JP2004303609A - カラー表示用有機elディスプレイ - Google Patents
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Abstract
【目的】膜構造の複雑・多層化を招くことなく、多色発光可能な有機ELディスプレイを提供する。
【構成】この有機ELディスプレイ10は、TFT12が形成された透明基板11上にカラーフィルタ13又は色変換層23,ITO薄膜14,有機EL層15,陰極薄膜16が順次積層され、カラーフィルタ13又は色変換層23のスルーホール13aを介して透明基板11上のドレイン電極12aにITO薄膜14が導通している。TFT12の上にカラーフィルタ13又は色変換層23が設けられた構造であるため、TFT12製膜時の熱影響によるカラーフィルタ13又は色変換層23の劣化がない。
【選択図】 図1
【構成】この有機ELディスプレイ10は、TFT12が形成された透明基板11上にカラーフィルタ13又は色変換層23,ITO薄膜14,有機EL層15,陰極薄膜16が順次積層され、カラーフィルタ13又は色変換層23のスルーホール13aを介して透明基板11上のドレイン電極12aにITO薄膜14が導通している。TFT12の上にカラーフィルタ13又は色変換層23が設けられた構造であるため、TFT12製膜時の熱影響によるカラーフィルタ13又は色変換層23の劣化がない。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、多色発光が可能な薄型有機ELディスプレイに関する。
【0002】
【従来の技術】
有機ELディスプレイは、発光層に電圧を印加することにより生じる自発光で画像を表示することから、バックライトを必要とする液晶ディスプレイに比較して明るく鮮明な画像が得られ、視野角度の影響も受けない。この長所から、次世代表示装置として脚光を浴びている。
有機EL素子を組み込んだ表示パネルを用いて多色発光させる場合、表示パネル全体を単一色で発光させ、カラーフィルタを透過させることによって必要色調の画像を表示する方式がある。カラーフィルタに代え、色変換層で所定の色相を得る方式もある
【0003】
デューティ比を高く採ることができ発光効率のよいアクティブマトリックス方式の有機EL素子では、カラーフィルタ又は色変換層の形成位置が透明基板とTFTとの間又は透明基板の裏側(TFT形成部の反対側)に設定されている。透明基板とTFTとの間にカラーフィルタ又は色変換層を形成する場合、高温プロセスでTFTを形成する際の熱でカラーフィルタ又は色変換層が損傷しやすい。透明基板の裏側にカラーフィルタ又は色変換層を形成する場合、カラーフィルタ又は色変換層が外部に露出するため疵付きやすい。
そこで、可視光透過率を10〜100%にした電子注入電極上にカラーフィルタを形成する方法(特開平11−339968号公報),TFT上に形成した平坦化絶縁膜にITOを付け、その上に有機EL層を堆積させ、カラーフィルタ又は色変換層を備えた陰極側から光を取り出す方法(特開2000−77191号公報)等が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、何れの方法も、複雑な多層膜構造が必要とされ、製造プロセスが複雑化する。膜構造の層数増加は、製造コストを高くするばかりでなく、有機ELディスプレイの長所である表示パネルの薄型を損なうことにもなる。
本発明は、このような問題を解消すべく案出されたものであり、有機EL素子の陽電極を伴ったカラーフィルタ又は色変換層をTFT基板上に形成することにより、膜構造の複雑・多層化を招くことなく、多色発光可能な有機ELディスプレイを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の有機ELディスプレイは、その目的を達成するため、TFTが形成された透明基板上にカラーフィルタ又は色変換層,ITO薄膜,有機EL層,陰極薄膜が順次積層され、カラーフィルタ又は色変換層のスルーホールを介して透明基板上のドレイン電極にITO薄膜が導通していることを特徴とする。
【0006】
【実施の形態】
本発明に従った有機ELディスプレイは、従来のカラー表示用有機EL素子とは逆に、TFT基板上に有機EL膜の陽電極を伴ったカラーフィルタ又は色変換層を形成している。基板としては、たとえばガラス,プラスチック等の透明基板11にTFT12を設け、ドレインライン及び電源ラインでアクティブマトリックスを形成したTFT基板11a(図1)が使用される。
カラーフィルタ13は、TFT基板11aに設けたTFT12,ドレイン電極12a,更にはTFT基板11aに覆い被さるように堆積されている。カラーフィルタ13は、ドレインラインに接続されるTFT12のドレイン電極12aを露出させるスルーホール13aを備えている。
【0007】
カラーフィルタ13の形成には、重クロム酸処理で光感光性を付与したゼラチン,グリュー.ポリビニルアルコール等の染色基材をエッチング又はカラーレジストにより形成する方法,ポリイミド等の樹脂に顔料を分散させた着色樹脂をエッチングする方法,アクリル・エポキシ系や光架橋タイプのポリビニルアルコール等の紫外線硬化樹脂(ネガレジスト)に顔料を分散させた着色樹脂をカラーレジストにより形成する方法,ポリエステル,メラミン等のアニオン型樹脂を溶解した電解質溶媒に顔料を分散させて電気化学的に析出(電着)させる方法,顔料,オレイン酸,ステアリン酸,フェノール,アルコール,乾燥促進剤,粘度調整剤等が配合されているR,G,Bのインキを印刷する方法等が採用される。
【0008】
カラーフィルタ13に代えて色変換層23を形成する場合もある。色変換層23は、有機EL層15からの近紫外光発光,青色発光や青緑色発光を吸収し、青色又は青緑色から赤色までの可視光を蛍光発光する機能を呈する。色変換層23を積層した有機ELディスプレイ10では、たとえば全面青色に発光する場合、青色発光を色変換層23Rで赤色発光に、色変換層23Gで緑色に変換する。色変換機能がある限り特段の制約が色変換層23の材質に加わるものではないが、次のような蛍光材料が選択される。
【0009】
有機EL層15からの近紫外光を受けて青色発光する蛍光材料としては、bis−MSB(1,4−ビス−(メチルスチリン)ベンゼン),DPS(トランス−4,4’−ジフェニルスチルベンゼン),クマリン4(7−ヒドロキシ−4−メチルクマリン)等がある。青色発光を受けて緑色発光する蛍光材料としては、クマリン153(2,3,5,6,−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジノ(9,9a,1−gh)クマリン),クマリン6(3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン),クマリン7(3−(2’−ベンズイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン)等がある。青緑色発光を受けて赤色発光する蛍光材料としては、DCM(4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチルリン)−4H−ピラン),ピリジン1(1−エチル−2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−ピリジウム−パーコラレイト),ローダミン系色素等がある。
【0010】
蛍光材料又は蛍光材料添加樹脂を好ましくは透明なフォトレジストに蒸着,スパッタリング等で堆積することにより、色変換層23が形成される。或いは、カラーフィルタ13と同様にフォトリソグラフィー法でTFT基板11aに蛍光材料含有物質を堆積することによっても色変換層23が形成される。
色変換層23は、カラーフィルタ13のR,G,Bに合わせてカラーフィルタ13上に設けることもできる。カラーフィルタ13に色変換層23を積層するとき、色変換層23が外光で励起されることによる蛍光の発生を防止でき、良好なコントラストでカラー画像が再生される。
【0011】
スルーホール13aは、カラーフィルタ13又は色変換層23の堆積後に所定パターンでカラーフィルタ13又は色変換層23をフォトエッチすること等により容易に形成される。
カラーフィルタ13の上に、ITO(陽極)膜14,有機EL層15,陰極薄膜16が順次積層される。
ITO薄膜14は、スパッタリング,イオンプレーティング等によって高い表面精度で形成された薄膜であり、カラーフィルタ13又は色変換層23にあるスルーホール13aを介しドレイン電極12aに導通する。
【0012】
有機EL層15は、ホール輸送層と発光層の二層型、ホール注入層,発光層,電子注入層からなる三層型の何れでもよく、真空蒸着法でITO薄膜14上に堆積される。たとえば、二層型の有機EL層15では、電子輸送性発光層にトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)錯体(Alq),ホール輸送層にトリフェニルアミン誘導体が使用される。三層型の有機EL層15では、トリフェニルアミン誘導体にルイス酸を作用させて導電性を高くしたホール注入層や還元性金属のドーピングで電子注入障壁を下げた電子注入層等が堆積される。何れの場合も、発光層を形成する有機樹脂に、TPB,クマリン6,DCM1,キナクリドン,ルブレン,ナイルレッド等のドーパントを添加することにより発光中心がドーパントに移るため、任意の色調の発光が可能となる。
陰極薄膜16は、仕事関数の低い金属(代表的には、Mg)及び酸化防止用にAg等の金属を共蒸着させることによって形成される。Agは、有機EL層15に対する陰極薄膜16の付着強度を向上する上でも有効である。また、有機EL層15上に3nm程度の薄いAg膜を設け、Ag膜を介して陰極薄膜16を形成してもよい。
【0013】
作製された有機ELディスプレイ10のITO(陽極)薄膜14と陰極薄膜16との間に駆動電流を供給すると、陽極側からのホールと陰極側からの電子が有機EL層15で再結合し、有機発光体分子の励起によって面状発光する。発生した光は、カラーフィルタ13で選別され、特定波長の光が透明基板11を透過する。そこで、一つの画素ごとにR,G,Bのカラーフィルタ13(図2)を配列しておくと、個々のカラーフィルタ13によって特定波長の光が選択され、透明基板11を透過した光によってカラー画像が表示される。
カラーフィルタ13に代えて色変換層23を積層した有機ELディスプレイ10においても、色変換層23のスルーホール13aを介しドレイン電極12aにITO薄膜14を導通させることにより、色変換層23で特定波長に変換された光が透明基板11を透過し、所定のカラー画像が表示される。
【0014】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の有機ELディスプレイは、デューティ比を高く採ることができ発光効率のよい表示装置となるアクティブマトリックス方式の長所を活用しながら、カラーフィルタ又は色変換層をTFT基板上に設け、カラーフィルタ上に堆積されるITO薄膜をカラーフィルタ又は色変換層のスルーホールを介してTFT基板上のドレイン電極に導通させている。この層構造によるとき、TFT形成後にカラーフィルタ又は色変換層が積層されるので、TFT基板形成時の熱がカラーフィルタ又は色変換層に悪影響を及ぼすことがなく、カラーフィルタの光選択性又は色変換層の色変換機能が高位に維持され、ダークスポット等の異常がない有機ELディスプレイとなる。しかも、層構造が複雑化・多層化することがないため、製造コストの上昇も抑えられ、有機ELディスプレ特有の薄型を活かした表示パネルとして使用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従った有機ELディスプレイの層構造を示す図
【図2】カラー画像が表示されることを説明する図
【符号の説明】
10:有機ELディスプレイ 11:透明基板 11a:TFT基板 12:TFT 12a:ドレイン電極 13:カラーフィルタ 13a:スルーホール 14:ITO薄膜 15:有機EL層 16:陰極薄膜 23:色変換層
【産業上の利用分野】
本発明は、多色発光が可能な薄型有機ELディスプレイに関する。
【0002】
【従来の技術】
有機ELディスプレイは、発光層に電圧を印加することにより生じる自発光で画像を表示することから、バックライトを必要とする液晶ディスプレイに比較して明るく鮮明な画像が得られ、視野角度の影響も受けない。この長所から、次世代表示装置として脚光を浴びている。
有機EL素子を組み込んだ表示パネルを用いて多色発光させる場合、表示パネル全体を単一色で発光させ、カラーフィルタを透過させることによって必要色調の画像を表示する方式がある。カラーフィルタに代え、色変換層で所定の色相を得る方式もある
【0003】
デューティ比を高く採ることができ発光効率のよいアクティブマトリックス方式の有機EL素子では、カラーフィルタ又は色変換層の形成位置が透明基板とTFTとの間又は透明基板の裏側(TFT形成部の反対側)に設定されている。透明基板とTFTとの間にカラーフィルタ又は色変換層を形成する場合、高温プロセスでTFTを形成する際の熱でカラーフィルタ又は色変換層が損傷しやすい。透明基板の裏側にカラーフィルタ又は色変換層を形成する場合、カラーフィルタ又は色変換層が外部に露出するため疵付きやすい。
そこで、可視光透過率を10〜100%にした電子注入電極上にカラーフィルタを形成する方法(特開平11−339968号公報),TFT上に形成した平坦化絶縁膜にITOを付け、その上に有機EL層を堆積させ、カラーフィルタ又は色変換層を備えた陰極側から光を取り出す方法(特開2000−77191号公報)等が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、何れの方法も、複雑な多層膜構造が必要とされ、製造プロセスが複雑化する。膜構造の層数増加は、製造コストを高くするばかりでなく、有機ELディスプレイの長所である表示パネルの薄型を損なうことにもなる。
本発明は、このような問題を解消すべく案出されたものであり、有機EL素子の陽電極を伴ったカラーフィルタ又は色変換層をTFT基板上に形成することにより、膜構造の複雑・多層化を招くことなく、多色発光可能な有機ELディスプレイを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の有機ELディスプレイは、その目的を達成するため、TFTが形成された透明基板上にカラーフィルタ又は色変換層,ITO薄膜,有機EL層,陰極薄膜が順次積層され、カラーフィルタ又は色変換層のスルーホールを介して透明基板上のドレイン電極にITO薄膜が導通していることを特徴とする。
【0006】
【実施の形態】
本発明に従った有機ELディスプレイは、従来のカラー表示用有機EL素子とは逆に、TFT基板上に有機EL膜の陽電極を伴ったカラーフィルタ又は色変換層を形成している。基板としては、たとえばガラス,プラスチック等の透明基板11にTFT12を設け、ドレインライン及び電源ラインでアクティブマトリックスを形成したTFT基板11a(図1)が使用される。
カラーフィルタ13は、TFT基板11aに設けたTFT12,ドレイン電極12a,更にはTFT基板11aに覆い被さるように堆積されている。カラーフィルタ13は、ドレインラインに接続されるTFT12のドレイン電極12aを露出させるスルーホール13aを備えている。
【0007】
カラーフィルタ13の形成には、重クロム酸処理で光感光性を付与したゼラチン,グリュー.ポリビニルアルコール等の染色基材をエッチング又はカラーレジストにより形成する方法,ポリイミド等の樹脂に顔料を分散させた着色樹脂をエッチングする方法,アクリル・エポキシ系や光架橋タイプのポリビニルアルコール等の紫外線硬化樹脂(ネガレジスト)に顔料を分散させた着色樹脂をカラーレジストにより形成する方法,ポリエステル,メラミン等のアニオン型樹脂を溶解した電解質溶媒に顔料を分散させて電気化学的に析出(電着)させる方法,顔料,オレイン酸,ステアリン酸,フェノール,アルコール,乾燥促進剤,粘度調整剤等が配合されているR,G,Bのインキを印刷する方法等が採用される。
【0008】
カラーフィルタ13に代えて色変換層23を形成する場合もある。色変換層23は、有機EL層15からの近紫外光発光,青色発光や青緑色発光を吸収し、青色又は青緑色から赤色までの可視光を蛍光発光する機能を呈する。色変換層23を積層した有機ELディスプレイ10では、たとえば全面青色に発光する場合、青色発光を色変換層23Rで赤色発光に、色変換層23Gで緑色に変換する。色変換機能がある限り特段の制約が色変換層23の材質に加わるものではないが、次のような蛍光材料が選択される。
【0009】
有機EL層15からの近紫外光を受けて青色発光する蛍光材料としては、bis−MSB(1,4−ビス−(メチルスチリン)ベンゼン),DPS(トランス−4,4’−ジフェニルスチルベンゼン),クマリン4(7−ヒドロキシ−4−メチルクマリン)等がある。青色発光を受けて緑色発光する蛍光材料としては、クマリン153(2,3,5,6,−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジノ(9,9a,1−gh)クマリン),クマリン6(3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン),クマリン7(3−(2’−ベンズイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン)等がある。青緑色発光を受けて赤色発光する蛍光材料としては、DCM(4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチルリン)−4H−ピラン),ピリジン1(1−エチル−2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−ピリジウム−パーコラレイト),ローダミン系色素等がある。
【0010】
蛍光材料又は蛍光材料添加樹脂を好ましくは透明なフォトレジストに蒸着,スパッタリング等で堆積することにより、色変換層23が形成される。或いは、カラーフィルタ13と同様にフォトリソグラフィー法でTFT基板11aに蛍光材料含有物質を堆積することによっても色変換層23が形成される。
色変換層23は、カラーフィルタ13のR,G,Bに合わせてカラーフィルタ13上に設けることもできる。カラーフィルタ13に色変換層23を積層するとき、色変換層23が外光で励起されることによる蛍光の発生を防止でき、良好なコントラストでカラー画像が再生される。
【0011】
スルーホール13aは、カラーフィルタ13又は色変換層23の堆積後に所定パターンでカラーフィルタ13又は色変換層23をフォトエッチすること等により容易に形成される。
カラーフィルタ13の上に、ITO(陽極)膜14,有機EL層15,陰極薄膜16が順次積層される。
ITO薄膜14は、スパッタリング,イオンプレーティング等によって高い表面精度で形成された薄膜であり、カラーフィルタ13又は色変換層23にあるスルーホール13aを介しドレイン電極12aに導通する。
【0012】
有機EL層15は、ホール輸送層と発光層の二層型、ホール注入層,発光層,電子注入層からなる三層型の何れでもよく、真空蒸着法でITO薄膜14上に堆積される。たとえば、二層型の有機EL層15では、電子輸送性発光層にトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)錯体(Alq),ホール輸送層にトリフェニルアミン誘導体が使用される。三層型の有機EL層15では、トリフェニルアミン誘導体にルイス酸を作用させて導電性を高くしたホール注入層や還元性金属のドーピングで電子注入障壁を下げた電子注入層等が堆積される。何れの場合も、発光層を形成する有機樹脂に、TPB,クマリン6,DCM1,キナクリドン,ルブレン,ナイルレッド等のドーパントを添加することにより発光中心がドーパントに移るため、任意の色調の発光が可能となる。
陰極薄膜16は、仕事関数の低い金属(代表的には、Mg)及び酸化防止用にAg等の金属を共蒸着させることによって形成される。Agは、有機EL層15に対する陰極薄膜16の付着強度を向上する上でも有効である。また、有機EL層15上に3nm程度の薄いAg膜を設け、Ag膜を介して陰極薄膜16を形成してもよい。
【0013】
作製された有機ELディスプレイ10のITO(陽極)薄膜14と陰極薄膜16との間に駆動電流を供給すると、陽極側からのホールと陰極側からの電子が有機EL層15で再結合し、有機発光体分子の励起によって面状発光する。発生した光は、カラーフィルタ13で選別され、特定波長の光が透明基板11を透過する。そこで、一つの画素ごとにR,G,Bのカラーフィルタ13(図2)を配列しておくと、個々のカラーフィルタ13によって特定波長の光が選択され、透明基板11を透過した光によってカラー画像が表示される。
カラーフィルタ13に代えて色変換層23を積層した有機ELディスプレイ10においても、色変換層23のスルーホール13aを介しドレイン電極12aにITO薄膜14を導通させることにより、色変換層23で特定波長に変換された光が透明基板11を透過し、所定のカラー画像が表示される。
【0014】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の有機ELディスプレイは、デューティ比を高く採ることができ発光効率のよい表示装置となるアクティブマトリックス方式の長所を活用しながら、カラーフィルタ又は色変換層をTFT基板上に設け、カラーフィルタ上に堆積されるITO薄膜をカラーフィルタ又は色変換層のスルーホールを介してTFT基板上のドレイン電極に導通させている。この層構造によるとき、TFT形成後にカラーフィルタ又は色変換層が積層されるので、TFT基板形成時の熱がカラーフィルタ又は色変換層に悪影響を及ぼすことがなく、カラーフィルタの光選択性又は色変換層の色変換機能が高位に維持され、ダークスポット等の異常がない有機ELディスプレイとなる。しかも、層構造が複雑化・多層化することがないため、製造コストの上昇も抑えられ、有機ELディスプレ特有の薄型を活かした表示パネルとして使用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従った有機ELディスプレイの層構造を示す図
【図2】カラー画像が表示されることを説明する図
【符号の説明】
10:有機ELディスプレイ 11:透明基板 11a:TFT基板 12:TFT 12a:ドレイン電極 13:カラーフィルタ 13a:スルーホール 14:ITO薄膜 15:有機EL層 16:陰極薄膜 23:色変換層
Claims (1)
- TFTが形成された透明基板上にカラーフィルタ又は色変換層,ITO薄膜,有機EL層,陰極薄膜が順次積層され、カラーフィルタ又は色変換層のスルーホールを介して透明基板上のドレイン電極にITO薄膜が導通していることを特徴とするカラー表示用の有機ELディスプレイ。
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