethylene glycol, and an epichlorohydrin adduct of a condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and ethylene glycol ( (Meth) acrylic acid reactant, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate adduct of condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and ethylene glycol, 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and propylene glycol (Meth) acrylate of a condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal (Meth) acrylate of monoε-caprolactone adduct of condensate of propylene glycol, and (meth) acrylic acid reactant of epichlorhydrin adduct of condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and propylene glycol 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate adduct of a condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and propylene glycol, and (-of a condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and neopentyl glycol (Meth) acrylate, (meth) acrylate of monoε-caprolactone adduct of condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and neopentyl glycol, 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and neopentyl glycol (Meth) a of the epichlorohydrin adduct of the condensate of Lylic acid reactant, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate adduct of condensate of 2,2-dimethyl-3-oxypropanal and neopentyl glycol, glycerol formal (meth) acrylate, mono ε- of glycerol formal (Meth) acrylate of caprolactone adduct, (meth) acrylate of mono-β-methyl-δ-valerolactone adduct of glycerol formal, (meth) acrylic acid reactant of epichlorohydrin adduct of glycerol formal, glycerol Examples include (meth) acrylates having a dioxolane ring, such as 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate adduct of formal.
[0177]
Examples of the radical polymerizable monomer having a methine group and / or a methylene group adjacent to a hydroxyl group as a functional group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy- Examples thereof include (meth) acrylates having a hydroxyl group such as 3-lauroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, and dipropylene glycol mono (meth) acrylate.
[0178]
Examples of the radical polymerizable monomer having a methine group and / or a methylene group adjacent to a carbamate group as a functional group include isopropyl alcohol adduct of 2-isocyanateethyl (meth) acrylate and n of 2-isocyanateethyl (meth) acrylate -Butyl alcohol adduct, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate adduct of n-butyl isocyanate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate adduct of phenyl isocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate adduct of octadecyl isocyanate (Meth) acrylates having a carbamate group such as isopropyl alcohol adduct of 3-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate and 3-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate Mosquitoes, such bets n- butyl alcohol adduct - vinyl compounds such as having Bameto group.
[0179]
As a photopolymerization initiator, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane- 1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propane Acetophenone compounds such as -1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, benzoin compounds such as benzoin, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; -Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxo Acylphosphine oxide compounds such as side, benzyl, methylphenylglyoxyester; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl Benzophenone-based compounds such as diphenyl sulfide, acrylated benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, and 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone; 2-isopropylthioxanthone Thioxanthone compounds such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone; amino acids such as Michler's ketone and 4,4'-diethylaminobenzophenone Benzophenone-based compounds; 10-butyl-2-chloro acridone, 2-ethyl anthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and the like.
[0180]
Regarding the ultraviolet curing of the radical polymerizable resin adhesive, the polymerization is carried out only with a photopolymerization initiator, but it is preferable to use a photosensitizer in combination for more efficient polymerization. Examples of such a sensitizer include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and benzoic acid (2-dimethylamino). There are amines such as ethyl, ethyl (n-butoxy) 4-dimethylaminobenzoate and 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate.
[0181]
Further, if necessary, a non-reactive oligomer, a pigment, a dye, an inorganic filler, an organic filler, a polymerization inhibitor, a defoaming agent, a leveling agent, a plasticizer, and an adhesion improver such as a coupling are added. Is also good. Inorganic fillers and organic fillers are generally used to improve mechanical properties such as strength, cushioning, and slipperiness.
[0182]
Although the above additives are not particularly limited, oil-disintegrating dyes having excellent solubility are particularly suitable for organic pigments, inorganic pigments and dyes.
[0183]
As the inorganic filler, silicon dioxide, silicon oxide, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium carbonate, magnesium oxide, calcium oxide, talc, kaolin clay, calcined clay, zinc oxide, zinc sulfate, aluminum hydroxide, aluminum oxide, glass, Mica, barium sulfate, alumina white, zeolite, silica balloon, glass balloon and the like. A halogen group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a thiol group, a silane coupling agent, a titanate-based coupling agent, an aluminum-based coupling agent, a zirconate-based coupling agent, and the like are added to and reacted with the inorganic filler. It may have a functional group such as a group and an amide group.
[0184]
Organic fillers include benzoguanamine resin, melamine resin, benzoguanamine / melamine resin, urea resin, silicone resin, low density polyethylene, high density polyethylene, polyolefin resin, ethylene / acrylic acid copolymer, polystyrene, cross-linked polystyrene, polydivinylbenzene , Styrene-divinylbenzene copolymer, acrylic copolymer, cross-linked acrylic resin, polymethyl methacrylate resin, vinylidene chloride resin, fluorine resin,
[0185]
As coupling agents, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-amino Silane coupling agents having an amino group such as propyltrimethoxysilane and hexamethylsilazane; silanes having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane Silane coupling agents such as coupling agents, silane coupling agents having a mercapto group such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and silane coupling agents such as silane coupling agents having a halogen group such as γ-chloropropyltrimethoxysilane; , 2-Diari Oxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, isopropyldimethacrylisostearoyl titanate, isopropyldiacrylisostearoyl titanate, isopropyltriisostearoyl titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ) Titanate-based coupling agents such as ethylene titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyltricumylphenyl titanate, aluminum-based coupling agents such as acetoalkoxyaluminum diisopropylate, and zirconium-based coupling agents such as acetylacetone / zirconium complex. There is.
[0186]
Light for irradiating the radical polymerizable resin adhesive is preferably ultraviolet light or visible light having a wavelength of 180 nm to 900 nm. Light sources include ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, metal halide lamps, chemical lamps, black light lamps, mercury-xenon lamps, short arc lamps, helium / cadmium lasers, argon lasers, sunlight is there. In particular, light having wavelengths of 254 nm, 313 nm, 365 nm, and 405 nm is effective for crosslinking the radical polymerizable resin adhesive. 100mJ / cm 2 -10 J / cm 2 Can be highly crosslinked with a light irradiation amount of The light irradiation amount can be measured by, for example, an industrial UV checker UVR-T37 (manufactured by Topcon Corporation).
[0187]
The radical polymerizable resin adhesive is cured by ultraviolet rays without containing a photopolymerization initiator. Further, crosslinking may be performed by a high energy ray other than light. Examples of high energy rays include electromagnetic radiation such as electron beams, X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays.
[0188]
The cationically curable UV-curable epoxy resin adhesive contains a Lewis acid salt-type curing agent that releases a Lewis acid catalyst by photodecomposition by irradiation with light such as ultraviolet rays as a main curing agent. The epoxy resin is a type of adhesive in which an epoxy resin as a main component is polymerized and cured by a cationic polymerization type reaction mechanism using a resin such as epoxy or vinyl ether using an acid as a catalyst. Epoxy resins that are the main component include epoxidized olefin resins, alicyclic epoxy resins, and novolak epoxy resins. Examples of the curing agent include Lewis acid salts of aromatic diazonium, Lewis acid salts of diallyliodonium, Lewis acid salts of triallylsulfonium, Lewis acid salts of triallyl selenium, and the like. Of these, Lewis acid salts of diallyliodonium are preferred.
[0189]
It is also possible to use a thermoplastic elastomer as the
[0190]
Examples of the soft segment component of the thermoplastic elastomer include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 2-methyl-3-ethyl-1,3-butadiene, 3-methyl-1,3-pentadiene, 2-ethyl-1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, 2-methyl-1,3-hexadiene, 1,3-heptadiene, 3-methyl-1,3- Heptadiene, 1,3-octadiene, 3,4-dimethyl-1,3-hexadiene and the like can be mentioned, and 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable. Examples of the vinyl monomer copolymerizable with these conjugated dienes include ethylene. These monomers can be copolymerized within a range that does not decrease the polymerization rate of the conjugated diene. From a practical standpoint, the amount of these vinyl monomers is preferably 1/10 or less of the weight of the conjugated diene.
[0191]
Examples of the hard segment component of the thermoplastic elastomer include, in addition to styrene, nuclear alkyl-substituted styrenes such as o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, ethylstyrene, and p-tert-butylstyrene. Represents a halogen-substituted styrene such as monochlorostyrene, dichlorostyrene, dibromostyrene, and tribromostyrene, α-methylstyrene, α-alkyl-substituted styrene such as α-methyl-p-methylstyrene, and the like. Examples include styrene alone or a monomer mixture in which a part of the styrene is replaced with the above-mentioned vinyl aromatic monomer other than styrene. The unsaturated nitrile monomer mentioned here is acrylonitrile, methacrylonitrile, etc., and a typical one is acrylonitrile.
The weight ratio between the soft segment component and the hard segment component is not particularly limited, and is adjusted according to the purpose.
[0192]
The molecular weight of the thermoplastic elastomer is not particularly limited, and may be 1,000 to 500,000 for ordinary use. The preferred molecular weight range is from 5,000 to 100,000.
[0193]
The
[0194]
Further, a tackifier may be added to improve the adhesive strength of the
[0195]
Further, as the tackifier, for example, various plasticizers such as dioctyl phthalate may be used.
[0196]
The resin adhesive as described above is usually dissolved in a general-purpose solvent and used for molding, but can be used without a solvent. You may mix and use with a metal dispersing agent etc. Examples of the solvent used for molding include ketone solvents such as acetone, diethyl ketone, methyl amyl ketone and cyclohexanone, aromatic solvents such as toluene and xylene, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, and ethyl cellosolve acetate. Cellosolve solvents such as ethyl lactate, butyl acetate, isoamyl acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, ester solvents such as methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methanol, ethanol, propanol, Alcohol solvents such as propylene glycol methyl ether, propylene glycol ethyl ether, and propylene glycol propyl ether; and the like. They can be used in combination.
[0197]
Examples of the material of the
[0198]
It is appropriate that the
[0199]
The
[0200]
[Second embodiment of sheet-shaped sealing material]
In the sheet-like sealing material of this embodiment, as shown in FIG. 28A, the
[0201]
Such a sheet-like sealing material forms a film of the
[0202]
[Third Embodiment of Sheet-shaped Sealing Material]
In the sheet-like sealing material of this embodiment, the film-like resin adhesive 14 supported by the
[0203]
Such a sheet-like sealing material was subjected to a release treatment of a layer of the
[0204]
[Modified example of sheet-shaped sealing material]
In the sheet-like sealing material, the
[0205]
[Production method of sheet-shaped sealing material]
A method for manufacturing a sheet-shaped sealing material will be described using the first to third embodiments as examples.
[0206]
First, as shown in FIG. 2 (a), the surface of the strip-shaped
[0207]
Next, using a film forming technique such as a roll coating method, a printing method, or a spin coating method, on a substrate having release properties or a release-treated
[0208]
Finally, the
[0209]
As shown in FIGS. 27A to 27C, the sheet-shaped sealing material in which a plurality of strip members are arranged in parallel is appropriately cut along the axial direction of the
[0210]
[Manufacture of mounted body]
A process for manufacturing a package in which a functional element is sealed between substrates using a sheet-shaped sealing material will be described below with reference to FIGS. Here, an example of manufacturing an EL display device shown as a cross-sectional view of a main part in FIG. 1 using the sheet-shaped sealing material according to the above-described first embodiment will be described, but the present invention is not limited to this. Absent.
[0211]
The
[0212]
First, as shown in FIG. 30A, a lower electrode (cathode) 7 made of an Al—Li alloy or the like is formed on one surface of a
[0213]
Note that FIG. 30 shows a top emission type mounting, in which the
[0214]
Next, as shown in FIG. 30C, a sheet is placed at a position corresponding to the insulating
[0215]
Further, as shown in FIG. 30D, the opposing substrate (protective substrate) 6 faces the
[0216]
If necessary for softening the
[0219]
If the
[0218]
The sheet-shaped sealing material is attached to the insulating
[0219]
FIGS. 31A to 31D show arrangement shapes of typical sealing materials when a film-like sealing material is attached on the
[0220]
Since the sheet-shaped sealing material may be arranged so as to completely shield the element from the outside air, the arrangement shape is not limited to the above example. The substrate may have any shape as long as the display element formed on the substrate can be sealed by enclosing the display element with a sealing material.
[0221]
FIG. 32 shows an example in which a sheet-like sealing material is formed into a geometrically closed shape in order to increase the sealing accuracy of the sealing material. In this example, the sheet-like sealing material S ′ has a rectangular shape. A rectangular ring is formed so as to surround the element.
[0222]
FIG. 33 shows an example in which an inorganic EL element 20 is formed instead of the organic EL element in FIGS. 30A to 30E to manufacture an EL display device. 33A, the
[0223]
FIG. 34 shows an example of manufacturing a sealed body in which the solar cell element 30 is formed instead of the organic EL element in FIGS. 30 (a) to 30 (e). In FIG. 34A, the
[0224]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. However, the present embodiment does not limit the invention.
[0225]
First, a mounted body was prepared according to the following description, and the obtained mounted body was evaluated by the following evaluation method. The evaluation results are shown in Tables 1 to 22. In addition, the physical properties of the material used for manufacturing the mounted body were obtained according to the following measurement methods.
[0226]
[Measurement method and evaluation method]
(1) Compression modulus of plastic wire
The compression elastic modulus of the plastic wire is based on JIS K-7161. Each plastic wire is heated and pressed at a temperature equal to or higher than the melting point to form a film, punched into a predetermined shape with a dumbbell, and manufactured by Orientec Co., Ltd., Tensilon / UTM-. It was measured using 4-100.
[0227]
(2) Average wire diameter of plastic wire, metal wire and metal tube wire, thickness of metal tube wire
A core material such as a metal-coated plastic wire or a metal wire is put into an epoxy resin for casting (Epicoat 828 / triethylenetetramine = 10/1) and cured, and then the resin is cast until the wire portion is exposed. The surface was polished and observed with a scanning electron microscope (S-4700, manufactured by Hitachi, Ltd.). The wire diameter was calculated by image processing, ten values were taken for each sample, and the average was taken as the average wire diameter.
[0228]
(3) Melting point of metal
The sample was placed on a hot plate and observed with an optical microscope (BH-2, manufactured by Olympus Corporation) at a magnification of 100 while heating at a heating rate of 5 ° C./min. The temperature at which 100% of the solid metal was liquefied was defined as the melting point.
[0229]
(4) Thickness of metal layer
Similar to the measurement of the average wire diameter, after the core material coated with metal is poured into the epoxy resin for casting and cured, the surface of the cast resin is polished until the core material portion is exposed, and the scanning electron microscope is used. (S-4700, manufactured by Hitachi, Ltd.). The thickness of the metal layer was calculated by image processing, and the average value was calculated by taking values at 10 points. Similarly, when the core material was a metal wire, the measurement was performed by observing the cross section of the core material in the cured resin with a scanning electron microscope. At that time, the thickness of the outermost low melting point metal layer was determined as the thickness of the metal layer.
[0230]
(5) Coverage of plastic wire, metal wire and metal tube
Similar to the measurement of the average wire diameter, after the metal-coated core material is poured into the casting epoxy resin and cured, the surface of the casting resin is polished until the core material portion is exposed, and a scanning electron microscope ( (S-4700, manufactured by Hitachi, Ltd.). The coverage of the wire with the metal was calculated by image processing, and the average value of the values at 10 points was obtained.
[0231]
(6) Softening temperature of resin composition
The Vicat softening temperature of the resin composition was measured based on JIS K-7206.
[0232]
(7) MI
Based on JIS K-7210, MI of the resin composition was measured by a manual cutting method at a measurement temperature of 125 ° C. and a test load of 3.2 N.
[0233]
(8) Curing temperature of resin composition
Using a differential scanning calorimeter (DSC-2, manufactured by Perkin-Elmer Co., Ltd.), the calorimetry was performed at a heating rate of 5 ° C./min, and the temperature at the peak of the heat generation was defined as the curing temperature.
[0234]
(9) Application thickness of resin composition
Using a thickness gauge (PDS-2) manufactured by Peacock Co., Ltd., the average value of the five values was taken.
[0235]
(10) Moisture permeability
In accordance with JIS K-7129 (humidity sensor method), two 0.7 mm-thick soda glasses are sealed with a sealing material, a humidity difference is provided inside and outside the sealing material of the sample, and sealing at room temperature is performed. The change in the amount of water vapor inside and outside the stopper was measured by a humidity sensor. The moisture permeability was calculated by quantifying the amount of water vapor that moved from the high humidity side to the low humidity side during 24 hours.
[0236]
(11) Adhesive strength
According to the conditions of each Example and Comparative Example, a space between two 0.7 mm thick soda glasses was sealed with a sealing material, and peeled off using a rheometer (NRM-3002D-H, manufactured by Fudo Kogyo Co., Ltd.). The shear bond strength at a speed of 50 mm / min was measured.
[0237]
(12) Dark spot area ratio
The light emitting surface of the organic EL element was observed at a magnification of 800 times with an optical microscope (BH-2, manufactured by Olympus Corporation) equipped with a CCD camera. The dark spot area ratio was measured by binarizing the obtained image by image processing.
[0238]
(Experiment A1) First, a sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, a polystyrene pellet SD120 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., elastic modulus: 1.8 GPa) was heated and melted to a melting point or higher, and then gradually cooled to obtain a gel-like spherulite. A sheet having a thickness of 5 mm obtained by compression-molding the aggregate was super-stretched through a die having a diameter of 1 mm to obtain a polystyrene plastic wire having an average wire diameter of 1 mm and a length of 0.1 m. After subjecting the obtained polystyrene wire to a seeder treatment with palladium chloride, a nickel layer of 0.2 μm was deposited in an electroless nickel plating solution. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the thickness of the solder coating layer became 100 μm. The solder-coated polystyrene wire thus obtained was placed around a 25 mm × 100 mm soda glass, and heated and melted at 80 ° C. by an epoxy resin composition (Alteco 3500, Arteco 3500, modified epoxy resin / (Modified polyamine = 100/50) was applied to both sides of the solder-coated polystyrene wire with a dispenser so that the ratio of the resin thickness to the wire diameter became 100% (= 1.0 mm). After softening temperature of resin (80 ° C), heat and pressure at 1 Mpa for 10 minutes, another glass is bonded face to face, and heat and pressure at 120 ° C, 3 Mpa for 10 minutes to harden the resin and bond strength A sample for measurement was used. On the other hand, solder-coated polystyrene wires were arranged on four sides on a 100 mm × 100 mm soda glass, and the resin thickness was 1.times. On both sides of the solder-coated polystyrene wires so that the total width of the resin layer and the solder-coated polystyrene wires was 2 mm. 0 mm of the epoxy resin composition was applied. Thereafter, the resin was heated and pressed at a softening temperature (80 ° C.) of 1 Mpa for 10 minutes, then another piece of soda glass was bonded, and the resin was heated and pressed at a temperature of 120 ° C. and 3 Mpa for 10 minutes to cure the resin and to measure the moisture permeability. For use as samples. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0239]
(Experiment a1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, except that the polystyrene wire used in Experiment A1 had a wire diameter of 7 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment A1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When this experiment a1 is compared with the experiment example A1, it can be seen that the moisture permeability is high in the experiment a1, and the wire diameter of the plastic wire of 1.0 mm is more suitable than 7.0 mm.
[0240]
(Experiment A2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, in place of the polystyrene pellets used in Experiment A1, polyethylene (manufactured by Iron and Steel Chemical Co., Ltd., Flowbeads CL12007, average particle size: 1.0 mm) was used, and the average wire diameter was determined by the super-stretching method as in Experiment A1. A polyethylene plastic wire having a length of 2.0 mm and a length of 0.1 m was obtained. After subjecting the obtained wire to a seeder treatment with palladium chloride, a nickel layer of 0.2 μm was deposited in an electroless nickel plating solution. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a eutectic solder plating bath of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated wire became 3.0 mm. Acrylic resin (Hitachi Chemical Industries, Ltd., TF-3348-15F2G, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C. was used as the resin, and the ratio of the resin thickness to the wire diameter of the resin disposed on soda glass was 125% (= 2). .5 mm), and the resin was cured by 1.0 J / cm instead of heating at the curing temperature in Experiment A1. 2 The irradiation was performed in the same manner as in Experiment A1 to prepare a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0241]
(Experiment a2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, all the experiments were conducted except that the polyethylene wire having a compression modulus of 0.1 GPa and a wire diameter of 1.0 mm was used instead of the polyethylene wire used in the experiment A2, and the ratio of the resin coating thickness to the wire diameter was 100%. A sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in A2. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When this experiment a2 is compared with experiment A2, it can be seen that in experiment a2, the moisture permeability is high, and that the compression modulus of the core material is more suitable for 0.5 GPa than for 0.10 Gpa.
[0242]
(Experiment A3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, PMMA pellets (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., acrylic pellets IRD-50, average particle size 5.0 mm) were used, and the average wire diameter was 5.0 mm and the length was 0.1 mm. A 1-m plastic wire made of PMMA was prepared, and eutectic solder TI / Na = 93.7 / 6.3 (melting point: 238 ° C.) was used instead of In / Cd as the coating metal, and the eutectic solder was fused to the metal. To adjust the solder coating thickness to 3.0 mm with a diamond die. Further, a phenolic resin (phenolic resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) is used instead of the epoxy resin as the resin composition, and the ratio of the thickness of the resin disposed on the soda glass to the wire diameter is 150% (= 7. 5 mm), a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment A1, after heating and pressing at a softening temperature and 120 ° C. as in Experiment A1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0243]
(Experiment a3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment A3 except that the coating metal used in Experiment A3 was changed to Pb 100%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When the experiment a3 is compared with the experiment A3, in the experiment a3, the moisture permeability is high, and the composition of the coating metal is more suitable when the TI / NA is 93.7 / 6.3 than when the lead (Pb) is 100%. You can see that.
[0244]
(Experiment A4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, a wire having an average wire diameter of 0.5 mm was prepared using 66 nylon pellets (Alamine CM3007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size 0.5 mm) instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, and the coated metal was coated. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi instead of In / Cd 2 The eutectic solder was coated on the wire by fusing a metal using O (melting point 98 ° C.), and the thickness of the solder coating was adjusted to 1.0 mm using a diamond die. Further, a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used instead of the epoxy resin as the resin composition, and the ratio of the thickness of the resin disposed on the soda glass to the wire diameter was 100% (= 0.5 mm). In the same manner as in Experiment A1, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through heating and pressing at a softening temperature and 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0245]
(Experiment a4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, except that the thickness of the metal used in Experiment A4 was changed to 7 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment A4. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When this experiment a4 is compared with experiment A4, it can be seen that the adhesive force is low in experiment a4, and that a metal thickness of 1.0 mm is more suitable than 7.0 mm.
[0246]
(Experiment A5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, a 10 mm-diameter wire was produced using polyester pellets (Siveras L204G35, average particle size 0.3 mm, manufactured by Toray Industries, Inc.), and instead of In / Cd. Eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.) was coated to a thickness of 0.05 mm. As the resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 instead of epoxy resin (xylene resin: Nikonol HP-100, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., acrylic resin: HTR-860P-3, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) ), So that the ratio of the resin thickness to the wire diameter arranged on the soda glass is 80% (= 8 mm), and after the softening temperature and the heating and pressing at 120 ° C., as in Experiment A1, A sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in Experiment A1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0247]
(Experiment a5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, an adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment A5 except that the coverage of the plastic wire with the low melting point metal used in Experiment A5 was set to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When this experiment a5 is compared with experiment A5, it can be seen that the moisture permeability is high in experiment a5, and that the coverage of the plastic wire with the metal of 99% is more suitable than 40%.
[0248]
(Experiment A6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, a wire having a wire diameter of 0.5 mm was prepared using polypropylene pellets (Noblen H501, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., average particle size 0.03 mm), and In / Cd Is replaced by a eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point: 144 ° C.), and as a resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 instead of epoxy resin (polyester resin: Toyobo Co., Ltd.) Manufactured by Byron VG700, cross-linking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L), so that the ratio of the resin thickness to the wire diameter arranged on the soda glass is 100% (= 0.5 mm). Then, in the same manner as in Experiment A1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were produced through heating and pressing at a softening temperature and 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0249]
(Experiment a6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment A6 except that the wire diameter of the plastic wire used in Experiment A6 was changed to 0.03 mm. Then, a characteristic test was performed under the conditions shown in FIG. 15, and the results shown in FIG. 15 were obtained. When this experiment a6 is compared with experiment A6, it can be seen that moisture permeability is high in experiment a6, and 0.5 mm is more suitable as the plastic wire diameter than 0.03 mm.
[0250]
(Experiment A7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, polyvinyl chloride pellets (Ryuron paste 772, manufactured by Tosoh Corporation, average particle size 0.05 mm) were used to produce a wire having a wire diameter of 1 mm, and the In / Eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) is coated instead of Cd, and an acrylic resin (moisture-proof insulating material TF-3348, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is used instead of an epoxy resin as a resin composition. -15F2), the ratio of resin thickness to wire diameter on the soda glass is 100% (= 1.0 mm), and curing of the resin is 2.4 J / cm instead of heating in experiment A1. 2 The irradiation was performed by UV irradiation, and a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in Experiment A1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0251]
(Experiment a7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, except that the ratio of the resin thickness to the wire used to apply the resin to the substrate used in Experiment A7 to the wire diameter was set to 500% (= 5.0 mm), the bonding sample and the moisture permeability measurement sample were all the same as in Experiment A7. Produced. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When this experiment a7 is compared with experiment A7, it can be seen that moisture permeability is high in experiment a7, and that the thickness of the resin applied to the substrate is 1.0 mm is more suitable than 5.0 mm.
[0252]
(Experiment A8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, 6-nylon pellets (Alamine CM1007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size: 0.5 mm) were used to prepare a wire having a wire diameter of 0.2 mm, and In / Cd Instead of eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.). The ratio of the resin thickness to the wire diameter on the soda glass was assumed to be 100% (= 200 μm), and the other conditions were the same as in Experiment A1, except for the softening temperature and the heating and pressing at 120 ° C. A sample for humidity measurement was prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0253]
(Experiment a8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 4. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment A8, except that the temperature at which the resin composition used in Experiment A8 was cured was set to 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 4, and the results shown in Table 4 were obtained. When this experiment a8 is compared with experiment A8, in experiment a8, an abnormality that the EL element was changed to black was observed, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0254]
(Experiment A9) A sample was prepared under the conditions shown in Table 1. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment A1, 6-nylon pellets (Alamine CM1007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size: 0.5 mm) were used to prepare a wire having a wire diameter of 0.2 mm, and In / Cd Was replaced with eutectic solder Sn / In = 48/62 (melting point 117 ° C.) to obtain a strip member. After applying the same epoxy resin as in Experiment A1 with a resin thickness of 0.2 mm on soda glass, a strip member is placed on the resin, and otherwise the same as in Experiment A1, the softening temperature and heating at 120 ° C. After pressing, a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.
[0255]
(Experiment B1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, the metallic copper ingot was melted at 1100 ° C., and the melt was jetted from the nozzle into the inside of the rotating drum storing water. The solidified copper fiber was wound inside the drum by centrifugal force to produce a copper wire having a wire diameter of 1.5 mm and a length of 1 m. Electrolytic plating was performed on the obtained copper wire by a conventional method in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated wire became 1.2 mm. The solder-coated copper wire thus obtained was placed around a 25 mm × 100 mm soda glass, and heated and melted at 80 ° C. by an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin / (Modified polyamine = 100/50) was applied to the substrate on both sides of the solder-coated copper wire with a dispenser so that the ratio of the resin thickness to the wire diameter became 150% (= 1.5 mm). After softening temperature (80 ° C) of resin and heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another glass is bonded so that it faces each other, and the resin is hardened by heating and pressing at 120 ° C and 3 Mpa for 10 minutes. And a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, solder-coated copper wires are arranged on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass, and the epoxy resin composition is applied to a 1.0 mm resin so that the total width of the resin layer and the solder-coated copper wires becomes 2 mm. Thick and coated on both sides of the solder coated copper wire. Then, after heating and pressing at a softening temperature (80 ° C.) and 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass is bonded, and the resin is cured by heating and pressing at 120 ° C. and 3 Mpa for 10 minutes to cure the resin. Samples were used. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0256]
(Experiment b1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, except that the copper wire having a wire diameter of 0.01 mm was used instead of the copper wire used in the experiment B1, and the ratio of the resin thickness to the wire diameter was set to 100% (= 0.01 mm), all of the experiment B1 was performed. Similarly, a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b1 is compared with experiment B1, in experiment b1, the moisture permeability is increased and the adhesive strength is also weakened. It can be seen that 1.0 mm is more suitable as the wire diameter of the metal wire than 0.01 mm. .
[0257]
(Experiment B2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, a stainless wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment B1. Electrolytic plating was performed on the obtained wire in a eutectic solder plating bath of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated wire became 1.5 mm by a conventional method. . Acrylic resin heated and melted at 70 ° C. (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2G) was used as the resin, and the ratio of the resin thickness to the wire diameter of the resin disposed on the soda glass was 200% (= 1 mm). ), And the curing of the resin is changed to 1.0 J / cm in place of the heating in Experiment A1. 2 , And a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were prepared in the same manner as in Experiment B1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0258]
(Experiment b2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment B2 except that the composition of the eutectic solder used in Experiment B2 was changed to 100% of Pb. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b2 is compared with the experiment B2, it is understood that the moisture permeability is high in the experiment b2, and that the composition of the coating metal is more suitable for Pb / Sn = 5/95 than for Pb 100%.
[0259]
(Experiment B3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, an iron wire having an average wire diameter of 10 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1, except that iron was used instead of the metallic copper used in Experiment B1. The eutectic solder was fused onto the obtained wire using a eutectic solder Bi / In = 67/33 (melting point 109 ° C.) so that the diameter of the coated wire became 16 mm. A solder-coated iron wire was placed around a 25 mm × 100 mm soda glass, and a phenol resin (Sumitomo Bakelite Co., Ltd. phenolic resin PM-8200) heated and melted at 70 ° C. was coated on both sides of the solder-coated iron wire with a pair of wires having a resin thickness. The coating was performed so that the diameter ratio became 100% (= 10 mm). Hereinafter, in the same manner as in Experiment B1, a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were prepared through the softening temperature of the resin and the heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0260]
(Experiment b3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment B3 except that the thickness of the low melting point metal layer used in Experiment B3 was changed to 7.0 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b3 is compared with the experiment B3, it is found that the moisture permeability is high in the experiment b3, and that the thickness of the covering metal layer is more suitable for 3.0 mm than for 7.0 mm.
[0261]
(Experiment B4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, an aluminum wire having an average wire diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1, except that aluminum was used instead of the metal copper used in Experiment B1. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi on the obtained wire 2 The eutectic solder was fused using O (melting point 98 ° C.) so that the diameter of the coated wire was 3.0 mm. Melamine resin (Melan 523, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C. was placed on soda glass, and the ratio of resin thickness to wire diameter was set to 100% (= 1.0 mm). Similarly, a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were prepared through the softening temperature of the resin and the heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0262]
(Experiment b4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment B4 except that the coverage of the metal-coated aluminum wire used in Experiment B4 was changed to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b4 is compared with the experiment B4, it is understood that the moisture permeability is high in the experiment b4, and that the coverage of the aluminum wire with the metal of 100% is more suitable than that of 40%.
[0263]
(Experiment B5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, nickel was used instead of metallic copper used in Experiment B1, and a nickel wire having an average wire diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1. The obtained wire is coated with eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.), and as a resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) Manufactured by Nicanol HP-100, acrylic resin: HTR-860P-3 manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.). The resin was placed on the soda glass so that the ratio of the thickness of the resin to the wire diameter was 100% (= 1.0 mm). And a sample for moisture permeability measurement were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0264]
(Experiment b5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment B5 except that the metal wire used in Experiment B5 was replaced with lead having a wire diameter of 10 mm and the resin thickness was changed to 10 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b5 is compared with the experiment B5, in the experiment b5, an abnormality such as a broken wire was found. Accordingly, it can be seen that the type and diameter of the metal wire are more suitable for a nickel wire having a wire diameter of 1.0 mm than a lead wire having a wire diameter of 10 mm.
[0265]
(Experiment B6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment B1, and a stainless wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1. Eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point: 144 ° C.) was coated on the obtained wire. Further, as the resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd., Byron VG700, crosslinking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) was used. Adhesion was performed through the softening temperature of the resin and the heating and pressing at 120 ° C. in the same manner as in Experiment B1 so that the ratio of the resin thickness to the wire diameter arranged on the soda glass was 100% (= 0.5 mm). And a sample for moisture permeability measurement were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0266]
(Experiment b6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment B1, except that the metal wire used in Experiment B1 was a copper wire having a wire diameter of 30 mm and the resin thickness was 30 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b6 is compared with the experiment B1, it is understood that the moisture permeability is high in the experiment b6, and the wire diameter of the metal wire is more suitable for the wire diameter of 1.0 mm than for the wire diameter of 30.0 mm. .
[0267]
(Experiment B7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment B1, and a stainless wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1. The obtained wire is coated with eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.), and an acrylic resin (a moisture-proof insulating material TF-3348- manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is used as a resin composition. 15F2) was used. The ratio of the resin thickness to the wire diameter on the soda glass was 140% (= 0.7 mm), and the curing of the resin was 2.4 J / cm instead of the heating in Experiment B1. 2 , And a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in Experiment B1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0268]
(Experiment b7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment B3 except that the thickness of the coating metal layer used in Experiment B3 was changed to 0.0005 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b7 is compared with experiment B3, it can be seen that in experiment b7, the moisture permeability is high, and that the thickness of the coating metal layer is 0.3 mm is more suitable than 0.0005 mm.
[0269]
(Experiment B8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 2. That is, stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment B1, and a stainless wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment B1. The obtained wire is coated with eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.), and the same epoxy resin as in Experiment B1 is used as a resin composition, and is placed on soda glass. The ratio of the resin thickness to the wire diameter was set to 100% (= 0.5 mm), and the sample for bonding and the measurement of moisture permeability were passed through the softening temperature of the resin and the heating and pressing at 120 ° C. as in Experiment B1. A sample was prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 2, and the results shown in Table 2 were obtained.
[0270]
(Experiment b8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 5. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment B8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment B8 was cured was set to 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 5, and the results shown in Table 5 were obtained. When this experiment b8 is compared with experiment B8, in experiment b8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0271]
(Experiment C1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, in the same manner as in Experiment B1, the metallic copper ingot was melted at 1100 ° C., and the melt was ejected from the nozzle into the inside of the rotating drum storing water. However, by making the cross-sectional shape of the nozzle opening circular, a copper wire having a hollow structure was obtained as the core material instead of the copper wire of Experiment B1. Next, the solidified hollow copper wire (copper wire) was wound around the inside of the drum by centrifugal force to produce a copper wire having a wire diameter of 1 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1 m. Electrolytic plating was performed on the obtained copper tube in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated copper tube became 1.2 mm in the same manner as in Experiment B1. did. The solder-coated copper tube wire thus obtained was placed around a 25 mm × 100 mm soda glass, and heated and melted at 80 ° C. by an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin). Resin / modified polyamine = 100/50) was applied to both sides of the solder-coated copper tube with a dispenser so that the ratio of resin thickness to wire diameter was 100% (= 1.0 mm). After softening temperature (80 ° C) of resin and heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another glass is bonded so that it faces each other, and the resin is hardened by heating and pressing at 120 ° C and 3 Mpa for 10 minutes. And a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, solder-coated copper tubes are arranged on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass, and the epoxy resin composition is solder-coated so that the total width of the resin layer and the solder-coated copper tubes becomes 2 mm. It was applied on the substrates on both sides of the copper tube with a resin thickness of 1.0 mm. Then, after heating and pressing at 80 ° C. and 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass was bonded and heated and pressed at 100 ° C. and 3 Mpa for 60 minutes to obtain a sample for moisture permeability measurement. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0272]
(Experiment c1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, except that the wire diameter of the copper wire used in Experiment C1 was changed to 0.04 mm and the wall thickness was changed to 0.01 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment C1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When the experiment c1 is compared with the experiment C1, in the experiment c1, the moisture permeability is high, the adhesive strength is weak, and the wire diameter of the metal tube having a wire diameter of 1.0 mm and the wall thickness of 0.1 mm is 0.04 mm. It can be seen that the thickness is more suitable than 0.01 mm.
[0273]
(Experiment C2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, stainless steel was used in the same manner as in Experiment C1, except that stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment C1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.05 mm, and a length of 1.0 m was obtained. Electrolytic plating was performed on the obtained wire by a conventional method in a eutectic solder plating bath of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated tube wire became 1.5 mm. did. The wire thus obtained was placed around the periphery of soda glass, and heated to 70 ° C. and melted with an acrylic resin (Hitachi Chemical Industries, Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2G). It was applied to both sides of the wire so that the diameter ratio became 100% (= 0.5 mm), and the curing of the resin was changed to 1.0 J / cm instead of the heating in Experiment C1. 2 , And a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were prepared in the same manner as in Experiment C1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0274]
(Experiment c2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment C2 except that the composition of the eutectic solder used in Experiment C2 was changed to Pb 100%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When this experiment c2 is compared with experiment C2, it can be seen that the moisture permeability is high in experiment c2, and that the composition of the coating metal is more suitable for Pb / Sn = 5/95 than for Pb 100%.
[0275]
(Experiment C3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, iron was used instead of the metallic copper used in the experiment C1, and an iron tube wire having an average wire diameter of 10 mm, a wall thickness of 0.5 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as the experiment C1. Eutectic solder Bi / In = 67/33 (melting point 109 ° C.) was fused to the obtained iron tube, and the eutectic solder was coated so that the diameter of the tube became 16 mm. A phenol resin heated and melted at 70 ° C. (Phenol resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) was used as the resin, and the resin was placed in the same manner as in Experiment C1 except that the thickness of the resin disposed on the substrate was 10 mm. After passing through a softening temperature of 120 ° C. and heating and pressing at 120 ° C., a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0276]
(Experiment c3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, except that the thickness of the metal layer of the low melting point metal used in Experiment C3 was changed to 7.0 mm, a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were produced in the same manner as in Experiment C3. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When the experiment c3 is compared with the experiment C3, it is found that the moisture permeability is high in the experiment c3, and that the thickness of the metal layer of the low melting point metal is more suitable for 3.0 mm than for 7.0 mm.
[0277]
(Experiment C4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, an aluminum tube wire having an average wire diameter of 1.0 mm, a pipe wall thickness of 0.2 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment C1, except that aluminum was used instead of the metal copper used in Experiment C1. . Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi was added to the obtained tube wire. 2 O (melting point 98 ° C.) was fused and covered with a eutectic solder so that the diameter of the tube wire was 3.0 mm. Melamine resin heated and melted at 70 ° C. (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used as the resin, and the ratio of the thickness of the resin disposed on the substrate to the wire diameter was set to 100% (= 1.0 mm). In the same manner as in Experiment C1, a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were prepared through heating and pressing at a softening temperature and 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0278]
(Experiment c4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment C4 except that the coverage of the metal-coated aluminum tube wire used in Experiment C4 was changed to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When this experiment c4 is compared with the experiment C4, it is understood that the moisture permeability is high in the experiment c4, and that the coverage of the aluminum tube wire with the metal of 100% is more suitable than 40%.
[0279]
(Experiment C5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, a nickel tube wire having an average wire diameter of 1.0 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment C1, except that nickel was used instead of the metallic copper used in Experiment C1. The obtained tube wire is covered with eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.), and as a resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) , Nicanol HP-100, acrylic resin: HTR-860P-3, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) Substrates on both sides of the wire such that the ratio of the resin thickness to the wire diameter becomes 100% (= 1.0 mm). The sample for adhesion and the sample for moisture permeability measurement were produced by being placed on the upper side and subjecting to heating and pressing at a softening temperature and 120 ° C. as in Experiment C1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0280]
(Experiment c5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment C5 except that the metal tube wire used in Experiment C5 was a lead tube wire having a wire diameter of 10 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When the experiment c5 is compared with the experiment C5, in the experiment c5, an abnormality such as a broken wire was found. Therefore, it can be seen that the type and wire diameter of the metal tube wire are more suitable for a nickel wire having a wire diameter of 1.0 mm than a lead wire having a wire diameter of 10 mm.
[0281]
(Experiment C6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, stainless steel was used instead of metallic copper used in Experiment C1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment C1. The obtained tube wire is coated with eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point 144 ° C.), and as a resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) Experiments were performed using Byron VG700, a cross-linking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L)) so that the ratio of the thickness of the resin disposed on the soda glass to the wire diameter became 100% (= 0.5 mm). Similarly to C1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were prepared through heating and pressing at a softening temperature and 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0282]
(Experiment c6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, except that the thickness of the tubular copper wire used in the experiment C1 was 0.005 mm, a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were produced in the same manner as in the experiment C1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When this experiment c6 is compared with the experiment C1, the moisture permeability becomes high in the experiment c6, and the wall thickness of the metal wire tube is more suitable for the metal wire tube having the wall thickness of 0.1 mm than the wall thickness of the metal wire tube being 0.005 mm. I understand that there is.
[0283]
(Experiment C7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, stainless steel was used instead of metallic copper used in Experiment C1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment C1. The obtained tube wire is coated with eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.), and as a resin composition, an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-) Using 15F2), the wires were arranged on the substrate on both sides of the wires such that the ratio of the resin thickness to the wire diameter became 140% (= 0.7 mm). The curing of the resin was 2.4 J / cm instead of heating in experiment C1. 2 Was performed by UV irradiation, and otherwise the same as in Experiment C1, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0284]
(Experiment c7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, except that the coating metal layer used in Experiment C3 was formed to a thickness of 0.0005 mm by electrolytic plating, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment C3. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When the experiment c7 is compared with the experiment C3, it is found that the moisture permeability is high in the experiment c7, and that the thickness of the coating metal layer is more suitable for 0.3 mm than for 0.0005 mm.
[0285]
(Experiment C8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 3. That is, stainless steel was used instead of metallic copper used in Experiment C1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment C1. The obtained tube wire was coated with eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.), and the same epoxy resin as in Experiment C1 was used as a resin composition, and the resin thickness was reduced to the wire length. The sample was placed on the substrate on both sides of the wire so that the diameter ratio became 100% (= 0.5 mm). A measurement sample was prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 3, and the results shown in Table 3 were obtained.
[0286]
(Experiment c8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 6. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment C8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment C8 was cured was set to 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 6, and the results shown in Table 6 were obtained. When the experiment c8 is compared with the experiment C8, in the experiment c8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0287]
[Table 1]
[Table 2]
[Table 3]
[Table 4]
[Table 5]
[Table 6]
(Experiment D1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. That is, a polystyrene pellet SD120 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., elastic modulus: 1.8 GPa) was heated and melted to a melting point or higher, and then gradually cooled to obtain a gel-like spherulite. A sheet having a thickness of 5 mm obtained by compression-molding the aggregate was super-stretched through a die having a diameter of 1 mm to obtain a polystyrene plastic wire having an average wire diameter of 1 mm and a length of 0.1 m. After subjecting the obtained polystyrene wire to a seeder treatment with palladium chloride, a nickel layer of 0.2 μm was deposited in an electroless nickel plating solution. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated wire became 1200 μm. The solder-coated polystyrene wire thus obtained was immersed in an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50) melted by heating at 80 ° C. The sealing material was obtained by welding on the wire until the resin thickness became 10 μm. The obtained sealing material was stuck on the periphery of a 25 mm × 100 mm soda glass, heated and pressed at 1 Mpa for 10 minutes at a softening temperature of the resin (80 ° C.), and then another glass was faced. The resin was bonded by heating and pressing at 120 ° C. and 3 Mpa for 10 minutes to cure the resin, thereby obtaining a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, sealing materials were stuck on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass. Then, after softening temperature (80 ° C.), heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass is bonded, and the resin is cured by heating and pressing at 120 ° C., 3 Mpa for 60 minutes, and a sample for moisture permeability measurement And Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0288]
(Experiment d1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, except that the wire diameter of the polystyrene wire used in Experiment D1 was changed to 7 mm, an adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When this experiment d1 is compared with experiment D1, it can be seen that moisture permeability is high in experiment d1, and that the wire diameter of the plastic wire is 0.1 mm is more suitable than 7 mm.
[0289]
(Experiment D2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment D1, polyethylene (manufactured by Iron and Steel Chemical Co., Ltd., Flowbeads CL12007, average particle size 1.0 mm) was used, and the average wire diameter was 2 A polyethylene plastic wire having a length of 0.0 mm and a length of 0.1 m was obtained. After subjecting the obtained wire to a seeder treatment with palladium chloride, a 0.2 μm nickel layer was deposited in an electroless nickel plating solution. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a eutectic solder plating bath of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated wire became 3 mm. The solder-coated polyethylene wire thus obtained is immersed in an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2G) heated and melted at 70 ° C., so that the resin thickness becomes 25 μm. Until the sealing material was obtained. Thereafter, in the same manner as in Experiment D1, the sealing material was placed on soda glass, and the curing of the resin was changed to 1.0 J / cm instead of the heating in Experiment D1. 2 Was carried out by UV irradiation, and otherwise the same procedure as in Experiment D1 was carried out to prepare a sample for measuring adhesive strength and a sample for measuring moisture permeability. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0290]
(Experiment d2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, except that the polyethylene wire used in Experiment D2 was changed to one having a compression modulus of 0.1 GPa, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D2. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment d2 was compared with the experiment D2, the moisture permeability was high in the experiment d2. It can be seen that the compression modulus of 0.5 GPa is more suitable than 0.10 Gpa.
[0291]
(Experiment D3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. In other words, instead of the polystyrene pellets used in Experiment D1, PMMA pellets (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., acrylic pellets IRD-50, average particle size 5.0 mm) were used as core materials with a wire diameter of 5 mm, and as coating metals, Using eutectic solder TI / Na = 93.7 / 6.3 (melting point: 238 ° C.) instead of In / Cd, coating on the wire by fusing metal, and using a diamond die to make the resin thickness 50 μm. Adjusted. Further, as a resin composition, a sealing material was obtained by using a phenol resin (Phenol resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) instead of the epoxy resin. After heating and pressurizing at 120 ° C., a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0292]
(Experiment d3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D3 except that the coating metal used in Experiment D3 was changed to Pb 100%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment d3 was compared with the experiment D3, the moisture permeability was high in the experiment d3. It can be seen that TI / NA = 93.7 / 6.3 is more suitable for the composition of the coating metal than lead (Pb) 100%.
[0293]
(Experiment D4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. In other words, instead of the polystyrene pellets used in Experiment D1, 66 nylon pellets (Alamine CM3007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size 0.5 mm) were used as a core material having a wire diameter of 0.5 mm, and as a coating metal, Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi instead of In / Cd 2 Using O (melting point 98 ° C.), the wire was coated by fusion of a metal, and the thickness of the resin was adjusted to 5 μm with a diamond die. Further, a sealing material was obtained by using a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) instead of the epoxy resin as the resin composition. In other respects, in the same manner as in Experiment D1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were produced through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0294]
(Experiment d4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, except that the thickness of the coated metal used in Experiment D4 was changed to 7 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D4. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When this experiment d4 is compared with experiment D4, in experiment d4, the adhesive strength was low, and the substrate was peeled during handling. It can be seen that 1.0 mm is more suitable for the thickness of the coating metal than 7.0 mm.
[0295]
(Experiment D5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment D1, polyester pellets (Siveras L204G35, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle diameter 0.3 mm) were used as core materials having a wire diameter of 10 mm, and In / Cd was used as a coating metal. Instead, a eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point: 117 ° C.) was used to cover with a thickness of 0.05 mm. Further, as the resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Nikonol HP-100 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), acrylic resin: HTR- manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd. Using 860P-3), a sealing material was prepared so that the resin thickness was 20 μm, and as in Experiment D1, the sealing material was subjected to softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. for bonding. A sample and a sample for measuring moisture permeability were prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0296]
(Experiment d5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D5 except that the coverage of the metal-coated plastic wire used in Experiment D5 was changed to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment d5 was compared with the experiment D5, the moisture permeability was high in the experiment d5. It can be seen that 99% is more suitable for covering the plastic wire with metal than 40%.
[0297]
(Experiment D6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment D1, polypropylene pellets (Noblen H501, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., average particle size 0.03 mm) were used as a core material having a wire diameter of 0.5 mm, and In as a coating metal. A eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point: 144 ° C.) was used instead of / Cd to cover the surface with a thickness of 0.015 mm. Further, instead of the epoxy resin, a polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Byron VG700, crosslinker: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) is used as the resin composition. Then, a sealing material was prepared so that the resin thickness became 20 μm, and after the softening temperature on soda glass and the heating and pressing at 120 ° C., as in Experiment D1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were formed. A sample was prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0298]
(Experiment d6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, except that the plastic wire used in Experiment D6 was changed to a wire having a wire diameter of 0.03 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D6. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment d6 was compared with the experiment D6, the moisture permeability was high in the experiment d6. It turns out that the wire diameter of the plastic wire is more suitable for 0.5 mm than for 0.03 mm.
[0299]
(Experiment D7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. That is, instead of the polystyrene pellets used in the experiment D1, polyvinyl chloride pellets (Ryuron paste 772, manufactured by Tosoh Corporation, average particle size: 0.05 mm) were used as a core material having a wire diameter of 10 mm, and as a coating metal. A eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) is used instead of In / Cd to cover to a thickness of 0.3 mm, and as a resin composition, an acrylic resin (Hitachi Chemical Industry A sealing material was produced using a moisture-proof insulating material (TF-3348-15F2, manufactured by Co., Ltd.) so that the resin thickness was 20 μm. The curing of the resin is 2.4 J / cm instead of heating in
[0300]
(Experiment d7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D7, except that the thickness of the resin applied to the metal-coated plastic wire used in Experiment D7 was changed to 1.5 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment d7 was compared with the experiment D7, the moisture permeability was high in the experiment d7. It can be seen that the thickness of the resin applied to the low melting point metal-coated plastic wire is more preferably 0.02 mm than 1.5 mm.
[0301]
(Experiment D8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 7. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment D1, 6-nylon pellets (Alamine CM1007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size: 0.5 mm) were used as core materials having a wire diameter of 0.2 mm, and In as a coating metal. Eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.) was used instead of / Cd to coat the coating to a thickness of 0.5 mm. Furthermore, an epoxy resin was coated so that the resin thickness became 20 μm to prepare a sealing material. As in Experiment D1, the sample for bonding was passed through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. And a sample for moisture permeability measurement was prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 7, and the results shown in Table 7 were obtained.
[0302]
(Experiment d8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 10. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment D8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment D8 was cured was set at 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When this experiment d8 is compared with experiment D8, in experiment d8, an abnormality in which the EL element turned black was observed, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Accordingly, it is understood that the temperature at which the resin composition is cured is more preferably 120 ° C than 215 ° C.
[0303]
(Experiment E1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, the metallic copper ingot was melted at 1100 ° C., and the melt was jetted from the nozzle into the inside of the rotating drum storing water. The solidified copper fiber was wound inside the drum by centrifugal force to produce a copper wire having a wire diameter of 1 mm and a length of 1 m. Electrolytic plating was performed on the obtained copper wire by a conventional method in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated wire became 1.2 mm. The solder-coated copper wire thus obtained was immersed in an epoxy resin composition (Alteko 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50) melted by heating at 80 ° C. The sealing material was obtained by welding on the wire until the resin thickness became 10 μm. The obtained sealing material was stuck on the periphery of a 25 mm × 100 mm soda glass, heated and pressed at a resin softening temperature (80 ° C.) and 1 Mpa for 10 minutes, and then another glass was faced. The sample was bonded and heated and pressed at 120 ° C. and 3 MPa for 60 minutes to cure the resin, thereby obtaining a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, sealing materials were stuck on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass. Thereafter, after softening temperature (80 ° C.), heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass is bonded, and the resin is cured by heating and pressing at 120 ° C., 3 Mpa for 10 minutes, and a sample for moisture permeability measurement And Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0304]
(Experiment e1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, except that the wire diameter of the copper wire used in the experiment E1 was changed to 0.01 mm, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in the experiment E11. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 11, and the results shown in Table 11 were obtained. When this experiment e1 was compared with experiment E1, in experiment e1, the moisture permeability was high and the adhesive strength was also weak. It can be seen that a wire diameter of the metal wire of 1.0 mm is more suitable than 0.01 mm.
[0305]
(Experiment E2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, a stainless wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in
[0306]
(Experiment e2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment E2 except that the composition of the eutectic solder used in Experiment E2 was changed to Pb 100%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment e2 was compared with the experiment E2, the moisture permeability was high in the experiment e2. It can be seen that Pb / Sn = 5/95 is more suitable for the composition of the coating metal than Pb 100%.
[0307]
(Experiment E3) A sample was prepared under the conditions shown in Table E2. That is, an iron wire having an average wire diameter of 10 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment E1, except that iron was used instead of the metallic copper used in Experiment E1. Eutectic solder Bi / In = 67/33 (melting point 109 ° C.) was fused to the obtained wire and covered with the eutectic solder so that the wire diameter became 16 mm. Next, the solder-coated iron wire was immersed in a phenol resin (phenol resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and the resin was welded onto the wire. The welding thickness of the resin was adjusted to be 50 μm with a diamond die. Thereafter, in the same manner as in the experiment E1, a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0308]
(Experiment e3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment E3 except that the thickness of the coating metal layer used in Experiment E3 was changed to 7.0 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment e3 was compared with the experiment E3, the moisture permeability was high in the experiment e3. It turns out that the thickness of the coating metal layer is more suitable for 3.0 mm than for 7.0 mm.
[0309]
(Experiment E4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, aluminum was used in place of the metallic copper used in Experiment E1, and an aluminum wire having an average wire diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment E1. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi is applied to the obtained wire. 2 O (melting point: 98 ° C.) was fused and covered with a eutectic solder so that the diameter of the wire became 3.0 mm. Next, the solder-coated aluminum wire is immersed in a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and is welded on the wire until the resin thickness becomes 5 μm. Obtained. Thereafter, in the same manner as in the experiment E1, a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0310]
(Experiment e4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment E4 except that the coverage of the metal-coated aluminum wire used in Experiment E4 was changed to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 11, and the results shown in Table 11 were obtained. When the experiment e4 was compared with the experiment E4, the moisture permeability was high in the experiment e4. It can be seen that the coverage of the aluminum wire with the solder is 100% more suitable than 40%.
[0311]
(Experiment E5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment E1, except that nickel was used instead of the metallic copper used in Experiment E1. Eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.) as the coating metal, and xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Nicanol HP-100, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as the resin composition Acrylic resin: HTR-860P-3 manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd. was used, and the obtained wire was coated so that the resin thickness became 20 μm. In the same manner as in Experiment E1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0312]
(Experiment e5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment E5 except that the metal wire used in Experiment E5 was changed to lead having a wire diameter of 10 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 11, and the results shown in Table 11 were obtained. When the experiment e5 is compared with the experiment E5, in the experiment e5, an abnormality such as a broken wire was found. Accordingly, it can be seen that the type and diameter of the metal wire are more suitable for a nickel wire having a wire diameter of 1.0 mm than for a lead wire having a wire diameter of 10 mm.
[0313]
(Experiment E6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment E1, except that stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment E1. Eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point 144 ° C.) is coated to a thickness of 0.015 mm, and as a resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd., Byron VG700) , A cross-linking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L)) so as to have a resin thickness of 20 μm to obtain a sealing material. Further, in the same manner as in Experiment E1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0314]
(Experiment e6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, except that the metal wire used in the experiment E1 was changed to a copper wire having a wire diameter of 30 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in the experiment E1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 11, and the results shown in Table 11 were obtained. When the experiment e6 was compared with the experiment E1, the moisture permeability was high in the experiment e6. It can be seen that the wire diameter of the metal wire of 1.0 mm is more suitable than the wire diameter of 30.0 mm.
[0315]
(Experiment E7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment E1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment E1. Eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) is coated on the obtained wire, and acrylic resin (moisture-proof insulating material TF-3348-15F2 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is used as a resin composition. Then, coating was performed so that the resin thickness became 20 μm to obtain a sealing material. The sealing material was placed on soda glass in the same manner as in Experiment E1, and the curing of the resin was changed to 2.4 J / cm instead of heating in Experiment E1. 2 , And a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in Experiment E1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0316]
(Experiment e7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment E3 except that the thickness of the coating metal layer used in Experiment E3 was changed to 0.0005 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 11, and the results shown in Table 11 were obtained. When the experiment e7 was compared with the experiment E3, the moisture permeability was high in the experiment e7. It can be seen that 0.3 mm is more suitable for the thickness of the coating metal layer than 0.0005 mm.
[0317]
(Experiment E8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 8. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment E1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment E1. Eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C) was coated on the wire, and the same epoxy resin as that used in Experiment E1 was used as the resin composition. The resin thickness was 20 µm. The wire was coated to obtain a sealing material. Further, in the same manner as in Experiment E1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 8, and the results shown in Table 8 were obtained.
[0318]
(Experiment e8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 11. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment E8 except that the curing temperature of the resin composition used in Experiment E8 was set to 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 11, and the results shown in Table 11 were obtained. When the experiment e8 is compared with the experiment E8, in the experiment e8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Accordingly, it is understood that the temperature at which the resin composition is cured is more preferably 120 ° C than 215 ° C.
[0319]
(Experiment F1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. That is, in the same manner as in Experiment F1, the metal copper ingot was melted at 1100 ° C., and the melt was jetted from the nozzle into the inside of the rotating drum storing water. However, a hollow copper wire was obtained with a circular cross section of the nozzle hole. Next, the solidified hollow copper wire (copper tube wire) was wound around the inside of the drum by centrifugal force to produce a copper tube wire having a wire diameter of 1 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1 m. The obtained copper tube was subjected to electrolytic plating in the same manner as in
[0320]
(Experiment f1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, except that the copper wire used in Experiment F1 had a wire diameter of 0.04 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When the experiment f1 was compared with the experiment F1, in the experiment f1, the moisture permeability was high and the adhesive strength was weak. It can be seen that the wire diameter of the metal tube wire is 1.0 mm and the wall thickness of 0.1 mm is more suitable than the wire diameter of 0.04 mm and the wall thickness of 0.01 mm.
[0321]
(Experiment F2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. That is, a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a pipe wall thickness of 0.05 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F2, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment F1. . The obtained wire was subjected to electrolytic plating by a conventional method in a plating bath of a eutectic solder of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated tube wire became 1.5 mm. . The solder-coated stainless steel tube wire thus obtained is immersed in an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2G) heated and melted at 70 ° C., so that the resin thickness becomes 25 μm. The sealing material was obtained by welding on the wire until it became as thin as possible. Further, the sealing material was placed on soda glass in the same manner as in Experiment F1, and the curing of the resin was changed to 1.0 J / cm instead of heating in Experiment F1. 2 Was performed, and a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were prepared in the same manner as in Experiment F1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0322]
(Experiment f2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F2 except that 100% of Pb was used instead of the eutectic solder used in Experiment F2. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When the experiment f2 was compared with the experiment F2, the moisture permeability was high in the experiment f2. It can be seen that the composition of the coating metal is more suitable for Pb / Sn = 5/95 than for Pb 100%.
[0323]
(Experiment F3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. In other words, iron was used instead of the metallic copper used in Experiment F1, and an iron tube wire having an average wire diameter of 10 mm, a wall thickness of 0.5 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F1. Eutectic solder Bi / In = 67/33 (melting point 109 ° C.) was fused to the obtained iron tube, and the iron tube was covered with the eutectic solder so that the diameter of the coated tube became 16 mm. Next, the solder-coated iron tube was immersed in a phenol resin (phenol resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and the resin was welded onto the iron tube. The weld thickness of the resin was adjusted to 5 μm with a diamond die. Thereafter, in the same manner as in Experiment F1, a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were produced through a softening temperature of resin on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0324]
(Experiment f3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F3 except that the thickness of the metal layer of the metal-coated tube used in Experiment F3 was changed to 7.0 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When the experiment f3 was compared with the experiment F3, the moisture permeability was high in the experiment f3. It turns out that the thickness of the coating metal layer is more suitable for 3.0 mm than for 7.0 mm.
[0325]
(Experiment F4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. In other words, aluminum was used instead of the metal copper used in Experiment F1, and an aluminum pipe wire having an average wire diameter of 1.0 mm, a wall thickness of 0.2 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F1. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi was added to the obtained tube wire. 2 O (melting point: 98 ° C.) was fused and coated with a eutectic solder so that the diameter of the coated tube wire was 3.0 mm. Next, the solder-coated aluminum tube wire is immersed in a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and is welded on the tube wire until the resin thickness becomes 0.2 mm. A sealing material was obtained. Thereafter, in the same manner as in Experiment F1, a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring a moisture permeability were produced through a softening temperature of resin on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0326]
(Experiment f4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, an adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F4, except that the coverage of the aluminum pipe wire with the metal used in Experiment F4 was changed to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When the experiment f4 was compared with the experiment F4, the moisture permeability was high in the experiment f4. It can be seen that the coverage of the metal tube wire with the coating metal is more suitable at 100% than at 40%.
[0327]
(Experiment F5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. That is, a nickel tube wire having an average wire diameter of 1.0 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F1, except that nickel was used instead of the metallic copper used in Experiment F1. The obtained tube wire is coated with eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.), and as a resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) Manufactured by Nikonol HP-100, acrylic resin: HTR-860P-3 manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) to obtain a sealing material by coating so as to have a resin thickness of 20 μm. In the same manner as in Experiment F1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were produced through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0328]
(Experiment f5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, except that the metal tube wire used in Experiment F5 was a lead tube wire having a wire diameter of 10 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F5. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When the experiment f5 is compared with the experiment F5, in the experiment f5, an abnormality such as a broken wire was found. Therefore, it can be seen that the type and wire diameter of the metal tube wire are more suitable for a nickel wire diameter of 1.0 mm than for a lead wire diameter of 10 mm.
[0329]
(Experiment F6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. That is, stainless steel was used instead of metallic copper used in Experiment F1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F1. The obtained tube wire is coated with eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point: 144 ° C.), and as a resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) , Byron VG700, crosslinking agent: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) to obtain a sealing material by coating so as to have a resin thickness of 20 μm. In the same manner as in Experiment F1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were produced through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0330]
(Experiment f6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, except that the metal tube wire used in Experiment F1 was changed to a copper wire having a thickness of 0.005 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 10, and the results shown in Table 10 were obtained. When the experiment f6 was compared with the experiment F1, the moisture permeability was high in the experiment f6. It can be seen that a stainless steel wire diameter of 0.1 mm is more suitable than a copper wire diameter of 0.005 mm as the type and the wire diameter of the metal wire tube.
[0331]
(Experiment F7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. That is, stainless steel was used instead of metallic copper used in Experiment F1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F1. The obtained tube wire was coated with eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.), and further, as a resin composition, an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-). Using 15F2), a sealing material was obtained by coating so that the resin thickness became 20 μm. The sealing material was placed on soda glass as in Experiment F1, and the curing of the resin was changed to 2.4 J / cm instead of heating in Experiment F1. 2 , And a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in Experiment 21. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0332]
(Experiment f7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F3, except that the coating metal layer used in Experiment F3 was made 0.0005 mm thick by electrolytic plating. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When the experiment f7 was compared with the experiment F3, the moisture permeability was high in the experiment f7. It can be seen that 0.3 mm is more suitable for the thickness of the coating metal layer than 0.0005 mm.
[0333]
(Experiment F8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 9. That is, stainless steel was used instead of metallic copper used in Experiment F1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment F1. The obtained tube wire was coated with eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.), and the same epoxy resin as in Experiment F1 was used as the resin composition to obtain a resin thickness of 0.1 mm. The sealing material was obtained by coating to a thickness of 2 mm. In the same manner as in Experiment F1, a sample for bonding and a sample for measuring moisture permeability were produced through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 9, and the results shown in Table 9 were obtained.
[0334]
(Experiment f8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 12. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment F8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment F8 was cured was set at 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 12, and the results shown in Table 12 were obtained. When this experiment f8 is compared with experiment F8, in experiment f8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0335]
[Table 7]
[Table 8]
[Table 9]
[Table 10]
[Table 11]
[Table 12]
(Experiment G1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, a polystyrene pellet SD120 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., elastic modulus: 1.8 GPa) was heated and melted to a melting point or higher, and then gradually cooled to obtain a gel-like spherulite. A sheet having a thickness of 5 mm obtained by compression-molding the aggregate was super-stretched through a die having a diameter of 1 mm to obtain a polystyrene plastic wire having an average wire diameter of 1 mm and a length of 0.1 m. After subjecting the obtained polystyrene wire to a seeder treatment with palladium chloride, a nickel layer of 0.2 μm was deposited in an electroless nickel plating solution. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated wire became 200 μm. The thus-obtained solder-coated polystyrene wire was immersed in an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50) heated and melted at 80 ° C. And was welded on the wire until the resin thickness became 10 μm. Two polystyrene wires covered with resin and solder were placed in parallel contact, heated to 80 ° C. and fused to obtain a sealing material. The obtained sealing material was stuck on the periphery of 25 mm × 100 mm soda glass, heated and pressed at 1 Mpa for 10 minutes at the softening temperature of the resin (80 ° C.), and then another glass was faced. The resin was heated and pressed at 120 ° C. and 3 Mpa for 10 minutes to cure the resin, thereby obtaining a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, sealing materials were stuck on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass. Thereafter, after softening temperature (80 ° C.), heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass is bonded, and the resin is cured by heating and pressing at 120 ° C., 3 Mpa for 10 minutes, and a sample for moisture permeability measurement And Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 13 were obtained.
[0336]
(Experiment g1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, except that the wire diameter of the polystyrene wire used in Experiment G1 was changed to 7 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. Comparing Experiment g1 with Experiment G1, it can be seen that in Experiment g1, the moisture permeability is high, and that the 0.1 mm wire diameter of the plastic wire is more suitable than 0.7 mm.
[0337]
(Experiment G2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. In other words, instead of the polystyrene pellets used in Experiment G1, polyethylene (manufactured by Iron and Steel Chemical Co., Ltd., flow beads CL12007, average particle diameter 1.0 mm) was used and the average wire diameter was 2.0 mm by the super-stretching method as in Experiment G1. Thus, a polyethylene plastic wire having a length of 0.1 m was obtained. After subjecting the obtained wire to a seeder treatment with palladium chloride, a nickel layer of 0.2 μm was deposited in an electroless nickel plating solution. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a eutectic solder plating bath having a Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated wire became 0.7 mm. The solder-coated polyethylene wire thus obtained was immersed in an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., TF-3348-15F2G, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C. to a resin thickness of 25 μm. It was welded on the wire until it was. Two polyethylene wires coated with acrylic resin and solder were placed in parallel contact, heated to 70 ° C. and fused to obtain a sealing material. Further, a sealing material was placed on soda glass in the same manner as in Experiment G1, and curing was performed at 1.0 J / cm instead of heating in Experiment G1. 2 The irradiation was performed in the same manner as in Experiment G1 to prepare a sample for measuring adhesive strength and a sample for measuring moisture permeability. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 133 were obtained.
[0338]
(Experiment g2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment G2, except that the polyethylene wire used in Experiment G2 was changed to one having a compression modulus of 0.1 GPa. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g2 is compared with experiment G2, it can be seen that in experiment g2, the moisture permeability is high, and that the compression elastic modulus of 0.5 GPa is more suitable than 0.10 Gpa.
[0339]
(Experiment G3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, a wire having a wire diameter of 5 mm was prepared using PMMA pellets (acrylic pellets IRD-50, average particle size 5.0 mm, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) instead of the polystyrene pellets used in Experiment G1, and used as a coating metal. Eutectic solder TI / Na = 93.7 / 6.3 (melting point: 238 ° C.) instead of In / Cd, and a phenol resin (Sumitomo Bakelite Co., Ltd. phenol) instead of an epoxy resin as a resin composition Using resin PM-8200), the eutectic solder was coated on the wire by fusing the metal, and the coating amount was adjusted with a diamond die so that the resin thickness became 50 μm. Otherwise, in the same manner as in
[0340]
(Experiment g3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G3 except that the composition of the coated metal used in Experiment G3 was changed to Pb 100%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g3 is compared with experiment G3, in experiment g3, the moisture permeability is high, and the composition of the coating metal is more suitable for lead (Pb) in the case of TI / NA = 93.7 / 6.3 than for lead (Pb) of 100%. You can see that.
[0341]
(Experiment G4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, a wire having a wire diameter of 0.5 mm was prepared using 66 nylon pellets (Alamine CM3007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size: 0.5 mm) instead of the polystyrene pellets used in the experiment G1, and the coated metal was formed. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi instead of In / Cd 2 The wire is coated with a eutectic solder by fusing a metal using O (melting point 98 ° C.), and a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is used as a resin composition instead of the epoxy resin. The coating amount was adjusted with a diamond die so that the resin thickness became 5 μm. Other than the above, a sealing material was prepared in the same manner as in Experiment G1, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 13 were obtained.
[0342]
(Experiment g4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G4 except that the thickness of the coated metal used in Experiment G4 was changed to 7 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g4 is compared with experiment G4, it can be seen that the adhesive force is low in experiment g4, and that the thickness of the coating metal is more suitable for 1.0 mm than for 7.0 mm.
[0343]
(Experiment G5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment G1, a polyester pellet (Siveras L204G35, average particle diameter 0.3 mm) manufactured by using polyester pellets was used to produce a wire having a wire diameter of 10 mm, and In / Eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.) was used instead of Cd, and as a resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) instead of epoxy resin ), Nicanol HP-100, acrylic resin: HTR-860P-3, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd., and coated with solder and resin so that the resin thickness was 20 μm. Other than the above, a sealing material was prepared in the same manner as in Experiment G1, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 13 were obtained.
[0344]
(Experiment g5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G5, except that the coverage of the plastic wire with the metal used in Experiment G5 was 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g5 is compared with experiment G5, it can be seen that moisture permeability is high in experiment g5, and that the coverage of the plastic wire with the metal of 99% is more suitable than 40%.
[0345]
(Experiment G6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, instead of the polystyrene pellets used in the experiment G1, polypropylene pellets (Noblen H501, average particle size 0.03 mm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used to produce a wire having a wire diameter of 0.5 mm, and used as a coating metal. Eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point 144 ° C.) instead of In / Cd, and polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: Toyobo Co., Ltd.) instead of epoxy resin as a resin composition (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., manufactured by Byron VG700, Inc.), and the resin-coated wire was covered with a solder and a resin so as to have a thickness of 20 μm. Otherwise, in the same manner as in Experiment G1, a sealing material was prepared, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 13 were obtained.
[0346]
(Experiment g6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G6, except that the plastic wire used in Experiment G6 was changed to a wire having a wire diameter of 0.03 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g6 is compared with the experiment G6, it is understood that the moisture permeability is high in the experiment g6, and that the wire diameter of the plastic wire is more suitable for 0.5 mm than for 0.03 mm.
[0347]
(Experiment G7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, instead of the polystyrene pellets used in the experiment G1, a 10 mm-diameter wire was prepared using polyvinyl chloride pellets (Ryuron paste 772, manufactured by Tosoh Corporation, average particle size 0.05 mm), and the coated metal was coated. Eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) was used instead of In / Cd, and an acrylic resin (made by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulation Material TF-3348-15F2) was used and covered with solder and resin so that the resin thickness was 20 μm. Otherwise, a sealing material was produced in the same manner as in Experiment G1. The sealing material was placed on soda glass, and the curing of the resin was changed to 2.4 J / cm instead of heating in Experiment G1. 2 Was performed, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 13 were obtained.
[0348]
(Experiment g7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G7 except that the thickness of the resin applied to the metal-coated plastic wire used in Experiment G7 was 1.5 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g7 is compared with the experiment G7, it is understood that the moisture permeability is high in the experiment g7, and the thickness of the resin applied to the metal-coated plastic wire is more suitable for 0.02 mm than for 1.5 mm.
[0349]
(Experiment G8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 13. That is, instead of the polystyrene pellets used in Experiment G1, 6-nylon pellets (Alamine CM1007, manufactured by Toray Industries, Inc., average particle size: 0.5 mm) were used to produce a wire having a wire diameter of 0.2 mm, and used as a coating metal. A eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.) was used instead of In / Cd and the resin thickness was 20 μm, and a sealing material was obtained in the same manner as in Experiment G1. The sealing material was placed on soda glass, and heated and pressed at a softening temperature and 120 ° C. to prepare a bonding sample and a moisture permeability measurement sample. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 13, and the results shown in Table 13 were obtained.
[0350]
(Experiment g8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 16. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment G8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment G8 was cured was set to 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment g8 was compared with experiment G8, in experiment g8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0351]
(Experiment H1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, the metallic copper ingot was melted at 1100 ° C., and the melt was jetted from the nozzle into the inside of the rotating drum storing water. The solidified copper fiber was wound inside the drum by centrifugal force to produce a copper wire having a wire diameter of 1 mm and a length of 1 m. The obtained copper wire was subjected to electrolytic plating in a conventional manner in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated wire became 1.2 mm. The solder-coated copper wire thus obtained was immersed in an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50) melted by heating at 80 ° C. It was welded on the wire until the resin thickness became 10 μm. Two copper wires coated with epoxy resin and solder were placed in parallel contact, heated to 80 ° C. and fused to obtain a sealing material. The obtained sealing material was stuck on the periphery of a 25 mm × 100 mm soda glass, heated and pressed at a resin softening temperature (80 ° C.) and 1 Mpa for 10 minutes, and then another glass was faced. The sample was bonded and heated and pressed at 120 ° C. and 3 MPa for 60 minutes to cure the resin, thereby obtaining a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, sealing materials were stuck on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass. Thereafter, after softening temperature (80 ° C.), heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass is bonded, and the resin is cured by heating and pressing at 120 ° C., 3 Mpa for 10 minutes, and a sample for moisture permeability measurement And Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 14, and the results shown in Table 14 were obtained.
[0352]
(Experiment h1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, except that the copper wire used in Experiment H1 was changed to a wire having a wire diameter of 0.01 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment H1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 17, and the results shown in Table 17 were obtained. When this experiment h1 is compared with experiment H1, in experiment h1, it is understood that the moisture permeability is high and the adhesive strength is weak, and that the wire diameter of the metal wire is more suitable for 1.0 mm than for 0.01 mm.
[0353]
(Experiment H2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, a stainless wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment H1. The obtained wire was subjected to electrolytic plating in a conventional manner in a eutectic solder plating bath of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated wire became 1.5 mm. The solder-coated stainless wire thus obtained is immersed in an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2G) heated and melted at 70 ° C., so that the resin thickness becomes 25 μm. Until welded onto the wire. Two stainless steel wires coated with an acrylic resin and solder were placed in parallel contact, heated to 70 ° C. and fused to obtain a sealing material. The sealing material was placed on soda glass as in Experiment H1, and the curing of the resin was changed to 1.0 J / cm instead of heating in Experiment H1. 2 In the same manner as in Experiment H1, to prepare a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 14, and the results shown in Table 14 were obtained.
[0354]
(Experiment h2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment H2 except that the eutectic solder used in Experiment H2 was changed to 100% Pb. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When this experiment h2 is compared with experiment H2, it is understood that the moisture permeability is high in experiment h2, and that the composition of the coating metal is more suitable for Pb / Sn = 5/95 than for Pb 100%.
[0355]
(Experiment H3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, iron was used instead of the metallic copper used in Experiment H1, and an iron wire having an average wire diameter of 10 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1. Eutectic solder Bi / In = 67/33 (melting point 109 ° C.) was fused to the obtained wire and covered with the eutectic solder so that the wire diameter became 16 mm. Next, the solder-coated iron wire was immersed in a phenol resin (phenol resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and the resin was welded onto the wire. The amount of resin deposited was adjusted to 5 μm with a diamond die. Thereafter, in the same manner as in Experiment H1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were passed through the softening temperature on soda glass and the heating and pressing at 120 ° C. Produced. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 14, and the results shown in Table 14 were obtained.
[0356]
(Experiment h3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment H3 except that the thickness of the coating metal layer used in Experiment H3 was changed to 7.0 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. Comparing Experiment h3 with Experiment H3, it can be seen that in Experiment h3, the moisture permeability is high, and the thickness of the coating metal layer is more suitable for 3.0 mm than for 7.0 mm.
[0357]
(Experiment H4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, aluminum wire having an average wire diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1, except that aluminum was used instead of the metal copper used in Experiment H1. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi was added to the obtained wire. 2 O (melting point: 98 ° C.) was fused and covered with a eutectic solder so that the diameter of the coated wire became 3.0 mm. Next, the solder-coated aluminum wire was immersed in a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and was welded on the wire until the resin thickness became 20 μm. Thereafter, in the same manner as in Experiment H1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were passed through the softening temperature on soda glass and the heating and pressing at 120 ° C. Produced. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 14, and the results shown in Table 14 were obtained.
[0358]
(Experiment h4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in
[0359]
(Experiment H5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1, except that nickel was used instead of the metallic copper used in Experiment H1. The obtained wire is coated with eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.), and as a resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) , Nicanol HP-100, acrylic resin: HTR-860P-3, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) so that the resin thickness was 20 μm. Further, in the same manner as in Experiment H1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. . Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 14, and the results shown in Table 14 were obtained.
[0360]
(Experiment h5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment H5 except that the metal wire used in Experiment H5 was changed to a lead wire having a wire diameter of 10 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 17, and the results shown in Table 17 were obtained. When this experiment h5 is compared with experiment H5, in experiment h5, an abnormality such as a broken wire was found. Accordingly, it can be seen that the type and the diameter of the metal wire are more suitable for a nickel wire diameter of 1.0 mm than for a lead wire diameter of 10 mm.
[0361]
(Experiment H6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment H1. The obtained wire is coated with eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point 144 ° C.), and as a resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) Byron VG700, crosslinking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L)) was used to coat the resin so that the resin thickness became 20 μm. Further, in the same manner as in Experiment H1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. . Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 14, and the results shown in Table 14 were obtained.
[0362]
(Experiment h6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment H1, except that the metal wire used in Experiment H6 was changed to a copper wire having a wire diameter of 30 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 17, and the results shown in Table 17 were obtained. When this experiment h6 is compared with experiment H1, in experiment h6, the moisture permeability is high, and it can be seen that the wire diameter of the metal wire is more suitable for a wire diameter of 1.0 mm than for a wire diameter of 30.0 mm. .
[0363]
(Experiment H7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment H1. The obtained wire is coated with a eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.), and an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2) is used as a resin composition. ) To cover the resin so as to have a resin thickness of 20 μm. Further, a sealing material was prepared from the two coated wires and placed on soda glass in the same manner as in Experiment H1, and the resin was cured at 2.4 J / cm instead of heating in
[0364]
(Experiment h7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment H3 except that the thickness of the coating metal layer used in Experiment H7 was changed to 0.0005 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 17, and the results shown in Table 17 were obtained. When this experiment h7 is compared with experiment H7, it can be seen that in experiment h7, the moisture permeability is high, and the thickness of the coating metal layer is 0.3 mm more suitable than 0.0005 mm.
[0365]
(Experiment H8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 14. That is, a nickel wire having an average wire diameter of 0.5 mm and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment H1, except that stainless steel was used instead of the metal copper used in Experiment H1. The obtained wire is coated with eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.), and the same epoxy resin as in
[0366]
(Experiment h8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 17. That is, an adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment H8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment H8 was cured was set at 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 17, and the results shown in Table 17 were obtained. When this experiment h8 was compared with experiment H8, in experiment h8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0367]
(Experiment I1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, the metallic copper ingot was melted at 1100 ° C. in the same manner as in Experiment G1, and the melt was jetted from the nozzle into the inside of the rotating drum storing water. However, by making the cross-sectional shape of the nozzle annular, a copper tube having a hollow structure was produced. The solidified hollow copper wire (copper wire) was wound around the inside of the drum by centrifugal force to obtain a copper wire having a wire diameter of 1 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1 m. The obtained copper tube was electrolytically plated in a eutectic solder plating bath of In / Cd = 74/26 until the diameter of the solder-coated copper tube became 1.2 mm in the same manner as in Experiment G1. did. The solder-coated copper tube wire thus obtained is immersed in an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken, modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50) heated and melted at 80 ° C. And was welded on the wire until the resin thickness became 10 μm. Two copper tubes coated with epoxy resin and solder were placed in parallel contact, heated to 80 ° C. and fused to obtain a sealing material. The obtained sealing material was stuck on the periphery of a 25 mm × 100 mm soda glass, heated and pressed at 1 Mpa for 10 minutes at a softening temperature of the resin (80 ° C.), and then another glass was faced. The resin was bonded by heating and pressing at 120 ° C. and 3 Mpa for 10 minutes to cure the resin, thereby obtaining a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, sealing materials were stuck on four sides of a 100 mm × 100 mm soda glass. Thereafter, after softening temperature (80 ° C.), heating and pressing at 1 Mpa for 10 minutes, another piece of soda glass is bonded, and the resin is cured by heating and pressing at 120 ° C., 3 Mpa for 10 minutes, and a sample for moisture permeability measurement And Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0368]
(Experiment i1) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, except that the copper wire used in Experiment I1 was changed to a wire having a wire diameter of 0.04 mm, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment I1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. When this experiment i1 is compared with experiment I1, it can be seen that, in experiment i1, the moisture permeability is high and the adhesive strength is also weak, and the wire diameter of the metal tube wire is more suitable for 1.0 mm than for 0.04 mm. .
[0369]
(Experiment I2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, stainless steel was used in the same manner as in Experiment I2 except that stainless steel was used in place of the metallic copper used in Experiment I1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.05 mm, and a length of 1.0 m was obtained. The obtained wire was subjected to electrolytic plating by a conventional method in a plating bath of a eutectic solder of Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.) until the diameter of the solder-coated tube wire became 1.5 mm. . The solder-coated stainless steel tube wire thus obtained was immersed in an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2G) heated and melted at 70 ° C. to a resin thickness of 25 μm. It was welded on the wire until it was. Two stainless steel wires coated with acrylic resin and solder were placed in parallel contact, heated to 70 ° C. and fused to obtain a sealing material. The sealing material was placed on soda glass in the same manner as in Experiment I1, and the curing of the resin was changed to 1.0 J / cm instead of heating in Experiment I1. 2 The irradiation was performed in the same manner as in Experiment I1 to prepare a sample for measuring adhesive strength and a sample for measuring moisture permeability. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0370]
(Experiment i2) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, an adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I2 except that the composition of the coated metal used in Experiment I2 was changed to 100% of Pb. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. When this experiment i2 is compared with experiment I2, it is found that the moisture permeability is high in experiment i2, and that the composition of the coating metal is more suitable for Pb / Sn = 5/95 than for Pb 100%.
[0371]
(Experiment I3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, iron was used instead of the metallic copper used in Experiment I1 to obtain an iron tube wire having an average wire diameter of 10 mm, a wall thickness of 0.5 mm, and a length of 1.0 m in the same manner as in Experiment I1. Eutectic solder Bi / In = 67/33 (melting point 109 ° C.) was fused to the obtained iron tube, and the tube was covered with the eutectic solder so that the diameter of the coated tube became 16 mm. Next, the solder-coated iron tube wire is immersed in a phenol resin (phenol resin PM-8200 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and the resin is welded on the iron tube wire. Was adjusted to 5 μm. Two sealing wires were fused to obtain a sealing material. Thereafter, in the same manner as in Experiment I1, a sample for measuring the adhesive force and a sample for measuring the moisture permeability were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0372]
(Experiment i3) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, an adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I3 except that the thickness of the coating metal layer used in Experiment I3 was changed to 7.0 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. Comparing Experiment i3 with Experiment I3, it can be seen that in Experiment i3, the moisture permeability is high, and the thickness of the coating metal layer is more suitable for 3.0 mm than for 7.0 mm.
[0373]
(Experiment I4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. In other words, aluminum was used instead of the metallic copper used in Experiment I1, and an aluminum tube wire having an average wire diameter of 1.0 mm, a pipe wall thickness of 0.2 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment I1. Eutectic solder Sn35 / In45 / Bi was added to the obtained tube wire. 2 O (melting point 98 ° C.) was fused and coated with eutectic solder so that the diameter of the coated tube wire was 3.0 mm. Next, the solder-coated aluminum tube wire was immersed in a melamine resin (Melan 523 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) heated and melted at 70 ° C., and was welded onto the tube wire until the resin thickness became 20 μm. Thereafter, in the same manner as in Experiment I1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and after passing through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C., a sample for measuring an adhesive force and a sample for measuring moisture permeability. Was prepared. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0374]
(Experiment i4) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I4 except that the coverage of the metal-coated aluminum tube wire used in Experiment I4 was changed to 40%. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. When this experiment i4 is compared with experiment I4, it can be seen that in experiment i4, the moisture permeability is high, and the coverage of the metal tube wire with the metal is 100% more suitable than 40%.
[0375]
(Experiment I5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, a nickel tube wire having an average wire diameter of 1.0 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment I1, except that nickel was used instead of the metallic copper used in Experiment I1. The obtained tube wire is coated with eutectic solder Sn / In = 48/52 (melting point 117 ° C.), and as a resin composition, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd., Nicanol HP-100, acrylic resin: HTR-860P-3, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) so that the resin thickness was 20 μm. Hereinafter, in the same manner as in Experiment I1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. . Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0376]
(Experiment i5) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I5 except that the metal tube wire used in Experiment I5 was changed to a lead tube having a wire diameter of 10 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. When this experiment i5 was compared with experiment I5, in experiment i5, an abnormality such as a broken wire was found. Accordingly, it can be seen that the type and wire diameter of the metal wire tube are more suitable for a nickel wire diameter of 1.0 mm than for a lead wire diameter of 10 mm.
[0377]
(Experiment I6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment I1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment I1. The obtained tube wire is coated with eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point: 144 ° C.), and as a resin composition, polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) , Co., Byron VG700, cross-linking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) so that the resin thickness became 20 μm. Thereafter, in the same manner as in Experiment I1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. did. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0378]
(Experiment i6) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I1, except that the metal tube wire used in Experiment I1 was a copper tube having a wall thickness of 0.005 mm. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 16, and the results shown in Table 16 were obtained. When the experiment i6 is compared with the experiment I1, in the experiment i6, the moisture permeability is high, and the type and the wire diameter of the metal wire tube are such that the stainless steel wire diameter of 0.1 mm has a copper wire diameter of 0.005 mm. It turns out that it is more suitable than the one.
[0379]
(Experiment I7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment I1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment I1. The obtained tube wire was coated with eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.), and further, as a resin composition, an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-). 15F2), and coated so that the resin thickness became 20 μm. As in Experiment I1, a sealing material was prepared from the two coated wires and placed on soda glass, and the curing of the resin was changed to 2.4 J / cm instead of heating in Experiment I1. 2 , And a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared in the same manner as in Experiment I1. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table I3, and the results shown in Table I3 were obtained.
[0380]
(Experiment i7) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I3, except that the coating metal layer used in Experiment I3 was made 0.0005 mm thick by electrolytic plating. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. Comparing Experiment i7 with Experiment I3, it can be seen that in Experiment i7, the moisture permeability is high, and that the thickness of the coating metal layer is 0.3 mm is more suitable than 0.0005 mm.
[0381]
(Experiment I8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 15. That is, stainless steel was used instead of the metallic copper used in Experiment I1, and a stainless steel wire having an average wire diameter of 0.5 mm, a wall thickness of 0.1 mm, and a length of 1.0 m was obtained in the same manner as in Experiment I1. The obtained tube wire was coated with eutectic solder In / Zn = 97.2 / 2.8 (melting point: 144 ° C.), and the same epoxy resin as in Experiment I1 was used as a resin composition, and the resin thickness was reduced to 20 μm. Coating. In the same manner as in Experiment I1, a sealing material was prepared from the two coated wires, and a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared through a softening temperature on soda glass and heating and pressing at 120 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 15, and the results shown in Table 15 were obtained.
[0382]
(Experiment i8) A sample was prepared under the conditions shown in Table 18. That is, a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment I8 except that the temperature at which the resin composition used in Experiment I8 was cured was set to 215 ° C. Then, an evaluation test was performed under the conditions shown in Table 18, and the results shown in Table 18 were obtained. When this experiment i8 is compared with experiment I8, in experiment i8, an abnormality was observed in which the EL element turned black, and it was found that the EL element was oxidized and corroded. Therefore, it is understood that the curing temperature of the resin composition is more preferably 120 ° C. than 215 ° C.
[0383]
[Table 13]
[Table 14]
[Table 15]
[Table 16]
[Table 17]
[Table 18]
(Experiment J1) A 1 KW plasma treatment was performed by a plasma treatment machine at a speed of 10 m / min while a nylon monofilament (manufactured by Toray Industries, Inc., average wire diameter: 0.1 mm, elastic modulus: 4.0 GPa) was conveyed as a core. Applied to the surface. After subjecting the surface-treated nylon monofilament to a seeder treatment with palladium chloride, 0.2 μm copper is precipitated in an electroless copper plating solution, and Sn / In = 48/52 eutectic solder is used in a conventional manner (melting point: 117 ° C.). In the plating bath, electrolytic plating was performed until the diameter of the solder-coated monofilament became 160 μm (coating thickness: 30 μm). The solder coverage was 99% or more.
[0384]
100 parts by weight of an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken Co., Ltd., modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50), 4 parts by weight of 4-methyl-2-ethylimidazole, and oxidation as a
[0385]
The obtained sheet-like sealing material is stuck on the outer periphery along four sides of a 25 mm × 100 mm soda glass so that the film width becomes 2 mm, and heated at 80 ° C. (softening temperature of resin) and 1 MPa for 10 minutes. Then, the PET film on the upper surface was peeled off. Next, another glass was bonded to the exposed epoxy resin so as to face each other, and the resin was cured by heating and pressing at 120 ° C. and 3 MPa for 60 minutes to obtain a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, using two pieces of soda glass of 100 mm × 100 mm, according to JIS K-7129, a sealing material is attached to the outer peripheral portion along the four sides of the glass so that the film width becomes 2 mm, and the same temperature and temperature as described above are used. Glasses were joined together under pressure conditions to obtain a sample for moisture permeability measurement.
[0386]
An evaluation test was performed under the conditions shown in Table 19, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0387]
(Experiment j1) An adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared and evaluated in the same manner as in Experiment J1, except that the wire diameter of the used nylon monofilament was changed to 7 mm. The result was obtained.
[0388]
The comparison between Experiment J1 and Experiment j1 shows the effect of the difference in the diameter of the monofilament on the moisture permeability and the adhesive strength. When the wire diameter of the monofilament increased, both the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% both increased. As the wire diameter became larger, both the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% both increased as the wire diameter increased. That is, as the wire diameter of the monofilament increases, the adhesive strength increases, but the moisture permeability also increases. Therefore, when the wire diameter of the monofilament is large, there is a problem in the long-term stability of the EL display device.
[0389]
(Experiment J2) Samples were prepared under the conditions shown in Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, PET monofilaments (manufactured by Toray Industries, Inc., polyester monofilaments, average wire diameter 0.8 mm,
[0390]
Further, as the resin adhesive, an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., TF-3348-15F2G) was used instead of the epoxy resin, and barium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added at 10 wt. The resulting mixture was coated on a PET film (A-4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., A-4100,
[0391]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment J1, and the resin was cured under a pressure of 1.0 J / cm under the same conditions as in Experiment J1. 2 , And heating at 150 ° C. was also performed at this time to prepare a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0392]
(Experiment j2) The same as Experiment J2 except that a polyethylene monofilament having an average wire diameter of 0.8 mm and an elastic modulus of 0.1 GPa (a polyethylene monofilament manufactured by Toray Industries, Inc.) was used instead of the PET monofilament used. Then, a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared.
[0393]
The comparison between Experiment J2 and Experiment j2 shows the effect of the difference in the material and elastic modulus of the monofilament on the moisture permeability and the adhesive strength. When the elastic modulus was lowered, both the initial value and the value after leaving at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% both decreased. Regarding the adhesive strength, even when the elastic modulus increased, the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% did not change. That is, when the elastic modulus of the monofilament decreases, the adhesive force does not change, but the moisture permeability increases. Therefore, when the elastic modulus of the monofilament is small, there is a problem in the long-term stability of the EL display device.
[0394]
(Experiment J3) A sample was produced under the conditions shown in Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, instead of the nylon monofilament used in Experiment J1, polypropylene monofilament (manufactured by Hagiwara Kogyo Co., Ltd., malfrene, average wire diameter 0.2 mm, elastic modulus 5.5 GPa) was used, and instead of Sn / In as a coating metal, Using eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point: 144 ° C.), electrolytic plating was performed until the diameter of the solder-coated monofilament became 240 μm (coating thickness: 20 μm). The solder coverage was 99% or more.
[0395]
Further, as the resin adhesive, a polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Byron VG700, crosslinker: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) is used instead of the epoxy resin. Then, 20 parts by weight of calcium oxide as a desiccant (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and a polypropylene film (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., K8-40) was used instead of PET as a base material. The above resin adhesive was applied to a substrate to form a polyester resin film having a thickness of 200 μm. The above-mentioned solder-coated polypropylene monofilament was arranged and buried on the obtained resin film to obtain a sheet-like sealing material of FIG. 26 (c).
[0396]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment J1, and the resin was cured by changing the heating temperature to 150 ° C. under the same pressure conditions as in Experiment J1, and a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were used. Was prepared. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0397]
(Experiment j3) A bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment J3 except that Pb 100% was used as the coating metal.
[0398]
A comparison between Experiment J3 and Experiment j3 shows the effect of the difference in metal on moisture permeability and adhesion. When the coating metal was Pb, the initial value of the adhesive force and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% did not change much, but the moisture permeability increased in any value. did. Since Pb is a soft and easily deformable metal, it is considered that a gap is formed between the bonded substrates due to scratches or irregularities on the surface of the coated metal before sealing, and the moisture permeability is increased. However, such gaps are solved by melting the metal during sealing. This problem can be easily solved by heating at the time of sealing if Pb has a high melting point but a metal having a low melting point.
[0399]
(Experiment J4) Samples were produced under the conditions shown in Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, polyphenylene sulfide monofilament (manufactured by Toray Industries, Inc., average wire diameter: 0.5 mm, elastic modulus: 3.5 GPa) was used instead of nylon monofilament, and eutectic solder Ag / In = instead of Sn / In as a coating metal was used. Using 10/90 (melting point: 204 ° C.), electrolytic plating was performed until the diameter of the solder-coated monofilament became 510 μm (coating thickness: 5 μm). However, the monofilament was plated without performing the plasma treatment. The solder coverage was 99% or more.
[0400]
Further, as a resin adhesive, SBS rubber (Clayton D-1101CU manufactured by Shell Japan Co., Ltd.) was used instead of epoxy resin, and 15 parts by weight of calcium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a desiccant was added. did. Further, a polycarbonate sheet (manufactured by Teijin Chemicals Ltd., Panlite L-1250, 135 ° C., 20 kgf / cm) instead of a PET film as a base material 2 Press to adjust the thickness to 550 μm), and apply a resin adhesive to the substrate in the same manner as in Experiment J1 to form a 550 μm-thick film. A sheet-like sealing material of 26 (e) was obtained.
[0401]
The sealing material is placed on the soda glass in the same manner as in Experiment J1 and is adhered by heating to 100 ° C., and the resin is cured by changing the heating temperature to 210 ° C. under the same pressure conditions as in Experiment J1. And a sample for moisture permeability measurement were prepared. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0402]
(Experiment j4) A sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were produced in the same manner as in Experiment J4 except that the thickness of the coated metal was changed to 7 mm.
[0403]
The comparison between Experiment J4 and Experiment j4 shows the effect of the difference in the thickness of the coated metal on the moisture permeability and the adhesive strength. Regarding the moisture permeability, even when the thickness of the coating metal layer was increased, neither the initial value nor the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% did not change. As the thickness of the coating metal layer increased, the initial value and the value after leaving the substrate at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% drastically decreased. That is, when the thickness of the coating metal layer is increased, the moisture permeability does not change, but the adhesive force is drastically reduced. Therefore, when the metal layer is thick, there is a problem in long-term stability of the EL display device.
[0404]
(Experiment J5) A sample was produced under the conditions shown in Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, instead of nylon monofilament, PET monofilament (manufactured by Toray Industries, Inc., polyester monofilament, average wire diameter 0.1 mm,
[0405]
Further, as the resin adhesive, xylene / acrylic resin = 80/20 (xylene resin: Nikonol HP-100 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), acrylic resin: HTR- manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd. instead of epoxy resin 860P-3), 20 parts by weight of calcium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is added as a desiccant, and a polyimide film (manufactured by Dupont Toray Kapton Co., Ltd.) is used instead of PET as a base material. 100H), a resin adhesive was applied to the substrate in the same manner as in Experiment J1, to form a 200 μm-thick xylene / acrylic resin film. The above-mentioned solder-coated PET monofilament was arranged and embedded on the obtained film to obtain a sheet-like sealing material shown in FIG. 26 (d).
[0406]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment J1, and the resin was cured by changing the heating temperature to 140 ° C. under the same pressurizing conditions as in Experiment J1, and a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were used. Was prepared. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0407]
(Experiment j5) An adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were produced in the same manner as in Experiment J5 except that the coverage of the core material with the metal was 40%.
[0408]
The comparison between Experiment J5 and Experiment j5 shows the effect of the difference in the coverage of the core material with the metal on the moisture permeability and the adhesive strength. As for the moisture permeability, when the coverage of the core material with the metal decreased, both the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% both increased drastically. Regarding the adhesive strength, even when the coverage of the core material with the metal decreased, the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at 60 ° C. and 90% humidity did not change. In other words, when the coverage of the core material decreases, the moisture permeability increases sharply. Therefore, when the coverage of the core material by metal is low, there is a problem in the long-term stability of the EL display device.
[0409]
(Experiment J6) A sample was produced under the conditions of Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, instead of nylon monofilament, polypropylene monofilament (manufactured by Hagiwara Kogyo KK, Malfrene, average wire diameter 0.2 mm, elastic modulus 5.5 GPa) was used, and eutectic solder Bi was used instead of Sn / In as a coating metal. Using / Sn / Zn = 56/40/4 (130 ° C.), fusion plating was performed until the diameter of the solder-coated monofilament became 210 μm (coating thickness: 5 μm). The solder coverage was 99% or more.
[0410]
Further, as the resin adhesive, a polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Byron VG700, crosslinker: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) is used instead of the epoxy resin. Then, 20 parts by weight of calcium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a desiccant was added, and a resin adhesive was applied to the substrate in the same manner as in Experiment J1 to form a xylene / acrylic resin film having a thickness of 210 μm. Got. However, a polypropylene film (K8-40, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used instead of PET as the substrate. The above-mentioned solder-coated polypropylene monofilament was arranged and buried on the obtained film to obtain a sheet-like sealing material shown in FIG.
[0411]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment J1, and the resin was cured by changing the heating temperature to 140 ° C. under the same pressurizing conditions as in Experiment J1, and a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were used. Was prepared. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0412]
(Experiment j6) Except that the heating temperature for curing the resin adhesive was changed from 140 ° C. to 250 ° C., a bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment J6.
[0413]
The comparison between Experiment J6 and Experiment j6 shows the effect of the difference in the curing temperature of the resin adhesive on the appearance of the EL element. When the heating temperature was raised to 250 ° C., dark spots were generated, the appearance was deteriorated, and the quality as a display element was deteriorated. Therefore, when the heating temperature required for curing the resin adhesive is too high, the appearance and quality of the EL display device are deteriorated.
[0414]
(Experiment J7) A sample was produced under the conditions of Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, instead of nylon monofilament, polyvinyl chloride monofilament (Ryuron paste 772, manufactured by Tosoh Corporation, average wire diameter 0.5 mm, elastic modulus 3.8 GPa) was used, and instead of Sn / In as a coating metal, Using eutectic solder Pb / Sn = 5/95 (melting point: 183 ° C.), fusion plating was performed until the diameter of the solder-coated monofilament became 510 μm (coating thickness: 5 μm). The solder coverage was 99% or more.
[0415]
Further, as a resin adhesive, an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., moisture-proof insulating material TF-3348-15F2) is used instead of the epoxy resin, and barium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a desiccant is used. ) Was added in an amount of 5 parts by weight, and a resin adhesive was applied to the substrate in the same manner as in Experiment J1 to obtain an acrylic resin film having a thickness of 400 μm. However, a polyethylene film (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., CA-60) was used instead of PET. The above-mentioned solder-coated polyvinyl chloride monofilament was arranged and buried on the obtained resin film to obtain a sheet-like sealing material shown in FIG. 26 (c).
[0416]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment J1, and the resin was cured at 2.4 J / cm under the same pressure conditions as in Experiment J1. 2 At 200 ° C., and a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement were prepared. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0417]
(Experiment j7) An adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment J7 except that the thickness of the resin adhesive applied on the substrate was 1.5 mm.
[0418]
The comparison between Experiment J7 and Experiment j7 shows the effect of the difference in the thickness of the resin adhesive film on the moisture permeability and the adhesive strength. As the thickness of the resin adhesive film increased, both the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% both increased as the moisture permeability increased. When the thickness of the resin adhesive film was increased, the initial value and the value after standing at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% did not change. That is, when the film thickness of the moisture-proof adhesive layer is increased, the adhesive force does not change but the moisture permeability increases. Therefore, when the resin adhesive film is thick, there is a problem in the long-term stability of the EL display device.
[0419]
(Experiment J8) Samples were prepared under the conditions shown in Table 19 by changing the procedure of Experiment J1 as follows. That is, a solder-coated monofilament was obtained in the same manner as in Experiment J1, except that the nylon monofilament was not subjected to the plasma treatment, and the solder was applied by fusion plating so that the diameter of the solder-coated monofilament became 110 μm (5 μm in thickness). Was. The solder coverage was 99% or more.
[0420]
Further, as a resin adhesive, instead of an epoxy resin, a UV-curable cationic polymer resin composition [Epicoat 1001 / Epicoat 828 (above, bisphenol type epoxy resin, Yuka Shell Co., Ltd.) / Nipol 1032 (Nitrile rubber, Nippon Zeon ( / Hitanol 2400 (Alkylphenol, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) / Triphenylsulfonium salt-based curing agent (Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) / Barium oxide = 50/20 / Resin composition having a mixing ratio of 20/10/4/10], and using a micro syringe, a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., A-4100,
[0421]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment J1, and the resin was cured at 6 J / cm under the same pressure conditions as in Experiment J1. 2 , And heating at 120 ° C. was also performed at this time to prepare a bonding sample and a moisture permeability measurement sample. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 19 were obtained.
[0422]
(Experiment j8) An adhesion sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment J8 except that the thickness of the resin adhesive applied on the substrate was 0.5 μm.
[0423]
The comparison between Experiment J8 and Experiment j8 shows the effect of the difference in the thickness of the resin adhesive film on the moisture permeability and the adhesive strength. When the film thickness of the resin adhesive became small, both the initial value and the value after leaving at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% both decreased when the film thickness of the resin adhesive became small. As the thickness of the resin adhesive became smaller, the initial value and the value after leaving the resin adhesive at 1000 ° C. at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% were decreased. That is, as the thickness of the resin adhesive decreases, the adhesive strength decreases and the moisture permeability increases. Therefore, when the thickness of the resin adhesive is small, there is a problem in the long-term stability of the EL display device.
[0424]
[Table 19]
[Table 20]
(Experiment K1) While a nylon monofilament (manufactured by Toray Industries, Inc., average wire diameter: 0.1 mm, elastic modulus: 4.0 GPa) is vibrated and conveyed as a core material, a plasma processing machine performs 1 KW plasma processing at a speed of 10 m / min. Applied to the surface. A polyfunctional isocyanate compound (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) was added to 100 parts by weight of an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken Co., Ltd., modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50). The plasma-treated nylon monofilament was immersed in a 10% MEK solution of a primer prepared by adding parts by weight for 1 minute, and dried and cured at 120 ° C. for 10 minutes to perform a primer treatment. Thereafter, electrolytic plating was performed by a conventional method in a plating bath of Sn / In = 48/52 eutectic solder (melting point: 117 ° C.) until the diameter of the solder-coated monofilament became 160 μm (coating thickness: 30 μm). The solder coverage was 99% or more.
[0425]
100 parts by weight of an epoxy resin composition (Alteco 3500, manufactured by Alpha Giken Co., Ltd., modified epoxy resin / modified polyamine = 100/50), 4 parts by weight of 4-methyl-2-ethylimidazole, and oxidation as a drying
[0426]
The obtained sheet-like sealing material is stuck on the outer periphery along four sides of a 25 mm × 100 mm soda glass so that the film width becomes 2 mm, and heated at 80 ° C. (softening temperature of resin) and 1 MPa for 10 minutes. Then, the PET film on the upper surface was peeled off. Next, another glass was bonded to the exposed epoxy resin so as to face each other, and the resin was cured by heating and pressing at 120 ° C. and 3 MPa for 60 minutes to obtain a sample for measuring adhesive strength. On the other hand, using two pieces of soda glass of 100 mm × 100 mm, according to JIS K-7129, a sealing material is attached to the outer peripheral portion along the four sides of the glass so that the film width becomes 2 mm, and the same temperature and temperature as described above are used. Glasses were joined together under pressure conditions to obtain a sample for moisture permeability measurement.
[0427]
An evaluation test was performed under the conditions shown in Table 21, and the results shown in Table 21 were obtained.
[0428]
(Experiment k1) A bonding sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment K1, except that the electrolytic plating was performed so that the coverage of the nylon monofilament with the solder was 40%. The results shown in Table 22 were obtained.
[0429]
The comparison between Experiment K1 and Experiment k1 shows the effect of the difference in the coverage by the solder on the moisture permeability and the adhesive strength. As the moisture permeability decreased, the initial value and the value after standing for 1000 hours at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90% both increased when the coverage by the solder became small. Regarding the adhesive strength, even when the coverage was reduced, neither the initial value nor the value after standing for 1000 hours at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90% did not change. That is, when the coverage by the solder decreases, the moisture permeability increases, and thus there is a problem in the long-term stability of the EL display device.
[0430]
(Experiment K2) A sample was produced under the conditions shown in Table 21 by changing the procedure of Experiment K1 as follows. That is, instead of the nylon monofilament used in the experiment K1, PET monofilament (manufactured by Toray Industries, Inc., polyester monofilament, average wire diameter 0.1 mm,
[0431]
Further, as the resin adhesive, an acrylic resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., TF-3348-15F2G) was used instead of the epoxy resin, and barium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added at 10 wt. The resulting mixture was applied to a PET film (A-4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., A-4100, film thickness: 75 μm) using an applicator so that the film thickness became 120 μm, to obtain an acrylic resin film. The above-mentioned solder-coated PET monofilament was arranged and embedded on the obtained resin film to obtain a sheet-like sealing material shown in FIG.
[0432]
A sealing material was stuck on soda glass in the same manner as in Experiment K1, and curing of the resin was performed under the same pressure conditions as in Experiment K1 at 1.0 J / cm. 2 , And heating at 150 ° C. was also performed at this time to prepare a sample for adhesion and a sample for moisture permeability measurement. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 21 were obtained.
[0433]
(Experiment k2) An adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment K2, except that neither the plasma treatment nor the primer treatment was performed.
[0434]
The comparison between Experiment K2 and Experiment k2 shows the effect of the presence or absence of the surface treatment of the monofilament with the plasma and the primer on the moisture permeability and the adhesive strength. In the experiment k2, the value of the moisture permeability decreased after being left at 1000 ° C. at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90% unless subjected to the surface treatment. Did not change). Even if the surface treatment was not performed, the initial value of the adhesive strength did not change, nor did the value after leaving for 1000 hours at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90%. In other words, when there is no surface treatment with plasma or primer, the adhesive strength does not change but the moisture permeability increases, and there is a problem in long-term stability of the EL display device under severe conditions.
[0435]
(Experiment K3) Samples were produced under the conditions shown in Table 21 by changing the procedure of Experiment K1 as follows. That is, a polypropylene monofilament (manufactured by Hagiwara Kogyo Co., Ltd., Malfrene, average wire diameter 0.2 mm, elastic modulus 5.5 GPa) was used instead of the nylon monofilament used in Experiment K1, and the primer was a polyester resin / crosslinking agent = 100 / 2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Ltd., Byron VG700, cross-linking agent: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L), and without plasma treatment, polypropylene monofilament was added to a 10% MEK solution of a primer in 1%. After immersion for 10 minutes and drying and curing at 120 ° C. for 10 minutes, a primer treatment was performed. Then, using eutectic solder Bi / Cd = 60/40 (melting point 144 ° C.) instead of Sn / In as the coating metal, electrolytic plating was performed until the diameter of the solder-coated monofilament became 240 μm (coating thickness 20 μm). gave. The solder coverage was 99% or more.
[0436]
Further, as the resin adhesive, a polyester resin / crosslinking agent = 100/2 (polyester resin: manufactured by Toyobo Co., Byron VG700, crosslinker: Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) is used instead of the epoxy resin. Then, 20 parts by weight of calcium oxide as a desiccant (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and a polypropylene film (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., K8-40) was used instead of PET as a base material. The above resin adhesive was applied to a substrate to form a polyester resin film having a thickness of 200 μm. The above-mentioned solder-coated polypropylene monofilament was arranged and buried on the obtained resin film to obtain a sheet-like sealing material of FIG. 26 (c).
[0437]
In the same manner as in Experiment K1, a sealing material was stuck on soda glass, and the resin was cured by changing the heating temperature to 150 ° C. under the same pressurizing conditions as in Experiment K1, and used for adhesion samples and moisture permeability measurement. A sample was prepared. An evaluation test was performed, and the results shown in Table 21 were obtained.
[0438]
(Experiment k3) An adhesive sample and a moisture permeability measurement sample were prepared in the same manner as in Experiment K3 except that the primer treatment was not performed.
[0439]
The comparison between Experiment K3 and Experiment k3 shows the effect of the presence or absence of the primer treatment on the moisture permeability and the adhesive strength. Even if the adhesion was not performed, the initial value and the value after standing at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90% for 1000 hours did not change so much without performing the primer treatment. The value increased (however, when the temperature was 60 ° C., the value did not change even after 1000 hours. That is, when the surface treatment with the primer was not performed, the adhesive force did not change but the moisture permeability increased. However, there is a problem in long-term stability of EL display devices under severe conditions.
[0440]
(Experiment K4) The same procedure as in Experiment K3 was carried out, except that the surface of the core material was subjected to 1 KW plasma treatment with a plasma treatment machine at a speed of 10 m / min without performing the primer treatment. A measurement sample was prepared.
[0441]
As a result of the evaluation test, the value of the moisture permeability after leaving for 1000 hours at 80 ° C. and 90% humidity slightly increased. Also, good values were obtained.
[0442]
(Experiment K5) The same procedure as in Experiment K3 was carried out except that the core material surface was subjected to a 5 KW pucorona discharge treatment by a corona treatment machine at a speed of 20 m / min without performing the primer treatment. A sample for humidity measurement was prepared.
[0443]
As a result of the evaluation test, the value of the moisture permeability after leaving for 1000 hours at 80 ° C. and 90% humidity slightly increased. Also, good values were obtained.
[0444]
[Table 21]
[Table 22]
(Experiment L1) A nylon fiber having a diameter of 100 μm was immersed in isopropyl alcohol to be degreased, and then the surface was subjected to plasma treatment. Furthermore, after subjecting to a seeder treatment with palladium chloride, it was immersed in an electroless copper plating solution (CUST2000, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) at a solution temperature of 25 ° C. for 10 minutes to precipitate 0.2 μm copper. The copper plating film at this time was brittle and easily peeled. Further, the current density is 0.003 A / cm in the electrolytic copper plating solution. 2 , And the electrolytic copper plating was performed at a liquid temperature of 25 ° C. for 5 minutes. After washing this in distilled water, it was dried at 120 ° C. for 10 minutes using a drier. The diameter of the plating-coated fiber was 160 μm (coating thickness 30 μm, solder coverage was 99% or more), and the copper plating film had a strength that did not cause peeling. Further, the copper plated fiber was subjected to a current density of 0.25 A / cm using an electrolytic plating solution of Sn / In = 48/52 eutectic solder (manufactured by Ishihara Chemical Co., Ltd.). 2 The current value was adjusted so as to obtain a solution temperature of 25 ° C. for 10 minutes to perform Sn / In eutectic alloy electrolytic plating. As a result, a good Sn / In eutectic alloy coating with a film thickness of 15 ± 1 μm was formed, and the uniformity of the film thickness of the Sn / In alloy plating was very high.
[0445]
(Experiment L2) A soft copper wire having a diameter of 100 μm was immersed in isopropyl alcohol and degreased for 10 minutes, and then the current density was increased to 0% using an electrolytic plating solution of Sn / In = 48/52 eutectic solder (manufactured by Ishihara Chemical Co., Ltd.). 3A / cm 2 The current value was adjusted so as to obtain a solution temperature of 25 ° C. for 10 minutes to perform Sn / In eutectic alloy electrolytic plating. As a result, a good Sn / In eutectic alloy coating having a film thickness of 20 ± 1 μm was formed, and the uniformity of the film thickness of the Sn / In alloy plating was very high.
[0446]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing material and the sealing structure which are excellent in the moisture-proof property after an initial stage and after heating and humidifying for a long time, and which can implement | achieve sealing with favorable adhesiveness of joining of a board | substrate and a counter substrate are provided. be able to.
[0447]
Further, according to the present invention, the substrate and the opposing substrate are sealed using the sealing structure having excellent adhesion and moisture-proof functions, so that the durability and reliability of the mounted functional elements are improved, and the moisture-proof property is improved. It is possible to provide a long-life package excellent in heat resistance and oxidation resistance.
[0448]
Further, it is possible to provide a sheet-like sealing material which can firmly join the substrate and the counter substrate in a temperature range where the functional element and the substrate are not damaged, has a spacer function, and is excellent in workability.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1A is a cross-sectional view of a mounting body according to a first embodiment of the present invention, which is perpendicular to the substrate before the substrate is joined, FIG. FIG. 2C is a schematic configuration diagram (c) parallel to the substrate for explaining the arrangement of the sealing material of the mounting body in FIGS. 1A and 1B.
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating an example of a manufacturing process of a strip member of a sealing material according to the first embodiment.
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views (a) and (b) for explaining another example of the manufacturing process of the strip member of the sealing material according to the first embodiment.
FIGS. 4A and 4B are cross-sectional views (a) and (b) for explaining another example of the manufacturing process of the strip member of the sealing material according to the first embodiment.
5A, 5B, 5C, and 5D are cross-sectional views of a core material of a sealing material according to the first embodiment.
FIG. 6 shows an example of an arrangement state of a sealing member according to the first embodiment, wherein (b), (c), (d), and (e) are schematic configuration diagrams parallel to the substrate, and (a) is FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIGS. 6 (b), (c), (d), and (e).
FIGS. 7A to 7F are schematic views (a) to (f) of a manufacturing process for explaining a method of manufacturing the mounted body according to the first embodiment.
FIGS. 8A to 8C are schematic diagrams (a) to (c) of a manufacturing process for explaining another example of the method for manufacturing the mounted body in the first embodiment.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a main part showing a sealing structure under pressure in the manufacture of the mounted body according to the first embodiment.
FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part viewed from the direction of line BB ′ in FIG. 6B for explaining a manufacturing process of the mounted body in the arrangement of the sealing structure in FIG. 6B; In the figure, (a) shows before bonding and (b) shows after bonding.
FIGS. 11A to 11G are cross-sectional views (a) to (g) perpendicular to the substrate, showing application examples of the sealing structure.
FIG. 12A is a cross-sectional view perpendicular to the substrate before the substrate is joined to the mounted body according to the second embodiment of the present invention; FIG. 12B is a cross-sectional view perpendicular to the substrate showing the mounted body after the substrate is bonded; FIG. 13C is a schematic configuration diagram (c) parallel to the substrate for explaining the arrangement of the sealing material of the mounting body in FIGS. 12A and 12B.
FIG. 13 is cross-sectional views (a), (b), and (c) for explaining an example of a sealing material according to the second embodiment.
FIGS. 14A to 14F are cross-sectional views (a) to (f) of a sealing material according to the second embodiment.
FIGS. 15A to 15E are schematic diagrams (a) to (e) of a manufacturing process for explaining a method of manufacturing a package according to the second embodiment.
FIG. 16 shows an example of an arrangement state of a sealing member in the second embodiment, where (b), (c), (d), and (e) are schematic configuration diagrams parallel to the substrate, and (a) is FIG. 17 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIGS. 16 (b), (c), (d), and (e).
FIG. 17 is an essential part cross-sectional view showing a sealing structure under pressure in the manufacture of a package according to the second embodiment.
FIG. 18 is a cross-sectional view of a main part viewed from the direction of line BB ′ in FIG. 6 (b), for explaining the manufacturing process of the mounted body in the arrangement of the sealing structure in FIG. 16 (b). In the figure, (a) shows before bonding and (b) shows after bonding.
FIGS. 19A and 19B are cross-sectional views of the mounting body according to the third embodiment of the present invention, which are perpendicular to the substrate before the substrate is joined, FIG. FIG. 20C is a schematic configuration diagram (c) parallel to the substrate for explaining the arrangement of the sealing material of the mounting body in FIGS. 19A and 19B.
FIG. 20 is cross-sectional views (a), (b), and (c) illustrating an example of a sealing material according to the third embodiment.
FIGS. 21A to 21H are cross-sectional views of a sealing material according to a third embodiment.
FIGS. 22A to 22E are schematic views (a) to (e) of manufacturing steps for explaining a method of manufacturing a package according to the third embodiment.
FIG. 23 shows an example of an arrangement state of a sealing structure according to the third embodiment, wherein (b), (c), (d), and (e) are schematic configuration diagrams parallel to the substrate, and (a) is 23 (b), (c), (d), and (e) are sectional views taken along line AA 'of FIG.
FIG. 24 is a cross-sectional view of a main part showing a sealing structure under pressure in the manufacture of the package according to the third embodiment.
FIG. 25 is a cross-sectional view of a main part viewed from the direction of line BB ′ in FIG. 23 (b), for explaining the manufacturing process of the mounted body in the arrangement of the sealing components in FIG. 23 (b). In the figure, (a) shows before bonding and (b) shows after bonding.
26A to 26E are cross-sectional views showing deformations of the sheet-like sealing material according to the first embodiment of the present invention, and perspective perspective views of the sheet-like sealing material of FIG. (F).
FIGS. 27A to 27C are cross-sectional views showing another modification of the sheet-like sealing material according to the first embodiment of the present invention.
FIGS. 28A to 28D are cross-sectional views illustrating a sheet-like sealing material according to a second embodiment of the present invention.
FIGS. 29A and 29B are cross-sectional views (a) and (b) in each step for explaining the method for manufacturing a sheet-like sealing material according to the present invention.
FIGS. 30A to 30E are cross-sectional views in respective steps for describing a method for manufacturing an EL display device as one embodiment of a method for manufacturing a package using the sheet-shaped sealing material according to the present invention. FIG. 30C is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.
FIGS. 31A to 31D are plan views (a) to (d) of the substrate in FIG. 30 (c) for illustrating a modification of the arrangement of the sheet-like sealing material.
FIG. 32 is a plan view of a substrate for explaining another embodiment of the sheet-like sealing material according to the present invention.
FIG. 33 is a cross-sectional view in each step for explaining a method for manufacturing an EL display device using inorganic EL elements as another embodiment of the method for manufacturing a package using the sheet-shaped sealing material according to the present invention; (E).
FIG. 34 is a cross-sectional view in each step for describing a method for manufacturing a package in which a solar cell element is sealed as another embodiment of the method for manufacturing a package using the sheet-shaped sealing material according to the present invention ( a) to (e).
FIG. 35 is a cross-sectional view (a) of a strip member showing a modified example of the strip member of the sealing material according to the present invention and a mounting body using the same, and a cross section (b) of the mounting body perpendicular to the substrate. .
[Explanation of symbols]
1 core material, 1a plastic wire, 1b metal wire
1c metal tube, 2 metal layer, 3,3 ', 3 "adhesive layer
4a-4d, 4a'-4d ', 4a "-4d" sealing material
5 Substrate, 6 Counter substrate, 7 Lower electrode, 8 Electron transport layer
9 light emitting layer, 10 hole transport layer, 11 upper electrode
12 organic EL element, 13 member, 14 resin adhesive
15 insulating film, 16 base material, 17 conductive layer
Reference Signs List 20 inorganic EL element, 21, 23 insulating layer, 22 light emitting layer
24 electrode (Al), 30 solar cell element, 31 charge transport layer
Claims (124)
前記芯材にプラズマ処理、コロナ放電処理及びプライマー処理からなる群より選択される少なくとも1種の表面処理を施す工程
を有する請求項16〜20のいずれかに記載の条部材の製造方法。The core is formed of plastic, and further,
21. The method according to claim 16, further comprising a step of subjecting the core material to at least one type of surface treatment selected from the group consisting of plasma treatment, corona discharge treatment, and primer treatment.
前記条部材に添設される接着剤層
を有する封止材。A strip member having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material; and a sealing material having an adhesive layer attached to the strip member.
前記複数の条部材を接続する樹脂層
を有する封止材。A plurality of strip members each having a resiliently deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material, and a sealing material having a resin layer connecting the plurality of strip members; .
該芯材の少なくとも一部を覆う金属層が形成された条部材を作成する工程と、
前記条部材の周囲の少なくとも一部を覆う接着剤層を形成する工程と
を有する封止材の製造方法。A step of preparing an elastically deformable strip-shaped core material,
A step of forming a strip member on which a metal layer covering at least a part of the core material is formed,
Forming an adhesive layer covering at least a part of the periphery of the strip member.
前記芯材にプラズマ処理、コロナ放電処理及びプライマー処理からなる群より選択される少なくとも1種の表面処理を施す工程
を有する請求項31又は32記載の封止材の製造方法。The core is formed of plastic, and further, before the step of forming the strip member,
33. The method for manufacturing a sealing material according to claim 31, further comprising a step of subjecting the core material to at least one type of surface treatment selected from the group consisting of plasma treatment, corona discharge treatment, and primer treatment.
弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;及び
該条部材と共に前記基材の該離型性面上に支持される接着剤
を有するシート状封止材。A substrate having a release surface;
A strip member having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material; and an adhesive supported with the strip member on the release surface of the base material. Sheet-shaped sealing material.
弾性を有する条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを各々が有し並列する複数の条部材;及び
該複数の条部材と共に前記基材の該離型性面上に支持される接着剤
を有するシート状封止材。A substrate having a release surface;
A plurality of strip members each having an elastic strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material arranged in parallel; and the plurality of strip members on the mold releasing surface of the base material A sheet-like sealing material having an adhesive supported on the sheet.
離型性面を有する基材を用意する工程と、
前記基材の該離型性面に樹脂接着剤を配置する工程と、
前記基材の該離型性面に前記条部材を配置する工程と
を有するシート状封止材の製造方法。A step of preparing a strip member covered by the metal layer at least a part of the elastically deformable strip-shaped core material,
A step of preparing a substrate having a release surface,
Arranging a resin adhesive on the release surface of the substrate,
Arranging the strip member on the releasable surface of the base material.
前記樹脂接着剤に乾燥剤を配合する工程と、
前記離型性面に配置された前記条部材及び前記樹脂接着剤を別の離型性面で覆う工程と
を有する請求項43〜47のいずれかに記載のシート状封止材の製造方法。Furthermore,
Blending a desiccant in the resin adhesive,
48. The method of manufacturing a sheet-like sealing material according to any one of claims 43 to 47, further comprising: covering the strip member and the resin adhesive disposed on the releasable surface with another releasable surface.
前記芯材をプラスチックで形成する工程と、
前記芯材に、プラズマ処理、コロナ放電処理及びプライマー処理からなる群より選択される少なくとも1種の表面処理を施す工程と
前記表面処理が施された該芯材を被覆する金属層を設ける工程と
を有する請求項43〜49のいずれかに記載のシート状封止材の製造方法。The step of preparing the strip member,
A step of forming the core material from plastic;
A step of subjecting the core material to at least one type of surface treatment selected from the group consisting of plasma treatment, corona discharge treatment, and primer treatment; and a step of providing a metal layer covering the surface-treated core material. The method for producing a sheet-shaped sealing material according to any one of claims 43 to 49, comprising:
前記シート状封止材の該樹脂接着剤が貼着された基板と
を有する封止用基板。A base member having a releasable surface; a strip member having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material; and the releasability of the base material together with the strip member. A sheet-like sealing material having a resin adhesive supported on the surface:
A sealing substrate comprising the sheet-shaped sealing material and a substrate to which the resin adhesive is adhered.
該基板上に配置され、弾性変形可能な条状の芯材と該芯材の少なくとも一部を覆う金属層とを有する条部材;
該条部材と共に該基板上に配置される樹脂接着剤;及び
離型性面を有し、該離型性面で該樹脂接着剤を覆う基材
を有する封止用基板。substrate;
A strip member disposed on the substrate and having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material;
A sealing substrate having a resin adhesive disposed on the substrate together with the strip member; and a base material having a releasable surface and covering the resin adhesive with the releasable surface.
該条部材と共に前記基板上に配置される接着剤
を有する、前記基板を他の基板と封止接合するための封止構成体。A strip member disposed on the substrate and having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material; and an adhesive disposed on the substrate together with the strip member. A sealing structure for sealingly bonding the substrate to another substrate.
該条部材及び接着剤を基板上に配置する工程と
を有する、前記基板を他の基板と封止接合するための封止構成体の製造方法。A step of preparing a strip member having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material,
Arranging the strip member and the adhesive on a substrate, the method comprising the steps of: sealing and joining the substrate to another substrate.
基板上に該複数の条部材及び接着剤を配置して、該接着剤を並列する該複数の条部材の間に位置させる工程と
を有する、前記基板を他の基板と封止接合するための封止構成体の製造方法。A step of preparing a plurality of strip members each having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material,
Disposing the plurality of strip members and the adhesive on a substrate, and positioning the adhesive between the plurality of parallel strip members, for sealingly bonding the substrate to another substrate. A method for producing a sealing structure.
条状の防湿層と、
該基板を該対向基板と接合するための接着層と、
該基板が該対向基板と接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層と
を有する封止構成体。A sealing structure provided on the substrate to seal and bond the substrate and the counter substrate,
A line-shaped moisture-proof layer,
An adhesive layer for bonding the substrate to the counter substrate,
A sealing structure having an elastic layer capable of pressing the moisture-proof layer to the substrate and the counter substrate by elastic deformation when the substrate is bonded to the counter substrate.
該基板を該対向基板と接合するための接着層を該基板上に設ける工程と
を有する、該基板を対向基板と封止接合するための封止構成体の製造方法。A step of providing, on the substrate, a strip-shaped moisture-proof layer and an elastic layer which is in parallel with the moisture-proof layer and which can be pressed against the substrate and the counter substrate by elastic deformation when the substrate is bonded to the counter substrate. ,
Providing a bonding layer on the substrate for bonding the substrate to the counter substrate, the method comprising the steps of:
前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;及び
弾性変形した条状の芯材と、該芯材の少なくとも一部を覆い、弾性変形した該芯材によって前記基板及び前記対向基板の双方に圧接される金属層とを有する、前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条部材
を有する封止体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive for bonding the substrate and the counter substrate; and an elastically deformed strip-shaped core material, and covering at least a portion of the core material, and the elastically deformed core material forms both the substrate and the counter substrate. A sealing body having a strip member for shielding a space between the substrate and the counter substrate, the sealing member having a metal layer to be pressed.
前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;
前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の金属層;及び
前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記金属層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する条状の芯材
を有する封止体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive for joining the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped metal layer for shielding a space between the substrate and the counter substrate; and an elastic deformation between the substrate and the counter substrate to press the metal layer against both the substrate and the counter substrate. A sealed body having a strip-shaped core material.
前記基板と前記対向基板とを接合する接着層;
前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の防湿層;及び
前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記防湿層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する弾性層
を有する封止体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive layer that joins the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped moisture-proof layer for shielding a space between the substrate and the counter substrate; and an elastic deformation between the substrate and the counter substrate to press the moisture-proof layer against both the substrate and the counter substrate. A sealed body having an elastic layer.
前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;
弾性変形した条状の芯材と、該芯材の少なくとも一部を覆い、弾性変形した該芯材によって前記基板及び前記対向基板の双方に圧接される金属層とを有する、前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条部材;及び
前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子
を有する実装体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive for joining the substrate and the counter substrate;
An elastically deformed strip-shaped core material, and a metal layer covering at least a part of the core material and being pressed against both the substrate and the counter substrate by the elastically deformed core material; A mounting member having a strip member for shielding a space between the substrate and a functional element provided in the space between the substrate and the counter substrate.
前記基板と前記対向基板とを接合する接着剤;
前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の金属層;
前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記金属層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する条状の芯材;及び
前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子
を有する実装体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive for joining the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped metal layer for shielding a space between the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped core material that elastically deforms between the substrate and the counter substrate to press the metal layer against both the substrate and the counter substrate; and is provided in the space between the substrate and the counter substrate. Package having a functional element to be used.
前記基板と前記対向基板とを接合する接着層;
前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の防湿層;
前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記防湿層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する弾性層;及び
前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子
を有する実装体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive layer that joins the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped moisture-proof layer for shielding a space between the substrate and the counter substrate;
An elastic layer elastically deforming between the substrate and the counter substrate to press the moisture-proof layer against both the substrate and the counter substrate; and a functional element provided in the space between the substrate and the counter substrate A mounting body having:
弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を有する条部材を、前記機能素子を取り囲むように前記基板上に配置する工程と、
前記条部材と並列するように接着剤を前記基板上に配置する工程と、
前記条部材に対向基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
A step of disposing an elastically deformable strip-shaped core material and a strip member having a metal layer covering at least a part of the core material on the substrate so as to surround the functional element,
Arranging an adhesive on the substrate so as to be in parallel with the strip member;
Joining the substrate and the counter substrate with the adhesive while pressing the counter substrate against the strip member.
弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を有する条部材を、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように前記対向基板上に配置する工程と、
前記条部材と並列するように接着剤を前記対向基板上に配置する工程と、
前記条部材に前記基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
An elastically deformable strip-shaped core material and a strip member having a metal layer covering at least a part of the core material are formed on the counter substrate so as to surround the functional element when the substrate and the counter substrate face each other. Arranging,
Arranging an adhesive on the counter substrate so as to be in parallel with the strip member;
Bonding the substrate and the opposing substrate with the adhesive while pressing the substrate against the strip member.
弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を有する条部材と、該条部材と並列する接着剤とが、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように設けられた前記対向基板を用意する工程と、前記基板に前記条部材を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
An elastically deformable strip-shaped core material and a strip member having a metal layer covering at least a part of the core material, and an adhesive arranged in parallel with the strip member, the substrate and the opposing substrate face each other when facing each other. A step of preparing the counter substrate provided so as to surround the functional element, and a step of joining the substrate and the counter substrate by the adhesive while pressing the strip member against the substrate. Production method.
条状の防湿層と、該防湿層に並列し、前記基板と対向基板とを接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層とを、前記機能素子を取り囲むように該基板上に設ける工程と、
前記防湿層と並列する接着層を前記基板上に設ける工程と、
前記弾性層に対向基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
A strip-shaped moisture-proof layer and an elastic layer that is arranged in parallel with the moisture-proof layer and that can press the moisture-proof layer against the substrate and the counter substrate by elastic deformation when the substrate and the counter substrate are bonded to each other. Providing on the substrate to surround it;
Providing an adhesive layer on the substrate in parallel with the moisture-proof layer;
Bonding the opposing substrate to the elastic substrate with the adhesive while pressing the opposing substrate against the elastic layer.
条状の防湿層と、該防湿層に並列し、前記基板と対向基板とを接合した時に弾性変形により該防湿層を該基板及び該対向基板に圧接可能な弾性層と、前記防湿層と並列する接着層とが、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように設けられた該対向基板を用意する工程と、
前記弾性層に該基板を圧接しながら、前記接着層によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
A strip-shaped moisture-proof layer, an elastic layer arranged in parallel with the moisture-proof layer, and elastically deforming the moisture-proof layer to the substrate and the counter substrate by elastic deformation when the substrate is bonded to the counter substrate; An adhesive layer to be provided, a step of preparing the counter substrate provided so as to surround the functional element when the substrate and the counter substrate face each other,
Bonding the substrate and the opposing substrate by the adhesive layer while pressing the substrate against the elastic layer.
条状の金属層と、該金属に並列し、前記基板と対向基板とを接合した時に弾性変形により該金属層を該基板及び該対向基板に圧接可能な条状の弾性芯材と、前記金属層と並列する接着剤とが、前記基板と対向基板とを対面させた時に前記機能素子を取り囲むように設けられた該対向基板を用意する工程と、
前記弾性芯材に該基板を圧接しながら、前記接着剤によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
A strip-shaped metal layer, a strip-shaped elastic core member which is in parallel with the metal, and which can press the metal layer against the substrate and the counter substrate by elastic deformation when the substrate and the counter substrate are joined; and An adhesive in parallel with the layer, the step of preparing the counter substrate provided so as to surround the functional element when the substrate and the counter substrate face each other,
Bonding the substrate and the opposing substrate by the adhesive while pressing the substrate against the elastic core material.
弾性変形可能な条状の芯材及び該芯材の少なくとも一部を覆う金属層を各々が有する複数の条部材が接着層を介して並列に配置される封止構成体を、前記機能素子を取り囲むように前記基板上に配置する工程と、
前記条部材に対向基板を圧接しながら、前記接着層によって前記基板と前記対向基板とを接合する工程と
を有する実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
A sealing structure in which a plurality of strip members each having an elastically deformable strip-shaped core material and a metal layer covering at least a part of the core material are arranged in parallel via an adhesive layer, Disposing on the substrate so as to surround it;
Joining the opposing substrate to the substrate by the adhesive layer while pressing the opposing substrate against the strip member.
弾性を有する条状の芯材が金属層で被覆された条部材と、離型性面を有する基材と、該離型性面上に前記条部材と共に支持される接着剤とを有するシート状シール材で前記機能素子を取り囲むように、該シート状シール材の該接着剤を前記基板に貼付する工程と、
前記基材を該接着剤から剥離する工程と、
前記基板上の前記条部材に対向基板を押圧しながら前記接着剤で該基板と該対向基板とを接合する工程と
を有することを特徴とする実装体の製造方法。A step of preparing a substrate provided with a functional element,
A sheet-shaped member having a strip member in which a strip-shaped core material having elasticity is coated with a metal layer, a base material having a release surface, and an adhesive supported on the release surface together with the strip member. Affixing the adhesive of the sheet-shaped sealing material to the substrate so as to surround the functional element with a sealing material,
Peeling the substrate from the adhesive,
Bonding the substrate and the opposing substrate with the adhesive while pressing the opposing substrate against the strip member on the substrate.
前記基板と前記対向基板とを接合する接着層;
前記基板及び前記対向基板の双方に圧接され前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の防湿層;及び
前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子
を有する実装体。A substrate and a counter substrate facing the substrate;
An adhesive layer that joins the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped moisture-proof layer pressed into contact with both the substrate and the counter substrate to shield a space between the substrate and the counter substrate; and a functional element provided in the space between the substrate and the counter substrate. Mounting body.
前記基板と前記対向基板との間の空間を遮蔽する条状の金属層;
前記基板と前記対向基板との間で弾性変形して前記防湿層を前記基板及び前記対向基板の双方に圧接する条状の芯材;及び
前記基板と前記対向基板との間の該空間に設けられる機能素子
を有する実装体。A substrate and a counter substrate bonded to the substrate;
A strip-shaped metal layer for shielding a space between the substrate and the counter substrate;
A strip-shaped core material elastically deformed between the substrate and the counter substrate to press the moisture-proof layer against both the substrate and the counter substrate; and provided in the space between the substrate and the counter substrate. Package having a functional element to be used.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003146339A JP2004311385A (en) | 2002-03-12 | 2003-05-23 | Rod member, sealing material using this, sheet sealing material, board for sealing, sealing configuration, mounter and manufacturing method of these |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002067744 | 2002-03-12 | ||
JP2002256065 | 2002-08-30 | ||
JP2002256086 | 2002-08-30 | ||
JP2002325415 | 2002-11-08 | ||
JP2003042370 | 2003-02-20 | ||
JP2003146339A JP2004311385A (en) | 2002-03-12 | 2003-05-23 | Rod member, sealing material using this, sheet sealing material, board for sealing, sealing configuration, mounter and manufacturing method of these |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003066126A Division JP2004308015A (en) | 2002-03-12 | 2003-03-12 | Thread member, sealant using the same, sheetlike sealant, substrate for sealing, sealing constituent body, packaged material and method for producing them |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004311385A true JP2004311385A (en) | 2004-11-04 |
Family
ID=33479859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003146339A Withdrawn JP2004311385A (en) | 2002-03-12 | 2003-05-23 | Rod member, sealing material using this, sheet sealing material, board for sealing, sealing configuration, mounter and manufacturing method of these |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004311385A (en) |
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A621 | Written request for application examination |
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|
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